JP2009015118A - Optical modulator - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 83
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 122
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 39
- 230000008602 contraction Effects 0.000 claims abstract description 5
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims abstract description 4
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 6
- 230000003993 interaction Effects 0.000 claims description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 3
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 abstract description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 5
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-pyrazole-3-carboxylic acid Chemical compound CC1=CC(C(O)=O)=NN1 WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000217377 Amblema plicata Species 0.000 description 1
- 229910013641 LiNbO 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
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- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
Abstract
Description
本発明は、電気光学効果を利用して、光導波路に入射した光を高周波電気信号で変調して光信号パルスとして出射する光変調器に関する。 The present invention relates to an optical modulator that uses an electro-optic effect to modulate light incident on an optical waveguide with a high-frequency electrical signal and emit it as an optical signal pulse.
近年、高速、大容量の光通信システムが実用化されている。このような高速、大容量の光通信システムに組込むための高速、小型、低価格、かつ高安定な光変調器の開発が求められている。 In recent years, high-speed and large-capacity optical communication systems have been put into practical use. There is a demand for the development of a high-speed, small, low-cost, and highly stable optical modulator for incorporation into such a high-speed, large-capacity optical communication system.
このような要望に応える光変調器として、リチウムナイオベート(LiNbO3)のように電界を印加することにより屈折率が変化する、いわゆる電気光学効果を有する基板(以下、LN基板と略す)に光導波路と進行波電極を形成した進行波電極型リチウムナイオベート光変調器(以下、LN光変調器と略す)がある。このLN光変調器は、その優れたチャーピング特性から2.5Gbit/s、10Gbit/sの大容量光通信システムに適用されている。最近はさらに40Gbit/sの超大容量光通信システムにも適用が検討されている。 As an optical modulator that meets such demands, a light modulator such as lithium niobate (LiNbO 3 ) is used for a substrate having a so-called electro-optical effect (hereinafter abbreviated as an LN substrate) whose refractive index changes by applying an electric field. There is a traveling wave electrode type lithium niobate optical modulator (hereinafter abbreviated as an LN optical modulator) in which a waveguide and a traveling wave electrode are formed. This LN optical modulator is applied to a large capacity optical communication system of 2.5 Gbit / s and 10 Gbit / s because of its excellent chirping characteristics. Recently, application to a 40 Gbit / s ultra-high capacity optical communication system is also being studied.
以下、従来、実用化され、又は提唱されてきたリチウムナイオベートの電気光学効果を利用したLN光変調器について説明する。 Hereinafter, an LN optical modulator using the electro-optic effect of lithium niobate that has been put to practical use or has been proposed will be described.
(第1の従来技術)
特許文献1に開示された、z−カットLN基板を用いて構成した、いわゆるリッジ型LN光変調器を第1の従来技術の光変調器として図12にその斜視図を示す。なお、図13は図12のA−A´線における断面図である。
(First prior art)
FIG. 12 shows a perspective view of a so-called ridge type LN optical modulator disclosed in
z−カットLN基板1上に光導波路3が形成されている。この光導波路3は、金属Tiを1050℃で約10時間熱拡散して形成した光導波路であり、マッハツェンダ干渉系(あるいは、マッハツェンダ光導波路)を構成している。したがって、光導波路3の電気信号と光が相互作用する部(相互作用部と言う)には2本の相互作用光導波路3a、3b、つまりマッハツェンダ光導波路の2本のアームが形成されている。
An
この光導波路3の上面にSiO2バッファ層2が形成され、このSiO2バッファ層2の上面に進行波電極4が形成されている。進行波電極4としては、1つの中心導体4aと2つの接地導体4b、4cを有するコプレーナウェーブガイド(CPW)を用いている。なお、通常、進行波電極4はAuにより形成されている。5はz−カットLN基板1を用いて製作したLN光変調器に特有の焦電効果に起因する温度ドリフトを抑圧するための導電層であり、通常はSi導電層を用いる。中心導体4aの幅Sは7μm程度で、中心導体4aと接地導体4b、4cの間のギャップWは15μm程度である。なお、説明を簡単にするために、図12では図示した温度ドリフト抑圧のためのSi導電層5を図13においては省略している。また、以下においてもSi導電層5は省略して議論する。
An SiO 2 buffer layer 2 is formed on the upper surface of the
この第1の従来技術では、z−カットLN基板1をエッチングなどで掘り込むことにより、凹部9a、9b、及び9c(あるいは、リッジ部8a、8bとも言える)を形成している。ここで、10a、10bは外周部である。なお、リッジ部8a、8bを各々中心導体用リッジ部、接地導体用リッジ部とも呼ぶ。
In the first prior art, the
このリッジ構造をとることにより、高周波電気信号の実効屈折率(あるいは、マイクロ波実効屈折率)、特性インピーダンス、変調帯域、駆動電圧などにおいて優れた特性を実現することができる。なお、図13では凹部9a、9b、及び9cの深さ(あるいはリッジ部8a、8bの高さ)を強調して描いているが、実際には2〜5μm程度であり、中心導体4aや接地導体4b、4cの厚み約20μmに比較するとその値は小さい。
By adopting this ridge structure, it is possible to realize excellent characteristics in the effective refractive index (or microwave effective refractive index), characteristic impedance, modulation band, driving voltage, and the like of a high-frequency electric signal. In FIG. 13, the depth of the
さて、この第1の従来技術はLN光変調器としての変調特性は高いものの、安定性について問題があることがわかった。即ち、Si導電層5を使用しているにもかかわらず、温度ドリフト特性が悪いことが判明した。その原因は高い変調性能を生み出すリッジ構造に起因していると考えられる。
Now, it has been found that although the first prior art has high modulation characteristics as an LN optical modulator, there is a problem with stability. That is, it has been found that the temperature drift characteristic is poor despite the use of the Si
以下にその原因について詳しく説明する。図13からわかるように、中心導体4aの直下のリッジ部8aについては、接地導体4b、4cとは独立しているので、z−カットLN基板1の表面に平行な方向にリッジ部8aを引っ張る力は存在しない。
The cause will be described in detail below. As can be seen from FIG. 13, the
ところが、リッジ部8bについては、前述のように20μmの厚い接地導体4bが凹部9c、外周部10bとともに形成されている。そして、接地導体4bのAuとz−カットLN基板1の熱膨張係数は互いに大きく異なる。さらに、図13では接地導体4bは実際には数ミリメートルと広いので環境変化に起因する熱膨張や熱収縮などの応力が積み重なり、リッジ部8bへかなり大きな応力がかかる。
However, as described above, the
ところが、z−カットLN基板1に応力がかかるとその屈折率が変化する(応力複屈折)ので、結果的に相互作用光導波路3aの屈折率が変化することになり、LN光変調器を動作させる際のDCバイアス点が変わってしまう。これがリッジ構造特有の温度ドリフト現象であり、LN光変調器としての安定性を損なう結果となる。ちなみに、LN光変調器の環境温度を室温から70℃まで変化させた際に、この第1の従来技術でのDCバイアス点の変化は6Vと大きかった。
However, when a stress is applied to the z-cut
(第2の従来技術)
この第1の従来技術の問題点を解決するために、特許文献2に開示された第2の従来技術の相互作用部における断面図を図14に示す。図14からわかるように、リッジ部8bの上に形成された接地導体4b´と外周部10bの上に形成された接地導体4b´´の厚みは厚いが、凹部9cに形成された接地導体4b´´´の厚みを50nm〜3μm以下と薄くしている。このように凹部9cにおける接地導体4b´´´の厚みを薄くすることにより、広い面積を有する接地導体4b´´がリッジ部8bへ与える応力を小さくすることができるので、温度安定性を改善できるという考え方である。
(Second prior art)
In order to solve the problem of the first prior art, a cross-sectional view of the interaction portion of the second prior art disclosed in
しかしながら、以下のようにこの第2の従来技術には解決すべき重大な問題点がある。この第2の従来技術では接地導体としては4b´、4b´´及び4b´´´があるものの、中心導体4aに対応して実際にほとんどの電流が流れている箇所は中心導体4aに相対向し、中心導体4aと同程度の幅の狭い接地導体4b´である。つまり、接地導体においてほとんどの電流は接地導体用リッジ部8bの上に形成された接地導体4b´のみに流れている。ここで、接地導体4b´の幅が中心導体4aの幅と同程度に狭いことは、本明細書の図14や特許文献2の図3〜図12から明らかである。
However, the second prior art has a serious problem to be solved as follows. In this second prior art, although there are 4b ′, 4b ″ and 4b ″ as the ground conductors, the portion where the most current actually flows corresponding to the
従って高周波電気信号はジュール熱となり消失し易く、変調帯域が図12に示した第1の従来技術と比較して著しく劣化した。実際に筆者らが実験で確かめたところ、光通信における伝送速度として2.5Gbit/sの変調がやっとであり、現在、主流となっている10Gbit/sの変調は困難であった。また、近い将来有望とされる40Gbit/sの変調は全く不可能であった。 Therefore, the high frequency electric signal is easily lost due to Joule heat, and the modulation band is significantly deteriorated as compared with the first prior art shown in FIG. When the authors actually confirmed through experiments, modulation of 2.5 Gbit / s was finally achieved as a transmission rate in optical communication, and modulation of 10 Gbit / s, which is currently mainstream, was difficult. In addition, 40 Gbit / s modulation, which is promising in the near future, was completely impossible.
また、一般にフォトレジストが溜まり易い凹部にパターンを形成することはプロセス的に難しく、この第2の従来技術は製作が難しい。換言すると、第2の従来技術は製作の歩留まりが悪い構造と言える。また、凹部に薄い接地導体を形成する工数やパターンを形成する工数の観点から、人件費的にもコストが高くなる構造とも言える。
以上のように、リッジ型LN光変調器として提案された従来の第1技術では電極を構成するAuとz−カットLN基板との熱膨張係数の差に起因する接地導体からの応力が温度とともに最適DCバイアス点を変化させる温度ドリフトを生じた。この温度特性を改善するために提案された第2の従来技術では、接地導体においてほとんどの電流が流れているのは、幅の狭い接地導体用リッジ部の上に形成された箇所であり、従って高周波電気信号はジュール熱となり消失し易く、変調帯域が第1の従来技術と比較して著しく劣化した。そして、伝送速度としては2.5Gbit/sの変調がやっとであり、現在、主流となっている10Gbit/sの変調は難しく、また今後有望とされる40Gbit/sの変調は全く不可能である。そして、光変調器としての高速性・低駆動電圧性を犠牲にしないで温度安定化を実現できる光変調器の開発が急務となっている。 As described above, in the conventional first technique proposed as the ridge-type LN optical modulator, the stress from the ground conductor due to the difference in thermal expansion coefficient between Au and the z-cut LN substrate constituting the electrode increases with temperature. A temperature drift occurred that changed the optimum DC bias point. In the second prior art proposed to improve this temperature characteristic, most of the current flows in the ground conductor at the portion formed on the narrow ridge portion for the ground conductor. The high-frequency electric signal is easily lost due to Joule heat, and the modulation band is significantly deteriorated as compared with the first prior art. The transmission speed is finally 2.5 Gbit / s modulation, and 10 Gbit / s modulation, which is currently mainstream, is difficult, and 40 Gbit / s modulation, which is expected in the future, is completely impossible. . There is an urgent need to develop an optical modulator that can achieve temperature stabilization without sacrificing high speed and low drive voltage as an optical modulator.
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、光変調特性が高性能であるとともに、安定性について改善された光変調器を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide an optical modulator having high performance in light modulation characteristics and improved stability.
上記課題を解決するために、本発明の請求項1の光変調器は、電気光学効果を有する基板と、前記基板の上に形成されたバッファ層と、該バッファ層の上方に配置された中心導体と接地導体からなる進行波電極と、前記進行波電極を伝搬する高周波電気信号の電界強度が強い領域における前記基板の少なくとも一部を掘り下げることにより設けた凹部により形成されるリッジ部を具備し、該リッジ部は前記中心導体が上方に形成された中心導体用リッジ部と、前記接地導体が上方に形成された接地導体用リッジ部からなり、少なくとも前記中心導体用リッジ部に光導波路を有する光変調器において、前記接地導体用のリッジ部の上に形成された前記接地導体が、前記熱膨張や熱収縮の際に、前記相互作用部の長手方向に垂直で、かつ前記基板の表面に平行な方向に、他の前記接地導体から応力を受けないように機械的に独立していることを特徴とする。
In order to solve the above-described problems, an optical modulator according to
本発明の請求項2の光変調器は、前記基板の表面に平行な方向に機械的に独立な前記接地導体が複数個あることを特徴とする。
The optical modulator according to
本発明の請求項3の光変調器は、前記基板が半導体からなることを特徴とする。
The optical modulator according to
本発明に係る光変調器では、高周波電気信号の伝搬損失を大きくすることなく、LN光変調器の環境温度が変化した際に電極とLN基板との熱膨張係数の差に起因する応力が光導波路を形成したリッジに印加されるのを防ぐ。接地導体用リッジ部の上方に形成された接地導体はLN基板の表面に水平な方向において機械的にフリーであるため、リッジ型光変調器の高い性能を損なうことなく、熱ドリフトが小さなLN光変調器を提供することが可能となるという優れた効果がある。 In the optical modulator according to the present invention, when the environmental temperature of the LN optical modulator changes without increasing the propagation loss of the high-frequency electrical signal, the stress caused by the difference in the thermal expansion coefficient between the electrode and the LN substrate is light. It is prevented from being applied to the ridge formed with the waveguide. Since the ground conductor formed above the ridge portion for the ground conductor is mechanically free in the direction horizontal to the surface of the LN substrate, LN light with a small thermal drift without impairing the high performance of the ridge-type optical modulator. There is an excellent effect that a modulator can be provided.
以下、本発明の実施形態について説明するが、図12から図14に示した従来技術と同一の符号は同一機能部に対応しているため、ここでは同一の符号を持つ機能部の説明を省略する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described. However, since the same reference numerals as those in the prior art shown in FIGS. 12 to 14 correspond to the same functional units, description of functional units having the same reference numerals is omitted here. To do.
(第1の実施形態)
図1に本発明の第1の実施形態についての模式的な斜視図を示す。また、図1に示した第1の実施形態における相互作用部のB−B´での断面図を図2に示す。図1と図13を比べるとわかるように、図13に示した第1の従来技術における接地導体4bの代わりに、本実施形態では広くなったリッジ部8b´の上に幅がWbの接地導体が形成されている。ここで、中心導体4aの幅Sは7μm、中心導体4aと接地導体4c、もしくは接地導体11とのギャップWは15μm、中心導体4aなどの厚みは20μmとした。
(First embodiment)
FIG. 1 shows a schematic perspective view of the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of the interaction unit in the first embodiment shown in FIG. As can be seen by comparing FIG. 1 and FIG. 13, instead of the
図2からわかるように、この第1の実施形態では、第1の従来技術における接地導体4bが(さらには、第2の従来技術における接地導体4b´´4b´´´さえも)ないので、接地導体11はz−カットLN基板1の表面に水平な方向において機械的に(換言すると、応力的に)独立している。従って、環境温度が変わった際に、電極を構成するAuとz−カットLN基板1との熱膨張係数の差に起因して接地導体11に加わる応力を著しく低減できるので、温度ドリフトを大幅に抑圧できた。
As can be seen from FIG. 2, in this first embodiment, there is no
さて、この第1の実施形態においては接地導体11の幅Wbが重要な意味を持つ。図3には、1GHzでの接地導体11の幅Wbに対する高周波電気信号の伝搬損失αを示す。なお、高周波電気信号の伝搬損失αは周波数fについては√fに比例して増加する。図2からわかるように、高周波電気信号の伝搬損失αを充分小さくするには接地導体11の幅Wbとして30μm以上あることが望ましい。
Now, in the first embodiment, the width Wb of the
我々は各種のリッジ型のLN光変調器を設計・製作した結果、接地導体11側の電流の集中を避けるためには、その幅Wbとして中心導体4aと接地導体11とのギャップWの少なくとも1.5倍、できれば2倍程度あることが望ましく、3倍あれば極めて良好な特性を実現できることを見出した。
As a result of designing and manufacturing various ridge-type LN optical modulators, in order to avoid current concentration on the
なお、リッジ部8bの上の接地導体4b´に電流が集中する第2の従来技術の考え方では高周波電気信号の伝搬損失αが大きく、40Gbit/sはおろか10Gbit/sの高速伝送も困難であることを図3から再確認できた。
In the second prior art concept in which current concentrates on the
この第1の実施形態では接地導体11の幅を30μmとすることにより、10Gbit/sのみならず、40Gbit/sでの伝送に成功し、かつLN光変調器の環境温度を室温から70℃まで変化させても、DCバイアス点の変化を0.5V以下と極めて小さく抑えることができた。
In the first embodiment, by setting the width of the
このように、本実施形態では、図14に示した第2の従来技術と異なり、凹部9aや9cに電極はない。従って、凹部9cに応力を緩和するための工夫としての厚みが薄い接地導体4b´´´を形成する必要も、薄い接地導体4b´´´にパターンを形成する必要もない。従って、プロセス的にも容易であるので歩留まりも高く、さらに人件費の観点からコストを削減できるという特徴がある。
Thus, in the present embodiment, unlike the second prior art shown in FIG. 14, there are no electrodes in the
なお、構造パラメータについての以上の数値は一例であり、各パラメータとしては各種の数値をとることが可能であり、接地導体11の幅Wbの最適な値も若干変動する。
The above numerical values for the structural parameters are examples, and various numerical values can be taken as the parameters, and the optimum value of the width Wb of the
我々は、接地導体11における電流の過度の集中を避けるために必要な要件について、リッジ型LN光変調器の中心導体4aの幅Sを各種変えて検討した結果、接地導体11の幅Wbとしては中心導体4aの幅Sの最低2倍は必要で、約3倍以上あることが望ましいとわかった。
As a result of studying various requirements for the width S of the
なお、図2において接地導体11に機械的な影響を及ぼさなければ、外周部10bの上に新たな接地導体を設けても良い。この場合にも本発明では高周波電気信号の伝搬損失αが小さくなるように接地導体11の幅を設定しているので、第2の従来技術では実現できない高性能なLN光変調器を実現できるという利点がある。また、外周部10bや10aは凹部9cや9aと同じ高さとなる程度までエッチングしても良いことは言うまでもない。
In FIG. 2, a new ground conductor may be provided on the outer
(第2の実施形態)
図4は本発明の第2の実施形態である。本実施形態では、接地導体4c´の幅を接地導体11とほぼ同じとすることにより図2に示した第1の実施形態よりも構造の対称性を良くしている。
(Second Embodiment)
FIG. 4 shows a second embodiment of the present invention. In the present embodiment, the width of the
(第3の実施形態)
図5は本発明の第3の実施形態である。本実施形態では凹部9dを設けることによりリッジ部8cを形成している。なお、10dは外周部である。接地導体12は充分に広い構造としている。本実施形態では8a、8b´、8cの各リッジ部について対称性が良くなっている。
(Third embodiment)
FIG. 5 shows a third embodiment of the present invention. In the present embodiment, the
(第4の実施形態)
図6は本発明の第4の実施形態である。本実施形態では、接地導体12´の幅を接地導体11とほぼ同じとすることにより図5に示した第3の実施形態よりも構造の対称性を良くしている。この接地導体12´もz−カットLN基板1の表面に平行な方向において機械的に独立であるので熱膨張や熱収縮による応力の影響は極めて小さい。
(Fourth embodiment)
FIG. 6 shows a fourth embodiment of the present invention. In the present embodiment, the width of the ground conductor 12 'is substantially the same as that of the
ここで、この第4の実施形態では、中心導体や接地導体からなる電極がリッジ部8aの中心線に対して対称な形となっている。なお、本発明では全ての実施形態において、電極や光導波路3a、3bがいかなる場所に引いたz−カットLN基板1の表面に垂直な直線に対して対称な構造であっても良いし、そもそもある線に対して対称な構造でなくても良いことは言うまでもない。
Here, in the fourth embodiment, the electrodes made of the center conductor and the ground conductor are symmetrical with respect to the center line of the
なお、図6において接地導体11や12´に機械的な影響を及ぼさなければ、外周部10bや10dの上に新たな接地導体を設けても良い。この場合にも本発明では高周波電気信号の伝搬損失αが小さくなるように接地導体11や12´の幅を設定しているので、第2の従来技術では実現できない高性能なLN光変調器を実現できるという利点がある。また、外周部10bや10dは凹部9cや9dと同じ高さとなる程度までエッチングしても良いことは言うまでもない。なお、これらのことは本発明の全ての実施形態に当てはまる。
In FIG. 6, a new ground conductor may be provided on the outer
(第5の実施形態)
図7は本発明の第5の実施形態である。本実施形態では、接地導体13が凹部9cを越えて外周部10bにまで形成されている。但し、接地導体13は外周部10bにまでかからなくても良い。接地導体14は充分に広いとしている。なお、リッジ部8aと8bの幅をほぼ等しくすることにより構造の対称性を改善している。
(Fifth embodiment)
FIG. 7 shows a fifth embodiment of the present invention. In the present embodiment, the
(第6の実施形態)
図8は本発明の第6の実施形態である。本実施形態では接地導体14´の幅を接地導体13とほぼ同じとすることにより図7に示した第5の実施形態よりも構造の対称性を良くしている。
(Sixth embodiment)
FIG. 8 shows a sixth embodiment of the present invention. In the present embodiment, the width of the ground conductor 14 'is substantially the same as that of the
(第7の実施形態)
図9は本発明の第7の実施形態である。本実施形態では、図8に示した第6の実施形態にさらに凹部9eを設けることによりリッジ部8dを形成している。なお、10eは外周部である。接地導体15は充分に広い構造としている。本実施形態では8a、8b、8dの各リッジ部について構造の対称性が良くなっている。
(Seventh embodiment)
FIG. 9 shows a seventh embodiment of the present invention. In the present embodiment, the
(第8の実施形態)
図10は本発明の第8の実施形態である。本実施形態では、接地導体15´の幅を接地導体13とほぼ同じとすることにより図9に示した第7の実施形態よりも構造の対称性を良くしている。
(Eighth embodiment)
FIG. 10 shows an eighth embodiment of the present invention. In the present embodiment, the width of the
(第9の実施形態)
図11は本発明の第9の実施形態である。本実施形態では、接地導体17、21を溝部19により分離している。また、接地導体16、20を溝部18により分離している。これらの溝部18、19はダイサーにより形成した。
(Ninth embodiment)
FIG. 11 shows a ninth embodiment of the present invention. In the present embodiment, the
(各実施形態)
分岐光導波路の例としてマッハツェンダ光導波路を用いたが、方向性結合器などその他の分岐合波型の光導波路にも本発明を適用可能であることは言うまでもなく、考え方は3本以上の光導波路にも適用可能であるし、光導波路が1本の位相変調器にも適用できる。また光導波路の形成法としてはTi熱拡散法の他に、プロトン交換法など光導波路の各種形成法を適用できるし、バッファ層としてAl2O3等のSiO2以外の各種材料も適用できる。
(Each embodiment)
Although the Mach-Zehnder optical waveguide is used as an example of the branched optical waveguide, it goes without saying that the present invention can be applied to other branched / multiplexed optical waveguides such as directional couplers. The present invention is also applicable to a phase modulator having a single optical waveguide. As a method for forming the optical waveguide, various methods for forming the optical waveguide such as a proton exchange method can be applied in addition to the Ti thermal diffusion method, and various materials other than SiO 2 such as Al 2 O 3 can be applied as the buffer layer.
また、z−カットLN基板について説明したが、x−カットやy−カットなどその他の面方位のLN基板でも良いし、リチウムタンタレート基板、さらには半導体基板など異なる材料の基板でも良い。 Further, although the z-cut LN substrate has been described, an LN substrate having other plane orientation such as x-cut and y-cut may be used, or a lithium tantalate substrate or a substrate made of a different material such as a semiconductor substrate may be used.
以上の実施形態としては、リッジが2つ、もしくは3つある場合について説明したがリッジの数は1つでも良いし、あるいはこれら以外の数でも良い。また複数のリッジの高さが異なっていても良いことは言うまでもない。また、本発明において述べているリッジは広い意味を表しており、例えば図1や4においてz−カットLN基板を掘り下げた箇所を9aや9bのみとし、その他の場所は接地導体4b、4cの下方も含め掘り下げない構造をも含んでいる。また逆に、より多くのリッジを形成しても良い。また、通常、各凹部は同じ程度の幅で形成するが、外周部に近い凹部については極めて広くなるようにエッチングしても良い。
In the above embodiment, the case where there are two or three ridges has been described, but the number of ridges may be one or other numbers. Needless to say, the heights of the plurality of ridges may be different. In addition, the ridge described in the present invention has a broad meaning. For example, in FIGS. 1 and 4, the portion where the z-cut LN substrate is dug down is only 9a and 9b, and the other portions are below the
以上のように、本発明に係る光変調器は、以上のように、本発明に係る光変調器は、高性能なリッジ型の光変調器において、接地導体を機械的にフリーとすることにより温度変化に起因する応力が印加されるのを防ぐので、温度ドリフト特性が優れた光変調器を実現する手段として有用である。 As described above, the optical modulator according to the present invention is as described above. The optical modulator according to the present invention is a high-performance ridge-type optical modulator by mechanically freeing the ground conductor. Since it prevents the application of stress due to temperature change, it is useful as a means for realizing an optical modulator with excellent temperature drift characteristics.
1:z−カットLN基板
2、14、15:SiO2バッファ層
3:マッハツェンダ光導波路
3a、3b:マッハツェンダ光導波路を構成する相互作用光導波路
4:進行波電極
4a:中心導体
4b、4c、11、12、12´、13、14、14´、15、15´、16、17、20、21:接地導体
5:Si導電層
6:高周波(RF)電気信号給電線
7:高周波(RF)電気信号出力線
8a:リッジ部(中心導体用リッジ部)
8b、8b´、8c、8d:リッジ部(接地導体用リッジ部)
9a、9b、9c、9d、9e:凹部
10a、10b、10c、10d、10e:外周部
18、19:溝部
1: z-cut
8b, 8b ', 8c, 8d: Ridge portion (ground conductor ridge portion)
9a, 9b, 9c, 9d, 9e:
Claims (3)
前記接地導体用のリッジ部の上に形成された前記接地導体が、前記熱膨張や熱収縮の際に、前記相互作用部の長手方向に垂直で、かつ前記基板の表面に平行な方向に、他の前記接地導体から応力を受けないように機械的に独立していることを特徴とする光変調器。 A substrate having an electro-optic effect; a buffer layer formed on the substrate; a traveling wave electrode comprising a central conductor and a ground conductor disposed above the buffer layer; and a high-frequency electric wave propagating through the traveling wave electrode A ridge portion formed by a recess provided by digging at least part of the substrate in a region where the electric field strength of the signal is strong, and the ridge portion includes a ridge portion for a central conductor in which the central conductor is formed above In the optical modulator comprising the ground conductor ridge portion formed above the ground conductor, and having an optical waveguide at least in the central conductor ridge portion,
The ground conductor formed on the ridge portion for the ground conductor is in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the interaction portion and parallel to the surface of the substrate during the thermal expansion and contraction, An optical modulator characterized in that it is mechanically independent so as not to receive stress from other ground conductors.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007178188A JP2009015118A (en) | 2007-07-06 | 2007-07-06 | Optical modulator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2007178188A JP2009015118A (en) | 2007-07-06 | 2007-07-06 | Optical modulator |
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| Publication Number | Publication Date |
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| JP2009015118A true JP2009015118A (en) | 2009-01-22 |
Family
ID=40356058
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2007178188A Pending JP2009015118A (en) | 2007-07-06 | 2007-07-06 | Optical modulator |
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| Country | Link |
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| JP (1) | JP2009015118A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107121794A (en) * | 2016-02-24 | 2017-09-01 | 三菱电机株式会社 | Optical modulator element and its manufacture method and the optical modulator module for possessing it |
-
2007
- 2007-07-06 JP JP2007178188A patent/JP2009015118A/en active Pending
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