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JP2009008750A - Electrochromic mirror - Google Patents

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JP2009008750A
JP2009008750A JP2007167913A JP2007167913A JP2009008750A JP 2009008750 A JP2009008750 A JP 2009008750A JP 2007167913 A JP2007167913 A JP 2007167913A JP 2007167913 A JP2007167913 A JP 2007167913A JP 2009008750 A JP2009008750 A JP 2009008750A
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JP
Japan
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film
electrochromic
conductive
reflective film
conductive reflective
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Pending
Application number
JP2007167913A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Junichi Nakaho
純一 仲保
Masaharu Hattori
正治 服部
Atsushi Yamaguchi
敦 山口
Nagahiro Saito
永宏 齋藤
Takahiro Ishizaki
貴裕 石崎
Osamu Takai
治 高井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nagoya University NUC
Tokai Rika Co Ltd
Original Assignee
Nagoya University NUC
Tokai Rika Co Ltd
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Publication date
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Priority to US12/144,104 priority patent/US7800807B2/en
Priority to EP08011426A priority patent/EP2009490A3/en
Priority to CN 200810124993 priority patent/CN101334568B/en
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrochromic mirror capable of sufficiently coloring an electrochromic film without applying a high voltage. <P>SOLUTION: In the electrochromic mirror 10, negative ions of perchloric acid lithium composing an electrolyte reacts with silver forming a conductive film 28 when reducing reaction generates in the electrochromic film 16, and thereby silver chloride is generated to be deposited on a hardly soluble salt film 30 formed by silver chloride. Thereby the electrochromic mirror compensates in response to the reducing reaction. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、例えば、車両の後方確認用としてアウタミラーやインナミラーに用いられて電圧を印加することにより反射率を可変できるエレクトロクロミックミラーに関する。   The present invention relates to an electrochromic mirror that can be used for an outer mirror or an inner mirror for confirming the rear of a vehicle, and whose reflectance can be varied by applying voltage.

下記特許文献1に開示されたエレクトロクロミックミラーでは、エレクトロクロミック膜が還元反応することでエレクトロクロミック膜が着色される。このような還元反応の電荷補償として特許文献1に開示されたエレクトロクロミックミラーでは、グラファイト膜が負イオンを蓄積する。
米国特許3844636号の明細書
In the electrochromic mirror disclosed in the following Patent Document 1, the electrochromic film is colored by a reduction reaction of the electrochromic film. In the electrochromic mirror disclosed in Patent Document 1 as charge compensation for such a reduction reaction, the graphite film accumulates negative ions.
Specification of US Pat. No. 3,844,636

しかしながら、このようなグラファイト膜では負イオンの蓄積容量が小さいため、エレクトロクロミック膜を充分に着色するためには大きな電圧を印加しなくてはならない。このような大きな電圧を印加するとエレクトロクロミック膜が劣化しやすくなり、実用性が乏しくなる。しかも、このような大きな電圧を印加することでエレクトロクロミック膜を印加する構成では、着色されたエレクトロクロミック膜を消色する際に逆の電圧を印加しなくてはならない。   However, since such a graphite film has a small negative ion storage capacity, a large voltage must be applied to sufficiently color the electrochromic film. When such a large voltage is applied, the electrochromic film is likely to be deteriorated and the practicality becomes poor. In addition, in the configuration in which the electrochromic film is applied by applying such a large voltage, the reverse voltage must be applied when the colored electrochromic film is decolored.

本発明は、上記事実を考慮して、大きな電圧を印加しなくてもエレクトロクロミック膜を充分に着色できるエレクトロクロミックミラーを得ることが目的である。   An object of the present invention is to obtain an electrochromic mirror capable of sufficiently coloring an electrochromic film without applying a large voltage in consideration of the above fact.

請求項1に記載の本発明に係るエレクトロクロミックミラーは、還元反応することで着色されるエレクトロクロミック膜と、前記エレクトロクロミック膜の厚さ方向一方の側に形成されて前記エレクトロクロミック膜を透過した光を反射すると共に導電性を有する導電性反射膜と、銀又は銀を含む合金により形成されて前記エレクトロクロミック膜の厚さ方向一方の側で前記導電性反射膜の前記エレクトロクロミック膜とは反対側に設けられた導電性膜と、前記導電性膜を形成する銀のイオンと反応する難溶性塩の負イオン及びリチウムイオンを含めて構成されて前記導電性反射膜と前記導電性膜との間に封入され、前記導電性膜を正とし前記導電性反射膜を負として電圧を印加することで前記リチウムイオンが前記エレクトロクロミック膜の側へ移動して、前記エレクトロクロミック膜の還元反応に供される電解液と、難溶性塩により形成されて、前記導電性膜の前記導電性反射膜の側に設けられ、前記電圧が印加されることで前記導電性膜の側へ移動した前記難溶性塩の負イオンと前記導電性膜を構成する銀のイオンとの反応により形成される析出物を析出させる析出膜と、を備えている。   The electrochromic mirror according to the first aspect of the present invention is formed on one side in the thickness direction of the electrochromic film that is colored by a reduction reaction and is transmitted through the electrochromic film. A conductive reflective film that reflects light and has conductivity, and is formed of silver or an alloy containing silver and is opposite to the electrochromic film of the conductive reflective film on one side in the thickness direction of the electrochromic film A conductive film provided on the side, and negative ions and lithium ions of a sparingly soluble salt that reacts with silver ions forming the conductive film, the conductive reflective film and the conductive film The lithium ion is enclosed in the electrochromic film by applying a voltage with the conductive film being positive and the conductive reflective film being negative. Formed by an electrolyte solution used for the reduction reaction of the electrochromic film and a hardly soluble salt, provided on the conductive reflective film side of the conductive film, and applied with the voltage. A deposited film for depositing a precipitate formed by a reaction between the negative ions of the hardly soluble salt moved to the conductive film side and the silver ions constituting the conductive film. .

請求項1に記載の本発明に係るエレクトロクロミックミラーでは、エレクトロクロミック膜を透過した光が導電性反射膜により反射される。   In the electrochromic mirror according to the first aspect of the present invention, light transmitted through the electrochromic film is reflected by the conductive reflective film.

また、導電性膜を正として導電性反射膜を負として電圧を印加すると、導電性膜と導電性反射膜との間に封入された電解液のリチウムイオンがエレクトロクロミック膜の側へ移動する。エレクトロクロミック膜の側へリチウムイオンが移動することでエレクトロクロミック膜が還元反応し、この還元反応によりエレクトロクロミック膜が着色される。このようにしてエレクトロクロミック膜が着色されることでエレクトロクロミック膜における光の透過率が低下する。   Further, when a voltage is applied with the conductive film as positive and the conductive reflective film as negative, the lithium ions of the electrolytic solution enclosed between the conductive film and the conductive reflective film move to the electrochromic film side. When the lithium ions move to the electrochromic film side, the electrochromic film undergoes a reduction reaction, and the electrochromic film is colored by this reduction reaction. In this way, the electrochromic film is colored, so that the light transmittance in the electrochromic film is lowered.

また、上記のように電圧を印加した際には、電解液を構成する難溶性塩の負イオンが導電性膜の側へ移動する。この難溶性塩の負イオンは導電性膜を構成する銀のイオンと反応し、導電性膜の導電性反射膜の側に設けられた難溶性塩の析出膜上で析出される。   Further, when a voltage is applied as described above, the negative ions of the hardly soluble salt that constitutes the electrolytic solution move to the conductive film side. The negative ions of the hardly soluble salt react with silver ions constituting the conductive film, and are deposited on the poorly soluble salt deposition film provided on the conductive reflective film side of the conductive film.

このように、エレクトロクロミック膜での還元反応に対応した酸化反応を導電性膜と析出膜とで充分に生じさせることができるので、上記の導電性膜及び導電性反射膜に印加する電圧が低くてもエレクトロクロミック膜で充分に還元反応を起こさせることができる。しかも、このように低電圧でもエレクトロクロミック膜で還元反応を起こさせることができるため、電圧印加終了後にエレクトロクロミック膜を容易に消色できる。   As described above, since the oxidation reaction corresponding to the reduction reaction in the electrochromic film can be sufficiently generated between the conductive film and the deposited film, the voltage applied to the conductive film and the conductive reflective film is low. However, the electrochromic film can cause a sufficient reduction reaction. Moreover, since the reduction reaction can be caused in the electrochromic film even at such a low voltage, the electrochromic film can be easily decolored after the voltage application is completed.

請求項2に記載の本発明に係るエレクトロクロミックミラーは、請求項1に記載の本発明において、前記導電性反射膜の厚さ方向に前記導電性反射膜を貫通する微細な透孔を前記導電性反射膜に多数形成した、ことを特徴としている。   The electrochromic mirror according to a second aspect of the present invention is the electrochromic mirror according to the first aspect of the present invention, wherein the fine through-hole penetrating the conductive reflective film in the thickness direction of the conductive reflective film is the conductive layer. It is characterized in that a large number of reflective reflective films are formed.

請求項2に記載の本発明に係るエレクトロクロミックミラーでは、導電性反射膜の厚さ方向に導電性反射膜を貫通する微細な透孔が導電性反射膜に多数形成される。このため、導電性膜を正とし、導電性反射膜を負として電圧を印加した際に、電解液のリチウムイオンが透孔を抜けて容易で且つ円滑にエレクトロクロミック膜に到達する。これにより、エレクトロクロミック膜において円滑で且つ素早く還元反応が生じ、円滑で且つ素早くエレクトロクロミック膜が着色される。   In the electrochromic mirror according to the second aspect of the present invention, a number of fine through holes penetrating the conductive reflective film in the thickness direction of the conductive reflective film are formed in the conductive reflective film. For this reason, when a voltage is applied with the conductive film being positive and the conductive reflective film being negative, the lithium ions of the electrolytic solution easily and smoothly reach the electrochromic film through the through holes. Thereby, a smooth and quick reduction reaction occurs in the electrochromic film, and the electrochromic film is colored smoothly and quickly.

請求項3に記載の本発明に係るエレクトロクロミックミラーは、請求項2に記載の本発明において、前記エレクトロクロミック膜の厚さ方向に沿った導電性反射膜の側で開口した微細な孔部を前記エレクトロクロミック膜に多数形成した、ことを特徴としている。   According to a third aspect of the present invention, there is provided the electrochromic mirror according to the second aspect of the present invention, wherein in the second aspect of the present invention, the fine hole portion opened on the conductive reflective film side along the thickness direction of the electrochromic film is provided. A large number of the electrochromic films are formed.

請求項3に記載の本発明に係るエレクトロクロミックミラーによれば、エレクトロクロミック膜にはその厚さ方向に沿った導電性反射膜の側で開口した微細な孔部が多数形成される。これにより、エレクトロクロミック膜の表面積が増加するため、導電性膜を正とし、導電性反射膜を負として電圧を印加した際に、エレクトロクロミック膜において円滑で且つ素早く還元反応が生じ、円滑で且つ素早くエレクトロクロミック膜が着色される。   In the electrochromic mirror according to the third aspect of the present invention, the electrochromic film has a large number of fine holes opened on the side of the conductive reflective film along the thickness direction. This increases the surface area of the electrochromic film, so that when the voltage is applied with the conductive film being positive and the conductive reflective film being negative, a reduction reaction occurs smoothly and quickly in the electrochromic film. The electrochromic film is quickly colored.

請求項4に記載の本発明に係るエレクトロクロミックミラーは、請求項1から請求項3の何れか1項に記載の本発明において、前記エレクトロクロミック膜の厚さ方向一方の側に形成されて前記エレクトロクロミック膜を透過した光を反射すると共に導電性を有する第1導電性反射膜と、前記第1導電性反射膜を構成する材料よりも腐食し難い材料により前記第1導電性反射膜の前記エレクトロクロミック膜とは反対側に形成された導電性を有する導電性保護膜と、を含めて前記導電性反射膜を構成したことを特徴としている。   An electrochromic mirror according to a fourth aspect of the present invention is the electrochromic mirror according to any one of the first to third aspects, wherein the electrochromic mirror is formed on one side in the thickness direction of the electrochromic film. The first conductive reflective film reflects the light transmitted through the electrochromic film and has conductivity, and the material of the first conductive reflective film is less corroded than the material constituting the first conductive reflective film. The conductive reflective film is characterized by including a conductive protective film having conductivity formed on the side opposite to the electrochromic film.

請求項4に記載の本発明に係るエレクトロクロミックミラーでは、エレクトロクロミック膜に還元反応を生じさせてエレクトロクロミック膜を着色する際には、導電性反射膜を構成する第1導電性反射膜及び導電性保護膜を負として電圧が印加される。   In the electrochromic mirror according to the fourth aspect of the present invention, when the electrochromic film is colored by causing a reduction reaction in the electrochromic film, the first conductive reflective film and the conductive film constituting the conductive reflective film are used. The voltage is applied with the protective protective film being negative.

ここで、第1導電性反射膜よりも電解液の側に形成された導電性保護膜は、第1導電性反射膜を構成する材料よりも腐食し難い材料により形成される。このため、第1導電性反射膜が導電性保護膜により保護されて腐食し難くなる。これにより、長期に亘り良好に第1導電性反射膜によって光を反射できる。しかも、導電性保護膜により保護されることで第1導電性反射膜は腐食し難くなるので、第1導電性反射膜自体を薄くでき、この結果、導電性保護膜を設けても導電性反射膜全体として厚くなることがない。   Here, the conductive protective film formed on the electrolyte solution side of the first conductive reflective film is formed of a material that is less likely to corrode than the material constituting the first conductive reflective film. For this reason, the first conductive reflective film is protected by the conductive protective film and hardly corroded. Thereby, light can be favorably reflected by the first conductive reflective film over a long period of time. Moreover, since the first conductive reflective film is hardly corroded by being protected by the conductive protective film, the first conductive reflective film itself can be made thin. As a result, even if the conductive protective film is provided, the conductive reflective film The entire film does not become thick.

請求項5に記載の本発明に係るエレクトロクロミックミラーは、請求項4に記載の本発明において、導電性を有すると共に前記第1導電性反射膜の側からの光を反射する第2導電性反射膜を前記導電性保護膜としたことを特徴としている。   According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the electrochromic mirror according to the present invention described in the fourth aspect, wherein the second conductive reflection has conductivity and reflects light from the first conductive reflection film side. The film is the conductive protective film.

請求項5に記載の本発明に係るエレクトロクロミックミラーによれば、第1導電性反射膜を保護する導電性保護膜が第1導電性反射膜の側からの光を反射する第2導電性反射膜とされる。このため、第1導電性反射膜を薄くすることで光の一部が第1導電性反射膜を透過しても、この透過した光を第2導電性反射膜で反射できる。   According to the electrochromic mirror according to the fifth aspect of the present invention, the second conductive reflection in which the conductive protective film protecting the first conductive reflective film reflects light from the first conductive reflective film side. It is made a film. For this reason, even if a part of the light passes through the first conductive reflective film by thinning the first conductive reflective film, the transmitted light can be reflected by the second conductive reflective film.

また、電解液の側から第1導電性反射膜全体を覆い、しかも、第1導電性反射膜の周縁部よりも外側まで第2導電性反射膜が位置するように第2導電性反射膜を設けた場合、第2導電性反射膜による第1導電性反射膜の保護性能が向上するのみならず、第1導電性反射膜の周縁部の外側に第2導電性反射膜の一部が位置することで、第1導電性反射膜の外側でも光を反射できる。   In addition, the second conductive reflective film is disposed so as to cover the entire first conductive reflective film from the electrolytic solution side, and so that the second conductive reflective film is located outside the peripheral edge of the first conductive reflective film. When provided, not only the protection performance of the first conductive reflective film by the second conductive reflective film is improved, but also a part of the second conductive reflective film is located outside the peripheral edge of the first conductive reflective film. Thus, light can be reflected even outside the first conductive reflective film.

請求項6に記載の本発明に係るエレクトロクロミックミラーは、光の透過が可能で且つ導電性を有する透明電極膜と、前記透明電極膜の厚さ方向一方の側に形成されて還元反応することで着色されるエレクトロクロミック膜と、銀又は銀を含む合金により形成されて前記透明電極膜及び前記エレクトロクロミック膜を透過した光を反射する光反射膜と、前記エレクトロクロミック膜と前記光反射膜との間に設けられ、前記リチウムイオンを透過すると共に前記光反射膜の側から前記エレクトロクロミック膜の側への銀の拡散を規制する透明のリチウムイオン透過膜と、銀又は銀を含む合金により形成されて前記エレクトロクロミック膜の厚さ方向一方の側で前記導電性反射膜の前記エレクトロクロミック膜とは反対側に設けられた導電性膜と、前記導電性膜を形成する銀のイオンと反応する難溶性塩の負イオン及びリチウムイオンを含めて構成されて前記導電性反射膜と前記導電性膜との間に封入され、前記導電性膜を正とし前記導電性反射膜を負として電圧を印加することで前記リチウムイオンが前記エレクトロクロミック膜の側へ移動して、前記エレクトロクロミック膜の還元反応に供される電解液と、難溶性塩により形成されて、前記導電性膜の前記導電性反射膜の側に設けられ、前記電圧が印加されることで前記導電性膜の側へ移動した前記難溶性塩の負イオンと前記導電性膜を構成する銀のイオンとの反応により形成される析出物を析出させる析出膜と、を備えている。   The electrochromic mirror according to the present invention described in claim 6 is formed on one side in the thickness direction of the transparent electrode film, which is capable of transmitting light and having conductivity, and undergoes a reduction reaction. An electrochromic film colored with, a light reflecting film formed of silver or an alloy containing silver and reflecting light transmitted through the transparent electrode film and the electrochromic film, the electrochromic film, and the light reflecting film, A transparent lithium ion permeable film that transmits lithium ions and regulates diffusion of silver from the light reflecting film side to the electrochromic film side, and silver or an alloy containing silver A conductive film provided on one side of the electrochromic film in the thickness direction on the side opposite to the electrochromic film of the conductive reflective film; The conductive film includes negative ions and lithium ions of a hardly soluble salt that reacts with silver ions forming the conductive film, and is enclosed between the conductive reflective film and the conductive film. By applying a voltage with the conductive reflective film being positive and negative, the lithium ions are moved to the electrochromic film side, and the electrolytic solution used for the reduction reaction of the electrochromic film and a hardly soluble salt Formed, provided on the side of the conductive reflective film of the conductive film, the negative ions of the hardly soluble salt moved to the side of the conductive film by applying the voltage and the conductive film And a deposited film for depositing precipitates formed by reaction with the silver ions constituting the film.

請求項6に記載の本発明に係るエレクトロクロミックミラーでは、透明電極膜、エレクトロクロミック膜、及びリチウムイオン透過膜を透過した光が光反射膜により反射される。   In the electrochromic mirror according to the sixth aspect of the present invention, light transmitted through the transparent electrode film, the electrochromic film, and the lithium ion permeable film is reflected by the light reflecting film.

また、導電性膜を正として透明電極膜を負として電圧を印加すると、導電性膜と光反射膜との間に封入された電解液のリチウムイオンがエレクトロクロミック膜の側へ移動する。エレクトロクロミック膜の側へリチウムイオンが移動することでエレクトロクロミック膜が還元反応し、この還元反応によりエレクトロクロミック膜が着色される。このようにしてエレクトロクロミック膜が着色されることでエレクトロクロミック膜における光の透過率が低下する。   Also, when a voltage is applied with the conductive film being positive and the transparent electrode film being negative, the lithium ions of the electrolytic solution enclosed between the conductive film and the light reflecting film move to the electrochromic film side. When the lithium ions move to the electrochromic film side, the electrochromic film undergoes a reduction reaction, and the electrochromic film is colored by this reduction reaction. In this way, the electrochromic film is colored, so that the light transmittance in the electrochromic film is lowered.

また、上記のように電圧を印加した際には、電解液を構成する難溶性塩の負イオンが導電性膜の側へ移動する。この難溶性塩の負イオンは導電性膜を構成する銀のイオンと反応し、導電性膜の導電性反射膜の側に設けられた難溶性塩の析出膜上で析出される。   Further, when a voltage is applied as described above, the negative ions of the hardly soluble salt that constitutes the electrolytic solution move to the conductive film side. The negative ions of the hardly soluble salt react with silver ions constituting the conductive film, and are deposited on the poorly soluble salt deposition film provided on the conductive reflective film side of the conductive film.

このように、エレクトロクロミック膜での還元反応に対応した酸化反応を導電性膜と析出膜とで充分に生じさせることができるので、上記の導電性膜及び導電性反射膜に印加する電圧が低くてもエレクトロクロミック膜で充分に還元反応を起こさせることができる。しかも、このように低電圧でもエレクトロクロミック膜で還元反応を起こさせることができるため、電圧印加終了後にエレクトロクロミック膜を容易に消色できる。   As described above, since the oxidation reaction corresponding to the reduction reaction in the electrochromic film can be sufficiently generated between the conductive film and the deposited film, the voltage applied to the conductive film and the conductive reflective film is low. However, the electrochromic film can cause a sufficient reduction reaction. Moreover, since the reduction reaction can be caused in the electrochromic film even at such a low voltage, the electrochromic film can be easily decolored after the voltage application is completed.

さらに、本発明に係るエレクトロクロミックミラーでは、光反射膜に銀又は銀を含む合金により形成されているが、光反射膜とエレクトロクロミック膜との間に設けられたリチウムイオン透過膜によってエレクトロクロミック膜への銀の拡散が規制される。このため、銀がエレクトロクロミック膜に拡散すること起因した不具合の発生を防止又は効果的に抑制できる。   Furthermore, in the electrochromic mirror according to the present invention, the light reflecting film is formed of silver or an alloy containing silver, but the electrochromic film is formed by a lithium ion permeable film provided between the light reflecting film and the electrochromic film. The diffusion of silver into is regulated. For this reason, generation | occurrence | production of the malfunction resulting from spreading | diffusion to an electrochromic film | membrane can be prevented or suppressed effectively.

請求項7に記載の本発明に係るエレクトロクロミックミラーは、請求項6に記載の本発明において、前記透明電極膜に前記光反射膜を電気的に接続したことを特徴としている。   The electrochromic mirror according to the present invention described in claim 7 is characterized in that, in the present invention described in claim 6, the light reflecting film is electrically connected to the transparent electrode film.

請求項7に記載の本発明に係るエレクトロクロミックミラーでは、透明電極膜に光反射膜が電気的に接続される。このため、電圧を印加する際には銀又は銀を含む合金により構成された光反射膜もまた電極として機能する。   In the electrochromic mirror according to the seventh aspect of the present invention, the light reflecting film is electrically connected to the transparent electrode film. For this reason, when applying a voltage, the light reflection film comprised of silver or an alloy containing silver also functions as an electrode.

以上説明したように、本発明に係るエレクトロクロミックミラーでは、大きな電圧を印加しなくてもエレクトロクロミック膜を充分に着色できる。   As described above, the electrochromic mirror according to the present invention can sufficiently color the electrochromic film without applying a large voltage.

<第1の実施の形態の構成>
図1には本発明の第1の実施の形態に係るエレクトロクロミックミラー10の構成が概略的な断面図により示されている。
<Configuration of First Embodiment>
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of an electrochromic mirror 10 according to a first embodiment of the present invention.

この図に示されるように、エレクトロクロミックミラー10は表面側基板12を備えている。表面側基板12はガラス等により形成された透明の基板本体14を備えている。この基板本体14の厚さ方向一方(図1の矢印W方向)側の面にはエレクトロクロミック膜16が形成されている。エレクトロクロミック膜16は、例えば、三酸化タングステン(WO)や三酸化タングステン(MoO)、又は、このような酸化物が含まれる混合物により形成されており、特に、本実施の形態では、三酸化タングステンによりエレクトロクロミック膜16が形成されている。 As shown in this figure, the electrochromic mirror 10 includes a surface-side substrate 12. The front-side substrate 12 includes a transparent substrate body 14 made of glass or the like. An electrochromic film 16 is formed on the surface of the substrate body 14 on one side in the thickness direction (the direction of arrow W in FIG. 1). The electrochromic film 16 is formed of, for example, tungsten trioxide (WO 3 ), tungsten trioxide (MoO 3 ), or a mixture containing such an oxide. An electrochromic film 16 is formed of tungsten oxide.

基板本体14の厚さ方向に沿ったエレクトロクロミック膜16の厚さは300nm以上1000nm以下の範囲で設定され、特に、本実施の形態ではエレクトロクロミック膜16の厚さは500nmに設定されている。このエレクトロクロミック膜16の基板本体14とは反対側の面には導電性反射膜18が形成されている。この導電性反射膜18は、導電性を有し、且つ、リチウムイオンの透過が可能な光沢を有する金属、例えば、ロジウム(Rh)、ルテニウム(Ru)、パラジウム(Pd)、ニッケル(Ni)等により形成されている。基板本体14の厚さ方向に沿った導電性反射膜18の厚さは30nm以上200nm以下の範囲で設定され、特に、本実施の形態では導電性反射膜18の厚さは50nmに設定されている。   The thickness of the electrochromic film 16 along the thickness direction of the substrate body 14 is set in a range of 300 nm to 1000 nm, and in particular, the thickness of the electrochromic film 16 is set to 500 nm in the present embodiment. A conductive reflective film 18 is formed on the surface of the electrochromic film 16 opposite to the substrate body 14. The conductive reflective film 18 is conductive and has a glossy metal capable of transmitting lithium ions, such as rhodium (Rh), ruthenium (Ru), palladium (Pd), nickel (Ni), and the like. It is formed by. The thickness of the conductive reflective film 18 along the thickness direction of the substrate body 14 is set in the range of 30 nm to 200 nm, and in particular, the thickness of the conductive reflective film 18 is set to 50 nm in the present embodiment. Yes.

以上の構成の表面側基板12の厚さ方向一方の側には裏面側基板24が表面側基板12と対向するように設けられている。裏面側基板24はガラス等により形成された透明の基板本体26を備えている。この基板本体26の厚さ方向他方、すなわち、表面側基板12の側の面には導電性膜28が形成されている。導電性膜28は銀(Ag)により形成されている。この導電性膜28の表面側基板12の側の面には難溶性塩膜30が形成されている。難溶性塩膜30は塩化銀、塩化臭素、塩化チオシアン酸等により形成されており、特に、本実施の形態では難溶性塩膜30が塩化銀により形成されている。   The back surface side substrate 24 is provided on one side in the thickness direction of the front surface side substrate 12 having the above configuration so as to face the front surface side substrate 12. The back surface side substrate 24 includes a transparent substrate body 26 made of glass or the like. A conductive film 28 is formed on the other side in the thickness direction of the substrate body 26, that is, on the surface on the surface-side substrate 12 side. The conductive film 28 is made of silver (Ag). A hardly soluble salt film 30 is formed on the surface of the conductive film 28 on the surface side substrate 12 side. The hardly soluble salt film 30 is made of silver chloride, bromine chloride, chlorothiocyanic acid or the like. In particular, in the present embodiment, the hardly soluble salt film 30 is made of silver chloride.

以上の構成の表面側基板12と裏面側基板24との間には所定の隙間が形成されていると共に、表面側基板12の外周部と裏面側基板24の外周部との間は封止材32により封止されている。表面側基板12、裏面側基板24、及び封止材32により囲まれた空間内には電解液34が封入されている。電解液34は、炭酸プロピレン、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、ブチレンカーボネート、ジエチルカーボネート、γブチロラクトン、ジメチルフォルムアミド等、又はこれらの混合物により形成された溶媒を有しており、特に、本実施の形態では炭酸プロピレンが溶媒として用いられている。   A predetermined gap is formed between the front surface side substrate 12 and the back surface side substrate 24 having the above configuration, and a sealing material is provided between the outer peripheral portion of the front surface side substrate 12 and the outer peripheral portion of the back surface side substrate 24. 32 is sealed. An electrolytic solution 34 is sealed in a space surrounded by the front surface side substrate 12, the back surface side substrate 24, and the sealing material 32. The electrolytic solution 34 has a solvent formed of propylene carbonate, propylene carbonate, ethylene carbonate, butylene carbonate, diethyl carbonate, γ-butyrolactone, dimethylformamide, or the like, or a mixture thereof. Propylene carbonate is used as a solvent.

このような溶媒の他に、電解液34は、過塩素酸リチウム(LiClO)、六フッ化リン酸リチウム(LiPF)、四フッ化ホウ酸リチウム(LiBF)、リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(LiN(SOCF)、リチウムビス(ペンタフルオロエタンスルホニル)イミド(LiN(SO)、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム(LiCFSO)等やこれらの混合物を電解質として有しており、特に、本実施の形態では過塩素酸リチウムが電解質として用いられている。 In addition to such a solvent, the electrolytic solution 34 includes lithium perchlorate (LiClO 4 ), lithium hexafluorophosphate (LiPF 6 ), lithium tetrafluoroborate (LiBF 4 ), lithium bis (trifluoromethanesulfonyl). ) Imide (LiN (SO 2 CF 3 ) 2 ), lithium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide (LiN (SO 2 C 2 F 5 ) 2 ), lithium trifluoromethanesulfonate (LiCF 3 SO 3 ), etc. In particular, lithium perchlorate is used as the electrolyte in the present embodiment.

さらに、以上の構成のエレクトロクロミックミラー10の導電性膜28は、回路40を構成するスイッチ42に接続されている。スイッチ42は、ON状態で接続される端子に車両に搭載されるバッテリー等で構成され定格電圧が1.3V程度の直流電源44の正極が接続されている。この直流電源44の負極は導電性反射膜18に接続されている。また、スイッチ42がOFF状態で接続される端子は、上記の直流電源44を介さずに導電性反射膜18に接続されており、OFF状態では導電性膜28と導電性反射膜18とが短絡される。   Furthermore, the conductive film 28 of the electrochromic mirror 10 having the above configuration is connected to a switch 42 that constitutes the circuit 40. The switch 42 is connected to a terminal connected in the ON state by a battery or the like mounted on the vehicle, and is connected to the positive electrode of a DC power supply 44 having a rated voltage of about 1.3V. The negative electrode of the DC power supply 44 is connected to the conductive reflective film 18. Further, the terminal connected when the switch 42 is in the OFF state is connected to the conductive reflection film 18 without passing through the DC power supply 44, and in the OFF state, the conductive film 28 and the conductive reflection film 18 are short-circuited. Is done.

<第1の実施の形態の作用、効果>
以上の構成のエレクトロクロミックミラー10では、スイッチ42のOFF状態では、エレクトロクロミック膜16が略透明となっており、このため、基板本体14のエレクトロクロミック膜16とは反対側から入射した光は、基板本体14、エレクトロクロミック膜16を透過して導電性反射膜18にて反射される。さらに、導電性反射膜18にて反射された光はエレクトロクロミック膜16、基板本体14を透過すし、以上の構成の本実施の形態では、結果的に光の反射率が55パーセント程度となる。
<Operation and Effect of First Embodiment>
In the electrochromic mirror 10 having the above configuration, the electrochromic film 16 is substantially transparent when the switch 42 is in an OFF state. Therefore, light incident from the opposite side of the substrate body 14 from the electrochromic film 16 is The light passes through the substrate body 14 and the electrochromic film 16 and is reflected by the conductive reflective film 18. Furthermore, the light reflected by the conductive reflective film 18 passes through the electrochromic film 16 and the substrate body 14, and in the present embodiment having the above configuration, the light reflectivity is about 55% as a result.

一方、スイッチ42をON状態に切り替えると、回路40を導電性反射膜18の側に移動した電子(e)がエレクトロクロミック膜16に侵入すると共に、電解液34の電解質を構成するリチウムイオン(Li)が導電性反射膜18を透過してエレクトロクロミック膜16に侵入する。これにより、エレクトロクロミック膜16では以下の式1の還元反応が生じ、所謂タングステンブロンズと称される青色のLiWOがエレクトロクロミック膜16で形成される。 On the other hand, when the switch 42 is switched to the ON state, electrons (e ) that have moved through the circuit 40 toward the conductive reflective film 18 enter the electrochromic film 16, and lithium ions ( Li + ) passes through the conductive reflective film 18 and enters the electrochromic film 16. As a result, a reduction reaction of the following formula 1 occurs in the electrochromic film 16, and blue Li x WO 3 called so-called tungsten bronze is formed in the electrochromic film 16.

Li+e+WO→LiWO・・・(式1)
このようにしてエレクトロクロミック膜16が青色に着色されることでエレクトロクロミック膜16が着色される前では55パーセント程度であった反射率が7パーセント程度まで低下する。
Li + + e + WO 3 → Li x WO 3 (Formula 1)
In this way, the electrochromic film 16 is colored in blue, so that the reflectivity, which was about 55 percent before the electrochromic film 16 is colored, is reduced to about 7 percent.

ここで、図2には、LiWOにおけるXと、光の反射率との関係がグラフにより示されている。なお、このグラフにおいては、X=0、すなわち、三酸化タングステンが透明の場合を1として規格化されている。このグラフに示されるように、反射率はX=0.15以上で概ね飽和し、したがって、X=0.15〜0.2程度でエレクトロクロミック膜16に充分な着色が成される。 Here, in FIG. 2, the relationship between X in Li x WO 3 and the reflectance of light is shown by a graph. In this graph, X = 0, that is, the case where tungsten trioxide is transparent is standardized as 1. As shown in this graph, the reflectance is almost saturated when X = 0.15 or more, and therefore, the electrochromic film 16 is sufficiently colored when X = 0.15 to 0.2.

一方、図3にはエレクトロクロミック膜16の膜厚と反射率との関係がグラフにより示されている。なお、このグラフにおいては、エレクトロクロミック膜16がないときの反射率を1として規格化されている。このグラフに示されるように、反射率はエレクトロクロミック膜16の膜厚が300nmまでで急激に低下し、500nmで飽和するため、エレクトロクロミック膜16の膜厚は300nm以上500nm以下の範囲に設定されることが好ましい。   On the other hand, FIG. 3 is a graph showing the relationship between the thickness of the electrochromic film 16 and the reflectance. In this graph, the reflectance when there is no electrochromic film 16 is standardized as 1. As shown in this graph, since the reflectivity rapidly decreases until the film thickness of the electrochromic film 16 reaches 300 nm and is saturated at 500 nm, the film thickness of the electrochromic film 16 is set in the range of 300 nm to 500 nm. It is preferable.

さらに、以上の還元反応が生じる際には、以下の式2に示されるように、導電性膜28を形成する銀(Ag)に電解質を構成する過塩素酸リチウムの負イオン(Cl)が反応し、これにより、塩化銀(AgCl)が生成され、塩化銀により形成された難溶性塩膜30上に析出される。これにより、上記の還元反応に応じた補償がなされる。 Further, when the above reduction reaction occurs, as shown in the following formula 2, the negative ion (Cl ) of lithium perchlorate constituting the electrolyte is formed on silver (Ag) forming the conductive film 28. As a result, silver chloride (AgCl) is generated and deposited on the hardly soluble salt film 30 formed of silver chloride. Thereby, compensation according to said reduction reaction is made.

Cl+Ag−e→AgCl・・・(式2)
このように、本実施の形態では、エレクトロクロミック膜16における還元反応に対して保障反応が確実に生じるので、エレクトロクロミック膜16を着色するに際して印加する電圧を1.3Vと低くできる。このため、スイッチ42をOFF状態にして導電性反射膜18と導電性膜28とを短絡させると上記の式1及び式2とは逆向きの反応が生じ、エレクトロクロミック膜16が素早く消色される。
Cl + Ag−e → AgCl (Formula 2)
As described above, in the present embodiment, since a guarantee reaction is surely generated with respect to the reduction reaction in the electrochromic film 16, the voltage applied when coloring the electrochromic film 16 can be lowered to 1.3V. For this reason, when the switch 42 is turned off and the conductive reflective film 18 and the conductive film 28 are short-circuited, a reaction opposite to that in the above formulas 1 and 2 occurs, and the electrochromic film 16 is quickly decolored. The

以上のようなエレクトロクロミックミラー10を、例えば、車両における後方確認用のインナミラー(ルームミラー)やアウタミラー(ドアミラーやフェンダーミラー)等のミラー本体に用いると、昼間時にスイッチ42をOFF状態で維持して高い反射率で後方を確認でき、夜間時等に後方の車両がヘッドライトを点灯させている場合には、スイッチ42をON状態に切り換えてエレクトロクロミック膜16を着色し、反射率を低下させることで、ヘッドライトの反射光を低減でき、眩しさが低下する。   When the electrochromic mirror 10 as described above is used in a mirror body such as an inner mirror (room mirror) or an outer mirror (door mirror or fender mirror) for rear confirmation in a vehicle, for example, the switch 42 is maintained in an OFF state at daytime. When the vehicle behind is turning on the headlight at night or the like, the switch 42 is turned on to color the electrochromic film 16 and reduce the reflectance. Thereby, the reflected light of a headlight can be reduced and dazzling falls.

<第2の実施の形態の構成>
次に、本発明のその他の実施の形態について説明する。なお、以下の各実施の形態を説明するにあたり、前記第1の実施の形態を含めて説明している実施の形態よりも前出の実施の形態と基本的に同一の部位に関しては、同一の符号を付与してその詳細な説明を省略する。
<Configuration of Second Embodiment>
Next, other embodiments of the present invention will be described. In describing each of the following embodiments, the same parts as those in the previous embodiment are basically the same as those in the embodiment described above including the first embodiment. Reference numerals are assigned and detailed description thereof is omitted.

図4には本発明の第2の実施の形態に係るエレクトロクロミックミラー60の要部の構成が拡大した構成が概略的な断面図により示されている。   FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an enlarged configuration of a main part of an electrochromic mirror 60 according to the second embodiment of the present invention.

この図に示されるように、エレクトロクロミックミラー60は導電性反射膜18を備えておらず、代わりに導電性反射膜68を備えている。この導電性反射膜68は導電性反射膜18と同様の材質で同様の厚さに形成されているが、図5に示されるように、その厚さ方向に貫通した微細な多数の透孔70が形成されている。これらの透孔70は内径(内周部の直径)寸法Dが20μm以下で、特に、本実施の形態では5μmとされている。また、これらの透孔70は基本的に導電性反射膜68に不規則(ランダム)に形成されている。但し、これらの透孔70は隣り合う透孔70の中心間距離Lが10μmとされている。   As shown in this figure, the electrochromic mirror 60 does not include the conductive reflection film 18 but includes a conductive reflection film 68 instead. The conductive reflective film 68 is formed of the same material as the conductive reflective film 18 and has the same thickness. However, as shown in FIG. 5, a large number of fine through holes 70 penetrating in the thickness direction. Is formed. These through-holes 70 have an inner diameter (inner peripheral diameter) dimension D of 20 μm or less, particularly 5 μm in the present embodiment. These through holes 70 are basically formed irregularly (randomly) in the conductive reflective film 68. However, the distance L between the centers of the adjacent through holes 70 is set to 10 μm.

これらの透孔70は、フォトレジストが塗布された導電性反射膜68に透孔70のパターンが印刷されたフォトマスクを施して露光し、その後に透孔70に対応したフォトレジストを除去し、エッチング液で導電性反射膜68を溶かすことで形成されている。   These through-holes 70 are exposed by applying a photomask on which the pattern of the through-holes 70 is printed on the conductive reflective film 68 to which the photoresist is applied, and thereafter, the photoresist corresponding to the through-holes 70 is removed, It is formed by dissolving the conductive reflective film 68 with an etching solution.

<第2の実施の形態の作用、効果>
以上の構成のエレクトロクロミックミラー60では、上記のように導電性反射膜68に透孔70が形成されるため、スイッチ42をON状態として電圧を印加した際には、電解液34の電解質を構成するリチウムイオン(Li)が透孔70を通過することで透孔70が形成されていない部位で導電性反射膜68を透過するよりも素早くエレクトロクロミック膜16に侵入する。これにより、エレクトロクロミック膜16において素早く還元反応が生じ、全体的にエレクトロクロミック膜16が素早く着色される。
<Operation and Effect of Second Embodiment>
In the electrochromic mirror 60 having the above configuration, since the through hole 70 is formed in the conductive reflective film 68 as described above, when the voltage is applied with the switch 42 turned on, the electrolyte of the electrolytic solution 34 is configured. The lithium ions (Li + ) that pass through the electrochromic film 16 enter the electrochromic film 16 more quickly than the electroconductive reflective film 68 at a portion where the through hole 70 is not formed. Thereby, a reduction reaction occurs quickly in the electrochromic film 16, and the electrochromic film 16 is quickly colored as a whole.

また、本実施の形態では、透孔70は内径(内周部の直径)寸法Dを5μm(すなわち、20μm以下)としていることで、基本的には透孔70を直接目視することができない。このため、透孔70を形成してもエレクトロクロミックミラー60での反射光を目視した際に違和感が生じない。   In the present embodiment, the through hole 70 has an inner diameter (inner peripheral diameter) dimension D of 5 μm (that is, 20 μm or less). For this reason, even if the through-hole 70 is formed, a sense of incongruity does not occur when the reflected light from the electrochromic mirror 60 is viewed.

一方、図6には、透孔70の内径(内周部の直径)寸法Dと隣り合う透孔70の中心間距離Lとの比と、透孔70を形成することによるエレクトロクロミックミラー60での反射率の減少比率との関係が示されている。ここで、本実施の形態では、透孔70の内径寸法Dを5μm、隣り合う透孔70の中心間距離Lを10μmとしたことで、その比率は0.5となる。このため、図6に示されるように、透孔70を形成していない場合の80パーセントの反射率を確保できる。このように、透孔70の内径寸法Dと隣り合う透孔70の中心間距離Lとの比を0.5に設定したことで透孔70を形成したにも関わらず、導電性反射膜68にて光を充分に反射できる。   On the other hand, FIG. 6 shows the ratio of the inner diameter (inner peripheral diameter) dimension D of the through hole 70 to the distance L between the centers of the adjacent through holes 70 and the electrochromic mirror 60 formed by forming the through holes 70. The relationship with the decrease ratio of the reflectance is shown. Here, in the present embodiment, the inner diameter dimension D of the through holes 70 is 5 μm, and the distance L between the centers of the adjacent through holes 70 is 10 μm, so that the ratio is 0.5. For this reason, as shown in FIG. 6, it is possible to ensure a reflectance of 80% when the through hole 70 is not formed. Thus, although the through hole 70 is formed by setting the ratio of the inner diameter dimension D of the through hole 70 to the center distance L of the adjacent through holes 70 to 0.5, the conductive reflective film 68 is formed. Can sufficiently reflect light.

また、本実施の形態では、隣り合う透孔70の中心間距離Lは10μmに設定されるが、その形成位置は不規則(ランダム)である。このため、導電性反射膜68での反射光に規則的な干渉等が生じない。これにより、更に反射像を鮮明にできる。   In the present embodiment, the center-to-center distance L between adjacent through holes 70 is set to 10 μm, but the formation positions are irregular (random). For this reason, regular interference or the like does not occur in the reflected light from the conductive reflective film 68. Thereby, the reflected image can be further clarified.

なお、本実施の形態に係るエレクトロクロミックミラー60は、導電性反射膜18に代わり透孔70が形成された導電性反射膜68を設けた点以外は基本的に前記第1の実施の形態に係るエレクトロクロミックミラー10と構成が同じである。したがって、エレクトロクロミックミラー60は基本的にエレクトロクロミックミラー10と同様の作用を奏し、エレクトロクロミックミラー10と同様の効果を得ることもできる。   The electrochromic mirror 60 according to the present embodiment is basically the same as the first embodiment except that a conductive reflective film 68 having a through hole 70 is provided instead of the conductive reflective film 18. The configuration of the electrochromic mirror 10 is the same. Therefore, the electrochromic mirror 60 basically exhibits the same action as the electrochromic mirror 10 and can obtain the same effect as the electrochromic mirror 10.

<第3の実施の形態の構成>
次に、本発明の第3の実施の形態について説明する。
<Configuration of Third Embodiment>
Next, a third embodiment of the present invention will be described.

図7には本発明の第3の実施の形態に係るエレクトロクロミックミラー80の構成が概略的な断面図により示されている。   FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of an electrochromic mirror 80 according to a third embodiment of the present invention.

この図に示されるように、エレクトロクロミックミラー80はエレクトロクロミック膜16を備えておらず、代わりにエレクトロクロミック膜86を備えている。このエレクトロクロミック膜86はエレクトロクロミック膜16と同様の材質で同様の厚さに形成されているが、図8に示されるように、その厚さ方向に貫通した微細な多数の透孔92が形成されている。これらの透孔92は透孔70に連通しており、その内径(内周部の直径)寸法Dが20μm以下で、特に、本実施の形態では5μmとされている。また、これらの透孔92は基本的にエレクトロクロミック膜86に不規則(ランダム)に形成されている。但し、これらの透孔92は隣り合う透孔92の中心間距離Lが10μmとされている。   As shown in this figure, the electrochromic mirror 80 does not include the electrochromic film 16 but includes an electrochromic film 86 instead. The electrochromic film 86 is formed of the same material as the electrochromic film 16 and has the same thickness. However, as shown in FIG. 8, a large number of fine through holes 92 penetrating in the thickness direction are formed. Has been. These through-holes 92 communicate with the through-holes 70 and have an inner diameter (inner peripheral diameter) dimension D of 20 μm or less, particularly 5 μm in the present embodiment. These through holes 92 are basically formed irregularly (randomly) in the electrochromic film 86. However, the distance L between the centers of the adjacent through holes 92 is set to 10 μm.

これらの透孔92は、フォトレジストが塗布されたエレクトロクロミック膜86に透孔92のパターンが印刷されたフォトマスクを施して露光し、その後に透孔92に対応したフォトレジストを除去し、エッチング液でエレクトロクロミック膜86を溶かすことで形成されている。   These through-holes 92 are exposed by applying a photomask on which the pattern of the through-holes 92 is printed on the electrochromic film 86 coated with the photoresist, and then removing the photoresist corresponding to the through-holes 92 and etching. It is formed by dissolving the electrochromic film 86 with a liquid.

<第3の実施の形態の作用、効果>
以上の構成のエレクトロクロミックミラー80では、導電性反射膜68に透孔70が形成され、エレクトロクロミック膜86に透孔92が形成される。このため、スイッチ42をON状態として電圧を印加した際には、先ず、電解液34の電解質を構成するリチウムイオン(Li)が透孔70を通過することで透孔70が形成されていない部位で導電性反射膜68を透過するよりも素早くエレクトロクロミック膜86に到達する。
<Operation and Effect of Third Embodiment>
In the electrochromic mirror 80 configured as described above, the through hole 70 is formed in the conductive reflective film 68, and the through hole 92 is formed in the electrochromic film 86. For this reason, when a voltage is applied with the switch 42 in the ON state, first, lithium ions (Li + ) constituting the electrolyte of the electrolytic solution 34 pass through the through holes 70 so that the through holes 70 are not formed. It reaches the electrochromic film 86 more quickly than the portion that passes through the conductive reflective film 68.

さらに、エレクトロクロミック膜86に到達したリチウムイオンは透孔92に入り込み、透孔92の内周部からエレクトロクロミック膜86に侵入する。これにより、エレクトロクロミック膜86において更に素早く還元反応が生じ、全体的にエレクトロクロミック膜86が更に素早く着色される。   Further, the lithium ions that have reached the electrochromic film 86 enter the through hole 92 and enter the electrochromic film 86 from the inner periphery of the through hole 92. As a result, a reduction reaction occurs more quickly in the electrochromic film 86, and the electrochromic film 86 is colored more quickly as a whole.

また、本実施の形態では、透孔92は内径(内周部の直径)寸法Dを5μm(すなわち、20μm以下)としていることで、基本的には透孔92を直接目視することができない。このため、透孔92を形成しても導電性反射膜68での反射光を目視した際に違和感が生じない。   In the present embodiment, the through hole 92 has an inner diameter (inner peripheral diameter) dimension D of 5 μm (that is, 20 μm or less). For this reason, even if the through-hole 92 is formed, there is no sense of incongruity when the reflected light from the conductive reflection film 68 is visually observed.

さらに、導電性反射膜68に透孔70を形成した場合と同様に、本実施の形態では、透孔92の内径寸法Dを5μm、隣り合う透孔92の中心間距離Lを10μmとしたことで、その比率は0.5となる。このため、透孔92を形成していない場合の80パーセントの反射率を確保できる。このように、透孔92の内径寸法Dと隣り合う透孔92の中心間距離Lとの比を0.5に設定したことで透孔92を形成したにも関わらず、エレクトロクロミック膜86にて光を充分に反射できる。   Further, as in the case where the through holes 70 are formed in the conductive reflective film 68, in this embodiment, the inner diameter dimension D of the through holes 92 is 5 μm, and the distance L between the centers of the adjacent through holes 92 is 10 μm. The ratio is 0.5. For this reason, the reflectance of 80% when the through-hole 92 is not formed can be secured. As described above, the ratio of the inner diameter dimension D of the through-hole 92 and the distance L between the centers of the adjacent through-holes 92 is set to 0.5, so that the electrochromic film 86 is formed in spite of the formation of the through-hole 92. Enough to reflect light.

また、本実施の形態では、隣り合う透孔92の中心間距離Lは10μmに設定されるが、その形成位置は透孔70と同様に不規則(ランダム)である。このため、エレクトロクロミック膜86での反射光に規則的な干渉等が生じない。これにより、更に反射像を鮮明にできる。   In the present embodiment, the center-to-center distance L between the adjacent through holes 92 is set to 10 μm, but the formation positions thereof are irregular (random) like the through holes 70. For this reason, regular interference or the like does not occur in the reflected light from the electrochromic film 86. Thereby, the reflected image can be further clarified.

なお、本実施の形態に係るエレクトロクロミックミラー80は、エレクトロクロミック膜86に代わり透孔92が形成されたエレクトロクロミック膜86を設けた点以外は基本的に前記第2の実施の形態に係るエレクトロクロミックミラー60と構成が同じである。したがって、エレクトロクロミックミラー80は基本的にエレクトロクロミックミラー60と同様の作用を奏し、エレクトロクロミックミラー60と同様の効果を得ることもできる。   The electrochromic mirror 80 according to the present embodiment is basically the electrochromic film according to the second embodiment except that an electrochromic film 86 having a through hole 92 is provided instead of the electrochromic film 86. The configuration is the same as that of the chromic mirror 60. Therefore, the electrochromic mirror 80 basically exhibits the same action as the electrochromic mirror 60, and can obtain the same effect as the electrochromic mirror 60.

<第4の実施の形態の構成>
次に、本発明の第4の実施の形態ついて説明する。
<Configuration of Fourth Embodiment>
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described.

図9には本実施の形態に係るエレクトロクロミックミラー110の構成が概略的な断面図により示されている。   FIG. 9 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of the electrochromic mirror 110 according to the present embodiment.

この図に示されるように、エレクトロクロミックミラー110は導電性反射膜68を備えておらず、代わりに導電性反射膜118を備えている。この導電性反射膜118は第1導電性反射膜120と、導電性保護膜としての第2導電性反射膜122とによって構成されている。第1導電性反射膜120はエレクトロクロミック膜16の基板本体14とは反対側に形成されている。第1導電性反射膜120はアルミニウム(Al)、銀(Ag)、インジウム(In)等により形成されている。これに対して、第2導電性反射膜122は第1導電性反射膜120よりも腐食し難い金属、例えば、ロジウム(Rh)、ルテニウム(Ru)、パラジウム(Pd)、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)等により形成されている。   As shown in this figure, the electrochromic mirror 110 does not include the conductive reflection film 68 but includes a conductive reflection film 118 instead. The conductive reflective film 118 includes a first conductive reflective film 120 and a second conductive reflective film 122 as a conductive protective film. The first conductive reflective film 120 is formed on the opposite side of the electrochromic film 16 from the substrate body 14. The first conductive reflective film 120 is made of aluminum (Al), silver (Ag), indium (In), or the like. On the other hand, the second conductive reflective film 122 is less susceptible to corrosion than the first conductive reflective film 120, for example, rhodium (Rh), ruthenium (Ru), palladium (Pd), nickel (Ni), chromium. (Cr) or the like.

また、この第2導電性反射膜122は外周縁部が第1導電性反射膜120の外周縁部よりも外側に位置するように形成されている。これにより、第1導電性反射膜120は、その全体がエレクトロクロミック膜16とは反対側から第2導電性反射膜122により覆われている。   The second conductive reflective film 122 is formed such that the outer peripheral edge portion is located outside the outer peripheral edge portion of the first conductive reflective film 120. Thereby, the first conductive reflective film 120 is entirely covered with the second conductive reflective film 122 from the side opposite to the electrochromic film 16.

また、前記第2、第3の実施の形態では、導電性反射膜68に透孔70が形成されていたが、図10に示されるように、本実施の形態においても第1導電性反射膜120には透孔70に対応した透孔124が形成され、第2導電性反射膜122には透孔70に対応した透孔126が透孔70と同様の条件で形成されている。   In the second and third embodiments, the through-hole 70 is formed in the conductive reflective film 68. However, as shown in FIG. 10, the first conductive reflective film is also used in this embodiment. A through hole 124 corresponding to the through hole 70 is formed in 120, and a through hole 126 corresponding to the through hole 70 is formed in the second conductive reflective film 122 under the same conditions as the through hole 70.

<第4の実施の形態の作用、効果>
以上の構成のエレクトロクロミックミラー110では、基板本体14のエレクトロクロミック膜16とは反対側から入射した光は基板本体14、エレクトロクロミック膜86を透過して第1導電性反射膜120にて反射される。また、仮に、第1導電性反射膜120にて反射されずに第1導電性反射膜120を透過した光は第2導電性反射膜122にて反射される。
<Operation and Effect of Fourth Embodiment>
In the electrochromic mirror 110 having the above configuration, light incident from the opposite side of the substrate body 14 from the electrochromic film 16 is transmitted through the substrate body 14 and the electrochromic film 86 and reflected by the first conductive reflective film 120. The Also, light that has passed through the first conductive reflective film 120 without being reflected by the first conductive reflective film 120 is reflected by the second conductive reflective film 122.

ところで、導電性反射膜118のエレクトロクロミック膜86とは反対側では電解液34が封入されている。ここで、本エレクトロクロミックミラー110では、主に光を反射する第1導電性反射膜120の電解液34の側は第1導電性反射膜120よりも腐食し難い金属により形成された第2導電性反射膜122で覆われる。このため、電解液34に対して第1導電性反射膜120は第2導電性反射膜122に保護され、第1導電性反射膜120が腐食され難くなる。これにより、長期に亘って第1導電性反射膜120によって良好に光を反射できる。   Incidentally, the electrolytic solution 34 is sealed on the opposite side of the electroconductive reflective film 118 from the electrochromic film 86. Here, in the electrochromic mirror 110, the second conductive layer formed of a metal that is less likely to corrode than the first conductive reflective film 120 on the side of the electrolytic solution 34 of the first conductive reflective film 120 that mainly reflects light. Covered with a reflective film 122. For this reason, the 1st electroconductive reflective film 120 is protected by the 2nd electroconductive reflective film 122 with respect to the electrolyte solution 34, and the 1st electroconductive reflective film 120 becomes difficult to corrode. Thereby, light can be favorably reflected by the first conductive reflective film 120 over a long period of time.

しかも、第2導電性反射膜122の外周縁部は、第1導電性反射膜120の外周縁部よりも外側に位置している。これにより、第1導電性反射膜120は、その全体がエレクトロクロミック膜16とは反対側から第2導電性反射膜122により覆われることになり、エレクトロクロミック膜16とは反対側の面のみならず、第1導電性反射膜120の外周端も電解液34に対して第2導電性反射膜122により保護され、第1導電性反射膜120の腐食を効果的に抑制又は防止できる。   In addition, the outer peripheral edge of the second conductive reflective film 122 is located outside the outer peripheral edge of the first conductive reflective film 120. As a result, the entire first conductive reflective film 120 is covered with the second conductive reflective film 122 from the side opposite to the electrochromic film 16, and only the surface opposite to the electrochromic film 16 is covered. In addition, the outer peripheral edge of the first conductive reflection film 120 is also protected by the second conductive reflection film 122 with respect to the electrolyte solution 34, and corrosion of the first conductive reflection film 120 can be effectively suppressed or prevented.

さらに、第2導電性反射膜122は、それ自体が基板本体14の側からの光を反射するため、第1導電性反射膜120の外周縁部よりも外側で基板本体14を透過した光は第1導電性反射膜120で反射されることはないが、代わりに第2導電性反射膜122により反射される。このため、光の反射領域を広くできる(還元すれば、第2導電性反射膜122で第1導電性反射膜120全体を覆う構成とするために、第1導電性反射膜120を小さくしても、光の反射領域が狭くなることがない)。   Further, since the second conductive reflective film 122 itself reflects light from the substrate body 14 side, the light transmitted through the substrate body 14 outside the outer peripheral edge of the first conductive reflective film 120 is not reflected. Although it is not reflected by the first conductive reflection film 120, it is reflected by the second conductive reflection film 122 instead. For this reason, the light reflection region can be widened (if reduced, the first conductive reflective film 120 is made smaller in order to cover the entire first conductive reflective film 120 with the second conductive reflective film 122). However, the light reflection area is not narrowed).

なお、本実施の形態に係るエレクトロクロミックミラー110は、透孔70が形成された導電性反射膜68に代わり透孔124が形成された第1導電性反射膜120及び透孔126が形成された第2導電性反射膜122により構成された導電性反射膜118を設けた点以外は基本的に前記第2の実施の形態に係るエレクトロクロミックミラー60と構成が同じである。したがって、エレクトロクロミックミラー110は基本的にエレクトロクロミックミラー60と同様の作用を奏し、エレクトロクロミックミラー60と同様の効果を得ることもできる。   In the electrochromic mirror 110 according to the present embodiment, the first conductive reflective film 120 and the through holes 126 in which the through holes 124 are formed are formed instead of the conductive reflective film 68 in which the through holes 70 are formed. The configuration is basically the same as that of the electrochromic mirror 60 according to the second embodiment except that the conductive reflective film 118 composed of the second conductive reflective film 122 is provided. Therefore, the electrochromic mirror 110 basically performs the same operation as the electrochromic mirror 60, and can obtain the same effect as the electrochromic mirror 60.

また、本実施の形態に係るエレクトロクロミックミラー110はエレクトロクロミック膜16を備える構成であるが、図11に示されるように、エレクトロクロミック膜16に代えてエレクトロクロミック膜86を設ける構成とした場合には、本実施の作用並びに効果に加え、前記第3の実施の形態に係るエレクトロクロミックミラー80と同様の作用を奏し、エレクトロクロミックミラー80と同様の効果を得ることもできる。   In addition, the electrochromic mirror 110 according to the present embodiment is configured to include the electrochromic film 16, but as illustrated in FIG. 11, when the electrochromic film 86 is provided instead of the electrochromic film 16, In addition to the operation and effect of the present embodiment, the same operation as the electrochromic mirror 80 according to the third embodiment can be achieved, and the same effect as the electrochromic mirror 80 can be obtained.

<第5の実施の形態の構成>
次に本発明の第5の実施の形態について説明する
図12には本実施の形態に係るエレクトロクロミックミラー140の構成が概略的な断面図により示されている。
<Configuration of Fifth Embodiment>
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described. FIG. 12 shows a schematic sectional view of a configuration of an electrochromic mirror 140 according to the present embodiment.

この図に示されるように、エレクトロクロミックミラー140では基板本体14とエレクトロクロミック膜16との間に透明の透明電極膜142が設けられている。透明電極膜142は、インジウムチンオキサイド(In:Sn、所謂「ITO」)や酸化スズ(SnO)、フッ素ドープ酸化スズ(SnO:F)、酸化亜鉛(ZnO)等、更にはこれらの混合物により形成されている。この透明電極膜142にはスイッチ42を介して直流電源44の負極に接続されている。 As shown in this figure, in the electrochromic mirror 140, a transparent transparent electrode film 142 is provided between the substrate body 14 and the electrochromic film 16. The transparent electrode film 142 includes indium tin oxide (In 2 O 3 : Sn, so-called “ITO”), tin oxide (SnO 2 ), fluorine-doped tin oxide (SnO 2 : F), zinc oxide (ZnO 2 ), and the like. Is formed by a mixture of these. The transparent electrode film 142 is connected to the negative electrode of the DC power supply 44 through the switch 42.

また、エレクトロクロミック膜16の透明電極膜142とは反対側の面には導電性反射膜18や導電性反射膜68、導電性反射膜118が形成されておらず、代わりに透明のリチウムイオン透過膜144が形成されている。リチウムイオン透過膜144はフッ化リチウムやフッ化マグネシウムにより形成されており、スイッチ42がON状態になった場合には、電解液34のリチウムイオン(Li)が透過する。さらに、リチウムイオン透過膜144のエレクトロクロミック膜16とは反対側の面には、銀や銀を含む合金により構成された光反射膜146が形成されている。 Further, the conductive reflective film 18, the conductive reflective film 68, and the conductive reflective film 118 are not formed on the surface of the electrochromic film 16 opposite to the transparent electrode film 142, and transparent lithium ion transmission is used instead. A film 144 is formed. The lithium ion permeable membrane 144 is formed of lithium fluoride or magnesium fluoride, and when the switch 42 is turned on, lithium ions (Li + ) of the electrolytic solution 34 are transmitted. Further, a light reflecting film 146 made of silver or an alloy containing silver is formed on the surface of the lithium ion permeable film 144 opposite to the electrochromic film 16.

<第5の実施の形態の作用、効果>
以上の構成のエレクトロクロミックミラー140では、スイッチ42のOFF状態では、透明電極膜142及びリチウムイオン透過膜144が略透明となっており、このため、基板本体14のエレクトロクロミック膜16とは反対側から入射した光は、基板本体14、透明電極膜142、エレクトロクロミック膜16、リチウムイオン透過膜144を透過して光反射膜146にて反射される。さらに、光反射膜146にて反射された光はリチウムイオン透過膜144、エレクトロクロミック膜16、透明電極膜142、基板本体14を透過する。
<Operation and Effect of Fifth Embodiment>
In the electrochromic mirror 140 having the above configuration, when the switch 42 is in the OFF state, the transparent electrode film 142 and the lithium ion permeable film 144 are substantially transparent. Therefore, the side of the substrate body 14 opposite to the electrochromic film 16 is used. Is transmitted through the substrate body 14, the transparent electrode film 142, the electrochromic film 16, and the lithium ion permeable film 144 and reflected by the light reflecting film 146. Further, the light reflected by the light reflecting film 146 passes through the lithium ion permeable film 144, the electrochromic film 16, the transparent electrode film 142, and the substrate body 14.

一方、スイッチ42をON状態に切り替えると、回路40を導電性反射膜18の側に移動した電子(e)がエレクトロクロミック膜16に侵入すると共に、電解液34の電解質を構成するリチウムイオン(Li)が光反射膜146及びリチウムイオン透過膜144を透過してエレクトロクロミック膜16に侵入する。これにより、エレクトロクロミック膜16では前記第1の実施の形態と同様に青色に着色され、これにより、エレクトロクロミック膜16が着色される前に比べて反射率が低下する。 On the other hand, when the switch 42 is switched to the ON state, the electrons (e ) that have moved through the circuit 40 toward the conductive reflective film 18 enter the electrochromic film 16, and at the same time, the lithium ions ( Li + ) penetrates the light reflecting film 146 and the lithium ion permeable film 144 and enters the electrochromic film 16. As a result, the electrochromic film 16 is colored blue in the same manner as in the first embodiment, whereby the reflectance is reduced as compared to before the electrochromic film 16 is colored.

ここで、本実施の形態では、光反射膜146が銀又は銀を含む合金により形成される。三酸化タングステンにより形成されたエレクトロクロミック膜16に直接銀又は銀を含む合金により形成された光反射膜146を形成すると、光反射膜146の銀がエレクトロクロミック膜16の三酸化タングステンに拡散し、三酸化タングステンが黄変する可能性がある。   Here, in this embodiment, the light reflecting film 146 is formed of silver or an alloy containing silver. When the light reflecting film 146 formed of silver or an alloy containing silver is directly formed on the electrochromic film 16 formed of tungsten trioxide, the silver of the light reflecting film 146 diffuses into the tungsten trioxide of the electrochromic film 16, Tungsten trioxide may turn yellow.

しかしながら、本実施の形態では、エレクトロクロミック膜16と光反射膜146との間にリチウムイオン透過膜144を設けているため、エレクトロクロミック膜16への銀の拡散が防止又は効果的に抑制される。これにより、銀又は銀を含む合金により光反射膜146を形成しても、エレクトロクロミック膜16の黄変を防止又は効果的に抑制でき、長期に亘り品質を良好に保つことができる。   However, in this embodiment, since the lithium ion permeable film 144 is provided between the electrochromic film 16 and the light reflecting film 146, the diffusion of silver into the electrochromic film 16 is prevented or effectively suppressed. . Thereby, even if the light reflection film 146 is formed of silver or an alloy containing silver, yellowing of the electrochromic film 16 can be prevented or effectively suppressed, and the quality can be kept good for a long time.

なお、本実施の形態は、基板本体14とエレクトロクロミック膜16との間に透明の透明電極膜142が設けた点、導電性反射膜18に代わり透明のリチウムイオン透過膜144と光反射膜146とを設けた点以外は基本的に前記第1の実施の形態と同じ構成であるため、基本的には前記第1の実施の形態と同様の作用を奏し、同様の効果を得ることができる。   In the present embodiment, a transparent transparent electrode film 142 is provided between the substrate body 14 and the electrochromic film 16, and a transparent lithium ion permeable film 144 and a light reflecting film 146 are used instead of the conductive reflecting film 18. Since the configuration is basically the same as that of the first embodiment except for the points described above, basically the same operation as the first embodiment can be achieved and the same effect can be obtained. .

<第6の実施の形態の構成>
次に本発明の第6の実施の形態について説明する
図13には本実施の形態に係るエレクトロクロミックミラー160の構成が概略的な断面図により示されている。
<Configuration of Sixth Embodiment>
Next, a sixth embodiment of the present invention will be described. FIG. 13 shows a schematic cross-sectional view of a configuration of an electrochromic mirror 160 according to the present embodiment.

この図に示されるように、エレクトロクロミックミラー160は基本的に前記第5の実施の形態に係るエレクトロクロミックミラー140と同じ構成であるが、エレクトロクロミックミラー160は光反射膜146を備えておらず、代わりに光反射膜166を備えている。光反射膜166は銀や銀を含む合金により構成されている点で光反射膜146と同じであるが、外周縁が透明電極膜142の外周縁に接触し、電気的に導通している。   As shown in this figure, the electrochromic mirror 160 has basically the same configuration as the electrochromic mirror 140 according to the fifth embodiment, but the electrochromic mirror 160 does not include the light reflecting film 146. Instead, a light reflecting film 166 is provided. The light reflecting film 166 is the same as the light reflecting film 146 in that it is made of silver or an alloy containing silver, but the outer peripheral edge is in contact with the outer peripheral edge of the transparent electrode film 142 and is electrically conductive.

<第6の実施の形態の作用、効果>
以上の構成のエレクトロクロミックミラー160では、銀や銀を含む合金により形成された光反射膜166の外周縁が透明電極膜142の外周縁に接触し、電気的に接続されているため、スイッチ42をON状態に切り替えた際には光反射膜166を電極として機能させることができる。
<Operation and Effect of Sixth Embodiment>
In the electrochromic mirror 160 having the above configuration, the outer peripheral edge of the light reflecting film 166 formed of silver or an alloy containing silver is in contact with and electrically connected to the outer peripheral edge of the transparent electrode film 142. When is switched to the ON state, the light reflecting film 166 can function as an electrode.

なお、本実施の形態は、光反射膜146に変えて光反射膜166を設けた点以外は基本的に前記第5の実施の形態と同じ構成であるため、前記第5の実施の形態と同様の作用を奏し、同様の効果を得ることができる。   The present embodiment is basically the same as the fifth embodiment except that a light reflecting film 166 is provided in place of the light reflecting film 146. Therefore, the present embodiment is the same as the fifth embodiment. The same effect can be obtained and the same effect can be obtained.

本発明の第1の実施の形態に係るエレクトロクロミックミラーの構成の概略を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the outline of a structure of the electrochromic mirror which concerns on the 1st Embodiment of this invention. LiWOにおけるXと、光の反射率との関係がグラフにより示されている。The relationship between X in Li x WO 3 and the reflectance of light is shown by a graph. エレクトロクロミック膜16の膜厚と反射率との関係がグラフにより示されている。The relationship between the film thickness of the electrochromic film 16 and the reflectance is shown by a graph. 本発明の第2の実施の形態に係るエレクトロクロミックミラーの構成の概略を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the outline of a structure of the electrochromic mirror which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施の形態に係るエレクトロクロミックミラーの要部を拡大した概略的な断面図である。It is the schematic sectional drawing which expanded the principal part of the electrochromic mirror which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 透孔の内径寸法Dと隣り合う透孔の中心間距離Lとの比と、透孔を形成することによるエレクトロクロミックミラーでの反射率の減少比率との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the ratio of the inner diameter dimension D of a through-hole, and the distance L between the centers of adjacent through-holes, and the reduction ratio of the reflectance in an electrochromic mirror by forming a through-hole. 本発明の第3の実施の形態に係るエレクトロクロミックミラーの構成の概略を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the outline of a structure of the electrochromic mirror which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施の形態に係るエレクトロクロミックミラーの要部を拡大した概略的な断面図である。It is the schematic sectional drawing which expanded the principal part of the electrochromic mirror which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4の実施の形態に係るエレクトロクロミックミラーの構成の概略を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the outline of a structure of the electrochromic mirror which concerns on the 4th Embodiment of this invention. 本発明の第4の実施の形態に係るエレクトロクロミックミラーの要部を拡大した概略的な断面図である。It is the schematic sectional drawing which expanded the principal part of the electrochromic mirror which concerns on the 4th Embodiment of this invention. 本発明の第4の実施の形態に係るエレクトロクロミックミラーの変形例を示す図10に対応した断面図である。It is sectional drawing corresponding to FIG. 10 which shows the modification of the electrochromic mirror which concerns on the 4th Embodiment of this invention. 本発明の第5の実施の形態に係るエレクトロクロミックミラーの構成の概略を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the outline of a structure of the electrochromic mirror which concerns on the 5th Embodiment of this invention. 本発明の第6の実施の形態に係るエレクトロクロミックミラーの構成の概略を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the outline of a structure of the electrochromic mirror which concerns on the 6th Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10 エレクトロクロミックミラー
16 エレクトロクロミック膜
18 導電性反射膜
28 導電性膜
30 難溶性塩膜
34 電解液
60 エレクトロクロミックミラー
68 導電性反射膜
70 透孔
80 エレクトロクロミックミラー
86 エレクトロクロミック膜
92 透孔
110 エレクトロクロミックミラー
118 導電性反射膜
120 第1導電性反射膜
122 第2導電性反射膜(導電性保護膜)
124 透孔
126 透孔
140 エレクトロクロミックミラー
142 透明電極膜
144 リチウムイオン透過膜
146 光反射膜
160 エレクトロクロミックミラー
166 光反射膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Electrochromic mirror 16 Electrochromic film 18 Conductive reflective film 28 Conductive film 30 Slightly soluble salt film 34 Electrolytic solution 60 Electrochromic mirror 68 Conductive reflective film 70 Through-hole 80 Electrochromic mirror 86 Electrochromic film 92 Through-hole 110 Electro Chromic mirror 118 conductive reflective film 120 first conductive reflective film 122 second conductive reflective film (conductive protective film)
124 Through-hole 126 Through-hole 140 Electrochromic mirror 142 Transparent electrode film 144 Lithium ion transmission film 146 Light reflection film 160 Electrochromic mirror 166 Light reflection film

Claims (7)

還元反応することで着色されるエレクトロクロミック膜と、
前記エレクトロクロミック膜の厚さ方向一方の側に形成されて前記エレクトロクロミック膜を透過した光を反射すると共に導電性を有する導電性反射膜と、
銀又は銀を含む合金により形成されて前記エレクトロクロミック膜の厚さ方向一方の側で前記導電性反射膜の前記エレクトロクロミック膜とは反対側に設けられた導電性膜と、
前記導電性膜を形成する銀のイオンと反応する難溶性塩の負イオン及びリチウムイオンを含めて構成されて前記導電性反射膜と前記導電性膜との間に封入され、前記導電性膜を正とし前記導電性反射膜を負として電圧を印加することで前記リチウムイオンが前記エレクトロクロミック膜の側へ移動して、前記エレクトロクロミック膜の還元反応に供される電解液と、
難溶性塩により形成されて、前記導電性膜の前記導電性反射膜の側に設けられ、前記電圧が印加されることで前記導電性膜の側へ移動した前記難溶性塩の負イオンと前記導電性膜を構成する銀のイオンとの反応により形成される析出物を析出させる析出膜と、
を備えるエレクトロクロミックミラー。
An electrochromic film colored by a reduction reaction;
A conductive reflective film that is formed on one side in the thickness direction of the electrochromic film and reflects light transmitted through the electrochromic film and has conductivity;
A conductive film formed of silver or an alloy containing silver and provided on the opposite side of the electrochromic film of the conductive reflective film on one side in the thickness direction of the electrochromic film;
The conductive film includes negative ions and lithium ions of a hardly soluble salt that reacts with silver ions forming the conductive film, and is enclosed between the conductive reflective film and the conductive film. By applying a voltage with the electroconductive reflective film as positive and negative, the lithium ions move to the electrochromic film side, and an electrolytic solution used for the reduction reaction of the electrochromic film;
Formed of a hardly soluble salt, provided on the conductive reflective film side of the conductive film, and moved to the conductive film side by applying the voltage; A deposited film for depositing precipitates formed by reaction with silver ions constituting the conductive film;
Electrochromic mirror equipped with.
前記導電性反射膜の厚さ方向に前記導電性反射膜を貫通する微細な透孔を前記導電性反射膜に多数形成した、
ことを特徴とする請求項1に記載のエレクトロクロミックミラー。
A number of fine through holes penetrating the conductive reflective film in the thickness direction of the conductive reflective film were formed in the conductive reflective film.
The electrochromic mirror according to claim 1.
前記エレクトロクロミック膜の厚さ方向に沿った導電性反射膜の側で開口した微細な孔部を前記エレクトロクロミック膜に多数形成した、
ことを特徴とする請求項2に記載のエレクトロクロミックミラー。
A number of fine holes opened on the electroconductive reflective film side along the thickness direction of the electrochromic film were formed in the electrochromic film.
The electrochromic mirror according to claim 2.
前記エレクトロクロミック膜の厚さ方向一方の側に形成されて前記エレクトロクロミック膜を透過した光を反射すると共に導電性を有する第1導電性反射膜と、
前記第1導電性反射膜を構成する材料よりも腐食し難い材料により前記第1導電性反射膜の前記エレクトロクロミック膜とは反対側に形成された導電性を有する導電性保護膜と、
を含めて前記導電性反射膜を構成したことを特徴とする請求項1から請求項3の何れか1項に記載のエレクトロクロミックミラー。
A first conductive reflective film that is formed on one side in the thickness direction of the electrochromic film and reflects light transmitted through the electrochromic film and has conductivity;
A conductive protective film having conductivity formed on a side opposite to the electrochromic film of the first conductive reflective film by a material that is less likely to corrode than a material constituting the first conductive reflective film;
The electrochromic mirror according to any one of claims 1 to 3, wherein the conductive reflective film is configured to include:
導電性を有すると共に前記第1導電性反射膜の側からの光を反射する第2導電性反射膜を前記導電性保護膜としたことを特徴とする請求項4に記載のエレクトロクロミックミラー。   5. The electrochromic mirror according to claim 4, wherein the conductive protective film is a second conductive reflective film that has conductivity and reflects light from the first conductive reflective film side. 光の透過が可能で且つ導電性を有する透明電極膜と、
前記透明電極膜の厚さ方向一方の側に形成されて還元反応することで着色されるエレクトロクロミック膜と、
銀又は銀を含む合金により形成されて前記透明電極膜及び前記エレクトロクロミック膜を透過した光を反射する光反射膜と、
前記エレクトロクロミック膜と前記光反射膜との間に設けられ、前記リチウムイオンを透過すると共に前記光反射膜の側から前記エレクトロクロミック膜の側への銀の拡散を規制する透明のリチウムイオン透過膜と、
銀又は銀を含む合金により形成されて前記エレクトロクロミック膜の厚さ方向一方の側で前記導電性反射膜の前記エレクトロクロミック膜とは反対側に設けられた導電性膜と、
前記導電性膜を形成する銀のイオンと反応する難溶性塩の負イオン及びリチウムイオンを含めて構成されて前記導電性反射膜と前記導電性膜との間に封入され、前記導電性膜を正とし前記導電性反射膜を負として電圧を印加することで前記リチウムイオンが前記エレクトロクロミック膜の側へ移動して、前記エレクトロクロミック膜の還元反応に供される電解液と、
難溶性塩により形成されて、前記導電性膜の前記導電性反射膜の側に設けられ、前記電圧が印加されることで前記導電性膜の側へ移動した前記難溶性塩の負イオンと前記導電性膜を構成する銀のイオンとの反応により形成される析出物を析出させる析出膜と、
を備えるエレクトロクロミックミラー
A transparent electrode film capable of transmitting light and having conductivity;
An electrochromic film formed on one side in the thickness direction of the transparent electrode film and colored by a reduction reaction;
A light reflecting film that reflects light that is formed of silver or an alloy containing silver and that has passed through the transparent electrode film and the electrochromic film;
A transparent lithium ion permeable film that is provided between the electrochromic film and the light reflecting film and transmits the lithium ions and restricts diffusion of silver from the light reflecting film side to the electrochromic film side. When,
A conductive film formed of silver or an alloy containing silver and provided on the opposite side of the electrochromic film of the conductive reflective film on one side in the thickness direction of the electrochromic film;
The conductive film includes negative ions and lithium ions of a hardly soluble salt that reacts with silver ions forming the conductive film, and is enclosed between the conductive reflective film and the conductive film. By applying a voltage with the electroconductive reflective film as positive and negative, the lithium ions move to the electrochromic film side, and an electrolytic solution used for the reduction reaction of the electrochromic film;
Formed of a hardly soluble salt, provided on the conductive reflective film side of the conductive film, and moved to the conductive film side by applying the voltage; A deposited film for depositing precipitates formed by reaction with silver ions constituting the conductive film;
Electrochromic mirror with
前記透明電極膜に前記光反射膜を電気的に接続したことを特徴とする請求項6に記載のエレクトロクロミックミラー。   The electrochromic mirror according to claim 6, wherein the light reflecting film is electrically connected to the transparent electrode film.
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