JP2009001730A - 高分子化合物およびその製造方法 - Google Patents
高分子化合物およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009001730A JP2009001730A JP2007165968A JP2007165968A JP2009001730A JP 2009001730 A JP2009001730 A JP 2009001730A JP 2007165968 A JP2007165968 A JP 2007165968A JP 2007165968 A JP2007165968 A JP 2007165968A JP 2009001730 A JP2009001730 A JP 2009001730A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ethylenically unsaturated
- unsaturated monomer
- polymer compound
- compound
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 59
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 39
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 20
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 90
- -1 benzoyl compound Chemical class 0.000 claims description 46
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 40
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 claims description 28
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 22
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 22
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 22
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 13
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000002165 photosensitisation Effects 0.000 claims description 2
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 claims description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 13
- 238000001723 curing Methods 0.000 abstract description 12
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 abstract description 12
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 4
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 abstract 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 36
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 16
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 12
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VATRWWPJWVCZTA-UHFFFAOYSA-N 3-oxo-n-[2-(trifluoromethyl)phenyl]butanamide Chemical compound CC(=O)CC(=O)NC1=CC=CC=C1C(F)(F)F VATRWWPJWVCZTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 6
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 5
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 5
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 4
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GKZPEYIPJQHPNC-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)CO GKZPEYIPJQHPNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 208000034189 Sclerosis Diseases 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 2
- XTKDAFGWCDAMPY-UHFFFAOYSA-N azaperone Chemical compound C1=CC(F)=CC=C1C(=O)CCCN1CCN(C=2N=CC=CC=2)CC1 XTKDAFGWCDAMPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 2
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 2
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- CZZVAVMGKRNEAT-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropane-1,3-diol;3-hydroxy-2,2-dimethylpropanoic acid Chemical compound OCC(C)(C)CO.OCC(C)(C)C(O)=O CZZVAVMGKRNEAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRTNMMLRBJMGJJ-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropane-1,3-diol;hexanedioic acid Chemical compound OCC(C)(C)CO.OC(=O)CCCCC(O)=O YRTNMMLRBJMGJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEVADDDOVGMCSI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCC(O)COC(=O)C(C)=C IEVADDDOVGMCSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCEJCSULJQNRQQ-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutanenitrile Chemical compound CCC(C)C#N RCEJCSULJQNRQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCO GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPTGFYXXFXSRIR-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C1C(COC(=O)C=C)CCC2OC21 DPTGFYXXFXSRIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000023514 Barrett esophagus Diseases 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZVQCMJNVPIDEA-UHFFFAOYSA-N [CH2]CN(CC)CC Chemical group [CH2]CN(CC)CC MZVQCMJNVPIDEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 125000006226 butoxyethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- BCBHWVAFKCCWBG-UHFFFAOYSA-N chloroethene;ethenyl propanoate Chemical compound ClC=C.CCC(=O)OC=C BCBHWVAFKCCWBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N methylfumaric acid Natural products OC(=O)C(C)=CC(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFUASNAHBMBJIX-UHFFFAOYSA-N propan-1-one Chemical compound CC[C]=O UFUASNAHBMBJIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
Description
従来の光硬化性樹脂は、光硬化性モノマー、または、オリゴマーと光重合開始剤、及び、粘度調節のための希釈モノマーを混合した無溶剤型が一般的である。しかし、硬化時の体積収縮が大きく、密着性が低い等の問題を有する。また、モノマー、光重合開始剤、及び、その分解物の揮発による、臭気、毒性の問題の点で昨今の環境問題において適切ではない。
即ち、本発明は、以下の通りである。
(1)下記一般式(a)
で示される化合物。ここでR1、R2及びR3はそれぞれ独立に炭素数1〜4のアルキル基を表わし、m、nは1〜3の整数である。
ここでR1、R2及びR3はそれぞれ独立に炭素数1〜4のアルキル基を表わし、m、nは1〜3の整数である。
(3)上記高分子化合物の重量平均分子量が5000〜1000000である上記(2)に記載の高分子化合物。
(5)ヒドロキシル基含有ベンゾイル化合物(A)とイソシアネート基含有エチレン性不飽和単量体(B)との付加反応により得られるエチレン性不飽和単量体(C)、反応性官能基を含有するエチレン性不飽和単量体(D)、及びこれらと共重合可能な他のエチレン性不飽和単量体(E)の混合物を共重合してなる共重合体に、(D)と付加反応可能なエチレン性不飽和単量体(F)を付加反応させることを特徴とする上記(2)〜(4)のいずれかに記載の高分子化合物の製造方法。
(6)イソシアネート基含有エチレン性不飽和単量体(B)、(B)以外の反応性官能基を含有するエチレン性不飽和単量体(D)、及びこれらと共重合可能な他のエチレン性不飽和単量体(E)の混合物を共重合してなる共重合体のイソシアネート基にヒドロキシル基含有ベンゾイル化合物(A)を付加反応させ、(D)と付加反応可能なエチレン性不飽和単量体(F)を付加反応させることを特徴とする上記(2)〜(4)のいずれかに記載の高分子化合物の製造方法。
(8)ヒドロキシル基含有ベンゾイル化合物(A)が1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オンである上記(5)〜(7)のいずれかに記載の高分子化合物の製造方法。
(9)上記(2)〜(4)のいずれかに記載の高分子化合物に対して、1分子中に2つ以上のエチレン性不飽和二重結合を含有する多官能エチレン性不飽和単量体またはオリゴマーを配合してなる高分子組成物。
本発明の高分子化合物の合成には下記一般式(a)で示されるエチレン性不飽和単量体(C)の新規化合物が用いられる。
この化合物は下記の一般式(c)の化合物と一般式(d)の化合物を反応させることに得ることができる。
本発明のエチレン性不飽和化合物(C)の合成に用いられるヒドロキシル基含有ベンゾイル化合物(A)の具体例としては、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシメトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシプロポキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−エチル−1−プロパン−1−オンなどを挙げることができ、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オンが好ましい。
上記のヒドロキシル基含有ベンゾイル化合物(A)との付加反応に用いるイソシアネート基含有エチレン性不飽和単量体(B)としては、2−イソシアナートエチル(メタ)アクリレート、3−イソシアナートプロピル(メタ)アクリレートなどを挙げることができる。
具体的には、ベンゾイル化合物の置換基に含まれるヒドロキシル基1モルに対して、1モルのイソシアネート基含有エチレン性不飽和単量体(B)を付加反応によりエチレン性不飽和単量体(C)を合成することができる。なお、上記付加反応により得られるエチレン性不飽和単量体(C)の生成は、IR(赤外線吸収スペクトル)によりイソシアネート基のピークが消失することで容易に確認できる。
この式において、R1、R2及びR3はそれぞれ独立に炭素数1〜4のアルキル基を表わし、m、nは1〜3の整数を表す。
この高分子化合物は上記一般式(a)の化合物(C)とエチレン性不飽和単量体の共重合体を得、このエチレン性不飽和単量体のところに別のエチレン性不飽和単量体を付加反応させることにより製造することができる。
(1)先ずヒドロキシル基含有ベンゾイル化合物(A)とイソシアネート基含有エチレン性不飽和単量体(B)との付加反応により上記構造のエチレン性不飽和単量体(C)を得る。次にこの(C)と反応性官能基を含有するエチレン性不飽和単量体(D)、及びこれらと共重合可能な他のエチレン性不飽和単量体(E)の混合物を共重合して共重合体を得、この共重合体の(D)と付加反応可能なエチレン性不飽和単量体(F)を付加反応させる製造方法。
(2)先ずイソシアネート基含有エチレン性不飽和単量体(B)、B以外の反応性官能基を含有するエチレン性不飽和単量体(D)、及びこれらと共重合可能な他のエチレン性不飽和単量体(E)の混合物を共重合して共重合体を得、次にこのイソシアネート基にヒドロキシル基含有ベンゾイル化合物(A)を付加反応させ、さらに共重合体中の(D)と付加反応可能なエチレン性不飽和単量体(F)を付加反応させる製造方法。
エチレン性不飽和単量体(D)
反応性官能基を含有するエチレン性不飽和単量体(D)としては、(I)イソシアネート基含有エチレン性不飽和単量体、(II)ヒドロキシル基含有エチレン性不飽和単量体、(III)グリシジル基含有エチレン性不飽和単量体、(IV)カルボキシル基含有エチレン性不飽和単量体が挙げられる。
(I)イソシアネート基含有エチレン性不飽和単量体としては、2−イソシアナートエチル(メタ)アクリレート、3−イソシアナートプロピル(メタ)アクリレートなどを挙げることができる。これらのイソシアネート基含有エチレン性不飽和単量体は単独であるいは組み合わせて使用することができる。
(IV)カルボキシル基含有エチレン性不飽和単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、2−メチルマレイン酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸無水物、それらの金属塩、アンモニウム塩或いはそれらの混合物を挙げられる。好ましくは、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸である。これらのカルボキシル基含有エチレン性不飽和単量体は単独であるいは組み合わせて使用することができる。
共重合可能な他のエチレン性不飽和単量体(E)として、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、アクリロニトリル、スチレン、スチレン誘導体、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソブチレン等を使用することができる。これらエチレン性不飽和単量体は、単独であるいは組み合わせて使用することができる。本発明の自己光硬化性樹脂組成物のガラス転移温度は、特に制限されない。
この単量体は上記(D)と同じ化合物が用いられるが、(D)と反応するものであり、したがって成分(D)との関係で組み合わせが決まる。
成分(D)が、イソシアネート基含有エチレン性不飽和単量体、ヒドロキシル基含有エチレン性不飽和単量体、カルボキシル基含有エチレン性不飽和単量体、グリシジル基含有エチレン性不飽和単量体の場合に応じて、(F)としては前記の順に対応してヒドロキシル基含有エチレン性不飽和単量体、イソシアネート基含有エチレン性不飽和単量体、グリシジル基含有エチレン性不飽和単量体、カルボキシル基含有エチレン性不飽和単量体を挙げることができる。
製造法(1)
エチレン性不飽和単量体(C)と反応性官能基を含有するエチレン性不飽和単量体(D)及びこれらと共重合可能な他のエチレン性不飽和単量体(E)を混合し、共重合して共重合体を得る。
この重合には重合開始剤を用いる。重合開始剤としては、通常使用されるものであれば特に限定はなく、例えば、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、過酸化ベンゾイル等が挙げられる。
重合法としては、一括して仕込み重合する方法、各成分を連続供給しながら重合する方法などが適用できる。重合は通常30〜150℃の温度で攪拌下に行われる。
(C)が20モル%を超えても皮膜の硬化性、硬化後の皮膜の物性は、向上しない。0.01モル%未満では皮膜の硬化性が低下し、十分な硬度、耐水性等の物性を得られない。
(D)が70モル%を超えても皮膜の硬化性、硬化後の皮膜の物性は、向上しない。0.1モル%未満では皮膜の硬化性が低下し、十分な硬度、耐水性等の物性を得られない。
(E)が99モル%を超えると、皮膜の硬化性が低下し、十分な硬度、耐水性等の物性を得られない。10モル%未満では高分子溶液の安定性が悪く、経時でゲル化する。
(F)の量は(D)1モルに対して0.1〜1当量が好ましい。0.1当量未満であると、硬化性が十分でない。
この付加反応は、一般に用いられる周知の触媒存在下に加熱することで容易に行うことができる。
製造法(2)
先ずイソシアネート基含有エチレン性不飽和単量体(B)、反応性官能基を含有するエチレン性不飽和単量体(D)、及びこれらと共重合可能な他のエチレン性不飽和単量体(E)の混合物を共重合して共重合体を製造する。
ここでヒドロキシル基含有エチレン性不飽和単量体(D)は、イソシアネート基含有モノマー(B)と混合し、重合反応を行うと、重合反応中に、ヒドロキシル基とイソシアネート基が架橋反応するため、高分子量化し、ゲル化するため、使用することができない。
単量体(B)、(D)、(E)混合割合は(B)が0.01〜20モル%、(D)が0.1〜70モル%、(E)が10〜99モル%が好ましい。
(D)70モル%を超えても皮膜の硬化性、硬化後の皮膜の物性は、向上しない。0.1モル%未満では皮膜の硬化性が低下し、十分な硬度、耐水性等の物性を得られない。
(E)99モル%を超えると、皮膜の硬化性が低下し、十分な硬度、耐水性等の物性を得られない。10モル%未満では高分子溶液の安定性が悪く、経時でゲル化する。
次にこの共重合体のイソシアネート基にヒドロキシル基含有ベンゾイル化合物(A)を付加反応させ、さらに重合体中の(D)と付加反応可能なエチレン性不飽和単量体(F)を付加反応させる。
(F)の付加の量は(D)1モルに対して0.1〜1当量が好ましい。0.1当量未満であると、硬化性が十分でない。
これらの付加反応は、一般に用いられる周知の触媒存在下に加熱することで容易に行うことができる。
付加反応も同様に、モノマーを一括もしくは連続供給しながら、付加反応を行うことができる。
高分子化合物の重量平均分子量は5000〜1000000が望ましい。高分子化合物を自己光硬化型樹脂として使用する場合、分子量が5000未満では、光硬化したときの硬度が大きく低下する。1000000を越えると、自己光硬化型樹脂の溶液粘度が高くなることから、基材への塗布が困難となり、作業性が大きく低下する。
試験片の作製
ポリMMA板に8milのアプリケーターで塗布し、60℃、10分で乾燥させた。UV照射器(ウシオ電機(株)製超高圧水銀ランプUSH−250SC)にて、積算照度500mJ/cm2になるよう紫外線照射して硬化させ、以下の試験にて評価を行った。
鉛筆硬度
ポリMMA板に塗装した硬化塗膜にて、JIS−K−5400に基づいて測定した。
ポリMMA板に塗装した硬化塗膜にクロスカットを入れ、カットした塗膜上にセロテープ(登録商標)を貼った。1時間放置後、このセロテープ(登録商標)を剥離して密着性を評価した。評価基準は以下のように行った。
○:全く剥離無し △:一部分が剥離する ×:全面剥離する
耐温水性
ポリMMA板に塗装した硬化塗膜を60℃の温水に1週間浸漬した。評価基準は以下のように行った。
○:変化無し △:一部白化 ×:全面白化
得られた自己光硬化性樹脂の溶液粘度を評価した。評価基準は以下のように行った。
○:低粘度で扱いやすい △:中粘度でやや扱いにくい ×:高粘度で扱いが困難
重量平均分子量の測定
GPC法でカラムにShodex GPC KF−806を用い、溶離液としてテトラヒドロフランを用い、常温で測定した。
温度計、撹拌棒、還流冷却器、及び、滴下漏斗を備えた遮光性反応容器に、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン200部、ジラウリン酸ジ−n−ブチル錫0.2部、メトキノン0.04部を入れて攪拌、50℃に加熱した。ここに2−イソシアナートエチル(メタ)アクリレート138.3部を1時間にわたって滴下し、さらに2時間50℃で攪拌し、光増感基含有エチレン性不飽和単量体A−1を得た。
温度計、撹拌棒、還流冷却器、及び、滴下漏斗を備えた遮光性反応容器に、ジプロピレングリコールジメチルエーテル(商品名プログライドDMM、ダウケミカル社製)60部を入れて攪拌、110℃に加熱し、表1記載の配合例1を1.5時間にわたって滴下した。滴下終了1時間後アゾビスイソブチロニトリル1部、ジプロピレングリコールジメチルエーテル3部を加え、さらに110℃で2時間攪拌した。温度を80℃まで冷却後、メトキノン0.5部、及び、表1記載の配合例2を添加した。配合例2の添加後、さらに80℃で4時間攪拌した。高攪拌下でジプロピレングリコールジメチルエーテルを添加して希釈し、室温に冷却して不揮発分25%の自己光硬化性樹脂を得た。
実施例2〜4として、実施例1における配合例1、配合例2を表1に示す組成に変更した。それ以外はすべて実施例1と同様の操作を行い、自己光硬化性樹脂を得た。
(実施例5)
実施例5として、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート130部を添加したそれ以外はすべて実施例1と同様の操作を行い、自己光硬化性樹脂を得た。
(実施例6)
温度計、撹拌棒、還流冷却器、及び、滴下漏斗を備えた遮光性反応容器に、ジプロピレングリコールジメチルエーテル60部を入れて攪拌、110℃に加熱し、表2記載の配合例1を1.5時間にわたって滴下した。滴下終了1時間後アゾビスイソブチロニトリル1部、ジプロピレングリコールジメチルエーテル3部を加え、さらに110℃で2時間攪拌した。温度を80℃まで冷却後、メトキノン0.5部、及び、表2記載の配合例2を添加した。配合例2の添加後、さらに80℃で4時間攪拌した。高攪拌下でジプロピレングリコールジメチルエーテルを添加して希釈し、室温に冷却して不揮発分25%の自己光硬化性樹脂を得た。
実施例7〜8として、実施例6における配合例1、配合例2の組成を表2に示す組成に変更した。それ以外はすべて実施例6と同様の操作を行い、自己光硬化性樹脂を得た。
(実施例9)
実施例9として、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート130部を添加したそれ以外はすべて実施例6と同様の操作を行い、自己光硬化性樹脂を得た。
(比較例1)
比較例1として、実施例1における配合例2を使用しない以外は、実施例1と同様の操作を行い、樹脂を得た。
比較例2として、実施例1における配合例1にA−1溶液を含まない以外は、実施例1と同様の操作を行い、樹脂を得た。
(比較例3)
比較例3として、実施例1における配合例1、配合例2を表3に示す組成に変更し、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン14.36部を添加した。それ以外はすべて実施例1と同様の操作を行い、樹脂を得た。
比較例4として、実施例6における配合例2を使用しない以外は、実施例6と同様の操作を行い、樹脂を得た。
(比較例5〜6)
比較例5〜6として、実施例6における配合例2を表4に示す組成に変更した。それ以外は、実施例6と同様の操作を行い、樹脂を得た。
(比較例7)
比較例7として、実施例6における配合例2を表4に示す組成に変更し、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン12部を添加した。それ以外はすべて実施例6と同様の操作を行い、樹脂を得た。
エチレン性不飽和単量体(C)の製造
温度計、撹拌棒、還流冷却器、及び、滴下漏斗を備えた遮光性反応容器に、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン200部、ジラウリン酸ジ−n−ブチル錫0.2部、メトキノン0.04部を入れて攪拌、50℃に加熱した。ここに2−イソシアナートエチル(メタ)アクリレート138.3部を1時間にわたって滴下し、さらに2時間50℃で攪拌した。IR(赤外線吸収スペクトル)により2250cm-1に帰属するイソシアネート基のピークの消失及び1638cm-1に帰属する二重結合のピークを確認し、エチレン性不飽和単量体(C)を得た。
Claims (9)
- 上記高分子化合物の重量平均分子量が5000〜1000000である請求項2に記載の高分子化合物。
- 1分子中に上記一般式(b)で示される化合物の残基が活性エネルギー線によりラジカルを発生する光増感性官能基であり、高分子化合物が自己光硬化性樹脂である請求項2または3に記載の高分子化合物。
- ヒドロキシル基含有ベンゾイル化合物(A)とイソシアネート基含有エチレン性不飽和単量体(B)との付加反応により得られるエチレン性不飽和単量体(C)、反応性官能基を含有するエチレン性不飽和単量体(D)、及びこれらと共重合可能な他のエチレン性不飽和単量体(E)の混合物を共重合してなる共重合体に、(D)と付加反応可能なエチレン性不飽和単量体(F)を付加反応させることを特徴とする請求項2〜4のいずれかに記載の高分子化合物の製造方法。
- イソシアネート基含有エチレン性不飽和単量体(B)、(B)以外の反応性官能基を含有するエチレン性不飽和単量体(D)、及びこれらと共重合可能な他のエチレン性不飽和単量体(E)の混合物を共重合してなる共重合体のイソシアネート基にヒドロキシル基含有ベンゾイル化合物(A)を付加反応させ、(D)と付加反応可能なエチレン性不飽和単量体(F)を付加反応させることを特徴とする請求項2〜4のいずれかに記載の高分子化合物の製造方法。
- 上記高分子化合物の重量平均分子量が5000〜1000000である請求項5または6に記載の高分子化合物の製造方法。
- ヒドロキシル基含有ベンゾイル化合物(A)が1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オンである請求項5〜7のいずれかに記載の高分子化合物の製造方法。
- 請求項2〜4のいずれかに記載の高分子化合物に対して、1分子中に2つ以上のエチレン性不飽和二重結合を含有する多官能エチレン性不飽和単量体またはオリゴマーを配合してなる高分子組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007165968A JP2009001730A (ja) | 2007-06-25 | 2007-06-25 | 高分子化合物およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007165968A JP2009001730A (ja) | 2007-06-25 | 2007-06-25 | 高分子化合物およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009001730A true JP2009001730A (ja) | 2009-01-08 |
Family
ID=40318477
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007165968A Pending JP2009001730A (ja) | 2007-06-25 | 2007-06-25 | 高分子化合物およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2009001730A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010209183A (ja) * | 2009-03-09 | 2010-09-24 | Fujifilm Corp | インク組成物及びインクジェット記録方法 |
| WO2016121706A1 (ja) * | 2015-01-26 | 2016-08-04 | 日本化薬株式会社 | 感光性樹脂組成物及びその硬化物 |
| US11759298B2 (en) | 2017-11-22 | 2023-09-19 | 3M Innovative Properties Company | Photopolymerizable compositions including a urethane component and a monofunctional reactive diluent, articles, and methods |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02235908A (ja) * | 1989-03-09 | 1990-09-18 | Sekisui Chem Co Ltd | アクリル系粘着剤、及びアクリル系粘着テープもしくはシートの製造方法 |
| JPH02292307A (ja) * | 1989-05-01 | 1990-12-03 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 硬化塗膜の形成方法 |
| JPH0977891A (ja) * | 1995-01-11 | 1997-03-25 | Sekisui Chem Co Ltd | 基材密着性の良好な表面層を有する物品および該物品の製造方法 |
| JPH11343311A (ja) * | 1998-03-18 | 1999-12-14 | Dainippon Printing Co Ltd | 樹脂、耐熱塗料及び該塗料を用いた熱転写シ―ト |
| JP2002226530A (ja) * | 2001-02-05 | 2002-08-14 | Showa Highpolymer Co Ltd | 硬化性樹脂組成物 |
-
2007
- 2007-06-25 JP JP2007165968A patent/JP2009001730A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02235908A (ja) * | 1989-03-09 | 1990-09-18 | Sekisui Chem Co Ltd | アクリル系粘着剤、及びアクリル系粘着テープもしくはシートの製造方法 |
| JPH02292307A (ja) * | 1989-05-01 | 1990-12-03 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 硬化塗膜の形成方法 |
| JPH0977891A (ja) * | 1995-01-11 | 1997-03-25 | Sekisui Chem Co Ltd | 基材密着性の良好な表面層を有する物品および該物品の製造方法 |
| JPH11343311A (ja) * | 1998-03-18 | 1999-12-14 | Dainippon Printing Co Ltd | 樹脂、耐熱塗料及び該塗料を用いた熱転写シ―ト |
| JP2002226530A (ja) * | 2001-02-05 | 2002-08-14 | Showa Highpolymer Co Ltd | 硬化性樹脂組成物 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010209183A (ja) * | 2009-03-09 | 2010-09-24 | Fujifilm Corp | インク組成物及びインクジェット記録方法 |
| WO2016121706A1 (ja) * | 2015-01-26 | 2016-08-04 | 日本化薬株式会社 | 感光性樹脂組成物及びその硬化物 |
| US11759298B2 (en) | 2017-11-22 | 2023-09-19 | 3M Innovative Properties Company | Photopolymerizable compositions including a urethane component and a monofunctional reactive diluent, articles, and methods |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102360803B1 (ko) | 프린트 배선판용 경화형 조성물, 이를 사용한 경화 도막 및 프린트 배선판 | |
| JPWO2003089486A1 (ja) | 反応性希釈剤組成物及び硬化性樹脂組成物 | |
| JP2003048928A (ja) | 反応性希釈剤及び硬化性樹脂組成物 | |
| JP2009001730A (ja) | 高分子化合物およびその製造方法 | |
| JP2015021045A (ja) | 環状エーテル基含有(メタ)アクリレートからなる光学的立体造形用樹脂組成物 | |
| JP5392665B2 (ja) | 活性エネルギー線自己硬化型水性樹脂組成物 | |
| JP5552266B2 (ja) | 水系媒体に分散した光硬化性樹脂組成物の製造方法 | |
| JP3606260B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化型被覆用組成物 | |
| JPH11148045A (ja) | 活性エネルギー線硬化型塗料組成物及びそれを用いた被膜形成方法 | |
| KR20060118519A (ko) | 활성 에너지선 경화형 광학 재료용 조성물 | |
| JP7081486B2 (ja) | 光硬化性樹脂組成物、インキ及び塗料 | |
| JP2004143344A (ja) | 紫外線吸収能を有する架橋性樹脂組成物 | |
| JP2008201955A (ja) | 多官能(メタ)アクリレートを含有する熱硬化性樹脂組成物 | |
| JPH08259623A (ja) | 反応性樹脂の製造方法 | |
| JP4880249B2 (ja) | 光ラジカル架橋型ポリマー及び光硬化樹脂組成物 | |
| JP4923344B2 (ja) | アゾ系重合開始剤を含む活性エネルギー線硬化型組成物 | |
| JP5802793B2 (ja) | 水系媒体に分散した光硬化性樹脂組成物の製造方法 | |
| JPH0885775A (ja) | プレコート鋼板製造用組成物 | |
| JPH0625589A (ja) | 架橋可能なフッ素化共重合体をベースとした塗料・ワニス用組成物 | |
| JP4151477B2 (ja) | レジスト用硬化性樹脂組成物 | |
| JP3817649B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化型プラスチック用水性コーティング剤組成物 | |
| JP2004027020A (ja) | 保存安定性に優れる水性架橋型樹脂組成物 | |
| JP2003040923A (ja) | 水分散性紫外線硬化型高分子化合物、その用途およびその製造方法 | |
| JP2014009334A (ja) | 光カチオン架橋型ポリマー組成物 | |
| JP2001310916A (ja) | 重合性樹脂組成物、その製造方法及びその硬化物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100412 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20100412 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20100726 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120228 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120306 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120418 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120515 |