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JP2009001787A - Polyphenylene ether resin composition and electronic member - Google Patents

Polyphenylene ether resin composition and electronic member Download PDF

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JP2009001787A
JP2009001787A JP2008134645A JP2008134645A JP2009001787A JP 2009001787 A JP2009001787 A JP 2009001787A JP 2008134645 A JP2008134645 A JP 2008134645A JP 2008134645 A JP2008134645 A JP 2008134645A JP 2009001787 A JP2009001787 A JP 2009001787A
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JP
Japan
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polyphenylene ether
group
component
resin composition
ether resin
Prior art date
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Pending
Application number
JP2008134645A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazunobu Yamada
和伸 山田
Yushi Arai
雄史 新井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Kasei Chemicals Corp
Original Assignee
Asahi Kasei Chemicals Corp
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Publication date
Application filed by Asahi Kasei Chemicals Corp filed Critical Asahi Kasei Chemicals Corp
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Abstract

【課題】良好な耐熱性を有し、かつ、内層回路基板上に積層した半硬化状接着シートを完全硬化する際に発生する基板の反りを良好に低減する接着シートを実現し得る、ポリフェニレンエーテル樹脂組成物を提供する。
【解決手段】以下の(A)〜(C)の各成分、(A)エポキシ基を有するポリフェニレンエーテル樹脂、(B)カルボキシル基又はエポキシ基を有し、かつ、重量平均分子量が1万以上の熱可塑性エラストマー樹脂、(C)硬化剤、を含むポリフェニレンエーテル樹脂組成物。
【選択図】なし
Polyphenylene ether having good heat resistance and capable of realizing an adhesive sheet that satisfactorily reduces substrate warpage that occurs when a semi-cured adhesive sheet laminated on an inner circuit board is completely cured A resin composition is provided.
The following components (A) to (C), (A) a polyphenylene ether resin having an epoxy group, (B) a carboxyl group or an epoxy group, and having a weight average molecular weight of 10,000 or more. A polyphenylene ether resin composition comprising a thermoplastic elastomer resin and (C) a curing agent.
[Selection figure] None

Description

本発明は、例えば、ビルドアップ方式で作製される多層プリント配線板に適した接着シートを実現し得るポリフェニレンエーテル樹脂組成物及び電子部材に関する。   The present invention relates to a polyphenylene ether resin composition and an electronic member that can realize an adhesive sheet suitable for, for example, a multilayer printed wiring board produced by a build-up method.

プリント配線板用の絶縁材料にはコストパフォーマンスに優れるエポキシ樹脂が広く用いられているが、近年配線の高密度化への対応等からさらなる高機能化が求められている。その一つとして衛星通信等の高周波領域で使用されるプリント配線基板には、信号の遅滞を防ぐため低誘電率や低誘電正接といった誘電特性に優れた絶縁材料が要求されている。
また、近年、電子機器の小型化、高性能化に伴いプリント配線板においては高密度化が進展している。そのため、例えば多層配線板においては、導体回路層と絶縁層とを交互に積層し層間接続の必要な部分にのみ、ブラインドホールを用いて導通するビルドアップ多層プリント配線板が開発され急速に進展してきている。このビルドアップ多層プリント配線板に用いる絶縁層は、通常、樹脂溶液を支持フィルムの上に塗布し、過熱乾燥して成る半硬化状態(Bステージ)の接着シートが用いられ、その接着シ−トを内層回路基板上に加圧加熱ラミネートあるいは加熱プレスにより積層した後、加熱することにより樹脂シートを完全硬化して絶縁層を形成させる。次いで、バイアホールとなる個所を炭酸ガスレーザー等のレーザーで穴あけし、めっきとの密着性を向上させるため樹脂表面の粗面化処理を行い、絶縁層上に選択的にめっきをすることで外層回路を形成し、同時にバイアホールの内壁に導体層を形成するアディティブ方式等が採用されている。
Epoxy resins having excellent cost performance are widely used as insulating materials for printed wiring boards, but in recent years, higher functionality has been demanded in order to cope with higher wiring density. For example, printed wiring boards used in high-frequency regions such as satellite communications are required to have an insulating material with excellent dielectric properties such as low dielectric constant and low dielectric loss tangent to prevent signal delay.
In recent years, with the miniaturization and high performance of electronic devices, the density of printed wiring boards has been increasing. For this reason, for example, in multilayer wiring boards, build-up multilayer printed wiring boards have been developed and made rapid progress by alternately laminating conductor circuit layers and insulating layers and conducting electrical continuity using blind holes only in areas where interlayer connections are required. ing. The insulating layer used in this build-up multilayer printed wiring board is usually a semi-cured (B-stage) adhesive sheet obtained by applying a resin solution on a support film and drying by heating. Is laminated on the inner layer circuit board by pressure heating lamination or heating press, and then the resin sheet is completely cured by heating to form an insulating layer. Next, a hole to be a via hole is drilled with a laser such as a carbon dioxide gas laser, the surface of the resin is roughened to improve adhesion with the plating, and the outer layer is selectively plated on the insulating layer. An additive system or the like that forms a circuit and simultaneously forms a conductor layer on the inner wall of the via hole is employed.

このような接着シートには、優れた誘電特性、絶縁性、耐熱性、めっきピール強度の特性に加え、シートを巻き取る際や巻き出す際のシートの割れを防止するために可とう性が必要であると同時に、シート内の溶剤が十分に除去されていることが重要である。
また、内層回路基板上に加圧加熱ラミネートする際、接着シートが熱溶融し内層回路基板上の導体回路間を充填する必要がある。さらに、接着シートを基板にラミネートした後に、接着シートを完全硬化するために基板を加熱処理するが、その際に接着シートが硬化収縮するために硬化のシート内に残留応力が生じ、これにより内層回路基板に反りが発生するため、これを最小限に抑えなければならない。
In addition to excellent dielectric properties, insulation, heat resistance and plating peel strength, such adhesive sheets require flexibility to prevent cracking of the sheet when winding or unwinding the sheet. At the same time, it is important that the solvent in the sheet is sufficiently removed.
Further, when laminating by pressure and heating on the inner layer circuit board, the adhesive sheet needs to be melted by heat to fill the space between the conductor circuits on the inner layer circuit board. Furthermore, after laminating the adhesive sheet to the substrate, the substrate is heated to completely cure the adhesive sheet. At this time, the adhesive sheet cures and shrinks, so that residual stress is generated in the cured sheet, thereby causing the inner layer to be cured. Since the circuit board is warped, it must be minimized.

これらの課題に対処するために、誘電特性に優れたポリフェニレンエーテルを用いた樹脂組成物で幾つかの方法が報告されている。例えば、特許文献1には、ポリブタジエンまたはその共重合体を用いることでシートに柔軟性を与える方法が報告されている。
また、特許文献2には、トリアリルイソシアネートとポリブタジエンあるいは、その共重合体を用いることで、内層回路の埋め込み性を改良した方法が報告されている。
In order to cope with these problems, several methods have been reported for resin compositions using polyphenylene ether having excellent dielectric properties. For example, Patent Document 1 reports a method for imparting flexibility to a sheet by using polybutadiene or a copolymer thereof.
Patent Document 2 reports a method in which the embedding property of the inner layer circuit is improved by using triallyl isocyanate and polybutadiene or a copolymer thereof.

特開平10−265552号公報JP-A-10-265552 特開2000−104038号公報JP 2000-104038 A

しかしながら、上記特許文献1や特許文献2に記載の方法で形成された樹脂組成物についても、耐熱性、回路埋め込み性、反り等の観点からなお改良の余地を有するものであった。
本発明は、このような事情に鑑みなされたものであり、良好な耐熱性を有し、かつ、完全硬化する際に発生する基板の反りを良好に低減する接着シートを実現し得る、ポリフェニレンエーテル樹脂組成物を提供することを課題とする。
However, the resin compositions formed by the methods described in Patent Document 1 and Patent Document 2 still have room for improvement in terms of heat resistance, circuit embedding properties, warpage, and the like.
The present invention has been made in view of such circumstances, and has a good heat resistance and can realize an adhesive sheet that can satisfactorily reduce the warpage of a substrate that occurs when completely cured. It is an object to provide a resin composition.

本発明者は、前記課題を解決するため鋭意検討の結果、エポキシ基を有するポリフェニレンエーテル樹脂と、カルボキシル基又はエポキシ基を有し、かつ、重量平均分子量が1万以上の熱可塑性エラストマー樹脂と、硬化剤と、を含むポリフェニレンエーテル樹脂組成物が、上記課題を解決し得ることを見出し、本発明をなすに至った。
すなわち、本発明は、以下のポリフェニレンエーテル樹脂組成物を提供する。
[1]
以下の(A)〜(C)の各成分、
(A)エポキシ基を有するポリフェニレンエーテル樹脂、
(B)カルボキシル基又はエポキシ基を有し、かつ、重量平均分子量が1万以上の熱可塑性エラストマー樹脂、
(C)硬化剤、
を含むポリフェニレンエーテル樹脂組成物。
[2]
前記(A)成分が、下記一般式(1)で表される樹脂である、上記[1]記載のポリフェニレンエーテル樹脂組成物。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has an epoxy group-containing polyphenylene ether resin, a carboxyl group or an epoxy group, and a thermoplastic elastomer resin having a weight average molecular weight of 10,000 or more, It has been found that a polyphenylene ether resin composition containing a curing agent can solve the above-mentioned problems, and has led to the present invention.
That is, the present invention provides the following polyphenylene ether resin composition.
[1]
Each of the following components (A) to (C),
(A) a polyphenylene ether resin having an epoxy group,
(B) a thermoplastic elastomer resin having a carboxyl group or an epoxy group and having a weight average molecular weight of 10,000 or more,
(C) a curing agent,
A polyphenylene ether resin composition comprising:
[2]
The polyphenylene ether resin composition according to the above [1], wherein the component (A) is a resin represented by the following general formula (1).

Figure 2009001787
Figure 2009001787

(式中、Aは、水素原子もしくは下記一般式(2) (In the formula, A is a hydrogen atom or the following general formula (2)

Figure 2009001787
Figure 2009001787

で表される構造を示し、
m、nは1以上の整数を示し、
1、R2、R3、R4、Rx及びRyは、それぞれ独立に、水素原子又は1価の官能基を示し、
1、X2及びZは、それぞれ独立に、2価の官能基を示し、
1及びY2は、それぞれ独立に、エポキシ基を有してもよい2価以上の官能基を示す。)
[3]
前記(A)成分が、ポリフェニレンエーテル骨格部を30〜90質量%の割合で含む、上記[1]又は[2]に記載のポリフェニレンエーテル樹脂組成物。
[4]
前記(A)成分の、ポリフェニレンエーテル骨格部の数平均分子量が1000〜4000である、上記[1]〜[3]のいずれか記載のポリフェニレンエーテル樹脂組成物。
[5]
前記(A)成分が、1分子当たり平均2.2個以上のエポキシ基を有する、上記[1]〜[4]のいずれか記載のポリフェニレンエーテル樹脂組成物。
[6]
前記(B)成分が、ジエン系化合物と他の化合物との共重合体である、上記[1]〜[5]のいずれか記載のポリフェニレンエーテル樹脂組成物。
[7]
(D)エポキシ樹脂をさらに含む、上記[1]〜[6]のいずれか記載のポリフェニレンエーテル樹脂組成物。
[8]
前記(A)成分、(B)成分及び(D)成分の総量中に占める(A)成分の割合が30〜85質量%である、上記[7]記載のポリフェニレンエーテル樹脂組成物。
[9]
前記(A)成分、(B)成分及び(D)成分の総量中に占める(B)成分の割合が1〜20質量%である、上記[7]又は[8]に記載のポリフェニレンエーテル樹脂組成物。
[10]
前記(C)成分が、酸無水物系硬化剤である、上記[1]〜[9]のいずれか記載のポリフェニレンエーテル樹脂組成物。
[11]
前記酸無水物系硬化剤が、1分子中に2個以上の酸無水物基を有する硬化剤である、上記[10]記載のポリフェニレンエーテル樹脂組成物。
[12]
前記(C)成分が、粘度が1000mPa・s(25℃)以下である硬化剤を含む、上記[1]〜[11]のいずれか記載のポリフェニレンエーテル樹脂組成物。
[13]
上記[1]〜[12]のいずれか記載のポリフェニレンエーテル樹脂組成物を用いて形成された電子部材。
[14]
半硬化状接着シート、硬化性樹脂金属箔複合体、エポキシプリプレグ、
前記エポキシプリプレグを用いてなる積層板、又は
前記半硬化状接着シート、硬化性樹脂金属箔複合体、エポキシプリプレグ及びエポキシプリプレグを用いてなる積層板よりなる群から選択される1種又は2種以上を用いてなるプリント配線板、
のいずれかである上記[13]記載の電子部材。
The structure represented by
m and n represent an integer of 1 or more,
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , Rx and Ry each independently represent a hydrogen atom or a monovalent functional group,
X 1 , X 2 and Z each independently represent a divalent functional group,
Y 1 and Y 2 each independently represent a divalent or higher functional group that may have an epoxy group. )
[3]
The polyphenylene ether resin composition according to the above [1] or [2], wherein the component (A) contains a polyphenylene ether skeleton in a proportion of 30 to 90% by mass.
[4]
The polyphenylene ether resin composition according to any one of the above [1] to [3], wherein the number average molecular weight of the polyphenylene ether skeleton of the component (A) is 1000 to 4000.
[5]
The polyphenylene ether resin composition according to any one of the above [1] to [4], wherein the component (A) has an average of 2.2 or more epoxy groups per molecule.
[6]
The polyphenylene ether resin composition according to any one of the above [1] to [5], wherein the component (B) is a copolymer of a diene compound and another compound.
[7]
(D) The polyphenylene ether resin composition according to any one of [1] to [6], further including an epoxy resin.
[8]
The polyphenylene ether resin composition according to the above [7], wherein the proportion of the component (A) in the total amount of the component (A), the component (B) and the component (D) is 30 to 85% by mass.
[9]
The polyphenylene ether resin composition according to the above [7] or [8], wherein the proportion of the component (B) in the total amount of the component (A), the component (B) and the component (D) is 1 to 20% by mass. object.
[10]
The polyphenylene ether resin composition according to any one of [1] to [9], wherein the component (C) is an acid anhydride curing agent.
[11]
The polyphenylene ether resin composition according to the above [10], wherein the acid anhydride curing agent is a curing agent having two or more acid anhydride groups in one molecule.
[12]
The polyphenylene ether resin composition according to any one of the above [1] to [11], wherein the component (C) includes a curing agent having a viscosity of 1000 mPa · s (25 ° C.) or less.
[13]
The electronic member formed using the polyphenylene ether resin composition in any one of said [1]-[12].
[14]
Semi-cured adhesive sheet, curable resin metal foil composite, epoxy prepreg,
1 type or 2 types or more selected from the group which consists of the laminated board which uses the said epoxy prepreg, or the said semi-hardened adhesive sheet, a curable resin metal foil composite, an epoxy prepreg, and an epoxy prepreg Printed wiring board, using
The electronic member according to [13], which is any one of the above.

本発明によれば、良好な耐熱性を有し、かつ、完全硬化時に発生する基板の反りを良好に低減する接着シートを実現し得る、ポリフェニレンエーテル樹脂組成物を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the polyphenylene ether resin composition which has a favorable heat resistance and can implement | achieve the adhesive sheet which reduces the curvature of the board | substrate which generate | occur | produces at the time of complete curing favorable can be provided.

以下、本発明を実施するための最良の形態(以下、発明の実施の形態)について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々に変形して実施することができる。   The best mode for carrying out the present invention (hereinafter, an embodiment of the present invention) will be described in detail below. In addition, this invention is not limited to the following embodiment, It can implement in various deformation | transformation within the range of the summary.

本実施の形態のポリフェニレンエーテル樹脂組成物は、(A)エポキシ基を有するポリフェニレンエーテル樹脂、(B)カルボキシル基又はエポキシ基を有し、かつ、重量平均分子量が1万以上の熱可塑性エラストマー樹脂及び(C)硬化剤を含む。   The polyphenylene ether resin composition of the present embodiment includes (A) a polyphenylene ether resin having an epoxy group, (B) a thermoplastic elastomer resin having a carboxyl group or an epoxy group and having a weight average molecular weight of 10,000 or more, and (C) A curing agent is included.

(A)成分
(A)成分のエポキシ基を有するポリフェニレンエーテル樹脂(以下、エポキシ化ポリフェニレンエーテル樹脂とも称する)としては、特に限定されず、例えば、下記一般式(1)で表される構造を有する樹脂を用いることができる。
The (A) component (A) component polyphenylene ether resin having an epoxy group (hereinafter also referred to as an epoxidized polyphenylene ether resin) is not particularly limited, and has, for example, a structure represented by the following general formula (1). Resin can be used.

Figure 2009001787
(式中、Aは、水素原子もしくは下記一般式(2)
Figure 2009001787
で表される構造を示し、m、nは1以上の整数を示し、R1、R2、R3、R4、Rx及びRyは、それぞれ独立に、水素原子又は1価の官能基を示し、X1、X2及びZは、それぞれ独立に、2価の官能基を示し、Y1及びY2は、それぞれ独立に、エポキシ基を有してもよい2価以上の官能基を示す。)
Figure 2009001787
(In the formula, A is a hydrogen atom or the following general formula (2)
Figure 2009001787
M, n represents an integer of 1 or more, and R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , Rx and Ry each independently represent a hydrogen atom or a monovalent functional group. , X 1 , X 2 and Z each independently represent a divalent functional group, and Y 1 and Y 2 each independently represent a divalent or higher functional group which may have an epoxy group. )

一般式(1)又は(2)において、R1、R2、R3、R4、Rx及びRyで示される1価の官能基としては、例えば、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいシクロアルキル基、置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよいアラルキル基、置換されていてもよいアルコキシ基等が挙げられる。 In the general formula (1) or (2), as the monovalent functional group represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , Rx and Ry, for example, an optionally substituted alkyl group, substituted And an optionally substituted cycloalkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, and an optionally substituted alkoxy group.

1、R2、R3、R4、Rx及びRyで示される置換されていてもよいアルキル基の「アルキル基」としては、炭素数が1〜6、好ましくは1〜3の、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を示し、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられ、好ましくは、メチル基、エチル基であり、より好ましくはメチル基である。 The “alkyl group” of the optionally substituted alkyl group represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , Rx and Ry is a straight chain having 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms. Or a branched alkyl group, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, etc. Preferably, they are a methyl group and an ethyl group, and more preferably a methyl group.

1、R2、R3、R4、Rx及びRyで示される置換されていてもよいシクロアルキル基の「シクロアルキル基」としては、炭素数が3〜8のシクロアルキル基を示し、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられ、好ましくは、シクロペンチル基、シクロヘキシル基である。 The “cycloalkyl group” of the optionally substituted cycloalkyl group represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , Rx and Ry represents a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, for example, , A cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, and the like, preferably a cyclopentyl group and a cyclohexyl group.

1、R2、R3、R4、Rx及びRyで示される置換されていてもよいアリール基の「アリール基」としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。 Examples of the “aryl group” of the optionally substituted aryl group represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , Rx and Ry include a phenyl group, a naphthyl group and the like, preferably a phenyl group It is.

1、R2、R3、R4、Rx及びRyで示される置換されていてもよいアラルキル基の「アラルキル基」としては、アルキル部分が上記で定義された「アルキル基」であり、アリール部分が上記で定義された「アリール基」であるアラルキル基が挙げられ、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、1−ナフチルメチル基等が挙げられ、好ましくはベンジル基である。 As the “aralkyl group” of the optionally substituted aralkyl group represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , Rx and Ry, the alkyl moiety is the “alkyl group” defined above, and aryl Examples thereof include an aralkyl group in which the moiety is the “aryl group” defined above, and examples thereof include a benzyl group, a phenethyl group, a phenylpropyl group, and a 1-naphthylmethyl group, and a benzyl group is preferable.

1、R2、R3、R4、Rx及びRyで示される置換されていてもよいアルコキシ基の「アルコキシ基」としては、炭素数が1〜6、好ましくは1〜3の、直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシ基を示し、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等が挙げられ、好ましくはメトキシ基、エトキシ基である。 The “alkoxy group” of the optionally substituted alkoxy group represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , Rx and Ry is a straight chain having 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms. A methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, butoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, etc. Preferably, it is a methoxy group or an ethoxy group.

1、R2、R3、R4、Rx及びRyで示されるアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基は、置換可能な位置に、1又は2以上の置換基で置換されていてもよい。かかる置換基としては、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子)、炭素数1〜6のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基)、アラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基)、
等が挙げられる。
The alkyl group, cycloalkyl group, aryl group, aralkyl group and alkoxy group represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , Rx and Ry are substituted with one or more substituents at substitutable positions. May be. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group), aryl group (for example, phenyl group, naphthyl group), aralkyl group (for example, benzyl group, phenethyl group), alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group) Group),
Etc.

1、R2、R3及びR4としては、誘電率、溶剤への可溶性の観点から、好ましくは炭素数1〜6のアルキル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基であり、さらに好ましくはメチル基である。 R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a methyl group or an ethyl group, from the viewpoint of dielectric constant and solubility in a solvent, A methyl group is preferred.

Rx及びRyとしては、接着性の観点から、好ましくは水素原子である。   Rx and Ry are preferably hydrogen atoms from the viewpoint of adhesiveness.

また、一般式(1)において、mは、ポリフェニレンエーテル骨格部の平均の繰り返し数を表し、好ましくは1以上30以下、より好ましくは1以上15以下の整数を示す。mを30以下とすることにより、溶剤への可溶性が発現する傾向にある。   Moreover, in General formula (1), m represents the average repeating number of a polyphenylene ether frame | skeleton part, Preferably it is 1-30, More preferably, it shows an integer of 1-15. When m is 30 or less, solubility in a solvent tends to be exhibited.

さらに、一般式(2)において、nは、ポリフェニレンエーテル骨格部の平均の繰り返し数を表し、好ましくは1以上30以下、より好ましくは 1以上
15以下の整数を示す。nを30以下とすることにより、溶剤への可溶性が発現する傾向にある。
Furthermore, in General formula (2), n represents the average repeating number of a polyphenylene ether skeleton part, Preferably it is 1-30, More preferably, it shows an integer of 1-15. By setting n to 30 or less, solubility in a solvent tends to develop.

一般式(1)又は(2)において、X1、X2及びZで示される2価の官能基としては、例えば、単結合、置換されていてもよいアルキレン基、置換されていてもよいアリーレン基等が挙げられる。 In the general formula (1) or (2), examples of the divalent functional group represented by X 1 , X 2 and Z include a single bond, an optionally substituted alkylene group, and an optionally substituted arylene. Groups and the like.

1、X2及びZで示される置換されていてもよいアルキレン基の「アルキレン基」としては、前記「アルキル基」から、任意の位置の水素原子をさらに1個除いて誘導される2価の基を意味し、メチレン基、エチレン基、メチルエチレン基、エチルエチレン基、1,1−ジメチルエチレン基、1,2−ジメチルエチレン基、トリメチレン基、1−メチルトリメチレン基、2−メチルトリメチレン基、テトラメチレン基等が挙げられ、好ましくは、メチレン基、エチレン基、メチルエチレン基、1,1−ジメチルエチレン基、トリメチレン基等である。 The “alkylene group” of the optionally substituted alkylene group represented by X 1 , X 2 and Z is a divalent group derived from the above “alkyl group” by further removing one hydrogen atom at any position. Methylene group, ethylene group, methylethylene group, ethylethylene group, 1,1-dimethylethylene group, 1,2-dimethylethylene group, trimethylene group, 1-methyltrimethylene group, 2-methyltrimethyl group. Examples include a methylene group and a tetramethylene group, and a methylene group, an ethylene group, a methylethylene group, a 1,1-dimethylethylene group, a trimethylene group and the like are preferable.

1、X2及びZで示される置換されていてもよいアリーレン基の「アリーレン基」としては、前記「アリール基」から、任意の位置の水素原子をさらに1個除いて誘導される2価の基を意味する。 The “arylene group” of the optionally substituted arylene group represented by X 1 , X 2 and Z is a divalent derivative derived from the above “aryl group” by further removing one hydrogen atom at any position. Means the group of

1、X2及びZで示される置換されていてもよいアルキレン基、アリーレン基は、置換可能な位置に、1又は2以上の置換基で置換されていてもよい。かかる置換基としては、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子)、炭素数1〜6のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基)、アラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基)等が挙げられる。 The optionally substituted alkylene group and arylene group represented by X 1 , X 2 and Z may be substituted with one or more substituents at substitutable positions. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group), aryl group (for example, phenyl group, naphthyl group), aralkyl group (for example, benzyl group, phenethyl group), alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group) Group) and the like.

一般式(1)又は(2)において、Y1及びY2で示されるエポキシ基を有してもよい2価以上の官能基の「2価以上の官能基」としては、上記のX1、X2及びZの2価の官能基として列挙したものと同様のものが挙げられる。また、Y1及びY2は、樹脂組成物の耐熱性を向上させる観点から、分子末端にエポキシ基を有する2価以上の官能基であってもよい。 In the general formula (1) or (2), the “divalent or higher functional group” of the bivalent or higher functional group which may have an epoxy group represented by Y 1 and Y 2 includes the above X 1 , It includes the same ones listed as the divalent functional groups X 2 and Z. Y 1 and Y 2 may be a divalent or higher functional group having an epoxy group at the molecular end from the viewpoint of improving the heat resistance of the resin composition.

(A)成分中のポリフェニレンエーテル骨格部を除く分子の形態としては、特に限定されず、例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビフェニル型、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型等の種々の形態をとることができる。   The form of the molecule excluding the polyphenylene ether skeleton in the component (A) is not particularly limited. For example, it takes various forms such as bisphenol A type, bisphenol F type, biphenyl type, phenol novolak type, cresol novolak type and the like. be able to.

(A)エポキシ基を有するポリフェニレンエーテル樹脂に含まれるポリフェニレンエーテル骨格部の割合は、好ましくは30〜90質量%であり、より好ましくは40〜80質量%である。ポリフェニレンエーテル骨格部の割合が30質量%以上であると、誘電率の低減効果が大きくなるため優れた誘電特性を発現する傾向にあり、90質量%以下であると、エポキシ基を有するポリフェニレンエーテル樹脂を製造する際の樹脂の粘度が適度に低く製造が容易となり、さらに、(A)成分の流動性が向上するため、内層回路への接着シートの埋め込み性が良好となる傾向にある。なお、ここで接着シートの埋め込み性とは、コア基板へのヒートラミネート時における、熱溶融した半硬化状接着シートの回路パターン段差を埋め込む性能のことをいう。   (A) The ratio of the polyphenylene ether frame | skeleton part contained in the polyphenylene ether resin which has an epoxy group becomes like this. Preferably it is 30-90 mass%, More preferably, it is 40-80 mass%. If the proportion of the polyphenylene ether skeleton is 30% by mass or more, the effect of reducing the dielectric constant is increased, so that excellent dielectric properties tend to be exhibited, and if it is 90% by mass or less, the polyphenylene ether resin having an epoxy group The viscosity of the resin during production is moderately low and the production is easy, and the fluidity of the component (A) is improved, so that the embedding property of the adhesive sheet in the inner layer circuit tends to be good. Here, the embedding property of the adhesive sheet refers to the performance of embedding the step difference of the circuit pattern of the heat-melted semi-cured adhesive sheet at the time of heat lamination to the core substrate.

(A)エポキシ基を有するポリフェニレンエーテル樹脂は、いかなる方法で製造されてもよいが、ポリフェニレンエーテルとエポキシ化合物を付加反応させることによって製造するのが好ましい。また、上記「ポリフェニレンエーテル骨格部」は、原料となるこのようなポリフェニレンエーテルに相当する。本実施の形態において、ポリフェニレンエーテル骨格部の質量割合や、ポリフェニレンエーテル骨格部の数平均分子量を論ずる際には、各々、原料となるポリフェニレンエーテルの質量割合、ポリフェニレンエーテルの数平均分子量と読み替えることができる。   (A) The polyphenylene ether resin having an epoxy group may be produced by any method, but is preferably produced by addition reaction of polyphenylene ether and an epoxy compound. The “polyphenylene ether skeleton” corresponds to such a polyphenylene ether as a raw material. In the present embodiment, when discussing the mass ratio of the polyphenylene ether skeleton and the number average molecular weight of the polyphenylene ether skeleton, the mass ratio of the polyphenylene ether as a raw material and the number average molecular weight of the polyphenylene ether may be read respectively. it can.

原料のポリフェニレンエーテルとしては、特に限定されず、例えば、下記一般式(3)で表される樹脂を用いることができる。   It does not specifically limit as a raw material polyphenylene ether, For example, resin represented by following General formula (3) can be used.

Figure 2009001787
Figure 2009001787

(式中、aは1以上の整数を示し、R5、R6、R7及びR8は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜3の炭化水素基を示す) (In the formula, a represents an integer of 1 or more, and R 5 , R 6 , R 7 and R 8 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms)

具体的には、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンオキサイド)、ポリ(3,5−ジメチル−1,4−フェニレンオキサイド)、ポリ(2,3,6-トリメチル−1,4−フェニレンオキサイド等が挙げられる。   Specifically, poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene oxide), poly (3,5-dimethyl-1,4-phenylene oxide), poly (2,3,6-trimethyl-1,4) -Phenylene oxide etc. are mentioned.

ポリフェニレンエーテルの数平均分子量は、好ましくは1000〜4000であり、より好ましくは1500〜3000である。数平均分子量が4000以下であると、樹脂組成物の溶融粘度が適度に低く加工性が良好となる傾向にあり、1000以上であると、誘電率の低減効果が大きくなるため優れた誘電特性を発現する傾向にある。   The number average molecular weight of the polyphenylene ether is preferably 1000 to 4000, more preferably 1500 to 3000. When the number average molecular weight is 4000 or less, the melt viscosity of the resin composition tends to be moderately low and the processability tends to be good, and when it is 1000 or more, the effect of reducing the dielectric constant increases, so that excellent dielectric properties are obtained. It tends to develop.

ポリフェニレンエーテルを製造する方法としては、特に限定されず、例えば、フェノール性水酸基を2個以上有するフェノール性化合物を種結晶として、2,6−キシレノールを付加させていく方法や、高分子量ポリフェニレンエーテルを再分配反応に供し、数平均分子量を上記の好ましい範囲に調整する方法等が挙げられる。   The method for producing polyphenylene ether is not particularly limited. For example, a method of adding 2,6-xylenol using a phenolic compound having two or more phenolic hydroxyl groups as a seed crystal, or a high molecular weight polyphenylene ether is used. Examples thereof include a method of subjecting to a redistribution reaction and adjusting the number average molecular weight within the above preferable range.

高分子量ポリフェニレンエーテルを再分配反応に供する方法としては、例えば、文献「Joural of Organic Chemistry,34,297〜303(1968)」に示されているように、高分子量ポリフェニレンエーテル樹脂をラジカル開始剤の存在下で、ビスフェノールA、テトラメチルビスフェノールA、テトラメチルビフェニル、ジヒドロキシジフェニルエーテル、フェノールノボラック、クレゾールノボラック、ピロガロール等のポリフェノール化合物と反応させて、高分子量ポリフェニレンエーテル樹脂の分子量を低下させる方法等を用いることができる。   As a method for subjecting the high molecular weight polyphenylene ether to the redistribution reaction, for example, as shown in the document “Journal of Organic Chemistry, 34, 297 to 303 (1968)”, the high molecular weight polyphenylene ether resin is used as a radical initiator. Use a method of reducing the molecular weight of a high molecular weight polyphenylene ether resin by reacting with a polyphenol compound such as bisphenol A, tetramethylbisphenol A, tetramethylbiphenyl, dihydroxydiphenyl ether, phenol novolak, cresol novolak, pyrogallol in the presence. Can do.

上記ラジカル開始剤としては、特に限定されず、例えば、ジクミルパーオキサイド、tert−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−tert−ブチルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ−tert−ブチルクミルパーオキシヘキシン−3、2,5−ジメチル−2,5−ジ−tert−ブチルパーオキシヘキサン、α,α’−ビス(tert−ブチルパーオキシ−m−イソプロピル)ベンゼン〔1,4(又は1,3)−ビス(tert−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼンともいう〕、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、tert−ブチルハイドロパーオキサイド、tert−ブチルパーオキシアセテート、tert−ブチルパーオキシベンゼン、過酸化ベンゾイル等の過酸化物を用いることができる。この際、ラジカル開始剤の触媒として、さらに、ナフテン酸コバルト、4級アンモニウム塩やアミン化合物等を用いてもよい。   The radical initiator is not particularly limited, and examples thereof include dicumyl peroxide, tert-butyl cumyl peroxide, di-tert-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di-tert-butyl cumi. Luperoxyhexyne-3,2,5-dimethyl-2,5-di-tert-butylperoxyhexane, α, α′-bis (tert-butylperoxy-m-isopropyl) benzene [1,4 (or 1,3) -bis (tert-butylperoxyisopropyl) benzene], diisopropylbenzene hydroperoxide, tert-butyl hydroperoxide, tert-butyl peroxyacetate, tert-butylperoxybenzene, benzoyl peroxide, etc. The peroxide can be used. At this time, cobalt naphthenate, a quaternary ammonium salt, an amine compound, or the like may be further used as a catalyst for the radical initiator.

上記ポリフェニレンエーテルと反応させるエポキシ化合物としては、特に限定されず、例えば、エピクロロヒドリン等のハロゲン化グリシジルや、分子内にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂等を用いることができる。分子内にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ヒンダート型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂及びこれらをハロゲン化したエポキシ樹脂;ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール等のジグリシジルエーテル等を用いることができる。   The epoxy compound to be reacted with the polyphenylene ether is not particularly limited, and for example, glycidyl halide such as epichlorohydrin, an epoxy resin having two or more epoxy groups in the molecule, and the like can be used. Examples of epoxy resins having two or more epoxy groups in the molecule include bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, bisphenol S type epoxy resins, hindered type epoxy resins, biphenyl type epoxy resins, and alicyclic epoxy resins. , Triphenylmethane type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin and epoxy resins halogenated from these; diglycidyl ether such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, butanediol, hexanediol, cyclohexanedimethanol, etc. Can be used.

エポキシ化合物としては、特に、分子内にエポキシ基を3個以上有する多官能エポキシ樹脂を併用するのが、耐熱性の観点から好ましい。分子内にエポキシ基を3個以上有する多官能エポキシ樹脂としては、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ビスAノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン/フェノールエポキシ樹脂、脂環式アミンエポキシ樹脂、脂肪族アミンエポキシ樹脂等が挙げられ、これらは単独で用いても、2種以上を併用してもよい。   As the epoxy compound, it is particularly preferable to use a polyfunctional epoxy resin having 3 or more epoxy groups in the molecule from the viewpoint of heat resistance. Examples of polyfunctional epoxy resins having 3 or more epoxy groups in the molecule include phenol novolac epoxy resins, cresol novolac epoxy resins, naphthol novolac epoxy resins, bis A novolac epoxy resins, dicyclopentadiene / phenol epoxy Examples thereof include resins, alicyclic amine epoxy resins, aliphatic amine epoxy resins, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

エポキシ基を有するポリフェニレンエーテル樹脂を得るには、例えば、上記ポリフェニレンエーテルとエポキシ化合物を、触媒存在下、100〜200℃で1〜20時間反応させることにより得ることができる。触媒としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の金属水酸化物、ナトリウムメチラート、ナトリウムブチラート等のアルキレート塩、テトラブチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロミド等の4級アンモニウム塩、テトラフェニルホスホニウムブロミド、アミルトリフェニルホスホニウムブロミド等のホスホニウム塩、2−メチルイミダゾール、2−メチル−4−イミダゾール等のイミダゾール系、N,N―ジエチルエタノールアミン等のアミン類及び塩化カリウム等の金属ハロゲン化物、トリ−O−トリルホスフィン等の1種以上を用いることができる。   In order to obtain a polyphenylene ether resin having an epoxy group, it can be obtained, for example, by reacting the polyphenylene ether and an epoxy compound at 100 to 200 ° C. for 1 to 20 hours in the presence of a catalyst. Examples of the catalyst include metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, alkylate salts such as sodium methylate and sodium butyrate, quaternary ammonium salts such as tetrabutylammonium chloride and tetramethylammonium bromide, tetra Phosphonium salts such as phenylphosphonium bromide and amyltriphenylphosphonium bromide, imidazoles such as 2-methylimidazole and 2-methyl-4-imidazole, amines such as N, N-diethylethanolamine, and metal halides such as potassium chloride One or more of tri-O-tolylphosphine and the like can be used.

具体的には、エポキシ化合物がエピクロルヒドリンである場合、ポリフェニレンエーテルのフェノール性水酸基に対して1倍以上、好ましくは5倍以上のエピクロルヒドリンにポリフェニレンエーテルを溶解後、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物を添加し、加熱、攪拌することにより製造することができる。アルカリ金属水酸化物の添加量は、フェノール性水酸基に対して、1当量以上を用い、反応条件は、50〜100℃で1〜10時間反応させる。得られた生成物を水洗又はろ過することにより生成塩を除去し、未反応のエピクロルヒドリンを揮発回収するか、あるいは、メタノール等の貧溶剤を投入し樹脂を析出させることにより(A)成分のエポキシ化ポリフェニレンエーテル樹脂を得ることができる。   Specifically, when the epoxy compound is epichlorohydrin, after dissolving polyphenylene ether in epichlorohydrin at least 1 time, preferably at least 5 times the phenolic hydroxyl group of polyphenylene ether, an alkali such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is used. It can be produced by adding a metal hydroxide, heating and stirring. The addition amount of the alkali metal hydroxide is 1 equivalent or more with respect to the phenolic hydroxyl group, and the reaction condition is 50 to 100 ° C. for 1 to 10 hours. The resulting product is washed with water or filtered to remove the generated salt, and unreacted epichlorohydrin is volatilized and recovered, or a poor solvent such as methanol is added to precipitate the resin, and the (A) component epoxy A polyphenylene ether resin can be obtained.

(A)エポキシ化ポリフェニレンエーテル樹脂は、分子内に極性基としてのエポキシ基を有し、詳細は不明であるが、後述する(B)カルボキシル基又はエポキシ基を有し、かつ、重量平均分子量が1万以上の熱可塑性エラストマー樹脂及び(D)エポキシ樹脂との相溶性が良好である。その結果として、内層回路基板上に積層した半硬化状接着シートを完全硬化する際に発生する基板の反りを顕著に低減することが可能となっているものと推定される。   (A) The epoxidized polyphenylene ether resin has an epoxy group as a polar group in the molecule, and details are unknown, but (B) a carboxyl group or an epoxy group described later has a weight average molecular weight. Good compatibility with 10,000 or more thermoplastic elastomer resins and (D) epoxy resins. As a result, it is estimated that it is possible to significantly reduce the warpage of the substrate that occurs when the semi-cured adhesive sheet laminated on the inner circuit board is completely cured.

また、(A)エポキシ化ポリフェニレンエーテル樹脂は、分子内にエポキシ基を有し、ケトン類溶剤等の極性の溶剤を含む混合溶剤に溶解し易い。特に比較的低沸点であるメチルエチルケトン(沸点79.6℃)を含有する混合溶剤に溶解し易い。   In addition, (A) the epoxidized polyphenylene ether resin has an epoxy group in the molecule and is easily dissolved in a mixed solvent containing a polar solvent such as a ketone solvent. In particular, it is easy to dissolve in a mixed solvent containing methyl ethyl ketone (boiling point 79.6 ° C.) having a relatively low boiling point.

さらに、(A)エポキシ化ポリフェニレンエーテル樹脂が、分子内に2個以上のエポキシ基を有している場合、得られる接着シートや積層板の耐熱性や接着性はさらに向上し得る。エポキシ基を分子内に平均2個以上有するエポキシ化ポリフェニレンエーテル樹脂を得るには、反応に使用するエポキシ化合物の、少なくとも5質量%、好ましくは10質量%、より好ましくは20質量%を多官能エポキシ樹脂とすればよい。多官能エポキシ樹脂を多く含むことにより、得られるエポキシ化ポリフェニレンエーテル樹脂のエポキシ基の平均個数を多くすることができる。   Further, when (A) the epoxidized polyphenylene ether resin has two or more epoxy groups in the molecule, the heat resistance and adhesiveness of the obtained adhesive sheet and laminate can be further improved. In order to obtain an epoxidized polyphenylene ether resin having an average of 2 or more epoxy groups in the molecule, at least 5% by mass, preferably 10% by mass, more preferably 20% by mass of the epoxy compound used in the reaction is a polyfunctional epoxy. A resin may be used. By containing many polyfunctional epoxy resins, the average number of epoxy groups in the resulting epoxidized polyphenylene ether resin can be increased.

また、ポリフェニレンエーテルとエポキシ化合物を反応させる際には、エポキシ化合物を2種以上併用するのが好ましい。特に、多官能エポキシ樹脂と2官能エポキシ樹脂をそれぞれ1種以上用いるのが好ましい。多官能エポキシ樹脂は、得られるエポキシ化ポリフェニレンエーテル樹脂のエポキシ基の個数を増やす観点で利用可能であるが、ポリフェニレンエーテルを溶解しづらく、また、ポリフェニレンエーテルとの反応によりゲル化を起こしやすい場合がある。しかしながら、反応時に2官能エポキシ樹脂を加えると、ポリフェニレンエーテルを溶解し易いため反応が起こりやすく、さらにゲル化を低減し得、溶剤を加えない系でも反応を良好に進行させ得る。   Moreover, when making a polyphenylene ether and an epoxy compound react, it is preferable to use 2 or more types of epoxy compounds together. In particular, it is preferable to use one or more polyfunctional epoxy resins and bifunctional epoxy resins. The polyfunctional epoxy resin can be used from the viewpoint of increasing the number of epoxy groups in the resulting epoxidized polyphenylene ether resin, but it is difficult to dissolve the polyphenylene ether, and gelation may easily occur due to the reaction with the polyphenylene ether. is there. However, when a bifunctional epoxy resin is added during the reaction, the polyphenylene ether is easily dissolved, so that the reaction is likely to occur. Further, gelation can be reduced, and the reaction can be favorably progressed even in a system in which no solvent is added.

(A)エポキシ基を有するポリフェニレンエーテル樹脂の含有量は(A)成分、後述する(B)成分及び(D)成分の合計100質量%に対して、好ましくは30〜85質量%であり、より好ましくは50〜85質量%である。30質量%以上である場合、優れた誘電特性を発現する傾向にあり、85質量%以下である場合、溶剤に溶かした時の粘度や樹脂の溶融粘度が適度に低く作業性に優れる傾向にある。   (A) The content of the polyphenylene ether resin having an epoxy group is preferably 30 to 85% by mass with respect to the total of 100% by mass of the component (A), the component (B) and the component (D) described later, and more Preferably it is 50-85 mass%. When it is 30% by mass or more, it tends to develop excellent dielectric properties, and when it is 85% by mass or less, the viscosity when dissolved in a solvent and the melt viscosity of the resin are moderately low and the workability tends to be excellent. .

(B)成分
(B)成分のカルボキシル基又はエポキシ基を有し、かつ、重量平均分子量が1万以上の熱可塑性エラストマー樹脂(以下、熱可塑性エラストマー樹脂とも称する)としては、特に限定されず、例えば、分子内にカルボキル基又はエポキシ基を有し、かつ、重量平均分子量が1万以上のポリブタジエン、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体等の、ジエン系化合物とその他の化合物の共重合体等が挙げられる。
(B) Component (B) The thermoplastic elastomer resin having a carboxyl group or an epoxy group and a weight average molecular weight of 10,000 or more (hereinafter also referred to as a thermoplastic elastomer resin) is not particularly limited, For example, diene-based compounds and other compounds such as polybutadiene, acrylonitrile-butadiene copolymer, styrene-butadiene copolymer having a carboxyl group or an epoxy group in the molecule and having a weight average molecular weight of 10,000 or more. A copolymer etc. are mentioned.

上記熱可塑性エラストマー樹脂は、分子内にカルボキシル基又はエポキシ基を有しているため、(A)エポキシ基を有するポリフェニレンエーテル樹脂及び後述する(D)エポキシ樹脂との相溶性が向上し、ポリフェニレンエーテル樹脂組成物の硬化時に発生する内部応力をより効果的に低減するため、結果として、内層回路基板上に積層した半硬化状接着シートを完全硬化する際に発生する基板の反りを顕著に低減することが可能となる。また、重量平均分子量が1万以上であることにより、ガラス転移温度が高くなるため、接着シートや積層板の耐熱性が良好となる。   Since the thermoplastic elastomer resin has a carboxyl group or an epoxy group in the molecule, compatibility with (A) a polyphenylene ether resin having an epoxy group and (D) an epoxy resin to be described later is improved. In order to more effectively reduce the internal stress generated when the resin composition is cured, as a result, the warpage of the substrate that occurs when the semi-cured adhesive sheet laminated on the inner circuit board is completely cured is significantly reduced. It becomes possible. Moreover, since a glass transition temperature becomes high because a weight average molecular weight is 10,000 or more, the heat resistance of an adhesive sheet or a laminated board becomes favorable.

上記熱可塑性エラストマー樹脂は、単独で用いても2種以上を併用してもよい。分子量の異なる熱可塑性エラストマーを2種以上用いる場合、それらの平均の重量平均分子量は1万以上、より好ましくは10万以上である。重量平均分子量の上限としては、特に制限されないが、好ましくは100万以下である。   The said thermoplastic elastomer resin may be used independently, or may use 2 or more types together. When two or more kinds of thermoplastic elastomers having different molecular weights are used, the average weight average molecular weight thereof is 10,000 or more, more preferably 100,000 or more. The upper limit of the weight average molecular weight is not particularly limited, but is preferably 1,000,000 or less.

なお、上記熱可塑性エラストマー樹脂は、(A)成分のエポキシ化ポリフェニレンエーテル樹脂を溶解させる溶剤と同じ溶剤に溶解する必要がある。   The thermoplastic elastomer resin must be dissolved in the same solvent as the solvent for dissolving the epoxidized polyphenylene ether resin as the component (A).

(B)熱可塑性エラストマー樹脂の含有量は、(A)成分、(B)成分及び後述する(D)成分の合計100質量%に対して、好ましくは1〜20質量%であり、より好ましくは3〜15質量%である。1質量%以上であると、ポリフェニレンエーテル樹脂組成物の硬化反応時に発生する内部応力を低減する効果が高く、内層回路基板上に積層した半硬化状接着シートを完全硬化する際に発生する基板の反りを低減することができる。また、20質量%以下であると接着シートや積層板の耐熱性を良好なものとすることができる。   The content of the (B) thermoplastic elastomer resin is preferably 1 to 20% by mass, more preferably 100% by mass, more preferably 100% by mass of the (A) component, the (B) component and the (D) component described later. 3 to 15% by mass. When the content is 1% by mass or more, the effect of reducing internal stress generated during the curing reaction of the polyphenylene ether resin composition is high, and the substrate generated when the semi-cured adhesive sheet laminated on the inner circuit board is completely cured. Warpage can be reduced. Moreover, the heat resistance of an adhesive sheet or a laminated board can be made favorable as it is 20 mass% or less.

(C)成分
ポリフェニレンエーテル樹脂組成物に含まれる(C)成分の硬化剤としては、エポキシ樹脂と反応する硬化剤であれば特に限定されず、例えば、ジシアンジアミド、脂肪族ポリアミド等のアミド系硬化剤、アミン系硬化剤、フェノール系硬化剤、酸無水物系硬化剤、イミダゾール系硬化剤及びその誘導体やエポキシアダクト化したもの、あるいはマイクロカプセル化したもの等を用いることができる。これらの硬化剤は単独で用いても2種以上を併用してもよい。
The (C) component curing agent contained in the (C) component polyphenylene ether resin composition is not particularly limited as long as it is a curing agent that reacts with an epoxy resin. For example, amide-based curing agents such as dicyandiamide and aliphatic polyamide. Further, amine-based curing agents, phenol-based curing agents, acid anhydride-based curing agents, imidazole-based curing agents and derivatives thereof, epoxy adducts, or microcapsules can be used. These curing agents may be used alone or in combination of two or more.

これらの中でも、酸無水物系硬化剤を使用すると、ポリフェニレンエーテル樹脂組成物を硬化した際に、(A)エポキシ化ポリフェニレンエーテル樹脂の優れた誘電特性が維持され得るため好ましい。酸無水物硬化剤の中でも、1分子中に2個以上の酸無水物基を有する酸無水物硬化剤(いわゆる多官能酸無水物)を使用すると、優れた耐熱性を有するポリフェニレンエーテル樹脂組成物の硬化体が得られる傾向にあるため好ましい。このような多官能酸無水物としては、スチレン−無水マレイン酸コポリマー、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、グリセリンビス(アンヒドロトリメリテート)モノアセテート等が挙げられる。   Among these, it is preferable to use an acid anhydride curing agent because the excellent dielectric properties of the (A) epoxidized polyphenylene ether resin can be maintained when the polyphenylene ether resin composition is cured. Among acid anhydride curing agents, when an acid anhydride curing agent having two or more acid anhydride groups in one molecule (so-called polyfunctional acid anhydride) is used, a polyphenylene ether resin composition having excellent heat resistance This is preferable because a cured product tends to be obtained. Examples of such polyfunctional acid anhydrides include styrene-maleic anhydride copolymer, ethylene glycol bisanhydro trimellitate, glycerin bis (anhydro trimellitate) monoacetate, and the like.

また、(C)成分が、B型粘度計にて測定される25℃における粘度が1000mPa・s以下である硬化剤を含むと、半硬化状接着シート(すなわちBステージ接着シート)の内層回路の埋め込み性が良好となる傾向にあるため好ましい。このような硬化剤としては、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルナメジック酸無水物、水素化メチルナメジック酸無水物等が挙げられる。多官能酸無水物と室温で液状の酸無水物を併用することで、優れた耐熱性と埋め込み性を両立し得るため好ましい。これら酸無水物硬化剤の使用量は、それらに含まれる酸無水物基の数が、硬化させる樹脂組成物に含まれるエポキシ基の数に対して、好ましくは0.8〜1.5であり、より好ましくは0.8〜1.3となるような量で用いるのが好ましい。なお、(C)成分がポリフェニレンエーテル樹脂組成物中に占める割合としては、好ましくは0.1〜20質量%である。   Further, when the component (C) contains a curing agent having a viscosity at 25 ° C. of 1000 mPa · s or less as measured with a B-type viscometer, the inner layer circuit of the semi-cured adhesive sheet (that is, the B stage adhesive sheet) This is preferable because the embedding property tends to be good. Examples of such a curing agent include methyltetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methylnamedic acid anhydride, hydrogenated methylnamedic acid anhydride, and the like. It is preferable to use a polyfunctional acid anhydride and an acid anhydride that is liquid at room temperature because both excellent heat resistance and embedding can be achieved. The amount of these acid anhydride curing agents used is preferably 0.8 to 1.5 with respect to the number of epoxy groups contained in the resin composition to be cured. More preferably, the amount used is 0.8 to 1.3. In addition, as a ratio for which (C) component accounts in a polyphenylene ether resin composition, Preferably it is 0.1-20 mass%.

(D)成分
本実施の形態のポリフェニレンエーテル樹脂組成物には、上記必須成分(A
)〜(C)に加えて、さらに、(D)エポキシ樹脂が含まれていてもよい。(D)エポキシ樹脂としては、分子内にエポキシ基を1個以上有する樹脂であれば特に限定されず、好ましくは分子内に2個以上のエポキシ基を有する樹脂である。(D)エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ヒンダトイン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂及びこれらをハロゲン化したエポキシ樹脂等が挙げられる。また、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ビスAノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン/フェノールエポキシ樹脂、脂環式アミンエポキシ樹脂、脂肪族アミンエポキシ樹脂等の多官能性のエポキシ樹脂を用いてもよい。なお、(D)成分のエポキシ樹脂には、(A)成分のエポキシ化ポリフェニレンエーテル樹脂は含まれない。
(D) Component The polyphenylene ether resin composition of the present embodiment includes the essential component (A
) To (C), (D) an epoxy resin may be further contained. (D) The epoxy resin is not particularly limited as long as it is a resin having one or more epoxy groups in the molecule, and is preferably a resin having two or more epoxy groups in the molecule. (D) Examples of the epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, hindered-in type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, and triphenylmethane type epoxy resin. And epoxy resins halogenated from these. Also, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, naphthol novolac type epoxy resin, bis A novolac type epoxy resin, dicyclopentadiene / phenol epoxy resin, alicyclic amine epoxy resin, aliphatic amine epoxy resin, etc. A functional epoxy resin may be used. The (D) component epoxy resin does not include the (A) component epoxidized polyphenylene ether resin.

また、上記(D)エポキシ樹脂は、接着シートの可撓性や、半硬化状接着シートの内層回路の埋め込み性の観点から、室温で液状のエポキシ樹脂を含んでいるのが好ましい。   The (D) epoxy resin preferably contains an epoxy resin that is liquid at room temperature from the viewpoint of the flexibility of the adhesive sheet and the embedding property of the inner layer circuit of the semi-cured adhesive sheet.

さらに上記(D)エポキシ樹脂は、臭素化エポキシ樹脂、エポキシ基含有ホスファゼン化合物等の難燃性のエポキシ樹脂を含むのが、難燃性の観点から好ましい。(D)エポキシ樹脂の含有量は、(A)成分、(B)成分及び(D)成分の合計100質量%に対して3〜60質量%、好ましくは5〜50質量%である。(D)成分の量が、3質量%以上であると、取扱い性や難燃性が付与される傾向があり、60質量%以下であると、優れた誘電率が発現する傾向がある。   Further, the (D) epoxy resin preferably contains a flame retardant epoxy resin such as a brominated epoxy resin or an epoxy group-containing phosphazene compound from the viewpoint of flame retardancy. (D) Content of an epoxy resin is 3-60 mass% with respect to a total of 100 mass% of (A) component, (B) component, and (D) component, Preferably it is 5-50 mass%. When the amount of the component (D) is 3% by mass or more, handleability and flame retardancy tend to be imparted, and when it is 60% by mass or less, an excellent dielectric constant tends to be developed.

また本実施の形態のポリフェニレンエーテル樹脂組成物には、必要に応じて、上記(A)〜(D)成分以外に、無機充填剤、有機充填剤等の各種添加剤が含まれていてもよい。無機充填剤としては、例えば、シリカ、アルミナ、水酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、クレイ、酸化チタン等が、有機充填剤としては、例えば、シリコーンパウダー、ナイロンパウダー等が挙げられる。   Moreover, the polyphenylene ether resin composition of the present embodiment may contain various additives such as inorganic fillers and organic fillers in addition to the components (A) to (D) as necessary. . Examples of the inorganic filler include silica, alumina, aluminum hydroxide, calcium carbonate, clay, and titanium oxide. Examples of the organic filler include silicone powder and nylon powder.

接着シート(半硬化状接着シート)Adhesive sheet (semi-cured adhesive sheet)

接着シートの製造方法としては、まず、(A)成分、(B)成分及び必要に応じて(D)成分の各樹脂を溶剤に溶解させた後、(C)成分の硬化剤及びその他の添加剤を溶解もしくは均一に分散してポリフェニレンエーテル樹脂組成物のワニスを得る。ワニス中の固形分濃度は特に限定されないが、好ましくは30〜80質量%である。   As a method for producing an adhesive sheet, first, the resin of component (A), component (B) and, if necessary, component (D) are dissolved in a solvent, and then a curing agent and component (C) are added. The agent is dissolved or uniformly dispersed to obtain a varnish of the polyphenylene ether resin composition. Although the solid content density | concentration in a varnish is not specifically limited, Preferably it is 30-80 mass%.

溶剤としては、ワニスの調製に用いられる公知の溶剤である、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン系溶剤や、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族系溶剤に加えて、ケトン類溶剤を用いることができる。ケトン類溶剤として、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等の脂肪族ケトン、アセトフェノン等の芳香族ケトンが挙げられる。また、ジメチルホルムアミド、メチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等の溶剤を使用することもできる。   As the solvent, in addition to halogen-based solvents such as dichloromethane and chloroform and aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene and mesitylene, which are well-known solvents used for the preparation of varnish, it is possible to use ketone solvents. it can. Examples of the ketone solvent include aliphatic ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isopropyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone, and aromatic ketones such as acetophenone. A solvent such as dimethylformamide, methyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether can also be used.

上記溶剤の中でも、ポリフェニレンエーテル樹脂組成物の溶解性と沸点の観点から、ケトン類としてメチルエチルケトン(MEK)を用いるのが好ましい。メチルエチルケトンと組み合わせる溶剤としてはトルエンのような沸点が120℃以下の芳香族系溶剤を使用することが好ましい。   Among the above solvents, it is preferable to use methyl ethyl ketone (MEK) as the ketone from the viewpoint of the solubility and boiling point of the polyphenylene ether resin composition. As a solvent to be combined with methyl ethyl ketone, it is preferable to use an aromatic solvent having a boiling point of 120 ° C. or lower such as toluene.

本実施の形態のポリフェニレンエーテル樹脂組成物は、ケトン類を含む混合溶剤に室温で溶解するのが好ましい。ここでいう室温で溶解するとは、10質量%の溶液にしたときに、室温において透明性の溶液状態が得られることを意味し、実質的に固形分が存在しない状態が1日以上、好ましくは30日以上保たれる状態をいう。混合溶剤中におけるケトン類の含有量は10〜80質量%であるのが好ましい。   The polyphenylene ether resin composition of the present embodiment is preferably dissolved in a mixed solvent containing ketones at room temperature. The term “dissolving at room temperature” as used herein means that when a 10% by mass solution is obtained, a transparent solution state is obtained at room temperature, and a state in which substantially no solid content is present is 1 day or more, preferably A state that is maintained for 30 days or more. The content of ketones in the mixed solvent is preferably 10 to 80% by mass.

本実施の形態の接着シート(半硬化状接着シート)は、上記のポリフェニレンエーテル樹脂組成物のワニスを支持フィルムの上に塗布し、加熱乾燥することにより溶剤を除去してフィルムを形成(成膜)することで製造することができる。乾燥後のフィルムの厚みは、好ましくは15〜120μm、より好ましくは15〜70μmである。   The adhesive sheet (semi-cured adhesive sheet) of the present embodiment is formed by coating the varnish of the polyphenylene ether resin composition on a support film and removing the solvent by heating and drying (film formation) ) Can be manufactured. The thickness of the dried film is preferably 15 to 120 μm, more preferably 15 to 70 μm.

このときの乾燥条件としては、加熱温度が80〜150℃、好ましくは90〜120℃であり、加熱時間が1〜20分、好ましくは2〜10分である。乾燥条件がこの範囲内であると、得られる接着シート中に残留する溶剤が十分に除去され、シート中の揮発分を1質量%以下にすることができる。また、成膜による接着シートの硬化を抑制でき、内層回路基板上に積層する際の配線間の埋め込み性を確保し得る。   As drying conditions at this time, the heating temperature is 80 to 150 ° C., preferably 90 to 120 ° C., and the heating time is 1 to 20 minutes, preferably 2 to 10 minutes. When the drying conditions are within this range, the solvent remaining in the obtained adhesive sheet is sufficiently removed, and the volatile content in the sheet can be reduced to 1% by mass or less. In addition, curing of the adhesive sheet due to film formation can be suppressed, and embeddability between wirings when stacked on the inner circuit board can be ensured.

支持フィルムにワニスを塗工する方法としては、バーコーター、リップコーター、ダイコーター、ロールコーター、ドクターブレードコーター等が挙げられる。また、支持フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリカーボネート等が挙げられ、それらの厚みは、好ましくは10〜150μmである。なお、支持フィルムには離型処理やマット処理等が適宜施されていてもよい。   Examples of the method for applying the varnish to the support film include a bar coater, a lip coater, a die coater, a roll coater, and a doctor blade coater. Examples of the support film include polyethylene terephthalate, polyethylene, polycarbonate, and the like, and the thickness thereof is preferably 10 to 150 μm. The support film may be appropriately subjected to release treatment, mat treatment, and the like.

多層プリント配線板
本実施の形態の接着シートを使用して多層プリント配線板を製造する場合は、上記の方法で製造した接着シートをパターン加工された内層回路基板に張り合わせ、支持フィルム側から加圧、加熱しながらラミネートする。内層回路表面は予め粗化処理されていてもよい。ラミネートは常圧あるいは減圧下で、バッチ式あるいはロールでの連続式で行うが、両面同時にラミネートするのが好ましい。この時のラミネート条件は、圧着温度が70℃〜150℃、圧着圧力が0.1〜1MPaであるのが好ましい。また、2KPa以下の減圧下でラミネートするのが好ましい。ラミネート後、室温まで冷却してから支持フィルムを剥離した後、内層回路基板に積層された接着フィルムを加熱硬化させる。硬化の条件としては、硬化温度が130〜200℃、硬化時間が30分〜120分の範囲内であるのが好ましい。
Multilayer printed wiring board When manufacturing a multilayer printed wiring board using the adhesive sheet of the present embodiment, the adhesive sheet manufactured by the above method is bonded to the patterned inner layer circuit board and pressed from the support film side. Laminate while heating. The inner layer circuit surface may be roughened in advance. Lamination is carried out at normal pressure or under reduced pressure, batchwise or continuously with a roll, but it is preferable to laminate on both sides simultaneously. The lamination conditions at this time are preferably a pressure bonding temperature of 70 ° C. to 150 ° C. and a pressure bonding pressure of 0.1 to 1 MPa. Moreover, it is preferable to laminate under a reduced pressure of 2 KPa or less. After lamination, the support film is peeled off after cooling to room temperature, and then the adhesive film laminated on the inner circuit board is heated and cured. As curing conditions, it is preferable that the curing temperature is 130 to 200 ° C. and the curing time is within a range of 30 to 120 minutes.

次に、バイアホールとなる箇所を炭酸ガスレーザー等のレーザーで穴あけ後、スミアの除去とめっきとの密着性向上を目的として、過マンガン酸塩、重クロム酸塩、オゾン等の酸化剤で粗面化処理を行う。その後、無電解めっき、電解めっきにより縁層樹脂上に選択的に導体回路を形成し、同時にバイアホールの内壁に導体を形成することで外層回路を形成する。その後、150〜200℃で、30分〜60分アニール処理することで、導体層と樹脂層の密着性を向上できる。このようにして得られた導体回路層の上に、さらに接着シートを用いて上記の製造方法を繰り返すことにより、多段のビルドアップ層を形成して多層プリント配線板を製造することができる。   Next, after making holes in the via holes with a laser such as a carbon dioxide laser, roughen with an oxidizing agent such as permanganate, dichromate, or ozone for the purpose of removing smear and improving the adhesion between plating. Perform surface treatment. Thereafter, a conductor circuit is selectively formed on the edge layer resin by electroless plating or electrolytic plating, and at the same time, a conductor is formed on the inner wall of the via hole to form an outer layer circuit. Then, the adhesiveness of a conductor layer and a resin layer can be improved by annealing-processing for 30 minutes-60 minutes at 150-200 degreeC. A multilayer printed wiring board can be manufactured by forming a multi-stage buildup layer by repeating the above manufacturing method using an adhesive sheet on the conductive circuit layer thus obtained.

プリプレグ
本実施の形態のプリプレグを製造するためのワニスには、主にケチルエチルケトン等のケトン類とトルエンの混合溶剤を使用し、また補助溶剤としてジメチルホルムアミド、プロピレングリコールモノメチルエーテル、メシチレン等の比較的沸点の高い溶剤を使用することができる。これらの溶剤に本発明の(A)エポキシ基化ポリフェニレンエーテル樹脂、(B)熱可塑性エラストマー、(D)エポキシ樹脂を溶解させた後、(C)硬化剤及びその他の添加剤を溶解もしくは均一に分散して、本実施の形態のプリプレグを製造するためのポリフェニレンエーテル樹脂組成物のワニスを得る。ワニス中の固形分濃度は特に限定しないが、好ましくは30〜80質量%である。
Prepreg The varnish for producing the prepreg of this embodiment mainly uses a mixed solvent of ketones such as ketylethylketone and toluene, and comparison of dimethylformamide, propylene glycol monomethyl ether, mesitylene, etc. as an auxiliary solvent A solvent having a high target boiling point can be used. In these solvents, (A) epoxy-based polyphenylene ether resin, (B) thermoplastic elastomer, and (D) epoxy resin of the present invention are dissolved, and (C) curing agent and other additives are dissolved or uniformly dissolved. Disperse to obtain a varnish of a polyphenylene ether resin composition for producing the prepreg of the present embodiment. Although the solid content density | concentration in a varnish is not specifically limited, Preferably it is 30-80 mass%.

本実施の形態のプリプレグは、上記ワニスを基材に含浸させた後、溶媒の乾燥、加熱により半硬化させて作製することができる。基材としては、ガラスクロス、アラミドクロス、ポリエステルクロス、ガラス不織布、アラミド不織布、ポリエステル不織布、パルプ紙、リンター紙等が挙げられる。基材に含浸する樹脂量は特に限定されないが、乾燥後の樹脂含有量がプリプレグの質量に対し30〜70質量%となるように含浸させるのが好ましい。   The prepreg of the present embodiment can be produced by impregnating the above varnish into a base material and then semi-curing it by drying and heating the solvent. Examples of the substrate include glass cloth, aramid cloth, polyester cloth, glass nonwoven fabric, aramid nonwoven fabric, polyester nonwoven fabric, pulp paper, linter paper and the like. The amount of resin impregnated into the substrate is not particularly limited, but it is preferable to impregnate the resin content after drying so as to be 30 to 70% by mass relative to the mass of the prepreg.

硬化性樹脂金属箔複合体
硬化性樹脂金属箔複合体は、本実施の形態のポリフェニレンエーテル樹脂組成物からなるフィルムと金属箔より構成される。フィルムの厚みは特に限定されないが、通常は15〜150μmである。ここで用いる金属箔は、導電性であることが好ましく、例えば、銅箔、アルミニウム箔等を用いることができる。
Curable resin metal foil composite The curable resin metal foil composite is composed of a film made of the polyphenylene ether resin composition of the present embodiment and a metal foil. Although the thickness of a film is not specifically limited, Usually, it is 15-150 micrometers. The metal foil used here is preferably conductive, and for example, a copper foil, an aluminum foil, or the like can be used.

硬化性樹脂金属箔複合体を製造する方法としては、例えば、本実施の形態のポリフェニレンエーテル樹脂組成物のワニスを金属箔の上に塗布して製造する方法、あらかじめ作製したポリフェニレンエーテル樹脂組成物からなるフィルム上に、金属箔を加熱圧着する方法、あるいは、ポリフェニレンエーテル樹脂組成物からなるフィルム上に、銅やアルミニウム等の金属をスパッタや蒸着、メッキ等の手段により積層する方法等が挙げられる。   As a method for producing the curable resin metal foil composite, for example, a method for producing the varnish of the polyphenylene ether resin composition of the present embodiment by applying the varnish on the metal foil, a pre-made polyphenylene ether resin composition The method of heat-pressing metal foil on the film which forms, or the method of laminating | stacking metals, such as copper and aluminum, by means, such as sputtering, vapor deposition, and plating, etc. on the film which consists of a polyphenylene ether resin composition, etc. are mentioned.

積層板
本実施の形態の積層板は、プリプレグ、硬化性樹脂金属箔複合体、フィルム及び銅箔を目的に応じた層構成で積層し加圧加熱して製造することができる。積層板を製造する方法としては、例えば、基板上にプリプレグや硬化性樹脂金属箔複合体を複数枚重ね合わせ、加熱加圧下で各層間を接着すると同時に樹脂の硬化を行う方法や、基板上に硬化性樹脂金属箔複合体を複数枚重ね合わせて、加熱加圧下に各層間を接着すると同時に熱硬化を行う方法等により、所望の厚みの積層板を得ることができる。金属箔は表層としても中間層としても用いることができる。また積層と硬化を複数回繰り返して逐次多層化することも可能である。
Laminate The laminate of the present embodiment can be produced by laminating a prepreg, a curable resin / metal foil composite, a film and a copper foil in a layer configuration according to the purpose, and heating under pressure. As a method of manufacturing a laminated board, for example, a method of stacking a plurality of prepregs and curable resin metal foil composites on a substrate and bonding each layer under heat and pressure and simultaneously curing the resin, A laminate having a desired thickness can be obtained by, for example, a method in which a plurality of curable resin metal foil composites are superposed and each layer is bonded under heat and pressure, and at the same time, thermosetting is performed. The metal foil can be used as a surface layer or an intermediate layer. In addition, it is possible to successively make a multilayer by repeating lamination and curing a plurality of times.

以下に実施例を示して、本実施の形態をより詳細に説明する。なお、本発明は以下に記載の実施例によって限定されるものではない。なお、以下において%とは、質量%を意味する。   Hereinafter, the present embodiment will be described in more detail with reference to examples. In addition, this invention is not limited by the Example described below. In the following, “%” means mass%.

[測定方法]
本明細書中の物性等の測定方法は以下の通りである。
(1)数平均分子量及び重量平均分子量
昭和電工社製shodex A−804、A−803、A−802、A802をカラムとして用いたゲル浸透クロマトグラフィー分析を行い、分子量既知のポリスチレンの溶出時間との比較で数平均分子量及び重量平均分子量を求めた。
(2)エポキシ当量
JISK7236に準じて測定した。
(3)エポキシ基の個数
(A)エポキシ基を有するポリフェニレンエーテル樹脂のエポキシ基の個数は、(A)エポキシ基を有するポリフェニレンエーテル樹脂の分子量をエポキシ当量で割ることで算出した。
(4)誘電率、誘電正接
接着シートを支持フィルムを剥離し、得られた樹脂フィルム16枚を積層しさらにその上下に厚み18μmの銅箔を配置し、190℃、1MPaで90分、加圧加熱することで、樹脂層の厚さが約0.5mmの両面銅箔付き樹脂硬化シートを作製した。これをJIS C 6481に基づき、アジレントテクノロジー社製LCRメーター4284Aを用いて測定した。
(5)ガラス転移温度
上記の誘電率、誘電正接測定用に作製したものと同様の両面銅箔付き樹脂硬化シート又は両面銅張積層板の銅箔をエッチングして得られたサンプルを用いた。これらのサンプルを、セイコーインスツルメト社DCS6200を用いて、昇温速度20℃/分の測定条件で測定し、得られたDSC曲線の変極点よりガラス転移温度を求めた。
(6)回路埋め込み性
配線のライン/スペースが150μm/100μm、配線厚み18μmの配線ラインを施したFR−4基板(17cm×34cm、厚さ0.4mm)上にロール式ラミネ−ターを用いて、圧着温度90〜120℃、圧着圧力0.3〜0.5MPa、ラミネート速度0.2〜0.5m/分の条件で接着シートを基板の片面にラミネートした。配線間に気泡の存在を目視で調べ、気泡が存在しない場合は「○」、存在する場合は「×」とした。
(7)基板の反りの大きさ及び基板反り性
回路埋め込み性試験で得られた、接着シートがラミネートされたFR−4基板を、185℃で1時間加熱した後、室温まで冷却した。その後、基板から長さ17cm、幅5mmの試験片を切り出し、片端を水平な台に固定した時にもう一方の端が台から浮き上がっている高さを測定した。基板反り性については、1.0cmより大きい反りが観測されたものを×と評価した。
(8)銅箔接着強度
接着シートを支持フィルムを剥離し、得られた樹脂フィルム16枚を積層し、さらにその上下に厚み18μmの銅箔を配置し、190℃、1MPaで90分、加圧加熱することで、樹脂層の厚さが約0.5mmの両面銅箔付き樹脂硬化シートを作製した。これを、JIS−c6481に準じて、島津製作所製オートグラフAGS−Hを用いて測定した。
[Measuring method]
The measuring method of the physical property etc. in this specification is as follows.
(1) Number average molecular weight and weight average molecular weight Gel permeation chromatography analysis using shodex A-804, A-803, A-802, A802 manufactured by Showa Denko KK as a column and elution time of polystyrene with known molecular weight The number average molecular weight and the weight average molecular weight were determined by comparison.
(2) Epoxy equivalent It measured according to JISK7236.
(3) Number of epoxy groups (A) The number of epoxy groups in the polyphenylene ether resin having an epoxy group was calculated by dividing the molecular weight of the polyphenylene ether resin having an (A) epoxy group by the epoxy equivalent.
(4) Dielectric constant, dielectric loss tangent The adhesive film is peeled off from the support film, 16 sheets of the obtained resin film are laminated, and 18 μm thick copper foil is placed on the top and bottom, and the pressure is applied at 190 ° C. and 1 MPa for 90 minutes. By heating, a cured resin sheet with a double-sided copper foil having a resin layer thickness of about 0.5 mm was produced. This was measured based on JIS C 6481 using an LCR meter 4284A manufactured by Agilent Technologies.
(5) Glass transition temperature A sample obtained by etching a resin-cured sheet with a double-sided copper foil or a copper foil of a double-sided copper-clad laminate similar to that prepared for the above-described dielectric constant and dielectric loss tangent measurement was used. These samples were measured using a Seiko Instruments DCS6200 under measurement conditions of a temperature increase rate of 20 ° C./min, and the glass transition temperature was determined from the inflection point of the obtained DSC curve.
(6) Circuit embedding property Using a roll type laminator on an FR-4 substrate (17 cm × 34 cm, thickness 0.4 mm) having a wiring line / space of 150 μm / 100 μm and a wiring thickness of 18 μm. The adhesive sheet was laminated on one side of the substrate under the conditions of a pressure bonding temperature of 90 to 120 ° C., a pressure bonding pressure of 0.3 to 0.5 MPa, and a lamination speed of 0.2 to 0.5 m / min. The presence of bubbles between the wirings was visually checked, and when there was no bubble, “◯” was indicated, and when it was present, “X” was assigned.
(7) Size of substrate warpage and substrate warpage The FR-4 substrate laminated with the adhesive sheet obtained in the circuit embedding test was heated at 185 ° C for 1 hour and then cooled to room temperature. Thereafter, a test piece having a length of 17 cm and a width of 5 mm was cut out from the substrate, and when one end was fixed to a horizontal base, the height at which the other end was lifted from the base was measured. As for the substrate warpage, a case where warpage greater than 1.0 cm was observed was evaluated as x.
(8) Copper foil adhesive strength The support film is peeled off from the adhesive sheet, 16 sheets of the obtained resin film are laminated, and 18 μm thick copper foil is further placed on the top and bottom thereof, and pressure is applied at 190 ° C. and 1 MPa for 90 minutes. By heating, a cured resin sheet with a double-sided copper foil having a resin layer thickness of about 0.5 mm was produced. This was measured using an autograph AGS-H manufactured by Shimadzu Corporation according to JIS-c6481.

[ポリフェニレンエーテル:製造例1]
数平均分子量17000の高分子量ポリフェニレンエーテル(旭化成ケミカルズ株式会社製)100g及びビスフェノールA8gをトルエン150gに加熱溶解させた。さらに、ナフテン酸コバルト0.1gを加え溶液の温度を90℃まで加熱した。これに、過酸化ベンゾイル及びそのメチル置換体の混合物のキシレン40%溶液(日本油脂株式会社製:ナイパーBMT−K40)12.5g(過酸化ベンゾイル及びそのメチル置換体混合物5gに相当)とトルエン37.5gを混合した溶液を2時間かけて添加した。滴下終了後、反応溶液の温度を90℃に保ち、120分間攪拌して再分配反応させた。その後反応溶液の温度を70℃まで低下させ、さらにナイパーBMT−K40の25g(過酸化ベンゾイル及びそのメチル置換体10gに相当)にトルエン75gを混合した溶液を2時間かけて添加した。滴下終了後、反応溶液の温度を70℃に保ち、さらに180分攪拌して再分配反応を行い、ポリフェニレンエーテルの低分子量化を行った。得られた反応溶液に1N水酸化ナトリウム溶液100gを加えて90℃で1時間攪拌した後、溶液を静置して反応溶液層と水層を分離し、水層を除去した。反応溶液をゲル浸透クロマトグラフィーで測定した結果、得られたポリフェニレンエーテルの数平均分子量は1900であった。
[Polyphenylene ether: Production Example 1]
100 g of high molecular weight polyphenylene ether (manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation) having a number average molecular weight of 17,000 and 8 g of bisphenol A were dissolved in 150 g of toluene by heating. Further, 0.1 g of cobalt naphthenate was added and the temperature of the solution was heated to 90 ° C. To this, 12.5 g of xylene 40% solution (manufactured by NOF Corporation: Nyper BMT-K40) of a mixture of benzoyl peroxide and its methyl substitution product (corresponding to 5 g of the mixture of benzoyl peroxide and its methyl substitution product) and toluene 37 0.5 g mixed solution was added over 2 hours. After completion of the dropwise addition, the temperature of the reaction solution was kept at 90 ° C., and stirred for 120 minutes for redistribution reaction. Thereafter, the temperature of the reaction solution was lowered to 70 ° C., and a solution prepared by mixing 75 g of toluene with 25 g of Niper BMT-K40 (corresponding to 10 g of benzoyl peroxide and its methyl substitution product) was added over 2 hours. After completion of the dropwise addition, the temperature of the reaction solution was kept at 70 ° C., and further stirred for 180 minutes to perform a redistribution reaction, thereby reducing the molecular weight of polyphenylene ether. After adding 100 g of 1N sodium hydroxide solution to the obtained reaction solution and stirring at 90 ° C. for 1 hour, the solution was allowed to stand to separate the reaction solution layer and the aqueous layer, and the aqueous layer was removed. As a result of measuring the reaction solution by gel permeation chromatography, the number average molecular weight of the obtained polyphenylene ether was 1,900.

[(A)エポキシ基を有するポリフェニレンエーテル樹脂:製造例2]
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(旭化成エポキシ社製:ECN1299)25g、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(旭化成ケミカルズ社製:AER250)25gを100℃に加熱し攪拌混合した。十分に混合した後、触媒としてNaOCH3を0.005g添加し、約15分攪拌した。その後、165℃まで加熱して、製造例1で得られたポリフェニレンエーテル溶液204g(ポリフェニレンエーテルに換算して50g)を90分かけて添加した。この際、反応容器に窒素を流すことで溶剤のトルエンを常圧または減圧下で反応系より除去した。その後、165℃で2時間攪拌し、エポキシ基を有するポリフェニレンエーテル樹脂(エポキシ化ポリフェニレンエーテル樹脂I)を得た。
次いで、エポキシ化ポリフェニレンエーテル樹脂Iの10gをトルエン100gに溶解し、大過剰のメタノールを添加して、エポキシ化ポリフェニレンエーテル樹脂Iを析出沈殿させた。得られたエポキシ化ポリフェニレンエーテル樹脂Iの数平均分子量は3060、エポキシ当量は550であった。また、ポリフェニレンエーテル骨格部の割合は62質量%、1分子あたりのエポキシ基の個数は5.5個であった。
[(A) Polyphenylene ether resin having epoxy group: Production Example 2]
25 g of cresol novolac type epoxy resin (Asahi Kasei Epoxy Co., Ltd .: ECN1299) and 25 g of bisphenol A type epoxy resin (Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd .: AER250) were heated to 100 ° C. and mixed with stirring. After thoroughly mixing, 0.005 g of NaOCH 3 was added as a catalyst and stirred for about 15 minutes. Thereafter, the mixture was heated to 165 ° C., and 204 g of the polyphenylene ether solution obtained in Production Example 1 (50 g in terms of polyphenylene ether) was added over 90 minutes. At this time, the solvent toluene was removed from the reaction system under normal pressure or reduced pressure by flowing nitrogen into the reaction vessel. Then, it stirred at 165 degreeC for 2 hours, and obtained the polyphenylene ether resin (epoxidized polyphenylene ether resin I) which has an epoxy group.
Next, 10 g of the epoxidized polyphenylene ether resin I was dissolved in 100 g of toluene, and a large excess of methanol was added to precipitate and precipitate the epoxidized polyphenylene ether resin I. The number average molecular weight of the obtained epoxidized polyphenylene ether resin I was 3060, and the epoxy equivalent was 550. The proportion of the polyphenylene ether skeleton was 62% by mass, and the number of epoxy groups per molecule was 5.5.

[(A)エポキシ基を有するポリフェニレンエーテル樹脂:製造例3]
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(ECN1273)10g、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(AER250)30gを100℃に加熱し攪拌混合した。十分に混合した後、触媒としてNaOCH3を0.005g添加し、約15分攪拌した。その後、165℃まで加熱して、製造例1で得られたポリフェニレンエーテル溶液245g(ポリフェニレンエーテルに換算して60g)を90分かけて添加した。この際、反応容器に窒素を流すことで溶剤のトルエンを常圧または減圧下で反応系より除去した。その後、165℃で2時間攪拌し、エポキシ基を有するポリフェニレンエーテル樹脂(エポキシ化ポリフェニレンエーテル樹脂II)を得た。
エポキシ化ポリフェニレンエーテル樹脂IIの10gをトルエン100gに溶解し、大過剰のメタノールを添加して、エポキシ化ポリフェニレンエーテル樹脂IIを析出沈殿させた。得られたエポキシ化ポリフェニレンエーテル樹脂IIの数平均分子量は2550、エポキシ当量は1020であった。また、ポリフェニレンエーテル骨格部の割合は69質量%、1分子あたりのエポキシ基の個数は2.5個であった。
[(A) Polyphenylene ether resin having epoxy group: Production Example 3]
10 g of cresol novolac type epoxy resin (ECN1273) and 30 g of bisphenol A type epoxy resin (AER250) were heated to 100 ° C. and mixed with stirring. After thoroughly mixing, 0.005 g of NaOCH 3 was added as a catalyst and stirred for about 15 minutes. Thereafter, the mixture was heated to 165 ° C., and 245 g of polyphenylene ether solution obtained in Production Example 1 (60 g in terms of polyphenylene ether) was added over 90 minutes. At this time, the solvent toluene was removed from the reaction system under normal pressure or reduced pressure by flowing nitrogen into the reaction vessel. Then, it stirred at 165 degreeC for 2 hours, and obtained the polyphenylene ether resin (epoxidized polyphenylene ether resin II) which has an epoxy group.
10 g of the epoxidized polyphenylene ether resin II was dissolved in 100 g of toluene, and a large excess of methanol was added to precipitate the epoxidized polyphenylene ether resin II. The resulting epoxidized polyphenylene ether resin II had a number average molecular weight of 2550 and an epoxy equivalent of 1020. The proportion of the polyphenylene ether skeleton was 69% by mass, and the number of epoxy groups per molecule was 2.5.

[(A)エポキシ基を有するポリフェニレンエーテル樹脂:製造例4]
製造例1で得られたポリフェニレンエーテル溶液204g(ポリフェニレンエーテルに換算して50g)をエピクロルヒドリン250gに溶解後、50質量%の水酸化ナトリウム水溶液10gを60℃にて60分間かけて添加し、その後60℃で60分間撹拌した。この反応溶液に水50gを加え、撹拌後静置して水層を分離させることで生成塩を除去した後、エピクロルヒドリン、トルエンを減圧蒸留で除去し、エポキシ基を有するポリフェニレンエーテル樹脂(エポキシ化ポリフェニレンエーテル樹脂III)を得た。得られたエポキシ化ポリフェニレンエーテル樹脂IIIの数平均分子量は2010、エポキシ当量は1570であった。また、ポリフェニレンエーテルの骨格部の割合は95質量%、1分子中のエポキシ基の個数は1.7個であった。
[(A) Polyphenylene ether resin having epoxy group: Production Example 4]
After dissolving 204 g of the polyphenylene ether solution obtained in Production Example 1 (50 g in terms of polyphenylene ether) in 250 g of epichlorohydrin, 10 g of a 50% by mass aqueous sodium hydroxide solution was added at 60 ° C. over 60 minutes, and then 60 Stir at 60 ° C. for 60 minutes. 50 g of water was added to this reaction solution, and after stirring, the product was removed by allowing the aqueous layer to separate. Then, epichlorohydrin and toluene were removed by distillation under reduced pressure, and a polyphenylene ether resin having an epoxy group (epoxidized polyphenylene). Ether resin III) was obtained. The resulting epoxidized polyphenylene ether resin III had a number average molecular weight of 2010 and an epoxy equivalent of 1570. The proportion of the skeleton of polyphenylene ether was 95% by mass, and the number of epoxy groups in one molecule was 1.7.

[使用した原料]
(1)(A)エポキシ基を有するポリフェニレンエーテル樹脂
上述の製造例2〜4で製造したエポキシ化ポリフェニレンエーテル樹脂I〜III
[Raw materials used]
(1) (A) Polyphenylene ether resin having epoxy group Epoxidized polyphenylene ether resins I to III produced in the above Production Examples 2 to 4

(2)(B)熱可塑性エラストマー樹脂
(2−1)カルボン酸変性アクリロニトリルブタジエンゴム
JSR社製:PNR−1H 重量平均分子量30万
(2−2)カルボン酸変性アクリロニトリルブタジエンゴム
宇部興産社製:CTBN13 重量平均分子量3500
(2−3)エポキシ化熱可塑性エラストマー
ダイセル化学社製:エポフレンドAT501 重量平均分子量8〜10万
(2−4)末端エポキシ化ポリブタジエンゴム
ナガセケムタック社製:デナレックスR45 重量平均分子量3000
(2) (B) Thermoplastic elastomer resin (2-1) Carboxylic acid-modified acrylonitrile butadiene rubber JSR: PNR-1H Weight average molecular weight 300,000 (2-2) Carboxylic acid-modified acrylonitrile butadiene rubber Ube Industries, Ltd .: CTBN13 Weight average molecular weight 3500
(2-3) Epoxidized thermoplastic elastomer, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd .: Epofriend AT501, weight average molecular weight, 8-100,000 (2-4) terminal epoxidized polybutadiene rubber, manufactured by Nagase Chemtuck, Inc .: Denarex R45, weight average molecular weight, 3000

(3)(C)硬化剤
(3−1)スチレン−無水マレイン酸コポリマー
川原油化社製:SMA−EF40
(3−2)メチルヘキサヒドロ無水フタル酸
新日本理化社製:MH−700
MH−700
(3−3)イミダゾール系硬化剤
四国化成社製:キュアゾール2MA−OK
(3) (C) Hardener (3-1) Styrene-maleic anhydride copolymer Kawa Crude Chemical Co., Ltd .: SMA-EF40
(3-2) Methylhexahydrophthalic anhydride New Nippon Rika Co., Ltd .: MH-700
MH-700
(3-3) Imidazole-based curing agent Shikoku Kasei Co., Ltd .: Curesol 2MA-OK

(4)(D)エポキシ樹脂
(4−1)液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂
旭化成エポキシ社製:AER250
(4−2)テトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂
旭化成エポキシ社製:AER8018
(4) (D) Epoxy resin (4-1) Liquid bisphenol A type epoxy resin Asahi Kasei Epoxy Co., Ltd .: AER250
(4-2) Tetrabromobisphenol A type epoxy resin manufactured by Asahi Kasei Epoxy Corporation: AER8018

[実施例1〜7、比較例1〜3、参考例1]
表1に示す割合(質量部)で配合したワニスを厚さ38μmのポリエチレンテレフタレート(以下、PETと記す)フィルム上に乾燥後の厚みが35μmとなるようにドクターブレードコーターを用いて塗布した後、110℃で10分間乾燥した。得られた接着シートの誘電率、誘電正接、ガラス転移温度、回路埋め込み性、基板反りの大きさ、銅箔接着強度を測定し、結果を表1に示した。
[Examples 1-7, Comparative Examples 1-3, Reference Example 1]
After applying the varnish blended at the ratio (parts by mass) shown in Table 1 on a polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as PET) film having a thickness of 38 μm using a doctor blade coater so that the thickness after drying becomes 35 μm, Dried at 110 ° C. for 10 minutes. The obtained adhesive sheet was measured for dielectric constant, dielectric loss tangent, glass transition temperature, circuit embedding property, substrate warpage, and copper foil adhesive strength, and the results are shown in Table 1.

Figure 2009001787
Figure 2009001787

表1に示した結果から明らかなように、実施例1〜7の接着シートは、良好な電気的特性及び耐熱性を有し、かつ、完全硬化時に発生する基板の反りが大幅に低減されていた。
これに対して表2に示した比較例1の接着シートは、樹脂組成物中に(B)成分に該当する熱可塑性エラストマーを含有していないため、完全硬化時に発生する基板の反りを抑制することができなかった。
また、比較例2及び比較例3の接着シートは、(B)成分に該当する熱可塑性エラストマーとして、分子量の小さな樹脂(重量平均分子量3500及び重量平均分子量3000)を用いているため、ガラス転移温度が低く、耐熱性に劣っていた。
なお、本実施例の接着シートが、基板の反りを低減することができた理由の1つとしては、(B)成分の熱可塑性エラストマー樹脂としてカルボキシル基又はエポキシ基で変性されたものを用いているため、(A)成分のエポキシ化ポリフェニレンエーテル樹脂との相溶性が向上し、硬化時にエポキシ化ポリフェニレンエーテル樹脂やエポキシ樹脂の骨格中にエラストマー成分が均一に取り込まれると考えられ、ポリフェニレンエーテル樹脂組成物の硬化時に発生する内部応力を効果的に低減することが可能になったためと推定される。
As is clear from the results shown in Table 1, the adhesive sheets of Examples 1 to 7 have good electrical characteristics and heat resistance, and the warpage of the substrate that occurs during complete curing is greatly reduced. It was.
On the other hand, since the adhesive sheet of Comparative Example 1 shown in Table 2 does not contain the thermoplastic elastomer corresponding to the component (B) in the resin composition, it suppresses the warpage of the substrate that occurs during complete curing. I couldn't.
Moreover, since the adhesive sheet of Comparative Example 2 and Comparative Example 3 uses a low molecular weight resin (weight average molecular weight 3500 and weight average molecular weight 3000) as the thermoplastic elastomer corresponding to the component (B), the glass transition temperature. Was low and inferior in heat resistance.
In addition, as one of the reasons that the adhesive sheet of this example was able to reduce the warpage of the substrate, the thermoplastic elastomer resin of the component (B) was modified with a carboxyl group or an epoxy group. Therefore, the compatibility of the component (A) with the epoxidized polyphenylene ether resin is improved, and it is considered that the elastomer component is uniformly incorporated into the skeleton of the epoxidized polyphenylene ether resin or epoxy resin at the time of curing. It is presumed that the internal stress generated during the curing of the object can be effectively reduced.

本発明のポリフェニレンエーテル樹脂組成物は、誘電特性とビルドアッププリント配線板への加工性に優れ、ビルドアッププリント配線板用接着シートとして好適である。   The polyphenylene ether resin composition of the present invention is excellent in dielectric properties and processability to build-up printed wiring boards, and is suitable as an adhesive sheet for build-up printed wiring boards.

Claims (14)

以下の(A)〜(C)の各成分、
(A)エポキシ基を有するポリフェニレンエーテル樹脂、
(B)カルボキシル基又はエポキシ基を有し、かつ、重量平均分子量が1万以上の熱可塑性エラストマー樹脂、
(C)硬化剤、
を含むポリフェニレンエーテル樹脂組成物。
Each of the following components (A) to (C),
(A) a polyphenylene ether resin having an epoxy group,
(B) a thermoplastic elastomer resin having a carboxyl group or an epoxy group and having a weight average molecular weight of 10,000 or more,
(C) a curing agent,
A polyphenylene ether resin composition comprising:
前記(A)成分が、下記一般式(1)で表される樹脂である、請求項1記載のポリフェニレンエーテル樹脂組成物。
Figure 2009001787
(式中、Aは、水素原子もしくは下記一般式(2)
Figure 2009001787
で表される構造を示し、
m、nは1以上の整数を示し、
1、R2、R3、R4、Rx及びRyは、それぞれ独立に、水素原子又は1価の官能基を示し、
1、X2及びZは、それぞれ独立に、2価の官能基を示し、
1及びY2は、それぞれ独立に、エポキシ基を有してもよい2価以上の官能基を示す。)
The polyphenylene ether resin composition according to claim 1, wherein the component (A) is a resin represented by the following general formula (1).
Figure 2009001787
(In the formula, A is a hydrogen atom or the following general formula (2)
Figure 2009001787
The structure represented by
m and n represent an integer of 1 or more,
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , Rx and Ry each independently represent a hydrogen atom or a monovalent functional group,
X 1 , X 2 and Z each independently represent a divalent functional group,
Y 1 and Y 2 each independently represent a divalent or higher functional group that may have an epoxy group. )
前記(A)成分が、ポリフェニレンエーテル骨格部を30〜90質量%の割合で含む、請求項1又は2に記載のポリフェニレンエーテル樹脂組成物。   The polyphenylene ether resin composition according to claim 1 or 2, wherein the component (A) contains a polyphenylene ether skeleton at a ratio of 30 to 90% by mass. 前記(A)成分の、ポリフェニレンエーテル骨格部の数平均分子量が1000〜4000である、請求項1〜3のいずれか1項に記載のポリフェニレンエーテル樹脂組成物。   The polyphenylene ether resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the number average molecular weight of the polyphenylene ether skeleton of the component (A) is 1000 to 4000. 前記(A)成分が、1分子当たり平均2.2個以上のエポキシ基を有する、請求項1〜4のいずれか1項に記載のポリフェニレンエーテル樹脂組成物。   The polyphenylene ether resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the component (A) has an average of 2.2 or more epoxy groups per molecule. 前記(B)成分が、ジエン系化合物と他の化合物との共重合体である、請求項1〜5のいずれか1項に記載のポリフェニレンエーテル樹脂組成物。   The polyphenylene ether resin composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the component (B) is a copolymer of a diene compound and another compound. (D)エポキシ樹脂をさらに含む、請求項1〜6のいずれか1項に記載のポリフェニレンエーテル樹脂組成物。   (D) The polyphenylene ether resin composition according to any one of claims 1 to 6, further comprising an epoxy resin. 前記(A)成分、(B)成分及び(D)成分の総量中に占める(A)成分の割合が30〜85質量%である、請求項7記載のポリフェニレンエーテル樹脂組成物。   The polyphenylene ether resin composition according to claim 7, wherein a proportion of the component (A) in the total amount of the component (A), the component (B), and the component (D) is 30 to 85% by mass. 前記(A)成分、(B)成分及び(D)成分の総量中に占める(B)成分の割合が1〜20質量%である、請求項7又は8に記載のポリフェニレンエーテル樹脂組成物。   The polyphenylene ether resin composition according to claim 7 or 8, wherein a ratio of the component (B) in the total amount of the component (A), the component (B), and the component (D) is 1 to 20% by mass. 前記(C)成分が、酸無水物系硬化剤である、請求項1〜9のいずれか1項に記載のポリフェニレンエーテル樹脂組成物。   The polyphenylene ether resin composition according to any one of claims 1 to 9, wherein the component (C) is an acid anhydride curing agent. 前記酸無水物系硬化剤が、1分子中に2個以上の酸無水物基を有する硬化剤である、請求項10記載のポリフェニレンエーテル樹脂組成物。   The polyphenylene ether resin composition according to claim 10, wherein the acid anhydride curing agent is a curing agent having two or more acid anhydride groups in one molecule. 前記(C)成分が、粘度が1000mPa・s(25℃)以下である硬化剤を含む、請求項1〜11のいずれか1項に記載のポリフェニレンエーテル樹脂組成物。   The polyphenylene ether resin composition according to any one of claims 1 to 11, wherein the component (C) includes a curing agent having a viscosity of 1000 mPa · s (25 ° C) or less. 請求項1〜12のいずれか1項に記載のポリフェニレンエーテル樹脂組成物を用いて形成された電子部材。   The electronic member formed using the polyphenylene ether resin composition of any one of Claims 1-12. 半硬化状接着シート、硬化性樹脂金属箔複合体、エポキシプリプレグ、
前記エポキシプリプレグを用いてなる積層板、又は
前記半硬化状接着シート、硬化性樹脂金属箔複合体、エポキシプリプレグ及びエポキシプリプレグを用いてなる積層板よりなる群から選択される1種又は2種以上を用いてなるプリント配線板、
のいずれかである請求項13記載の電子部材。
Semi-cured adhesive sheet, curable resin metal foil composite, epoxy prepreg,
1 type or 2 types or more selected from the group which consists of the laminated board which uses the said epoxy prepreg, or the said semi-hardened adhesive sheet, a curable resin metal foil composite, an epoxy prepreg, and an epoxy prepreg Printed wiring board, using
The electronic member according to claim 13, which is any one of the above.
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