JP2009098129A - ビーム照射装置 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 59
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims abstract description 12
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 8
- 238000013459 approach Methods 0.000 abstract description 3
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 23
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 17
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 10
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 8
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
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- G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
【課題】ミラー回動位置の検出を、簡易な演算処理によっても適正に行い得るビーム照射装置を提供する。
【解決手段】ミラー113に入射する際のレーザ光の光軸からミラー113の入射面を臨む角度方向A1と、透明体200に入射する際のサーボ光の光軸から透明体200の入射面を臨む角度方向A2とが互いに相反するように、レーザ光とサーボ光がミラー113と透明体200に入射される。これにより、サーボ光の走査軌跡が平行化される。サーボ光の走査軌跡をさらに平行化するには、ミラー113(透明体200)が中立位置にあるときに、透明体200の入射面に対して光軸が45度以下の傾きを有するようにして、サーボ光を透明体200に入射させるのが好ましい。
【選択図】図12
【解決手段】ミラー113に入射する際のレーザ光の光軸からミラー113の入射面を臨む角度方向A1と、透明体200に入射する際のサーボ光の光軸から透明体200の入射面を臨む角度方向A2とが互いに相反するように、レーザ光とサーボ光がミラー113と透明体200に入射される。これにより、サーボ光の走査軌跡が平行化される。サーボ光の走査軌跡をさらに平行化するには、ミラー113(透明体200)が中立位置にあるときに、透明体200の入射面に対して光軸が45度以下の傾きを有するようにして、サーボ光を透明体200に入射させるのが好ましい。
【選択図】図12
Description
本発明は、目標領域にレーザ光を照射するビーム照射装置に関し、特に、目標領域にレーザ光を照射したときの反射光をもとに、目標領域内における障害物の有無や障害物までの距離を検出する、いわゆるレーザレーダに搭載されるビーム照射装置に用いて好適なものである。
近年、走行時の安全性を高めるために、走行方向前方にレーザ光を照射し、その反射光の状態から、目標領域内における障害物の有無や障害物までの距離を検出するレーザレーダが、家庭用乗用車等に搭載されている。一般に、レーザレーダは、レーザ光を目標領域内でスキャンさせ、各スキャン位置における反射光の有無から、各スキャン位置における障害物の有無を検出し、さらに、各スキャン位置におけるレーザ光の照射タイミングから反射光の受光タイミングまでの所要時間をもとに、そのスキャン位置における障害物までの距離を検出するものである。
レーザレーダの検出精度を高めるには、レーザ光を目標領域内において適正にスキャンさせる必要があり、また、レーザ光の各スキャン位置を適正に検出する必要がある。これまで、レーザ光のスキャン機構として、ポリゴンミラーを用いるスキャン機構と、走査用レンズを2次元駆動するレンズ駆動タイプのスキャン機構(たとえば、以下の特許文献1参照)が知られている。
また、これらスキャン機構とは異なる新たなスキャン機構として、出願人は、先に特願2006−121762号を出願し、ミラー回動タイプのスキャン機構を提案している。このスキャン機構では、ミラーが2軸駆動可能に支持され、コイルとマグネット間の電磁駆動力によって、ミラーが各駆動軸を軸として回動される。レーザ光は、ミラーに斜め方向から入射され、その反射光が目標領域に向けて照射される。ミラーが各駆動軸を軸として2次元駆動されることにより、レーザ光が、目標領域内において、2次元方向に走査される。
このスキャン機構では、目標領域におけるレーザ光のスキャン位置がミラーの回動位置に一対一に対応する。よって、レーザ光のスキャン位置はミラーの回動位置を検出することにより検出できる。ここで、ミラーの回動位置は、たとえば、ミラーに伴って回動する別部材の回動位置を検出することにより検出することができる。
図13は、ミラーの回動位置を検出するための構成例を示す図である。同図(a)は、別部材として平行平板状の透明体を用いる場合の構成例、同図(b)は、別部材としてミラーを用いる場合の構成例である。
同図(a)において、601は半導体レーザ、602は透明体、603は光検出器(PSD:Position Sensing Device)である。半導体レーザ601から出射されたレーザ光(サーボ光)は、レーザ光軸に対し傾いて配置された透明体602によって屈折され、光検出器603に受光される。ここで、透明体602が矢印のように回動すると、サーボ光の光路が図中の点線のように変化し、光検出器603上におけるサーボ光の受光位置が変化する。よって、光検出器603にて検出されるサーボ光の受光位置によって、透明体602の回動位置を検出することができる。
同図(b)において、611は半導体レーザ、612はミラー、613は光検出器(PSD)である。半導体レーザ611から出射されたレーザ光(サーボ光)は、レーザ光軸に対し傾いて配置されたミラー612によって反射され、光検出器613に受光される。ここで、ミラー612が矢印のように回動すると、サーボ光の光路が図中の点線のように変化し、光検出器613上におけるサーボ光の受光位置が変化する。よって、光検出器613にて検出されるサーボ光の受光位置によって、ミラー612の回動位置を検出することができる。
ここで、ミラー612が、同図(b)にように角度αだけ回動すると、ミラー612によって反射された後のサーボ光の振り角は2αとなる。このため、これを受光する光検出器613の受光面は比較的大きなものとなる。これに対し、同図(a)のように透明体602を用いると、透明体602が回動しても、これを透過した後のサーボ光の振れ幅はあまり大きくならない。よって、同図(b)の場合に比べ、光検出器603の受光面をかなり小さくすることができ、光検出器に掛かるコストを抑制することができる。
特開平11−83988号公報
一般に、レーザレーダでは、レーザ光が目標領域において水平にスキャンされる。また、水平方向の走査ラインは鉛直方向に複数段設定される。このため、目標領域中央から鉛直方向にずれた位置にある走査ラインでは、レーザ光を、水平方向から所定角度(目標の走査ラインに応じた角度)だけ鉛直方向に振った状態で、水平方向に走査させる必要がある。
しかし、上記ミラー回動方式のスキャン機構では、一方の軸を固定軸としてミラーを鉛直方向に固定させた状態で、他方の軸を回動軸としてミラーを水平方向に回動させると、目標領域におけるレーザ光の走査軌跡は水平とはならず、水平から傾いた状態となる。このため、かかるスキャン機構では、各走査ラインに対するスキャン動作時に、スキャン軌跡が水平となるよう、ミラーを、2軸周りに同時に回動させる必要がある。
ここで、ミラーの回動位置を検出するための構成として図13(a)の構成を用いると、目標領域上における各走査ラインに対応して、光検出器603上に、サーボ光の走査軌跡が複数現れることとなる。ところが、この場合、半導体レーザ601の配置如何によっては、光検出器603上におけるサーボ光の各走査軌跡が互いに平行とはならず、たとえば図7に示すように互いに傾いた状態となる。このため、ミラー回動位置の検出を適正に行うためには、光検出器603からの検出信号に対して、走査軌跡毎に、その傾き角に応じた演算処理を施す必要があり、処理の複雑化を招くとの問題が生じる。
本発明は、かかる問題を解消するためになされたものであり、ミラー回動位置の検出を、簡易な演算処理によっても適正に行い得るビーム照射装置を提供することを目的とする。
上記課題に鑑み本発明は、以下の特徴を有する。
請求項1の発明は、目標領域においてレーザ光を走査させるビーム照射装置において、前記レーザ光を出射するレーザ光源と、前記レーザ光源から出射されたレーザ光が入射されるミラーと、前記ミラーを第1の軸と当該第1の軸に垂直な第2の軸を回動軸としてそれぞれ第1の方向および第2の方向に回動させるアクチュエータと、前記アクチュエータに配され前記ミラーの回動に伴って前記第1の方向および第2の方向に回動する光屈折素子と、前記光屈折素子にサーボ光を照射するサーボ光源と、前記光屈折素子によって屈折された前記サーボ光を受光してその受光位置に応じた信号を出力する光検出器とを備え、前記ミラーに入射する際の前記レーザ光の光軸から前記ミラーの入射面を臨む角度方向と、前記光屈折素子に入射する際の前記サーボ光の光軸から前記光屈折素子の入射面を臨む角度方向とが互いに相反するように、前記レーザ光と前記サーボ光が前記ミラーと前記光屈折素子に入射されることを特徴とする。
請求項2の発明は、請求項1に記載のビーム照射装置において、前記光屈折素子は、前記サーボ光の入射面と出射面が互いに平行な透明体からなっていることを特徴とする。
請求項3の発明は、請求項1または2に記載のビーム照射装置において、前記サーボ光は、前記ミラーが中立位置にあるときに、前記第1の軸に垂直で、且つ、前記光屈折素子の前記入射面に対して光軸が45度以下の傾きを有するようにして前記光屈折素子に入射することを特徴とする。
請求項4の発明は、請求項3に記載のビーム照射装置において、前記サーボ光は、前記目標領域において前記レーザ光を水平に走査したときの各走査ラインに対応する前記光検出器上における走査軌跡が最も平行に近づく角度にて、前記光屈折素子の入射面に入射することを特徴とする。
請求項5の発明は、請求項ないし4の何れか一項に記載のビーム照射装置において、前記レーザ光は、前記ミラーが中立位置にあるときに、前記ミラーの前記入射面に対して光軸が45度以下の傾きを有するようにして前記ミラーに入射することを特徴とする。
請求項1の発明によれば、レーザ光の光軸からミラーの入射面を臨む角度方向と、サーボ光の光軸から光屈折素子の入射面を臨む角度方向とが一致している場合に比べ、光検出器上におけるサーボ光の各走査軌跡を互いに平行な状態に近づけることができる。よって、これら走査軌跡が互いに平行であると近似して処理を行った場合にも、ミラー回動位置の検出を適正に行うことができる。
請求項3の発明によれば、光検出器上におけるサーボ光の各走査軌跡を互いに略平行な状態とすることができる。このため、これら走査軌跡が互いに平行であると近似して処理を行っても、ミラーの回動位置を高精度に検出することができる。
請求項4の発明によれば、光検出器上におけるサーボ光の各走査軌跡を最も平行な状態とすることができる。このため、これら走査軌跡が互いに平行であると近似した場合のミラー回動位置の検出精度を最も高めることができる。
本発明の効果ないし意義は、以下に示す実施の形態の説明により更に明らかとなろう。ただし、以下に示す実施の形態は、あくまでも、本発明を実施化する際の一つの例示であって、本発明は、以下の実施の形態に記載されたものに何ら制限されるものではない。
図1に、本実施の形態に係るミラーアクチュエータ100の構成を示す。なお、同図(a)はミラーアクチュエータ100の分解斜視図、同図(b)はアセンブル状態にあるミラーアクチュエータ100の斜視図である。
同図(a)において、110は、ミラーホルダである。ミラーホルダ110には、端部に抜け止めを有する支軸111、112が形成されている。また、ミラーホルダ110の前面には平板状のミラー113が装着されており、背面にはコイル114が装着されている。なお、コイル114は、方形状に巻回されている。
支軸112には、平行平板状の透明体200が装着される。ここで、透明体200は、2つの平面がミラー113の鏡面に平行となるようにして支軸112に装着される。
120は、ミラーホルダ110を支軸111、112を軸として回動可能に支持する可動枠である。可動枠120には、ミラーホルダ110を収容するための開口121が形成されており、また、ミラーホルダ110の支軸111、112と係合する溝122、123が形成されている。さらに、可動枠120の側面には、端部に抜け止めを有する支軸124、125が形成され、背面には、コイル126が装着されている。コイル126は、方形状に巻回されている。
130は、可動枠120を支軸124、125を軸として回動可能に支持する固定枠である。固定枠130には、可動枠120を収容するための凹部131が形成され、また、可動枠120の支軸124、125と係合する溝132、133が形成されている。さらに、固定枠130の内面には、コイル114に磁界を印加するマグネット134と、コイル126に磁界を印加するマグネット135が装着されている。なお、溝132、133は、それぞれ固定枠130の前面から上下2つのマグネット135間の隙間内まで延びている。
140は、ミラーホルダ110の支軸111、112が可動枠120の溝122、123から脱落しないよう、支軸111、112を前方から押さえる板バネである。また、141は、可動枠120の支軸124、125が固定枠130の溝132、133から脱落しないよう、支軸124、125を前方から押さえる板バネである。
ミラーアクチュエータ100をアセンブルする際には、ミラーホルダ110の支軸111、112を可動枠120の溝122、123に係合させ、さらに、支軸111、112の前面を押さえるようにして、板バネ140を可動枠120の前面に装着する。これにより、ミラーホルダ110が、可動枠120によって、回動可能に支持される。
このようにしてミラーホルダ110を可動枠120に装着した後、可動枠120の支軸124、125を固定枠130の溝132、133に係合させ、さらに、支軸132、133の前面を押さえるようにして、板バネ141を固定枠130の前面に装着する。これにより、可動枠120が、回動可能に固定枠130に装着され、ミラーアクチュエータ100のアセンブルが完了する。
ミラーホルダ110が可動枠120に対し支軸111、112を軸として回動すると、これに伴ってミラー113が回動する。また、可動枠120が固定枠130に対し支軸124、125を軸として回動すると、これに伴ってミラーホルダ110が回動し、ミラーホルダ110と一体的にミラー113が回動する。このように、ミラーホルダ110は、互いに直交する支軸111、112と支軸124、125によって、2次元方向に回動可能に支持され、ミラーホルダ110の回動に伴って、ミラー113が2次元方向に回動する。このとき、支軸112に装着された透明体200も、ミラー113の回動に伴って回動する。
なお、同図(b)に示すアセンブル状態において、2つのマグネット134は、コイル114に電流を印加することにより、ミラーホルダ110に支軸111、112を軸とする回動力が生じるよう配置および極性が調整されている。したがって、コイル114に電流を印加すると、コイル114に生じる電磁駆動力によって、ミラーホルダ110が、支軸111、112を軸として回動し、これに伴って、透明体200が回動する。
また、同図(b)に示すアセンブル状態において、2つのマグネット135は、コイル126に電流を印加することにより、可動枠120に支軸124、125を軸とする回動力が生じるよう配置および極性が調整されている。したがって、コイル126に電流を印加すると、コイル126に生じる電磁駆動力によって、可動枠120が、支軸124、125を軸として回動し、これに伴って、透明体200が回動する。
図2は、ミラーアクチュエータ100が装着された状態の光学系の構成を示す図である。
図2において、500は、光学系を支持するベースである。ベース500には、ミラーアクチュエータ100の設置位置に開口(図2には図示せず)が形成され、この開口に透明体200が挿入されるようにして、ミラーアクチュエータ100がベース500上に装着されている。
ベース500の上面には、ミラー113にレーザ光を導くための光学系400が装着されている。この光学系400は、2つのミラー401、402と、ビーム整形用のレンズ403、404と、半導体レーザ(図2には図示せず)からなっている。
半導体レーザ(図示せず)から上向きに出射されたレーザ光は、ミラー401によって水平方向に反射された後、さらにミラー402によって、進行方向が水平方向に90度折り曲げられる。その後、レーザ光は、レンズ403、404によって、それぞれ、水平方向および鉛直方向の収束作用を受ける。なお、レンズ403、404は、目標領域(たとえば、ビーム照射装置のビーム出射口から前方150m程度の位置に設定される)におけるビーム形状が、所定の大きさ(たとえば、縦2m、横1m程度の大きさ)になるようレンズ面が設計されている。
レンズ403、404を透過したレーザ光は、ミラーアクチュエータ100のミラー113に入射し、ミラー113によって目標領域に向かって反射される。ミラーアクチュエータ100によってミラー113が2次元駆動されることにより、レーザ光が目標領域内において2次元方向にスキャンされる。
ミラーアクチュエータ100は、ミラー113が中立位置にあるときに、レンズ404からのレーザ光がミラー113のミラー面に対し水平方向において45度の入射角で入射するよう配置されている。なお、「中立位置」とは、ミラー面が鉛直方向に対し平行で、且つ、レーザ光がミラー面に対し水平方向において45度の入射角で入射するときのミラー113の位置をいう。
図3は、ベース500を裏面側から見たときの一部平面図である。図3には、ベース500の裏側のうちミラーアクチュエータ100が装着された位置近傍の部分が示されている。
図示の如く、ベース500の裏側周縁には、壁501、502が形成されており、壁501、502よりも中央側は、壁501、502よりも一段低い平面503となっている。壁501には、半導体レーザ303を装着するための開口が形成されている。この開口に半導体レーザ303を挿入するようにして、半導体レーザ303が装着された基板301が壁501の外側面に装着されている。
他方、壁502には、切欠き502aが形成されており、この切欠き502aにPSD306が収まるようにして、PSD306が装着された基板302が壁502の外側面に装着されている。
ベース500裏側の平面503には、取り付け具305によって集光レンズ304が装着されている。さらに、この平面503には開口503aが形成されており、この開口503aを介して、ミラーアクチュエータ100に装着された透明体200がベース500の裏側に突出している。ここで、透明体200は、ミラーアクチュエータ100のミラー113が中立位置にあるときに、2つの平面が、鉛直方向に平行で、且つ、半導体レーザ300の出射光軸に対し45度傾くように位置づけられる。
半導体レーザ303から出射されたレーザ光(以下、「サーボ光」という)は、集光レンズ304を透過した後、透明体200に入射され、同図(b)に示す如く、透明体200によって屈折作用を受ける。しかる後、透明体200を透過したサーボ光は、PSD306によって受光され、PSD306から、受光位置に応じた位置検出信号が出力される。
図4は、目標領域におけるレーザ光の走査状態と、PSD306上におけるサーボ光の走査状態を示す図である。
本実施の形態では、図4(a)に示すように、レーザ光が目標領域において水平にスキャンされる。また、水平方向の走査ラインは鉛直方向に5段設定されている。このため、目標領域中央(走査ライン3)から鉛直方向にずれた位置にある4つの走査ラインでは、同図(b)に示すように、レーザ光を、水平方向から所定角度(目標の走査ラインに応じた角度)だけ鉛直方向(+α方向または−α方向)に振った状態で、水平方向に走査させる必要がある。
ところが、本実施の形態に係るミラーアクチュエータでは、一方の軸(支軸124、125)を固定軸としてミラー113を鉛直方向に固定させた状態で、他方の軸(支軸111、112)を回動軸としてミラー113を水平方向に回動させると、目標領域におけるレーザ光の走査軌跡は図4(a)のように水平とはならず、水平から傾いた状態となる。このため、このミラーアクチュエータでは、各走査ラインに対するスキャン動作時に、スキャン軌跡が水平となるよう、ミラー113を、支軸111、112を回動軸として水平方向に回動させると同時に、支軸124、125を回動軸として鉛直方向に回動させる必要がある。
このとき、本実施の形態では、透明体200に入射する際のサーボ光の光軸が、ミラー113に入射する際のレーザ光の光軸に対して垂直となっているため、図4(c)に示す如く、PSD306上におけるサーボ光の各走査軌跡が互いに略平行な状態となる。なお、同図(c)に図示された5本の点線矢印は、同図(a)の各走査ラインに対応するサーボ光の走査軌跡を表している。このため、これら走査軌跡が互いに平行であると近似して処理を行った場合にも、ミラー回動位置の検出を適正に行うことができる。
<検証1>
以下、この効果の検証結果(シミュレーション)について説明する。
以下、この効果の検証結果(シミュレーション)について説明する。
図5(a)は、実施例における光学系を示す図、図5(b)は、比較例における光学系を示す図である。図において、405は、目標領域に照射されるレーザ光を出射する半導体レーザである。その他の付番の構成部材は、上記実施の形態にて用いた付番の構成部材と同じである。
なお、ここでは、ミラー113の直下位置に透明体200が配置されている。ミラー113と透明体200は、実施例においても比較例においても、共に、中立位置においてレーザ光とサーボ光が入射面に45度の傾きをもって入射するよう配置されている。また、同図(a)の実施例では、上記実施の形態と同様、透明体200に入射する際のサーボ光の光軸とミラー113に入射する際のレーザ光の光軸が互いに垂直となっている。これに対し、同図(b)の比較例では、Z軸方向からサーボ光が透明体200に入射され、透明体200に入射する際のサーボ光の光軸とミラー113に入射する際のレーザ光の光軸が互いに平行となっている。
その他のシミュレーション条件は、以下のとおりである。
a.サーボ光の波長:650nm
b.透明体の屈折率:1.5
c.透明体の厚み :3mm
b.透明体の屈折率:1.5
c.透明体の厚み :3mm
この条件により、レーザ光を、図4(a)の各走査ラインにおいて、走査ラインの中点から±22.5度の範囲で水平方向に走査させたとして、PSD306上におけるサーボ光の走査軌跡をシミュレーションにより求めた。ここで、中央にある走査ライン3ではレーザ光の光軸が水平であるとし、走査ライン2と走査ライン4では、それぞれ、レーザ光の光軸が水平から図4(b)の+α方向と−α方向に2.5度ずつ傾いているとし、また、走査ライン1と走査ライン5では、それぞれ、レーザ光の光軸が水平から図4(b)の+α方向と−α方向に5度ずつ傾いているとした。
図6は、実施例に対するシミュレーション結果を示す図、図7は、比較例に対するシミュレーション結果を示す図である。図中、“5”、“2.5”、“0”、“−2.5”、“−5”と示された線図は、それぞれ、レーザ光が目標領域において鉛直方向に“5度”、“2.5度”、“0度”、“−2.5度”、“−5度”だけ振られた状態で水平方向に走査されたときのPSD306上におけるサーボ光の走査軌跡を示している。すなわち、“5”、“2.5”、“0”、“−2.5”、“−5”と示された線図は、それぞれ、レーザ光が、図4(a)の走査ライン1、走査ライン2、走査ライン3、走査ライン4、走査ライン5を走査したときのPSD306上におけるサーボ光の走査軌跡を示している。
まず、図7を参照すると、比較例では、PSD306上におけるサーボ光の各走査軌跡が互いに平行とはならず、目標領域上の走査ラインが中央の走査ライン3から鉛直方向に離れるにしたがって、PSD306上におけるサーボ光の走査軌跡の傾きが大きくなることが分かる。
これに対し、実施例では、図6に示す如く、PSD306上におけるサーボ光の各走査軌跡が互いに略平行となっており、目標領域上の走査ラインが中央の走査ライン3から鉛直方向に離れても、PSD306上におけるサーボ光の走査軌跡がさほど傾くことはないことが分かる。
かかるシミュレーション結果から、透明体200に入射する際のサーボ光の光軸を、ミラー113に入射する際のレーザ光の光軸に対して垂直とすることにより、PSD306上におけるサーボ光の各走査軌跡を互いに略平行とすることができることが確認された。
よって、上記本実施の形態のように、透明体200に入射する際のサーボ光の光軸を、ミラー113に入射する際のレーザ光の光軸に対して垂直となるよう光学系を構成すれば、PSD306上におけるサーボ光の各走査軌跡を互いに略平行な状態とすることができる。したがって、本実施の形態によれば、これら走査軌跡が互いに平行であると近似して処理を行っても、ミラーの回動位置を適正に検出することができる。よって、簡素な処理にて適正に、ミラーの回動位置ないし目標領域におけるレーザ光のスキャン位置を検出することができる。
なお、上記実施の形態では、ミラー113と透明体200を互いに平行となるように配置したが、図8に示すように、半導体レーザ303、集光レンズ304、透明体200およびPSD306からなるサーボ用の光学系を、これら光学部品の位置関係を保ちながら、ミラー113に対し傾くようにX−Z平面方向に回転させて配置しても、上記と同様の効果が得られる。同図(a)および(b)は、それぞれ、サーボ用の光学系を反時計方向および時計方向に回転させた場合の配置例である。
<検証2>
ところで、上記実施の形態では、透明体200が中立位置にあるときのサーボ光の光軸と透明体200の入射面の間の角度を45度としたが、この角度を変化させると、それに応じて、PSD306上におけるサーボ光の走査軌跡に変化が起こり得る。
ところで、上記実施の形態では、透明体200が中立位置にあるときのサーボ光の光軸と透明体200の入射面の間の角度を45度としたが、この角度を変化させると、それに応じて、PSD306上におけるサーボ光の走査軌跡に変化が起こり得る。
そこで、発明者らは、上記図5(a)と同様の条件にて、図9に示す如く、透明体200を初期位置(ミラー113と平行な位置)からX−Z平面の面内方向に回転させ、各回転位置において、PSD306上におけるサーボ光の走査軌跡がどのように変化するかをシミュレーションにより求めた。以下に、これについて説明する。
図10は、図9における角度θを変化させたときのPSD306上におけるサーボ光の走査軌跡を示す図である。ここで、角度θは、図9のおける時計方向をプラス、反時計方向をマイナスとされている。また、各角度における走査軌跡は、図4における角度αを+5度としたときのもの、すなわち、走査ライン1を走査したときのものである。その他のシミュレーション条件は、図5(a)の場合(検証1)と同じである。
図10を参照すると、透明体200がミラー113に平行な状態(図中、θ=0度の線図)から透明体200を図9の時計方向に回転させると、PSD306上におけるサーボ光の傾きが徐々に大きくなり、逆に、透明体200を図9の時計方向に回転させると、PSD306上におけるサーボ光の傾きが初期位置の場合に比べ小さくなっていることが分かる。したがって、この検証結果から、各走査ラインに対応するサーボ光の走査軌跡をより平行に近付けるには、透明体200を、ミラー113に平行な状態から図9の反時計方向に回転させ、サーボ光と透明体200の間の角度を45度よりも小さくするのが有利であることが分かる。
図11は、PSD306上のサーボ光の軌跡におけるY方向の変位量を、図9に示す角度θを変化させて求めたものである。ここで、変位量(縦軸)は、
変位量=(Y方向位置の最大値−Y方向位置の最小値)/Y方向位置の最小値
により求めた(百分率にて算出)。横軸は、図9における角度θであり、上記と同様、時計方向をプラスとしている。また、各角度における変位量は、図10の場合と同様、図4における角度αを+5度としたときのもの、すなわち、走査ライン1を走査したときのものである。
変位量=(Y方向位置の最大値−Y方向位置の最小値)/Y方向位置の最小値
により求めた(百分率にて算出)。横軸は、図9における角度θであり、上記と同様、時計方向をプラスとしている。また、各角度における変位量は、図10の場合と同様、図4における角度αを+5度としたときのもの、すなわち、走査ライン1を走査したときのものである。
同図を参照すると、角度θを大きくするにつれて変位量が大きくなっており、したがって、PSD306上におけるサーボ光の走査軌跡の傾きが大きくなっていることが分かる。この点は、上記図10における検証と一致する。
これに対し、角度θを小さくすると、−15度を過ぎるあたりまでは変位量が徐々に低下するが、そこを超えると、逆に、変位量が徐々に増加し、角度θが−45となると、変位量は、初期状態(θ=0)と略同じになることが分かる。したがって、各走査ラインに対応するサーボ光の走査軌跡を最も平行に近づけるには、図9におけるθが−18度程度となるように透明体200を配置するのが好ましいと言える。
以上の検証を総括すると、以下の事項が導かれる。
(1) 図6と図7の検証結果(検証1)から、透明体200とミラー113が平行である場合には、透明体200に入射する際のサーボ光の光軸とミラー113に入射する際のレーザ光の光軸が垂直となっているとサーボ光の走査軌跡を平行化できる。ただし、図8に示すように半導体レーザ303、集光レンズ304、透明体200およびPSD306からなるサーボ用の光学系を、これら光学部品の位置関係を保ちながら、ミラー113に対し傾くようにX−Z平面方向に回転させて配置しても同様の効果が得られる。
結局のところ、この効果は、図12(a)および(c)に示すように、ミラー113に入射する際のレーザ光の光軸からミラー113の入射面を臨む角度方向A1と、透明体200に入射する際のサーボ光の光軸から透明体200の入射面を臨む角度方向A2とが互いに相反するように、レーザ光とサーボ光をそれぞれミラー113と透明体200に入射させることにより奏される。
すなわち、図12(b)および(d)のように、レーザ光の光軸からミラー113の入射面を臨む角度方向A1と、サーボ光の光軸から透明体200の入射面を臨む角度方向A2とが互いに同じ方向(ここでは、半時計方向)となるように、レーザ光とサーボ光をそれぞれミラー113と透明体200に入射させると、検証1における比較例と同様、図7に示すように、サーボ光の走査軌跡が互いに平行とはならない。
よって、サーボ光の走査軌跡を平行化するには、図12(a)および(c)に示すように、角度方向A1(反時計方向)と角度方向A2(時計方向)とを互いに相反させるのが好ましい。
(2) 図10および図11の検証結果(検証2)から、サーボ光の走査軌跡をさらに平行化するには、ミラー113(透明体200)が中立位置にあるときに、透明体200の入射面に対して光軸が45度以下の傾きを有するようにして、サーボ光を透明体200に入射させるのが好ましい。
(3) 図11の検証結果(検証2)から、サーボ光の走査軌跡を最も平行化するには、ミラー113(透明体200)が中立位置にあるときに、透明体200の入射面に対して光軸が20度前後の傾きを有するようにして、サーボ光を透明体200に入射させると良い。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は、上記実施の形態によって何ら制限されるものではなく、また、本発明の実施形態も上記の他に種々の変更が可能である。
たとえば、上記実施の形態では、サーボ光用の光源として半導体レーザを用いたが、これに替えて、LED(Light Emitting Diode)を用いることもできる。また、上記実施の形態では、サーボ光を受光する光検出器としてPSDを用いたが、光検出器として4分割センサ310を用いることもできる。
この他、本発明の実施の形態は、特許請求の範囲に示された技術的思想の範囲内において、適宜、種々の変更が可能である。
100 ミラーアクチュエータ
110 ミラーホルダ
111 支軸
112 支軸
113 ミラー
120 可動枠
124 支軸
125 支軸
130 固定枠
200 透明体
303 半導体レーザ
306 PSD
110 ミラーホルダ
111 支軸
112 支軸
113 ミラー
120 可動枠
124 支軸
125 支軸
130 固定枠
200 透明体
303 半導体レーザ
306 PSD
Claims (5)
- 目標領域においてレーザ光を走査させるビーム照射装置において、
前記レーザ光を出射するレーザ光源と、
前記レーザ光源から出射されたレーザ光が入射されるミラーと、
前記ミラーを第1の軸と当該第1の軸に垂直な第2の軸を回動軸としてそれぞれ第1の方向および第2の方向に回動させるアクチュエータと、
前記アクチュエータに配され前記ミラーの回動に伴って前記第1の方向および第2の方向に回動する光屈折素子と、
前記光屈折素子にサーボ光を照射するサーボ光源と、
前記光屈折素子によって屈折された前記サーボ光を受光してその受光位置に応じた信号を出力する光検出器とを備え、
前記ミラーに入射する際の前記レーザ光の光軸から前記ミラーの入射面を臨む角度方向と、前記光屈折素子に入射する際の前記サーボ光の光軸から前記光屈折素子の入射面を臨む角度方向とが互いに相反するように、前記レーザ光と前記サーボ光が前記ミラーと前記光屈折素子に入射される、
ことを特徴とするビーム照射装置。 - 請求項1において、
前記光屈折素子は、前記サーボ光の入射面と出射面が互いに平行な透明体からなっている、
ことを特徴とするビーム照射装置。 - 請求項1または2において、
前記サーボ光は、前記ミラーが中立位置にあるときに、前記第1の軸に垂直で、且つ、前記光屈折素子の前記入射面に対して光軸が45度以下の傾きを有するようにして前記光屈折素子に入射する、
ことを特徴とするビーム照射装置。 - 請求項3において、
前記サーボ光は、前記目標領域において前記レーザ光を水平に走査したときの各走査ラインに対応する前記光検出器上における走査軌跡が最も平行に近づく角度にて、前記光屈折素子の入射面に入射する、
ことを特徴とするビーム照射装置。 - 請求項1ないし4の何れか一項において、
前記レーザ光は、前記ミラーが中立位置にあるときに、前記ミラーの前記入射面に対して光軸が45度の傾きを有するようにして前記ミラーに入射する、
ことを特徴とするビーム照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008231572A JP2009098129A (ja) | 2007-09-25 | 2008-09-09 | ビーム照射装置 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007247231 | 2007-09-25 | ||
| JP2008231572A JP2009098129A (ja) | 2007-09-25 | 2008-09-09 | ビーム照射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009098129A true JP2009098129A (ja) | 2009-05-07 |
Family
ID=40701261
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008231572A Withdrawn JP2009098129A (ja) | 2007-09-25 | 2008-09-09 | ビーム照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2009098129A (ja) |
-
2008
- 2008-09-09 JP JP2008231572A patent/JP2009098129A/ja not_active Withdrawn
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| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20120926 |