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JP2009090601A - Recording layer for optical information recording medium, optical information recording medium, and sputtering target - Google Patents

Recording layer for optical information recording medium, optical information recording medium, and sputtering target Download PDF

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JP2009090601A
JP2009090601A JP2007265713A JP2007265713A JP2009090601A JP 2009090601 A JP2009090601 A JP 2009090601A JP 2007265713 A JP2007265713 A JP 2007265713A JP 2007265713 A JP2007265713 A JP 2007265713A JP 2009090601 A JP2009090601 A JP 2009090601A
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recording medium
information recording
atomic
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JP2007265713A
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Hideo Fujii
秀夫 藤井
Hironori Kakiuchi
宏憲 柿内
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Kobe Steel Ltd
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Kobe Steel Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a recording layer for an optical information recording medium (a recording film) having such characteristics that reflectivity (initial reflectivity) is high, an initial jitter value is low and remarkably increases (deteriorates) by continuous reproduction to become nonreproductive in a limited time, and to provide an optical recording medium having the recording layer, and a sputtering target for forming the recording layer of the optical information recording medium. <P>SOLUTION: This invention relates to the recording layer for a recordable optical information recording medium using laser beams, wherein the recording layer consists of an In-Co-Bi alloy comprising In of ≥30 atom%, Co of 30 to 50 atom% and Bi of >19 to 45 atom%. Further the optical information recording medium having the recording layer and the sputtering target for forming the recording layer are also provided. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、レーザー光、特に青色レーザーを用いた追記型光情報記録媒体用の記録層と該記録層を備えてなる光情報記録媒体、該記録層形成用スパッタリングターゲットに関するものである。   The present invention relates to a recording layer for a write once optical information recording medium using a laser beam, particularly a blue laser, an optical information recording medium comprising the recording layer, and a sputtering target for forming the recording layer.

青色レーザーを用いた追記型光情報記録媒体(光ディスク)において、大別して有機色素材料と無機材料薄膜が、記録層として検討されている。有機色素は、CD−RやDVD−Rなど赤色レーザーを使用する既存光ディスクにおいて実績があるものの、青色レーザーで記録出来る有機色素は、耐光性の面で問題があることから、特にBD−Rにおいては、無機材料薄膜が主に検討されている。   In write-once optical information recording media (optical disks) using a blue laser, organic dye materials and inorganic material thin films have been studied as recording layers. Although organic dyes have a track record in existing optical disks using a red laser such as CD-R and DVD-R, organic dyes that can be recorded with a blue laser have a problem in terms of light resistance. Inorganic material thin films are mainly studied.

記録方式としては、レーザー照射によって、無機材料薄膜が、1)相変化する方式、2)孔を開ける方式、3)層間反応する方式、などが知られている。   As recording methods, there are known a method in which an inorganic material thin film undergoes a phase change by laser irradiation, 1) a method in which holes are formed, 3) a method in which an interlayer reaction occurs, and the like.

相変化する方式としては、記録膜として酸化物や窒化物が検討され、例えば、特許文献1では、Te−O−M(Mは金属元素、半金属元素及び半導体元素から選ばれる少なくとも1種の元素)が提案されている。   As a method of phase change, an oxide or a nitride is considered as a recording film. For example, in Patent Document 1, Te-OM (where M is at least one selected from a metal element, a metalloid element, and a semiconductor element). Element) has been proposed.

次に、孔を開ける方式としては、記録膜として、低融点金属材料が検討され、例えば、特許文献2では、Sn合金に3B族、4B族、5B族を添加した合金、特許文献3では、A(=Si、 Sn)−M(=Al、 Ag、 Au、 Zn、 Ti、 Ni、 Cu、 Co、 Ta、 Fe、W, Cr、 V、 Ga、 Pb、 Mo、 In、Te)合金[但しMの比率は0.02−0.8(原子比)]などがそれぞれ提案されている。   Next, as a method for opening a hole, a low melting point metal material is studied as a recording film. For example, in Patent Document 2, an alloy obtained by adding a 3B group, a 4B group, and a 5B group to an Sn alloy, and in Patent Document 3, A (= Si, Sn) -M (= Al, Ag, Au, Zn, Ti, Ni, Cu, Co, Ta, Fe, W, Cr, V, Ga, Pb, Mo, In, Te) alloy [However, The ratio of M is 0.02-0.8 (atomic ratio)].

また、層間反応する方式としては、例えば、特許文献4では、第一記録層In−O−(Ni、Mn、Mo)、第二記録層Se and/or Te−O−(Ti、Pd、Zr)、特許文献5では、第一記録層In主成分とする金属、第二記録層5Bもしくは6B含む酸化物以外の金属あるいは半金属などがそれぞれ提案されている。   Also, as a method of interlayer reaction, for example, in Patent Document 4, the first recording layer In—O— (Ni, Mn, Mo), the second recording layer Se and / or Te—O— (Ti, Pd, Zr) ), Patent Document 5 proposes a metal as a main component of the first recording layer In, a metal other than an oxide including the second recording layer 5B or 6B, or a semimetal.

酸化物を記録膜として用いた場合、記録膜単独での反射率が低く、光ディスク状態での反射率を高めるため反射膜が必要となり、かつ変調度を増加させるために記録膜上下にZnS-SiO2などの誘電体膜を設ける必要があり、光ディスクを構成する膜総数が多くなってしまう。また、層間反応する方式では記録層自体が複数の薄膜で形成されることから、膜総数が多くなってしまう問題が残る。   When an oxide is used as the recording film, the reflectance of the recording film alone is low, a reflecting film is required to increase the reflectance in the optical disk state, and ZnS-SiO2 is formed above and below the recording film to increase the modulation degree. Therefore, the total number of films constituting the optical disk increases. Further, in the method of interlayer reaction, since the recording layer itself is formed of a plurality of thin films, there remains a problem that the total number of films increases.

ところで、低融点金属薄膜に孔を開ける方式は、記録膜単独での反射率が高く、かつ、孔開けによって変調度も大きく取れることから、光ディスクを構成する膜総数を少なくする観点からは、有利な方式である。但し、一般的に金属薄膜は、酸化物や窒化物に比べ、高温高湿下での耐久性に劣るため、合金化によって各種改善が検討されているが、合金化によって反射率は低下し、光ディスク特性も変化することから、各種特性のバランス取りが問題となる。   By the way, the method of drilling holes in the low melting point metal thin film is advantageous from the viewpoint of reducing the total number of films constituting the optical disk because the recording film alone has a high reflectivity and the modulation degree can be increased by drilling. It is a simple method. However, in general, metal thin films are inferior in durability under high temperature and high humidity compared to oxides and nitrides, so various improvements have been studied by alloying, but the reflectivity decreases due to alloying, Since optical disk characteristics also change, balancing various characteristics becomes a problem.

そこで、本発明者らはこうした従来の問題に鑑み、反射率(初期反射率)が高く且つ低ジッター値を有する光情報記録媒体用記録層(記録膜)を提供すべく検討を行った結果、これらの特性を有利に達成する金属材料としてIn−(Ni,Co)−(Si,Bi)系の開発に成功した。   Therefore, in view of these conventional problems, the present inventors have studied to provide a recording layer (recording film) for an optical information recording medium having a high reflectance (initial reflectance) and a low jitter value. In- (Ni, Co)-(Si, Bi) system has been successfully developed as a metal material that advantageously achieves these characteristics.

一方、最近、著作権保護といった新たな観点から、48DVDのように48時間でドライブによる再生が不可になる再生専用DVDの検討がなされ、一部商品化もなされつつある。しかしながら、特殊な樹脂をグラインダーで除去することにより、通常通り、再生可能となるなどの問題があり、一般にはなかなか普及していないのが実情である。
発明者らはこうした新たな課題をも視野に入れて、上記金属系についてさらに開発を進めたところ、これらのうち特にIn−Co−Bi系においてその組成域により初期のジッター値が低いものの有限時間での連続再生により劣化するものと劣化せずに低ジッター値のまま変化しないものがあることが分かった。
特許第3638152号公報 特開2002−225433号公報 米国特許公開2004/0241376号明細書 特開2003−326848公報 特許第3499724号公報
On the other hand, recently, from a new viewpoint such as copyright protection, a read-only DVD that cannot be played back by a drive in 48 hours, such as 48 DVD, has been studied, and a part of the product is being commercialized. However, there is a problem that by removing special resin with a grinder, it becomes possible to regenerate as usual, and in general, it is not so popular.
The inventors have further developed the above metal system in view of these new problems, and among them, particularly in the In-Co-Bi system, the initial jitter value is low due to its composition range, but the finite time. It has been found that there are some that deteriorate due to continuous reproduction with the others and others that do not deteriorate and remain low jitter values.
Japanese Patent No. 3638152 JP 2002-225433 A US Patent Publication No. 2004/0241376 JP 2003-326848 A Japanese Patent No. 3499724

本発明は、上記知見に基づいてなされたものであり、反射率(初期反射率)が高く、しかも初期のジッター値は低く且つ連続再生によりこれが著しく増加(劣化)し、有限時間で再生不能となる特性を備えた光情報記録媒体用記録層(記録膜)、該記録層を備えた光記録媒体及び該光情報記録媒体の記録層形成用スパッタリングターゲットを提供することをその課題としてなされたものである。   The present invention has been made on the basis of the above knowledge, and has a high reflectance (initial reflectance), an initial jitter value is low, and this is remarkably increased (deteriorated) by continuous reproduction, and cannot be reproduced in a finite time. An object of the present invention is to provide a recording layer (recording film) for an optical information recording medium having the above characteristics, an optical recording medium having the recording layer, and a sputtering target for forming a recording layer of the optical information recording medium. It is.

すなわち、請求項1係る発明は、レーザー光を用いた追記型光情報記録媒体用記録層であって、Inを30原子%以上、かつCoを30原子%以上50原子%以下、かつ、Biを19原子%超え〜45原子%以下含有するIn-Co-Bi合金からなることを特徴とする記録層である。   That is, the invention according to claim 1 is a recording layer for a write-once optical information recording medium using laser light, wherein In is 30 atomic% or more, Co is 30 atomic% or more and 50 atomic% or less, and Bi is used. The recording layer is made of an In—Co—Bi alloy containing more than 19 atomic% and not more than 45 atomic%.

また、請求項2に係る発明は、前記請求項1に記載の記録層を備えてなることを特徴とする光情報記録媒体である。   According to a second aspect of the present invention, there is provided an optical information recording medium comprising the recording layer according to the first aspect.

さらに、請求項3に係る発明は、レーザー光を用いた追記型光情報記録媒体用記録層形成用スパッタリングターゲットであって、Inを30原子%以上、かつCoを30原子%以上50原子%以下、かつ、Biを19原子%超え〜45原子%以下含有するIn-Co-Bi合金からなることを特徴とするスパッタリングターゲットである。   Furthermore, the invention according to claim 3 is a sputtering target for forming a recording layer for write-once type optical information recording media using laser light, wherein In is 30 atomic% or more and Co is 30 atomic% or more and 50 atomic% or less. And a sputtering target comprising an In—Co—Bi alloy containing more than 19 atomic% and not more than 45 atomic% of Bi.

本発明によれば、反射率(初期反射率)が高く、しかも初期のジッター値は低く且つ連続再生にともなってこの値が顕著に増加し、有限時間で再生不能となる優れた特性を備えた光情報記録媒体用記録層(記録膜)並びに該記録層を備えた光記録媒体を提供することができる。また、本発明によれば、上記優れた特性を有する記録層及び光情報記録媒体の作製に有効なスパッタリングターゲットを提供することができる。   According to the present invention, the reflectivity (initial reflectivity) is high, the initial jitter value is low, and this value increases remarkably with continuous reproduction, and has excellent characteristics that the reproduction is impossible in a finite time. An optical information recording medium recording layer (recording film) and an optical recording medium including the recording layer can be provided. Moreover, according to this invention, the sputtering target effective in preparation of the recording layer and optical information recording medium which have the said outstanding characteristic can be provided.

図1は本発明の典型的な実施形態(及び後述の実施例)に係る光ディスクの模式構造を表した断面図である。ここにおいて、1は基板、2は記録層および3は光透過層を示している。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing a schematic structure of an optical disc according to a typical embodiment (and an example described later) of the present invention. Here, 1 is a substrate, 2 is a recording layer, and 3 is a light transmission layer.

以下、本発明の上記記録層2において、主成分(基金属)としてInを選定した理由、またこのInにCo及びBiを特定の割合(組成範囲)含有させたIn−Co−Bi合金を用いる理由についてその成分範囲の規定を含めて述べる。   Hereinafter, in the recording layer 2 of the present invention, the reason why In is selected as the main component (base metal), and an In—Co—Bi alloy in which Co and Bi are included in a specific ratio (composition range) are used. The reason is described including the definition of the component range.

まず、Inを主成分として30原子%以上含有させるのは、Inが、従来用いられている例えばAl、Ag、Cuなどの他の金属に比べて融点が格段に低い(融点:約156.6℃)ため、In合金の薄膜が容易に溶融、変形し、低いレーザーパワーでも容易に優れた記録特性を発揮することができるからである。また、特に、青色レーザーを使用する次世代型光ディスクへの適用を考えた場合には、Al基合金などでは記録マークの形成が困難となる恐れがあるが、In基合金ではこの様な心配は全くないからである。上記記録特性をさらに十分に発揮させるにはInの含有量は50原子%以上とすることが好ましい。   First, the content of In at 30 atomic% or more with In as the main component is that In has a remarkably lower melting point than other metals such as Al, Ag, and Cu that are conventionally used (melting point: about 156.6). Therefore, the In alloy thin film is easily melted and deformed, and excellent recording characteristics can be easily exhibited even with a low laser power. In particular, when considering application to a next-generation optical disk using a blue laser, it may be difficult to form a recording mark with an Al-based alloy or the like. Because there is no. In order to exhibit the recording characteristics more sufficiently, the In content is preferably 50 atomic% or more.

次に、本発明において、Co30原子%以上含有させることによって、高反射率を維持しながら、8T信号の高C/Nが実現できる。なお、この詳細なメカニズムは明確ではないが、これによって、超表面平滑性、微細組織、表面張力調整が同時に実現されるものと推定される。   Next, in the present invention, by containing 30 atomic% or more of Co, high C / N of 8T signal can be realized while maintaining high reflectivity. Although this detailed mechanism is not clear, it is presumed that super surface smoothness, fine structure, and surface tension adjustment are realized at the same time.

Coの含有量が30原子%未満では、記録膜の超表面平滑性が実現出来なくなるためメディアノイズが高くなってしまうことから高C/Nが得られないし、また、初期のジッター値が低く且つ連続再生により増加(劣化)する特性を付与することができない。一方、Coを多量に含有させると、Inの低融点の特徴を大きく損ない、記録感度が劣化(高C/Nを得るための記録レーザーパワーが増大)するため50%をその上限とする。   If the Co content is less than 30 atomic%, the super-surface smoothness of the recording film cannot be realized and the media noise becomes high, so a high C / N cannot be obtained, and the initial jitter value is low. The characteristic of increasing (deteriorating) due to continuous reproduction cannot be imparted. On the other hand, when Co is contained in a large amount, the low melting point characteristic of In is greatly impaired, and the recording sensitivity is deteriorated (the recording laser power for obtaining high C / N is increased).

さらに、上記のようにInを30原子%以上及びCoを30原子%以上50原子%以下含有させた上でBiを19原子%超45原子%以下含有させることによりジッター値の初期値を低く維持することができるとともに連続再生によりジッター値が大きく増加し、再生時間が有限となる特性を有した記録膜を得ることができる。   Furthermore, as described above, the initial jitter value is kept low by containing 30 atomic% or more and Co 30 atomic% or more and 50 atomic% or less and Bi containing 19 atomic% or more and 45 atomic% or less. In addition, it is possible to obtain a recording film having characteristics that the jitter value is greatly increased by continuous reproduction and the reproduction time is finite.

本発明の記録層の膜厚は、記録層上下に金属、半金属、誘電体などの他の層を挿入することによって最適値は変動するが、記録層単層で使用する場合は、8〜25nm、さらに好ましくは、10〜20nmが好ましい。   The film thickness of the recording layer of the present invention varies optimally by inserting other layers such as metal, semi-metal, dielectric, etc. above and below the recording layer. 25 nm, more preferably 10 to 20 nm is preferable.

上記In−Co−Bi合金からなる記録層は、光ディスク面内での膜厚分布を均一に制御しやすい点から、スパッタリング法によって形成するのがよい。   The recording layer made of the In—Co—Bi alloy is preferably formed by a sputtering method from the viewpoint that the film thickness distribution within the optical disk surface can be easily controlled.

本発明に係る上記記録層を形成するために用いるスパッタリングターゲットの組成は、上述した記録層の合金組成と基本的に同一であり、先にIn合金として記載した合金組成に調整することで、所望の成分組成を容易に実現できる。   The composition of the sputtering target used to form the recording layer according to the present invention is basically the same as the alloy composition of the recording layer described above, and can be adjusted to the alloy composition described above as an In alloy. The component composition can be easily realized.

なお、スパッタリングターゲットは、真空溶解法などによって製造されるが、その製造に当たっては、雰囲気中のガス成分(窒素、酸素など)や溶解炉成分が微量ながら不純物としてスパッタリングターゲット中に混入することがある。しかし、本発明の記録層やスパッタリングターゲットの成分組成は、それら不可避に混入してくる微量成分まで規定するものではなく、本発明の上記特性が阻害されない限り、それら不可避不純物の微量混入は許容される。   Note that the sputtering target is manufactured by a vacuum melting method or the like. In manufacturing the sputtering target, gas components (nitrogen, oxygen, etc.) and melting furnace components in the atmosphere may be mixed in the sputtering target as impurities even though they are in trace amounts. . However, the component composition of the recording layer and the sputtering target of the present invention does not stipulate even the trace components that are inevitably mixed, and as long as the above characteristics of the present invention are not hindered, these traces of unavoidable impurities are allowed. The

(実施例)
以下では、本発明の実施例および比較例について説明する。なお、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に含まれる。
(Example)
Hereinafter, examples and comparative examples of the present invention will be described. The present invention is not limited to this embodiment, and can be implemented with appropriate modifications within a range that can be adapted to the gist of the present invention, all of which are within the technical scope of the present invention. include.

1)光ディスクの作製方法
図1に示すディスク基板1として、ポリカーボネート基板(厚さ:1.1mm、トラックピッチ:0.32μm、溝幅0.16μm、溝深さ:25nm)を用い、その表面にDCスパッタリング法によって所望の金属薄膜(各種In合金)を成膜した。スパッタリングターゲットとしては、純Inターゲットに合金元素の金属チップを置き、成膜した。
1) Manufacturing method of optical disk A polycarbonate substrate (thickness: 1.1 mm, track pitch: 0.32 μm, groove width 0.16 μm, groove depth: 25 nm) is used as the disk substrate 1 shown in FIG. Desired metal thin films (various In alloys) were formed by sputtering. As a sputtering target, a metal chip of an alloy element was placed on a pure In target to form a film.

記録層2形成のためのスパッタリング条件は、到達真空度:105Torr以下(1Torr=133.3Pa)、スパッタガス総圧:3mTorr、DCスパッタパワー:100Wに設定した。 The sputtering conditions for the recording layer 2 formed, ultimate vacuum: 10 - 5 Torr or less (1 Torr = 133.3 Pa), sputtering gas total pressure: 3 mTorr, DC sputtering power were set to 100W.

表1は本発明の実施例(本発明例)および比較例の記録層サンプルの組成などの諸元を示したものである。なお、未記録状態の反射率レベル(SUM2信号が300mV前後)を膜厚調整(12〜14nm)で一定レベルにした。   Table 1 shows the specifications of the recording layer samples of the examples of the present invention (invention examples) and comparative examples. The reflectance level in the unrecorded state (SUM2 signal is around 300 mV) was made constant by adjusting the film thickness (12 to 14 nm).

次いで、その上に、紫外線硬化樹脂(日本化薬社製「BRD−130」(商品名)をスピンコートした後、紫外線硬化させて膜厚10015±μmの光透過層3を形成した。   Subsequently, an ultraviolet curable resin (“BRD-130” (trade name) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was spin-coated thereon, followed by ultraviolet curing to form a light transmission layer 3 having a film thickness of 10015 ± μm.

2)光ディスクの評価法
光ディスク評価装置(パルステック工業社製「ODU−1000」(商品名)、記録レーザ波長:405nm、NA(開口数):0.85)を使用し、BD−Rの規格に準拠した範囲の最適記録ストラテジーで3トラック連続記録を行ったのち、再生レーザパワー0.3mWで連続再生した時のジッター値の変化挙動を評価した。ここで言うジッター値とは記録した信号マークエッジ位置の不確定さの指標であり、エッジの立ち上がり/立ち下がり位置の分布を求め、それを正規分布とした場合の分散(σ)に相当する値である。なお、In−Co−Bi3元系は、全て同一の記録ストラテジーを用いた。
2) Optical disk evaluation method Using an optical disk evaluation apparatus ("ODU-1000" (trade name) manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd., recording laser wavelength: 405 nm, NA (numerical aperture): 0.85), BD-R standard After performing three-track continuous recording with an optimum recording strategy in a range compliant with the above, the change behavior of the jitter value when continuously reproduced with a reproduction laser power of 0.3 mW was evaluated. The jitter value here is an index of the uncertainty of the recorded signal mark edge position, and is a value corresponding to the variance (σ) when the distribution of the rising / falling position of the edge is obtained and set as a normal distribution. It is. All In-Co-Bi ternary systems used the same recording strategy.

3)評価結果
図2は、それぞれの光記録媒体における連続再生時間とジッター値との関係を示したものである。
同図2に示すように、比較例1〜4の5分連続再生後のジッター値はいずれも初期値とほとんど変化がない。これは、比較例4はBiを含有していないものであり、また、比較例1〜3はIn−Co−Biの3元系であるものの、比較例1及び2の場合はBiの含有量が本発明の規定範囲より少なく、比較例3の場合はCoの含有量が本発明の規定範囲により少ないことが原因していると考えられる。
これに対して、規定範囲を満足する組成を有した本発明例では初期の9.3%から再生時間増加に伴い、ジッター値は急激に増大し(再生時間1分で11.3%、2分で15.5%)、やがて飽和傾向を示していることが分かる。
3) Evaluation Results FIG. 2 shows the relationship between the continuous reproduction time and the jitter value in each optical recording medium.
As shown in FIG. 2, the jitter values after 5 minutes of continuous reproduction in Comparative Examples 1 to 4 are almost the same as the initial values. This is because Comparative Example 4 does not contain Bi, and Comparative Examples 1 to 3 are In-Co-Bi ternary systems, but Comparative Examples 1 and 2 contain Bi. Is less than the specified range of the present invention, and in the case of Comparative Example 3, it is considered that the Co content is less than the specified range of the present invention.
On the other hand, in the example of the present invention having a composition satisfying the specified range, the jitter value increased rapidly from the initial 9.3% as the reproduction time increased (11.3% at the reproduction time of 1 minute, 2 minutes at the time of 2 minutes). 15.5%), it turns out that it shows a tendency to saturation over time.

従って、本発明に係る記録層を備えた光情報記録媒体は、表1より未記録状態反射率レベル(SUM2)が280mV以上の高レベルを有しており、そして図2から、記録再生に当たっては初期のジッター値が低いともに、連続再生時間の増加に伴ってジッター値が大幅に増大、変化する性質をも兼備していること知れ、記録特性に優れた上に有限時間で再生不能となる特異な特性を発揮するものであり、著作権の保護にも有利な光情報記録媒体として活用することができるものである。   Therefore, the optical information recording medium provided with the recording layer according to the present invention has an unrecorded state reflectance level (SUM2) of 280 mV or higher as shown in Table 1, and from FIG. The initial jitter value is low, and it is known that the jitter value greatly increases and changes as the continuous playback time increases. Therefore, it can be used as an optical information recording medium that is advantageous for copyright protection.

本発明の実施形態(及び実施例)に係る光ディスクの模式構造を表した断面図である。It is sectional drawing showing the schematic structure of the optical disk which concerns on embodiment (and Example) of this invention. 光記録媒体における連続再生時間とジッター値との関係を示したグラフである。5 is a graph showing the relationship between continuous reproduction time and jitter value in an optical recording medium.

符号の説明Explanation of symbols

1:基板 2:記録層 3:光透過層   1: Substrate 2: Recording layer 3: Light transmission layer

Claims (3)

レーザー光を用いた追記型光情報記録媒体用記録層であって、Inを30原子%以上、かつCoを30原子%以上50原子%以下、かつ、Biを19原子%超え45原子%以下含有するIn-Co-Bi合金からなることを特徴とする記録層。   A recording layer for write-once optical information recording media using laser light, containing 30 atomic% or more of In, 30 atomic% or more and 50 atomic% or less of Co, and Bi of 19 atomic% or more and 45 atomic% or less A recording layer comprising an In—Co—Bi alloy. 前記請求項1に記載の記録層を備えてなることを特徴とする光情報記録媒体。   An optical information recording medium comprising the recording layer according to claim 1. レーザー光を用いた追記型光情報記録媒体用記録層形成用スパッタリングターゲットであって、Inを30原子%以上、かつCoを30原子%以上50原子%以下、かつ、Biを19原子%超え45原子%以下含有するIn-Co-Bi合金からなることを特徴とするスパッタリングターゲット。   A sputtering target for forming a recording layer for a write once optical information recording medium using a laser beam, wherein In is 30 atomic% or more, Co is 30 atomic% or more and 50 atomic% or less, and Bi is 19 atomic% or more 45 A sputtering target comprising an In—Co—Bi alloy containing at most atomic%.
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