JP2009069589A - 画像形成方法 - Google Patents

Abstract

【課題】上面（基板に接する面の反対側の露出面）の撥インク性に優れ、解像度及び基板との密着性に優れ、線幅ばらつきが抑えられたパターン画像を形成できる画像形成方法を提供する。
【解決手段】撥インク性化合物を含有する感光性樹脂組成物を用いて基板上に感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、形成された感光性樹脂層を露光する露光工程と、前記露光後の感光性樹脂層を、ＪＩＳ Ｒ３２５７に記載の方法に準拠し測定された前記露光後の感光性樹脂層上面との接触角Ａが８０°以下である現像液を用いて現像してパターン画像を得る現像工程と、を有する画像形成方法。
【選択図】なし

Description

本発明は、画像形成方法に関し、詳しくは、感光性樹脂組成物を用いて形成された感光性樹脂層を露光し、現像液を用いて現像してパターン画像を形成する画像形成方法に関する。

近年、パーソナルコンピュータ用液晶ディスプレイ、液晶カラーテレビの需要が増加する傾向にあり、このようなディスプレイに不可欠のカラーフィルタの特性向上とコストダウンに対する要求が高まっている。
従来、カラーフィルタの製造方法としては、染色法、顔料分散法、電着法、印刷法などが実施されている。
例えば、染色法は、透明基板上に染色用の材料である水溶性の高分子材料層を形成し、これをフォトリソグラフィ工程により所望の形状にパターニングした後、得られたパターンを染色浴に浸漬して着色されたパターンを得る。この工程を３回繰り返すことにより、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色部からなる着色層を形成する方法である。
また、顔料分散法は、近年盛んに行われおり、透明基板上に顔料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニングすることにより、単色のパターンを得る。この工程を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色部からなる着色層を形成する方法である。

電着法は、透明基板上に透明電極をパターニングし、顔料、樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬して第一の色を電着する。この工程を３回繰り返して、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色部からなる着色層を形成し、最後に焼成するものである。
印刷法は、熱硬化型の樹脂に顔料を分散し、印刷を３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂを塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより、着色層を形成するものである。
これらのいずれの製造方法を用いた場合でも、得られた着色層の上に保護層を形成するのが一般的である。
これらの方法に共通している点は、赤色、緑色、青色の３色画素を形成するために、同一の工程を３回繰り返す必要があり、コスト高になることである。さらに、工程数が多いため、歩留まりが低下しやすいという問題も有している。

これらを克服すべく、近年、ブラックマトリックス（離画壁）を顔料分散法で形成し、ＲＧＢ画素をインクジェット法で作製するカラーフィルタ製造法が検討されている。このインクジェット方式は、ブラックマトリックス（離画壁）の凹部にＲ、Ｇ、Ｂ各色を順次付与して画素を形成する。インクジェット方式を利用した方法は、製造プロセスが簡略で、低コストであるという利点がある。
また、インクジェット方式はカラーフィルタの製造に限らず、エレクトロルミネッセンス素子など、他の光学素子の製造にも応用が可能である。

前記インクジェット法において、隣り合う画素領域間におけるインクの混色等の発生や、所定の領域以外の部分にＩＴＯ溶液や金属溶液が固まりこびりつく現象を防ぐ必要がある。したがって、隔壁（離画壁）は、インクジェットの塗出液である水や有機溶剤等をはじく性質、いわゆる撥水撥油性を有することが要求されている。

撥水撥油性を有する組成物としては、フルオロアルキル基含有（メタ）アクリレート単量体とシリコーン鎖含有エチレン性不飽和単量体との共重合体を含有するフォトレジスト組成物が知られている（例えば、特許文献１参照）。また、フルオロアルキル基を有するビニル系単量体を含有する単量体組成物を重合して得られるビニル系重合体、感光性樹脂及び有機溶剤を含有するコーティング用組成物も知られている（例えば、特許文献２参照）。さらには、炭素数４〜６のフルオロアルキル基を有するビニル系単量体を含有する単量体組成物を重合して得られるビニル系重合体、及び感光体を含有するレジスト組成物も知られている（例えば、特許文献３参照）。

一方、現像液に界面活性剤を添加して、現像速度を上げる技術が知られている（例えば、特許文献４参照）。
特開平９−５４４３２号公報 特開２００４−２７３３号公報 特開２００５−３１５９８４号公報 特開平９−１５８７０号公報

しかしながら、特許文献１に記載の共重合体の配合割合からなる組成物、特許文献２に記載のビニル系重合体の配合割合からなる組成物より形成される塗膜は、撥水撥油性が不足する。さらに、特許文献３に記載のビニル系重合体では、現像液耐性及び現像時の密着性が不足する。

さらに、通常上記パターンは露光・現像による、いわゆるフォトリソ工程により形成されるが、その現像工程において上記素材が添加されていると現像液が表面に十分に濡れず、細線パターンが形成できない不都合を有している。特許文献４には、界面活性剤の添加による、現像速度向上の効果は記載されているものの、撥インク性画像に対する効果は、検討されていない。
従って、上記従来の技術のみでは、上面（基板に接する面の反対側の露出面）の撥インク性に優れ、解像度及び基板との密着性に優れ、線幅ばらつきが抑えられた画像を形成できるとは限らない。

本発明は上記に鑑みなされたものであり、上面（基板に接する面の反対側の露出面）の撥インク性に優れ、解像度及び基板との密着性に優れ、線幅ばらつきが抑えられたパターン画像を形成できる画像形成方法を提供することを目的とし、該目的を達成することを課題とする。

本発明者は鋭意検討した結果、感光性樹脂層と現像液との接触角を特定することにより、前記課題を解決できるとの知見を得、該知見に基づき本発明を完成した。
即ち、前記課題を解決するための具体的手段は以下のとおりである。
＜１＞ 撥インク性化合物を含有する感光性樹脂組成物を用いて基板上に感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、形成された感光性樹脂層を露光する露光工程と、前記露光後の感光性樹脂層を、ＪＩＳ Ｒ３２５７に記載の方法に準拠し測定された前記露光後の感光性樹脂層上面との接触角Ａが８０°以下である現像液を用いて現像してパターン画像を得る現像工程と、を有する画像形成方法である。

＜２＞ 前記現像して得られたパターン画像を熱処理する熱処理工程を更に有し、ＪＩＳ Ｒ３２５７に記載の方法に準拠し測定された前記熱処理工程後のパターン画像上面とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの接触角Ｂが３０°以上であることを特徴とする＜１＞に記載の画像形成方法である。
＜３＞ 前記感光性樹脂組成物が、撥インク性化合物として含フッ素化合物を含有し、更に、開始剤、バインダー、エチレン性不飽和化合物、及び色材を含有することを特徴とする＜１＞又は＜２＞に記載の画像形成方法である。
＜４＞ 前記含フッ素化合物が、少なくともフッ素原子を側鎖に有する繰り返し単位を含み、該含フッ素化合物中のフッ素原子含有率が３６〜７０質量％であることを特徴とする＜３＞に記載の画像形成方法である。

＜５＞ 前記含フッ素化合物が、（ａ）少なくともフッ素原子を側鎖に有する繰り返し単位と、（ｂ）ポリエーテル構造を側鎖に有する繰り返し単位と、を含むことを特徴とする＜３＞又は＜４＞に記載の画像形成方法である。
＜６＞ 前記含フッ素化合物が、（ａ）少なくともフッ素原子を側鎖に有する繰り返し単位と、（ｂ）ポリエーテル構造を側鎖に有する繰り返し単位と、（ｃ）カルボン酸基を側鎖に有する繰り返し単位と、を含むことを特徴とする＜３＞又は＜４＞に記載の画像形成方法である。
＜７＞ 前記ポリエーテル構造が、末端封止型のポリエーテル構造であることを特徴とする＜５＞又は＜６＞に記載の画像形成方法である。

＜８＞ 前記感光性樹脂層形成工程は、前記感光性樹脂組成物からなる層を仮支持体上に有する感光性転写材料の該層を転写することにより、基板上に感光性樹脂層を形成することを特徴とする＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の画像形成方法である。
＜９＞ 前記現像液が、界面活性剤を含有することを特徴とする＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の画像形成方法である。
＜１０＞ 前記現像液中における前記界面活性剤の含有率が、０．１〜１０質量％であることを特徴とする＜９＞に記載の画像形成方法である。

本発明によれば、上面（基板に接する面の反対側の露出面）の撥インク性に優れ、解像度及び基板との密着性に優れ、線幅ばらつきが抑えられたパターン画像を形成できる画像形成方法を提供することができる。

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の画像形成方法は、撥インク性化合物を含有する感光性樹脂組成物を用いて基板上に感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、形成された感光性樹脂層を露光する露光工程と、前記露光後の感光性樹脂層を、ＪＩＳ Ｒ３２５７に記載の方法に準拠し測定された前記露光後の感光性樹脂層上面との接触角Ａが８０°以下である現像液を用いて現像してパターン画像を得る現像工程と、を有して構成されたものである。
本発明の画像形成方法は、上記構成としたことにより、上面の撥インク性に優れ、解像度及び基板との密着性に優れ、線幅ばらつきが抑えられたパターン画像を形成することができる。

前記パターン画像としては、例えば、カラーフィルタ用の離画壁（いわゆるブラックマトリクス等）等が挙げられる。例えば、基板上を区画する離画壁を前記パターン画像として形成し、区画された基板上の凹部に、着色インクの液滴を付与してカラーフィルタを作製したときは、前記離画壁上面の撥インク性が良好であるため、着色インク付与時に該着色インクが離画壁上に乗り上げる現象を抑制でき、混色、色ムラを抑制できる。さらに、前記離画壁は、解像度及び基板との密着性に優れ、線幅ばらつきが抑えられているため、前記カラーフィルタを用いて表示装置を作製したときは、表示ムラの発生を抑制できる。

本発明において、感光性樹脂層やパターン画像における「上面」とは、基板と接する面の反対側の露出面をいう。
ここで、本発明における感光性樹脂層上面やパターン画像の上面について、離画壁の場合を例として図１を用いて説明する。
離画壁の上面とは、離画壁１の表面のうち、基板６と接する面に対し反対側の露出面をいう（図１に示す上面４）。
なお、離画壁の側面とは、離画壁の表面のうち、前記離画壁上面以外の表面をいう（図１に示す側面５）。また、基板上の凹部とは、離画壁側面と基板上の離画壁非形成面とからなる凹部をいう（図１に示す凹部３）。

以下、本発明における接触角について説明し、引き続き、感光性樹脂層形成工程、露光工程、現像工程、熱処理工程等について説明する

≪接触角≫
本発明における接触角は、財団法人・日本規格協会によるＪＩＳ規格に準拠した方法により測定された値であり、具体的にはＪＩＳ Ｒ３２５７「基板ガラス表面のぬれ性試験方法」内の「６．静滴法」に記載された方法に準拠し測定された値である。より具体的には、接触角測定器（協和界面科学（株）製の接触角計（ＣＡ−Ａ））を使い、２０メモリの大きさの液滴をつくり、針先から水滴を出して、パターン画像上面に接触させることにより、パターン画像上面に液滴を形成し、１０秒静置後、接触角計の覗き穴から液滴の形状を観察し、２５℃における接触角θを求める。

（接触角Ａ）
本発明の画像形成方法においては、露光工程後であって現像工程前の露光後の感光性樹脂層上面と、現像工程で用いる現像液と、の接触角Ａが８０°以下であることが必要である。露光工程、現像工程、感光性樹脂層、及び、現像液については後述する。
前記接触角Ａが８０℃を超えると現像液のハジキが発生し、細線の現像性が悪化し、解像度が悪化する。解像度の観点等から、接触角Ａは４０°以下が好ましく、２０°以下がより好ましい。また、細線の形成性の観点からは、５°〜８０°が好ましく、５°〜３０°がより好ましい。

（接触角Ｂ）
本発明の画像形成方法においては、熱処理後のパターン画像の上面と、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと、の接触角Ｂが３０°以上であることが好ましい。ここで、熱処理後とは、後述の熱処理工程における熱処理後、さらに１時間放冷した後を指す。
前記接触角Ｂが３０°以上であると、例えば、パターン画像として離画壁を形成し、該離画壁を用いてインクジェット法によりカラーフィルタを作製した際、インクの溢れをより効果的に抑制できる。また、カラーフィルタを作製した際の混色をより効果的に抑制する観点からは、前記接触角Ｂは、４０〜８０°であることが好ましく、４５〜８０°であることがより好ましい。

≪感光性樹脂層形成工程≫
本発明における感光性樹脂層形成工程は、撥インク性化合物を含有する感光性樹脂組成物を用いて基板上に感光性樹脂層を形成する工程である。

＜感光性樹脂組成物＞
本発明における感光性樹脂組成物は撥インク性化合物を少なくとも１種含有する。
撥インク性化合物の例としては、含フッ素化合物、含ケイ素化合物が挙げられる。中でも、含フッ素化合物が好ましい。
本発明における感光性樹脂組成物は、パターン形成性等の観点から、前記含フッ素化合物以外にも、開始剤、バインダー、エチレン性不飽和化合物、及び色材を含有することが好ましい。
以下、含フッ素化合物、開始剤、バインダー、エチレン性不飽和化合物、色材、及び、その他の成分について説明する

（含フッ素化合物）
本発明における含フッ素化合物は、少なくともフッ素原子を側鎖に有する繰り返し単位を含み、該フッ素化合物中のフッ素原子含有率が３６〜７０質量％であることが好ましい。該フッ素原子含有率は、３６〜６５質量％が好ましく、３６〜６０質量％がより好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物に、上記構成の含フッ素化合物を含有することで、該感光性樹脂組成物をパターン画像（例えば、離画壁）とした際、該パターン画像上面（基板と接する面の反対側の露出面）の撥水性及び撥インク性を保持しつつ、該パターン画像と該パターン画像が形成される基板との密着性をより良好に保つことができる。
また、前記フッ素原子含有率が３６質量％以上であれば、画素部形成のためのインク打適時に離画壁上へのインク乗り上げる現象を、より効果的に抑制でき、７０質量％以下であれば、合成時に含フッ素化合物が析出したり、樹脂の組成物への溶解が困難になる現象をより効果的に抑制できる。
また、本発明による効果をより効果的に奏する観点からは、本発明における含フッ素化合物は、下記（ａ）少なくともフッ素原子を側鎖に有する繰り返し単位と、下記（ｂ）ポリエーテル構造を側鎖に有する繰り返し単位と、を含むことが好ましく、下記（ａ）少なくともフッ素原子を側鎖に有する繰り返し単位と、下記（ｂ）ポリエーテル構造を側鎖に有する繰り返し単位と、下記（ｃ）カルボン酸基を側鎖に有する繰り返し単位を含むことがより好ましい。

〜（ａ）少なくともフッ素原子を側鎖に有する繰り返し単位〜
本発明における含フッ素化合物は、（ａ）少なくともフッ素原子を側鎖に有する繰り返し単位を含むことが好ましい。少なくともフッ素原子を側鎖に有する繰り返し単位としては、総炭素数４〜８のフッ化アルキル基が好ましく、直鎖でも分岐鎖でもよい。さらに好ましくは、下記構造式（Ａ）が挙げられる。

上記構造式（Ａ）中、Ｒ_１は、水素原子、又は炭素数１〜５のアルキル基を表す。
上記構造式（Ａ）中、ａは、含フッ素化合物の全質量中に占める構造式（Ａ）の質量の比率（質量％）を表す。ａの具体的な範囲については後述する。
上記構造式（Ａ）中、Ｘ_１は、エーテル基、エステル基、アミド基、アリーレン基、又はヘテロ環残基を表す。
Ｘ_１で表されるアリーレン基としては、総炭素数６〜２０のアリーレン基が好ましく、例えば、フェニレン、ナフチレン、アントラセニレン、ビフェニレンが挙げられ、これらはｏ−、ｐ−、ｍ−置換でもよい。中でも、炭素数６〜１２のアリーレン基がより好ましく、フェニレン、ビフェニレンは特に好ましい。Ｘ_１で表されるヘテロ環残基としては、例えば、窒素原子又は酸素原子を環の構成員として含む５員環、又は６員環が好ましく、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、イソオキサゾール環、ピラゾール環、イミダゾール環、キノリン環、チアジアゾール環等が好適であり、ピリジン環、チアジアゾール環がより好ましい。
上記のうち、Ｘ_１としては、下記連結基又は下記構造を有する連結基が好ましい。

ここで、Ｒ_Ｘは、水素原子、総炭素数１〜１２のアルキル基、又は総炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ_Ｘで表される総炭素数１〜１２のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基などの無置換アルキル基、並びに、エーテル基、チオエーテル基、エステル基、アミド基、アミノ基、ウレタン基、ヒドロキシ基などの置換基を有する置換アルキル基が挙げられる。中でも、総炭素数１〜８のアルキル基が好ましく、メチル基、ブチル基、オクチル基はより好ましい。
Ｒ_Ｘで表される総炭素数６〜２０のアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、メチルフェニル基、メトキシフェニル基、ノニルフェニル基が挙げられる。中でも、総炭素数６〜１５のアリール基が好ましく、フェニル基、ノニルフェニル基はより好ましい。

上記構造式（Ａ）中、Ｌ_１としては、下記連結基又は下記構造を有する連結基が好ましい。

Ｒ_Ｙは、水素原子、メチル基を表す。
Ｙは、単結合、下記連結基、又は下記構造を有する連結基であることがより好ましい。

ｎは２〜２０の整数を表し、好ましくは４〜１２の整数を表す。
Ｒ_３は、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基を表す。Ｒ_３は、水素原子が好ましい。

上記構造式（Ａ）中、Ｒｆは、フッ素を含む置換基を表す。さらに、下記含フッ素置換基、又は下記構造を有する含フッ素置換基であることが好ましい。

ｍは１〜２０の整数を表し、好ましくは、４〜１２の整数を表す。

〜（ｂ）ポリエーテル構造を側鎖に有する繰り返し単位〜
本発明における含フッ素化合物は、さらに、（ｂ）ポリエーテル構造を側鎖に有する繰り返し単位を含んでもよい。ポリエーテル構造を側鎖に有する繰り返し単位としては、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、ポリテトラヒドロフランなどが挙げられ、これらは複数組み合わされていてもよい。
さらに好ましくは、以下構造式（Ｂ）が挙げられる。

上記構造式（Ｂ）中、Ｒ_２は、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基を表す。好ましくは水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基をあらわす。
上記構造式（Ｂ）中、ｎは４〜４０が好ましく、９〜３０がより好ましい。さらに１２〜２４が特に好ましい。
上記構造式（Ｂ）中、ｂは、含フッ素化合物の全質量中に占める構造式（Ｂ）の質量の比率（質量％）を表す。ｂの具体的な範囲については後述する。

上記構造式（Ｂ）中、Ｌ_２は、単結合、二価の連結基が好ましい。二価の連結基としてさらに好ましくは、以下の構造式が好ましい。

Ｌ_２としては、単結合が好ましい。

上記構造式（Ｂ）中、Ｍは、ポリエチレンオキサイドの繰り返し単位、ポリプロピレンオキサイドの繰り返し単位、ポリテトラヒドロフランの繰り返し単位をあらわす。さらに、Ｍとしては、以下の構造を有する基がより好ましい。

Ｒ_５は、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基を表す。ｌは２〜２０の整数を表し、より好ましくは、４〜１２の整数を表す。
Ｍとして好ましくは、エチレンオキサイド鎖であり、Ｒ_５は水素原子が好ましい。

上記構造式（Ｂ）中、Ｒ_４は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、６〜１５のアリール基を表す。
Ｒ_４は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、６〜１５のアリール基を表し、アルキル基、アリール基は置換基を有していてもよい。
Ｒ_４のアルキル基として好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、オクチル基、オクタデシル基があげられ、好ましくは、メチル基、オクチル基が好ましい。
Ｒ_４のアリール基として好ましくは、フェニル基、メチルフェニル基、ノニルフェニル基、メトキシフェニル基などが挙げられ、好ましくは、フェニル基、ノニルフェニル基が好ましい。
Ｒ_４として好ましくは、アルキル基、アリール基であるものが好ましい。これらは末端封止型のポリエーテル構造と呼ばれ、この構造がもっとも好ましい。Ｒ_４としてさらに好ましくは、メチル基、フェニル基がもっとも好ましい。

前記ポリエーテル構造を持つビニル化合物の市販品としては、日本油脂（株）製：ブレンマ−ＰＭＥ２００、ＰＭＥ５５０、ＰＭＥ１０００、５０ＰＯＥＰ−８００Ｐ、ＡＬＥ８００、ＰＥ１３００、ＡＮＥ１３００、ＰＳＥ−１３００、ＰＭＥＰ−１２００Ｂ０４１ＭＡ、ＰＥ３５０、ＰＰ８００、新中村化学（株）製：ＮＫエステルＡＭ１３０Ｇ、Ｍ２３０Ｇ、Ｍ９０Ｇ、Ｍ４０Ｇ、ＡＭＰ−６０Ｇ、ＯＣ−１８Ｅ、Ａ−ＳＡＬ−９Ｅ、Ａ−ＣＭＰ−５Ｅ、共栄社（株）製：ライトエステル０４１ＭＡなどが挙げられる。

〜（ｃ）カルボン酸基を側鎖に有する繰り返し単位〜
また、本発明における含フッ素化合物は、さらに、（ｃ）カルボン酸基を側鎖に有する繰り返し単位を含んでもよい。カルボン酸基を側鎖に有する繰り返し単位としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、ソルビン酸、α−シアノ桂皮酸、アクリル酸ダイマー、水酸基を有する単量体と環状酸無水物との付加反応物、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは、適宜製造したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。

前記水酸基を有する単量体と環状酸無水物との付加反応物に用いられる水酸基を有する単量体としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。前記環状酸無水物としては、例えば、無水マレイン酸、無水フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物等が挙げられる。

前記市販品としては、東亜合成化学工業（株）製：アロニックスＭ−５３００、アロニックスＭ−５４００、アロニックスＭ−５５００、アロニックスＭ−５６００、新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＣＢ−１、ＮＫエステルＣＢＸ−１、共栄社油脂化学工業（株）製：ＨＯＡ−ＭＰ、ＨＯＡ−ＭＳ、大阪有機化学工業（株）製：ビスコート＃２１００等が挙げられる。これらの中でも、現像性に優れ、低コストである点で、下記構造式（Ｃ）で表される繰り返し単位、（メタ）アクリル酸等が好ましい。

但し、前記構造式（Ｃ）中、Ｒ_６は、水素原子、又はメチル基を表す。
上記構造式（Ｃ）中、ｃは、含フッ素化合物の全質量中に占める構造式（Ｃ）の質量の比率（質量％）を表す。ｃの具体的な範囲については後述する。

本発明における含フッ素化合物が、上記構造式（Ａ）を含む場合、構造式（Ａ）中のａの具体的な範囲としては、４０〜８５質量％が好ましく、５０〜８５質量％がより好ましく、５０〜８０質量％が最も好ましい。
本発明における含フッ素化合物が、上記構造式（Ｂ）を含む場合、構造式（Ｂ）中のｂの具体的な範囲としては、１０〜５０質量％が好ましく、１５〜５０質量％がより好ましく、２０〜５０質量％が最も好ましい。
本発明における含フッ素化合物が、上記構造式（Ｃ）を含む場合、構造式（Ｃ）中のｃの具体的な範囲としては、０．１〜５０質量％が好ましく、１〜４０質量％がより好ましく、１〜３０質量％が最も好ましい。

また、上記含フッ素化合物の添加量は、感光性樹脂組成物中の全固形分に対し０．０１〜３０質量％が好ましく、より好ましくは０．０５〜２０質量％であり、０．１〜１０質量％が最も好ましい。含フッ素化合物の添加量が、感光性樹脂固形分に対し０．０１質量％以上であれば、画素部形成のためのインク打適時に離画壁上へのインク乗り上げが発生する現象をより効果的に抑制できる。前記添加量が３０質量％以下であれば、塗布密着性や離画壁濃度が低くなり、望みの離画壁を作製できなくなる現象をより効果的に抑制できる。

以下、本発明に係る含フッ素化合物の具体例〔例示化合物（１）〜（３５）〕を示す。但し、本発明においては、これらに制限されるものではない。なお、各成分の組成比（ａ、ｂ、ｃ）については、前記好ましい組成比の範囲で選択することができる。

（開始剤）
本発明における感光性樹脂組成物は、開始剤を少なくとも１種含有することが好ましい。
感光性樹脂組成物を硬化させる方法としては、熱開始剤を用いる熱開始系や光開始剤を用いる光開始系が一般的であるが、本発明では硬化後の離画壁を後述するような形状とすることが重要であることから、光開始系を用いることが好ましい。ここで用いる光重合開始剤は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の放射線の照射（露光ともいう）により、後述の多官能性モノマーの重合を開始する活性種を発生し得る化合物であり、公知の光重合開始剤若しくは光重合開始剤系の中から適宜選択することができる。
例えば、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物、等を挙げることができる。

具体的には、特開２００１−１１７２３０公報に記載の、トリハロメチル基が置換したトリハロメチルオキサゾール誘導体又はｓ−トリアジン誘導体、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載のトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載のトリハロメチルオキサジアゾール化合物などのトリハロメチル基含有化合物；

９−フェニルアクリジン、９−ピリジルアクリジン、９−ピラジニルアクリジン、１，２−ビス（９−アクリジニル）エタン、１，３−ビス（９−アクリジニル）プロパン、１，４−ビス（９−アクリジニル）ブタン、１，５−ビス（９−アクリジニル）ペンタン、１，６−ビス（９−アクリジニル）ヘキサン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，８−ビス（９−アクリジニル）オクタン、１，９−ビス（９−アクリジニル）ノナン、１，１０−ビス（９−アクリジニル）デカン、１，１１−ビス（９−アクリジニル）ウンデカン、１，１２−ビス（９−アクリジニル）ドデカン等のビス（９−アクリジニル）アルカン、などのアクリジン系化合物；

６−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、６−〔ｐ−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどのトリアジン系化合物；その他、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ミヒラーズケトン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン／アミン、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールなどが挙げられる。

上記のうち、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物から選択される少なくとも一種が好ましく、特に、トリハロメチル基含有化合物及びアクリジン系化合物から選択される少なくとも一種を含有することが好ましい。トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物は、汎用性でかつ安価である点でも有用である。
特に好ましいのは、トリハロメチル基含有化合物としては、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾールであり、アクリジン系化合物としては、９−フェニルアクリジンであり、更に、６−〔ｐ−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾールなどのトリハロメチル基含有化合物、及びミヒラーズケトン、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールである。

前記光重合開始剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。前記光重合開始剤の感光性樹脂組成物における総量としては、感光性樹脂組成物の全固形分（質量）の０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。前記総量が０．１質量％以上であると、組成物の光硬化の効率をより向上させることができ、露光時間をより短縮することができる。前記総量が２０質量％以下であると、画像パターンの欠落やパターン表面の荒れをより効果的に抑制できる。
なお、本発明において、感光性樹脂組成物の全固形分（質量）とは、感光性樹脂組成物中の、溶剤を除いた全成分を意味する。

前記光重合開始剤は、水素供与体を併用して構成されてもよい。該水素供与体としては、感度をより良化することができる点で、以下で定義するメルカプタン系化合物、アミン系化合物等が好ましい。ここでの「水素供与体」とは、露光により前記光重合開始剤から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物をいう。

前記メルカプタン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したメルカプト基を１個以上、好ましくは１〜３個、更に好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「メルカプタン系水素供与体」という）である。また、前記アミン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したアミノ基を１個以上、好ましくは１〜３個、更に好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「アミン系水素供与体」という）である。尚、これらの水素供与体は、メルカプト基とアミノ基とを同時に有していてもよい。

上記のメルカプタン系水素供与体の具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２−メルカプト−２，５−ジメチルアミノピリジン、等が挙げられる。これらのうち、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾールが好ましく、特に２−メルカプトベンゾチアゾールが好ましい。

上記のアミン系水素供与体の具体例としては、４、４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４、４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノベンゾニトリル等が挙げられる。これらのうち、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましく、特に４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。

前記水素供与体は、単独で又は２種以上を混合して使用することができ、形成された画像が現像時に永久支持体上から脱落し難く、かつ強度及び感度も向上させ得る点で、１種以上のメルカプタン系水素供与体と１種以上のアミン系水素供与体とを組合せて使用することが好ましい。

前記メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との組合せの具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。より好ましい組合せは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンであり、特に好ましい組合せは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンである。

前記メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体とを組合せた場合の、メルカプタン系水素供与体（Ｍ）とアミン系水素供与体（Ａ）との質量比（Ｍ：Ａ）は、通常１：１〜１：４が好ましく、１：１〜１：３がより好ましい。前記水素供与体の感光性樹脂組成物における総量としては、感光性樹脂組成物の全固形分（質量）の０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。

（バインダー）
本発明における感光性樹脂組成物は、バインダーを少なくとも１種含有することが好ましい。
本発明におけるバインダーとしては、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基などの極性基を有するポリマーが好ましい。その例としては、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公報及び特開昭５９−７１０４８号公報に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等を挙げることができる。また側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げることができ、またこの他にも、水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用することができる。また、特に好ましい例として、米国特許第４１３９３９１号明細書に記載のベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸との共重合体や、ベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有するバインダーポリマーは、単独で用いてもよく、或いは通常の膜形成性のポリマーと併用する組成物の状態で使用してもよく、感光性樹脂組成物の全固形分に対する含有量は２０〜５０質量％が一般的であり、２５〜４５質量％が好ましい。

（エチレン性不飽和化合物）
本発明における感光性樹脂組成物は、エチレン性不飽和化合物を少なくとも１種含有することが好ましい。
エチレン性不飽和化合物としては、下記化合物を単独で又は他のモノマーとの組合わせて使用することができる。具体的には、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、１，４−ジイソプロペニルベンゼン、１，４−ジヒドロキシベンゼンジ（メタ）アクリレート、デカメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、スチレン、ジアリルフマレート、トリメリット酸トリアリル、ラウリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、キシリレンビス（メタ）アクリルアミド、等が挙げられる。

また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のヒドロキシル基を有する化合物とヘキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート等のジイソシアネートとの反応物も使用できる。
これらのうち、特に好ましいのは、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレートである。

エチレン性不飽和化合物の感光性樹脂組成物における含有量としては、感光性樹脂組成物の全固形分（質量）に対して、５〜８０質量％が好ましく、１０〜７０質量％が特に好ましい。前記含有量が、５質量％以上であると、組成物の露光部のアルカリ現像液への耐性をより向上させることができ、８０質量％以下であると、感光性樹脂組成物としたときのタッキネスをより減少させることができ、取扱い性をより向上させることができる。

（色材）
本発明における感光性樹脂組成物は、色材を少なくとも１種含有することが好ましい。
本発明に用いる色材としては、具体的には、特開２００５−１７７１６号公報［００３８］〜［００５４］に記載の顔料及び染料や、特開２００４−３６１４４７号公報［００６８］〜［００７２］に記載の顔料や、特開２００５−１７５２１号公報［００８０］〜［００８８］に記載の着色剤を好適に用いることができる。

本発明における感光性樹脂組成物には、有機顔料、無機顔料、染料等を好適に用いることができ、離画壁に遮光性が要求される際には、カーボンブラック、酸化チタン、４酸化鉄等の金属酸化物粉、金属硫化物粉、金属粉といった遮光剤の他に、赤、青、緑色等の顔料の混合物等を用いることができ、中でも、カーボンブラックが好ましい。公知の着色剤（染料、顔料）を使用することができる。該公知の着色剤のうち顔料を用いる場合には、感光性樹脂組成物中に均一に分散されていることが好ましい。
前記感光性樹脂組成物の全固形分中の色材の比率は、十分に現像時間を短縮する観点から、３０〜７０質量％であることが好ましく、４０〜６０質量％であることがより好ましく、５０〜５５質量％であることが更に好ましい。

上記顔料は分散液として使用することが望ましい。この分散液は、前記顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、有機溶媒（又はビヒクル）に添加して分散させることによって調製することができる。前記ビヒクルとは、塗料が液体状態にある時に顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって前記顔料と結合して塗膜を固める部分（バインダー）と、これを溶解希釈する成分（有機溶媒）とを含む。前記顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８頁に記載されているニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に該文献３１０頁記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。
本発明で用いる色材（顔料）は、分散安定性の観点から、数平均粒径０．００１〜０．１μｍのものが好ましく、更に０．０１〜０．０８μｍのものが好ましい。尚、ここでいう「粒径」とは粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円とした時の直径をいい、また「数平均粒径」とは多数の粒子について上記の粒径を求め、この１００個平均値をいう。

（その他の成分）
前記感光性樹脂組成物には、上記成分の他に、下記の溶媒、界面活性剤、熱重合防止剤、紫外線吸収剤等を添加することができる。また、その他にも、特開平１１−１３３６００号公報に記載の「接着助剤」や、その他の添加剤等を含有させることができる。

−溶媒−
本発明における感光性樹脂組成物においては、上記成分の他に、更に有機溶媒を用いてもよい。有機溶媒の例としては、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム等を挙げることができる。

−界面活性剤−
本発明における感光性樹脂組成物においては、均一な膜厚に制御でき、塗布ムラを効果的に防止するという観点から、該感光性樹脂組成物中に適切な界面活性剤を含有させることが好ましい。
上記界面活性剤としては、特開２００３−３３７４２４号公報、特開平１１−１３３６００号公報に開示されている界面活性剤が、好適なものとして挙げられる。

−熱重合防止剤−
本発明における感光性樹脂組成物は、熱重合防止剤を含むことが好ましい。該熱重合防止剤の例としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−メルカプトベンズイミダゾール、フェノチアジン等が挙げられる。

−紫外線吸収剤−
本発明における感光性樹脂組成物には、必要に応じて紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、特開平５−７２７２４号公報記載の化合物のほか、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、ニッケルキレート系、ヒンダードアミン系などが挙げられる。
具体的には、フェニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−４’−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２，２’−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ニッケルジブチルジチオカーバメート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピリジン）−セバケート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、サルチル酸フェニル、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン縮合物、コハク酸−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリデニル）−エステル、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、７−｛［４−クロロ−６−（ジエチルアミノ）−５−トリアジン−２−イル］アミノ｝−３−フェニルクマリン等が挙げられる。

以上で説明した感光性樹脂組成物を用い、基板上に感光性樹脂層を形成する方法としては、例えば、
（１）スピン塗布、スリット塗布等、公知の塗布方法により、基板上に感光性樹脂組成物を塗布することにより（必要に応じ、塗布後にプリベークを行ってもよい）、基板上に感光性樹脂層を形成する方法（以下、「塗布法」ともいう）や、
（２）仮支持体上に感光性樹脂組成物からなる層を有する感光性転写材料を用い、基板上に前記感光性転写材料の該層を転写することにより、基板上に感光性樹脂層を形成する方法（以下、「転写法」ともいう）
が挙げられる。
上記のうち、感光性樹脂層の層厚均一性の観点やコストの観点からは、転写法が好ましい。
感光性転写材料を用いて感光性樹脂層を形成する方法としては、特に限定はないが、例えば、以下のようにして形成することができる。

仮支持体上に、酸素遮断層と、感光性樹脂層と、カバーシートと、がこの順に設けられた感光性転写材料を用意する。まず、カバーシートを剥離除去した後、露出した感光性樹脂層の表面を永久支持体（基板）上に貼り合わせ、ラミネータ等を通して加熱、加圧して積層する（積層体）。ラミネータには、従来公知のラミネータ、真空ラミネータ等の中から適宜選択したものを使用でき、より生産性を高めるには、オートカットラミネーターも使用可能である。
次いで、仮支持体と酸素遮断層との間で剥離し、前記積層体から仮支持体を除去することにより、基板上に感光性樹脂層と酸素遮断層とをこの順に形成することができる。

また、仮支持体上に、熱可塑性樹脂層と、酸素遮断層と、感光性樹脂層と、カバーシートと、がこの順に設けられた感光性転写材料を用いる場合も、上記と同様にして形成できる。この場合には、仮支持体の剥離は、仮支持体と熱可塑性樹脂層との間で行い、基板上に感光性樹脂層と酸素遮断層と熱可塑性樹脂層とをこの順に形成する形態が好適である。

＜感光性転写材料＞
ここで上述の、仮支持体上に感光性樹脂組成物からなる層（以下、「感光性樹脂層」又は「感光性樹脂組成物層」と称することがある）を有する感光性転写材料について説明する。
前記感光性転写材料は、更に必要に応じて仮支持体と感光性樹脂組成物層との間に酸素を遮断しうる保護層（以下、「酸素遮断層」と称することがある。）を設けてもよく、このような材料を用いた場合、感光性樹脂組成物層は酸素遮断層に保護されるため自動的に貧酸素雰囲気下となる。そのため露光工程を不活性ガス下や減圧下で行う必要がなく、現状の工程をそのまま利用できる利点がある。感光性転写材料における酸素遮断層及び感光性樹脂組成物層を構成する材料は上述の通りである。
また、該仮支持体を「酸素を遮断しうる保護層」として用いてもよい。この場合は、上記酸素遮断層を設ける必要がなく、工程数を削減することが可能である。

上記の感光性転写材料は、必要に応じて仮支持体と感光性樹脂組成物層との間（前記酸素遮断層を設ける場合には、仮支持体と該酸素遮断層との間）に熱可塑性樹脂層を有していてもよい。かかる熱可塑性樹脂層とは、アルカリ可溶性であって、少なくとも樹脂成分を含んで構成され、該樹脂成分としては、実質的な軟化点が８０℃以下であることが好ましい。このような熱可塑性樹脂層が設けられることにより、永久支持体との良好な密着性を発揮することができる。

軟化点が８０℃以下のアルカリ可溶性の熱可塑性樹脂としては、エチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体などのケン化物、等が挙げられる。

熱可塑性樹脂層には、上記の熱可塑性樹脂の少なくとも一種を適宜選択して用いることができ、更に「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発行）による、軟化点が約８０℃以下の有機高分子のうちアルカリ水溶液に可溶なものを使用することができる。

また、軟化点が８０℃以上の有機高分子物質についても、その有機高分子物質中に該高分子物質と相溶性のある各種可塑剤を添加することで、実質的な軟化点を８０℃以下に下げて用いることもできる。また、これらの有機高分子物質には、仮支持体との接着力を調節する目的で、実質的な軟化点が８０℃を越えない範囲で、各種ポリマーや過冷却物質、密着改良剤あるいは界面活性剤、離型剤、等を加えることもできる。

好ましい可塑剤の具体例としては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェートを挙げることができる。

上記の感光性転写材料における仮支持体としては、化学的及び熱的に安定であって、可撓性の物質で構成されるものから適宜選択することができる。具体的には、テフロン（登録商標）、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル等、薄いシート若しくはこれらの積層体が好ましい。前記仮支持体の厚みとしては、５〜３００μｍが適当であり、好ましくは２０〜１５０μｍである。この厚みが５μｍ以上であると、仮支持体を剥離する際、仮支持体の破れをより効果的に抑制でき、仮支持体を介して露光する場合は、３００μｍ以下であると解像度をより向上させることができる。
上記具体例の中でも２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。

感光性樹脂組成物層の上には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護するために薄いカバーシートを設けることが好ましい。カバーシートは仮支持体と同じか又は類似の材料からなってもよいが、感光性樹脂組成物層から容易に分離されねばならない。カバーシート材料としては例えばシリコーン紙、ポリオレフィン若しくはポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。尚、カバーシートの厚さは、４〜４０μｍが一般的であり、５〜３０μｍが好ましく、１０〜２５μｍが特に好ましい。

＜基板＞
本発明において、基板（永久支持体）としては、ガラス、セラミック、合成樹脂フィルム等を使用することができる。特に好ましくは、透明性で寸度安定性の良好なガラスや合成樹脂フィルムが挙げられる。

≪露光工程≫
本発明における露光工程は、感光性樹脂層形成工程で形成された感光性樹脂層を露光する工程である。
該露光は、例えば、超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（例えば、日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）等で行うことができ、露光量としては適宜（例えば、３００ｍＪ／ｃｍ^２）選択することができる。この際、所定のパターンを有するフォトマスク（例えば、石英露光マスク）を用い、該フォトマスクを介して露光する形態が好適である。さらに、デジタル信号を基に制御された露光（レーザ、超高圧水銀灯の光源）によるマスクレス露光も好適である。

また、本発明の効果をより効果的に得る観点からは、露光は貧酸素雰囲気下で行うことが好ましい。
ここで、貧酸素雰囲気下とは、不活性ガス下、減圧下、酸素を遮断しうる保護層下のことを指しており、これらは詳しくは以下の通りである。

不活性ガスとは、Ｎ_２、Ｈ_２、ＣＯ_２、などの一般的な気体や、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒなどの希ガス類をいう。この中でも、安全性や入手の容易さ、コストの観点から、Ｎ_２が好適に利用される。

減圧下とは５００ｈＰａ以下、好ましくは１００ｈＰａ以下の状態を指す。

酸素を遮断しうる保護層とは、例えば、特開昭４６−２１２１号や特公昭５６−４０８２４号の各公報に記載の、ポリビニルエーテル／無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、各種のポリアクリルアミド類、各種の水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種の澱粉およびその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン／マレイン酸の共重合体、マレイネート樹脂、及びこれらの二種以上の組合せ等が挙げられる。これらの中でも特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンの組合せである。ポリビニルアルコールは鹸化率が８０％以上であるものが好ましく、ポリビニルピロリドンの含有量はアルカリ可溶な樹脂層固形分の１〜７５質量％が好ましく、より好ましくは１〜５０質量％、更に好ましくは１０〜４０質量％である。
また、酸素を遮断しうる層としては各種フィルムを用いることもでき、たとえばＰＥＴをはじめとするポリエステル類、ナイロンをはじめとするポリアミド類、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ類）も好適に用いることができる。これらフィルムは必要に応じて延伸されたものでもよく、厚みは５〜３００μｍが適当であり、好ましくは２０〜１５０μｍである。また、離画壁を転写材料を用いて作製する場合、下記に記載の仮支持体を酸素を遮断しうる層として好適に用いることが可能である。

このようにして作製された酸素を遮断しうる保護層の酸素透過係数は２０００ｃｍ^３／（ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下が好ましいが、１００ｃｍ^３／（ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることがより好ましく、もっとも好ましくは５０ｃｍ^３／（ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である。
酸素透過率が２０００ｃｍ^３／（ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であれば、より効率的に酸素を遮断することができ、離画壁をより良好な形状（矩形に近い形状）にすることができる。

また、前記転写法により感光性樹脂層を形成した場合の露光の形態としては、基板の感光性樹脂層が形成された側の面であって、仮支持体除去後の除去面（酸素遮断層面又は熱可塑性樹脂面）と、所望のフォトマスク（例えば、石英露光マスク）とが向き合うように配置し、該基板とフォトマスクとを垂直に立てた状態で、露光マスク面と該除去面の間の距離を適宜（例えば、２００μｍ）に設定し、露光する形態が好適である。

また、前記転写法により感光性樹脂層を形成した場合において、仮支持体を、酸素を遮断しうる保護層として用いる場合は、仮支持体を残したまま（剥離せずに）、該仮支持体と所望のフォトマスク（例えば、石英露光マスク）とが向き合うように配置し、基板とフォトマスクとを垂直に立てた状態で、露光マスク面と該仮支持体の間の距離を適宜（例えば、２００μｍ）に設定し、露光する形態が好適である。

≪現像工程≫
本発明における現像工程は、前記露光後の感光性樹脂層を、前記露光後の感光性樹脂層上面との接触角Ａが８０°以下である現像液を用いて現像してパターン画像を得る工程
である。
ここで、現像液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液を用いることができるが、更に水と混和性の有機溶剤を少量添加したものでもよい。光照射に用いる光源としては、中圧〜超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。
前記現像の前には、純水をシャワーノズル等にて噴霧して、感光性樹脂組成物層又は酸素遮断層の表面を均一に湿らせることが好ましい。前記現像処理に用いる現像液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液が用いられるが、更に水と混和性の有機溶剤を少量添加したものでもよい。

適当なアルカリ性物質としては、アルカリ金属水酸化物類（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）、アルカリ金属メタケイ酸塩類（例えば、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類（例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）、燐酸三ナトリウム、等が挙げられる。アルカリ性物質の濃度は、０．０１〜３０質量％が好ましく、ｐＨは８〜１４が好ましい。

前記「水と混和性の有機溶剤」としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等が好適に挙げられる。水と混和性の有機溶剤の濃度は０．１〜３０質量％が好ましい。

更に、細線の形成性からは、現像液には界面活性剤を添加することが好ましい。
用いられる界面活性剤としては、アニオン型、ノニオン型、カチオン型、両性型のいずれも使用することができるが、特にアニオン型界面活性剤が望ましい。アニオン型界面活性剤としては、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホこはく酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、ナフタレンスルホン酸塩類、アルキルジフェニルエーテルスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、Ｎ−メチル−Ｎ−オレイルタウリンナトリウム類、Ｎ−アルキルスルホこはく酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ひまし油、硫酸化牛脚油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪族モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル塩酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン−無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等を挙げることができる。

これらの中でも、アルキル硫酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、ナフタレンスルホン酸塩類が好ましく、ナフタレンスルホン酸塩類がより好ましい。
これら界面活性剤の現像液中における含有量は０．１質量％〜２０質量％の範囲から、より好ましくは０．１質量％〜１０質量％から選択される。前記含有量が、０．１質量％以上であると、より効果的に現像液のハジキを抑制し、より微細なパターンを形成することができる。また、前記含有量が２０質量％以下であると、より効果的に細線のカケを抑制できる。

前記現像液は、浴液としても、あるいは噴霧液としても用いることができる。感光性樹脂組成物層の未硬化部分を除去する場合、現像液中で回転ブラシや湿潤スポンジで擦るなどの方法を組合わせることができる。現像液の液温度は、通常室温（２０℃）付近から４０℃が好ましい。現像時間は、感光性樹脂組成物層の組成、現像液のアルカリ性や温度、有機溶剤を添加する場合にはその種類と濃度、等に依るが、通常１０秒〜２分程度である。現像処理の後に水洗工程を入れることも可能である。
以上の現像工程にて、離画壁形状は後述の好ましい形状に形成される。

また、前記転写法により感光性樹脂層を形成した場合であって、例えば、露光後において、熱可塑性樹脂層／中間層（酸素遮断層）／感光性樹脂層／基板の層構成となっているときの現像の形態としては、公知のアミン系処理液等で熱可塑性樹脂層及び中間層を全面除去して感光性樹脂層を露出させた後、上記現像液で感光性樹脂層を現像する形態が好適である。この場合においても、露出後の感光性樹脂層上面と、感光性樹脂層を現像する現像液と、の接触角Ａが８０°以下であることが必要である。

≪熱処理工程≫
本発明における熱処理工程は、前記現像工程で形成されたパターン画像を熱処理する工程である。
ここで、熱処理は、露光及び現像により形成されたパターン画像（離画壁パターン）を加熱して硬化させるものである（以下、熱処理を「加熱処理」ともいう）。

加熱処理の方法としては、従来公知の種々の方法を用いることができる。すなわち、例えば、複数枚の基板をカセットに収納してコンベクションオーブンで処理する方法、ホットプレートで１枚ずつ処理する方法、赤外線ヒーターで処理する方法、等である。

また、ベーク温度（加熱温度）としては、通常１５０〜２８０℃であり、好ましくは１８０〜２５０℃である。加熱時間は、前記ベーク温度によって変動するが、ベーク温度を２４０℃とした場合には、１０〜１２０分が好ましく、３０〜９０分がより好ましい。

また、離画壁の形成方法における加熱処理工程においては、前記露光、現像工程によって形成された離画壁パターンを、不均一な膜減りを防止し、感光性樹脂層に含まれるＵＶ吸収剤等の成分の析出を防止する観点から、加熱処理前にポスト露光を行なうようにしてもよい。加熱処理を施す前にポスト露光を行なうと、ラミネート時にかみこんだ微小な異物が膨れて欠陥となるのを効果的に防止することができる。

〜ポスト露光〜
ここで、前記ポスト露光について略説する。
ポスト露光に用いる光源としては、感光性樹脂層を硬化し得る波長領域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍ）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。
具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。
露光量としては、前記露光を補う露光量であればよく、通常は５０〜５０００ｍＪ／ｃｍ²であり、好ましくは２００〜２０００ｍＪ／ｃｍ²、更に好ましくは５００〜１０００ｍＪ／ｃｍ²である。

≪離画壁≫
以上で説明した本発明の画像形成方法により、例えば、離画壁を形成することができる。
形成された離画壁は、解像度及び基板との密着性に優れ、線幅ばらつきが抑えられているため、前記離画壁を備えたカラーフィルタを用いて表示装置を作製することで、表示ムラの発生を抑制できる。
前記離画壁は、５５５ｎｍにおいて高い光学濃度を有することが好ましく、更にその値は２．５以上が好ましく、２．５〜１０．０がより好ましく、２．５〜６．０が更に好ましく、３．０〜５．０が特に好ましい。また、感光性樹脂組成物層は、好ましくは光開始系で硬化させる為、露光波長（一般には紫外域）に対する光学濃度も重要である。すなわち、その値は２．０〜１０．０が好ましく、更には２．５〜６．０がより好ましく、３．０〜５．０が特に好ましい。前記好ましい範囲であると、離画壁形状が望みのものにすることができる。
また、離画壁の幅および高さは、幅（即ちカラーフィルタを形成した場合における画素と画素との間隔）が１５〜１００μｍであることが好ましく、また高さ（即ち基板から離画壁の頂点までの距離）が１．０〜５．０μｍであることが好ましい。
該離画壁の形状は、特開２００６−１５４８０４号公報の段落番号［００５４］〜［００５５］に記載の形状が、本発明においても好適である。

≪カラーフィルタ及びその製造方法≫
前述の通り、本発明の画像形成方法により、離画壁を形成することができ、更に、該離画壁を用いてカラーフィルタを作製できる。形成された離画壁の上面は、撥インク性が良好であるため、着色インク付与時に該着色インクが離画壁上に乗り上げる現象を抑制でき、混色、色ムラを抑制できる。
前記カラーフィルタの製造方法としては、例えば、前記離画壁を有する基板を用い、該離画壁によって区画された基板上の凹部（画素形成用の領域）に２色以上の着色液体組成物を付与し、２色以上の複数の着色画素（例えば赤、緑、青、白、紫など）からなる着色画素群を形成する形態が好適である。上記着色感光性樹脂組成物を付与する方法としては、特に限定されるものではなくインクジェット法やスリットコート法やストライプギーサー塗布法など公知の方法を適宜用いることができるが、特に本発明においては、インクジェット法を用いることが好ましい。前記ストライプギーサー塗布法は、細かな液滴吐出用の穴が開いたギーサーを用いて液滴を基板上に付与し、ストライプ状の画素を形成する方法である。

（インクジェット方式）
前記インクジェット方式としては、帯電したインクを連続的に噴射し電場によって制御する方法、圧電素子を用いて間欠的にインクを噴射する方法、インクを加熱しその発泡を利用して間欠的に噴射する方法等、各種の方法を採用できる。
用いるインクは油性、水性であっても使用できる。また、そのインクに含まれる着色剤は染料、顔料ともに使用でき、耐久性の面からは顔料の使用がより好ましい。また、公知のカラーフィルタ作製に用いる、塗布方式の着色インク（着色樹脂組成物、例えば、特開２００５−３８６１号公報［００３４］〜［００６３］記載）や、特開２００４−３２５７３６号公報に記載の着色インクや、特開２００２−３７２６１３号公報に記載のインクなど公知のインクを使用することもできる。
インクジェット方式に用いるインクには、着色後の工程を考慮し、加熱によって硬化する、又は紫外線などのエネルギー線によって硬化する成分を添加することもできる。加熱によって硬化する成分としては各種の熱硬化性樹脂が広く用いられ、またエネルギー線によって硬化する成分としては例えばアクリレート誘導体又はメタクリレート誘導体に光反応開始剤を添加したものを例示できる。特に耐熱性を考慮してアクリロイル基、メタクリロイル基を分子内に複数有するものがより好ましい。これらのアクリレート誘導体、メタクリレート誘導体は水溶性のものが好ましく使用でき、水に難溶性のものでもエマルション化するなどして使用できる。
この場合、前記の感光性樹脂組成物で挙げた、顔料などの着色剤を含有させた感光性樹脂組成物を、好適なものとして用いることができる。

前記カラーフィルタは、インクジェット方式で画素形成されたカラーフィルタであることが好ましく、少なくともＲＧＢ３色のインクを吹き付けて少なくとも３色のカラーフィルタを形成することが好ましい。このようにして形成されたカラーフィルタのパターン形状は特に限定されるものではなく、一般的なブラックマトリックス形状であるストライプ状であっても、格子状であっても、さらにはデルタ配列状であってもよい。

（オーバーコート層）
カラーフィルタ作製後、全面に耐性向上のためにオーバーコート層を設ける場合がある。オーバーコート層は、インクＲ，Ｇ，Ｂの着色画素を保護するとともに、表面を平坦にすることができるが、工程数が増えるという観点から、設けないことが好ましい。
オーバーコート層を形成する樹脂（ＯＣ剤）としては、アクリル系樹脂組成物、エポキシ樹脂組成物、ポリイミド樹脂組成物などが挙げられる。中でも、可視光領域での透明性で優れており、また、カラーフィルタ用光硬化性組成物の樹脂成分が通常アクリル系樹脂を主成分としており、密着性に優れていることからアクリル系樹脂組成物が望ましい。
オーバーコート層の例として、特開２００３−２８７６１８号公報の段落番号００１８〜００２８に記載のものや、オーバーコート剤の市販品として、ＪＳＲ社製「オプトマーＳＳ６６９９Ｇ」）が挙げられる。

着色画素層上には、必要に応じて透明電極、配向膜等を設けてもよい。透明電極の具体例としては、例えば、ＩＴＯが挙げられる。また、配向膜の具体例としては、ポリイミドが挙げられる。

≪表示装置≫
上記の方法によって得られるカラーフィルタは、液晶表示素子、電気泳動表示素子、エレクトロクロミック表示素子、ＰＬＺＴ等と組合せて表示素子として用いられる。カラーカメラやその他のカラーフィルタを用いる用途にも使用できる。
前記カラーフィルタは、混色、色ムラが抑制されており、かつ、解像度及び基板との密着性に優れ、線幅ばらつきが抑えられた離画壁を備えているため、該カラーフィルタを用いて表示装置を作製することで、表示ムラを抑制できる。

当該表示装置としては、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置などが挙げられる。表示装置の定義や各表示装置の説明は例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木 昭夫著、（株）工業調査会 １９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹 順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。

前記カラーフィルタを備えた表示装置のうち、液晶表示装置は特に好ましい。液晶表示装置については例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田 龍男編集、（株）工業調査会 １９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。本発明はこれらのなかで特にカラーＴＦＴ方式の液晶表示装置に対して有効である。カラーＴＦＴ方式の液晶表示装置については例えば「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ（共立出版（株）１９９６年発行）」に記載されている。さらに本発明はもちろんＩＰＳなどの横電界駆動方式、ＭＶＡなどの画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示装置にも適用できる。これらの方式については例えば「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ−技術と市場の最新動向−（東レリサーチセンター調査研究部門 ２００１年発行）」の４３ページに記載されている。

液晶表示装置はカラーフィルタ以外に電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサ、視野角補償フィルムなどさまざまな部材から構成される。前述のカラーフィルタはこれらの公知の部材で構成される液晶表示装置に適用することができる。これらの部材については例えば「’９４液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場（島 健太郎 （株）シーエムシー １９９４年発行）」、「２００３液晶関連市場の現状と将来展望（下巻）（表 良吉 （株）富士キメラ総研 ２００３年発行）」に記載されている。

尚、対象用途としては、テレビ、パーソナルコンピュータ、液晶プロジェクター、ゲーム機、携帯電話などの携帯端末、デジタルカメラ、カーナビなどの用途に特に制限なく適用できる。

以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、機器、操作等は本発明の精神から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。

≪含フッ素化合物の合成例≫
本発明における含フッ素化合物の例示化合物のうち、具体的な含フッ素化合物を例に合成例を示す。なお、例示化合物以外の本発明に係る含フッ素化合物についても同様の方法により合成することが可能である。
特にことわりのない限り、数値は質量部、質量％での表記である。また、分子量はゲルパーミッションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算の重量平均分子量であり、含フッ素化合物中のフッ素原子含有率は、構造式から想定されるフッ素量を表す。

＜含フッ素化合物（１）の合成例＞
窒素気流下、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート〔ＭＭＰＧ−Ａｃ、ダイセル（株）製〕３０ｇを、冷却管を設置した３００ｍｌの三つ口フラスコに入れ、パラフィン入りのウォーターバスで７０℃まで加熱した。これに、ＭＭＰＧ−Ａｃ３５ｇにアクリル酸〔ＡＡ、東京化成工業（株）製〕２．５ｇと２−（パーフルオロヘキシル）−エチルアクリレート〔ＦＡＡＣ６、ＮＯＫ（株）製〕２５ｇと末端メチルポリエチレンオキシドモノマー〔ＰＭＥ１０００、日本油脂（株）製、ＰＥＯの繰り返し数（２３）末端Ｍｅ〕２２．５ｇとラウリルメルカプタン〔ＬＭ、東京化成工業（株）製〕０．７０ｇとを溶解させた溶液及び、ＭＭＰＧ−Ａｃ１０ｇに２，２’−アゾビス（イソバレロニトリル）〔Ｖ６５、和光純薬工業（株）製〕０．２８５ｇを溶解させた溶液をそれぞれプランジャーポンプで２時間かけて滴下した。滴下終了後、５時間攪拌した。
以上のようにして、２−（パーフルオロヘキシル）−エチルアクリレート〔ＦＡＡＣ６〕、アクリル酸〔ＡＡ〕、及びポリエチレンオキシドモノマー〔ＰＭＥ１０００〕を共重合させて、ＦＡＡＣ６／ＡＡ／ＰＭＥ１０００＝５０／５／４５（質量比）の含フッ素化合物（１）を合成した。重量平均分子量は、１．３万であった。含フッ素化合物（１）中のフッ素原子含有率は、３６質量％であった。
なお、含フッ素化合物（１）は、前述の例示化合物（１）に属する化合物である。

＜含フッ素化合物（２）、（３）、（８）の合成例＞
前記含フッ素化合物（１）の合成例に従い、含フッ素化合物（２）ＦＡＡＣ６／ＡＡ／ＰＭＥ１０００＝６５／５／２５（質量比）、含フッ素化合物（３）ＦＡＡＣ６／ＡＡ／ＰＭＥ１０００＝８０／５／１５（質量比）、含フッ素化合物（８）ＦＡＡＣ６／ＡＡ／ＰＭＥ１０００＝３６／５／５９（質量比）、の合成を行った。それぞれの共重合成分、含フッ素化合物（２）、（３）、（８）中のフッ素原子含有率に関しては、表１のとおりである。
なお、上記含フッ素化合物（２）、（３）、（８）は、前述の例示化合物（１）に属する化合物である。

＜含フッ素化合物（４）の合成例＞
前記含フッ素化合物（１）の合成例において、末端メチルポリエチレンオキシドモノマー〔ＰＭＥ１０００、日本油脂（株）製、ＰＥＯの繰り返し数（２３）末端Ｍｅ〕を日本油脂（株）製のブレンマーＡＮＥ１３００、ＰＥＯの繰り返し数（３０）末端ノニルＰｈに変更し、その他の成分を表１に記載の添加量に変更した以外は、前記含フッ素化合物（１）の合成例に従い、含フッ素化合物（４）ＦＡＡＣ６／ＡＡ／ＡＮＥ１３００＝５０／５／４５（質量比）の合成を行った。
なお、含フッ素化合物（４）は、前述の例示化合物（２０）に属する化合物である。

＜含フッ素化合物（５）の合成例＞
前記含フッ素化合物（１）の合成例において、末端メチルポリエチレンオキシドモノマー〔ＰＭＥ１０００、日本油脂（株）製、ＰＥＯの繰り返し数（２３）末端Ｍｅ〕を新中村化学（株）製のＮＫ−エステルＭ９０Ｇ、ＰＥＯの繰り返し数（９）末端Ｍｅに変更し、その他の成分を表１に記載の添加量に変更した以外は、前記含フッ素化合物（１）の合成例に従い、含フッ素化合物（５）ＦＡＡＣ６／ＡＡ／Ｍ９０Ｇ＝５０／５／４５（質量比）の合成を行った。
なお、含フッ素化合物（５）は、前述の例示化合物（２）に属する化合物である。

＜含フッ素化合物（６）の合成例＞
前記含フッ素化合物（１）の合成例において、アクリル酸〔ＡＡ、東京化成工業（株）製〕２．５ｇを添加しない以外は、前記含フッ素化合物（１）の合成例に従い、含フッ素化合物（６）ＦＡＡＣ６／ＰＭＥ１０００＝５０／５０（質量比）の合成を行った。
なお、含フッ素化合物（６）は、前述の例示化合物（２４）に属する化合物である。

＜含フッ素化合物（７）の合成例＞
前記含フッ素化合物（１）の合成例において、末端メチルポリエチレンオキシドモノマー〔ＰＭＥ１０００、日本油脂（株）製、ＰＥＯの繰り返し数（２３）末端Ｍｅ〕を日本油脂（株）製のブレンマ−ＰＥ３５０、ＰＥＯの繰り返し数（８）末端Ｈに変更し、その他の成分を表１に記載の添加量に変更した以外は、前記含フッ素化合物（１）の合成例に従い、含フッ素化合物（７）ＦＡＡＣ６／ＡＡ／ＰＥ３５０＝５０／５／４５（質量比）の合成を行った。
なお、含フッ素化合物（７）は、前述の例示化合物（３５）に属する化合物である。

前記で合成したそれぞれの共重合成分、含フッ素化合物（１）〜（８）中のフッ素原子含有率に関しては、表１のとおりである。また、各含フッ素化合物の固形分濃度は２５％となるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを添加し調整している。

（表１中の記号の説明）
・ＰＭＥ１０００： ブレンマーＰＭＥ１０００、ＰＥＯの繰り返し数（２３）末端Ｍｅ
〔日本油脂（株）製〕
・ＡＡ ： アクリル酸〔東京化成工業（株）製〕
・ＦＡＡＣ６ ： ２−（パーフルオロヘキシル）−エチルアクリレート〔ＮＯＫ（株）製〕
・Ｍ９０Ｇ ： ＮＫ−エステルＭ９０Ｇ、ＰＥＯの繰り返し数（９）末端Ｍｅ〔新中村化学（株）製〕
・ＡＮＥ１３００： ブレンマーＡＮＥ１３００、ＰＥＯの繰り返し数（３０）末端ノニルＰｈ〔日本油脂（株）製〕
・ＰＥ３５０ ： ブレンマーＰＥ３５０、ＰＥＯの繰り返し数（８）末端Ｈ〔日本油脂（株）製〕
・Ｖ６５ ： ２，２’−アゾビス（イソバレロニトリル）〔和光純薬工業（株）製〕
・ＬＭ ： ラウリルメルカプタン〔東京化成工業（株）製〕
・ＭＭＰＧ−Ａｃ： プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート〔ダイセル（株）製〕

〔実施例１〕
≪感光性樹脂組成物Ｋ１の調製≫
感光性樹脂組成物Ｋ１は、まず表２に記載の量のＫ顔料分散物１、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ＲＰＭ１０分間攪拌し、次いで、表２に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー２、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ液、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４’−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）−３’−プロモフェニル］−ｓ−トリアジン、界面活性剤１、含フッ素化合物（１）をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ＲＰＭ３０分間攪拌することによって得られる。なお、表２に記載の量は質量部であり、詳しくは以下の組成となっている。

＜Ｋ顔料分散物１＞
・カーボンブラック（デグッサ社製 Ｎｉｐｅｘ３５） ・・・ １３．１％
・分散剤１ ・・・ ０．６５％

・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万） ・・・ ６．７２％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・ ７９．５３％

＜バインダー２＞
・ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物、分子量３．８万） ・・・ ２７％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・ ７３％

＜ＤＰＨＡ液＞
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（重合禁止剤ＭＥＨＱ ５００ｐｐｍ含有、日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ） ・・・ ７６％
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・ ２４％

＜界面活性剤１＞
・下記構造物１ ・・・ ３０％
・メチルエチルケトン ・・・ ７０％

≪離画壁の形成≫
無アルカリガラス基板を、ＵＶ洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。基板を１２０℃３分熱処理して表面状態を安定化させた。
基板を冷却し２３℃に温調後、スリット状ノズルを有すガラス基板用コーター（エフ・エー・エス・アジア社製、商品名：ＭＨ−１６００）にて、上表に記載の組成よりなる感光性樹脂組成物Ｋ１を塗布した。引き続きＶＣＤ（真空乾燥装置、東京応化工業社製）で３０秒間、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性を無くした後、１２０℃３分間プリベークして膜厚２．３μｍの感光性樹脂組成物層Ｋ１を得た。
超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク、以下「フォトマスク」ともいう）とを垂直に立てた状態で、露光マスク面と感光性樹脂組成物層Ｋ１との間の距離を２００μｍに設定し、窒素雰囲気下、露光量３００ｍＪ／ｃｍ^２でパターン露光した。

次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、感光性樹脂組成物層Ｋ１の表面を均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＣＤＫ−１（商品名、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製、ＫＯＨ及びノニオン界面活性剤を含有）の１００倍希釈液に、ナフタレンスルホン酸ソーダを０．５質量％添加して得られた現像液）にて２３℃８０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像しパターニング画像を得た。引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣除去を行い、大気下にて露光量２０００ｍＪ／ｃｍ^２にてポスト露光、続いて２４０℃５０分にてポストベーク（加熱処理）を行って、膜厚２．０μｍ、光学濃度４．０、１００μｍ幅の開口部を有するストライプ状の離画壁（離画壁付き基板）を得た。

≪カラーフィルタの作製≫
＜画素用着色インク組成物の調製＞
下記の成分のうち、先ず、顔料、高分子分散剤及び溶剤を混合し、３本ロールとビーズミルを用いて顔料分散液を得た。その顔料分散液をディソルバー等で十分攪拌しながら、その他の材料を少量ずつ添加し、赤色（Ｒ）画素用着色インク組成物を調製した。

（赤色画素用着色インク組成物の組成）
・顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４） ・・・ ５部
・高分子分散剤（ＡＶＥＣＩＡ社製ソルスパース２４０００） ・・・ １部
・バインダー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万） ・・・ ３部
・第一エポキシ樹脂（ノボラック型エポキシ樹脂、油化シェル社製エピコート１５４）
・・・ ２部
・第二エポキシ樹脂（ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル）・・・ ５部
・硬化剤（トリメリット酸） ・・・ ４部
・溶剤：３−エトキシプロピオン酸エチル ・・・ ８０部

さらに、上記組成中のＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４に代えてＣ．Ｉ．ピグメントグリーン３６を同量用いるほかは赤色画素用着色インク組成物の場合と同様にして緑色（Ｇ）画素用着色インク組成物を調製した。
さらに、上記組成中のＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４に代えてＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を同量用いるほかは赤色画素用着色インク組成物の場合と同様にして青色（Ｂ）画素用着色インク組成物を調製した。

次に上記記載のＲ、Ｇ、Ｂの画素用着色インク組成物を用いて、上記で得られた離画壁付き基板の離画壁で区分された領域内（凸部で囲まれた凹部）に、インクジェット方式の記録装置を用いて所望の濃度になるまでインク組成物の吐出を行い、Ｒ、Ｇ、Ｂのパターンからなるカラーフィルタを作製した。画像着色後のカラーフィルタを２３０℃オーブン中で３０分ベークすることで離画壁、各画素ともに完全に硬化させてカラーフィルタ（カラーフィルタ基板）を得た。

≪液晶表示装置の作製≫
上記より得たカラーフィルタ基板のＲ画素、Ｇ画素、及びＢ画素並びに離画壁の上に更に、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）の透明電極をスパッタリングにより形成した。

このカラーフィルタのＩＴＯ抵抗を測定した（三菱化学（株）製「ロレスタ」；四探針法でシート抵抗を測定）ところ、１２Ω／□という非常に低い値を示した。

＜柱状スペーサパターンの形成＞
下記処方ＳＰ１からなるスペーサ用の感光性樹脂層用塗布液を、上記と同様のスリットコーターにより前記カラーフィルタのＩＴＯ上に塗布し、乾燥して感光性樹脂層ＳＰ１を形成した。
（感光性樹脂層用塗布液の処方ＳＰ１）
・メタクリル酸／アリルメタクリレート共重合体（モル比＝２０／８０、重量平均分子量４００００；高分子物質） ・・・ １０８部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（重合性モノマー）・・・ ６４．７部
・２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔４’−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）−３’−ブロモフェニル〕−ｓ−トリアジン ・・・ ６．２４部
・ハイドロキノンモノメチルエーテル ・・・ ０．０３３６部
・ビクトリアピュアブルーＢＯＨＭ（保土ヶ谷化学社製） ・・・ ０．８７４部
・メガファックＦ７８０Ｆ（大日本インキ化学工業（株）製；界面活性剤）
・・・ ０．８５６部
・メチルエチルケトン ・・・ ３２８部
・１−メトキシ−２−プロピルアセテート ・・・ ４７５部
・メタノール ・・・ １６．６部

次に、所定のフォトマスクを介して超高圧水銀灯により３００ｍＪ／ｃｍ^２でプロキシミティー露光した。露光後、ＫＯＨ系現像液（ＣＤＫ−１（商品名、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製、ＫＯＨ及びノニオン界面活性剤を含有）の１００倍希釈液に、ナフタレンスルホン酸ソーダを０．５質量％添加して得られた現像液）を用いて未露光部の感光性樹脂層を溶解除去した。
続いて、２３０℃で３０分間ベークし、ガラス基板上のＩＴＯ膜の上の離画壁の上部に位置する部分に直径１６μｍ、平均高さ３．７μｍの柱状スペーサパターンを形成した。その上に更にポリイミドよりなる配向膜を設けた。

＜液晶配向分割用突起の形成＞
下記処方Ａからなる突起用感光性樹脂層用塗布液を、上記と同様のスリットコーターにより前記カラーフィルタ基板のＩＴＯ上に塗布し、乾燥して突起用感光性樹脂層を形成した。
次に、突起用感光性樹脂層上に下記処方Ｐ１の中間層用塗布液を用いて、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層を設けた。

（突起用感光性樹脂層用塗布液：処方Ａ）
・ポジ型レジスト液 ・・・ ５３．３部
（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製、ＦＨ−２４１３Ｆ）
・メチルエチルケトン ・・・ ４６．７部
・前記界面活性剤１ ・・・ ０．０４部

（中間層用塗布液：処方Ｐ１）
・ＰＶＡ２０５（ポリビニルアルコール、クラレ（株）製、
鹸化度＝８８％、重合度５５０） ・・・ ３２．２部
・ポリビニルピロリドン（アイエスピー・ジャパン（株）製、Ｋ−３０
・・・ １４．９部
・蒸留水 ・・・ ５２４部
・メタノール ・・・ ４２９部

次に、フォトマスクが突起用感光性樹脂層の表面から１００μｍの距離となるようにプロキシミティー露光機を配置し、該フォトマスクを介して超高圧水銀灯により照射エネルギー１５０ｍＪ／ｃｍ^２でプロキシミティー露光した。その後、２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を、シャワー式現像装置にて３３℃で３０秒間基板に噴霧しながら現像し、突起用感光性樹脂層の不要部（露光部）を現像除去した。すると、前記カラーフィルタ基板のＩＴＯ膜の上のＲ、Ｇ、Ｂの画素の上部に位置する部分に、所望の形状にパターニングされた感光性樹脂層よりなる突起が形成された。次いで、該突起が形成されたカラーフィルタ基板を２４０℃下で５０分ベークすることにより、カラーフィルタ基板上に高さ１．５μｍ、縦断面形状が蒲鉾様の配向分割用突起を形成することができた。

更に、前記より得られたカラーフィルタ基板に対して、駆動側基板及び液晶材料を組合せることによって配向分割垂直配向型液晶表示素子を作製した。即ち、駆動側基板として、ＴＦＴと画素電極（導電層）とが配列形成されたＴＦＴ基板を準備し、該ＴＦＴ基板の画素電極等が設けられた側の表面と、前記より得た、カラーフィルタ基板の配向分割用突起が形成された側の表面とが対向するように配置し、前記で形成したスペーサによる間隙を設けて固定した。この間隙に液晶材料を封入し、画像表示を担う液晶層を設けた。このようにして得た液晶セルの両面に、（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。次いで、冷陰極管のバックライトを構成し、前記偏光板が設けられた液晶セルの背面となる側に配置し、配向分割垂直配向型液晶表示装置とした。

≪測定及び評価≫
＜接触角測定＞
（接触角Ａの測定）
上記離画壁の形成において、マスクを用いてパターン露光する工程を、マスクを用いずに全面露光する工程に代え、該全面露光までで操作を終了し、テスト用感光性樹脂組成物層Ａを得た。
得られたテスト用感光性樹脂組成物層Ａの上面と、実施例１中離画壁の形成で用いたＫＯＨ系現像液と、の接触角Ａを、以下の方法により測定した。
まず、接触角測定器（協和界面科学（株）製の接触角計（ＣＡ−Ａ））を用い、前記ＫＯＨ系現像液からなる２０メモリの大きさの液体試料をつくり、針先から該試料を出して、前記のテスト用感光性樹脂組成物層Ａに接触させることにより、テスト用感光性樹脂組成物層Ａ上に液滴を形成した。形成された液滴を接触角計の覗き穴から観察し、液滴形成から１０秒放置後、接触角Ａを測定した。尚、測定は、テスト用感光性樹脂組成物層Ａ、ＫＯＨ系現像液、及び接触角測定器を、２５℃における環境下で１時間以上保管したものを用いて行った。
測定結果は表９に示す。

（接触角Ｂの測定）
上記離画壁の形成において、マスクを用いてパターン露光する工程を、マスクを用いずに全面露光する工程に代えた以外は上記離画壁の形成と同様の操作をポストベーク完了まで行い、その後１時間放冷し、テスト用感光性樹脂組成物層Ｂを得た。
得られたテスト用感光性樹脂組成物層Ｂの上面と、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと、の接触角Ｂを、前記接触角Ａと同様の方法により測定した。
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートは、和光純薬（株）製のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを用いた。
測定結果は表９に示す。

＜離画壁の線幅ばらつき＞
上記で形成された離画壁の線幅（パターン幅）を、光学顕微鏡観察にてにて、１００点測定し、測定結果のうち、最大値と最小値との差を線幅ばらつきとして評価した。５μｍ以内であれば、実用上許容範囲内である。

＜パターン解像度の評価＞
上記離画壁の形成において、露光に用いたフォトマスクを、ライン幅／スペース幅＝１／１、ライン幅２〜４０μｍ（２μｍ刻み）のフォトマスクに代え、上記離画壁の形成と同様の条件にて現像処理工程まで行った基板を用意した。得られた基板上のパターンを光学顕微鏡で観察し、スペースが開いている（即ち、解像できている）最低ライン／スペースの値を評価した。評価結果は表９に示す。値が小さい程、パターン解像度に優れていることを示す。

＜離画壁−基板密着評価＞
上記離画壁の形成と同様の条件にてパターン露光する工程まで行った基板を３枚用意し、現像時間を９０秒、１００秒、１１０秒と長くして処理を行った以外は上記離画壁の形成と同様の現像条件にて処理した。それぞれの現像時間での離画壁の欠けを１０００画素分、目視で下記のごとく評価した。評価結果は表９に示す。なお、許容されるのはＡランク、Ｂランク、及びＣランクである。
（評価基準）
離画壁欠けが全く無い ・・・Ａランク
離画壁欠けが１〜２箇所 ・・・Ｂランク
離画壁欠けが３〜１０箇所 ・・・Ｃランク
離画壁欠けが１１箇所以上 ・・・Ｄランク

＜カラーフィルタの混色評価＞
得られたカラーフィルタを画素を形成した側とは反対側から２００倍の光学顕微鏡で目視観察して画素間の混色の有無を調べた。１０００画素観察して下記のランクに分けた。評価結果を表９に示す。許容されるのはＡランク、Ｂランク及びＣランクのものである。
（評価基準）
Ａランク：混色が全くないもの
Ｂランク：混色が１〜２箇所のもの
Ｃランク：混色が３〜１０箇所のもの
Ｄランク：混色が１１箇所以上のもの

＜液晶表示装置の評価＞
上記で作製した液晶表示装置を、下記のごとく評価した。
液晶表示装置の各々について、グレイのテスト信号を入力させたときのグレイ表示を目視にて観察し、表示ムラの発生の有無を下記評価基準にしたがって評価した。評価結果は表９に示す。
（評価基準）
Ａ：まったくムラがみられない（非常に良い）
Ｂ：ガラス基板の縁部分にかすかにムラが見られるが、表示部に問題なし（良い）
Ｃ：表示部にかすかにムラが見られるが実用レベル（普通）
Ｄ：表示部にムラがある（やや悪い）
Ｅ：表示部に強いムラがある（非常に悪い）

〔実施例２〕
≪感光性転写材料Ｋ１の製法≫
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。次に、下記処方Ｐ１から成る中間層用塗布液を塗布、乾燥させた。更に、前記感光性樹脂組成物Ｋ１を塗布、乾燥させた。このようにして仮支持体の上に乾燥膜厚が１４．６μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、乾燥膜厚が２．３μｍの感光性樹脂組成物層と、をこの順に設け、最後に保護フイルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。
こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）とブラック（Ｋ）の感光性樹脂組成物層とが一体となった感光性転写材料を作製し、サンプル名を感光性転写材料Ｋ１とした。

＜熱可塑性樹脂層用塗布液：処方Ｈ１＞
・メタノール ・・・ １１．１部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・ ６．３６部
・メチルエチルケトン ・・・ ５２．４部
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃） ・・・ ５．８３部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃） ・・・ １３．６部
・２，２−ビス［４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル］プロパン（新中村化学工業（株）製） ・・・ ９．１部
・前記界面活性剤１ ・・・ ０．５４部

＜中間層用塗布液：処方Ｐ１＞
・ＰＶＡ２０５（ポリビニルアルコール、（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５５０） ・・・ ３２．２部
・ポリビニルピロリドン（アイエスピー・ジャパン社製、Ｋ−３０）・・・１４．９部
・蒸留水 ・・・ ５２４部
・メタノール ・・・ ４２９部

≪離画壁の形成≫
無アルカリガラス基板を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で１００℃２分加熱した。
得られたシランカップリング処理ガラス基板に、上記の製法にて作製された感光性転写材料Ｋ１からカバーフィルムを除去し、除去後に露出した感光性樹脂組成物層の表面と前記シランカップリング処理ガラス基板の表面とが接するように重ね合わせ、ラミネータ（株式会社日立インダストリイズ製（ＬａｍｉｃＩＩ型））を用いて、前記１００℃で２分間加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。続いてポリエチレンテレフタレートの仮支持体を、熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体を除去した。仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製）で、基板とマスク（画像パターンを有す石英露光マスク）を垂直に立てた状態で、露光マスク面と感光性樹脂組成物層の間の距離を２００μｍに設定し、露光量７０ｍＪ／ｃｍ^２でパターン露光した。

パターン露光後の感光性樹脂組成物層を、以下の方法で現像し、パターン画像を得た。
まず、トリエタノールアミン系処理液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ−ＰＤ２、富士フイルム（株）製）を純水で１２倍（Ｔ−ＰＤ２を１質量部と純水を１１質量部の割合で混合）に希釈した液（３０℃）を用いて５０秒間、フラットノズルで圧力０．０４ＭＰａとしてシャワー現像し、熱可塑性樹脂層と中間層とを除去した。引き続き、この基板上にエアを吹きかけて液切りした後、純水をシャワーにより１０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄を行ない、エアを吹きかけて基板上の液だまりを減らした。
引き続いて、ＫＯＨ系現像液（ＣＤＫ−１（商品名、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製、ＫＯＨ及びノニオン界面活性剤を含有）の１００倍希釈液に、ナフタレンスルホン酸ソーダを０．５質量％添加して得られた現像液）を用いて３０秒間、コーン型ノズルで圧力０．１５ＭＰａにてシャワー現像を行なって、感光性樹脂組成物層の未露光部分を除去し、パターン画像を得た。
続いて、洗浄剤（商品名：Ｔ−ＳＤ３、富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液（３３℃）を用いて２０秒間、コーン型ノズルで圧力０．０２ＭＰａにてシャワーにして吹きかけ、更にナイロン毛を有す回転ブラシによってパターン画像を擦って残渣除去を行った。

前記残渣除去後のパターン画像付き基板に対し、大気下においてアライナーにて該基板のパターン画像形成面側から基板の全面を２０００ｍＪ／ｃｍ^２でポスト露光し、続いて２４０℃５０分にてポストベークを行って光学濃度４．０の離画壁を得た。

次いで、実施例１と同様にしてカラーフィルタ、液晶表示装置を作製し、実施例１と同様の測定及び評価を行った。測定及び評価の結果を表９に示す。
ここで、接触角Ａの測定は、以下のようにして行った。

（接触角Ａの測定）
上記離画壁の形成において、マスクを用いてパターン露光する操作を、マスクを用いずに全面露光する操作に代えて露光を行い、その後、上記トリエタノールアミン系処理液で熱可塑性樹脂層及び中間層を除去して感光性樹脂組成物層を露出させ、純水シャワー洗浄を行ない、エアを吹きかけて乾燥させて、テスト用感光性樹脂組成物層Ａを得た。
得られたテスト用感光性樹脂組成物層Ａの上面と、上記ＫＯＨ系現像液と、の接触角Ａを、実施例１と同様の方法により測定した。

［実施例３］
実施例１中感光性樹脂組成物Ｋ１の調製において、添加する含フッ素化合物（１）を、含フッ素化合物（２）に変更した以外は、上記感光性樹脂組成物Ｋ１の調製と同様の手順にて感光性樹脂組成物Ｋ２を調製した。得られた感光性樹脂組成物Ｋ２を用い、実施例２の感光性転写材料Ｋ１の作製と同様の方法にて感光性転写材料Ｋ２を作製した。得られた感光性転写材料Ｋ２を用い、実施例２と同様の方法で離画壁を形成し、カラーフィルタ及び液晶表示装置を作製し、実施例２と同様の測定及び評価を行った。測定及び評価の結果を表９に示す。

［実施例４］
実施例１中感光性樹脂組成物Ｋ１の調製において、添加する含フッ素化合物（１）を、含フッ素化合物（３）に変更した以外は、上記感光性樹脂組成物Ｋ１の調製と同様の手順にて感光性樹脂組成物Ｋ３を調製した。得られた感光性樹脂組成物Ｋ３を用い、実施例２の感光性転写材料Ｋ１の作製と同様の方法にて感光性転写材料Ｋ３を作製した。得られた感光性転写材料Ｋ３を用い、実施例２と同様の方法で離画壁を形成し、カラーフィルタ及び液晶表示装置を作製し、実施例２と同様の測定及び評価を行った。測定及び評価の結果を表９に示す。

［実施例５］
実施例１中感光性樹脂組成物Ｋ１の調製において、添加する含フッ素化合物（１）を、含フッ素化合物（４）に変更した以外は、上記感光性樹脂組成物Ｋ１の調製と同様の手順にて感光性樹脂組成物Ｋ４を調製した。得られた感光性樹脂組成物Ｋ４を用い、実施例２の感光性転写材料Ｋ１の作製と同様の方法にて感光性転写材料Ｋ４を作製した。得られた感光性転写材料Ｋ４を用い、実施例２と同様の方法で離画壁を形成し、カラーフィルタ及び液晶表示装置を作製し、実施例２と同様の測定及び評価を行った。測定及び評価の結果を表９に示す。

［実施例６］
実施例１中感光性樹脂組成物Ｋ１の調製において、添加する含フッ素化合物（１）を、含フッ素化合物（５）に変更した以外は、上記感光性樹脂組成物Ｋ１の調製と同様の手順にて感光性樹脂組成物Ｋ５を調製した。得られた感光性樹脂組成物Ｋ５を用い、実施例２の感光性転写材料Ｋ１の作製と同様の方法にて感光性転写材料Ｋ５を作製した。得られた感光性転写材料Ｋ５を用い、実施例２と同様の方法で離画壁を形成し、カラーフィルタ及び液晶表示装置を作製し、実施例２と同様の測定及び評価を行った。測定及び評価の結果を表９に示す。

［実施例７］
実施例１中感光性樹脂組成物Ｋ１の調製において、添加する含フッ素化合物（１）を、含フッ素化合物（６）に変更した以外は、上記感光性樹脂組成物Ｋ１の調製と同様の手順にて感光性樹脂組成物Ｋ６を調製した。得られた感光性樹脂組成物Ｋ６を用い、実施例２の感光性転写材料Ｋ１の作製と同様の方法にて感光性転写材料Ｋ６を作製した。得られた感光性転写材料Ｋ６を用い、実施例２と同様の方法で離画壁を形成し、カラーフィルタ及び液晶表示装置を作製し、実施例２と同様の測定及び評価を行った。測定及び評価の結果を表９に示す。

［実施例８］
実施例１中感光性樹脂組成物Ｋ１の調製において、添加する含フッ素化合物（１）を、含フッ素化合物（７）に変更した以外は、上記感光性樹脂組成物Ｋ１の調製と同様の手順にて感光性樹脂組成物Ｋ７を調製した。得られた感光性樹脂組成物Ｋ７を用い、実施例２の感光性転写材料Ｋ１の作製と同様の方法にて感光性転写材料Ｋ７を作製した。得られた感光性転写材料Ｋ７を用い、実施例２と同様の方法で離画壁を形成し、カラーフィルタ及び液晶表示装置を作製し、実施例２と同様の測定及び評価を行った。測定及び評価の結果を表９に示す。

［実施例９］
実施例１における感光性樹脂組成物Ｋ１の組成を、下表のごとく変更した以外は感光性樹脂組成物Ｋ１の調製と同様の手順にて感光性樹脂組成物Ｋ８を調製した。得られた感光性樹脂組成物Ｋ８を用い、実施例２の感光性転写材料Ｋ１の作製と同様の方法にて感光性転写材料Ｋ８を作製した。得られた感光性転写材料Ｋ８を用い、実施例２と同様の方法で離画壁を形成し、カラーフィルタ及び液晶表示装置を作製し、実施例２と同様の測定及び評価を行った。測定及び評価の結果を表９に示す。

［実施例１０］
実施例１における感光性樹脂組成物Ｋ１の組成を、下表のごとく変更した以外は感光性樹脂組成物Ｋ１の調製と同様の手順にて感光性樹脂組成物Ｋ９を調製した。得られた感光性樹脂組成物Ｋ９を用い、実施例２の感光性転写材料Ｋ１の作製と同様の方法にて感光性転写材料Ｋ９を作製した。得られた感光性転写材料Ｋ９を用い、実施例２と同様の方法で離画壁を形成し、カラーフィルタ及び液晶表示装置を作製し、実施例２と同様の測定及び評価を行った。測定及び評価の結果を表９に示す。

［実施例１１］
実施例１における感光性樹脂組成物Ｋ１の組成を、下表のごとく変更した以外は感光性樹脂組成物Ｋ１の調製と同様の手順にて感光性樹脂組成物Ｋ１０を調製した。得られた感光性樹脂組成物Ｋ１０を用い、実施例２の感光性転写材料Ｋ１の作製と同様の方法にて感光性転写材料Ｋ１０を作製した。得られた感光性転写材料Ｋ１０を用い、実施例２と同様の方法で離画壁を形成し、カラーフィルタ及び液晶表示装置を作製し、実施例２と同様の測定及び評価を行った。測定及び評価の結果を表９に示す。

［実施例１２］
実施例１における感光性樹脂組成物Ｋ１の組成を、下表のごとく変更した以外は感光性樹脂組成物Ｋ１の調製と同様の手順にて感光性樹脂組成物Ｋ１１を調製した。得られた感光性樹脂組成物Ｋ１１を用い、実施例２の感光性転写材料Ｋ１の作製と同様の方法にて感光性転写材料Ｋ１１を作製した。得られた感光性転写材料Ｋ１１を用い、実施例２と同様の方法で離画壁を形成し、カラーフィルタ及び液晶表示装置を作製し、実施例２と同様の測定及び評価を行った。測定及び評価の結果を表９に示す。

［実施例１３］
実施例１において、ＲＧＢ画素用着色インク組成物を下記のＲＧＢ画素用着色インク組成物２に変更した以外は、実施例１と同様の方法でカラーフィルタ、液晶表示装置を作製し、実施例１と同様の測定及び評価を行った。測定及び評価の結果を表９に示す。

−顔料分散液の調製−
ブロム化フタロシアニングリーン（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ３６、商品名：Ｒｉｏｎｏｌ Ｇｒｅｅｎ ６ＹＫ、東洋インキ製造（株）製）に分散剤（上記分散剤１）及び溶剤（１，３−ブタンジオールジアセテート）（以下１，３−ＢＧＤＡと略す。）を下記の表７に示す如く配合し、プレミキシングの後、モーターミルＭ−５０（アイガー・ジャパン社製）で、直径０．６５ｍｍのジルコニアビーズを充填率８０％で用い、周速９ｍ／ｓで２５時間分散し、Ｇ用顔料分散液（Ｇ１）を調製した。Ｇ用顔料分散液（Ｇ１）において、顔料及びその他の成分を表７に示す如く配合した以外はＧ用顔料分散液（Ｇ１）と同様にして、Ｇ用顔料分散液（Ｇ２），Ｒ用顔料分散液（Ｒ１），（Ｒ２），Ｂ用顔料分散液（Ｂ１），（Ｂ２）を調製した。尚、日機装社製ナノトラックＵＰＡ−ＥＸ１５０を用いて、この顔料分散液の数平均粒径を測定した。

次いで、下記表８に示す処方のとおり、溶剤、モノマー、界面活性剤成分を混合して、２５℃で３０分間攪拌したのち、不溶物が無いことを確認し、モノマー溶液を調製した。
次に、Ｇ用顔料分散液（Ｇ１）、Ｇ用顔料分散液（Ｇ２）を撹拌しながら、前記モノマー液をゆっくりと添加し、２５℃で３０分間撹拌し、Ｇ用インクジェットインク（インクＧ−１）を調製した。
同様に各色インク（Ｂ−１、Ｒ−１）を調整した。

用いた素材の詳細を示す。
・Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｒ．２５４（商品名：Ｉｒｇａｐｈｏｒ Ｒｅｄ Ｂ−ＣＦ、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
・Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｒ．１７７（商品名：Ｃｒｏｍｏｐｈｔａｌ Ｒｅｄ Ａ２Ｂ、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
・Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｙ．１５０ （商品名：Ｂａｙｐｌａｓｔ Ｙｅｌｌｏｗ ５ＧＮ ０１、バイエル株式会社製）
・Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｂ．１５：６（商品名：Ｒｉｏｎｏｌ Ｂｌｕｅ ＥＳ、東洋インキ製造（株）製）
・Ｃ．Ｉ．Ｐ．Ｖ．２３（商品名：Ｈｏｓｔａｐｅｒｍ Ｖｉｏｌｅｔ ＲＬ−ＮＦ、 クラリアントジャパン（株）製）
・１，３−ＢＧＤＡ（１，３−ブタンジオールジアセテート；沸点２３２℃）
・ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）、（固形分１００％）
・界面活性剤２：前記界面活性剤１の欄に示した構造物１（固形分１００％）

［実施例１４〜２１］
実施例１中、離画壁の形成において、現像液中のナフタレンスルホン酸ソーダの濃度、又は撥インク性化合物の種類を表９に示すように変更した以外は実施例１と同様にして離画壁を形成し、カラーフィルタ及び液晶表示装置を作製し、実施例１と同様の測定及び評価を行った。測定及び評価の結果を表９に示す。

［比較例１］
実施例１中、離画壁の形成において、現像液にナフタレンスルホン酸ソーダを添加しなかった以外は実施例１と同様にして離画壁を形成し、カラーフィルタ及び液晶表示装置を作製し、実施例１と同様の測定及び評価を行った。測定及び評価の結果を表９に示す。

［比較例２］
実施例１中、感光性樹脂組成物Ｋ１において、含フッ素化合物を添加しなかった以外は、実施例１と同様の方法で離画壁を形成し、カラーフィルタ及び液晶表示装置を作製し、実施例１と同様の測定及び評価を行った。測定及び評価の結果を表９に示す。

表９に示すように、本発明の画像形成方法を用いて、離画壁、カラーフィルタ、及び液晶表示装置を作製した場合（実施例１〜２１）は、離画壁の解像度が良好であり、離画壁の線幅ばらつきが抑制されており、離画壁−基板間の密着性が良好（又は許容範囲内）であった。また、カラーフィルタの混色及び液晶表示装置の表示ムラが抑制されていた。

本発明において、感光性樹脂層上面やパターン画像上面を説明するための図である。

符号の説明

１ ・・・ 離画壁
２ ・・・ 着色画素（着色領域）
３ ・・・ 凹部
４ ・・・ 離画壁上面
５ ・・・ 離画壁側面
６ ・・・ 基板

Claims (10)

1. 撥インク性化合物を含有する感光性樹脂組成物を用いて基板上に感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、
   形成された感光性樹脂層を露光する露光工程と、
   前記露光後の感光性樹脂層を、ＪＩＳ Ｒ３２５７に記載の方法に準拠し測定された前記露光後の感光性樹脂層上面との接触角Ａが８０°以下である現像液を用いて現像してパターン画像を得る現像工程と、
   を有する画像形成方法。
2. 前記現像して得られたパターン画像を熱処理する熱処理工程を更に有し、ＪＩＳ Ｒ３２５７に記載の方法に準拠し測定された前記熱処理工程後のパターン画像上面とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの接触角Ｂが３０°以上であることを特徴とする請求項１に記載の画像形成方法。
3. 前記感光性樹脂組成物が、前記撥インク性化合物として含フッ素化合物を含有し、更に、開始剤、バインダー、エチレン性不飽和化合物、及び色材を含有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の画像形成方法。
4. 前記含フッ素化合物が、少なくともフッ素原子を側鎖に有する繰り返し単位を含み、該含フッ素化合物中のフッ素原子含有率が３６〜７０質量％であることを特徴とする請求項３に記載の画像形成方法。
5. 前記含フッ素化合物が、（ａ）少なくともフッ素原子を側鎖に有する繰り返し単位と、（ｂ）ポリエーテル構造を側鎖に有する繰り返し単位と、を含むことを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の画像形成方法。
6. 前記含フッ素化合物が、（ａ）少なくともフッ素原子を側鎖に有する繰り返し単位と、（ｂ）ポリエーテル構造を側鎖に有する繰り返し単位と、（ｃ）カルボン酸基を側鎖に有する繰り返し単位と、を含むことを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の記載の画像形成方法。
7. 前記ポリエーテル構造が、末端封止型のポリエーテル構造であることを特徴とする請求項５又は請求項６に記載の画像形成方法。
8. 前記感光性樹脂層形成工程は、前記感光性樹脂組成物からなる層を仮支持体上に有する感光性転写材料の該層を転写することにより、基板上に感光性樹脂層を形成することを特徴とする請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の画像形成方法。
9. 前記現像液が、界面活性剤を含有することを特徴とする請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の画像形成方法。
10. 前記現像液中における前記界面活性剤の含有率が、０．１〜１０質量％であることを特徴とする請求項９に記載の画像形成方法。

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