JP2009068995A - Microarray device - Google Patents
Microarray device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009068995A JP2009068995A JP2007237724A JP2007237724A JP2009068995A JP 2009068995 A JP2009068995 A JP 2009068995A JP 2007237724 A JP2007237724 A JP 2007237724A JP 2007237724 A JP2007237724 A JP 2007237724A JP 2009068995 A JP2009068995 A JP 2009068995A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- microarray
- microarray substrate
- unit
- substrate
- edge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
- Investigating Or Analysing Biological Materials (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
Abstract
【課題】基準マークやパターン領域を設置することなくスポット領域の位置ズレを修正しスポット単位の画素数を増加させ情報量を向上できるマイクロアレイ装置を提供する。
【解決手段】マイクロアレイ基板11を設置して移動可能なステージ12と、ステージ12の移動方向と移動量を制御するステージ制御部13と、マイクロアレイ基板11を撮像して受光素子の各画素にて受光した光の輝度をデジタルで表したデジタル画像データを出力する撮像部14と、デジタル画像データからマイクロアレイ基板11の長辺及び短辺のエッジ情報を抽出するエッジ抽出部15と、エッジ情報とマイクロアレイ基板11の角と基準点との相対位置情報からマイクロアレイ基板11の位置ズレを算出する位置ズレ算出部16とを含み、ステージ制御部13は、位置ズレ算出部16が算出した位置ズレを修正するようにステージ12を制御する。
【選択図】図1Provided is a microarray device capable of correcting a positional deviation of a spot area without setting a reference mark or a pattern area, increasing the number of pixels in a spot unit, and improving an information amount.
A stage 12 that can be moved by installing a microarray substrate 11, a stage control unit 13 that controls the direction and amount of movement of the stage 12, and an image of the microarray substrate 11 that is received by each pixel of a light receiving element. An imaging unit 14 that outputs digital image data that represents the brightness of the light that has been digitally expressed, an edge extraction unit 15 that extracts edge information on the long and short sides of the microarray substrate 11 from the digital image data, edge information and the microarray substrate A position shift calculation unit 16 that calculates a position shift of the microarray substrate 11 from the relative position information of the 11 corners and the reference point, and the stage control unit 13 corrects the position shift calculated by the position shift calculation unit 16. The stage 12 is controlled.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、サンプル検体をアレイ状に定着した複数のスポットを有するマイクロアレイ基板を測定するマイクロアレイ装置に関し、より詳細には、マイクロアレイ基板の位置ズレを修正する技術に関する。 The present invention relates to a microarray apparatus for measuring a microarray substrate having a plurality of spots in which sample specimens are fixed in an array, and more particularly to a technique for correcting a positional deviation of the microarray substrate.
従来のマイクロアレイ基板は、生体分子の解析に利用され、生体分子として、主に遺伝子が広く利用されている。以下、遺伝子で例示するとマイクロアレイにより試料としての個々の細胞、組織あるいは個体での遺伝子の発現を網羅的に解析可能となっている。従来のマイクロアレイ基板の製造方法として、1×3インチ大のガラス基板上にナノリットル単位の遺伝子溶液の液滴を点着させることによりマイクロメートル単位の微小なスポットを形成して、ガラス基板上に遺伝子断片を固定化する方法が開示されている(例えば、特許文献1参照)。 Conventional microarray substrates are used for analysis of biomolecules, and genes are mainly used widely as biomolecules. Hereinafter, when exemplified by genes, the expression of genes in individual cells, tissues or individuals as samples can be comprehensively analyzed by a microarray. As a conventional method for manufacturing a microarray substrate, a microscopic spot is formed on a glass substrate by spotting a droplet of a gene solution in a nanoliter unit on a 1 × 3 inch glass substrate. A method for immobilizing gene fragments has been disclosed (for example, see Patent Document 1).
このように製造されたマイクロアレイ基板は、マイクロアレイ基板上の遺伝子を蛍光色素により標識した後、励起光により蛍光色素を励起し発生した蛍光をスキャナーやCCD(Charge Coupled Device)カメラで撮像することで蛍光画像を獲得し、この画像を解析するマイクロアレイ基板の測定装置が開示されている(例えば、特許文献2参照)。 The microarray substrate manufactured in this way is labeled by fluorescently dyeing the gene on the microarray substrate with a fluorescent dye and then imaging the generated fluorescence with a scanner or a CCD (Charge Coupled Device) camera. An apparatus for measuring a microarray substrate that acquires an image and analyzes the image is disclosed (for example, see Patent Document 2).
このように画像を獲得する従来のマイクロアレイ装置では、スキャナーやCCDカメラで撮像する場合、マイクロアレイ基板を装置に設置する際に人為的な要因で位置ズレが発生したり、スキャナーで走査する際に機械的な要因で位置ズレが発生する。そのために、予め位置ズレ補正用の基準マークと、特定パターンが形成されたスポットをマイクロアレイ基板に配置し、マイクロアレイ基板を撮像して獲得した画像に対して基準マークと特定パターンの情報を用いて位置ズレを補正する装置及び方法が提案されている(例えば、特許文献3参照)。
しかしながら、前記従来の構成では、スキャナーやCCDカメラで撮像する領域毎に位置ズレを補正するための基準マークやパターン領域を設置することにより、その設置領域の分だけ測定対象のサンプル検体のスポット数が減少してしまうという課題を有していた。 However, in the conventional configuration, by setting a reference mark or a pattern area for correcting positional deviation for each area captured by a scanner or a CCD camera, the number of spots of the sample specimen to be measured is equal to the installation area. Had the problem of decreasing.
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、基準マークやパターン領域を設置することなく、マイクロアレイ基板の位置ズレを修正するマイクロアレイ装置を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-described conventional problems, and an object thereof is to provide a microarray apparatus that corrects a positional deviation of a microarray substrate without installing a reference mark or a pattern region.
前記従来の課題を解決するために、本発明のマイクロアレイ装置は、基板上にサンプル検体を定着した複数のスポットを有するマイクロアレイ基板を測定するマイクロアレイ装置において、前記マイクロアレイ基板を設置して移動可能なステージと、前記ステージの移動方向と移動量を制御するステージ制御部と、前記マイクロアレイ基板を撮像して受光素子の各画素にて受光した光の輝度をデジタルで表したデジタル画像データを出力する撮像部と、前記デジタル画像データから前記マイクロアレイ基板の長辺及び短辺のエッジ情報を抽出するエッジ抽出部と、前記マイクロアレイ基板の角と前記マイクロアレイ基板の基準点との相対位置情報を記憶したマイクロアレイ位置情報記憶部と、前記エッジ情報と前記マイクロアレイ基板の角と前記マイクロアレイ基板の基準点との相対位置情報から前記マイクロアレイ基板の位置ズレを算出する位置ズレ算出部とを含み、前記ステージ制御部は、前記位置ズレ算出部が算出した位置ズレを修正するように前記ステージを制御することを特徴とするものである。 In order to solve the above-described conventional problems, a microarray apparatus according to the present invention is a microarray apparatus that measures a microarray substrate having a plurality of spots in which a sample specimen is fixed on the substrate, and a stage that is movable by installing the microarray substrate. A stage control unit that controls the moving direction and amount of movement of the stage, and an imaging unit that outputs digital image data that digitally represents the luminance of light received by each pixel of the light receiving element by imaging the microarray substrate And an edge extraction unit that extracts edge information of the long side and the short side of the microarray substrate from the digital image data, and microarray position information that stores relative position information between a corner of the microarray substrate and a reference point of the microarray substrate A storage unit, the edge information, and a corner of the microarray substrate; A position shift calculation unit that calculates a position shift of the microarray substrate from relative position information with respect to a reference point of the microarray substrate, and the stage control unit corrects the position shift calculated by the position shift calculation unit. The stage is controlled.
さらにマイクロアレイ装置において、前記エッジ抽出部は、前記デジタル画像データからノイズ成分を除去するノイズ除去部と、前記ノイズ除去部が出力するノイズ除去画像データにエッジ検出フィルタを適用するエッジ検出部と、前記エッジ検出部が出力するエッジ画像データを順次走査して前記マイクロアレイ基板の長辺及び短辺の直線を検出する直線検出部を含み、前記デジタル画像データから前記マイクロアレイ基板の長辺及び短辺の直線を検出することを特徴とするものである。 Further, in the microarray device, the edge extraction unit includes a noise removal unit that removes a noise component from the digital image data, an edge detection unit that applies an edge detection filter to the noise-removed image data output from the noise removal unit, A straight line detector that sequentially scans the edge image data output by the edge detector to detect straight lines of the long side and the short side of the microarray substrate, and the straight line of the long side and the short side of the microarray substrate from the digital image data; Is detected.
さらにマイクロアレイ装置において、前記位置ズレ算出部は、前記エッジ情報から前記マイクロアレイ基板の長辺及び短辺の直線の交点を算出するマイクロアレイ角算出部と、前記マイクロアレイ角算出部が出力する前記マイクロアレイ基板の角の座標と前記マイクロアレイ位置情報記憶部から読み出した前記マイクロアレイ基板の角と前記マイクロアレイ基板の基準点との相対位置情報から前記マイクロアレイ基板の基準点の座標を算出し前記撮像部の撮像視野に対するX軸方向及びY軸方向の位置ズレを算出するXY平面位置ズレ算出部と、前記エッジ抽出部が出力する前記マイクロアレイ基板の長辺及び短辺の直線からXY平面上の回転ズレを算出する回転ズレ算出部を含み、前記マイクロアレイ基板の長辺及び短辺の直線と前記マイクロアレイ基板の基準点との相対位置情報からX軸方向及びY軸方向及び回転方向の位置ズレを算出することを特徴とするものである。 Furthermore, in the microarray apparatus, the positional deviation calculation unit includes: a microarray angle calculation unit that calculates an intersection of a straight line between the long side and the short side of the microarray substrate from the edge information; and the microarray substrate that outputs the microarray angle calculation unit. The coordinate of the reference point of the microarray substrate is calculated from the coordinate of the corner and the relative position information of the corner of the microarray substrate read from the microarray position information storage unit and the reference point of the microarray substrate, and X with respect to the imaging field of view of the imaging unit An XY plane position shift calculation unit that calculates a position shift in the axial direction and the Y axis direction, and a rotation shift that calculates a rotation shift on the XY plane from the straight lines of the long side and the short side of the microarray substrate output from the edge extraction unit. A straight line of long sides and short sides of the microarray substrate and the my It is characterized in that to calculate the X-axis direction and the Y-axis direction and the positional deviation in the rotational direction from the relative position information of the reference point of Roarei substrate.
さらにマイクロアレイ装置において、前記マイクロアレイ基板の基準点と前記複数のスポットとの相対位置情報を記憶したスポット位置情報記憶部と、前記デジタル画像データと前記スポット位置情報記憶部から読み出した前記マイクロアレイ基板の基準点と前記複数のスポットとの相対位置情報から前記複数のスポットの位置を特定するスポット位置特定部とをさらに含むことを特徴とするものである。 Further, in the microarray device, a spot position information storage unit storing relative position information of a reference point of the microarray substrate and the plurality of spots, a reference of the microarray substrate read from the digital image data and the spot position information storage unit It further includes a spot position specifying unit that specifies the positions of the plurality of spots from the relative position information of the points and the plurality of spots.
本発明のマイクロアレイ装置によれば、位置合わせのための基準マークやパターン領域を設置することなく、マイクロアレイ基板の位置ズレを修正することができる。 According to the microarray apparatus of the present invention, it is possible to correct the positional deviation of the microarray substrate without installing a reference mark or a pattern area for alignment.
以下に、本発明のマイクロアレイ装置の実施の形態を図面とともに詳細に説明する。 Embodiments of the microarray device of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
(実施の形態)
図1は、本発明の実施の形態におけるマイクロアレイ装置のブロック図を示す。図1においてマイクロアレイ装置は、複数のスポットを有するマイクロアレイ基板11を設置してX軸方向及びY軸方向及びZ軸方向及びXY平面上の回転方向に移動可能なステージ12と、ステージ12の移動方向と移動量を制御するステージ制御部13と、マイクロアレイ基板11の画像を撮像しデジタル画像データを出力する撮像部14と、撮像部14で出力するデジタル画像データからマイクロアレイ基板11の長辺及び短辺のエッジ情報を抽出するエッジ抽出部15と、マイクロアレイ基板11の角と撮像部14で撮像を行う際に撮像視野に入るマイクロアレイ基板11の基準点との相対位置情報を記憶するマイクロアレイ位置情報記憶部17と、エッジ抽出部15が出力するエッジ情報からマイクロアレイ基板11の角の座標を算出しマイクロアレイ位置情報記憶部17から読み出したマイクロアレイ基板11の角とマイクロアレイ基板11の基準点との相対位置情報からマイクロアレイ基板11の基準点の座標を算出し、撮像部14の撮像視野からのX軸方向及びY軸方向の位置ズレとXY平面上の回転方向の位置ズレを算出する位置ズレ算出部16と、マイクロアレイ基板11の基準点と複数のスポットとの相対位置情報を記憶したスポット位置情報記憶部18と、撮像部14で出力するデジタル画像データとスポット位置情報記憶部18から読み出したマイクロアレイ基板11の基準点と複数のスポットとの相対位置情報から複数のスポットの位置を特定するスポット位置特定部19で構成される。以下、本発明の実施の形態におけるマイクロアレイ装置の構成要素毎に詳細を説明する。
(Embodiment)
FIG. 1 shows a block diagram of a microarray apparatus according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, the microarray apparatus includes a
まず、マイクロアレイ基板11として、本発明の実施の形態で例示可能な構成を図2に示す。図2において、マイクロアレイ基板11は、1×3インチ大の無色透明なガラス基板であり、サンプル検体をアレイ状に定着した複数のスポット22が20mm×20mmのスポット領域21に配置されている。なお、図2において実線で示しているスポット領域21の外枠は説明のために明示したものであり、実際のマイクロアレイ基板11上では可視化しなくてもよい。
First, as the microarray substrate 11, a configuration that can be exemplified in the embodiment of the present invention is shown in FIG. In FIG. 2, the microarray substrate 11 is a colorless transparent glass substrate having a size of 1 × 3 inches, and a plurality of
撮像部14は、図2で示したマイクロアレイ基板11を撮像し、デジタル画像データを出力する。撮像部14の撮像には、マイクロアレイ基板11の位置ズレを修正するためにマイクロアレイ基板11の角領域を撮像する場合と、マイクロアレイ基板11上の複数のスポット22から発生する蛍光または発光を撮像する場合の2パターンある。これらの被写体の撮像は露光によって行われ、露光時間は蛍光または発光が十分観察できる時間に制御される。ここで撮像部14は、各受光素子(画素)が受光した光の強度を積分し、その値を輝度値として全受光素子のデータを出力する。この時、全受光素子が出力する輝度値はアナログデジタル変換により離散デジタルデータに変換(量子化)される。即ち、アナログデジタル変換のサンプリング時間(ΔT)毎に撮像部14の全受光素子の輝度値がデジタル画像データとして出力される。本発明においては、撮像部14は上記の如く動作するモノクロCCD(Charge Coupled Device)カメラなどが用いられる。
The
ステージ12は、マイクロアレイ基板11を設置可能な形状となっており、X軸方向及びY軸方向及びZ軸方向及びXY平面上の回転方向に移動可能である。ただし、Z軸方向の移動についてはマイクロアレイ基板11の位置ズレ修正には利用しないが、撮像部14で撮像する際のフォーカス調整に利用する。
The
ステージ制御部13は、ステージ12をX軸方向及びY軸方向及びZ軸方向及びXY平面上の回転方向へ移動するための制御信号を出力する。ステージ12の移動にはマイクロアレイ基板11の位置ズレを算出するための移動(マイクロアレイ基板11の角領域が撮像部14の撮像視野に入るようにステージ12を移動させる)とマイクロアレイ基板11の位置ズレを修正するための移動(位置ズレ算出部16で出力する位置ズレ量に応じてX軸方向及びY軸方向及びXY平面上の回転方向へステージ12を移動させる)の2パターンあり、ステージ制御部13はそれぞれの場合に応じた制御信号を出力する。
The
エッジ抽出部15は、マイクロアレイ基板11の角領域を撮像部14で撮像し出力されたデジタル画像データからマイクロアレイ基板11の長辺及び短辺のエッジを抽出し、エッジ上にある2点以上の座標情報からそれぞれの直線を算出する。
The
このエッジ抽出部15での処理内容について、図3、図4、図5、図6を用いて説明する。図3はエッジ抽出部15のブロック図であり、エッジ抽出部15はノイズ除去部31とエッジ検出部32と直線検出部33で構成される。以下ノイズ除去部31、エッジ検出部32及び直線検出部33について説明する。
The processing content in the
ノイズ除去部31は、マイクロアレイ基板11の角領域41を撮像部14で撮像し、出力されるデジタル画像データに平滑化フィルタを適用することで不規則雑音を除去する。この処理は、後述するエッジ検出部32でエッジの誤検出を防止するために行われる。マイクロアレイ基板11の角領域41を撮像した場合、図4(a)に示すような不規則雑音42を含むデジタル画像データが出力される。マイクロアレイ基板11は無色透明なガラス基板であるため、マイクロアレイ基板11を設置しているステージ12の色が透過して撮像される。
The noise removing unit 31 images the corner area 41 of the microarray substrate 11 with the
ノイズ除去部31では、このデジタル画像データに対して平滑化フィルタを適用する。代表的な平滑化フィルタとしては、注目画素とその周辺8画素の平均値を注目画素の輝度値とする平均値フィルタや、領域内の輝度値の中央値を注目画素の輝度値とするメディアンフィルタがあるが、平均値フィルタはエッジ部分がぼけやすいため、メディアンフィルタを適用する方が望ましい。図4(a)のデジタル画像データに対して、ノイズ除去部31でメディアンフィルタを適用すると、図4(b)に示すような不規則雑音42が除去されたノイズ除去画像データが出力される。なお、ここでは2種類の平滑化フィルタを例示したが、その他の平滑化フィルタについても適用可能である。 The noise removing unit 31 applies a smoothing filter to the digital image data. As a representative smoothing filter, an average value filter that uses the average value of the target pixel and its surrounding eight pixels as the luminance value of the target pixel, or a median filter that uses the central value of the luminance values in the region as the luminance value of the target pixel. However, it is preferable to apply the median filter because the edge portion of the average value filter is easily blurred. When the median filter is applied to the digital image data in FIG. 4A by the noise removal unit 31, noise-removed image data from which the irregular noise 42 is removed as shown in FIG. 4B is output. In addition, although two types of smoothing filters were illustrated here, it is applicable also to another smoothing filter.
次に、エッジ検出部32は、ノイズ除去部31で出力するノイズ除去画像データにエッジ検出フィルタを適用し画像内のエッジ情報を検出する。エッジ検出フィルタは、画像の濃度差を検出するための微分フィルタである。代表的な微分フィルタとしては、1次微分フィルタ(Sobelフィルタ、Prewittフィルタ)や2次微分フィルタ(ラプラシアンフィルタ)があるが、エッジの方向に影響されにくく、画像の濃度差が緩やかな場合でもエッジが抽出可能な2次微分フィルタを適用する方が望ましい。図4(b)のノイズ除去画像データに対して、エッジ検出部32で2次微分フィルタを適用すると、図4(c)に示すようにマイクロアレイ基板11のエッジ部分が抽出された画像が出力され、エッジ部分を直線として認識しやすくなる。なお、ここでは2種類の微分フィルタを例示したが、その他の微分フィルタについても適用可能である。 Next, the edge detection unit 32 applies edge detection filters to the noise-removed image data output from the noise removal unit 31 to detect edge information in the image. The edge detection filter is a differential filter for detecting a density difference between images. Typical differential filters include a primary differential filter (Sobel filter, Prewitt filter) and a secondary differential filter (Laplacian filter). However, the edge is not easily affected by the direction of the edge, and even if the density difference of the image is gentle, the edge It is desirable to apply a second order differential filter that can extract. When a second-order differential filter is applied to the noise-removed image data in FIG. 4B by the edge detection unit 32, an image in which the edge portion of the microarray substrate 11 is extracted as shown in FIG. 4C is output. This makes it easier to recognize the edge portion as a straight line. Although two types of differential filters are illustrated here, the present invention can also be applied to other differential filters.
次に、直線検出部33の処理内容について図5及び図6を用いて説明する。直線検出部33は、エッジ検出部32が出力するエッジ画像データについてX軸方向及びY軸方向に走査を行い、マイクロアレイ基板11の長辺及び短辺上の点を検出し、それぞれの直線を算出する。直線検出部33では、まずエッジ画像データについて輝度値の変化を走査する。図5(a)は直線検出部33におけるエッジ画像データに対する走査方法を説明したものであり、X軸方向及びY軸方向(点線矢印の方向)それぞれについて輝度値の変化を走査する。例えば、図5(a)に示すようにまずエッジ画像データのX軸方向の中点X1からX1’に向かって走査する。この時の輝度値の変化は図5(b)のように、輝度値がマイクロアレイ基板11のエッジ部分で大きく増加した後、大きく減少するという特性となる。このような特性を示すポイントがあればエッジを検出したと判断し、図5(a)に示すようにX軸の増加方向に一定間隔毎のポイント(X2、X3、X4、X5)から輝度値の変化を走査する。
Next, processing contents of the straight
一方、エッジ部分を示すポイントが検出されない場合は、エッジ画像データのX軸方向の最小値X0からX軸の増加方向へ一定間隔で輝度値の変化を走査するか、もしくはX軸方向の最大値X10からX軸の減少方向へ一定間隔で輝度値の変化を走査することで、エッジ部分を検出する。ここでエッジが検出できない場合は、撮像視野にマイクロアレイ基板11の角領域41が入っていないものとしてエラーとする。次に、エッジ画像データのY軸方向についてもX軸方向と同様な方法で輝度値の変化を走査し、Y軸方向でのエッジを検出する。このように、エッジ部分を示すポイントが検出できれば、図5(c)のようにマイクロアレイ基板11の長辺上の点51及び短辺上の点52の座標を求めることが可能となる。また、エッジを検出する際にエッジ画像データを走査した結果、図6(a)のように輝度値の増減幅が小さくエッジの有無を特定することが困難な場合は、図6(b)のようにエッジ画像データを2値化した後に輝度値の変化を走査することでエッジ部分を正確に検出できる。
On the other hand, if a point indicating an edge portion is not detected, a change in luminance value is scanned at regular intervals from the minimum value X0 in the X-axis direction of the edge image data in the increasing direction of the X-axis, or the maximum value in the X-axis direction. An edge portion is detected by scanning a change in luminance value at regular intervals in the decreasing direction of the X axis from X10. If the edge cannot be detected here, it is determined that the corner area 41 of the microarray substrate 11 is not included in the imaging field of view, and an error is assumed. Next, in the Y-axis direction of the edge image data, a change in luminance value is scanned in the same manner as in the X-axis direction, and an edge in the Y-axis direction is detected. Thus, if a point indicating an edge portion can be detected, the coordinates of the point 51 on the long side and the
以上のように、マイクロアレイ基板11の長辺上の点51及び短辺上の点52を検出すると、次に直線検出部33ではその点を利用してマイクロアレイ基板11の長辺及び短辺を示す直線を算出する。直線を算出するためには、マイクロアレイ基板11の長辺上の点51及び短辺上の点52を最低2点ずつ検出すればよいが、直線をより高精度に算出するためには、マイクロアレイ基板11の長辺上の点51及び短辺上の点52をそれぞれ2点以上検出し、最小二乗法を利用して近似直線を算出する方がよい。この場合、近似直線を求めるためのマイクロアレイ基板11の長辺上の点51及び短辺上の点52の数は多いほどよい。
As described above, when the point 51 on the long side and the
エッジ抽出部15では、上記のように処理することで、マイクロアレイ基板11の長辺及び短辺のエッジ情報を抽出することが可能となる。
The
次に、マイクロアレイ位置情報記憶部17での記憶情報について図7を用いて説明する。マイクロアレイ位置情報記憶部17は、マイクロアレイ基板11の角72と撮像部14で撮像を行う際に撮像視野の中心点に置くマイクロアレイ基板11の基準点71との相対位置情報73を記憶している。具体的には、マイクロアレイ基板11上の基準点71の数とマイクロアレイ基板11の角72と基準点71との相対位置73が含まれ、これらの情報は位置ズレ算出部16で利用される。
Next, information stored in the microarray position
図7(a)に示すように、マイクロアレイ基板11の中心部に20mm×20mmのスポット領域21がある場合、スポット領域21内にはサンプル検体を定着した複数のスポット22が配置されている。マイクロアレイ基板11の基準点71は撮像部14で撮像する際に撮像視野の中心に置くべき点であるが、本発明の実施の形態では撮像部14でマイクロアレイ基板11を撮像する際にスポット領域21全体が撮像視野に収まるようにするため、マイクロアレイ基板11の基準点71はスポット領域21の中心点とする。このように、スポット領域21単位に基準点71を設置することで、撮像を行うスポット領域21を撮像視野へ移動することが容易になる。また、図7(b)に示すように、マイクロアレイ基板11上に図7(a)と同様の20mm×20mmのスポット領域21が3つ設けてある場合、マイクロアレイ基板11の基準点71はスポット領域21毎に3つ設置するとよい。
As shown in FIG. 7A, when there is a 20 mm × 20
次に、位置ズレ算出部16は、エッジ抽出部15で出力するマイクロアレイ基板11の長辺及び短辺のエッジ情報とマイクロアレイ位置情報記憶部17に記憶している情報から、マイクロアレイ基板11上のスポット領域21の撮像部14の撮像視野の中心点に対するX軸方向及びY軸方向の位置ズレとマイクロアレイ基板11のXY平面上の回転方向の位置ズレを算出する。
Next, the position
この位置ズレ算出部16の処理内容について図8、図9を用いて説明する。図8は位置ズレ算出部16のブロック図であり、位置ズレ算出部16はマイクロアレイ角算出部81とXY平面位置ズレ算出部82と回転ズレ算出部83で構成される。以下、マイクロアレイ角算出部81とXY平面位置ズレ算出部82と回転ズレ算出部83について説明する。
The processing contents of the positional
マイクロアレイ角算出部81は、図9(a)に示すようにエッジ抽出部15で出力するマイクロアレイ基板11の長辺を示す直線91と短辺を示す直線92の交点を算出することで、マイクロアレイ基板11の角72の座標を特定する。
The microarray angle calculation unit 81 calculates the intersection of the
次に、XY平面位置ズレ算出部82は、図9(b)に示すようにまずマイクロアレイ位置情報記憶部17から読み出したマイクロアレイ基板11の角72とマイクロアレイ基板11の基準点71との相対位置情報73とマイクロアレイ角算出部81で出力するマイクロアレイ基板11の角72の座標からマイクロアレイ基板11の基準点71の座標を算出する。次に、算出したマイクロアレイ基板11の基準点71の座標と撮像部14の撮像視野の中心点93の座標との位置ズレ量94を算出する。ここで、撮像視野の中心点93の座標は撮像視野のX軸座標及びY軸座標それぞれの中点であり座標は常に固定されるため、マイクロアレイ基板11の基準点71の座標と撮像部14の撮像視野の中心点93の座標との位置ズレ量94が算出できる。
Next, as shown in FIG. 9B, the XY plane position deviation calculation unit 82 first detects the relative position information between the
次に、回転ズレ算出部83は、図9(c)に示すようにエッジ抽出部15が出力するマイクロアレイ基板11の長辺を示す直線91のX軸を示す直線95に対する回転ズレ量(θ)を算出する。回転ズレ量(θ)は、マイクロアレイ基板11の短辺を示す直線92のY軸を示す直線96に対する回転ズレ量(θ)を算出してもよい。
Next, as shown in FIG. 9C, the rotation deviation calculation unit 83 outputs the rotation deviation amount (θ) with respect to the straight line 95 indicating the X axis of the
位置ズレ算出部16では、上記のように処理することで、マイクロアレイ基板11のX軸方向及びY軸方向及びXY平面上の回転方向の位置ズレを算出でき、この情報を元にマイクロアレイ基板11を設置しているステージ12を移動させることで位置ズレを修正できる。
The position
次に、スポット位置情報記憶部18及びスポット位置特定部19について図10を用いて説明する。スポット位置情報記憶部18は、マイクロアレイ基板11の基準点71とマイクロアレイ基板11上の複数のスポット22との相対位置情報を記憶している。具体的には、マイクロアレイ基板11の基準点71と左上隅のスポット中心点101の相対位置102とマイクロアレイ基板11上のスポット22の配列情報103(行及び列方向のスポット数)とスポット半径104とスポット間の距離105の情報が含まれ、これらの情報はスポット位置特定部19で利用される。
Next, the spot position
位置ズレ算出部16で出力された位置ズレ量に応じてステージ12を移動すると、マイクロアレイ基板11の位置ズレが修正され、マイクロアレイ基板11の基準点71は撮像部14の撮像視野の中心点93と合致する位置へ移動される。スポット位置情報記憶部18では、マイクロアレイ基板11の基準点71と左上隅のスポット22の中心点101の相対位置102を記憶しているため、マイクロアレイ基板11の基準点71の座標が特定されると、左上隅のスポット22の中心点101の座標が算出できる。本発明の実施の形態では、マイクロアレイ基板11の基準点71と左上隅のスポット22の中心点101の相対位置102のみしか記憶していないが、マイクロアレイ基板11の基準点71と全スポット22の中心点の相対位置を記憶しておいてもよい。
When the
次に、スポット位置特定部19は、スポット位置情報記憶部18から読み出したマイクロアレイ基板の基準点71とスポット22の中心点の相対位置情報102とマイクロアレイ基板11の基準点71の座標からまず左上隅のスポットの中心点101の座標を算出する。ここで、マイクロアレイ基板の基準点71の座標は撮像部14の撮像視野の中心点93と合致しておりこの座標は既知であるため、左上隅のスポット22の中心点101の座標が算出できる。次にスポット22の配列情報103及びスポット間の距離105から全スポット22の中心点の座標を特定する。最後に全スポット22の中心点の座標からスポット半径104の領域をスポット22として認識する。
Next, the spot position specifying unit 19 starts with the upper left corner from the
図1から図10において、本発明のマイクロアレイ装置の構成要素について説明したが、次に本発明の実施の形態におけるマイクロアレイ装置のマイクロアレイ基板11の位置ズレの修正手順を図11に示すフローチャートを用いて説明する。 1 to 10, the components of the microarray apparatus of the present invention have been described. Next, the procedure for correcting the positional deviation of the microarray substrate 11 of the microarray apparatus according to the embodiment of the present invention will be described with reference to the flowchart shown in FIG. explain.
まず、マイクロアレイ基板11をステージ12へ設置し、撮像部14の撮像視野にマイクロアレイ基板11の角領域41が入る位置へステージ12を移動するようにステージ制御部13から指示する(ステップS101)。
First, the microarray substrate 11 is placed on the
次に、撮像部14によりマイクロアレイ基板11の角領域41の撮像を行う(ステップS102)。 Next, imaging of the corner area 41 of the microarray substrate 11 is performed by the imaging unit 14 (step S102).
次に、撮像部14で出力するデジタル画像データをエッジ抽出部15へ入力し、エッジ抽出部15ではノイズ除去部31で、図4(a)に示したように平滑化フィルタを適用し不規則雑音を除去する(ステップS103)。
Next, the digital image data output from the
次に、ノイズ除去部31で出力するノイズ除去画像データをエッジ検出部32へ入力し、エッジ検出部32は図4(b)に示したようにエッジ検出フィルタを適用しエッジ強調を行う(ステップS104)。 Next, the noise-removed image data output by the noise removing unit 31 is input to the edge detecting unit 32, and the edge detecting unit 32 applies an edge detection filter as shown in FIG. 4B to perform edge enhancement (step). S104).
次に、エッジ検出部32で出力するエッジ画像データを直線検出部33へ入力し、直線検出部33は図5(a)に示したようにエッジ画像データのX軸方向及びY軸方向それぞれについて輝度値の変化を走査し、マイクロアレイ基板11の長辺及び短辺上の点を検出し、直線を算出する(ステップS105)。
Next, the edge image data output by the edge detection unit 32 is input to the straight
次に、エッジ抽出部15で出力するエッジ情報を位置ズレ算出部16へ入力し、位置ズレ算出部16ではマイクロアレイ角算出部81でマイクロアレイ基板11の長辺及び短辺を示す2直線の交点を算出し、マイクロアレイ基板11の角72の座標を特定する(ステップS106)。
Next, the edge information output by the
次に、マイクロアレイ角算出部81で出力するマイクロアレイ基板11の角72の座標とマイクロアレイ位置情報記憶部17に記憶しているマイクロアレイ基板11の角72の座標とマイクロアレイ基板11の基準点71との相対位置情報73をXY平面位置ズレ算出部82へ入力し、XY平面位置ズレ算出部82はマイクロアレイ基板11の基準点71の座標を算出した後、撮像部14の撮像視野の中心点93の座標との位置ズレ量を算出する(ステップS107)。
Next, the coordinates of the
次に、エッジ抽出部15で出力するエッジ情報を回転ズレ算出部83へ入力し、回転ズレ算出部83はマイクロアレイ基板11の長辺を示す直線91とX軸を示す直線95からXY平面上の回転ズレ量を算出する(ステップS108)。
Next, the edge information output by the
次に、XY平面位置ズレ算出部82で出力するX軸方向及びY軸方向の位置ズレ量94と回転ズレ算出部83で出力するXY平面上の回転ズレ量97をステージ制御部13へ入力し、ステージ制御部13はステージ12へ出力するための制御信号を生成する(ステップS109)。
Next, the positional deviation amount 94 in the X-axis direction and the Y-axis direction output by the XY plane positional deviation calculation unit 82 and the
次に、ステージ制御部13で出力するステージ制御信号をステージ12へ入力し、ステージ12をX軸方向及びY軸方向及びXY平面上の回転方向へ移動させ、位置ズレを修正することで撮像部14の撮像視野にスポット領域21が収められる(ステップS110)。
Next, a stage control signal output by the
次に、撮像部14によりマイクロアレイ基板11上のスポット領域21の撮像を行う(ステップS111)。
Next, the
次に、撮像部14で出力するデジタル画像データとスポット位置情報記憶部18に記憶しているマイクロアレイ基板11の基準点71と複数のスポットとの相対位置情報をスポット位置特定部19に入力し、スポット位置特定部19はまず各スポットの中心点の座標を規定し、次にスポットの中心点の座標からスポット半径104の領域を各スポットの領域として認識する(ステップS112)。
Next, the digital image data output by the
図11において、ステップS106からステップS108で位置ズレ量を算出しているが、ステップS106とステップS107はX軸方向及びY軸方向の位置ズレ量94、ステップS108はXY平面上の回転方向の位置ズレ量97を算出しているため、これらのステップは順番を入れ替えることも可能である。また、処理速度向上のためには上記ステップを並列で実行してもよい。
In FIG. 11, the positional deviation amount is calculated from step S106 to step S108. However, step S106 and step S107 are the positional deviation amount 94 in the X axis direction and the Y axis direction, and step S108 is the position in the rotational direction on the XY plane. Since the
以上のように、実施の形態においてはマイクロアレイ基板の長辺及び短辺を抽出した後、マイクロアレイ基板の角の座標を算出し、マイクロアレイ基板の角とマイクロアレイ基板の基準点との相対位置情報から位置ズレを修正することにより、位置合わせのための基準マークやパターン領域を設置することなく、マイクロアレイ基板をステージに装着する時の位置ズレを修正することが可能となる。 As described above, in the embodiment, after extracting the long side and the short side of the microarray substrate, the coordinates of the corner of the microarray substrate are calculated, and the position is obtained from the relative position information between the corner of the microarray substrate and the reference point of the microarray substrate. By correcting the misalignment, it is possible to correct the misalignment when the microarray substrate is mounted on the stage without installing a reference mark or pattern area for alignment.
さらに、従来はスポット領域と基準マークが撮像視野に入るように広い視野にしていたため、1つのスポットあたりの画素の数が少なくなるという課題があったが、本実施の形態では基準マークを用いないようにしたため、スポット領域のみが視野に入るようにすることで1つのスポットあたりの画素の数を多く出来るという効果がある。 Furthermore, since the conventional field of view is wide so that the spot area and the reference mark fall within the imaging field of view, there is a problem that the number of pixels per spot is reduced, but in this embodiment, the reference mark is not used. Therefore, there is an effect that the number of pixels per spot can be increased by allowing only the spot area to enter the field of view.
さらに、従来はスポット領域の中にパターン領域を設けていたために、測定に使用できるスポットの数が減少するという課題があったが、本実施の形態ではパターン領域を必要としないため、スポット領域内のスポット全てが測定に使用出来るという効果がある。 Furthermore, since the pattern area is conventionally provided in the spot area, there is a problem that the number of spots that can be used for measurement is reduced. However, in the present embodiment, since the pattern area is not required, All the spots can be used for measurement.
また、本発明のマイクロアレイ装置において、撮像部の素子としてモノクロCCDを例示したが、これに限定することなく、カラーCCD、相補型金属酸化膜半導体(CMOS)、電荷注入素子(CID)、横型埋め込み式電荷蓄積部を有する増幅型撮像センサ(LBCAST)、フォトダイオードあるいは光電子倍増管等も適用可能である。また、撮像部にイメージインテンシファイアを導入することも可能である。 In the microarray device of the present invention, a monochrome CCD is exemplified as an element of the imaging unit. However, the color CCD, the complementary metal oxide semiconductor (CMOS), the charge injection element (CID), and the horizontal embedded are not limited thereto. An amplification type imaging sensor (LBCAST) having a charge storage unit, a photodiode, a photomultiplier tube, or the like is also applicable. It is also possible to introduce an image intensifier into the imaging unit.
また、本発明のマイクロアレイ装置において、マイクロアレイ基板として無色透明なガラス基板を例示したが、これに限定することなく、シリコン基板、有色で不透明な基板、あるいはプラスチック基板も適用可能である。さらに、本発明の実施の形態で示したマイクロアレイ基板の大きさやスポット領域のサイズも一例であり、適時変更可能である。 In the microarray apparatus of the present invention, a colorless and transparent glass substrate is exemplified as the microarray substrate. However, the present invention is not limited to this, and a silicon substrate, a colored and opaque substrate, or a plastic substrate is also applicable. Furthermore, the size of the microarray substrate and the size of the spot area shown in the embodiment of the present invention are examples, and can be changed as appropriate.
本発明にかかるマイクロアレイ装置は、マイクロアレイ基板の位置合わせのための基準マークやパターン領域を設置することなく、マイクロアレイ基板の位置ズレを修正することができ、基板に定着したサンプルを撮像する撮像装置等として有用である。 The microarray apparatus according to the present invention is capable of correcting the positional deviation of the microarray substrate without installing a reference mark or a pattern region for alignment of the microarray substrate, and an imaging apparatus for imaging a sample fixed on the substrate. Useful as.
11 マイクロアレイ基板
12 ステージ
13 ステージ制御部
14 撮像部
15 エッジ抽出部
16 位置ズレ算出部
17 マイクロアレイ位置情報記憶部
18 スポット位置情報記憶部
19 スポット位置特定部
21 スポット領域
22 スポット
31 ノイズ除去部
32 エッジ検出部
33 直線検出部
41 マイクロアレイ基板の角領域
42 不規則雑音
51 マイクロアレイ基板の長辺上の点
52 マイクロアレイ基板の短辺上の点
71 マイクロアレイ基板の基準点
72 マイクロアレイ基板の角
73 マイクロアレイ基板の角と基準点との相対位置情報
81 マイクロアレイ角算出部
82 XY平面位置ズレ算出部
83 回転ズレ算出部
91 マイクロアレイ基板の長辺を示す直線
92 マイクロアレイ基板の短辺を示す直線
93 撮像視野の中心点
94 X軸方向及びY軸方向の位置ズレ量
95 X軸を示す直線
96 Y軸を示す直線
97 回転ズレ量
101 スポット中心点
102 マイクロアレイ基板の基準点とスポット中心点の相対位置情報
103 マイクロアレイ基板上のスポット配列情報
104 スポット半径
105 スポット間の距離
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11
Claims (4)
前記マイクロアレイ基板を設置して移動可能なステージと、
前記ステージの移動方向と移動量を制御するステージ制御部と、
前記マイクロアレイ基板を撮像して受光素子の各画素にて受光した光の輝度をデジタルで表したデジタル画像データを出力する撮像部と、
前記デジタル画像データから前記マイクロアレイ基板の長辺及び短辺のエッジ情報を抽出するエッジ抽出部と、
前記マイクロアレイ基板の角と前記マイクロアレイ基板の基準点との相対位置情報を記憶したマイクロアレイ位置情報記憶部と、
前記エッジ情報と前記マイクロアレイ基板の角と前記マイクロアレイ基板の基準点との相対位置情報から前記マイクロアレイ基板の位置ズレを算出する位置ズレ算出部とを含み、
前記ステージ制御部は、前記位置ズレ算出部が算出した位置ズレを修正するように前記ステージを制御する、
ことを特徴とするマイクロアレイ装置。 In a microarray apparatus for measuring a microarray substrate having a plurality of spots in which a sample specimen is fixed on the substrate,
A stage movable by installing the microarray substrate;
A stage control unit for controlling the moving direction and moving amount of the stage;
An imaging unit that outputs the digital image data that digitally represents the luminance of light received by each pixel of the light receiving element by imaging the microarray substrate;
An edge extraction unit that extracts edge information of long and short sides of the microarray substrate from the digital image data;
A microarray position information storage unit storing relative position information between corners of the microarray substrate and a reference point of the microarray substrate;
A positional shift calculation unit that calculates a positional shift of the microarray substrate from relative position information of the edge information, a corner of the microarray substrate, and a reference point of the microarray substrate;
The stage control unit controls the stage so as to correct the position shift calculated by the position shift calculation unit;
A microarray apparatus characterized by that.
前記デジタル画像データからノイズ成分を除去するノイズ除去部と、
前記ノイズ除去部が出力するノイズ除去画像データにエッジ検出フィルタを適用するエッジ検出部と、
前記エッジ検出部が出力するエッジ画像データを順次走査して前記マイクロアレイ基板の長辺及び短辺の直線を検出する直線検出部を含み、
前記デジタル画像データから前記マイクロアレイ基板の長辺及び短辺の直線を検出する、
請求項1に記載のマイクロアレイ装置。 The edge extraction unit
A noise removing unit for removing a noise component from the digital image data;
An edge detection unit that applies an edge detection filter to the noise-removed image data output by the noise removal unit;
A linear detection unit that sequentially scans the edge image data output by the edge detection unit to detect straight lines of the long side and the short side of the microarray substrate;
Detecting straight lines of long sides and short sides of the microarray substrate from the digital image data;
The microarray apparatus according to claim 1.
前記エッジ情報から前記マイクロアレイ基板の長辺及び短辺の直線の交点を算出するマイクロアレイ角算出部と、
前記マイクロアレイ角算出部が出力する前記マイクロアレイ基板の角の座標と前記マイクロアレイ位置情報記憶部から読み出した前記マイクロアレイ基板の角と前記マイクロアレイ基板の基準点との相対位置情報から前記マイクロアレイ基板の基準点の座標を算出し前記撮像部の撮像視野に対するX軸方向及びY軸方向の位置ズレを算出するXY平面位置ズレ算出部と、
前記エッジ抽出部が出力する前記マイクロアレイ基板の長辺及び短辺の直線からXY平面上の回転ズレを算出する回転ズレ算出部を含み、
前記マイクロアレイ基板の長辺及び短辺の直線と前記マイクロアレイ基板の基準点との相対位置情報からX軸方向及びY軸方向及び回転方向の位置ズレを算出する、
請求項1に記載のマイクロアレイ装置。 The positional deviation calculation unit
A microarray angle calculation unit for calculating an intersection of a straight line of the long side and the short side of the microarray substrate from the edge information;
The reference point of the microarray substrate is calculated from the coordinates of the corner of the microarray substrate output by the microarray angle calculation unit and the relative position information of the corner of the microarray substrate read from the microarray position information storage unit and the reference point of the microarray substrate. An XY plane position shift calculation unit that calculates coordinates and calculates a position shift in the X axis direction and the Y axis direction with respect to the imaging field of view of the imaging unit;
A rotation shift calculation unit for calculating a rotation shift on the XY plane from the straight lines of the long side and the short side of the microarray substrate output by the edge extraction unit;
A positional shift in the X-axis direction, the Y-axis direction, and the rotation direction is calculated from the relative position information between the straight line of the long side and the short side of the microarray substrate and the reference point of the microarray substrate.
The microarray apparatus according to claim 1.
前記デジタル画像データと前記スポット位置情報記憶部から読み出した前記マイクロアレイ基板の基準点と前記複数のスポットとの相対位置情報から前記複数のスポットの位置を特定するスポット位置特定部とをさらに含む、
請求項1に記載のマイクロアレイ装置。 A spot position information storage unit storing relative position information of a reference point of the microarray substrate and the plurality of spots;
A spot position specifying unit that specifies the positions of the plurality of spots from the relative position information between the digital image data and the reference point of the microarray substrate read from the spot position information storage unit and the plurality of spots;
The microarray apparatus according to claim 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007237724A JP2009068995A (en) | 2007-09-13 | 2007-09-13 | Microarray device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007237724A JP2009068995A (en) | 2007-09-13 | 2007-09-13 | Microarray device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009068995A true JP2009068995A (en) | 2009-04-02 |
Family
ID=40605408
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007237724A Pending JP2009068995A (en) | 2007-09-13 | 2007-09-13 | Microarray device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2009068995A (en) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012163536A (en) * | 2011-02-09 | 2012-08-30 | Nikon Corp | Observation device, image observation method, and specimen |
| JP2012168159A (en) * | 2011-01-28 | 2012-09-06 | Toray Ind Inc | Analyzing method and reading device of microarray |
| KR101250979B1 (en) | 2011-03-30 | 2013-04-04 | 서울대학교산학협력단 | Bio sensor and method of fabricating the same |
| JP2013210396A (en) * | 2013-07-05 | 2013-10-10 | Shimadzu Corp | Mass spectrometer |
| WO2015129585A1 (en) * | 2014-02-25 | 2015-09-03 | 株式会社アプライド・ビジョン・システムズ | Image reconstruction device, image reconstruction method, and program |
| US9536716B2 (en) | 2010-02-18 | 2017-01-03 | Shimadzu Corporation | MALDI mass spectrometer with irradiation trace formation means and irradiation trace identifier for identifying a MALDI sample plate |
| JP2019523419A (en) * | 2016-07-29 | 2019-08-22 | セルマ・ダイアグノスティクス・アンパルトセルスカブSelma Diagnostics Aps | Improved method for digital counting |
| WO2019168141A1 (en) * | 2018-03-02 | 2019-09-06 | Jfeスチール株式会社 | Spectroscopic characteristic measurement device, spectroscopic characteristic measurement method, and furnace control method |
| WO2020145124A1 (en) * | 2019-01-09 | 2020-07-16 | 株式会社日立ハイテク | Substrate for nucleic acid analysis, flow cell for nucleic acid analysis, and image analysis method |
| CN112945109A (en) * | 2021-01-26 | 2021-06-11 | 西安交通大学 | Laser displacement meter array system parameter calibration method based on horizontal displacement table |
| US11693001B2 (en) | 2015-10-07 | 2023-07-04 | Selma Diagnostics Aps | Flow system and methods for digital counting |
-
2007
- 2007-09-13 JP JP2007237724A patent/JP2009068995A/en active Pending
Cited By (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9536716B2 (en) | 2010-02-18 | 2017-01-03 | Shimadzu Corporation | MALDI mass spectrometer with irradiation trace formation means and irradiation trace identifier for identifying a MALDI sample plate |
| JP2012168159A (en) * | 2011-01-28 | 2012-09-06 | Toray Ind Inc | Analyzing method and reading device of microarray |
| US9719929B2 (en) | 2011-01-28 | 2017-08-01 | Toray Industries, Inc. | Microarray analysis method and microarray reading device |
| JP2012163536A (en) * | 2011-02-09 | 2012-08-30 | Nikon Corp | Observation device, image observation method, and specimen |
| KR101250979B1 (en) | 2011-03-30 | 2013-04-04 | 서울대학교산학협력단 | Bio sensor and method of fabricating the same |
| JP2013210396A (en) * | 2013-07-05 | 2013-10-10 | Shimadzu Corp | Mass spectrometer |
| WO2015129585A1 (en) * | 2014-02-25 | 2015-09-03 | 株式会社アプライド・ビジョン・システムズ | Image reconstruction device, image reconstruction method, and program |
| JPWO2015129585A1 (en) * | 2014-02-25 | 2017-03-30 | 株式会社アプライド・ビジョン・システムズ | Image restoration apparatus, image restoration method, and program |
| US11693001B2 (en) | 2015-10-07 | 2023-07-04 | Selma Diagnostics Aps | Flow system and methods for digital counting |
| US11035854B2 (en) | 2016-07-29 | 2021-06-15 | Selma Diagnostics Aps | Methods in digital counting |
| JP2019523419A (en) * | 2016-07-29 | 2019-08-22 | セルマ・ダイアグノスティクス・アンパルトセルスカブSelma Diagnostics Aps | Improved method for digital counting |
| JPWO2019168141A1 (en) * | 2018-03-02 | 2020-04-16 | Jfeスチール株式会社 | Spectral characteristic measuring device, spectral characteristic measuring method, and furnace control method |
| KR20200121875A (en) * | 2018-03-02 | 2020-10-26 | 제이에프이 스틸 가부시키가이샤 | Spectroscopic characteristic measuring device, spectral characteristic measuring method, and furnace control method |
| TWI721381B (en) * | 2018-03-02 | 2021-03-11 | 日商Jfe鋼鐵股份有限公司 | Furnace control method |
| WO2019168141A1 (en) * | 2018-03-02 | 2019-09-06 | Jfeスチール株式会社 | Spectroscopic characteristic measurement device, spectroscopic characteristic measurement method, and furnace control method |
| KR102500640B1 (en) | 2018-03-02 | 2023-02-15 | 제이에프이 스틸 가부시키가이샤 | Furnace control method |
| WO2020145124A1 (en) * | 2019-01-09 | 2020-07-16 | 株式会社日立ハイテク | Substrate for nucleic acid analysis, flow cell for nucleic acid analysis, and image analysis method |
| CN113227342A (en) * | 2019-01-09 | 2021-08-06 | 株式会社日立高新技术 | Substrate for nucleic acid analysis, flow cell for nucleic acid analysis, and image analysis method |
| GB2594813A (en) * | 2019-01-09 | 2021-11-10 | Hitachi High Tech Corp | Substrate for nucleic acid analysis, flow cell for nucleic acid analysis, and image analysis method |
| CN112945109A (en) * | 2021-01-26 | 2021-06-11 | 西安交通大学 | Laser displacement meter array system parameter calibration method based on horizontal displacement table |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2009068995A (en) | Microarray device | |
| EP2993463B1 (en) | Fluorescence imaging autofocus systems and methods | |
| EP1347285A1 (en) | Method and apparatus for measuring fluorescence luminance | |
| WO2012073425A1 (en) | Defect inspection method and defect inspection device | |
| CN104937401B (en) | Image capture for big analyte array | |
| KR20140146137A (en) | Image processing system, image processing method, and image processing program | |
| JP2014197762A (en) | Image processing system and image processing program | |
| JP2000266701A (en) | Fluorescent x-ray analyzer | |
| JP2008064486A (en) | Printed matter inspection device, printed matter inspection method | |
| JP2013117432A (en) | Glass substrate inspection device and glass substrate manufacturing method | |
| US8249381B2 (en) | Image based correction for unwanted light signals in a specific region of interest | |
| JP2009097959A (en) | Defect detecting device and defect detection method | |
| JPH0969973A (en) | Position adjustment method for solid-state imaging device | |
| EP2535923B1 (en) | Detection method and detection device | |
| US10614275B2 (en) | Position specifying apparatus and position specifying method | |
| JP2009068996A (en) | Microarray apparatus and microarray analysis method | |
| US12085703B2 (en) | Physical calibration slide | |
| JP3621450B2 (en) | Component recognition method | |
| JP2006032521A (en) | Mark identification device | |
| JP4893938B2 (en) | Defect inspection equipment | |
| JP4367474B2 (en) | Defect inspection equipment | |
| JP4829055B2 (en) | Minute height measuring method and minute height measuring apparatus | |
| WO2024236883A1 (en) | Biological sample measurement device and calibration method | |
| JP3400859B2 (en) | Defect pattern detection method and device | |
| JP2005030996A (en) | Method for inspecting substrate having repetitive pattern |