JP2009049499A - 半導体チップの実装方法及び半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】簡単な構成でありながら半導体チップを所定の湾曲形状にした状態で基板に取り付ける。
【解決手段】リジット基板13の相対する一対の縁13a,13bに沿って、径サイズが異なる3種類のバンプ11a〜11cをライン状に配列して接合する。縁13aの中心部に径サイズが最も小さいバンプ11cが縁13aに沿って2個並列され、これらの外側にバンプ11bが、更にその外側に最も径サイズが大きいバンプ11aが配置され、縁13aに沿って合計6個のバンプ11a〜11cが配列される。縁13bについても縁13aと同様にバンプ11a〜11cが配列される。リジット基板13の上方から可撓性を有する固体撮像素子12を被せ、固体撮像素子12の中央部に圧縮空気を吹きつけて凸状に湾曲させながら、固体撮像素子12の電極をバンプ11a〜11cに接合し、半導体装置10を得る。
【選択図】図1
【解決手段】リジット基板13の相対する一対の縁13a,13bに沿って、径サイズが異なる3種類のバンプ11a〜11cをライン状に配列して接合する。縁13aの中心部に径サイズが最も小さいバンプ11cが縁13aに沿って2個並列され、これらの外側にバンプ11bが、更にその外側に最も径サイズが大きいバンプ11aが配置され、縁13aに沿って合計6個のバンプ11a〜11cが配列される。縁13bについても縁13aと同様にバンプ11a〜11cが配列される。リジット基板13の上方から可撓性を有する固体撮像素子12を被せ、固体撮像素子12の中央部に圧縮空気を吹きつけて凸状に湾曲させながら、固体撮像素子12の電極をバンプ11a〜11cに接合し、半導体装置10を得る。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体チップの実装方法及び半導体装置に関し、更に詳しくは半導体チップをパッケージを介さずに基板に直接接続する半導体チップの実装方法及び半導体装置に関するものである。
近年の電子機器の小型化・高性能化により、半導体チップをパッケージを介さずに基板に直接接続する実装方法が注目されてきている。このような実装方法を実施した半導体装置には、可撓性を有する半導体チップしての固体撮像素子を湾曲させて取り付けた固体撮像装置が知られている(特許文献1)。
この固体撮像装置は、撮影レンズの収差により生じる像面湾曲に対応した球面状の湾曲面を基板側に形成し、厚みを薄く加工した固体撮像素子をこの湾曲面に沿わせて接着することにより、簡易な撮影レンズでも撮影画面の全領域に渡って焦点が合うようにしたものである。
一方、固体撮像素子の中には、開口率(受光効率)を向上させるために、電極パッドが形成された表面とは反対の裏面側に照射された光を受光する裏面照射型が知られている。この裏面照射型の固体撮像素子は、基板内部のフォトダイオードに裏面側から光を入射させるために、通常の表面入射型の固体撮像素子より薄板化され、可撓性が得られるので、湾曲させやすい。
特開2003−188366号公報
上記特許文献1記載の固体撮像素子として上述した裏面照射型を用いることが考えられるが、固体撮像素子を接着する基板に湾曲面の加工を施すことが面倒であることに変わりはない。特に、基板が固体撮像素子の信号処理等を行なう機能デバイスの場合には、基板に湾曲面の加工を施すことはきわめて困難となる。
本発明は、上記のような問題点を解決するためになされたもので、簡単な構成でありながら半導体チップを所定の湾曲形状にした状態で基板に取り付けることができる半導体チップの実装方法及び半導体装置を提供することを目的とする。
本発明の半導体装置は、可撓性を有する矩形平板状の半導体チップと、この半導体チップの少なくとも相対する一対の縁に沿って、各縁の中心部に配置されるものよりも両端に配置されるものの方が厚み方向のサイズが大きくなるように、前記各縁の近傍にライン状に配列された複数個のバンプと、このバンプを介して前記半導体チップが接合される基板とからなり、前記半導体チップが前記基板に向かって凸状に湾曲して前記基板に接合されていることを特徴とする。
前記バンプは、前記半導体チップの4辺の各縁に沿ってライン状に配列されていることを特徴とする。また、前記バンプは、前記各縁に沿って配列されたものよりも厚み方向のサイズが小さいものが、前記半導体チップの中央部にも配置されていることを特徴とする。
前記半導体チップは、前記基板と反対側の凹状面に撮像面が設けられた裏面照射型の固体撮像素子であることを特徴とする。また、前記基板には、前記固体撮像素子を駆動する駆動回路、前記固体撮像素子からの撮像信号を信号処理する信号処理回路の一方又は両方が設けられていることを特徴とする。
本発明の半導体チップの実装方法は、可撓性を有する矩形平板状の半導体チップを複数個のバンプを介して基板に接合する半導体チップの実装方法において、前記バンプを、前記半導体チップの少なくとも相対する一対の縁に沿って、各縁の中心部に配置されるものよりも両端に配置されるものの方が厚み方向のサイズが大きくなるように、前記各縁の近傍にライン状に配列し、これらのバンプを介して、前記半導体チップが前記基板に向かって凸状に湾曲した状態で前記基板に接合することを特徴とする。
本発明の半導体チップの実装方法及び半導体装置によれば、半導体チップの少なくとも相対する一対の縁に沿って、各縁の中心部に配置されるバンプよりも両端に配置されるバンプの方が厚み方向のサイズが大きくなるようにバンプをライン状に配列し、これらのバンプを介して半導体チップを基板に向かって凸状に湾曲した状態で接合するから、簡単な構成でありながら半導体チップを所定の湾曲形状にした状態で基板に取り付けることができる。
また、バンプを半導体チップの4辺の各縁に沿ってライン状に配列したので、半導体チップの湾曲形状をより強固に維持できる。また、各縁に沿って配列されたバンプよりも厚み方向のサイズが小さいバンプを半導体チップの中央部にも配置したので、半導体チップの湾曲形状をより強固に維持できる。
また、半導体チップは裏面照射型の固体撮像素子であるから、通常の表面入射型の固体撮像素子より薄板化され、容易に湾曲できるとともにフリップチップ実装でき、容易に所定の湾曲形状にした状態で基板に取り付けることができる。また、基板に、固体撮像素子を駆動する駆動回路及び/又は固体撮像素子からの撮像信号を信号処理する信号処理回路を設けたから、半導体装置を小型化,薄型化することが容易にできる。
本発明の半導体装置10は、図1に示すように、径サイズが異なる3種類の球状をした銅製のバンプ11a〜11cを用い、可撓性を有する矩形平板状をした半導体チップとしての固体撮像素子12を、剛性を有する基板であるリジット基板13に対して、凸状に湾曲させて半田接合したものである。
バンプ11a〜11cの径サイズの大きさは、11a>11b>11cの順位となっている。バンプ11a〜11cは、銅製であるから半田接合を行なう際の熱程度では径サイズは変わらない。バンプ11a〜11cは、リジット基板13の相対する一対の縁13a,13bに沿ってライン状に配列されている。
縁13aの中心部に径サイズが最も小さいバンプ11cが縁13aに沿って2個並列され、これらの外側にバンプ11bが、更にその外側に最も径サイズが大きいバンプ11aが配置され、縁13aに沿って合計6個のバンプ11a〜11cが配列される。また、縁13bについても縁13aと全く同様にバンプ11a〜11cが配列される。
固体撮像素子12は、図2に示すように、電極パッド14が形成された表面12aとは反対の裏面12b側に照射された光を受光する裏面照射型固体撮像素子である。
受光素子15は、半導体基板16内に形成された埋め込み型のフォトダイオードからなり、裏面12b側から入射した光を受光する。受光素子15は、数μmのピッチで、半導体基板16内に2次元配列されている。半導体基板16は、裏面12b側からの入射を可能とするように、50μm以下(好ましくは、約10μm)の厚みに薄板化されており、その結果、可撓性を有する。半導体基板16の裏面12b側には、入射光を分光するためのカラーフィルタ17と、各受光素子15に入射光を集光するためのマイクロレンズ18とが設けられている。
受光素子15は、入射光を受け、光量に応じた信号電荷を生成する。半導体基板16の表面12a側には、受光素子15に蓄積された信号電荷を、電荷転送路(固体撮像素子12がCCD型の場合)やアンプ(固体撮像素子12がCMOS型の場合)に転送するための転送電極(ゲート電極)19が設けられている。
転送電極19は、ポリシリコンなどからなり、その周囲は、酸化シリコンなどからなる層間絶縁層20により覆われている。層間絶縁層20の表面は平坦化されている。層間絶縁層20上には、コンタクト(図示せず)を介して転送電極19に接続された、アルミニウムなどからなる配線層21が形成されており、配線層21上には、酸化シリコンなどからなる保護絶縁層22が形成されている。なお、配線層21は、表面12a側に設けられた前述の電極パッド14に接続されている。また、この電極パッド14上には、クリーム半田23が塗布される。
リジット基板13は、固体撮像素子12と同形状でほぼ同じサイズの矩形平板状をしている。リジット基板13内には、図3に示すように、周辺回路25が設けられている。周辺回路25は、駆動回路26、アナログ信号処理回路(AFE)27、及びデジタル信号処理回路(DSP)28によって構成されている。
駆動回路26は、AFE27から入力されるタイミング信号に基づいて固体撮像素子12の駆動信号を生成し、生成した駆動信号を固体撮像素子12に入力して、撮像動作を行わせる。AFE27は、2重相関サンプリング/オートゲインコントロール(CDS/AGC)回路29と、A/D変換器30と、タイミング信号発生器(TPG)31とからなる。
CDS/AGC回路29は、固体撮像素子12から出力された撮像信号に対して2重相関サンプリングを行い、ノイズを低減するとともに、信号量に応じた利得調整を行う。A/D変換器30は、CDS/AGC回路29により処理が施された撮像信号を、アナログ信号からデジタル信号に変換する。
TPG31は、CDS/AGC回路29、A/D変換器30、及び駆動回路26にタイミング信号を与え、動作の同期を図る。DSP28は、AFE27から入力されたデジタル形式の撮像信号に対して、色補間、輝度/色差(Y/C)変換、ガンマ補正、輪郭補正、ホワイトバランス補正などの所定の信号処理を施し、デジタル形式の画像データを生成する。
リジット基板13の表面13cには、図4に示すように、周辺回路25から駆動信号を固体撮像素子12に伝達するため、あるいは、固体撮像素子12から出力された撮像信号を周辺回路25に取り込むための電極33が設けられており、これらの電極33の上には、クリーム半田34が塗布されている。
クリーム半田34を加熱溶融することによりバンプ11a〜11cを電極33等に半田接合するのであるが、この際に、図5に示すように、リジット基板13の表面13cに板状のマスク36を被せる。このマスク36には、バンプ11a〜11cの各径サイズに対応したサイズの矩形状をした開口部36a〜36cが形成されている。なお、開口部36a〜36cは矩形状に限らず、円形でもよい。
以下、図6のフローチャートに従って説明する。リジット基板13の表面13cにマスク36を被せ(st1)、まず最も大きな開口サイズの開口部36aに対応した最も大きな径サイズのバンプ11aを入れる。バンプ11aを開口部36aに入れ終わったら、次に、二番目に大きな開口サイズの開口部36bに対応した二番目に大きな径サイズのバンプ11bを入れる。最後に、最も小さい開口サイズの開口部36cに対応した最も小さい径サイズのバンプ11cを入れる(st2)。このように大きいバンプから順番に開口部に入れることにより、それよりも小さい開口部には入らないので、容易に各開口部に対応したバンプを入れることができる。
この結果、図4に示すように、開口部36a〜36cにバンプ11a〜11cが嵌まり込み、バンプ11a〜11cがクリーム半田34の真上に載置されるように位置決めされる。この状態で加熱炉に入れ、加熱すると、クリーム半田34が溶融する。この後、加熱炉から取り出して冷却すると、クリーム半田34が固化してバンプ11a〜11cが電極33に半田接合される(st3)。この後、マスク36をリジット基板13の上から取り外す。これにより、図6に示すように、リジット基板13の相対する一対の縁13a,13bに沿ってライン状にバンプ11a〜11cが配設される。
図7に示すように、リジット基板13の上に固体撮像素子12を被せるように載置すると、固体撮像素子12は径サイズが最も大きいバンプ11aに支持される。上方から固体撮像素子12の中央部に圧縮空気を吹きつけると、固体撮像素子12は可撓性を有するから、図8に示すように、固体撮像素子12の縁部がバンプ11a〜11cの各上部に押しつけられ、固体撮像素子12はリジット基板13に対して凸状に湾曲する。なお、圧縮空気の代わりに、治具(工具)で押しつけてもよい。
固体撮像素子12が湾曲した状態のまま半導体装置10を加熱炉に入れ、加熱すると、固体撮像素子12のクリーム半田23が溶融する。この後、加熱炉から取り出して冷却すると、クリーム半田23が固化して、固体撮像素子12の電極パッド14がバンプ11a〜11cに半田接合される(st4)。なお、クリーム半田23は、クリーム半田34の溶融温度よりも低い温度で溶融するように設定されており、クリーム半田23の溶融時にクリーム半田34が溶融してリジット基板13の電極33からバンプ11a〜11cが外れてしまうようなことはない。
固体撮像素子12の裏面12bの湾曲の曲率は、所定のレンズユニット(図示せず)の撮影レンズ38の像面湾曲に対応しており、このレンズユニットに半導体装置10を組み込んだ際に、撮影レンズ38の像面湾曲による収差が補正される。この結果、半導体装置10で撮影される撮影画面は、全領域に渡って焦点が合う。
次に、本発明の第2実施形態を示す図9において、本実施形態の半導体装置40は、第1実施形態の固体撮像素子12の中央部とリジット基板13の中央部との隙間に、バンプ11cよりも径サイズが小さい4個のバンプ11dを追加して配置したものである。これによって、固体撮像素子12の湾曲形状がより強固に維持される。なお、バンプ11dをリジット基板13に半田接合するには、マスク36にバンプ11dの位置及び径サイズに対応する開口部を形成したマスクを使用する。
次に、本発明の第3実施形態を示す図10において、本実施形態の半導体装置42は、ほぼ正方形をした固体撮像素子43の全周にわたってバンプ11a〜11cで支持するようにしたものである。固体撮像素子43の四隅に径サイズが最も大きいバンプ11aを配設し、第1実施形態と同様に、固体撮像素子43の各辺の中間部に向かって徐々に径サイズが小さくなるようにバンプ11b,11cを配置してある。このように固体撮像素子の全周にわたってバンプを配置する構成は、正方形や大サイズの固体撮像素子において特に有利である。
符号44は、固体撮像素子43とほぼ同じサイズの正方形をしたリジット基板である。また、リジット基板44にバンプ11a〜11cを半田接合するには、第1実施形態と同様に、リジット基板44に対応したほぼ正方形のマスクにバンプ11a〜11cの径サイズに対応した開口部を形成したものを使用すればよい。
次に、本発明の第4実施形態を示す図11において、本実施形態の半導体装置46は、第3実施形態の固体撮像素子43の中央部とリジット基板44の中央部との隙間に、第2実施形態と同様に、バンプ11dを追加配置したものである。これによって、固体撮像素子43の湾曲形状がより強固に維持される。なお、バンプ11dをリジット基板13に半田接合するには、第3実施形態で使用するマスクにバンプ11dの位置及び径サイズに対応する開口部を形成したものを使用すればよい。
以上説明した実施形態では、バンプの各径サイズに対応した複数種類の開口部が形成された1枚のマスクを用いて一度にバンプの位置決め及び半田接合を行なったが、異なる径サイズのバンプ毎に1枚ずつのマスクを用意し、マスクを取り替えながら各バンプの位置決め及び半田接合を行なうようにしてもよい。
上記実施形態では、使用するバンプの数を第1実施形態では12個、第2実施形態では16個、第3実施形態では20個、第4実施形態では24個としたが、本発明がこのようなバンプの数に限定されないのは勿論である。また、上記実施形態では、バンプの径サイズを3種類又は4種類としたが、本発明はこれに限定されることなく、例えば2種類や5種類としてもよい。
上記実施形態では、バンプを球形状として径サイズを変化させることにより厚み方向のサイズを変えたが、本発明はこれに限定されることなく、例えばバンプを円柱形状としてこの高さを変化させることにより厚み方向のサイズを変えるようにしてもよい。
上記実施形態では、バンプを銅製としたが、本発明はこれに限定されることなく、導電性を有し、半田接合が可能で、かつ半田接合時の熱で径サイズが変化しない金属製であればよく、例えば金製でもよい。また、接合手段として半田の代わりに導電性接着剤を用いることもできる。この場合には、耐熱性や半田容易性を考慮する必要がないため、バンプは導電性さえ良好であればよく、例えば半田製やアルミニウム製でもよい。
上記実施形態では、固体撮像素子の厚みを裏面照射型に適した50μm以下としたが、本発明はこれに限定されることなく、固体撮像素子が可撓性を有する厚みであればよい。また、上記実施形態では、リジット基板を固体撮像素子と同形状でほぼ同じサイズの矩形平板状としたが、本発明はこれに限定されることなく、固体撮像素子が接合可能なサイズ及び形状であればよい。
上記実施形態では、リジット基板を固体撮像素子の信号処理等を行なう機能デバイスとしたが、本発明はこれに限定されることなく、例えば固体撮像素子を支持するとともに半導体装置が取り付けられるデジタルカメラ等の制御系と固体撮像素子との信号の授受を仲介する基板であってもよい。
10,40,42,46 半導体装置
11a〜11d バンプ
12,43 固体撮像素子
13,44 リジット基板
36 マスク
36a〜36c 開口部
11a〜11d バンプ
12,43 固体撮像素子
13,44 リジット基板
36 マスク
36a〜36c 開口部
Claims (6)
- 可撓性を有する矩形平板状の半導体チップと、
この半導体チップの少なくとも相対する一対の縁に沿って、各縁の中心部に配置されるものよりも両端に配置されるものの方が厚み方向のサイズが大きくなるように、前記各縁の近傍にライン状に配列された複数個のバンプと、
このバンプを介して前記半導体チップが接合される基板と
からなり、前記半導体チップが前記基板に向かって凸状に湾曲して前記基板に接合されていることを特徴とする半導体装置。 - 前記バンプは、前記半導体チップの4辺の各縁に沿ってライン状に配列されていることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
- 前記バンプは、前記各縁に沿って配列されたものよりも厚み方向のサイズが小さいものが、前記半導体チップの中央部にも配置されていることを特徴とする請求項1または2記載の半導体装置。
- 前記半導体チップは、前記基板と反対側の凹状面に撮像面が設けられた裏面照射型の固体撮像素子であることを特徴とする請求項1ないし3いずれか記載の半導体装置。
- 前記基板には、前記固体撮像素子を駆動する駆動回路、前記固体撮像素子からの撮像信号を信号処理する信号処理回路の一方又は両方が設けられていることを特徴とする請求項4記載の半導体装置。
- 可撓性を有する矩形平板状の半導体チップを複数個のバンプを介して基板に接合する半導体チップの実装方法において、
前記バンプを、前記半導体チップの少なくとも相対する一対の縁に沿って、各縁の中心部に配置されるものよりも両端に配置されるものの方が厚み方向のサイズが大きくなるように、前記各縁の近傍にライン状に配列し、これらのバンプを介して、前記半導体チップが前記基板に向かって凸状に湾曲した状態で前記基板に接合することを特徴とする半導体チップの実装方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007211327A JP2009049499A (ja) | 2007-08-14 | 2007-08-14 | 半導体チップの実装方法及び半導体装置 |
| US12/187,878 US7714437B2 (en) | 2007-08-14 | 2008-08-07 | Semiconductor device and method for mounting semiconductor chip |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007211327A JP2009049499A (ja) | 2007-08-14 | 2007-08-14 | 半導体チップの実装方法及び半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009049499A true JP2009049499A (ja) | 2009-03-05 |
Family
ID=40362314
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007211327A Pending JP2009049499A (ja) | 2007-08-14 | 2007-08-14 | 半導体チップの実装方法及び半導体装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7714437B2 (ja) |
| JP (1) | JP2009049499A (ja) |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US7714437B2 (en) | 2010-05-11 |
| US20090045510A1 (en) | 2009-02-19 |
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