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JP2009049274A - Manufacturing method for conductive pattern sheet and conductive pattern sheet - Google Patents

Manufacturing method for conductive pattern sheet and conductive pattern sheet Download PDF

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JP2009049274A
JP2009049274A JP2007215695A JP2007215695A JP2009049274A JP 2009049274 A JP2009049274 A JP 2009049274A JP 2007215695 A JP2007215695 A JP 2007215695A JP 2007215695 A JP2007215695 A JP 2007215695A JP 2009049274 A JP2009049274 A JP 2009049274A
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Japan
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metal
group
conductive pattern
ink
pattern sheet
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JP2007215695A
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Japanese (ja)
Inventor
Noriyuki Kokeguchi
典之 苔口
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method for conductive pattern sheet having improved adhesion property between a conductive pattern and a base material and having sufficient electrical conductivity, and also to provide a conductive pattern sheet manufactured by the manufacturing method. <P>SOLUTION: In the manufacturing method for conductive pattern sheet, a base layer including a metal oxide, a binder and a compound containing a mercapt group or a carboxyl group is provided on a base material, then ink containing metal having a pattern shape is provided over the base layer and then a metal film is formed over formed metal catalytic nuclei. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、導電性パターンと基材との密着性が向上し、且つ十分な電気伝導性を備えた導電性パターンシートの作製方法、及び該作製方法で作製された導電性パターンシートに関するものである。   The present invention relates to a method for producing a conductive pattern sheet with improved electrical adhesion between a conductive pattern and a substrate and sufficient electrical conductivity, and a conductive pattern sheet produced by the production method. is there.

従来、微細な導電性パターンを有する電子回路等を作製するには、導電層が形成された基材にレジスト層を積層し、所望のパターンを有するフォトマスクを介して光照射し、次いで現像した後、不要なレジスト層を除去するフォトリソグラフによる方法が行われていた。しかしながら、このフォトリソグラフによる方法は、多数の工程が必要であるため煩雑である上にコスト的にも問題があり、更には除去したレジスト層の廃棄は環境に負荷を与えるという問題もあった。   Conventionally, to produce an electronic circuit or the like having a fine conductive pattern, a resist layer is laminated on a substrate on which a conductive layer is formed, irradiated with light through a photomask having a desired pattern, and then developed. Thereafter, a photolithographic method for removing an unnecessary resist layer has been performed. However, this photolithographic method is troublesome because it requires a large number of steps, and there is also a problem in terms of cost. Further, the disposal of the removed resist layer has a problem in that it has a burden on the environment.

このような問題を解決するために、インクジェット装置などの印字装置を用いて、導電性インクを基材面に直接射出して導電性パターンを形成する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。   In order to solve such a problem, there has been proposed a method of forming a conductive pattern by directly injecting conductive ink onto a substrate surface using a printing apparatus such as an ink jet apparatus (for example, Patent Document 1). reference).

特許文献1に提案されている方法は、導電性インクとして金属コロイドを含有するインクジェットインクを用いて基材面の所定部に導電回路形成用パターンを形成し、加熱乾燥し、溶融させて金属コロイド間の接触を向上させて導電率を向上させてようというものである。しかしながら、金属コロイドを溶融させる際に、180度以上の高温を必要とする。金属と基材と同時に180度以上に加熱する際に、金属と基材との熱膨張係数が異なるので、異なる体積変化が生じるため基材と金属との密着性が低下し、基材から金属が剥離する不具合が生じやすいという課題があった。
特開2004−247667号公報
In the method proposed in Patent Document 1, a conductive circuit forming pattern is formed on a predetermined portion of a substrate surface using an ink-jet ink containing a metal colloid as a conductive ink, heated and dried, and melted to form a metal colloid. It is intended to improve the electrical conductivity by improving the contact between them. However, when the metal colloid is melted, a high temperature of 180 degrees or more is required. When the metal and the substrate are heated to 180 degrees or more at the same time, the thermal expansion coefficients of the metal and the substrate are different, so that different volume changes occur, so that the adhesion between the substrate and the metal is reduced, and the metal from the substrate to the metal There is a problem that a problem of peeling occurs easily.
JP 2004-247667 A

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は導電性パターンと基材との密着性が向上し、且つ十分な電気伝導性を備えた導電性パターンシートの作製方法、及び該作製方法で作製された導電性パターンシートを提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and its purpose is to improve the adhesion between the conductive pattern and the substrate, and to produce a conductive pattern sheet with sufficient electrical conductivity, and the method It is providing the electroconductive pattern sheet produced with the preparation method.

本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

1.基材上に金属酸化物、バインダー、メルカプト基またはカルボキシル基を含む化合物を含有する下地層を設け、該下地層上に金属を含むインクをパターン状に付与し、形成された金属触媒核上に金属皮膜を形成させることを特徴とする導電性パターンシートの作製方法。   1. A base layer containing a compound containing a metal oxide, a binder, a mercapto group or a carboxyl group is provided on a base material, and an ink containing a metal is applied in a pattern on the base layer, and the formed metal catalyst core is formed on the base layer. A method for producing a conductive pattern sheet, comprising forming a metal film.

2.前記金属を含むインクをパターン状に付与した後に光照射を行うことを特徴とする前記1に記載の導電性パターンシートの作製方法。   2. 2. The method for producing a conductive pattern sheet according to 1 above, wherein light irradiation is performed after the ink containing the metal is applied in a pattern.

3.前記金属触媒核を形成した後に無電解メッキ処理を行い、金属皮膜を形成させることを特徴とする前記1または2に記載の導電性パターンシートの作製方法。   3. 3. The method for producing a conductive pattern sheet according to 1 or 2, wherein an electroless plating process is performed after forming the metal catalyst nucleus to form a metal film.

4.前記金属を含むインクをパターン状に付与する手段がインクジェット記録装置を用いて射出描画するインクジェット記録手段であることを特徴とする前記1〜3のいずれか1項に記載の導電性パターンシートの作製方法。   4). 4. The conductive pattern sheet according to any one of 1 to 3, wherein the means for applying the metal-containing ink in a pattern is an ink jet recording means that performs injection drawing using an ink jet recording apparatus. Method.

5.前記インクジェット記録手段が圧力印加手段と電界印加手段とを用いた方法であることを特徴とする前記4に記載の導電性パターンシートの作製方法。   5). 5. The method for producing a conductive pattern sheet as described in 4 above, wherein the ink jet recording means is a method using a pressure applying means and an electric field applying means.

6.前記金属を含むインクの金属が銅、銀、金、ニッケル、パラジウム、亜鉛から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする前記1〜5のいずれか1項に記載の導電性パターンシートの作製方法。   6). 6. The conductive pattern sheet according to any one of 1 to 5, wherein the metal of the ink containing the metal is at least one selected from copper, silver, gold, nickel, palladium, and zinc. Method.

7.前記金属を含むインクが該金属とカルボキシル基またはメルカプト基を含む化合物から形成される錯体の錯安定度定数よりも小さい錯体安定度定数となる錯体を形成しうるリガンド化合物を含むことを特徴とする前記1〜6のいずれか1項に記載の導電性パターンシートの作製方法。   7. The ink containing a metal contains a ligand compound capable of forming a complex having a complex stability constant smaller than a complex stability constant of a complex formed from the metal and a compound containing a carboxyl group or a mercapto group. The manufacturing method of the electroconductive pattern sheet of any one of said 1-6.

8.前記金属酸化物が酸化チタン、酸化ケイ素、酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする前記1〜7のいずれか1項に記載の導電性パターンシートの作製方法。   8). 8. The method for producing a conductive pattern sheet according to any one of 1 to 7, wherein the metal oxide is at least one selected from titanium oxide, silicon oxide, and aluminum oxide.

9.前記メルカプト基またはカルボキシル基を含む化合物が前記金属酸化物に固定化されていることを特徴とする前記1〜8のいずれか1項に記載の導電性パターンシートの作製方法。   9. 9. The method for producing a conductive pattern sheet according to any one of 1 to 8, wherein the compound containing the mercapto group or the carboxyl group is immobilized on the metal oxide.

10.前記下地層が多孔質であることを特徴とする前記1〜9のいずれか1項に記載の導電性パターンシートの作製方法。   10. 10. The method for producing a conductive pattern sheet according to any one of 1 to 9, wherein the underlayer is porous.

11.前記1〜10のいずれか1項に記載の導電性パターンシートの作製方法により作製されたことを特徴とする導電性パターンシート。   11. 11. A conductive pattern sheet produced by the method for producing a conductive pattern sheet according to any one of 1 to 10 above.

本発明の導電性パターンシートの作製方法により、基材との密着性が向上し、且つ十分な電気伝導性を備えた導電性パターンシートを提供することができた。   By the method for producing a conductive pattern sheet of the present invention, it was possible to provide a conductive pattern sheet with improved adhesion to a substrate and sufficient electrical conductivity.

以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明する。   Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described in detail.

本発明の導電性パターンシートの作製方法は、基材上に金属酸化物、バインダー、メルカプト基またはカルボキシル基を含む化合物を含有する下地層を設け、該下地層上に金属を含むインクをパターン状に付与し、形成された金属触媒核上に金属皮膜を形成させることを特徴とする。   In the method for producing a conductive pattern sheet of the present invention, a base layer containing a compound containing a metal oxide, a binder, a mercapto group or a carboxyl group is provided on a substrate, and the ink containing the metal is patterned on the base layer. And a metal film is formed on the formed metal catalyst core.

〔基材〕
本発明に用いられる基材としては、ポリイミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリアミドフィルム、ポリエステルフィルム等の樹脂フィルム、ガラス−エポキシ基板、シリコン基板、セラミックス基板、ガラス基板等が挙げられる。
〔Base material〕
Examples of the substrate used in the present invention include resin films such as polyimide films, polyamideimide films, polyamide films, and polyester films, glass-epoxy substrates, silicon substrates, ceramic substrates, and glass substrates.

本発明で用いられる樹脂フィルムの材質としては、特に限定はないが、例えば、ポリエステル系フィルム(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)系フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム,ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム(アートン(JSR社製)、ゼオネックス、ゼオネア(以上、日本ゼオン社製))、ポリエーテルスルフォンフィルム、ポリスルホン系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、ポリアクリレート系フィルム、ポリアリレート系フィルム等を挙げることができる。これらの素材を主成分とする異なる材質のフィルムを積層したフィルムであってもよい。   The material of the resin film used in the present invention is not particularly limited. For example, polyester film (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), polycarbonate film, polyarylate film, polysulfone (including polyethersulfone). Film, polyethylene film, polypropylene film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol film, syndiotactic polystyrene film, polycarbonate film, cycloolefin polymer film (Arton (manufactured by JSR), Zeonex, Zeonea (and above) , Manufactured by Nippon Zeon)), polyethersulfone film, polysulfone film, polymethylpentene film, poly Chromatography ether ketone film, polyether ketone imide film, a polyamide film, a fluororesin film, a nylon film, polymethyl methacrylate film, polyacrylate films, and polyarylate films. The film which laminated | stacked the film of the different material which has these materials as a main component may be sufficient.

また、本発明においては、基材とその上に設ける下地層との密着性を高める観点から、基材表面に予め表面をコロナ放電処理、火炎処理、オゾン処理、プライマー処理、デスミア処理、紫外線処理、放射線処理、粗面化処理、シランカップリング剤や酸やアルカリや界面活性剤等を含む化学薬品処理を施すことが好ましい。   Further, in the present invention, from the viewpoint of enhancing the adhesion between the base material and the underlying layer provided thereon, the surface of the base material is pretreated with corona discharge treatment, flame treatment, ozone treatment, primer treatment, desmear treatment, ultraviolet treatment. It is preferable to perform chemical treatment including radiation treatment, surface roughening treatment, silane coupling agent, acid, alkali, surfactant and the like.

密着性を高める機構としては、接着阻害となる表面付着の異物を取り除き表面をクリーンにする、部材界面の凹凸によるアンカー効果を用いる、両部材との界面に接着化合物を挿入する、等が挙げられる。また、下地層に含有するバインダーは予め基材とバインダーとの接着性が良い化合物を選択することが好ましい。例えば、ポリエステル系の基材にはポリウレタン系バインダー、ポリイミド系の基材、ガラス繊維練りこみエポキシ系基板にはポリアクリル系バインダーやポリエポキシ系バインダー等が挙げられる。   Examples of the mechanism for improving the adhesion include cleaning of the surface by removing foreign substances adhering to the surface that inhibits adhesion, using an anchor effect due to unevenness of the member interface, and inserting an adhesive compound at the interface with both members. . Moreover, it is preferable to select the compound with good adhesiveness of a base material and a binder previously for the binder contained in a base layer. For example, a polyester-based substrate includes a polyurethane-based binder, a polyimide-based substrate, and a glass fiber kneaded epoxy-based substrate includes a polyacrylic binder and a polyepoxy-based binder.

〔下地層〕
本発明に係る下地層は、金属酸化物、バインダー、メルカプト基またはカルボキシル基を含む化合物から構成される。金属酸化物はメルカプト基またはカルボキシル基を担持して金属皮膜形成部位をコントロールしたり、インクと金属酸化物表面との濡れ性からインクの広がりの大きさをコントロールしたり、下地層を多孔質状態にしてインクの浸透性を挙げる機能を有する。バインダーは基材と金属酸化物と金属皮膜との間に介在して物理的強度を与える機能、金属皮膜形成時に生じる応力を緩和させる機能、基材と下地層との密着性を向上させる機能等を有する。メルカプト基またはカルボキシル基を含む化合物は、金属と錯体を形成して金属触媒核となり金属皮膜の形成を容易にする機能を有する。
[Underlayer]
The underlayer according to the present invention is composed of a compound containing a metal oxide, a binder, a mercapto group, or a carboxyl group. The metal oxide carries a mercapto group or carboxyl group to control the metal film formation site, to control the spread of the ink from the wettability between the ink and the metal oxide surface, or to make the underlayer porous Thus, it has a function of increasing the permeability of the ink. Binder is a function to provide physical strength by interposing between the base material, metal oxide and metal film, a function to relieve stress generated during the formation of metal film, a function to improve the adhesion between the base material and the base layer, etc. Have A compound containing a mercapto group or a carboxyl group has a function of forming a metal catalyst complex by forming a complex with a metal to form a metal film.

(金属酸化物)
本発明に係る金属酸化物としては、例えば、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム及び水酸化亜鉛、水酸化マグネシウム、リン酸マグネシウム、リン酸水素マグネシウム、アルカリ土類金属塩、タルク、カオリン、ゼオライト、酸性白土、ガラス、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化亜鉛、酸化スズ、Snドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、フッ素ドープ酸化スズ(FTO)、アルミニウムドープ酸化亜鉛等、無機酸化物(Al23、AlO(OH)、SiO2等)で表面処理した二酸化チタン、これらの表面処理に加えて、トリメチロールエタン、トリエタノールアミン酢酸塩、トリメチルシクロシラン等の有機物処理を施した二酸化チタンまたはこれらの混合物が挙げられる。本発明において、特に好ましい金属酸化物としては、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化アルミニウムが挙げられる。
(Metal oxide)
Examples of the metal oxide according to the present invention include barium sulfate, calcium carbonate, aluminum oxide, zinc oxide, magnesium oxide and zinc hydroxide, magnesium hydroxide, magnesium phosphate, magnesium hydrogen phosphate, alkaline earth metal salt, Talc, kaolin, zeolite, acid clay, glass, titanium oxide, silicon oxide, zinc oxide, tin oxide, Sn-doped indium oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), fluorine-doped tin oxide (FTO), aluminum-doped oxidation Zinc, etc., titanium dioxide surface-treated with inorganic oxides (Al 2 O 3 , AlO (OH), SiO 2, etc.), in addition to these surface treatments, trimethylolethane, triethanolamine acetate, trimethylcyclosilane, etc. Titanium dioxide treated with organic matter or these Compounds, and the like. In the present invention, particularly preferred metal oxides include titanium oxide, silicon oxide, and aluminum oxide.

上記金属酸化物は複数個の微粒子を結着または接触させてもよい。金属酸化物微粒子の平均粒子径は5nm〜10μmが好ましく、より好ましくは20nm〜1μmである。また、金属酸化物微粒子の比表面積は簡易BET法で1×10-3〜1×1022/gであることが好ましく、より好ましくは1×10-2〜10m2/gである。また、金属酸化物微粒子の形状は不定形、針状、球形など任意の形状のものが用いられる。 The metal oxide may bind or contact a plurality of fine particles. The average particle diameter of the metal oxide fine particles is preferably 5 nm to 10 μm, more preferably 20 nm to 1 μm. It is preferable that the specific surface area of the metal oxide particles is 1 × 10 -3 ~1 × 10 2 m 2 / g by a simple BET method, more preferably from 1 × 10 -2 ~10m 2 / g . The metal oxide fine particles may have any shape such as an indefinite shape, a needle shape, and a spherical shape.

金属酸化物微粒子の形成または結着法としては、公知のゾルゲル法や焼結法を採用することができ、例えば、1)Journal of the Ceramic Society of Japan,102,2,p200(1994)、2)窯業協会誌90,4,p157、3)J.of Non−Cryst.Solids,82,400(1986)等に記載の方法が挙げられる。また、気相法により作製した酸化チタンデンドリマー粒子を溶液上に分散して基材上に塗布し、120〜150℃程度の温度範囲で乾燥して溶媒を除去して多孔質電極を得る方法を用いることもできる。   As a method for forming or binding metal oxide fine particles, a known sol-gel method or sintering method can be employed. For example, 1) Journal of the Ceramic Society of Japan, 102, 2, p200 (1994), 2 ) Ceramics Association Journal 90, 4, p157, 3) J. of Non-Cryst. Solids, 82, 400 (1986) and the like. In addition, a method of obtaining a porous electrode by dispersing titanium oxide dendrimer particles produced by a vapor phase method on a solution, applying the solution on a substrate, drying in a temperature range of about 120 to 150 ° C., and removing the solvent. It can also be used.

金属酸化物微粒子は結着させた状態が好ましく、連続加重式表面性測定機(例えば、スクラッチ試験器)で0.1g以上、好ましくは1g以上の耐性を有する状態が好ましい。   The metal oxide fine particles are preferably bound, and preferably have a resistance of 0.1 g or more, preferably 1 g or more with a continuous load type surface property measuring instrument (for example, a scratch tester).

本発明で言う多孔質とは、インクを付与した際、インクを受容できる空間を有する膜のことを言う。   The porous referred to in the present invention refers to a film having a space that can receive ink when ink is applied.

(バインダー)
本発明に係るバインダーは、基材、金属酸化物、金属皮膜等を結着できるものであれば、既知の高分子化合物を用いることができる。好ましく用いられるバインダーしては、ゼラチン、ゼラチン誘導体等の蛋白質またはセルロース誘導体、澱粉、アラビアゴム、デキストラン、プルラン、カラギーナン等の多糖類のような天然化合物や、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミド重合体やそれらの誘導体等の合成高分子化合物が挙げられる。
(binder)
As the binder according to the present invention, a known polymer compound can be used as long as it can bind a substrate, a metal oxide, a metal film and the like. Preferred binders include proteins such as gelatin and gelatin derivatives, or cellulose derivatives, natural compounds such as polysaccharides such as starch, gum arabic, dextran, pullulan and carrageenan, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide polymers, Examples thereof include synthetic polymer compounds such as derivatives thereof.

ゼラチン誘導体としては、アセチル化ゼラチン、フタル化ゼラチン、ポリビニルアルコール誘導体としては、末端アルキル基変性ポリビニルアルコール、末端メルカプト基変性ポリビニルアルコール、セルロース誘導体としては、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース等が挙げられる。   Examples of gelatin derivatives include acetylated gelatin, phthalated gelatin, polyvinyl alcohol derivatives include terminal alkyl group-modified polyvinyl alcohol, terminal mercapto group-modified polyvinyl alcohol, and cellulose derivatives include hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, carboxymethyl cellulose, and the like. It is done.

更にリサーチ・ディスクロージャー及び特開昭64−13546号公報の(71)頁〜(75)頁に記載されたもの、また米国特許第4,960,681号明細書、特開昭62−245260号公報等に記載の高吸水性ポリマー、即ち−COOMまたは−SO3M(Mは水素原子またはアルカリ金属)を有するビニルモノマーの単独重合体またはこのビニルモノマー同士もしくは他のビニルモノマー(例えば、メタクリル酸ナトリウム、メタクリル酸アンモニウム、アクリル酸カリウム等)との共重合体も使用される。これらのバインダーは2種以上組み合わせて用いることもできる。 Further, Research Disclosure and those described on pages (71) to (75) of JP-A No. 64-13546, US Pat. No. 4,960,681, and JP-A No. 62-245260 Or the like, ie, a homopolymer of vinyl monomers having —COOM or —SO 3 M (M is a hydrogen atom or an alkali metal), or vinyl monomers or other vinyl monomers (for example, sodium methacrylate) , Ammonium methacrylate, potassium acrylate, etc.). Two or more of these binders can be used in combination.

これらのバインダーは硬化されていてもよい。硬膜剤の例としては、例えば、米国特許第4,678,739号明細書の第41欄、同4,791,042号明細書、特開昭59−116655号、同62−245261号、同61−18942号、同61−249054号、同61−245153号、特開平4−218044号の各公報等に記載の硬膜剤が挙げられる。   These binders may be cured. Examples of hardeners include, for example, US Pat. No. 4,678,739, column 41, US Pat. No. 4,791,042, JP-A-59-116655, JP-A-62-245261, Examples thereof include hardeners described in JP-A-61-18942, JP-A-61-249054, JP-A-61-245153, and JP-A-4-218044.

より具体的には、アルデヒド系硬膜剤(ホルムアルデヒド等)、アジリジン系硬膜剤、エポキシ系硬膜剤、ビニルスルホン系硬膜剤(N,N′−エチレン−ビス(ビニルスルホニルアセタミド)エタン等)、N−メチロール系硬膜剤(ジメチロール尿素等)、ホウ酸、メタホウ酸あるいは高分子硬膜剤(特開昭62−234157号公報等に記載の化合物)が挙げられる。水系化合物としてゼラチンを用いる場合は、硬膜剤の中で、ビニルスルホン型硬膜剤やクロロトリアジン型硬膜剤を単独または併用して使用することが好ましい。また、ポリビニルアルコールを用いる場合は、ホウ酸やメタホウ酸等の含ホウ素化合物の使用が好ましい。   More specifically, aldehyde hardeners (formaldehyde, etc.), aziridine hardeners, epoxy hardeners, vinyl sulfone hardeners (N, N'-ethylene-bis (vinylsulfonylacetamide) Ethane, etc.), N-methylol hardeners (dimethylolurea, etc.), boric acid, metaboric acid or polymer hardeners (compounds described in JP-A-62-234157). When gelatin is used as the aqueous compound, it is preferable to use a vinyl sulfone type hardener or a chlorotriazine type hardener alone or in combination. Moreover, when using polyvinyl alcohol, it is preferable to use boron-containing compounds such as boric acid and metaboric acid.

これらの硬膜剤は水系化合物1g当たり0.001〜1g、好ましくは0.005〜0.5gが用いられる。また、膜強度を上げるため、熱処理や硬化反応時の湿度調整を行うことも可能である。   These hardeners are used in an amount of 0.001 to 1 g, preferably 0.005 to 0.5 g, per 1 g of the aqueous compound. In order to increase the film strength, it is also possible to adjust the humidity during heat treatment or curing reaction.

水系溶媒に分散した高分子としては、天然ゴムラテックス、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンゴム、ニトリルゴム、クロロプレンゴム、イソプレンゴム等のラテックス類、ポリイソシアネート系、エポキシ系、アクリル系、シリコーン系、ポリウレタン系、尿素系、フェノール系、ホルムアルデヒド系、エポキシ−ポリアミド系、メラミン系、アルキド系樹脂、ビニル系樹脂等を水系溶媒に分散した熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂を挙げることができる。これらの高分子の内、特開平10−76621号公報に記載の水系ポリウレタン樹脂を用いることが好ましい。   Polymers dispersed in aqueous solvents include natural rubber latex, styrene butadiene rubber, butadiene rubber, nitrile rubber, chloroprene rubber, isoprene rubber and other latexes, polyisocyanate, epoxy, acrylic, silicone, polyurethane, Examples thereof include a thermosetting resin and a photocurable resin in which urea, phenol, formaldehyde, epoxy-polyamide, melamine, alkyd resin, vinyl resin and the like are dispersed in an aqueous solvent. Of these polymers, it is preferable to use an aqueous polyurethane resin described in JP-A-10-76621.

(メルカプト基またはカルボキシル基を含む化合物)
本発明に係るメルカプト基またはカルボキシル基を含む化合物は、化学構造中にメルカプト基またはカルボキシル基を含む化合物であれば、いかなる化合物であってもよい。
(Compounds containing mercapto groups or carboxyl groups)
The compound containing a mercapto group or carboxyl group according to the present invention may be any compound as long as it contains a mercapto group or carboxyl group in its chemical structure.

〈メルカプト基を含む化合物〉
本発明において、好ましいメルカプト化合物は下記一般式(A)で表される化合物である。
<Compound containing mercapto group>
In the present invention, a preferred mercapto compound is a compound represented by the following general formula (A).

一般式(A):R−SM
式中、Rはアルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。Mは水素原子、金属原子またはアンモニウムを表す。
General formula (A): R-SM
In the formula, R represents an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. M represents a hydrogen atom, a metal atom or ammonium.

ここで、アルキル基とは炭素数1〜30の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基を意味する。また、アリール基とはフェニル基やナフチル基のような、単環もしくは縮合環の、置換もしくは無置換の芳香族炭化水素環を意味する。また、ヘテロ環基とはヘテロ原子を少なくとも1つ含有する、芳香族もしくは非芳香族の、単環もしくは縮合環の、置換もしくは無置換のヘテロ環基を意味する。   Here, the alkyl group means a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 30 carbon atoms. The aryl group means a monocyclic or condensed ring substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon ring such as a phenyl group or a naphthyl group. The heterocyclic group means an aromatic or non-aromatic monocyclic or condensed ring substituted or unsubstituted heterocyclic group containing at least one heteroatom.

ここで置換基とは、例えば、メルカプト基、(アルキル、アリールまたはヘテロ環)チオ基、(アルキル、アリール、またはヘテロ環)ジチオ基、(アルキルまたはアリール)スルホニル基、(アルキルまたはアリール)スルフィニル基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、N−アシルスルファモイル基、N−スルホニルスルファモイル基またはその塩、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子)、アルキル基(直鎖、分岐、環状のアルキル基で、ビシクロアルキル基や活性メチン基を含む)、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基(置換する位置は問わない)、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、N−ヒドロキシカルバモイル基、N−アシルカルバモイル基、N−スルホニルカルバモイル基、N−カルバモイルカルバモイル基、チオカルバモイル基、N−スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、カルボキシ基またはその塩、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、カルボンイミドイル基(Carbonimidoyl基)、ホルミル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基(エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む)、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、
アシルオキシ基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、(アルキル、アリールまたはヘテロ環)アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、N−ヒドロキシウレイド基、イミド基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、アンモニオ基、オキサモイルアミノ基、N−(アルキルもしくはアリール)スルホニルウレイド基、N−アシルウレイド基、N−アシルスルファモイルアミノ基、ヒドロキシアミノ基、ニトロ基、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基(例えば、ピリジニオ基、イミダゾリオ基、キノリニオ基、イソキノリニオ基)、イソシアノ基、イミノ基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、トリアルコキシシリル基等が挙げられる。
Here, the substituent is, for example, a mercapto group, (alkyl, aryl or heterocycle) thio group, (alkyl, aryl or heterocycle) dithio group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, (alkyl or aryl) sulfinyl group. , Sulfo group or a salt thereof, sulfamoyl group, N-acylsulfamoyl group, N-sulfonylsulfamoyl group or a salt thereof, halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom or iodine atom), alkyl group (straight chain) Branched, cyclic alkyl groups, including bicycloalkyl groups and active methine groups), alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, heterocyclic groups (regardless of the position of substitution), acyl groups, alkoxycarbonyl groups, aryloxy Carbonyl group, heterocyclic oxycarbonyl group, carbamoyl group, N- Roxycarbamoyl group, N-acylcarbamoyl group, N-sulfonylcarbamoyl group, N-carbamoylcarbamoyl group, thiocarbamoyl group, N-sulfamoylcarbamoyl group, carbazoyl group, carboxy group or a salt thereof, oxalyl group, oxamoyl group, cyano Group, carbonimidoyl group (Carbonimidoyl group), formyl group, hydroxy group, alkoxy group (including a group containing repeating ethyleneoxy group or propyleneoxy group units), aryloxy group, heterocyclic oxy group,
Acyloxy group, (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy group, carbamoyloxy group, sulfonyloxy group, amino group, (alkyl, aryl or heterocyclic) amino group, acylamino group, sulfonamido group, ureido group, thioureido group, N- Hydroxyureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino group, ammonio group, oxamoylamino group, N- (alkyl or aryl) sulfonylureido Group, N-acylureido group, N-acylsulfamoylamino group, hydroxyamino group, nitro group, quaternized heterocyclic group containing nitrogen atom (for example, pyridinio group, imidazolio group, quinolinio group Isoquinolinio group), an isocyano group, an imino group, a phosphino group, phosphinyl group, phosphinyloxy group, phosphinylamino group, a silyl group, trialkoxysilyl group, and the like.

なお、ここで活性メチン基とは、2つの電子求引性基で置換されたメチン基を意味し、ここに電子求引性基とはアシル基、アルコシキカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、ニトロ基、カルボンイミドイル基(Carbonimidoyl基)を意味する。ここで2つの電子求引性基は互いに結合して環状構造をとっていてもよい。また、塩とはアルカリ金属、アルカリ土類金属、重金属などの陽イオンや、アンモニウムイオン、ホスホニウムイオンなどの有機の陽イオンを意味する。   Here, the active methine group means a methine group substituted with two electron-withdrawing groups, and the electron-withdrawing group here means an acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl. Group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfamoyl group, a trifluoromethyl group, a cyano group, a nitro group, and a carbonimidoyl group (Carbonimidoyl group). Here, the two electron withdrawing groups may be bonded to each other to form a cyclic structure. The salt means a cation such as alkali metal, alkaline earth metal or heavy metal, or an organic cation such as ammonium ion or phosphonium ion.

これらの置換基は、これらの置換基で更に置換されていてもよい。   These substituents may be further substituted with these substituents.

好ましく用いられるメルカプト化合物としては、以下の化合物が挙げられる。   Examples of the mercapto compound preferably used include the following compounds.

Figure 2009049274
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Figure 2009049274
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Figure 2009049274
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〈カルボキシル基を含む化合物〉
本発明において、好ましいカルボキシル基を含む化合物は下記一般式(3)で表される化合物である。
<Compound containing carboxyl group>
In the present invention, a preferred compound containing a carboxyl group is a compound represented by the following general formula (3).

Figure 2009049274
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式中、Aはそれぞれ置換基を有してもよいシクロアルキル基、フェニル基または複素環基を表し、縮合環を形成してもよい。Mは同じでも異なってもよく、アルカリ金属、アンモニウムイオンまたは有機塩基を表す。   In the formula, each A represents a cycloalkyl group, a phenyl group or a heterocyclic group which may have a substituent, and may form a condensed ring. M may be the same or different and represents an alkali metal, an ammonium ion or an organic base.

Aで表されるシクロアルキル環、複素環基としてはシクロアルキル環、複素環基を構成する原子群の個数は特に制限はないが、5員環または6員環であることが好ましい。一般式(3)で表される化合物の中でも、Aがそれぞれ置換基を有してもよいピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピロリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、テトラゾリル基及びフリル基から選ばれる複素環基、または置換基を有してもよいフェニル基である化合物が画像形成面表面の光沢度の観点から好ましい。更にAが置換基を有してもよいフェニル基、ピリジル基である場合がより好ましい。   As the cycloalkyl ring and heterocyclic group represented by A, the number of atom groups constituting the cycloalkyl ring and heterocyclic group is not particularly limited, but a 5-membered ring or 6-membered ring is preferable. Among the compounds represented by the general formula (3), A may have a substituent each having a pyridyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group, pyridazinyl group, pyrrolyl group, pyrazolyl group, imidazolyl group, tetrazolyl group, and furyl group. From the viewpoint of glossiness of the surface of the image forming surface, a compound that is a heterocyclic group selected from the above, or a phenyl group that may have a substituent is preferable. Further, A is more preferably a phenyl group or a pyridyl group which may have a substituent.

以下に、一般式(3)で表される化合物の具体例を挙げるが、これに限定されない。   Although the specific example of a compound represented by General formula (3) below is given, it is not limited to this.

Figure 2009049274
Figure 2009049274

Figure 2009049274
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これらの錯形成化合物は市販品として購入することができる。また、バイルシュタインス・ハンドブーフ・デア・オーガニッシェン・ヘミー(Beilsteins Handbuch der Organischen Chemie)、アンナーレン・デア・ヘミー(Ann.Chem.)、ケミカル・アブストラクツ(Chemical Abstracts)、ジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミカル・ソサイアティ(J.Am.Chem.Soc.)、モナッシェフテ・ヒュール・ヘミー(Monatsch.Chem)、ジュルナール・デア・ルッシシェン・フィジカリッシュ−ヘミッシェン・ゲゼルシャフト(Journal der Russischen Physikalish−Chemischen Gesellschaft)等に記載された方法に準じて合成することができる。   These complex-forming compounds can be purchased as commercial products. Also, Beilsteins Handbuch der Organischen Chemie, Annan der Chemy, Chemical Abstracts, Journal of American Abstracts. Described in Chemical Society (J. Am. Chem. Soc.), Monashshte Hül Hemy (Monatsch. Chem), Jurnar der Russien Physisch, etc. Can be synthesized according to That.

これらのメルカプト基またはカルボキシル基を含む化合物の内、トリアルコキシシリル基を有する化合物が特に好ましい。具体的には、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、1−トリエトキシシリルアミノ−3,5−ジメルカプトートリアジン等の化合物を挙げることができる。   Of these compounds containing a mercapto group or a carboxyl group, compounds having a trialkoxysilyl group are particularly preferred. Specific examples include compounds such as 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, 1-triethoxysilylamino-3,5-dimercaptotriazine.

本発明のメルカプト基またはカルボキシル基を含む化合物の金属酸化物への固定化方法としては、該化合物と金属酸化物とのファンデルワールス力により該化合物を吸着させる方法、該化合物のカルボキシル基や水酸基と金属酸化物の金属部位にイオン結合や配位結合を設けて固定化させる方法、該化合物に含まれる官能基と金属酸化物表面原子とを反応させ化学結合を設けて固定化させる方法等が挙げられる。   Examples of the method for immobilizing a compound containing a mercapto group or a carboxyl group of the present invention on a metal oxide include a method of adsorbing the compound by van der Waals force between the compound and the metal oxide, a carboxyl group or a hydroxyl group of the compound And a method of immobilizing by providing an ionic bond or a coordination bond at a metal site of a metal oxide, a method of immobilizing a chemical group by reacting a functional group contained in the compound and a metal oxide surface atom, etc. Can be mentioned.

該化合物の金属酸化物への供給方法としては、該化合物を溶解または分散させた溶液を金属酸化物に接触させる方法が好ましい。その際、該溶液の溶媒種や酸塩基度や水系の場合はpH等を該化合物の溶解性に併せて、該化合物の溶解性が高い状態から該化合物の溶解性が低い状態に変化させることにより、該化合物の金属酸化物への固定化を容易に行うことができる。   As a method for supplying the compound to the metal oxide, a method in which a solution in which the compound is dissolved or dispersed is brought into contact with the metal oxide is preferable. At that time, in the case of the solvent type, acid basicity, and aqueous system of the solution, the pH and the like are combined with the solubility of the compound, and the solubility of the compound is changed from the high solubility to the low solubility of the compound. Thus, the compound can be easily fixed to the metal oxide.

〔パターンの形成方法〕
本発明に係る金属を含むインクをバターン状に付与する方法としては、パターン状にインクを付与できる方法であれば特に制限はなく、公知のパターン形成方法を適用することができる。例えば、塗布方式、液噴霧方式、気相を介する噴霧方式として、圧電素子の振動を利用して液滴を飛翔させる方式、例えば、ピエゾ方式のインクジェットヘッドや、突沸を利用したサーマルヘッドを用いて液滴を飛翔させるバブルジェット(登録商標)方式のインクジェットヘッド、また空気圧や液圧により液を噴霧するスプレー方式等が挙げられる。
[Pattern formation method]
The method for applying the ink containing the metal according to the present invention in a pattern is not particularly limited as long as it is a method capable of applying the ink in a pattern, and a known pattern forming method can be applied. For example, as a coating method, a liquid spraying method, or a spraying method via a gas phase, a method of flying droplets using vibration of a piezoelectric element, for example, a piezo ink jet head or a thermal head using bumping Examples thereof include a bubble jet (registered trademark) type ink jet head that causes droplets to fly, and a spray type that sprays liquid by air pressure or liquid pressure.

また、印刷方式としては、スクリーン印刷、フレキソ印刷、凸版や凹版印刷を挙げることができる。塗布方式としては、公知の塗布方式より適宜選択することができ、例えば、エアードクターコーター、ブレードコーター、ロッドコーター、ナイフコーター、スクイズコーター、含浸コーター、リバースローラーコーター、トランスファーローラーコーター、カーテンコーター、ダブルローラーコーター、スライドホッパーコーター、グラビアコーター、キスロールコーター、ビードコーター、キャストコーター、スプレイコーター、カレンダーコーター、押し出しコーター等が挙げられる。   Examples of the printing method include screen printing, flexographic printing, letterpress and intaglio printing. The coating method can be appropriately selected from known coating methods. For example, an air doctor coater, blade coater, rod coater, knife coater, squeeze coater, impregnation coater, reverse roller coater, transfer roller coater, curtain coater, double coater Examples include roller coaters, slide hopper coaters, gravure coaters, kiss roll coaters, bead coaters, cast coaters, spray coaters, calendar coaters, and extrusion coaters.

これらの内、本発明においてはインクジェット方式を好ましく用いることができる。特に、インクジェット記録装置を用いたインクジェット方式を適用することが好ましく、更には電気回路等に使用される線幅が20μm以下の細線を高精度に形成できる観点から、インクジェット記録装置による導電性インクの吐出方法が、圧力印加手段と電界印加手段とを用いた方法であることが好ましい。   Of these, the ink jet system can be preferably used in the present invention. In particular, it is preferable to apply an ink jet method using an ink jet recording apparatus. Further, from the viewpoint of forming a thin line having a line width of 20 μm or less used in an electric circuit or the like with high accuracy, the conductive ink of the ink jet recording apparatus is used. The discharge method is preferably a method using pressure applying means and electric field applying means.

以下、圧力印加手段と電界印加手段とを用いたインクジェット記録方法について説明する。   Hereinafter, an ink jet recording method using a pressure applying unit and an electric field applying unit will be described.

一般に、電子回路等で要求されている微細な線幅のパターンを高精細に描画するには、インクジェット記録装置から射出するインク液滴をより微細化する必要がある。   In general, in order to draw a fine line width pattern required in an electronic circuit or the like with high definition, it is necessary to further refine the ink droplets ejected from the ink jet recording apparatus.

しかしながら、電気−機械変換方式(例えば、シングルキャビティー型、ダブルキャビティー型、ベンダー型、ピストン型、シェアーモード型、シェアードウォール型等)や電気−熱変換方式(例えば、サーマルインクジェット型、バブルジェット(登録商標)型等)のみの出力手段を用いて、極微小インク液滴を吐出した場合、ノズルから吐出したインク液滴に付与される運動エネルギーは、インク液滴の半径の3乗に比例して小さくなるため、微小液滴は空気抵抗に耐えるほどの十分な運動エネルギーを確保できず、空気対流などによる擾乱を受け、正確な着弾が困難となる。   However, electro-mechanical conversion methods (eg, single cavity type, double cavity type, bender type, piston type, shear mode type, shared wall type, etc.) and electro-thermal conversion methods (eg, thermal ink jet type, bubble jet type) When a very small ink droplet is ejected using only (registered trademark type) output means, the kinetic energy imparted to the ink droplet ejected from the nozzle is proportional to the cube of the radius of the ink droplet Therefore, the microdroplet cannot secure sufficient kinetic energy enough to withstand air resistance, and is subject to disturbance due to air convection, making accurate landing difficult.

更にインク液滴が微細になるほど表面張力の効果が増すために、液滴の蒸気圧が高くなり蒸発量が激しくなる。このため、微細液滴は飛翔中の著しい質量の消失を招き、着弾時に液滴の形態を保つことすら難しいという問題があった。このように着弾位置の高精度化は、インク液滴の微細化と相反する課題であり、これら2つを同時に実現することに対し、障害を抱えていた。   Furthermore, since the effect of surface tension increases as the ink droplets become finer, the vapor pressure of the droplets increases and the amount of evaporation increases. For this reason, fine droplets cause a significant loss of mass during flight, and there is a problem that it is difficult to maintain the shape of the droplets upon landing. As described above, increasing the accuracy of the landing position is a problem that contradicts the miniaturization of ink droplets, and has an obstacle to realizing these two simultaneously.

本発明においては、上記課題を解決する方法として、圧力印加手段と電界印加手段とを用いた射出方法を適用することが好ましい。   In the present invention, it is preferable to apply an injection method using a pressure applying means and an electric field applying means as a method for solving the above problems.

この射出方法は、0.1〜100μmの内径の吐出口を有するノズルを用い、導電性インクに任意波形の電圧を印加して、この導電性インクを帯電させることにより、そのインク液滴を吐出口から、樹脂層を有する基材に吐出する方法である。即ち、この射出方法はノズルの吐出口の内径が0.1〜100μmであり、電界強度分布が狭くなっているため、ノズル内に供給された導電性インクに任意波形の電圧を印加することにより電界を集中させることができる。   This ejection method uses a nozzle having an ejection port with an inner diameter of 0.1 to 100 μm, applies an arbitrary waveform voltage to the conductive ink, and charges the conductive ink to discharge the ink droplets. This is a method of discharging from an outlet to a substrate having a resin layer. That is, in this ejection method, the inner diameter of the nozzle outlet is 0.1 to 100 μm and the electric field strength distribution is narrow, so by applying an arbitrary waveform voltage to the conductive ink supplied into the nozzle. The electric field can be concentrated.

その結果、形成されるインク液滴を微小で、且つ形状の安定化したものとすることができる。従って、従来よりも微細な、例えば、1pl(ピコリットル)未満の複数のインク液滴からなるインク液滴パターンを樹脂層表面に形成することができる。また、電界強度分布が狭くなっているため、ノズル内の導電性インクに印加する総印加電圧を低減することができる。また、インク液滴はノズルから吐出された直後、電界と電荷の間に働く静電力により加速されるが、ノズルから離れると電界は急激に低下するので、その後は空気抵抗により減速する。しかしながら、微小液滴で且つ電界が集中したインク液滴は、樹脂層に近づくにつれ鏡像力により加速される。この空気抵抗による減速と鏡像力による加速とのバランスをとることにより、微小液滴を安定に飛翔させ、着弾精度を向上させることが可能となる。   As a result, the formed ink droplets can be made minute and the shape can be stabilized. Therefore, it is possible to form an ink droplet pattern composed of a plurality of ink droplets, for example, less than 1 pl (picoliter), on the surface of the resin layer. In addition, since the electric field strength distribution is narrow, the total applied voltage applied to the conductive ink in the nozzle can be reduced. Further, immediately after the ink droplet is ejected from the nozzle, the ink droplet is accelerated by an electrostatic force acting between the electric field and the electric charge. However, the ink droplets that are fine droplets and the electric field is concentrated are accelerated by the mirror image force as they approach the resin layer. By balancing the deceleration by the air resistance and the acceleration by the mirror image force, it is possible to stably fly the fine droplets and improve the landing accuracy.

図1は、本発明に好ましく適用できる圧力印加手段と電界印加手段とを用い導電性インク吐出装置の一例を示した概略断面図である。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a conductive ink discharge apparatus using a pressure applying unit and an electric field applying unit that can be preferably applied to the present invention.

図1において、導電性インク吐出装置20は、帯電可能な導電性インクの液滴を先端部から樹脂層を有する基材Kに向かって吐出する超微細径のノズル21と、ノズル21の先端部に対向する面側に配置され、その対向面で基材Kを支持する対向電極23と、ノズル21内の流路22に導電性インクを供給する導電性インク供給手段と、ノズル21内の導電性インクに任意波形の吐出電圧を印加する吐出電圧印加手段(電圧印加手段)25とを備えている。なお、上記ノズル21と導電性インク供給手段の一部の構成と吐出電圧印加手段25の一部の構成とは、ノズルプレート26と一体的に形成されている。   In FIG. 1, a conductive ink discharge device 20 includes a superfine nozzle 21 that discharges a droplet of conductive ink that can be charged from a tip portion toward a substrate K having a resin layer, and a tip portion of the nozzle 21. The counter electrode 23 is disposed on the surface side opposite to the substrate 21 and supports the base material K on the opposite surface, the conductive ink supply means for supplying the conductive ink to the flow path 22 in the nozzle 21, and the conductivity in the nozzle 21. Discharge voltage applying means (voltage applying means) 25 for applying a discharge voltage having an arbitrary waveform to the ink. The nozzle 21 and a part of the conductive ink supply unit and a part of the discharge voltage application unit 25 are formed integrally with the nozzle plate 26.

ノズル21はノズルプレート26の下面層26cから垂設され、この下面層26cと一体的に形成されている。ノズル21の先端部は対向電極23に指向している。ノズル21の内部には、その先端部からその中心線に沿って貫通するノズル内流路22が形成されている。   The nozzle 21 is suspended from the lower surface layer 26c of the nozzle plate 26, and is formed integrally with the lower surface layer 26c. The tip of the nozzle 21 is directed to the counter electrode 23. Inside the nozzle 21, an in-nozzle flow path 22 is formed that penetrates from the tip portion along the center line.

ノズル21は、例えば、ガラスなどの電気絶縁体により、超微細径で形成されている。ノズル21の各部の寸法の具体例を挙げると、ノズル内流路22の内部直径は1μm、ノズル21の先端部における外部直径は2μm、ノズル21の根元、即ち、上端部の直径は5μm、ノズル21の高さは100μmに設定されている。また、ノズル21の形状は限りなく円錐形に近い円錐台形に形成されている。このようなノズル21は、その全体がノズルプレート26の下面層26cと共に絶縁性の樹脂材により形成されている。   The nozzle 21 is formed with an ultrafine diameter using, for example, an electrical insulator such as glass. Specific examples of the dimensions of each part of the nozzle 21 are as follows: the inner diameter of the nozzle flow path 22 is 1 μm, the outer diameter at the tip of the nozzle 21 is 2 μm, the root of the nozzle 21, that is, the diameter of the upper end is 5 μm, The height of 21 is set to 100 μm. Moreover, the shape of the nozzle 21 is formed in a truncated cone shape close to a conical shape. The nozzle 21 as a whole is formed of an insulating resin material together with the lower surface layer 26 c of the nozzle plate 26.

なお、ノズル21の各寸法は上記一例に限定されるものではない。特に吐出口の内径については、電界集中の効果により液滴の吐出を可能とする吐出電圧が1000V未満を実現する範囲であって、例えば、100μm以下であり、より望ましくは20μm以下であって、現行のノズル形成技術により溶液を通す貫通穴を形成することが実現可能な範囲である内径、例えば0.1μmをその下限値とする。   Each dimension of the nozzle 21 is not limited to the above example. In particular, the inner diameter of the discharge port is a range in which the discharge voltage that enables the discharge of droplets by the effect of electric field concentration is less than 1000 V, for example, 100 μm or less, more preferably 20 μm or less, An inner diameter, for example, 0.1 μm, in a range where it is feasible to form a through hole through which a solution passes by the current nozzle forming technique is set as the lower limit.

導電性インク供給手段は、ノズルプレート26の内部であってノズル21の根元となる位置に設けられると共にノズル内流路22に連通する溶液室24と、図示しない外部の導電性インクタンクからインク室24に導電性インクを導く供給路27と、インク室24への溶液の供給圧力を付与する図示しない供給ポンプとを備えている。   The conductive ink supply means is provided inside the nozzle plate 26 at a position that is the root of the nozzle 21 and communicates with the flow path 22 in the nozzle, and an ink chamber from an external conductive ink tank (not shown). A supply path 27 that guides conductive ink to 24 and a supply pump (not shown) that applies supply pressure of the solution to the ink chamber 24 are provided.

上記供給ポンプはノズル21の先端部まで導電性インクを供給し、当該先端部からこぼれ出さない範囲の供給圧力を維持して導電性インクの供給を行う。   The supply pump supplies conductive ink to the tip of the nozzle 21 and supplies the conductive ink while maintaining a supply pressure in a range that does not spill from the tip.

吐出電圧印加手段25は、ノズル21内の導電性インクに吐出電圧を印加してこの導電性インクを帯電させることにより、この導電性インクの液滴をノズル21の吐出口から基材Kに向かって吐出させるものである。この吐出電圧印加手段25は、ノズルプレート26の内部であってインク室24とノズル内流路22との境界位置に設けられた吐出電圧印加用の吐出電極28と、この吐出電極28に常時、直流のバイアス電圧を印加するバイアス電源30と、吐出電極28にバイアス電圧に重畳して吐出に要する電位とするパルス電圧を印加する吐出電圧電源29とを備えている。   The discharge voltage application means 25 applies a discharge voltage to the conductive ink in the nozzle 21 to charge the conductive ink, thereby causing the droplets of the conductive ink to move from the discharge port of the nozzle 21 toward the substrate K. To be discharged. The discharge voltage application means 25 is provided inside the nozzle plate 26 and at a boundary position between the ink chamber 24 and the nozzle flow path 22, and the discharge voltage application discharge electrode 28 is always on the discharge electrode 28. A bias power source 30 that applies a DC bias voltage and an ejection voltage power source 29 that applies a pulse voltage that is superimposed on the bias voltage to a potential required for ejection on the ejection electrode 28 are provided.

吐出電極28は、インク室24内部において導電性インクに直接接触し、導電性インクを帯電させると共に吐出電圧を印加する。   The discharge electrode 28 directly contacts the conductive ink inside the ink chamber 24 to charge the conductive ink and apply a discharge voltage.

バイアス電源30によるバイアス電圧は、導電性インクの吐出が行われない範囲で常時電圧印加を行うことにより、吐出時に印加すべき電圧の幅を予め低減し、これによる吐出時の反応性の向上を図っている。一例を挙げると、バイアス電圧はDC300Vで印加され、パルス電圧は100Vで印される。従って、吐出の際の重畳電圧は400Vとなる。   The bias voltage from the bias power supply 30 is always applied within a range in which conductive ink is not discharged, thereby reducing the width of the voltage to be applied at the time of discharge, thereby improving the reactivity at the time of discharge. I am trying. As an example, the bias voltage is applied at 300V DC and the pulse voltage is marked at 100V. Therefore, the superimposed voltage at the time of ejection is 400V.

ノズルプレート26は、最も上層に位置する上面層26aと、その下に位置する導電性インクの供給路を形成する流路層26bと、この流路層26bの更に下に形成される下面層26cとを備え、流路層26bと下面層26cとの間には、吐出電極28が介挿されている。   The nozzle plate 26 includes an upper surface layer 26a positioned at the uppermost layer, a flow path layer 26b forming a conductive ink supply path positioned therebelow, and a lower surface layer 26c formed further below the flow path layer 26b. The discharge electrode 28 is interposed between the flow path layer 26b and the lower surface layer 26c.

対向電極23はノズル21に垂直な対向面を備えており、かかる対向面に沿うように基材Kの支持を行う。ノズル21の先端部から対向電極23の対向面までの距離は、例えば、100μm等一定に保持されている。   The counter electrode 23 has a counter surface perpendicular to the nozzle 21 and supports the substrate K along the counter surface. The distance from the tip of the nozzle 21 to the facing surface of the counter electrode 23 is kept constant, for example, 100 μm.

また、対向電極23は接地されているため、常時、接地電位を維持している。従って、パルス電圧の印加時にはノズル21の先端部と対向面との間に生じる電界による静電力により吐出された液滴を対向電極23側に誘導する。   Further, since the counter electrode 23 is grounded, the ground potential is always maintained. Accordingly, when a pulse voltage is applied, the liquid droplets ejected by the electrostatic force generated by the electric field generated between the tip of the nozzle 21 and the opposing surface are guided to the opposing electrode 23 side.

なお、導電性インク吐出装置20は、ノズル21の超微細化による当該ノズル21の先端部での電界集中により電界強度を高めることで液滴の吐出を行うことから、対向電極23による誘導がなくとも液滴の吐出を行うことは可能ではあるが、ノズル21と対向電極23との間での静電力による誘導が行われた方が望ましい。この場合、ノズル21から吐出され空気抵抗により減速する液滴を、鏡像力により加速することができる。従って、これら空気抵抗による減速と鏡像力による加速とのバランスをとることにより、微小液滴を安定に飛翔させ、着弾精度を向上させることができる。またなお、帯電した液滴の電荷を、対向電極23の接地により逃がすことも可能である。   The conductive ink discharge device 20 discharges droplets by increasing the electric field strength by concentrating the electric field at the tip of the nozzle 21 due to the ultra-miniaturization of the nozzle 21, so that there is no induction by the counter electrode 23. In both cases, it is possible to discharge liquid droplets, but it is desirable that induction is performed between the nozzle 21 and the counter electrode 23 by electrostatic force. In this case, the droplet discharged from the nozzle 21 and decelerated by air resistance can be accelerated by the mirror image force. Therefore, by balancing the deceleration by the air resistance and the acceleration by the mirror image force, it is possible to stably fly the fine droplets and improve the landing accuracy. Furthermore, the charge of the charged droplets can be released by grounding the counter electrode 23.

以上のような導電性インク吐出装置20は、図示しない駆動機構により、基材Kの搬送方向に対して直交する方向に走査自在とされた走査型の導電性インク吐出装置としてもよい。この場合において、導電性インク吐出装置20に複数のノズル21を配列するようにしてもよい。また、導電性インク吐出装置20は、基材Kの搬送方向に対して直交する方向に多数のノズル21を配列してなるライン型の導電性インク吐出装置としてもよい。   The conductive ink discharge device 20 as described above may be a scanning type conductive ink discharge device that can be scanned in a direction orthogonal to the conveyance direction of the substrate K by a drive mechanism (not shown). In this case, a plurality of nozzles 21 may be arranged in the conductive ink discharge device 20. Further, the conductive ink discharge device 20 may be a line-type conductive ink discharge device in which a large number of nozzles 21 are arranged in a direction orthogonal to the conveyance direction of the substrate K.

〔光照射〕
本発明においては、金属を含むインクをパターン状に付与した後、光照射を行うことが好ましい。
[Light irradiation]
In the present invention, it is preferable to perform light irradiation after applying a metal-containing ink in a pattern.

本発明において、活性光線の照射は可視光照射、紫外線照射であってもよく、特に紫外線照射が好ましい。紫外線照射を行う場合、紫外線照射量は150mJ/cm2以上、好ましくは250mJ/cm2以上であり、また2000mJ/cm2以下、好ましくは1000mJ/cm2以下の範囲で行う。かかる程度の範囲内における紫外線照射量であれば、十分硬化反応を行うことができ、また紫外線照射によって導電性パターンに対する影響を防止できるので有利である。 In the present invention, irradiation with actinic rays may be visible light irradiation or ultraviolet irradiation, and ultraviolet irradiation is particularly preferable. When performing ultraviolet irradiation, ultraviolet ray irradiation quantity is 150 mJ / cm 2 or more, preferably 250 mJ / cm 2 or more and 2000 mJ / cm 2 or less, preferably performed at 1000 mJ / cm 2 or less. An ultraviolet irradiation amount within such a range is advantageous because a sufficient curing reaction can be performed and the influence on the conductive pattern can be prevented by the ultraviolet irradiation.

紫外線照射光源は、メタルハライドランプ、キセノンランプ、カーボンアーク灯、ケミカルランプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ等のランプが挙げられる。例えば、Fusion System社製のHランプ、Dランプ、Vランプ等の市販されているものを用いて行うことができる。   Examples of the ultraviolet irradiation light source include lamps such as metal halide lamps, xenon lamps, carbon arc lamps, chemical lamps, low-pressure mercury lamps, and high-pressure mercury lamps. For example, a commercially available product such as an H lamp, a D lamp, or a V lamp manufactured by Fusion System can be used.

メタルハライドランプは高圧水銀ランプ(主波長は365nm)に比べてスペクトルが連続しており、200〜450nmの範囲で発光効率が高く、且つ長波長域が豊富である。   The metal halide lamp has a continuous spectrum as compared with a high-pressure mercury lamp (main wavelength is 365 nm), has high luminous efficiency in the range of 200 to 450 nm, and has a long wavelength range.

活性光線の照射方法として、導電性パターンとは別の領域で活性光線を付与する方法であっても、あるいは導電性インク付与装置に活性光源部を取り付け、導電性インクの出射と共に活性光線を照射する方法であってもよい。その基本的な方法が特開昭60−132767号公報に開示されている。   Irradiation of actinic light is a method of applying actinic light in a region different from the conductive pattern, or an actinic light source is attached to a conductive ink application device, and actinic light is emitted along with the emission of conductive ink It may be a method to do. The basic method is disclosed in JP-A-60-132767.

これによると、ヘッドユニットの両側に光源を設け、シャトル方式でヘッドと光源を走査する。照射はインク着弾後、一定時間を置いて行われることになる。更に駆動を伴わない別光源によって硬化を完了させる。米国特許第6,145,979号明細書では、照射方法として、光ファイバーを用いた方法や、コリメートされた光源をヘッドユニット側面に設けた鏡面に当て、記録部へUV光を照射する方法が開示されている。本発明の画像形成方法においては、これらのいずれの照射方法も用いることができる。   According to this, the light source is provided on both sides of the head unit, and the head and the light source are scanned by the shuttle method. Irradiation is performed after a certain period of time after ink landing. Further, the curing is completed by another light source that is not driven. In US Pat. No. 6,145,979, as an irradiation method, a method using an optical fiber or a method of irradiating a recording unit with UV light by applying a collimated light source to a mirror surface provided on the side surface of the head unit is disclosed. Has been. Any of these irradiation methods can be used in the image forming method of the present invention.

また、活性光線の照射を2段階に分け、まずインク着弾後0.001秒以上、2秒以下の間に前述の方法で活性光線を照射し、且つ全導電性パターンを形成した後、更に活性光線を照射する方法も好ましい態様の1つである。活性光線の照射を2段階に分けることで、よりインク硬化の際に起こる記録材料の収縮を抑えることが可能となる。   In addition, irradiation with actinic rays is divided into two stages. First, the actinic rays are irradiated by the above-described method within 0.001 second or more and 2 seconds or less after ink landing, and after the formation of all conductive patterns, further activation is performed. A method of irradiating with light is also one of the preferred embodiments. By dividing the irradiation of actinic rays into two stages, it is possible to further suppress the shrinkage of the recording material that occurs during ink curing.

本発明では、254nmの波長領域に最高照度をもつ活性光線を用いることが好ましく、総消費電力が1kW・hr以上の光源を用いても、高精細な導電性パターン画像を形成でき、且つ基材への影響も実用上許容レベル内に収められる。   In the present invention, it is preferable to use an actinic ray having a maximum illuminance in a wavelength region of 254 nm, and a high-definition conductive pattern image can be formed even when a light source having a total power consumption of 1 kW · hr or more is used. The impact on the environment is also within a practically acceptable level.

本発明においては、更に活性光線を照射する光源の総消費電力が1kW・hr未満であることが好ましい。総消費電力が1kW・hr未満の光源の例としては、蛍光管、冷陰極管、熱陰極管、LEDなどがあるが、これらに限定されない。   In the present invention, it is preferable that the total power consumption of the light source for irradiating actinic rays is less than 1 kW · hr. Examples of the light source having a total power consumption of less than 1 kW · hr include, but are not limited to, a fluorescent tube, a cold cathode tube, a hot cathode tube, and an LED.

〔金属皮膜形成〕
本発明に係る導電性インク、特にはメッキ触媒として作用する金属微粒子を含有する導電性インクにより形成した導電性パターンは、パターンを形成した後、本発明に係る乾燥及び焼成処理により良好な導電性を呈するが、更に上記のメッキ触媒活性化剤による処理工程を行った後、導電性パターンが含有している金属微粒子及びメッキ触媒活性化剤をメッキ触媒としてメッキ処理を施すことが、より優れた導電性が得られる観点から好ましい。
[Metal film formation]
The conductive pattern formed by the conductive ink according to the present invention, particularly the conductive ink containing metal fine particles that act as a plating catalyst, has good conductivity by the drying and baking treatment according to the present invention after the pattern is formed. However, after performing the treatment step with the above-described plating catalyst activator, it is more excellent to perform the plating treatment using the metal fine particles contained in the conductive pattern and the plating catalyst activator as a plating catalyst. This is preferable from the viewpoint of obtaining conductivity.

以下、本発明に適用可能なメッキ処理方法について説明する。   Hereinafter, a plating method applicable to the present invention will be described.

本発明においては、従来公知のメッキ法を適用できるが、その中でも、低抵抗の導電性パターンを煩雑な工程なしに簡便、低コストでメッキ処理することができる観点から、無電解メッキ法を適用することが好ましい。   In the present invention, a conventionally known plating method can be applied. Among them, an electroless plating method is applied from the viewpoint that a low-resistance conductive pattern can be easily and inexpensively plated without a complicated process. It is preferable to do.

無電解メッキ法によるメッキ処理は、上述の方法に従ってメッキ触媒として作用する金属微粒子を含有する導電性パターンにメッキ剤を接触させる方法である。これにより、メッキ触媒である金属微粒子とメッキ剤とが接触し、導電性パターン部に無電解メッキが施されて、より優れた導電性を得ることができる。   The plating process by the electroless plating method is a method in which a plating agent is brought into contact with a conductive pattern containing metal fine particles that act as a plating catalyst according to the above-described method. Thereby, the metal fine particle which is a plating catalyst and a plating agent contact, electroless plating is given to a conductive pattern part, and more excellent electroconductivity can be obtained.

本発明に係るメッキ処理で使用できるメッキ剤としては、例えば、メッキ材料として析出させる金属イオンが均一溶解された溶液が用いられ、金属塩とともに還元剤が含有される。ここで、通常は溶液が用いられるが、無電解メッキを生じさせるものであればこれに限らず、ガス状や粉体のメッキ剤を適用することも可能である。   As a plating agent that can be used in the plating treatment according to the present invention, for example, a solution in which metal ions to be deposited as a plating material are uniformly dissolved is used, and a reducing agent is contained together with a metal salt. Here, a solution is usually used. However, the present invention is not limited to this as long as it causes electroless plating, and a gaseous or powder plating agent can also be applied.

具体的に、この金属塩としては、Au、Ag、Cu、Ni、Co、Feから選択される少なくとも1種の金属のハロゲン化物、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、ホウ酸塩、酢酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩などが適用可能である。また、還元剤としては、ヒドラジン、ヒドラジン塩、ボロハライド塩、次亜リン酸塩、次亜硫酸塩、アルコール、アルデヒド、カルボン酸、カルボン酸塩などが適用可能である。なお、これらの還元剤に含有されるボロン、燐、窒素などの元素が析出する電極に含有されていても構わない。あるいは、これらの金属塩の混合物を用いて合金が形成されていても構わない。   Specifically, as this metal salt, a halide, nitrate, sulfate, phosphate, borate, acetate of at least one metal selected from Au, Ag, Cu, Ni, Co, Fe, Tartrate, citrate, etc. are applicable. As the reducing agent, hydrazine, hydrazine salt, borohalide salt, hypophosphite, hyposulfite, alcohol, aldehyde, carboxylic acid, carboxylate, and the like are applicable. In addition, you may contain in the electrode which elements, such as boron, phosphorus, and nitrogen contained in these reducing agents, precipitate. Alternatively, an alloy may be formed using a mixture of these metal salts.

メッキ剤は上記金属塩と還元剤とが混合されたものを適用するようにしてもよいし、あるいは金属塩と還元剤とを別個に適用するようにしてもよい。ここで、導電性パターンをより鮮明に形成するためには、金属塩と還元剤とが混合されたものを適用することが好ましい。また、金属塩と還元剤とを別個に適用する場合には、導電性パターン部にまず金属塩を配した後、還元剤を配することでより安定した電極パターンを形成することができる。   As the plating agent, a mixture of the metal salt and the reducing agent may be applied, or the metal salt and the reducing agent may be applied separately. Here, in order to form a conductive pattern more clearly, it is preferable to apply a mixture of a metal salt and a reducing agent. When the metal salt and the reducing agent are applied separately, a more stable electrode pattern can be formed by arranging the metal salt first in the conductive pattern portion and then arranging the reducing agent.

メッキ剤には、必要があればpH調整のための緩衝剤、界面活性剤などの添加物を含有させることができる。また、溶液に用いる溶媒としては、水以外にアルコール、ケトン、エステルなどの有機溶剤を添加するようにしても構わない。   If necessary, the plating agent may contain additives such as a buffer for adjusting pH and a surfactant. Moreover, as a solvent used for the solution, an organic solvent such as alcohol, ketone, ester or the like may be added in addition to water.

メッキ剤の組成は、析出させる金属の金属塩、還元剤、及び必要に応じて添加物、有機溶媒を添加した組成で構成されるが、析出速度に応じて濃度や組成を調整することができる。また、メッキ剤の温度を調節して析出速度を調整することもできる。この温度調整の方法としては、メッキ剤の温度を調整する方法、また、例えば、メッキ剤中に浸漬する場合、浸漬前に基材を加熱、冷却して温度調節する方法などが挙げられる。更にメッキ剤に浸漬する時間で析出する金属薄膜の膜厚を調整することもできる。   The composition of the plating agent is composed of a metal salt of the metal to be deposited, a reducing agent, and, if necessary, an additive and an organic solvent, but the concentration and composition can be adjusted according to the deposition rate. . Further, the deposition rate can be adjusted by adjusting the temperature of the plating agent. Examples of the method for adjusting the temperature include a method for adjusting the temperature of the plating agent, and a method for adjusting the temperature by heating and cooling the substrate before the immersion, for example, when immersed in the plating agent. Furthermore, the film thickness of the metal thin film deposited by the time immersed in a plating agent can also be adjusted.

〔インク〕
本発明の金属を含むインクは、金属イオンや金属微粒子、金属錯体等を含む溶液であればいかなる組成であってもよい。好ましく用いられる金属種としては、銅、銀、金、ニッケル、パラジウム、亜鉛、及びこれらの混合物を挙げることができる。
〔ink〕
The ink containing the metal of the present invention may have any composition as long as it is a solution containing metal ions, metal fine particles, metal complexes and the like. Examples of the metal species that are preferably used include copper, silver, gold, nickel, palladium, zinc, and mixtures thereof.

本発明に係るインクがインクジェットインクの場合には、上記説明した他に必要に応じて各種添加剤を適用することができる。   When the ink according to the present invention is an inkjet ink, various additives can be applied as necessary in addition to the above description.

本発明に係るインクにおいては、水溶性有機溶媒を用いることができる。本発明で用いることのできる水溶性有機溶媒としては、例えば、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等)、多価アルコール類(例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等)、多価アルコールエーテル類(例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等)、アミン類(例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、モルホリン、N−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等)、アミド類(例えば、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等)、複素環類(例えば、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、2−オキサゾリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等)、スルホキシド類(例えば、ジメチルスルホキシド等)、スルホン類(例えば、スルホラン等)、尿素、アセトニトリル、アセトン等が挙げられる。   In the ink according to the present invention, a water-soluble organic solvent can be used. Examples of the water-soluble organic solvent that can be used in the present invention include alcohols (for example, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, secondary butanol, tertiary butanol, pentanol, hexanol, cyclohexanol, benzyl). Alcohol), polyhydric alcohols (for example, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, butylene glycol, hexanediol, pentanediol, glycerin, hexanetriol, thiodiglycol Etc.), polyhydric alcohol ethers (for example, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol) Ether monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether , Triethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, propylene glycol monophenyl ether, etc.), amines (for example, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, mole) Phosphorus, N-ethylmorpholine, ethylenediamine, diethylenediamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, polyethyleneimine, pentamethyldiethylenetriamine, tetramethylpropylenediamine, etc.), amides (eg, formamide, N, N-dimethylformamide, N , N-dimethylacetamide, etc.), heterocyclic rings (for example, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, cyclohexylpyrrolidone, 2-oxazolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, etc.), sulfoxides ( For example, dimethyl sulfoxide etc.), sulfones (for example, sulfolane etc.), urea, acetonitrile, acetone etc. are mentioned.

本発明に係るインクには、その他には、吐出安定性、プリントヘッドやインクカートリッジ適合性、保存安定性、画像保存性、その他の諸性能向上の目的に応じて、公知の各種添加剤、例えば、粘度調整剤、表面張力調整剤、比抵抗調整剤、皮膜形成剤、分散剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、退色防止剤、防ばい剤、防錆剤等を適宜選択して用いることができ、例えば、ポリスチレン、ポリアクリル酸エステル類、ポリメタクリル酸エステル類、ポリアクリルアミド類、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、またはこれらの共重合体、尿素樹脂、またはメラミン樹脂等の有機ラテックス、流動パラフィン、ジオクチルフタレート、トリクレジルホスフェート、シリコンオイル等の油滴微粒子、カチオンまたはノニオンの各種界面活性剤、特開昭57−74193号、同57−87988号及び同62−261476号の各公報に記載の紫外線吸収剤、特開昭57−74192号、同57−87989号、同60−72785号、同61−146591号、特開平1−95091号及び同3−13376号の各公報等に記載されている退色防止剤、特開昭59−42993号、同59−52689号、同62−280069号、同61−242871号及び特開平4−219266号の各公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のpH調整剤等を挙げることができる。   In addition to the ink according to the present invention, various other known additives such as ejection stability, print head and ink cartridge compatibility, storage stability, image storability, and other various performance enhancement purposes such as , Viscosity modifier, Surface tension modifier, Specific resistance modifier, Film forming agent, Dispersant, Surfactant, Ultraviolet absorber, Antioxidant, Anti-fading agent, Antifungal agent, Rust inhibitor, etc. For example, polystyrene, polyacrylates, polymethacrylates, polyacrylamides, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, or a copolymer thereof, urea resin, or melamine Organic latex such as resin, liquid paraffin, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, oil droplets such as silicone oil, Various surfactants of thione or nonion, ultraviolet absorbers described in JP-A-57-74193, JP-A-57-87988, and JP-A-62-261476, JP-A-57-74192, and 57-87989 No. 60-72785, 61-146591, JP-A-1-95091 and JP-A-3-13376, etc., and JP-A-59-42993, 59- Fluorescent brighteners, sulfuric acid, phosphoric acid, citric acid, sodium hydroxide, potassium hydroxide described in Japanese Patent Nos. 52689, 62-280069, 61-242871, and JP-A-4-219266 And a pH adjuster such as potassium carbonate.

本発明に係るインクの調製については、特に制限はないが、各種添加剤を含むインクの調製を行う場合、調製過程での凝集、沈降が生じないようにインクを調製することが好ましい。必要に応じて、添加物の添加順序、添加速度を調節する等の調合方法を取ることができる。   There is no particular limitation on the preparation of the ink according to the present invention, but when preparing an ink containing various additives, it is preferable to prepare the ink so that aggregation and sedimentation do not occur in the preparation process. If necessary, it is possible to adopt a blending method such as adjusting the order of addition of additives and the rate of addition.

本発明に係るインクの粘度は特に制限はないが、25℃における粘度が2mPa・s以上、10mPa・s以下であることが好ましい。また、本発明に係るインクジェットインクの粘度は、シェアレート依存性がない方が好ましい。   Although there is no restriction | limiting in particular in the viscosity which concerns on this invention, It is preferable that the viscosity in 25 degreeC is 2 mPa * s or more and 10 mPa * s or less. Further, it is preferable that the viscosity of the inkjet ink according to the present invention does not have a share rate dependency.

また、本発明に係るインクにおいては、表面張力が40mN/m以下であることが好ましく、より好ましくは25〜35mN/mである。本発明で言うインクの表面張力(mN/m)は、25℃で測定した表面張力で値であり、その測定法は一般的な界面化学、コロイド化学の参考書等において述べられているが、例えば、新実験化学講座第18巻(界面とコロイド)、日本化学会編、丸善株式会社発行:P.68〜117を参照することができる。   Moreover, in the ink which concerns on this invention, it is preferable that surface tension is 40 mN / m or less, More preferably, it is 25-35 mN / m. The surface tension (mN / m) of the ink as referred to in the present invention is a value measured by a surface tension measured at 25 ° C., and the measuring method is described in general interface chemistry, colloid chemistry reference books, etc. For example, New Experimental Chemistry Course Volume 18 (Interface and Colloid), The Chemical Society of Japan, published by Maruzen Co., Ltd. 68-117 can be referred to.

本発明に係るインクにおいては、インク保存安定性の観点から、電気伝導度が1mS/m以上、500mS/m以下であることが好ましく、より好ましくは1mS/m以上、200mS/m以下であり、更に好ましくは10mS/m以上、100mS/m以下である。また、本発明に係るインクの調製においては、イオン濃度を適宜調整することが好ましい。   In the ink according to the present invention, from the viewpoint of ink storage stability, the electrical conductivity is preferably 1 mS / m or more and 500 mS / m or less, more preferably 1 mS / m or more and 200 mS / m or less. More preferably, it is 10 mS / m or more and 100 mS / m or less. In the preparation of the ink according to the present invention, it is preferable to adjust the ion concentration as appropriate.

〔リガンド化合物〕
本発明に係る金属を含むインクは、該金属とカルボキシル基またはメルカプト基を含む化合物から形成される錯体の錯安定度定数よりも小さい錯体安定度定数となる錯体を形成しうるリガンド化合物を含むことが好ましい。このリガンド化合物はインク中では金属微粒子、または金属イオンと結合し、インクのポットライフを向上させる機能を有し、例えば、アンモニウム化合物、アミン化合物、イミノ基やエーテル基を含む化合物を挙げることができる。
[Ligand compound]
The ink containing a metal according to the present invention contains a ligand compound capable of forming a complex having a complex stability constant smaller than a complex stability constant of a complex formed from the metal and a compound containing a carboxyl group or a mercapto group. Is preferred. This ligand compound has a function of binding to metal fine particles or metal ions in the ink and improving the pot life of the ink, and examples thereof include ammonium compounds, amine compounds, compounds containing imino groups and ether groups. .

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量%」を表す。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, although the display of "part" or "%" is used in an Example, unless otherwise indicated, "part by mass" or "mass%" is represented.

〔導電性パターンを有する試料の作製〕
《試料1の作製》
(下地層1の作製)
表面に12W・min/m2のコロナ放電処理を2秒間施した市販のガラス−エポキシ基板上に、二酸化チタン(平均粒子径27nm)を10%、2−メルカプトトリアゾールを0.3%含むポリウレタンラテックス(固形分3%)を乾燥膜厚が0.8μmになるように塗布して乾燥させ、多孔質状の下地層1を作製した。
[Preparation of a sample having a conductive pattern]
<< Preparation of Sample 1 >>
(Preparation of underlayer 1)
Polyurethane latex containing 10% titanium dioxide (average particle size 27 nm) and 0.3% 2-mercaptotriazole on a commercially available glass-epoxy substrate having a surface subjected to a corona discharge treatment of 12 W · min / m 2 for 2 seconds (Solid content 3%) was applied so as to have a dry film thickness of 0.8 μm and dried to prepare a porous base layer 1.

(インク1の作製)
水/エチレングリコール=1/3の混合溶液に硫酸銅を50mmol/Lになるように溶解させインク1を作製した。
(Preparation of ink 1)
Ink 1 was prepared by dissolving copper sulfate in a mixed solution of water / ethylene glycol = 1/3 to a concentration of 50 mmol / L.

(導電性パターンの形成)
上記調製したインク1を、オフセット印刷法にて下地層1上に20mm角、ウエット膜厚0.6μmのパターンを形成した後、インク1の溶媒を乾燥させた。次に、下記の無電解銅メッキ浴中に浸漬し、75℃で20分間の無電解メッキ処理を行って、平均膜厚が4.5μmの導電性パターンを形成し、これを試料1とした。
(Formation of conductive pattern)
A 20 mm square pattern with a wet film thickness of 0.6 μm was formed on the base layer 1 by the offset printing method, and then the solvent of the ink 1 was dried. Next, it was immersed in the following electroless copper plating bath and subjected to electroless plating at 75 ° C. for 20 minutes to form a conductive pattern having an average film thickness of 4.5 μm. .

(無電解銅メッキ液)
硫酸銅 0.04モル
ホルムアルデヒド(37質量%) 0.08モル
水酸化ナトリウム 0.10モル
トリエタノールアミン 0.05モル
ポリエチレングリコール 100ppm
水を加えて全量を1Lとする。
(Electroless copper plating solution)
Copper sulfate 0.04 mol Formaldehyde (37% by mass) 0.08 mol Sodium hydroxide 0.10 mol Triethanolamine 0.05 mol Polyethylene glycol 100 ppm
Add water to bring the total volume to 1L.

《試料2の作製》
試料1の2−メルカプトトリアゾールを等モルの例示化合物3−7に、硫酸銅を酢酸ニッケルに変更した以外は、試料1と同様にして試料2を作製した。
<< Preparation of Sample 2 >>
Sample 2 was prepared in the same manner as Sample 1, except that 2-mercaptotriazole of Sample 1 was changed to equimolar Exemplified Compound 3-7 and copper sulfate was changed to nickel acetate.

《試料3の作製》
試料1の2−メルカプトトリアゾールを除いた以外は、試料1と同様にして試料3を作製した。
<< Preparation of Sample 3 >>
Sample 3 was prepared in the same manner as Sample 1 except that 2-mercaptotriazole was removed from Sample 1.

《試料4の作製》
試料1の下地層を除いた以外は、試料1と同様にして試料4を作製した。
<< Preparation of Sample 4 >>
Sample 4 was prepared in the same manner as Sample 1 except that the underlayer of Sample 1 was removed.

《試料5の作製》
試料1の無電解メッキ浴への浸漬前に、高圧水銀灯を用いて230mJ/cm2の紫外線を照射した以外は、試料1と同様にして試料5を作製した。
<< Preparation of Sample 5 >>
Sample 5 was produced in the same manner as Sample 1 except that 230 mJ / cm 2 of ultraviolet light was irradiated using a high-pressure mercury lamp before immersion of Sample 1 in the electroless plating bath.

《試料6の作製》
試料1の2−メルカプトトリアゾールを、3−メルカプトプロピルトリエトキシシランに変更し、下地層1の作製後、60℃で1時間加熱し、メルカプト化合物を酸化チタンに固定し、インクの付与を図1に記載の圧力印加手段と電界印加手段とを備えたインクジェット記録装置による付与に変更した以外は、試料1と同様にして試料6を作製した。
<< Preparation of Sample 6 >>
The 2-mercaptotriazole of sample 1 was changed to 3-mercaptopropyltriethoxysilane, and after the preparation of the underlayer 1, it was heated at 60 ° C. for 1 hour to fix the mercapto compound to titanium oxide, and the ink application was shown in FIG. Sample 6 was prepared in the same manner as Sample 1, except that the application was performed by an ink jet recording apparatus including the pressure applying unit and the electric field applying unit described in 1 above.

《試料7の作製》
試料6の硫酸銅をp−トルエンスルホン酸銀に、無電解メッキ液を下記無電解銀メッキ液に、無電解メッキ浴への浸漬前に高圧水銀灯を用いて230mJ/cm2の紫外線を照射した以外は、試料6と同様にして試料7を作製した。
<< Preparation of Sample 7 >>
The copper sulfate of Sample 6 was irradiated with 230 mJ / cm 2 of ultraviolet light using a high-pressure mercury lamp before immersion in the electroless plating bath, and the electroless plating solution was applied to silver p-toluenesulfonate and the following electroless plating solution. Sample 7 was produced in the same manner as Sample 6, except for the above.

(無電解銀メッキ液)
硝酸銀 0.84g
リン酸カリウム 15.0g
ホウ酸カリウム 5.0g
ヒダントイン 10.0g
トリエタノールアミン 0.05モル
ポリエチレングリコール 100ppm
水を加えて全量を1Lとする。
(Electroless silver plating solution)
0.84 g of silver nitrate
Potassium phosphate 15.0g
Potassium borate 5.0g
Hydantoin 10.0g
Triethanolamine 0.05 mol Polyethylene glycol 100 ppm
Add water to bring the total volume to 1L.

《試料8の作製》
試料7の無電解メッキ液を試料7のインク液に変更し、無電界メッキ浴を除き、高圧水銀灯での紫外線照射を5J/cm2に変更した以外は、試料7と同様にして試料8を作製した。
<< Preparation of Sample 8 >>
Sample 8 was changed in the same manner as Sample 7 except that the electroless plating solution of Sample 7 was changed to the ink solution of Sample 7, the electroless plating bath was removed, and the ultraviolet irradiation with the high-pressure mercury lamp was changed to 5 J / cm 2. Produced.

〔評価〕
(電気伝導性)
各試料の体積抵抗率を日本工業規格JIS K 7194の四端子法に従って求めた抵抗値から計算したところ、各資料の純金属の体積抵抗率から2倍以内の値が得られ、各試料は十分な電気伝導性を有していることが分かった。
[Evaluation]
(Electrical conductivity)
When the volume resistivity of each sample was calculated from the resistance value obtained according to the four-terminal method of Japanese Industrial Standard JIS K 7194, a value within twice the volume resistivity of the pure metal of each material was obtained, and each sample was sufficient It was found to have a good electrical conductivity.

(密着性)
試料の密着性を日本工業規格JIS K 5600−5−6に従って評価を行った。試料の20mm角の正方形導電性パターン上にカミソリで碁盤上のマス目を形成した後、テープ剥離試験を行って、剥離された導電性のパターンの面積比率を求め、下記の基準に従って、密着性を評価した。
(Adhesion)
The adhesion of the sample was evaluated according to Japanese Industrial Standard JIS K 5600-5-6. After forming squares on the grid with a razor on a square conductive pattern of 20 mm square of the sample, a tape peeling test is performed to determine the area ratio of the peeled conductive pattern. Evaluated.

◎:導電性パターンの剥離が全くない(試験結果分類0相当)
○:導電性パターンの剥離面積が0%より大きく、1.0%以下
△:導電性パターンの剥離面積が1.0%より大きく、5.0%以下
×:導電性パターンの剥離面積が5.0%より大きい。
A: No peeling of conductive pattern (equivalent to test result classification 0)
○: Peeling area of the conductive pattern is greater than 0% and 1.0% or less Δ: Peeling area of the conductive pattern is greater than 1.0% and 5.0% or less ×: Peeling area of the conductive pattern is 5 Greater than 0.0%.

Figure 2009049274
Figure 2009049274

本発明の構成を満たす試料の密着性が優れていることが分かる。   It turns out that the adhesiveness of the sample which satisfy | fills the structure of this invention is excellent.

本発明に好ましく適用できる圧力印加手段と電界印加手段とを用い導電性インク吐出装置の一例を示した概略断面図である。1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a conductive ink discharge apparatus using a pressure application unit and an electric field application unit that can be preferably applied to the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

20 導電性インク吐出装置
21 ノズル
22 ノズル内流路
23 対向電極
24 インク室
25 吐出電圧印加手段
26 ノズルプレート
27 供給路
28 吐出電極
30 バイアス電源
K 基材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 20 Conductive ink discharge apparatus 21 Nozzle 22 Inner flow path 23 Counter electrode 24 Ink chamber 25 Discharge voltage application means 26 Nozzle plate 27 Supply path 28 Discharge electrode 30 Bias power supply K Base material

Claims (11)

基材上に金属酸化物、バインダー、メルカプト基またはカルボキシル基を含む化合物を含有する下地層を設け、該下地層上に金属を含むインクをパターン状に付与し、形成された金属触媒核上に金属皮膜を形成させることを特徴とする導電性パターンシートの作製方法。 A base layer containing a compound containing a metal oxide, a binder, a mercapto group or a carboxyl group is provided on a base material, and an ink containing a metal is applied in a pattern on the base layer, and the formed metal catalyst core is formed on the base layer. A method for producing a conductive pattern sheet, comprising forming a metal film. 前記金属を含むインクをパターン状に付与した後に光照射を行うことを特徴とする請求項1に記載の導電性パターンシートの作製方法。 The method for producing a conductive pattern sheet according to claim 1, wherein light irradiation is performed after the ink containing the metal is applied in a pattern. 前記金属触媒核を形成した後に無電解メッキ処理を行い、金属皮膜を形成させることを特徴とする請求項1または2に記載の導電性パターンシートの作製方法。 3. The method for producing a conductive pattern sheet according to claim 1, wherein after forming the metal catalyst core, an electroless plating treatment is performed to form a metal film. 4. 前記金属を含むインクをパターン状に付与する手段がインクジェット記録装置を用いて射出描画するインクジェット記録手段であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の導電性パターンシートの作製方法。 The conductive pattern sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the means for applying the metal-containing ink in a pattern is an ink jet recording means that performs injection drawing using an ink jet recording apparatus. Manufacturing method. 前記インクジェット記録手段が圧力印加手段と電界印加手段とを用いた方法であることを特徴とする請求項4に記載の導電性パターンシートの作製方法。 5. The method for producing a conductive pattern sheet according to claim 4, wherein the ink jet recording means is a method using a pressure applying means and an electric field applying means. 前記金属を含むインクの金属が銅、銀、金、ニッケル、パラジウム、亜鉛から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の導電性パターンシートの作製方法。 The conductive pattern sheet according to any one of claims 1 to 5, wherein the metal of the ink containing the metal is at least one selected from copper, silver, gold, nickel, palladium, and zinc. Manufacturing method. 前記金属を含むインクが該金属とカルボキシル基またはメルカプト基を含む化合物から形成される錯体の錯安定度定数よりも小さい錯体安定度定数となる錯体を形成しうるリガンド化合物を含むことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の導電性パターンシートの作製方法。 The ink containing a metal contains a ligand compound capable of forming a complex having a complex stability constant smaller than a complex stability constant of a complex formed from the metal and a compound containing a carboxyl group or a mercapto group. The manufacturing method of the electroconductive pattern sheet of any one of Claims 1-6. 前記金属酸化物が酸化チタン、酸化ケイ素、酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の導電性パターンシートの作製方法。 The method for producing a conductive pattern sheet according to any one of claims 1 to 7, wherein the metal oxide is at least one selected from titanium oxide, silicon oxide, and aluminum oxide. 前記メルカプト基またはカルボキシル基を含む化合物が前記金属酸化物に固定化されていることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の導電性パターンシートの作製方法。 The method for producing a conductive pattern sheet according to any one of claims 1 to 8, wherein the compound containing a mercapto group or a carboxyl group is immobilized on the metal oxide. 前記下地層が多孔質であることを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の導電性パターンシートの作製方法。 The method for producing a conductive pattern sheet according to claim 1, wherein the underlayer is porous. 請求項1〜10のいずれか1項に記載の導電性パターンシートの作製方法により作製されたことを特徴とする導電性パターンシート。 A conductive pattern sheet produced by the method for producing a conductive pattern sheet according to claim 1.
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