JP2009048017A - レリーフ形状転写箔及びレリーフ形状形成物 - Google Patents
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Abstract
【課題】 一般的な塗工工程によって作製可能であることから生産性に優れ比較的安価な材料を使用可能であるとともに、ホログラムの輝度が高く、意匠性に優れた透明ホログラム転写箔、並びに、これを使用し作製された透明ホログラム形成体を提供することを目的とする。また、同様の製造方法により作製可能な微細レリーフ形状転写箔、並びに、これを用いて作製された微細レリーフ形状形成体を提供する。
【解決手段】 基材２の一方の面に、レリーフ形成層４、レリーフ効果層５、接着層６をこの順に積層したレリーフ形状転写箔１において、レリーフ効果層５、接着層６が転写することを特徴とし、このレリーフ形状転写箔を使用して、カードや写真のような様々な基材に比較的容易にレリーフ効果層を作製できる。前記の基材とレリーフ形成層との間にプライマー層を設けて、熱転写時に、レリーフ形成層が被転写体へ転写しないようにする。
【選択図】 図１
【解決手段】 基材２の一方の面に、レリーフ形成層４、レリーフ効果層５、接着層６をこの順に積層したレリーフ形状転写箔１において、レリーフ効果層５、接着層６が転写することを特徴とし、このレリーフ形状転写箔を使用して、カードや写真のような様々な基材に比較的容易にレリーフ効果層を作製できる。前記の基材とレリーフ形成層との間にプライマー層を設けて、熱転写時に、レリーフ形成層が被転写体へ転写しないようにする。
【選択図】 図１
Description
本発明は、レリーフ形状転写箔、並びにこれを用いて形成されたレリーフ形状形成物に関する。詳細には、プラスチックシートのような被着体の表面にさまざまなパターンのレリーフ形状を転写形成可能なレリーフ形状転写箔、並びにこれを用いてレリーフ形状がパターン状に形成されたレリーフ形状形成物に関する。さらに詳細には、レリーフ形状がホログラムのような光学特性を有する光学形状転写箔、並びにこれを用いて光学形状が形成された光学形状形成物に関する。身近な例としては、透明ホログラム形状転写箔や、これを用いて形成された透明ホログラム形成体に関する。
本明細書において、配合を示す「比」、「部」、「％」などは特に断わらない限り質量基準であり、「／」印は一体的に積層されていることを示す。また、「基材／ホログラム層（レリーフ形状）／透明反射層」は、「ホログラム層のレリーフ形状が、基材／ホログラム層の界面ではなく、ホログラム層／反射層の界面に形成されている」ことを示す。また、「ＰＥＴ」は「ポリエチレンテレフタレート」の略語、機能的表現、通称、又は業界用語である。
透明ホログラムは下地に形成された文字や絵柄などの表示部を妨げることなく、ホログラム特有の意匠性、セキュリティー性を向上することが可能なため、近年、様々な分野で使用されてきている。例えば、透明ホログラムはシート状に加工され包装用梱包材として使用される。また、シール、形状転写箔などの形態で作製され、カード、写真、雑誌、証券等の全面、もしくは、その一部に貼りあわせるなどして使用されている。
通常、透明ホログラムはホログラム形状を有するレリーフ形状の表面に、ホログラム材料とは屈折率の異なる材料からなる透明反射層を形成することで製造される。ホログラムにおいて高輝度であることは非常に重要である。この輝度はホログラム層／透明反射層の界面の屈折率差に依存するため、透明反射層材料としては、例えば、酸化チタンや、硫化亜鉛のような屈折率の大きい材料が使用される。例えば、特許文献１には、ホログラム形成層／透明薄膜層／接着層からなる透明ホログラムシールに関する記載がなされており、様々な透明反射層材料に関する記載がなされている。この透明反射層材料はアルミのような金属反射層材料と比較したとき非常に高価であること、また、生産性が低いことから、透明ホログラムは反射ホログラムと比較して非常に高価なものである。
一方、透明反射層材料を形成しない透明ホログラムが知られている。このホログラムは、ホログラム層のレリーフ面が直接空気界面となる構成、すなわちホログラム層（レリーフ形状）／空気の構成のため、表面の汚染に弱いなどの問題があるが、高価な材料を使用しない、工程数が減少する等の理由により安価に透明ホログラムを製造できる。しかしながら、安価な透明ホログラム形状転写箔に関しては知られていない。
例えば、特許文献２には、基材／剥離層／ホログラム層（レリーフ形状）／透明反射層／接着層の構成を有する透明ホログラム形状転写箔が記載されている。しかしながら、このタイプの透明ホログラム形状転写箔は上述したように、高価な透明反射層材料を使用することが必須条件のため、非常に高価なものとなった。また、透明反射層は、酸化チタンや硫化亜鉛のような高屈折率材料を真空蒸着により形成するため、基材が熱ダメージを受け易い、バッチ処理であるため生産性が悪い等の問題があった。
この真空蒸着法における生産性の低下、基材の熱ダメージへの対処策として、例えば、特許文献３には、基材表面に透明反射層と微細凹凸を形成する方法において有機金属化合物からなる透明反射層を基材表面に形成前、もしくは形成後に微細凹凸を設けることにより蒸着法による熱ダメージによるホログラムの不具合が生じないような透明反射層の形成方法、並びにそれによるホログラム形成体の製造方法について記載されている。また、この方法で形成される染料受容性を有する形状転写箔、いわゆる、中間転写媒体に関する実施例が記載されている。
しかしながら、このホログラムは有機金属化合物の塗工安定性の確保が困難であるばかりか、転写後に形成されたホログラムの輝度が十分ではなく、ぱっと見の人目をひくような効果が十分ではなかった。
また、真空蒸着法における基材への熱ダメージへの対処策として、例えば、特許文献４には、既に形成された回折構造体上に透明反射層を印刷でパターン状に形成することが記載されている。透明反射層材料として高屈折率微粒子、金属アルコシキド、樹脂などを混合したものが使用可能であり、１．７以上の屈折率が得られるインキであれば特に限定されないと記載されている。さらに、この方法を用いて作製した回折構造体形状転写箔を用いて、さらに、カード上に回折構造体を転写形成する方法が記載されている。
しかし、上記方法にて回折構造体を形成した形状転写箔を利用して、カード上にホログラム等の回折構造体を転写したパターンは十分な輝度を有しておらず、意匠性に欠け、ぱっと見て人目を引く効果が十分ではなかった。
また、一方では反射ホログラムの輝度向上を目的として、特許文献５には、基材／ホログラム層／金属蒸着層／接着層からなるホログラム転写箔において、ホログラム層／金属蒸着層の界面における表面張力を制御することで、ホログラム／金属蒸着層の界面剥離を制御したホログラム転写箔について記載されているが、透明ホログラム転写箔に関する記述はない。
本発明は、上記のような問題点を解消するために、一般的な塗工工程によって作製可能であることから生産性に優れ比較的安価な材料を使用可能であるとともに、ホログラムの輝度が高く、意匠性に優れた透明ホログラム転写箔、並びに、これを使用し作製された透明ホログラム形成体を提供することを目的とする。また、同様の製造方法により作製可能な微細レリーフ形状転写箔、並びに、これを用いて作製された微細レリーフ形状形成体を提供することを目的とする。
以上の状況を鑑み、鋭意研究開発を進め、本発明に到った。すなわち、請求項１の発明に係るレリーフ形状転写箔は、基材の一方の面に、レリーフ形成層、レリーフ効果層、接着層をこの順に積層したレリーフ形状転写箔において、レリーフ効果層、接着層が転写することを特徴とするものである。このレリーフ形状転写箔を使用することで、カードや写真のような様々な基材に比較的容易にレリーフ効果層を作製することができる。請求項２の発明に係るレリーフ形状転写箔は、前記の基材とレリーフ形成層との間にプライマー層が設けられたことを特徴とするものである。これにより、レリーフ形成層と基材との接着性を高かめ、熱転写の時に、レリーフ形成層が被転写体へ転写しないようにすることができる。請求項３の発明に係るレリーフ形状転写箔は、前記基材の一方の面に設けられたレリーフ形成層が、回折構造体、ホログラム構造体が形成された層であることを特徴とするものである。この形状転写箔を使用することで、カードや写真のような様々な基材に比較的容易に回折構造体、ホログラム構造体を作製することができる。請求項４の発明に係るレリーフ形状転写箔は、前記基材の一方の面に設けられたレリーフ形成層の材料が硬化性樹脂であることを特徴とするものである。この形状転写箔は耐久性、耐熱性が高いため、熱転写の際にも、形状が破壊されることなく、正確な形状で転写可能とすることができる。請求項５の発明に係るレリーフ形状転写箔は、前記レリーフ効果層が、回折構造体、ホログラム構造体であることを特徴とするものである。
請求項６の発明に係るレリーフ形状転写箔は、前記レリーフ効果層の屈折率が１．８以上、２．６以下であることを特徴とするものである。このレリーフ形状転写箔は輝度が高く、比較的容易に材料入手可能なため、輝度の高い回折構造体、ホログラム構造体を、熱転写により形成可能な透明レリーフ形状転写箔を高輝度で、比較的安価に製造可能であることを特徴とする。請求項７の発明に係るレリーフ形状転写箔は、前記レリーフ効果層の材料が屈折率１．８以上２．６以下の粒子を、レリーフ効果層を構成する全固形分に対し、５０％〜９５％の割合で含有することを特徴とする透明レリーフ形状転写箔であることを特徴とするものである。このレリーフ形状転写箔は比較的容易に材料入手可能であり塗工時の安定性にも優れているため、輝度の高い回折構造体、ホログラム構造体を、熱転写により形成可能な透明レリーフ形状転写箔を高輝度で、安定的に製造可能であることを特徴とする。
請求項８の発明に係るレリーフ形状転写箔は、前記レリーフ効果層の屈折率１．８以上２．６以下の粒子が酸化チタン、酸化ジルコニウム粒子であることを特徴とするものである。このレリーフ形状転写箔は比較的容易に材料入手可能であり、比較的安価であり、塗工時の安定性にも優れているため、輝度の高い回折構造体、ホログラム構造体を、熱転写により形成可能な透明レリーフ形状転写箔を高輝度で、比較的安価に、安定的に製造可能であることを特徴とする。請求項９の発明に係るレリーフ形状転写箔は、前記レリーフ効果層の屈折率１．８以上２．６以下の粒子が平均粒径５０ｎｍ以下であることを特徴とするものである。このレリーフ形状転写箔はレリーフ効果層に使用される屈折率１．８以上２．６以下の粒子の粒径が小さいため、レリーフ隙間に上手く入ることで、レリーフ形状を損なうことなく均一なレリーフ効果層を形成し、輝度の高い回折構造体、ホログラム構造体を、熱転写により形成可能な透明レリーフ形状転写箔を高輝度で製造可能であることを特徴とする。
請求項１０の発明に係るレリーフ形状形成物は、請求項１〜９に記載のレリーフ形状転写箔を用いて、レリーフ形状が転写形成されたことを特徴とするものである。請求項１から請求項９に係わるレリーフ形状転写箔を用いて、被転写体上にレリーフ形状を転写することで、比較的容易に、安価に、安定的にレリーフ構造体を有するレリーフ形状転写体、高輝度な透明回折構造体、透明ホログラム構造体を有するレリーフ形状転写形成物を製造できる。
本発明のレリーフ形状転写箔によれば、カードや写真、印刷等の表面に、転写機や熱転写プリンター等を用いた加熱手段により、容易に微細レリーフ形状や、透明ホログラムを形成することができる。これは、基材の一方にレリーフ形成層、レリーフ効果層、接着層をこの順に積層したレリーフ形状転写箔において、レリーフ形成層からレリーフ効果層、接着層が転写することを可能としたからである。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら、詳細に説明する。
図１は、本発明の１実施例を示すレリーフ形状転写箔の断面図である。
図２は、従来の１例を示すレリーフ形状転写箔の断面図である。
図３は、本発明の１実施例を示すレリーフ形状形成物の断面図である。
図４は、本発明の１実施例を示すレリーフ形状転写箔の断面図である。
図１は、本発明の１実施例を示すレリーフ形状転写箔の断面図である。
図２は、従来の１例を示すレリーフ形状転写箔の断面図である。
図３は、本発明の１実施例を示すレリーフ形状形成物の断面図である。
図４は、本発明の１実施例を示すレリーフ形状転写箔の断面図である。
（レリーフ形状転写箔）
本発明のレリーフ形状転写箔１は、図１に示すように、基材２の一方の面に、レリーフ形成層４、レリーフ効果層５、接着層６を順に積層した構成からなるレリーフ形状転写箔である。この基材表面には、熱転写の際にレリーフ形成層４が基材２から剥離するのを避けるためプライマー層３を形成することができる。さらに、図４に示すように、基材２の一方の面に形成されたレリーフ効果層５と接着層６の間に、レリーフ保護層７を積層して、基材２上にレリーフ形成層４、レリーフ効果層５、レリーフ保護層７、接着層６を順に設けた構成からなるレリーフ形状転写箔にすることができる。この基材表面にも、熱転写の際にレリーフ形成層４が基材２から剥離するのを避けるためプライマー層３を形成することができる。また、レリーフ形成層の形状として、回折構造体、ホログラム構造体を形成し、レリーフ効果層として後述する反射薄膜を形成すると、反射ホログラム転写箔が、また、レリーフ効果層として後述する透明薄膜を形成すると、透明ホログラム転写箔が形成される。
本発明のレリーフ形状転写箔１は、図１に示すように、基材２の一方の面に、レリーフ形成層４、レリーフ効果層５、接着層６を順に積層した構成からなるレリーフ形状転写箔である。この基材表面には、熱転写の際にレリーフ形成層４が基材２から剥離するのを避けるためプライマー層３を形成することができる。さらに、図４に示すように、基材２の一方の面に形成されたレリーフ効果層５と接着層６の間に、レリーフ保護層７を積層して、基材２上にレリーフ形成層４、レリーフ効果層５、レリーフ保護層７、接着層６を順に設けた構成からなるレリーフ形状転写箔にすることができる。この基材表面にも、熱転写の際にレリーフ形成層４が基材２から剥離するのを避けるためプライマー層３を形成することができる。また、レリーフ形成層の形状として、回折構造体、ホログラム構造体を形成し、レリーフ効果層として後述する反射薄膜を形成すると、反射ホログラム転写箔が、また、レリーフ効果層として後述する透明薄膜を形成すると、透明ホログラム転写箔が形成される。
（基材）
本発明のレリーフ形状転写箔を構成する基材２としては、耐熱性、機械的強度、製造に耐える機械的強度、耐溶剤性などがあれば、用途に応じて種々の材料が適用できる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン６、ナイロン６６などのポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、ポリメタアクリレート、ポリメチルメタアクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、高衝撃ポリスチレンなどのスチレン系樹脂、セロファン、セルロースアセテートなどのセルロース系フィルム、ポリイミドなどのイミド系樹脂、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリアラミド、ポリエーテルケトンなどのエンジニアリング樹脂、などがある。
本発明のレリーフ形状転写箔を構成する基材２としては、耐熱性、機械的強度、製造に耐える機械的強度、耐溶剤性などがあれば、用途に応じて種々の材料が適用できる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン６、ナイロン６６などのポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、ポリメタアクリレート、ポリメチルメタアクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、高衝撃ポリスチレンなどのスチレン系樹脂、セロファン、セルロースアセテートなどのセルロース系フィルム、ポリイミドなどのイミド系樹脂、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリアラミド、ポリエーテルケトンなどのエンジニアリング樹脂、などがある。
好ましくは、耐熱性、機械的強度の点で、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート−イソフタレート共重合体、テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体、ポリエチレンテレフタレート／ポリエチレンナフタレートの共押し出しフィルムなどのポリエステル系樹脂のフィルムで、ポリエチレンテレフタレートが最適である。該基材の厚さは、通常、２．５〜５０μｍ程度が適用できるが、４〜２５μｍがハンドリング適性、耐熱性、熱転写特性を発揮する上で、好ましい。さらに好ましくは６〜１６μｍ程度である。
該基材は、これら樹脂を主成分とする共重合樹脂、または、混合体（アロイを含む）、若しくは複数層からなる積層体であっても良い。また、該基材は、延伸フィルムでも、未延伸フィルムでも良いが、強度を向上させる目的で、一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムが好ましい。該基材は、これら樹脂の少なくとも１層からなるフィルム、シート、ボード状として使用する。該基材は、レリーフ形成層の塗布に先立って塗布面へ、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー（アンカーコート、接着促進剤、易接着剤とも呼ばれる）塗布処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの易接着処理を行うことが好ましい。基材とレリーフ形成層の間の密着性が十分でないと熱転写時に基材２からレリーフ形成層４が剥離してしまうため、十分な易接着処理を行うのがよい。また、必要に応じて、充填剤、可塑剤、着色剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。
（プライマー層）
上記のプライマーの塗布処理材料として、例えば、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、酸変性ポリオレフィン系樹脂、エチレンと酢酸ビニル或いはアクリル酸などとの共重合体、（メタ）アクリル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ゴム系化合物、石油系樹脂、アルキルチタネ−ト系化合物、ポリエチレンイミン系化合物、イソシアネ−ト系化合物、澱粉、カゼイン、アラビアゴム、セルロ−ス誘導体、ワックス類などを上げることができる。これらの材料を適切な溶剤に溶解、もしくは分散し、公知のグラビアコーター、ロールコーター、バーコーターなど従来公知のコーティング方法にて塗工、乾燥することで、プライマー層３を形成できる。
上記のプライマーの塗布処理材料として、例えば、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、酸変性ポリオレフィン系樹脂、エチレンと酢酸ビニル或いはアクリル酸などとの共重合体、（メタ）アクリル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ゴム系化合物、石油系樹脂、アルキルチタネ−ト系化合物、ポリエチレンイミン系化合物、イソシアネ−ト系化合物、澱粉、カゼイン、アラビアゴム、セルロ−ス誘導体、ワックス類などを上げることができる。これらの材料を適切な溶剤に溶解、もしくは分散し、公知のグラビアコーター、ロールコーター、バーコーターなど従来公知のコーティング方法にて塗工、乾燥することで、プライマー層３を形成できる。
本発明のレリーフ形状転写箔は、基材の一方の面に、レリーフ形成層、レリーフ効果層、接着層をこの順に積層した構成において、レリーフ効果層、接着層が転写することを特徴とするもので、言い換えれば、熱転写の際に、レリーフ効果層、接着層が被転写体へ転写し、レリーフ形成層は被転写体に転写しないで、基材側に残存して、被転写体から基材と共に剥離除去される。このようにレリーフ形成層が被転写体へ転写しないようにするために、つまり基材との接着性を高めるために、必要に応じて、プライマー層を設けるものである。熱転写の際に、レリーフ形成層が被転写体に転写してしまうと、ホログラムの十分な輝度が得られず、意匠性に欠けたレリーフ形状形成物となってしまう。
プライマー塗布処理を行なう場合、材料が耐熱性を有するためには比較的融点やガラス転移点の高い材料にて処理した方がよい。例えば通常の転写箔においては、プライマーとしてはＴｇが５０℃以上の融点を有するものが好ましく用いられる、このようにすることで、一般的なホログラム転写箔を作製することができる。しかしながら本発明におけるプライマーは転写箔作成後の熱転写において、プライマー部分が溶融もしくは凝集破壊しないことが必要である。このため、その目安としてプライマー層のＴｇ、Ｔｇ（Ｐ）はＴｇ＞８０℃であることが好ましい。単独材料での耐熱性や、例えば、基材とレリーフ形成層との接着強度が充分でない場合には、この特性を改良するため、２種以上の材料を混合するなどしてもよい。さらに、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化樹脂を用いることは、比較的容易に必要な耐熱性を確保しやすいことから好ましい。なかでもポリエステル系樹脂は本来ＰＥＴ基材との密着が良好であり、さらに、イソシアネート化合物、メラミン化合物、エポキシ化合物などの硬化剤を併用することで、さらに耐熱性に富んだ易接着処理が可能であるため好ましい。とりわけ、水酸基を有するポリエステル系樹脂にイソシアネート化合物を用いて硬化した樹脂を使用することは、高輝度のホログラム転写箔を安定に量産できるとともに、レリーフ形成層からレリーフ効果層を安定化的に剥離、転写可能とすることができるため、レリーフ輝度、ホログラム輝度を高くすることができ、好ましい。
また、プライマー塗布をおこなわない場合、レリーフ形成材料として基材と密着性が良好な材料を使用するとよい。このようなレリーフ形成材料としては、後述するレリーフ形成層材料のなかでも、特に、エポキシ変性アクリレート樹脂、ウレタン変性アクリレート樹脂、アクリル変性ポリエステル等の電離放射線硬化性樹脂を基材ＰＥＴ上に直接塗工後、電離放射線にて硬化させたものが適用できる。なかでも、電離放射線硬化性樹脂組成物Ｓは良好に使用できる。
従来の１例であるレリーフ形状転写箔を示す図２においては、熱転写時に上記（図１）のプライマー層の設けられた位置と同じ位置である層（基材とレリーフ形成層との間の層）が破壊もしくは、基材より剥離することで、後述するレリーフ形成層までも被転写体へ転写してしまうとき、この層を剥離層９とし、区別する。この図２に示すレリーフ形状転写箔では、熱転写の際に、レリーフ形成層は、層全体が被転写体へ転写してしまい、ホログラムの十分な輝度が得られず、意匠性に欠けたレリーフ形状形成物となってしまう。
また、プライマー塗布をおこなわない場合、レリーフ形成材料として基材と密着性が良好な材料を使用するとよい。このようなレリーフ形成材料としては、後述するレリーフ形成層材料のなかでも、特に、エポキシ変性アクリレート樹脂、ウレタン変性アクリレート樹脂、アクリル変性ポリエステル等の電離放射線硬化性樹脂を基材ＰＥＴ上に直接塗工後、電離放射線にて硬化させたものが適用できる。なかでも、電離放射線硬化性樹脂組成物Ｓは良好に使用できる。
従来の１例であるレリーフ形状転写箔を示す図２においては、熱転写時に上記（図１）のプライマー層の設けられた位置と同じ位置である層（基材とレリーフ形成層との間の層）が破壊もしくは、基材より剥離することで、後述するレリーフ形成層までも被転写体へ転写してしまうとき、この層を剥離層９とし、区別する。この図２に示すレリーフ形状転写箔では、熱転写の際に、レリーフ形成層は、層全体が被転写体へ転写してしまい、ホログラムの十分な輝度が得られず、意匠性に欠けたレリーフ形状形成物となってしまう。
（レリーフ形成層）
レリーフ形成層４を構成する樹脂材料としては、熱可塑性樹脂や、熱硬化性樹脂や電離放射線硬化性樹脂の硬化樹脂などが適用できる。熱可塑性樹脂としてはポリ塩化ビニル、ポリメチルメタアクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート等が例示でき、熱硬化性樹脂としては不飽和ポリエステル、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂等が例示でき、電離放射線硬化性樹脂としてはポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、トリアジン系アクリレートなどや、不飽和エチレン系モノマーと不飽和エチレン系オリゴマーを適宜混合したものが適用できる。特に耐薬品性、耐光性及び耐候性等の耐久性に優れた紫外線や電子線などで硬化させる電離放射線硬化性樹脂が好ましい。電離硬化樹脂を使用することで、レリーフ形状を損なうことなく、ホログラムの輝度を十分に有するとともに、転写箔適性に優れたレリーフ形成層、ホログラムを形成できる。電離放射線硬化樹脂としては、特に、エポキシ変性アクリレート樹脂、ウレタン変性アクリレート樹脂、アクリル変性ポリエステル等の電離放射線硬化性樹脂を硬化させたものが適用でき、具体的には、次の２種が最も好ましい。
レリーフ形成層４を構成する樹脂材料としては、熱可塑性樹脂や、熱硬化性樹脂や電離放射線硬化性樹脂の硬化樹脂などが適用できる。熱可塑性樹脂としてはポリ塩化ビニル、ポリメチルメタアクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート等が例示でき、熱硬化性樹脂としては不飽和ポリエステル、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂等が例示でき、電離放射線硬化性樹脂としてはポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、トリアジン系アクリレートなどや、不飽和エチレン系モノマーと不飽和エチレン系オリゴマーを適宜混合したものが適用できる。特に耐薬品性、耐光性及び耐候性等の耐久性に優れた紫外線や電子線などで硬化させる電離放射線硬化性樹脂が好ましい。電離硬化樹脂を使用することで、レリーフ形状を損なうことなく、ホログラムの輝度を十分に有するとともに、転写箔適性に優れたレリーフ形成層、ホログラムを形成できる。電離放射線硬化樹脂としては、特に、エポキシ変性アクリレート樹脂、ウレタン変性アクリレート樹脂、アクリル変性ポリエステル等の電離放射線硬化性樹脂を硬化させたものが適用でき、具体的には、次の２種が最も好ましい。
（電離放射線硬化性樹脂組成物Ｓ）
レリーフ形成層４の好ましい１つとしては、下記に示す一般式（ａ）で表されるウレタン変性アクリル系樹脂を主成分とする未硬化の電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物である。具体的には、本出願人が特開２０００−２７３１２９号公報で開示している光硬化性樹脂組成物などが適用でき、前記明細書に記載の光硬化性樹脂組成物Ｓを本明細書では「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｓ」と呼称する。
レリーフ形成層４の好ましい１つとしては、下記に示す一般式（ａ）で表されるウレタン変性アクリル系樹脂を主成分とする未硬化の電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物である。具体的には、本出願人が特開２０００−２７３１２９号公報で開示している光硬化性樹脂組成物などが適用でき、前記明細書に記載の光硬化性樹脂組成物Ｓを本明細書では「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｓ」と呼称する。
上記に示した一般式（ａ）で表わされるウレタン変性アクリル系樹脂は、例えば、好ましい１例として、メタクリル酸メチル２０〜９０モルとメタクリル酸０〜５０モルと２−ヒドロキシエチルメタクリレート１０〜８０モル、Ｚとしてイソボルニルメタクリレート０〜８０モルとを共重合して得られるアクリル共重合体であって、該共重合体中に存在している水酸基にメタクリロイルオキシエチルイソシアネート（２−イソシアネートエチルメタクリレート）を反応させて得られる樹脂である。
水酸基含有アクリル系樹脂中に存在している水酸基を利用して、分子中に多数のメタクリロイル基を導入したウレタン変性アクリル系樹脂を主成分とする樹脂組成物によって、例えば、回析格子等を形成する場合には、硬化手段として紫外線や電子線等の電離放射線が使用でき、しかも高架橋密度でありながら柔軟性および耐熱性等に優れた回析格子等を形成することができる。
更に、硬化後の電離放射線硬化樹脂層の柔軟性、粘度を調整するために、電離放射線硬化性樹脂には、通常の熱可塑性樹脂や、アクリル系およびその他の単官能または多官能のモノマー、オリゴマー等を包含させることができる。さらに、微細な凹凸（レリーフ）を形成（複製）する際にスタンパ（金属版、又は樹脂版）がレリーフ形成層４から容易に引き剥がせるように、予めレリーフ形成層４へ離型剤を含有させてもよい。該離型剤としては、公知の離型剤が適用でき、例えば、固形ワックス、弗素系やリン酸エステル系の界面活性剤、シリコーン等であり、特に好ましくは、変性シリコーンオイル側鎖型、変性シリコーンオイル両末端型、変性シリコーンオイル片末端型、変性シリコーンオイル側鎖両末端型、トリメチルシロキシケイ酸を含有するメチルポリシロキサン（シリコーンレジンと称されている）、シリコーングラフトアクリル樹脂、及びメチルフェニルシリコーンオイル等の変性シリコーンである。
（電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ）
レリーフ形成層４の好ましい他の１つとしては、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂の硬化物である。具体的には、特開２００１−３２９０３１号公報で開示されている光硬化性樹脂が適用でき、本明細書では「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」と呼称する。
レリーフ形成層４の好ましい他の１つとしては、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有する電離放射線硬化性樹脂の硬化物である。具体的には、特開２００１−３２９０３１号公報で開示されている光硬化性樹脂が適用でき、本明細書では「電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ」と呼称する。
さらに好ましくは、上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーが、（１）分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート類、（２）分子中に水酸基を少なくとも１個と（メタ）アクリロイルオキシ基を少なくとも２個有する多官能（メタ）アクリレート類、又は（３）分子中に水酸基を少なくとも２個有する多価アルコール類の反応生成物である。また、電離放射線硬化性樹脂として、上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーと他の樹脂との混合物を用いることができ、アクリル樹脂との混合物が最適である。また、電離放射線で硬化させる以前の塗布状態ではべとつかず、レリーフ構造を容易に賦型した後に、電離放射線で硬化できるものが好ましい。したがって、軟化点が４０℃以上の樹脂を含有する電離放射線硬化性樹脂を用いることが好ましい。
（光重合開始剤）
電離放射線硬化性樹脂組成物に添加する光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、αーアミロキシムエステル、テトラメチルメウラムモノサルファイド、チオキサントン類などの公知のものが適用できる。また、必要に応じて、光増感剤、光重合促進剤を添加する。このような光重合開始剤、及び光増感剤の含有量は、前記ウレタン変性アクリル系樹脂１００質量部当たり約０．５〜１０質量部の範囲で使用することが好ましい。さらに、上記の各成分に加えて、ハイドロキノン、カテコール等のフェノール類；ベンゾキノン等のキノン類；フェノチアジン等：銅類等の重合防止剤を配合すると貯蔵安定性が向上する。更に、必要に応じて、促進剤、粘度調節剤、界面活性剤、消泡剤等の各種助剤を配合してもよい。
電離放射線硬化性樹脂組成物に添加する光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、αーアミロキシムエステル、テトラメチルメウラムモノサルファイド、チオキサントン類などの公知のものが適用できる。また、必要に応じて、光増感剤、光重合促進剤を添加する。このような光重合開始剤、及び光増感剤の含有量は、前記ウレタン変性アクリル系樹脂１００質量部当たり約０．５〜１０質量部の範囲で使用することが好ましい。さらに、上記の各成分に加えて、ハイドロキノン、カテコール等のフェノール類；ベンゾキノン等のキノン類；フェノチアジン等：銅類等の重合防止剤を配合すると貯蔵安定性が向上する。更に、必要に応じて、促進剤、粘度調節剤、界面活性剤、消泡剤等の各種助剤を配合してもよい。
上記の樹脂及び必要に応じて添加剤を、溶媒へ分散又は溶解して、ロールコート、グラビアコート、バーコートなどの公知のコーティング方法で、少なくとも１部に塗布し乾燥して塗膜を形成したりすれば良い。レリーフ形成層４の厚さとしては、通常は乾燥状態で０．１μｍ〜１０μｍ程度、好ましくは０．３μｍ〜３μｍ程度である。
（レリーフ）
ホログラムは物体光と参照光との光の干渉による干渉縞を凹凸のレリーフ形状で記録されたもので、例えば、フレネルホログラム等のレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラム等の白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータジェネレーティッドホログラム（ＣＧＨ）、ホログラフィック回折格子などがある。レリーフ形状は凹凸形状であり、特に限定されるものではなく、微細な凹凸形状を有する光拡散、光散乱、光反射、光回折などの機能を発現するものでもよく、例えば、フーリエ変換やレンチキュラーレンズ、光回折パターン、モスアイ、が形成されたものである。また、光回折機能はないが、特異な光輝性を発現するヘアライン柄、マット柄、万線柄、干渉パターンなどでもよい。
ホログラムは物体光と参照光との光の干渉による干渉縞を凹凸のレリーフ形状で記録されたもので、例えば、フレネルホログラム等のレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラム等の白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータジェネレーティッドホログラム（ＣＧＨ）、ホログラフィック回折格子などがある。レリーフ形状は凹凸形状であり、特に限定されるものではなく、微細な凹凸形状を有する光拡散、光散乱、光反射、光回折などの機能を発現するものでもよく、例えば、フーリエ変換やレンチキュラーレンズ、光回折パターン、モスアイ、が形成されたものである。また、光回折機能はないが、特異な光輝性を発現するヘアライン柄、マット柄、万線柄、干渉パターンなどでもよい。
これらのレリーフ形状の作製方法としてはホログラム撮影記録手段を利用して作製されたホログラムや回折格子の他に、干渉や回折という光学計算に基づいて電子線描画装置等を用いて作製されたホログラムや回折格子をあげることもできる。また、ヘアライン柄や万線柄のような比較的大きなパターンなどは機械切削法でもよい。これらのホログラム及び／又は回折格子の単一若しくは多重に記録しても、組み合わせて記録しても良い。これらの原版は公知の材料、方法で作成することができ、通常、感光性材料を塗布したガラス板を用いたレーザ光干渉法、電子線レジスト材料を塗布したガラス板に電子線描画装置を用いてパターン作製する電子線描画法などが適用できる。
（レリーフの賦型）
レリーフ形成層４面へ、上記のレリーフ形状を賦形（複製ともいう）する。ホログラムの賦型は、公知の方法によって形成でき、例えば、回折格子やホログラムの干渉縞を表面凹凸のレリーフとして記録する場合には、回折格子や干渉縞が凹凸の形で記録された原版をプレス型（スタンパという）として用い、上記樹脂層上に前記原版を重ねて加熱ロールなどの適宜手段により、両者を加熱圧着することにより、原版の凹凸模様を複製することができる。
レリーフ形成層４面へ、上記のレリーフ形状を賦形（複製ともいう）する。ホログラムの賦型は、公知の方法によって形成でき、例えば、回折格子やホログラムの干渉縞を表面凹凸のレリーフとして記録する場合には、回折格子や干渉縞が凹凸の形で記録された原版をプレス型（スタンパという）として用い、上記樹脂層上に前記原版を重ねて加熱ロールなどの適宜手段により、両者を加熱圧着することにより、原版の凹凸模様を複製することができる。
（レリーフの硬化）
レリーフ形成層４として電離放射線硬化性樹脂を用いた場合には、スタンパでエンボス中、又はエンボス後に、電離放射線を照射して、電離放射線硬化性樹脂を硬化させる。上記の電離放射線硬化性樹脂は、レリーフを形成後に、電離放射線を照射して硬化（反応）させると電離放射線硬化樹脂（レリーフ形成層４）となる。電離放射線としては、電磁波が有する量子エネルギーで区分する場合もあるが、本明細書では、すべての紫外線（ＵＶ−Ａ、ＵＶ−Ｂ、ＵＶ−Ｃ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、電子線を包含するものと定義する。従って、電離放射線としては、紫外線（ＵＶ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、または電子線などが適用できるが、紫外線（ＵＶ）が好適である。電離放射線で硬化する電離放射線硬化性樹脂は、紫外線硬化の場合は光重合開始剤、及び／又は光重合促進剤を添加し、エネルギーの高い電子線硬化の場合は添加しないで良く、また、適正な触媒が存在すれば、熱エネルギーでも硬化できる。レリーフ形成層４として、熱硬化性樹脂を用いた場合には、使用する熱硬化性樹脂の硬化条件に応じた温湿度環境下で、エージングを行い硬化させればよい。
レリーフ形成層４として電離放射線硬化性樹脂を用いた場合には、スタンパでエンボス中、又はエンボス後に、電離放射線を照射して、電離放射線硬化性樹脂を硬化させる。上記の電離放射線硬化性樹脂は、レリーフを形成後に、電離放射線を照射して硬化（反応）させると電離放射線硬化樹脂（レリーフ形成層４）となる。電離放射線としては、電磁波が有する量子エネルギーで区分する場合もあるが、本明細書では、すべての紫外線（ＵＶ−Ａ、ＵＶ−Ｂ、ＵＶ−Ｃ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、電子線を包含するものと定義する。従って、電離放射線としては、紫外線（ＵＶ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、または電子線などが適用できるが、紫外線（ＵＶ）が好適である。電離放射線で硬化する電離放射線硬化性樹脂は、紫外線硬化の場合は光重合開始剤、及び／又は光重合促進剤を添加し、エネルギーの高い電子線硬化の場合は添加しないで良く、また、適正な触媒が存在すれば、熱エネルギーでも硬化できる。レリーフ形成層４として、熱硬化性樹脂を用いた場合には、使用する熱硬化性樹脂の硬化条件に応じた温湿度環境下で、エージングを行い硬化させればよい。
熱転写におけるレリーフ形状の耐熱性を確保するために硬化物のＴｇは、非常に重要な要因となる。すなわち、加熱により形状がくずれないような特性が要求される。このためには、ホログラムレリーフ形状を構成する樹脂のＴｇ（Ｒ）は高くするのがよい。しかしながら、例えば熱可塑性樹脂を使用したとき、このＴｇ（Ｒ）を高くすることはホログラムレリーフを形成する際のエンボス温度を高くすることなる。このため、エンボス形成時には低温でエンボスが形成可能で、その後、エンボス形状を硬化することでレリーフ形状の耐熱性を上げることが可能な硬化性樹脂を使用することが好ましい。さらに、電離放射線硬化性樹脂を使用することで、もっとも適切な工程で短時間にレリーフ形状を硬化することができるため、なおさら好ましい。Ｔｇ（Ｒ）＞１５０℃とすることで、耐熱性を有すると共に、耐久性、堅牢度特性に優れたホログラム形成体を提供可能となる。
但し、上記のガラス転移温度は、動的粘弾性測定における損失正接（ｔａｎδ）が最大値をとる温度を当該樹脂のガラス転移温度としたものである。粘弾性の測定方法は、測定機器としてレオメトリックス製ＡＲＥＳを用い、測定条件は、パラレルプレート１０ｍｍΦ、歪み１％、振幅１Ｈｚ、昇温速度２℃／ｍｉｎ．で、試料の樹脂の温度を３０℃から２００℃に昇温させることにより行う。また、一般に貯蔵弾性率Ｇ′は弾性成分で、高分子中でのコイルの振動や凝集体構造などの構造が生じることによって発生し、損失弾性率Ｇ″は粘性成分であり、静的の剪断応力と等価なものである。ｔａｎδはＧ″／Ｇ′により求められ、材料が変形する際にどれくらいのエネルギーを吸収するかの指標となる。
但し、上記のガラス転移温度は、動的粘弾性測定における損失正接（ｔａｎδ）が最大値をとる温度を当該樹脂のガラス転移温度としたものである。粘弾性の測定方法は、測定機器としてレオメトリックス製ＡＲＥＳを用い、測定条件は、パラレルプレート１０ｍｍΦ、歪み１％、振幅１Ｈｚ、昇温速度２℃／ｍｉｎ．で、試料の樹脂の温度を３０℃から２００℃に昇温させることにより行う。また、一般に貯蔵弾性率Ｇ′は弾性成分で、高分子中でのコイルの振動や凝集体構造などの構造が生じることによって発生し、損失弾性率Ｇ″は粘性成分であり、静的の剪断応力と等価なものである。ｔａｎδはＧ″／Ｇ′により求められ、材料が変形する際にどれくらいのエネルギーを吸収するかの指標となる。
（レリーフ効果層）
レリーフ効果層５は、所定のレリーフ構造を設けたレリーフ形成層４面のレリーフ面へ設けられる構成で、本発明のレリーフ形状転写箔を用いて、被転写体にレリーフ効果層５と接着層６が転写する。したがって、レリーフ形状の転写された形成物の最表面にレリーフ効果層５が位置し、またレリーフ効果層５はレリーフ形成層４の凹凸とは反転した形状を有する凹凸表面を有する。それは、レリーフ形成層４とレリーフ効果層５との界面で、熱転写時に剥がれるからである。
レリーフ効果層５は、所定のレリーフ構造を設けたレリーフ形成層４面のレリーフ面へ設けられる構成で、本発明のレリーフ形状転写箔を用いて、被転写体にレリーフ効果層５と接着層６が転写する。したがって、レリーフ形状の転写された形成物の最表面にレリーフ効果層５が位置し、またレリーフ効果層５はレリーフ形成層４の凹凸とは反転した形状を有する凹凸表面を有する。それは、レリーフ形成層４とレリーフ効果層５との界面で、熱転写時に剥がれるからである。
レリーフ効果層５は、透明性を有する樹脂と、粒子を主体に構成される。それぞれの材料自身の屈折率、配合、製造条件を最適化することで、レリーフ効果層５としての屈折率を空気の屈折率から離すことで、レリーフ形状形成物１０のきらきら感をアップすることができる。レリーフ効果層５を構成する樹脂材料としては、上記のレリーフ形成層４で記載した熱可塑性樹脂や、熱硬化性樹脂や電離放射線硬化性樹脂の硬化樹脂などを同様に使用することができる。この透明樹脂には、塗工液中の粒子の分散安定性を保持するとともに、塗工後の粒子のレリーフ形状への追従を有し、さらに、熱転写後のレリーフ効果層のレリーフ形状を保持する材料であることが要求される。このような材料としては、高分子系分散剤と呼ばれるような分散性に優れた透明樹脂が好ましい。また、塗工時の分子量が比較的小さく、塗工後必要に応じて電離放射線等の照射により高分子化することで転写後のレリーフ形状の耐久性をアップできるような電離放射線硬化性樹脂が特に好ましい。さらに、レリーフの反射及び／又は回折効果を高めるために、屈折率が１．８以上２．６以下である透明樹脂にて構成することが好ましいが、入手性、コスト等の面から、必要に応じ、屈折率１．５程度の透明樹脂を混合して、もしくは主体的に、使用するとよい。本発明における屈折率は、ＪＩＳＫ７１４２（プラスチックの屈折率測定方法）に準拠して測定したものである。
レリーフ効果層５に含有する粒子は、平均粒径で５〜５０ｎｍの大きさのものを使用することが好ましい。それは、粒径の大きさを小さく抑えることにより、レリーフ形成層のレリーフ隙間に、レリーフ効果層材料が上手く入ることで、レリーフ形状を損なうことなく、均一なレリーフ効果層を形成し、輝度の高い回折構造体、ホログラム構造体を、熱転写により形成可能となるからである。また、レリーフ効果層に含有する粒子は、屈折率が１．８以上２．６以下のものが好ましく用いられ、レリーフの反射及び／又は回折効果を高めることができる。この粒子としては、例えば、酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化マグネシウム粒子等の酸化金属粒子が挙げられ、本発明では特に屈折率が１．８以上２．６以下に属し、安定して製造できることから、酸化チタン粒子、あるいは酸化ジルコニウム粒子を用いることが好ましい。但し、コストを著しく低減したい場合には、耐指紋性を犠牲にして、コロイダルシリカやコロイダルアルミナのような比較的安価で、粒子径の小さな粒子を使用することも可能である。
上記の粒子の材質により、光反射性の高いレリーフ効果層にしたり、あるいは光透過性の高いレリーフ効果層にすることができる。これにより、前述した反射ホログラム転写箔と、透明ホログラム転写箔に対応したものとすることができる。
反射ホログラム転写箔用の材料としては、一般的な金属蒸着材料、例えば、アルミニウム、銀、銅などの金属が使用できる。さらに、金属ナノコロイドと呼ばれる金属粒子分散液を使用することで、基材フィルムへの熱ダメージを与えることなく、反射ホログラム転写箔を作製できる。
本発明におけるレリーフ効果層に含有する粒子の平均粒径に関しては、粒子にレーザを照射し、「ブラウン運動」による「ドップラー効果」で波長の変化した光を検出し、その粒子径を導き出す方式の動的光散乱式粒径分布測定装置（例えば、ＨＯＲＩＢＡ製ＬＢ−５５０等）により、測定したものである。
このような粒子は、レリーフ効果層を構成する全固形分に対し、５０％〜９８％の割合で、この好ましくは、７５〜９５％含有することが好ましい。レリーフ効果層は、上記の樹脂及び粒子と必要に応じて添加剤を、溶媒へ分散又は溶解して、ロールコート、グラビアコート、バーコートなどの公知のコーティング方法で、塗布し乾燥して塗膜を形成すれば良い。レリーフ効果層の厚さとしては、通常は乾燥状態で０．００２〜２μｍ程度、好ましくは０．００５〜１．０μｍ程度、さらに好ましくは０．０１〜０．６μｍ程度である。質量換算する場合では、レリーフ効果層の成分において重要な働きをなすレリーフ効果粒子の比重が比較的大きい（４〜５ｇ／ｃｍ3）ことをから、通常は乾燥状態で０．００６〜１０ｇ／ｍ2程度、好ましくは０．０１５〜５．０ｇ／ｍ2程度、さらに好ましくは０．０３〜３．０ｇ／ｍ2程度である。以上のように形成されるレリーフ効果層は、回折構造体、あるいはホログラム構造体の構成となる。
反射ホログラム転写箔用の材料としては、一般的な金属蒸着材料、例えば、アルミニウム、銀、銅などの金属が使用できる。さらに、金属ナノコロイドと呼ばれる金属粒子分散液を使用することで、基材フィルムへの熱ダメージを与えることなく、反射ホログラム転写箔を作製できる。
本発明におけるレリーフ効果層に含有する粒子の平均粒径に関しては、粒子にレーザを照射し、「ブラウン運動」による「ドップラー効果」で波長の変化した光を検出し、その粒子径を導き出す方式の動的光散乱式粒径分布測定装置（例えば、ＨＯＲＩＢＡ製ＬＢ−５５０等）により、測定したものである。
このような粒子は、レリーフ効果層を構成する全固形分に対し、５０％〜９８％の割合で、この好ましくは、７５〜９５％含有することが好ましい。レリーフ効果層は、上記の樹脂及び粒子と必要に応じて添加剤を、溶媒へ分散又は溶解して、ロールコート、グラビアコート、バーコートなどの公知のコーティング方法で、塗布し乾燥して塗膜を形成すれば良い。レリーフ効果層の厚さとしては、通常は乾燥状態で０．００２〜２μｍ程度、好ましくは０．００５〜１．０μｍ程度、さらに好ましくは０．０１〜０．６μｍ程度である。質量換算する場合では、レリーフ効果層の成分において重要な働きをなすレリーフ効果粒子の比重が比較的大きい（４〜５ｇ／ｃｍ3）ことをから、通常は乾燥状態で０．００６〜１０ｇ／ｍ2程度、好ましくは０．０１５〜５．０ｇ／ｍ2程度、さらに好ましくは０．０３〜３．０ｇ／ｍ2程度である。以上のように形成されるレリーフ効果層は、回折構造体、あるいはホログラム構造体の構成となる。
（接着層）
レリーフ効果層を被着体に熱転写するために必要となる接着層６は熱で溶融又は軟化して接着する熱接着型接着剤が適用でき、例えば、アイオノマー樹脂、酸変性ポリオレフィン系樹脂、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系・メタクリル系などの（メタ）アクリル系樹脂、アクリル酸エステル系樹脂、マレイン酸樹脂、ブチラール系樹脂、アルキッド樹脂、ポリエチレンオキサイド樹脂、フェノール系樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、メラミン−アルキッド樹脂、セルロース系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリビニールエーテル樹脂、シリコーン樹脂、ゴム系樹脂などが適用でき、これらの樹脂を単独または複数を組み合せて使用する。これらの接着層の樹脂は、接着力などの点で、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ブチラール系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン樹脂が好ましい。
レリーフ効果層を被着体に熱転写するために必要となる接着層６は熱で溶融又は軟化して接着する熱接着型接着剤が適用でき、例えば、アイオノマー樹脂、酸変性ポリオレフィン系樹脂、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系・メタクリル系などの（メタ）アクリル系樹脂、アクリル酸エステル系樹脂、マレイン酸樹脂、ブチラール系樹脂、アルキッド樹脂、ポリエチレンオキサイド樹脂、フェノール系樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、メラミン−アルキッド樹脂、セルロース系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリビニールエーテル樹脂、シリコーン樹脂、ゴム系樹脂などが適用でき、これらの樹脂を単独または複数を組み合せて使用する。これらの接着層の樹脂は、接着力などの点で、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ブチラール系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン樹脂が好ましい。
上記の樹脂及び、必要に応じて、充填剤、可塑剤、着色剤及び／又は帯電防止剤などの添加剤を、溶媒へ分散又は溶解して、ロールコート、グラビアコート、バーコートなどの公知のコーティング方法で、塗布し乾燥して塗膜を形成したりすれば良い。接着層の厚さは、通常は乾燥状態で０．０２〜１０μｍ程度、好ましくは０．０５〜５μｍである。接着層の厚さは、この範囲未満では接着力が不足し、また、それ以上では、接着効果は十分でその効果は変わらないが、コスト的に無駄である。
（レリーフ形状形成物）
本発明のレリーフ形状形成物１０は、上記に説明した本発明のレリーフ形状転写箔１を用いて、被転写体８に、接着層６、レリーフ効果層５を転写して形成したものであり、レリーフ形状形成物１０の表面には、レリーフ形状が転写形成されている。（図３を参照）被転写体８の表面の全面に、あるいは任意の図形や文字等のパターン状に部分的に接着層６とレリーフ効果層５を転写することができる。それはサーマルヘッド等の加熱手段により、転写する形状を任意に変化させることができるからである。
本発明のレリーフ形状形成物１０は、上記に説明した本発明のレリーフ形状転写箔１を用いて、被転写体８に、接着層６、レリーフ効果層５を転写して形成したものであり、レリーフ形状形成物１０の表面には、レリーフ形状が転写形成されている。（図３を参照）被転写体８の表面の全面に、あるいは任意の図形や文字等のパターン状に部分的に接着層６とレリーフ効果層５を転写することができる。それはサーマルヘッド等の加熱手段により、転写する形状を任意に変化させることができるからである。
（レリーフ保護層）
本発明のレリーフ形状転写箔１は図４に見られるように、レリーフ保護層７を有していても良い。このようなレリーフ保護層７を設けることで、被転写体への熱転写時にレリーフ形状がくずれることなく、高輝度なままレリーフ効果層５を被転写体８へ転写することができる。また、被転写体８へ転写したレリーフ形状の耐久性をアップすることができる。このようなレリーフ保護層７の材料としては、レリーフ形成層４を構成する樹脂材料と同様な材料が適用できる。硬化性樹脂、なかでも、電離放射線硬化性樹脂がさらに好ましい。
本発明のレリーフ形状転写箔１は図４に見られるように、レリーフ保護層７を有していても良い。このようなレリーフ保護層７を設けることで、被転写体への熱転写時にレリーフ形状がくずれることなく、高輝度なままレリーフ効果層５を被転写体８へ転写することができる。また、被転写体８へ転写したレリーフ形状の耐久性をアップすることができる。このようなレリーフ保護層７の材料としては、レリーフ形成層４を構成する樹脂材料と同様な材料が適用できる。硬化性樹脂、なかでも、電離放射線硬化性樹脂がさらに好ましい。
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。
以下、実施例及び比較例により、本発明を更に詳細に説明するが、これに限定されるものではない。
（実施例１）
＜レリーフ形成層の作製＞
基材２として厚さ６μｍのＰＥＴフィルムルミラーＦ５３（東レ社製、ＰＥＴフィルム未処理品）を用い、該基材２の一方の面へ、下記組成物をグラビアコーターで塗工し１００℃で乾燥させて、厚さ０．５μｍのプライマー層３を形成した。
バイロン２００（東洋紡績（株）社製、ポリエステル樹脂商品名） １００質量部
Ｄ−１１０Ｎ （三井武田ケミカル（株）社製、イソシアネート商品名） ５質量部
メチルエチルケトン １００質量部
トルエン １００質量部
（実施例１）
＜レリーフ形成層の作製＞
基材２として厚さ６μｍのＰＥＴフィルムルミラーＦ５３（東レ社製、ＰＥＴフィルム未処理品）を用い、該基材２の一方の面へ、下記組成物をグラビアコーターで塗工し１００℃で乾燥させて、厚さ０．５μｍのプライマー層３を形成した。
バイロン２００（東洋紡績（株）社製、ポリエステル樹脂商品名） １００質量部
Ｄ−１１０Ｎ （三井武田ケミカル（株）社製、イソシアネート商品名） ５質量部
メチルエチルケトン １００質量部
トルエン １００質量部
該プライマー層３面へ、前述の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｓをグラビアリバースコーターで塗工し１００℃で乾燥させて、厚さ１．５ｇ／ｍ2のレリーフ形成層４を形成した。次に、該レリーフ形成層面へ、２光束干渉法によるレインボウホログラム（文字列「ａｂｃ」の繰り返しパターン）から２Ｐ法で複製したスタンパ（ポジパターン：スタンパ表面、空気界面から見て「ａｂｃ」と読めるパターン）を複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラーと間で加熱プレス（エンボス）して、微細な凹凸パターンからなるレリーフホログラムを賦形させた（エンボス表面、空気界面から見てネガパターン）。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させた（Ｔｇ：１６０℃）。
＜レリーフ効果層の形成＞
該レリーフ形成層４のレリーフ面へ、下記レリーフ効果層の塗工液を塗工後、９０℃にて乾燥して、厚さ０．５ｇ／ｍ2のレリーフ効果層５（透明蒸着層、高屈折率層、空気界面から見てネガパターン）を形成した。レリーフ効果粒子／レリーフ効果樹脂の比率は９０／１０である。真空蒸着で見られるフィルムダメージ（熱ジワ）も発生していなかった。
Ｎａｎｏ Ｔｅｋ ２０．０質量部
（シーアイ化成（株） 酸化チタンスラリー 固形分１５％）
ダイヤナールＢＲ−８０ ０．３３質量部
（三菱レイヨン（株） アクリル樹脂 分子量９５０００、Ｔｇ１０５℃）
メチルエチルケトン ７９．６７質量部
該レリーフ形成層４のレリーフ面へ、下記レリーフ効果層の塗工液を塗工後、９０℃にて乾燥して、厚さ０．５ｇ／ｍ2のレリーフ効果層５（透明蒸着層、高屈折率層、空気界面から見てネガパターン）を形成した。レリーフ効果粒子／レリーフ効果樹脂の比率は９０／１０である。真空蒸着で見られるフィルムダメージ（熱ジワ）も発生していなかった。
Ｎａｎｏ Ｔｅｋ ２０．０質量部
（シーアイ化成（株） 酸化チタンスラリー 固形分１５％）
ダイヤナールＢＲ−８０ ０．３３質量部
（三菱レイヨン（株） アクリル樹脂 分子量９５０００、Ｔｇ１０５℃）
メチルエチルケトン ７９．６７質量部
＜接着層の形成＞
該レリーフ効果層５面へ下記塩素化−酢酸ビニル樹脂接着剤を塗工後、乾燥して接着層６を形成し（乾燥後の塗工量が０．２ｇ／ｍ2）、透明ホログラム形状転写箔とした。
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ３０質量部
酢酸エチル：トルエン＝１：１ ７０質量部
該レリーフ効果層５面へ下記塩素化−酢酸ビニル樹脂接着剤を塗工後、乾燥して接着層６を形成し（乾燥後の塗工量が０．２ｇ／ｍ2）、透明ホログラム形状転写箔とした。
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ３０質量部
酢酸エチル：トルエン＝１：１ ７０質量部
＜レリーフ形状形成物＞
作製した透明ホログラム形状転写箔１の接着層６面を被転写体８と合わせて、１５０℃に加熱したゴムローラーの間で加熱した後、基材フィルムを剥がした。被転写体上には、良好な輝度を有するホログラムパターンが形成された（空気界面から見て、ポジパターン）。また、指で触っても、ホログラムパターンは消えることなく輝きを保ったままであった。（表１に示す）。
作製した透明ホログラム形状転写箔１の接着層６面を被転写体８と合わせて、１５０℃に加熱したゴムローラーの間で加熱した後、基材フィルムを剥がした。被転写体上には、良好な輝度を有するホログラムパターンが形成された（空気界面から見て、ポジパターン）。また、指で触っても、ホログラムパターンは消えることなく輝きを保ったままであった。（表１に示す）。
（実施例２）
実施例１において、レリーフ効果層の塗工液を下記の液に変更する以外は、実施例１と同様にしてレリーフ転写箔、レリーフ形状形成物を作製した。レリーフ効果粒子／レリーフ効果樹脂の比率は８０／２０である。レリーフ形状形成物の特性は、表１に示す通り良好であった。
Ｎａｎｏ Ｔｅｋ ２０．０質量部
（シーアイ化成（株） 酸化チタンスラリー 固形分１５％）
ダイヤナールＢＲ−８０ ０．７５質量部
（三菱レイヨン（株） アクリル樹脂 分子量９５０００、Ｔｇ１０５℃）
メチルエチルケトン ７９．２５質量部
実施例１において、レリーフ効果層の塗工液を下記の液に変更する以外は、実施例１と同様にしてレリーフ転写箔、レリーフ形状形成物を作製した。レリーフ効果粒子／レリーフ効果樹脂の比率は８０／２０である。レリーフ形状形成物の特性は、表１に示す通り良好であった。
Ｎａｎｏ Ｔｅｋ ２０．０質量部
（シーアイ化成（株） 酸化チタンスラリー 固形分１５％）
ダイヤナールＢＲ−８０ ０．７５質量部
（三菱レイヨン（株） アクリル樹脂 分子量９５０００、Ｔｇ１０５℃）
メチルエチルケトン ７９．２５質量部
（実施例３）
実施例１において、レリーフ効果層の塗工液を下記の液に変更する以外は、実施例１と同様にしてレリーフ転写箔、レリーフ形状形成物を作製した。レリーフ効果粒子／レリーフ効果樹脂の比率は６０／４０である。レリーフ形状形成物の特性は、表１に示す通り良好であった。
Ｎａｎｏ Ｔｅｋ ２０．０質量部
（シーアイ化成（株） 酸化チタンスラリー 固形分１５％）
ダイヤナールＢＲ−８０ ２．０質量部
（三菱レイヨン（株） アクリル樹脂 分子量９５０００、Ｔｇ１０５℃）
メチルエチルケトン ７８．０質量部
実施例１において、レリーフ効果層の塗工液を下記の液に変更する以外は、実施例１と同様にしてレリーフ転写箔、レリーフ形状形成物を作製した。レリーフ効果粒子／レリーフ効果樹脂の比率は６０／４０である。レリーフ形状形成物の特性は、表１に示す通り良好であった。
Ｎａｎｏ Ｔｅｋ ２０．０質量部
（シーアイ化成（株） 酸化チタンスラリー 固形分１５％）
ダイヤナールＢＲ−８０ ２．０質量部
（三菱レイヨン（株） アクリル樹脂 分子量９５０００、Ｔｇ１０５℃）
メチルエチルケトン ７８．０質量部
＜電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍの作製＞
反応生成物（Ａ）は以下の手順で、生成した。撹拌機、還流冷却器、滴下漏斗及び温度計を取り付けた反応器に、酢酸エチル２０６．１ｇ及びイソホロンジイソシアネートの三量体（ＨＵＬＳ社製品、ＶＥＳＴＡＮＡＴ Ｔ１８９０、融点１１０℃）１３３．５ｇを仕込み、８０℃に昇温して溶解させた。溶液中に空気を吹き込んだのち、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．３８ｇ、ペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業社製品、ビスコート３００）２４９．３ｇ及びジブチル錫ジラウレート０．３８ｇを仕込んだ。８０℃で５時間反応させたのち酢酸エチル６８８．９ｇを添加して冷却した。得られた反応生成液は赤外吸収スペクトル分析の結果、イソシアネート基の吸収が消滅していることを確認した。反応生成液から酢酸エチルを留去したものの軟化温度は４３℃であった。
反応生成物（Ａ）は以下の手順で、生成した。撹拌機、還流冷却器、滴下漏斗及び温度計を取り付けた反応器に、酢酸エチル２０６．１ｇ及びイソホロンジイソシアネートの三量体（ＨＵＬＳ社製品、ＶＥＳＴＡＮＡＴ Ｔ１８９０、融点１１０℃）１３３．５ｇを仕込み、８０℃に昇温して溶解させた。溶液中に空気を吹き込んだのち、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．３８ｇ、ペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業社製品、ビスコート３００）２４９．３ｇ及びジブチル錫ジラウレート０．３８ｇを仕込んだ。８０℃で５時間反応させたのち酢酸エチル６８８．９ｇを添加して冷却した。得られた反応生成液は赤外吸収スペクトル分析の結果、イソシアネート基の吸収が消滅していることを確認した。反応生成液から酢酸エチルを留去したものの軟化温度は４３℃であった。
該反応生成物（Ａ）と、造膜性樹脂、光重合開始剤、及び溶媒から下記の組成で添加して電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍを調製した。
＜電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ＞
反応生成物（Ａ） ２４質量部
造膜性樹脂（メタクリル樹脂：クラレ社製品 パラペットＧＦ） ６質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４） ０．９質量部
メチルエチルケトン ７０質量部
＜電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍ＞
反応生成物（Ａ） ２４質量部
造膜性樹脂（メタクリル樹脂：クラレ社製品 パラペットＧＦ） ６質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４） ０．９質量部
メチルエチルケトン ７０質量部
（実施例４〜１０）
実施例１において、レリーフ形成層４の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｓに代えて、上記の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍを用い、また、レリーフ効果層５の塗工液組成を表１に示すレリーフ効果層材料組成物に変更した。溶液組成（配合、固形分濃度）を適宜調整し、表１に示す塗工量のレリーフ効果層を形成した。さらに、実施例１と同様に接着層を形成して、レリーフ形状転写箔を得た。また、レリーフ形状形成物は実施例１と同様にした作成した。
ここで、レリーフ効果層材料組成物とは、例えば、実施例１における２種類の材料、Ｎａｎｏ Ｔｅｋ（酸化チタン ナノ粒子）、並びに、ダイヤナールＢＲ−８０のことである。実施例４〜１０におけるレリーフ効果層材料組成物は、その固形分に応じて、表に記載の配合（質量比）となるよう調整し、適度に希釈するなどしてレリーフ効果層材料組成物からなる塗工液とした。各材料の製品固形分は、レリーフ効果粒子、レリーフ効果樹脂の欄の括弧（）内に、％付きの値として記載した。
実施例１において、レリーフ形成層４の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｓに代えて、上記の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍを用い、また、レリーフ効果層５の塗工液組成を表１に示すレリーフ効果層材料組成物に変更した。溶液組成（配合、固形分濃度）を適宜調整し、表１に示す塗工量のレリーフ効果層を形成した。さらに、実施例１と同様に接着層を形成して、レリーフ形状転写箔を得た。また、レリーフ形状形成物は実施例１と同様にした作成した。
ここで、レリーフ効果層材料組成物とは、例えば、実施例１における２種類の材料、Ｎａｎｏ Ｔｅｋ（酸化チタン ナノ粒子）、並びに、ダイヤナールＢＲ−８０のことである。実施例４〜１０におけるレリーフ効果層材料組成物は、その固形分に応じて、表に記載の配合（質量比）となるよう調整し、適度に希釈するなどしてレリーフ効果層材料組成物からなる塗工液とした。各材料の製品固形分は、レリーフ効果粒子、レリーフ効果樹脂の欄の括弧（）内に、％付きの値として記載した。
（実施例１１）
実施例４において、レリーフ効果層５の塗工液を下記に変えて塗工、９０℃にて乾燥後、ＵＶ照射した。その後、実施例１と同様に接着層を塗工して、レリーフ形状転写箔を得た。レリーフ形状形成物は実施例１と同様に作製した。
Ｎａｎｏ Ｔｅｋ ２０．０質量部
（シーアイ化成（株） 酸化チタンスラリー 固形分１５％）
電離放射線硬化性樹脂組成物Ｓ（固形分２０％に調整したもの） １．６５質量部
メチルエチルケトン ７８．３５質量部
実施例４において、レリーフ効果層５の塗工液を下記に変えて塗工、９０℃にて乾燥後、ＵＶ照射した。その後、実施例１と同様に接着層を塗工して、レリーフ形状転写箔を得た。レリーフ形状形成物は実施例１と同様に作製した。
Ｎａｎｏ Ｔｅｋ ２０．０質量部
（シーアイ化成（株） 酸化チタンスラリー 固形分１５％）
電離放射線硬化性樹脂組成物Ｓ（固形分２０％に調整したもの） １．６５質量部
メチルエチルケトン ７８．３５質量部
（実施例１２、１３、１４）
実施例１１において、レリーフ効果層５の塗工液組成を表１に示すレリーフ効果層材料組成物に変更した。溶液組成（配合、固形分濃度）を適宜調整し、表１に示す塗工量のレリーフ効果層を形成した。さらに、実施例１と同様に接着層を形成して、レリーフ形状転写箔を作成した。さらに、実施例１と同様にしてレリーフ形状形成物を得た。
実施例１１において、レリーフ効果層５の塗工液組成を表１に示すレリーフ効果層材料組成物に変更した。溶液組成（配合、固形分濃度）を適宜調整し、表１に示す塗工量のレリーフ効果層を形成した。さらに、実施例１と同様に接着層を形成して、レリーフ形状転写箔を作成した。さらに、実施例１と同様にしてレリーフ形状形成物を得た。
（実施例１５）
実施例７において、レリーフ形成層４のレリーフ効果性樹脂を使用せずに、レリーフ効果粒子分散液のみを適度に希釈塗工してレリーフ効果層５を塗工した。さらに、実施例７と同様に接着層を形成して、レリーフ形状転写箔を得た。また、レリーフ形状形成物は実施例７と同様にして作成した。
実施例７において、レリーフ形成層４のレリーフ効果性樹脂を使用せずに、レリーフ効果粒子分散液のみを適度に希釈塗工してレリーフ効果層５を塗工した。さらに、実施例７と同様に接着層を形成して、レリーフ形状転写箔を得た。また、レリーフ形状形成物は実施例７と同様にして作成した。
（実施例１６）
実施例３において、レリーフ形成層４のレリーフ効果性樹脂を樹脂配合量（固形分換算）で５０％とした適度に希釈した溶液を用いて、レリーフ効果層を塗工した。さらに、実施例４と同様に接着層を形成して、レリーフ形状転写箔を得た。また、レリーフ形状形成物は実施例４と同様に作成した。
実施例３において、レリーフ形成層４のレリーフ効果性樹脂を樹脂配合量（固形分換算）で５０％とした適度に希釈した溶液を用いて、レリーフ効果層を塗工した。さらに、実施例４と同様に接着層を形成して、レリーフ形状転写箔を得た。また、レリーフ形状形成物は実施例４と同様に作成した。
（実施例１７：保護層付き）
実施例１と同様にして、基材上２にプライマー層３、レリーフ形成層４、レリーフ効果層５を形成した。レリーフ効果粒子／レリーフ効果樹脂の比率は９０／１０である。実施例１と同様に塗工液は安定であった。フィルムダメージもなく、輝度良好なホログラムが観察された。さらに前述の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｓをグラビアリバースコーターで塗工し９０℃で乾燥させて、厚さ１．０ｇ／ｍ2のレリーフ保護層７を形成した。
実施例１と同様にして、基材上２にプライマー層３、レリーフ形成層４、レリーフ効果層５を形成した。レリーフ効果粒子／レリーフ効果樹脂の比率は９０／１０である。実施例１と同様に塗工液は安定であった。フィルムダメージもなく、輝度良好なホログラムが観察された。さらに前述の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｓをグラビアリバースコーターで塗工し９０℃で乾燥させて、厚さ１．０ｇ／ｍ2のレリーフ保護層７を形成した。
ＵＶ照射後、実施例１と同様の塩素化−酢酸ビニル樹脂接着剤を該レリーフ保護層７面へ塗工後、乾燥して接着層６を形成し（乾燥後の塗工量が０．２ｇ／ｍ2）、透明ホログラム形状転写箔とした。さらに、実施例１と同様にして被転写体へ転写しレリーフ形状形成物を得た。良好な輝度を有するホログラムパターンが形成された（空気界面から見て、ポジパターン）。また、指で触っても、ホログラムパターンは消えることなく輝きを保ったままであった。
（実施例１８：反射タイプ）
実施例１と同様にして、基材上２にプライマー層３、レリーフ形成層４を形成した。実施例１におけるレリーフ効果層５の塗工液を下記に変えて塗工、９０℃にて乾燥後、ＵＶ照射した。レリーフ効果粒子／レリーフ効果樹脂の比率は９５／５である。塗工液は安定であった。フィルムダメージもなく、輝度良好なホログラムが観察された。
銀ナノコロイド ２０．０質量部
（石原産業（株） 銀ナノ粒子分散液 平均粒径１０ｎｍ 固形分５０％）
電離放射線硬化性樹脂組成物Ｓ（固形分２０％に調整したもの） ２．６５質量部
メチルエチルケトン ７７．３５質量部
実施例１と同様にして、基材上２にプライマー層３、レリーフ形成層４を形成した。実施例１におけるレリーフ効果層５の塗工液を下記に変えて塗工、９０℃にて乾燥後、ＵＶ照射した。レリーフ効果粒子／レリーフ効果樹脂の比率は９５／５である。塗工液は安定であった。フィルムダメージもなく、輝度良好なホログラムが観察された。
銀ナノコロイド ２０．０質量部
（石原産業（株） 銀ナノ粒子分散液 平均粒径１０ｎｍ 固形分５０％）
電離放射線硬化性樹脂組成物Ｓ（固形分２０％に調整したもの） ２．６５質量部
メチルエチルケトン ７７．３５質量部
さらに前述の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｓをグラビアリバースコーターで塗工し９０℃で乾燥させて、厚さ１．０ｇ／ｍ2のレリーフ保護層７を形成した。その後さらにＵＶ照射し、実施例１と同様の塩素化−酢酸ビニル樹脂接着剤を該レリーフ保護層７面へ塗工後、乾燥して接着層６を形成し（乾燥後の塗工量が０．２ｇ／ｍ2）、反射ホログラム形状転写箔とした。さらに、実施例１と同様にして被転写体へ転写しレリーフ形状形成物を得た。良好な輝度を有するホログラムパターンが形成された（空気界面から見て、ポジパターン）。また、指で触っても、ホログラムパターンは消えることなく輝きを保ったままであった。
（実施例１９：プライマー層なし：プライマー層＝レリーフ層）
上記の実施例１と同様に６μｍのＰＥＴフィルムを基材２として用い、基材表面に、前述の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｓを塗工し９０℃で乾燥させて、厚さ１．５ｇ／ｍ2のレリーフ形成層４を形成した。また実施例１と同様に、レリーフ形成層には微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。またレリーフ形成層の上に、実施例１と同様にしてレリーフ効果層材料組成物からなる塗工液を塗工後、乾燥して、厚さ１．０ｇ／ｍ2のレリーフ効果層５を形成した（レリーフ効果層の界面から見てネガパターン）。レリーフ効果粒子／レリーフ効果樹脂の比率は９０／１０である。さらに、レリーフ効果層の上に、実施例１と同様に接着層を形成するなどして、レリーフ形状転写箔、レリーフ形状形成物を得た。
上記の実施例１と同様に６μｍのＰＥＴフィルムを基材２として用い、基材表面に、前述の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｓを塗工し９０℃で乾燥させて、厚さ１．５ｇ／ｍ2のレリーフ形成層４を形成した。また実施例１と同様に、レリーフ形成層には微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。またレリーフ形成層の上に、実施例１と同様にしてレリーフ効果層材料組成物からなる塗工液を塗工後、乾燥して、厚さ１．０ｇ／ｍ2のレリーフ効果層５を形成した（レリーフ効果層の界面から見てネガパターン）。レリーフ効果粒子／レリーフ効果樹脂の比率は９０／１０である。さらに、レリーフ効果層の上に、実施例１と同様に接着層を形成するなどして、レリーフ形状転写箔、レリーフ形状形成物を得た。
（比較例１）
上記の実施例と同様に６μｍのＰＥＴフィルムを基材２として用い、基材表面にアクリル樹脂（ＢＲ−１０５、三菱レイヨン社製、Ｔｇ＝５０℃）を乾燥時の厚さ０．５ｇ／ｍ2になるように塗工し、プライマー層９を形成した後、さらにプライマー層上に、前述の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｓを塗工し９０℃で乾燥させて、厚さ１．５ｇ／ｍ2のレリーフ形成層４を形成した。また実施例と同様に、レリーフ形成層には微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。またレリーフ形成層の上に、下記の表２の比較例１で示すレリーフ効果層材料組成物からなる塗工液を塗工後、乾燥して、厚さ１．０ｇ／ｍ2のレリーフ効果層５を形成した（レリーフ効果層の界面から見てネガパターン）。レリーフ効果粒子／レリーフ効果樹脂の比率は９０／１０である。さらに、レリーフ効果層の上に、実施例１と同様に接着層を形成するなどして、レリーフ形状転写箔、レリーフ形状形成物を得た。
上記の実施例と同様に６μｍのＰＥＴフィルムを基材２として用い、基材表面にアクリル樹脂（ＢＲ−１０５、三菱レイヨン社製、Ｔｇ＝５０℃）を乾燥時の厚さ０．５ｇ／ｍ2になるように塗工し、プライマー層９を形成した後、さらにプライマー層上に、前述の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｓを塗工し９０℃で乾燥させて、厚さ１．５ｇ／ｍ2のレリーフ形成層４を形成した。また実施例と同様に、レリーフ形成層には微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。またレリーフ形成層の上に、下記の表２の比較例１で示すレリーフ効果層材料組成物からなる塗工液を塗工後、乾燥して、厚さ１．０ｇ／ｍ2のレリーフ効果層５を形成した（レリーフ効果層の界面から見てネガパターン）。レリーフ効果粒子／レリーフ効果樹脂の比率は９０／１０である。さらに、レリーフ効果層の上に、実施例１と同様に接着層を形成するなどして、レリーフ形状転写箔、レリーフ形状形成物を得た。
（比較例２）
上記の実施例と同様に６μｍのＰＥＴフィルムを基材２として用い、基材表面にアクリル樹脂（ＢＲ−１０５、三菱レイヨン社製、Ｔｇ＝５０℃）を乾燥時の厚さ０．５ｇ／ｍ2になるように塗工し、プライマー層９を形成した後、さらにプライマー層上に、前述の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｓを塗工し９０℃で乾燥させて、厚さ１．５ｇ／ｍ2のレリーフ形成層４を形成した。また実施例と同様に、レリーフ形成層には微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。またレリーフ形成層の上に、下記の表２に示す比較例２で示すレリーフ効果層材料組成物からなる塗工液を塗工後、乾燥、さらにＵＶ照射して、厚さ２．０ｇ／ｍ2のレリーフ効果層５を形成した（レリーフ効果層の界面から見てネガパターン）。レリーフ効果粒子／レリーフ効果樹脂の比率は９０／１０である。さらに、レリーフ効果層の上に、実施例１と同様に接着層を形成するなどして、レリーフ形状転写箔、レリーフ形状形成物を得た。
上記の実施例と同様に６μｍのＰＥＴフィルムを基材２として用い、基材表面にアクリル樹脂（ＢＲ−１０５、三菱レイヨン社製、Ｔｇ＝５０℃）を乾燥時の厚さ０．５ｇ／ｍ2になるように塗工し、プライマー層９を形成した後、さらにプライマー層上に、前述の電離放射線硬化性樹脂組成物Ｓを塗工し９０℃で乾燥させて、厚さ１．５ｇ／ｍ2のレリーフ形成層４を形成した。また実施例と同様に、レリーフ形成層には微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。またレリーフ形成層の上に、下記の表２に示す比較例２で示すレリーフ効果層材料組成物からなる塗工液を塗工後、乾燥、さらにＵＶ照射して、厚さ２．０ｇ／ｍ2のレリーフ効果層５を形成した（レリーフ効果層の界面から見てネガパターン）。レリーフ効果粒子／レリーフ効果樹脂の比率は９０／１０である。さらに、レリーフ効果層の上に、実施例１と同様に接着層を形成するなどして、レリーフ形状転写箔、レリーフ形状形成物を得た。
（比較例３）
上記の実施例と同様に６μｍのＰＥＴフィルムを基材２として用い、基材表面にアクリル樹脂（ＢＲ−１０５、三菱レイヨン社製、Ｔｇ＝５０℃）を乾燥時の厚さ０．５ｇ／ｍ2になるように塗工し、プライマー層９を形成した後、さらにプライマー層上に、電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍからなるレリーフ形成層を形成した。またレリーフ形成層の上に、レリーフ効果層として下記配合の塗工液を塗工後、乾燥して、厚さ０．５ｇ／ｍ2のレリーフ効果層５を形成した（レリーフ効果層の界面から見てネガパターン）。レリーフ効果層塗工液は不安定で、塗工の途中から液の白濁、ゲル化が観察された。レリーフ効果粒子／レリーフ効果樹脂の比率は１００／０である。さらに、レリーフ効果層の上に、実施例１と同様に接着層を形成するなどして、レリーフ形状転写箔、レリーフ形状形成物を得た。
ＴＡ２５（松本製薬（株） チタンアルコキシド） ２０質量部
メチルエチルケトン ８０質量部
上記の実施例と同様に６μｍのＰＥＴフィルムを基材２として用い、基材表面にアクリル樹脂（ＢＲ−１０５、三菱レイヨン社製、Ｔｇ＝５０℃）を乾燥時の厚さ０．５ｇ／ｍ2になるように塗工し、プライマー層９を形成した後、さらにプライマー層上に、電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍからなるレリーフ形成層を形成した。またレリーフ形成層の上に、レリーフ効果層として下記配合の塗工液を塗工後、乾燥して、厚さ０．５ｇ／ｍ2のレリーフ効果層５を形成した（レリーフ効果層の界面から見てネガパターン）。レリーフ効果層塗工液は不安定で、塗工の途中から液の白濁、ゲル化が観察された。レリーフ効果粒子／レリーフ効果樹脂の比率は１００／０である。さらに、レリーフ効果層の上に、実施例１と同様に接着層を形成するなどして、レリーフ形状転写箔、レリーフ形状形成物を得た。
ＴＡ２５（松本製薬（株） チタンアルコキシド） ２０質量部
メチルエチルケトン ８０質量部
（比較例４）
上記の実施例と同様に６μｍのＰＥＴフィルムを基材２として用い、基材表面にアクリル樹脂（ＢＲ−１０５、三菱レイヨン社製、Ｔｇ＝５０℃）を乾燥時の厚さ０．５ｇ／ｍ2になるように塗工し、プライマー層９を形成した後、さらにプライマー層上に、電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍからなるレリーフ形成層を形成した。またレリーフ形成層の上に、レリーフ効果層として真空蒸着にて酸化チタンを蒸着し厚さ２．０ｇ／ｍ2のレリーフ効果層５を形成した（レリーフ効果層の界面から見てネガパターン）。レリーフ効果粒子／レリーフ効果樹脂の比率は１００／０である。レリーフ形状形成物には熱ダメージによる熱ジワが見られた。さらに、レリーフ効果層の上に、実施例１と同様に接着層を形成するなどして、レリーフ形状転写箔、レリーフ形状形成物を得た。
上記の実施例と同様に６μｍのＰＥＴフィルムを基材２として用い、基材表面にアクリル樹脂（ＢＲ−１０５、三菱レイヨン社製、Ｔｇ＝５０℃）を乾燥時の厚さ０．５ｇ／ｍ2になるように塗工し、プライマー層９を形成した後、さらにプライマー層上に、電離放射線硬化性樹脂組成物Ｍからなるレリーフ形成層を形成した。またレリーフ形成層の上に、レリーフ効果層として真空蒸着にて酸化チタンを蒸着し厚さ２．０ｇ／ｍ2のレリーフ効果層５を形成した（レリーフ効果層の界面から見てネガパターン）。レリーフ効果粒子／レリーフ効果樹脂の比率は１００／０である。レリーフ形状形成物には熱ダメージによる熱ジワが見られた。さらに、レリーフ効果層の上に、実施例１と同様に接着層を形成するなどして、レリーフ形状転写箔、レリーフ形状形成物を得た。
被転写体としては、厚さ１８８μｍのＰＥＴシートを８５ｍｍ×５７ｍｍに切り抜いてカードとした。該被転写体へ、上記実施例１〜１９及び比較例１〜４で得られたレリーフ形状転写箔を用いて、サーマルプリンタで、３０×４０ｍｍの矩形に転写して、レリーフ形状形成物が得られた。
以上のレリーフ形状転写箔におけるレリーフ効果層塗工時の塗工液安定性の評価結果、フィルムダメージの評価結果、ならびに、レリーフ形状形成物の剥離界面の様子、輝度及び耐指紋性を下記の表１、２に示す。なお、その評価基準について、以下に記載する。
（塗工安定性）
各実施例及び比較例におけるレリーフ形状転写箔のレリーフ効果層用塗工液をグラビアコーターで塗工し、乾燥して、レリーフ効果層５を形成する際、１００ｍの連続した基材上にレリーフ効果層を連続して塗工した際の安定性を、以下の基準にて評価した。
○：準備から塗工の２時間程度の間に、液の白濁、ゲル化が観察されなかった。
×：準備から塗工の２時間程度の間に塗工の間に、液の白濁、ゲル化が観察された。
各実施例及び比較例におけるレリーフ形状転写箔のレリーフ効果層用塗工液をグラビアコーターで塗工し、乾燥して、レリーフ効果層５を形成する際、１００ｍの連続した基材上にレリーフ効果層を連続して塗工した際の安定性を、以下の基準にて評価した。
○：準備から塗工の２時間程度の間に、液の白濁、ゲル化が観察されなかった。
×：準備から塗工の２時間程度の間に塗工の間に、液の白濁、ゲル化が観察された。
また、レリーフ効果層塗工時の熱ダメージ（フィルムダメージ）を、以下の方法にて評価した。
（フィルムダメージ）
○：真空蒸着の際に見られるような熱シワが見られなかった。
×：真空蒸着の際に見られる熱シワが見られた。
（フィルムダメージ）
○：真空蒸着の際に見られるような熱シワが見られなかった。
×：真空蒸着の際に見られる熱シワが見られた。
（剥離界面）
表中の剥離界面の欄に記載のＡ、Ｂは以下内容を示す。
Ａ：熱転写の際に、レリーフ形成層は基材の方に残る。レリーフ効果層はカードに転写する。ホログラムが転写箔とカードの両方に観察される。
Ｂ：熱転写の際に、レリーフ形成層は基材からカード側に転写する。ホログラムはカードにのみ観察され、転写箔には観察されない。
表中の剥離界面の欄に記載のＡ、Ｂは以下内容を示す。
Ａ：熱転写の際に、レリーフ形成層は基材の方に残る。レリーフ効果層はカードに転写する。ホログラムが転写箔とカードの両方に観察される。
Ｂ：熱転写の際に、レリーフ形成層は基材からカード側に転写する。ホログラムはカードにのみ観察され、転写箔には観察されない。
（輝度）
上記の得られた各レリーフ形状形成物のレリーフ形成された表面を目視にて観察し、以下の基準にて評価した。
◎：極めて明るいホログラムが視認できる。
○：明るいホログラムが視認できる。
△：少し明るさが欠けたホログラムが視認できる。
×：かなり暗いホログラムが認められる。
上記の得られた各レリーフ形状形成物のレリーフ形成された表面を目視にて観察し、以下の基準にて評価した。
◎：極めて明るいホログラムが視認できる。
○：明るいホログラムが視認できる。
△：少し明るさが欠けたホログラムが視認できる。
×：かなり暗いホログラムが認められる。
（耐指紋性）
上記の得られた各レリーフ形状形成物のレリーフ形成された表面に、人指し指で皮脂を付着後、その表面を観察し、以下の基準にて評価した。
○：皮脂が付いていないものとほぼ同等の、明るいホログラムが視認できる。
しばらく擦っていても、明るいホログラムが視認できる。
△：多少触ったときには皮脂が付いていないものとほぼ同等の、明るいホログラムが視認できる。しばらく触っていると著しく明るさが低下したホログラムが視認できる。
×：多少触っただけで、著しく明るさが低下したホログラムが視認できる。
上記の得られた各レリーフ形状形成物のレリーフ形成された表面に、人指し指で皮脂を付着後、その表面を観察し、以下の基準にて評価した。
○：皮脂が付いていないものとほぼ同等の、明るいホログラムが視認できる。
しばらく擦っていても、明るいホログラムが視認できる。
△：多少触ったときには皮脂が付いていないものとほぼ同等の、明るいホログラムが視認できる。しばらく触っていると著しく明るさが低下したホログラムが視認できる。
×：多少触っただけで、著しく明るさが低下したホログラムが視認できる。
１ レリーフ形状転写箔
２ 基材
３ プライマー層
４ レリーフ形成層
５ レリーフ効果層
６ 接着層
７ レリーフ保護層
８ 被転写体
９ 剥離層
１０ レリーフ形状形成物
２ 基材
３ プライマー層
４ レリーフ形成層
５ レリーフ効果層
６ 接着層
７ レリーフ保護層
８ 被転写体
９ 剥離層
１０ レリーフ形状形成物
Claims (10)
- 基材の一方の面にレリーフ形成層、レリーフ効果層、接着層をこの順に積層したレリーフ形状転写箔において、レリーフ形成層からレリーフ効果層、接着層が分離して被転写体へ転写することを特徴とするレリーフ形状転写箔。
- 前記の基材とレリーフ形成層との間にプライマー層が設けられたことを特徴とする請求項１に記載のレリーフ形状転写箔。
- 前記基材の一方の面に設けられたレリーフ形成層が、回折構造体、あるいはホログラム構造体が形成された層であることを特徴とする請求項１または２に記載のレリーフ形状転写箔。
- 前記基材の一方の面に設けられたレリーフ形成層を構成する材料が、硬化性樹脂であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載のレリーフ形状転写箔。
- 前記レリーフ効果層が、回折構造体、あるいはホログラム構造体が形成された層であることを特徴とする請求項１に記載のレリーフ形状転写箔。
- 前記レリーフ効果層は、屈折率が１．８以上２．６以下である透明材料を主体に構成されていることを特徴とする請求項５に記載のレリーフ形状転写箔。
- 前記レリーフ効果層は、屈折率１．８以上２．６以下の粒子を、レリーフ効果層を構成する全固形分に対し、５０％〜９５％の割合で含有していることを特徴とする請求項６に記載のレリーフ形状転写箔。
- 前記レリーフ効果層に含有する屈折率１．８以上２．６以下の粒子が酸化チタン、あるいは酸化ジルコニウム粒子であることを特徴とする請求項７に記載のレリーフ形状転写箔。
- 前記レリーフ効果層に含有する屈折率１．８以上２．６以下の粒子が、平均粒径５０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項８に記載のレリーフ形状転写箔。
- 請求項１〜９のいずかに記載のレリーフ形状転写箔を用いて、被転写体に接着層、レリーフ効果層を転写して得られる形成物において、表面にレリーフ形状が転写形成されたことを特徴とするレリーフ形状形成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007215199A JP2009048017A (ja) | 2007-08-21 | 2007-08-21 | レリーフ形状転写箔及びレリーフ形状形成物 |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP2007215199A JP2009048017A (ja) | 2007-08-21 | 2007-08-21 | レリーフ形状転写箔及びレリーフ形状形成物 |
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|---|---|
| JP2009048017A true JP2009048017A (ja) | 2009-03-05 |
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ID=40500274
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| JP2007215199A Pending JP2009048017A (ja) | 2007-08-21 | 2007-08-21 | レリーフ形状転写箔及びレリーフ形状形成物 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2009048017A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2007
- 2007-08-21 JP JP2007215199A patent/JP2009048017A/ja active Pending
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