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JP2008306490A - Imaging device - Google Patents

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JP2008306490A
JP2008306490A JP2007152013A JP2007152013A JP2008306490A JP 2008306490 A JP2008306490 A JP 2008306490A JP 2007152013 A JP2007152013 A JP 2007152013A JP 2007152013 A JP2007152013 A JP 2007152013A JP 2008306490 A JP2008306490 A JP 2008306490A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mirror
image
light
image sensor
photometric
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2007152013A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsuya Oda
勝也 小田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP2007152013A priority Critical patent/JP2008306490A/en
Publication of JP2008306490A publication Critical patent/JP2008306490A/en
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Abstract

【課題】観察用光束を受光する撮像素子による測光値を適切に補正することが可能な撮像装置を提供する。
【解決手段】撮像装置1は、撮影光学系からの光束であって主反射面61で反射された光束である観察用光束をファインダ窓10へと導くことが可能なファインダ光学系と、観察用光束を受光して画像信号を生成する撮像素子7と、撮像素子7の画像信号に基づいて観察用光束の明るさに関する測定値を算出する算出手段と、撮像素子7とは別個に設けられる測光センサ79とを備える。撮像装置1は、主反射面61をミラーアップ位置PS1に移動して撮像素子7と測光センサ79とを含む所定の空間SUを遮光状態にし、当該遮光状態における測光センサ79の出力信号に基づいて、撮像素子7による測定値を補正する。
【選択図】図16
An imaging apparatus capable of appropriately correcting a photometric value obtained by an imaging element that receives an observation light beam.
An imaging apparatus includes a finder optical system capable of guiding an observation light beam, which is a light beam from a photographing optical system and reflected by a main reflection surface, to a finder window, and an observation device. The image sensor 7 that receives the light beam and generates an image signal, the calculation unit that calculates the measurement value regarding the brightness of the observation light beam based on the image signal of the image sensor 7, and photometry provided separately from the image sensor 7 And a sensor 79. The imaging apparatus 1 moves the main reflection surface 61 to the mirror-up position PS1, puts the predetermined space SU including the imaging element 7 and the photometric sensor 79 in a light-shielding state, and based on the output signal of the photometric sensor 79 in the light-shielding state. Then, the measurement value by the image sensor 7 is corrected.
[Selection] Figure 16

Description

本発明は、デジタルカメラなどの撮像装置に関する。   The present invention relates to an imaging apparatus such as a digital camera.

一眼レフレックスタイプのカメラ(一眼レフカメラとも称する)において、ライブビュー機能(被写体に関する時系列の画像を順次に液晶表示部等に表示する機能、換言すれば被写体の画像を動画的態様で液晶表示部等に表示する機能)を搭載する技術が存在する。   In a single-lens reflex type camera (also referred to as a single-lens reflex camera), a live view function (a function for sequentially displaying time-series images related to a subject on a liquid crystal display unit or the like, in other words, a subject image is displayed in a liquid crystal display in a moving image mode There is a technology that is equipped with a function to display in a section or the like.

例えば、特許文献1のカメラにおいては、撮像用(静止画像記録用)の撮像素子とは別個のライブビュー用の撮像素子がファインダー光学系の近傍に設けられている。また、接眼レンズ付近のファインダー光路中に当該光路に対して進退可能な可動反射ミラーが設けられている。そして、この反射ミラーがファインダー光路に対して進退することによって、被写体からの観察用光束が接眼レンズへ向かう状況と、被写体からの観察用光束がライブビュー用の撮像素子へ到達する状況とが選択的に切り換えられる。当該カメラにおいては、ライブビュー用の撮像素子へと導かれた光像を用いてライブビュー機能が実現される。   For example, in the camera of Patent Document 1, an image sensor for live view that is different from an image sensor for image capturing (for still image recording) is provided in the vicinity of the finder optical system. In addition, a movable reflecting mirror capable of moving back and forth with respect to the optical path is provided in the finder optical path near the eyepiece. Then, when the reflecting mirror moves back and forth with respect to the finder optical path, the situation where the observation light flux from the subject goes to the eyepiece and the situation where the observation light flux from the subject reaches the live view image sensor is selected. Can be switched automatically. In the camera, a live view function is realized using a light image guided to an image sensor for live view.

特開2001−133846号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2001-133848

ところで、ライブビュー表示時等においては、観察用光束を受光する撮像素子(上述のようなライブビュー用の撮像素子等)を測光手段として利用することが可能である。   By the way, at the time of live view display or the like, it is possible to use an image sensor (such as the above-described image sensor for live view as described above) that receives an observation light beam as photometry means.

しかしながら、ライブビュー連続使用時等において撮像素子の温度が上昇すると、当該撮像素子による測光結果に大きな誤差が生じてしまう。このような誤差(測光誤差とも称する)は、ライブビュー画像等の劣化を引き起こすため望ましくない。   However, when the temperature of the image sensor rises during live view continuous use or the like, a large error occurs in the photometric result of the image sensor. Such an error (also referred to as a photometric error) is undesirable because it causes deterioration of the live view image or the like.

そこで、この発明は、観察用光束を受光する撮像素子による測光値を適切に補正することが可能な撮像装置を提供することを課題とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide an imaging apparatus capable of appropriately correcting a photometric value by an imaging element that receives an observation light beam.

本発明は、撮像装置であって、撮影光学系からの光束であって主反射面で反射された光束である観察用光束をファインダ窓へと導くことが可能なファインダ光学系と、前記観察用光束を受光して画像信号を生成する撮像素子と、前記撮像素子の前記画像信号に基づいて、前記観察用光束の明るさに関する測定値を算出する算出手段と、前記撮像素子とは別個に設けられる測光センサと、前記主反射面をミラーアップ位置に移動して前記撮像素子と前記測光センサとを含む所定の空間を遮光状態にし、当該遮光状態における前記測光センサの出力信号に基づいて、前記撮像素子による前記測定値を補正する制御手段と、を備える。   The present invention provides an imaging apparatus, a finder optical system capable of guiding an observation light beam, which is a light beam from a photographing optical system and reflected by a main reflection surface, to a finder window, and the observation device An imaging device that receives a light beam to generate an image signal, a calculation unit that calculates a measurement value related to the brightness of the observation light beam based on the image signal of the imaging device, and the imaging device are provided separately A predetermined space including the image sensor and the photometric sensor in a light shielding state by moving the main reflection surface to a mirror-up position, and based on an output signal of the photometric sensor in the light shielding state, Control means for correcting the measurement value obtained by the image sensor.

本発明によれば、観察用光束を受光する撮像素子による測光値を適切に補正することが可能である。   According to the present invention, it is possible to appropriately correct a photometric value obtained by an image sensor that receives an observation light beam.

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

<1.構成概要>
図1および図2は、本発明の実施形態に係る撮像装置1(1A)の外観構成を示す図である。ここで、図1は、撮像装置1の正面外観図であり、図2は、撮像装置1の背面外観図である。この撮像装置1は、レンズ交換式一眼レフレックスタイプのデジタルカメラとして構成されている。
<1. Outline of configuration>
1 and 2 are diagrams showing an external configuration of an imaging apparatus 1 (1A) according to an embodiment of the present invention. Here, FIG. 1 is a front external view of the image pickup apparatus 1, and FIG. 2 is a rear external view of the image pickup apparatus 1. This imaging device 1 is configured as a lens interchangeable single-lens reflex digital camera.

図1に示すように、撮像装置1は、カメラ本体部(カメラボディ)2を備えている。このカメラ本体部2に対して、交換式の撮影レンズユニット(交換レンズ)3が着脱可能である。   As shown in FIG. 1, the imaging device 1 includes a camera body (camera body) 2. An interchangeable photographic lens unit (interchangeable lens) 3 can be attached to and detached from the camera body 2.

撮影レンズユニット3は、主として、鏡胴36、ならびに、鏡胴36の内部に設けられるレンズ群37(図3参照)及び絞り等によって構成される。レンズ群37(撮影光学系)には、光軸方向に移動することによって焦点位置を変更するフォーカスレンズ等が含まれている。   The photographic lens unit 3 mainly includes a lens barrel 36, a lens group 37 (see FIG. 3) provided in the lens barrel 36, a diaphragm, and the like. The lens group 37 (shooting optical system) includes a focus lens that changes the focal position by moving in the optical axis direction.

カメラ本体部2は、撮影レンズユニット3が装着される円環状のマウント部Mtを正面略中央に備え、撮影レンズユニット3を着脱するための着脱ボタン89を円環状のマウント部Mt付近に備えている。   The camera body 2 includes an annular mount Mt to which the photographing lens unit 3 is attached at the front center, and an attach / detach button 89 for attaching / detaching the photographing lens unit 3 near the annular mount Mt. Yes.

また、カメラ本体部2は、その正面左上部にモード設定ダイヤル82を備え、その正面右上部に制御値設定ダイヤル86を備えている。モード設定ダイヤル82を操作することによれば、カメラの各種モード(各種撮影モード(人物撮影モード、風景撮影モード、およびフルオート撮影モード等)、撮影した画像を再生する再生モード、および外部機器との間でデータ交信を行う通信モード等を含む)の設定動作(切替動作)を行うことが可能である。また、制御値設定ダイヤル86を操作することによれば、各種撮影モードにおける制御値を設定することが可能である。   Further, the camera body 2 is provided with a mode setting dial 82 in the upper left part of the front surface and a control value setting dial 86 in the upper right part of the front surface. By operating the mode setting dial 82, various camera modes (such as various shooting modes (portrait shooting mode, landscape shooting mode, full-auto shooting mode, etc.), playback mode for playing back captured images, (Including a communication mode in which data communication is performed) is performed (switching operation). Further, by operating the control value setting dial 86, it is possible to set control values in various shooting modes.

また、カメラ本体部2は、正面左端部に撮影者が把持するためのグリップ部14を備えている。グリップ部14の上面には露光開始を指示するためのレリーズボタン11が設けられている。グリップ部14の内部には電池収納室とカード収納室とが設けられている。電池収納室にはカメラの電源として、例えば4本の単3形乾電池が収納されており、カード収納室には撮影画像の画像データを記録するためのメモリカード90(図3参照)が着脱可能に収納されるようになっている。   Further, the camera body 2 includes a grip portion 14 for a photographer to hold at the left end of the front. A release button 11 for instructing the start of exposure is provided on the upper surface of the grip portion 14. A battery storage chamber and a card storage chamber are provided inside the grip portion 14. For example, four AA batteries are housed in the battery compartment as a power source for the camera, and a memory card 90 (see FIG. 3) for recording image data of a photographed image can be attached to and detached from the card compartment. It is designed to be stored in.

レリーズボタン11は、半押し状態(S1状態)と全押し状態(S2状態)の2つの状態を検出可能な2段階検出ボタンである。レリーズボタン11が半押しされS1状態になると、被写体に関する記録用静止画像(本撮影画像)を取得するための準備動作(例えば、AF制御動作およびAE制御動作等)が行われる。また、レリーズボタン11がさらに押し込まれてS2状態になると、当該本撮影画像の撮影動作(撮像素子5(後述)を用いて被写体像(被写体の光像)に関する露光動作を行い、その露光動作によって得られた画像信号に所定の画像処理を施す一連の動作)が行われる。   The release button 11 is a two-stage detection button that can detect two states, a half-pressed state (S1 state) and a fully-pressed state (S2 state). When the release button 11 is half-pressed to enter the S1 state, a preparation operation (for example, an AF control operation and an AE control operation) for acquiring a recording still image (main captured image) related to the subject is performed. When the release button 11 is further pushed into the S2 state, an exposure operation related to a subject image (light image of the subject is performed using the imaging device 5 (described later) using the imaging element 5 (described later), and the exposure operation is performed. A series of operations for applying predetermined image processing to the obtained image signal is performed.

図2において、カメラ本体部2の背面略中央上部には、ファインダ窓(接眼窓)10が設けられている。撮影者は、ファインダ窓10を覗くことによって、撮影レンズユニット3から導かれた被写体の光像を視認して構図決定を行うことができる。すなわち、光学ファインダを用いて構図決めを行うことが可能である。   In FIG. 2, a finder window (eyepiece window) 10 is provided at the upper center of the back surface of the camera body 2. The photographer can determine the composition by viewing the viewfinder window 10 and visually recognizing the light image of the subject guided from the photographing lens unit 3. That is, it is possible to determine the composition using an optical finder.

なお、この実施形態に係る撮像装置1においては、背面モニタ12(後述)に表示されるライブビュー画像を用いて構図決めを行うことも可能である。また、光学ファインダによる構図決め動作とライブビュー表示による構図決め動作との切換操作は、操作者が切換ダイヤル87を回転させることによって実現される。この切換操作等に関しては後に詳述する。   In the imaging apparatus 1 according to this embodiment, the composition can be determined using a live view image displayed on the rear monitor 12 (described later). Further, the switching operation between the composition determination operation by the optical finder and the composition determination operation by the live view display is realized by the operator rotating the switching dial 87. This switching operation and the like will be described in detail later.

図2において、カメラ本体部2の背面の略中央には、背面モニタ12が設けられている。背面モニタ12は、例えばカラー液晶ディスプレイ(LCD)として構成される。背面モニタ12は、撮影条件等を設定するためのメニュー画面を表示したり、再生モードにおいてメモリカード90に記録された撮影画像を再生表示したりすることができる。また、操作者が光学ファインダによる構図決めではなくライブビュー表示による構図決めを選択した場合には、背面モニタ12には、撮像素子7(後述)によって取得された時系列の複数の画像(すなわち動画像)がライブビュー画像として表示される。   In FIG. 2, a rear monitor 12 is provided in the approximate center of the rear surface of the camera body 2. The rear monitor 12 is configured as a color liquid crystal display (LCD), for example. The rear monitor 12 can display a menu screen for setting shooting conditions and the like, and can reproduce and display a captured image recorded in the memory card 90 in the reproduction mode. In addition, when the operator selects composition determination based on live view display instead of composition determination based on the optical finder, a plurality of time-series images (that is, moving images) acquired by the image sensor 7 (described later) are displayed on the rear monitor 12. Image) is displayed as a live view image.

背面モニタ12の左上部にはメインスイッチ81が設けられている。メインスイッチ81は2点スライドスイッチからなり、接点を左方の「OFF」位置に設定すると、電源がオフになり、接点の右方の「ON」位置に設定すると、電源がオンになる。   A main switch 81 is provided at the upper left of the rear monitor 12. The main switch 81 is a two-point slide switch. When the contact is set to the left “OFF” position, the power is turned off. When the contact is set to the right “ON” position, the power is turned on.

背面モニタ12の右側には方向選択キー84が設けられている。この方向選択キー84は円形の操作ボタンを有し、この操作ボタンにおける上下左右の4方向の押圧操作と、右上、左上、右下及び左下の4方向の押圧操作とが、それぞれ検出されるようになっている。なお、方向選択キー84は、上記8方向の押圧操作とは別に、中央部のプッシュボタンの押圧操作も検出されるようになっている。   A direction selection key 84 is provided on the right side of the rear monitor 12. This direction selection key 84 has a circular operation button, and it is possible to detect a pressing operation in four directions of up, down, left and right, and a pressing operation in four directions of upper right, upper left, lower right and lower left on this operation button. It has become. In addition, the direction selection key 84 is configured to detect a pressing operation of a push button at the center, in addition to the pressing operations in the eight directions.

背面モニタ12の左側には、メニュー画面の設定、画像の削除などを行うための複数のボタンからなる設定ボタン群83が設けられている。   A setting button group 83 including a plurality of buttons for setting a menu screen, deleting an image, and the like is provided on the left side of the rear monitor 12.

<2.機能ブロック>
つぎに、図3を参照しながら、撮像装置1の機能の概要について説明する。図3は、撮像装置1の機能構成を示すブロック図である。
<2. Functional block>
Next, an overview of functions of the imaging apparatus 1 will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a block diagram illustrating a functional configuration of the imaging apparatus 1.

図3に示すように、撮像装置1は、操作部80、全体制御部101、フォーカス制御部121、ミラー制御部122、シャッタ制御部123、タイミング制御回路124、およびデジタル信号処理回路50等を備える。   As shown in FIG. 3, the imaging apparatus 1 includes an operation unit 80, an overall control unit 101, a focus control unit 121, a mirror control unit 122, a shutter control unit 123, a timing control circuit 124, a digital signal processing circuit 50, and the like. .

操作部80は、レリーズボタン11(図1参照)を含む各種ボタンおよびスイッチ等を備えて構成される。操作部80に対するユーザーの入力操作に応答して、全体制御部101が各種動作を実現する。   The operation unit 80 includes various buttons and switches including the release button 11 (see FIG. 1). In response to a user input operation on the operation unit 80, the overall control unit 101 implements various operations.

全体制御部101は、マイクロコンピュータとして構成され、主にCPU、メモリ、及びROM等を備える。全体制御部101は、ROM内に格納されるプログラムを読み出し、当該プログラムをCPUで実行することによって、各種機能を実現する。   The overall control unit 101 is configured as a microcomputer and mainly includes a CPU, a memory, a ROM, and the like. The overall control unit 101 implements various functions by reading a program stored in the ROM and executing the program by the CPU.

例えば、全体制御部101は、後述する撮像素子7による測光値の補正動作等を実現する。また、全体制御部101は、AFモジュール20およびフォーカス制御部121等と協動して、フォーカスレンズの位置を制御する合焦制御動作を行う。全体制御部101は、AFモジュール20によって検出される被写体の合焦状態に応じて、フォーカス制御部121を用いてAF動作を実現する。なお、AFモジュール20は、ミラー機構6を介して進入してきた光を用いて、位相差方式等の合焦状態検出手法により被写体の合焦状態を検出することが可能である。   For example, the overall control unit 101 realizes a photometric value correction operation or the like by the image sensor 7 described later. The overall control unit 101 performs a focus control operation for controlling the position of the focus lens in cooperation with the AF module 20, the focus control unit 121, and the like. The overall control unit 101 implements an AF operation using the focus control unit 121 according to the focus state of the subject detected by the AF module 20. The AF module 20 can detect the in-focus state of the subject by using the light that has entered through the mirror mechanism 6 by a focus state detection method such as a phase difference method.

フォーカス制御部121は、全体制御部101から入力される信号に基づいて制御信号を生成しモータM1を駆動することによって、撮影レンズユニット3のレンズ群37に含まれるフォーカスレンズを移動する。また、フォーカスレンズの位置は、撮影レンズユニット3のレンズ位置検出部39によって検出され、フォーカスレンズの位置を示すデータが全体制御部101に送られる。このように、フォーカス制御部121および全体制御部101等は、フォーカスレンズの光軸方向の動きを制御する。   The focus control unit 121 moves a focus lens included in the lens group 37 of the photographing lens unit 3 by generating a control signal based on a signal input from the overall control unit 101 and driving the motor M1. The position of the focus lens is detected by the lens position detection unit 39 of the photographing lens unit 3, and data indicating the position of the focus lens is sent to the overall control unit 101. As described above, the focus control unit 121, the overall control unit 101, and the like control the movement of the focus lens in the optical axis direction.

ミラー制御部122は、ミラー機構6が光路から退避した状態(ミラーアップ状態)とミラー機構6が光路を遮断した状態(ミラーダウン状態)との状態切替を制御する。ミラー制御部122は、全体制御部101から入力される信号に基づいて制御信号を生成しモータM2を駆動することによって、ミラーアップ状態とミラーダウン状態とを切り替える。   The mirror control unit 122 controls state switching between a state in which the mirror mechanism 6 is retracted from the optical path (mirror up state) and a state in which the mirror mechanism 6 blocks the optical path (mirror down state). The mirror control unit 122 switches between the mirror up state and the mirror down state by generating a control signal based on the signal input from the overall control unit 101 and driving the motor M2.

シャッタ制御部123は、全体制御部101から入力される信号に基づいて制御信号を生成しモータM3を駆動することによって、シャッタ4の開閉を制御する。   The shutter control unit 123 controls the opening and closing of the shutter 4 by generating a control signal based on the signal input from the overall control unit 101 and driving the motor M3.

タイミング制御回路124は、撮像素子5等に対するタイミング制御を行う。   The timing control circuit 124 performs timing control for the image sensor 5 and the like.

撮像素子(ここではCCDセンサ(単にCCDとも称する))5は、光電変換作用により被写体の光像を電気的信号に変換して、本撮影画像に係る画像信号(記録用の画像信号)を生成する。撮像素子5は、記録画像取得用の撮像素子であるとも表現される。   An imaging device (here, a CCD sensor (also simply referred to as a CCD)) 5 converts an optical image of a subject into an electrical signal by a photoelectric conversion action, and generates an image signal (recording image signal) related to the actual captured image. To do. The image sensor 5 is also expressed as an image sensor for acquiring a recorded image.

撮像素子5は、タイミング制御回路124から入力される駆動制御信号(蓄積開始信号および蓄積終了信号)に応答して、受光面に結像された被写体像の露光(光電変換による電荷蓄積)を行い、当該被写体像に係る画像信号を生成する。また、撮像素子5は、タイミング制御回路124から入力される読出制御信号に応答して、当該画像信号を信号処理部51へ出力する。また、タイミング制御回路124からのタイミング信号(同期信号)は、信号処理部51及びA/D(アナログ/デジタル)変換回路52にも入力される。   In response to the drive control signals (accumulation start signal and accumulation end signal) input from the timing control circuit 124, the image sensor 5 performs exposure (charge accumulation by photoelectric conversion) of the subject image formed on the light receiving surface. Then, an image signal related to the subject image is generated. Further, the image sensor 5 outputs the image signal to the signal processing unit 51 in response to the read control signal input from the timing control circuit 124. The timing signal (synchronization signal) from the timing control circuit 124 is also input to the signal processing unit 51 and the A / D (analog / digital) conversion circuit 52.

撮像素子5で取得された画像信号は、信号処理部51において所定のアナログ信号処理が施され、当該アナログ信号処理後の画像信号はA/D変換回路52によってデジタル画像データ(画像データ)に変換される。この画像データは、デジタル信号処理回路50に入力される。   The image signal acquired by the image sensor 5 is subjected to predetermined analog signal processing in the signal processing unit 51, and the image signal after the analog signal processing is converted into digital image data (image data) by the A / D conversion circuit 52. Is done. This image data is input to the digital signal processing circuit 50.

デジタル信号処理回路50は、A/D変換回路52から入力される画像データに対してデジタル信号処理を行い、撮像画像に係る画像データを生成する。デジタル信号処理回路50は、黒レベル補正回路53、ホワイトバランス(WB)回路54、γ補正回路55及び画像メモリ56を備える。   The digital signal processing circuit 50 performs digital signal processing on the image data input from the A / D conversion circuit 52 to generate image data related to the captured image. The digital signal processing circuit 50 includes a black level correction circuit 53, a white balance (WB) circuit 54, a γ correction circuit 55, and an image memory 56.

黒レベル補正回路53は、A/D変換回路52が出力した画像データを構成する各画素データの黒レベルを基準の黒レベルに補正する。WB回路54は、画像のホワイトバランス調整を行う。γ補正回路55は、撮像画像の階調変換を行う。画像メモリ56は、生成された画像データを一時的に記憶するための、高速アクセス可能な画像メモリであり、複数フレーム分の画像データを記憶可能な容量を有する。   The black level correction circuit 53 corrects the black level of each pixel data constituting the image data output from the A / D conversion circuit 52 to a reference black level. The WB circuit 54 performs white balance adjustment of the image. The γ correction circuit 55 performs gradation conversion of the captured image. The image memory 56 is a high-speed accessible image memory for temporarily storing generated image data, and has a capacity capable of storing image data for a plurality of frames.

本撮影時には、画像メモリ56に一時記憶される画像データは、全体制御部101において適宜画像処理(圧縮処理等)が施された後、カードI/F132を介してメモリカード90に記憶される。   At the time of actual photographing, the image data temporarily stored in the image memory 56 is appropriately subjected to image processing (such as compression processing) in the overall control unit 101 and then stored in the memory card 90 via the card I / F 132.

また、画像メモリ56に一時記憶される画像データは、全体制御部101によって適宜VRAM131に転送され、背面モニタ12に画像データに基づく画像が表示される。これによって、撮影画像を確認するための確認表示(アフタービュー)、および撮影済みの画像を再生する再生表示等が実現される。   Further, the image data temporarily stored in the image memory 56 is appropriately transferred to the VRAM 131 by the overall control unit 101, and an image based on the image data is displayed on the rear monitor 12. Thereby, confirmation display (after view) for confirming the captured image, reproduction display for reproducing the captured image, and the like are realized.

また、この撮像装置1は、撮像素子5とは別の撮像素子7(図4も参照)をさらに備えている。撮像素子7は、いわゆるライブビュー画像取得用(動画取得用)の撮像素子としての役割を果たす。撮像素子7も、撮像素子5と同様の構成を有している。ただし、撮像素子7は、ライブビュー用の画像信号(動画像)を生成するための解像度を有していればよく、通常、撮像素子5よりも少ない数の画素で構成される。   The imaging apparatus 1 further includes an imaging element 7 (see also FIG. 4) that is different from the imaging element 5. The image sensor 7 serves as a so-called live view image acquisition (moving image acquisition) image sensor. The image sensor 7 also has the same configuration as the image sensor 5. However, the image sensor 7 only needs to have a resolution for generating an image signal (moving image) for live view, and is usually configured with a smaller number of pixels than the image sensor 5.

撮像素子7で取得された画像信号に対しても、撮像素子5で取得された画像信号と同様の信号処理が施される。すなわち、撮像素子7で取得された画像信号は、信号処理部51で所定の処理が施され、A/D変換回路52でデジタルデータに変換された後、デジタル信号処理回路50で所定の画像処理が施され、画像メモリ56に格納される。   The same signal processing as that of the image signal acquired by the image sensor 5 is performed on the image signal acquired by the image sensor 7. That is, the image signal acquired by the image sensor 7 is subjected to predetermined processing by the signal processing unit 51, converted into digital data by the A / D conversion circuit 52, and then subjected to predetermined image processing by the digital signal processing circuit 50. And stored in the image memory 56.

また、撮像素子7で取得され画像メモリ56に格納される時系列の画像データは、全体制御部101によって適宜VRAM131に順次に転送され、当該時系列の画像データに基づく画像が背面モニタ12に表示される。これによって、構図決めを行うための動画的態様の表示(ライブビュー表示)が実現される。   The time series image data acquired by the image sensor 7 and stored in the image memory 56 is sequentially transferred to the VRAM 131 as appropriate by the overall control unit 101, and an image based on the time series image data is displayed on the rear monitor 12. Is done. As a result, display of a moving image mode (live view display) for composition determination is realized.

さらに、撮像装置1は、通信用I/F133を有しており、当該インターフェイス133の接続先の機器(例えば、パーソナルコンピュータ等)とデータ通信をすることが可能である。   Furthermore, the imaging apparatus 1 has a communication I / F 133 and can perform data communication with a device (for example, a personal computer) to which the interface 133 is connected.

また、撮像装置1は、フラッシュ41、フラッシュ制御回路42、およびAF補助光発光部43を備えている。フラッシュ41は、被写体の輝度不足時等に利用される光源である。フラッシュの点灯の有無および点灯時間等は、フラッシュ制御回路42および全体制御部101等によって制御される。AF補助光発光部43は、AF用の補助光源である。AF補助光発光部43の点灯の有無および点灯時間等は、全体制御部101等によって制御される。   The imaging device 1 also includes a flash 41, a flash control circuit 42, and an AF auxiliary light emitting unit 43. The flash 41 is a light source used when the luminance of the subject is insufficient. Whether or not the flash is turned on and the lighting time are controlled by the flash control circuit 42, the overall control unit 101, and the like. The AF auxiliary light emitting unit 43 is an auxiliary light source for AF. The presence or absence of lighting of the AF auxiliary light emitting unit 43 and the lighting time are controlled by the overall control unit 101 and the like.

<3.撮影動作>
<概要>
つぎに、この撮像装置1における構図決め動作を含む撮影動作について説明する。上述したように、この撮像装置1においては、ファインダ光学系等で構成される光学ファインダ(光学ビューファインダ(OVF)とも称される)を用いて構図決め(フレーミング)を行うことが可能であるとともに、背面モニタ12(後述)に表示されるライブビュー画像を用いて構図決めを行うことも可能である。なお、撮像素子7および背面モニタ12を利用して実現されるファインダ機能は、被写体の光像を電子データに変換した後に可視化するものであることから電子ビューファインダ(EVF)とも称される。
<3. Shooting action>
<Overview>
Next, a photographing operation including a composition determining operation in the imaging apparatus 1 will be described. As described above, in the imaging apparatus 1, composition determination (framing) can be performed using an optical viewfinder (also referred to as an optical viewfinder (OVF)) configured by a viewfinder optical system or the like. The composition can also be determined using a live view image displayed on the rear monitor 12 (described later). The finder function realized using the image sensor 7 and the rear monitor 12 is also referred to as an electronic view finder (EVF) because it visualizes a light image of a subject after converting it into electronic data.

後述するように、操作者は切換ダイヤル87を操作することによって、光学ビューファインダ(OVF)を用いて構図決めを行うか、操作者が電子ビューファインダ(EVF)を用いて構図決めを行うかを選択することができる。   As will be described later, the operator operates the switching dial 87 to determine the composition using the optical viewfinder (OVF) or whether the operator determines the composition using the electronic viewfinder (EVF). You can choose.

図4および図5は、撮像装置1の断面図である。図4は、OVFを用いた構図決め動作を示しており、図5は、EVFを用いた構図決め動作を示している。また、図6は、露光動作時(詳細にはOVF時)の状態を示す断面図である。   4 and 5 are cross-sectional views of the imaging device 1. FIG. 4 shows a composition determination operation using the OVF, and FIG. 5 shows a composition determination operation using the EVF. FIG. 6 is a cross-sectional view showing a state during an exposure operation (specifically, during OVF).

図4等に示すように、撮影レンズユニット3から撮像素子5に至る光路(撮影光路)上にはミラー機構6が設けられている。ミラー機構6は、撮影光学系からの光を上方に向けて反射する主ミラー61(主反射面)を有している。この主ミラー61は、例えばその一部または全部がハーフミラーとして構成され、撮影光学系からの光の一部を透過する。また、ミラー機構6は、主ミラー61を透過した光を下方に反射させるサブミラー62(副反射面)をも有している。サブミラー62で下方に反射された光は、AFモジュール20へと導かれて入射し、位相差方式のAF動作に利用される。   As shown in FIG. 4 and the like, a mirror mechanism 6 is provided on the optical path (imaging optical path) from the imaging lens unit 3 to the image sensor 5. The mirror mechanism 6 has a main mirror 61 (main reflection surface) that reflects light from the photographing optical system upward. For example, a part or all of the main mirror 61 is configured as a half mirror, and transmits a part of light from the photographing optical system. The mirror mechanism 6 also includes a sub mirror 62 (sub reflective surface) that reflects light transmitted through the main mirror 61 downward. The light reflected downward by the sub mirror 62 is guided to the AF module 20 and is incident thereon, and is used for the phase difference type AF operation.

撮影モードにおいてレリーズボタン11が全押し状態S2にされるまで、換言すれば構図決めの際には、ミラー機構6はミラーダウン状態となるように配置される(図4および図5参照)。そして、この際には、撮影レンズユニット3からの被写体像は、主ミラー61で上方に反射され観察用光束としてペンタミラー65に入射する。ペンタミラー65は、複数のミラー(反射面)を有しており、被写体像の向きを調整する機能を有している。また、ペンタミラー65に入射した後の、観察用光束の進路は、上記の両方式(すなわちOVF方式およびEVF方式)のいずれを採用して構図決めを行うかに応じて異なっている。これについては後述する。操作者は、選択した所望の方式によって構図決めを行うことが可能である。   Until the release button 11 is fully pressed S2 in the photographing mode, in other words, when determining the composition, the mirror mechanism 6 is arranged so as to be in the mirror-down state (see FIGS. 4 and 5). At this time, the subject image from the photographic lens unit 3 is reflected upward by the main mirror 61 and enters the pentamirror 65 as an observation light beam. The pentamirror 65 has a plurality of mirrors (reflection surfaces) and has a function of adjusting the orientation of the subject image. Further, the path of the observation light beam after entering the pentamirror 65 differs depending on which of the above-described two methods (that is, the OVF method and the EVF method) is used for composition determination. This will be described later. The operator can determine the composition according to the selected desired method.

一方、レリーズボタン11が全押し状態S2にされると、ミラー機構6はミラーアップ状態となるように駆動され、露光動作が開始される(図6参照)。被写体に係る記録用静止画像(本撮影画像とも称する)を取得する際の基本的動作(すなわち露光の際の動作)は、上記の両方式(すなわちOVF方式およびEVF方式)による構図決めに共通である。   On the other hand, when the release button 11 is fully pressed S2, the mirror mechanism 6 is driven so as to be in the mirror up state, and an exposure operation is started (see FIG. 6). The basic operation (that is, the operation at the time of exposure) at the time of acquiring a recording still image (also referred to as an actual captured image) relating to the subject is common to the composition determination by both of the above methods (that is, the OVF method and the EVF method). is there.

具体的には、図6に示すように、露光時には、ミラー機構6は、撮影光路から待避する。詳細には、撮影光学系からの光(被写体像)を遮らないように主ミラー61とサブミラー62とが上方に待避し、撮影レンズユニット3からの光がシャッタ4の開放タイミングに合わせて撮像素子5に到達する。撮像素子5は、光電変換によって、受光した光束に基づいて被写体の画像信号を生成する。このように、被写体からの光が撮影レンズユニット3を介して撮像素子5に導かれることによって、被写体に係る撮影画像(撮影画像データ)が得られる。   Specifically, as shown in FIG. 6, at the time of exposure, the mirror mechanism 6 is retracted from the photographing optical path. Specifically, the main mirror 61 and the sub mirror 62 are retracted upward so as not to block the light (subject image) from the photographic optical system, and the light from the photographic lens unit 3 is synchronized with the opening timing of the shutter 4. Reach 5 The imaging element 5 generates an image signal of the subject based on the received light flux by photoelectric conversion. As described above, the light from the subject is guided to the image sensor 5 through the photographing lens unit 3, thereby obtaining a photographed image (photographed image data) relating to the subject.

<光学ファインダによる構図決め動作(フレーミング動作)>
次に、構図決めの際の上記両方式の各動作についてそれぞれ説明する。
<Composition determination operation by optical finder (framing operation)>
Next, each of the above-described two operations when determining the composition will be described.

まず、OVF方式の構図決め動作について説明する。   First, the composition determination operation of the OVF method will be described.

図4に示すように、ミラー機構6の主ミラー61およびサブミラー62が、撮影レンズユニット3からの被写体像の光路上に配置されると、被写体像が主ミラー61とペンタミラー65と接眼レンズ67とを介してファインダ窓10へと導かれる。このように、主ミラー61とペンタミラー65と接眼レンズ67とを含むファインダ光学系は、撮影光学系からの光束であって主ミラー61で反射された光束である観察用光束をファインダ窓10へと導くことが可能である。   As shown in FIG. 4, when the main mirror 61 and the sub mirror 62 of the mirror mechanism 6 are arranged on the optical path of the subject image from the photographing lens unit 3, the subject image is the main mirror 61, the pentamirror 65, and the eyepiece 67. To the viewfinder window 10. As described above, the finder optical system including the main mirror 61, the pentamirror 65, and the eyepiece lens 67 transmits the observation light beam, which is a light beam from the photographing optical system and reflected by the main mirror 61, to the finder window 10. It is possible to lead to.

詳細には、撮影レンズユニット3からの光は、主ミラー61で反射されて上方に進路を変更し、焦点板63において結像し、焦点板63を通過する。その後、焦点板63を通過した光は、ペンタミラー65でその進路をさらに変更した後に接眼レンズ67を通ってファインダ窓10へ向かう(図4の光路PA参照)。このようにして、ファインダ窓10を通過した被写体像は撮影者(観察者)の眼へ到達して視認される。すなわち、撮影者はファインダ窓10を覗くことによって、被写体像を確認することができる。   Specifically, the light from the photographic lens unit 3 is reflected by the main mirror 61, changes its path upward, forms an image on the focusing screen 63, and passes through the focusing screen 63. Thereafter, the light passing through the focusing screen 63 is further changed in its path by the pentamirror 65, and then travels through the eyepiece lens 67 to the finder window 10 (see the optical path PA in FIG. 4). In this way, the subject image that has passed through the finder window 10 reaches the eye of the photographer (observer) and is visually recognized. That is, the photographer can confirm the subject image by looking through the finder window 10.

ここにおいて、ペンタミラー65は、三角屋根状に形成された2面のミラー(ダハミラー)65a,65b(図7も参照)と、当該ダハミラー(ダハ面)65a,65bに対して固定された面65cと、もう1つのミラー(反射面)65eとを有している。また、三角屋根状の2面のミラー65a,65bは、プラスチック成型により一体部品65dとして形成されている。主ミラー61で反射されて上方に進路を変更した光は、ダハミラー65a,65bで反射されて左右反転されて進行し、さらにミラー65eでも反射されることによって上下も反転されて撮影者の眼に到達する。このように、撮影レンズユニット3において左右上下が反転されていた光像は、ペンタミラー65でさらに左右上下が反転される。これにより、撮影者は、光学ファインダにおいて、その上下左右が実際の被写体と同じ状態で被写体像を観察することができる。   Here, the pentamirror 65 includes two mirrors (dach mirrors) 65a and 65b (see also FIG. 7) formed in a triangular roof shape, and a surface 65c fixed to the roof mirrors (dach surfaces) 65a and 65b. And another mirror (reflection surface) 65e. Further, the two mirrors 65a and 65b having a triangular roof shape are formed as an integral part 65d by plastic molding. The light that has been reflected by the main mirror 61 and has changed its path upward is reflected by the roof mirrors 65a and 65b, is reversed left and right, and is further reflected by the mirror 65e so that it is also vertically reversed to the photographer's eyes. To reach. In this way, the left and right and up and down light images in the photographic lens unit 3 are further reversed by the pentamirror 65 in the left and right and up and down directions. Thus, the photographer can observe the subject image in the optical viewfinder in the same state as the actual subject in the vertical and horizontal directions.

なお、ここでは、ファインダ光学系の一部である光学ユニットU1が撮像装置1内部の上部空間SUに設けられている。この光学ユニットU1は、接眼レンズ67とファインダ窓10とを有するととともに、駆動手段(不図示)によって開閉可能なアイピースシャッタ16をさらに有している。OVF方式の構図決め動作時においては、アイピースシャッタ16は開放されており、ペンタミラー65からの被写体像がファインダ窓10を通過するように構成されている。   Here, an optical unit U1 which is a part of the finder optical system is provided in the upper space SU inside the imaging apparatus 1. The optical unit U1 includes an eyepiece 67 and a finder window 10, and further includes an eyepiece shutter 16 that can be opened and closed by a driving unit (not shown). During the OVF system composition determination operation, the eyepiece shutter 16 is opened, and the subject image from the pentamirror 65 passes through the finder window 10.

また、主ミラー61を透過した光はサブミラー62で反射されて下方に進路を変更しAFモジュール20へと進入する。AFモジュール20およびフォーカス制御部121等は、主ミラー61およびサブミラー62を介して進入してきた光を用いて、AF動作を実現する。   Further, the light that has passed through the main mirror 61 is reflected by the sub mirror 62, changes its path downward, and enters the AF module 20. The AF module 20, the focus control unit 121, and the like implement an AF operation using light that has entered through the main mirror 61 and the sub mirror 62.

<電子ファインダによる構図決め動作(フレーミング動作)>
次に、EVF方式による構図決め動作について説明する。
<Composition determination operation using electronic viewfinder (framing operation)>
Next, the composition determination operation by the EVF method will be described.

この場合にも、図5に示すように、ミラー機構6の主ミラー61およびサブミラー62が、撮影レンズユニット3からの被写体像の光路上に配置される。そして、撮影レンズユニット3からの光は、主ミラー61で反射されて上方に進路を変更し、焦点板63において結像し、焦点板63を通過する。   Also in this case, as shown in FIG. 5, the main mirror 61 and the sub mirror 62 of the mirror mechanism 6 are arranged on the optical path of the subject image from the photographing lens unit 3. Then, the light from the photographic lens unit 3 is reflected by the main mirror 61, changes the course upward, forms an image on the focusing screen 63, and passes through the focusing screen 63.

ただし、このEVF方式による構図決め動作においては、焦点板63を通過した光は、ペンタミラー65でその進路をさらに変更した後に、ビームスプリッタ71でさらにその進路を変更して結像レンズ69(結像光学系)を通過して撮像素子7の撮像面上で再結像する(図5の光路PB参照)。なお、主ミラー61で反射されて上方に進路を変更した光は、ダハミラー65a,65bで反射されて左右反転されて進行し、さらにミラー65eでも反射されることによって上下も反転され、さらに結像レンズ69で上下左右反転されて撮像素子7に到達する。   However, in this EVF system composition determination operation, the path of light that has passed through the focusing screen 63 is further changed by the pentamirror 65, and then the path is further changed by the beam splitter 71 to form the imaging lens 69 (concatenation). The image is re-imaged on the imaging surface of the image sensor 7 through the image optical system (see the optical path PB in FIG. 5). The light reflected by the main mirror 61 and whose path has been changed upward is reflected by the roof mirrors 65a and 65b to be reversed left and right, and further reflected by the mirror 65e so that it is also vertically reversed and further imaged. The lens 69 is inverted vertically and horizontally and reaches the image sensor 7.

より詳細には、図4と比較すると判るように、図5においてはミラー65eの角度(カメラ本体部2に対する設置角度)が変更されている。具体的には、ミラー65eは、図4の状態から、その下端側の軸AX1を中心に矢印AR1の向きに所定角度α回動している。なお、後述するように、ミラー65eは、撮影者の操作に応じて回動する。   More specifically, as can be seen from comparison with FIG. 4, the angle of the mirror 65 e (installation angle with respect to the camera body 2) is changed in FIG. 5. Specifically, the mirror 65e is rotated from the state of FIG. 4 by a predetermined angle α around the axis AX1 on the lower end side in the direction of the arrow AR1. As will be described later, the mirror 65e rotates in accordance with the operation of the photographer.

そして、このミラー65eの角度変更によって、ミラー65eで反射される光(観察用光束)の反射角度が変更され、当該ミラー65eによる反射光の進行経路が変更される。具体的には、図4の状態に比べて、ミラー65eへの入射角度θ1が比較的小さくなり、反射角度θ2も比較的小さくなる。その結果、ミラー65eの反射光は、接眼レンズ67に向かう光路からダハミラー65a,65b寄りの光路へとその進路を上方に変更してビームスプリッタ71に向かい、ビームスプリッタ71でさらにその進路を変更して結像レンズ69を通過して撮像素子7に到達する。なお、ビームスプリッタ71、結像レンズ69および撮像素子7は、接眼レンズ67よりも上方に配置されており、且つ、OVFの際にミラー65eから接眼レンズ67へと進行する光束を遮らない位置に配置されている。   Then, by changing the angle of the mirror 65e, the reflection angle of the light (observation light beam) reflected by the mirror 65e is changed, and the traveling path of the reflected light by the mirror 65e is changed. Specifically, compared with the state of FIG. 4, the incident angle θ1 to the mirror 65e is relatively small, and the reflection angle θ2 is also relatively small. As a result, the reflected light of the mirror 65e changes its path upward from the optical path toward the eyepiece lens 67 to the optical path near the roof mirrors 65a and 65b, toward the beam splitter 71, and further changes its path by the beam splitter 71. Then, it passes through the imaging lens 69 and reaches the image sensor 7. The beam splitter 71, the imaging lens 69, and the image sensor 7 are disposed above the eyepiece lens 67, and are positioned so as not to block the light beam traveling from the mirror 65e to the eyepiece lens 67 during OVF. Is arranged.

また、ミラー65eで反射された光束の進路は、ミラー65eの変更角度αに応じて、その2倍の大きさの角度β(=2×α)変更される。逆に言えば、反射光路の進行角度を角度β変更するために、ミラー65eの回転角度は、当該角度βの半分の角度αで済む。すなわち、ミラー65eの比較的小さな回転角度でミラー65eの反射光の進路を比較的大きく変更することが可能である。また、ミラー65eと撮像素子7とは光学的に比較的離れて配置されているため、ミラー65eの回転角度を小さく変更するだけで、ミラー65eによる2つの反射光を、互いに離れて配置された接眼レンズ67および撮像素子7へと確実に導くことが可能である。すなわち、ミラー65eの回転角度を小さく変更することによってミラー65eによる反射光の光束を良好に2つの光路に選択的に進行させることが可能である。したがって、ミラー65eの回転によるスペースの増大は最小限に止められる。   Further, the path of the light beam reflected by the mirror 65e is changed by an angle β (= 2 × α) that is twice as large as the change angle α of the mirror 65e. In other words, in order to change the traveling angle of the reflected light path by the angle β, the rotation angle of the mirror 65e may be an angle α that is half the angle β. That is, it is possible to change the path of the reflected light of the mirror 65e relatively large with a relatively small rotation angle of the mirror 65e. Further, since the mirror 65e and the image sensor 7 are optically separated from each other, the two reflected lights by the mirror 65e are arranged away from each other only by changing the rotation angle of the mirror 65e small. It is possible to reliably lead to the eyepiece 67 and the image sensor 7. That is, by changing the rotation angle of the mirror 65e to be small, the light beam reflected by the mirror 65e can be selectively advanced to two optical paths. Therefore, an increase in space due to the rotation of the mirror 65e is minimized.

撮像素子7は、ミラー65eで反射され結像レンズ69を通過して撮像素子7に到達した被写体像に基づいて、ライブビュー画像を生成する。具体的には、微小時間間隔(例えば、1/60秒)で複数の画像を順次に生成する。そして、取得された時系列の画像は背面モニタ12において順次に表示される。これによって、撮影者は、背面モニタ12に表示される動画像(ライブビュー画像)を視認し、当該動画像を用いて構図決めを行うことが可能になる。   The image sensor 7 generates a live view image based on the subject image reflected by the mirror 65e, passing through the imaging lens 69, and reaching the image sensor 7. Specifically, a plurality of images are sequentially generated at a minute time interval (for example, 1/60 seconds). The acquired time-series images are sequentially displayed on the rear monitor 12. Thus, the photographer can visually recognize the moving image (live view image) displayed on the rear monitor 12 and determine the composition using the moving image.

なお、EVF方式の構図決め動作時においては、ファインダ窓10からの光が上部空間SUへと入射しないように、アイピースシャッタ16が開じられてる。   During the EVF composition determination operation, the eyepiece shutter 16 is opened so that light from the finder window 10 does not enter the upper space SU.

また、この場合も、OVFによる構図決めの際(図4参照)と同様に、主ミラー61とサブミラー62とを介してAFモジュール20に入射した光を用いてAF動作が実現される。   Also in this case, the AF operation is realized using light incident on the AF module 20 via the main mirror 61 and the sub mirror 62, as in the case of composition determination by the OVF (see FIG. 4).

以上のように、ミラー65eで反射した後の観察用光束の進路(詳細には主進路)は、ミラー65eの反射角度の変更によって、ミラー65eから接眼レンズ67およびファインダ窓10に向かう光路PA(図4)と、ミラー65eから結像レンズ69および撮像素子7に向かう光路PB(図5)との間で切り換えられる。換言すれば、当該観察用光束の進路は、ミラー65eの反射角度の変更によって、ミラー65eで反射されてファインダ窓10に向かう第1の光路PAと、ミラー65eで反射されて撮像素子7に向かう第2の光路PBとの間で切り換えられる。   As described above, the path (specifically, the main path) of the observation light beam after being reflected by the mirror 65e is the optical path PA (from the mirror 65e to the eyepiece lens 67 and the viewfinder window 10 by changing the reflection angle of the mirror 65e. 4) and the optical path PB (FIG. 5) from the mirror 65e toward the imaging lens 69 and the image sensor 7. In other words, the path of the observation light beam is reflected by the mirror 65e by the change in the reflection angle of the mirror 65e, and is reflected by the mirror 65e and reflected by the mirror 65e toward the image sensor 7. It is switched between the second optical path PB.

なお、撮像装置1によれば、上記の従来技術のように被写体像の光路に対して進退可能な可動反射ミラーをファインダ光学系の接眼レンズ67の付近の光路内に設けることなく、ライブビュー表示を実現することが可能になる。換言すれば、撮像装置1によれば、コンパクトな構成でライブビュー表示を実現することができる。   According to the imaging apparatus 1, live view display can be performed without providing a movable reflection mirror that can advance and retreat with respect to the optical path of the subject image in the optical path in the vicinity of the eyepiece 67 of the finder optical system as in the conventional technique. Can be realized. In other words, according to the imaging device 1, live view display can be realized with a compact configuration.

また、撮像装置1においては、ペンタミラー65を構成する複数のミラー65a,65b,65eのうち、或る反射面(ミラー65e)の反射角度が変更される一方で、他の反射面(ダハミラー65a,65b)は固定されている。すなわち、複数の反射面のうち、一の反射面65eのみを駆動することによって観察用光束の進路が変更されるので、駆動部分を少なくしコンパクトな構成にすることができる。   Moreover, in the imaging device 1, while the reflection angle of a certain reflective surface (mirror 65e) is changed among the plurality of mirrors 65a, 65b, and 65e constituting the pentamirror 65, the other reflective surface (the roof mirror 65a) is changed. , 65b) are fixed. That is, the path of the observation light beam is changed by driving only one reflection surface 65e among the plurality of reflection surfaces, so that the drive portion can be reduced and the configuration can be made compact.

また、撮像装置1においては、ファインダ光学系のペンタミラー65に含まれる複数の反射面のうち、ダハミラー65a,65b以外の反射面であるミラー65eの反射角度を変更して、観察用光束の進路を変更しているので、ダハミラー65a,65bを駆動する場合に比べて容易に観察用光束の進路を変更することができる。   In the imaging apparatus 1, the reflection angle of the mirror 65e, which is a reflection surface other than the roof mirrors 65a and 65b among the plurality of reflection surfaces included in the pentamirror 65 of the finder optical system, is changed, and the path of the observation light beam is changed. Therefore, the path of the observation light beam can be easily changed as compared with the case where the roof mirrors 65a and 65b are driven.

<両動作の切り換え機構>
つぎに、OVFによる構図決め動作とEVFによる構図決め動作との切り替え操作について説明する。
<Both motion switching mechanism>
Next, a switching operation between the composition determination operation by OVF and the composition determination operation by EVF will be described.

図7は、撮像装置1の上面図であり、図8は、ミラー65eの駆動機構(角度変更機構)を示す概略図である。なお、図7においては、撮像装置1の一部を破断して内部の様子を示している。   FIG. 7 is a top view of the imaging apparatus 1, and FIG. 8 is a schematic diagram illustrating a drive mechanism (angle changing mechanism) of the mirror 65e. In FIG. 7, a part of the imaging device 1 is broken and an internal state is shown.

図8に示すように、矩形状のミラー65eは、その長手方向に略平行な軸を中心に回動可能となるように設けられている。具体的には、ミラー65eの下端側においては、軸部材88が、矩形状のミラー65eの下辺に沿って設けられた貫通孔に貫通して、ミラー65eに対して固定されている。この軸部材88は、ミラー65eが回動可能(揺動可能)となるようにその両端にて軸支されている。   As shown in FIG. 8, the rectangular mirror 65e is provided so as to be rotatable about an axis substantially parallel to the longitudinal direction. Specifically, on the lower end side of the mirror 65e, the shaft member 88 passes through a through hole provided along the lower side of the rectangular mirror 65e and is fixed to the mirror 65e. The shaft member 88 is pivotally supported at both ends thereof so that the mirror 65e can rotate (swing).

また、この軸部材88には、切換ダイヤル87と回転子92とが固定されている。   A switching dial 87 and a rotor 92 are fixed to the shaft member 88.

図7および図1に示すように、切換ダイヤル87の一部は、撮像装置1のカメラ本体部2の外表面から突出しており、撮影者は、切換ダイヤル87の当該突出部分を利用して切換ダイヤル87を回転操作することが可能である。なお、塵埃等が切換ダイヤル87部分から装置内部へと進入することを防止するため、切換ダイヤル87を囲むように隔壁96が設けられている。   As shown in FIGS. 7 and 1, a part of the switching dial 87 protrudes from the outer surface of the camera body 2 of the imaging device 1, and the photographer switches using the protruding part of the switching dial 87. The dial 87 can be rotated. In order to prevent dust and the like from entering the inside of the apparatus from the switching dial 87 portion, a partition wall 96 is provided so as to surround the switching dial 87.

図9は、切換ダイヤル87付近の構成を示す図である。図9に示すように、切換ダイヤル87の外周部には2つの切り欠き部Na,Nbが設けられている。また、切換ダイヤル87の外周部には弾性部材91が設けられている。弾性部材91の先端に設けられた突出部91aは、適度の弾性力を付与して切換ダイヤル87の外周面に押し付けられており、切換ダイヤル87の回転移動に伴って外周面に沿って相対移動することが可能である。また、弾性部材91の突出部91aは、当該2つの切り欠き部Na,Nbの一方に選択的に係合することによって切換ダイヤル87の回転方向の位置を固定することができる。弾性部材91の突出部91aが切り欠き部Naに係合しているときには、OVFによる構図決め動作が行われる。また、弾性部材91の突出部91aが切り欠き部Nbに係合しているときには、EVFによる構図決め動作が行われる。   FIG. 9 is a diagram showing a configuration near the switching dial 87. As shown in FIG. 9, two notches Na and Nb are provided on the outer peripheral portion of the switching dial 87. An elastic member 91 is provided on the outer periphery of the switching dial 87. The protrusion 91a provided at the tip of the elastic member 91 is pressed against the outer peripheral surface of the switching dial 87 with an appropriate elastic force, and is relatively moved along the outer peripheral surface with the rotational movement of the switching dial 87. Is possible. Moreover, the protrusion 91a of the elastic member 91 can fix the position of the switching dial 87 in the rotational direction by selectively engaging one of the two notches Na and Nb. When the protruding portion 91a of the elastic member 91 is engaged with the cutout portion Na, a composition determining operation by OVF is performed. Further, when the protruding portion 91a of the elastic member 91 is engaged with the notch Nb, the composition determination operation by EVF is performed.

撮影者は、切換ダイヤル87を操作して、ミラー65eを矢印AR1の向きに回動させ弾性部材91の突出部91aを切り欠き部Nbに係合させることによって、EVFによる構図決め動作を行うことが可能になる。逆に、切換ダイヤル87を操作して、ミラー65eを矢印AR2の向きに回動させ弾性部材91の突出部91aを切り欠き部Naに係合させることによって、OVFによる構図決め動作を行うことが可能になる。   The photographer operates the switching dial 87 to rotate the mirror 65e in the direction of the arrow AR1 and engage the protruding portion 91a of the elastic member 91 with the cutout portion Nb to perform the composition determination operation by EVF. Is possible. Conversely, by operating the switching dial 87 and rotating the mirror 65e in the direction of the arrow AR2, the composition determining operation by OVF can be performed by engaging the protruding portion 91a of the elastic member 91 with the cutout portion Na. It becomes possible.

また、ミラー65eの角度を検出するために、回転子92および検出器93が設けられている。図10に示すように、OVFによる構図決め動作においては、検出器93の2つの電気的接続子94a,94bが互いに接触して導通状態(オン状態)になっている。一方、図11に示すように、EVFによる構図決め動作においては、軸部材88の回動動作に伴って回転子92の突出部92bによって矢印AR3の向きの力が電気的接続子94bに付与され、電気的接続子94bが図11の右向きに変形する。この結果、電気的接続子94bが電気的接続子94aから離れ、電気的接続子94a,94bが非導通状態(オフ状態)になる。検出器93は、この2つの状態(オン状態およびオフ状態)を検出することによって、ミラー65eの角度を検出する。   Further, a rotor 92 and a detector 93 are provided to detect the angle of the mirror 65e. As shown in FIG. 10, in the composition determination operation by OVF, the two electrical connectors 94a and 94b of the detector 93 are in contact with each other and are in a conductive state (ON state). On the other hand, as shown in FIG. 11, in the composition determination operation by EVF, the force in the direction of the arrow AR3 is applied to the electrical connector 94b by the protrusion 92b of the rotor 92 as the shaft member 88 rotates. The electrical connector 94b is deformed rightward in FIG. As a result, the electrical connector 94b is separated from the electrical connector 94a, and the electrical connectors 94a and 94b are turned off (off state). The detector 93 detects the angle of the mirror 65e by detecting these two states (on state and off state).

全体制御部101は、検出器93による検出状態に基づいて、OVFによる構図決め動作を行うべきか、EVFによる構図決め動作を行うべきかを決定する。具体的には、検出器93のオン状態が検出されたときには、OVFによる構図決め動作を行うべき旨を決定して、撮像素子7への給電を停止し背面モニタ12を非表示にする等の処理を行う。一方、検出器93のオフ状態が検出されたときには、EVFによる構図決め動作を行うべき旨を決定して、撮像素子7への給電を行うとともに背面モニタ12にライブビュー画像を表示する等の処理を行う。   The overall control unit 101 determines whether to perform the composition determination operation using the OVF or the composition determination operation using the EVF based on the detection state of the detector 93. Specifically, when the ON state of the detector 93 is detected, it is determined that the composition determination operation by the OVF should be performed, power supply to the image sensor 7 is stopped, and the rear monitor 12 is not displayed. Process. On the other hand, when the off state of the detector 93 is detected, it is determined that the composition determination operation by the EVF is to be performed, power is supplied to the image sensor 7, and a live view image is displayed on the rear monitor 12. I do.

<測光処理>
次に、EVFによる構図決め動作時の測光処理とOVFによる構図決め動作時の測光処理とについてそれぞれ説明する。
<Photometric processing>
Next, a photometric process during the composition determination operation by EVF and a photometry process during the composition determination operation by OVF will be described.

図12は、ペンタミラー65付近の内部構成を示す拡大断面図である。図12に示すように、光路PA上には接眼レンズ67とファインダ窓10とが設けられている。一方、光路PB上にはビームスプリッタ71と結像レンズ69と撮像素子7とが設けられている。   FIG. 12 is an enlarged cross-sectional view showing an internal configuration in the vicinity of the pentamirror 65. As shown in FIG. 12, an eyepiece 67 and a finder window 10 are provided on the optical path PA. On the other hand, a beam splitter 71, an imaging lens 69, and an image sensor 7 are provided on the optical path PB.

このビームスプリッタ71は、光の進行方向(換言すれば光の進行路(光路))を変更する光路変更機能を有している。具体的には、ビームスプリッタ71は、光路PB上に配置されており、光路PB上を進行してきた光(詳細には反射面65eで反射された光)の進路を約90度上方に変更する。当該ビームスプリッタ71による進行方向変更後の光路PB(PB2)上には、結像レンズ69と撮像素子7とが配置されており、ビームスプリッタ71による進行方向変更後の光束は、結像レンズ69を通過して撮像素子7上に結像する。   The beam splitter 71 has an optical path changing function for changing the traveling direction of light (in other words, the traveling path of light (optical path)). Specifically, the beam splitter 71 is disposed on the optical path PB, and changes the path of light traveling on the optical path PB (specifically, the light reflected by the reflecting surface 65e) upward by about 90 degrees. . The imaging lens 69 and the image sensor 7 are arranged on the optical path PB (PB2) after the traveling direction is changed by the beam splitter 71, and the luminous flux after the traveling direction is changed by the beam splitter 71 is the imaging lens 69. And forms an image on the image sensor 7.

EVFによる構図決め動作時においては、反射面65eが位置P1に配置され、観察用光束の進路が光路PBとなる。このとき、光路PB上を進行しビームスプリッタ71および結像レンズ69を介して撮像素子7に結像した被写体像に基づいて、撮影画像が生成される。そして、当該撮影画像を用いてライブビュー表示が実行されるとともに、同じ撮影画像を用いて測光処理も実行される。例えば、撮像素子7による撮影画像を複数(例えば、8(横)×5(縦)=40個)の測光ブロックに分割して、各測光ブロックにおける受光量を算出する測光処理が実行される。また、この測光結果に基づいて、適切な明るさを実現する撮影パラメータ(絞り値、シャッタスピード等)を決定する処理(自動露光調整処理)が行われる。   In the composition determination operation by EVF, the reflecting surface 65e is disposed at the position P1, and the path of the observation light beam is the optical path PB. At this time, a photographed image is generated based on the subject image that travels on the optical path PB and forms an image on the image sensor 7 via the beam splitter 71 and the imaging lens 69. Then, live view display is performed using the captured image, and photometric processing is also performed using the same captured image. For example, a photometric process for dividing a photographed image by the image sensor 7 into a plurality of (for example, 8 (horizontal) × 5 (vertical) = 40) photometric blocks and calculating a received light amount in each photometric block is executed. Further, processing (automatic exposure adjustment processing) for determining photographing parameters (aperture value, shutter speed, etc.) that realizes appropriate brightness is performed based on the photometric result.

一方、OVFによる構図決め動作時においては、反射面65eが位置P2(図12では二点鎖線で示される位置)に配置され、観察用光束の進路が光路PAとなる。このとき、ファインダ窓10を介して被写体像が視認されるとともに、光路PAの近傍に配置された測光センサ79を用いて測光処理が行われる。測光センサ79は、光路PAの近傍に配置されたビームスプリッタ71を透過する光束を、結像レンズ72を介して受光して、測光処理を行う。   On the other hand, at the time of the composition determination operation by OVF, the reflecting surface 65e is arranged at the position P2 (position indicated by a two-dot chain line in FIG. 12), and the path of the observation light beam becomes the optical path PA. At this time, the subject image is visually recognized through the finder window 10 and photometric processing is performed using the photometric sensor 79 disposed in the vicinity of the optical path PA. The photometric sensor 79 receives the light beam transmitted through the beam splitter 71 disposed in the vicinity of the optical path PA through the imaging lens 72 and performs photometric processing.

測光センサ79は、焦点板63を睨んでおり、図12の点線で示す光路PEに従って進行した光、詳細には、光路PAの近傍を進行し且つビームスプリッタ71を透過した光を受光する。ここにおいて、ビームスプリッタ71は、光路PB上であるとともに光路PE上でもある位置に存在するが、光路PE上を進行する光束はビームスプリッタ71を通過して測光センサ79へと到達する。測光センサ79は、光路PEを進行する光束を受光することによって、光路PAを進行する観察用光束の被写体像と同様の被写体像(換言すれば撮影対象となる被写体像と同様の光像)、具体的には、ファインダ窓10を介して受光される被写体像に関する被写体を若干異なる角度から(若干斜めから)見た光像を受光する。   The photometric sensor 79 sandwiches the focusing screen 63 and receives the light traveling along the optical path PE indicated by the dotted line in FIG. 12, specifically, the light traveling in the vicinity of the optical path PA and transmitted through the beam splitter 71. Here, the beam splitter 71 exists on the optical path PB as well as on the optical path PE, but the light beam traveling on the optical path PE passes through the beam splitter 71 and reaches the photometric sensor 79. The photometric sensor 79 receives a light beam traveling in the optical path PE, thereby obtaining a subject image similar to the subject image of the observation light beam traveling in the optical path PA (in other words, a light image similar to the subject image to be photographed), Specifically, a light image obtained by viewing a subject related to the subject image received through the finder window 10 from a slightly different angle (slightly obliquely) is received.

そして、測光センサ79での受光量に基づく測光処理が適切に実現される。例えば、測光センサ79内の複数(例えば40個)の測光単位のそれぞれにおける受光量を算出する測光処理が実行される。また、この測光結果に基づいて、適切な明るさを実現する撮影パラメータ(絞り値、シャッタスピード等)を決定する処理(自動露光調整処理)が行われる。   Then, photometric processing based on the amount of light received by the photometric sensor 79 is appropriately realized. For example, photometric processing for calculating the amount of received light in each of a plurality of (for example, 40) photometric units in the photometric sensor 79 is executed. Further, processing (automatic exposure adjustment processing) for determining photographing parameters (aperture value, shutter speed, etc.) that realizes appropriate brightness is performed based on the photometric result.

なお、OVFによる構図位置決め動作時においては、観察用光束の進路が光路PAとなるため、撮像素子7には適切な被写体像が結像されない。したがって、上記のような測光センサ79を設けない場合には、OVFによる構図位置決め動作時に適切な測光処理を実現することが困難である。   In the composition positioning operation by OVF, since the path of the observation light beam is the optical path PA, an appropriate subject image is not formed on the image sensor 7. Therefore, when the photometric sensor 79 as described above is not provided, it is difficult to realize appropriate photometric processing at the time of composition positioning operation by OVF.

この撮像装置1においては、以上のようにして撮影動作が行われる。   In the imaging apparatus 1, the photographing operation is performed as described above.

<4.撮像素子7の測光誤差の補正動作等>
<概要>
つぎに、撮像素子7における測光誤差の補正動作等について説明する。
<4. Correction operation of photometric error of image sensor 7>
<Overview>
Next, a photometric error correction operation and the like in the image sensor 7 will be described.

上述したように、撮像素子7においては、連続通電等に伴う温度上昇に起因して測光誤差が発生する。そして、このような測光誤差は、画像の露出制御に悪影響を及ぼし、画像が劣化してしまうことになる。   As described above, in the image sensor 7, a photometric error occurs due to a temperature rise accompanying continuous energization or the like. Such a photometric error adversely affects the exposure control of the image, and the image is deteriorated.

そこで、この実施形態においては、撮像素子7の測光誤差を求めて撮像素子7による測光値を補正し、撮像素子7によって取得される画像の露光状態の適正化を図ることが可能な技術についてさらに説明する。   Therefore, in this embodiment, a technique that can obtain a photometric error of the image sensor 7 and correct a photometric value by the image sensor 7 to optimize the exposure state of an image acquired by the image sensor 7. explain.

具体的には、撮像装置1は、撮像素子7とは別個に設けられた測光センサ79による測光結果を用いて、撮像素子7の測光誤差を補正する。より詳細には、主ミラー61をミラーアップ位置に移動して撮像素子7と測光センサ79とを含む上部空間SUを遮光状態にする。そして、当該遮光状態における測光センサ79による測光値(光の明るさに関する測定値)に基づいて、撮像素子7の測光誤差を算出する。   Specifically, the imaging apparatus 1 corrects the photometric error of the image sensor 7 using the photometric result obtained by the photometric sensor 79 provided separately from the image sensor 7. More specifically, the main mirror 61 is moved to the mirror-up position, and the upper space SU including the image sensor 7 and the photometric sensor 79 is put in a light-shielding state. Then, a photometric error of the image sensor 7 is calculated based on a photometric value (measured value relating to the brightness of light) by the photometric sensor 79 in the light shielding state.

ここにおいて、測光センサ79は、例えばシリコンフォトセル(SPC(Silicon Photo Cell))などの高精度の素子を用いて構成される。より詳細には、測光センサ79は、図13に示すように、複数のシリコンフォトセルで構成される。測光センサ79は、入力光の明るさに応じた電圧を出力し、全体制御部101は、測光センサ79の出力電圧値を所定の変換式等によって輝度値(絶対輝度値)BVに変換する。   Here, the photometric sensor 79 is configured using a high-precision element such as a silicon photocell (SPC). More specifically, the photometric sensor 79 is composed of a plurality of silicon photocells as shown in FIG. The photometric sensor 79 outputs a voltage corresponding to the brightness of the input light, and the overall control unit 101 converts the output voltage value of the photometric sensor 79 into a luminance value (absolute luminance value) BV by a predetermined conversion formula or the like.

図13は、測光センサ79の受光部の受光面を入射側から見た平面図である。測光センサ79は、図13に示すように、複数(ここでは40個)のエリアR0〜R39に分割されており、その受光部で受光される光像の明るさ(輝度)を40個のエリアのそれぞれに配置された各シリコンフォトセルによってそれぞれ測定することが可能である。後述する補正処理においては、これらの40個のエリアのうち任意の1つ以上のエリアを利用することが可能である。例えば、全40個のエリアによる測定輝度の平均値を測光センサ79による測光値として取得することが可能である。   FIG. 13 is a plan view of the light receiving surface of the light receiving unit of the photometric sensor 79 as viewed from the incident side. As shown in FIG. 13, the photometric sensor 79 is divided into a plurality of (in this case, 40) areas R0 to R39, and the brightness (luminance) of the light image received by the light receiving unit is divided into 40 areas. It is possible to measure by each silicon photocell arranged in each of the above. In the correction process described later, any one or more of these 40 areas can be used. For example, it is possible to obtain the average value of the measured luminance in all 40 areas as the photometric value by the photometric sensor 79.

また、図14は、測光センサ79の入力光の明るさ(入力輝度とも称される)に対する出力電圧(および測光輝度)の特性(すなわち入出力特性)の一例を示す図である。図14に示すように、測光センサ79の入出力特性は、超低輝度域(例えばBV値=−4)から超高輝度域(例えばBV値=17)に至るまで、非常に高い直線性を有している。   FIG. 14 is a diagram illustrating an example of the characteristics (that is, input / output characteristics) of the output voltage (and photometric luminance) with respect to the brightness (also referred to as input luminance) of the input light of the photometric sensor 79. As shown in FIG. 14, the input / output characteristic of the photometric sensor 79 has very high linearity from an extremely low luminance range (for example, BV value = −4) to an extremely high luminance range (for example, BV value = 17). Have.

一方、撮像素子7は、測光センサ79に比べると、測定レンジが狭いという特性を有している。入力光の明るさに応じてシャッタスピード、絞り値等を変更し露光量を制御することによれば、このような特性を或る程度克服して比較的広いレンジにおいて測光処理を行うことが可能ではあるが、次述するような事情のため特に低輝度域では測光結果(輝度)に誤差が生じやすい。以下、撮像素子7の測光結果に関して、低輝度域で誤差が生じやすくなる事情について説明する。   On the other hand, the image sensor 7 has a characteristic that the measurement range is narrower than that of the photometric sensor 79. By controlling the exposure amount by changing the shutter speed, aperture value, etc. according to the brightness of the input light, it is possible to overcome such characteristics to some extent and perform photometric processing in a relatively wide range. However, an error is likely to occur in the photometric result (luminance) particularly in the low luminance region due to the circumstances described below. Hereinafter, a situation in which an error is likely to occur in a low luminance region regarding the photometric result of the image sensor 7 will be described.

撮像素子7による測光結果(輝度)bvは、撮像素子7の画素値(例えば所定領域の平均画素値)Lに基づいて、基本的には式(1)を用いて算出される。なお、この算出処理は、全体制御部101によって実行される。   The photometric result (luminance) bv by the image sensor 7 is basically calculated using the equation (1) based on the pixel value (for example, the average pixel value of a predetermined area) L of the image sensor 7. This calculation process is executed by the overall control unit 101.

Figure 2008306490
Figure 2008306490

なお、値Tvは撮像素子7の電子シャッタの開放時間(露出時間)に関するTV値を表し、値Avは、撮像光学系の絞りに関するAV値を表し、値Svは撮像素子7の撮像感度に関するSV値を表す。また、値Ltは、画素値Lの目標値(固定値)を表す。   The value Tv represents the TV value related to the opening time (exposure time) of the electronic shutter of the image sensor 7, the value Av represents the AV value related to the aperture of the image pickup optical system, and the value Sv is the SV related to the image pickup sensitivity of the image sensor 7. Represents a value. The value Lt represents the target value (fixed value) of the pixel value L.

高輝度領域においては、撮像素子7の画素値Lが目標値(目標画素値)Ltとなるように、露光パラメータ(具体的には値Tv,Av,Sv)が決定される。例えば、画素値Lが0から4095までの値を取り得る場合においては、値Lが目標値Lt(例えば493)に等しくなるように、フィードバック制御によって値Tv,Av,Svが決定される。なお、この場合、理想的には、式(1)の右辺第4項はゼロになり式(1)右辺の第1項から第3項によって輝度bvが算出される。   In the high luminance region, the exposure parameters (specifically, values Tv, Av, Sv) are determined so that the pixel value L of the image sensor 7 becomes the target value (target pixel value) Lt. For example, when the pixel value L can take a value from 0 to 4095, the values Tv, Av, and Sv are determined by feedback control so that the value L becomes equal to the target value Lt (for example, 493). In this case, ideally, the fourth term on the right side of Equation (1) becomes zero, and the luminance bv is calculated by the first to third terms on the right side of Equation (1).

光の明るさが所定の範囲内の場合には、このようなフィードバック制御によって、値Lが目標値Ltになるように、値Tv,Av,Svを適切に決定することが可能である。   When the brightness of light is within a predetermined range, the values Tv, Av, and Sv can be appropriately determined by such feedback control so that the value L becomes the target value Lt.

しかしながら、値Tv,Av,Svの変動域には限界値が存在するため、光の明るさが当該所定の範囲を外れる場合には、値Tv,Av,Svを制御しても、値Lを目標値Ltに追従させることができなくなる。   However, since there is a limit value in the fluctuation range of the values Tv, Av, and Sv, if the brightness of light is outside the predetermined range, the value L can be set even if the values Tv, Av, and Sv are controlled. It becomes impossible to follow the target value Lt.

そのため、低輝度領域においては、式(1)の右辺第4項を加えて修正された値が、輝度値bvとして算出される。   For this reason, in the low luminance region, a value corrected by adding the fourth term on the right side of Equation (1) is calculated as the luminance value bv.

より具体的には、光像が所定程度よりも暗くなった場合には、値Tv,Av,Svの変動限界の存在のため、値Lを目標値Ltまで大きくすることが出来なくなる。そして、例えば、値Lが目標値Ltの半分(1/2)の場合には、式(1)の右辺第4項が−1となり、式(1)右辺の第1項から第3項による算出値に対して−1を加算(換言すれば1を減算)することによって、値bvが算出される。   More specifically, when the light image becomes darker than a predetermined level, the value L cannot be increased to the target value Lt due to the presence of fluctuation limits of the values Tv, Av, and Sv. For example, when the value L is half (1/2) of the target value Lt, the fourth term on the right side of the equation (1) is −1, and the first term to the third term on the right side of the equation (1). The value bv is calculated by adding -1 to the calculated value (in other words, subtracting 1).

ところが、実際には、この値Lには上述のような温度上昇等に起因する誤差が含まれている。例えば、この誤差を黒レベルのずれ量Leで表現すると、値Lは式(2)のように表現される。   However, in practice, this value L includes an error due to a temperature rise or the like as described above. For example, when this error is expressed by a black level shift amount Le, the value L is expressed as in Expression (2).

Figure 2008306490
Figure 2008306490

すなわち、値Lは、本来の値L0に対してずれ量Leが加算された値として表現される。   That is, the value L is expressed as a value obtained by adding the deviation amount Le to the original value L0.

また、式(2)を考慮すると、式(1)は式(3)のように表現される。   Further, considering the equation (2), the equation (1) is expressed as the equation (3).

Figure 2008306490
Figure 2008306490

式(3)に示すように、輝度値bvは、このような黒レベルのずれ量Leの影響によって、真の輝度値bv1に対して誤差Δbvを含む値になる。   As shown in Expression (3), the luminance value bv becomes a value including the error Δbv with respect to the true luminance value bv1 due to the influence of the deviation amount Le of the black level.

図15はこのような誤差の影響を示す図であり、撮像素子7を用いた測光処理における入出力特性(入力輝度に対する出力輝度の特性)の一例を示す図である。図15に示すように、測光センサ79の入出力特性は、低輝度領域(ここではBV値で0以下の領域)において、その直線性を維持できなくなっている。詳細には、当該低輝度領域における輝度の低下に伴ってずれ量Δbv(=bv−bv1)が増大している。この現象は、低輝度領域において値Lが小さくなるにつれて、Lに占めるLeの割合が大きくなる(換言すれば、Ltに対するLeの割合がLtに対するL0の割合に比べて大きくなる)ことに起因する。なお、図15においては、入力輝度のBV値が−4のときのずれ量Δbvが示されている。   FIG. 15 is a diagram illustrating the influence of such an error, and is a diagram illustrating an example of input / output characteristics (characteristics of output luminance with respect to input luminance) in photometry processing using the image sensor 7. As shown in FIG. 15, the input / output characteristics of the photometric sensor 79 cannot maintain its linearity in a low luminance region (here, a region where the BV value is 0 or less). Specifically, the shift amount Δbv (= bv−bv1) increases as the luminance decreases in the low luminance region. This phenomenon is caused by the fact that the ratio of Le to L increases as the value L decreases in the low luminance region (in other words, the ratio of Le to Lt increases compared to the ratio of L0 to Lt). . In FIG. 15, the shift amount Δbv when the BV value of the input luminance is −4 is shown.

一方、真の輝度値bv1は、式(4)のように表現される。   On the other hand, the true luminance value bv1 is expressed as in Expression (4).

Figure 2008306490
Figure 2008306490

なお、この式(4)は、式(2)の関係を用いると式(5)のようにも表現される。   This equation (4) is also expressed as equation (5) when the relationship of equation (2) is used.

Figure 2008306490
Figure 2008306490

したがって、ずれ量Leを求めることができれば、値bv1を求めることができる。   Therefore, if the deviation amount Le can be obtained, the value bv1 can be obtained.

そこで、この撮像装置1(詳細には全体制御部101)においては、上述したように、撮像素子7とは別個に設けられた測光センサ79による測光結果を用いて、上記のずれ量Leを算出する。具体的には、遮光状態における測光センサ79によって取得される輝度値bv0を正確な輝度値bv1として採用し、式(5)および式(6)によって得られる方程式を解いて値Leを得る。すなわち、式(5)の左辺の輝度値bv1に値bv0を代入することによって得られる方程式を値Leについて解く。なお、式(5)の各値Tv,Av,Sv,Lとしては、遮光状態における値を採用する。   Therefore, in the imaging apparatus 1 (specifically, the overall control unit 101), as described above, the shift amount Le is calculated using the photometric result obtained by the photometric sensor 79 provided separately from the imaging element 7. To do. Specifically, the luminance value bv0 acquired by the photometric sensor 79 in the light-shielding state is adopted as the accurate luminance value bv1, and the value Le is obtained by solving the equations obtained by the equations (5) and (6). That is, an equation obtained by substituting the value bv0 for the luminance value bv1 on the left side of the equation (5) is solved for the value Le. In addition, as the values Tv, Av, Sv, and L in the equation (5), values in a light shielding state are adopted.

Figure 2008306490
Figure 2008306490

このようにして、遮光状態における撮像素子7による測光値(光の明るさに関する測定値)を算出するための各種パラメータ値Tv,Av,Sv,L,Ltと、当該遮光状態における測光センサ79による測光値(輝度bv0)とに基づいて、ずれ量Leを求めることができる。すなわち、撮像素子7の測光誤差を算出することができる。   In this way, the various parameter values Tv, Av, Sv, L, Lt for calculating the photometric values (measured values relating to the brightness of the light) by the image sensor 7 in the light-shielded state and the photometric sensor 79 in the light-shielded state. The shift amount Le can be obtained based on the photometric value (brightness bv0). That is, the photometric error of the image sensor 7 can be calculated.

全体制御部101は、値Leを算出すると、その後の測光時においては、式(7)を用いて輝度bvを算出する。式(7)は、式(5)の右辺を補正後の新たな輝度値bvとするものである。   When calculating the value Le, the overall control unit 101 calculates the luminance bv using Expression (7) during the subsequent photometry. Expression (7) sets the right side of Expression (5) as a new luminance value bv after correction.

Figure 2008306490
Figure 2008306490

すなわち、算出された当該値Leと、新たな測光時(非遮光状態における測光時等)における値Tv,Av,Sv,L,Ltとを式(7)に代入することによって、値bvを撮像素子7による輝度として算出する。これによれば、黒レベルのずれ量Leの影響を抑制した輝度値bvを取得することが可能である。   That is, the value bv is imaged by substituting the calculated value Le and values Tv, Av, Sv, L, and Lt at the time of new photometry (at the time of photometry in a non-light-shielded state) into the equation (7). Calculated as luminance by the element 7. According to this, it is possible to acquire the luminance value bv in which the influence of the black level deviation amount Le is suppressed.

<ミラーアップ時の遮光>
ここで、ミラーアップ状態における空間SUの様子について説明する。
<Light shielding during mirror up>
Here, the state of the space SU in the mirror-up state will be described.

図16は、EVFモードにおける撮影時(撮像素子5による露光動作時)の撮像装置1の内部構成を示す図である。上述の図5に示すように、この実施形態では、EVF方式による構図決め動作(レリーズボタン11押下前)において既にアイピースシャッタ16が閉じられており、ファインダ窓10から空間SUへの光の入射は遮られている。そのため、さらに主ミラー61をミラーアップ位置に移動することによって焦点板63を主ミラー61によって覆うことによれば、上部空間SUの遮光状態を容易に達成することが可能である。   FIG. 16 is a diagram illustrating an internal configuration of the imaging apparatus 1 at the time of photographing in the EVF mode (during an exposure operation by the imaging element 5). As shown in FIG. 5 described above, in this embodiment, the eyepiece shutter 16 is already closed in the EVF system composition determination operation (before the release button 11 is pressed), and the light is incident from the viewfinder window 10 to the space SU. It is blocked. Therefore, by further moving the main mirror 61 to the mirror-up position to cover the focusing screen 63 with the main mirror 61, it is possible to easily achieve the light shielding state of the upper space SU.

また、図17および図18は、焦点板63付近の様子を示す一部拡大図である。図17はミラーダウン状態を示し、図18はミラーアップ状態を示している。また、図19は、焦点板63およびホルダ64等の分解斜視図である。なお、図17〜図19においては、簡略化のため、隔壁66およびサブミラー62等の図示を省略している。   FIGS. 17 and 18 are partially enlarged views showing a state near the focusing screen 63. FIG. 17 shows a mirror-down state, and FIG. 18 shows a mirror-up state. FIG. 19 is an exploded perspective view of the focusing screen 63, the holder 64, and the like. In FIG. 17 to FIG. 19, illustration of the partition 66 and the sub mirror 62 is omitted for the sake of simplicity.

ここにおいて、撮像装置1の内部空間は、高さ方向において焦点板63の位置と同様の位置に設けられた隔壁66(図4および図16等参照)によって、上側空間SUと下側空間SLとに隔てられている。そのうち、上部空間SUは、カメラボディ2(隔壁66等を含む)に覆われた閉空間として形成されており、焦点板63とファインダ窓10とを除く部分においては、上部空間SUの外部からその内部へと光が入射しないように構成されている。また、下部空間SLには、主ミラー61および撮像素子5などが設けられている。   Here, the internal space of the imaging device 1 is divided into an upper space SU and a lower space SL by a partition wall 66 (see FIG. 4 and FIG. 16 and the like) provided at a position similar to the position of the focusing screen 63 in the height direction. It is separated by. Among them, the upper space SU is formed as a closed space covered with the camera body 2 (including the partition wall 66 and the like), and in a portion excluding the focusing screen 63 and the finder window 10, the upper space SU is exposed from the outside of the upper space SU. It is configured so that light does not enter the inside. In the lower space SL, a main mirror 61, an image sensor 5 and the like are provided.

図16等に示すように、この実施形態においては、焦点板63を保持するホルダ64が撮像装置1の本体内部の隔壁66に対して固定されている。換言すれば、焦点板63は、ホルダ64を介して撮像装置1の本体に固定されて保持されている。   As shown in FIG. 16 and the like, in this embodiment, a holder 64 that holds the focusing screen 63 is fixed to a partition wall 66 inside the main body of the imaging apparatus 1. In other words, the focusing screen 63 is fixed and held on the main body of the imaging device 1 via the holder 64.

図19等に示すように、ホルダ64は、その中央に開口部64aを有し、当該開口部64aを包囲する四辺に枠部64bを有している。   As shown in FIG. 19 and the like, the holder 64 has an opening 64a at the center thereof, and has frame portions 64b on four sides surrounding the opening 64a.

枠部64bの上面側(換言すれば、ペンタミラー65側)には、焦点板63の大きさ(幅、高さ、奥行き)に合わせて段差部が設けられており、当該段差部に焦点板63が嵌め込まれて保持されている。これにより、焦点板63は、ホルダ64の開口部64aに固定されて配置されている。   On the upper surface side of the frame portion 64b (in other words, on the pentamirror 65 side), a step portion is provided in accordance with the size (width, height, depth) of the focusing screen 63, and the focusing screen is placed on the step portion. 63 is fitted and held. As a result, the focusing screen 63 is fixedly disposed in the opening 64 a of the holder 64.

また、枠部64bの下面側(換言すれば、主ミラー61側)には、略半円柱形状の緩衝材64cが主ミラー61側に突出するように設けられている。詳細には、緩衝材64cは、焦点板63を包囲する位置に、当該枠部64bの全周にわたって設けられている。この緩衝材64cは、例えば、ゴムなどの弾性材料、あるいは、不織布などで形成される。   Further, a substantially semi-cylindrical cushioning material 64c is provided on the lower surface side of the frame portion 64b (in other words, on the main mirror 61 side) so as to protrude toward the main mirror 61 side. Specifically, the cushioning material 64 c is provided over the entire circumference of the frame portion 64 b at a position surrounding the focusing screen 63. The buffer material 64c is formed of, for example, an elastic material such as rubber or a non-woven fabric.

図18に示すように、焦点板63に近接する対向位置(ミラーアップ位置)PS1へと主ミラー61が移動する際、すなわち、ミラーアップ動作時(上昇動作時)においては、主ミラー61が停止位置直前から緩衝材64cに接触した後に停止する。これによって、焦点板63およびホルダ64等が主ミラー61から受ける衝撃が緩和される。   As shown in FIG. 18, when the main mirror 61 moves to the opposite position (mirror up position) PS1 close to the focusing screen 63, that is, during the mirror up operation (up operation), the main mirror 61 stops. It stops after contacting the cushioning material 64c immediately before the position. As a result, the impact received by the focusing screen 63 and the holder 64 from the main mirror 61 is reduced.

また、緩衝材64cは、遮光性を有している。そして、図18に示すように、主ミラー61がミラーアップ位置PS1に移動した状態(換言すれば、主ミラー61が焦点板63に対して微小な距離を隔てて近接した状態(図16も参照))においては、緩衝材64cは、主ミラー61と接触している。このとき、緩衝材64cは、焦点板63と主ミラー61との間隙を埋めて、主ミラー61側からの光が上部空間SUに入射しないように、当該主ミラー61側からの光を遮っている。このように緩衝材64cを遮光部材として機能させることによって、主ミラー61のミラーアップ位置への移動後において、上部空間SUの遮光状態を高いレベルで実現することができる。   Further, the buffer material 64c has a light shielding property. As shown in FIG. 18, the main mirror 61 is moved to the mirror-up position PS1 (in other words, the main mirror 61 is close to the focusing screen 63 with a minute distance (see also FIG. 16). )), The cushioning material 64 c is in contact with the main mirror 61. At this time, the buffer material 64c fills the gap between the focusing screen 63 and the main mirror 61, and blocks the light from the main mirror 61 side so that the light from the main mirror 61 side does not enter the upper space SU. Yes. Thus, by making the buffer material 64c function as a light shielding member, the light shielding state of the upper space SU can be realized at a high level after the main mirror 61 is moved to the mirror up position.

このように、遮光性の緩衝材64cを焦点板63付近に設けることによって、ミラーアップ動作時において主ミラー61が他部材に与える衝撃を緩和するとともに、ミラーアップ状態での上部空間SUにおける遮光の程度を高めることが可能である。   Thus, by providing the light-shielding cushioning material 64c in the vicinity of the focusing screen 63, the impact of the main mirror 61 on other members during the mirror-up operation is mitigated and the light-shielding in the upper space SU in the mirror-up state is reduced. It is possible to increase the degree.

<動作例>
つぎに、より詳細な動作例について説明する。
<Operation example>
Next, a more detailed operation example will be described.

上述のように、この撮像装置1においては、EVFモードでは撮像素子7によって測光機能が実現され、OVFモードでは測光センサ79によって測光機能が実現される。すなわち、撮像素子7による測光機能は、EVFモードにおいて実現される。   As described above, in the imaging apparatus 1, the photometric function is realized by the image sensor 7 in the EVF mode, and the photometric function is realized by the photometric sensor 79 in the OVF mode. That is, the photometric function by the image sensor 7 is realized in the EVF mode.

そこで、この実施形態ではEVFモードにおいて撮像素子7の測光誤差の算出動作を行う場合を例示する。これによれば、撮像素子7の測光誤差の算出動作を撮像素子7の測光動作時点に近い時点(もしくは測光動作時点)で行うことができる。   Therefore, in this embodiment, a case where the calculation operation of the photometric error of the image sensor 7 is performed in the EVF mode is illustrated. According to this, the calculation operation of the photometry error of the image sensor 7 can be performed at a time point close to the photometry operation time point of the image sensor 7 (or the photometry operation time point).

図20は、この実施形態に係る撮像装置1のEVFモードでの測光処理ルーチンの概略動作を示すフローチャートである。この測光処理ルーチンは、EVFモードにおける構図決め動作中において微小時間間隔(例えば1/10秒間隔)で実行される。以下では、図20を参照しながら、撮像装置1のEVFモードでの測光処理ルーチンについて説明する。   FIG. 20 is a flowchart showing a schematic operation of a photometric processing routine in the EVF mode of the imaging apparatus 1 according to this embodiment. This photometric processing routine is executed at minute time intervals (for example, 1/10 second intervals) during the composition determination operation in the EVF mode. Hereinafter, a photometric processing routine in the EVF mode of the imaging apparatus 1 will be described with reference to FIG.

ここでは、連続通電時間が所定期間T1経過するごとに、主ミラー61がミラーアップ位置(焦点板63の対向位置とも称される)PS1(図16参照)に移動されて補正動作が実行される場合を例示する。具体的には、全体制御部101は、主ミラー61をミラーアップ位置PS1へと移動させて、撮像装置1の内部空間のうち上部空間SUを遮光状態にする。そして、全体制御部101は、当該遮光状態における測光センサ79による測光値(詳細には輝度bv0)を取得し、当該測光値bv0を用いて、撮像素子7による測光値を補正する補正動作を実行する。   Here, every time the continuous energization time T1 elapses, the main mirror 61 is moved to the mirror-up position (also referred to as the position facing the focusing screen 63) PS1 (see FIG. 16), and the correction operation is executed. The case is illustrated. Specifically, the overall control unit 101 moves the main mirror 61 to the mirror-up position PS1, and puts the upper space SU in the internal space of the imaging device 1 in a light-shielding state. Then, the overall control unit 101 acquires a photometric value (specifically, luminance bv0) by the photometric sensor 79 in the light-shielded state, and performs a correction operation for correcting the photometric value by the image sensor 7 using the photometric value bv0. To do.

図20に示すように、ステップSP1においては、補正タイミングであるか否かが判定される。ここでは、撮像素子7の連続通電時間が所定時間T1(例えば10分)経過したか否かに応じて、補正タイミングが到来したか否かを判定する。   As shown in FIG. 20, in step SP1, it is determined whether it is a correction timing. Here, it is determined whether or not the correction timing has come, depending on whether or not the continuous energization time of the image sensor 7 has passed a predetermined time T1 (for example, 10 minutes).

補正タイミングが未だ到来していないと判定されるときには、ステップSP9に進む。ステップSP9においては、式(7)による輝度出力動作が実行される。ただし、後述する補正動作(ステップSP4,SP5)が未だ1度も実行されていない場合には、ずれ量Leがゼロに設定されており、式(1)による輝度値と同様の値が算出される。   When it is determined that the correction timing has not yet arrived, the process proceeds to step SP9. In step SP9, the luminance output operation according to equation (7) is executed. However, when the correction operation (steps SP4 and SP5) described later has not been executed yet, the deviation amount Le is set to zero, and a value similar to the luminance value according to the equation (1) is calculated. The

一方、補正タイミングが到来したと判定されると、背面モニタ12におけるライブビュー表示が停止され、主ミラー61がミラーアップ位置PS1に移動しミラーアップ状態にされる(ステップSP2,SP3)。このミラーアップ状態においては、上述したように、上部空間SUが遮光状態になっている。このEVFモードにおいては、常にアイピースシャッタ16が閉じられているため、主ミラー61をミラーアップ位置PS1に移動することによって、上部空間SUが遮光状態になる。   On the other hand, if it is determined that the correction timing has come, the live view display on the rear monitor 12 is stopped, and the main mirror 61 is moved to the mirror-up position PS1 to enter the mirror-up state (steps SP2 and SP3). In this mirror up state, as described above, the upper space SU is in a light shielding state. In the EVF mode, since the eyepiece shutter 16 is always closed, the upper space SU is shielded from light by moving the main mirror 61 to the mirror up position PS1.

なお、後のステップSP7でライブビューが再開されるまでの期間(換言すればミラーアップ状態)においては、ライブビュー画像として最後に撮影された画像を静止画像として背面モニタ12に表示しておくことが好ましい。これによれば、ライブビュー停止期間中において背面モニタ12に何も表示されない状態(ブラックアウト)を回避でき、操作者の違和感を低減することができる。また、当該期間においては、このような静止画像に代えて、もしくは当該静止画像とともに、「補正中」などの文字等を背面モニタ12に表示することによって、補正中であることを明示するようにしてもよい。   In the period until the live view is resumed in the subsequent step SP7 (in other words, in the mirror-up state), the last image taken as a live view image is displayed on the rear monitor 12 as a still image. Is preferred. According to this, a state (blackout) in which nothing is displayed on the rear monitor 12 during the live view stop period can be avoided, and the operator's uncomfortable feeling can be reduced. Further, during the period, instead of such a still image or together with the still image, characters such as “under correction” are displayed on the rear monitor 12 to clearly indicate that correction is in progress. May be.

そして、ステップSP4においては、この遮光状態における測光センサ79の出力信号が取得され、当該出力信号に基づく測光動作によって測光値(輝度値)bv0が算出される。また、ステップSP4においては、この遮光状態における撮像素子7の測光値を算出するための各種パラメータ値Tv,Av,Sv,Lも取得される。   In step SP4, the output signal of the photometric sensor 79 in the light-shielded state is acquired, and the photometric value (luminance value) bv0 is calculated by the photometric operation based on the output signal. In step SP4, various parameter values Tv, Av, Sv, and L for calculating the photometric value of the image sensor 7 in the light shielding state are also acquired.

次のステップSP5においては、ステップSP4で取得された各種パラメータ値等(Tv,Av,Sv,L,Lt,bv0)と上記の式(5),(6)とに基づいて、ずれ量Leを求める。このずれ量Leは、測定誤差を解消する要素として算出され、撮像装置1の所定のメモリ(不揮発性メモリ(不図示)等)内の格納領域に保存される。   In the next step SP5, based on the various parameter values (Tv, Av, Sv, L, Lt, bv0) acquired in step SP4 and the above equations (5) and (6), the deviation amount Le is calculated. Ask. This deviation amount Le is calculated as an element for eliminating the measurement error, and is stored in a storage area in a predetermined memory (nonvolatile memory (not shown) or the like) of the imaging apparatus 1.

さらに、次のステップSP6において、主ミラー61がミラーダウン位置PS2(図17参照)にまで下降して、ミラーダウン状態に戻される(図5参照)。そして、ステップSP7において、ライブビューが再開され、一旦、測光処理ルーチンが終了する。   Further, in the next step SP6, the main mirror 61 is lowered to the mirror down position PS2 (see FIG. 17) and returned to the mirror down state (see FIG. 5). In step SP7, the live view is resumed, and the photometric processing routine is once ended.

その後、微小時間後に再び測光処理ルーチンが再び開始されると、ステップSP1の動作が再び実行される。なお、このステップSP1での判定処理では、撮像素子7の測光誤差に関する前回の補正動作(ステップSP4,SP5)からの連続通電時間がさらに所定時間T1を経過したか否かに応じて、補正タイミングが到来したか否かが判定される。   Thereafter, when the photometric processing routine is started again after a short time, the operation of step SP1 is executed again. In the determination process in step SP1, the correction timing depends on whether or not the continuous energization time from the previous correction operation (steps SP4 and SP5) related to the photometric error of the image sensor 7 further exceeds the predetermined time T1. Whether or not has arrived is determined.

撮像素子7に関する前回の補正動作からの連続通電時間がさらに所定時間T1を経過するまでは、ステップSP1からステップSP9に進み、輝度値bvが式(7)に基づいて算出される。このとき、ずれ量Leとしては、前回の補正タイミングで算出された値が用いられる。その結果、ずれ量Leに起因する輝度値のずれΔbvが適切に補正され、より正確な輝度値bvが算出されることになる。   The process proceeds from step SP1 to step SP9 until the continuous energization time from the previous correction operation relating to the image sensor 7 further exceeds the predetermined time T1, and the luminance value bv is calculated based on the equation (7). At this time, the value calculated at the previous correction timing is used as the deviation amount Le. As a result, the luminance value deviation Δbv caused by the deviation amount Le is appropriately corrected, and a more accurate luminance value bv is calculated.

そして、このような測光センサ79の輝度値bv0に基づく補正処理が施され、補正後の輝度値bvに基づく露出制御が施されると、明るさが適切に調節された画像が得られるようになる。具体的には、再開後のライブビュー画像は、より適切な露出処理が施された画像として得られる。また、このような補正後の輝度値に基づく測光処理を施して撮影された記録用静止画像も、より適切な露出処理が施された画像として得られる。   Then, when such correction processing based on the luminance value bv0 of the photometric sensor 79 is performed and exposure control based on the corrected luminance value bv is performed, an image whose brightness is appropriately adjusted is obtained. Become. Specifically, the resumed live view image is obtained as an image subjected to a more appropriate exposure process. Further, a recording still image shot by performing a photometric process based on such a corrected luminance value is also obtained as an image subjected to a more appropriate exposure process.

以上のように、この実施形態における撮像装置1によれば、主ミラー61をミラーアップ位置PS1に移動して撮像素子7を含む空間SUを遮光状態にし、当該遮光状態における測光センサ79の測光値に基づいて撮像素子7の測光誤差Δbvを算出することができる。その結果、撮像素子5,7によって取得される画像の画質低下を回避することが可能である。   As described above, according to the imaging apparatus 1 in this embodiment, the main mirror 61 is moved to the mirror-up position PS1, the space SU including the imaging element 7 is blocked, and the photometric value of the photometric sensor 79 in the blocked state. The photometric error Δbv of the image sensor 7 can be calculated based on the above. As a result, it is possible to avoid the deterioration of the image quality of the images acquired by the image sensors 5 and 7.

また、特に、連続通電時間が所定時間経過したことに応答して、主ミラー61をミラーアップ状態にして空間SUを遮光状態にするとともに、当該遮光状態における測光センサ79の出力信号を取得して、撮像素子7の測光誤差が補正されている。すなわち、撮像素子7に関する測光値補正処理が自動的に実行されている。したがって、ユーザが特別の操作を行うことを要することなく、連続通電状態の撮像素子7の温度上昇に起因する測光誤差を補正することが可能である。   In particular, in response to the continuous energization time having passed for a predetermined time, the main mirror 61 is brought into the mirror-up state to place the space SU in the light shielding state, and the output signal of the photometric sensor 79 in the light shielding state is acquired. The photometric error of the image sensor 7 is corrected. That is, the photometric value correction process for the image sensor 7 is automatically executed. Therefore, it is possible to correct the photometric error due to the temperature rise of the imaging element 7 in the continuously energized state without requiring the user to perform a special operation.

<5.変形例>
以上、この発明の実施の形態について説明したが、この発明は上記説明した内容のものに限定されるものではない。
<5. Modification>
Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the contents described above.

例えば、上記実施形態においては、ミラーアップ位置において主ミラー61が焦点板63に近接する場合を例示したが、これに限定されず、ミラーアップ位置において主ミラー61が焦点板63に接触するようにしてもよい。   For example, in the above-described embodiment, the case where the main mirror 61 is close to the focusing screen 63 at the mirror-up position is illustrated, but the present invention is not limited to this, and the main mirror 61 is in contact with the focusing screen 63 at the mirror-up position. May be.

また、上記実施形態においては、連続通電時間が所定時間のN倍に到達するごとに、撮像素子7に関するずれ量Leの算出動作等を行う場合を例示したが、これに限定されない。   Moreover, in the said embodiment, although the case where the calculation operation | movement etc. of deviation | shift amount Le regarding the image pick-up element 7 was performed whenever the continuous energization time reached N time of predetermined time was illustrated, it is not limited to this.

例えば、撮像素子7の連続通電時間が第1の時間T1経過したときだけでなく、他の時間、具体的には、第2の経過時間T2(時間T1の1.5倍等)、および第3の時間T3(時間T1の5.3倍等)が経過したときなどにおいて、補正タイミングが到来したと判定するようにしてもよい。   For example, not only when the continuous energization time of the image sensor 7 has elapsed the first time T1, but also other times, specifically, the second elapsed time T2 (1.5 times the time T1, etc.), and the first For example, it may be determined that the correction timing has come when a time T3 of 3 (5.3 times the time T1) has elapsed.

あるいは、撮影指示入力に応答してミラーアップ状態になるタイミングを補正タイミングとして判定し、当該補正タイミングの到来に応答して撮像素子7に関する補正動作等を行うようにしてもよい。具体的には、操作者からの撮影指示入力に応答して主ミラー61をミラーアップ位置PS1に移動し空間SUを遮光状態にするとともに、当該遮光状態における撮像素子7に関するパラメータ値と当該遮光状態における測光センサ79の測光値とに基づいて、撮像素子7の測光値の補正動作を行うことが可能である。特に、EVF方式による構図決め動作時においては、アイピースシャッタ16が既に閉じているため、主ミラー61をミラーアップ位置に移動することによって遮光状態を容易に形成することができる。また、OVF方式による構図決め動作時においては、アイピースシャッタ16が開いているが、一旦、アイピースシャッタ16を閉じることによって遮光状態を形成し、当該遮光状態を利用して撮像素子7に関する測光値の補正動作を行うようにしてもよい。   Alternatively, the timing when the mirror is raised in response to the imaging instruction input may be determined as the correction timing, and the correction operation related to the image sensor 7 may be performed in response to the arrival of the correction timing. Specifically, in response to an imaging instruction input from the operator, the main mirror 61 is moved to the mirror-up position PS1 to place the space SU in a light-shielded state, and the parameter values related to the image sensor 7 in the light-shielded state and the light-shielded state. Based on the photometric value of the photometric sensor 79, the photometric value of the image sensor 7 can be corrected. In particular, at the time of the composition determination operation by the EVF method, since the eyepiece shutter 16 is already closed, the light shielding state can be easily formed by moving the main mirror 61 to the mirror up position. Further, at the time of the composition determination operation by the OVF method, the eyepiece shutter 16 is open, but once the eyepiece shutter 16 is closed, a light-shielding state is formed, and using the light-shielding state, a photometric value relating to the image sensor 7 is obtained. A correction operation may be performed.

あるいは、図21に示すように、撮像装置1において撮像素子7の近傍等に温度計78をさらに設けておき、温度計78による測定温度が所定値(例えば40℃)に到達すると、主ミラー61をミラーアップ位置PS1に移動し空間SUを遮光状態にするとともに、当該遮光状態における測光センサ79の出力信号を取得して撮像素子7の測光誤差を算出するようにしてもよい。温度計78による測定温度を利用することによれば、連続通電時間以外に起因する温度変化、例えば、環境温度の変化等による撮像素子7の温度変化にも好適に対応することが可能である。   Alternatively, as shown in FIG. 21, in the imaging apparatus 1, a thermometer 78 is further provided in the vicinity of the imaging device 7, and when the temperature measured by the thermometer 78 reaches a predetermined value (for example, 40 ° C.), the main mirror 61. May be moved to the mirror-up position PS1 to place the space SU in a light shielding state, and an output signal of the photometric sensor 79 in the light shielding state may be acquired to calculate a photometric error of the image sensor 7. By using the temperature measured by the thermometer 78, it is possible to suitably cope with a temperature change caused by a time other than the continuous energization time, for example, a temperature change of the image sensor 7 due to a change in environmental temperature or the like.

さらには、温度計78による測定温度が所定レベル変化するごとに、主ミラー61をミラーアップ位置PS1に移動し空間SUを遮光状態にするとともに、当該遮光状態における測光センサ79の出力信号を取得して撮像素子7の測光誤差を算出するようにしてもよい。例えば、測定温度が5℃変化するごとに、遮光状態を利用した上述の測光誤差補正処理を実行するようにしてもよい。   Further, each time the temperature measured by the thermometer 78 changes by a predetermined level, the main mirror 61 is moved to the mirror up position PS1 to place the space SU in the light shielding state, and the output signal of the photometric sensor 79 in the light shielding state is acquired. Thus, the photometric error of the image sensor 7 may be calculated. For example, every time the measured temperature changes by 5 ° C., the above-mentioned photometric error correction process using the light shielding state may be executed.

なお、温度計78は、撮像素子7の温度をより正確に反映させるため、撮像素子7の近傍に設置されること、あるいは、撮像素子7に組み込まれて設置されることが好ましい。ただし、これに限定されず、撮像装置1の任意の位置に温度計78を設置するようにしてもよい。   The thermometer 78 is preferably installed in the vicinity of the image sensor 7 or installed in the image sensor 7 in order to reflect the temperature of the image sensor 7 more accurately. However, the present invention is not limited to this, and the thermometer 78 may be installed at an arbitrary position of the imaging apparatus 1.

また、上記実施形態においては、主ミラー61をミラーアップ状態にするとともにアイピースシャッタ16を閉じることによって、撮像素子7の存在空間SUを遮光状態にする場合を例示したが、これに限定されない。   Further, in the above-described embodiment, the case where the main mirror 61 is in the mirror-up state and the eyepiece shutter 16 is closed to place the existence space SU of the image sensor 7 in the light-shielding state is illustrated, but the present invention is not limited thereto.

たとえば、撮像装置1がアイピースシャッタ16を自動的に閉じる代わりに、操作者がアイピースカバー17を図22に示すように撮像装置1に装着するようにしてもよい。アイピースカバー17がファインダ窓10を覆うように配置された状態において、主ミラー61がミラーアップ位置PS1に移動することによって、上部空間SUの遮光状態を形成することができる。なお、図22は、ストラップ18に付属するタイプのアイピースカバー17が、撮像装置1の背面側においてファインダ窓10を覆うように装着されている状態を示す図である。   For example, instead of the image pickup apparatus 1 automatically closing the eyepiece shutter 16, the operator may attach the eyepiece cover 17 to the image pickup apparatus 1 as shown in FIG. In a state where the eyepiece cover 17 is disposed so as to cover the finder window 10, the main mirror 61 moves to the mirror up position PS <b> 1, whereby the light shielding state of the upper space SU can be formed. FIG. 22 is a diagram showing a state in which an eyepiece cover 17 of the type attached to the strap 18 is attached so as to cover the finder window 10 on the back side of the imaging device 1.

より詳細には、測定誤差を補正する補正タイミングにおいて、アイピースカバー17を装着すべき旨を背面モニタ12などの表示部に表示して、操作者によるアイピースカバー17の装着を促すようにしてもよい。そして、操作者によってアイピースカバー17が装着され且つ操作者からの更なる操作入力(補正処理開始指示入力)が受け付けられたときに、撮像装置1は主ミラー61を跳ね上げてミラーアップ状態にするとともに、上述の測光誤差補正処理を実行するようにすればよい。   More specifically, at the correction timing for correcting the measurement error, an indication that the eyepiece cover 17 should be attached may be displayed on the display unit such as the rear monitor 12 so as to encourage the operator to attach the eyepiece cover 17. . When the eyepiece cover 17 is attached by the operator and a further operation input (correction processing start instruction input) is received from the operator, the imaging apparatus 1 jumps up the main mirror 61 to enter the mirror-up state. At the same time, the above-mentioned photometric error correction process may be executed.

また、この場合には、アイピースカバー17が実際には装着されていないことも想定されるので、次のようにして空間SUにおいて遮光状態が実現されていることを確認することが好ましい。   Further, in this case, since it is assumed that the eyepiece cover 17 is not actually mounted, it is preferable to confirm that the light shielding state is realized in the space SU as follows.

例えば、撮像素子7の全画素の平均値を求めるとともに、当該全画素の平均値が当該所定の閾値TH2以下である場合に、空間SUの遮光状態が実現されていると判定するようにすることができる。これによれば、撮像素子7における全体的な明るさを検出して、空間SUの遮光状態が実現されているか否かを判定することができる。したがって、撮像素子7の測光誤差補正動作を遮光状態にて実行することを確実化することができる。   For example, the average value of all the pixels of the image sensor 7 is obtained, and when the average value of all the pixels is equal to or less than the predetermined threshold value TH2, it is determined that the light shielding state of the space SU is realized. Can do. According to this, it is possible to detect whether or not the light shielding state of the space SU is realized by detecting the overall brightness in the image sensor 7. Therefore, it can be ensured that the photometric error correction operation of the image sensor 7 is performed in a light-shielded state.

あるいは、測光センサ79の測光結果に基づいて、空間SUの明るさが所定レベル以下であることを確認することによって、空間SUが遮光状態であることを確認するようにしてもよい。   Or you may make it confirm that space SU is a light-shielding state by confirming that the brightness of space SU is below a predetermined level based on the photometry result of the photometry sensor 79. FIG.

また、上述の測光誤差補正処理は、理想的には完全な遮光状態で実行されることが好ましいが、必ずしも完全な遮光状態で実行されることを要しない。不完全な遮光状態であっても、ずれ量Leを求めることが可能である。   The above-mentioned photometric error correction process is ideally performed in a completely light-shielded state, but it is not necessarily required to be performed in a completely light-shielded state. Even in an incomplete light shielding state, the shift amount Le can be obtained.

また、上記実施形態においては、黒レベル補正回路53(図3)は、初期設定における黒レベル補正(例えば、基準温度(25℃)における撮像素子7等の黒レベル補正)を実行するものであることを前提としている。換言すれば、上記実施形態における黒レベル補正回路53は、黒レベルのずれ量Leに基づき撮像素子7の黒レベル自体を補正するものではない。ただし、これに限定されず、黒レベル補正回路53を用いて、黒レベルのずれ量Leに基づいて撮像素子7の黒レベル自体を補正するようにしてもよい。この場合には、ステップSP9において、上記の式(7)に代えて上記の式(1)を用い、当該式(1)において黒レベル補正後の画素値Lを代入して輝度値bvを求めるようにすればよい。   In the above embodiment, the black level correction circuit 53 (FIG. 3) executes black level correction in the initial setting (for example, black level correction of the image sensor 7 or the like at the reference temperature (25 ° C.)). It is assumed that. In other words, the black level correction circuit 53 in the above embodiment does not correct the black level itself of the image sensor 7 based on the black level deviation amount Le. However, the present invention is not limited to this, and the black level of the image sensor 7 may be corrected based on the black level deviation amount Le using the black level correction circuit 53. In this case, in step SP9, the above equation (1) is used instead of the above equation (7), and the pixel value L after black level correction is substituted in the equation (1) to obtain the luminance value bv. What should I do?

また、上記実施形態においては、撮影者の物理的な操作力を利用して(いわば手動で)ミラー65eの角度を変更する場合を例示しているが、これに限定されない。例えば、スイッチ操作に応じて、モータ等の駆動装置を利用してミラー65e等の角度を自動的に変更し、電気的にOVFモードとEVFモードとを切り替えるようにしてもよい。   Moreover, although the case where the angle of the mirror 65e is changed using the physical operation force of the photographer (manually so to speak) is illustrated in the above embodiment, the present invention is not limited to this. For example, the angle of the mirror 65e or the like may be automatically changed using a driving device such as a motor in accordance with a switch operation, and the OVF mode and the EVF mode may be switched electrically.

また、上記実施形態においては、EVFモードとOVFモードとを操作者の指示入力に応じて切り替える場合を例示しているが、これに限定されない。例えば、図23に示すように、接眼部(ファインダ窓10)付近に、対象物の接近を感知する接眼センサ68を設けておき、当該接眼センサ68の検出結果に応じて、EVFモードとOVFモードとを自動的に切り替えるようにしてもよい。具体的には、当該接眼センサ68によって操作者の眼部の接近を検出するとEVFモードに切り替え、当該接眼センサ68によって操作者の眼部の離遠を検出するとOVFモードに切り替えるようにしてもよい。なお、この場合には、モータ等の駆動装置を利用することなどによって、ミラー65e等の角度を変更すればよい。   Moreover, in the said embodiment, although the case where the EVF mode and OVF mode are switched according to an operator's instruction input is illustrated, it is not limited to this. For example, as shown in FIG. 23, an eye sensor 68 that senses the approach of an object is provided in the vicinity of the eyepiece (finder window 10), and the EVF mode and the OVF according to the detection result of the eye sensor 68. The mode may be switched automatically. Specifically, when the eyepiece sensor 68 detects the approach of the operator's eye, the mode is switched to the EVF mode, and when the eyepiece sensor 68 detects the distance of the operator's eye, the mode is switched to the OVF mode. . In this case, the angle of the mirror 65e and the like may be changed by using a driving device such as a motor.

また、上記実施形態においては、ミラー65eの反射角度を変更し観察用光束の進路を変更することなどによって、EVF表示を実現する場合を例示したが、これに限定されない。例えば、上述の従来技術のような撮像装置、具体的には、被写体像の光路に対して進退可能な可動反射ミラーをファインダ光学系の接眼レンズ67の付近の光路内に設けることによって、ライブビュー表示を実現する撮像装置において、本発明の思想を適用し、ミラーアップ時の遮光状態において撮像素子7の測光誤差補正等を行うようにしてもよい。   Moreover, although the case where EVF display was implement | achieved by changing the reflection angle of the mirror 65e and changing the course of the observation light beam etc. was illustrated in the said embodiment, it is not limited to this. For example, an image pickup apparatus such as the above-described prior art, specifically, a live view is provided by providing a movable reflection mirror that can advance and retreat with respect to the optical path of the subject image in the optical path near the eyepiece lens 67 of the finder optical system. In the imaging apparatus that realizes the display, the concept of the present invention may be applied to correct the photometric error of the imaging element 7 in a light-shielded state when the mirror is raised.

また、上記実施形態においては、本発明の思想をデジタルカメラに適用する場合について例示したが、これに限定されず、本発明の思想をフィルム式のカメラに適用することも可能である。具体的には、撮像素子5を設けることなく、撮像素子5の撮像面の位置にフィルムの撮像面を配置すればよい。   In the above embodiment, the case where the idea of the present invention is applied to a digital camera has been illustrated. However, the present invention is not limited to this, and the idea of the present invention can also be applied to a film-type camera. Specifically, the image pickup surface of the film may be disposed at the position of the image pickup surface of the image pickup device 5 without providing the image pickup device 5.

撮像装置の正面外観図である。It is a front external view of an imaging device. 撮像装置の背面外観図である。It is a back external view of an imaging device. 撮像装置の機能構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the function structure of an imaging device. 撮像装置の断面図(OVF方式の構図決め動作時)である。2 is a cross-sectional view of the imaging apparatus (during OVF composition determination operation). FIG. 撮像装置の断面図(EVF方式の構図決め動作時)である。It is sectional drawing (at the time of composition determination operation | movement of an EVF system) of an imaging device. 撮像装置の断面図(OVF方式の構図決め動作後の露光動作時)である。It is sectional drawing (at the time of exposure operation after composition determination operation | movement of an OVF system) of an imaging device. 撮像装置の上面図である。It is a top view of an imaging device. ミラーの駆動機構(角度変更機構)を示す概略図である。It is the schematic which shows the drive mechanism (angle changing mechanism) of a mirror. 切換ダイヤル付近の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of a switching dial vicinity. OVF方式の構図決め動作における検出状態を示す図である。It is a figure which shows the detection state in the composition determination operation | movement of an OVF system. EVF方式の構図決め動作における検出状態を示す図である。It is a figure which shows the detection state in the composition determination operation | movement of an EVF system. ペンタミラー付近の一部拡大図である。It is a partially enlarged view of the vicinity of the pentamirror. 測光センサの平面図である。It is a top view of a photometric sensor. 測光センサの入出力特性を示す図である。It is a figure which shows the input / output characteristic of a photometric sensor. 撮像素子による測光処理の入出力特性を示す図である。It is a figure which shows the input / output characteristic of the photometry process by an image pick-up element. 撮像装置の断面図(EVF方式の構図決め動作後の露光動作時)である。It is sectional drawing (at the time of exposure operation after composition determination operation | movement of an EVF system) of an imaging device. 焦点板付近の様子(ミラーダウン状態)を示す一部拡大図である。It is a partially enlarged view showing a state in the vicinity of the focusing screen (mirror down state). 焦点板付近の様子(ミラーアップ状態)を示す一部拡大図である。It is a partially enlarged view showing a state in the vicinity of the focusing screen (mirror up state). ホルダ等の分解斜視図である。It is a disassembled perspective view of a holder etc. 測光処理ルーチンにおける処理の流れを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the flow of a process in a photometry process routine. 温度計を備えた撮像装置を示す図である。It is a figure which shows the imaging device provided with the thermometer. アイピースカバーが装着された撮像装置を示す外観背面図である。It is an external appearance rear view which shows the imaging device with which the eyepiece cover was mounted | worn. 接眼センサを備えた撮像装置を示す図である。It is a figure which shows the imaging device provided with the eyepiece sensor.

符号の説明Explanation of symbols

1 撮像装置
5,7 撮像素子
6 ミラー機構
10 ファインダ窓
12 背面モニタ
16 アイピースシャッタ
61 主ミラー
65 ペンタミラー
78 温度計
79 測光センサ
63 焦点板
SU 上部空間
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Image pick-up device 5,7 Image pick-up element 6 Mirror mechanism 10 Finder window 12 Rear monitor 16 Eyepiece shutter 61 Main mirror 65 Penta mirror 78 Thermometer 79 Photometric sensor 63 Focus plate SU Upper space

Claims (6)

撮像装置であって、
撮影光学系からの光束であって主反射面で反射された光束である観察用光束をファインダ窓へと導くことが可能なファインダ光学系と、
前記観察用光束を受光して画像信号を生成する撮像素子と、
前記撮像素子の前記画像信号に基づいて、前記観察用光束の明るさに関する測定値を算出する算出手段と、
前記撮像素子とは別個に設けられる測光センサと、
前記主反射面をミラーアップ位置に移動して前記撮像素子と前記測光センサとを含む所定の空間を遮光状態にし、当該遮光状態における前記測光センサの出力信号に基づいて、前記撮像素子による前記測定値を補正する制御手段と、
を備えることを特徴とする撮像装置。
An imaging device comprising:
A finder optical system capable of guiding an observation light beam, which is a light beam from the imaging optical system and reflected by the main reflecting surface, to the finder window;
An image sensor that receives the observation beam and generates an image signal;
Calculation means for calculating a measurement value relating to the brightness of the observation light beam based on the image signal of the image sensor;
A photometric sensor provided separately from the image sensor;
The main reflection surface is moved to a mirror-up position to place a predetermined space including the image sensor and the photometric sensor in a light-shielded state, and the measurement by the image sensor is performed based on an output signal of the photometric sensor in the light-shielded state. Control means for correcting the value;
An imaging apparatus comprising:
請求項1に記載の撮像装置において、
前記制御手段は、当該遮光状態における前記測光センサの出力信号に基づいて、前記撮像素子の黒レベルのずれ量を算出することを特徴とする撮像装置。
The imaging apparatus according to claim 1,
The control unit calculates an amount of black level deviation of the image sensor based on an output signal of the photometric sensor in the light shielding state.
請求項1に記載の撮像装置において、
前記制御手段は、前記撮像素子の連続通電時間が所定時間に到達すると、前記主反射面を前記ミラーアップ位置に移動し前記所定の空間を前記遮光状態にするとともに、当該遮光状態における前記測光センサの前記出力信号を取得することを特徴とする撮像装置。
The imaging apparatus according to claim 1,
When the continuous energization time of the image sensor reaches a predetermined time, the control means moves the main reflecting surface to the mirror-up position to place the predetermined space in the light shielding state, and the photometric sensor in the light shielding state The image pickup apparatus is characterized in that the output signal is acquired.
請求項1に記載の撮像装置において、
温度計、
をさらに備え、
前記制御手段は、前記温度計による測定温度が所定値になると、前記主反射面を前記ミラーアップ位置に移動し前記所定の空間を前記遮光状態にするとともに、当該遮光状態における前記測光センサの前記出力信号を取得することを特徴とする撮像装置。
The imaging apparatus according to claim 1,
thermometer,
Further comprising
When the temperature measured by the thermometer reaches a predetermined value, the control means moves the main reflection surface to the mirror-up position to place the predetermined space in the light-shielding state, and the photometric sensor in the light-shielding state An imaging device characterized by acquiring an output signal.
請求項1に記載の撮像装置において、
温度計、
をさらに備え、
前記制御手段は、前記温度計による測定温度が所定レベル変化すると、前記主反射面を前記ミラーアップ位置に移動し前記所定の空間を前記遮光状態にするとともに、当該遮光状態における前記測光センサの前記出力信号を取得することを特徴とする撮像装置。
The imaging apparatus according to claim 1,
thermometer,
Further comprising
When the temperature measured by the thermometer changes by a predetermined level, the control means moves the main reflecting surface to the mirror-up position to bring the predetermined space into the light-shielding state, and the photometric sensor in the light-shielding state An imaging device characterized by acquiring an output signal.
請求項1に記載の撮像装置において、
前記撮像素子により取得される時系列の画像を表示する表示手段、
をさらに備え、
前記制御手段は、前記主反射面が前記ミラーアップ位置に存在する期間においては、前記主反射面が前記ミラーアップ位置に移動する前に前記撮像素子によって取得された画像を、前記表示手段に表示することを特徴とする撮像装置。
The imaging apparatus according to claim 1,
Display means for displaying time-series images acquired by the image sensor;
Further comprising
The control means displays on the display means an image acquired by the imaging element before the main reflection surface moves to the mirror-up position during a period in which the main reflection surface exists at the mirror-up position. An imaging apparatus characterized by:
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