JP2008303090A

JP2008303090A - Alkali-proof chemically modified silica gel and method for producing the same

Info

Publication number: JP2008303090A
Application number: JP2007150066A
Authority: JP
Inventors: Maki Inoue; 真樹井上; Takayuki Sato; 隆之佐藤; Hiroyoshi Miyahara; 浩嘉宮原; Kazuhiko Yamada; 和彦山田; Toru Shimoyama; 徹下山; Noriaki Miyake; 徳顕三宅; Yuukai Suzuki; 悠介鈴木
Original assignee: AGC Si Tech Co Ltd
Current assignee: AGC Si Tech Co Ltd
Priority date: 2007-06-06
Filing date: 2007-06-06
Publication date: 2008-12-18

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a means to easily prepare a chemically modified silica gel excellent in alkali resistance and usable as a column for liquid chromatography for a prolonged time without deteriorating separation performance, by improving the alkali resistance of a chemically modified silica gel. <P>SOLUTION: When silica gel is reacted with a chemical modifier to produce a chemically modified silica gel, the reaction of the silica gel with the chemical modifier is carried out under microwave irradiation, the silica gel preferably has a specific surface area of 1-5,000 m<SP>2</SP>/g, the chemical modifier is a silane compound reacting with a silanol group on the silica gel surface, and the microwave for irradiation is preferably in a range of 300 MHz to 300 GHz in terms of magnetron frequency. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、耐アルカリ性に優れた化学修飾型シリカゲルの製造方法に関し、特に、耐アルカリ性に優れた液体クロマトグラフィー用に好適な化学修飾型シリカゲルの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a chemically modified silica gel excellent in alkali resistance, and particularly relates to a method for producing a chemically modified silica gel suitable for liquid chromatography having excellent alkali resistance.

化学修飾型シリカゲルは、多孔質シリカゲル表面のシラノール基〔−Ｓｉ（ＯＨ）_n、（n＝１，２，３）〕を、クロロシラン基、メトキシシラン基、エトキシシラン基等の化学修飾基と反応せしめて機能性基を導入し、表面改質したものであって、例えば、クロマトグラフィー用分離吸着剤、固定化酵素用担体、プラスチック充填剤、アンチブロッキング充填剤、化粧品原料等に好適に使用されている。 Chemically modified silica gel reacts silanol groups [—Si (OH) _n , (n = 1, 2, 3)] on the surface of porous silica gel with chemically modified groups such as chlorosilane groups, methoxysilane groups, and ethoxysilane groups. The functional group is introduced and the surface is modified, and is suitably used, for example, as a separation adsorbent for chromatography, a carrier for immobilized enzyme, a plastic filler, an antiblocking filler, a cosmetic raw material, etc. ing.

化学修飾型シリカゲルは、特に、液体クロマトグラフィー用カラム充填剤として、一般有機化合物、医薬品、農薬、化粧品、食品、タンパク質、糖質、低分子ペプチド、核酸、生薬、天然物中の有効成分などの広範な分野において、対象成分の分離、分析、精製用に広く用いられている。 Chemically modified silica gel is used as a column filler for liquid chromatography, especially for general organic compounds, pharmaceuticals, agricultural chemicals, cosmetics, foods, proteins, carbohydrates, low molecular peptides, nucleic acids, crude drugs, active ingredients in natural products, etc. It is widely used for separation, analysis and purification of target components in a wide range of fields.

化学修飾型シリカゲルは、特に液体クロマトグラフィー用カラム充填剤として非常に有用なものであるが、ただ基本的に、アルカリ水溶液に弱く、特に強アルカリ液下では、シリカゲルの一部が溶解してしまうという欠点がある。すなわち、当該化学修飾型シリカゲルを、液体クロマトグラフィー用カラム充填剤として用い、アルカリ水溶液と有機溶媒との混合液を溶離液として通液した場合に、充填剤である化学修飾型シリカゲルが侵食され、次第に充填層の有効高さが減少し、分離溶質（対象成分）の分離性能が低下したり、甚だしい場合にはカラムが閉塞して圧力損失が著しく増大し運転不能に陥る等、短時間でカラム寿命が短くなるという問題がある。 Chemically modified silica gel is very useful as a column filler for liquid chromatography. However, it is basically weak against alkaline aqueous solution, and part of the silica gel dissolves especially under strong alkaline solution. There is a drawback. That is, when the chemically modified silica gel is used as a column filler for liquid chromatography and a mixed liquid of an alkaline aqueous solution and an organic solvent is passed as an eluent, the chemically modified silica gel as a filler is eroded, The effective height of the packed bed gradually decreases, the separation performance of the separated solute (target component) decreases, and in severe cases, the column becomes clogged and the pressure loss increases remarkably, resulting in inoperability. There is a problem that the lifetime is shortened.

従来、多孔質シリカゲルを化学修飾するに際し、耐アルカリ性に優れた化学修飾型シリカゲルを得る方法しては、いくつかの方法が知られている。 Conventionally, when chemically modifying porous silica gel, several methods are known as methods for obtaining chemically modified silica gel excellent in alkali resistance.

例えば高温でエンドキャップ反応（エンドキャッピング）させる方法（例えば、特許文献１、２を参照。）や複数の反応促進剤（アミン化合物）を用いてエンドキャッピングする方法（例えば、特許文献３を参照。）が提案されているが、高温で反応する設備が必要であったり、反応促進剤の使用方法が煩雑であったりして、必ずしも容易に実施できる方法ではなく、実用に適した方法とは言いがたかった。 For example, a method of performing an end cap reaction (end capping) at a high temperature (see, for example, Patent Documents 1 and 2) and a method of performing end capping using a plurality of reaction accelerators (amine compounds) (for example, see Patent Document 3). However, this method is not always easy to implement because it requires equipment that reacts at high temperatures or the use of reaction accelerators is complicated, and it is said to be a method suitable for practical use. I wanted to.

また、一般的な多孔質シリカゲルについては、その耐アルカリ性を高めるための、いくつかの方法が知られている。
例えば、シリカゲルを塩酸ジルコニア、硝酸ジルコニア等のジルコニル塩水溶液と接触させることにより、シリカゲル中にジルコニア成分を坦持させ、その耐アルカリ性を向上させることが知られている（例えば、特許文献４を参照。）。 Moreover, about the general porous silica gel, several methods for improving the alkali resistance are known.
For example, it is known that silica gel is brought into contact with an aqueous solution of a zirconia salt such as zirconia hydrochloride or zirconia nitrate, thereby supporting the zirconia component in the silica gel and improving its alkali resistance (see, for example, Patent Document 4). .)

さらに、シリカゲルの表面にポリブチラールを主成分とする被膜層を、２〜３μｍ程度形成することにより、耐水性とともに、耐アルカリ性を高めることが提案されている（例えば、特許文献５を参照。） Furthermore, it has been proposed to increase the alkali resistance as well as the water resistance by forming a coating layer mainly composed of polybutyral on the surface of silica gel to have a thickness of about 2 to 3 μm (see, for example, Patent Document 5).

しかしながら、これらの方法は、基本的に化学修飾されていない場合のシリカゲルに適用される方法であって、化学修飾型シリカゲルの耐アルカリ性向上については、必ずしもそのまま適用できるものではなかった。 However, these methods are basically methods applied to silica gel when not chemically modified, and the improvement in alkali resistance of chemically modified silica gel is not necessarily applicable as it is.

また、さらに本発明者らにより、特定のカルボン酸及び／又はその酸ハロゲン化物や酸無水物等のカルボン酸誘導体で多孔質シリカゲルを処理し、これを化学修飾することにより優れた耐アルカリ性を有するシリカゲルを得ることが提案されている（特許文献６を参照。）。しかしながら、惜しむらくは、まず酸で処理する工程を実施する必要があり、製造工程上必ずしも簡素な方法ではなかった。
Furthermore, the present inventors have excellent alkali resistance by treating porous silica gel with a specific carboxylic acid and / or a carboxylic acid derivative such as an acid halide or acid anhydride thereof and chemically modifying the same. It has been proposed to obtain silica gel (see Patent Document 6). However, it has been necessary to first carry out the step of treating with an acid, which is not always a simple method in the manufacturing process.

特開２００２−２２７２１号公報（特許請求の範囲（請求項１〜４））JP 2002-22721 A (Claims (Claims 1 to 4)) 特許第２６１１５４５号公報（特許請求の範囲（請求項１〜４））Japanese Patent No. 2611545 (Claims (Claims 1 to 4)) 特開平２００３−１７２７３３号公報（特許請求の範囲（請求項１〜９））JP 2003-172733 A (Claims (Claims 1 to 9)) 特許平２−１８８４２０号公報（特許請求の範囲）Japanese Patent No. 2-188420 (Claims) 特開平７−２６７６２６号公報（特許請求の範囲、第３頁、第３欄、第８行〜第１０行）JP-A-7-267626 (Claims, page 3, column 3, lines 8 to 10) 特開平２００５−１５４１９７号公報（特許請求の範囲（請求項１〜１０））Japanese Patent Laying-Open No. 2005-154197 (Claims (Claims 1 to 10))

本発明の目的は上記したごとく、基本的に化学修飾型シリカゲルの耐アルカリ性を向上させることであって、従来の化学修飾型シリカゲルが、生化学、生理活性物質、光学異性体の分割、高度脂肪酸等の分離に液体クロマトグラフィー用カラムとして極めて好ましく使用されているところ、耐アルカリ性に乏しいため、常用されるアルカリ水溶液と有機溶媒との混合溶離液を用いると、シリカゲルが溶解し、短時間に分離性能が低下するという大きな問題があり、その解決が多くのユーザーから強く望まれていた。本発明はかかる課題を解決し、長時間分離性能の低下を伴うことなく使用可能である耐アルカリ性に優れた化学修飾型シリカゲルをより簡易（シンプル）な手段で製造する方法を提供することである。 As described above, the object of the present invention is basically to improve the alkali resistance of chemically modified silica gel, and the conventional chemically modified silica gel is biochemical, bioactive substance, resolution of optical isomers, highly fatty acid. It is extremely preferably used as a column for liquid chromatography for separation, etc., but because of poor alkali resistance, using a commonly used mixed eluent of alkaline aqueous solution and organic solvent dissolves silica gel and separates in a short time There is a big problem that the performance is lowered, and the solution has been strongly desired by many users. The present invention is to solve such problems and to provide a method for producing a chemically modified silica gel excellent in alkali resistance that can be used without degrading separation performance for a long time by a simpler (simple) means. .

本発明に従えば、以下の耐アルカリ性に優れた化学修飾型シリカゲルの製造方法が提供される。 According to the present invention, the following method for producing chemically modified silica gel excellent in alkali resistance is provided.

〔１〕
シリカゲルを化学修飾剤と反応させて化学修飾型シリカゲルを製造するに際し、当該シリカゲルと化学修飾剤との反応をマイクロ波照射下に行うことを特徴とする耐アルカリ性化学修飾型シリカゲルの製造方法。 [1]
A method for producing an alkali-resistant chemically modified silica gel, characterized in that when a silica gel is reacted with a chemical modifier to produce a chemically modified silica gel, the reaction between the silica gel and the chemical modifier is performed under microwave irradiation.

〔２〕
前記シリカゲルが、１〜５，０００ｍ²／ｇの比表面積を持つことを特徴とする〔１〕に記載の耐アルカリ性化学修飾型シリカゲルの製造方法。 [2]
The method for producing an alkali-resistant chemically modified silica gel according to [1], wherein the silica gel has a specific surface area of 1 to 5,000 m ² / g.

〔３〕
前記化学修飾剤が、少なくとも当該シリカゲル表面のシラノール基と反応しうるシラン化合物であることを特徴とする〔１〕又は〔２〕に記載の耐アルカリ性化学修飾型シリカゲルの製造方法。 [3]
The method for producing an alkali-resistant chemically modified silica gel according to [1] or [2], wherein the chemical modifier is a silane compound capable of reacting at least with a silanol group on the surface of the silica gel.

〔４〕
前記照射するマイクロ波が、マグネトロン周波数として３００ＭＨｚ〜３００ＧＨｚの範囲であることを特徴とする〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の耐アルカリ性化学修飾型シリカゲルの製造方法。 [4]
The method for producing alkali-resistant chemically modified silica gel according to any one of [1] to [3], wherein the microwave to be irradiated has a magnetron frequency in the range of 300 MHz to 300 GHz.

〔５〕
さらにエンドキャップ反応を行うことを特徴とする〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載の耐アルカリ性化学修飾型シリカゲルの製造方法。 [5]
The method for producing an alkali-resistant chemically modified silica gel according to any one of [1] to [4], further comprising performing an end cap reaction.

〔６〕
当該エンドキャップ反応をマイクロ波照射下に行うことを特徴とする〔５〕に記載の耐アルカリ性化学修飾型シリカゲルの製造方法。
[6]
The method for producing an alkali-resistant chemically modified silica gel according to [5], wherein the end cap reaction is performed under microwave irradiation.

以下に詳述するごとく、本発明によれば、シリカゲルを化学修飾剤と反応させて化学修飾型シリカゲルを製造する工程を、より簡易な手段で、具体的には当該反応自体をシンプルに、かつ、より速く進行させることができる。 As will be described in detail below, according to the present invention, the process of producing a chemically modified silica gel by reacting silica gel with a chemical modifier is simpler, specifically, the reaction itself, , Can proceed faster.

しかも、当該簡易な本発明の方法によって得られた化学修飾型シリカゲルは、耐アルカリ性に優れたものであって、これをカラムに充填して液体クロマトグラフィー用に使用した場合、当該カラムにアルカリ水溶液を含む溶離液を通液しても、従来に比較して、分離溶質の分離性能を格段に長時間維持することができる。 Moreover, the chemically modified silica gel obtained by the simple method of the present invention is excellent in alkali resistance, and when this is packed in a column and used for liquid chromatography, an alkaline aqueous solution is applied to the column. Even when an eluent containing is passed, the separation performance of the separated solute can be maintained for a much longer time than in the past.

以下、本発明を詳細に説明する。
（出発シリカゲル原体）
本発明においては、出発原料であるシリカゲル原体としては、特に限定するものではないが、一般的に入手可能な範囲または通常実現可能な範囲のものとして、比表面積が、１〜５，０００ｍ²／ｇ、好ましくは１０〜５，０００ｍ²／ｇ、さらに好ましくは、比表面積１０〜１，０００ｍ²／ｇ程度のものが望ましい。また平均粒径は０．５〜１０，０００μｍ、好ましくは１〜５００μｍのものが望ましい。また平均細孔径は５〜５０００Åのものが好ましい。粒子形状は、破砕したものでもよいが、球状のものがより好ましい。かかる原料としてのシリカゲルは、市販のものが容易に入手可能であり、また、所望のものを、公知の手段により、合成することも可能である。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
(Starting silica gel base)
In the present invention, the silica gel raw material as a starting material is not particularly limited. However, the specific surface area of 1 to 5,000 m ² is generally available or normally realizable. / g, preferably 10~5,000m ² / g, more preferably of about specific surface area 10~1,000m ² / g is desirable. The average particle size is 0.5 to 10,000 μm, preferably 1 to 500 μm. The average pore diameter is preferably 5 to 5000 mm. The particle shape may be crushed, but more preferably spherical. As such a raw material, commercially available silica gel is easily available, and a desired one can be synthesized by a known means.

球状シリカゲルの製造方法の代表的な製造方法は、液／液の界面張力を利用して粒子を球形化する方法であって、例えば、特開平６−６４９１５や特開２００１−１４６４１６に記載されているように、界面活性剤を含む非極性有機ハロゲン化物溶媒中、又は炭素数９−１２程度の飽和炭化水素溶媒中で、ケイ酸アルカリ（アルカリ金属ケイ酸塩）水溶液を乳化・分散させ、生成した微小分散液滴の液／液界面における界面張力を利用して、個々の液滴を球形化せしめ、次いで、その状態で硫酸、塩酸、硝酸等の鉱酸や炭酸ガス等のゲル化剤と反応せしめてゲル化・固化せしめる方法である。 A typical method for producing spherical silica gel is a method of spheroidizing particles using the liquid / liquid interfacial tension, which is described, for example, in JP-A-6-64915 and JP-A-2001-146416. As described above, an alkali silicate (alkali metal silicate) aqueous solution is emulsified and dispersed in a non-polar organic halide solvent containing a surfactant or a saturated hydrocarbon solvent having about 9 to 12 carbon atoms. Using the interfacial tension at the liquid / liquid interface of the finely dispersed liquid droplets, the individual liquid droplets are spheroidized, and in that state, a mineralizer such as sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, and a gelling agent such as carbon dioxide gas are used. It is a method of gelling and solidifying by reacting.

得られたゲル粒子は、溶媒と分離し、熟成槽でｐＨ１〜５、３０〜１００℃程度の条件下、０．５〜５時間程度熟成処理を行う。熟成停止後、濾過・水洗することにより、微小球状のシリカヒドロゲル粒子が得られ、これを５０〜１８０℃程度で１〜８時間乾燥し、微小球状のシリカゲル粒子が得られる。なお、不定形破砕品は、この球形粒子を破砕処理することにより容易に得ることが出来る。 The obtained gel particles are separated from the solvent and subjected to aging treatment for about 0.5 to 5 hours in a aging tank under conditions of pH 1 to 5 and 30 to 100 ° C. After stopping the aging, filtration and washing with water give microspherical silica hydrogel particles, which are dried at about 50 to 180 ° C. for 1 to 8 hours to obtain microspherical silica gel particles. An irregularly crushed product can be easily obtained by crushing the spherical particles.

液／液の界面張力を利用して粒子を球形化する方法としては、その他、特開昭６１−２２７９１３に記載されているような、ケイ酸アルカリ水溶液を有機溶媒中で乳化・分散させ、上記と同様にして界面張力を利用して液滴を球形化せしめ、炭酸アンモニウムや炭酸水素ナトリウム等の炭酸塩を添加して反応・ゲル化させる方法を採用することもできる。 As a method for spheroidizing particles using the liquid / liquid interfacial tension, an aqueous alkali silicate solution as described in JP-A-61-227913 is emulsified and dispersed in an organic solvent. In the same manner as described above, it is also possible to employ a method in which droplets are formed into a spherical shape by utilizing interfacial tension, and a carbonate such as ammonium carbonate or sodium hydrogen carbonate is added to react and gel.

一方、気／液の表面張力を利用して、球形シリカゲルを得る方法を採用することも可能である。例えば、特公昭４８−１３８３４に記載されているごとく、ケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸水溶液を混合してシリカゾルを短時間で生成させると同時に、気体中に放出し、当該気体中で球形粒子としてゲル化させる方法を採用することができる。 On the other hand, it is also possible to employ a method of obtaining spherical silica gel by utilizing the surface tension of gas / liquid. For example, as described in Japanese Patent Publication No. 48-13834, a silica sol is formed in a short time by mixing an alkali silicate aqueous solution and a mineral acid aqueous solution, and at the same time, it is released into a gas and gelled as spherical particles in the gas. Can be adopted.

より具体的には、ケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸水溶液とを、放出口を備えた容器内に別個の導入口から導入、瞬間的に均一混合し、ＳｉＯ₂濃度換算で１３０ｇ／ｌ以上、ｐＨ７〜９であるシリカゾルを生成せしめ、直ちに上記放出口から、空気等の気体媒体中に放出し、空中でゲル化させる方法である。落下地点には、水を張った熟成槽を置いておき、ここに落下せしめて数分〜数１０分熟成させる。 More specifically, an alkali silicate aqueous solution and a mineral acid aqueous solution are introduced into a container provided with a discharge port from separate inlets, and instantaneously and uniformly mixed, with a SiO ₂ concentration of 130 g / l or more, pH 7 In this method, a silica sol of ˜9 is generated, and immediately discharged from the discharge port into a gaseous medium such as air and gelled in the air. A ripening tank filled with water is placed at the dropping point, and it is dropped here and aged for several minutes to several tens of minutes.

これに酸を添加してｐＨを下げて水洗後、固／液分離することにより球状のシリカヒドロゲルが得られ、さらに５０〜１８０℃程度の温度において十分乾燥することにより、球形のシリカゲル粒子を得ることができる。不定形破砕品は、同様に、この球形粒子を破砕処理することにより容易に得られる。 A spherical silica hydrogel is obtained by adding acid to this, lowering the pH and washing with water, followed by solid / liquid separation, and further drying at a temperature of about 50 to 180 ° C. to obtain spherical silica gel particles. be able to. Similarly, the irregularly crushed product can be easily obtained by crushing the spherical particles.

なお、不定形のシリカゲル破砕品粒子は、球状のシリカゲルを経由しないで得る方法も採用できる。例えば、ケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸水溶液とを反応容器内で混合してシリカゾルを短時間で生成させた後、当該容器内で液全体をゲル化させる。このゲルを直径数センチ程度の大きさに粗砕した後、ｐＨを調整した水を添加して熟成せしめ、酸を添加してｐＨを下げて熟成を停止し、水洗後、固／液分離することにより、粗大なシリカヒドロゲル粒子が得られるので、これを上記と同様にして乾燥後、所定の大きさに粉砕して、不定形の破砕品シリカゲル粒子とするのである。 In addition, the method of obtaining an irregular-shaped silica gel crushed product particle | grains without passing through a spherical silica gel is also employable. For example, an alkali silicate aqueous solution and a mineral acid aqueous solution are mixed in a reaction vessel to form a silica sol in a short time, and then the entire solution is gelled in the vessel. This gel is roughly crushed to a size of several centimeters in diameter, then water is adjusted to adjust the pH and ripened. The acid is added to lower the pH to stop ripening, and after washing with water, solid / liquid separation is performed. As a result, coarse silica hydrogel particles are obtained, and after drying in the same manner as described above, they are pulverized to a predetermined size to obtain irregular shaped silica gel particles.

なお、シリカゲル原体の比表面積等は、目的に応じて最適なものを任意に選択、または調整することができる。 In addition, the specific surface area etc. of a silica gel raw material can arbitrarily be selected or adjusted according to the objective.

（化学修飾工程）
化学修飾工程においては、上記のごときシリカゲル原体を化学修飾剤と反応せしめて、化学修飾型シリカゲルとするものである。
化学修飾剤は、一般的には共有結合によってシリカゲル表面に有機基を結合できる物質であるが、特に本発明においては、当該化学修飾剤が、少なくともシリカゲル表面のシラノール基と反応しうるシラン化合物である。
具体的に例示すると、例えばアリルクロロジメチルシラン（Allylchlorodimethylsilane）、アリルジクロロメチルシラン（Allyldichloromethylsilane）、アリルトリクロロシラン（Allyltrichlorosilane）、クロロジメチルビニルシラン（Chlorodimethylvinylsilane）、クロロメチルジメチルビニルシラン（Chloromethyldimethylvinylsilane）、ジクロロメチルビニルシラン（Dichloromethylvinylsilane）、ビニルジフェニルクロロシラン（Vinyldiphenylchlorosilane）、ビニルメチルジクロロシラン（Vinylmethyldichlorosilane）、２−シアノエチルトリクロロシラン（2-Cyanoethyltrichlorosilane）、（３−シアノプロピル）ジメチルクロロシラン（(3-Cyanopropyl)dimethylchlorosilane）、（３−シアノプロピル）トリクロロシラン（(3-Cyanopropyl)trichlorosilane）、３−（メタクリロイロキシ）プロピルトリクロロシラン（3-(Methacryloyloxy)propyltrichlorosilane）、クロロジメチルペンタフロロフェニルシラン（Chlorodimethylpentafluorophenylsilane）、 (Chemical modification process)
In the chemical modification step, the silica gel base material as described above is reacted with a chemical modifier to form a chemically modified silica gel.
The chemical modifier is generally a substance that can bond an organic group to the surface of the silica gel by a covalent bond. In particular, in the present invention, the chemical modifier is a silane compound that can react with at least a silanol group on the surface of the silica gel. is there.
Specifically, for example, allylchlorodimethylsilane, allyldichloromethylsilane, allyltrichlorosilane, chlorodimethylvinylsilane, chloromethyldimethylvinylsilane, dichloromethylvinylsilane, dichloromethylvinylsilane, etc. ), Vinyldiphenylchlorosilane, vinylmethyldichlorosilane, 2-Cyanoethyltrichlorosilane, (3-cyanopropyl) dimethylchlorosilane, (3-cyanopropyl) ) Trichlorosilane ((3-Cyanopropyl) trichlorosilane), 3- (methacryloyloxy) propyltrichlorosilane (3- (Me thacryloyloxy) propyltrichlorosilane), Chlorodimethylpentafluorophenylsilane,

３−（ヘプタフロロイソプロポキシ）プロピルジメチルクロロシラン（3-(Heptafluoroisopropoxy)propyldimethylchlorosilane）、３−（ヘプタフロロイソプロポキシ）プロピルメチルジクロロシラン（3-(Heptafluoroisopropoxy)propylmethyldichlorosilane）、３−（ヘプタフロロイソプロポキシ）プロピルトリクロロシラン（3-(Heptafluoroisopropoxy)propyltrichlorosilane）、1H,1H,2H,2H-パーフロロデシルジメチルクロロシラン（1H,1H,2H,2H-Perfluorodecyldimethylchlorosilane）、1H,1H,2H,2H-パーフロロデシルメチルジクロロシラン（1H,1H,2H,2H-Perfluorodecylmethyldichlorosilane）、1H,1H,2H,2H-パーフロロデシルトリクロロシラン（1H,1H,2H,2H-Perfluorodecyltrichlorosilane）、1H,1H,2H,2H-パーフロロオクチルジメチルクロロシラン（1H,1H,2H,2H-Perfluorooctyldimethylchlorosilane）、1H,1H,2H,2H-パーフロロオクチルメチルジクロロシラン（1H,1H,2H,2H-Perfluorooctylmethyldichlorosilane）、1H,1H,2H,2H-パーフロロオクチルトリクロロシラン（1H,1H,2H,2H-Perfluorooctyltrichlorosilane）、３，５−ビス（トリフロロメチル）フェニルジメチルクロロシラン（3,5-Bis(trifluoromethyl)phenyldimethylchlorosilane）、（３，３，３-トリフロロプロピル）ジメチルクロロシラン（(3,3,3-trifluoropropyl)dimethylchlorosilane）、（３，３，３−トリフロロプロピル）メチルジクロロシラン（(3,3,3-Trifluoropropyl)methyldichlorosilane）、 3- (Heptafluoroisopropoxy) propyldimethylchlorosilane, 3- (Heptafluoroisopropoxy) propylmethyldichlorosilane, 3- (Heptafluoroisopropoxy) propylmethyldichlorosilane, 3- (Heptafluoroisopropoxy) propylmethyldichlorosilane Trichlorosilane (3- (Heptafluoroisopropoxy) propyltrichlorosilane), 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyldimethylchlorosilane (1H, 1H, 2H, 2H-Perfluorodecyldimethylchlorosilane), 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecylmethyldichlorosilane (1H, 1H, 2H, 2H-Perfluorodecylmethyldichlorosilane), 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyltrichlorosilane (1H, 1H, 2H, 2H-Perfluorodecyltrichlorosilane), 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctyldimethylchlorosilane (1H, 1H, 2H, 2H-Perfluorooctyldimethylchlorosilane), 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctylmethyldichlorosilane (1H, 1 H, 2H, 2H-Perfluorooctylmethyldichlorosilane), 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctyltrichlorosilane (1H, 1H, 2H, 2H-Perfluorooctyltrichlorosilane), 3,5-bis (trifluoromethyl) phenyldimethylchlorosilane (3, 5-Bis (trifluoromethyl) phenyldimethylchlorosilane), (3,3,3-trifluoropropyl) dimethylchlorosilane, (3,3,3-trifluoropropyl) methyldichlorosilane ( (3,3,3-Trifluoropropyl) methyldichlorosilane),

（３，３，３−トリフロロプロピル）トリクロロシラン（(3,3,3-Trifluoropropyl)trichlorosilane）、アミルトリクロロシラン（amyltrichlorosilane）、ビス（クロロメチル）メチルクロロシラン（Bis(chloromethyl)methylchlorosilane）、ブロモメチルジメチルクロロシラン（Bromomethyldimethylchlorosilane）、ブロモフェニルトリクロロシラン（Bromophenyltrichlorosilane）、n-ブチルジメチルクロロシラン（n-Butyldimethylchlorosilane）、t-ブチルジメチルクロロシラン（t-Butyldimethylchlorosilane）、i-ブチルジメチルクロロシラン（i-Butyldimethylchlorosilane）、i-ブチルメチルジクロロシラン（i-butylmethyldichlorosilane）、n-ブチルトリクロロシラン（n-Butyltrichlorosilane）、i-ブチルトリクロロシラン（i-Butyltrichlorosilane）、クロロジメチルイソブチルシラン（Chlorodimethylisobutylsilane）、クロロジメチル-n-プロピルシラン（Chlorodimethyl-n-propylsilane）、クロロジメチルオクタデシルシラン（Chlorodimethyloctadecylsilane）、クロロジメチルオクチルシラン（Chlorodimethyloctylsilane）、クロロジメチルフェニルシラン（Chlorodimethylphenylsilane）、クロロジメチルシラン（Chlorodimethylsilane）、クロロジフェニルシラン（Chlorodiphenylsilane）、 (3,3,3-trifluoropropyl) trichlorosilane ((3,3,3-Trifluoropropyl) trichlorosilane), amyltrichlorosilane, bis (chloromethyl) methylchlorosilane, bromomethyl Dimethylchlorosilane, Bromophenyltrichlorosilane, n-Butyldimethylchlorosilane, t-Butyldimethylchlorosilane, i-Butyldimethylchlorosilane, i-butyl I-butylmethyldichlorosilane, n-Butyltrichlorosilane, i-Butyltrichlorosilane, Chlorodimethylisobutylsilane, Chlorodimethyl-n- Ropirushiran (Chlorodimethyl-n-propylsilane), chlorodimethyl octadecylsilane (Chlorodimethyloctadecylsilane), chloro dimethyl octyl silane (Chlorodimethyloctylsilane), chloro dimethylphenylsilane (Chlorodimethylphenylsilane), chlorodimethylsilane (Chlorodimethylsilane), butylchlorodiphenylsilane (Chlorodiphenylsilane),

２−クロロエチルトリクロロシラン（2-Chloroethyltrichlorosilane）、（クロロメチル）ジメチルクロロシラン（(Chloromethyl)dimethylchlorosilane）、（クロロメチル）メチルジクロロシラン（(Chloromethyl)methyldichlorosilane）、4-（クロロメチル）フェニルトリクロロシラン（4-(Chloromethyl)phenyltrichlorosilane）、（クロロメチル）トリクロロシラン（(Chloromethyl)trichlorosilane）、４−クロロフェニルトリクロロシラン（4-Chlorophenyltrichlorosilane）、（３−クロロプロピル）トリクロロシラン（(3-Chloropropyl)trichlorosilane）、クロロトリエチルシラン（Chlorotriethylsilane）、クロロ-n-ブチルシラン（Chlorotri-n-butylsilane）、クロロトリ-n-プロピルシラン（Chlorotri-n-propylsilane）、シクロヘキシルメチルジクロロシラン（Cyclohexylmethyldichlorosilane）、シクロヘキシルトリクロロシラン（Cyclohexyltrichlorosilane）、シクロペンチルトリクロロシラン（Cyclopentyltrichlorosilane）、n-デシルトリクロロシラン（n-Decyltrichlorosilane）、 2-Chloroethyltrichlorosilane, (Chloromethyl) dimethylchlorosilane, (Chloromethyl) methyldichlorosilane, 4- (chloromethyl) phenyltrichlorosilane (4 -(Chloromethyl) phenyltrichlorosilane), (Chloromethyl) trichlorosilane, 4-Chlorophenyltrichlorosilane, (3-Chloropropyl) trichlorosilane, (chlorotriethyl) Silane (Chlorotriethylsilane), Chlorotri-n-butylsilane, Chlorotri-n-propylsilane, Cyclohexylmethyldichlorosilane, Cyclohexylmethyldichlorosilane (Cyclohe) xyltrichlorosilane), cyclopentyltrichlorosilane, n-decyltrichlorosilane,

ジクロロジエチルシラン（Dichlorodiethylsilane）、ジクロロジメチルシラン（Dichlorodimethylsilane）、ジクロロジ-n-プロピルシラン（Dichlorodi-n-propylsilane）、
ジクロロエチルメチルシラン（Dichloroethylmethylsilane）、ジクロロイソブチルメチルシラン（Dichloroisobutylmethylsilane）、ジクロロメチルジメチルクロロシラン（Dichloromethyldimethylchlorosilane）、ジクロロメチルメチルジクロロシラン（Dichloromethylmethyldichlorosilane）、ジクロロメチル-n-プロピルシラン（Dichloromethyl-n-propylsilane）、ジクロロメチルオクチルシラン（Dichloromethyloctylsilane）、ジクロロメチルフェニルシラン（Dichloromethylphenylsilane）、ジクロロメチルトリクロロシラン（Dichloromethyltrichlorosilane）、ジフェニルジクロロシラン（Diphenyldichlorosilane）、
ジフェニルメチルクロロシラン（Diphenylmethylchlorosilane）、ジ-t-ブチルジクロロシラン（Di-tert-butyldichlorosilane）、ドデシルトリクロロシラン（Dodecyltrichlorosilane）、
エチルジクロロシラン（Ethyldichlorosilane）、エチルジメチルクロロシラン（Ethyldimethylchlorosilane）、エチルトリクロロシラン（Ethyltrichlorosilane）、n-ヘキシルトリクロロシラン（n-Hexyltrichlorosilane）、メチルジクロロシラン（Methyldichlorosilane）、 Dichlorodiethylsilane, dichlorodimethylsilane, dichlorodi-n-propylsilane,
Dichloroethylmethylsilane, dichloroisobutylmethylsilane, dichloromethyldimethylchlorosilane, dichloromethylmethyldichlorosilane, dichloromethyl-n-propylsilane, dichloromethyl Octylsilane (Dichloromethyloctylsilane), dichloromethylphenylsilane (Dichloromethylphenylsilane), dichloromethyltrichlorosilane (Dichloromethyltrichlorosilane), diphenyldichlorosilane (Diphenyldichlorosilane),
Diphenylmethylchlorosilane, di-tert-butyldichlorosilane, dodecyltrichlorosilane,
Ethyldichlorosilane (Ethyldichlorosilane), Ethyldimethylchlorosilane, Ethyltrichlorosilane, n-Hexyltrichlorosilane, Methyldichlorosilane,

メチル（２−フェニルプロピル）ジクロロシラン（Methyl(2-phenylpropyl)dichlorosilane）、メチルオクタデシルジクロロシラン（Methyloctadecyldichlorosilane）、メチルトリクロロシラン（Methyltrichlorosilane）、クタデシルジメチルクロロシラン（Octadecyldimethylchlorosilane）、n-オクタデシルトリクロロシラン（n-Octadecyltrichlorosilane）、n-オクチルジメチルクロロシラン（n-Octyldimethylchlorosilane）、n-オクチルメチルジクロロシラン（n-Octylmethyldichlorosilane）、n-オクチルトリクロロシラン（n-Octyltrichlorosilane）、 Methyl (2-phenylpropyl) dichlorosilane, Methyloctadecyldichlorosilane, Methyltrichlorosilane, Octadecyldimethylchlorosilane, n-octadecyltrichlorosilane (n- Octadecyltrichlorosilane, n-Octyldimethylchlorosilane, n-Octylmethyldichlorosilane, n-Octyltrichlorosilane,

ジクロロフェニルシラン（Dichlorophenylsilane）、フェニルジメチルクロロシラン（Phenyldimethylchlorosilane）、フェニルメチルジクロロシラン（Phenylmethyldichlorosilane）、プロピルメチルジクロロシラン（Propylmethyldichlorosilane）、n-プロピルトリクロロシラン（n-Propyltrichlorosilane）、４−トリルトリクロロシラン（4-Tolyltrichlorosilane）、トリメチルクロロシラン（Trimethylchlorosilane）、ジ− ｎ − ブチルジクロロシラン（Di-n-butyldichlorosilane）、ジフェニルジクロロシラン（Diphenyldichlorosilane）、フェニルトリクロロシラン（Phenyltrichlorosilane）等のクロロシラン化合物； Dichlorophenylsilane, Phenyldimethylchlorosilane, Phenylmethyldichlorosilane, Propylmethyldichlorosilane, n-Propyltrichlorosilane, 4-Tolyltrichlorosilane Chlorosilane compounds such as trimethylchlorosilane, di-n-butyldichlorosilane, diphenyldichlorosilane, and phenyltrichlorosilane;

アミルトリエトキシシラン（Amyltriethoxysilane）、ブロモフェニルトリエトキシシラン（Bromophenyltriethoxysilane）、ブロモフェニルトリメトキシシラン（Bromophenyltrimethoxysilane）、イソブチルトリメトキシシラン（i-Butyltrimethoxysilane）、４−（クロロメチル）フェニルトリメトキシシラン（4-(Chloromethyl)phenyltrimethoxysilane）、（３−クロロプロピル）トリメトキシシラン（(3-Chloropropyl)trimethoxysilane）、シクロヘキシルジメトキシメチルシラン（Cyclohexyldimethoxymethylsilane）、シクロペンチルトリメトキシシラン（Cyclopentyltrimethoxysilane）、n-デシルトリエトキシシラン（n-Decyltriethoxysilane）、 Amyltriethoxysilane, Bromophenyltriethoxysilane, Bromophenyltrimethoxysilane, i-Butyltrimethoxysilane, 4- (chloromethyl) phenyltrimethoxysilane (4- ( Chloromethyl) phenyltrimethoxysilane, (3-Chloropropyl) trimethoxysilane, Cyclohexyldimethoxymethylsilane, Cyclopentyltrimethoxysilane, n-Decyltriethoxysilane ,

ｎ-デシルトリメトキシシラン（n-Decyltrimethoxysilane）、ジエトキシジメチルシラン（Diethoxydimethylsilane）、ジエトキシジフェニルシラン（Diethoxydiphenylsilane）、ジエトキシメチルフェニルシラン（Diethoxymethylphenylsilane）、ジエトキシメチルシラン（Diethoxymethylsilane）、ジイソブチルジメトキシシラン（Diisobutyldimethoxysilane）、
ジメトキシジメチルシラン（Dimethoxydimethylsilane）、ジメトキシジフェニルシラン（Dimethoxydiphenylsilane）、ジメトキシメチルフェニルシラン（Dimethoxymethylphenylsilane）、ジメチルエトキシシラン（Dimethylethoxysilane）、 n-Decyltrimethoxysilane, Diethoxydimethylsilane, Diethoxydiphenylsilane, Diethoxymethylphenylsilane, Diethoxymethylsilane, Diisobutyldimethoxysilane ),
Dimethoxydimethylsilane, dimethoxydiphenylsilane, dimethoxymethylphenylsilane, dimethylethoxysilane,

ｎ-ドデシルトリエトキシシラン（n-Dodecyltriethoxysilane）、ｎ-ドデシルトリメトキシシラン（n-Dodecyltrimethoxysilane）、エトキシトリエチルシラン（Ethoxytriethylsilane）、
エチルトリエトキシシラン（Ethyltriethoxysilane）、ヘキサデシルトリメトキシシラン（hexadecyltrimethoxysilane）、ｎ-ヘキシルトリエトキシシラン（n-Hexyltriethoxysilane）、
ｎ-ヘキシルトリメトキシシラン（n-Hexyltrimethoxysilane）、３−（メトキシ）プロピルトリメトキシシラン（3-(methoxy)propyltrimethoxysilane）、メトキシトリメチルシラン（Methoxytrimethylsilane）、３−（４−メトキシフェノキシ）プロピルトリメトキシシラン（3-(4-methoxyphenoxy)propyltrimethoxysilane）、１，２−ビス（メチルヂエトキシシリル）エタン（1,2-bis(methyldiethoxysilyl)ethane）、メチルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン（methyl tris(2-methoxyethoxy)silane）、メチルトリエトキシシラン（Methyltriethoxysilane）、メチルトリメトキシシラン（Methyltrimethoxysilane）、n-オクタデシルトリエトキシシラン（n-Octadecyltriethoxysilane）、n-オクタデシルトリメトキシシラン（n-Octadecyltrimethoxysilane）、n-オクチルメチルジエトキシシラン（n-Octylmethyldiethoxysilane）、n-オクチルトリエトキシシラン（n-Octyltriethoxysilane）、n-オクチルトリメトキシシラン（n-Octyltrimethoxysilane）、 n-Dodecyltriethoxysilane, n-Dodecyltrimethoxysilane, Ethoxytriethylsilane,
Ethyltriethoxysilane, hexadecyltrimethoxysilane, n-hexyltriethoxysilane,
n-Hexyltrimethoxysilane, 3- (methoxy) propyltrimethoxysilane, Methoxytrimethylsilane, 3- (4-methoxyphenoxy) propyltrimethoxysilane ( 3- (4-methoxyphenoxy) propyltrimethoxysilane), 1,2-bis (methyldiethoxysilyl) ethane, methyl tris (2-methoxyethoxy) silane silane), methyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, n-octadecyltriethoxysilane, n-octadecyltrimethoxysilane, n-octylmethyldiethoxysilane (N-Octylmethyldiethoxysilane), n-octyltri Tokishishiran (n-Octyltriethoxysilane), n- octyl trimethoxysilane (n-Octyltrimethoxysilane),

フェニルトリメトキシシラン（phenyltrimethoxysilane）、n-プロピルトリエトキシシラン（n-Propyltriethoxysilane）、n-プロピルトリメトキシシラン（n-Propyltrimethoxysilane）、ジメチルオクタデシルメトキシシラン（Dimethyloctadecylmethoxysilane）、メチルオクタデシルジメトキシシラン（Methyloctadecyldimethoxysilane）、ジメトキシメチル（３，３，３−トリフロロプロピル）シラン（Dimethoxymethyl(3,3,3-trifluoropropyl)silane）、ジメチルメトキシ（３，３，３−トリフロロプロピル）シラン（Dimethylmethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane）、フロロトリエトキシシラン（Fluorotriethoxysilane）、３−（ヘプタフロロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン（3-(Heptafluoroisopropoxy)propyltriethoxysilane）、1H,1H,2H,2H-パーフロロデシルトリエトキシシラン（1H,1H,2H,2H-Perfluorodecyltriethoxysilane）、1H,1H,2H,2H-パーフロロオクチルトリエトキシシラン（1H,1H,2H,2H-Perfluorooctyltriethoxysilane）、N-（３−トリエトキシシリルプロピル）パーフロロオクタノアミド（N-(3-triethoxysilylpropyl) perfluorooctanoamide）、
（３，３，３−トリフロロプロピル）トリメトキシシラン（(3,3,3-Trifluoropropyl)trimethoxysilane）等のアルコキシシラン化合物； Phenyltrimethoxysilane, n-Propyltriethoxysilane, n-Propyltrimethoxysilane, Dimethyloctadecylmethoxysilane, Methyloctadecyldimethoxysilane, Dimethoxymethyl (3,3,3-trifluoropropyl) silane (Dimethoxymethyl (3,3,3-trifluoropropyl) silane), dimethylmethoxy (3,3,3-trifluoropropyl) silane (Dimethylmethoxy (3,3,3-trifluoropropyl) ) silane), fluorotriethoxysilane, 3- (heptafluoroisopropoxy) propyltriethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorodecyltriethoxysilane (1H, 1H, 2H, 2H-Perfluorodecyltriethoxysilane), 1H, 1H , 2H, 2H-perfluorooctyltriethoxysilane (1H, 1H, 2H, 2H-Perfluorooctyltriethoxysilane), N- (3-triethoxysilylpropyl) perfluorooctanoamide (N- (3-triethoxysilylpropyl) perfluorooctanoamide),
Alkoxysilane compounds such as (3,3,3-trifluoropropyl) trimethoxysilane ((3,3,3-Trifluoropropyl) trimethoxysilane);

ヘキサメチルジシラザン（Hexamethyldisilazane）等のシラザン化合物；
ビニルトリクロロシラン（Vinyltrichlorosilane）、アリルトリメトキシシラン（Allyltriethoxysilane）、
ジエトキシメチルビニルシラン（Diethoxymethylvinylsilane）、ジメトキシメチルジメチルシラン（Dimethoxymethylvinylsilane）、ジメチルエトキシビニルシラン（Dimethylethoxyvinylsilane）、4−（トリエトキシシリル）−１−ブテン（4-(triethoxysilyl)-1-butene）、１-[2−（トリエトキシシリル）エチル]−３−シクロヘキセン（1-[2-(triethoxysilyl)ethyl]-3-cyclohexene）、１−［２−（トリメトキシシリル）］−３−シクロヘキセン（1-[2-(trimethoxysilyl)ethyl]-3-cyclohexene）、3-（ビニルチオ）プロピルトリメトキシシラン（3-(vinylthio)propyltrimethoxysilane）、ビニルトリエトキシシラン（vinyltriethoxysilane）、ビニルトリメトキシシラン（vinyltrimethoxysilane）、ビニル-トリス（２−メトキシエトキシ）シラン（vinyl-tris(2-methoxyethoxy)silane）、3-（アクリロイロキシ）プロピルトリメトキシシラン（3-(Acryloyloxy)propyltrimethoxysilane）、（２−シアノエチル）トリエトキシシラン（(2-Cyanoethyl)triethoxysilane）、（３−シアノプロピル）トリエトキシシラン（(3-Cyanopropyl)triethoxysilane）、３−（４−フォルミルフェノキシ）プロピルトリメトキシシラン（3-(4-formylphenoxy)propyltrimethoxysilane）、 Silazane compounds such as hexamethyldisilazane;
Vinyltrichlorosilane, allyltrimethoxysilane,
Diethoxymethylvinylsilane, Dimethoxymethylvinylsilane, Dimethylethoxyvinylsilane, 4- (triethoxysilyl) -1-butene, 1- [2 -(Triethoxysilyl) ethyl] -3-cyclohexene (1- [2- (triethoxysilyl) ethyl] -3-cyclohexene), 1- [2- (trimethoxysilyl)]-3-cyclohexene (1- [2- (trimethoxysilyl) ethyl] -3-cyclohexene), 3- (vinylthio) propyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyl-tris (2 -Methoxyethoxy) silane (vinyl-tris (2-methoxyethoxy) silane), 3- (acryloyloxy) propyltrimethoxysila (3- (Acryloyloxy) propyltrimethoxysilane), (2-Cyanoethyl) triethoxysilane, (3-Cyanopropyl) triethoxysilane, 3- (4-Formyl) Milphenoxy) propyltrimethoxysilane (3- (4-formylphenoxy) propyltrimethoxysilane),

(３-グリシドキシプロピル)トリメトキシシラン（(3-Glycidoxypropyl)trimethoxysilane）、
（３−イソシアナートプロピル）トリエトキシシラン（(3-Isocyanatopropyl)triethoxysilane）、（３−イソシアナートプロピル）トリメトキシシラン（(3-Isocyanatopropyl)triｍethoxysilane）、（３−イソシアナートプロピル）メチルジメトキシシラン（(3-Isocyanatopropyl)methyldiｍethoxysilane）、（３−イソシアナートプロピル）ジメチルメトキシシラン（(3-Isocyanatopropyl)dimethylｍethoxysilane）、３−（メルカプト）プロピルトリメトキシシラン（3-(mercapto)propyltrimethoxysilane）、３-(メタクリロキシ)プロピルトリメトキシシラン（3-(methacryloxy)propyltrimethoxysilane）、１-[２−（トリエトキシシリル）エチル]シクロヘキサン−３，４−エポキシド（1-[2-(triethoxysilyl)ethyl]cyclohexane-3,4-epoxide）、
１-[２−（トリメトキシシリル）エチル]シクロヘキサン−３，４−エポキシド（1-[2-(trimethoxysilyl)ethyl]cyclohexane-3,4-epoxide）、３−（トリエトキシシリル）プロパノイックアシッド、エチルエステル（3-(triethoxysilyl)propanoic acid, ethyl ester）、
３−（トリエトキシシリル）プロピル−４−ニトロベンズアミド（3-(triethoxysilyl)propyl-4-nitrobenzamide）、Ｎ−（３−トリメトキシシリルプロピル）パーフロロオクタンスルフォンアミド（N-(3-trimethoxysilylpropyl)perfluorooctanesulfonamide）、N-(3-トリエトキシシリルプロピル)−４−ヒドロキシブチルアミド（N-(3-triethoxysilylpropyl)-4-hydroxybutylamide）、３−（２−アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン（3-(2-Aminoethylamino)propyltrimethoxysilane）、３−（３−アミノフェノキシ）プロピルトリメトキシシラン（3-(3-Aminophenoxy)propyltrimethoxysilane）、（３−アミノプロピル）ジエトキシメチルシラン（(3-Aminopropyl)diethoxymethylsilane）、（３−アミノプロピル）トリエトキシシラン（(3-Aminopropyl)triethoxysilane）、（３−アミノプロピル）トリメトキシシラン（(3-Aminopropyl)trimethoxysilane）、（３−メチルアミノプロピル）トリメトキシシラン（(3-Methylaminopropyl)trimethoxysilane）、３−（フェニルアミノ）プロピルトリメトキシシラン（3-(Phenylamino)propyltrimethoxysilane）等のシランカップリング剤；
ジメチルポリシロキサン（Dimethylpolysiloxane）、メチルハイドロジェンポリシロキサン（Methylhydrogenepolysiloxane）等のシリコーンオイル等があげられる。 (3-glycidoxypropyl) trimethoxysilane ((3-Glycidoxypropyl) trimethoxysilane),
(3-isocyanatopropyl) triethoxysilane ((3-isocyanatopropyl) triethoxysilane), (3-isocyanatopropyl) triethoxysilane, (3-isocyanatopropyl) methyldimethoxysilane (( 3-Isocyanatopropyl) methyldimethoxysilane), (3-Isocyanatopropyl) dimethylmethoxysilane, 3- (mercapto) propyltrimethoxysilane, 3- (methacryloxy) propyl Trimethoxysilane (3- (methacryloxy) propyltrimethoxysilane), 1- [2- (triethoxysilyl) ethyl] cyclohexane-3,4-epoxide (1- [2- (triethoxysilyl) ethyl] cyclohexane-3,4-epoxide) ,
1- [2- (trimethoxysilyl) ethyl] cyclohexane-3,4-epoxide (1- [2- (trimethoxysilyl) ethyl] cyclohexane-3,4-epoxide), 3- (triethoxysilyl) propanoic acid , Ethyl ester (3- (triethoxysilyl) propanoic acid, ethyl ester),
3- (triethoxysilyl) propyl-4-nitrobenzamide (N- (3-trimethoxysilylpropyl) perfluorooctanesulfonamide, N- (3-trimethoxysilylpropyl) perfluorooctanesulfonamide ), N- (3-triethoxysilylpropyl) -4-hydroxybutylamide, 3- (2-aminoethylamino) propyltrimethoxysilane (3- (2 -Aminoethylamino) propyltrimethoxysilane), 3- (3-Aminophenoxy) propyltrimethoxysilane, (3-Aminopropyl) diethoxymethylsilane, (3 -Aminopropyl) triethoxysilane ((3-Aminopropyl) triethoxysilane), (3-aminopropyl) trimethoxysilane ((3-Aminopropy l) silane coupling agents such as trimethoxysilane), (3-methylaminopropyl) trimethoxysilane (3- (Phenylamino) propyltrimethoxysilane);
Examples thereof include silicone oils such as dimethylpolysiloxane and methylhydrogenpolysiloxane.

本発明の最も特徴とするところは、シリカゲル原体を上記のような化学修飾剤と反応させて化学修飾型シリカゲルを製造するに際し、当該シリカゲルと化学修飾剤との反応をマイクロ波照射下に行うことである。 The most characteristic feature of the present invention is that, when a chemically modified silica gel is produced by reacting a silica gel raw material with the above chemical modifier, the reaction between the silica gel and the chemical modifier is performed under microwave irradiation. That is.

従来、水のような液状極性媒体（を含む系）にマイクロ波を照射し媒体内部より発熱させ系を加熱することは、家庭用の所謂電子レンジ（マイクロ波オーブン）として周知である。また、このようにして発熱（内部加熱）させた媒体を溶媒とし、これに溶解した反応原料を加熱せしめて化学反応させることも公知である。（なお、反応原料を溶解した溶媒を反応容器に装入し、当該容器をオイルバス、加熱ジャケット、マントルヒーター等により外部から加熱して、反応させる一般的な加熱様式を、マイクロ波による加熱（内部加熱）に対し、「外部加熱」と称することがある。） Conventionally, it is well known as a so-called microwave oven for household use that heats a system by irradiating a liquid polar medium (including a system) such as water with microwaves to generate heat from the inside of the medium. In addition, it is also known that a medium that has generated heat (internal heating) in this way is used as a solvent, and a reaction raw material dissolved in the medium is heated to cause a chemical reaction. (In addition, a general heating mode in which a solvent in which a reaction raw material is dissolved is charged into a reaction vessel and the vessel is heated from the outside by an oil bath, a heating jacket, a mantle heater or the like to react, is heated by microwaves ( (Internal heating) may be referred to as “external heating”.)

これに対し、本発明においては、多孔質シリカゲル表面のシラノール基〔−Ｓｉ（ＯＨ）_n、（n＝１，２，３）〕と、オクタデシルジメチルクロロシラン（ＯＤＤＳ）のような化学修飾剤のクロロシラン基の反応（脱ＨＣｌ反応）を行わしめるに際し、マイクロ波を照射する。この場合、溶媒としては、従来のように極性溶媒でなく、マイクロ波による発熱能の無いベンゼンやトルエン等の無極性溶媒を使用した場合であっても、系内は内部から発熱して加熱され、場合によっては沸騰状態になる。このことから、照射されたマイクロ波は、その反応部位（シラノール基とクロロシラン基との反応部位）に直接作用し、反応部位を加熱して当該脱ＨＣｌ反応を進行させると考えられる。おそらくシラノール基はマイクロ波感受性があるため、マイクロ波を用いることにより、効率的に反応部位を活性化することができるものと推定される。 In contrast, in the present invention, silanol groups [—Si (OH) _n , (n = 1, 2, 3)] on the surface of the porous silica gel, and chlorosilane as a chemical modifier such as octadecyldimethylchlorosilane (ODDS). In performing the group reaction (deHCl reaction), microwave irradiation is performed. In this case, the inside of the system is heated by heating from the inside even when a nonpolar solvent such as benzene or toluene that does not generate heat by microwaves is used as a solvent. In some cases, it becomes boiling. From this, it is considered that the irradiated microwave acts directly on the reaction site (reaction site between silanol group and chlorosilane group) and heats the reaction site to advance the deHCl reaction. Presumably, the silanol group is sensitive to microwaves, so it is presumed that the reaction site can be efficiently activated by using microwaves.

シリカゲルと化学修飾剤の反応条件としては、従来の外部加熱によるそれ自体公知の方法に準じて行わせることができ、反応条件としては、一般的には反応温度３０〜４００℃、好ましくは１００〜３００℃、反応時間１〜４０時間の範囲で適当な条件を選択すればよい。 As the reaction conditions of the silica gel and the chemical modifier, it can be carried out according to a method known per se by conventional external heating. As the reaction conditions, the reaction temperature is generally 30 to 400 ° C., preferably 100 to Appropriate conditions may be selected in the range of 300 ° C. and reaction time of 1 to 40 hours.

また、当該反応を、シリカゲルを浮遊させ、スラリー状態を安定的に保持して行わせ、かつ、反応速度や除熱量を最適に制御するため、適当な溶媒中で当該反応を実施することが好ましい。 Further, the reaction is preferably carried out in an appropriate solvent in order to perform the reaction while suspending silica gel, stably maintaining the slurry state, and optimally controlling the reaction rate and the amount of heat removal. .

溶媒としては、化学修飾剤と反応せず、かつ、反応温度に加熱された場合、熱的に安定なものであれば、特に限定することなくいかなるものも使用可能であり、またそれ自身マイクロ波照射下に内部発熱するものであることは必要としない。化学修飾剤の溶解性や沸点、さらには他の溶媒との親和性すなわち洗浄時における除去性などの観点から通常、ベンゼン、トルエン、キシレン、オクタン、イソオクタン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン等が好適に使用される。また、反応操作は当該使用溶媒の還流下に行うことが望ましい。 Any solvent can be used without particular limitation as long as it does not react with the chemical modifier and is heated to the reaction temperature and is thermally stable. It does not need to generate heat internally under irradiation. Benzene, toluene, xylene, octane, isooctane, tetrachloroethylene, chlorobenzene, bromobenzene, etc. are usually preferred from the viewpoints of solubility and boiling point of chemical modifiers, and affinity with other solvents, that is, removability during washing. used. The reaction operation is desirably performed under reflux of the solvent used.

図１は本発明を実施する装置（マイクロ波反応装置）の一例を示すもので、以下この図に基づいて、マイクロ波の照射条件をより具体的に説明する。
１０はキャビティと称される密閉金属製の箱体（筺体）で、ここにマイクロ波発振器（マグネトロン）（図示しない。）で発生させたマイクロ波が導波管を経由して導入される。 FIG. 1 shows an example of an apparatus (microwave reaction apparatus) for carrying out the present invention. Hereinafter, microwave irradiation conditions will be described more specifically based on this figure.
Reference numeral 10 denotes a sealed metal box (casing) called a cavity, into which microwaves generated by a microwave oscillator (magnetron) (not shown) are introduced via a waveguide.

このキャビティ中に反応槽等の反応容器２０をセットする。反応容器は石英ガラス、硬質樹脂等のマイクロ波を透過させる材質で形成されることが好ましい。
本例では、反応容器は三ツ口フラスコであって、２１は原料等供給・装入口、２２は光ファイバー温度計等の温度計測手段Ｔ（温度計測器）の装入口、２３はパージガス等の導出口であって、リフラックスコンデンサーＣに接続されている。 A reaction vessel 20 such as a reaction vessel is set in the cavity. The reaction vessel is preferably formed of a material that transmits microwaves, such as quartz glass and hard resin.
In this example, the reaction vessel is a three-necked flask, 21 is a raw material supply / inlet, 22 is an inlet of temperature measuring means T (temperature measuring device) such as an optical fiber thermometer, and 23 is an outlet for purge gas etc. And connected to the reflux condenser C.

これら原料等供給口等は、図のように、キャビティ上部１１に形成した、マイクロ波の波長より小さい小孔を通して、キャビティ外に導出することができる。なお、反応容器内部の空間部の雰囲気は、窒素などの不活性ガス雰囲気とすることが望ましい。 These raw material supply ports and the like can be led out of the cavity through small holes smaller than the wavelength of the microwave formed in the cavity upper portion 11 as shown in the figure. The atmosphere in the space inside the reaction vessel is preferably an inert gas atmosphere such as nitrogen.

なお、２３は、パージ用のＮ₂等ガス導入口であり、３１は逆流防止トラップ、３２は水トラップ、３３は排気である。また、２５は撹拌手段であり、マグネチックスターラー（撹拌子）等が好適に用いられる。 Reference numeral 23 denotes a purge N ₂ gas inlet, 31 is a backflow prevention trap, 32 is a water trap, and 33 is exhaust. Reference numeral 25 denotes a stirring means, and a magnetic stirrer (stirring bar) or the like is preferably used.

マイクロ波照射には、最大出力３０〜１５００Ｗの装置を用いるが、反応系内は速やかに所望の温度に上昇するため、通常は反応中に連続して最大照射する必要がない場合が多い。所定の反応温度に達した後、一定の温度を保持できるように、温度計測手段Ｔはマイクロ波出力を制御できるものが望ましい。すなわち、このためには、温度計測手段Ｔで検出される反応容器内の温度Ｔ（θ）により、マグネトロンの出力（電力）を制御する温度制御回路を設けることが好ましい。マイクロ波照射のマグネトロン周波数としては３００ＭＨｚ〜３００ＧＨｚ程度のものであれば原理的に使用可能であるが、実際上は、２，４５０ＭＨｚ程度のものが好ましい。 For microwave irradiation, an apparatus with a maximum output of 30 to 1500 W is used. However, since the inside of the reaction system quickly rises to a desired temperature, there is often no need to continuously perform maximum irradiation during the reaction. The temperature measuring means T is preferably capable of controlling the microwave output so that a constant temperature can be maintained after reaching a predetermined reaction temperature. That is, for this purpose, it is preferable to provide a temperature control circuit for controlling the output (electric power) of the magnetron by the temperature T (θ) in the reaction vessel detected by the temperature measuring means T. As long as the magnetron frequency of microwave irradiation is about 300 MHz to 300 GHz, it can be used in principle, but in practice, about 2,450 MHz is preferable.

具体的な反応操作は、例えば、以下のようにして行われる。すなわち、化学修飾剤とし
てクロロシラン化合物を使用する場合であれば、溶媒であるトルエンやキシレン中に、シリカ原体（充分乾燥したものが好ましい。）と、当該ジメチルオクチルクロロシランやオクタデシルジメチルクロロシラン（ＯＤＤＳ）のごときクロロシラン化合物を原料供給口２１より装入し、撹拌下にマイクロ波を照射する。マイクロ波照射下に、容器内部（溶媒内部）から発熱するため、当該溶媒であるトルエン等の沸点においてコンデンサーＣによりリフラックスさせながら数時間程度反応（脱ＨＣｌ反応）せしめる方法を採用する。かくして、化学修飾型シリカゲルとして、例えばジメチルオクチルシラン化シリカゲルやオクタデシルジメチルシラン化シリカゲルを得ることができるのである。 Specific reaction operation is performed as follows, for example. That is, when a chlorosilane compound is used as a chemical modifier, a silica raw material (preferably sufficiently dried) and the dimethyloctylchlorosilane or octadecyldimethylchlorosilane (ODDS) in toluene or xylene as a solvent are preferable. A chlorosilane compound such as is charged from the raw material supply port 21 and irradiated with microwaves while stirring. Since heat is generated from the inside of the container (inside the solvent) under microwave irradiation, a method of reacting (deHCl reaction) for several hours while refluxing with the condenser C at the boiling point of the solvent such as toluene is adopted. Thus, for example, dimethyloctylsilanized silica gel or octadecyldimethylsilanized silica gel can be obtained as the chemically modified silica gel.

なお、上記で得られた化学修飾型シリカゲルについてさらにキャッピング剤を使用してキャッピング反応（エンドキャップ反応）を行うことが好ましい。キャッピング剤（二次シリル化剤ともいう。）は、上記シリル化（一次シリル化）工程で化学修飾せしめた化学修飾型シリカゲルにおいて、通常立体障害等の影響で残存する未反応シラノール基をキャップして（潰して）、不活性化するために使用される薬剤であって、例えば、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、メチルジクロロシラン、メチルトリクロロシラン、トリメチルメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、さらにはヘキサメチルジシラザン等の炭素鎖数１のアルキルクロロシラン、アルキルアルコキシシラン、アルキルジシラザンがあげられる。 The chemically modified silica gel obtained above is preferably subjected to a capping reaction (end-cap reaction) using a capping agent. A capping agent (also referred to as a secondary silylating agent) caps unreacted silanol groups that usually remain due to the effects of steric hindrance in the chemically modified silica gel chemically modified in the silylation (primary silylation) step. Drugs that are used to inactivate (crush) and inactivate, for example, dimethyldichlorosilane, trimethylchlorosilane, methyldichlorosilane, methyltrichlorosilane, trimethylmethoxysilane, methyltrimethoxysilane, and even hexamethyl Examples thereof include alkyl chlorosilanes having 1 carbon chain such as disilazane, alkylalkoxysilanes, and alkyldisilazanes.

当該キャッピング反応（エンドキャップ反応）も化学修飾反応に準じた条件下に行われる。すなわち、本発明においては、当該キャッピング反応もマイクロ波照射下に実施され、例えば上記ベンゼンやトルエン等の溶媒中で加熱還流下に実施されることが好ましい。 The capping reaction (end cap reaction) is also performed under conditions according to the chemical modification reaction. That is, in the present invention, the capping reaction is also carried out under microwave irradiation, and is preferably carried out under heating and refluxing in a solvent such as benzene or toluene.

なお、脱アルコール反応を伴うアルコキシシラン化合物の場合は、無触媒でもよいが、脱塩酸反応が生ずるクロロシラン化合物の場合は、反応を速やかに進行せしめるために触媒としてピリジン、アニリン、メチルアニリン、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン（ＤＥＡ）、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等を使用することも好ましい。 In the case of an alkoxysilane compound with a dealcoholization reaction, no catalyst may be used, but in the case of a chlorosilane compound in which a dehydrochlorination reaction occurs, pyridine, aniline, methylaniline, methylamine are used as catalysts in order to cause the reaction to proceed rapidly. It is also preferable to use dimethylamine, trimethylamine, ethylamine, diethylamine (DEA), triethylamine, diisopropylethylamine or the like.

以下、実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、本発明の技術的範囲がこれに限定されるものではない。なお、％とあるものは、とくに断りなき限り、質量％である。
（Ａ）まず、化学修飾剤としてオクタデシルジメチルクロロシラン（ＯＤＤＳ）を使用した場合について検討した。以下の実施例１及び比較例１において、化学修飾型シリカゲルの耐アルカリ性評価は、次の方法によった。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the technical scope of the present invention is not limited thereto. Unless otherwise specified, “%” means “% by mass”.
(A) First, the case where octadecyldimethylchlorosilane (ODDS) was used as a chemical modifier was examined. In the following Example 1 and Comparative Example 1, the alkali resistance of the chemically modified silica gel was evaluated by the following method.

化学修飾型シリカゲルの耐アルカリ性評価方法（ｋ値表示）
（１）化学修飾型シリカゲルを、４．６ｍｍφ×１５０ｍｍのステンレス製カラムに充填し、このカラムを液体クロマトグラフィー装置（LaChrom ELITE /日立製作所製）にセットする。
当該化学修飾型シリカゲル充填カラムに、アルカリ溶液（ｐＨ＝１０の４ｍｍｏｌ／Ｌ四ホウ酸ナトリウム水溶液とメタノールの９／１混合溶液）を、流量１ｍＬ／ｍｉｎ、温度５０℃で連続的に通液する。 Method for evaluating alkali resistance of chemically modified silica gel (k value display)
(1) A 4.6 mmφ × 150 mm stainless steel column is packed with chemically modified silica gel, and this column is set in a liquid chromatography apparatus (LaChrom ELITE / manufactured by Hitachi, Ltd.).
An alkaline solution (9/1 mixed solution of 4 mmol / L sodium tetraborate aqueous solution and methanol of pH = 10) is continuously passed through the chemically modified silica gel packed column at a flow rate of 1 mL / min and a temperature of 50 ° C. .

（２）このカラムに、９０分毎に、分離性能評価用のサンプル液１０μＬを注入し、分離ピークのｋ値（及び理論段数ｎ）を測定して、この経時変化を測定することにより当該カラム、すなわち充填した化学修飾型シリカゲルの耐アルカリ性を評価した。なお、測定波長（検知波長）は２５４ｎｍである。 (2) 10 μL of the sample solution for separation performance evaluation is injected into this column every 90 minutes, the k value (and the number of theoretical plates n) of the separation peak is measured, and this change over time is measured to measure the column. That is, the alkali resistance of the filled chemically modified silica gel was evaluated. The measurement wavelength (detection wavelength) is 254 nm.

ｉ）ここで使用したサンプル液は、４ｍｍｏｌ／Ｌ四ホウ酸ナトリウム水溶液（ｐＨ＝１０）／メタノールの９／１混合溶液５０ｍＬに、ウラシル０．７５ｍｇ及びベンジルアルコール２７０ｍｇを溶解したものである。 i) The sample solution used here was obtained by dissolving 0.75 mg of uracil and 270 mg of benzyl alcohol in 50 mL of a 9/1 mixed solution of 4 mMol / L sodium tetraborate aqueous solution (pH = 10) / methanol. It is.

ｉｉ）ｋ値は次式（２）で算出した。

ｋ値（保持率）＝〔（ベンジルアルコールの溶出時間−ウラシルの溶出時間）／ウラシルの溶出時間〕（２）
ii) The k value was calculated by the following equation (2).

k value (retention rate) = [(elution time of benzyl alcohol−elution time of uracil) / elution time of uracil] (2)

なお、ｋ（保持率）値は、初期値ｋ₀（時間０におけるｋ値）により式（１）のごとく規格化したＫ値（％）として表した。 The k (retention rate) value was expressed as a K value (%) normalized by the initial value k ₀ (k value at time 0) as in equation (1).

Ｋ＝（ｋ／ｋ₀）×１００（１）

K = (k / k ₀ ) × 100 (1)

〔実施例１〕
（１）原体のシリカゲル〔M.S.GEL SIL EP-DF-5/15-120A、旭硝子エスアイテック社製（比表面積=３１１ｍ²／ｇ、平均粒径＝１０．９μｍ、平均細孔径＝１３．２ｎｍ）〕１０ｇを、１８０℃×１６時間乾燥後、３３ｍＬのトルエン（関東化学社製特級）に分散し、撹拌子を入れた三口丸底フラスコに投入した。これに反応触媒としてジエチルアミン（関東化学社製特級）を２．８３g添加し、化学修飾剤としてオクタデシルジメチルクロロシラン（東京化成工業社製）を８．９g加えた。 [Example 1]
(1) Original silica gel (MSGEL SIL EP-DF-5 / 15-120A, manufactured by Asahi Glass S-Tech Co., Ltd. (specific surface area = 311 m ² / g, average particle diameter = 10.9 μm, average pore diameter = 13.2 nm) 10 g was dried at 180 ° C. for 16 hours, dispersed in 33 mL of toluene (special grade manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.), and charged into a three-necked round bottom flask containing a stirring bar. To this was added 2.83 g of diethylamine (special grade manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) as a reaction catalyst, and 8.9 g of octadecyldimethylchlorosilane (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added as a chemical modifier.

これを図１に示したようなマイクロ波反応装置（四国計測工業社製、簡易型マイクロ波反応装置、ＳＭＷ−０７４型）に設置して撹拌子によりスラリー状態を形成しながらマイクロ波照射下に反応を行った。すなわち、光ファイバー温度計Ｔで検出される反応容器内の温度により、マイクロ波の出力を０〜６５０Ｗの範囲で連続的に変化させるように制御して溶媒であるトルエンの沸騰を維持するようにし、トルエン還流下で３時間、反応を行った。マイクロ波照射のマグネトロン周波数は２，４５０ＭＨｚとした。 This was installed in a microwave reactor as shown in FIG. 1 (manufactured by Shikoku Keikoku Kogyo Co., Ltd., simplified microwave reactor, SMW-074 type) and formed into a slurry state with a stir bar while being irradiated with microwaves. Reaction was performed. That is, according to the temperature in the reaction vessel detected by the optical fiber thermometer T, the microwave output is controlled to be continuously changed in the range of 0 to 650 W so as to maintain the boiling of toluene as a solvent, The reaction was carried out under toluene reflux for 3 hours. The magnetron frequency for microwave irradiation was 2,450 MHz.

（２）３時間経過後、キャッピング剤としてヘキサメチルジシラザン（関東化学社製）６．１２ｇをこの丸底フラスコに加え、出力を制御したマイクロ波を照射してさらにトルエン還流下で２時間反応を行った。 (2) After 3 hours, 6.12 g of hexamethyldisilazane (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) as a capping agent was added to the round bottom flask, and the reaction was continued for 2 hours under toluene reflux by irradiation with microwaves with controlled output. Went.

これに酢酸（関東化学社製特級）を２．１ｇを徐々に加え、反応触媒を中和し、さらにトルエン還流下で２時間反応させた。 To this, 2.1 g of acetic acid (special grade manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) was gradually added to neutralize the reaction catalyst, and further reacted for 2 hours under toluene reflux.

反応後のスラリー液を濾過し、得られたケーキをトルエンで洗浄後、順に、メタノール、クエン酸/メタノール（５０／５０ｖｏｌ％）、クロロホルムにより洗浄した。
洗浄したケーキに１００ｍＬのクロロホルム（関東化学社製特級）を加えてスラリー化し、丸底フラスコに移した。
このスラリー液を撹拌しながらクロロホルムの沸点下で２時間還流させながら処理した。 The slurry after the reaction was filtered, and the obtained cake was washed with toluene, and then washed with methanol, citric acid / methanol (50/50 vol%), and chloroform in this order.
100 mL of chloroform (special grade manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) was added to the washed cake to make a slurry, which was transferred to a round bottom flask.
The slurry was treated with stirring for 2 hours at the boiling point of chloroform.

（３）処理終了後、直ちにスラリー液を濾過し、得られたケーキを、順にクロロホルム、ヘキサンにより洗浄した。これを２５時間風乾させ、さらに恒温乾燥器において７０℃×２０時間乾燥し、化学修飾型シリカゲルを得た。
当該化学修飾型シリカゲルについて、液体クロマトグラフの充填カラムを形成し、分離性能（ｋ値）及び理論段数（ｎ）を経時的に評価した結果を図２〜３に示す。 (3) Immediately after the treatment, the slurry was filtered, and the resulting cake was washed with chloroform and hexane in this order. This was air-dried for 25 hours, and further dried at 70 ° C. for 20 hours in a constant temperature dryer to obtain chemically modified silica gel.
About the said chemically modified silica gel, the packed column of a liquid chromatograph was formed, and the result of having evaluated the separation performance (k value) and the theoretical plate number (n) with time is shown in FIGS.

〔比較例１〕
シリカゲル原体のオクタデシルジメチルクロロシランとの反応及びヘキサメチルジシラザンによるキャッピング時の加熱方法を、外部加熱であるオイルバスによりトルエンが沸騰・還流するようにして行い、マイクロ波を照射しなかった他は、実施例１と同様の実験を行った。なお、反応は、実施例１と同じくトルエン還流下で３時間行った。分離性能（ｋ値）及び理論段数（ｎ）を経時的に評価した結果を図２〜３に示す。 [Comparative Example 1]
The reaction of the silica gel base with octadecyldimethylchlorosilane and the heating method when capping with hexamethyldisilazane were performed so that toluene was boiled and refluxed in an oil bath as external heating, and microwaves were not irradiated. The same experiment as in Example 1 was performed. The reaction was carried out for 3 hours under toluene reflux as in Example 1. The results of evaluating the separation performance (k value) and the number of theoretical plates (n) over time are shown in FIGS.

（結果の考察）
図２は、実施例１及び比較例１で得られた化学修飾型シリカゲルを液体クロマトグラフィー用カラム充填剤として使用した場合の、ベンジルアルコールの分離に対する規格化した保持能Ｋ（ｋ／ｋ₀）と経過時間との関係、図３は理論段数ｎと経過時間の関係を示すものである。 (Consideration of results)
FIG. 2 shows normalized retention capacity K (k / k ₀ ) for separation of benzyl alcohol when the chemically modified silica gel obtained in Example 1 and Comparative Example 1 is used as a column filler for liquid chromatography. FIG. 3 shows the relationship between the number n of theoretical plates and the elapsed time.

図より明らかなように、マイクロ波を使用して加熱した場合（実施例１）は、通常のオイルバス加熱の場合（比較例１）に比較して、保持能Ｋ及び理論段数ｎの経時的な低下が少ない。以上のごとく、マイクロ波照射下に化学修飾反応を行って調整された化学修飾型シリカゲルは、従来のオイルバス等の外部加熱により調整された化学修飾型シリカゲルに比べて耐アルカリ性が改善されていることが見いだされた。 As is apparent from the figure, when heated using microwaves (Example 1), the retention capacity K and the number of theoretical plates n over time are compared to the case of normal oil bath heating (Comparative Example 1). There is little decrease. As described above, the chemically modified silica gel prepared by performing the chemical modification reaction under microwave irradiation has improved alkali resistance compared to the chemically modified silica gel prepared by external heating such as a conventional oil bath. I found something.

この理由は詳細には明らかではないが、おそらくマイクロ波照射により反応部位が直接加熱され、その反応がより効率的に進行するため、より完全にシラノール基が化学修飾されるためと推定される。 The reason for this is not clear in detail, but it is presumed that the reaction site is directly heated by microwave irradiation and the reaction proceeds more efficiently, so that the silanol group is more completely chemically modified.

（Ｂ）つぎに、化学修飾剤として３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを使用した場合について検討した。以下の実施例２及び比較例２において、化学修飾型シリカゲルの耐アルカリ性評価は、次の二つの方法によった。 (B) Next, the case where 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane was used as a chemical modifier was examined. In the following Example 2 and Comparative Example 2, the alkali resistance of the chemically modified silica gel was evaluated by the following two methods.

（ｉ）化学修飾型シリカゲルの耐アルカリ性測定方法（シリカ溶出試験）
実施例により得られたグリシジル基導入化学修飾型シリカゲル粒子０．５ｇを、濃度５０ｍＭ、１００ｍＭ、５００ｍＭの各ＮａＯＨ溶液１３ｍＬ中に浸漬し、室温で３時間振盪撹拌して充分固液接触せしめた。撹拌終了後、メンブランフィルターで当該シリカゲル粒子を濾過し、濾過液中に溶出したシリカ濃度をモリブデン発色による吸光光度法で測定した。結果をμｇ／ｍＬで表示する。 (I) Method for measuring alkali resistance of chemically modified silica gel (silica elution test)
0.5 g of the glycidyl group-introduced chemically modified silica gel particles obtained in the examples were immersed in 13 mL of NaOH solutions having a concentration of 50 mM, 100 mM, and 500 mM, and the mixture was shaken and stirred at room temperature for 3 hours to make sufficient solid-liquid contact. After completion of the stirring, the silica gel particles were filtered with a membrane filter, and the concentration of silica eluted in the filtrate was measured by absorptiometry using molybdenum coloring. Results are expressed in μg / mL.

（ｉｉ）化学修飾型シリカゲルの耐アルカリ性測定方法（アルカリＣＩＰ試験）
実施例により得られたグリシジル基導入化学修飾型シリカゲルに、汎用の方法でProtein Aを修飾し（Immobilized Affinity Ligand Techniques/ACADEMIC PRESS,INC.社製）、弱酸性条件で残存グリシジル基を開環させた後、４．６ｍｍφ×１０ｍｍのステンレス製カラムに充填し、このカラムを液体クロマトグラフィー装置（LaChrom ELITE /日立製作所社製）にセットする。 (Ii) Method for measuring alkali resistance of chemically modified silica gel (alkali CIP test)
Protein A was modified by a general-purpose method (Immobilized Affinity Ligand Techniques / ACADEMIC PRESS, INC.) On the glycidyl group-introduced chemically modified silica gel obtained in the examples, and the remaining glycidyl group was opened under mildly acidic conditions. After that, a 4.6 mmφ × 10 mm stainless steel column is packed, and this column is set in a liquid chromatography apparatus (LaChrom ELITE / manufactured by Hitachi, Ltd.).

ＰＢＳ緩衝液（Phosphate-buffered saline、ｐＨ７．４）を流速０．８３ｍＬ／ｍｉｎで送液し、平衡化する。サンプル溶液（humanIgG in PBS、０．５ｍｇ／ｍＬ）をカラムに送液し、破過曲線を得る。この曲線の１０％破過点の溶出容量から、充填剤の動的吸着量（Dynamic Binding Capacity：ＤＢＣ）を算出する。 PBS buffer (Phosphate-buffered saline, pH 7.4) is fed at a flow rate of 0.83 mL / min to equilibrate. A sample solution (human IgG in PBS, 0.5 mg / mL) is fed to the column to obtain a breakthrough curve. From the elution capacity at the 10% breakthrough point of this curve, the dynamic adsorption capacity (DBC) of the filler is calculated.

このようにして、サンプル溶液の導入、ＰＢＳ緩衝液（ｐＨ７．４）８．３ｍＬによる洗浄、０．１５ＭＮａＣｌを含む０．１５Ｍクエン酸緩衝液（ｐＨ２．２）８．３ｍＬによる溶出、ＮａＯＨ（０．０５Ｍ）１６．６ｍＬによる洗浄、ＰＢＳ緩衝液による平衡化を１サイクルとした。このサイクルを繰り返した時の、ＤＢＣ（の変化）を、化学修飾型シリカゲルの耐アルカリ性の評価指標とした。 In this way, introduction of the sample solution, washing with 8.3 mL of PBS buffer (pH 7.4), elution with 8.3 mL of 0.15 M citrate buffer (pH 2.2) containing 0.15 M NaCl, NaOH ( 0.05M) 16.6 mL washing and PBS buffer equilibration were taken as one cycle. DBC (change) when this cycle was repeated was used as an evaluation index of alkali resistance of chemically modified silica gel.

なお、ＤＢＣによる評価は、次の式（３）による相対ＤＢＣ（％）として表示した。

相対ＤＢＣ＝（ＤＢＣ／ＤＢＣ₀）×１００（３）

（式中、ＤＢＣは任意のサイクルにおけるＤＢＣ、ＤＢＣ₀はＤＢＣの初期値である。）
In addition, evaluation by DBC was displayed as relative DBC (%) by the following formula (3).

Relative DBC = (DBC / DBC ₀ ) × 100 (3)

(Where DBC is the DBC in any cycle, and DBC ₀ is the initial value of DBC.)

〔実施例２〕
（１）シリカゲル原体〔M.S.GEL SIL D-50-1000AW、旭硝子エスアイテック社製（比表面積=７０ｍ²／ｇ、平均粒径＝４６．６μｍ、平均細孔径＝１０３ｎｍ）〕１０ｇを恒温乾燥機において、１２０℃×１２時間乾燥し、真空下で常温まで冷却した後、８０ｍＬのトルエン（純正化学社製特級）に分散し、撹拌子を入れた三口丸底フラスコに投入した。これに化学修飾剤として３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＡＣＲＯＳＯＲＧＡＮＩＣＳ社製）を８．５ｇ、反応触媒としてジイソプロピルエチルアミン（東京化成工業社製特級）を４．０ｇ添加した。 [Example 2]
(1) 10 g of silica gel base material [MSGEL SIL D-50-1000AW, manufactured by Asahi Glass Stech Co., Ltd. (specific surface area = 70 m ² / g, average particle diameter = 46.6 μm, average pore diameter = 103 nm)] in a constant temperature dryer The mixture was dried at 120 ° C. for 12 hours, cooled to room temperature under vacuum, dispersed in 80 mL of toluene (special grade manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd.), and charged into a three-necked round bottom flask containing a stirring bar. To this was added 8.5 g of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (manufactured by ACROS ORGANICS) as a chemical modifier and 4.0 g of diisopropylethylamine (special grade manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) as a reaction catalyst.

これを図１に示したようなマイクロ波反応装置（四国計測工業社製、簡易型マイクロ波反応装置、ＳＭＷ−０７４型）に設置して撹拌子によりスラリー状態を形成しながらマイクロ波照射下に反応を行った。すなわち、光ファイバー温度計Ｔで検出される反応容器内の温度により、マイクロ波の出力を０〜６５０Ｗの範囲で連続的に変化させるように制御して溶媒であるトルエンの沸騰を維持するようにし、トルエン還流下で４．５時間、スラリー状態で反応を行った。マイクロ波照射のマグネトロン周波数は２，４５０ＭＨｚとした。 This was installed in a microwave reactor as shown in FIG. 1 (manufactured by Shikoku Keikoku Kogyo Co., Ltd., simplified microwave reactor, SMW-074 type) and formed into a slurry state with a stir bar while being irradiated with microwaves. Reaction was performed. That is, according to the temperature in the reaction vessel detected by the optical fiber thermometer T, the microwave output is controlled to be continuously changed in the range of 0 to 650 W so as to maintain the boiling of toluene as a solvent, The reaction was carried out in a slurry state under toluene reflux for 4.5 hours. The magnetron frequency for microwave irradiation was 2,450 MHz.

（２）次にこのスラリー液を濾過し、得られたケーキを、順にトルエン、テトラヒドロフラン、メタノールにより洗浄した。これを恒温乾燥機において７０℃×２０時間乾燥し、化学修飾型シリカゲルを得た。
当該得られた化学修飾型シリカゲルについて、カーボン率測定、及び耐アルカリ性試験を行った。結果を表１、図４〜５に示した。 (2) Next, the slurry was filtered, and the resulting cake was washed with toluene, tetrahydrofuran, and methanol in this order. This was dried in a constant temperature dryer at 70 ° C. for 20 hours to obtain chemically modified silica gel.
The obtained chemically modified silica gel was subjected to a carbon ratio measurement and an alkali resistance test. The results are shown in Table 1 and FIGS.

なお、カーボン率は以下のようにして測定した。
（カーボン率測定）
少量の試料（化学修飾型シリカゲル）を１０００℃に加熱した炉で瞬間的に燃焼させ，生成した二酸化炭素の量を質量分析し（質量分析装置：パーキンエルマー社、２４００ＩＩ、ＣＨＮ計）、カーボン量を測定する。
当該試料中に含まれるカーボンの比率（質量％）をカーボン率（％）とする。 The carbon ratio was measured as follows.
(Carbon ratio measurement)
A small amount of sample (chemically modified silica gel) is instantaneously combusted in a furnace heated to 1000 ° C., and the amount of carbon dioxide produced is mass analyzed (mass spectrometer: Perkin Elmer, 2400II, CHN meter). Measure.
The ratio (mass%) of carbon contained in the sample is defined as the carbon ratio (%).

〔比較例２〕
反応時にマイクロ波照射を行わず、加熱方法を外部加熱であるオイルバスによりトルエンが沸騰・還流するようにして行い、マイクロ波を照射しなかった他は、実施例２と同様の実験を行った。なお、反応は、実施例２と同じくトルエン還流下で４．５時間行った。結果を表１、図４〜５に示した。 [Comparative Example 2]
The same experiment as in Example 2 was performed except that microwave irradiation was not performed during the reaction, and the heating method was such that toluene was boiled and refluxed by an oil bath that was external heating, and microwave irradiation was not performed. . The reaction was carried out for 4.5 hours under toluene reflux as in Example 2. The results are shown in Table 1 and FIGS.

（結果の考察）
表１は、実施例２及び比較例２で得られた化学修飾型シリカゲルのカーボン率測定を質量分析法で行った結果である。カーボン率は、シラノール基に導入（修飾）された３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの炭素量を示すもので、カーボン率が高いほど、より多量の化学修飾剤がシラノール基と反応結合したことを意味し、従ってより表面処理された度合いが高いといえる。この結果より、マイクロ波照射下に化学修飾反応を実施したものの方が、通常の加熱方法（外部加熱）を用いたものと比較して、修飾率がずっと向上していることが分かった。 (Consideration of results)
Table 1 shows the results of the carbon analysis of the chemically modified silica gel obtained in Example 2 and Comparative Example 2 by mass spectrometry. The carbon ratio indicates the amount of carbon of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane introduced (modified) into the silanol group. The higher the carbon ratio, the more the chemical modifier was reactively bonded to the silanol group. Therefore, it can be said that the degree of surface treatment is higher. From this result, it was found that the modification rate was much improved when the chemical modification reaction was performed under microwave irradiation as compared with the case where the normal heating method (external heating) was used.

図４は、実施例２及び比較例２で得られた化学修飾型シリカゲルを、濃度５０ｍＭ、１００ｍＭ、５００ｍＭの各ＮａＯＨ溶液の浸漬した場合のシリカ溶出試験の結果である。図から明らかなように、マイクロ波照射下にシリカゲルの化学修飾反応を行った場合（実施例２）は、従来の外部加熱による化学修飾反応（比較例２）の場合と比較して、いずれの濃度のＮａＯＨ溶液に対しても、シリカ溶出量がずっと少ないことが明らかである。このことから、マイクロ波照射下に化学修飾反応を実施することにより、耐アルカリ性が非常に向上した化学修飾型シリカゲルが得られていることがわかる。 FIG. 4 shows the results of a silica elution test in which the chemically modified silica gels obtained in Example 2 and Comparative Example 2 were immersed in NaOH solutions having concentrations of 50 mM, 100 mM, and 500 mM. As is clear from the figure, when the chemical modification reaction of silica gel was performed under microwave irradiation (Example 2), compared with the case of the conventional chemical modification reaction by external heating (Comparative Example 2), It is clear that the amount of silica elution is much smaller even with a NaOH solution having a concentration. From this, it can be seen that a chemically modified silica gel with extremely improved alkali resistance is obtained by performing a chemical modification reaction under microwave irradiation.

図５は、実施例２及び比較例２で得られた化学修飾型シリカゲルを、液体クロマトグラフィー用カラム充填剤として使用した場合の、アルカリＣＩＰ試験の結果である。図から明らかなように、マイクロ波照射下にシリカゲルの化学修飾反応を行った場合（実施例２）は、従来の外部加熱による化学修飾反応（比較例２）の場合と比較して、サイクル数に対して相対ＤＢＣ（動的吸着量）の低下がずっと少ない。このように、マイクロ波照射下に調整される化学修飾型シリカゲルは、ＤＢＣによる指標により評価すると、耐アルカリ性が大幅に改善されていることが分かる。 FIG. 5 shows the results of an alkaline CIP test when the chemically modified silica gel obtained in Example 2 and Comparative Example 2 was used as a column filler for liquid chromatography. As is clear from the figure, when the chemical modification reaction of silica gel is performed under microwave irradiation (Example 2), the number of cycles is larger than that of the conventional chemical modification reaction by external heating (Comparative Example 2). On the other hand, the decrease in relative DBC (dynamic adsorption amount) is much smaller. Thus, when the chemically modified silica gel adjusted under microwave irradiation is evaluated by the index by DBC, it can be seen that the alkali resistance is greatly improved.

本発明によれば、シリカゲルを化学修飾剤と反応させて化学修飾型シリカゲルを製造する工程を、より簡易な手段で、実施することができる。 According to the present invention, the step of producing a chemically modified silica gel by reacting a silica gel with a chemical modifier can be carried out by simpler means.

しかも、得られた化学修飾型シリカゲルは、それ自体耐アルカリ性に優れたものであって、これをカラムに充填して液体クロマトグラフィー用に使用した場合、当該カラムにアルカリ水溶液を含む溶離液を通液しても、従来に比較して、分離溶質の分離性能を格段に長時間維持することができる。 In addition, the obtained chemically modified silica gel itself is excellent in alkali resistance, and when this is packed in a column and used for liquid chromatography, an eluent containing an alkaline aqueous solution is passed through the column. Even if it liquefies, compared with the past, the separation performance of a separation solute can be maintained for a long time.

本発明を実施する装置（マイクロ波反応装置）の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the apparatus (microwave reaction apparatus) which implements this invention. 実施例及び比較例の化学修飾型シリカゲルを液体クロマトグラフィー用カラム充填剤として使用した場合の、ベンジルアルコール分離の規格化した保持能Ｋと経過時間との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the retention time K and the elapsed time which normalized benzyl alcohol separation at the time of using the chemically modified silica gel of an Example and a comparative example as a column filler for liquid chromatography. 実施例及び比較例の化学修飾型シリカゲルを液体クロマトグラフィー用カラム充填剤として使用した場合の、ベンジルアルコール分離に対する理論段数ｎと経過時間の関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the theoretical plate number n and elapsed time with respect to benzyl alcohol separation at the time of using the chemically modified silica gel of an Example and a comparative example as a column filler for liquid chromatography. 実施例及び比較例の化学修飾型シリカゲルを、各濃度のＮａＯＨ溶液の浸漬した場合のシリカ溶出試験を示すグラフである。It is a graph which shows the silica elution test at the time of immersing the chemically modified silica gel of an Example and a comparative example in each concentration NaOH solution. 実施例及び比較例の化学修飾型シリカゲルを、液体クロマトグラフィー用カラム充填剤として使用した場合の、アルカリＣＩＰ試験の結果を示すグラフである。It is a graph which shows the result of an alkaline CIP test at the time of using the chemically modified silica gel of an Example and a comparative example as a column filler for liquid chromatography.

Explanation of symbols

１０キャビティ（密閉金属製の箱体）
１１キャビティ上部
２０反応容器
２１原料等供給・装入口
２２光ファイバー温度計等の温度計測手段導入口
２３パージガス等の導出口
２５撹拌手段
３０パージ用のＮ₂等ガス導入口
３１逆流防止トラップ
３２水トラップ
３３排気
Ｔ温度計測手段（温度計測器）
Ｃリフラックスコンデンサー 10 cavity (box made of sealed metal)
11 upper part of cavity 20 reaction vessel
21 Raw material supply / loading port 22 Temperature measurement means introduction port such as an optical fiber thermometer 23 Purge gas outlet 25 Stirring means 30 N ₂ etc. gas introduction port for purge 31 Backflow prevention trap 32 Water trap 33 Exhaust T Temperature measurement means (Temperature measuring instrument)
C Reflux condenser

Claims

A method for producing an alkali-resistant chemically modified silica gel, characterized in that when a silica gel is reacted with a chemical modifier to produce a chemically modified silica gel, the reaction between the silica gel and the chemical modifier is performed under microwave irradiation.

The method for producing alkali-resistant chemically modified silica gel according to claim 1, wherein the silica gel has a specific surface area of 1 to 5,000 m ² / g.

The method for producing an alkali-resistant chemically modified silica gel according to claim 1 or 2, wherein the chemical modifier is a silane compound capable of reacting with at least a silanol group on the surface of the silica gel.

The method for producing alkali-resistant chemically modified silica gel according to any one of claims 1 to 3, wherein the microwave to be irradiated has a magnetron frequency in the range of 300 MHz to 300 GHz.

Furthermore, an end cap reaction is performed, The manufacturing method of the alkali-resistant chemical modification type silica gel in any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned.

The method for producing alkali-resistant chemically modified silica gel according to claim 5, wherein the end cap reaction is performed under microwave irradiation.