JP2008239543A - Method for producing bicycloaminoacetylpyrrolidinecarbonitrile derivative and its production intermediate - Google Patents
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Abstract
【課題】エステル基を有するアミノアセチルピロリジンカルボニトリル誘導体の安全な製造方法を提供する。
【解決手段】
式1:
【化1】
(式中R1は、置換されていてもよいC1〜C6のアルキル基、置換されていてもよいC3〜C6のシクロアルキル基、置換されていてもよいアリールメチル基、置換されていてもよいアリールエチル基、置換されていてもよい芳香族炭化水素、置換されていてもよい芳香族へテロ環、または置換されていてもよい脂肪族へテロ環を示し;
R2は水素原子または窒素原子の保護基を示し;
nは1または2を示す)で表されるビシクロアルキルアミノ酢酸誘導体。
【選択図】 なし
A safe method for producing an aminoacetylpyrrolidinecarbonitrile derivative having an ester group is provided.
[Solution]
Formula 1:
[Chemical 1]
Wherein R 1 is an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group, an optionally substituted C 3 -C 6 cycloalkyl group, an optionally substituted arylmethyl group, a substituted An optionally substituted arylethyl group, an optionally substituted aromatic hydrocarbon, an optionally substituted aromatic heterocycle, or an optionally substituted aliphatic heterocycle;
R 2 represents a protecting group for a hydrogen atom or a nitrogen atom;
n represents 1 or 2).
[Selection figure] None
Description
本発明はジペプチジルペプチダーゼIV(DPP-IV)阻害活性を融資、II型糖尿病などのDPP-IVが関与する疾患の予防および/または治療に有用なアミノアセチルピロリジンカルボニトリルの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing aminoacetylpyrrolidinecarbonitrile useful for the prevention and / or treatment of diseases involving DPP-IV such as type II diabetes by financing dipeptidyl peptidase IV (DPP-IV) inhibitory activity.
近年、ジペプチジルペプチダーゼIV(以下、DPP- IV)阻害剤が糖尿病(特にII型糖尿病)の治療薬として注目を集め、DPP-IV阻害作用を有する数多くの誘導体が報告されている。中でもアミノアセチルピロリジンカルボニトリル誘導体は優れた血糖低下作用を示すことから、抗糖尿病薬としていくつかの有望な化合物がいくつか報告されている(非特許文献1〜2、特許文献1〜11)。本願出願人はアミノアセチルピロリジンカルボニトリル誘導体として下記構造式(式5)で表される化合物を開示した(特許文献9)。 In recent years, dipeptidyl peptidase IV (hereinafter referred to as DPP-IV) inhibitors have attracted attention as therapeutic agents for diabetes (particularly type II diabetes), and many derivatives having a DPP-IV inhibitory action have been reported. Among them, since aminoacetylpyrrolidinecarbonitrile derivatives exhibit an excellent blood glucose lowering action, some promising compounds as antidiabetic drugs have been reported (Non-patent Documents 1 and 2, and Patent Documents 1 to 11). The present applicant has disclosed a compound represented by the following structural formula (formula 5) as an aminoacetylpyrrolidinecarbonitrile derivative (Patent Document 9).
式5: Formula 5:
(式中、XはCH2,
CHFまたはCF2を示し;
R1は置換されていてもよいC1〜C6のアルキル基、置換されていてもよいC3〜C6のシクロアルキル基、置換されていてもよいアリールメチル基、置換されていてもよいアリールエチル基、置換されていてもよい芳香族炭化水素、置換されていてもよい芳香族へテロ環、または置換されていてもよい脂肪族ヘテロ環を示し;
nは1また2を示す。)
(Where X is CH 2 ,
Indicates CHF or CF 2 ;
R 1 is an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group, an optionally substituted C 3 -C 6 cycloalkyl group, an optionally substituted arylmethyl group, and optionally substituted. An arylethyl group, an optionally substituted aromatic hydrocarbon, an optionally substituted aromatic heterocycle, or an optionally substituted aliphatic heterocycle;
n represents 1 or 2. )
式5に示した誘導体は1−(2−クロロアセチル)ピロリジン−2−カルボニトリル誘導体あるいは1−(2−ブロモアセチル)ピロリジン−2−カルボニトリル誘導体と対応するアミンを塩基の存在下で反応させることにより製造されている(特許文献9)。そして、原料に使用されている1−(2−クロロアセチル)ピロリジン−2−カルボニトリル誘導体あるいは1−(2−ブロモアセチル)ピロリジン−2−カルボニトリル誘導体はブロモアセチルクロリドあるいはクロロアセチルクロリドとピロリジン誘導体の反応により製造されている(特許文献1〜9)。 The derivative shown in Formula 5 is a 1- (2-chloroacetyl) pyrrolidine-2-carbonitrile derivative or 1- (2-bromoacetyl) pyrrolidine-2-carbonitrile derivative and the corresponding amine is reacted in the presence of a base. (Patent Document 9). The 1- (2-chloroacetyl) pyrrolidine-2-carbonitrile derivative or 1- (2-bromoacetyl) pyrrolidine-2-carbonitrile derivative used as a raw material is bromoacetyl chloride or chloroacetyl chloride and a pyrrolidine derivative. (Patent Literatures 1 to 9).
1−(2−クロロアセチル)ピロリジン−2−カルボニトリル誘導体あるいは1−(2−ブロモアセチル)ピロリジン−2−カルボニトリル誘導体を使用しない合成法としてN-置換アミノ酢酸誘導体とプロリンエステル誘導体を縮合し、次いでプロリンエステル部分を加水分解してカルボン酸とし、これをアミド化してプロリンアミド誘導体に変換した後、アミドを脱水してシアノ誘導体を得る方法が開示されている(特許文献10、11)。
本発明が解決しようとする課題はDPP-IV阻害剤として有用な、式5に示したアミノアセチルピロリジンカルボニトリル誘導体を安全に製造する方法および新規な製造中間体を提供するところにある。 The problem to be solved by the present invention is to provide a method for safely producing an aminoacetylpyrrolidinecarbonitrile derivative represented by the formula 5 useful as a DPP-IV inhibitor and a novel production intermediate.
本発明者らは、式5に示したアミノアセチルピロリジンカルボニトリル誘導体の製造方法を鋭意検討した結果、ビシクロアルキルアミノ酢酸誘導体とプロリン誘導体またはその塩、プロリンアミド誘導体またはその塩、またはピロリジンカルボニトリル誘導体を反応させることにより、安全な製造が達成できることを見出し、本発明を完成した。 As a result of intensive studies on a method for producing an aminoacetylpyrrolidinecarbonitrile derivative represented by Formula 5, the present inventors have found that a bicycloalkylaminoacetic acid derivative and a proline derivative or salt thereof, a prolineamide derivative or salt thereof, or a pyrrolidinecarbonitrile derivative. As a result of the reaction, it was found that safe production could be achieved, and the present invention was completed.
すなわち本発明は、
(1)
式1:
That is, the present invention
(1)
Formula 1:
(式中、R1は置換されていてもよいC1〜C6のアルキル基、置換されていてもよいC3〜C6のシクロアルキル基、置換されていてもよいアリールメチル基、置換されていてもよいアリールエチル基、置換されていてもよい芳香族炭化水素、置換されていてもよい芳香族へテロ環、または置換されていてもよい脂肪族へテロ環を示し;
R2は水素原子または窒素原子の保護基を示し;
nは1または2を示す)で表されるビシクロアルキルアミノ酢酸誘導体、
(Wherein R 1 is an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group, an optionally substituted C 3 -C 6 cycloalkyl group, an optionally substituted arylmethyl group, a substituted An optionally substituted arylethyl group, an optionally substituted aromatic hydrocarbon, an optionally substituted aromatic heterocycle, or an optionally substituted aliphatic heterocycle;
R 2 represents a protecting group for a hydrogen atom or a nitrogen atom;
n represents 1 or 2, and a bicycloalkylaminoacetic acid derivative represented by:
(2)
式1:
(2)
Formula 1:
(式中、R1は置換されていてもよいC1〜C6のアルキル基、置換されていてもよいC3〜C6のシクロアルキル基、置換されていてもよいアリールメチル基、置換されていてもよいアリールエチル基、置換されていてもよい芳香族炭化水素、置換されていてもよい芳香族へテロ環、または置換されていてもよい脂肪族へテロ環を示し;
R2は水素原子または窒素原子の保護基を示し;
nは1または2を示す)で表されるビシクロアルキルアミノ酢酸誘導体に、
式2:
(Wherein R 1 is an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group, an optionally substituted C 3 -C 6 cycloalkyl group, an optionally substituted arylmethyl group, a substituted An optionally substituted arylethyl group, an optionally substituted aromatic hydrocarbon, an optionally substituted aromatic heterocycle, or an optionally substituted aliphatic heterocycle;
R 2 represents a protecting group for a hydrogen atom or a nitrogen atom;
n represents 1 or 2, and a bicycloalkylaminoacetic acid derivative represented by
Formula 2:
(式中、XはCH2、CHFまたはCF2を示す)で表されるプロリン誘導体またはその塩を反応させ、
式3:
(Wherein X represents CH 2 , CHF or CF 2 ), and a proline derivative represented by the salt or a salt thereof,
Formula 3:
(式中、R1、R2、X、nは前記定義と同じ)で表されるアミノアセチルピロリジンカルボン酸誘導体を製造し、得られたアミノアセチルピロリジンカルボン酸誘導体のカルボキシル基をカルバモイル基に変換し、
式4:
(Wherein R 1 , R 2 , X, and n are as defined above) are produced, and the carboxyl group of the resulting aminoacetyl pyrrolidine carboxylic acid derivative is converted to a carbamoyl group And
Formula 4:
(式中、R1、R2、X、nは前記定義と同じ)で表されるアミノアセチルピロリジンカルボキサミド誘導体を製造し、さらに得られたアミノアセチルピロリジンカルボキサミド誘導体のカルバモイル基を脱水し、必要ならば窒素原子の保護基を除去して、
式5:
(Wherein R 1 , R 2 , X, and n are as defined above) are produced, and the carbamoyl group of the resulting aminoacetylpyrrolidinecarboxamide derivative is dehydrated, if necessary Remove the protecting group of the nitrogen atom,
Formula 5:
(式中、R1、X、nは前記定義と同じ)で表されるアセチルアミノピロリジンカルボニトリル誘導体の製造方法、 (Wherein R 1 , X and n are as defined above), a method for producing an acetylaminopyrrolidinecarbonitrile derivative represented by:
(3)
式1:
(3)
Formula 1:
(式中、R1は置換されていてもよいC1〜C6のアルキル基、置換されていてもよいC3〜C6のシクロアルキル基、置換されていてもよいアリールメチル基、置換されていてもよいアリールエチル基、置換されていてもよい芳香族炭化水素、置換されていてもよい芳香族へテロ環、または置換されていてもよい脂肪族へテロ環を示し;
R2は水素原子または窒素原子の保護基を示し;
nは1または2を示す)で表されるビシクロアルキルアミノ酢酸誘導体に、
式6:
(Wherein R 1 is an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group, an optionally substituted C 3 -C 6 cycloalkyl group, an optionally substituted arylmethyl group, a substituted An optionally substituted arylethyl group, an optionally substituted aromatic hydrocarbon, an optionally substituted aromatic heterocycle, or an optionally substituted aliphatic heterocycle;
R 2 represents a protecting group for a hydrogen atom or a nitrogen atom;
n represents 1 or 2, and a bicycloalkylaminoacetic acid derivative represented by
Formula 6:
式4:
Formula 4:
式5:
Formula 5:
(式中、R1、X、nは前記定義と同じ)で表されるアセチルアミノピロリジンカルボニトリル誘導体の製造方法、 (Wherein R 1 , X and n are as defined above), a method for producing an acetylaminopyrrolidinecarbonitrile derivative represented by:
(4)
式1:
(4)
Formula 1:
(式中、R1は置換されていてもよいC1〜C6のアルキル基、置換されていてもよいC3〜C6のシクロアルキル基、置換されていてもよいアリールメチル基、置換されていてもよいアリールエチル基、置換されていてもよい芳香族炭化水素、置換されていてもよい芳香族へテロ環、または置換されていてもよい脂肪族へテロ環を示し;
R2は水素原子または窒素原子の保護基を示し;
nは1または2を示す)で表されるビシクロアルキルアミノ酢酸誘導体に、
式7:
(Wherein R 1 is an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group, an optionally substituted C 3 -C 6 cycloalkyl group, an optionally substituted arylmethyl group, a substituted An optionally substituted arylethyl group, an optionally substituted aromatic hydrocarbon, an optionally substituted aromatic heterocycle, or an optionally substituted aliphatic heterocycle;
R 2 represents a protecting group for a hydrogen atom or a nitrogen atom;
n represents 1 or 2, and a bicycloalkylaminoacetic acid derivative represented by
Formula 7:
(式中、XはCH2、CHFまたはCF2を示す)で表されるピロリジンカルボニトリル誘導体またはその塩を反応させ、必要ならば窒素原子の保護基を除去することによる、
式5:
(Wherein X represents CH 2 , CHF or CF 2 ), a pyrrolidinecarbonitrile derivative represented by the above or a salt thereof is reacted, and if necessary, a protecting group for the nitrogen atom is removed,
Formula 5:
(式中R1、X、nは前記定義と同じ)で表されるアミノアセチルピロリジンカルボニトリルの製造方法、 (Wherein R 1 , X, and n are as defined above), a method for producing an aminoacetylpyrrolidinecarbonitrile,
(5)
式8:
(5)
Formula 8:
(式中、R1は置換されていてもよいC1〜C6のアルキル基、置換されていてもよいC3〜C6のシクロアルキル基、置換されていてもよいアリールメチル基、置換されていてもよいアリールエチル基、置換されていてもよい芳香族炭化水素、置換されていてもよい芳香族へテロ環、または置換されていてもよい脂肪族へテロ環を示し;
nは1または2を示す)で表されるビシクロエステルアミン誘導体またはその塩に、
式9:
(Wherein R 1 is an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group, an optionally substituted C 3 -C 6 cycloalkyl group, an optionally substituted arylmethyl group, a substituted An optionally substituted arylethyl group, an optionally substituted aromatic hydrocarbon, an optionally substituted aromatic heterocycle, or an optionally substituted aliphatic heterocycle;
n represents 1 or 2), or a salt thereof.
Formula 9:
(式中、R3は水素原子、置換されていてもよいtert−ブチル基、ベンジル基、ジフェニルメチル基またはテトラヒドロピラニル基を、Yはハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基またはトルエンスルホニルオキシ基を示す)で表される酢酸誘導体を反応させ、必要に応じて窒素原子の保護とエステルの除去を行うことによる、
式1:
Wherein R 3 is a hydrogen atom, an optionally substituted tert-butyl group, benzyl group, diphenylmethyl group or tetrahydropyranyl group, Y is a halogen atom, methanesulfonyloxy group, benzenesulfonyloxy group or toluene. By reacting an acetic acid derivative represented by (representing a sulfonyloxy group), and if necessary, protecting the nitrogen atom and removing the ester,
Formula 1:
(式中R1、nは前記定義と同じ;
R2は水素原子または窒素原子の保護基を示す)で表されるビシクロアルキルアミノ酢酸誘導体の製造方法に関するものである。
Wherein R 1 and n are as defined above;
R 2 represents a protecting group for a hydrogen atom or a nitrogen atom).
ブロモアセチルクロリドやクロロアセチルクロリドのような腐食性があり有毒な試薬の使用を避けて、ビシクロアルキルアミノ酢酸誘導体を用いてアミノアセチルピロリジンカルボン酸誘導体およびアミノアセチルピロリジンカルボキサミド誘導体を中間体として経由することにより、式5で示す誘導体の安全性が高い製造方法を確立した。 Avoid the use of corrosive and toxic reagents such as bromoacetyl chloride and chloroacetyl chloride, and use bicycloalkylaminoacetic acid derivatives as intermediates for aminoacetylpyrrolidinecarboxylic acid derivatives and aminoacetylpyrrolidinecarboxamide derivatives. Thus, a highly safe production method of the derivative represented by Formula 5 was established.
本明細書中に表される「置換されていてもよいC1〜C6のアルキル基」とはハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、C1〜C6のアルコキシ基、置換されていてもよいアリールオキシ基、C1〜C6のアルキルカルボニル基、C1〜C6のアルコキシカルボニル基、C1〜C6のアルキルチオ基、アミノ基、モノまたはジ置換のC1〜C6のアルキルアミノ基、1〜3個のヘテロ原子を含んでいてもよい4〜9員の環状アミノ基、ホルミルアミノ基、C1〜C6のアルキルカルボニルアミノ基、C1〜C6のアルコキシカルボニルアミノ基、C1〜C6のアルキルスルホニルアミノ基及び置換されていてもよいアリールスルホニルアミノ基などから選ばれた1〜5個の置換基を有していてもよいC1〜C6のアルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、1−メチルエチル基、1−メチルプロピル基、2−メチルプロピル基、1−エチルプロピル基、2−エチルプロピル基、ブチル基、t−ブチル基またはヘキシル基など)を意味する。 The “optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group” represented in the present specification is a halogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a C 1 -C 6 alkoxy group, or an optionally substituted group. an aryloxy group, an alkylcarbonyl group C 1 ~C 6, C 1 alkoxycarbonyl group -C 6, an alkylthio group of C 1 -C 6, an amino group, an alkylamino group of C 1 -C 6 mono- or di-substituted 4 to 9-membered cyclic amino group which may contain 1 to 3 heteroatoms, formylamino group, C 1 to C 6 alkylcarbonylamino group, C 1 to C 6 alkoxycarbonylamino group, C 1 -C 6 alkylsulfonylamino group, and substituted C 1 may have 1 to 5 substituents selected from or an arylsulfonyl amino group optionally -C 6 alkyl group (Methyl group, ethyl group, propyl group, 1-methylethyl group, 1-methylpropyl group, 2-methylpropyl group, 1-ethylpropyl group, 2-ethylpropyl group, butyl group, t-butyl group or hexyl group Etc.)
本明細書中に表される「置換されていてもよいC3〜C6のシクロアルキル基」とは、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、C1〜C6のアルコキシ基、置換されていてもよいアリールオキシ基、C1〜C6のアルキルカルボニル基、C1〜C6のアルコキシカルボニル基、C1〜C6のアルキルチオ基、アミノ基、モノまたはジ置換のC1〜C6のアルキルアミノ基、1〜3個のヘテロ原子を含んでいてもよい4〜9員の環状アミノ基、ホルミルアミノ基、C1〜C6のアルキルカルボニルアミノ基、C1〜C6のアルコキシカルボニルアミノ基、C1〜C6のアルキルスルホニルアミノ基及び置換されていてもよいアリールスルホニルアミノ基などから選ばれた1〜5個の置換基を有していてもよいC3〜C6のシクロアルキル基(シクロプロピル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチル基、シクロペンチル基またはシクロヘキシル基など)を意味する。 The “optionally substituted C 3 -C 6 cycloalkyl group” represented in the present specification is a halogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a C 1 -C 6 alkoxy group, a substituted one. also an aryloxy group, an alkylcarbonyl group C 1 -C 6, alkoxycarbonyl groups of C 1 -C 6, an alkylthio group of C 1 -C 6, an amino group, an alkyl of C 1 -C 6 mono- or di-substituted amino group, 1 to 3 may contain a hetero atom 4-9 membered cyclic amino group, formylamino group, alkylcarbonylamino group of C 1 -C 6, an alkoxycarbonylamino group of C 1 -C 6 , C 1 -C 6 alkylsulfonylamino group, and optionally substituted C 3 optionally having 1 to 5 substituents selected from or an arylsulfonyl amino group optionally -C Means a cycloalkyl group (cyclopropyl group, cyclopropylmethyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group or a cyclohexyl group).
本明細書中に表される「置換されていてもよいアリールメチル基」とは、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1〜C6のアルキル基、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよいC1〜C6のアルコキシ基、置換されていてもよいアリールオキシ基、C1〜C6のアルキルカルボニル基、C1〜C6のアルコキシカルボニル基、C1〜C6のアルキルチオ基、アミノ基、モノまたはジ置換の置換されていてもよいC1〜C6のアルキルアミノ基、置換されていてもよいアリールアミノ基、1〜3個のヘテロ原子を含んでいてもよい4〜9員の環状アミノ基、ホルミルアミノ基、C1〜C6のアルキルカルボニルアミノ基、C1〜C6のアルコキシカルボニルアミノ基、C1〜C6のアルキルスルホニルアミノ基及び置換されていてもよいアリールスルホニルアミノ基などから選ばれた1〜5個の置換基を有していてもよいアリールメチル基(フェニルメチル基、ナフチルメチル基、ピリジルメチル基、キノリルメチル基またはインドリルメチル基など)を意味する。 The “optionally substituted arylmethyl group” represented in the present specification means a halogen atom, an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a substituted group. is C 1 optionally -C 6 alkoxy group, optionally substituted aryloxy group, an alkylcarbonyl group C 1 -C 6, alkoxycarbonyl groups of C 1 -C 6, the C 1 -C 6 Alkylthio group, amino group, mono- or di-substituted optionally substituted C 1 -C 6 alkylamino group, optionally substituted arylamino group, optionally containing 1 to 3 heteroatoms 4-9 membered cyclic amino group, formylamino group, C 1 -C alkylcarbonylamino group 6, an alkoxycarbonylamino group of C 1 -C 6, alkyl sulfonyl of C 1 -C 6 Arylmethyl group (phenylmethyl group, naphthylmethyl group, pyridylmethyl group, quinolylmethyl group) optionally having 1 to 5 substituents selected from amino group and optionally substituted arylsulfonylamino group Or an indolylmethyl group).
本明細書中に表される「置換されていてもよいアリールエチル基」とは、ハロゲン原子、置換されていてもよいC1〜C6のアルキル基、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよいC1〜C6のアルコキシ基、置換されていてもよいアリールオキシ基、C1〜C6のアルキルカルボニル基、C1〜C6のアルコキシカルボニル基、C1〜C6のアルキルチオ基、アミノ基、モノまたはジ置換の置換されていてもよいC1〜C6のアルキルアミノ基、置換されていてもよいアリールアミノ基、1〜3個のヘテロ原子を含んでいてもよい4〜9員の環状アミノ基、ホルミルアミノ基、C1〜C6のアルキルカルボニルアミノ基、C1〜C6のアルコキシカルボニルアミノ基、C1〜C6のアルキルスルホニルアミノ基及び置換されていてもよいアリールスルホニルアミノ基などから選ばれた1〜5個の置換基を有していてもよいアリールエチル基(フェニルエチル基、ナフチルエチル基、ピリジルエチル基、キノリルエチル基またはインドリルエチル基など)を意味する。 The “optionally substituted arylethyl group” represented in the present specification means a halogen atom, an optionally substituted C 1 to C 6 alkyl group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a substituted group. is C 1 optionally -C 6 alkoxy group, optionally substituted aryloxy group, an alkylcarbonyl group C 1 -C 6, alkoxycarbonyl groups of C 1 -C 6, the C 1 -C 6 Alkylthio group, amino group, mono- or di-substituted optionally substituted C 1 -C 6 alkylamino group, optionally substituted arylamino group, optionally containing 1 to 3 heteroatoms 4-9 membered cyclic amino group, formylamino group, C 1 -C alkylcarbonylamino group 6, an alkoxycarbonylamino group of C 1 -C 6, alkyl sulfonyl of C 1 -C 6 Arylethyl group (phenylethyl group, naphthylethyl group, pyridylethyl group, quinolylethyl group) optionally having 1 to 5 substituents selected from amino group and optionally substituted arylsulfonylamino group Or an indolylethyl group).
本明細書中に表される「置換されていてもよい芳香族炭化水素」とは、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよいC1〜C6のアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基、C1〜C6のアルキルチオ基及びC1〜C6のジアルキルアミノ基などから選ばれた1〜5個の置換基を有していてもよい芳香族炭化水素(ベンゼン環、ナフタレン環またはアントラセン環など)を意味する。 The “optionally substituted aromatic hydrocarbon” represented in the present specification includes a halogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, an optionally substituted C 1 to C 6 alkyl group, Aromatic hydrocarbon optionally having 1 to 5 substituents selected from a C 1 to C 6 alkoxy group, a C 1 to C 6 alkylthio group, a C 1 to C 6 dialkylamino group, and the like (Benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, etc.).
本明細書中に表される「置換されていてもよい芳香族へテロ環」とは、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、C1〜C6のアルキル基、C1〜C6のアルコキシ基及び、C1〜C6のアルキルチオ基などから選ばれた1〜5個の置換基を有していてもよい芳香族へテロ環(窒素原子、酸素原子、硫黄原子の中から任意に選ばれた1〜3個のヘテロ原子を含む5員または6員の芳香族単環式複素環、あるいは9員または10員の芳香族縮合複素環、例えばピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、キノリン環、ナフチリジン環、キナゾリン環、アクリジン環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、イミダゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、イソキサゾール環、チアゾール環、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンズイミダゾール環またはベンゾオキサゾール環など)を意味する。 The “optionally substituted aromatic heterocycle” represented in the present specification means a halogen atom, hydroxyl group, cyano group, nitro group, C 1 -C 6 alkyl group, C 1 -C 6. An aromatic heterocycle optionally having 1 to 5 substituents selected from an alkoxy group of C 1 to C 6 and an alkylthio group (any of nitrogen atom, oxygen atom, sulfur atom) A 5-membered or 6-membered aromatic monocyclic heterocycle containing 1 to 3 heteroatoms selected from or a 9-membered or 10-membered aromatic condensed heterocycle, such as a pyridine ring, a pyrimidine ring, a pyridazine ring, Triazine ring, quinoline ring, naphthyridine ring, quinazoline ring, acridine ring, pyrrole ring, furan ring, thiophene ring, imidazole ring, pyrazole ring, oxazole ring, isoxazole ring, thiazole ring, indole ring, Nzofuran ring, benzothiazole ring, and a benzimidazole ring or a benzoxazole ring) means.
本明細書中に表される「置換されていてもよい脂肪族へテロ環」とは、ハロゲン原子、C1〜C6のアルキル基、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、C1〜C6のアルコキシ基及びC1〜C6のアルキルチオ基などから選ばれた1〜5個の置換基を有していてもよい脂肪族へテロ環(窒素原子、酸素原子、および硫黄原子の中から任意に選ばれた1〜3個のヘテロ原子を含む4〜7員の脂肪族単環式複素環、あるいは9員または10員の脂肪族縮合複素環、例えばアゼチジン環、ピロリジン環、テトラヒドロフラン環、テトラヒドロピラン環、ピペリジン環、モルホリン環またはピペラジン環など)を意味する。 The “optionally substituted aliphatic heterocyclic ring” represented in the present specification means a halogen atom, a C 1 -C 6 alkyl group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, C 1 -C 6. An aliphatic heterocyclic ring optionally having 1 to 5 substituents selected from an alkoxy group of the above and a C 1 to C 6 alkylthio group (any of nitrogen atom, oxygen atom, and sulfur atom) 4- to 7-membered aliphatic monocyclic heterocycles containing 1 to 3 heteroatoms selected from the above, or 9- or 10-membered aliphatic condensed heterocycles such as azetidine ring, pyrrolidine ring, tetrahydrofuran ring, tetrahydro A pyran ring, a piperidine ring, a morpholine ring or a piperazine ring).
本明細書中に表される「ハロゲン原子」とはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を意味する。 The “halogen atom” represented in the present specification means a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom.
本明細書中に表される「窒素原子の保護基」とは、その保護基を除去する際に化合物中の官能基、特にアルコキシカルボニル基、シアノ基に影響を与えない反応条件で除去できる保護基であればいずれでもよく、好ましくはベンジルオキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、9−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、トリクロロエチルオキシカルボニル基、2−トリメチルシリルエチルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、p−ニトロベンジルオキシカルボニル基、トリフルオロアセチ基、ベンジル基、ジフェニルメチル基、トリフェニルメチル基が挙げられ、さらに好ましくはベンジルオキシカルボニル基が挙げられる。 The term “nitrogen atom protecting group” as used herein refers to protection that can be removed under reaction conditions that do not affect functional groups in the compound, particularly alkoxycarbonyl groups and cyano groups, when the protecting groups are removed. Any group may be used, preferably benzyloxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, 9-fluorenylmethyloxycarbonyl group, trichloroethyloxycarbonyl group, 2-trimethylsilylethyloxycarbonyl group, allyloxycarbonyl group, A p-nitrobenzyloxycarbonyl group, a trifluoroacetyl group, a benzyl group, a diphenylmethyl group, and a triphenylmethyl group are exemplified, and a benzyloxycarbonyl group is more preferred.
本明細書中に表される「プロリン誘導体またはその塩」「プロリンアミド誘導体またはその塩」「ピロリジンカルボニトリル誘導体またはその塩」および「ビシクロエステルアミン誘導体またはその塩」の「その塩」とは、アミン塩として許容されるものであればどのようなものでもよいが、好ましくは塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩;メタンスルホン酸塩、トシル酸塩、ベンゼンスルホン酸塩などのスルホン酸塩;酢酸塩、マロン酸塩、コハク酸塩等のカルボン酸塩が挙げられる。 The “proline derivative or salt thereof”, “proline amide derivative or salt thereof”, “pyrrolidinecarbonitrile derivative or salt thereof” and “bicycloesteramine derivative or salt thereof” represented by the present specification are “the salt”. Any amine salt may be used, but preferably hydrochloride, hydrobromide, hydroiodide; methanesulfonate, tosylate, benzenesulfonate, etc. Sulfonates: carboxylates such as acetates, malonates and succinates.
上記一般式(2)〜(7)で表される本発明化合物には1個以上の不斉中心に基づく複数の光学異性体が存在しうるが、本発明はこれら光学異性体もしくはジアステレオ異性体のいずれをも含み、またそれらの任意の比率を示す混合物またはラセミ体を含むものである。さらには上記一般式(1)および(3)〜(5)で表される本発明化合物には互変異性体や回転異性体が存在しうるものがあるが、それぞれの異性体およびそれらの任意の比率を示す混合物も本発明に含まれる。 The compounds of the present invention represented by the general formulas (2) to (7) may have a plurality of optical isomers based on one or more asymmetric centers. The present invention is not limited to these optical isomers or diastereoisomers. Including mixtures, and mixtures or racemates showing any ratio thereof. Furthermore, the compounds of the present invention represented by the general formulas (1) and (3) to (5) may include tautomers and rotational isomers. A mixture exhibiting a ratio of
(製造方法) (Production method)
ビシクロアルキルアミノ酢酸誘導体の製造方法製造方法は以下のように示すことができる(スキーム1)。 Production method of bicycloalkylaminoacetic acid derivative The production method can be shown as follows (Scheme 1).
スキーム1中の工程1は、一般式(8)(式中、R1、nは前記定義と同じ)で表されるビシクロエステルアミン誘導体またはその塩に、塩基の存在下あるいは非存在下で一般式(9)(式中、R3、Yは前記定義と同じ)で表される酢酸誘導体を反応させ、窒素原子の保護を行った後、エステルを除去することにより式(10)(式中、R4は窒素原子の保護基を示し、R1は前記定義と同じ)で表されるアミノ基に保護基を有するビシクロアルキルアミノ酢酸誘導体を製造する工程である。 Step 1 in Scheme 1 is generally performed in a bicycloesteramine derivative represented by the general formula (8) (wherein R 1 and n are as defined above) or a salt thereof in the presence or absence of a base. After reacting an acetic acid derivative represented by the formula (9) (wherein R 3 and Y are as defined above), protecting the nitrogen atom, the ester is removed to remove the ester (10) (wherein , R 4 represents a protecting group for a nitrogen atom, and R 1 is the same as defined above), and is a step for producing a bicycloalkylaminoacetic acid derivative having a protecting group on the amino group.
本反応に塩基を用いる場合には、炭酸水素ナトリウムまたは炭酸カリウムなどのアルカリ炭酸塩、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N−メチルモルホリン、ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジンまたは1,8−ビス(ジメチルアミノ)ナフタレンなどの3級アミン類が挙げられ、好ましくは炭酸カリウムが上げられる。本縮合反応に用いる溶媒としては反応に関与しない不活性な溶媒、例えばN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルエーテル、ジメトキシエタン、酢酸エチル、トルエン、ジクロロメタンなどを用いることができ、好ましくはN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドが挙げられる。 When a base is used in this reaction, an alkali carbonate such as sodium hydrogen carbonate or potassium carbonate, triethylamine, diisopropylethylamine, N-methylmorpholine, diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene, pyridine, 4-dimethylaminopyridine Or tertiary amines, such as 1,8-bis (dimethylamino) naphthalene, are mentioned, Preferably potassium carbonate is raised. As the solvent used in this condensation reaction, an inert solvent not involved in the reaction, such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, acetonitrile, tetrahydrofuran, dioxane, ethyl ether, dimethoxyethane, ethyl acetate, Toluene, dichloromethane and the like can be used, and preferred are N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide.
窒素原子の保護基としてはベンジルオキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、9−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、トリクロロエチルオキシカルボニル基、2−トリメチルシリルエチルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基などのアルコキシカルボニル基、トリフルオロアセチル基などのアシル基、ベンジル基、ジフェニルメチル基、トリフェニルメチル基などのアリールメチル基が挙げられる。 Protecting groups for nitrogen atoms include alkoxycarbonyl such as benzyloxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, 9-fluorenylmethyloxycarbonyl group, trichloroethyloxycarbonyl group, 2-trimethylsilylethyloxycarbonyl group, allyloxycarbonyl group, etc. Groups, acyl groups such as trifluoroacetyl group, and arylmethyl groups such as benzyl group, diphenylmethyl group and triphenylmethyl group.
エステルの除去は公知の方法で実施することができる。例えばR3がtert−ブチル基、2−テトラヒドロピラニル基の場合は塩酸、トリフルオロ酢酸などの酸やモンモリロナイトKSFのような酸性粘土鉱物を用いることで、R3がベンジル基、ジフェニルメチル基の場合はパラジウム炭素と水素やパラジウム炭素とギ酸アンモニウムの組み合わせによる方法で容易に除去することができる。 The removal of the ester can be carried out by a known method. For example, when R 3 is a tert-butyl group or 2-tetrahydropyranyl group, an acid such as hydrochloric acid or trifluoroacetic acid or an acidic clay mineral such as montmorillonite KSF is used, and R 3 is a benzyl group or diphenylmethyl group. In some cases, it can be easily removed by a method using a combination of palladium carbon and hydrogen or palladium carbon and ammonium formate.
スキーム1中の工程2は、式(10)(式中、R1、R4は前記定義と同じ)で表されるアミノ基に保護基を有するビシクロアルキルアミノ酢酸誘導体を脱保護することによる式(11)(式中、R1は前記定義と同じ)で表されるビシクロアルキルアミノ酢酸誘導体の製造方法である。 Step 2 in Scheme 1 is a formula obtained by deprotecting a bicycloalkylaminoacetic acid derivative having a protecting group on the amino group represented by the formula (10) (wherein R 1 and R 4 are the same as defined above). (11) A method for producing a bicycloalkylaminoacetic acid derivative represented by the formula (wherein R 1 is as defined above).
保護基の除去は公知の方法によって実施することができる。例えば、R4がベンジルオキシカルボニル基、ベンジル基、ジフェニルメチル基の場合はパラジウム炭素と水素やパラジウム炭素とギ酸アンモニウムの組み合わせによる方法で、R4がtert−ブトキシカルボニル基、トリフェニルメチル基の場合は塩酸、トリフルオロ酢酸などの酸を用いることで、R4が9−フルオレニルメチルカルボニル基の場合は、ピペリジン、モルホリンなどの二級アミンやフッ化テトラブチルアンモニウムのようなフッ化4級アンモニウム塩などを用いることにより、R4がトリフルオロアセチル基の場合は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、アンモニアなどを用いることにより容易に除去することができる。 The removal of the protecting group can be carried out by a known method. For example, when R 4 is a benzyloxycarbonyl group, a benzyl group, or a diphenylmethyl group, a method using a combination of palladium carbon and hydrogen or palladium carbon and ammonium formate, and when R 4 is a tert-butoxycarbonyl group or a triphenylmethyl group Uses an acid such as hydrochloric acid or trifluoroacetic acid. When R 4 is a 9-fluorenylmethylcarbonyl group, it is a secondary amine such as piperidine or morpholine, or a quaternary fluoride such as tetrabutylammonium fluoride. By using an ammonium salt or the like, when R 4 is a trifluoroacetyl group, it can be easily removed by using sodium carbonate, potassium carbonate, ammonia or the like.
本発明におけるアミノアセチルピロリジンカルボニトリル誘導体の製造方法は以下のように示すことができる(スキーム2)。 The method for producing an aminoacetylpyrrolidinecarbonitrile derivative in the present invention can be shown as follows (Scheme 2).
スキーム2中の工程3は、一般式(10)(式中、R4は窒素原子の保護基を示し、R1、nは前記定義と同じ)で表されるビシクロアルキルアミノ酢酸誘導体と縮合剤の存在下で、一般式(2)(式中、Xは前記定義と同じ)で表されるプロリン誘導体またはその塩と縮合し、一般式(12)(式中、R1、R4、X、nは前記定義と同じ)で表される保護基を有するアミノアセチルピロリジンカルボン酸誘導体を製造する工程である。 Step 3 in Scheme 2 is a bicycloalkylaminoacetic acid derivative represented by the general formula (10) (wherein R 4 represents a protecting group for a nitrogen atom, and R 1 and n are as defined above) and a condensing agent. Is condensed with a proline derivative represented by the general formula (2) (wherein X is the same as defined above) or a salt thereof to give a general formula (12) (wherein R 1 , R 4 , X , N is the same as defined above) is a process for producing an aminoacetylpyrrolidinecarboxylic acid derivative having a protecting group represented by
上記工程の縮合剤としては3−エチル−1−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(EDCI)、ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)ジメチルイミダゾリニウムクロリド(DMC)、クロロ蟻酸エチル、クロロ蟻酸イソブチル、塩化ピバロイルなどが挙げられ、これらは固体状、液体状または適当な溶媒に溶かした溶液として添加される。本縮合反応に塩基を用いる場合には、炭酸水素ナトリウムまたは炭酸カリウムなどのアルカリ炭酸塩、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N−メチルモルホリン、ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジンまたは1,8−ビス(ジメチルアミノ)ナフタレンなどの3級アミン類が例示できる。本縮合反応に用いる溶媒としては反応に関与しない不活性な溶媒、例えばN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルエーテル、ジメトキシエタン、酢酸エチル、トルエン、ジクロロメタンなどが用いられる。 As the condensing agent in the above step, 3-ethyl-1- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride (EDCI), dicyclohexylcarbodiimide (DCC) dimethylimidazolinium chloride (DMC), ethyl chloroformate, isobutyl chloroformate, chloride Examples include pivaloyl and the like, which are added as a solid, liquid, or a solution dissolved in an appropriate solvent. When a base is used for this condensation reaction, an alkali carbonate such as sodium bicarbonate or potassium carbonate, triethylamine, diisopropylethylamine, N-methylmorpholine, diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene, pyridine, 4-dimethylamino Examples thereof include tertiary amines such as pyridine and 1,8-bis (dimethylamino) naphthalene. As the solvent used in this condensation reaction, an inert solvent not involved in the reaction, such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, acetonitrile, tetrahydrofuran, dioxane, ethyl ether, dimethoxyethane, ethyl acetate, Toluene, dichloromethane and the like are used.
上記縮合反応は−20〜150℃で円滑に進行する。また本縮合反応は1−イミダゾリル基、4−ニトロフェノキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基、コハク酸イミドイルオキシ基または1−ベンゾトリアゾリルオキシ基(または1−ベンゾトリアゾリル 3−オキシド基)を有する活性エステルを経由しても実施することができ、この活性エステルは単離精製して次工程に用いることも、単離せずに粗製のまま次工程に用いることもできる。 The condensation reaction proceeds smoothly at -20 to 150 ° C. In addition, this condensation reaction involves the formation of 1-imidazolyl group, 4-nitrophenoxy group, pentafluorophenoxy group, succinimidyloxy group or 1-benzotriazolyloxy group (or 1-benzotriazolyl 3-oxide group). This active ester can be isolated and purified and used in the next step, or it can be used crude in the next step without isolation.
スキーム2中の工程4aおよび4bは、一般式(13)(式中、R1、R4、X、nは前記定義と同じ)で表される保護を有するアミノアセチルピロリジンカルボキサミド誘導体を製造する工程である。 Steps 4a and 4b in Scheme 2 are steps for producing an aminoacetylpyrrolidinecarboxamide derivative having protection represented by the general formula (13) (wherein R 1 , R 4 , X, and n are as defined above). It is.
工程4aは一般式(12)(式中、R1、R4、X、nは前記定義と同じ)で表される保護基を有するアミノアセチルピロリジンカルボン酸誘導体のカルボニル基を縮合剤の存在下でアンモニアと反応させることにより、あるいは塩化チオニル、塩化オキサリル等を反応させて一旦、酸クロリドに変換した後、アンモニアを反応させてアミド化することにより、一般式(13)(式中、R1、R4、X、nは前記定義と同じ)で表される保護を有するアミノアセチルピロリジンカルボキサミド誘導体を製造する方法である。本工程は、工程3において記載した何れかの縮合剤、塩基、反応温度を用いることができ、工程3において記載した条件の範囲の反応条件で行うことができる。 In step 4a, the carbonyl group of the aminoacetylpyrrolidinecarboxylic acid derivative having a protecting group represented by the general formula (12) (wherein R 1 , R 4 , X, and n are as defined above) is substituted in the presence of a condensing agent. By reacting with ammonia or by reacting with thionyl chloride, oxalyl chloride or the like to convert to acid chloride, and then reacting with ammonia to amid to give general formula (13) (wherein R 1 , R 4 , X, and n are the same as defined above) for producing an aminoacetylpyrrolidinecarboxamide derivative having a protection represented by In this step, any of the condensing agents, bases, and reaction temperatures described in Step 3 can be used, and the reaction can be performed under the reaction conditions in the range described in Step 3.
また工程4bは、一般式(10)(式中、R1、R4、nは前記定義と同じ)で表されるビシクロアルキルアミノ酢酸誘導体と縮合剤の存在下で、一般式(6)(式中、Xは前記定義と同じ)で表されるプロリンアミド誘導体またはその塩と縮合し、一般式(13)(式中、R1、R4、X、nは前記定義と同じ)で表される保護基を有するアミノアセチルピロリジンカルボキサミド誘導体を製造する方法である。本工程は、工程3において記載した何れかの縮合剤、塩基、反応温度を用いることができ、工程3において記載した条件の範囲の反応条件で行うことができる。 Step 4b is carried out in the presence of a bicycloalkylaminoacetic acid derivative represented by the general formula (10) (wherein R 1 , R 4 and n are as defined above) and a condensing agent in the general formula (6) ( In which X is the same as defined above) or a salt thereof, and represented by the general formula (13) (wherein R 1 , R 4 , X and n are as defined above). This is a method for producing an aminoacetylpyrrolidinecarboxamide derivative having a protecting group. In this step, any of the condensing agents, bases, and reaction temperatures described in Step 3 can be used, and the reaction can be performed under the reaction conditions in the range described in Step 3.
スキーム2中の工程5aおよび5bは、一般式(14)(式中、R1、X、nは前記定義と同じ)で表されるアミノアセチルピロリジンカルボキサミド誘導体を製造する工程である。 Steps 5a and 5b in Scheme 2 are steps for producing an aminoacetylpyrrolidinecarboxamide derivative represented by the general formula (14) (wherein R 1 , X and n are as defined above).
工程5aは一般式(13)(式中、R1、R4、X、nは前記定義と同じ)で表される保護基を有するアミノアセチルピロリジンカルボキサミド誘導体の保護基を除去し、一般式(14)(式中、R1、X、nは前記定義と同じ)で表されるアミノアセチルピロリジンカルボキサミド誘導体を製造する工程である。 Step 5a removes the protecting group of the aminoacetylpyrrolidinecarboxamide derivative having a protecting group represented by the general formula (13) (wherein R 1 , R 4 , X and n are as defined above), 14) A process for producing an aminoacetylpyrrolidinecarboxamide derivative represented by the formula: wherein R 1 , X and n are as defined above.
保護基の除去は公知の方法によって実施することができる。例えばR4がベンジルオキシカルボニル基、ベンジル基、ジフェニルメチル基の場合はパラジウム炭素と水素やパラジウム炭素とギ酸アンモニウムの組み合わせによる方法で、R4がtert−ブトキシカルボニル基、トリフェニルメチル基の場合は塩酸、トリフルオロ酢酸などの酸を用いることで、R5が9−フルオレニルメチルカルボニル基の場合は、ピペリジン、モルホリンなどの二級アミンやフッ化テトラブチルアンモニウムのようなフッ化4級アンモニウム塩などを用いることにより、R4がトリクロロエチルオキシカルボニル基の場合は、亜鉛で処理することにより、R4が2−トリメチルシリルエチルオキシカルバモイル基の場合は、トリフルオロ酢酸などの酸やフッ化テトラブチルアンモニウムのようなフッ化4級アンモニウム塩などを用いることにより、R4がアリルオキシカルボニル基の場合はテトラキストリフェニルホスフィンパラジウムで処理することにより、R4がトリフルオロアセチル基場合は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、アンモニアなどを用いることにより容易に除去できる。 The removal of the protecting group can be carried out by a known method. For example, when R 4 is a benzyloxycarbonyl group, a benzyl group, or a diphenylmethyl group, a method using a combination of palladium carbon and hydrogen or palladium carbon and ammonium formate, and when R 4 is a tert-butoxycarbonyl group or a triphenylmethyl group, By using an acid such as hydrochloric acid or trifluoroacetic acid, when R5 is a 9-fluorenylmethylcarbonyl group, secondary amines such as piperidine and morpholine and quaternary ammonium fluorides such as tetrabutylammonium fluoride are used. When R 4 is a trichloroethyloxycarbonyl group, it is treated with zinc. When R 4 is a 2-trimethylsilylethyloxycarbamoyl group, an acid such as trifluoroacetic acid or tetrabutyl fluoride is used. Use quaternary ammonium fluoride such as ammonium By, if R 4 is an allyloxycarbonyl group by treatment with tetrakistriphenylphosphine palladium, when R 4 is trifluoroacetyl group can be easily removed by using sodium carbonate, potassium carbonate, ammonia, etc. .
工程5bは一般式(11)(式中、R1、nは前記定義と同じ)で表されるビシクロアルキルアミノ酢酸誘導体と縮合剤の存在下で、一般式(6)(式中、Xは前記定義と同じ)で表されるプロリンアミド誘導体またはその塩と縮合し、一般式(14)(式中、R1、X、nは前記定義と同じ)で表されるアミノアセチルピロリジンカルボキサミド誘導体を製造する工程である。本工程は、工程3において記載した何れかの縮合剤、塩基、反応温度を用いることができ、工程3において記載した条件の範囲の反応条件で行うことができる。 Step 5b is carried out in the presence of a bicycloalkylaminoacetic acid derivative represented by general formula (11) (wherein R 1 and n are as defined above) and a condensing agent, and general formula (6) (wherein X is An aminoacetylpyrrolidinecarboxamide derivative represented by the general formula (14) (wherein R 1 , X, and n are as defined above) are condensed with a proline amide derivative represented by the same definition or a salt thereof. It is a manufacturing process. In this step, any of the condensing agents, bases, and reaction temperatures described in Step 3 can be used, and the reaction can be performed under the reaction conditions in the range described in Step 3.
スキーム2中の工程6aおよび6bは、一般式(15)(式中、R1、R4、nは前記定義と同じ)で表される保護基を有するアミノアセチルピロリジンカルボニトリル誘導体を製造する工程である。 Steps 6a and 6b in Scheme 2 are steps for producing an aminoacetylpyrrolidinecarbonitrile derivative having a protecting group represented by the general formula (15) (wherein R 1 , R 4 and n are as defined above). It is.
工程6aは、一般式(13)(式中、R1、R4、X、nは前記定義と同じ)で表される保護基を有するアミノアセチルピロリジンカルボキサミド誘導体のカルバモイル基を脱水し、一般式(15)(式中、R1、R4、X、nは前記定義と同じ)で表される保護基を有するアミノアセチルピロリジンカルボニトリル誘導体を製造する工程である。 Step 6a dehydrates the carbamoyl group of the aminoacetylpyrrolidinecarboxamide derivative having a protecting group represented by the general formula (13) (wherein R 1 , R 4 , X, and n are as defined above). (15) A process for producing an aminoacetylpyrrolidinecarbonitrile derivative having a protecting group represented by the formula (wherein R 1 , R 4 , X, and n are as defined above).
上記工程の脱水剤としては、五酸化二リン、五塩化リン、オキシ塩化リン、チオニルクロリド、オキサリルクロリド、p−トルエンスルホニルクロリド、メタンスルホニルクロリド、イソシアン酸クロロスルホニル、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、トリフルオロ酢酸などが挙げられる。本反応に塩基を用いる場合には、炭酸水素ナトリウムまたは炭酸カリウムなどのアルカリ炭酸塩、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N−メチルモルホリン、ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジンまたは1,8−ビス(ジメチルアミノ)ナフタレンなどの3級アミン類が例示できる。 As the dehydrating agent in the above process, diphosphorus pentoxide, phosphorus pentachloride, phosphorus oxychloride, thionyl chloride, oxalyl chloride, p-toluenesulfonyl chloride, methanesulfonyl chloride, chlorosulfonyl isocyanate, N, N′-dicyclohexylcarbodiimide, Examples thereof include trifluoroacetic acid. When a base is used in this reaction, an alkali carbonate such as sodium hydrogen carbonate or potassium carbonate, triethylamine, diisopropylethylamine, N-methylmorpholine, diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene, pyridine, 4-dimethylaminopyridine Alternatively, tertiary amines such as 1,8-bis (dimethylamino) naphthalene can be exemplified.
上記反応に用いる溶媒としては反応に関与しない不活性な溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルエーテル、ジメトキシエタン、アセトニトリル、酢酸エチル、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2-ジクロロエタンN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、などが用いられる。本脱水反応は−78〜150℃で円滑に進行する。 The solvent used in the above reaction is an inert solvent not involved in the reaction, such as tetrahydrofuran, dioxane, ethyl ether, dimethoxyethane, acetonitrile, ethyl acetate, toluene, xylene, dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane N, N-dimethyl. Formamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, dimethyl sulfoxide, and the like are used. The dehydration reaction proceeds smoothly at -78 to 150 ° C.
工程6bは、一般式(10)(式中、R1、R4、nは前記定義と同じ)で表される保護基を有するビシクロアルキルアミノ酢酸に一般式(7)(式中、Xは前記定義と同じ)で表されるピロリジンカルボニトリル誘導体またはその塩と縮合剤の存在下で、一般式(15)(式中、R1、R4、X、nは前記定義と同じ)で表される保護基を有するアミノアセチルピロリジンカルボニトリル誘導体を製造する工程である。本工程は、工程3において記載した何れかの縮合剤、塩基、反応温度を用いることができ、工程3において記載した範囲の反応条件で行うことができる。 Step 6b includes the step of adding a general formula (7) (wherein R 1 , R 4 and n are as defined above) to a bicycloalkylaminoacetic acid having a protecting group represented by the general formula (7) (wherein X is In the presence of a pyrrolidinecarbonitrile derivative represented by the same definition or a salt thereof and a condensing agent, represented by the general formula (15) (wherein R 1 , R 4 , X and n are as defined above). This is a process for producing an aminoacetylpyrrolidinecarbonitrile derivative having a protecting group. In this step, any of the condensing agent, base and reaction temperature described in Step 3 can be used, and the reaction can be carried out under the reaction conditions in the range described in Step 3.
スキーム2中の工程7a、7bおよび7cは、一般式(5)(式中、R1、X、nは前記定義と同じ)で表されるアミノアセチルピロリジンカルボニトリルを製造する工程である。 Steps 7a, 7b and 7c in Scheme 2 are steps for producing an aminoacetylpyrrolidinecarbonitrile represented by the general formula (5) (wherein R 1 , X and n are as defined above).
工程7aは一般式(14)(式中、R1、X、nは前記定義と同じ)で表されるアミノアセチルピロリジンカルボニトリル誘導体のカルバモイル基を脱水し、一般式(5)(式中、R1、X、nは前記定義と同じ)で表されるアミノアセチルピロリジンカルボニトリルを製造する工程である。本工程は、工程6aにおいて記載した何れかの脱水剤、塩基、溶媒を用いることができ、工程6aに記載した範囲の反応条件で行うことができる。 Step 7a dehydrates the carbamoyl group of the aminoacetylpyrrolidinecarbonitrile derivative represented by the general formula (14) (wherein R 1 , X, and n are as defined above), and the general formula (5) (wherein R 1 , X, and n are the same as defined above). In this step, any of the dehydrating agents, bases, and solvents described in Step 6a can be used, and can be performed under the reaction conditions in the range described in Step 6a.
工程7bは一般式(15)(式中、R1、R4、X、nは前記定義と同じ)で表される保護基を有するアミノアセチルピロリジンカルボニトリル誘導体の保護基を除去し、一般式(5)(式中、R1、X、nは前記定義と同じ)で表されるアミノアセチルピロリジンカルボニトリル誘導体を製造する工程である。本工程は、工程5aに記載した範囲の反応条件で行うことができる。 Step 7b removes the protecting group of the aminoacetylpyrrolidinecarbonitrile derivative having a protecting group represented by the general formula (15) (wherein R 1 , R 4 , X and n are as defined above), (5) A process for producing an aminoacetylpyrrolidinecarbonitrile derivative represented by the formula (wherein R 1 , X, and n are the same as defined above). This step can be performed under the reaction conditions in the range described in Step 5a.
工程7cは一般式(11)(式中、R1、nは前記定義と同じ)で表されるビシクロアルキルアミノ酢酸誘導体と縮合剤の存在下で、一般式(7)(式中、Xは前記定義と同じ)で表されるピロリジンカルボニトリル誘導体またはその塩と縮合し、一般式(5)(式中、R1、X、nは前記定義と同じ)で表されるアミノアセチルピロリジンカルボニトリル誘導体を製造する工程である。本工程は、工程3において記載した何れかの縮合剤、塩基、反応温度を用いることができ、工程3において記載した範囲の反応条件で行うことができる。 In step 7c, in the presence of a bicycloalkylaminoacetic acid derivative represented by general formula (11) (wherein R 1 and n are the same as defined above) and a condensing agent, general formula (7) (wherein X is Aminoacetylpyrrolidinecarbonitrile represented by the general formula (5) (wherein R 1 , X and n are as defined above), condensed with a pyrrolidinecarbonitrile derivative represented by the same definition or a salt thereof This is a process for producing a derivative. In this step, any of the condensing agent, base and reaction temperature described in Step 3 can be used, and the reaction can be carried out under the reaction conditions in the range described in Step 3.
ブロモアセチルクロリドやクロロアセチルクロリドのような腐食性の液体試薬は、工業的に使用するには取り扱いが困難な場合がある。またこれらの化合物は不安定で、水と激しく反応し、塩化水素などの腐食性ガスを発生する。さらに、人体に対しても、接触により火傷を起こしたり、吸引により肺水腫を起こすなど、高い毒性を有する。本製造方法によれば、クロロアセチルクロリドやブロモアセチルブロミドを使用せず、反応中間体としてビシクロビシクロアルキルアミノ酢酸誘導体からアミノアセチルピロリジンカルボキサミド誘導体を経由して、DPP-IV阻害剤として有用なアミノアセチルピロリジンカルボニトリル誘導体をより安全に製造することができる。 Corrosive liquid reagents such as bromoacetyl chloride and chloroacetyl chloride may be difficult to handle for industrial use. These compounds are unstable and react violently with water to generate corrosive gases such as hydrogen chloride. Furthermore, it has a high toxicity to the human body, such as burns caused by contact and pulmonary edema caused by suction. According to this production method, aminoacetyl which is useful as a DPP-IV inhibitor via a bicyclobicycloalkylaminoacetic acid derivative via an aminoacetylpyrrolidinecarboxamide derivative as a reaction intermediate without using chloroacetyl chloride or bromoacetyl bromide. A pyrrolidine carbonitrile derivative can be produced more safely.
また、特許文献10、11記載の方法は、式(5)(式中、R1、X、nは前記定義と同じ)で表されるのような、プロリンエステルと同様に加水分解を受けるエステル基を有する化合物の合成には使用できないが、本発明の方法によりエステル基を有するアミノアセチルピロリジンカルボニトリル誘導体の合成も可能となった。 In addition, the methods described in Patent Documents 10 and 11 are esters that undergo hydrolysis similarly to proline esters, such as those represented by formula (5) (wherein R 1 , X, and n are as defined above). Although it cannot be used for the synthesis of a compound having a group, the method of the present invention enables the synthesis of an aminoacetylpyrrolidinecarbonitrile derivative having an ester group.
(実施例) (Example)
次に本発明を実施例により説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these Examples.
N−ベンジルオキシカルボニル−N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ酢酸の合成
第一工程:
N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ酢酸tert−ブチルの合成 Synthesis of N-benzyloxycarbonyl-N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) aminoacetic acid First step:
Synthesis of tert-butyl N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) aminoacetate
4−アミノビシクロ[2.2.2]オクタン−1−カルボン酸エチル(6.22g)を脱水N,N−ジメチルホルムアミド(90mL)に溶解し、炭酸カリウム(4.57g)を加えた後、ブロモ酢酸tert−ブチル(4.65mL)の脱水N,N−ジメチルホルムアミド(12mL)溶液を35分かけて滴下した。反応混合物を室温で2時間撹拌した後、不溶物を濾去し、濾液を減圧濃縮した。残渣を酢酸エチル(150mL)に溶解し、飽和食塩水(2×50mL)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラム(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製し、N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ酢酸tert−ブチル(8.89g)を得た。 Ethyl 4-aminobicyclo [2.2.2] octane-1-carboxylate (6.22 g) was dissolved in dehydrated N, N-dimethylformamide (90 mL), potassium carbonate (4.57 g) was added, and then bromoacetic acid was added. A solution of tert-butyl (4.65 mL) in dehydrated N, N-dimethylformamide (12 mL) was added dropwise over 35 minutes. The reaction mixture was stirred at room temperature for 2 hours, insoluble material was removed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The residue was dissolved in ethyl acetate (150 mL), washed with saturated brine (2 × 50 mL), dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified with a silica gel column (elution solvent: hexane / ethyl acetate = 4/1) and tert-butyl N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) aminoacetate (8.89 g). Got.
MS (EI) m/z: 311 (M+).
1H−NMR (in CDCl3):δ 1.22 (t, J=7.3 Hz, 3H),
1.46 (s, 9H), 1.53−1.57 (m, 6H), 1.83−1.88 (m, 6H), 3.25 (s, 2H), 4.08 (q, J=7.3Hz, 2H).
MS (EI) m / z: 311 (M + ).
1 H-NMR (in CDCl 3 ): δ 1.22 (t, J = 7.3 Hz, 3H),
1.46 (s, 9H), 1.53-1.57 (m, 6H), 1.83-1.88 (m, 6H), 3.25 (s, 2H), 4.08 (q, J = 7.3Hz, 2H).
第二工程:
N−ベンジルオキシカルボニル−N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ酢酸tert−ブチルの合成
Second step:
Synthesis of tert-butyl N-benzyloxycarbonyl-N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) aminoacetate
N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ酢酸tert−ブチル(8.88g)をジオキサン(100mL)に溶解し、ジイソプロピルエチルアミン(4.96mL)を加え、氷水浴上で冷却しながらクロロギ酸ベンジル(4.07mL)を滴下した後、室温で1時間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチル(200mL)に溶解した。酢酸エチル溶液を飽和食塩水(3×50mL)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラム(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製し、N−ベンジルオキシカルボニル−N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ酢酸tert−ブチル(11.8g)を得た。 N- (4-Ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] octo-1-yl) aminoacetic acid tert-butyl (8.88 g) was dissolved in dioxane (100 mL), diisopropylethylamine (4.96 mL) was added, and an ice-water bath was added. Benzyl chloroformate (4.07 mL) was added dropwise while cooling above, followed by stirring at room temperature for 1 hour. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure, and the residue was dissolved in ethyl acetate (200 mL). The ethyl acetate solution was washed with saturated brine (3 × 50 mL), dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column (elution solvent: hexane / ethyl acetate = 4/1), and N-benzyloxycarbonyl-N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) aminoacetic acid tert- Butyl (11.8 g) was obtained.
MS (FAB+) m/z: 446 (M++H).
1H−NMR (in CDCl3):δ 1.22 (t, J=7.3 Hz, 3H),
1.45 (s, 9H), 1.86−1.90 (m, 6H), 2.04−2.08 (m, 6H), 3.88 (br s, 2H), 4.08 (q, J=7.3Hz, 2H), 5.09 (br s,
2H), 7.29−7.36
(m, 5H).
MS (FAB + ) m / z: 446 (M + + H).
1 H-NMR (in CDCl 3 ): δ 1.22 (t, J = 7.3 Hz, 3H),
1.45 (s, 9H), 1.86−1.90 (m, 6H), 2.04−2.08 (m, 6H), 3.88 (br s, 2H), 4.08 (q, J = 7.3Hz, 2H), 5.09 (br s,
2H), 7.29-7.36
(m, 5H).
第三工程:
N−ベンジルオキシカルボニル−N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ酢酸の合成
Third step:
Synthesis of N-benzyloxycarbonyl-N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) aminoacetic acid
A法:N−ベンジルオキシカルボニル−N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ酢酸tert−ブチル(900mg)を4mol/L塩化水素−ジオキサン溶液(10mL)に溶解し、室温で10時間後、さらに一夜放置した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣をジクロロメタン(50mL)に溶解し、水洗(2×20mL)し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラム(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製し、N−ベンジルオキシカルボニル−N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ酢酸(477mg)を得た。 Method A: N-benzyloxycarbonyl-N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) aminoacetic acid tert-butyl (900 mg) dissolved in 4 mol / L hydrogen chloride-dioxane solution (10 mL) After 10 hours at room temperature, the mixture was further left overnight. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure, and the residue was dissolved in dichloromethane (50 mL), washed with water (2 × 20 mL), dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column (elution solvent: hexane / ethyl acetate = 1/1), and N-benzyloxycarbonyl-N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) aminoacetic acid (477 mg). )
B法:N−ベンジルオキシカルボニル−N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ酢酸tert−ブチル(9.05g)を脱水アセトニトリル(100mL)に溶解し、モンモリロナイトKSF(9.05g)を加え、撹拌しながら3時間加熱還流した。反応液中の不溶物を濾去し、不溶物を酢酸エチル(100mL)で洗浄後、濾液と洗浄液を合わせ減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラム(溶出溶媒:ヘキサン/酢酸エチル=2/1→酢酸エチル/メタノール=10/1)で精製し、N−ベンジルオキシカルボニル−N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ酢酸(5.57g)を得た。 Method B: N-benzyloxycarbonyl-N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) aminoacetic acid tert-butyl (9.05 g) was dissolved in dehydrated acetonitrile (100 mL), and montmorillonite KSF (9.05 g) was added, and the mixture was heated to reflux with stirring for 3 hours. The insoluble material in the reaction solution was removed by filtration, and the insoluble material was washed with ethyl acetate (100 mL). The filtrate and the washing solution were combined and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column (elution solvent: hexane / ethyl acetate = 2/1 → ethyl acetate / methanol = 10/1), and N-benzyloxycarbonyl-N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct -1-yl) aminoacetic acid (5.57 g) was obtained.
MS (EI) m/z: 389 (M+).
1H−NMR (in CDCl3):δ 1.22 (t, J=7.3 Hz, 3H), 1.86−1.90 (m, 6H), 2.03−2.07 (m, 6H), 4.09 (q,
J=7.3Hz, 2H), 4.14 (s, 2H), 5.12 (s, 2H), 7.27−7.36 (m, 5H).
MS (EI) m / z: 389 (M + ).
1 H-NMR (in CDCl 3 ): δ 1.22 (t, J = 7.3 Hz, 3H), 1.86−1.90 (m, 6H), 2.03−2.07 (m, 6H), 4.09 (q,
J = 7.3Hz, 2H), 4.14 (s, 2H), 5.12 (s, 2H), 7.27-7.36 (m, 5H).
N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ酢酸の合成Synthesis of N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) aminoacetic acid
N−ベンジルオキシカルボニル−N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ酢酸(584mg)をエタノール(10mL)に溶解し、10%パラジウム炭素(60.0mg)を加え、水素雰囲気下、室温で2時間撹拌した。反応混合物中のパラジウム炭素をセライトパッドを通じて濾去し、パラジウム炭素とセライトパッドをエタノール−ジクロロメタン混液で洗浄した。濾液と洗浄液を合わせて減圧濃縮し、残渣を減圧乾燥してN−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ酢酸(375mg)を得た。 N-benzyloxycarbonyl-N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) aminoacetic acid (584 mg) is dissolved in ethanol (10 mL) and 10% palladium on carbon (60.0 mg) is added. The mixture was stirred at room temperature for 2 hours under a hydrogen atmosphere. The palladium carbon in the reaction mixture was removed by filtration through a celite pad, and the palladium carbon and the celite pad were washed with an ethanol-dichloromethane mixture. The filtrate and the washing solution were combined and concentrated under reduced pressure, and the residue was dried under reduced pressure to obtain N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) aminoacetic acid (375 mg).
MS (EI) m/z: 255 (M+).
元素分析値:C13H21NO4・0.25 H2Oとして
計算値:C, 60.10; H, 8.34; N, 5.39
実測地:C, 60.00, H: 8.47; N, 5.38
1H−NMR (in CDCl3):δ 1.23 (t, J=7.3 Hz, 3H),
1.82−2.00 (m,
12H), 3.35 (s, 2H), 4.10 (q, J=7.3Hz, 2H).
MS (EI) m / z: 255 (M + ).
Elemental analysis value: C 13 H 21 NO 4・ 0.25 H 2 O Calculation value: C, 60.10; H, 8.34; N, 5.39
Location: C, 60.00, H: 8.47; N, 5.38
1 H-NMR (in CDCl 3 ): δ 1.23 (t, J = 7.3 Hz, 3H),
1.82−2.00 (m,
12H), 3.35 (s, 2H), 4.10 (q, J = 7.3Hz, 2H).
(2S,4S)−1−[[N−ベンジルオキシカルボニル−N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ]アセチル]−4−フルオロピロリジン−2−カルボン酸の合成Of (2S, 4S) -1-[[N-benzyloxycarbonyl-N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) amino] acetyl] -4-fluoropyrrolidine-2-carboxylic acid Composition
N−ベンジルオキシカルボニル−N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ酢酸(500mg)を脱水N,N−ジメチルホルムアミド(10mL)に溶解し、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール1水和物(236mg)、次いで3−エチル−1−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(295mg)を加え、室温で2時間撹拌した。反応混合物に(2S,4S)−4−フルオロピロリジン−2−カルボン酸塩酸塩(260mg)次いでトリエチルアミン(0.43mL)を加え、室温で一夜放置した。反応混合物中の不溶物を濾去し、濾液を減圧濃縮した。残渣を酢酸エチル(50mL)に溶解し、水(2×5mL)次いで飽和食塩水(10mL)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラム(溶出溶媒:ジクロロメタン/メタノール=10/1)で精製し、(2S,4S)−1−[[N−ベンジルオキシカルボニル−N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ]アセチル]−4−フルオロピロリジン−2−カルボン酸(553mg)を得た。 1-hydroxybenzotriazole is prepared by dissolving N-benzyloxycarbonyl-N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) aminoacetic acid (500 mg) in dehydrated N, N-dimethylformamide (10 mL). Monohydrate (236 mg) was added followed by 3-ethyl-1- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride (295 mg), and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. To the reaction mixture was added (2S, 4S) -4-fluoropyrrolidine-2-carboxylic acid hydrochloride (260 mg) followed by triethylamine (0.43 mL) and left at room temperature overnight. Insoluble matters in the reaction mixture were removed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The residue was dissolved in ethyl acetate (50 mL), washed with water (2 × 5 mL) and then saturated brine (10 mL), dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified with a silica gel column (elution solvent: dichloromethane / methanol = 10/1), and (2S, 4S) -1-[[N-benzyloxycarbonyl-N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] octet). -1-yl) amino] acetyl] -4-fluoropyrrolidine-2-carboxylic acid (553 mg) was obtained.
MS (ESI+) m/z: 505 (M++H).
HRMS (ESI+) for C26H34FN2O7
(M++H): calcd, 505.23500; found, 505.23400.
1H−NMR (in CDCl3):δ 1.22 (t, J=7.3 Hz, 3H),
1.87−1.90 (m,
6H), 2.03−2.18
(m, 7H), 2.56-2.72 (m, 1H), 3.58-4.13 (m, 6H), 4.70-5.22 (m, 4H), 7.29−7.37 (m, 5H).
MS (ESI +) m / z : 505 (M + + H).
HRMS (ESI +) for C 26 H 34 FN 2 O 7
(M ++ H): calcd, 505.23500; found, 505.23400.
1 H-NMR (in CDCl 3 ): δ 1.22 (t, J = 7.3 Hz, 3H),
1.87−1.90 (m,
6H), 2.03-2.18
(m, 7H), 2.56-2.72 (m, 1H), 3.58-4.13 (m, 6H), 4.70-5.22 (m, 4H), 7.29-7.37 (m, 5H).
(2S,4S)−1−[[N−ベンジルオキシカルボニル−N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ]アセチル]−4−フルオロピロリジン−2−カルボキサミドの合成Synthesis of (2S, 4S) -1-[[N-benzyloxycarbonyl-N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) amino] acetyl] -4-fluoropyrrolidine-2-carboxamide
A法:(2S,4S)−1−[[N−ベンジルオキシカルボニル−N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ]アセチル]−4−フルオロピロリジン−2−カルボン酸(447mg)を脱水アセトニトリル(8mL)に溶解し、1−ヒドロキシベンズトリアゾール1水和物(163mg)次いで3−エチル−1−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(204mg)を加え、室温で1時間撹拌した。反応混合物に25%アンモニア水(0.5mL)を加え、室温で1時間撹拌した後、反応混合物中の不溶物を濾去し、濾液を減圧濃縮した。残渣を酢酸エチル(50mL)に溶解し、水(10mL)、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(2×10mL)、飽和食塩水(10mL)の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラム(溶出溶媒:酢酸エチル/メタノール=20/1)で精製し、(2S,4S)−1−[[N−ベンジルオキシカルボニル−N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ]アセチル]−4−フルオロピロリジン−2−カルボキサミド(279mg)を得た。 Method A: (2S, 4S) -1-[[N-benzyloxycarbonyl-N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) amino] acetyl] -4-fluoropyrrolidine-2- Carboxylic acid (447 mg) is dissolved in dehydrated acetonitrile (8 mL), 1-hydroxybenztriazole monohydrate (163 mg) and then 3-ethyl-1- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride (204 mg) are added, Stir at room temperature for 1 hour. 25% Aqueous ammonia (0.5 mL) was added to the reaction mixture, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Insoluble matters in the reaction mixture were removed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The residue was dissolved in ethyl acetate (50 mL), washed with water (10 mL), saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution (2 × 10 mL) and saturated brine (10 mL) in this order, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified with a silica gel column (elution solvent: ethyl acetate / methanol = 20/1) and (2S, 4S) -1-[[N-benzyloxycarbonyl-N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] Oct-1-yl) amino] acetyl] -4-fluoropyrrolidine-2-carboxamide (279 mg) was obtained.
B法:N−ベンジルオキシカルボニル−N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ酢酸(80.0mg)及び(2S,4S)−4−フルオロピロリジン−2−カルボキサミド塩酸塩(34.6mg)を脱水N,N−ジメチルホルムアミド(2mL)に溶解し、トリエチルアミン(60.0μL)、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール1水和物(33.0mg)、次いで3−エチル−1−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(42.0mg)を加え、室温で6時間撹拌した。反応混合物中の不溶物を濾去し、濾液を減圧濃縮した。残渣を酢酸エチル(10mL)に溶解し、水(2×2mL)、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(3×2mL)、飽和食塩水(2mL)の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラム(溶出溶媒:酢酸エチル/メタノール=20/1)で精製し、(2S,4S)−1−[[N−ベンジルオキシカルボニル−N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ]アセチル]−4−フルオロピロリジン−2−カルボキサミド(92.4mg)を得た。 Method B: N-benzyloxycarbonyl-N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) aminoacetic acid (80.0 mg) and (2S, 4S) -4-fluoropyrrolidine-2-carboxamide Hydrochloride (34.6 mg) was dissolved in dehydrated N, N-dimethylformamide (2 mL), triethylamine (60.0 μL), 1-hydroxybenzotriazole monohydrate (33.0 mg), then 3-ethyl-1 -(3-Dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride (42.0 mg) was added and stirred at room temperature for 6 hours. Insoluble matters in the reaction mixture were removed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The residue was dissolved in ethyl acetate (10 mL), washed with water (2 × 2 mL), saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution (3 × 2 mL) and saturated brine (2 mL) in that order, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. did. The residue was purified with a silica gel column (elution solvent: ethyl acetate / methanol = 20/1) and (2S, 4S) -1-[[N-benzyloxycarbonyl-N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] Oct-1-yl) amino] acetyl] -4-fluoropyrrolidine-2-carboxamide (92.4 mg) was obtained.
MS (ESI+) m/z: 504 (M++H).
HRMS (ESI+) for C26H35FN3O6
(M++H): calcd, 504.25099; found, 504.25217.
1H−NMR (in CDCl3):δ 1.22 (t, J=7.3 Hz, 3H),
1.61 (br, 2H), 1.87−1.91 (m, 6H), 2.05−2.10 (m, 7H), 2.50-2.88 (m, 1H), 3.48-4.32 (m, 6H), 4.65-5.28 (m,
4H), 7.30−7.38
(m, 5H).
MS (ESI +) m / z : 504 (M + + H).
HRMS (ESI +) for C 26 H 35 FN 3 O 6
(M ++ H): calcd, 504.25099; found, 504.25217.
1 H-NMR (in CDCl 3 ): δ 1.22 (t, J = 7.3 Hz, 3H),
1.61 (br, 2H), 1.87−1.91 (m, 6H), 2.05−2.10 (m, 7H), 2.50-2.88 (m, 1H), 3.48-4.32 (m, 6H), 4.65-5.28 (m,
4H), 7.30-7.38
(m, 5H).
(2S,4S)−1−[[N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ]アセチル]−4−フルオロピロリジン−2−カルボキサミドの合成Synthesis of (2S, 4S) -1-[[N- (4-Ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) amino] acetyl] -4-fluoropyrrolidine-2-carboxamide
A法:(S2S,4S)−1−[[N−ベンジルオキシカルボニル−N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ]アセチル]−4−フルオロピロリジン−2−カルボキサミド(450mg)をエタノール(10mL)に溶解し、10%パラジウム炭素(45.0mg)を加え、水素雰囲気下、室温で2時間撹拌した。反応混合物中のパラジウム炭素をセライトパッドを通じて濾去した後、パラジウム炭素とセライトパッドをエタノールで洗浄した。濾液と洗浄液を合わせて減圧濃縮し、残渣をジエチルエーテルでトリチュレートして濾取し、(2S,4S)−1−[[N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ]アセチル]−4−フルオロピロリジン−2−カルボキサミド(316mg)を得た。 Method A: (S2S, 4S) -1-[[N-benzyloxycarbonyl-N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) amino] acetyl] -4-fluoropyrrolidine-2- Carboxamide (450 mg) was dissolved in ethanol (10 mL), 10% palladium carbon (45.0 mg) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hr under a hydrogen atmosphere. The palladium carbon in the reaction mixture was filtered off through a celite pad, and then the palladium carbon and the celite pad were washed with ethanol. The filtrate and washings were combined and concentrated under reduced pressure, and the residue was triturated with diethyl ether and collected by filtration. (2S, 4S) -1-[[N- (4-Ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl ) Amino] acetyl] -4-fluoropyrrolidine-2-carboxamide (316 mg) was obtained.
B法:N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ酢酸(200mg)および(2S,4S)−4−フルオロピロリジン−2−カルボキサミド塩酸塩(132mg)を脱水N,N−ジメチルホルムアミド(8mL)に溶解し、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール1水和物(126mg)、3−エチル−1−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(158mg)次いでトリエチルアミン(0.23mL)を加え、室温で5時間撹拌した。反応混合物中の不溶物を濾去し、濾液を減圧濃縮した。残渣をジクロロメタン(10mL)に溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(2×2mL)次いで飽和食塩水(2mL)で洗浄した。洗浄液をすべて合わせ、ジクロロメタン(2×10mL)で抽出し、ジクロロメタン抽出液をすべて合わせ無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。残渣をジエチルエーテルでトリチュレートし、(2S,4S)−1−[[N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ]アセチル]−4−フルオロピロリジン−2−カルボキサミド(166mg)を得た。 Method B: N- (4-Ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) aminoacetic acid (200 mg) and (2S, 4S) -4-fluoropyrrolidine-2-carboxamide hydrochloride (132 mg) were dehydrated N , N-dimethylformamide (8 mL), 1-hydroxybenzotriazole monohydrate (126 mg), 3-ethyl-1- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride (158 mg) and then triethylamine (0.23 mL). ) And stirred at room temperature for 5 hours. Insoluble matters in the reaction mixture were removed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The residue was dissolved in dichloromethane (10 mL) and washed with saturated aqueous sodium bicarbonate (2 × 2 mL) and then saturated brine (2 mL). All the washings were combined and extracted with dichloromethane (2 × 10 mL). All the dichloromethane extracts were combined, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was triturated with diethyl ether to give (2S, 4S) -1-[[N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) amino] acetyl] -4-fluoropyrrolidine-2-carboxamide. (166 mg) was obtained.
MS (FAB+) m/z: 370 (M++H).
HRMS (FAB+) for C18H29FN3O4
(M++H): calcd, 370.2142; found, 370.2134.
1H−NMR (in CDCl3):δ 1.23 (t, J=7.3Hz, 3H),
1.53−1.95 (m,
12H), 2.07−2.52
(m, 1H), 2.69-2.99 (m, 1H), 3.34-3.44 (m, 2H), 3.63-4.02 (m, 2H), 4.47 (d,
J=9.8Hz, 0.3H), 4.74 (d, J=9.8Hz, 0.7H), 5.21-5.41 (m, 1H), 5.47, 5.59, 6.35,
6.66 (each br, total 2H).
MS (FAB +) m / z : 370 (M + + H).
HRMS (FAB +) for C 18 H 29 FN 3 O 4
(M ++ H): calcd, 370.2142; found, 370.2134.
1 H-NMR (in CDCl 3 ): δ 1.23 (t, J = 7.3Hz, 3H),
1.53-1.95 (m,
12H), 2.07−2.52
(m, 1H), 2.69-2.99 (m, 1H), 3.34-3.44 (m, 2H), 3.63-4.02 (m, 2H), 4.47 (d,
J = 9.8Hz, 0.3H), 4.74 (d, J = 9.8Hz, 0.7H), 5.21-5.41 (m, 1H), 5.47, 5.59, 6.35,
6.66 (each br, total 2H).
(2S,4S)−1−[[N−ベンジルオキシカルボニル−N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ]アセチル]−4−フルオロピロリジン−2−カルボニトリルの合成(2S, 4S) -1-[[N-Benzyloxycarbonyl-N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) amino] acetyl] -4-fluoropyrrolidine-2-carbonitrile Composition
A法:(2S,4S)−1−[[N−ベンジルオキシカルボニル−N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ]アセチル]−4−フルオロピロリジン−2−カルボキサミド(350mg)を脱水テトラヒドロフラン(6mL)に溶解し、氷水浴上で冷却しながらトリエチルアミン(0.21mL)を加え、次いでトリフルオロ酢酸無水物(0.15mL)を滴下した後、さらに1.5時間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチル(50mL)に溶解した。酢酸エチル溶液を飽和食塩水(2×10mL)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラム(溶出溶媒:酢酸エチル/ヘキサン=3/1)で精製し、(2S,4S)−1−[[N−ベンジルオキシカルボニル−N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ]アセチル]−4−フルオロピロリジン−2−カルボニトリル(297mg)を得た。 Method A: (2S, 4S) -1-[[N-benzyloxycarbonyl-N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) amino] acetyl] -4-fluoropyrrolidine-2- Carboxamide (350 mg) was dissolved in dehydrated tetrahydrofuran (6 mL), triethylamine (0.21 mL) was added while cooling on an ice-water bath, and then trifluoroacetic anhydride (0.15 mL) was added dropwise. Stir for hours. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure, and the residue was dissolved in ethyl acetate (50 mL). The ethyl acetate solution was washed with saturated brine (2 × 10 mL), dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column (elution solvent: ethyl acetate / hexane = 3/1), and (2S, 4S) -1-[[N-benzyloxycarbonyl-N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] Oct-1-yl) amino] acetyl] -4-fluoropyrrolidine-2-carbonitrile (297 mg) was obtained.
B法:N−ベンジルオキシカルボニル−N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ酢酸(150mg)を脱水N,N−ジメチルホルムアミド(5mL)に溶解し、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール1水和物(76.6mg)、次いで3−エチル−1−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(96.0mg)を加え、室温で1時間撹拌した。反応混合物に(2S,4S)−4−フルオロピロリジン−2−カルボニトリルp−トルエンスルホン酸塩(116mg)及びトリエチルアミン(140μL)を加え、室温で4.5時間撹拌後、さらに一夜放置した。反応混合物中の不溶物を濾去し、濾液を減圧濃縮した。残渣を酢酸エチル(30mL)に溶解し、水(5mL)、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(5mL)、飽和食塩水(5mL)の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラム(溶出溶媒:酢酸エチル/ヘキサン=3/1)で精製し、(2S,4S)−1−[[N−ベンジルオキシカルボニル−N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ]アセチル]−4−フルオロピロリジン−2−カルボニトリル(158mg)を得た。 Method B: N-benzyloxycarbonyl-N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) aminoacetic acid (150 mg) was dissolved in dehydrated N, N-dimethylformamide (5 mL), and 1- Hydroxybenzotriazole monohydrate (76.6 mg) was added, followed by 3-ethyl-1- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride (96.0 mg), and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. (2S, 4S) -4-fluoropyrrolidine-2-carbonitrile p-toluenesulfonate (116 mg) and triethylamine (140 μL) were added to the reaction mixture, and the mixture was stirred at room temperature for 4.5 hours and further allowed to stand overnight. Insoluble matters in the reaction mixture were removed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The residue was dissolved in ethyl acetate (30 mL), washed with water (5 mL), saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution (5 mL) and saturated brine (5 mL) in this order, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column (elution solvent: ethyl acetate / hexane = 3/1), and (2S, 4S) -1-[[N-benzyloxycarbonyl-N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] Oct-1-yl) amino] acetyl] -4-fluoropyrrolidine-2-carbonitrile (158 mg) was obtained.
MS (FAB+) m/z: 486 (M++H).
HRMS (FAB+) for C26H33FN3O5
(M++H): calcd, 486.2404; found, 486.2442.
1H−NMR (in CDCl3):δ 1.22 (t, J=7.3Hz, 3H),
1.88-1.92 (m, 6H), 2.05-2.14 (m, 7H), 2.55 (t, J=15.3Hz, 1H), 3.50-4.27 (m,
6H), 4.83-5.28 (m, 4H), 7.29-7.37 (m, 5H).
MS (FAB +) m / z : 486 (M + + H).
HRMS (FAB + ) for C 26 H 33 FN 3 O 5
(M ++ H): calcd, 486.2404; found, 486.2442.
1 H-NMR (in CDCl 3 ): δ 1.22 (t, J = 7.3Hz, 3H),
1.88-1.92 (m, 6H), 2.05-2.14 (m, 7H), 2.55 (t, J = 15.3Hz, 1H), 3.50-4.27 (m,
6H), 4.83-5.28 (m, 4H), 7.29-7.37 (m, 5H).
(2S,4S)−1−[[N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ]アセチル]−4−フルオロピロリジン−2−カルボニトリルの合成Synthesis of (2S, 4S) -1-[[N- (4-Ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) amino] acetyl] -4-fluoropyrrolidine-2-carbonitrile
A法:N,N−ジメチルホルムアミド(32.0μL)を脱水ジクロロメタン(2mL)に溶解し、氷水浴上で冷却しながら塩化オキサリル(36.0μL)を滴下した。この溶液に氷水浴上で冷却しながら(2S,4S)−1−[[N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ]アセチル]−4−フルオロピロリジン−2−カルボキサミド(100mg)の脱水ジクロロメタン(0.5mL)溶液、次いでトリエチルアミン(38.0μL)を加え、室温で30分撹拌した。反応混合物に水(0.5mL)を加え、10%水酸化ナトリウム水溶液で中和(pH7.0)後、ジクロロメタン(2mL)を加え、ジクロロメタン層を分取した。分取したジクロロメタン層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラム(酢酸エチル/メタノール=10/1)で精製し、(2S,4S)−1−[[N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ]アセチル]−4−フルオロピロリジン−2−カルボニトリル(35.8mg)を得た。 Method A: N, N-dimethylformamide (32.0 μL) was dissolved in dehydrated dichloromethane (2 mL), and oxalyl chloride (36.0 μL) was added dropwise while cooling on an ice-water bath. (2S, 4S) -1-[[N- (4-Ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) amino] acetyl] -4-fluoropyrrolidine-2 while cooling this solution on an ice-water bath -A solution of carboxamide (100 mg) in dehydrated dichloromethane (0.5 mL) was added followed by triethylamine (38.0 μL) and stirred at room temperature for 30 minutes. Water (0.5 mL) was added to the reaction mixture, neutralized with 10% aqueous sodium hydroxide solution (pH 7.0), dichloromethane (2 mL) was added, and the dichloromethane layer was separated. The separated dichloromethane layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was purified by a silica gel column (ethyl acetate / methanol = 10/1), and (2S, 4S) -1-[[N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) amino] acetyl ] -4-fluoropyrrolidine-2-carbonitrile (35.8 mg) was obtained.
B法:(2S,4S)−1−[[N−ベンジルオキシカルボニル−N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ]アセチル]−4−フルオロピロリジン−2−カルボニトリル(150mg)をN,N−ジメチルホルムアミド(5mL)に溶解し、10%パラジウム炭素(90.0mg)加え、食塩―氷浴上で冷却しながらギ酸アンモニウム(390mg)を加えた後、−12℃〜−10℃で30分、さらに3℃〜4℃で1時間撹拌した。反応混合物中のパラジウム炭素を、セライトパッドを通じて濾去した後、パラジウム炭素とセライトパッドをN,N−ジメチルホルムアミドで洗浄した。濾液と洗浄液を合わせて減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラム(溶出溶媒:酢酸エチル/メタノール=15/1)で精製し、(2S,4S)−1−[[N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ]アセチル]−4−フルオロピロリジン−2−カルボニトリル(94.6mg)を得た。 Method B: (2S, 4S) -1-[[N-benzyloxycarbonyl-N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) amino] acetyl] -4-fluoropyrrolidine-2- Carbonitrile (150 mg) was dissolved in N, N-dimethylformamide (5 mL), 10% palladium carbon (90.0 mg) was added, ammonium formate (390 mg) was added while cooling on a salt-ice bath, and- The mixture was stirred at 12 ° C to -10 ° C for 30 minutes and further at 3 ° C to 4 ° C for 1 hour. Palladium carbon in the reaction mixture was filtered off through a celite pad, and then the palladium carbon and celite pad were washed with N, N-dimethylformamide. The filtrate and the washing solution were combined and concentrated under reduced pressure, and the residue was purified with a silica gel column (elution solvent: ethyl acetate / methanol = 15/1), and (2S, 4S) -1-[[N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [ 2.2.2] Oct-1-yl) amino] acetyl] -4-fluoropyrrolidine-2-carbonitrile (94.6 mg) was obtained.
C法:N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ酢酸(120mg)および(2S,4S)−4−フルオロピロリジン−2−カルボニトリルp−トルエンスルホン酸塩(135mg)を脱水N,N−ジメチルホルムアミド(5mL)に溶解し、トリエチルアミン(150μL)、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール1水和物(75.4mg)、次いで3−エチル−1−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(94.4mg)を加え、室温で21時間撹拌した。反応混合物中の不溶物を濾去し、濾液を減圧濃縮した。残渣を酢酸エチル(20mL)に溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(2×2mL)、次いで飽和食塩水(2mL)の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。残渣をジエチルエーテルでトリチュレートして濾取し、(2S,4S)−1−[[N−(4−エトキシカルボニルビシクロ[2.2.2]オクト−1−イル)アミノ]アセチル]−4−フルオロピロリジン−2−カルボニトリル(82.5mg)を得た。 Method C: N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) aminoacetic acid (120 mg) and (2S, 4S) -4-fluoropyrrolidine-2-carbonitrile p-toluenesulfonate ( 135 mg) in dehydrated N, N-dimethylformamide (5 mL), triethylamine (150 μL), 1-hydroxybenzotriazole monohydrate (75.4 mg), then 3-ethyl-1- (3-dimethylaminopropyl) ) Carbodiimide hydrochloride (94.4 mg) was added and stirred at room temperature for 21 hours. Insoluble matters in the reaction mixture were removed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The residue was dissolved in ethyl acetate (20 mL), washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution (2 × 2 mL) and then saturated brine (2 mL), dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was triturated with diethyl ether and collected by filtration to give (2S, 4S) -1-[[N- (4-ethoxycarbonylbicyclo [2.2.2] oct-1-yl) amino] acetyl] -4-fluoropyrrolidine. -2-carbonitrile (82.5 mg) was obtained.
MS (ESI+) m/z: 352 (M++H).
HRMS (ESI+) for C18H27FN3O3
(M++H): calcd, 352.20364; found, 352.20256.
1H−NMR (in CDCl3):δ 1.23 (t, J=7.3Hz, 3H),
1.56-1.62 (m, 6H), 1.85-1.89 (m, 6H), 2.22−2.51 (m, 1H), 2.64-2.74 (m, 1H), 3.30-4.03 (m, 4H), 4.09 (q,
J=7.3Hz, 2H), 4.95 (d, J=9.2Hz, 0.7H), 5.16 (d, J=8.6Hz, 0.3H), 5.27-5.50 (m,
1H).
MS (ESI + ) m / z: 352 (M + + H).
HRMS (ESI + ) for C 18 H 27 FN 3 O 3
(M ++ H): calcd, 352.20364; found, 352.20256.
1 H-NMR (in CDCl 3 ): δ 1.23 (t, J = 7.3Hz, 3H),
1.56-1.62 (m, 6H), 1.85-1.89 (m, 6H), 2.22−2.51 (m, 1H), 2.64-2.74 (m, 1H), 3.30-4.03 (m, 4H), 4.09 (q,
J = 7.3Hz, 2H), 4.95 (d, J = 9.2Hz, 0.7H), 5.16 (d, J = 8.6Hz, 0.3H), 5.27-5.50 (m,
1H).
本発明はエステル基を有するアミノアセチルピロリジンカルボニトリル誘導体(例えば式5で示す化合物)の製造方法に関する。本発明によりクロロアセチルクロリドなどを用いることを回避でき、安全な製造方法を提供することができ、産業上有用である。
The present invention relates to a method for producing an aminoacetylpyrrolidinecarbonitrile derivative having an ester group (for example, a compound represented by Formula 5). According to the present invention, use of chloroacetyl chloride or the like can be avoided, and a safe production method can be provided, which is industrially useful.
Claims (5)
R2は水素原子または窒素原子の保護基を示し;
nは1または2を示す)で表されるビシクロアルキルアミノ酢酸誘導体。 Formula 1:
R 2 represents a protecting group for a hydrogen atom or a nitrogen atom;
n represents 1 or 2).
R2は水素原子または窒素原子の保護基を示し;
nは1または2を示す)で表されるビシクロアルキルアミノ酢酸誘導体に、
式2:
式3:
式4:
式5:
R 2 represents a protecting group for a hydrogen atom or a nitrogen atom;
n represents 1 or 2, and a bicycloalkylaminoacetic acid derivative represented by
Formula 2:
Formula 3:
Formula 4:
Formula 5:
R2は水素原子または窒素原子の保護基を示し;
nは1または2を示す)で表されるビシクロアルキルアミノ酢酸誘導体に、
式6:
式4:
式5:
R 2 represents a protecting group for a hydrogen atom or a nitrogen atom;
n represents 1 or 2, and a bicycloalkylaminoacetic acid derivative represented by
Formula 6:
Formula 4:
Formula 5:
R2は水素原子または窒素原子の保護基を示し;
nは1または2を示す)で表されるビシクロアルキルアミノ酢酸誘導体に、
式7:
式5:
R 2 represents a protecting group for a hydrogen atom or a nitrogen atom;
n represents 1 or 2, and a bicycloalkylaminoacetic acid derivative represented by
Formula 7:
Formula 5:
式9:
式1:
R2は水素原子または窒素原子の保護基を示す)で表されるビシクロアルキルアミノ酢酸誘導体の製造方法。
Formula 8:
Formula 9:
Formula 1:
R 2 represents a protecting group for a hydrogen atom or a nitrogen atom).
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|---|---|---|---|
| JP2007081813A JP2008239543A (en) | 2007-03-27 | 2007-03-27 | Method for producing bicycloaminoacetylpyrrolidinecarbonitrile derivative and its production intermediate |
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| JP (1) | JP2008239543A (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7754757B2 (en) | 2004-02-05 | 2010-07-13 | Kyorin Pharmaceutical Co., Ltd. | Bicycloester derivative |
| US7915427B2 (en) | 2006-03-08 | 2011-03-29 | Kyorin Pharmaceuticals Co., Ltd. | Process for producing aminoacetyl pyrrolidine carbonitrile derivative and intermediate for production thereof |
| US8143427B2 (en) | 2007-03-22 | 2012-03-27 | Kyorin Pharmaceutical Co., Ltd. | Method for producing aminoacetylpyrrolidinecarbonitrile derivative |
| US8476470B2 (en) | 2008-08-07 | 2013-07-02 | Kyorin Pharmaceutical Co., Ltd. | Process for production of bicyclo[2.2.2]octylamine derivative |
-
2007
- 2007-03-27 JP JP2007081813A patent/JP2008239543A/en active Pending
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| US7754757B2 (en) | 2004-02-05 | 2010-07-13 | Kyorin Pharmaceutical Co., Ltd. | Bicycloester derivative |
| US8053465B2 (en) | 2004-02-05 | 2011-11-08 | Kyorin Pharmaceutical Co., Ltd. | Bicycloester derivative |
| US7915427B2 (en) | 2006-03-08 | 2011-03-29 | Kyorin Pharmaceuticals Co., Ltd. | Process for producing aminoacetyl pyrrolidine carbonitrile derivative and intermediate for production thereof |
| US8143427B2 (en) | 2007-03-22 | 2012-03-27 | Kyorin Pharmaceutical Co., Ltd. | Method for producing aminoacetylpyrrolidinecarbonitrile derivative |
| US8476470B2 (en) | 2008-08-07 | 2013-07-02 | Kyorin Pharmaceutical Co., Ltd. | Process for production of bicyclo[2.2.2]octylamine derivative |
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