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JP2008234984A - Coating film forming apparatus and coating film forming method - Google Patents

Coating film forming apparatus and coating film forming method Download PDF

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JP2008234984A
JP2008234984A JP2007072508A JP2007072508A JP2008234984A JP 2008234984 A JP2008234984 A JP 2008234984A JP 2007072508 A JP2007072508 A JP 2007072508A JP 2007072508 A JP2007072508 A JP 2007072508A JP 2008234984 A JP2008234984 A JP 2008234984A
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JP
Japan
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coating film
coating liquid
substrate
temperature
coating
Prior art date
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Pending
Application number
JP2007072508A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomoyuki Yamazaki
智幸 山崎
Yasunori Yamazaki
保範 山崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Institute of National Colleges of Technologies Japan
Hioki EE Corp
Original Assignee
Institute of National Colleges of Technologies Japan
Hioki EE Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Institute of National Colleges of Technologies Japan, Hioki EE Corp filed Critical Institute of National Colleges of Technologies Japan
Priority to JP2007072508A priority Critical patent/JP2008234984A/en
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Abstract

【課題】表面が平坦でかつ厚みが均一な塗膜を形成し得る塗膜形成装置を提供する。
【解決手段】基板12に対して塗膜形成用の塗液を吐出するプリンタ42と、基板12を保持するテーブル43とを備えて基板12に塗膜を形成可能に構成され、テーブル43に保持されている基板12を塗液の温度よりも高い所定温度に加熱する加熱部44を備え、、プリンタ42は加熱部44によって所定温度に加熱されている状態の基板12に対して塗液を吐出する。
【選択図】図1
A coating film forming apparatus capable of forming a coating film having a flat surface and a uniform thickness.
A printer that discharges coating liquid for forming a coating film onto a substrate and a table that holds the substrate are configured to be able to form a coating film on the substrate, and are held on the table. A heating unit 44 for heating the substrate 12 being heated to a predetermined temperature higher than the temperature of the coating liquid, and the printer 42 discharges the coating liquid to the substrate 12 heated to the predetermined temperature by the heating unit 44 To do.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、処理対象体に塗膜形成用の塗液を吐出するインクジェット吐出部と、処理対象体を保持する保持部とを備えて処理対象体に塗膜を形成可能に構成された塗膜形成装置、および保持部に保持されている処理対象体に塗膜形成用の塗液をインクジェット吐出部から吐出して塗膜を形成する塗膜形成方法に関するものである。   The present invention is a coating film configured to include an inkjet discharge unit that discharges a coating liquid for forming a coating film on a processing target body and a holding unit that holds the processing target body so that a coating film can be formed on the processing target body. The present invention relates to a coating apparatus and a coating film forming method for forming a coating film by discharging a coating liquid for forming a coating film from an inkjet discharge section onto a processing object held by a holding section.

この種の塗膜形成方法によって処理対象体に塗膜を形成して有機EL素子を製造する方法として、特開2001−291583号公報に開示された有機EL素子の製造方法が知られている。この製造方法では、まず、撥インク性を有する隔壁(バンク)を設けたガラス基板に対して、正孔注入/輸送材料を含むインク組成物(塗液)をインクジェットヘッドから吐出して塗布した後に、溶媒除去や熱処理(以下「乾燥処理」ともいう)を行うことによって正孔注入/輸送層を形成する。次いで、発光材料を含むインク組成物を正孔注入/輸送層の上に塗布した後に、乾燥処理を行うことによって発光層を形成する。続いて、Ca、Mg、Ag、Al、Li等の金属を用いて、蒸着法等によって陰極を形成する。次いで、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、液状ガラス等によって封止層を形成する。以上により、素子が完成する。この場合、この製造方法では、各層を均一に形成するために、同一画素に少なくとも2回以上のインク組成物の塗布が行われる。
特開2001−291583号公報(第3頁、第1−9図)
As a method for producing an organic EL element by forming a coating film on a treatment object by this kind of coating film forming method, a method for producing an organic EL element disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-291583 is known. In this manufacturing method, first, an ink composition (coating liquid) containing a hole injection / transport material is ejected from an inkjet head and applied to a glass substrate provided with a partition wall (bank) having ink repellency. Then, the hole injection / transport layer is formed by performing solvent removal or heat treatment (hereinafter also referred to as “drying treatment”). Next, an ink composition containing a light emitting material is applied on the hole injection / transport layer, and then a drying process is performed to form a light emitting layer. Subsequently, a cathode is formed by a vapor deposition method or the like using a metal such as Ca, Mg, Ag, Al, or Li. Next, a sealing layer is formed using an epoxy resin, an acrylic resin, liquid glass, or the like. Thus, the element is completed. In this case, in this manufacturing method, in order to form each layer uniformly, the ink composition is applied to the same pixel at least twice.
Japanese Patent Laid-Open No. 2001-291585 (page 3, FIG. 1-9)

ところが、上記の製造方法には、以下の問題点がある。すなわち、この製造方法では、インク組成物をインクジェットヘッドからガラス基板に吐出して塗布することで正孔注入/輸送層や発光層を形成している。この場合、表面が平坦で厚みが均一な層を形成するためには、インクジェットヘッドから吐出されたインク組成物をガラス基板上でスムーズに展延させる必要がある。しかしながら、正孔注入/輸送材料や発光材料を含むインク組成物のなかには、比較的粘度が高いものがあり、この種のインク組成物を用いて各層を形成する際には、スムーズな展延が困難で層の厚みの均一性や層の表面の平坦度が低下するおそれがある。また、インク組成物の粘度は温度変化に伴って変化するため、インク組成物およびガラス基板の温度によってインク組成物の粘度、つまりインク組成物の展延のし易さが変化して、層の厚みの均一性や層の表面の平坦度にばらつきが生じるおそれもある。   However, the above manufacturing method has the following problems. That is, in this manufacturing method, the hole injection / transport layer and the light emitting layer are formed by discharging and applying the ink composition from the inkjet head to the glass substrate. In this case, in order to form a layer having a flat surface and a uniform thickness, it is necessary to smoothly spread the ink composition ejected from the inkjet head on the glass substrate. However, some ink compositions containing a hole injection / transport material and a light emitting material have a relatively high viscosity, and when each layer is formed using this type of ink composition, smooth spreading is possible. It is difficult and the uniformity of the layer thickness and the flatness of the surface of the layer may be reduced. In addition, since the viscosity of the ink composition changes with temperature change, the viscosity of the ink composition, that is, the ease of spreading of the ink composition changes depending on the temperature of the ink composition and the glass substrate. There may be variations in the uniformity of thickness and the flatness of the surface of the layer.

さらに、上記の製造方法では、インク組成物を塗布した後に乾燥処理を行うことによってインク組成物を乾燥させて各層を形成している。この場合、乾燥処理を行うためには、基板を塗布装置から乾燥装置に搬送する必要があり、その搬送の間に塵等の異物がインク組成物の表面に付着するおそれがある。この場合、乾燥前のインク組成物の表面に異物が付着したときには、その異物を核としてインク組成物が固形化して表面の平坦度や層の厚みの均一性が大きく低下して有機EL素子の機能が低下するおそれもある。   Further, in the above manufacturing method, each layer is formed by drying the ink composition by applying a drying treatment after applying the ink composition. In this case, in order to perform a drying process, it is necessary to convey a board | substrate from a coating device to a drying apparatus, and there exists a possibility that foreign materials, such as dust, may adhere to the surface of an ink composition during the conveyance. In this case, when a foreign substance adheres to the surface of the ink composition before drying, the ink composition is solidified using the foreign substance as a core, and the flatness of the surface and the uniformity of the layer thickness are greatly reduced. There is also a risk that the function is reduced.

本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、表面が平坦でかつ厚みが均一な塗膜を形成し得る塗膜形成装置および塗膜形成方法を提供することを主目的とする。   This invention is made | formed in view of this problem, and it aims at providing the coating-film formation apparatus and coating-film formation method which can form the coating film with the flat surface and uniform thickness.

上記目的を達成すべく請求項1記載の塗膜形成装置は、処理対象体に対して塗膜形成用の塗液を吐出するインクジェット吐出部と、前記処理対象体を保持する保持部とを備えて前記処理対象体に前記塗膜を形成可能に構成された塗膜形成装置であって、前記保持部に保持されている前記処理対象体を前記塗液の温度よりも高い所定温度に加熱する加熱部を備えている。   In order to achieve the above object, a coating film forming apparatus according to claim 1 includes an inkjet discharge unit that discharges a coating liquid for forming a coating film on a processing object, and a holding unit that holds the processing object. A coating film forming apparatus configured to be able to form the coating film on the processing object, and heating the processing object held by the holding unit to a predetermined temperature higher than a temperature of the coating liquid. A heating unit is provided.

また、請求項2記載の塗膜形成装置は、請求項1記載の塗膜形成装置において、前記保持部は、前記処理対象体を載置面に載置して保持する載置台で構成され、前記加熱部は、前記所定温度が前記塗液の温度に45℃を加えた温度以上であって60℃を加えた温度以下の範囲内となるように前記保持部の前記載置面を加熱する。   Further, the coating film forming apparatus according to claim 2 is the coating film forming apparatus according to claim 1, wherein the holding unit is configured by a mounting table for mounting and holding the processing object on a mounting surface. The heating unit heats the mounting surface of the holding unit so that the predetermined temperature is not less than a temperature obtained by adding 45 ° C. to the temperature of the coating liquid and not more than a temperature obtained by adding 60 ° C. .

また、請求項3記載の塗膜形成装置は、請求項1または2記載の塗膜形成装置において、前記インクジェット吐出部は、前記塗膜としての有機EL層を形成するための導電性高分子材料を含む前記塗液を吐出する。   The coating film forming apparatus according to claim 3 is the coating film forming apparatus according to claim 1 or 2, wherein the inkjet discharge unit is a conductive polymer material for forming an organic EL layer as the coating film. The coating liquid containing is discharged.

また、請求項4記載の塗膜形成方法は、保持部に保持されている処理対象体に対して塗膜形成用の塗液をインクジェット吐出部から吐出して当該処理対象体に当該塗膜を形成する塗膜形成方法であって、前記保持部に保持されている前記処理対象体を前記塗液の温度よりも高い所定温度に加熱し、当該所定温度に加熱している状態の前記処理対象体に対して前記塗液を吐出して前記塗膜を形成する。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a coating film forming method, wherein a coating liquid for forming a coating film is discharged from an inkjet discharge unit onto a processing object held by a holding unit, and the coating film is applied to the processing object. A method of forming a coating film, wherein the object to be treated is heated to a predetermined temperature higher than the temperature of the coating liquid, and the object to be treated is heated to the predetermined temperature. The coating liquid is discharged onto the body to form the coating film.

また、請求項5記載の塗膜形成方法は、請求項4記載の塗膜形成方法において、前記処理対象体を載置面に載置して保持する載置台を前記保持部として用いて、前記所定温度が前記塗液の温度に45℃を加えた温度以上であって60℃を加えた温度以下の範囲内となるように前記保持部の前記載置面を加熱する。   Moreover, the coating-film formation method of Claim 5 is a coating-film formation method of Claim 4, Using the mounting base which mounts and hold | maintains the said process target body on a mounting surface as said holding | maintenance part, The placement surface of the holding portion is heated so that the predetermined temperature is not less than a temperature obtained by adding 45 ° C. to the temperature of the coating liquid and not more than a temperature obtained by adding 60 ° C.

また、請求項6記載の塗膜形成方法は、請求項4または5記載の塗膜形成方法において、前記塗膜としての有機EL層を形成するための導電性高分子材料を含む前記塗液を前記インクジェット吐出部から吐出する。   A coating film forming method according to claim 6 is the coating film forming method according to claim 4 or 5, wherein the coating liquid containing a conductive polymer material for forming an organic EL layer as the coating film is used. It discharges from the said inkjet discharge part.

請求項1記載の塗膜形成装置および請求項4記載の塗膜形成方法によれば、保持部に保持されている処理対象体を塗液の温度よりも高い所定温度に加熱し、その状態の処理対象体に対して塗液をインクジェット吐出部から吐出して塗膜を形成することにより、処理対象体に吐出された塗液を加熱させてその粘度を低下させることができる。したがって、塗液を処理対象体上においてスムーズに展延させることができる結果、表面が平坦でかつ厚みが均一の塗膜を形成することができる。また、処理対象体を加熱することで、吐出した塗液を短時間のうちに乾燥させることができるため、乾燥前の塗液に異物が落下してその異物を中心として塗液が硬化する事態を確実に防止することができる。   According to the coating film forming apparatus according to claim 1 and the coating film forming method according to claim 4, the object to be treated held in the holding part is heated to a predetermined temperature higher than the temperature of the coating liquid, By discharging the coating liquid from the inkjet discharge unit to the object to be processed to form a coating film, the viscosity of the coating liquid discharged to the object to be processed can be reduced by heating. Accordingly, the coating liquid can be smoothly spread on the object to be processed, and as a result, a coating film having a flat surface and a uniform thickness can be formed. In addition, since the discharged coating liquid can be dried in a short time by heating the object to be treated, a situation in which foreign matter falls on the coating liquid before drying and the coating liquid cures around the foreign matter. Can be reliably prevented.

また、請求項2記載の塗膜形成装置および請求項5記載の塗膜形成方法によれば、所定温度が塗液の温度に45℃を加えた温度以上であって60℃を加えた温度以下の範囲内となるように載置台の載置面を加熱した状態で塗液を吐出して塗膜を形成することにより、塗膜の表面の平坦度をさらに高めつつ、加熱のための電力消費量が過大となることに起因する製造コストの上昇を抑えることができる。また、処理対象体の温度を塗液の温度に60℃を加えた温度以下に抑えて加熱することにより、処理対象体の温度が上昇し過ぎて、塗布した塗液に気泡が生じて平坦度が低下する事態を確実に防止することができる。   Moreover, according to the coating-film formation apparatus of Claim 2, and the coating-film formation method of Claim 5, predetermined temperature is more than the temperature which added 45 degreeC to the temperature of the coating liquid, and below the temperature which added 60 degreeC Power consumption for heating while further improving the flatness of the surface of the coating film by forming the coating film by discharging the coating liquid while the mounting surface of the mounting table is heated so that it is within the range of An increase in manufacturing cost due to an excessive amount can be suppressed. Further, by controlling the temperature of the object to be processed to be equal to or lower than the temperature of 60 ° C. added to the temperature of the coating liquid and heating, the temperature of the object to be processed rises too much and bubbles are generated in the applied coating liquid, resulting in flatness. Can be reliably prevented.

また、請求項3記載の塗膜形成装置および請求項6記載の塗膜形成方法によれば、有機EL層を形成するための導電性高分子材料を含む塗液をインクジェット吐出部が吐出することにより、表面が平坦でかつ厚みが均一な有機EL層を形成することができるため、高品質の有機EL素子を製造することができる。   Further, according to the coating film forming apparatus according to claim 3 and the coating film forming method according to claim 6, the inkjet discharge unit discharges the coating liquid containing the conductive polymer material for forming the organic EL layer. Thus, since an organic EL layer having a flat surface and a uniform thickness can be formed, a high-quality organic EL element can be manufactured.

以下、添付図面を参照して、本発明に係る塗膜形成装置および塗膜形成方法の最良の形態について説明する。   Hereinafter, the best mode of a coating film forming apparatus and a coating film forming method according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

最初に、図1に示す有機EL素子製造装置(以下、「製造装置」ともいう)1の構成について、図面を参照して説明する。製造装置1は、本発明に係る塗膜形成装置を備えた装置であって、図2に示す有機EL素子11を製造可能に構成されている。   First, the configuration of the organic EL element manufacturing apparatus (hereinafter also referred to as “manufacturing apparatus”) 1 shown in FIG. 1 will be described with reference to the drawings. The manufacturing apparatus 1 is an apparatus including the coating film forming apparatus according to the present invention, and is configured to be able to manufacture the organic EL element 11 shown in FIG.

ここで、有機EL素子11は、図2に示すように、一例として、基板12、区画壁13、陽極14、有機EL層15および陰極16を備えて構成されている。基板12は、本発明における処理対象体の一例であって、ガラスや、透明性を有する高分子材料を用いて平板状に形成されている。区画壁13は、非導電性材料で形成されて基板12に立設されている。この場合、区画壁13によって区画された基板12上の各領域に陽極14および有機EL層15が形成される。陽極14は、ITO(酸化インジウムスズ)などを用いた透明電極であって、基板12の表面に薄膜状に形成されている。有機EL層15は、本発明における塗膜(有機EL用の塗膜)であって、一例として、正孔輸送層15aおよび発光層15bで構成されて、陽極14上に積層されている。陰極16は、区画壁13および有機EL層15を覆うようにして薄膜状に形成されている。   Here, as shown in FIG. 2, the organic EL element 11 includes, for example, a substrate 12, a partition wall 13, an anode 14, an organic EL layer 15, and a cathode 16. The board | substrate 12 is an example of the process target object in this invention, Comprising: Glass and the polymeric material which has transparency are formed in flat form. The partition wall 13 is formed of a non-conductive material and is erected on the substrate 12. In this case, the anode 14 and the organic EL layer 15 are formed in each region on the substrate 12 partitioned by the partition wall 13. The anode 14 is a transparent electrode using ITO (indium tin oxide) or the like, and is formed on the surface of the substrate 12 in a thin film shape. The organic EL layer 15 is a coating film (coating film for organic EL) in the present invention, and includes, as an example, a hole transport layer 15 a and a light emitting layer 15 b, and is laminated on the anode 14. The cathode 16 is formed in a thin film shape so as to cover the partition wall 13 and the organic EL layer 15.

一方、製造装置1は、図1に示すように、搬送装置2、基板洗浄装置3、塗膜形成装置4および陰極形成装置5を備えて構成されている。搬送装置2は、例えばベルトコンベアで構成されて、基板洗浄装置3、塗膜形成装置4および陰極形成装置5の各アクセス位置である搬送位置P1,P2,P3に基板12を搬送する。基板洗浄装置3は、搬送装置2によって搬送位置P1に搬送された基板12を洗浄する。   On the other hand, as shown in FIG. 1, the manufacturing apparatus 1 includes a transfer device 2, a substrate cleaning device 3, a coating film forming device 4, and a cathode forming device 5. The transport device 2 is configured by, for example, a belt conveyor, and transports the substrate 12 to transport positions P1, P2, and P3 that are access positions of the substrate cleaning device 3, the coating film forming device 4, and the cathode forming device 5. The substrate cleaning device 3 cleans the substrate 12 transported to the transport position P1 by the transport device 2.

塗膜形成装置4は、本発明に係る塗膜形成装置の一例であって、区画壁13によって区画された基板12上(陽極14上)の各領域に有機EL層15を形成可能に構成されている。具体的には、塗膜形成装置4は、移動機構41、プリンタ42、テーブル43、加熱部44および制御部45を備えて構成されている。移動機構41は、先端部にチャック41aが配設されたアーム41bを備えて構成され、制御部45の制御に従い、搬送位置P2とテーブル43との間で基板12を移動させる。   The coating film forming apparatus 4 is an example of the coating film forming apparatus according to the present invention, and is configured to be able to form the organic EL layer 15 in each region on the substrate 12 (on the anode 14) partitioned by the partition wall 13. ing. Specifically, the coating film forming apparatus 4 includes a moving mechanism 41, a printer 42, a table 43, a heating unit 44, and a control unit 45. The moving mechanism 41 includes an arm 41b having a chuck 41a disposed at the tip, and moves the substrate 12 between the transport position P2 and the table 43 under the control of the control unit 45.

プリンタ42は、本発明におけるインクジェット吐出部に相当し、タンク51a,51b、ヘッド部52、およびヘッド部52を駆動する駆動機構(図示せず)とを備えて構成されている。タンク51a,51bは、正孔輸送層15aおよび発光層15bを形成するための2種類の塗液(インク)61a,61b(以下、区別しないときには「塗液61」ともいう)を個別に貯留する。この場合、塗液61は、例えば、導電性高分子材料および溶剤(一例として芳香系溶剤)を含んで構成されている。ヘッド部52は、各塗液専用の2つのインクジェットヘッド52a,52bが一体化されたマルチヘッドで構成されている。この場合、プリンタ42は、制御部45の制御に従い、移動機構41によってテーブル43に搬送された基板12に対して、タンク51a,51bにそれぞれ貯留されている塗液61a,61bを塗布する。   The printer 42 corresponds to the ink jet ejection unit in the present invention, and includes tanks 51a and 51b, a head unit 52, and a drive mechanism (not shown) that drives the head unit 52. The tanks 51a and 51b individually store two types of coating liquids (inks) 61a and 61b (hereinafter also referred to as “coating liquid 61” when not distinguished) for forming the hole transport layer 15a and the light emitting layer 15b. . In this case, the coating liquid 61 includes, for example, a conductive polymer material and a solvent (for example, an aromatic solvent). The head unit 52 is configured by a multi-head in which two inkjet heads 52a and 52b dedicated to each coating liquid are integrated. In this case, the printer 42 applies the coating liquids 61a and 61b respectively stored in the tanks 51a and 51b to the substrate 12 transported to the table 43 by the moving mechanism 41 under the control of the control unit 45.

テーブル43は、本発明における保持部の一例としての載置台を構成し、図3に示すように、例えば金属で構成された保持板43aと、脚部43bとを備えて、保持板43aの載置面43sに基板12を載置して保持する。加熱部44は、ヒータおよび温度センサを備えて構成されて、同図に示すように、テーブル43における保持板43aの裏面に取り付けられている。この場合、加熱部44は、制御部45の制御に従ってテーブル43(保持板43a)を加熱して載置面43c(つまり基板12)を所定温度に維持する。   The table 43 constitutes a mounting table as an example of the holding portion in the present invention, and includes a holding plate 43a made of, for example, metal and a leg portion 43b as shown in FIG. The substrate 12 is placed and held on the placement surface 43s. The heating unit 44 includes a heater and a temperature sensor, and is attached to the back surface of the holding plate 43a in the table 43 as shown in FIG. In this case, the heating unit 44 heats the table 43 (holding plate 43a) according to the control of the control unit 45 and maintains the placement surface 43c (that is, the substrate 12) at a predetermined temperature.

陰極形成装置5は、例えば、真空蒸着装置で構成されて、搬送装置2によって搬送位置P3に搬送された基板12の表面(有機EL層15および区画壁13の上)に陰極16を形成する。   The cathode forming device 5 is composed of, for example, a vacuum vapor deposition device, and forms the cathode 16 on the surface of the substrate 12 (on the organic EL layer 15 and the partition wall 13) transported to the transport position P3 by the transport device 2.

次に、製造装置1を用いて有機EL素子11を製造する際の製造装置1の動作について、塗膜形成装置4の動作を中心にして説明する。   Next, the operation of the manufacturing apparatus 1 when manufacturing the organic EL element 11 using the manufacturing apparatus 1 will be described focusing on the operation of the coating film forming apparatus 4.

この製造装置1では、搬送装置2が、図外の供給位置において供給された基板12を図1に示す矢印Aの向きに搬送する。この場合、図3に示すように、基板12には、予め、区画壁13が立設され、区画壁13によって区画された基板12上の各領域には、陽極14が形成されているものとする。次いで、基板洗浄装置3が、搬送位置P1に搬送された基板12を洗浄する。続いて、搬送装置2は、基板洗浄装置3によって洗浄された基板12を搬送位置P1から搬送位置P2に搬送する。   In this manufacturing apparatus 1, the transport apparatus 2 transports the substrate 12 supplied at a supply position outside the figure in the direction of arrow A shown in FIG. In this case, as shown in FIG. 3, a partition wall 13 is erected in advance on the substrate 12, and an anode 14 is formed in each region on the substrate 12 partitioned by the partition wall 13. To do. Next, the substrate cleaning apparatus 3 cleans the substrate 12 transported to the transport position P1. Subsequently, the transport device 2 transports the substrate 12 cleaned by the substrate cleaning device 3 from the transport position P1 to the transport position P2.

一方、塗膜形成装置4では、制御部45が塗膜形成処理(本発明に係る塗膜形成方法に準じた処理)を実行する。この塗膜形成処理では、制御部45は、加熱部44を制御して、基板12の温度が塗液61の温度(つまり室温)よりも高い所定温度(一例として77℃)となるようにテーブル43(保持板43a)を加熱させる。次いで、制御部45は、移動機構41を制御して、搬送位置P2に搬送された洗浄済みの基板12(図1参照)をテーブル43における保持板43aの上に載置させる。続いて、制御部45は、プリンタ42を制御して、図3に示すように、タンク51aに貯留されている正孔輸送層15a形成用の塗液61aをヘッド部52のインクジェットヘッド52aから、区画壁13によって区画された基板12上の領域に吐出させつつ、ヘッド部52をテーブル43の上方において同図に示す矢印Bの方向に移動させ、さらに区画壁13によって区画された基板12上の次の領域に塗液61bを吐出させる。   On the other hand, in the coating film forming apparatus 4, the control unit 45 executes a coating film forming process (a process according to the coating film forming method according to the present invention). In this coating film forming process, the control unit 45 controls the heating unit 44 so that the temperature of the substrate 12 becomes a predetermined temperature (for example, 77 ° C.) higher than the temperature of the coating liquid 61 (that is, room temperature). 43 (holding plate 43a) is heated. Next, the control unit 45 controls the moving mechanism 41 to place the cleaned substrate 12 (see FIG. 1) transported to the transport position P <b> 2 on the holding plate 43 a in the table 43. Subsequently, the control unit 45 controls the printer 42 to transfer the coating liquid 61a for forming the hole transport layer 15a stored in the tank 51a from the inkjet head 52a of the head unit 52, as shown in FIG. While discharging to the area on the substrate 12 partitioned by the partition wall 13, the head portion 52 is moved in the direction of arrow B shown in the figure above the table 43, and further on the substrate 12 partitioned by the partition wall 13. The coating liquid 61b is discharged to the next area.

この際に、インクジェットヘッド52aから吐出された粒状の塗液61aが基板12(陽極14)の表面に衝突して、区画壁13によって区画された基板12上の各領域に塗液61aが展延される。これにより、塗液61aが基板12の表面(陽極14の上)に塗布される。ここで、この塗膜形成装置4では、基板12がテーブル43を介して加熱部44によって間接的に加熱されている。このため、基板12に吐出された塗液61aが加熱されてその粘度が低下する。したがって、塗液61aが基板12上においてスムーズに展延される結果、表面が平坦でかつ均一の厚みに塗液61aが塗布される。また、基板12が加熱されているため、塗布された塗液61aが短時間のうちに乾燥させられて、図4に示すように、陽極14の上に正孔輸送層15aが形成される。この場合、塗液61aが短時間のうちに乾燥させられるため、乾燥前の塗液61aに異物が落下してその異物を中心として塗液61aが硬化する事態が防止される。   At this time, the granular coating liquid 61a discharged from the inkjet head 52a collides with the surface of the substrate 12 (anode 14), and the coating liquid 61a spreads in each region on the substrate 12 partitioned by the partition wall 13. Is done. Thereby, the coating liquid 61a is applied to the surface of the substrate 12 (on the anode 14). Here, in the coating film forming apparatus 4, the substrate 12 is indirectly heated by the heating unit 44 via the table 43. For this reason, the coating liquid 61a discharged to the substrate 12 is heated and its viscosity is lowered. Therefore, as a result of the coating liquid 61a being smoothly spread on the substrate 12, the coating liquid 61a is applied with a flat surface and a uniform thickness. Further, since the substrate 12 is heated, the applied coating liquid 61a is dried in a short time, and a hole transport layer 15a is formed on the anode 14 as shown in FIG. In this case, since the coating liquid 61a is dried in a short time, it is possible to prevent a situation in which foreign matter falls on the coating liquid 61a before drying and the coating liquid 61a is cured around the foreign matter.

次いで、制御部45は、プリンタ42を制御して、図5に示すように、タンク51bに貯留されている発光層15b形成用の塗液61bをヘッド部52のインクジェットヘッド52bから、区画壁13によって区画された基板12上の領域に吐出させつつ、ヘッド部52をテーブル43の上方において同図に示す矢印Bの方向に移動させ、さらに区画壁13によって区画された基板12上の次の領域に塗液61bを吐出させる。この際に、インクジェットヘッド52bから吐出された粒状の塗液61bが基板12(正孔輸送層15a)の表面に衝突して、区画壁13によって区画された基板12上の各領域に塗液61bが展延される。これにより、塗液61bが基板12の表面(正孔輸送層15aの上)に塗布される。この場合、上記したように、基板12が加熱されているため、塗液61bの粘度が低下して基板12上においてスムーズに展延される結果、表面が平坦でかつ均一の厚みに塗液61bが塗布される。また、基板12が加熱されているため、塗布された塗液61bが短時間のうちに乾燥させられて、図6に示すように、正孔輸送層15aの上に発光層15bが形成される。この場合においても、塗液61bが短時間のうちに乾燥させられるため、乾燥前の塗液61bに異物が落下してその異物を中心として塗液61bが硬化する事態が防止される。以上により、有機EL層15の形成が完了する。   Next, the control unit 45 controls the printer 42 to apply the coating liquid 61b for forming the light emitting layer 15b stored in the tank 51b from the inkjet head 52b of the head unit 52 to the partition wall 13 as shown in FIG. The head portion 52 is moved in the direction of the arrow B shown in the figure above the table 43 while being discharged onto the region on the substrate 12 partitioned by the above-mentioned, and the next region on the substrate 12 partitioned by the partition wall 13 The coating liquid 61b is discharged. At this time, the granular coating liquid 61b discharged from the inkjet head 52b collides with the surface of the substrate 12 (hole transport layer 15a), and the coating liquid 61b is applied to each region on the substrate 12 partitioned by the partition wall 13. Is extended. As a result, the coating liquid 61b is applied to the surface of the substrate 12 (on the hole transport layer 15a). In this case, as described above, since the substrate 12 is heated, the viscosity of the coating liquid 61b is lowered and smoothly spreads on the substrate 12. As a result, the coating liquid 61b has a flat surface and a uniform thickness. Is applied. Further, since the substrate 12 is heated, the applied coating liquid 61b is dried in a short time, and the light emitting layer 15b is formed on the hole transport layer 15a as shown in FIG. . Even in this case, since the coating liquid 61b is dried in a short time, it is possible to prevent the foreign matter from falling into the coating liquid 61b before drying and the coating liquid 61b to be cured around the foreign substance. Thus, the formation of the organic EL layer 15 is completed.

次いで、制御部45は、移動機構41を制御して、テーブル43の保持板43aに載置されている基板12を搬送位置P2に移動させる。続いて、搬送装置2が有機EL層15の形成が完了した基板12を図1に示す矢印Aの向きで搬送位置P2から搬送位置P3に搬送する。次いで、陰極形成装置5が、有機EL層15上に陰極16を形成する。これにより、製造装置1による有機EL素子11の製造が完了する。   Next, the control unit 45 controls the moving mechanism 41 to move the substrate 12 placed on the holding plate 43a of the table 43 to the transport position P2. Subsequently, the transport device 2 transports the substrate 12 on which the organic EL layer 15 has been formed from the transport position P2 to the transport position P3 in the direction of the arrow A shown in FIG. Next, the cathode forming device 5 forms the cathode 16 on the organic EL layer 15. Thereby, manufacture of the organic EL element 11 by the manufacturing apparatus 1 is completed.

なお、発明者は、本発明の効果を検証すべく、次のような実験を行った。この実験では、まず、塗膜形成装置4を用いて上記の塗膜形成処理によって有機EL層15を基板12に形成した試料101〜108を作製した。なお、有機EL層15形成用の塗液61としては、燐光系材料とテトラリンとを混合したものを用いた。この場合、混合後の総重量に対する燐光系材料の重量比率が2.0重量パーセントとなるように調整した。また、基板12としては、厚みが0.7mmのガラス製の板材を用いた。この場合、図7に示すように、基板12上に立設した区画壁13によって基板12上に区画した5mm×2mmの平面視六角形の領域200に対して上記の塗液61を塗布した。また、各試料101〜108の作製時における塗液61の温度を室温と同じ25℃に維持した。さらに、試料101の作製時においては、基板12を加熱することなく基板12の温度(具体的には、基板12における領域200の表面温度)を室温と同じ25℃に維持し、各試料102〜108の作製時においては、基板12を加熱して、その温度をそれぞれ48℃、58℃、70℃、77℃、85℃、94℃および102℃に維持した。   The inventor conducted the following experiment in order to verify the effect of the present invention. In this experiment, first, samples 101 to 108 in which the organic EL layer 15 was formed on the substrate 12 by the coating film forming process using the coating film forming apparatus 4 were produced. As the coating liquid 61 for forming the organic EL layer 15, a mixture of a phosphorescent material and tetralin was used. In this case, it adjusted so that the weight ratio of the phosphorescent material with respect to the total weight after mixing might be 2.0 weight%. Further, as the substrate 12, a glass plate material having a thickness of 0.7 mm was used. In this case, as shown in FIG. 7, the coating liquid 61 was applied to a 5 mm × 2 mm hexagonal region 200 in plan view partitioned on the substrate 12 by the partition wall 13 erected on the substrate 12. Moreover, the temperature of the coating liquid 61 at the time of preparation of each sample 101-108 was maintained at 25 degreeC which is the same as room temperature. Further, when the sample 101 is manufactured, the temperature of the substrate 12 (specifically, the surface temperature of the region 200 in the substrate 12) is maintained at 25 ° C. which is the same as the room temperature without heating the substrate 12, and During the fabrication of 108, the substrate 12 was heated and maintained at 48 ° C, 58 ° C, 70 ° C, 77 ° C, 85 ° C, 94 ° C and 102 ° C, respectively.

また、この実験では、試料101〜108を作製する際に、領域200に塗液61を所定量(50nl)吐出させたときに、塗液61が展延することによって生じる輪をデジタル顕微鏡で観察し、その輪の直径を測定した。この結果、試料101〜108における輪の直径は、図8に示すように、それぞれ40μm、33μm、52μm、134μm、163μm、185μm、190μmおよび185μmであった。この実験結果から、基板12に対してプリンタ42から塗液61を吐出させる際の基板12の温度が高くなるに従って輪の直径が大きくなる傾向がある、つまり、基板12(載置面43a)の温度が高くなるに従って吐出された塗液61の粘度が低下して塗液61が基板12上においてスムーズに展延されることが明らかである。   Further, in this experiment, when the samples 101 to 108 were produced, when a predetermined amount (50 nl) of the coating liquid 61 was discharged to the region 200, a ring generated by the spreading of the coating liquid 61 was observed with a digital microscope. The diameter of the ring was measured. As a result, the diameters of the rings in the samples 101 to 108 were 40 μm, 33 μm, 52 μm, 134 μm, 163 μm, 185 μm, 190 μm and 185 μm, respectively, as shown in FIG. From this experimental result, the diameter of the ring tends to increase as the temperature of the substrate 12 increases when the coating liquid 61 is discharged from the printer 42 onto the substrate 12, that is, the substrate 12 (mounting surface 43a). It is apparent that the viscosity of the discharged coating liquid 61 decreases as the temperature increases, and the coating liquid 61 spreads smoothly on the substrate 12.

また、この実験では、作製した試料101〜108の各領域200における有機EL層15の表面粗さを、(株)小坂研究所製の表面形状・粗さ測定機(サーフコーダET300)を用いて測定した。この場合、測定条件を次の通りとした。
測定力:100μN
測定速度:0.01mm/s
縦倍率:1,000,000
横倍率:5,000
カットオフ値:0.08mm
In this experiment, the surface roughness of the organic EL layer 15 in each region 200 of the prepared samples 101 to 108 was measured using a surface shape / roughness measuring machine (Surfcoder ET300) manufactured by Kosaka Laboratory. It was measured. In this case, the measurement conditions were as follows.
Measuring force: 100μN
Measurement speed: 0.01 mm / s
Vertical magnification: 1,000,000
Horizontal magnification: 5,000
Cut-off value: 0.08mm

この結果、試料101〜108における各有機EL層15の表面粗さを示すパラメータとしての算術平均高さSaは、同図に示すように、それぞれ73.3nm、41.5nm、15.4nm、2.7nm、4.1nm、3.5nm、2.7nmおよび3.1nmであった。また、試料101〜108における各有機EL層15の表面粗さを示す他のパラメータとしての最大山高さSpは、同図に示すように、それぞれ1,079nm、689nm、258nm、52nm、32nm、30nm、29nmおよび39nmであった。   As a result, the arithmetic average height Sa as a parameter indicating the surface roughness of each organic EL layer 15 in the samples 101 to 108 is 73.3 nm, 41.5 nm, 15.4 nm, 2 0.7 nm, 4.1 nm, 3.5 nm, 2.7 nm, and 3.1 nm. Further, the maximum peak heights Sp as other parameters indicating the surface roughness of each organic EL layer 15 in the samples 101 to 108 are 1,079 nm, 689 nm, 258 nm, 52 nm, 32 nm, and 30 nm, respectively, as shown in FIG. 29 nm and 39 nm.

上記の実験結果から、基板12に対してプリンタ42から塗液61を吐出させる際に基板12を加熱していない状態のとき(塗液61の温度(室温)と同じ25℃のとき)には有機EL層15の表面の平坦度が低いのに対して、塗液61の温度よりも高い温度に基板12を加熱しているとき(この実験では、48℃以上のとき)には、有機EL層15の表面の平坦度が高くなるのが明らかである。また、基板12の温度が70℃以上のとき、つまり基板12の温度が塗液61の温度に45℃を加えた温度以上のときには、有機EL層15の表面の平坦度がさらに高いことが明らかである。一方、基板12の温度が85℃を超えたとき、つまり基板12の温度が塗液61の温度に60℃を加えた温度を超えた温度(94℃および102℃)のときには、基板12の温度上昇による有機EL層15表面の平坦度向上の効果が僅かとなることが明らかである。この場合、基板12の温度を必要以上に高く設定すると、加熱のための電力消費量が過大となって製造コストの上昇を招くこととなる。また、基板12の温度が高すぎると、塗布した塗液61に気泡が生じて平坦度が低下するおそれもある。したがって、塗液61を塗布する際に維持すべき基板12の温度としては、塗液61の温度よりも高い温度であるのが好ましく、塗液61の温度に45℃を加えた温度以上60℃を加えた温度以下の範囲内であるのがより好ましいことが明らかである。   From the above experimental results, when the substrate 12 is not heated when the coating liquid 61 is discharged from the printer 42 onto the substrate 12 (when the temperature of the coating liquid 61 (room temperature) is 25 ° C.). When the substrate 12 is heated to a temperature higher than the temperature of the coating liquid 61 while the surface flatness of the organic EL layer 15 is low (in this experiment, at 48 ° C. or higher), the organic EL layer 15 It is clear that the flatness of the surface of the layer 15 increases. Further, when the temperature of the substrate 12 is 70 ° C. or higher, that is, when the temperature of the substrate 12 is equal to or higher than the temperature of the coating liquid 61 plus 45 ° C., the flatness of the surface of the organic EL layer 15 is clearly higher. It is. On the other hand, when the temperature of the substrate 12 exceeds 85 ° C., that is, when the temperature of the substrate 12 exceeds the temperature obtained by adding 60 ° C. to the temperature of the coating liquid 61 (94 ° C. and 102 ° C.), It is clear that the effect of improving the flatness of the surface of the organic EL layer 15 due to the rise is small. In this case, if the temperature of the substrate 12 is set higher than necessary, the power consumption for heating becomes excessive, leading to an increase in manufacturing cost. If the temperature of the substrate 12 is too high, bubbles may be generated in the applied coating liquid 61 and the flatness may be lowered. Therefore, the temperature of the substrate 12 to be maintained when the coating liquid 61 is applied is preferably higher than the temperature of the coating liquid 61, and is equal to or higher than the temperature obtained by adding 45 ° C. to the temperature of the coating liquid 61. It is clear that it is more preferable that the temperature is within the range of not more than the temperature added.

このように、この塗膜形成装置4および塗膜形成方法によれば、テーブル43に保持されている基板12を塗液61の温度よりも高い温度に加熱し、その状態の基板12に対して塗液61をプリンタ42から吐出して有機EL層15を形成することにより、基板12に吐出された塗液61を加熱させてその粘度を低下させることができる。したがって、塗液61を基板12上においてスムーズに展延させることができる結果、表面が平坦でかつ厚みが均一の有機EL層15を形成することができる。また、基板12を加熱することで、吐出した塗液61を短時間のうちに乾燥させることができるため、乾燥前の塗液61に異物が落下してその異物を中心として塗液61が硬化する事態を確実に防止することができる。   Thus, according to the coating film forming apparatus 4 and the coating film forming method, the substrate 12 held on the table 43 is heated to a temperature higher than the temperature of the coating liquid 61, and the substrate 12 in that state is heated. By forming the organic EL layer 15 by discharging the coating liquid 61 from the printer 42, the viscosity of the coating liquid 61 discharged onto the substrate 12 can be reduced by heating. Accordingly, the coating liquid 61 can be smoothly spread on the substrate 12, and as a result, the organic EL layer 15 having a flat surface and a uniform thickness can be formed. Further, since the discharged coating liquid 61 can be dried in a short time by heating the substrate 12, foreign matter falls on the coating liquid 61 before drying, and the coating liquid 61 is cured around the foreign matter. Can be reliably prevented.

また、この塗膜形成装置4および塗膜形成方法によれば、基板12の温度が塗液61の温度に45℃を加えた温度以上であって60℃を加えた温度以下の範囲内となるようにテーブル43の載置面43aを加熱した状態で塗液61を吐出して有機EL層15を形成することにより、有機EL層15の表面の平坦度をさらに高めつつ、加熱のための電力消費量が過大となることに起因する製造コストの上昇を抑えることができる。また、基板12の温度を塗液61の温度に60℃を加えた温度以下に抑えて加熱することにより、基板12の温度が上昇し過ぎて、塗布した塗液61に気泡が生じて平坦度が低下する事態を確実に防止することができる。   Moreover, according to this coating-film formation apparatus 4 and the coating-film formation method, the temperature of the board | substrate 12 becomes in the range below the temperature which added more than the temperature which added 45 degreeC to the temperature of the coating liquid 61, and added 60 degreeC. In this way, the coating liquid 61 is discharged while the mounting surface 43a of the table 43 is heated to form the organic EL layer 15, thereby further increasing the flatness of the surface of the organic EL layer 15 and heating power. An increase in manufacturing cost due to excessive consumption can be suppressed. Further, by heating the substrate 12 at a temperature equal to or lower than the temperature of the coating liquid 61 plus 60 ° C., the temperature of the substrate 12 rises too much and bubbles are generated in the coated coating liquid 61, resulting in flatness. Can be reliably prevented.

また、この塗膜形成装置4および塗膜形成方法によれば、有機EL層15を形成するための導電性高分子材料を含む塗液61をプリンタ42が吐出することにより、表面が平坦でかつ厚みが均一な有機EL層15を形成することができるため、高品質の有機EL素子11を製造することができる。   Further, according to the coating film forming apparatus 4 and the coating film forming method, the printer 42 discharges the coating liquid 61 containing the conductive polymer material for forming the organic EL layer 15, so that the surface is flat and Since the organic EL layer 15 having a uniform thickness can be formed, the high-quality organic EL element 11 can be manufactured.

なお、本発明は、上記の構成に限定されない。例えば、有機EL素子11を製造する製造装置1に塗膜形成装置4を組み込んだ例について上記したが、これに限定されず、処理対象体に塗膜を形成して製品を製造する各種の製造装置に塗膜形成装置4を組み込むことができる。この場合、塗膜形成装置4を用いて形成可能な塗膜としては、上記した有機EL層15に限定されず、無機材料を用いた塗膜等が含まれる。   In addition, this invention is not limited to said structure. For example, although it described above about the example which incorporated the coating-film formation apparatus 4 in the manufacturing apparatus 1 which manufactures the organic EL element 11, it is not limited to this, Various manufacture which forms a coating film in a process target body and manufactures a product The coating film forming apparatus 4 can be incorporated in the apparatus. In this case, the coating film that can be formed using the coating film forming apparatus 4 is not limited to the organic EL layer 15 described above, and includes a coating film using an inorganic material.

また、基板12をテーブル43に載置した状態で塗布した塗液61を乾燥させて有機EL層15を形成する構成例について上記したが、乾燥装置を別途設けて、例えば流動性が低下する程度に塗液61を乾燥(仮乾燥)させた状態で、基板12をテーブル43から乾燥装置に搬送して、その乾燥装置において塗液61を完全に乾燥して有機EL層15を形成する構成を採用することもできる。この構成においても、短時間のうちに流動性を低下させることで、塗液61への異物の付着を確実に防止することができる。   In addition, the configuration example in which the coating liquid 61 applied with the substrate 12 placed on the table 43 is dried to form the organic EL layer 15 has been described above. However, a separate drying device is provided, for example, the fluidity is lowered. In a state where the coating liquid 61 is dried (temporarily dried), the substrate 12 is transported from the table 43 to the drying apparatus, and the coating liquid 61 is completely dried in the drying apparatus to form the organic EL layer 15. It can also be adopted. Even in this configuration, it is possible to reliably prevent foreign matter from adhering to the coating liquid 61 by reducing the fluidity within a short time.

また、載置された基板12を保持可能に構成された保持部としてのテーブル43を備えた例について上記したが、本発明における保持部はこれに限定されず、例えば基板12の縁部を挟持して保持する保持部を採用することもできる。この構成では、加熱部は保持部における基板12を挟持する部位を加熱する。また、テーブル43の載置面43aを介して基板12を間接的に加熱する構成例について上記したが、例えば、熱風(温風)を基板12に吹き掛けたり、基板12の近傍にヒータを配設して基板12を直接加熱する構成を採用することもできる。この構成においては、塗液61の温度に45℃を加えた温度以上であって60℃を加えた温度以下の範囲内の所定温度に基板12を加熱する。   Moreover, although the example provided with the table 43 as the holding unit configured to hold the mounted substrate 12 is described above, the holding unit in the present invention is not limited to this, and for example, holds the edge of the substrate 12 It is also possible to employ a holding portion that holds the same. In this configuration, the heating unit heats a portion of the holding unit that holds the substrate 12. Further, the configuration example in which the substrate 12 is indirectly heated through the mounting surface 43a of the table 43 has been described above. For example, hot air (warm air) is blown onto the substrate 12, or a heater is disposed in the vicinity of the substrate 12. It is also possible to employ a configuration in which the substrate 12 is directly heated. In this configuration, the substrate 12 is heated to a predetermined temperature within a range that is equal to or higher than the temperature of the coating liquid 61 plus 45 ° C. and equal to or lower than the temperature of 60 ° C. added.

製造装置1の構成を示す構成図である。1 is a configuration diagram showing a configuration of a manufacturing apparatus 1. FIG. 有機EL素子11の構成を示す断面図である。2 is a cross-sectional view showing a configuration of an organic EL element 11. FIG. 正孔輸送層15a形成用の塗液61aを吐出している状態を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the state which is discharging the coating liquid 61a for positive hole transport layer 15a formation. 正孔輸送層15aが形成された状態を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the state in which the positive hole transport layer 15a was formed. 発光層15b形成用の塗液61bを吐出している状態を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the state which is discharging the coating liquid 61b for light emitting layer 15b formation. 発光層15bが形成された状態を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the state in which the light emitting layer 15b was formed. 基板12上に区画した領域200を示す平面図である。3 is a plan view showing a region 200 partitioned on a substrate 12. FIG. 試料101〜108の測定結果を示す測定結果図である。It is a measurement result figure which shows the measurement result of the samples 101-108.

符号の説明Explanation of symbols

4 塗膜形成装置
12 基板
15a 正孔輸送層
15b 発光層
42 プリンタ
43 テーブル部
44 加熱
61a,61b 塗液
4 Coating film forming device 12 Substrate 15a Hole transport layer 15b Light emitting layer 42 Printer 43 Table portion 44 Heating 61a, 61b Coating liquid

Claims (6)

処理対象体に対して塗膜形成用の塗液を吐出するインクジェット吐出部と、前記処理対象体を保持する保持部とを備えて前記処理対象体に前記塗膜を形成可能に構成された塗膜形成装置であって、
前記保持部に保持されている前記処理対象体を前記塗液の温度よりも高い所定温度に加熱する加熱部を備えている塗膜形成装置。
A coating comprising an inkjet discharge unit that discharges a coating liquid for forming a coating film on a processing object, and a holding unit that holds the processing object, so that the coating film can be formed on the processing object. A film forming apparatus comprising:
The coating film forming apparatus provided with the heating part which heats the said process target object hold | maintained at the said holding | maintenance part to the predetermined temperature higher than the temperature of the said coating liquid.
前記保持部は、前記処理対象体を載置面に載置して保持する載置台で構成され、
前記加熱部は、前記所定温度が前記塗液の温度に45℃を加えた温度以上であって60℃を加えた温度以下の範囲内となるように前記保持部の前記載置面を加熱する請求項1記載の塗膜形成装置。
The holding unit is configured by a mounting table for mounting and holding the processing object on a mounting surface,
The heating unit heats the mounting surface of the holding unit so that the predetermined temperature is not less than a temperature obtained by adding 45 ° C. to the temperature of the coating liquid and not more than a temperature obtained by adding 60 ° C. The coating film forming apparatus according to claim 1.
前記インクジェット吐出部は、前記塗膜としての有機EL層を形成するための導電性高分子材料を含む前記塗液を吐出する請求項1または2記載の塗膜形成装置。   The coating film forming apparatus according to claim 1, wherein the inkjet discharge unit discharges the coating liquid containing a conductive polymer material for forming an organic EL layer as the coating film. 保持部に保持されている処理対象体に対して塗膜形成用の塗液をインクジェット吐出部から吐出して当該処理対象体に当該塗膜を形成する塗膜形成方法であって、
前記保持部に保持されている前記処理対象体を前記塗液の温度よりも高い所定温度に加熱し、当該所定温度に加熱している状態の前記処理対象体に対して前記塗液を吐出して前記塗膜を形成する塗膜形成方法。
A coating film forming method for forming a coating film on a processing object by discharging a coating liquid for forming a coating film from an inkjet discharge unit to the processing object held in a holding part,
The processing object held in the holding unit is heated to a predetermined temperature higher than the temperature of the coating liquid, and the coating liquid is discharged to the processing object in a state of being heated to the predetermined temperature. A coating film forming method for forming the coating film.
前記処理対象体を載置面に載置して保持する載置台を前記保持部として用いて、
前記所定温度が前記塗液の温度に45℃を加えた温度以上であって60℃を加えた温度以下の範囲内となるように前記保持部の前記載置面を加熱する請求項4記載の塗膜形成方法。
Using the mounting table for mounting and holding the processing object on the mounting surface as the holding unit,
5. The mounting surface according to claim 4, wherein the mounting surface is heated so that the predetermined temperature is not less than a temperature obtained by adding 45 ° C. to a temperature of the coating liquid and not more than a temperature obtained by adding 60 ° C. 5. Coating film forming method.
前記塗膜としての有機EL層を形成するための導電性高分子材料を含む前記塗液を前記インクジェット吐出部から吐出する請求項4または5記載の塗膜形成方法。   The coating film forming method according to claim 4 or 5, wherein the coating liquid containing a conductive polymer material for forming an organic EL layer as the coating film is discharged from the inkjet discharge section.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003035814A (en) * 2001-07-24 2003-02-07 Toppan Printing Co Ltd Color filters for display devices
JP2004111278A (en) * 2002-09-19 2004-04-08 Dainippon Printing Co Ltd Method and apparatus for manufacturing organic EL display device and color filter by inkjet method

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003035814A (en) * 2001-07-24 2003-02-07 Toppan Printing Co Ltd Color filters for display devices
JP2004111278A (en) * 2002-09-19 2004-04-08 Dainippon Printing Co Ltd Method and apparatus for manufacturing organic EL display device and color filter by inkjet method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10526498B2 (en) 2016-08-01 2020-01-07 Joled Inc. Ink for organic EL

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