JP2008234984A - Coating film forming apparatus and coating film forming method - Google Patents
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Abstract
【課題】表面が平坦でかつ厚みが均一な塗膜を形成し得る塗膜形成装置を提供する。
【解決手段】基板12に対して塗膜形成用の塗液を吐出するプリンタ42と、基板12を保持するテーブル43とを備えて基板12に塗膜を形成可能に構成され、テーブル43に保持されている基板12を塗液の温度よりも高い所定温度に加熱する加熱部44を備え、、プリンタ42は加熱部44によって所定温度に加熱されている状態の基板12に対して塗液を吐出する。
【選択図】図1A coating film forming apparatus capable of forming a coating film having a flat surface and a uniform thickness.
A printer that discharges coating liquid for forming a coating film onto a substrate and a table that holds the substrate are configured to be able to form a coating film on the substrate, and are held on the table. A heating unit 44 for heating the substrate 12 being heated to a predetermined temperature higher than the temperature of the coating liquid, and the printer 42 discharges the coating liquid to the substrate 12 heated to the predetermined temperature by the heating unit 44 To do.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、処理対象体に塗膜形成用の塗液を吐出するインクジェット吐出部と、処理対象体を保持する保持部とを備えて処理対象体に塗膜を形成可能に構成された塗膜形成装置、および保持部に保持されている処理対象体に塗膜形成用の塗液をインクジェット吐出部から吐出して塗膜を形成する塗膜形成方法に関するものである。 The present invention is a coating film configured to include an inkjet discharge unit that discharges a coating liquid for forming a coating film on a processing target body and a holding unit that holds the processing target body so that a coating film can be formed on the processing target body. The present invention relates to a coating apparatus and a coating film forming method for forming a coating film by discharging a coating liquid for forming a coating film from an inkjet discharge section onto a processing object held by a holding section.
この種の塗膜形成方法によって処理対象体に塗膜を形成して有機EL素子を製造する方法として、特開2001−291583号公報に開示された有機EL素子の製造方法が知られている。この製造方法では、まず、撥インク性を有する隔壁(バンク)を設けたガラス基板に対して、正孔注入/輸送材料を含むインク組成物(塗液)をインクジェットヘッドから吐出して塗布した後に、溶媒除去や熱処理(以下「乾燥処理」ともいう)を行うことによって正孔注入/輸送層を形成する。次いで、発光材料を含むインク組成物を正孔注入/輸送層の上に塗布した後に、乾燥処理を行うことによって発光層を形成する。続いて、Ca、Mg、Ag、Al、Li等の金属を用いて、蒸着法等によって陰極を形成する。次いで、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、液状ガラス等によって封止層を形成する。以上により、素子が完成する。この場合、この製造方法では、各層を均一に形成するために、同一画素に少なくとも2回以上のインク組成物の塗布が行われる。
ところが、上記の製造方法には、以下の問題点がある。すなわち、この製造方法では、インク組成物をインクジェットヘッドからガラス基板に吐出して塗布することで正孔注入/輸送層や発光層を形成している。この場合、表面が平坦で厚みが均一な層を形成するためには、インクジェットヘッドから吐出されたインク組成物をガラス基板上でスムーズに展延させる必要がある。しかしながら、正孔注入/輸送材料や発光材料を含むインク組成物のなかには、比較的粘度が高いものがあり、この種のインク組成物を用いて各層を形成する際には、スムーズな展延が困難で層の厚みの均一性や層の表面の平坦度が低下するおそれがある。また、インク組成物の粘度は温度変化に伴って変化するため、インク組成物およびガラス基板の温度によってインク組成物の粘度、つまりインク組成物の展延のし易さが変化して、層の厚みの均一性や層の表面の平坦度にばらつきが生じるおそれもある。 However, the above manufacturing method has the following problems. That is, in this manufacturing method, the hole injection / transport layer and the light emitting layer are formed by discharging and applying the ink composition from the inkjet head to the glass substrate. In this case, in order to form a layer having a flat surface and a uniform thickness, it is necessary to smoothly spread the ink composition ejected from the inkjet head on the glass substrate. However, some ink compositions containing a hole injection / transport material and a light emitting material have a relatively high viscosity, and when each layer is formed using this type of ink composition, smooth spreading is possible. It is difficult and the uniformity of the layer thickness and the flatness of the surface of the layer may be reduced. In addition, since the viscosity of the ink composition changes with temperature change, the viscosity of the ink composition, that is, the ease of spreading of the ink composition changes depending on the temperature of the ink composition and the glass substrate. There may be variations in the uniformity of thickness and the flatness of the surface of the layer.
さらに、上記の製造方法では、インク組成物を塗布した後に乾燥処理を行うことによってインク組成物を乾燥させて各層を形成している。この場合、乾燥処理を行うためには、基板を塗布装置から乾燥装置に搬送する必要があり、その搬送の間に塵等の異物がインク組成物の表面に付着するおそれがある。この場合、乾燥前のインク組成物の表面に異物が付着したときには、その異物を核としてインク組成物が固形化して表面の平坦度や層の厚みの均一性が大きく低下して有機EL素子の機能が低下するおそれもある。 Further, in the above manufacturing method, each layer is formed by drying the ink composition by applying a drying treatment after applying the ink composition. In this case, in order to perform a drying process, it is necessary to convey a board | substrate from a coating device to a drying apparatus, and there exists a possibility that foreign materials, such as dust, may adhere to the surface of an ink composition during the conveyance. In this case, when a foreign substance adheres to the surface of the ink composition before drying, the ink composition is solidified using the foreign substance as a core, and the flatness of the surface and the uniformity of the layer thickness are greatly reduced. There is also a risk that the function is reduced.
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、表面が平坦でかつ厚みが均一な塗膜を形成し得る塗膜形成装置および塗膜形成方法を提供することを主目的とする。 This invention is made | formed in view of this problem, and it aims at providing the coating-film formation apparatus and coating-film formation method which can form the coating film with the flat surface and uniform thickness.
上記目的を達成すべく請求項1記載の塗膜形成装置は、処理対象体に対して塗膜形成用の塗液を吐出するインクジェット吐出部と、前記処理対象体を保持する保持部とを備えて前記処理対象体に前記塗膜を形成可能に構成された塗膜形成装置であって、前記保持部に保持されている前記処理対象体を前記塗液の温度よりも高い所定温度に加熱する加熱部を備えている。
In order to achieve the above object, a coating film forming apparatus according to
また、請求項2記載の塗膜形成装置は、請求項1記載の塗膜形成装置において、前記保持部は、前記処理対象体を載置面に載置して保持する載置台で構成され、前記加熱部は、前記所定温度が前記塗液の温度に45℃を加えた温度以上であって60℃を加えた温度以下の範囲内となるように前記保持部の前記載置面を加熱する。
Further, the coating film forming apparatus according to
また、請求項3記載の塗膜形成装置は、請求項1または2記載の塗膜形成装置において、前記インクジェット吐出部は、前記塗膜としての有機EL層を形成するための導電性高分子材料を含む前記塗液を吐出する。
The coating film forming apparatus according to
また、請求項4記載の塗膜形成方法は、保持部に保持されている処理対象体に対して塗膜形成用の塗液をインクジェット吐出部から吐出して当該処理対象体に当該塗膜を形成する塗膜形成方法であって、前記保持部に保持されている前記処理対象体を前記塗液の温度よりも高い所定温度に加熱し、当該所定温度に加熱している状態の前記処理対象体に対して前記塗液を吐出して前記塗膜を形成する。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a coating film forming method, wherein a coating liquid for forming a coating film is discharged from an inkjet discharge unit onto a processing object held by a holding unit, and the coating film is applied to the processing object. A method of forming a coating film, wherein the object to be treated is heated to a predetermined temperature higher than the temperature of the coating liquid, and the object to be treated is heated to the predetermined temperature. The coating liquid is discharged onto the body to form the coating film.
また、請求項5記載の塗膜形成方法は、請求項4記載の塗膜形成方法において、前記処理対象体を載置面に載置して保持する載置台を前記保持部として用いて、前記所定温度が前記塗液の温度に45℃を加えた温度以上であって60℃を加えた温度以下の範囲内となるように前記保持部の前記載置面を加熱する。 Moreover, the coating-film formation method of Claim 5 is a coating-film formation method of Claim 4, Using the mounting base which mounts and hold | maintains the said process target body on a mounting surface as said holding | maintenance part, The placement surface of the holding portion is heated so that the predetermined temperature is not less than a temperature obtained by adding 45 ° C. to the temperature of the coating liquid and not more than a temperature obtained by adding 60 ° C.
また、請求項6記載の塗膜形成方法は、請求項4または5記載の塗膜形成方法において、前記塗膜としての有機EL層を形成するための導電性高分子材料を含む前記塗液を前記インクジェット吐出部から吐出する。 A coating film forming method according to claim 6 is the coating film forming method according to claim 4 or 5, wherein the coating liquid containing a conductive polymer material for forming an organic EL layer as the coating film is used. It discharges from the said inkjet discharge part.
請求項1記載の塗膜形成装置および請求項4記載の塗膜形成方法によれば、保持部に保持されている処理対象体を塗液の温度よりも高い所定温度に加熱し、その状態の処理対象体に対して塗液をインクジェット吐出部から吐出して塗膜を形成することにより、処理対象体に吐出された塗液を加熱させてその粘度を低下させることができる。したがって、塗液を処理対象体上においてスムーズに展延させることができる結果、表面が平坦でかつ厚みが均一の塗膜を形成することができる。また、処理対象体を加熱することで、吐出した塗液を短時間のうちに乾燥させることができるため、乾燥前の塗液に異物が落下してその異物を中心として塗液が硬化する事態を確実に防止することができる。
According to the coating film forming apparatus according to
また、請求項2記載の塗膜形成装置および請求項5記載の塗膜形成方法によれば、所定温度が塗液の温度に45℃を加えた温度以上であって60℃を加えた温度以下の範囲内となるように載置台の載置面を加熱した状態で塗液を吐出して塗膜を形成することにより、塗膜の表面の平坦度をさらに高めつつ、加熱のための電力消費量が過大となることに起因する製造コストの上昇を抑えることができる。また、処理対象体の温度を塗液の温度に60℃を加えた温度以下に抑えて加熱することにより、処理対象体の温度が上昇し過ぎて、塗布した塗液に気泡が生じて平坦度が低下する事態を確実に防止することができる。
Moreover, according to the coating-film formation apparatus of
また、請求項3記載の塗膜形成装置および請求項6記載の塗膜形成方法によれば、有機EL層を形成するための導電性高分子材料を含む塗液をインクジェット吐出部が吐出することにより、表面が平坦でかつ厚みが均一な有機EL層を形成することができるため、高品質の有機EL素子を製造することができる。
Further, according to the coating film forming apparatus according to
以下、添付図面を参照して、本発明に係る塗膜形成装置および塗膜形成方法の最良の形態について説明する。 Hereinafter, the best mode of a coating film forming apparatus and a coating film forming method according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
最初に、図1に示す有機EL素子製造装置(以下、「製造装置」ともいう)1の構成について、図面を参照して説明する。製造装置1は、本発明に係る塗膜形成装置を備えた装置であって、図2に示す有機EL素子11を製造可能に構成されている。
First, the configuration of the organic EL element manufacturing apparatus (hereinafter also referred to as “manufacturing apparatus”) 1 shown in FIG. 1 will be described with reference to the drawings. The
ここで、有機EL素子11は、図2に示すように、一例として、基板12、区画壁13、陽極14、有機EL層15および陰極16を備えて構成されている。基板12は、本発明における処理対象体の一例であって、ガラスや、透明性を有する高分子材料を用いて平板状に形成されている。区画壁13は、非導電性材料で形成されて基板12に立設されている。この場合、区画壁13によって区画された基板12上の各領域に陽極14および有機EL層15が形成される。陽極14は、ITO(酸化インジウムスズ)などを用いた透明電極であって、基板12の表面に薄膜状に形成されている。有機EL層15は、本発明における塗膜(有機EL用の塗膜)であって、一例として、正孔輸送層15aおよび発光層15bで構成されて、陽極14上に積層されている。陰極16は、区画壁13および有機EL層15を覆うようにして薄膜状に形成されている。
Here, as shown in FIG. 2, the
一方、製造装置1は、図1に示すように、搬送装置2、基板洗浄装置3、塗膜形成装置4および陰極形成装置5を備えて構成されている。搬送装置2は、例えばベルトコンベアで構成されて、基板洗浄装置3、塗膜形成装置4および陰極形成装置5の各アクセス位置である搬送位置P1,P2,P3に基板12を搬送する。基板洗浄装置3は、搬送装置2によって搬送位置P1に搬送された基板12を洗浄する。
On the other hand, as shown in FIG. 1, the
塗膜形成装置4は、本発明に係る塗膜形成装置の一例であって、区画壁13によって区画された基板12上(陽極14上)の各領域に有機EL層15を形成可能に構成されている。具体的には、塗膜形成装置4は、移動機構41、プリンタ42、テーブル43、加熱部44および制御部45を備えて構成されている。移動機構41は、先端部にチャック41aが配設されたアーム41bを備えて構成され、制御部45の制御に従い、搬送位置P2とテーブル43との間で基板12を移動させる。
The coating film forming apparatus 4 is an example of the coating film forming apparatus according to the present invention, and is configured to be able to form the
プリンタ42は、本発明におけるインクジェット吐出部に相当し、タンク51a,51b、ヘッド部52、およびヘッド部52を駆動する駆動機構(図示せず)とを備えて構成されている。タンク51a,51bは、正孔輸送層15aおよび発光層15bを形成するための2種類の塗液(インク)61a,61b(以下、区別しないときには「塗液61」ともいう)を個別に貯留する。この場合、塗液61は、例えば、導電性高分子材料および溶剤(一例として芳香系溶剤)を含んで構成されている。ヘッド部52は、各塗液専用の2つのインクジェットヘッド52a,52bが一体化されたマルチヘッドで構成されている。この場合、プリンタ42は、制御部45の制御に従い、移動機構41によってテーブル43に搬送された基板12に対して、タンク51a,51bにそれぞれ貯留されている塗液61a,61bを塗布する。
The
テーブル43は、本発明における保持部の一例としての載置台を構成し、図3に示すように、例えば金属で構成された保持板43aと、脚部43bとを備えて、保持板43aの載置面43sに基板12を載置して保持する。加熱部44は、ヒータおよび温度センサを備えて構成されて、同図に示すように、テーブル43における保持板43aの裏面に取り付けられている。この場合、加熱部44は、制御部45の制御に従ってテーブル43(保持板43a)を加熱して載置面43c(つまり基板12)を所定温度に維持する。
The table 43 constitutes a mounting table as an example of the holding portion in the present invention, and includes a holding
陰極形成装置5は、例えば、真空蒸着装置で構成されて、搬送装置2によって搬送位置P3に搬送された基板12の表面(有機EL層15および区画壁13の上)に陰極16を形成する。
The cathode forming device 5 is composed of, for example, a vacuum vapor deposition device, and forms the
次に、製造装置1を用いて有機EL素子11を製造する際の製造装置1の動作について、塗膜形成装置4の動作を中心にして説明する。
Next, the operation of the
この製造装置1では、搬送装置2が、図外の供給位置において供給された基板12を図1に示す矢印Aの向きに搬送する。この場合、図3に示すように、基板12には、予め、区画壁13が立設され、区画壁13によって区画された基板12上の各領域には、陽極14が形成されているものとする。次いで、基板洗浄装置3が、搬送位置P1に搬送された基板12を洗浄する。続いて、搬送装置2は、基板洗浄装置3によって洗浄された基板12を搬送位置P1から搬送位置P2に搬送する。
In this
一方、塗膜形成装置4では、制御部45が塗膜形成処理(本発明に係る塗膜形成方法に準じた処理)を実行する。この塗膜形成処理では、制御部45は、加熱部44を制御して、基板12の温度が塗液61の温度(つまり室温)よりも高い所定温度(一例として77℃)となるようにテーブル43(保持板43a)を加熱させる。次いで、制御部45は、移動機構41を制御して、搬送位置P2に搬送された洗浄済みの基板12(図1参照)をテーブル43における保持板43aの上に載置させる。続いて、制御部45は、プリンタ42を制御して、図3に示すように、タンク51aに貯留されている正孔輸送層15a形成用の塗液61aをヘッド部52のインクジェットヘッド52aから、区画壁13によって区画された基板12上の領域に吐出させつつ、ヘッド部52をテーブル43の上方において同図に示す矢印Bの方向に移動させ、さらに区画壁13によって区画された基板12上の次の領域に塗液61bを吐出させる。
On the other hand, in the coating film forming apparatus 4, the
この際に、インクジェットヘッド52aから吐出された粒状の塗液61aが基板12(陽極14)の表面に衝突して、区画壁13によって区画された基板12上の各領域に塗液61aが展延される。これにより、塗液61aが基板12の表面(陽極14の上)に塗布される。ここで、この塗膜形成装置4では、基板12がテーブル43を介して加熱部44によって間接的に加熱されている。このため、基板12に吐出された塗液61aが加熱されてその粘度が低下する。したがって、塗液61aが基板12上においてスムーズに展延される結果、表面が平坦でかつ均一の厚みに塗液61aが塗布される。また、基板12が加熱されているため、塗布された塗液61aが短時間のうちに乾燥させられて、図4に示すように、陽極14の上に正孔輸送層15aが形成される。この場合、塗液61aが短時間のうちに乾燥させられるため、乾燥前の塗液61aに異物が落下してその異物を中心として塗液61aが硬化する事態が防止される。
At this time, the
次いで、制御部45は、プリンタ42を制御して、図5に示すように、タンク51bに貯留されている発光層15b形成用の塗液61bをヘッド部52のインクジェットヘッド52bから、区画壁13によって区画された基板12上の領域に吐出させつつ、ヘッド部52をテーブル43の上方において同図に示す矢印Bの方向に移動させ、さらに区画壁13によって区画された基板12上の次の領域に塗液61bを吐出させる。この際に、インクジェットヘッド52bから吐出された粒状の塗液61bが基板12(正孔輸送層15a)の表面に衝突して、区画壁13によって区画された基板12上の各領域に塗液61bが展延される。これにより、塗液61bが基板12の表面(正孔輸送層15aの上)に塗布される。この場合、上記したように、基板12が加熱されているため、塗液61bの粘度が低下して基板12上においてスムーズに展延される結果、表面が平坦でかつ均一の厚みに塗液61bが塗布される。また、基板12が加熱されているため、塗布された塗液61bが短時間のうちに乾燥させられて、図6に示すように、正孔輸送層15aの上に発光層15bが形成される。この場合においても、塗液61bが短時間のうちに乾燥させられるため、乾燥前の塗液61bに異物が落下してその異物を中心として塗液61bが硬化する事態が防止される。以上により、有機EL層15の形成が完了する。
Next, the
次いで、制御部45は、移動機構41を制御して、テーブル43の保持板43aに載置されている基板12を搬送位置P2に移動させる。続いて、搬送装置2が有機EL層15の形成が完了した基板12を図1に示す矢印Aの向きで搬送位置P2から搬送位置P3に搬送する。次いで、陰極形成装置5が、有機EL層15上に陰極16を形成する。これにより、製造装置1による有機EL素子11の製造が完了する。
Next, the
なお、発明者は、本発明の効果を検証すべく、次のような実験を行った。この実験では、まず、塗膜形成装置4を用いて上記の塗膜形成処理によって有機EL層15を基板12に形成した試料101〜108を作製した。なお、有機EL層15形成用の塗液61としては、燐光系材料とテトラリンとを混合したものを用いた。この場合、混合後の総重量に対する燐光系材料の重量比率が2.0重量パーセントとなるように調整した。また、基板12としては、厚みが0.7mmのガラス製の板材を用いた。この場合、図7に示すように、基板12上に立設した区画壁13によって基板12上に区画した5mm×2mmの平面視六角形の領域200に対して上記の塗液61を塗布した。また、各試料101〜108の作製時における塗液61の温度を室温と同じ25℃に維持した。さらに、試料101の作製時においては、基板12を加熱することなく基板12の温度(具体的には、基板12における領域200の表面温度)を室温と同じ25℃に維持し、各試料102〜108の作製時においては、基板12を加熱して、その温度をそれぞれ48℃、58℃、70℃、77℃、85℃、94℃および102℃に維持した。
The inventor conducted the following experiment in order to verify the effect of the present invention. In this experiment, first,
また、この実験では、試料101〜108を作製する際に、領域200に塗液61を所定量(50nl)吐出させたときに、塗液61が展延することによって生じる輪をデジタル顕微鏡で観察し、その輪の直径を測定した。この結果、試料101〜108における輪の直径は、図8に示すように、それぞれ40μm、33μm、52μm、134μm、163μm、185μm、190μmおよび185μmであった。この実験結果から、基板12に対してプリンタ42から塗液61を吐出させる際の基板12の温度が高くなるに従って輪の直径が大きくなる傾向がある、つまり、基板12(載置面43a)の温度が高くなるに従って吐出された塗液61の粘度が低下して塗液61が基板12上においてスムーズに展延されることが明らかである。
Further, in this experiment, when the
また、この実験では、作製した試料101〜108の各領域200における有機EL層15の表面粗さを、(株)小坂研究所製の表面形状・粗さ測定機(サーフコーダET300)を用いて測定した。この場合、測定条件を次の通りとした。
測定力:100μN
測定速度:0.01mm/s
縦倍率:1,000,000
横倍率:5,000
カットオフ値:0.08mm
In this experiment, the surface roughness of the
Measuring force: 100μN
Measurement speed: 0.01 mm / s
Vertical magnification: 1,000,000
Horizontal magnification: 5,000
Cut-off value: 0.08mm
この結果、試料101〜108における各有機EL層15の表面粗さを示すパラメータとしての算術平均高さSaは、同図に示すように、それぞれ73.3nm、41.5nm、15.4nm、2.7nm、4.1nm、3.5nm、2.7nmおよび3.1nmであった。また、試料101〜108における各有機EL層15の表面粗さを示す他のパラメータとしての最大山高さSpは、同図に示すように、それぞれ1,079nm、689nm、258nm、52nm、32nm、30nm、29nmおよび39nmであった。
As a result, the arithmetic average height Sa as a parameter indicating the surface roughness of each
上記の実験結果から、基板12に対してプリンタ42から塗液61を吐出させる際に基板12を加熱していない状態のとき(塗液61の温度(室温)と同じ25℃のとき)には有機EL層15の表面の平坦度が低いのに対して、塗液61の温度よりも高い温度に基板12を加熱しているとき(この実験では、48℃以上のとき)には、有機EL層15の表面の平坦度が高くなるのが明らかである。また、基板12の温度が70℃以上のとき、つまり基板12の温度が塗液61の温度に45℃を加えた温度以上のときには、有機EL層15の表面の平坦度がさらに高いことが明らかである。一方、基板12の温度が85℃を超えたとき、つまり基板12の温度が塗液61の温度に60℃を加えた温度を超えた温度(94℃および102℃)のときには、基板12の温度上昇による有機EL層15表面の平坦度向上の効果が僅かとなることが明らかである。この場合、基板12の温度を必要以上に高く設定すると、加熱のための電力消費量が過大となって製造コストの上昇を招くこととなる。また、基板12の温度が高すぎると、塗布した塗液61に気泡が生じて平坦度が低下するおそれもある。したがって、塗液61を塗布する際に維持すべき基板12の温度としては、塗液61の温度よりも高い温度であるのが好ましく、塗液61の温度に45℃を加えた温度以上60℃を加えた温度以下の範囲内であるのがより好ましいことが明らかである。
From the above experimental results, when the
このように、この塗膜形成装置4および塗膜形成方法によれば、テーブル43に保持されている基板12を塗液61の温度よりも高い温度に加熱し、その状態の基板12に対して塗液61をプリンタ42から吐出して有機EL層15を形成することにより、基板12に吐出された塗液61を加熱させてその粘度を低下させることができる。したがって、塗液61を基板12上においてスムーズに展延させることができる結果、表面が平坦でかつ厚みが均一の有機EL層15を形成することができる。また、基板12を加熱することで、吐出した塗液61を短時間のうちに乾燥させることができるため、乾燥前の塗液61に異物が落下してその異物を中心として塗液61が硬化する事態を確実に防止することができる。
Thus, according to the coating film forming apparatus 4 and the coating film forming method, the
また、この塗膜形成装置4および塗膜形成方法によれば、基板12の温度が塗液61の温度に45℃を加えた温度以上であって60℃を加えた温度以下の範囲内となるようにテーブル43の載置面43aを加熱した状態で塗液61を吐出して有機EL層15を形成することにより、有機EL層15の表面の平坦度をさらに高めつつ、加熱のための電力消費量が過大となることに起因する製造コストの上昇を抑えることができる。また、基板12の温度を塗液61の温度に60℃を加えた温度以下に抑えて加熱することにより、基板12の温度が上昇し過ぎて、塗布した塗液61に気泡が生じて平坦度が低下する事態を確実に防止することができる。
Moreover, according to this coating-film formation apparatus 4 and the coating-film formation method, the temperature of the board |
また、この塗膜形成装置4および塗膜形成方法によれば、有機EL層15を形成するための導電性高分子材料を含む塗液61をプリンタ42が吐出することにより、表面が平坦でかつ厚みが均一な有機EL層15を形成することができるため、高品質の有機EL素子11を製造することができる。
Further, according to the coating film forming apparatus 4 and the coating film forming method, the
なお、本発明は、上記の構成に限定されない。例えば、有機EL素子11を製造する製造装置1に塗膜形成装置4を組み込んだ例について上記したが、これに限定されず、処理対象体に塗膜を形成して製品を製造する各種の製造装置に塗膜形成装置4を組み込むことができる。この場合、塗膜形成装置4を用いて形成可能な塗膜としては、上記した有機EL層15に限定されず、無機材料を用いた塗膜等が含まれる。
In addition, this invention is not limited to said structure. For example, although it described above about the example which incorporated the coating-film formation apparatus 4 in the
また、基板12をテーブル43に載置した状態で塗布した塗液61を乾燥させて有機EL層15を形成する構成例について上記したが、乾燥装置を別途設けて、例えば流動性が低下する程度に塗液61を乾燥(仮乾燥)させた状態で、基板12をテーブル43から乾燥装置に搬送して、その乾燥装置において塗液61を完全に乾燥して有機EL層15を形成する構成を採用することもできる。この構成においても、短時間のうちに流動性を低下させることで、塗液61への異物の付着を確実に防止することができる。
In addition, the configuration example in which the coating liquid 61 applied with the
また、載置された基板12を保持可能に構成された保持部としてのテーブル43を備えた例について上記したが、本発明における保持部はこれに限定されず、例えば基板12の縁部を挟持して保持する保持部を採用することもできる。この構成では、加熱部は保持部における基板12を挟持する部位を加熱する。また、テーブル43の載置面43aを介して基板12を間接的に加熱する構成例について上記したが、例えば、熱風(温風)を基板12に吹き掛けたり、基板12の近傍にヒータを配設して基板12を直接加熱する構成を採用することもできる。この構成においては、塗液61の温度に45℃を加えた温度以上であって60℃を加えた温度以下の範囲内の所定温度に基板12を加熱する。
Moreover, although the example provided with the table 43 as the holding unit configured to hold the mounted
4 塗膜形成装置
12 基板
15a 正孔輸送層
15b 発光層
42 プリンタ
43 テーブル部
44 加熱
61a,61b 塗液
4 Coating
Claims (6)
前記保持部に保持されている前記処理対象体を前記塗液の温度よりも高い所定温度に加熱する加熱部を備えている塗膜形成装置。 A coating comprising an inkjet discharge unit that discharges a coating liquid for forming a coating film on a processing object, and a holding unit that holds the processing object, so that the coating film can be formed on the processing object. A film forming apparatus comprising:
The coating film forming apparatus provided with the heating part which heats the said process target object hold | maintained at the said holding | maintenance part to the predetermined temperature higher than the temperature of the said coating liquid.
前記加熱部は、前記所定温度が前記塗液の温度に45℃を加えた温度以上であって60℃を加えた温度以下の範囲内となるように前記保持部の前記載置面を加熱する請求項1記載の塗膜形成装置。 The holding unit is configured by a mounting table for mounting and holding the processing object on a mounting surface,
The heating unit heats the mounting surface of the holding unit so that the predetermined temperature is not less than a temperature obtained by adding 45 ° C. to the temperature of the coating liquid and not more than a temperature obtained by adding 60 ° C. The coating film forming apparatus according to claim 1.
前記保持部に保持されている前記処理対象体を前記塗液の温度よりも高い所定温度に加熱し、当該所定温度に加熱している状態の前記処理対象体に対して前記塗液を吐出して前記塗膜を形成する塗膜形成方法。 A coating film forming method for forming a coating film on a processing object by discharging a coating liquid for forming a coating film from an inkjet discharge unit to the processing object held in a holding part,
The processing object held in the holding unit is heated to a predetermined temperature higher than the temperature of the coating liquid, and the coating liquid is discharged to the processing object in a state of being heated to the predetermined temperature. A coating film forming method for forming the coating film.
前記所定温度が前記塗液の温度に45℃を加えた温度以上であって60℃を加えた温度以下の範囲内となるように前記保持部の前記載置面を加熱する請求項4記載の塗膜形成方法。 Using the mounting table for mounting and holding the processing object on the mounting surface as the holding unit,
5. The mounting surface according to claim 4, wherein the mounting surface is heated so that the predetermined temperature is not less than a temperature obtained by adding 45 ° C. to a temperature of the coating liquid and not more than a temperature obtained by adding 60 ° C. 5. Coating film forming method.
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| JP2003035814A (en) * | 2001-07-24 | 2003-02-07 | Toppan Printing Co Ltd | Color filters for display devices |
| JP2004111278A (en) * | 2002-09-19 | 2004-04-08 | Dainippon Printing Co Ltd | Method and apparatus for manufacturing organic EL display device and color filter by inkjet method |
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- 2007-03-20 JP JP2007072508A patent/JP2008234984A/en active Pending
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