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JP2008203345A - Method of manufacturing liquid crystal film - Google Patents

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JP2008203345A
JP2008203345A JP2007036785A JP2007036785A JP2008203345A JP 2008203345 A JP2008203345 A JP 2008203345A JP 2007036785 A JP2007036785 A JP 2007036785A JP 2007036785 A JP2007036785 A JP 2007036785A JP 2008203345 A JP2008203345 A JP 2008203345A
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Japan
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liquid crystal
drying
film
substrate film
gas
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JP2007036785A
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Inventor
Toshikazu Kiyohara
稔和 清原
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SHIN NISSEKI EKISHO FILM KK
Original Assignee
SHIN NISSEKI EKISHO FILM KK
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a liquid crystal film by which the variation of the optical characteristics in the liquid crystal film is satisfactorily suppressed. <P>SOLUTION: The method of manufacturing the liquid crystal film includes a coating step for applying a liquid crystal polymer solution 22 on an aligning substrate film 20 and a drying step for drying by passing the aligning substrate film 20 on which the liquid crystal polymer solution 22 is applied successively into adjacent drying furnaces 31a, 31b, 31C while introducing a gas for drying the solution into the respective drying furnaces 31a, 31b, 31c to dry the solution. In the drying step, the discharge quantity of a gas discharged from the drying furnaces 31a, 31b, 31c is controlled so that the pressure difference among the drying furnaces 31a, 31b and 31c reaches zero. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶フィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a liquid crystal film.

液晶ディスプレイ(Liquid CrystalDisplay; LCD)には、コントラストや視野角の改良のために液晶フィルムが利用されている。この液晶フィルムにおいては、光学的異方性を持たせるために液晶分子を所定の方向に配向させることが必要である。その方法として一般に、液晶層の下地層となる配向基板フィルムの表面を、レーヨン等の繊維からなるラビング布が巻かれたラビングロールを軽く接触させて一定方向(ラビング方向)に沿って擦るラビング処理が採用されている。このラビング処理工程の後、液晶ポリマーを含む溶液を配向基板フィルム上に塗布する塗布工程、溶液を乾燥させて溶媒を揮発させる乾燥工程、加熱して液晶相を発現させる熱処理工程を経て、液晶分子がラビング方向に配向した液晶層を配向基板フィルム上に得ることができる。こうして液晶フィルムが得られる。   Liquid crystal displays (LCDs) use liquid crystal films to improve contrast and viewing angle. In this liquid crystal film, it is necessary to align liquid crystal molecules in a predetermined direction in order to have optical anisotropy. In general, the rubbing process in which the surface of the alignment substrate film, which is the base layer of the liquid crystal layer, is rubbed along a certain direction (rubbing direction) by lightly contacting a rubbing roll wound with a rubbing cloth made of fiber such as rayon. Is adopted. After this rubbing treatment step, liquid crystal molecules are applied through a coating step in which a solution containing a liquid crystal polymer is applied onto the alignment substrate film, a drying step in which the solution is dried to volatilize the solvent, and a heat treatment step in which the liquid crystal phase is developed by heating. Can be obtained on the alignment substrate film. A liquid crystal film is thus obtained.

ところで、液晶フィルムは通常、数百メートルの長さの長尺状に製造される。そのため、上記乾燥工程では、液晶ポリマーの溶液が塗布された長尺状の配向基板フィルムを乾燥炉内で連続的に移動させ、液晶ポリマー溶液の乾燥を配向基板フィルムの一端部から他端部まで順次行っている。この際、液晶ポリマー溶液が塗布された長尺状の配向基板フィルムは、高精度に且つ均一に乾燥させる目的で、一般的に相互に隣接する複数の乾燥炉に通される。ここで、各乾燥炉では、温度や熱風の送風量等をそれぞれ個別に制御することが可能となっており、各乾燥炉ごとに異なる乾燥条件が設定される。このように乾燥を行うことで、高精度に且つ均一に、液晶ポリマー溶液が塗布された配向基板フィルムの乾燥を行うことができる。   By the way, the liquid crystal film is usually manufactured in a long shape with a length of several hundred meters. Therefore, in the drying step, the elongated alignment substrate film coated with the liquid crystal polymer solution is continuously moved in a drying furnace, and the drying of the liquid crystal polymer solution is performed from one end to the other end of the alignment substrate film. It goes sequentially. At this time, the long alignment substrate film coated with the liquid crystal polymer solution is generally passed through a plurality of drying ovens adjacent to each other for the purpose of drying with high accuracy and uniformity. Here, in each drying furnace, it is possible to individually control the temperature, the blowing amount of hot air, and the like, and different drying conditions are set for each drying furnace. By drying in this way, the alignment substrate film coated with the liquid crystal polymer solution can be dried with high accuracy and uniformity.

一般にフィルム状やシート状の基材に塗布した塗膜を乾燥させる装置として熱風乾燥装置が広く使われている。この種の乾燥装置は被乾燥基材が通過する乾燥空間とその前後端に該基材が出入りする乾燥炉入口および出口を備え、乾燥空間に通常は熱風を供給する手段、排気手段、さらに装置内の温度の制御手段を備えている。   In general, a hot-air drying apparatus is widely used as an apparatus for drying a coating film applied to a film-like or sheet-like substrate. This type of drying apparatus includes a drying space through which a substrate to be dried passes, a drying furnace inlet and outlet through which the substrate enters and exits at the front and rear ends thereof, means for normally supplying hot air to the drying space, exhaust means, and further apparatus Inside temperature control means is provided.

このような熱風乾燥装置よって乾燥を行う際、乾燥装置の内外に差圧があると炉出入口において差圧起因の気流が発生し、特に未乾燥状態の塗膜が通過する炉入口における気流が塗膜に悪影響を及ぼす。そこで、炉内外の差圧を検出するセンサを設け、その検出値に基づいて給・排気量を調節することにより差圧起因の気流を抑制していた(特許文献1)。
特開2004−144433号公報
When drying with such a hot air drying device, if there is a differential pressure inside and outside the drying device, an air flow caused by the differential pressure is generated at the entrance of the furnace, and in particular, the air flow at the entrance of the furnace through which the undried coating film passes is applied. Adversely affects the membrane. Therefore, a sensor for detecting the pressure difference inside and outside the furnace is provided, and the air flow caused by the pressure difference is suppressed by adjusting the supply / exhaust amount based on the detected value (Patent Document 1).
JP 2004-144433 A

しかしながら、本発明者らは、上述のように、配向基板フィルムに塗布した液晶ポリマー溶液の乾燥を複数の乾燥炉で行う場合、以下の課題が生じることを見出した。   However, the present inventors have found that the following problems arise when the liquid crystal polymer solution applied to the alignment substrate film is dried in a plurality of drying furnaces as described above.

即ち、上記のように液晶ポリマー溶液の乾燥を行う場合、隣接する乾燥炉間に圧力差が生じると、各乾燥炉においては、配向基板フィルムを通すための開口が形成されているため、その開口を通して、隣接する乾燥炉間で気体が移動する。このため、各乾燥炉における実際の乾燥条件が、予め設定した乾燥条件と異なることとなり、それが乾燥ムラ(膜厚の不均一さ)を生じさせ、得られる液晶フィルムの視野角特性の改善や色補償等の光学特性にばらつきが生じてしまうことを本発明者らは見出した。   That is, when the liquid crystal polymer solution is dried as described above, if a pressure difference occurs between adjacent drying furnaces, an opening for passing the alignment substrate film is formed in each drying furnace. Gas moves between adjacent drying ovens. For this reason, the actual drying conditions in each drying furnace are different from the preset drying conditions, which causes drying unevenness (non-uniform film thickness) and improves the viewing angle characteristics of the obtained liquid crystal film. The present inventors have found that optical characteristics such as color compensation vary.

従って、本発明の目的は、液晶フィルムにおける光学特性のばらつきを十分に低減できる液晶フィルムの製造方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing a liquid crystal film that can sufficiently reduce variations in optical properties of the liquid crystal film.

上記課題を解決するため、本発明に係る液晶フィルムの製造方法は、配向基板フィルムに液晶ポリマーの溶液を塗布する溶液塗布工程と、溶液が塗布された配向基板フィルムを、相互に隣接する複数の乾燥炉に順次通し、複数の乾燥炉のそれぞれにおいて溶液を乾燥させるためのガスを導入し複数の乾燥炉のそれぞれからガスを排出させることによって溶液を乾燥させる乾燥工程とを含み、乾燥工程において、複数の乾燥炉間の圧力差を0に近づけるように、複数の乾燥炉のそれぞれに対するガスの導入量、および複数の乾燥炉から排出されるガスの排出量のうち少なくともいずれか一方を制御することを特徴とする。   In order to solve the above problems, a method for producing a liquid crystal film according to the present invention includes a solution coating step of applying a liquid crystal polymer solution to an alignment substrate film, and a plurality of adjacent alignment substrate films coated with the solution. A drying step of sequentially passing through the drying oven, introducing a gas for drying the solution in each of the plurality of drying ovens, and drying the solution by discharging the gas from each of the plurality of drying ovens, Control at least one of the amount of gas introduced into each of the plurality of drying furnaces and the amount of gas discharged from the plurality of drying furnaces so that the pressure difference between the plurality of drying furnaces approaches zero. It is characterized by.

本発明に係る液晶フィルムの製造方法によれば、液晶ポリマーの溶液が塗布された配向基板フィルムが、相互に隣接する複数の乾燥炉に順次通され、複数の乾燥炉のそれぞれにおいて液晶ポリマーの溶液を乾燥させるためのガスが導入され複数の乾燥炉のそれぞれからガスが排出され、これによって溶液が乾燥される。そして、このとき、複数の乾燥炉間の圧力差を0に近づけるように複数の乾燥炉のそれぞれに対するガスの導入量、および複数の乾燥炉から排出されるガスの排出量のうち少なくともいずれか一方が制御されている。そのため、そのような制御がされていない場合と比較して、隣接する乾燥炉間の気体の移動量は十分に減少されるか、又は実質的に0となる。このため、各乾燥炉において、隣りの乾燥炉から侵入するガスによって、実際の乾燥条件が予め設定した乾燥条件から変動することが十分に防止される。その結果、液晶ポリマー溶液の乾燥ムラが十分に防止される。   According to the method for producing a liquid crystal film according to the present invention, the alignment substrate film coated with the liquid crystal polymer solution is sequentially passed through a plurality of drying ovens adjacent to each other, and the liquid crystal polymer solution in each of the plurality of drying ovens. A gas for drying is introduced and discharged from each of the plurality of drying furnaces, thereby drying the solution. At this time, at least one of the amount of gas introduced into each of the plurality of drying furnaces and the amount of gas discharged from the plurality of drying furnaces so that the pressure difference between the plurality of drying furnaces approaches zero. Is controlled. Therefore, compared with the case where such control is not performed, the amount of gas movement between adjacent drying furnaces is sufficiently reduced or substantially zero. For this reason, in each drying furnace, the actual drying conditions are sufficiently prevented from fluctuating from the preset drying conditions due to the gas entering from the adjacent drying furnace. As a result, drying unevenness of the liquid crystal polymer solution is sufficiently prevented.

また、本発明に係る液晶フィルムの製造方法では、上記乾燥工程において、複数の乾燥炉間の圧力差を0に近づけるように、複数の乾燥炉から排出されるガスの排出量のみを制御することが好ましい。   In the method for producing a liquid crystal film according to the present invention, in the drying step, only the amount of gas discharged from the plurality of drying furnaces is controlled so that the pressure difference between the plurality of drying furnaces approaches zero. Is preferred.

各乾燥炉における乾燥条件は、主に各乾燥炉内に導入されるガスの温度と導入量で決定される。そのため、上述のように複数の乾燥炉から排出されるガスの排出量のみで、隣接する乾燥炉間の圧力差を制御すると、各乾燥炉における乾燥条件に与える影響をより小さくすることができる。   The drying conditions in each drying furnace are mainly determined by the temperature and amount of gas introduced into each drying furnace. Therefore, if the pressure difference between adjacent drying furnaces is controlled only by the amount of gas discharged from a plurality of drying furnaces as described above, the influence on the drying conditions in each drying furnace can be further reduced.

本発明によれば、液晶フィルムにおける光学特性のばらつきを十分に低減できる液晶フィルムの製造方法が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the liquid crystal film which can fully reduce the dispersion | variation in the optical characteristic in a liquid crystal film is provided.

以下に、本発明の実施形態について、添付図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図面において、同一の要素は、同一の符号を用いて表す。また、図面中の構成要素内及び構成要素間の寸法比率は、図示のものに限られない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the same elements are denoted by the same reference numerals. Moreover, the dimensional ratio in the component in a drawing and between components is not restricted to what is illustrated.

まず本発明に係る液晶フィルムの製造方法の第1実施形態について図1を参照して詳細に説明する。図1の(a)〜(f)は、本実施形態に係る液晶フィルムの製造方法の一連の工程図である。   First, a first embodiment of a method for producing a liquid crystal film according to the present invention will be described in detail with reference to FIG. (A)-(f) of Drawing 1 is a series of process drawings of the manufacturing method of the liquid crystal film concerning this embodiment.

はじめに、本実施形態に係る液晶フィルムの製造方法で得られる液晶フィルム30について説明する。   First, the liquid crystal film 30 obtained by the liquid crystal film manufacturing method according to the present embodiment will be described.

図1の(f)に示すように、液晶フィルム30は、透明基板フィルム26の上に、接着剤層24、液晶層23、オーバーコート層28及び保護フィルム29を順次積層するようにして構成されている。   As shown in FIG. 1 (f), the liquid crystal film 30 is configured such that an adhesive layer 24, a liquid crystal layer 23, an overcoat layer 28 and a protective film 29 are sequentially laminated on a transparent substrate film 26. ing.

液晶フィルム30は以下のようにして製造される。   The liquid crystal film 30 is manufactured as follows.

即ち、図1に示すように、液晶フィルム30は、主として、ラビング装置10によって配向基板フィルム20の表面にラビング処理を施すラビング工程(図1の(a)参照)、ラビング処理した配向基板フィルム20の表面に液晶ポリマーの溶液22を塗布する塗布工程(図1の(b)参照)、液晶ポリマーの溶液22を乾燥させる乾燥工程(図1の(c)参照)、乾燥後の液晶ポリマーの溶液22を加熱して液晶相を発現させ、液晶層23を得る熱処理工程(図1の(d)参照)、液晶層23と透明基板フィルム26とを接着剤層24を介して貼り合わせた後、配向基板フィルム20を液晶層23から剥がし、液晶層23を配向基板フィルム20から透明基板フィルム26に転写する転写工程(図1の(e)参照)及び、液晶層23の透明基板フィルム26側とは反対側の面に、オーバーコート層28及び保護フィルム29を貼り合わせ、液晶フィルム30を得る保護層形成工程(図1の(f)参照)を経ることによって得られる。   That is, as shown in FIG. 1, the liquid crystal film 30 includes a rubbing process (see FIG. 1A) in which the surface of the alignment substrate film 20 is mainly rubbed by the rubbing apparatus 10, and the alignment substrate film 20 that has been rubbed. A coating step (see FIG. 1B) for applying a liquid crystal polymer solution 22 to the surface of the substrate, a drying step for drying the liquid crystal polymer solution 22 (see FIG. 1C), and a liquid crystal polymer solution after drying. 22 is heated to develop a liquid crystal phase to obtain a liquid crystal layer 23 (see FIG. 1 (d)), and the liquid crystal layer 23 and the transparent substrate film 26 are bonded to each other through the adhesive layer 24. The alignment substrate film 20 is peeled from the liquid crystal layer 23, the transfer step (see FIG. 1E) for transferring the liquid crystal layer 23 from the alignment substrate film 20 to the transparent substrate film 26, and the transparency of the liquid crystal layer 23. The plate film 26 side on the opposite side, bonded to the overcoat layer 28 and the protective film 29 is obtained by passing through the protective layer forming step of obtaining a liquid crystal film 30 (of FIG. 1 (f) refer) to.

以下、各工程について詳細に説明する。   Hereinafter, each step will be described in detail.

(ラビング工程)   (Rubbing process)

まずラビング工程について説明する。ラビング工程は、上述したように、ラビング装置10によって配向基板フィルム20の表面にラビング処理を施す工程である。   First, the rubbing process will be described. As described above, the rubbing process is a process in which the rubbing apparatus 10 performs a rubbing process on the surface of the alignment substrate film 20.

ここで、配向基板フィルム20は、その表面をラビング処理することによって、その表面上に液晶層23を形成した際に液晶層23内の液晶分子の配向方向を、配向基板フィルム20の面内に配向させることが可能なものであれば特に限定されない。このような配向基板フィルム20の材質としては、例えば、ポリイミド、エポキシ樹脂、フェノール樹脂などの熱硬化性樹脂、ナイロンなどのポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリケトン、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリ(メタ)アクリレート、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂及びポリビニルアルコールなどの熱可塑性樹脂などが挙げられるが、特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリフェニレンサルファイド、PEEK、ポリビニルアルコールなどの熱可塑性樹脂は、後工程における液晶相を発現させるための加熱によってラビング処理の効果が消滅又は減少する恐れがなく、好ましい。   Here, the alignment substrate film 20 is subjected to rubbing treatment on the surface thereof, so that when the liquid crystal layer 23 is formed on the surface, the alignment direction of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 23 is in the plane of the alignment substrate film 20. There is no particular limitation as long as it can be oriented. Examples of the material of the alignment substrate film 20 include thermosetting resins such as polyimide, epoxy resin, and phenol resin, polyamide such as nylon, polyether imide, polyether ketone, polyether ether ketone (PEEK), and polyketone. , Polyethersulfone, Polyphenylene sulfide, Polyphenylene oxide, Polyethylene terephthalate, Polyethylene terephthalate, Polyethylene naphthalate, Polybutylene terephthalate and other polyesters, Polyacetal, Polycarbonate, Poly (meth) acrylate, Cellulose resins such as triacetyl cellulose, Thermoplastics such as polyvinyl alcohol Resins etc. are mentioned, but in particular polyethylene terephthalate, polyphenylene sulfide, PEEK, polyvinyl alcohol Thermoplastic resins, such as, there is no possibility that disappear or decrease the effect of the rubbing treatment by heating to a liquid crystal phase to be developed in a subsequent step, preferred.

図2は、配向基板フィルム20に対してラビング処理するラビング装置10を示す斜視図である。図2に示すように、ラビング装置10は、例えば円柱状をなすロール本体1a及びロール本体1aの外周面に沿って巻かれるラビング布2を有するラビングロール1を備えている。ここで、ロール本体1aは、その中心軸を回転軸として、モータ等の駆動機構(図示せず)によって回転可能となっている。   FIG. 2 is a perspective view showing the rubbing apparatus 10 for rubbing the oriented substrate film 20. As shown in FIG. 2, the rubbing apparatus 10 includes a rubbing roll 1 having a roll body 1a having a columnar shape and a rubbing cloth 2 wound along the outer peripheral surface of the roll body 1a. Here, the roll body 1a can be rotated by a drive mechanism (not shown) such as a motor with the central axis as a rotation axis.

上記ラビング装置10を用いて配向基板フィルム20のラビング処理を行う場合、ラビング装置10は、例えば、ラビングロール1の回転軸が配向基板フィルム20の搬送方向(矢印A方向)と直交するように配置する。   When the rubbing treatment of the alignment substrate film 20 is performed using the rubbing device 10, the rubbing device 10 is disposed, for example, so that the rotation axis of the rubbing roll 1 is orthogonal to the conveyance direction (arrow A direction) of the alignment substrate film 20. To do.

そして、搬送装置(図示せず)によって、配向基板フィルム20をガイドロール25上で図2の矢印A方向に一定速度で搬送させた状態で、ラビングロール1を回転させる。このときのラビングロール1の回転方向は、ラビングロール1と配向基板フィルム20とが接触する位置で、配向基板フィルム20の搬送方向と同一となる方向にする。   Then, the rubbing roll 1 is rotated in a state where the oriented substrate film 20 is conveyed on the guide roll 25 in the direction of arrow A in FIG. 2 at a constant speed by a conveying device (not shown). The rotating direction of the rubbing roll 1 at this time is set to the same direction as the conveying direction of the oriented substrate film 20 at a position where the rubbing roll 1 and the oriented substrate film 20 are in contact with each other.

これにより、配向基板フィルム20の表面は、ラビング布2によって配向基板フィルム20の搬送方向と同一方向に擦られる。   Thereby, the surface of the oriented substrate film 20 is rubbed in the same direction as the transport direction of the oriented substrate film 20 by the rubbing cloth 2.

この処理により、後の工程で配向基板フィルム20の表面に液晶層23を形成した際に、液晶層23の液晶分子の長手方向を、配向基板フィルム20の面に平行な面内であって、ラビング処理を行った方向に向かせることができる。   By this treatment, when the liquid crystal layer 23 is formed on the surface of the alignment substrate film 20 in a later step, the longitudinal direction of the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 23 is in a plane parallel to the surface of the alignment substrate film 20, The direction can be directed to the rubbing process.

(塗布工程)   (Coating process)

次に、ラビング工程後に行われる塗布工程について説明する。塗布工程は、図1の(b)に示すように、上記ラビング工程においてラビング処理された配向基板フィルム20上に、液晶ポリマーの溶液22を塗布する工程である。   Next, the coating process performed after the rubbing process will be described. As shown in FIG. 1B, the coating step is a step of coating a liquid crystal polymer solution 22 on the alignment substrate film 20 that has been rubbed in the rubbing step.

液晶ポリマーの溶液22は、ネマティック液晶、スメクティック液晶、コレステリック液晶、ディスコティック液晶等のサーモトロピック液晶のポリマーを、適当な溶剤に溶解した溶液である。この液晶ポリマーは、例えば、カルボン酸基、アルコール基、フェノール基、アミノ基、チオール基などを有する化合物を縮合させて成る縮合系液晶ポリマー、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など二重結合を有する液晶性化合物などを原料として得られる液晶性ビニルポリマー、アルコキシシラン基を有する液晶化合物などから合成される液晶性ポリシロキサン、エポキシ基を有する液晶性化合物などから合成される液晶性エポキシ樹脂、又は上記液晶ポリマーの混合物を用いることができる。これらの各種液晶ポリマーの中でも、得られる液晶フィルムの光学特性などの点から縮合系液晶ポリマーが最も好ましい。   The liquid crystal polymer solution 22 is a solution obtained by dissolving a polymer of a thermotropic liquid crystal such as a nematic liquid crystal, a smectic liquid crystal, a cholesteric liquid crystal, or a discotic liquid crystal in an appropriate solvent. This liquid crystal polymer is, for example, a condensed liquid crystal polymer obtained by condensing a compound having a carboxylic acid group, an alcohol group, a phenol group, an amino group, a thiol group, etc., an acryloyl group, a methacryloyl group, a vinyl group, an allyl group, etc. Liquid crystalline vinyl polymer obtained from a liquid crystalline compound having a bond, a liquid crystalline polysiloxane synthesized from a liquid crystalline compound having an alkoxysilane group, a liquid crystalline epoxy resin synthesized from a liquid crystalline compound having an epoxy group, etc. Alternatively, a mixture of the above liquid crystal polymers can be used. Among these various liquid crystal polymers, condensed liquid crystal polymers are most preferable from the viewpoint of the optical characteristics of the liquid crystal film obtained.

液晶ポリマーの溶液22の溶剤としては、上記液晶ポリマーを溶解可能なものであれば特に限定されないが、例えば、一般的にアセトン、メチルエチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンなどのケトン類、ブトキシエチルアルコール、ヘキシルオキシエチルアルコール、メトキシ−2−プロパノール、ベンジルオキシエタノールなどのエーテルアルコール類、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどのグリコールエーテル類、酢酸エチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトンなどのエステル類、フェノール、クロロフェノールなどのフェノール類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドンなどのアミド類、クロロホルム、テトラクロロエタン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系などやこれらの混合系が好ましく用いられる。また、配向基板フィルム20上に均一な塗膜を形成するために、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤などを溶液に添加してもよい。   The solvent of the liquid crystal polymer solution 22 is not particularly limited as long as it can dissolve the above liquid crystal polymer. For example, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, isophorone, cyclohexanone, butoxyethyl alcohol, hexyloxyethyl are generally used. Alcohols, ether alcohols such as methoxy-2-propanol and benzyloxyethanol, glycol ethers such as ethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol dimethyl ether, esters such as ethyl acetate, ethyl lactate and γ-butyrolactone, phenols such as phenol and chlorophenol Amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, chloroform, tetrachloroethane, di Halogen-like or a mixture of these systems, such as chlorobenzene is preferably used. Moreover, in order to form a uniform coating film on the oriented substrate film 20, a surfactant, an antifoaming agent, a leveling agent, and the like may be added to the solution.

この塗布工程では、上述の液晶ポリマーの溶液22を、ロールコータ等の塗布機を用いて、配向基板フィルム20のラビング処理を行った表面に対して通常、配向基板フィルム20の長手方向に連続的に膜厚が均一になるように塗布する。塗布された液晶ポリマーの溶液22の膜厚は、例えば、0.1〜50μm、好ましくは5〜30μmとすればよい。   In this coating step, the above-described liquid crystal polymer solution 22 is usually continuous in the longitudinal direction of the alignment substrate film 20 with respect to the surface on which the alignment substrate film 20 has been rubbed using a coating machine such as a roll coater. It is applied so that the film thickness is uniform. The film thickness of the applied liquid crystal polymer solution 22 is, for example, 0.1 to 50 μm, preferably 5 to 30 μm.

(乾燥工程)   (Drying process)

乾燥工程は、図1の(c)に示すように、液晶ポリマーの溶液22を加熱し、その表面に塗布された液晶ポリマーの溶液22を乾燥させ、その溶剤を気化させる工程である。この工程においては、図3に示すように、乾燥ユニット31で液晶ポリマーの溶液22の乾燥を行う。   In the drying step, as shown in FIG. 1C, the liquid crystal polymer solution 22 is heated, the liquid crystal polymer solution 22 applied to the surface is dried, and the solvent is vaporized. In this step, as shown in FIG. 3, the liquid crystal polymer solution 22 is dried by the drying unit 31.

ここで、乾燥ユニット31について詳細に説明する。   Here, the drying unit 31 will be described in detail.

乾燥ユニット31は、複数の乾燥炉31a、31b、31cを備えている。複数の乾燥炉31a、31b、31cは相互に隣接しており、配向基板フィルム20の搬送方向(矢印A方向)に沿って直列に配置されている。各乾燥炉31a、31b、31cは、液晶ポリマーの溶液22が塗布された配向基板フィルム20を通過させるためのスリット状の開口33が形成され、各乾燥炉31a、31b、31cにおける開口33も配向基板フィルム20の搬送方向(矢印A方向)に沿って直列に配置されている。   The drying unit 31 includes a plurality of drying furnaces 31a, 31b, and 31c. The plurality of drying furnaces 31a, 31b, 31c are adjacent to each other, and are arranged in series along the transport direction (direction of arrow A) of the alignment substrate film 20. Each drying furnace 31a, 31b, 31c has a slit-like opening 33 through which the alignment substrate film 20 coated with the liquid crystal polymer solution 22 is passed, and the opening 33 in each drying furnace 31a, 31b, 31c is also aligned. It arrange | positions in series along the conveyance direction (arrow A direction) of the board | substrate film 20. As shown in FIG.

また、各乾燥炉31a、31b、31cにはそれぞれ、液晶ポリマーの溶液22を乾燥させるためのガスを導入する筒状のガス導入部32a、32b、32cが設けられ、ガス導入部32a、32b、32cは、配向基板フィルム20に対し、液晶ポリマーの溶液22が塗布された表面側に配置されるようになっている。なお、図3において、配向基板フィルム20に対し、液晶ポリマーの溶液22が塗布されたフィルムについては符号20Aを付してあり、フィルム20Aにおいては、配向基板フィルム20がガス導入部32a,32b,32cと反対側に配置され、液晶ポリマーの溶液22がガス導入部32a,32b,32c側に配置されている。   Also, each of the drying furnaces 31a, 31b, 31c is provided with cylindrical gas introduction portions 32a, 32b, 32c for introducing a gas for drying the liquid crystal polymer solution 22, and the gas introduction portions 32a, 32b, 32 c is arranged on the surface side of the alignment substrate film 20 on which the liquid crystal polymer solution 22 is applied. In FIG. 3, reference numeral 20 </ b> A is given to the film in which the liquid crystal polymer solution 22 is applied to the alignment substrate film 20. The liquid crystal polymer solution 22 is arranged on the gas introduction part 32a, 32b, 32c side.

筒状のガス導入部32a、32b、32c内にはそれぞれ送風手段40a、40b、40cが設けられ、ガス導入部32a、32b、32cには加熱手段41a、41b、41cが設けられている。即ち、ガス導入部32aには、送風手段40a及び加熱手段41aが設けられ、ガス導入部32bには、送風手段40b及び加熱手段41bが設けられ、ガス導入部32cには、送風手段40c及び加熱手段41cが設けられている。ここで、加熱手段41a、41b、41cはそれぞれ、送風手段40a、40b、40cよりも乾燥炉31a、31b、31cに近い位置に設けられている。送風手段40a、40b、40cは、各乾燥炉31a、31b、31cの外部の空気を各乾燥炉31a、31b、31c内に送り込む機能を有し、送風手段40a、40b、40cによって送り込まれた空気は、加熱手段41a、41b、41cで加熱された後に、乾燥ガス38a、38b、38cとして各乾燥炉31a、31b、31c内に導入される。この際、送風手段40a、40b、40cはそれぞれ独立にその送風量の制御が可能であるため、乾燥ガス38a、38b、38cの導入量は、それぞれ独立に制御が可能である。また、加熱手段41a、41b、41cもそれぞれ独立に空気の加熱量の制御が可能であるため、乾燥ガス38a、38b、38cの温度は、それぞれ独立に制御が可能である。   Air blowers 40a, 40b, and 40c are provided in the cylindrical gas inlets 32a, 32b, and 32c, respectively, and heating means 41a, 41b, and 41c are provided in the gas inlets 32a, 32b, and 32c, respectively. That is, the gas introduction part 32a is provided with the blowing means 40a and the heating means 41a, the gas introduction part 32b is provided with the blowing means 40b and the heating means 41b, and the gas introduction part 32c is provided with the blowing means 40c and the heating means. Means 41c are provided. Here, the heating means 41a, 41b, and 41c are provided at positions closer to the drying furnaces 31a, 31b, and 31c than the blowing means 40a, 40b, and 40c, respectively. The air blowing means 40a, 40b, 40c have a function of sending air outside the respective drying furnaces 31a, 31b, 31c into the respective drying furnaces 31a, 31b, 31c, and the air sent by the air blowing means 40a, 40b, 40c. After being heated by the heating means 41a, 41b, 41c, they are introduced into the drying furnaces 31a, 31b, 31c as the drying gases 38a, 38b, 38c. At this time, since the blowing means 40a, 40b, and 40c can independently control the blowing amount, the introduction amounts of the dry gases 38a, 38b, and 38c can be independently controlled. In addition, since the heating means 41a, 41b, and 41c can independently control the heating amount of air, the temperatures of the drying gases 38a, 38b, and 38c can be independently controlled.

送風手段40a、40b、40cとしては、例えばファンを用いることができ、その回転数をインバータ制御することにより、乾燥ガス38a、38b、38cの送風量を制御することができる。また、加熱手段41a、41b、41cとしては、例えば電気ヒータ、オイルヒータ、スチームヒータなどを用いることができ、その通電量などを制御することにより、乾燥ガス38a、38b、38cの温度を制御することができる。   For example, a fan can be used as the air blowing means 40a, 40b, and 40c, and the air flow rate of the dry gas 38a, 38b, and 38c can be controlled by controlling the rotation speed of the fan. Moreover, as the heating means 41a, 41b, 41c, for example, an electric heater, an oil heater, a steam heater or the like can be used, and the temperature of the dry gas 38a, 38b, 38c is controlled by controlling the energization amount. be able to.

一方、各乾燥炉31a、31b、31c内には、それぞれの内部からガスを排出させるための筒状のガス排出部36a、36b、36cが設けられている。ガス排出部36a、36b、36cは、配向基板フィルム20に対し、液晶ポリマーの溶液22が塗布された表面側に配置されていてもよいが、ガスの排出を容易にするという観点からは、その表面と反対側に配置される方が好ましい。ガス排出部36a、36b、36c内にはそれぞれ排出手段43a、43b、43cが設けられ、排出手段43a、43b、43cは、各乾燥炉31a、31b、31c内の気体をガス排出部36a、36b、36cを通して外部に排出ガス39a、39b、39cとして排出する機能を有している。この際、排出手段43a、43b、43cは、それぞれ独立に、乾燥炉31a,31b,31c内のガスの排出量の制御が可能となっている。   On the other hand, in each drying furnace 31a, 31b, 31c, cylindrical gas discharge portions 36a, 36b, 36c for discharging gas from the inside are provided. The gas discharge portions 36a, 36b, and 36c may be arranged on the surface side of the alignment substrate film 20 on which the liquid crystal polymer solution 22 is applied. From the viewpoint of facilitating gas discharge, It is preferable to arrange on the side opposite to the surface. Discharge means 43a, 43b, and 43c are provided in the gas discharge portions 36a, 36b, and 36c, respectively. , 36c to the outside as exhaust gas 39a, 39b, 39c. At this time, the discharge means 43a, 43b, and 43c can control the discharge amount of the gas in the drying furnaces 31a, 31b, and 31c independently of each other.

排出手段43a、43b、43cとしては、例えばファンを用いることができ、その回転数をインバータ制御等することにより、排出ガス39a、39b、39cの排出量を制御することができる。   As the discharge means 43a, 43b, and 43c, for example, a fan can be used, and the discharge amount of the exhaust gases 39a, 39b, and 39c can be controlled by controlling the rotation speed of the fan with an inverter.

さらに、各乾燥炉31a、31b、31c内には、各乾燥炉31a、31b、31c内の圧力を測定する圧力計35a、35b、35cが設置されている。   Furthermore, pressure gauges 35a, 35b, and 35c for measuring the pressure in each of the drying furnaces 31a, 31b, and 31c are installed in each of the drying furnaces 31a, 31b, and 31c.

次に、上記乾燥ユニット31を用いた乾燥工程について説明する。   Next, a drying process using the drying unit 31 will be described.

まず、各乾燥炉31a、31b、31cを、液晶ポリマーの溶液22の乾燥に適した乾燥条件に設定する。この乾燥条件は、各乾燥炉31a、31b、31cごとに予め決められており、例えば、乾燥炉31aにおいては、送風手段40aによって乾燥ガス38aの導入量を、加熱手段41aによって乾燥ガス38aの温度を制御するとともに、排出手段43aにより排出ガス39aの排出量を制御することにより調整される。乾燥炉31b、31c内においても同様に乾燥条件を調整する。   First, each drying furnace 31a, 31b, 31c is set to a drying condition suitable for drying the liquid crystal polymer solution 22. The drying conditions are determined in advance for each of the drying furnaces 31a, 31b, 31c. For example, in the drying furnace 31a, the amount of the dry gas 38a introduced by the blowing means 40a and the temperature of the dry gas 38a by the heating means 41a are determined. Is adjusted by controlling the discharge amount of the exhaust gas 39a by the discharge means 43a. The drying conditions are similarly adjusted in the drying furnaces 31b and 31c.

この状態で、液晶ポリマーの溶液22が塗布された配向基板フィルム20を、各乾燥炉31a、31b、31cの各開口33に通し、各乾燥炉31a、31b、31cを順次通過させる。これにより、液晶ポリマーの溶液22が乾燥されることとなる。   In this state, the alignment substrate film 20 coated with the liquid crystal polymer solution 22 is passed through the openings 33 of the drying ovens 31a, 31b, 31c, and sequentially passed through the drying ovens 31a, 31b, 31c. Thereby, the liquid crystal polymer solution 22 is dried.

こうして液晶ポリマーの溶液22の乾燥を行っていると、例えば乾燥炉31a内に導入された乾燥ガス38aの一部が、乾燥炉31aの開口33を通して、隣接する乾燥炉31bに侵入する。すると、乾燥炉31bでは、実際の乾燥条件が、予め定められた乾燥条件から変動することとなり、溶液22の乾燥ムラが生じる傾向がある。   When the liquid crystal polymer solution 22 is dried in this way, for example, a part of the drying gas 38a introduced into the drying furnace 31a enters the adjacent drying furnace 31b through the opening 33 of the drying furnace 31a. Then, in the drying furnace 31b, the actual drying condition varies from the predetermined drying condition, and the drying unevenness of the solution 22 tends to occur.

そこで、本実施形態では、各乾燥炉31a、31b、31c内に設置された圧力計35a、35b、35cにより、各乾燥炉31a、31b、31c内の圧力を監視し、隣接する乾燥炉間で圧力差がゼロか否かを確認する。そして、圧力差がゼロでない場合には、圧力差がゼロに近づくように排出ガス39a、39b、39cの排出量を調整し、圧力差がゼロである場合には、ガスの排出量の調整はしないようにする。   Therefore, in this embodiment, the pressure gauges 35a, 35b, and 35c installed in the drying ovens 31a, 31b, and 31c are used to monitor the pressure in each drying oven 31a, 31b, and 31c, and between adjacent drying ovens. Check if the pressure difference is zero. When the pressure difference is not zero, the exhaust gas 39a, 39b, 39c is adjusted so that the pressure difference approaches zero, and when the pressure difference is zero, the gas discharge amount is adjusted. Do not.

例えば、乾燥炉31a内の圧力計35aで測定された圧力Paと、乾燥炉31b内の圧力計35bで測定された圧力Pbとの圧力差Pa−Pbがゼロでない場合(例えば正である場合)には、Pa−Pbがゼロに近づくように、排出手段43aとしてのファンの回転数を上げることによって乾燥炉31a内から排出される排出ガス39aの量を増加させ、Pa−Pbがゼロに近づくようにする。また、乾燥炉31c内の圧力計35cで測定された圧力PcとPbとの圧力差Pb−Pcがゼロでない場合(例えば正である場合)には、Pb−Pcがゼロとなるように、排出手段43bとしてのファンの回転数を上げることによって乾燥炉31bから排出される排出ガス39bの量を増加させ、Pb−Pcがゼロに近づくようにする。   For example, when the pressure difference Pa−Pb between the pressure Pa measured by the pressure gauge 35a in the drying furnace 31a and the pressure Pb measured by the pressure gauge 35b in the drying furnace 31b is not zero (for example, positive). In this case, the amount of exhaust gas 39a exhausted from the drying furnace 31a is increased by increasing the rotation speed of the fan as the exhaust means 43a so that Pa-Pb approaches zero, and Pa-Pb approaches zero. Like that. Further, when the pressure difference Pb-Pc between the pressures Pc and Pb measured by the pressure gauge 35c in the drying furnace 31c is not zero (for example, positive), the discharge is performed so that Pb-Pc becomes zero. The amount of exhaust gas 39b exhausted from the drying furnace 31b is increased by increasing the rotational speed of the fan serving as the means 43b, so that Pb-Pc approaches zero.

このようにすることによって、隣接する乾燥炉31a、31b、31c間の気体の移動量は十分に減少されるか、又は実質的にゼロとなる。このため、乾燥炉31a、31b、31cにおいて、隣の乾燥炉から侵入するガスによって、実際の乾燥条件が予め設定した乾燥条件から変動することが十分に防止される。その結果、液晶ポリマーの溶液22の乾燥ムラが十分に防止される。   By doing so, the amount of gas movement between adjacent drying ovens 31a, 31b, 31c is sufficiently reduced or substantially zero. For this reason, in the drying furnaces 31a, 31b, 31c, the actual drying conditions are sufficiently prevented from fluctuating from the preset drying conditions due to the gas entering from the adjacent drying furnace. As a result, drying unevenness of the liquid crystal polymer solution 22 is sufficiently prevented.

また、乾燥炉31a、31b、31cにおける乾燥条件は、主に乾燥炉31a、31b、31c内へ導入される乾燥ガス38a、38b、38cの温度と導入量で決定される。そのため、本実施形態のように各乾燥炉31a、31b、31cからの排出ガス39a、39b、39cの排出量のみで隣接する乾燥炉間の圧力差を制御すると、排出ガス39a、39b、39cの排出量のみならず乾燥ガス38a、38b、38cの導入量をも制御する場合に比べて、各乾燥炉31a、31b、31cにおける乾燥条件に与える影響をより小さくすることができる。   The drying conditions in the drying furnaces 31a, 31b, 31c are mainly determined by the temperature and the amount of the drying gas 38a, 38b, 38c introduced into the drying furnaces 31a, 31b, 31c. Therefore, if the pressure difference between adjacent drying furnaces is controlled only by the discharge amount of the exhaust gases 39a, 39b, 39c from the respective drying furnaces 31a, 31b, 31c as in the present embodiment, the exhaust gas 39a, 39b, 39c Compared with the case of controlling not only the discharge amount but also the introduction amount of the drying gas 38a, 38b, 38c, the influence on the drying conditions in each of the drying furnaces 31a, 31b, 31c can be further reduced.

本実施形態においては、各乾燥炉31a、31b、31c内に設けられた圧力計35a、35b、35cで測定した圧力値を確認し、乾燥炉間の圧力差がゼロとなるように排出手段43a、43b、43cを操作して排出ガス39a、39b、39cの排出量を調整しているが、圧力計35a、35b、35c及び排出手段43a、43b、43cを制御装置に電気的に接続することもできる。この場合、制御装置は、各乾燥炉31a、31b、31c内に設けられた圧力計35a、35b、35cで測定した圧力値に基づいて、排出手段43a、43b、43cによって排出されるガスの量を調整する。   In the present embodiment, the pressure values measured by the pressure gauges 35a, 35b, and 35c provided in the drying ovens 31a, 31b, and 31c are confirmed, and the discharge means 43a is set so that the pressure difference between the drying ovens becomes zero. , 43b, 43c are operated to adjust the discharge amount of the exhaust gas 39a, 39b, 39c, but the pressure gauges 35a, 35b, 35c and the discharge means 43a, 43b, 43c are electrically connected to the control device. You can also. In this case, the control device determines the amount of gas discharged by the discharge means 43a, 43b, 43c based on the pressure values measured by the pressure gauges 35a, 35b, 35c provided in the drying furnaces 31a, 31b, 31c. Adjust.

また、隣接する乾燥炉間の圧力差は、ゼロに近づくように調整されればよく、実際の圧力差が、通常50Pa以下、好ましくは10Pa以下、さらに好ましくは5Pa以下となれば、隣接する乾燥炉間の気体の移動は実質的に防止できる傾向がある。   Further, the pressure difference between adjacent drying furnaces may be adjusted so as to approach zero, and if the actual pressure difference is usually 50 Pa or less, preferably 10 Pa or less, more preferably 5 Pa or less, the adjacent drying furnace is dried. Gas movement between furnaces tends to be substantially prevented.

(熱処理工程)   (Heat treatment process)

上記乾燥工程の後は、熱処理工程を行う。熱処理工程は、図1の(d)に示すように、乾燥後の液晶ポリマーの溶液22を加熱して液晶相を発現させた後に冷却し、液晶分子が所定の方向に配向した液晶層23を得る工程である。具体的には、配向基板フィルム20を熱処理炉(図示せず)の中を通して搬送し、液晶ポリマーの溶液22の温度が、液晶ポリマーが固体から液晶へ転移する温度(以下、「液晶転移温度」という)以上になるようにした後に冷却する。このとき、冷却は、熱処理炉から排出することにより行えばよい。   After the drying step, a heat treatment step is performed. In the heat treatment step, as shown in FIG. 1 (d), the liquid crystal polymer solution 22 after drying is heated to develop a liquid crystal phase and then cooled to form a liquid crystal layer 23 in which liquid crystal molecules are aligned in a predetermined direction. It is a process to obtain. Specifically, the alignment substrate film 20 is conveyed through a heat treatment furnace (not shown), and the temperature of the liquid crystal polymer solution 22 is a temperature at which the liquid crystal polymer transitions from solid to liquid crystal (hereinafter, “liquid crystal transition temperature”). Cool after the above. At this time, cooling may be performed by discharging from the heat treatment furnace.

液晶転移温度以上に加熱された液晶ポリマーは固相から液晶相に相転移して流動性を有する。そのため、液晶ポリマーは、配向基板フィルム20の表面におけるラビング処理方向に向けて容易に配向する。   A liquid crystal polymer heated to a temperature higher than the liquid crystal transition temperature undergoes phase transition from a solid phase to a liquid crystal phase and has fluidity. Therefore, the liquid crystal polymer is easily aligned in the rubbing direction on the surface of the alignment substrate film 20.

その後、配向基板フィルム20を液晶転移温度以下に冷却すると、液晶ポリマーはガラス状態となって流動性を失い、液晶分子は液晶相での配向状態で固定化される。このようにして、液晶分子が所定の方向に配向した液晶層23が得られる。   Thereafter, when the alignment substrate film 20 is cooled below the liquid crystal transition temperature, the liquid crystal polymer becomes a glass state and loses fluidity, and the liquid crystal molecules are fixed in the alignment state in the liquid crystal phase. In this way, a liquid crystal layer 23 in which liquid crystal molecules are aligned in a predetermined direction is obtained.

(転写工程)   (Transfer process)

上記熱処理工程の後は、転写工程を行う。転写工程は、図1の(e)に示すように、液晶層23と等方性透明基板フィルム26とを接着剤層24を介して貼り合わせた後に、配向基板フィルム20を液晶層23から剥がすことにより、液晶層23を配向基板フィルム20から等方性透明基板フィルム26に転写する工程である。   After the heat treatment step, a transfer step is performed. In the transfer step, as shown in FIG. 1E, the liquid crystal layer 23 and the isotropic transparent substrate film 26 are bonded together via the adhesive layer 24, and then the alignment substrate film 20 is peeled off from the liquid crystal layer 23. Thus, the liquid crystal layer 23 is transferred from the alignment substrate film 20 to the isotropic transparent substrate film 26.

等方性透明基板フィルム26は、光学特性が等方的であり可視光に対して透明な材料で構成されたフィルムであり、最終的な液晶フィルムを支持する機能を有する。この材質は、上記の条件を満たし、適度な平面性を有するものであれば特に制限されないが、例えば、TAC(トリアセチルセルロース)、PET(ポリエチレンテレフタレート)などの他、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、アモルファスポリエチレンなども用いることができる。また、光学的に異方性を有していても、目的とする液晶フィルムの機能に対して問題を与えないものであれば使用することができる。このような例としては、延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムやポリカーボネートなどの位相差フィルムがあげられる。   The isotropic transparent substrate film 26 is a film made of a material having isotropic optical characteristics and transparent to visible light, and has a function of supporting the final liquid crystal film. This material is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions and has an appropriate flatness. For example, in addition to TAC (triacetyl cellulose), PET (polyethylene terephthalate), etc., polymethyl methacrylate, polystyrene, polycarbonate , Polyethersulfone, polyphenylene sulfide, polyarylate, amorphous polyethylene and the like can also be used. Moreover, even if it has optical anisotropy, it can be used as long as it does not give a problem to the function of the target liquid crystal film. Examples of such a film include retardation films such as stretched polyethylene terephthalate film and polycarbonate.

接着剤層24としては、可視光に対する吸収率が十分に小さく、光学的等方性を有しているものが好ましく、例えば、アクリル系、エポキシ系、エチレン−酢酸ビニル共重合体系、ゴム系、ウレタン系、およびこれらの混合系などを用いることができる。また接着剤層24は、熱硬化型、光硬化型、電子線硬化型などのいずれの型の接着剤でも問題なく使用することができる。   The adhesive layer 24 preferably has a sufficiently low absorption rate for visible light and has optical isotropy. For example, an acrylic type, an epoxy type, an ethylene-vinyl acetate copolymer system, a rubber type, Urethane-based and mixed systems thereof can be used. Further, the adhesive layer 24 can be used without any problem with any type of adhesive such as thermosetting, photo-curing, and electron beam curing.

液晶層23からの配向基板フィルム20の剥離方法は、例えば、ロールなどを用いて機械的に剥離する方法、これらの構成材料に対する貧溶媒に浸漬したのち機械的に剥離する方法、貧溶媒中で超音波をあてて剥離する方法、配向基板フィルム20と液晶層23との熱膨張係数の差を利用して温度変化を与えて剥離する方法、配向基板フィルム20自体を溶解除去する方法などを採用することができる。剥離性は、配向基板フィルム20と液晶層23の密着性によって異なるため、液晶層23からの配向基板フィルム20の剥離方法は、上記方法の中から適宜選択される。   The method for peeling the alignment substrate film 20 from the liquid crystal layer 23 is, for example, a method of mechanically peeling using a roll or the like, a method of mechanically peeling after dipping in a poor solvent for these constituent materials, A method of peeling by applying ultrasonic waves, a method of peeling by applying a temperature change using a difference in thermal expansion coefficient between the alignment substrate film 20 and the liquid crystal layer 23, a method of dissolving and removing the alignment substrate film 20 itself, etc. are adopted. can do. Since the peelability varies depending on the adhesion between the alignment substrate film 20 and the liquid crystal layer 23, the method for peeling the alignment substrate film 20 from the liquid crystal layer 23 is appropriately selected from the above methods.

上述のように、液晶層23を配向基板フィルム20から等方性透明基板フィルム26に転写する工程を採用することにより、配向基板フィルム20の材料選択の自由度が増加するという利点がある。即ち、配向基板フィルム20は、液晶分子を配向させうる機能を有すること、及び熱処理工程における耐熱性を有すること等の条件を具備することが必要である。本実施形態のように液晶層23の転写工程を採用すると、配向基板フィルム20に必要な条件が少なくなるため、液晶分子を所望の態様で配向させるために、より適した材料の選択が可能となる。   As described above, by adopting the step of transferring the liquid crystal layer 23 from the alignment substrate film 20 to the isotropic transparent substrate film 26, there is an advantage that the degree of freedom in selecting the material of the alignment substrate film 20 is increased. That is, the alignment substrate film 20 needs to have conditions such as having a function of aligning liquid crystal molecules and heat resistance in the heat treatment step. When the transfer process of the liquid crystal layer 23 is employed as in the present embodiment, the necessary conditions for the alignment substrate film 20 are reduced, so that a more suitable material can be selected to align liquid crystal molecules in a desired manner. Become.

(保護層形成工程)   (Protective layer forming step)

上記転写工程の後は、保護層形成工程を行う。保護層形成工程は、図1の(f)に示すように、液晶層23の等方性透明基板フィルム26側とは反対側の面に、オーバーコート層28及び保護フィルム29を貼り合わせる工程である。   After the transfer step, a protective layer forming step is performed. The protective layer forming step is a step of bonding the overcoat layer 28 and the protective film 29 to the surface of the liquid crystal layer 23 opposite to the isotropic transparent substrate film 26 side, as shown in FIG. is there.

オーバーコート層28は、液晶層23を保護するための層である。オーバーコート層28の材質は、液晶層23を保護するものであれば特に制限されないが、可視光に対する吸収率が十分に小さく、光学的等方性を有しているものが好ましく、例えば、前述の接着剤層24と同様の材質とすることができる。   The overcoat layer 28 is a layer for protecting the liquid crystal layer 23. The material of the overcoat layer 28 is not particularly limited as long as it protects the liquid crystal layer 23. However, a material having a sufficiently low absorption factor for visible light and optical isotropy is preferable. The adhesive layer 24 can be made of the same material.

保護フィルム29は、オーバーコート層28をさらに保護するためのフィルムであり、オーバーコート層28の表面に直接貼られていてもよいし、接着剤を介して貼られていてもよい。保護フィルム29の材質は可視光に対する吸収率が小さく、好ましくは光学的に等方性を有しているものであり、例えば、PET、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、各種のエチレン−ビニルモノマー共重合体、アモルファスポリオレフィン、トリアセチルセルロースなどを用いることができる。これらの材質等からなる保護フィルム29の厚さは、得られる液晶フィルム30の後加工に適用される工程に合わせて適宜選択することができるが、通常は1〜500μm、好ましくは10〜100μmである。   The protective film 29 is a film for further protecting the overcoat layer 28, and may be attached directly to the surface of the overcoat layer 28 or may be attached via an adhesive. The material of the protective film 29 has a low absorption factor for visible light, and preferably has optical isotropy. For example, PET, polymethyl methacrylate, polystyrene, polycarbonate, polyethersulfone, polyphenylene sulfide, Polyarylate, various ethylene-vinyl monomer copolymers, amorphous polyolefin, triacetyl cellulose and the like can be used. The thickness of the protective film 29 made of these materials and the like can be appropriately selected according to the process applied to the post-processing of the liquid crystal film 30 to be obtained, but is usually 1 to 500 μm, preferably 10 to 100 μm. is there.

以上の工程を経ることにより、液晶フィルム30が得られる。こうして液晶フィルム30の製造が完了する。   The liquid crystal film 30 is obtained through the above steps. Thus, the production of the liquid crystal film 30 is completed.

上記のようにして得られる液晶フィルム30において、液晶層23内の液晶分子の配向は精密に制御する必要があるため、乾燥工程中に乾燥ムラが発生して欠陥部分が生じると、例えそれが微細な欠陥部分だとしても最終的に得られる液晶フィルム30の不良に繋がる恐れがある。本実施形態では、乾燥工程中の乾燥条件の変動が十分に防止されるため、液晶ポリマーの溶液22の乾燥ムラが十分に防止される。その結果、最終的に得られる液晶フィルム30の光学特性のばらつきを十分に低減でき、製造の際の歩留まりを向上させることができる。   In the liquid crystal film 30 obtained as described above, since the alignment of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 23 needs to be precisely controlled, if unevenness of drying occurs during the drying process, for example, Even if it is a fine defect part, there exists a possibility of leading to the defect of the liquid crystal film 30 finally obtained. In the present embodiment, fluctuations in the drying conditions during the drying process are sufficiently prevented, so that uneven drying of the liquid crystal polymer solution 22 is sufficiently prevented. As a result, variations in optical characteristics of the finally obtained liquid crystal film 30 can be sufficiently reduced, and the yield in manufacturing can be improved.

本発明は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、乾燥ガス38a、38b、38cの導入は、高圧ガスボンベ内の気体をレギュレータ及び流量調整器で圧力と流量を調整した後、配管によって加熱手段41a,41b,41cに導いて加熱し、さらに配管によって各乾燥炉31a、31b、31c内に導入してもよい。この場合、乾燥ガス38a、38b、38cの導入量は、流量調整器で制御されることになる。これにより、乾燥ユニットの設置されている場所の環境(大気の温度や湿度)が変動しても、乾燥条件に与える影響を低減することができる。また、排出手段43a、43b、43cは、ファンに代えて、ガス排出部43a,43b,43cにそれぞれ接続される真空ポンプ等の吸引装置であってもよい。   The present invention is not limited to the above embodiment. For example, in the introduction of the dry gas 38a, 38b, 38c, after adjusting the pressure and flow rate of the gas in the high pressure gas cylinder with a regulator and a flow rate regulator, the gas is led to the heating means 41a, 41b, 41c by the piping and heated. May be introduced into each drying furnace 31a, 31b, 31c. In this case, the introduction amounts of the dry gases 38a, 38b, and 38c are controlled by the flow rate regulator. Thereby, even if the environment (atmospheric temperature and humidity) of the place where the drying unit is installed fluctuates, the influence on the drying conditions can be reduced. Further, the discharging means 43a, 43b, 43c may be suction devices such as vacuum pumps connected to the gas discharging portions 43a, 43b, 43c, respectively, instead of the fans.

また液晶層23の液晶分子の配向の固定化は、上記実施形態のように液晶転移温度が高いサーモトロピック液晶の相転移を利用する方法に限られず、配向後に光架橋や熱架橋によって配向を固定化してもよい。かかる場合、液晶転移温度が低い液晶ポリマーを使用することが可能である。この場合、上述の熱処理工程に代えて、光架橋や熱架橋を行う工程が行われる。   Further, the fixing of the orientation of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 23 is not limited to the method using the phase transition of the thermotropic liquid crystal having a high liquid crystal transition temperature as in the above embodiment, and the orientation is fixed by photocrosslinking or thermal crosslinking after the orientation. May be used. In such a case, it is possible to use a liquid crystal polymer having a low liquid crystal transition temperature. In this case, instead of the above-described heat treatment step, a step of performing photocrosslinking or thermal crosslinking is performed.

また、配向基板フィルム20が光学的に等方的であり可視光に対して透明な材料であれば、配向基板フィルム20を最終的な液晶フィルムの支持フィルムとすることもできる。即ち、上述の転写工程を省略し、配向基板フィルム20上に、液晶層23、オーバーコート層28、保護フィルム29をこの順に積層して液晶フィルムとすることも可能である。   Further, if the alignment substrate film 20 is a material that is optically isotropic and transparent to visible light, the alignment substrate film 20 can be used as a final support film for a liquid crystal film. That is, the above-described transfer process can be omitted, and the liquid crystal layer 23, the overcoat layer 28, and the protective film 29 can be laminated in this order on the alignment substrate film 20 to form a liquid crystal film.

さらに、液晶フィルム30は、液晶層23の液晶分子を特定の配向状態に固定し、その配向状態から生じる光学異方性を利用したフィルムであれば特に制限はされず、例えば、視野角改良フィルムや色補償フィルムとして利用されるものがあげられる。   Further, the liquid crystal film 30 is not particularly limited as long as it is a film that fixes the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer 23 in a specific alignment state and uses optical anisotropy generated from the alignment state. And those used as color compensation films.

また、上記実施形態では、ラビングロール1の延び方向と配向基板フィルム20の搬送方向とが直交しているが、これらが直交する場合に限られず、鋭角又は鈍角で交差していてもよい。   Moreover, in the said embodiment, although the extending direction of the rubbing roll 1 and the conveyance direction of the orientation board | substrate film 20 are orthogonal, it is not restricted to these, and you may cross | intersect with an acute angle or an obtuse angle.

さらに、液晶フィルム30は、必ずしもオーバーコート層28及び保護層29を有していなくてもよい。したがって、この場合、上述した保護層形成工程は省略してもよい。   Furthermore, the liquid crystal film 30 may not necessarily have the overcoat layer 28 and the protective layer 29. Therefore, in this case, the above-described protective layer forming step may be omitted.

本発明に係る液晶フィルムの製造方法の第1実施形態の一連の製造工程を示す工程図である。It is process drawing which shows a series of manufacturing processes of 1st Embodiment of the manufacturing method of the liquid crystal film which concerns on this invention. 本発明に係る液晶フィルムの製造方法の実施形態で用いるラビング装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the rubbing apparatus used with embodiment of the manufacturing method of the liquid crystal film which concerns on this invention. 本発明に係る液晶フィルムの製造方法の乾燥工程で使用される乾燥炉の概略図である。It is the schematic of the drying furnace used at the drying process of the manufacturing method of the liquid crystal film which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

20…配向基板フィルム、22…液晶ポリマーの溶液、30…液晶フィルム、31…乾燥ユニット、31a,31b,31c…乾燥炉。   20 ... Alignment substrate film, 22 ... Liquid crystal polymer solution, 30 ... Liquid crystal film, 31 ... Drying unit, 31a, 31b, 31c ... Drying furnace.

Claims (2)

配向基板フィルムに液晶ポリマーの溶液を塗布する溶液塗布工程と、
前記溶液が塗布された前記配向基板フィルムを、相互に隣接する複数の乾燥炉に順次通し、前記複数の乾燥炉のそれぞれにおいて前記溶液を乾燥させるためのガスを導入し前記複数の乾燥炉のそれぞれからガスを排出させることによって前記溶液を乾燥させる乾燥工程とを含み、
前記乾燥工程において、前記複数の乾燥炉間の圧力差を0に近づけるように、前記複数の乾燥炉のそれぞれに対するガスの導入量、および前記複数の乾燥炉から排出されるガスの排出量のうち少なくともいずれか一方を制御すること、
を特徴とする液晶フィルムの製造方法。
A solution coating step of coating a liquid crystal polymer solution on the alignment substrate film;
The alignment substrate film coated with the solution is sequentially passed through a plurality of drying furnaces adjacent to each other, and a gas for drying the solution is introduced into each of the plurality of drying furnaces to each of the plurality of drying furnaces. Drying the solution by draining gas from the
Of the amount of gas introduced into each of the plurality of drying furnaces and the amount of gas discharged from the plurality of drying furnaces so that the pressure difference between the plurality of drying furnaces approaches 0 in the drying step Controlling at least one of them,
A method for producing a liquid crystal film.
前記乾燥工程において、前記複数の乾燥炉間の圧力差を0に近づけるように、前記複数の乾燥炉から排出されるガスの排出量のみを制御することを特徴とする請求項1に記載の液晶フィルムの製造方法。
2. The liquid crystal according to claim 1, wherein in the drying step, only a discharge amount of gas discharged from the plurality of drying furnaces is controlled so that a pressure difference between the plurality of drying furnaces approaches zero. A method for producing a film.
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