JP2008201769A - ベンゾフルオレン化合物及びその用途 - Google Patents
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Abstract
Description
以下、本発明に関し詳細に説明する。
Ar1〜Ar4における炭素数6〜40の置換若しくは無置換のアリール基としては、具体的に例えば、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、2−アントリル基、9−アントリル基、2−フルオレニル基、4−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基、2−メチルフェニル基、4−エチルフェニル基、3−エチルフェニル基、2−エチルフェニル基、4−n−プロピルフェニル基、4−イソプロピルフェニル基、2−イソプロピルフェニル基、4−n−ブチルフェニル基、4−イソブチルフェニル基、4−sec−ブチルフェニル基、2−sec−ブチルフェニル基、4−tert−ブチルフェニル基、3−tert−ブチルフェニル基、2−tert−ブチルフェニル基、4−n−ペンチルフェニル基、4−イソペンチルフェニル基、2−ネオペンチルフェニル基、4−tert−ペンチルフェニル基、4−n−ヘキシルフェニル基、4−(2’−エチルブチル)フェニル基、4−n−ヘプチルフェニル基、4−n−オクチルフェニル基、4−(2’−エチルヘキシル)フェニル基、4−tert−オクチルフェニル基、4−n−デシルフェニル基、4−n−ドデシルフェニル基、4−n−テトラデシルフェニル基、4−シクロペンチルフェニル基、4−シクロヘキシルフェニル基、4−(4’−メチルシクロヘキシル)フェニル基、4−(4’−tert−ブチルシクロヘキシル)フェニル基、3−シクロヘキシルフェニル基、2−シクロヘキシルフェニル基、4−エチル−1−ナフチル基、6−n−ブチル−2−ナフチル基、2,4−ジメチルフェニル基、2,5−ジメチルフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、2,6−ジメチルフェニル基、2,4−ジエチルフェニル基、2,3,5−トリメチルフェニル基、2,3,6−トリメチルフェニル基、3,4,5−トリメチルフェニル基、2,6−ジエチルフェニル基、2,5−ジイソプロピルフェニル基、2,6−ジイソブチルフェニル基、2,4−ジ−tert−ブチルフェニル基、2,5−ジ−tert−ブチルフェニル基、4,6−ジ−tert−ブチル−2−メチルフェニル基、5−tert−ブチル−2−メチルフェニル基、4−tert−ブチル−2,6−ジメチルフェニル基、9−メチル−2−フルオレニル基、9−エチル−2−フルオレニル基、9−n−ヘキシル−2−フルオレニル基、9,9−ジメチル−2−フルオレニル基、9,9−ジエチル−2−フルオレニル基、9,9−ジ−n−プロピル−2−フルオレニル基、4−メトキシフェニル基、3−メトキシフェニル基、2−メトキシフェニル基、4−エトキシフェニル基、3−エトキシフェニル基、2−エトキシフェニル基、4−n−プロポキシフェニル基、3−n−プロポキシフェニル基、4−イソプロポキシフェニル基、2−イソプロポキシフェニル基、4−n−ブトキシフェニル基、4−イソブトキシフェニル基、2−sec−ブトキシフェニル基、4−n−ペンチルオキシフェニル基、4−イソペンチルオキシフェニル基、2−イソペンチルオキシフェニル基、4−ネオペンチルオキシフェニル基、2−ネオペンチルオキシフェニル基、4−n−ヘキシルオキシフェニル基、2−(2’−エチルブチル)オキシフェニル基、4−n−オクチルオキシフェニル基、4−n−デシルオキシフェニル基、4−n−ドデシルオキシフェニル基、4−n−テトラデシルオキシフェニル基、4−シクロヘキシルオキシフェニル基、2−シクロヘキシルオキシフェニル基、2−メトキシ−1−ナフチル基、4−メトキシ−1−ナフチル基、4−n−ブトキシ−1−ナフチル基、5−エトキシ−1−ナフチル基、6−メトキシ−2−ナフチル基、6−エトキシ−2−ナフチル基、6−n−ブトキシ−2−ナフチル基、6−n−ヘキシルオキシ−2−ナフチル基、7−メトキシ−2−ナフチル基、7−n−ブトキシ−2−ナフチル基、2−メチル−4−メトキシフェニル基、2−メチル−5−メトキシフェニル基、3−メチル−4−メトキシフェニル基、3−メチル−5−メトキシフェニル基、3−エチル−5−メトキシフェニル基、2−メトキシ−4−メチルフェニル基、3−メトキシ−4−メチルフェニル基、2,4−ジメトキシフェニル基、2,5−ジメトキシフェニル基、2,6−ジメトキシフェニル基、3,4−ジメトキシフェニル基、3,5−ジメトキシフェニル基、3,5−ジエトキシフェニル基、3,5−ジ−n−ブトキシフェニル基、2−メトキシ−4−エトキシフェニル基、2−メトキシ−6−エトキシフェニル基、3,4,5−トリメトキシフェニル基、4−フェニルフェニル基、3−フェニルフェニル基、2−フェニルフェニル基、4−(4’−メチルフェニル)フェニル基、4−(3’−メチルフェニル)フェニル基、4−(4’−メトキシフェニル)フェニル基、4−(4’−n−ブトキシフェニル)フェニル基、2−(2’−メトキシフェニル)フェニル基、4−(4’−クロロフェニル)フェニル基、3−メチル−4−フェニルフェニル基、3−メトキシ−4−フェニルフェニル基、9−フェニル−2−フルオレニル基、4−フルオロフェニル基、3−フルオロフェニル基、2−フルオロフェニル基、4−クロロフェニル基、3−クロロフェニル基、2−クロロフェニル基、4−ブロモフェニル基、2−ブロモフェニル基、4−クロロ−1−ナフチル基、4−クロロ−2−ナフチル基、6−ブロモ−2−ナフチル基、2,3−ジフルオロフェニル基、2,4−ジフルオロフェニル基、2,5−ジフルオロフェニル基、2,6−ジフルオロフェニル基、3,4−ジフルオロフェニル基、3,5−ジフルオロフェニル基、2,3−ジクロロフェニル基、2,4−ジクロロフェニル基、2,5−ジクロロフェニル基、3,4−ジクロロフェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、2,5−ジブロモフェニル基、2,4,6−トリクロロフェニル基、2,4−ジクロロ−1−ナフチル基、1,6−ジクロロ−2−ナフチル基、2−フルオロ−4−メチルフェニル基、2−フルオロ−5−メチルフェニル基、3−フルオロ−2−メチルフェニル基、3−フルオロ−4−メチルフェニル基、2−メチル−4−フルオロフェニル基、2−メチル−5−フルオロフェニル基、3−メチル−4−フルオロフェニル基、2−クロロ−4−メチルフェニル基、2−クロロ−5−メチルフェニル基、2−クロロ−6−メチルフェニル基、2−メチル−3−クロロフェニル基、2−メチル−4−クロロフェニル基、3−クロロ−4−メチルフェニル基、3−メチル−4−クロロフェニル基、2−クロロ−4,6−ジメチルフェニル基、2−メトキシ−4−フルオロフェニル基、2−フルオロ−4−メトキシフェニル基、2−フルオロ−4−エトキシフェニル基、2−フルオロ−6−メトキシフェニル基、3−フルオロ−4−エトキシフェニル基、3−クロロ−4−メトキシフェニル基、2−メトキシ−5−クロロフェニル基、3−メトキシ−6−クロロフェニル基、5−クロロ−2,4−ジメトキシフェニル基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
以下に好ましい化合物を例示するが、これらの化合物に限定されるものではない。
また、一般式(7)又は(8)で表される化合物と、市販のN,N’−ジフェニルベンジジンとの組み合わせでも、上記と同一の化合物を合成することができる。
300mlナス型フラスコに、2’−ヒドロキシ−1’−アセトナフトン 18.6g(100mmol)、ジクロロメタン100ml、ピリジン39.6g(500mmol)を加え、反応液を5℃以下に冷却した。トリフルオロメタンスルホン酸無水物31.0g(110mmol)を反応温度が5℃を超えないように滴下した後、室温下一晩攪拌した。反応液に水を加えて分層した。有機層は、3.5%塩酸水溶液および水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、濃縮して1’−アセトナフトン−2’−トリフルオロメタンスルフォネート 32.7gを微黄色油状物として単離した。なお、生成物は精製せずに、そのまま次の反応に用いた。
13C−NMR(50MHz、CDCl3):32.9, 124.7, 126.5,127.1, 127.6, 128.3, 128.8, 128.9,129.5, 130.6, 132.6, 134.3, 134.4, 138.4, 138.7, 207.1
次に、300mlナス型フラスコに、先に得られた2’−(4−クロロフェニル)−1’−アセトナフトン 9.8g(35mmol)、テトラヒドロフラン70ml、エタノール70mlを加えた。溶解した後、水素化ホウ素ナトリウム6.6g(175mmol)を加え、室温にて8時間攪拌した。
13C−NMR(50MHz、CDCl3):23.9, 68.9, 125.8,125.9, 127.0, 127.8, 127.9, 128.4, 128.8, 130.4, 130.8, 133.2, 134.2, 136.9, 137.1, 140.6
次に、100mlナス型フラスコに、先に得られた1−(1−ヒドロキシ)エチル−2−(4−クロロフェニル)ナフタレン 2.8g(10mmol)、クロロホルム20mlを加えた。0℃に冷却した後、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテラート1.85g(13mmol)を滴下し、室温にて1時間攪拌した。
得られた9−クロロ−11−メチル−11H−ベンゾ[a]フルオレン 2.7g(10mmol)、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド2.3g(10mmol)、ヨウ化メチル4.3g(30mmol)をジメチルスルホキシド20mlに溶解し、0℃に冷却後、48%水酸化ナトリウム水溶液 1.2g(30mmol)を攪拌しながら滴下した。室温にて1時間攪拌後、トルエン50mlを加えてから、有機層を水にて洗浄した。硫酸マグネシウムによる乾燥の後、抽出液を濃縮して淡黄色の結晶を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し(溶出液:ヘキサン)、9−クロロ−11,11−ジメチル−11H−ベンゾ[a]フルオレン(化合物2a)を白色結晶として2.0g単離した(収率72%)。
13C−NMR(50MHz、CDCl3):26.3, 48.8, 118.6,120.6, 122.8, 124.0, 125.0, 126.2, 127.2, 128.7, 130.0, 132.7, 134.0,135.6, 137.8, 147.1, 157.0
2’−ヒドロキシ−1’−アセトナフトンの代わりに1’−ヒドロキシ−2’−アセトナフトンを用い、下記反応式(13)に従い、合成例1と同じ反応条件により、目的とする9−クロロ−7,7−ジメチル−7H−ベンゾ[c]フルオレン(1b)を合成した。
(実測値):C;81.8%,H;5.4%,Cl;12.8%
FDMS:m/z=278
100mlナス型フラスコに、9−クロロ−11,11−ジメチル−11H−ベンゾ[a]フルオレン 736mg(2.64mmol)、N,N’−ジフェニルベンジジン 404mg(1.2mmol)、ナトリウム−tert−ブトキシド 461mgをキシレン40mlに懸濁させ、窒素で系内を置換した。更に、窒素雰囲気下、酢酸パラジウム2.25mg及びトリ−tert−ブチルホスフィン 7mgを添加し、125℃に加熱した。所定温度で15時間熟成した後、反応液を室温まで冷却した。水20mlを添加後、ジクロロメタンで抽出を行い、有機相を水洗後に濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、薄黄土色の粉体化合物(F1)を974mg得た(収率99%)。
1H−NMR(200MHz、CDCl3):1.68(12H,s)、6.98−7.75(36H,m)、7.85(4H,s)、7.95(2H,d,J=8.0Hz)、8.18(2H,d,J=8.0Hz)
化合物(F1)のガラス転移温度は154℃であり、従来材料である4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル、2,7−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]−9,9’−ジメチルフルオレン、N,N’−ジ[2−(9,9−ジメチルフルオレニル)]−N,N’−ジ(4−ビフェニル)ベンジジン等のガラス転移温度(各々、96℃、110℃、120℃)より約30℃以上高かった。
9−クロロ−11,11−ジメチル−11H−ベンゾ[a]フルオレン(2a)の代わりに合成例2で得られた9−クロロ−7,7−ジメチル−7H−ベンゾ[c]フルオレン(1b)730mgを用いて実施例1と同様な操作を行い、化合物A1を946mg得た。
(実測値):C;90.7%,H;5.8%,N;8.5%
FDMS:m/z=820
実施例3 (素子作製)
厚さ110nmのITO透明電極(陽極)を積層したガラス基板を中性洗剤、純水及びアセトンにより超音波洗浄し、その後イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄を行なった。さらに紫外線オゾン洗浄を行ない、真空蒸着装置へ設置後1×10−4Paになるまで、真空ポンプにて排気した。ITO透明電極上に銅フタロシアニンを蒸着速度0.3nm/秒で蒸着し、20nmの正孔注入層とした。引き続き、化合物(F1)を蒸着速度0.3nm/秒で30nm蒸着して正孔輸送層とし、続いてトリス(8−キノリノラート)アルミニウムを蒸着速度0.3nm/秒で50nm蒸着して発光層とした。続いて銀とマグネシウムを蒸着速度0.33nm/秒で100nmの厚さに共蒸着(重量比10:1)し、更に銀を蒸着速度0.2nm/秒で10nm蒸着して陰極とし、有機EL素子を作製した。
化合物(F1)の代わりに化合物(A1)を用いて、実施例3と同様な素子を作製した。電流密度20mA/cm2時の輝度、駆動電圧、電流効率、電力効率を表1に示す。
化合物(F1)をα−NPDに変更した以外は、実施例2と同様の素子を作製した。
厚さ110nmのITO透明電極(陽極)を積層したガラス基板を中性洗剤、純水及びアセトンにより超音波洗浄し、その後イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄を行なった。さらに紫外線オゾン洗浄を行ない、真空蒸着装置へ設置後1×10−4Paになるまで、真空ポンプにて排気した。ITO透明電極上に銅フタロシアニンを蒸着速度0.3nm/秒で蒸着し、20nmの正孔注入層とした。引き続き、化合物(F1)を蒸着速度0.3nm/秒で50nm蒸着して正孔輸送層とし、続いてBCzVBi、DPVBiをそれぞれ青色ドーパント(4mol%)、青色ホスト材料とし、蒸着速度0.3nm/秒で40nm蒸着して発光層とした。続いてトリス(8−キノリノラート)アルミニウムを蒸着速度0.3nm/秒で20nm蒸着して電子輸送層とした。続いてLiF、アルミニウムを各々0.5nm、100nmの厚さに蒸着して陰極とし、有機EL素子を作製した。
Claims (6)
- 一般式(1)で表されるベンゾフルオレン化合物。
(式中、Mは炭素数6〜40の置換若しくは無置換のアリール基、又は炭素数5〜40の置換若しくは無置換のヘテロアリール基であり、Ar1〜Ar4は各々独立して炭素数6〜40の置換若しくは無置換のアリール基、又は炭素数5〜40の置換若しくは無置換のヘテロアリール基である。但し、Ar1〜Ar4のうち少なくとも一つは、下記一般式(2)又は(3)で表される置換基である。pは0〜2の整数である。)
(式中、R1〜R4は各々独立して水素原子、ハロゲン原子、置換若しくは無置換のアミノ基、直鎖,分岐若しくは環状のアルキル基、直鎖,分岐若しくは環状のアルコキシ基、炭素数6〜40の置換若しくは無置換のアリール基、又は炭素数6〜40の置換若しくは無置換のアリールオキシ基である。なお、R1とR2は互いに結合して環を形成してもよい。) - 前記一般式(1)において、Mが一置換、二置換若しくは三置換のベンゼン骨格、ビフェニル骨格、フルオレン骨格、ターフェニル骨格、ナフタレン骨格、又はスピロフルオレン骨格から選ばれる一種であることを特徴とする請求項1に記載のベンゾフルオレン化合物。
- 請求項1乃至4に記載のベンゾフルオレン化合物を発光層、正孔輸送層又は正孔注入層のいずれかに用いることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
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