JP2008299204A - 画像形成装置用クリーニングブレードの製造方法およびクリーニングブレード - Google Patents
画像形成装置用クリーニングブレードの製造方法およびクリーニングブレード Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008299204A JP2008299204A JP2007147064A JP2007147064A JP2008299204A JP 2008299204 A JP2008299204 A JP 2008299204A JP 2007147064 A JP2007147064 A JP 2007147064A JP 2007147064 A JP2007147064 A JP 2007147064A JP 2008299204 A JP2008299204 A JP 2008299204A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning blade
- rubber
- image forming
- kneading
- forming apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 119
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 17
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 100
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims abstract description 93
- 239000005060 rubber Substances 0.000 claims abstract description 74
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims abstract description 50
- 238000004898 kneading Methods 0.000 claims abstract description 45
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 44
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 claims abstract description 43
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims abstract description 34
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 claims abstract description 33
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims abstract description 30
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 29
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 claims abstract description 26
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 26
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 26
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims abstract description 21
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims abstract description 17
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229920006168 hydrated nitrile rubber Polymers 0.000 claims description 28
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 3
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 18
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 230000003712 anti-aging effect Effects 0.000 description 16
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 16
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 12
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 12
- -1 ferric trioxide Chemical compound 0.000 description 11
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 11
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 9
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 9
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 9
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 8
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 8
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 7
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920003225 polyurethane elastomer Polymers 0.000 description 5
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N Diphenyl disulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1SSC1=CC=CC=C1 GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 4
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 4
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZQPPMHVWECSIRJ-MDZDMXLPSA-N elaidic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C\CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-MDZDMXLPSA-N 0.000 description 4
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 4
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 4
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 4
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 4
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 4
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BMFMTNROJASFBW-UHFFFAOYSA-N 2-(furan-2-ylmethylsulfinyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CS(=O)CC1=CC=CO1 BMFMTNROJASFBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-4-hydroxybutanoate Chemical compound OCC(N)CC(O)=O BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006237 Intermediate SAF Substances 0.000 description 3
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 3
- 229920006170 Therban® Polymers 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC=C.C=CC#N NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 3
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 1-penten-3-one Chemical compound CCC(=O)C=C JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNRLMGFXSPUZNR-UHFFFAOYSA-N 2,2,4-trimethyl-1h-quinoline Chemical compound C1=CC=C2C(C)=CC(C)(C)NC2=C1 ZNRLMGFXSPUZNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIAWCKFOFPPVGF-UHFFFAOYSA-N 2-ethyladamantane Chemical compound C1C(C2)CC3CC1C(CC)C2C3 LIAWCKFOFPPVGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SIXWIUJQBBANGK-UHFFFAOYSA-N 4-(4-fluorophenyl)-1h-pyrazol-5-amine Chemical compound N1N=CC(C=2C=CC(F)=CC=2)=C1N SIXWIUJQBBANGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N Acrolein Chemical compound C=CC=O HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DPUOLQHDNGRHBS-UHFFFAOYSA-N Brassidinsaeure Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCCCCCC(O)=O DPUOLQHDNGRHBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IHQDGXUYTSZGOG-UHFFFAOYSA-N Erucin Chemical compound CSCCCCN=C=S IHQDGXUYTSZGOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N Guanidine Chemical compound NC(N)=N ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004831 Hot glue Substances 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 2
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N decanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N diacetyl peroxide Chemical compound CC(=O)OOC(C)=O ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LMBWSYZSUOEYSN-UHFFFAOYSA-N diethyldithiocarbamic acid Chemical compound CCN(CC)C(S)=S LMBWSYZSUOEYSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AUZONCFQVSMFAP-UHFFFAOYSA-N disulfiram Chemical compound CCN(CC)C(=S)SSC(=S)N(CC)CC AUZONCFQVSMFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004659 dithiocarbamates Chemical class 0.000 description 2
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAUDZVJPLUQNMU-KTKRTIGZSA-N erucamide Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCCCCC(N)=O UAUDZVJPLUQNMU-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VKOBVWXKNCXXDE-UHFFFAOYSA-N icosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O VKOBVWXKNCXXDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N lead oxide Chemical compound [O-2].[Pb+2] HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000391 magnesium silicate Substances 0.000 description 2
- 229910052919 magnesium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019792 magnesium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- DEQZTKGFXNUBJL-UHFFFAOYSA-N n-(1,3-benzothiazol-2-ylsulfanyl)cyclohexanamine Chemical compound C1CCCCC1NSC1=NC2=CC=CC=C2S1 DEQZTKGFXNUBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N octadecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FATBGEAMYMYZAF-KTKRTIGZSA-N oleamide Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(N)=O FATBGEAMYMYZAF-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 2
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000001741 organic sulfur group Chemical group 0.000 description 2
- SECPZKHBENQXJG-FPLPWBNLSA-N palmitoleic acid Chemical compound CCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O SECPZKHBENQXJG-FPLPWBNLSA-N 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000003557 thiazoles Chemical class 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphate Chemical compound CCCCOP(=O)(OCCCC)OCCCC STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTLBZVNBAKMVDP-UHFFFAOYSA-N tris(2-butoxyethyl) phosphate Chemical compound CCCCOCCOP(=O)(OCCOCCCC)OCCOCCCC WTLBZVNBAKMVDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOXSVZNGTQTENJ-UHFFFAOYSA-L zinc dibutyldithiocarbamate Chemical compound [Zn+2].CCCCN(C([S-])=S)CCCC.CCCCN(C([S-])=S)CCCC BOXSVZNGTQTENJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BITHHVVYSMSWAG-KTKRTIGZSA-N (11Z)-icos-11-enoic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCCC(O)=O BITHHVVYSMSWAG-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- WRXCBRHBHGNNQA-UHFFFAOYSA-N (2,4-dichlorobenzoyl) 2,4-dichlorobenzenecarboperoxoate Chemical compound ClC1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)OOC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1Cl WRXCBRHBHGNNQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYOQALXKVOJACM-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy pentaneperoxoate Chemical compound CCCCC(=O)OOOC(C)(C)C MYOQALXKVOJACM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDGNCLDCOVTOCS-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy propan-2-yl carbonate Chemical compound CC(C)OC(=O)OOC(C)(C)C KDGNCLDCOVTOCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYKVVLTXXXVRT-UHFFFAOYSA-N (4-chlorobenzoyl) 4-chlorobenzenecarboperoxoate Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)OOC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 OXYKVVLTXXXVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYHQOLUKZRVURQ-NTGFUMLPSA-N (9Z,12Z)-9,10,12,13-tetratritiooctadeca-9,12-dienoic acid Chemical compound C(CCCCCCC\C(=C(/C\C(=C(/CCCCC)\[3H])\[3H])\[3H])\[3H])(=O)O OYHQOLUKZRVURQ-NTGFUMLPSA-N 0.000 description 1
- KVPQFVHBQUTWLQ-CVBJKYQLSA-N (z)-docos-13-enamide;ethene Chemical compound C=C.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCCCCC(N)=O.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCCCCC(N)=O KVPQFVHBQUTWLQ-CVBJKYQLSA-N 0.000 description 1
- UDYXMTORTDACTG-UHFFFAOYSA-N 1,1,3-tributylthiourea Chemical compound CCCCNC(=S)N(CCCC)CCCC UDYXMTORTDACTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAEZSIYNWDWMMN-UHFFFAOYSA-N 1,1,3-trimethylthiourea Chemical compound CNC(=S)N(C)C JAEZSIYNWDWMMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NALFRYPTRXKZPN-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(tert-butylperoxy)-3,3,5-trimethylcyclohexane Chemical compound CC1CC(C)(C)CC(OOC(C)(C)C)(OOC(C)(C)C)C1 NALFRYPTRXKZPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPNUROKCUBTKLF-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(2-methylphenyl)guanidine Chemical compound CC1=CC=CC=C1N\C(N)=N\C1=CC=CC=C1C OPNUROKCUBTKLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBJQBODUWBODEG-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(2-methylphenyl)guanidine boric acid Chemical compound B(O)(O)O.C1(=C(C=CC=C1)NC(=N)NC1=C(C=CC=C1)C)C UBJQBODUWBODEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(prop-2-enyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound C=CCN1C(=O)N(CC=C)C(=O)N(CC=C)C1=O KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBRWPVTUQDJKCC-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(2-tert-butylperoxypropan-2-yl)benzene Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)OOC(C)(C)C)=C1 UBRWPVTUQDJKCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLMXNQPOOVZIHK-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis[3-(dimethylamino)propyl]thiourea Chemical compound CN(C)CCCNC(=S)NCCCN(C)C YLMXNQPOOVZIHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWRCNXZUPFZXOS-UHFFFAOYSA-N 1,3-diphenylguanidine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=N)NC1=CC=CC=C1 OWRCNXZUPFZXOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQZCAOHYQSOZCE-UHFFFAOYSA-N 1-(diaminomethylidene)-2-(2-methylphenyl)guanidine Chemical compound CC1=CC=CC=C1N=C(N)N=C(N)N SQZCAOHYQSOZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPAPHODVWOVUJL-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran;1h-indene Chemical compound C1=CC=C2CC=CC2=C1.C1=CC=C2OC=CC2=C1 KPAPHODVWOVUJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYLCUJRJCUXQBQ-UHFFFAOYSA-N 1-hepten-3-one Chemical compound CCCCC(=O)C=C OYLCUJRJCUXQBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBICKXHEKHSIBG-UHFFFAOYSA-N 1-monostearoylglycerol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(O)CO VBICKXHEKHSIBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VETPHHXZEJAYOB-UHFFFAOYSA-N 1-n,4-n-dinaphthalen-2-ylbenzene-1,4-diamine Chemical compound C1=CC=CC2=CC(NC=3C=CC(NC=4C=C5C=CC=CC5=CC=4)=CC=3)=CC=C21 VETPHHXZEJAYOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLMLGZUZTFMXSA-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,5,6-pentachlorobenzenethiol Chemical compound SC1=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1Cl LLMLGZUZTFMXSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCPAVPRPNMYCDD-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,5,6-pentachlorobenzenethiol;zinc Chemical compound [Zn].SC1=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1Cl XCPAVPRPNMYCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJELTSYBAHKXRW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-triallyloxy-1,3,5-triazine Chemical compound C=CCOC1=NC(OCC=C)=NC(OCC=C)=N1 BJELTSYBAHKXRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZNRFEXEPBITDS-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(2-methylbutan-2-yl)benzene-1,4-diol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(O)=C(C(C)(C)CC)C=C1O CZNRFEXEPBITDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMWVYCCGCQPJEA-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(tert-butylperoxy)-2,5-dimethylhexane Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)CCC(C)(C)OOC(C)(C)C DMWVYCCGCQPJEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZODKRWQWUWGCD-UHFFFAOYSA-N 2,5-di-tert-butylbenzene-1,4-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1O JZODKRWQWUWGCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSFSVEDCYBDIGW-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3-benzothiazol-2-yl)-6-chlorophenol Chemical compound OC1=C(Cl)C=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2S1 GSFSVEDCYBDIGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYUNTGBISCIYPW-UHFFFAOYSA-N 2-chloroprop-2-enenitrile Chemical compound ClC(=C)C#N OYUNTGBISCIYPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRDXTHSSNCTAGY-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexylpyrrolidine Chemical compound C1CCNC1C1CCCCC1 KRDXTHSSNCTAGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)sulfanyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1SC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-[1-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)butyl]-5-methylphenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C)=C(O)C=C(C)C=1C(CCC)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPGFMWPQXUXQRX-UHFFFAOYSA-N 3-amino-3-(4-fluorophenyl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CC(N)C1=CC=C(F)C=C1 CPGFMWPQXUXQRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLEUYJCQHIYGMQ-UHFFFAOYSA-N 3-cyclohexyl-2h-1,3-benzothiazole Chemical compound C1SC2=CC=CC=C2N1C1CCCCC1 KLEUYJCQHIYGMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIIBUHIQXLFJFP-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-1-[[3-[(3-methyl-2,5-dioxopyrrol-1-yl)methyl]phenyl]methyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C(C)=CC(=O)N1CC1=CC=CC(CN2C(C(C)=CC2=O)=O)=C1 MIIBUHIQXLFJFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJPRLNWUNMBNBZ-UHFFFAOYSA-N 3-phenylprop-2-enal Chemical compound O=CC=CC1=CC=CC=C1 KJPRLNWUNMBNBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHKLKWCYGIBEQF-UHFFFAOYSA-N 4-(1,3-benzothiazol-2-ylsulfanyl)morpholine Chemical compound C1COCCN1SC1=NC2=CC=CC=C2S1 MHKLKWCYGIBEQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBZWYXLQJQBKU-UHFFFAOYSA-N 4-(morpholin-4-yldisulfanyl)morpholine Chemical compound C1COCCN1SSN1CCOCC1 HLBZWYXLQJQBKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTQYOEFARICLQL-UHFFFAOYSA-N C(C1=CC=CC=C1)(=O)OOCCC=CCC Chemical compound C(C1=CC=CC=C1)(=O)OOCCC=CCC BTQYOEFARICLQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005632 Capric acid (CAS 334-48-5) Substances 0.000 description 1
- 239000005635 Caprylic acid (CAS 124-07-2) Substances 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N Docosanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- URXZXNYJPAJJOQ-UHFFFAOYSA-N Erucic acid Natural products CCCCCCC=CCCCCCCCCCCCC(O)=O URXZXNYJPAJJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDQAZBWRQCGBEV-UHFFFAOYSA-N Ethylenethiourea Chemical compound S=C1NCCN1 PDQAZBWRQCGBEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- DCXXMTOCNZCJGO-UHFFFAOYSA-N Glycerol trioctadecanoate Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC)COC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC DCXXMTOCNZCJGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLVIGYVXZHLUHP-UHFFFAOYSA-N N,N'-diethylthiourea Chemical compound CCNC(=S)NCC FLVIGYVXZHLUHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTGQNNCQYDRXCH-UHFFFAOYSA-N N,N'-diphenyl-1,4-phenylenediamine Chemical compound C=1C=C(NC=2C=CC=CC=2)C=CC=1NC1=CC=CC=C1 UTGQNNCQYDRXCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQVWYOYUZDUNRW-UHFFFAOYSA-N N-Phenyl-1-naphthylamine Chemical compound C=1C=CC2=CC=CC=C2C=1NC1=CC=CC=C1 XQVWYOYUZDUNRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N N-methyl-guanidine Natural products CNC(N)=N CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N N-phenyl aniline Natural products C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSPISYXLHRIGJD-UHFFFAOYSA-N OOOO Chemical compound OOOO RSPISYXLHRIGJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021319 Palmitoleic acid Nutrition 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004902 Softening Agent Substances 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 150000008360 acrylonitriles Chemical class 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001278 adipic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N alpha-linolenic acid Chemical compound CC\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(O)=O DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N 0.000 description 1
- 235000020661 alpha-linolenic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- SCABKEBYDRTODC-UHFFFAOYSA-N bis[2-(2-butoxyethoxy)ethyl] hexanedioate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(=O)CCCCC(=O)OCCOCCOCCCC SCABKEBYDRTODC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N bisoctrizole Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=NN1C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N2N=C3C=CC=CC3=N2)O)=C1O FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N but-1-enylbenzene Chemical compound CCC=CC1=CC=CC=C1 MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011116 calcium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECPZKHBENQXJG-UHFFFAOYSA-N cis-palmitoleic acid Natural products CCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O SECPZKHBENQXJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOUQIAGHKFLHIA-UHFFFAOYSA-L copper;n,n-dimethylcarbamodithioate Chemical compound [Cu+2].CN(C)C([S-])=S.CN(C)C([S-])=S ZOUQIAGHKFLHIA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000012343 cottonseed oil Nutrition 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- AFZSMODLJJCVPP-UHFFFAOYSA-N dibenzothiazol-2-yl disulfide Chemical compound C1=CC=C2SC(SSC=3SC4=CC=CC=C4N=3)=NC2=C1 AFZSMODLJJCVPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WITDFSFZHZYQHB-UHFFFAOYSA-N dibenzylcarbamothioylsulfanyl n,n-dibenzylcarbamodithioate Chemical compound C=1C=CC=CC=1CN(CC=1C=CC=CC=1)C(=S)SSC(=S)N(CC=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 WITDFSFZHZYQHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGAXJQVAHDTGBB-UHFFFAOYSA-N dibutylcarbamothioylsulfanyl n,n-dibutylcarbamodithioate Chemical compound CCCCN(CCCC)C(=S)SSC(=S)N(CCCC)CCCC PGAXJQVAHDTGBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- RLULIUSIDLLCSW-UHFFFAOYSA-N diethylcarbamothioylsulfanylselanyl n,n-diethylcarbamodithioate Chemical compound CCN(CC)C(=S)S[Se]SC(=S)N(CC)CC RLULIUSIDLLCSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116901 diethyldithiocarbamate Drugs 0.000 description 1
- SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N dimethylaminoamidine Natural products CN(C)C(N)=N SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJHINFRRDQUWOJ-UHFFFAOYSA-N dioctyl sebacate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)CCCCCCCCC(=O)OCC(CC)CCCC VJHINFRRDQUWOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPPPRXSQJZPQHY-UHFFFAOYSA-L disodium;1,6-bis(sulfidosulfonyloxy)hexane Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=S)OCCCCCCOS([O-])(=O)=S NPPPRXSQJZPQHY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000012990 dithiocarbamate Substances 0.000 description 1
- 229950004394 ditiocarb Drugs 0.000 description 1
- 229940108623 eicosenoic acid Drugs 0.000 description 1
- BITHHVVYSMSWAG-UHFFFAOYSA-N eicosenoic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCCCC(O)=O BITHHVVYSMSWAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 238000002389 environmental scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- DPUOLQHDNGRHBS-KTKRTIGZSA-N erucic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCCCCC(O)=O DPUOLQHDNGRHBS-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- SWSBIGKFUOXRNJ-CVBJKYQLSA-N ethene;(z)-octadec-9-enamide Chemical compound C=C.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(N)=O.CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(N)=O SWSBIGKFUOXRNJ-CVBJKYQLSA-N 0.000 description 1
- ZJOLCKGSXLIVAA-UHFFFAOYSA-N ethene;octadecanamide Chemical compound C=C.CCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O ZJOLCKGSXLIVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DECIPOUIJURFOJ-UHFFFAOYSA-N ethoxyquin Chemical compound N1C(C)(C)C=C(C)C2=CC(OCC)=CC=C21 DECIPOUIJURFOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019285 ethoxyquin Nutrition 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 150000002357 guanidines Chemical class 0.000 description 1
- PBZROIMXDZTJDF-UHFFFAOYSA-N hepta-1,6-dien-4-one Chemical compound C=CCC(=O)CC=C PBZROIMXDZTJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012943 hotmelt Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- SIMNRPJDQMIUHA-UHFFFAOYSA-K iron(3+);tricarbamate Chemical compound [Fe+3].NC([O-])=O.NC([O-])=O.NC([O-])=O SIMNRPJDQMIUHA-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000002531 isophthalic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960004488 linolenic acid Drugs 0.000 description 1
- KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N linolenic acid Natural products CC=CCCC=CCC=CCCCCCCCC(O)=O KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012170 montan wax Substances 0.000 description 1
- CMAUJSNXENPPOF-UHFFFAOYSA-N n-(1,3-benzothiazol-2-ylsulfanyl)-n-cyclohexylcyclohexanamine Chemical compound C1CCCCC1N(C1CCCCC1)SC1=NC2=CC=CC=C2S1 CMAUJSNXENPPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940032017 n-oxydiethylene-2-benzothiazole sulfenamide Drugs 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical class CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002446 octanoic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000019198 oils Nutrition 0.000 description 1
- 235000021313 oleic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000010525 oxidative degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N phosphite(3-) Chemical class [O-]P([O-])[O-] AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003021 phthalic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- WBHHMMIMDMUBKC-XLNAKTSKSA-N ricinelaidic acid Chemical compound CCCCCC[C@@H](O)C\C=C\CCCCCCCC(O)=O WBHHMMIMDMUBKC-XLNAKTSKSA-N 0.000 description 1
- 229960003656 ricinoleic acid Drugs 0.000 description 1
- FEUQNCSVHBHROZ-UHFFFAOYSA-N ricinoleic acid Natural products CCCCCCC(O[Si](C)(C)C)CC=CCCCCCCCC(=O)OC FEUQNCSVHBHROZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003329 sebacic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N sodium oxide Chemical compound [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N tetradecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC[14C](O)=O TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N 0.000 description 1
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 1
- KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N thiram Chemical compound CN(C)C(=S)SSC(=S)N(C)C KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002447 thiram Drugs 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPUOLQHDNGRHBS-MDZDMXLPSA-N trans-Brassidic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C\CCCCCCCCCCCC(O)=O DPUOLQHDNGRHBS-MDZDMXLPSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BITHHVVYSMSWAG-MDZDMXLPSA-N trans-gondoic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C\CCCCCCCCCC(O)=O BITHHVVYSMSWAG-MDZDMXLPSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N vinyl methyl ketone Natural products CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- RKQOSDAEEGPRER-UHFFFAOYSA-L zinc diethyldithiocarbamate Chemical compound [Zn+2].CCN(CC)C([S-])=S.CCN(CC)C([S-])=S RKQOSDAEEGPRER-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DUBNHZYBDBBJHD-UHFFFAOYSA-L ziram Chemical compound [Zn+2].CN(C)C([S-])=S.CN(C)C([S-])=S DUBNHZYBDBBJHD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G21/00—Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge
- G03G21/0005—Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge for removing solid developer or debris from the electrographic recording medium
- G03G21/0011—Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge for removing solid developer or debris from the electrographic recording medium using a blade; Details of cleaning blades, e.g. blade shape, layer forming
- G03G21/0017—Details relating to the internal structure or chemical composition of the blades
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C48/00—Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor
- B29C48/25—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C48/36—Means for plasticising or homogenising the moulding material or forcing it through the nozzle or die
- B29C48/395—Means for plasticising or homogenising the moulding material or forcing it through the nozzle or die using screws surrounded by a cooperating barrel, e.g. single screw extruders
- B29C48/40—Means for plasticising or homogenising the moulding material or forcing it through the nozzle or die using screws surrounded by a cooperating barrel, e.g. single screw extruders using two or more parallel screws or at least two parallel non-intermeshing screws, e.g. twin screw extruders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/01—Use of inorganic substances as compounding ingredients characterized by their specific function
- C08K3/013—Fillers, pigments or reinforcing additives
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G21/00—Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Cleaning In Electrography (AREA)
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
Abstract
【課題】耐摩耗性を向上させることにより小粒径・球形重合トナーのクリーニング性能を向上させた画像形成装置用クリーニングブレードの製造方法を提供する。
【解決手段】アクリロニトリルブタジエン系ゴムをゴム混練装置に挿入して粗練りゴム成分(1)の粗練り工程と、前記記粗練り工程後に、少なくともカーボンブラックおよび酸化亜鉛を含む充填剤(2)と、硫黄を含む架橋剤(3)とを同時に前記ゴム混練装置に投入して混練りする混練工程と、前記混練工程で得られた熱硬化性エラストマー組成物からなる混練物をプレス加硫し、該加硫時に硫化亜鉛を生成させて、成形しているプレス加硫工程とを備えている。
【選択図】図1
【解決手段】アクリロニトリルブタジエン系ゴムをゴム混練装置に挿入して粗練りゴム成分(1)の粗練り工程と、前記記粗練り工程後に、少なくともカーボンブラックおよび酸化亜鉛を含む充填剤(2)と、硫黄を含む架橋剤(3)とを同時に前記ゴム混練装置に投入して混練りする混練工程と、前記混練工程で得られた熱硬化性エラストマー組成物からなる混練物をプレス加硫し、該加硫時に硫化亜鉛を生成させて、成形しているプレス加硫工程とを備えている。
【選択図】図1
Description
本発明は画像形成装置用クリーニングブレードの製造方法および該クリーニングブレードに関し、詳しくはゴム成分に充填剤および架橋剤を配合した熱硬化性エラストマー組成物をプレス加硫して成形しているものである。
静電式写真複写機では、一般に、感光体の表面に放電により静電荷を与え、その上に画像を露光して静電潜像を形成し、次に逆極性を帯びたトナーを静電潜像に付着させて現像し、そのトナー像を記録紙に転写し、最後にトナー像が転写された記録紙を加熱加圧し、トナーを記録紙上に定着させることによって複写を行っている。従って、複数枚の記録紙に順次複写を行うためには、上記工程において感光体より記録紙にトナー像を転写した後、感光体の表面に残留するトナーを除去する必要がある。その除去方法の一つとして、クリーニングブレードを感光体表面に圧接し、感光体を摺接してクリーニングするブレード・クリーニング方式が知られている。
前記画像形成装置用クリーニングブレードとしては、従来よりポリウレタンゴム製のクリーニングブレードが用いられ、これにより感光体上の粉砕トナーや異形化処理された重合トナーのクリーニングを行っていた。ウレタンゴム製のクリーニングブレードは耐熱性が低く、感光体との摩擦によりクリーニングに重要なクリーニングブレードのエッジ部分が磨耗して丸くなりトナーが除去できなくなるという問題を有していたが、従来の粉砕トナーや異形化処理された重合トナーではクリーニングブレードと感光体との接地圧(以下、線圧という。)が低くてもクリーニングが可能であったため、ポリウレタンゴム製クリーニングブレードに勝る耐摩耗性を有する材料の開発は進んでいなかった。
しかし、近年、省エネルギー、低コスト、高画質化のトレンドにより、小粒径、球形重合トナーが開発された結果、クリーニングブレードの線圧を上げないと残留するトナーの除去が困難となってクリーニング不良が生じやすくなる。一方、従来のポリウレタンゴム製のクリーニングブレードで線圧を上げようとすると摩擦力が大きくなってエッジ部分の磨耗が激しくなるため、ポリウレタンゴム製のクリーニングブレードでは線圧を上げることが難しいという問題がある。
そこで、特開2003−248404号公報(特許文献1)では、耐熱性が低く高温領域での機械的物性が劣化するというポリウレタンゴム製のクリーニングブレードの問題を解消するものとして、水素化ニトリルゴムと水素化ニトリルゴムにメタクリル酸亜鉛を微分散させたポリマーアロイとを配合して形成されたクリーニングブレードが提案されている。また、両側の面をステンレス箔で被覆することにより、金型離型性の向上や引張弾性率の補強が可能になるとされている。
しかし、特許文献1において作製されるクリーニングブレードはゴム弾性を持たない未加硫ゴムであり、クリーニングブレードに成形すると成形品表面に細かい凹凸が発生してしまうため、クリーニング性能などに悪影響を及ぼすという問題がある。また、ステンレス箔で両面を被覆すると、摩擦によりステンレス箔の剥がれを生じ、剥がれたステンレス箔の粒子によって感光体表面を傷つけてしまうという問題もある。さらに、特許文献1では、水素化ニトリルゴムに微分散させるメタクリル酸亜鉛の量なども規定されておらず、メタクリル酸亜鉛の量によってはクリーニングブレードとして適した物性を有する製品を得ることができない場合がある。
本発明は、耐摩耗性を向上させることにより小粒径・球形重合トナーのクリーニング性能を向上させた画像形成装置用クリーニングブレードの製造方法及び該クリーニングブレードを提供することを課題としている。
前記課題を解決するため、第1の発明として、
アクリロニトリルブタジエン系ゴムをゴム混練装置に挿入して粗練りゴム成分(1)の粗練り工程と、
前記粗練り工程後に、少なくともカーボンブラックおよび酸化亜鉛を含む充填剤(2)と、硫黄を含む架橋剤(3)とを同時に前記ゴム混練装置に投入して混練りする混練工程と、
前記混練工程で得られた熱硬化性エラストマー組成物からなる混練物をプレス加硫し、該加硫時に硫化亜鉛を生成させて、成形しているプレス加硫工程と、
を備えていることを特徴とする画像形成装置用クリーニングブレードの製造方法を提供している。
アクリロニトリルブタジエン系ゴムをゴム混練装置に挿入して粗練りゴム成分(1)の粗練り工程と、
前記粗練り工程後に、少なくともカーボンブラックおよび酸化亜鉛を含む充填剤(2)と、硫黄を含む架橋剤(3)とを同時に前記ゴム混練装置に投入して混練りする混練工程と、
前記混練工程で得られた熱硬化性エラストマー組成物からなる混練物をプレス加硫し、該加硫時に硫化亜鉛を生成させて、成形しているプレス加硫工程と、
を備えていることを特徴とする画像形成装置用クリーニングブレードの製造方法を提供している。
前記した本発明の製造方法は、前記したようにゴム成分を粗練りした後に、該粗練りしたゴム成分に、前記酸化亜鉛を含む充填剤(2)および硫黄を含む架橋剤(3)を同時に配合して混練しているため、組成物中における充填剤(2)である酸化亜鉛の分散性が非常に向上する。
更に、前記混練工程で得られた熱硬化性エラストマー組成物を金型に充填してプレス加硫すると、組成物中に微分散している酸化亜鉛が架橋剤の硫黄とより多く接触して反応し、酸化亜鉛の架橋促進助剤としての作用が有効に発揮されて、硫黄による架橋、つまり加硫が促進し、加硫時に生成される硫化亜鉛が微分散された状態で含まれていることとなる。
このように、酸化亜鉛及び硫化亜鉛の粒子が組成物中で微分散されることにより、製造するクリーニングブレードの耐摩耗性を向上させることができ、また、小粒径・球形重合トナーのクリーニング性能を向上させることができる。
更に、前記混練工程で得られた熱硬化性エラストマー組成物を金型に充填してプレス加硫すると、組成物中に微分散している酸化亜鉛が架橋剤の硫黄とより多く接触して反応し、酸化亜鉛の架橋促進助剤としての作用が有効に発揮されて、硫黄による架橋、つまり加硫が促進し、加硫時に生成される硫化亜鉛が微分散された状態で含まれていることとなる。
このように、酸化亜鉛及び硫化亜鉛の粒子が組成物中で微分散されることにより、製造するクリーニングブレードの耐摩耗性を向上させることができ、また、小粒径・球形重合トナーのクリーニング性能を向上させることができる。
前記粗練りを行うゴム成分(1)は、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)、残存二重結合が10%以下の水素添加したアクリロニトリルブタジエンゴム(HNBR)、カルボキシル基を導入したアクリロニトリルブタジエンゴム(XNBR)またはカルボキシル基を導入し水素添加したアクリロニトリルブタジエンゴム(HXNBR)のみからなることが好ましい。
前記カルボキシル基を導入したXNBRまたはHXNBRでは、カルボキシル基の含有率は0.5〜30質量%としていることが好ましい。
前記カルボキシル基を導入したXNBRまたはHXNBRでは、カルボキシル基の含有率は0.5〜30質量%としていることが好ましい。
前記混練工程で投入する前記酸化亜鉛の粒径は0.1μm以上50μm以下であり、前記プレス加硫工程で生成する前記硫化亜鉛の粒径は1nm以上500nm以下となる。
前記組成物中で微分散される硫化亜鉛は、粒径1〜500nmの一次粒子、または当該一次粒子が複数個凝集して粒径10〜500nmの二次粒子を形成している。
硫化亜鉛の一次粒子の粒径は、500nmより大きいとエラストマー組成物中の欠陥となり、製造するクリーニングブレードの耐摩耗性が悪くなるおそれがある。該硫化亜鉛の粒径は1〜300nmであることがより好ましく、1〜100nmであることがさらに好ましい。なお、1nmより小さいと粒径の確認ができない。
また、酸化亜鉛の粒径を0.1μm以上50μm以下としているのは、50μmより大きいとエラストマー組成物中の欠陥となり、クリーニングブレードの耐摩耗性が悪くなるおそれがある。酸化亜鉛の粒径は0.1〜40μmであることがより好ましく、0.1〜25μmであることがさらに好ましく、0.1〜10μmであることがとくに好ましい。
前記組成物中で微分散される硫化亜鉛は、粒径1〜500nmの一次粒子、または当該一次粒子が複数個凝集して粒径10〜500nmの二次粒子を形成している。
硫化亜鉛の一次粒子の粒径は、500nmより大きいとエラストマー組成物中の欠陥となり、製造するクリーニングブレードの耐摩耗性が悪くなるおそれがある。該硫化亜鉛の粒径は1〜300nmであることがより好ましく、1〜100nmであることがさらに好ましい。なお、1nmより小さいと粒径の確認ができない。
また、酸化亜鉛の粒径を0.1μm以上50μm以下としているのは、50μmより大きいとエラストマー組成物中の欠陥となり、クリーニングブレードの耐摩耗性が悪くなるおそれがある。酸化亜鉛の粒径は0.1〜40μmであることがより好ましく、0.1〜25μmであることがさらに好ましく、0.1〜10μmであることがとくに好ましい。
前記製造方法において、前記粗練り工程は、60〜110℃の温度条件下で0.5〜6分間行い、前記混練工程は、60〜110℃の温度条件下で0.5〜10分間行い、前記プレス加硫は160〜170℃で20分〜40分行うことが好ましい。
前記温度条件を60〜110℃としているのは、60℃未満では前記酸化亜鉛等の充填剤(2)が十分に可塑化せず混練が不十分となり、110℃を越えると混合する成分が分解する恐れがあることによる。また、混練工程において混練を0.5〜10分間としているのは0.5分未満では混練が不十分となり、各成分が十分に混合しない一方、10分を越えると混合する分解する恐れがあることによる。
前記粗練りおよび混練を行うゴム混練装置としては、2軸押出機、オープンロール、バンバリーミキサー、ニーダ等のゴム混練装置を用いている。
また、前記のようにプレス加硫工程は、加硫缶に前記熱硬化性エラストマー組成物を充填し、160〜170℃で20〜40分間行うことが好ましい。これは、温度が160℃未満、加硫時間が20分未満では加硫不足となる一方、170℃を越えてると共に40分を越えるとゴム成分が分解する恐れがあることによる。
前記温度条件を60〜110℃としているのは、60℃未満では前記酸化亜鉛等の充填剤(2)が十分に可塑化せず混練が不十分となり、110℃を越えると混合する成分が分解する恐れがあることによる。また、混練工程において混練を0.5〜10分間としているのは0.5分未満では混練が不十分となり、各成分が十分に混合しない一方、10分を越えると混合する分解する恐れがあることによる。
前記粗練りおよび混練を行うゴム混練装置としては、2軸押出機、オープンロール、バンバリーミキサー、ニーダ等のゴム混練装置を用いている。
また、前記のようにプレス加硫工程は、加硫缶に前記熱硬化性エラストマー組成物を充填し、160〜170℃で20〜40分間行うことが好ましい。これは、温度が160℃未満、加硫時間が20分未満では加硫不足となる一方、170℃を越えてると共に40分を越えるとゴム成分が分解する恐れがあることによる。
第2の発明として、アクリロニトリルブタジエン系ゴムを含むゴム成分(1)と、
酸化亜鉛およびカーボンブラックを含む充填剤(2)と、
硫黄および硫化亜鉛を含む架橋剤(3)を含む熱硬化性エラストマー組成物からなり、
前記充填剤(2)の酸化亜鉛が粒径0.1μm以上50μmで微分散していると共に、前記硫化亜鉛が粒径1nm以上500nm以下で微分散していることを特徴とする画像形成装置用クリーニングブレードを提供している。
酸化亜鉛およびカーボンブラックを含む充填剤(2)と、
硫黄および硫化亜鉛を含む架橋剤(3)を含む熱硬化性エラストマー組成物からなり、
前記充填剤(2)の酸化亜鉛が粒径0.1μm以上50μmで微分散していると共に、前記硫化亜鉛が粒径1nm以上500nm以下で微分散していることを特徴とする画像形成装置用クリーニングブレードを提供している。
前記本発明の画像形成装置用クリーニングブレードは前記第1の発明の製造方法により製造されるが、必ずしも該製造方法に限定されない。
前記本発明の画像形成装置用クリーニングブレードでは、ゴム成分(1)100質量部に対し、前記充填剤(2)の酸化亜鉛が0.1質量部〜30質量部、カーボンブラックが0.1質量部〜100質量部、前記架橋剤(3)が0.1〜30質量部で配合されていることが好ましい。
以下に、前記各成分について詳述する。
前記本発明の画像形成装置用クリーニングブレードでは、ゴム成分(1)100質量部に対し、前記充填剤(2)の酸化亜鉛が0.1質量部〜30質量部、カーボンブラックが0.1質量部〜100質量部、前記架橋剤(3)が0.1〜30質量部で配合されていることが好ましい。
以下に、前記各成分について詳述する。
前記ゴム成分(1)は、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)、残存二重結合が10%以下の水素添加したアクリロニトリルブタジエンゴム(HNBR)、カルボキシル基を導入したアクリロニトリルブタジエンゴム(XNBR)またはカルボキシル基を導入し水素添加したアクリロニトリルブタジエンゴム(HXNBR)からなるアクリロニトリルブタジエン系ゴムのみからなることが好ましい。
前記NBRとしては、結合アクリロニトリル量が25%以下である低ニトリルNBR、結合アクリロニトリル量が25%〜31%である中ニトリルNBR、結合アクリロニトリル量が31%〜36%である中高ニトリルNBR、結合アクリロニトリル量が36%以上である高ニトリルNBRのいずれを用いてもよい。なかでも、NBRの結合アクリロニトリル量は21%〜46%であることが好ましく、31%〜36%であることがより好ましい。
前記HNBRは、NBRのポリマー主鎖にあるブタジエンに含まれる二重結合を化学的に水素化することによって得られるもので、水素化後の残存二重結合が10%以下であるHNBRを用いている。
また、HNBRの結合アクリロニトリル量は21%〜46%であることが好ましく、21%〜44%であることがより好ましい。結合アクリロニトリル量を21%〜46%としているのは、結合アクリロニトリル量が21%未満であると機械的物性が低下するためであり、結合アクリロニトリル量が46%を超えると熱硬化性エラストマーのガラス転移温度Tgが高くなり、低温低湿時のクリーニング性能が悪くなりやすいためである。
さらに、HNBRのムーニー粘度ML1+4(100℃)は20〜160であることが好ましく、40〜150であることがより好ましい。HNBRのムーニー粘度ML1+4(100℃)を20〜160としているのは、HNBRのムーニー粘度ML1+4(100℃)が20未満であると分子量が低下し耐摩耗性が悪くなりやすいためであり、HNBRのムーニー粘度ML1+4(100℃)が160を超えると過剰な分子量分布から混練や成形が困難となるためである。
また、HNBRの結合アクリロニトリル量は21%〜46%であることが好ましく、21%〜44%であることがより好ましい。結合アクリロニトリル量を21%〜46%としているのは、結合アクリロニトリル量が21%未満であると機械的物性が低下するためであり、結合アクリロニトリル量が46%を超えると熱硬化性エラストマーのガラス転移温度Tgが高くなり、低温低湿時のクリーニング性能が悪くなりやすいためである。
さらに、HNBRのムーニー粘度ML1+4(100℃)は20〜160であることが好ましく、40〜150であることがより好ましい。HNBRのムーニー粘度ML1+4(100℃)を20〜160としているのは、HNBRのムーニー粘度ML1+4(100℃)が20未満であると分子量が低下し耐摩耗性が悪くなりやすいためであり、HNBRのムーニー粘度ML1+4(100℃)が160を超えると過剰な分子量分布から混練や成形が困難となるためである。
前記XNBRおよびHXNBRは、NBRの第三成分としてアクリル酸またはメタクリル酸を三元共重合し、側鎖または末端にカルボキシル基を導入したものである。
下記化学式1にHXNBRの化学構造式を示し、下記化学式2にHNBRの第三成分としてアクリル酸(R=H)もしくはメタクリル酸(R=CH3)を三元共重合してカルボキスル基を導入したHNBRの化学構造を示す。
下記化学式1にHXNBRの化学構造式を示し、下記化学式2にHNBRの第三成分としてアクリル酸(R=H)もしくはメタクリル酸(R=CH3)を三元共重合してカルボキスル基を導入したHNBRの化学構造を示す。
前記XNBRまたはHXNBRは、これらに含まれるカルボキシル基を酸化亜鉛にイオン結合することができる。カルボキシル基とイオン結合した酸化亜鉛(亜鉛イオン)は、さらに他の主鎖のカルボキシル基とイオン結合することもできるため、擬似架橋の役割を担うことができる。さらに、カルボン酸の水素結合が導入されることで高強度材料NBRまたはHNBRを実現することができる。
前記カルボキシル基を導入したXNBRまたはHXNBRでは、カルボキシル基の含有率は0.5〜30質量%としていることが好ましい。これは、カルボキシル基の含有率が0.5質量%未満であると橋架けの反応性が低く、30質量%を超えるとカルボキシル基が反応し過ぎてゴム焼けし機械的物性が低下するおそれがあることに因る。より好ましくは10〜20質量%である。
前記XNBRまたはHXNBRとしては、既に共重合された市販品を使用することができる。例えばBayer社製のKyynacシリーズやTherbanシリーズを用いることができる。
前記XNBRまたはHXNBRとしては、既に共重合された市販品を使用することができる。例えばBayer社製のKyynacシリーズやTherbanシリーズを用いることができる。
アクリロニトリルブタンジエン系ゴムからなるゴム成分(1)では、NBR、HNBR、XNBR、HXNBRを夫々単独で用いてもよいし、混合してもよい。その場合の配合割合は、XNBRあるいは/およびHXNBRはゴム成分(1)100質量部中に40〜100質量部とすることが好ましい。これは、ゴム成分(1)100質量部中に40質量部未満の配合量であるとカルボン酸による橋架け反応が少なくことによる。
前記充填剤(2)として配合する酸化亜鉛は、架橋促進助剤として用いられる。
該酸化亜鉛の配合量は、前記ゴム成分(1)100質量部に対し0.1質量部〜30質量部が好ましく、0.1質量部未満であると酸化亜鉛の架橋促進助剤としての効果を十分に得られないと共に機械的物性の向上が期待できず、一方、酸化亜鉛の配合量が30質量部を越えると、酸化亜鉛を微分散させることが難しくなり、かつ、反応残渣が発生して機械的物性を低下させるおそれがあるからである。
該酸化亜鉛の配合量は、前記ゴム成分(1)100質量部に対し0.1質量部〜30質量部が好ましく、0.1質量部未満であると酸化亜鉛の架橋促進助剤としての効果を十分に得られないと共に機械的物性の向上が期待できず、一方、酸化亜鉛の配合量が30質量部を越えると、酸化亜鉛を微分散させることが難しくなり、かつ、反応残渣が発生して機械的物性を低下させるおそれがあるからである。
架橋促進助剤として、前記酸化亜鉛に加えて他の金属酸化物を組み合わせてもよい。前記「他の金属酸化物」としては、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化銅、三酸化二鉄、酸化ニッケル、酸化カルシウム、酸化ナトリウムまたは酸化鉛等が挙げられ、なかでも酸化マグネシウムが好適な例として挙げられる。これらは1種類を単独で用いても、2種類以上を混合して用いてもよい。
このように他の金属酸化物が含まれている場合、当該他の金属酸化物も酸化亜鉛と同様に粒径0.1〜50μmの一次粒子が微分散している状態で含まれていることが好ましい。 他の金属酸化物の配合量は酸化亜鉛:他の金属酸化物=1:0.1〜1であることが好ましい。
このように他の金属酸化物が含まれている場合、当該他の金属酸化物も酸化亜鉛と同様に粒径0.1〜50μmの一次粒子が微分散している状態で含まれていることが好ましい。 他の金属酸化物の配合量は酸化亜鉛:他の金属酸化物=1:0.1〜1であることが好ましい。
さらに、架橋促進助剤として金属酸化物以外の公知の架橋促進助剤を組み合わせてもよい。金属酸化物以外の架橋促進助剤としてはステアリン酸、オレイン酸もしくは綿実脂肪酸等の脂肪酸等が挙げられる。その配合量は特に限定されず種類によって適宜選択すればよいが、例えば前記ゴム成分(1)100質量部に対し0.1質量部〜20質量部であることが好ましく、0.1質量部〜10質量部であることがより好ましい。
また、充填剤(2)として補強剤として、ゴムとの相互作用を導くフィラーとしてカーボンブラックが配合される。
前記カーボンブラックとしては、SAFカーボン(平均粒径18〜22nm)、SAF−HSカーボン(平均粒径20nm前後)、ISAFカーボン(平均粒径19〜29nm)、N−339カーボン(平均粒径24nm前後)、ISAF−LSカーボン(平均粒径21〜24nm)、I−ISAF−HSカーボン(平均粒径21〜31nm)、HAFカーボン(平均粒径26〜30nm)、HAF−HSカーボン(平均粒径22〜30nm)、N−351カーボン(平均粒径29nm前後)、HAF−LSカーボン(平均粒径25〜29nm)、LI−HAFカーボン(平均粒径29nm前後)、MAFカーボン(平均粒径30〜35nm)、FEFカーボン(平均粒径40〜52nm)、SRFカーボン(平均粒径58〜94nm)、SRF−LMカーボン、GPFカーボン(平均粒径49〜84nm)等が例示される。
前記カーボンブラックとしては、SAFカーボン(平均粒径18〜22nm)、SAF−HSカーボン(平均粒径20nm前後)、ISAFカーボン(平均粒径19〜29nm)、N−339カーボン(平均粒径24nm前後)、ISAF−LSカーボン(平均粒径21〜24nm)、I−ISAF−HSカーボン(平均粒径21〜31nm)、HAFカーボン(平均粒径26〜30nm)、HAF−HSカーボン(平均粒径22〜30nm)、N−351カーボン(平均粒径29nm前後)、HAF−LSカーボン(平均粒径25〜29nm)、LI−HAFカーボン(平均粒径29nm前後)、MAFカーボン(平均粒径30〜35nm)、FEFカーボン(平均粒径40〜52nm)、SRFカーボン(平均粒径58〜94nm)、SRF−LMカーボン、GPFカーボン(平均粒径49〜84nm)等が例示される。
さらに、充填剤として、ホワイトカーボン(例えば乾式シリカもしくは湿式シリカなどのシリカ系充填剤、ケイ酸マグネシウムなどのケイ酸塩等)、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、マグネシウム・シリケート、クレー(ケイ酸アルミニウム)、シラン改質クレーもしくはタルクなどの無機補強剤や、クマロンインデン樹脂、フェノール樹脂、ハイスチレン樹脂、木粉等の有機補強剤を配合してもよい。
前記補強剤の配合量は前記ゴム成分(1)100質量部に対して0.1質量部〜100質量部であることが好ましく、1質量部〜70質量部であることがより好ましく、1質量部〜50質量部であることがさらに好ましい。
前記架橋剤(3)として少なくとも硫黄を用いている。また、硫黄と有機含硫黄化合物を用いてもよい。
硫黄としては、通常回収硫黄を粉砕し微粉としたものが使用される。分散性などを改良した表面処理硫黄も適宜使用することができる。また、未加硫ゴムからのブルームを避けるために不溶性硫黄も使用することができる。
有機含硫黄化合物としては、例えば、N,N’−ジチオビスモルホリン、ジフェニルジスルフィド、ペンタブロモジスルフィド、ペンタクロロチオフェノール、ペンタクロロチオフェノール亜鉛塩などが挙げられる。なかでも、ジフェニルジスルフィドが好ましい。
硫黄としては、通常回収硫黄を粉砕し微粉としたものが使用される。分散性などを改良した表面処理硫黄も適宜使用することができる。また、未加硫ゴムからのブルームを避けるために不溶性硫黄も使用することができる。
有機含硫黄化合物としては、例えば、N,N’−ジチオビスモルホリン、ジフェニルジスルフィド、ペンタブロモジスルフィド、ペンタクロロチオフェノール、ペンタクロロチオフェノール亜鉛塩などが挙げられる。なかでも、ジフェニルジスルフィドが好ましい。
前記硫黄に他の架橋剤を組み合わせてもよい。他の架橋剤としては有機過酸化物、耐熱性架橋剤または樹脂架橋剤等が挙げられる。
有機過酸化物としては、ベンゾイルパーオキシド、1,1−ジ−(tert−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ−(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ−(ベンゾイルパーオキシ−3−ヘキセン、2,5−ジメチル−2,5−ジ−(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、ジ−tert−ブチルパーオキシジイソプロピルベンゼン、ジ−tert−ブチルパーオキシド、ジ−tert−ブチルパーオキシベンゾエート、ジクミルパーオキシド、tert−ブチルクミルパーオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ−(tert−ブチルパーオキシ)−3−ヘキセン、1,3−ビス(tert−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン、n−ブチル−4,4−ビス(tert−ブチルパーオキシ)バレレート、p−クロロベンゾイルパーオキシド、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキシド、tert−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ジアセチルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド等が挙げられる。なかでも、ジクミルパーオキシドが好ましい。
耐熱性架橋剤としては、1,3−ビス(シトラコンイミドメチル)ベンゼン、ヘキサメチレン−1,6−ビスチオ硫酸ナトリウム・二水和物、1,6−ビス(ジベンジルチオカルバモイルジスルフィド)ヘキサン等が挙げられる。
樹脂架橋剤としては、タッキーロール201、タッキーロール250−III(以上、田岡化学工業(株)製)、ヒタノール2501(日立化成工業(株)製)などアルキルフェノール樹脂または臭素化アルキルフェノールホルムアルデヒド樹脂等が挙げられる。なかでも、アルキルフェノール樹脂が好ましい。
有機過酸化物としては、ベンゾイルパーオキシド、1,1−ジ−(tert−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ−(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ−(ベンゾイルパーオキシ−3−ヘキセン、2,5−ジメチル−2,5−ジ−(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、ジ−tert−ブチルパーオキシジイソプロピルベンゼン、ジ−tert−ブチルパーオキシド、ジ−tert−ブチルパーオキシベンゾエート、ジクミルパーオキシド、tert−ブチルクミルパーオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ−(tert−ブチルパーオキシ)−3−ヘキセン、1,3−ビス(tert−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン、n−ブチル−4,4−ビス(tert−ブチルパーオキシ)バレレート、p−クロロベンゾイルパーオキシド、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキシド、tert−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ジアセチルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド等が挙げられる。なかでも、ジクミルパーオキシドが好ましい。
耐熱性架橋剤としては、1,3−ビス(シトラコンイミドメチル)ベンゼン、ヘキサメチレン−1,6−ビスチオ硫酸ナトリウム・二水和物、1,6−ビス(ジベンジルチオカルバモイルジスルフィド)ヘキサン等が挙げられる。
樹脂架橋剤としては、タッキーロール201、タッキーロール250−III(以上、田岡化学工業(株)製)、ヒタノール2501(日立化成工業(株)製)などアルキルフェノール樹脂または臭素化アルキルフェノールホルムアルデヒド樹脂等が挙げられる。なかでも、アルキルフェノール樹脂が好ましい。
前記架橋剤(3)の配合量はゴム成分の物性が十分発揮される量であればよく、通常はゴム成分(1)100質量部に対して0.1質量部〜30質量部の範囲から選択される。
より具体的には、硫黄の配合量はゴム成分100質量部に対し0.1質量部〜20質量部の割合で配合することが好ましい。
より具体的には、硫黄の配合量はゴム成分100質量部に対し0.1質量部〜20質量部の割合で配合することが好ましい。
さらに、充填剤(2)として、加硫促進剤、老化防止剤、共架橋剤、ゴム用軟化剤またはその他の添加剤からなる群から選択される1種あるいは1種以上を配合してもよい。
前記加硫促進剤としては、無機促進剤または有機促進剤のいずれを用いることが可能である。
無機促進剤としては、消石灰、MgO等の酸化マグネシウム、酸化チタンまたはリサージ(PbO)等が挙げられる。
有機促進剤として、チウラム類、チアゾール類、チオウレア類、ジチオカーバミン酸塩類、グアニジン類およびスルフェンアミド類等が例示される。
チウラム類としては、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィドまたはジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド等が挙げられる。
チアゾール類としては、2−メルカプトベンゾチアゾール、ジベンゾチアジルジスルフィド、N−シクロヘキシルベンゾチアゾール、N−シクロヘキシル−2−ベンゾチアゾールスルフェンアミド、N−オキシジエチレン−2−ベンゾチアゾールスルフェンアミド、N−tert−ブチル−2−ベンゾチアゾールスルフェンアミドまたはN,N−ジシクロヘキシル−2−ベンゾチアゾールスルフェンアミド等が挙げられる。
チオウレア類としては、N,N’−ジエチルチオウレア、エチレンチオウレアまたはトリメチルチオウレア等が挙げられる。
ジチオカーバミン酸塩類としては、ジメチルジチオカーバミン酸亜鉛、ジエチルジチオカーバミン酸亜鉛、ジブチルジチオカーバミン酸亜鉛、ジメチルジチオカーバミン酸ナトリウム、ジエチルジチオカーバミン酸ナトリウム、ジメチルジチオカーバミン酸銅、ジメチルジチオカーバミン酸鉄(III)、ジエチルジチオカーバミン酸セレン、ジエチルジチオカーバミン酸テルル等が挙げられる。
グアニジン系促進剤としては、ジ−o−トリルグアニジン、1,3−ジフェニルグアニジン、1−o−トリルビグアニド、ジカテコールボレートのジ−o−トリルグアニジン塩等が挙げられる。
スルフェンアミド類としては、N−シクロヘキシル−2−ベンゾチアジルスルフェンアミド等が挙げられる。
これらは1種類を単独で用いても、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
なかでも、加硫促進剤としては、ジベンゾチアジルスルフィドまたは/およびテトラメチルチウラムモノスルフィドを用いることが好ましい。
無機促進剤としては、消石灰、MgO等の酸化マグネシウム、酸化チタンまたはリサージ(PbO)等が挙げられる。
有機促進剤として、チウラム類、チアゾール類、チオウレア類、ジチオカーバミン酸塩類、グアニジン類およびスルフェンアミド類等が例示される。
チウラム類としては、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィドまたはジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド等が挙げられる。
チアゾール類としては、2−メルカプトベンゾチアゾール、ジベンゾチアジルジスルフィド、N−シクロヘキシルベンゾチアゾール、N−シクロヘキシル−2−ベンゾチアゾールスルフェンアミド、N−オキシジエチレン−2−ベンゾチアゾールスルフェンアミド、N−tert−ブチル−2−ベンゾチアゾールスルフェンアミドまたはN,N−ジシクロヘキシル−2−ベンゾチアゾールスルフェンアミド等が挙げられる。
チオウレア類としては、N,N’−ジエチルチオウレア、エチレンチオウレアまたはトリメチルチオウレア等が挙げられる。
ジチオカーバミン酸塩類としては、ジメチルジチオカーバミン酸亜鉛、ジエチルジチオカーバミン酸亜鉛、ジブチルジチオカーバミン酸亜鉛、ジメチルジチオカーバミン酸ナトリウム、ジエチルジチオカーバミン酸ナトリウム、ジメチルジチオカーバミン酸銅、ジメチルジチオカーバミン酸鉄(III)、ジエチルジチオカーバミン酸セレン、ジエチルジチオカーバミン酸テルル等が挙げられる。
グアニジン系促進剤としては、ジ−o−トリルグアニジン、1,3−ジフェニルグアニジン、1−o−トリルビグアニド、ジカテコールボレートのジ−o−トリルグアニジン塩等が挙げられる。
スルフェンアミド類としては、N−シクロヘキシル−2−ベンゾチアジルスルフェンアミド等が挙げられる。
これらは1種類を単独で用いても、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
なかでも、加硫促進剤としては、ジベンゾチアジルスルフィドまたは/およびテトラメチルチウラムモノスルフィドを用いることが好ましい。
前記老化防止剤とは、老化と呼ばれる酸化劣化、熱劣化、オゾン劣化、疲労劣化などの一連の劣化を防止する配合剤のことをいい、アミン類やフェノール類からなる一次老化剤と、硫黄化合物やフォスファイト類からなる二次老化防止剤とに分類される。一次老化防止剤は各種ポリマーラジカルに水素を供与して自動酸化の連鎖反応を停止させる機能を有し、二次老化防止剤はヒドロキシペルオキシドを安定なアルコールに変えることにより安定化作用を示すものである。
近年の画像形成装置用クリーニングブレードはあらゆる環境にさらされるため、クリーニングブレードには老化に対する防止対策が必要となる。まず、感光体とクリーニングブレードとの摩擦によりポリマーが破壊されポリマーの破壊によって発生したラジカルが自動酸化反応を促進し、酸化劣化として磨耗が促進されるため、クリーニングブレードには酸化劣化の防止対策が必要である。また、クリーニングブレードは高温環境にさらされるため、熱劣化の防止対策も重要である。さらに、帯電機構によりオゾンが発生するため、オゾン劣化の防止対策も必要である。そのため、数種の老化防止剤を組み合わせることにより、前記の各劣化を防止することができる。特に、酸化劣化によるクリーニングブレードのエッジ磨耗を防止するための老化防止剤を配合することは重要である。
前記老化防止剤としては、アミン類、フェノール類、イミダゾール類、リン類またはチオウレア類等が挙げられる。
アミン類としては、フェニル−α−ナフチルアミン、2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリンポリマー、6−エトキシ−2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン、p,p’−ジオクチルジフェニルアミン、p,p’−ジクミルジフェニルアミン、N,N’−ジ−2−ナフチル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−N’−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−N’−1,3−ジメチルブチル−p−フェニレンジアミン等が挙げられる。
アミン類としては、フェニル−α−ナフチルアミン、2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリンポリマー、6−エトキシ−2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン、p,p’−ジオクチルジフェニルアミン、p,p’−ジクミルジフェニルアミン、N,N’−ジ−2−ナフチル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−N’−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−N’−1,3−ジメチルブチル−p−フェニレンジアミン等が挙げられる。
フェノール類としては、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、スチレン化メチルフェノール、2,2’−メチレンビス(4−エチル−6−tert−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、4,4’−チオビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、2,5−ジ−tert−ブチルハイドロキノン、2,5−ジ−tert−アミルハイドロキノン等が挙げられる。
イミダゾール類としては、2−メルカプトベンズイミダゾール、2−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸ニッケル等が挙げられる。
イミダゾール類としては、2−メルカプトベンズイミダゾール、2−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸ニッケル等が挙げられる。
その他、トリス(ノニル化フェニル)フォスファイトなどのリン類、1,3−ビス(ジメチルアミノプロピル)−2−チオウレア、トリブチルチオウレアなどのチオウレア類、オゾン劣化防止用ワックス等を用いてもよい。
これらは1種類を単独で用いても、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
なかでも、老化防止剤としては、p、p’−ジクミルジフェニルアミンまたは/および2−メルカプトベンゾイミダゾールを用いることが好ましい。
これらは1種類を単独で用いても、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
なかでも、老化防止剤としては、p、p’−ジクミルジフェニルアミンまたは/および2−メルカプトベンゾイミダゾールを用いることが好ましい。
前記老化防止剤の配合量はゴム成分(1)100質量部に対して0.1質量部〜15質量部であることが好ましい。ゴム成分100質量部に対する老化防止剤の配合量を0.1質量部〜15質量部としているのは、配合量が0.1質量部未満であると老化防止の効果が発揮されず機械的物性の低下や磨耗が激しく進行してしまうおそれがあるためであり、配合量が15質量部を超えると過剰な配合により分散不良が生じ機械的物性の低下を招くおそれがある。
さらに、充填剤(2)として共架橋剤を配合してもよい。共架橋剤は、それ自身も架橋すると共にゴム分子とも反応して架橋し全体を高分子化する働きをするものを総称しており、一般的に、メタクリル酸エステル、メタクリル酸もしくはアクリル酸の金属塩に代表されるエチレン性不飽和単量体、多官能ポリマー類またはジオキシム等が挙げられる。
前記エチレン性不飽和単量体としては、
(a)アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などのモノカルボン酸類、
(b)マレイン酸、フマル酸、イタコン酸などのジカルボン酸類、
(c)前記(a)、(b)の不飽和カルボン酸類のエステルまたは無水物、
(d)(a)〜(c)の金属塩、
(e)1,3−ブタジエン、イソプレン、2−クロル−1,3−ブタジエンなどの脂肪族共役ジエン、
(f)スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、エチルビニルベンゼン、ジビニルベンゼンなどの芳香族ビニル化合物、
(g)トリアリルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレート、ビニルピリジンなどの複素環を有するビニル化合物、
(h)その他、(メタ)アクリロニトリルもしくはα−クロルアクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合物、アクロレイン、ホルミルスチロール、ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン、ビニルブチルケトンなどが挙げられる。
(a)アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などのモノカルボン酸類、
(b)マレイン酸、フマル酸、イタコン酸などのジカルボン酸類、
(c)前記(a)、(b)の不飽和カルボン酸類のエステルまたは無水物、
(d)(a)〜(c)の金属塩、
(e)1,3−ブタジエン、イソプレン、2−クロル−1,3−ブタジエンなどの脂肪族共役ジエン、
(f)スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、エチルビニルベンゼン、ジビニルベンゼンなどの芳香族ビニル化合物、
(g)トリアリルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレート、ビニルピリジンなどの複素環を有するビニル化合物、
(h)その他、(メタ)アクリロニトリルもしくはα−クロルアクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合物、アクロレイン、ホルミルスチロール、ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトン、ビニルブチルケトンなどが挙げられる。
さらに、充填剤(2)としてゴム用軟化剤を配合してもよい。該ゴム用軟化剤としては、具体的には、フタル酸誘導体、イソフタル酸誘導体、アジピン酸誘導体、セバチン酸誘導体、安息香酸誘導体およびリン酸誘導体などが挙げられる。
より具体的には、ジブチルフタレート(DBP)、ジ−(2−エチルヘキシル)フタレート等のジオクチルフタレート(DOP)、ジイソオクチルフタレート(DIOP)、高級アルコール−フタレート、ジ−(2−エチルヘキシル)セバケート、アジピン酸ポリエステル、ジブチルジグリコール−アジペート、ジ(ブトキシエトキシエチル)アジペート、イソオクチル−トール油脂肪酸エステル、トリブチルフォスフェート(TBP)、トリブトキシエチル−フォスフェート(TBEP)、トリクレジルフォスフェート(TCP)、クレジル−ジフェニクルフォスフェート(CDP)、ジフェニルアルカン等が挙げられる。これらは1種類を単独で用いても、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
前記ゴム用軟化剤の配合量はゴム成分の物性が十分発揮される量であればよく、必要に応じてゴム成分100質量部に対して0質量〜5質量部の範囲から選択することができる。
より具体的には、ジブチルフタレート(DBP)、ジ−(2−エチルヘキシル)フタレート等のジオクチルフタレート(DOP)、ジイソオクチルフタレート(DIOP)、高級アルコール−フタレート、ジ−(2−エチルヘキシル)セバケート、アジピン酸ポリエステル、ジブチルジグリコール−アジペート、ジ(ブトキシエトキシエチル)アジペート、イソオクチル−トール油脂肪酸エステル、トリブチルフォスフェート(TBP)、トリブトキシエチル−フォスフェート(TBEP)、トリクレジルフォスフェート(TCP)、クレジル−ジフェニクルフォスフェート(CDP)、ジフェニルアルカン等が挙げられる。これらは1種類を単独で用いても、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
前記ゴム用軟化剤の配合量はゴム成分の物性が十分発揮される量であればよく、必要に応じてゴム成分100質量部に対して0質量〜5質量部の範囲から選択することができる。
その他の添加剤としては、アミド化合物、脂肪酸、脂肪酸金属塩またはワックス等が挙げられる。
アミド化合物としては、脂肪族系アミド化合物または芳香族系アミド化合物が挙げられる。脂肪族系アミド化合物の脂肪酸としては、オレイン酸、ステアリン酸、エルカ酸、カプロン酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、アラキジン酸、ベヘニン酸、パルミトレイン酸、エイコセン酸、エルシン酸、エライジン酸、トランス−11−エイコセン酸、トランス−13−ドコセン酸、リノール酸、リノレン酸、リシノール酸が挙げられる。脂肪族系アミド化合物としては、具体的にはエチレンビスエルカ酸アミド、エチレンビスオレイン酸アミド、エチレンビスステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、ステアリン酸アミド、エルカ酸アミド、ベヘニン酸アミドなどが挙げられ、特に、オレイン酸アミド、ステアリン酸アミド、エルカ酸アミドが好ましい。
脂肪酸としては、ラウリル酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ミステリン酸またはオレイン酸が挙げられ、脂肪酸金属塩としては、前記脂肪酸と亜鉛、鉄、カルシウム、アルミニウム、リチウム、マグネシウム、ストロンチウム、バリウム、セリウム、チタン、ジルコニウム、鉛またはマンガンとの金属塩が挙げられる。
ワックスとしては、パラフィン系ワックス、モンタン系ワックス、アマイド系ワックス等が挙げられる。
これらの添加剤の配合量はゴム成分の物性が十分発揮される量であればよく、本発明においてはゴム成分100質量部に対して0質量部〜10質量部の範囲から選択することができる。
アミド化合物としては、脂肪族系アミド化合物または芳香族系アミド化合物が挙げられる。脂肪族系アミド化合物の脂肪酸としては、オレイン酸、ステアリン酸、エルカ酸、カプロン酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、アラキジン酸、ベヘニン酸、パルミトレイン酸、エイコセン酸、エルシン酸、エライジン酸、トランス−11−エイコセン酸、トランス−13−ドコセン酸、リノール酸、リノレン酸、リシノール酸が挙げられる。脂肪族系アミド化合物としては、具体的にはエチレンビスエルカ酸アミド、エチレンビスオレイン酸アミド、エチレンビスステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、ステアリン酸アミド、エルカ酸アミド、ベヘニン酸アミドなどが挙げられ、特に、オレイン酸アミド、ステアリン酸アミド、エルカ酸アミドが好ましい。
脂肪酸としては、ラウリル酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ミステリン酸またはオレイン酸が挙げられ、脂肪酸金属塩としては、前記脂肪酸と亜鉛、鉄、カルシウム、アルミニウム、リチウム、マグネシウム、ストロンチウム、バリウム、セリウム、チタン、ジルコニウム、鉛またはマンガンとの金属塩が挙げられる。
ワックスとしては、パラフィン系ワックス、モンタン系ワックス、アマイド系ワックス等が挙げられる。
これらの添加剤の配合量はゴム成分の物性が十分発揮される量であればよく、本発明においてはゴム成分100質量部に対して0質量部〜10質量部の範囲から選択することができる。
本発明の画像形成装置用クリーニングブレードの製造方法によれば、ゴム成分(1)をゴム混練装置で粗練りした後に、該ゴム混練装置に、酸化亜鉛を含む充填剤(2)と硫黄を含む加硫剤(3)とを同時に投入して混練するため、酸化亜鉛と硫黄とを十分に混合して酸化亜鉛を微分散することができ、該混練した熱可塑性エラストマー塑性物をプレス加硫する際に、酸化亜鉛が架橋剤とより多く接触して反応し、酸化亜鉛の架橋促進助剤としての作用がより有効に発揮されて加硫が促進し、加硫時に生成される硫化亜鉛が組成物中で微分散される。このように加硫が促進される結果、製造するクリーニングブレードの耐摩耗性が向上し、感光体などの被クリーニング部材との接地圧を高く設定することができクリーニング性能を向上させることができる。
以下、本発明の画像形成装置用クリーニングブレードの実施形態について詳述する。
図1に、本発明のクリーニングブレード10を示す。クリーニングブレード10は、通常、接着剤により支持部材21に接合されている。支持部材21は剛体の金属、弾性を有する金属、プラスチックまたはセラミック等で形成されたものが用いられるが、金属製が好ましく、クロムフリーSECC製が特に好ましい。
クリーニングブレード10と支持部材21とを接合するために用いる接着剤としては、ポリアミド系もしくはポリウレタン系ホットメルト接着剤や、エポキシ系もしくはフェノール系接着剤等が挙げられる。これらのなかではホットメルト接着剤を用いることが好ましい。
図1に、本発明のクリーニングブレード10を示す。クリーニングブレード10は、通常、接着剤により支持部材21に接合されている。支持部材21は剛体の金属、弾性を有する金属、プラスチックまたはセラミック等で形成されたものが用いられるが、金属製が好ましく、クロムフリーSECC製が特に好ましい。
クリーニングブレード10と支持部材21とを接合するために用いる接着剤としては、ポリアミド系もしくはポリウレタン系ホットメルト接着剤や、エポキシ系もしくはフェノール系接着剤等が挙げられる。これらのなかではホットメルト接着剤を用いることが好ましい。
図3に本発明のクリーニングブレード10が装着された画像形成装置を示す。図3に示す画像形成装置において、以下の工程で画像が形成される。
まず、感光体12が図中の矢印の方向に回転し、帯電ローラ11によって感光体12が帯電された後に、鏡16を介してレーザー17が感光体12の非画像部を露光して除電し、画線部に相当する部分が帯電した状態になる。次に、トナー15aが感光体12上に供給されて、帯電画線部にトナー15aが付着し1色目の画像が形成される。このトナー画像は一次転写ローラ19aを介して中間転写ベルト13上へ転写される。同様にして、感光体12上に形成されたトナー15b〜15dの各色の画像が中間転写ベルト13上に転写され、転写ベルト13上に4色のトナー15(15a〜15d)からなるフルカラー画像が一旦形成される。このフルカラー画像は二次転写ローラ19bを介して被転写体(通常は紙)18上へ転写され、所定の温度に加熱されている定着ローラ14を通過することで被転写体18の表面へ定着される。
まず、感光体12が図中の矢印の方向に回転し、帯電ローラ11によって感光体12が帯電された後に、鏡16を介してレーザー17が感光体12の非画像部を露光して除電し、画線部に相当する部分が帯電した状態になる。次に、トナー15aが感光体12上に供給されて、帯電画線部にトナー15aが付着し1色目の画像が形成される。このトナー画像は一次転写ローラ19aを介して中間転写ベルト13上へ転写される。同様にして、感光体12上に形成されたトナー15b〜15dの各色の画像が中間転写ベルト13上に転写され、転写ベルト13上に4色のトナー15(15a〜15d)からなるフルカラー画像が一旦形成される。このフルカラー画像は二次転写ローラ19bを介して被転写体(通常は紙)18上へ転写され、所定の温度に加熱されている定着ローラ14を通過することで被転写体18の表面へ定着される。
前記工程において、複数枚の記録紙に順次複写を行うために、中間転写ベルト13上へ転写されず感光体12上に残留したトナーは、感光体12表面に圧接されているクリーニングブレード10が感光体12を摺擦することにより除去され、トナー回収ボックス22に回収される。
前記本発明のクリーニングブレード10の製造方法を以下に説明する。
アクリロニトリルブタジエン系ゴムを2軸押出機、オープンロール、バンバリーミキサー、またはニーダからなるゴム混練装置に挿入し、60〜110℃で0.5〜6分間、粗練りゴム成分(1)の粗練り工程と、
前記粗練り工程後に、少なくともカーボンブラックおよび酸化亜鉛を含む充填剤(2)と、硫黄を含む架橋剤(3)とを同時に前記ゴム混練装置に投入し、60〜110℃で0.5〜10分間、て混練りする混練工程と、
前記混練工程で得られた熱硬化性エラストマー組成物からなる混練物を金型に充填し、160〜170℃で20〜40分間プレス加硫し、該加硫時に硫化亜鉛を生成させて、成形しているプレス加硫工程とで、前記クリーニングブレード10を製造している。
アクリロニトリルブタジエン系ゴムを2軸押出機、オープンロール、バンバリーミキサー、またはニーダからなるゴム混練装置に挿入し、60〜110℃で0.5〜6分間、粗練りゴム成分(1)の粗練り工程と、
前記粗練り工程後に、少なくともカーボンブラックおよび酸化亜鉛を含む充填剤(2)と、硫黄を含む架橋剤(3)とを同時に前記ゴム混練装置に投入し、60〜110℃で0.5〜10分間、て混練りする混練工程と、
前記混練工程で得られた熱硬化性エラストマー組成物からなる混練物を金型に充填し、160〜170℃で20〜40分間プレス加硫し、該加硫時に硫化亜鉛を生成させて、成形しているプレス加硫工程とで、前記クリーニングブレード10を製造している。
前記ゴム成分(1)の粗練り工程では、前記ゴム混練装置に、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)、残存二重結合が10%以下の水素添加したアクリロニトリルブタジエンゴム(HNBR)、カルボキシル基を導入したアクリロニトリルブタジエンゴム(XNBR)またはカルボキシル基を導入し水素添加したアクリロニトリルブタジエンゴム(HXNBR)のみを投入して、前記のように、60〜110℃で0.5〜6分間粗練りしている。
前記ゴム成分(1)のNBRとしては、結合アクリロニトリル量が25%以下である低ニトリルNBR、結合アクリロニトリル量が25%〜31%である中ニトリルNBR、結合アクリロニトリル量が31%〜36%である中高ニトリルNBR、結合アクリロニトリル量が36%以上である高ニトリルNBRのいずれを用いてもよい。なかでも、NBRの結合アクリロニトリル量は21%〜46%であることが好ましく、31%〜36%であることがより好ましい。
前記HNBRは、NBRのポリマー主鎖にあるブタジエンに含まれる二重結合を化学的に水素化することによって得られる。該HNBRとしては、水素化後の残存二重結合が10%以下であるHNBRを用いている。また、HNBRの結合アクリロニトリル量は21%〜46%であることが好ましく、21%〜44%であることがより好ましい。結合アクリロニトリル量を21%〜46%としているのは、結合アクリロニトリル量が21%未満であると機械的物性が低下するためであり、結合アクリロニトリル量が46%を超えると熱硬化性エラストマーのガラス転移温度Tgが高くなり、低温低湿時のクリーニング性能が悪くなりやすいためである。
さらに、HNBRのムーニー粘度ML1+4(100℃)は20〜160であることが好ましい。
さらに、HNBRのムーニー粘度ML1+4(100℃)は20〜160であることが好ましい。
前記XNBRまたはHXNBRは、NBRまたはHNBRの第三成分としてアクリル酸またはメタクリル酸を三元共重合し、側鎖もしくは末端にカルボキシル基を導入したものである。カルボキシル基の含有率は0.5〜30質量%であることが好ましい。該XNBRまたはHXNBRとしては、既に共重合された市販品を使用することができる。例えばBayer社製のKyynacシリーズやTherbanシリーズを用いることができる。
前記したNBR、HNBR、XNBRまたはHXNBRをゴム混練装置で粗練りした後、前記のように充填剤(2)と架橋剤(3)とを同時に投入して混練している。
前記充填剤(2)としては少なくとも酸化亜鉛とカーボンブラックを含み、さらに、ステアリン酸素、老化防止剤および加硫促進剤を配合している。
前記充填剤(2)としては少なくとも酸化亜鉛とカーボンブラックを含み、さらに、ステアリン酸素、老化防止剤および加硫促進剤を配合している。
前記酸化亜鉛の粒径は1〜40μm、好ましくは5〜40μmであり、混練工程で組成物中に微分散されている。酸化亜鉛の配合量は、前記ゴム成分(1)100質量部に対し1質量部〜15質量部とし、好ましくは1質量部〜10質量部である。
前記充填剤(2)として配合するカーボンブラックは補強剤として機能し、機械的物性の向上に寄与する。カーボンブラックとしてはISAFカーボンを用いることが好ましい。補強剤の配合量は前記ゴム成分(1)100質量部に対して5質量部〜30質量部であることが特に好ましく、10質量部〜30質量部であることが最も好ましい。
前記充填剤(2)として配合するステアリン酸は酸化亜鉛とともに架橋促進助剤として通常機能する。ステアリン酸の配合量は、前記ゴム成分(1)100質量部に対し0.1質量部〜20質量部であることが好ましく、0.5質量部〜10質量部であることがより好ましく、0.5質量部〜5質量部であることが更に好ましい。
さらに、充填剤(2)として、共架橋剤、加硫促進剤、老化防止剤、ゴム用軟化剤、その他の添加剤を配合してもよい。なかでも、加硫促進剤および老化防止剤を配合することが好ましい。
前記充填剤(2)と架橋剤(3)とを同時に粗練りしたゴム成分中に投入して混練する工程は、前記のように、60℃〜110℃に加熱しながら0.5分〜10分間練っている。
以上のようにして得られた熱硬化性エラストマー組成物を金型に充填して、160℃〜170℃にて20分〜40分間プレス加硫して前記クリーニングブレード10を成形している。加硫温度が160℃未満、加硫時間が20分未満では加硫不足になるからであり、加硫温度が170℃を超え、加硫時間が40分を超えてはゴム成分(1)が分解するおそれがあるからである。
成形したクリーニングブレード10は、厚さ1mm〜3mm、幅10mm〜40mm、長さ200mm〜500mmの短冊状に成形している。
前記方法で製造したクリーニングブレード10は、下記の性能を有するものである。
画像形成装置に装着して行う通紙試験後における摩耗指標値が40μm以下である。当該摩耗指標値の下限は限りなく0に近い方が良いが、1μm以上である。
これは摩耗面の断面長さが1μmより小さいということは熱硬化性エラストマーが摩耗していないということになり現実的にありえない領域であるため、1μm以上としている。また、上限を40μm以下としているのは、40μmより大きくなるとエッジが激しく摩耗してしまったこととなりクリーニング不良が発生するおそれがあることによる。
画像形成装置に装着して行う通紙試験後における摩耗指標値が40μm以下である。当該摩耗指標値の下限は限りなく0に近い方が良いが、1μm以上である。
これは摩耗面の断面長さが1μmより小さいということは熱硬化性エラストマーが摩耗していないということになり現実的にありえない領域であるため、1μm以上としている。また、上限を40μm以下としているのは、40μmより大きくなるとエッジが激しく摩耗してしまったこととなりクリーニング不良が発生するおそれがあることによる。
画像形成装置に装着して行う通紙試験後におけるクリーニング性能値が0.5以下である。
クリーニング性能値を0.5以下としているのは、0.5より大きくなるとトナーのすり抜け量が多くなり印刷画像に悪影響を及ぼす恐れがあることによる。下限は限りなく0に近い方が良いが、0.1以上である。クリーニング性能値が0とはトナーを全てクリーニングしたこととなり最も良好なクリーニング性能を示すこととなる。
クリーニング性能値を0.5以下としているのは、0.5より大きくなるとトナーのすり抜け量が多くなり印刷画像に悪影響を及ぼす恐れがあることによる。下限は限りなく0に近い方が良いが、0.1以上である。クリーニング性能値が0とはトナーを全てクリーニングしたこととなり最も良好なクリーニング性能を示すこととなる。
画像形成装置に装着して行う通紙試験後における摩耗指標値およびクリーニング性能値は、下記の要領で測定し評価している。
まず、通紙試験を行う。具体的には、熱硬化性エラストマー組成物からなる2mm厚シートよりブレード状の大きさに打ち抜いたクリーニングブレードを支持体に接着して支持し、該クリーニングブレードを感光体に接触させた状態で画像形成装置に装着する。画像形成装置は感光体が回転しトナーが現像可能なプリンターである。トナーとしては体積平均粒径が5〜10μmで、球形化度0.90〜0.99の真球重合トナーを用いる。温度23℃、相対湿度55%の条件下、感光体の回転速度を200〜500mm/秒として、4%の印字濃度で150,000枚印刷する。
まず、通紙試験を行う。具体的には、熱硬化性エラストマー組成物からなる2mm厚シートよりブレード状の大きさに打ち抜いたクリーニングブレードを支持体に接着して支持し、該クリーニングブレードを感光体に接触させた状態で画像形成装置に装着する。画像形成装置は感光体が回転しトナーが現像可能なプリンターである。トナーとしては体積平均粒径が5〜10μmで、球形化度0.90〜0.99の真球重合トナーを用いる。温度23℃、相対湿度55%の条件下、感光体の回転速度を200〜500mm/秒として、4%の印字濃度で150,000枚印刷する。
通紙試験後のクリーニングブレードのエッジを観察すると、図2(A)の断面図に示したようにエッジ部分が摩耗している。網掛け部分がブレードの摩耗部分である。図2(A)の断面図では、摩耗面が直線になっているが、曲線を描いていてもよい。
摩耗面の断面長さWs(図中の23d)は、クリーニングブレードの表面10aにおける摩耗長さ、すなわち深さ方向の摩耗長さである摩耗深さWm(図中の23a)の摩耗端と、クリーニングブレードの厚さ面10bにおける摩耗長さ、すなわち長さ方向の摩耗長さである摩耗幅Wc(図中の23b)の摩耗端とを直線で結んだときの傾斜面の長さである。そして、摩耗指標値は摩耗面の断面長さWsの傾斜45度時の水平距離として測定する。具体的には、通紙試験後に画像形成装置から取り出したクリーニングブレードを、図1に示すように直立させた状態、すなわち厚さ面10bが地面と水平な状態からクリーニングブレードの表面10aが上になるように45°傾ける。その状態でのクリーニングブレードの先端部分の拡大断面図が図2(B)の断面図である。断面長さWs(図中の23d)の水平距離(図中の24)が摩耗指標値である。
摩耗面の断面長さWs(図中の23d)は、クリーニングブレードの表面10aにおける摩耗長さ、すなわち深さ方向の摩耗長さである摩耗深さWm(図中の23a)の摩耗端と、クリーニングブレードの厚さ面10bにおける摩耗長さ、すなわち長さ方向の摩耗長さである摩耗幅Wc(図中の23b)の摩耗端とを直線で結んだときの傾斜面の長さである。そして、摩耗指標値は摩耗面の断面長さWsの傾斜45度時の水平距離として測定する。具体的には、通紙試験後に画像形成装置から取り出したクリーニングブレードを、図1に示すように直立させた状態、すなわち厚さ面10bが地面と水平な状態からクリーニングブレードの表面10aが上になるように45°傾ける。その状態でのクリーニングブレードの先端部分の拡大断面図が図2(B)の断面図である。断面長さWs(図中の23d)の水平距離(図中の24)が摩耗指標値である。
通紙試験後に、あらかじめ感光体への単位面積あたりのトナー量を計算しておき、すり抜け前トナー量Taとする。次に感光体を回転させ、クリーニングブレードでトナーをクリーニングさせる。その後、クリーニングブレード後方の感光体上に存在するトナー量を単位面積に換算し、すり抜け後トナー量Tbとする。すり抜け前トナー量Taに対するすり抜け後トナー量Tbの比(Tb/Ta)がクリーニング性能値である。
以下、本発明の実施例および比較例について説明する。
(実施例1〜4)
ゴム成分(1)を表1に示す配合量計量し、ゴム混練装置に投入して60℃〜110℃に加熱しながら0.5分〜6分間素練りした。
ゴム成分(1)に、充填剤(2)および架橋剤(3)を表1に示す配合量計量し、ゴム混練装置に投入して60℃〜110℃に加熱しながら0.5分〜10分間混練りした。
得られた熱硬化性エラストマー組成物を金型内にセットし、160℃にて30分間程度プレス加硫して、2mm厚のシートを作製した。
さらに、2mm厚のシートから幅27mm、長さ320mmのクリーニングブレードを切り出し、当該クリーニングブレードをクロムフリーSECC製の支持部材にホットメルト(ダイヤモンド製材質)を用いて貼り付け、シート中心部をカットしてクリーニング部材を作製した。
(実施例1〜4)
ゴム成分(1)を表1に示す配合量計量し、ゴム混練装置に投入して60℃〜110℃に加熱しながら0.5分〜6分間素練りした。
ゴム成分(1)に、充填剤(2)および架橋剤(3)を表1に示す配合量計量し、ゴム混練装置に投入して60℃〜110℃に加熱しながら0.5分〜10分間混練りした。
得られた熱硬化性エラストマー組成物を金型内にセットし、160℃にて30分間程度プレス加硫して、2mm厚のシートを作製した。
さらに、2mm厚のシートから幅27mm、長さ320mmのクリーニングブレードを切り出し、当該クリーニングブレードをクロムフリーSECC製の支持部材にホットメルト(ダイヤモンド製材質)を用いて貼り付け、シート中心部をカットしてクリーニング部材を作製した。
(比較例1〜4)
ゴム成分(1)を表1に示す配合量計量し、ゴム混練装置に投入して60℃〜110℃に加熱しながら0.5分〜6分間素練りした。
ゴム成分(1)に、充填剤(2)を表1に示す配合量計量し、ゴム混練装置に投入して60℃〜110℃に加熱しながら0.5分〜10分間混練りした。
得られた混合物と表1に示す配合量の架橋剤(3)をゴム混練装置に投入して、60℃〜110℃に加熱しながら0.5分〜10分間混練りした。
得られた熱硬化性エラストマー組成物を用いて、実施例と同様にしてクリーニング部材を作製した。
ゴム成分(1)を表1に示す配合量計量し、ゴム混練装置に投入して60℃〜110℃に加熱しながら0.5分〜6分間素練りした。
ゴム成分(1)に、充填剤(2)を表1に示す配合量計量し、ゴム混練装置に投入して60℃〜110℃に加熱しながら0.5分〜10分間混練りした。
得られた混合物と表1に示す配合量の架橋剤(3)をゴム混練装置に投入して、60℃〜110℃に加熱しながら0.5分〜10分間混練りした。
得られた熱硬化性エラストマー組成物を用いて、実施例と同様にしてクリーニング部材を作製した。
表1のゴム成分(1)、充填剤(2)、架橋剤(3)の配合量の単位は質量部である。
表1に記載の成分のうち下記成分については、具体的に下記製品を用いた。
・NBR;JSR(株)製「N232S(商品名)」(結合アクリロニトリル量35%)
・HNBR;日本ゼオン(株)製「Zetpol2010H(商品名)」(結合アクリロニトリル量36% ムーニー粘度145)
・XNBR;Bayer社製「Kryrac X7.50(商品名)」
・HXNBR;Bayer社製「Therban XT VPKA8889(商品名)」
・カーボンブラック;東海カーボン(株)製「シーストISAF(商品名)」
・ステアリン酸:日本油脂(株)製「つばき(商品名)」
・酸化亜鉛;三井金属(株)製「酸化亜鉛2種(商品名)」
・老化防止剤A(p,p’−ジクミルジフェニルアミン);大内新興化学工業(株)製「ノクラックCD(商品名)」
・老化防止剤B(2−メルカプトベンゾイミダゾール);大内新興化学工業(株)製「ノクラックMB(商品名)」
・加硫促進剤A(ジベンゾチアジルスルフィド);大内新興化学工業(株)製「ノクセラーDM(商品名)」
・加硫促進剤B;(テトラメチルチウラムモノスルフィド);大内新興化学工業(株)製「ノクセラーTS(商品名)」
・硫黄;鶴見化学工業(株)製、粉末硫黄
表1に記載の成分のうち下記成分については、具体的に下記製品を用いた。
・NBR;JSR(株)製「N232S(商品名)」(結合アクリロニトリル量35%)
・HNBR;日本ゼオン(株)製「Zetpol2010H(商品名)」(結合アクリロニトリル量36% ムーニー粘度145)
・XNBR;Bayer社製「Kryrac X7.50(商品名)」
・HXNBR;Bayer社製「Therban XT VPKA8889(商品名)」
・カーボンブラック;東海カーボン(株)製「シーストISAF(商品名)」
・ステアリン酸:日本油脂(株)製「つばき(商品名)」
・酸化亜鉛;三井金属(株)製「酸化亜鉛2種(商品名)」
・老化防止剤A(p,p’−ジクミルジフェニルアミン);大内新興化学工業(株)製「ノクラックCD(商品名)」
・老化防止剤B(2−メルカプトベンゾイミダゾール);大内新興化学工業(株)製「ノクラックMB(商品名)」
・加硫促進剤A(ジベンゾチアジルスルフィド);大内新興化学工業(株)製「ノクセラーDM(商品名)」
・加硫促進剤B;(テトラメチルチウラムモノスルフィド);大内新興化学工業(株)製「ノクセラーTS(商品名)」
・硫黄;鶴見化学工業(株)製、粉末硫黄
得られたクリーニングブレードについて下記試験を行った。
(硫化亜鉛、酸化亜鉛の有無の特定)
クリーニングブレードより約50μmの厚さに切り出した薄切片試料をフーリエ変換赤外分光分析装置(パーキンエルマー社製「Spectrum TM GX」)で測定し、硫化亜鉛または酸化亜鉛のピークよりその有無を確認した。なお、測定条件は、透過法で、分解能 16cm−1、レンジ 150〜160cm−1(遠赤外線領域)とした。
(硫化亜鉛、酸化亜鉛の有無の特定)
クリーニングブレードより約50μmの厚さに切り出した薄切片試料をフーリエ変換赤外分光分析装置(パーキンエルマー社製「Spectrum TM GX」)で測定し、硫化亜鉛または酸化亜鉛のピークよりその有無を確認した。なお、測定条件は、透過法で、分解能 16cm−1、レンジ 150〜160cm−1(遠赤外線領域)とした。
(硫化亜鉛、酸化亜鉛の有無の特定)
クリーニングブレードより試料のシートを作製し、該試料のシートをミクロトームで切片化して断面を面だしした。エネルギー分散型元素分析装置EDX(堀場製作所製6650H)を装備した走査型電子顕微鏡ESEM(ニコンインステック製XL30ESEM)にて前記断面を観察し、硫化亜鉛または酸化亜鉛と思われる白色像の元素分析を行い、硫化亜鉛または酸化亜鉛を断定しその粒径を測定した。
クリーニングブレードより試料のシートを作製し、該試料のシートをミクロトームで切片化して断面を面だしした。エネルギー分散型元素分析装置EDX(堀場製作所製6650H)を装備した走査型電子顕微鏡ESEM(ニコンインステック製XL30ESEM)にて前記断面を観察し、硫化亜鉛または酸化亜鉛と思われる白色像の元素分析を行い、硫化亜鉛または酸化亜鉛を断定しその粒径を測定した。
(3)耐摩耗性評価
実施例および比較例で作製したクリーニング部材を画像形成装置に装着した。当該画像形成装置は感光体が回転し画像形成可能な市販のプリンターである。感光体の回転速度を200〜500mm/秒として4%印字濃度で150,000枚印刷し、印刷後のクリーニングブレードのエッジを観察した。
耐摩耗性評価は、図2に示すように、摩耗深さWm(図中の23a)の摩耗端と、摩耗幅Wc(図中の23b)の摩耗端とを直線で結んだときの傾斜面の長さである断面長さWs(符号23d)を傾斜45度時の水平距離(符号24)として測定し、得られた値を摩耗指標値としてその大小で耐摩耗性を評価した。
なお、本試験は常温23℃、相対湿度55%で行った。
実施例および比較例で作製したクリーニング部材を画像形成装置に装着した。当該画像形成装置は感光体が回転し画像形成可能な市販のプリンターである。感光体の回転速度を200〜500mm/秒として4%印字濃度で150,000枚印刷し、印刷後のクリーニングブレードのエッジを観察した。
耐摩耗性評価は、図2に示すように、摩耗深さWm(図中の23a)の摩耗端と、摩耗幅Wc(図中の23b)の摩耗端とを直線で結んだときの傾斜面の長さである断面長さWs(符号23d)を傾斜45度時の水平距離(符号24)として測定し、得られた値を摩耗指標値としてその大小で耐摩耗性を評価した。
なお、本試験は常温23℃、相対湿度55%で行った。
(4)クリーニング性能評価
実施例および比較例で作製したクリーニング部材を、感光体が回転しトナーが現像可能な画像形成装置(自社製)に装着した。なお、トナーとしては体積平均粒径が5〜10μmで、球形化度0.90〜0.99の真球重合トナーを用いた。
感光体の回転速度200〜500mm/秒の条件で、4%印字画像を150,000枚印刷した。ついで、予め感光体への単位面積あたりのトナー量(すり抜け前トナー量Ta)を計算しておき、感光体を回転させクリーニングブレードにトナーをクリーニングさせた。その後、クリーニングブレード後方の感光体上に存在するトナー量を単位面積あたりに換算し、すり抜けトナー量Tbを得た。これら得られた値から下記式に基づいてクリーニング性能値を算出した。
クリーニング性能値=すり抜けトナー量Tb/すり抜け前トナー量Ta
なお、本試験は常温23℃、相対湿度55%で行った。
実施例および比較例で作製したクリーニング部材を、感光体が回転しトナーが現像可能な画像形成装置(自社製)に装着した。なお、トナーとしては体積平均粒径が5〜10μmで、球形化度0.90〜0.99の真球重合トナーを用いた。
感光体の回転速度200〜500mm/秒の条件で、4%印字画像を150,000枚印刷した。ついで、予め感光体への単位面積あたりのトナー量(すり抜け前トナー量Ta)を計算しておき、感光体を回転させクリーニングブレードにトナーをクリーニングさせた。その後、クリーニングブレード後方の感光体上に存在するトナー量を単位面積あたりに換算し、すり抜けトナー量Tbを得た。これら得られた値から下記式に基づいてクリーニング性能値を算出した。
クリーニング性能値=すり抜けトナー量Tb/すり抜け前トナー量Ta
なお、本試験は常温23℃、相対湿度55%で行った。
(5)総合評価
耐摩耗性評価において摩耗指標値が40μm未満であれば耐摩耗性に優れている。また、クリーニング性能評価においてクリーニング性能値が0.5未満であればクリーニング性能に優れている。
これらを鑑み、耐摩耗性およびクリーニング性能の非常に優れているものは「◎」と、耐摩耗性およびクリーニング性能の優れているものは「○」と、耐摩耗性およびクリーニング性能のやや劣るものは「△」と、耐摩耗性およびクリーニング性能が劣るものは「×」と、耐摩耗性およびクリーニング性能が非常に劣るものは「××」と評価した。
耐摩耗性評価において摩耗指標値が40μm未満であれば耐摩耗性に優れている。また、クリーニング性能評価においてクリーニング性能値が0.5未満であればクリーニング性能に優れている。
これらを鑑み、耐摩耗性およびクリーニング性能の非常に優れているものは「◎」と、耐摩耗性およびクリーニング性能の優れているものは「○」と、耐摩耗性およびクリーニング性能のやや劣るものは「△」と、耐摩耗性およびクリーニング性能が劣るものは「×」と、耐摩耗性およびクリーニング性能が非常に劣るものは「××」と評価した。
実施例1〜4のクリーニングブレードにおいては、酸化亜鉛の粒径が18〜38μmであることから酸化亜鉛が微分散されていたと認められる。その結果、加硫が促進して、硫化亜鉛が生成し、かつその硫化亜鉛も微分散され、その結果、耐摩耗性が向上し、ひいては優れたクリーニング性能を発揮することが確認できた。
一方、比較例1,2のクリーニングブレードにおいては、酸化亜鉛の分散が十分でなく、硫化亜鉛が生成していない。そのため、耐摩耗性およびクリーニング性能において劣っていた。また、比較例3,4のクリーニングブレードにおいては、酸化亜鉛の粒径が幾分小さく、酸化亜鉛の分散性は向上している。その結果、硫化亜鉛は生成しているが、その硫化亜鉛の分散性が悪い。そのため、耐摩耗性およびクリーニング性能は十分に向上していないことが確認できた。
一方、比較例1,2のクリーニングブレードにおいては、酸化亜鉛の分散が十分でなく、硫化亜鉛が生成していない。そのため、耐摩耗性およびクリーニング性能において劣っていた。また、比較例3,4のクリーニングブレードにおいては、酸化亜鉛の粒径が幾分小さく、酸化亜鉛の分散性は向上している。その結果、硫化亜鉛は生成しているが、その硫化亜鉛の分散性が悪い。そのため、耐摩耗性およびクリーニング性能は十分に向上していないことが確認できた。
10 画像形成装置用クリーニングブレード
11 帯電ローラ
12 感光体
13 中間転写ベルト
14 定着ローラ
15 トナー
16 鏡
17 レーザー
18 被転写体
19a、19b 転写ローラ
21 支持部材
22 トナー回収ボックス
11 帯電ローラ
12 感光体
13 中間転写ベルト
14 定着ローラ
15 トナー
16 鏡
17 レーザー
18 被転写体
19a、19b 転写ローラ
21 支持部材
22 トナー回収ボックス
Claims (7)
- アクリロニトリルブタジエン系ゴムをゴム混練装置に挿入して粗練りゴム成分(1)の粗練り工程と、
前記粗練り工程後に、少なくともカーボンブラックおよび酸化亜鉛を含む充填剤(2)と、硫黄を含む架橋剤(3)とを同時に前記ゴム混練装置に投入して混練りする混練工程と、
前記混練工程で得られた熱硬化性エラストマー組成物からなる混練物をプレス加硫し、該加硫時に硫化亜鉛を生成させて、成形しているプレス加硫工程と、
を備えていることを特徴とする画像形成装置用クリーニングブレードの製造方法。 - 前記ゴム成分(1)は、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)、残存二重結合が10%以下の水素添加したアクリロニトリルブタジエンゴム(HNBR)、カルボキシル基を導入したアクリロニトリルブタジエンゴム(XNBR)またはカルボキシル基を導入し水素添加したアクリロニトリルブタジエンゴム(HXNBR)のみからなる請求項1に記載の画像形成装置用クリーニングブレードの製造方法。
- 前記混練工程で投入する前記酸化亜鉛の粒径は0.1μm以上50μm以下、前記プレス加硫工程で生成する前記硫化亜鉛の粒径は1nm以上500nm以下としている請求項1または請求項2に記載の画像形成装置用クリーニングブレードの製造方法。
- 前記粗練り工程は、60〜110℃の温度条件下で0.5〜6分間行い、前記混練工程は、60〜110℃の温度条件下で0.5〜10分間行い、前記プレス加硫は160〜170℃で20分〜40分行っている請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の画像形成装置用クリーニングブレードの製造方法。
- アクリロニトリルブタジエン系ゴムを含むゴム成分(1)と、
酸化亜鉛およびカーボンブラックを含む充填剤(2)と、
硫黄および硫化亜鉛を含む架橋剤(3)を含む熱硬化性エラストマー組成物からなり、
前記充填剤(2)の酸化亜鉛が粒径0.1μm以上50μmで微分散していると共に、前記硫化亜鉛が粒径1nm以上500nm以下で微分散していることを特徴とする画像形成装置用クリーニングブレード。 - 請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の製造方法で製造される請求項5に記載の画像形成装置用クリーニングブレード。
- 前記ゴム成分(1)100質量部に対し、前記充填剤(2)の酸化亜鉛が0.1質量部〜30質量部、カーボンブラックが0.1質量部〜100質量部、前記架橋剤(3)が0.1〜30質量部で配合されている請求項5または請求項6に記載の画像形成装置用クリーニングブレード。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007147064A JP2008299204A (ja) | 2007-06-01 | 2007-06-01 | 画像形成装置用クリーニングブレードの製造方法およびクリーニングブレード |
| EP08008519A EP1998233B1 (en) | 2007-06-01 | 2008-05-06 | Method for producing cleaning blade for use in image-forming apparatus and cleaning blade |
| US12/153,130 US20080300354A1 (en) | 2007-06-01 | 2008-05-14 | Method for producing cleaning blade for use in image-forming apparatus and cleaning blade |
| KR1020080051052A KR100989602B1 (ko) | 2007-06-01 | 2008-05-30 | 화상 형성 장치용 클리닝 블레이드의 제조 방법 및 클리닝블레이드 |
| CNA2008101098552A CN101314245A (zh) | 2007-06-01 | 2008-05-30 | 用于制备成像装置用清洁刮板的方法及该清洁刮板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007147064A JP2008299204A (ja) | 2007-06-01 | 2007-06-01 | 画像形成装置用クリーニングブレードの製造方法およびクリーニングブレード |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008299204A true JP2008299204A (ja) | 2008-12-11 |
Family
ID=39684227
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007147064A Pending JP2008299204A (ja) | 2007-06-01 | 2007-06-01 | 画像形成装置用クリーニングブレードの製造方法およびクリーニングブレード |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20080300354A1 (ja) |
| EP (1) | EP1998233B1 (ja) |
| JP (1) | JP2008299204A (ja) |
| KR (1) | KR100989602B1 (ja) |
| CN (1) | CN101314245A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014174343A (ja) * | 2013-03-08 | 2014-09-22 | Fuji Xerox Co Ltd | クリーニングブレード、クリーニング装置、プロセスカートリッジ、および画像形成装置 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011203303A (ja) * | 2010-03-24 | 2011-10-13 | Fuji Xerox Co Ltd | クリーニングブレードおよび画像形成装置 |
| US20160152790A1 (en) * | 2013-07-11 | 2016-06-02 | Nok Corporation | Nitrile rubber composition |
| CN107402151B (zh) * | 2017-07-31 | 2020-06-05 | 水利部交通运输部国家能源局南京水利科学研究院 | 一种超声激励控制脆性材料表面及贯穿裂纹尺寸的方法 |
Citations (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07102122A (ja) * | 1993-10-01 | 1995-04-18 | Nishikawa Rubber Co Ltd | ラテックスフォーム組成物及びラテックスフォームの製造方法 |
| JP2001039272A (ja) * | 1999-07-30 | 2001-02-13 | Maruenu Kk | トルマリン使用の圧電気利用ワイパーブレードと製造方法 |
| JP2006301578A (ja) * | 2005-03-23 | 2006-11-02 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 画像形成装置用クリーニングブレード及びその製造方法 |
| JP2007041454A (ja) * | 2005-08-05 | 2007-02-15 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 画像形成装置用クリーニングブレード |
| JP2007047272A (ja) * | 2005-08-08 | 2007-02-22 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 画像形成装置用クリーニングブレード |
| JP2007101879A (ja) * | 2005-10-04 | 2007-04-19 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 画像形成装置用クリーニングブレード |
| JP2007171526A (ja) * | 2005-12-21 | 2007-07-05 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 画像形成装置用クリーニングブレード |
| JP2007240857A (ja) * | 2006-03-08 | 2007-09-20 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 画像形成装置用クリーニングブレード |
| JP2007256524A (ja) * | 2006-03-22 | 2007-10-04 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 画像形成装置用クリーニングブレードおよびその製造方法 |
| JP2008107754A (ja) * | 2005-12-20 | 2008-05-08 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 画像形成装置用クリーニングブレード |
| JP2008112149A (ja) * | 2006-10-02 | 2008-05-15 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 画像形成装置用クリーニングブレード |
| JP2008152224A (ja) * | 2006-11-20 | 2008-07-03 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 画像形成装置用クリーニングブレード |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4431704A (en) * | 1983-03-29 | 1984-02-14 | Regal International, Inc. | Composition for blowout preventer |
| US6043308A (en) * | 1995-07-11 | 2000-03-28 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Conductive rubber composition and process for the production thereof |
| US5840801A (en) * | 1996-06-24 | 1998-11-24 | Arizona Chemical Company | Method for improving dispersion and compatibility of zinc salts in elastomeric compounds during vulcanization |
| US6220326B1 (en) * | 1998-03-10 | 2001-04-24 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Tire with carcass ply rubber composition |
| KR20020059821A (ko) * | 1999-11-29 | 2002-07-13 | 하기와라 세이지 | 와이퍼 블레이드 |
| JP3866117B2 (ja) | 2002-02-26 | 2007-01-10 | 株式会社沖データ | 画像形成装置 |
-
2007
- 2007-06-01 JP JP2007147064A patent/JP2008299204A/ja active Pending
-
2008
- 2008-05-06 EP EP08008519A patent/EP1998233B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2008-05-14 US US12/153,130 patent/US20080300354A1/en not_active Abandoned
- 2008-05-30 KR KR1020080051052A patent/KR100989602B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2008-05-30 CN CNA2008101098552A patent/CN101314245A/zh active Pending
Patent Citations (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07102122A (ja) * | 1993-10-01 | 1995-04-18 | Nishikawa Rubber Co Ltd | ラテックスフォーム組成物及びラテックスフォームの製造方法 |
| JP2001039272A (ja) * | 1999-07-30 | 2001-02-13 | Maruenu Kk | トルマリン使用の圧電気利用ワイパーブレードと製造方法 |
| JP2006301578A (ja) * | 2005-03-23 | 2006-11-02 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 画像形成装置用クリーニングブレード及びその製造方法 |
| JP2007041454A (ja) * | 2005-08-05 | 2007-02-15 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 画像形成装置用クリーニングブレード |
| JP2007047272A (ja) * | 2005-08-08 | 2007-02-22 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 画像形成装置用クリーニングブレード |
| JP2007101879A (ja) * | 2005-10-04 | 2007-04-19 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 画像形成装置用クリーニングブレード |
| JP2008107754A (ja) * | 2005-12-20 | 2008-05-08 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 画像形成装置用クリーニングブレード |
| JP2007171526A (ja) * | 2005-12-21 | 2007-07-05 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 画像形成装置用クリーニングブレード |
| JP2007240857A (ja) * | 2006-03-08 | 2007-09-20 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 画像形成装置用クリーニングブレード |
| JP2007256524A (ja) * | 2006-03-22 | 2007-10-04 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 画像形成装置用クリーニングブレードおよびその製造方法 |
| JP2008112149A (ja) * | 2006-10-02 | 2008-05-15 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 画像形成装置用クリーニングブレード |
| JP2008152224A (ja) * | 2006-11-20 | 2008-07-03 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 画像形成装置用クリーニングブレード |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014174343A (ja) * | 2013-03-08 | 2014-09-22 | Fuji Xerox Co Ltd | クリーニングブレード、クリーニング装置、プロセスカートリッジ、および画像形成装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1998233A1 (en) | 2008-12-03 |
| EP1998233B1 (en) | 2010-07-14 |
| KR20080106108A (ko) | 2008-12-04 |
| CN101314245A (zh) | 2008-12-03 |
| US20080300354A1 (en) | 2008-12-04 |
| KR100989602B1 (ko) | 2010-10-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR20080030947A (ko) | 화상 형성 장치용 클리닝 블레이드 | |
| US20070212137A1 (en) | Cleaning blade for use in image-forming apparatus | |
| JP4463798B2 (ja) | 画像形成装置用クリーニングブレード | |
| JP2008299204A (ja) | 画像形成装置用クリーニングブレードの製造方法およびクリーニングブレード | |
| US20100316424A1 (en) | Cleaning blade for image-forming apparatus | |
| KR100944479B1 (ko) | 화상 형성 장치용 클리닝 블레이드 | |
| US7496325B2 (en) | Cleaning blade for use in image-forming apparatus | |
| JP4463748B2 (ja) | 画像形成装置用クリーニングブレード | |
| JP4602272B2 (ja) | 画像形成装置用クリーニングブレード | |
| JP2008112149A (ja) | 画像形成装置用クリーニングブレード | |
| JP2007047272A (ja) | 画像形成装置用クリーニングブレード | |
| US7863363B2 (en) | Cleaning blade for use in image-forming apparatus | |
| JP2007041454A (ja) | 画像形成装置用クリーニングブレード | |
| JP2011085656A (ja) | 画像形成装置用クリーニングブレード | |
| JP2007256524A (ja) | 画像形成装置用クリーニングブレードおよびその製造方法 | |
| JP2011085657A (ja) | 画像形成装置用クリーニングブレード |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100205 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111116 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111122 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120327 |