JP2008294248A - 基板搬送システム - Google Patents

Abstract

【課題】シャッターと側壁との間の空隙を維持しつつ、処理装置側空間内の圧力を正圧に保ったまま、空隙から処理装置側空間内の雰囲気がクリーンルームに流出するのを防止する。
【解決手段】載置台２１の載置部２２に載置された基板収容容器４１の蓋体４３は、昇降部２３の上昇によって持ち上げられる。昇降部２３の上昇によって筒体部２４が上昇して搬入出部４を覆うシャッター板２８が上方へ移動し、開口部２５と搬入出部４とが正対する。側壁２における搬入出部４の周辺に形成された溝５１から周囲の雰囲気が吸引され、シャッター板２８と側壁２との間の空隙から、処理装置空間Ｓの雰囲気がクリーンルームＣＲ内に漏出することが防止される。
【選択図】図５

Description

本発明は、載置台に載置された基板収容容器と、当該基板を処理する処理装置側の空間との間で基板を搬送する際の基板搬送システムに関するものである。

例えば半導体デバイスの製造工場では、クリーンルーム内に、フォトリソ工程、エッチング工程の各処理工程を行なう各種の半導体製造装置が設置されている。そして処理対象となる半導体ウエハ（以下、「ウエハ」という）は、キャリアとも呼ばれる基板収容容器に複数枚収容され、搬送ロボットによって各種の半導体製造装置のローダ部前に設けられた載置台に載置され、装置側の搬送アームによって、基板収容容器から取り出されてローダ部から装置内に投入され、処理が終了したウエハは基板収容容器に戻される。

そして近年では、微細化やさらなる歩留まりの向上を図るため、製品欠陥に結びつく塵埃やパーティクルその他の不純物による汚染をさらに抑制するため、従来のいわゆるオープン型の基板収容容器に代えて、例えばＳＭＩＦポッドと呼ばれる密閉型の基板収容容器が採用されている。この種の密閉型の基板収容容器は、一般的に蓋体との接続によって密閉自在な容器内に、ウエハを直接収容する収容部を装備した構成を有している。そして基板収容容器が載置台に載置されると、載置台側のオープナーによって蓋体のロック状態が解除され、載置台に装備されているリフターによって蓋体のみが上昇し、それと共にリフターと気密に接続されている筒状のポートカバーが上昇して収容部を囲み、蓋体が上昇した後も、ウエハが収容されている収容部の置かれる雰囲気が清浄に維持されるように構成されていた（特許文献１、２）。

かかる場合、収容部と装置側空間との間のウエハの搬送は、装置側空間を形成する側壁に形成された開口した搬入出部と、ポートカバーに形成されている開口部とを通じて行なわれる。すなわちリフターと共に上昇したポートカバーの開口部が、側壁に形成された搬入出部と対面してウエハの搬送系路が形成され、この搬送系路を通じて、装置空間側の搬送アーム等によって収容部と装置側空間との間でウエハの搬送がなされる。

装置側空間は、クリーンルーム内よりも高い清浄度に維持する必要があるため、前記搬入出部には、スライド式のシャッターが設けられ、ウエハの搬入出時以外は閉鎖される。この場合、クリーンルームに開放している時間を最小限にするため、従来は搬入出部のシャッターと載置台側のリフターとを気密に連結し、リフターの上昇に伴ってシャッターが徐々に開放するように構成されている。したがって、装置空間側の搬入出部においてはシャッターが稼動するため、シャッターと側壁との間には空隙が生じている。しかしながらかかる空隙により、処理装置側空間とクリーンルーム内の雰囲気とは直接連通するため、そのままでは当該空隙を通じて、清浄度が低いクリーンルーム側の雰囲気が、処理装置側の空間に流入し、それに伴って流入するパーティクルやその他の不純物によって処理装置側空間内の雰囲気の清浄度が低下し、処理装置側空間内のウエハが汚染されてしまう。したがって、従来はかかる事態を防止するために、処理装置側空間内の圧力を、クリーンルーム内に対して正圧に維持し、これによってクリーンルーム側の雰囲気が処理装置側空間内に流入するのを防止していた。

特開２００１−９３９５８号公報 特開２００２−２４６４４１号公報

しかしながら処理装置側空間内においては、処理したウエハの表面が酸化されたり、他の化学反応が進行するのを防止するため清浄空気以外に窒素ガスや、その他の不活性ガスが処理装置側空間内のパージガスとして使用されることがある。かかる場合、従来のままでは、シャッターと側壁との間の空隙から、これら窒素ガスやその他の不活性ガスが常時流出する状態となる。窒素ガスやその他の不活性ガスが常時流出すると、その分コストが嵩んでしまう。また窒素ガスがクリーンルーム内に流出し続けると、クリーンルーム内の雰囲気が高窒素濃度になってしまい、クリーンルーム内にいる作業員にいわゆる「窒素酔い」と呼ばれる、窒素の過剰摂取による中毒症状が出るなど、クリーンルーム内の作業員にとっては極めて危険である。

本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、前記したようなシャッターと側壁との間の空隙を維持しつつ処理装置側空間内の圧力を正圧に保ったまま、当該空隙から処理装置側空間内の雰囲気がクリーンルームなどに流出するのを防止することを目的としている。

前記目的を達成するため、本発明は、載置台に載置された基板収容容器と、当該基板を処理する処理装置空間との間で基板を搬送する際の基板搬送システムであって、前記基板収容容器は、上方向に取り外し自在で側面板と上面板を有する蓋体を有し、この蓋体は、前記基板収容容器の底部と接続してロック自在であり、前記基板収容容器の底部は、載置台の載置部に固定自在である。そして前記載置台は、ロックが解除された蓋体と接続して蓋体のみを上下動させる昇降部を、前記載置部周辺に有している。他方、前記処理装置空間を形成する側壁には基板搬送用の開口した搬入出部を前記載置台側に有している。そして前記昇降部は、前記搬入出部を覆う形状のシャッター板と、昇降部の上昇時に基板収容容器の収容部を囲う筒体部を有し、前記筒体部は、昇降部が所定位置に上昇した際に前記搬入出部と対面する開口部を有し、前記シャッター板と前記側壁との間の空隙を維持したまま、当該空隙を通じて処理装置空間雰囲気の外部への漏出を防止する、雰囲気遮断部が前記側壁に設けられていることを特徴としている。

本発明では、前記シャッター板が側壁の搬入出部の開口を開閉するシャッターとなる。そして前記シャッター板と前記側壁との間の空隙を維持したまま、当該空隙を通じて処理装置空間雰囲気の外部への漏出を防止する、雰囲気遮断部が前記側壁に設けられているので、処理装置側の空間を正圧に保っていても、処理装置側の空間内の雰囲気が当該空隙を通じて外部に流出することはない。なお処理装置空間とは、基板に対して処理を行なう処理装置がおかれている、ほぼ閉鎖された空間をいい、処理装置の数を問わない。また処理装置単体であっても、クリーンルーム雰囲気とは隔離され、処理装置内の処理室に基板を投入するローダ部や処理室から基板を搬出するアンローダ部を備えている処理装置においては、これらローダ部、アンローダ部は本発明でいう処理装置空間である。

雰囲気遮断部としては、例えば側壁側の搬入出部の周囲に形成された溝と、当該溝内の雰囲気を吸引して外部に排気するための吸引部を有する構成を提案できる。また搬入出部周辺のシャッター板と側壁との間の空隙を気密に閉鎖自在なシール機構であってもよい。

雰囲気遮断部として、搬入出部の周囲に形成された溝と、当該溝内の雰囲気を吸引して外部に排気するための吸引部を有する構成を採用した場合、さらにシャッター板と側壁との間の空隙を気密に閉鎖自在なシール機構を設けてもよい。

前記したシール機構は、ガスの注入によって前記空隙を閉鎖するシール部材を有していてもよい。

前記載置部は、処理装置空間側へと移動可能であってもよい。

本発明によれば、載置台に載置された基板収容容器と、当該基板を処理する処理装置空間との間で基板を搬送する際、処理装置空間側の搬入出部のシャッターと側壁との間の空隙を維持して、処理装置側空間内の圧力を正圧に保ったまま、当該空隙から処理装置側空間内の雰囲気がクリーンルームなどに流出するのを防止することができる。

以下、本発明の好ましい実施の形態について説明する。図１は、本実施の形態にかかる基板搬送システムの構成の概略を示しており、この実施の形態においては、基板の処理装置空間Ｓにおいて設置されている基板処理装置１は、例えば半導体ウエハ（以下、「ウエハ」という）に対して、フォトリソグラフィー工程を行なう塗布現像処理装置である。もちろんこれに限らずエッチング工程、洗浄処理工程、成膜工程など各種の処理工程を実施する基板処理装置であってもよい。

処理装置空間Ｓは、クリーンルームＣＲよりも清浄度の高い雰囲気に設定されるので、処理装置空間Ｓ自体は、側壁２、天板３等によって囲まれたほぼ閉鎖空間であり、処理装置空間Ｓ内には、例えばＦＦＵ（図示せず）などによって、クリーンルームＣＲ内の雰囲気よりも清浄度の高い清浄空気が供給されている。またクリーンルームＣＲ内の雰囲気が、前記側壁２や天板３、底板４等の接合部分などから基板処理装置１内に侵入しないように、処理装置空間Ｓ内の圧力は、例えば２０ｍｍＡｑ程度、クリーンルームＣＲ内の圧力よりも高い、正圧に維持されている。

側壁２には、ウエハを基板処理装置１に対して搬入出するための、例えば方形に開口した搬入出部４が形成されている。基板処理装置１へのウエハの搬入出は、基板処理装置１と搬入出部４との間に設置されている搬送装置１１が担っている。この搬送装置１１は、前進、後退自在な搬送アーム１２を備えており、さらにこの搬送アーム１２は、上下動、並びに水平方向にも回転自在であり、基板処理装置１のウエハ出し入れ部１ａに対して、ウエハを授受自在である。搬送アーム１２には、公知のものを使用できる。

載置台２１は、搬入出部４が形成された側壁２に面して設置されている。載置台２１の上面には、平面形態が四角形の外形を有する載置部２２が設けられ、その周囲には、昇降部２３が配置されている。昇降部２３は、四角形の枠形状を有しており、裏面側には、筒体部２４が接続されて一体となっている。筒体部２４は、載置台２１の内部空間ＬＳ内に上下動自在に収納されている。筒体部２４における側壁２側の所定位置には、開口部２５が形成されている。昇降部２３、及びそれと一体となった筒体部２４は、昇降装置２６によって上下動する。

載置台２１の内部空間ＬＳの下方には、排気部２７が設けられ、グレーチング３１の下方に設置されている排気ポンプ３２の作動により、内部空間ＬＳ内の雰囲気、他へと排気される。排気部２７が集中排気系統（図示せず）に接続され、バルブやダンパ（図示せず）の開閉によって、内部空間ＬＳの排気を行うようにしてもよい。

図２にも示したように、昇降部２３における側壁２側の端部、すなわち筒体部２４の側壁２側の上端部には、側壁２との間に空隙ｄを維持して、側壁２と平行に対峙するシャッター板２８が設けられている。このシャッター板２８は、搬入出部４、およびその周辺部に形成されている後述の溝５１を覆う十分な大きさ、形状を有している。

載置部２２は、駆動機構３３の作動により、側壁１１側へと移動自在である。そしてこの載置部２２は基板収容容器４１を載置して、基板収容容器４１の底部４２を固定自在である。

基板収容容器４１は、上方向に取り外し自在な蓋体４３を有している。蓋体４３は、底部４２と気密に接続可能で、かつ適宜のロック機構（図示せず）によって蓋体４３と底部４２とはロック自在である。蓋体４３は、上面板４３ａと４つの側面板４３ｂとによって構成され、下面のみ開口した箱形状を有している。側面板４３ｂの下端部にはフランジ部４３ｃが設けられ、載置部２２と基板収容容器４１の底部４２とが固定された際、あるいは固定された後に、このフランジ部４３ｃと昇降部２３の上面とは気密に接続可能である。そして載置部２２と基板収容容器４１の底部４２とが固定され、また蓋体４３と底部４２とのロック状態が解除された状態になると、昇降部４３の上昇によって、蓋体４３はそのフランジ部４３ｃから持ち上げられて、上方へと移動し、開口部２５が側壁２の搬入出部４と正対したときに停止する。

基板収容容器４１の底部４２の上面には、ウエハＷを複数枚整列して収納する収納部４４が設けられている。

側壁２の搬入出部４の載置台２１側周辺部には、図２、図３に示したように、四角形枠形状の溝５１が形成されている。この溝５１内には、各辺に相当する部分に、各々複数の吸引部５２が設けられている。各吸引部５２は、排気管５３に通じている。そして排気管５３は、図１に示したように、グレーチング３１の下方に設置されている排気ポンプ５４に通じている。したがって排気ポンプ５４を作動させると、溝５１及び溝周辺の雰囲気は吸引部２１から吸引されて外部へと排気される。

本実施の形態にかかる基板搬送システムは以上の構成を有しており、次にこのシステムを使用したウエハＷの基板処理装置１への搬送例について説明する。

まず搬送前の状態では図１に示したように、昇降部２３上に設けられているシャッター板２８が、側壁２の搬入出部４を覆っている。このとき、排気ポンプ５４が作動しており、溝５１周辺部の雰囲気を吸引して吸引部５２から外部へと排気している。したがって、処理装置空間Ｓ内の圧力がクリーンルームＣＲに対して正圧であり、空隙ｄから処理装置空間Ｓ内の雰囲気がクリーンルームＣＲ内に流出しようとしても、溝５１から吸引されるので、クリーンルームＣＲ内に漏出することはない。

そして搬送ロボット等によって基板収容容器４１が、載置台２１の載置部２２上の所定位置に載置されると、蓋体４１のフランジ部４１ｃと昇降部２３とが固定される。その後載置部２２と基板収容容器４１の底部４２とが固定される。次いで蓋体４１の底部４２と蓋体４１とのロック状態が解除される。このようなロック状態の解除は、基板収容容器４１の構成に適合したオープナーを載置台２１に設ける事で実現できる。

次いで昇降装置２６が作動して、図４に示したように昇降部２３が上昇し、フランジ部４３ｃの部分を支持したまま蓋体４３を持ち上げていく。それとともに昇降部２３と一体になっている筒体部２４も上昇し、蓋体４３が上方向に取り外された後の収容部４４の周囲を囲っていく。

そして筒体部２４が所定の高さまで上昇して開口部２５が、側壁２に形成された搬入出部４と正対した時点で昇降部２３は停止する。次いで図５に示したように、駆動機構３３が作動して、収容部４４を支持している載置部２２が搬入出部４側へと移動する。そして所定位置に停止した後、搬送装置１１の搬送アーム１２が搬入出部４、開口部２５を通って収容部４４側へと前進し、収容部４４に収容されているウエハＷを受け取り、その後処理装置空間Ｓへと後退して、処理装置１のウエハ出し入れ部１ａに対してウエハＷを搬送する。

そして図５の状態で、順次、収容部４４の未処理ウエハの基板処理装置１への搬送、並びに基板処理装置１での処理が終了したウエハＷの収容部４４への搬送が行なわれ、最後の処理済ウエハＷが収容部４４へと搬送されると、駆動機構３３が作動して、収容部４４を支持している載置部２２が元の位置へと戻り、その後昇降装置２６が作動して、筒体部２４及び昇降部２３が下降していき、それによって搬入出部４は、シャッター板２８によって覆われていく。

そして昇降部２３が所定位置まで下降すると基板収容容器４１の底部４２と蓋体４３とがロックされ、基板収容容器４１内は密閉された状態になる。次いで底部４２と載置部２２との固定状態が解除され、次いで蓋体４１のフランジ部４１ｃと昇降部２３との固定状態もされる。その後搬送ロボット（図示せず）などによって、密閉状態の基板収容容器４１は、次処理が行なわれる処理装置の載置部（図示せず）へと運搬される。

以上のプロセス中おいては、常時、排気ポンプ５４が作動して溝５１周辺部の雰囲気を吸引して吸引部５２から外部へと排気しているので、処理装置空間Ｓ内の雰囲気が空隙ｄからクリーンルームＣＲ内に流出しようとしても、溝５１から吸引されるので、クリーンルームＣＲ内に流出することはない。したがって、処理装置空間Ｓ内や基板処理装置１内が、例えば窒素ガス雰囲気であっても、当該窒素ガスが、搬入出部４周辺の空隙ｄを介してクリーンルームＣＲ内に漏出することはないものである。

なお本実施の形態においては、載置台２１の内部空間ＬＳの雰囲気は、排気部２７を介して排気されているので、筒体部２４と載置台２１との間の空隙等から、処理装置空間Ｓ内や基板処理装置１内の雰囲気がクリーンルームＣＲ内に漏出することはない。

前記したように本実施の形態で採用した雰囲気遮断部は、側壁２における搬入出部４の周辺部に形成された溝５１と、吸引部５２とによって構成されているので、シャッター板２８と側壁２とは空隙ｄを維持したまま、かつ非接触の状態で、クリーンルームＣＲと処理装置空間Ｓとの間の雰囲気を遮断している。したがって、昇降部２３、筒体部２４の上昇、下降の際にパーティクルが発生することはない。なお空隙ｄを維持するために、側壁２とシャッター板２８との間に適宜のガイドやローラ等を設けてもよい。

また前記実施の形態では、ウエハＷの搬送の際には、収容部４４が駆動機構３３によって処理装置空間Ｓ側に移動するので、搬送装置１１の搬送アーム１２によるウエハＷの授受、並びに収容部４４と基板処理装置１との間のウエハＷの搬送をより効率よく行なう事ができる。もちろん搬送装置１１の搬送アーム１２の方が、収容部４４側へと伸長して、収容部４４に対するウエハＷの授受を十分に行なえるものであれば、駆動機構３３による収容部４４の処理装置空間Ｓ側への移動メカニズムは不要である。

前記実施の形態においては、昇降部２３及び筒体部２４が上昇、下降している間のみならず、停止している間も排気ポンプ５４が常時作動して溝５１周辺部の雰囲気を吸引することで、処理装置空間Ｓ側の雰囲気が、クリーンルームＣＲに漏出することを防止していたが、そのような溝５１、吸引部５２による雰囲気遮断部に対して、さらに図６、図７に示したようなシール機構を付加してもよい。

すなわち、溝５１の外側に、ガスの注入、排気によって膨出、縮小する、例えば弾性体などによって構成されるシール部材６１を、四角枠形状に設ける。そして側壁２に穿設されたガス注入孔６２を介して、シール部材６２内空間とガス供給・排気装置６３とを適宜のチューブなどのガス経路６４によって接続する。このような構成によれば、ガス供給・排気装置６３から、ガスを供給する事で、図８に示したようにシール部材６１はシャッター板２８側へと膨出し、シール部材６１がシャッター板２８表面と密着し、シャッター板２８と側壁２との間の空隙ｄは気密に閉鎖される。また逆に、ガス供給・排気装置６３によってシール部材６２内の雰囲気を吸引することで、シール部材６１は縮小し、空隙ｄは開放される。

以上の構成を備えたシール部材６１を採用することで、例えば昇降部２３及び筒体部２４が上昇、下降している間は、シール部材６１を縮小状態としておき、昇降部２３及び筒体部２４が停止している状態では、図８に示したようにシール部材６１を膨出させることで空隙ｄを気密に閉鎖することができる。したがって、昇降部２３及び筒体部２４が停止しているときには、溝５１の吸引部５２からの排気を停止しても、処理装置空間ＳとクリーンルームＣＲの雰囲気とを遮断することができる。

なお以上の例はいずれも、処理装置空間Ｓの雰囲気が、側壁２の搬入出部４から、シャッター板２８と側壁２間の空隙ｄを介してクリーンルームＣＲへと流出するのを常時、すなわち昇降部２３及び筒体部２４の昇降中のみならず、停止時にあってもこれを防止するようにしていた。
しかしながら、昇降部２３及び筒体部２４が昇降している間の時間は、昇降部２３及び筒体部２４が停止してウエハＷを搬送している時間と比べると極めて短いものである。
かかる点に鑑みれば、例えば前記した溝５１と吸引部５２による雰囲気遮断構成を採らずに、前記したシール部材６１による構成の雰囲気遮断部のみを採用しても、実用上は問題がない場合もある。そしてそのような場合には、前記したシール部材６１のみの構成で足りるから、側壁２の構成をより簡素化することができる。

前記した実施の形態においては、排気部２７によって、載置台２１の内部空間ＬＳの雰囲気を排気するようにしていたが、かかる構成は本発明にとって必須のものではない。またそのような排気部に２７に代えて、基板処理装置１において採用されている空気清浄装置による清浄空気を、当該載置台２１の内部空間ＬＳに供給するようにしてもよい。またかかる場合、処理装置空間Ｓからの雰囲気の漏出が、前記した溝５１、吸引部５２によって防止される条件下では、基板収容容器４１の蓋体４３と昇降部２３との接続が、必ずしも気密である必要はない。条件によっては、例えば載置台２１の内部空間ＬＳの雰囲気が清浄空気でかつ正圧が維持されている場合、積極的に蓋体４３のフランジ部４３ｃと例えば昇降部２３との間に、適宜積極的に空隙を確保することで、当該清浄空気による空気流を形成して、基板収容容器４１内の雰囲気を常に清浄に維持することができる。そのため、例えば昇降部２３の上面や、載置部２２の上面に、適宜のピンを設けて、そのような空隙を確保するようにしてもよい。なおかかる場合、ピンの設置箇所は、四隅近傍や、ロック機構の近傍が好ましい。

本発明は、もちろん前記した実施の形態に限られるものではない。例えば対象とする基板もウエハのみならず、ＦＰＤ用ガラス基板、その他の種々のマスク部材であってもよい。また処理装置空間に設置される基板処理装置は、基板に対して所定の処理を行なう全ての処理装置が対象となる。また処理装置空間自体は、単独の処理装置内に設定されているものであってもよい。

本発明は、クリーンルーム内に設置される基板の処理装置及び当該処理装置が置かれている空間と、基板を収容している密閉型の基板収容容器との間で基板を搬送する際に有用である。

本発明の実施の形態にかかる基板搬送システムの側面からみた断面の説明図である。 図１の基板搬送システムの搬入出部付近の側面断面図である。 図１の基板搬送システムの搬入出部の斜視図である。 図１の基板搬送システムにおいて、蓋体が所定位置まで上昇したときの状態を示す側面からみた断面の説明図である。 図３の基板搬送システムにおいて、載置部が処理装置側に移動したときの状態を示す側面からみた断面の説明図である。 シール部材を付加した搬入出部付近の側面断面図である。 図６の基板搬送システムの搬入出部の斜視図である。 シール部材が膨出したときの搬入出部付近の側面断面図である。

符号の説明

１ 基板処理装置
２ 側壁
４ 搬入出部
２１ 載置台
２２ 載置部
２３ 昇降部
２４ 筒体部
２５ 開口部
２６ 昇降装置
２８ シャッター板
３３ 駆動機構
４１ 基板収容容器
４２ 底部
４３ 蓋体
４４ 収容部
５１ 溝
５２ 吸引部
Ｗ ウエハ

Claims (6)

1. 載置台に載置された基板収容容器と、当該基板を処理する処理装置空間との間で基板を搬送する際の基板搬送システムであって、
   前記基板収容容器は、上方向に取り外し自在で側面板と上面板を有する蓋体を有し、
   前記蓋体は、前記基板収容容器の底部と接続してロック自在であり、
   前記基板収容容器の底部は、載置台の載置部に固定自在であり、
   前記載置台は、ロックが解除された蓋体と接続して蓋体のみを上下動させる昇降部を、前記載置部周辺に有し、
   前記処理装置空間を形成する側壁は基板搬送用の開口した搬入出部を前記載置台側に有し、
   前記昇降部は、前記搬入出部を覆う形状のシャッター板と、昇降部の上昇時に基板収容容器の収容部を囲う筒体部を有し、
   前記筒体部は、昇降部が所定位置に上昇した際に前記搬入出部と対面する開口部を有し、
   前記シャッター板と前記側壁との間の空隙を維持したまま、当該空隙を通じて処理装置空間雰囲気の外部への漏出を防止する、雰囲気遮断部が前記側壁に設けられていることを特徴とする、基板搬送システム。
2. 雰囲気遮断部は、側壁側の搬入出部の周囲に形成された溝と、当該溝内の雰囲気を吸引して外部に排気するための吸引部を有することを特徴とする、請求項１に記載の基板搬送システム。
3. 雰囲気遮断部は、シャッター板と側壁との間の空隙を気密に閉鎖自在なシール機構であることを特徴とする、請求項１に記載の基板搬送システム。
4. シャッター板と側壁との間の空隙を気密に閉鎖自在なシール機構をさらに有することを特徴とする、請求項１又は２のいずれかに記載の基板搬送システム。
5. 前記シール機構は、ガスの注入によって前記空隙を閉鎖するシール部材を有することを特徴とする、請求項３又は４に記載の基板搬送システム。
6. 前記載置部は、処理装置空間側へと移動可能であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載の基板搬送システム。

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