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JP2008291174A - Coating material for forming transparent coating film and substrate with transparent film - Google Patents

Coating material for forming transparent coating film and substrate with transparent film Download PDF

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JP2008291174A
JP2008291174A JP2007140338A JP2007140338A JP2008291174A JP 2008291174 A JP2008291174 A JP 2008291174A JP 2007140338 A JP2007140338 A JP 2007140338A JP 2007140338 A JP2007140338 A JP 2007140338A JP 2008291174 A JP2008291174 A JP 2008291174A
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JP
Japan
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fine particles
metal oxide
oxide fine
transparent
film
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Application number
JP2007140338A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masayuki Matsuda
政幸 松田
Mitsuaki Kumazawa
光章 熊澤
Akira Nakajima
昭 中島
Toshiharu Hirai
俊晴 平井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JGC Catalysts and Chemicals Ltd
Original Assignee
JGC Catalysts and Chemicals Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a coating material for forming a transparent coating film, the material which can be used for forming a transparent coating film having two or more kinds of functions, for example, an antireflection performance, hard-coat function, antistatic performance and antiglare property, by applying once a single coating material. <P>SOLUTION: The coating material for forming a transparent coating film comprises (A-1) metal oxide fine particles surface-treated with an organic silicon compound and having a surface charge amount (Q<SB>A-1</SB>) of 20 to 100 μeq/g on the surface-treated fine particles, (B-1) a hydrophilic matrix-forming component, and (C) a polar solvent, and is characterized in that: the concentration (C<SB>PA-1</SB>) of the metal oxide fine particles as a solid content ranges from 0.1 to 20 wt.%; and the concentration (C<SB>MB-1</SB>) of the hydrophilic matrix-forming component (B-1) as a solid content ranges from 1 to 50 wt.%. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、1種の塗料を一回塗布することによって少なくとも2種以上の機能、例えば反射防止性能、ハードコート機能、帯電防止性能、防眩性等を有する透明被膜の形成に用いることのできる透明被膜形成塗料および該塗料を用いて形成された透明被膜付基材に関する。   The present invention can be used for forming a transparent film having at least two or more functions, for example, antireflection performance, hard coat function, antistatic performance, antiglare property, etc., by applying one kind of paint once. The present invention relates to a transparent film-forming paint and a substrate with a transparent film formed using the paint.

従来より、ガラス、プラスチックシート、プラスチックレンズ等の基材表面の耐擦傷性を向上させるため、基材表面にハードコート膜を形成することが知られており、このようなハードコート膜として有機樹脂膜あるいは無機膜をガラスやプラスチック等の表面に形成することが行われている。さらに、有機樹脂膜あるいは無機膜中に樹脂粒子あるいはシリカ等の無機粒子を配合してさらに耐擦傷性を向上させることが行われている。   Conventionally, it has been known to form a hard coat film on the surface of a substrate in order to improve the scratch resistance of the substrate surface such as glass, plastic sheet, plastic lens, etc. An organic resin is used as such a hard coat film. A film or an inorganic film is formed on the surface of glass or plastic. Furthermore, it is practiced to further improve the scratch resistance by blending resin particles or inorganic particles such as silica in an organic resin film or an inorganic film.

また、ガラス、プラスチックシート、プラスチックレンズ等の基材表面の反射を防止するため、その表面に反射防止膜を形成することが知られており、たとえば、コート法、蒸着法、CVD法等によって、フッ素樹脂、フッ化マグネシウムのような低屈折率の物質の被膜をガラスやプラスチックの基材表面に形成したり、シリカ微粒子等の低屈折率微粒子を含む塗布液を基材表面に塗布して、反射防止被膜を形成する方法が知られている(たとえば、特開平7-133105号公報(特許文献1)など参照)。このとき、反射防止性
能を高めるために反射防止被膜の下層に高屈折率の微粒子等を含む高屈折率膜を形成することも知られている。
In addition, in order to prevent reflection of the surface of a substrate such as glass, plastic sheet, plastic lens, etc., it is known to form an antireflection film on the surface. For example, by a coating method, a vapor deposition method, a CVD method, A film of a low refractive index substance such as fluororesin or magnesium fluoride is formed on the surface of a glass or plastic substrate, or a coating liquid containing low refractive index fine particles such as silica fine particles is applied to the substrate surface. A method of forming an antireflection coating is known (for example, see JP-A-7-133105 (Patent Document 1) and the like). At this time, in order to improve the antireflection performance, it is also known to form a high refractive index film containing fine particles of high refractive index under the antireflection coating.

さらに、基材に帯電防止性能、電磁波遮蔽性能を付与するために導電性の酸化物微粒子、金属微粒子等を含む導電性被膜を形成することも行われている。例えば、陰極線管、蛍光表示管、液晶表示板などの表示パネルのような透明基材の表面の帯電防止および反射防止を目的として、これらの表面に帯電防止機能および反射防止機能を有する透明被膜を形成することが行われていた。   Further, in order to impart antistatic performance and electromagnetic wave shielding performance to the base material, a conductive film containing conductive oxide fine particles, metal fine particles and the like is also formed. For example, for the purpose of antistatic and antireflection of the surfaces of transparent substrates such as display panels such as cathode ray tubes, fluorescent display tubes, and liquid crystal display panels, transparent coatings having antistatic and antireflection functions are provided on these surfaces. Forming was done.

特に、近年、このような各種機能性の被膜を積層して用いることが行われている。例えば、基材上にハードコート膜を形成し、導電性被膜あるいは高屈折率被膜を形成し、反射防止膜を形成することが行われている。   In particular, in recent years, such various functional coatings are laminated and used. For example, a hard coat film is formed on a substrate, a conductive film or a high refractive index film is formed, and an antireflection film is formed.

また、本願発明者等は、特開2003-12965号公報(特許文献2)において、平
均粒子径が異なり、粒子径の小さい導電性微粒子と粒子径の大きい低屈折率微粒子の異なる2種の微粒子を含む塗布液を用いることによって、1回の塗布で反射防止性能に優れた導電性被膜が形成できることを提案している。
特開平7-133105号公報 特開2003-12965号公報
Further, the inventors of the present application disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-12965 (Patent Document 2) two kinds of fine particles having different average particle diameters and different conductive fine particles having a small particle size and low refractive index fine particles having a large particle size. It has been proposed that a conductive film excellent in antireflection performance can be formed by a single application by using a coating solution containing.
JP-A-7-133105 JP 2003-12965 A

しかしながら、従来の方法では、各膜は、塗料を塗布し、乾燥し、必要に応じて硬化させる工程からなるために、上記多層膜を形成する場合に多くの工程を必要とし、各膜間の密着性が不充分であったり、生産性、経済性等に問題があった。   However, in the conventional method, each film consists of a step of applying a paint, drying, and curing as necessary. Therefore, when forming the multilayer film, many steps are required. Adhesion was insufficient, and there were problems with productivity and economy.

また、特許文献2に記載のものでは、2種の微粒子が上下完全に分離する形で微粒子層を形成できない場合があり、このため反射防止性能、帯電防止性能が不充分となることが
あり、さらにプラスチック等の基材への密着性が低く、かつ膜の強度が不充分となることがあった。
Moreover, in the thing of patent document 2, there may be a case where a fine particle layer cannot be formed in a form in which two kinds of fine particles are completely separated from each other, and thus antireflection performance and antistatic performance may be insufficient. Furthermore, the adhesion to a substrate such as plastic is low, and the strength of the film may be insufficient.

本発明者らは、このような問題点に鑑み鋭意検討した結果、4官能の有機珪素化合物で表面処理した金属酸化物粒子と親水性マトリックス形成成分と極性溶媒とからなる透明被膜形成塗料を用いて形成した透明被膜では、表面処理された金属酸化物粒子が透明被膜中に均一に分散することなく透明被膜の上部に層をなしていることを見出して本発明を完成するに至った。即ち、一回の被膜形成で2種以上の機能を有する被膜形成が可能であることを見出して本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies in view of such problems, the present inventors have used a transparent film-forming paint comprising a metal oxide particle surface-treated with a tetrafunctional organosilicon compound, a hydrophilic matrix-forming component, and a polar solvent. In the transparent film formed in this way, the present invention was completed by finding that the surface-treated metal oxide particles were layered on the transparent film without being uniformly dispersed in the transparent film. That is, the present invention has been completed by finding that it is possible to form a film having two or more functions by forming a film once.

本発明の構成は、以下の通りである。
[1](A-1)有機ケイ素化合物で表面処理されてなり、かつ表面処理された微粒子の表面電荷量(QA-1)が20〜100μeq/gの範囲にある金属酸化物微粒子と、
(B-1)親水性マトリックス形成成分と、(C)極性溶媒とからなり、
金属酸化物微粒子(A-1)の固形分としての濃度(CPA-1)が0.1〜20重量%の範囲
にあり、
親水性マトリックス形成成分(B-1)の固形分としての濃度(CMB-1)が1〜50重量%
の範囲にあることを特徴とする透明被膜形成塗料。
The configuration of the present invention is as follows.
[1] (A-1) metal oxide fine particles that are surface-treated with an organosilicon compound, and the surface charge amount (Q A-1 ) of the surface-treated fine particles is in the range of 20 to 100 μeq / g;
(B-1) consisting of a hydrophilic matrix-forming component and (C) a polar solvent,
The concentration (C PA-1 ) as a solid content of the metal oxide fine particles (A-1) is in the range of 0.1 to 20% by weight,
Concentration (C MB-1 ) as a solid content of the hydrophilic matrix forming component (B -1 ) is 1 to 50% by weight
A transparent film-forming paint characterized by being in the range of

[2]前記有機ケイ素化合物が下記式(1)で表される有機珪素化合物であることを特徴とする[1]の透明被膜形成塗料。
aSiX4-a (1)
(但し、式中、Xは炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。aは0か1の整数)
[2] The transparent film forming paint according to [1], wherein the organosilicon compound is an organosilicon compound represented by the following formula (1):
R a Six 4-a (1)
(In the formula, X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, halogen, and hydrogen, and may be the same or different. R is unsubstituted or substituted having 1 to 10 carbon atoms. Hydrocarbon groups which may be the same or different from each other, a being an integer of 0 or 1)

[3]前記表面処理された金属酸化物微粒子(A-1)の屈折率(nA-1)が1.15〜1.40
の範囲にある[1]または[2]の透明被膜形成塗料。
[3] The surface-treated metal oxide fine particles (A-1) have a refractive index (n A-1 ) of 1.15 to 1.40.
[1] or [2] transparent film forming paint in the range of

[4]前記親水性マトリックス形成成分(B-1)が、下記式(2)で表される有機珪素化合物
またはこれらの加水分解物、加水分解重縮合物、および/または水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホ基から選ばれる1種以上の親水性官能基を有する多官能(メタ)アクリル酸エステル樹脂である[1]〜[3]の透明被膜形成塗料。
aSiX4-a (2)
(但し、式中、Xは炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。aは0か1の整数)
[5]前記表面処理された金属酸化物微粒子(A-1)の平均粒子径が5〜500nmの範囲にある[1]〜[4]の透明被膜形成用塗料。
[4] The hydrophilic matrix forming component (B-1) is an organosilicon compound represented by the following formula (2) or a hydrolyzate, hydrolyzed polycondensate thereof, and / or a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl [1]-[3] transparent film-forming paint, which is a polyfunctional (meth) acrylic ester resin having at least one hydrophilic functional group selected from a group and a sulfo group.
R a Six 4-a (2)
(In the formula, X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, halogen, and hydrogen, and may be the same or different. R is unsubstituted or substituted having 1 to 10 carbon atoms. Hydrocarbon groups which may be the same or different from each other, a being an integer of 0 or 1)
[5] The transparent film-forming paint according to [1] to [4], wherein the surface-treated metal oxide fine particles (A-1) have an average particle diameter in the range of 5 to 500 nm.

[6]前記マトリックス形成成分として、さらに疎水性マトリックス形成成分(B-2)を含み、疎水性マトリックス形成成分の固形分としての濃度(CMB-2)と、前記(CMB-1)との濃度比(CMB-1)/(CMB-2)が0.005〜1の範囲にある[1]〜[5]の透明被膜形成塗料。 [6] The matrix-forming component further includes a hydrophobic matrix-forming component (B-2), the concentration (C MB-2 ) of the hydrophobic matrix-forming component as a solid content, and the (C MB-1 ) The transparent film-forming paint of [1] to [5] in which the concentration ratio (C MB-1 ) / (C MB-2 ) is in the range of 0.005 to 1.

[7]前記疎水性マトリックス形成成分(B-2)が、下記式(3)で表される有機珪素化合物ま
たはこれらの加水分解物、加水分解重縮合物、および/またはビニル基、ウレタン基、エポキシ基、(メタ)アクリロイル基、CF2基から選ばれる1種以上の疎水性官能基を有
する多官能(メタ)アクリル酸エステル樹脂である[1]〜[6]の透明被膜形成塗料。
n-SiX4-n (3)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、n:1〜3の整数。ただし、式(2)のaが1の場合、nは2〜3となる)
[7] The hydrophobic matrix-forming component (B-2) is an organosilicon compound represented by the following formula (3) or a hydrolyzate thereof, a hydrolyzed polycondensate, and / or a vinyl group, a urethane group, [1] to [6] transparent film-forming paint, which is a polyfunctional (meth) acrylate resin having at least one hydrophobic functional group selected from an epoxy group, a (meth) acryloyl group, and a CF 2 group.
R n -SiX 4-n (3 )
(In the formula, R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, Halogen, hydrogen, n: an integer of 1 to 3. However, when a in formula (2) is 1, n is 2 to 3)

[8]塗料が、(A-1)金属酸化物微粒子とともに、
(A-2)有機ケイ素化合物で表面処理されてなり、表面処理された粒子の表面電荷量(QA-2)が5〜80μeq/gの範囲にある金属酸化物微粒子であって、金属酸化物微粒子(A-2)の屈折率(nA-2)が(nA-1)よりも高く、表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)の表面電荷量(QA-2)と(QA-1)との差(QA-1)−(QA-2)が10〜95μeq/gの範囲にある[1]〜[7]の透明被膜形成用塗料。
[8] The paint, together with (A-1) metal oxide fine particles,
(A-2) A metal oxide fine particle which has been surface-treated with an organosilicon compound and has a surface charge amount (Q A-2 ) in the range of 5 to 80 μeq / g, The surface charge of the metal oxide fine particles (A-2) whose surface refractive index (n A-2 ) is higher than (n A-1 ) and the surface-treated metal oxide fine particles (A-2) (Q A-2 ) And (Q A-1 ), (Q A-1 ) − (Q A-2 ) [1] to [7] for forming a transparent film, wherein the range is from 10 to 95 μeq / g.

[9]前記金属酸化物微粒子(A-2)が下記式(4)で表される有機珪素化合物で表面処理され
ている[1]〜[8]の透明被膜形成用塗料。
n-SiX4-n (4)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、n:1〜3の整数。ただし、式(1)のaが1の場合、nは2〜3となる))
[9] The paint for forming a transparent film according to [1] to [8], wherein the metal oxide fine particles (A-2) are surface-treated with an organosilicon compound represented by the following formula (4).
R n -SiX 4-n (4 )
(In the formula, R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, Halogen, hydrogen, n: an integer of 1 to 3. However, when a in formula (1) is 1, n is 2 to 3))

[10]前記表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)の固形分としての濃度(CPA-2)が0
.1〜20重量%の範囲にある[1]〜[9]の透明被膜形成用塗料。
[10] The concentration (C PA-2 ) of the surface-treated metal oxide fine particles (A-2) as a solid content is 0
. The paint for forming a transparent film according to [1] to [9] in the range of 1 to 20% by weight.

[11]前記表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)の平均粒子径が5nm〜5μmの範囲
にある[1]〜[10]の透明被膜形成用塗料。
[11] The paint for forming a transparent film according to [1] to [10], wherein the surface-treated metal oxide fine particles (A-2) have an average particle diameter in the range of 5 nm to 5 μm.

[12]基材上に透明被膜が形成された透明被膜付基材であって、
透明被膜が、
(i)表面電荷量(QA)が20〜100μeq/gの範囲にある有機ケイ素化合物で表面処理された属酸化物微粒子(A-1)と親水性マトリックス成分(B-1)とからなり、
(ii)表面処理された金属酸化物粒子(A-1)が透明被膜の上部に層をなして偏在し、透明被
膜中の表面処理された金属酸化物微粒子(A-1)の含有量(WPA-1)が0.2〜90重量%
の範囲にあり、マトリックス成分の含有量(WM)が10〜99.8重量%の範囲にある
透明被膜付基材。
[12] A substrate with a transparent film in which a transparent film is formed on the substrate,
Transparent film
(i) consisting of metal oxide fine particles (A-1) surface-treated with an organosilicon compound having a surface charge (Q A ) in the range of 20 to 100 μeq / g and a hydrophilic matrix component (B-1) ,
(ii) The surface-treated metal oxide particles (A-1) are unevenly distributed in the upper part of the transparent coating, and the content of the surface-treated metal oxide fine particles (A-1) in the transparent coating ( W PA-1 ) is 0.2 to 90% by weight
The base material with a transparent film in which the content of the matrix component (W M ) is in the range of 10 to 99.8% by weight.

[13]前記マトリックス成分がさらに疎水性マトリックス成分(B-2)を含んでなり、親水
性マトリックス成分(B-1)の固形分としての含有量(WMB-1)と疎水性マトリックス成分
の固形分としての含有量(WMB-2)との含有量の比(WMB-1)/(WMB-2)が0.005〜1の範囲にある[12]の透明被膜付基材。
[13] The matrix component further comprises a hydrophobic matrix component (B-2), the content (W MB-1 ) of the hydrophilic matrix component (B-1) as a solid content and the hydrophobic matrix component The base material with a transparent coating according to [12], wherein the content ratio (W MB-1 ) / (W MB-2 ) to the content (W MB-2 ) as a solid content is in the range of 0.005 to 1 .

[14]さらに表面電荷量(QA-2)が5〜80μeq/gの範囲にある表面処理された金
属酸化物微粒子(A-2)を含んでなり、表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)の屈折率(nA-2)が表面処理された金属酸化物微粒子(A-1)の屈折率(nA-1)よりも高く、表面処理され
た金属酸化物微粒子(A-2)が基材表面上に層をなして偏在しているか、前記表面処理され
た金属酸化物微粒子(A-1)からなる層と基材表面の間に分散してなる[12]または[13]の透
明被膜付基材。
[14] The surface-treated metal oxide fine particles (A-2) further comprising surface-treated metal oxide fine particles (A-2) having a surface charge amount (Q A-2 ) in the range of 5 to 80 μeq / g. The refractive index (n A-2 ) of A-2 ) is higher than the refractive index (n A-1 ) of the surface-treated metal oxide fine particles (A-1), and the surface-treated metal oxide fine particles (A -2) is unevenly distributed in a layer on the substrate surface, or is dispersed between the surface-treated metal oxide fine particles (A-1) and the substrate surface [12] or [13] A substrate with a transparent coating.

[15]前記表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)の含有量が5〜70重量%の範囲にあ
る[12]〜[14]の透明被膜付基材。
[15] The substrate with a transparent coating according to [12] to [14], wherein the content of the surface-treated metal oxide fine particles (A-2) is in the range of 5 to 70% by weight.

[16]前記表面処理された金属酸化物微粒子(A-1)の平均粒子径が5〜500nmの範囲
にあり、前記表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)の平均粒子径が5nm〜5μmの範
囲にある[12]〜[15]の透明被膜付基材。
[16] The surface-treated metal oxide fine particles (A-1) have an average particle size in the range of 5 to 500 nm, and the surface-treated metal oxide fine particles (A-2) have an average particle size of 5 nm. The base material with a transparent film of [12]-[15] in the range of ~ 5 μm.

[17]前記表面処理された金属酸化物微粒子(A-1)の屈折率(nA-1)と前記表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)の屈折率(nA-2)との屈折率差(nA-2)−(nA-1)が0.20以上である[12]〜[16]の透明被膜付基材。 [17] The refractive index (n A-1 ) of the surface-treated metal oxide fine particles (A-1) and the refractive index (n A-2 ) of the surface-treated metal oxide fine particles ( A-2 ) [12] to [16], wherein the difference in refractive index from (n A-2 ) − (n A−1 ) is 0.20 or more.

[18]前記透明被膜の表面が凹凸を有し、透明被膜の平均膜厚が1〜10μmの範囲にあり、透明被膜の凸部の平均高さ(T凸)と凹部の平均高さ(T凹)との差(T凸)−(T凹)が30〜1500nmの範囲にある[14]〜[17]の透明被膜付基材。   [18] The surface of the transparent film has irregularities, the average film thickness of the transparent film is in the range of 1 to 10 μm, the average height of convex portions (T convex) and the average height of concave portions (T (14) to [17] are substrates with a transparent coating, wherein the difference from (concave) is (T convex)-(T concave) is in the range of 30 to 1500 nm.

本発明によれば、一回の塗布により、上下に分離した機能の異なる層を少なくとも2層形成することのできる透明被膜形成用塗料および透明被膜付基材を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the coating material for transparent film formation and the base material with a transparent film which can form at least two layers from which the function separated into the upper and lower sides by one application | coating can be provided.

また、一回の塗工で透明被膜が得られるため工程が大幅に短縮できるとともに歩留まりが向上し、得られる透明被膜は密着性にも優れている。   Moreover, since a transparent film can be obtained by a single coating, the process can be greatly shortened and the yield is improved, and the obtained transparent film is excellent in adhesion.

以下、先ず、本発明に係る透明被膜形成用塗料について具体的に説明する。
透明被膜形成用塗料
本発明に係る透明被膜形成塗料は、
(A-1)有機ケイ素化合物で表面処理されてなり、かつ表面処理された微粒子の表面電荷
量(QA-1)が20〜100μeq/gの範囲にある金属酸化物微粒子と、
(B-1)親水性マトリックス形成成分と、(C)極性溶媒とからなり、
金属酸化物微粒子(A-1)の固形分としての濃度(CPA-1)が0.1〜20重量%の範囲
にあり、
親水性マトリックス形成成分(B-1)の固形分としての濃度(CMB-1)が1〜50重量%
の範囲にある。
Hereinafter, first, the transparent film-forming paint according to the present invention will be specifically described.
Transparent film forming paint The transparent film forming paint according to the present invention is
(A-1) metal oxide fine particles that have been surface-treated with an organosilicon compound and the surface-treated fine particles have a surface charge amount (Q A-1 ) in the range of 20 to 100 μeq / g;
(B-1) consisting of a hydrophilic matrix-forming component and (C) a polar solvent,
The concentration (C PA-1 ) as a solid content of the metal oxide fine particles (A-1) is in the range of 0.1 to 20% by weight,
Concentration (C MB-1 ) as a solid content of the hydrophilic matrix forming component (B -1 ) is 1 to 50% by weight
It is in the range.

表面処理金属酸化物微粒子(A-1)
本発明に用いる表面処理された金属酸化物微粒子(A-1)は表面電荷量(QA-1)が20〜100μeq/g、さらには25〜100μeq/gの範囲にあることが好ましい。
Surface-treated metal oxide fine particles (A-1)
The surface-treated metal oxide fine particles (A-1) used in the present invention preferably have a surface charge amount (Q A-1 ) of 20 to 100 μeq / g, more preferably 25 to 100 μeq / g.

表面電荷量が前記範囲にあるとマトリックス形成成分が親水性を有しているために透明被膜を形成した際に表面処理された金属酸化物微粒子(A-1)が透明被膜の上部に層を形成
して偏在し、例えば、金属酸化物微粒子(A-1)が低屈折率の粒子であれば反射防止性能を
有する透明被膜を一回の塗布で形成することができる。
When the surface charge amount is in the above range, the matrix-forming component has hydrophilicity, so that when the transparent film is formed, the surface-treated metal oxide fine particles (A-1) form a layer on the transparent film. For example, if the metal oxide fine particles (A-1) are particles having a low refractive index, a transparent film having antireflection performance can be formed by a single application.

表面電荷量(QA-1)が25μeq/g未満の場合は、金属酸化物微粒子(A-1)の親水性が不充分となり親水性のマトリックス形成成分への分散性が低下し塗料中で金属酸化物微粒子(A-1)が凝集することがあり、膜の上部に金属酸化物微粒子(A-1)の均一な層を形成しない場合がある。 When the surface charge amount (Q A-1 ) is less than 25 μeq / g, the hydrophilicity of the metal oxide fine particles (A-1) is insufficient and the dispersibility in the hydrophilic matrix-forming component is reduced, and thus in the paint. The metal oxide fine particles (A-1) may aggregate, and a uniform layer of the metal oxide fine particles (A-1) may not be formed on the upper part of the film.

表面電荷量(QA-1)が100μeq/gを超えると、親水性のマトリックス形成成分
への分散性が高く、塗料中で金属酸化物微粒子(A-1)が高分散するため膜の上部に金属酸
化物微粒子(A-1)の均一な層を形成しない場合がある。
When the surface charge amount (Q A-1 ) exceeds 100 μeq / g, the dispersibility in the hydrophilic matrix forming component is high, and the metal oxide fine particles (A-1) are highly dispersed in the paint, so In some cases, a uniform layer of metal oxide fine particles (A-1) may not be formed.

前記した表面電荷量の測定方法は、表面電位滴定装置(Mutek(株) pcd-03)を用いて、
微粒子の分散液を0.001Nのpoly-塩化ジアリルジメチルアンモニウムを用いて滴定
し、粒子単位グラム当たりの表面電荷量(μeq/g)求めることができる。
The method for measuring the surface charge amount described above uses a surface potential titrator (Mutek Inc. pcd-03),
The fine particle dispersion can be titrated with 0.001 N poly-diallyldimethylammonium chloride to determine the surface charge (μeq / g) per gram of particles.

金属酸化物粒子(A-1)は用途によって適宜選択して用いることができ、例えば、反射防
止膜に用いる金属酸化物微粒子としては通常屈折率が1.45以下、好ましくは1.40以下の金属酸化物微粒子が用いられ、具体的にはSiO2、内部に空洞を有するSiO2、あるいはこれらに導電性を有する金属酸化物を被覆した微粒子等が挙げられる。
The metal oxide particles (A-1) can be appropriately selected and used depending on the application. For example, the metal oxide fine particles used for the antireflection film usually have a refractive index of 1.45 or less, preferably 1.40 or less. metal oxide fine particles are used, specifically SiO 2, fine particles coated with metal oxides having a SiO 2 or conductive thereto, having a cavity inside thereof.

ハードコート膜に用いる金属酸化物微粒子としては、ZrO2、TiO2、Sb25、ZnO2、Al23、SnO2、あるいはこれら粒子が鎖状に連結した鎖状粒子、あるいは前記した屈折率が1.45以下のシリカ系微粒子等が挙げられる。 Examples of the metal oxide fine particles used for the hard coat film include ZrO 2 , TiO 2 , Sb 2 O 5 , ZnO 2 , Al 2 O 3 , SnO 2 , chain particles in which these particles are connected in a chain, Examples thereof include silica-based fine particles having a refractive index of 1.45 or less.

高屈折率膜に用いる金属酸化物微粒子としては、通常屈折率が1.60以上、さらには1.80以上の微粒子が用いられ、具体的にはZrO2、TiO2、Sb25、ZnO2、Al23、SnO2、アンチモンドープ酸化錫、錫ドープ酸化インジウム、酸化錫ドープリン(P
TO)等が挙げられる。
The metal oxide fine particles used for the high refractive index film are usually fine particles having a refractive index of 1.60 or more, more preferably 1.80 or more. Specifically, ZrO 2 , TiO 2 , Sb 2 O 5 , ZnO 2 , Al 2 O 3 , SnO 2 , antimony-doped tin oxide, tin-doped indium oxide, tin oxide-doped phosphorus (P
TO) and the like.

導電性膜に用いる金属酸化物微粒子としては、通常Sb25、SnO2、アンチモンドー
プ酸化錫、錫ドープ酸化インジウム、酸化錫ドープリン(PTO)、あるいはこれら導電性材料で表面を被覆したシリカ系微粒子あるいは内部に空洞を有するシリカ系微粒子等が挙げられる。
The metal oxide fine particles used for the conductive film are usually Sb 2 O 5 , SnO 2 , antimony-doped tin oxide, tin-doped indium oxide, tin oxide-doped phosphorus (PTO), or silica-based whose surface is coated with these conductive materials. Examples thereof include fine particles or silica-based fine particles having cavities therein.

本発明の透明被膜形成塗料は特に反射防止膜の形成に有用で、金属酸化物微粒子としては屈折率が1.15〜1.40、さらには好ましくは1.15〜1.35の金属酸化物微粒子が用いられる。金属酸化物微粒子としては本願出願人の出願による特開2001−233611号公報に開示した内部に空洞を有するシリカ系微粒子を好適に採用することができる。   The transparent film-forming paint of the present invention is particularly useful for forming an antireflection film, and the metal oxide fine particles have a refractive index of 1.15 to 1.40, more preferably 1.15 to 1.35. Fine particles are used. As the metal oxide fine particles, silica-based fine particles having cavities therein disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-233611 filed by the present applicant can be suitably used.

かかる金属酸化物微粒子(A-1)は、有機珪素化合物で表面処理されている。有機ケイ素
化合物としては、下記式(1)で表される有機珪素化合物が好ましい。
aSiX4-a (1)
(但し、式中、Xは炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。aは0か1の整数)
このような式(1)で表される有機珪素化合物としてはテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシシラン、テトラブトキシシラン、トリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β-メトキシエトキシ)シラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル-3,3,3−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、β−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリエキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシドキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロキシメチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロキシメチルトリエキシシラン、γ-(メタ)アクリロキシエチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロキシエチルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラオクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、3-ウレイドイソプロピルプロピルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
Such metal oxide fine particles (A-1) are surface-treated with an organosilicon compound. As the organosilicon compound, an organosilicon compound represented by the following formula (1) is preferable.
R a Six 4-a (1)
(In the formula, X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, halogen, and hydrogen, and may be the same or different. R is unsubstituted or substituted having 1 to 10 carbon atoms. Hydrocarbon groups which may be the same or different from each other, a being an integer of 0 or 1)
Examples of the organosilicon compound represented by the formula (1) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, trimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, Methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, 3,3,3- Trifluoropropyltrimethoxysilane, methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltrimethoxysila , Γ-glycidoxymethyltriethoxysilane, γ-glycidoxyethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxyethyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane , Γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ- (β-glycidoxyethoxy) propyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxymethyltrimethoxysilane, γ- (Meth) acryloxymethyltriethoxysilane, γ- (meth) acryloxyethyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxyethyltriethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, γ- (meta ) Acryloxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropi Triethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, butyltrimethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilaoctyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, butyltriethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, Hexyltriethoxysilane, octyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, 3-ureidoisopropylpropyltriethoxysilane, perfluorooctylethyltrimethoxysilane, perfluorooctylethyltriethoxysilane, perfluorooctylethyltriisopropoxysilane, tri Examples include fluoropropyltrimethoxysilane.

金属酸化物微粒子(A-1)の表面処理は、例えば、前記した金属酸化物微粒子のアルコー
ル分散液に前記した有機珪素化合物を所定量加え、これに水を加え、必要に応じて有機珪素化合物の加水分解用触媒として酸またはアルカリを加えて有機珪素化合物を加水分解することによって行うことができる。
The surface treatment of the metal oxide fine particles (A-1) is performed, for example, by adding a predetermined amount of the above-described organosilicon compound to the above-described alcohol dispersion of the metal oxide fine particles, adding water thereto, and if necessary, the organosilicon compound It can be carried out by hydrolyzing the organosilicon compound by adding an acid or alkali as a catalyst for hydrolysis of the above.

金属酸化物微粒子(A-1)と有機珪素化合物との量比(有機珪素化合物の固形分としての
重量/金属酸化物微粒子(A-1)の重量)は金属酸化物微粒子(A-1)の平均粒子径によっても異なるが0.005〜0.4さらには0.01〜0.2の範囲にあることが好ましい。
The amount ratio of the metal oxide fine particles (A-1) to the organosilicon compound (weight as the solid content of the organosilicon compound / weight of the metal oxide fine particles (A-1)) is the metal oxide fine particles (A-1) Depending on the average particle size, it is preferably in the range of 0.005 to 0.4, more preferably 0.01 to 0.2.

前記重量比が少ない場合は金属酸化物微粒子(A-1)の親水性が不充分となり、親水性の
マトリックス形成成分への分散性が低下し塗料中で金属酸化物微粒子(A-1)が凝集するこ
とがあり、膜の上部に金属酸化物微粒子(A-1)の均一な層を形成しない場合がある。前記
重量比が多すぎても親水性が高くなり過ぎ、塗料中で金属酸化物微粒子(A-1)が高分散す
るため膜の上部に金属酸化物微粒子(A-1)の均一な層を形成しない場合がある。
When the weight ratio is small, the hydrophilicity of the metal oxide fine particles (A-1) becomes insufficient, the dispersibility in the hydrophilic matrix-forming component is lowered, and the metal oxide fine particles (A-1) are contained in the paint. Aggregation may occur, and a uniform layer of metal oxide fine particles (A-1) may not be formed on the top of the film. Even if the weight ratio is too large, the hydrophilicity becomes too high, and the metal oxide fine particles (A-1) are highly dispersed in the paint, so a uniform layer of metal oxide fine particles (A-1) is formed on the upper part of the film. May not form.

必要に応じて、表面処理された金属酸化物微粒子(A-1)は所望の有機溶媒に置換されて
もよい。有機溶媒としては、後述する極性溶媒が挙げられる。
金属酸化物微粒子(A-1)が前記有機珪素化合物で前記量で表面処理されていると前記し
た範囲の表面電荷量を有し、即ち適度に親水性を有し、塗料中で凝集することなく分散し、透明被膜の上部に層をなして配列した透明被膜を得ることができる。
If necessary, the surface-treated metal oxide fine particles (A-1) may be substituted with a desired organic solvent. Examples of the organic solvent include polar solvents described later.
When the metal oxide fine particles (A-1) are surface-treated with the above-mentioned organosilicon compound in the above-mentioned amount, they have a surface charge amount in the above-mentioned range, that is, have moderate hydrophilicity and agglomerate in the paint. It is possible to obtain a transparent film which is dispersed without any other material and arranged in layers on the transparent film.

表面処理された金属酸化物微粒子(A-1)は平均粒子径が5〜500nm、さらには10
〜100nmの範囲にあることが好ましい(なお実質的に表面処理前後で金属酸化物微粒子の平均粒子径は変化しない)。
The surface-treated metal oxide fine particles (A-1) have an average particle diameter of 5 to 500 nm, more preferably 10
It is preferable to be in the range of ˜100 nm (note that the average particle diameter of the metal oxide fine particles does not substantially change before and after the surface treatment).

金属酸化物微粒子(A-1)の平均粒子径が前記範囲よりも小さいものは得ること自体が困
難であり、平均粒子径が前記範囲を超えて大きいものは、得られる透明被膜のヘーズ値が高く光学膜として使用できない場合がある。
When the average particle diameter of the metal oxide fine particles (A-1) is smaller than the above range, it is difficult to obtain itself, and when the average particle diameter is larger than the above range, the haze value of the transparent film to be obtained is In some cases, it cannot be used as an optical film.

透明被膜形成用塗料中の金属酸化物微粒子(A-1)の固形分濃度(CPA-1)が、0.1〜
20重量%、さらには0.2〜15重量%の範囲にあることが好ましい。(CPA-1)が少ないと、膜の上部に偏在しても粒子の量が少ないため粒子の有する特性(低屈折率や導電性等)による反射防止性能、帯電防止性能等が不充分となる場合がある。また(CPA-1)が多すぎても、得られる膜中の粒子の割合が多すぎて実質的に膜中に表面処理された金属酸化物微粒子が全域に亘って均一に分散した膜となり、本発明の2種以上の機能を有する膜が得られない場合がある。
The solid content concentration (C PA-1 ) of the metal oxide fine particles (A-1) in the paint for forming a transparent film is 0.1 to 0.1.
It is preferably 20% by weight, more preferably in the range of 0.2 to 15% by weight. When (C PA-1 ) is low, the amount of particles is small even when unevenly distributed on the top of the film, so the antireflection performance and antistatic performance due to the properties of the particles (low refractive index, conductivity, etc.) are insufficient. There is a case. Moreover, even if there is too much (C PA-1 ), the ratio of the particles in the resulting film is too high, and the film is substantially uniformly dispersed throughout the entire area of the metal oxide fine particles surface-treated in the film. The film having two or more functions of the present invention may not be obtained.

金属酸化物微粒子(A-2)
本発明の透明被膜形成塗料には、さらに表面電荷量(QA-2)が5〜80μeq/gの
範囲にある金属酸化物微粒子(A-2)を含んでいてもよい。かかる金属酸化物微粒子(A-2)も
有機ケイ素化合物で表面処理されている。
Metal oxide fine particles (A-2)
The transparent film-forming paint of the present invention may further contain metal oxide fine particles (A-2) having a surface charge amount (Q A-2 ) in the range of 5 to 80 μeq / g. Such metal oxide fine particles (A-2) are also surface-treated with an organosilicon compound.

金属酸化物微粒子(A-2)としては、前記金属酸化物微粒子(A-1)より疎水性が高く、表面電荷量が10〜95μeq/gの範囲で低い粒子を用いる。
このような金属酸化物微粒子(A-2)を使用すると、
金属酸化物微粒子(A-2)は、金属酸化物微粒子(A-2)が下記式(4)で表される有機珪素化
合物で表面処理されている。
n−SiX4-n (4)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、n:1〜3の整数。
As the metal oxide fine particles (A-2), particles having higher hydrophobicity than the metal oxide fine particles (A-1) and having a surface charge amount of 10 to 95 μeq / g are used.
When using such metal oxide fine particles (A-2),
In the metal oxide fine particles (A-2), the metal oxide fine particles (A-2) are surface-treated with an organosilicon compound represented by the following formula (4).
R n -SiX 4-n (4 )
(In the formula, R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, Halogen, hydrogen, n: an integer of 1 to 3.

式(4)で表される化合物は、式(1)で表される化合物よりも疎水性であるものが使用され、式(1)のaが1の場合、nは2〜3となる)
具体的には、 具体的には、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β-メトキシエトキシ)シラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル-3,3,3−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、β−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリエキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシドキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロキシメチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロキシメチルトリエキシシラン、γ-(メタ)アクリロキシエチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロキシエチルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラオクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、3-ウレイドイソプロピルプロピルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、トリメチルシラノール、メチルトリクロロシラン等が挙げられる。なかでも、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル-3,3,3−トリフルオロプロピルジメトキシシランが挙げられる。
The compound represented by the formula (4) is more hydrophobic than the compound represented by the formula (1). When a in the formula (1) is 1, n is 2 to 3)
Specifically, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane Methoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane, β -(3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltriexisilane, γ-glycidoxyethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxyethyl Torie Toki Silane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ- (β-glycidoxy Ethoxy) propyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxymethyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxymethyltriethoxysilane, γ- (meth) acryloxyethyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxy Ethyltriethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltri Ethoxysilane, butyltrimethoxysilane, isobutyltri Toxisilane, hexyltriethoxysilaoctyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, butyltriethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilane, octyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, 3-ureidoisopropylpropyltriethoxysilane, Perfluorooctylethyltrimethoxysilane, perfluorooctylethyltriethoxysilane, perfluorooctylethyltriisopropoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β (Aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysila , Trimethylsilanol, methyltrichlorosilane and the like. Among these, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane and methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane are exemplified.

金属酸化物微粒子(A-2)の表面処理は、例えば、後述する金属酸化物微粒子のアルコー
ル分散液に前記した有機珪素化合物を所定量加え、これに水を加え、必要に応じて有機珪素化合物の加水分解用触媒として酸またはアルカリを加えて有機珪素化合物を加水分解することによって行うことができる。
The surface treatment of the metal oxide fine particles (A-2) is performed, for example, by adding a predetermined amount of the above-described organosilicon compound to an alcohol dispersion of metal oxide fine particles, which will be described later, adding water thereto, and if necessary, an organosilicon compound It can be carried out by hydrolyzing the organosilicon compound by adding an acid or an alkali as a catalyst for hydrolysis.

金属酸化物微粒子(A-2)と有機珪素化合物との量比(有機珪素化合物の固形分としての
重量/高屈折率微粒子の重量)は金属酸化物微粒子(A-2)の平均粒子径によっても異なる
が0.005〜0.4さらには0.01〜0.2の範囲にあることが好ましい。
The quantity ratio between the metal oxide fine particles (A-2) and the organosilicon compound (weight as the solid content of the organosilicon compound / weight of the high refractive index fine particles) depends on the average particle diameter of the metal oxide fine particles (A-2). However, it is preferably in the range of 0.005 to 0.4, more preferably 0.01 to 0.2.

前記重量比が少ないと、疎水性が不充分なために後述する疎水性マトリックス形成成分へ分散することなく親水性マトリックス形成成分に分散し、金属酸化物微粒子(A-1)と(A-2)との分離が不充分となり、金属酸化物微粒子(A-1)と(A-2)とを併用する効果が不充分となることがある。   When the weight ratio is small, the hydrophobicity is insufficient, so that it is dispersed in the hydrophilic matrix-forming component without being dispersed in the hydrophobic matrix-forming component described later, and the metal oxide fine particles (A-1) and (A-2 ) And the metal oxide fine particles (A-1) and (A-2) in combination may be insufficiently separated.

前記重量比が大きすぎると疎水性が高くなり過ぎて(表面電荷量が5μq/g以下となり)疎水性マトリックス形成成分中で凝集することがある。
ついで、有機溶媒に置換することによって表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)の有
機溶媒分散液を得ることができる。有機溶媒としては、後述する極性溶媒を用いることが好ましい。
If the weight ratio is too large, the hydrophobicity becomes too high (the surface charge amount becomes 5 μq / g or less) and may aggregate in the hydrophobic matrix forming component.
Subsequently, an organic solvent dispersion of the metal oxide fine particles (A-2) subjected to the surface treatment can be obtained by substituting with an organic solvent. As the organic solvent, a polar solvent described later is preferably used.

金属酸化物微粒子(A-2)としては前記した金属酸化物微粒子(A-1)に用いる金属酸化物微粒子と異なる金属酸化物微粒子を選択して用いる。
具体的には、ハードコート膜に用いられるZrO2、TiO2、Sb25、ZnO2、Al23
、SnO2、あるいはこれら粒子が鎖状に連結した鎖状粒子、あるいは前記した屈折率が1.45以下のシリカ系微粒子等、高屈折率膜に用いられる、通常屈折率が1.60以上、さらには1.80以上の微粒子、具体的にはZrO2、TiO2、Sb25、ZnO2、Al23、SnO2、アンチモンドープ酸化錫、錫ドープ酸化インジウム、酸化錫ドープリン(PTO)等、導電性膜に用いられるSb25、SnO2、アンチモンドープ酸化錫、錫ドープ酸化インジウム、酸化錫ドープリン(PTO)、あるいはこれら導電性材料で表面を被覆したシリカ系微粒子あるいは内部に空洞を有するシリカ系微粒子等が挙げられる。
As the metal oxide fine particles (A-2), metal oxide fine particles different from the metal oxide fine particles used for the metal oxide fine particles (A-1) are selected and used.
Specifically, ZrO 2 , TiO 2 , Sb 2 O 5 , ZnO 2 , Al 2 O 3 used for the hard coat film are used.
SnO 2 , chain particles in which these particles are linked in a chain, or silica-based fine particles having a refractive index of 1.45 or less, and the like, and a normal refractive index of 1.60 or more, Further, fine particles of 1.80 or more, specifically, ZrO 2 , TiO 2 , Sb 2 O 5 , ZnO 2 , Al 2 O 3 , SnO 2 , antimony-doped tin oxide, tin-doped indium oxide, tin oxide-doped phosphorus (PTO) Etc.) Sb 2 O 5 , SnO 2 used for conductive films, antimony-doped tin oxide, tin-doped indium oxide, tin oxide-doped phosphorus (PTO), or silica-based fine particles whose surface is coated with these conductive materials or inside Examples thereof include silica-based fine particles having cavities.

金属酸化物微粒子(A-2)の表面電荷量(QA-2)は、5〜80μeq/g、さらには7〜70μeq/gの範囲にあることが好ましい。表面電荷量(QA-2)が小さいものは、疎
水性マトリックス形成成分中で凝集することがあり、膜の下部に均一な層を形成しない場合がある。表面電荷量(QA-2)が大きすぎると、疎水性が低く、親水性が増すために親
水性マトリックス形成成分に分散し、膜の下部に偏在することなく金属酸化物微粒子(A-1)と混合して膜の上部に位置する傾向があり、金属酸化物微粒子(A-1)の特性による効果、例えば低屈折率の特性による反射防止性能が不充分となることがある。
The surface charge amount (Q A-2 ) of the metal oxide fine particles (A-2) is preferably in the range of 5 to 80 μeq / g, more preferably 7 to 70 μeq / g. Those having a small surface charge (Q A-2 ) may agglomerate in the hydrophobic matrix-forming component and may not form a uniform layer below the membrane. If the surface charge amount (Q A-2 ) is too large, the hydrophobicity is low and the hydrophilicity increases, so that it is dispersed in the hydrophilic matrix forming component, and the metal oxide fine particles (A-1 are not unevenly distributed in the lower part of the film. ) To be located at the upper part of the film, and the effect due to the characteristics of the metal oxide fine particles (A-1), for example, the antireflection performance due to the low refractive index characteristics may be insufficient.

また、金属酸化物微粒子(A-1)の表面電荷量(QA-1)と表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)の表面電荷量(QA-2)との差(QA-1)−(QA-2)が10〜95μeq/g、さらには15〜85μeq/gの範囲にあることが好ましい。 The difference between the metal oxide fine particle surface charge amount of (A-1) (Q A -1) and the surface-treated metal oxide fine particle surface charge amount of (A-2) (Q A -2) (Q A-1 )-(Q A-2 ) is preferably in the range of 10 to 95 μeq / g, more preferably 15 to 85 μeq / g.

(QA-1)−(QA-2)が小さいものは、金属酸化物微粒子(A-1)と金属酸化物微粒子(A-2)の表面電荷量の差が小さく、これら微粒子の分離が不充分となり本発明の目的とする2種以上の機能を有する膜が得られない場合がある。(QA-1)−(QA-2)が大きすぎると、金属酸化物微粒子(A-1)が凝集するとともに表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)も凝集し、得られる膜が白化したり、基材との密着性や強度が不充分となることがある。
また、表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)の屈折率(nA-2)が表面処理された金属酸化物微粒子(A-1)の屈折率(nA-1)よりも高いことが好ましく、さらには屈折率差(nA-2)−(nA-1)が0.20以上であることが好ましい。
When (Q A-1 )-(Q A-2 ) is small, the difference in surface charge between the metal oxide fine particles (A-1) and the metal oxide fine particles (A-2) is small. May be insufficient, and a film having two or more functions which is the object of the present invention may not be obtained. When (Q A-1 )-(Q A-2 ) is too large, the metal oxide fine particles (A-1) are aggregated and the surface-treated metal oxide fine particles (A-2) are also aggregated to obtain. The film may be whitened or the adhesion and strength with the substrate may be insufficient.
Further, the refractive index (n A-2 ) of the surface-treated metal oxide fine particles (A-2) is higher than the refractive index (n A-1 ) of the surface-treated metal oxide fine particles (A-1). It is preferable that the refractive index difference (n A−2 ) − (n A−1 ) is 0.20 or more.

金属酸化物微粒子(A-2)の平均粒子径は5nm〜5μm、さらには10nm〜3μmの
範囲にあることが好ましい。
金属酸化物微粒子(A-2)の平均粒子径が小さいものは得ることが困難であり、大きすぎ
ると、後述するような透明被膜の凸部の高さ(T凸)と凹部の高さ(T凹)との差(T凸)−(T凹)が1.5μmを超えることがあり、充分な防眩性能が得られないことがあり、さらに透明被膜の耐擦傷性が問題となることがある。
The average particle diameter of the metal oxide fine particles (A-2) is preferably in the range of 5 nm to 5 μm, more preferably 10 nm to 3 μm.
It is difficult to obtain a metal oxide fine particle (A-2) having a small average particle diameter. If it is too large, the height of the convex portion (T convex) and the height of the concave portion (described later) The difference between (T-concave) and (T-concave)-(T-concave) may exceed 1.5 μm, and sufficient anti-glare performance may not be obtained, and the scratch resistance of the transparent film may be a problem. There is.

金属酸化物微粒子(A-2)は、透明被膜形成用塗料中の固形分としての濃度(CPA-2)が
0.1〜20重量%、さらには0.2〜15重量%の範囲にあることが好ましい。
(CPA-2)が少ない場合は、金属酸化物微粒子(A-2)が膜の下部に偏在しても粒子の量
が少ないため粒子の有する特性(高屈折率や導電性等)による反射防止性能向上効果、帯電防止性能等が不充分となる場合がある。(CPA-1)が多いと、得られる膜中の粒子の割合が多すぎて金属酸化物微粒子(A-1)と混合したり、膜中に金属酸化物微粒子(A-2)が全域に亘って分散した膜となり、本発明の2種以上の機能を有する膜が得られない場合がある。
The metal oxide fine particles (A-2) have a concentration (C PA-2 ) in the range of 0.1 to 20% by weight, and further 0.2 to 15% by weight as a solid content in the paint for forming a transparent film. Preferably there is.
When (C PA-2 ) is low, the amount of particles is small even if the metal oxide fine particles (A-2) are unevenly distributed in the lower part of the film, so reflection due to the characteristics of the particles (high refractive index, conductivity, etc.) The prevention performance improvement effect, the antistatic performance, etc. may be insufficient. If the amount of (C PA-1 ) is large, the proportion of particles in the resulting film is too large and mixed with the metal oxide fine particles (A-1) or the metal oxide fine particles (A-2) In some cases, a film having two or more functions of the present invention cannot be obtained.

マトリックス形成成分(B-1)
マトリックス形成成分としては、親水性マトリックス形成成分(B-1)が用いられる。
親水性マトリックス形成成分としてはシリコーン系(ゾルゲル系)マトリックス形成成分である下記式(2)で表される有機珪素化合物またはこれらの加水分解物、加水分解重縮合
物または有機樹脂系マトリックス形成成分である水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホ基から選ばれる1種以上の親水性官能基を有する多官能(メタ)アクリル酸エステル樹脂が好適に用いられる。
aSiX4-a (2)
(但し、式中、Xは炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。aは0か1の整数)
具体的には、シリコーン系(ゾルゲル系)の親水性マトリックス形成成分として、前記した式(1)の有機珪素化合物およびこれらの加水分解物、加水分解重縮合物を好適に用い
ることができる。
Matrix-forming component (B-1)
As the matrix forming component, a hydrophilic matrix forming component (B-1) is used.
The hydrophilic matrix-forming component is an organosilicon compound represented by the following formula (2), which is a silicone (sol-gel) matrix-forming component, or a hydrolyzate, hydrolyzed polycondensate or organic resin-based matrix-forming component. A polyfunctional (meth) acrylate resin having at least one hydrophilic functional group selected from a certain hydroxyl group, amino group, carboxyl group, and sulfo group is preferably used.
R a Six 4-a (2)
(In the formula, X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, halogen, and hydrogen, and may be the same or different. R is unsubstituted or substituted having 1 to 10 carbon atoms. Hydrocarbon groups which may be the same or different from each other, a being an integer of 0 or 1)
Specifically, as the silicone-based (sol-gel-based) hydrophilic matrix-forming component, the above-described organosilicon compounds of the formula (1) and their hydrolysates and hydrolyzed polycondensates can be preferably used.

有機樹脂系の親水性マトリックス形成成分(B-1)として、具体的にペンタエリスリトー
ルトリアクリレート等の他、ジエチルアミノメチルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクレート、2−ヒドロキシプロピルメタクレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシブチルメタクレート、2−ヒドロキシ3フェノキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−アクリロイロキシプロピルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールジメタクリレート、ブトキシジエチレングリコールメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1.6−ヘキサンジオールジアクリレート、2−メタクリロイロキシエチルコハク酸、2−アクロイロキシエチルコハク酸、2−アクロイロキシエチルフタル酸、2−メタクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2−アクロイロキシエチル−2−ヒドロキシエチルフタル酸、2−メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、2−メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、2−アクロイロキシエチルアシッドフォスフェート、およびこれらの混合物あるいはこれら樹脂の2種以上の共重合体や変性体等が挙げられる。
Specific examples of the organic resin-based hydrophilic matrix forming component (B-1) include, in addition to pentaerythritol triacrylate, diethylaminomethyl methacrylate, dimethylaminomethyl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, diethylaminoethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate. Crate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl acrylate, methoxytri Ethylene glycol dimethacrylate, butoxydiethylene glycol methacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1.6-he Sundiol diacrylate, 2-methacryloyloxyethyl succinic acid, 2-acryloyloxyethyl succinic acid, 2-acryloyloxyethyl phthalic acid, 2-methacryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, 2-acrylooxyethyl- 2-hydroxyethylphthalic acid, 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate, 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate, 2-acryloyloxyethyl acid phosphate, and mixtures thereof, or a copolymer of two or more of these resins And modified products.

本発明に用いるマトリックス形成成分は前記親水性マトリックス形成成分(B-1)ととも
に疎水性マトリックス形成成分(B-2)が含まれていてもよい。
疎水性のマトリックス形成成分(B-2)としては、下記式(3)で表される有機珪素化合物またはこれらの加水分解物、加水分解重縮合物であるシリコーン系(ゾルゲル系)マトリックス形成成分が用いられる。
n-SiX4-n (3)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、
水素、n:1〜3の整数。ただし、式(2)のaが1の場合、nは2〜3となる))
具体的には、前記式(4)で表される有機珪素化合物およびこれらの加水分解物、加水分
解重縮合物を好適に用いることができる。
The matrix-forming component used in the present invention may contain a hydrophobic matrix-forming component (B-2) together with the hydrophilic matrix-forming component (B-1).
As the hydrophobic matrix-forming component (B-2), an organosilicon compound represented by the following formula (3) or a hydrolyzate or hydrolyzed polycondensate of the silicone-based (sol-gel) matrix-forming component Used.
R n -SiX 4-n (3 )
(In the formula, R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, halogen,
Hydrogen, n: an integer from 1 to 3. However, when a in formula (2) is 1, n is 2 to 3))
Specifically, an organosilicon compound represented by the formula (4), a hydrolyzate thereof, and a hydrolyzed polycondensate can be preferably used.

また有機樹脂系の疎水性マトリックス形成成分(B-2)を用いることもでき、ビニル基、
ウレタン基、エポキシ基、(メタ)アクリロイル基、CF2基等の疎水性官能基を有する
多官能(メタ)アクリル酸エステル樹脂が挙げられ、具体的には、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメテクリレート、イソデシルメテクリレート、n-ラウリルアクリレート、n−ステアリルアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、トリフロロエチルメテクリレート、ウレタンアクリレート等およびこれらの混合物が挙げられる。
An organic resin-based hydrophobic matrix-forming component (B-2) can also be used, and vinyl groups,
Examples include polyfunctional (meth) acrylic acid ester resins having hydrophobic functional groups such as urethane groups, epoxy groups, (meth) acryloyl groups, and CF 2 groups. Specifically, pentaerythritol tetraacrylate, trimethylol propane tri (Meth) acrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, 2-ethylhexyl methylate, isodecyl methylate, n-lauryl acrylate, n-stearyl acrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, perfluorooctylethyl methacrylate, trifluoroethyl methacrylate Relate, urethane acrylate and the like and mixtures thereof.

前記疎水性マトリックス形成成分(B-2)を親水性マトリックス形成成分(B-1)と混合して用いると親水性マトリックス形成成分(B-1)が上層を形成し、疎水性マトリックス形成成
分(B-2)が下層を形成し、これに対応して前記金属酸化物微粒子(A-1)が上層の表層に偏在し、金属酸化物微粒子(A-2)が下層の下部に偏在し、二層に分かれた膜を得ることが容
易となる。
When the hydrophobic matrix-forming component (B-2) is used in combination with the hydrophilic matrix-forming component (B-1), the hydrophilic matrix-forming component (B-1) forms an upper layer, and the hydrophobic matrix-forming component ( B-2) forms a lower layer, and correspondingly, the metal oxide fine particles (A-1) are unevenly distributed in the upper surface layer, and the metal oxide fine particles (A-2) are unevenly distributed in the lower portion of the lower layer, It becomes easy to obtain a film divided into two layers.

マトリックス形成成分の濃度は、固形分換算で、塗布液中に1〜30重量%、好ましくは15〜85重量%の範囲にあることが好ましい。
なお、疎水性マトリックス形成成分を含む場合、親水性マトリックス形成成分(B-1)の
固形分としての濃度(CMB-1)と疎水性マトリックス形成成分の固形分としての濃度(CMB-2)との濃度比(CMB-1)/(CMB-2)が0.005〜1、さらには0.01〜0.5の範囲にあることが好ましい。
The concentration of the matrix-forming component is preferably in the range of 1 to 30% by weight, preferably 15 to 85% by weight in the coating solution in terms of solid content.
When the hydrophobic matrix-forming component is included, the concentration of the hydrophilic matrix-forming component (B-1) as the solid content (C MB-1 ) and the concentration of the hydrophobic matrix-forming component as the solid content (C MB-2 )) (C MB-1 ) / (C MB-2 ) is preferably in the range of 0.005 to 1, more preferably 0.01 to 0.5.

前記濃度比(CMB-1)/(CMB-2)が小さいものは親水性マトリックス形成成分が少なく、実質的に疎水性マトリックス形成成分のみに近くなり、金属酸化物微粒子(A-1)(上
部)と金属酸化物微粒子(A-2)(下部)とを分離する効果が不充分となる。前記濃度比(
MB-1)/(CMB-2)が大きすぎても、親水性マトリックス形成成分が多く表面電荷量の高い表面処理された金属酸化物微粒子(A-1)が上層(親水性マトリックス成分)の上部に
偏在しない場合がある。
極性溶媒
本発明に用いる極性溶媒としては前記マトリックス形成成分、マトリックス硬化用の重合開始剤を溶解あるいは分散できるとともに金属酸化物微粒子(A-1)、金属酸化物微粒
子(A-2)を均一に分散することができる、従来公知の溶媒を用いることができる。本発
明では沸点の異なる2種以上の極性溶媒を混合して用いることが好ましい。
Those having a small concentration ratio (C MB-1 ) / (C MB-2 ) have few hydrophilic matrix forming components and are substantially close to only hydrophobic matrix forming components, so that the metal oxide fine particles (A-1) The effect of separating (upper part) and metal oxide fine particles (A-2) (lower part) becomes insufficient. The concentration ratio (
Even if C MB-1 ) / (C MB-2 ) is too large, the surface-treated metal oxide fine particles (A-1) having a large hydrophilic matrix-forming component and a high surface charge amount are present in the upper layer (hydrophilic matrix component). ) May not be unevenly distributed at the top.
Polar solvent The polar solvent used in the present invention can dissolve or disperse the matrix-forming component and the polymerization initiator for matrix curing, and uniformly disperse the metal oxide fine particles (A-1) and metal oxide fine particles (A-2). A conventionally known solvent that can be dispersed can be used. In the present invention, it is preferable to use a mixture of two or more polar solvents having different boiling points.

本発明では、前記溶媒で50〜100℃に沸点有する極性溶媒(A-1)と、100℃を
こえて〜200℃に沸点を有する極性溶媒(A-2)との混合溶媒が望ましく、混合溶媒中
の極性溶媒(A-1)の割合が50〜90重量%の範囲にあり、極性溶媒(A-2)の割合が10〜50重量%の範囲にあることが好ましい。
In the present invention, a mixed solvent of the polar solvent (A-1) having a boiling point of 50 to 100 ° C. and the polar solvent (A-2) having a boiling point of more than 100 ° C. to 200 ° C. is desirable. The proportion of the polar solvent (A-1) in the solvent is preferably in the range of 50 to 90% by weight, and the proportion of the polar solvent (A-2) is preferably in the range of 10 to 50% by weight.

極性溶媒は親水性のものでも疎水性のものでもいずれであってもよい。
極性溶媒(A-1)で親水性溶剤としては、水;メタノール、エタノール、プロパノール
、2-プロパノール(IPA)などのアルコール類が挙げられ、疎水性溶剤としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプルピルなどのエステル類;アセトン、メチルエチルケト
ンなどのケトン類、トルエン等が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、また2種以上混合して使用してもよい。
The polar solvent may be either hydrophilic or hydrophobic.
Polar solvents (A-1) and hydrophilic solvents include water; alcohols such as methanol, ethanol, propanol and 2-propanol (IPA), and hydrophobic solvents include methyl acetate, ethyl acetate and isopropyl acetate Esters such as; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; and toluene. These may be used singly or in combination of two or more.

極性溶媒(A-2)で親水性溶剤としては、ブタノール、ジアセトンアルコール、フルフ
リルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコールなどのアルコール類;エチレングリコール、ヘキシレングリコールなどのグリコール類;ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールイソプルピルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プルピレングリコールものエチルエーテルなどのエーテル類が挙げられ、疎水性溶剤としては酢酸プルピル、酢酸イソブチル、酢酸ブチル、酢酸イソペンチル、酢酸ペンチル、酢酸3−メトキシブチル、酢酸2−エチルブチル、酢酸シクロヘキシル、エチレングリコールものアセタートなどのエステル類;メチルイソブチルケトン、ブチルメチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、ジプロピルケトン、メチルペンチルケトン、ジイソブチルケトンなどのケトン類等が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、また2種以上混合して使用してもよい。
Polar solvents (A-2) and hydrophilic solvents include butanol, diacetone alcohol, furfuryl alcohol, tetrahydrofurfuryl alcohol and the like; glycols such as ethylene glycol and hexylene glycol; diethyl ether, ethylene glycol monomethyl Ethers such as ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol isopropyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, and propylene glycol monoethyl ether, and hydrophobic Solvents include propyl acetate, isobutyl acetate, butyl acetate, isopentyl acetate, pentyl acetate, 3-methoacetate Esters such as cibutyl, 2-ethylbutyl acetate, cyclohexyl acetate, and ethylene glycol acetate; ketones such as methyl isobutyl ketone, butyl methyl ketone, cyclohexanone, methyl cyclohexanone, dipropyl ketone, methyl pentyl ketone, and diisobutyl ketone . These may be used singly or in combination of two or more.

混合溶媒中の極性溶媒(A-1)の割合が多すぎると、塗膜の乾燥が速すぎて透明被膜が
緻密にならないことがあり硬度や耐擦傷性が不充分となることがある。(A-1)の割合が
少なすぎると、当然に極性溶媒(A-2)が多くなるので、塗膜の乾燥が遅くなり、溶剤の
残留で硬化不良が起こり硬度や耐擦傷性が不充分となることがある。
混合溶媒中の極性溶媒(A-2)のさらに好ましい割合は20〜40重量%の範囲の範囲で
ある。
When the ratio of the polar solvent (A-1) in the mixed solvent is too large, the coating film is dried too quickly, and the transparent film may not become dense, and the hardness and scratch resistance may be insufficient. If the proportion of (A-1) is too small, naturally the polar solvent (A-2) increases, so the drying of the coating film slows down, resulting in poor curing due to residual solvent, and insufficient hardness and scratch resistance. It may become.
A more desirable ratio of the polar solvent (A-2) in the mixed solvent is in the range of 20 to 40% by weight.

透明被膜形成用塗料中の溶媒の割合は概ね50〜99重量%、さらには60〜98重量%の範囲にあることが好ましい。
極性溶媒(A-2)は親水性溶剤と疎水性溶剤が混合されていてもよいが、一番沸点の高
い溶剤は親水性の溶剤であることが好ましい。
The ratio of the solvent in the coating for forming a transparent film is preferably in the range of about 50 to 99% by weight, more preferably 60 to 98% by weight.
The polar solvent (A-2) may be a mixture of a hydrophilic solvent and a hydrophobic solvent, but the solvent having the highest boiling point is preferably a hydrophilic solvent.

一番沸点の高い溶剤が親水性であると、親水性の樹脂と親水性の粒子をともに透明被膜の上部に再現性よく、かつ容易に偏在させることができる。
このとき、極性溶剤(A-2)中の疎水性溶剤/親水性溶剤の比は0〜0.5の範囲にあることが好ましい。
When the solvent having the highest boiling point is hydrophilic, both the hydrophilic resin and the hydrophilic particles can be easily and unevenly distributed on the upper part of the transparent film.
At this time, the ratio of the hydrophobic solvent / hydrophilic solvent in the polar solvent (A-2) is preferably in the range of 0 to 0.5.

以上の金属酸化物微粒子(A-1)、(A-2)、マトリックス形成成分(B-1)、(B-2)および極性溶媒(C)を含む透明被膜形成用塗料をディップ法、スプレー法、スピナー法、ロールコー
ト法、バーコート法、グラビア印刷法、マイクログラビア印刷法等の周知の方法で基材に塗布し、乾燥し、紫外線照射、加熱処理等常法によって硬化させることによって透明被膜を形成することができる。
A coating for forming a transparent film containing the above metal oxide fine particles (A-1), (A-2), matrix forming components (B-1), (B-2) and a polar solvent (C) Transparent by applying to a substrate by a known method such as a method, a spinner method, a roll coating method, a bar coating method, a gravure printing method, a micro gravure printing method, drying, and curing by an ordinary method such as ultraviolet irradiation or heat treatment. A film can be formed.

なお、塗料の調製方法は特に制限されるものではなく、各成分を特に制限なく、公知の方法で混合すればよい。
透明被膜付基材
本発明に係る透明被膜付基材は、基材上に透明被膜が形成された透明被膜付基材であって、
透明被膜が、
(i)表面電荷量(QA)が20〜100μeq/gの範囲にある有機ケイ素化合物で表面処理された属酸化物微粒子(A-1)と親水性マトリックス成分(B-1)とからなり、
(ii)表面処理された金属酸化物粒子(A-1)が透明被膜の上部に層をなして偏在し、透明被
膜中の表面処理された金属酸化物微粒子(A-1)の含有量(WPA-1)が0.2〜90重量%
の範囲にあり、マトリックス成分の含有量(WM)が10〜99.8重量%の範囲にある
ことを特徴とする。
In addition, the preparation method of a coating material is not restrict | limited in particular, What is necessary is just to mix each component by a well-known method without a restriction | limiting in particular.
A substrate with a transparent coating The substrate with a transparent coating according to the present invention is a substrate with a transparent coating in which a transparent coating is formed on the substrate,
Transparent film
(i) consisting of metal oxide fine particles (A-1) surface-treated with an organosilicon compound having a surface charge (Q A ) in the range of 20 to 100 μeq / g and a hydrophilic matrix component (B-1) ,
(ii) The surface-treated metal oxide particles (A-1) are unevenly distributed in the upper part of the transparent coating, and the content of the surface-treated metal oxide fine particles (A-1) in the transparent coating ( W PA-1 ) is 0.2 to 90% by weight
The matrix component content (W M ) is in the range of 10 to 99.8% by weight.

基材
本発明に用いる基材としては、従来公知のものを特に制限なく使用することが可能であり、ガラス、ポリカーボネート、アクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート(PET)、トリアセチルセルロース(TAC)、シクロポリオレフィン、ノルボルネン等のプラスチックシート、プラスチックフィルム等、プラスチックパネル等があげられる。中でも樹脂系基材を好適に用いることができる。また、このような基材上に、他の被膜が形成された被膜付基材を用いこともできる。
Base Material As the base material used in the present invention, conventionally known materials can be used without particular limitation, and glass, polycarbonate, acrylic resin, polyethylene terephthalate (PET), triacetyl cellulose (TAC), cyclopolyolefin. And plastic sheets such as norbornene, plastic films, and plastic panels. Among these, a resin base material can be preferably used. Moreover, the base material with a film in which another film was formed on such a base material can also be used.

表面処理金属酸化物微粒子(A-1)
表面処理された金属酸化物微粒子(A-1)としては前記したものが用いられる。
透明被膜中の金属酸化物微粒子(A-1)の含有量(WPA-1)が0.2〜90重量%、さら
には0.5〜80重量%の範囲にあることが好ましい。含有量(WPA-1)が少ない場合は、膜の上部に偏在しても粒子の量が少ないために低屈折率、高屈折率、導電性等の粒子の有する特性に基づく反射防止性能、帯電防止性能等の機能が充分発現できない場合がある。含有量(WPA-1)が多すぎると、実質的に金属酸化物微粒子(A-1)が全域にわたって存
在し、本発明の2種以上の機能を有する透明被膜にならず、また基材との密着性が不充分となることがある。
Surface-treated metal oxide fine particles (A-1)
As the surface-treated metal oxide fine particles (A-1), those described above are used.
The content (W PA-1 ) of the metal oxide fine particles (A-1) in the transparent film is preferably in the range of 0.2 to 90% by weight, more preferably 0.5 to 80% by weight. When the content (W PA-1 ) is small, the amount of particles is small even when unevenly distributed on the upper part of the film, so that the antireflective performance based on the characteristics of the particles such as low refractive index, high refractive index, and conductivity, Functions such as antistatic performance may not be fully developed. When the content (W PA-1 ) is too large, the metal oxide fine particles (A-1) are substantially present over the entire region, and the transparent film having two or more functions of the present invention is not obtained. Adhesiveness may be insufficient.

かかる透明被膜では、表面処理された金属酸化物微粒子(A-1)は透明被膜内で上部に層
をなして偏在している。このような状態を図1に模式的に示した。
金属酸化物微粒子(A-1)と親水性マトリックスとを選択することで反射防止機能や帯電
防止機能を上層に付与することができる。また下層にハードコート機能を付与するために、疎水性マトリックスを含んでいてもよい。
In such a transparent film, the surface-treated metal oxide fine particles (A-1) are unevenly distributed in a layer on the upper part in the transparent film. Such a state is schematically shown in FIG.
By selecting the metal oxide fine particles (A-1) and the hydrophilic matrix, an antireflection function or an antistatic function can be imparted to the upper layer. Further, in order to impart a hard coat function to the lower layer, a hydrophobic matrix may be included.

表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)
本発明の透明被膜付基材の透明被膜には、さらに前記した金属酸化物微粒子(A-2)を含
んでいてもよい。金属酸化物微粒子(A-2)は基材表面上(透明被膜内の下部)に層をなし
て偏在しているか、前記金属酸化物微粒子(A-1)からなる層と基材表面の間に分散してい
る。
Surface-treated metal oxide fine particles (A-2)
The transparent film of the substrate with a transparent film of the present invention may further contain the metal oxide fine particles (A-2). The metal oxide fine particles (A-2) are unevenly distributed in a layer on the substrate surface (lower part in the transparent coating), or between the layer made of the metal oxide fine particles (A-1) and the substrate surface Are distributed.

このような模式図を図2〜7に示す。
図2および3は、金属酸化物微粒子(A-2)の層が透明被膜内の下部に形成されたものの
模式図であり、図2は、金属酸化物微粒子(A-1)と(A-2)の層が近接したものであり、図3は金属酸化物微粒子(A-1)と(A-2)の層が離間したものであり、層間はマトリックスから構成される。図2および3は、透明被膜の膜厚や、金属酸化物微粒子(A-1)および(A-2)の量を調整することで、各層の厚さや中間のマトリックス層の厚さを調整可能となる。
Such schematic diagrams are shown in FIGS.
2 and 3 are schematic views of a layer of metal oxide fine particles (A-2) formed in the lower part of the transparent film. FIG. 2 shows metal oxide fine particles (A-1) and (A- FIG. 3 shows the metal oxide fine particles (A-1) and (A-2) separated from each other, and the layers are composed of a matrix. Figures 2 and 3 show that the thickness of each layer and the thickness of the intermediate matrix layer can be adjusted by adjusting the thickness of the transparent coating and the amount of metal oxide fine particles (A-1) and (A-2). It becomes.

図4は、金属酸化物微粒子(A-2)が層を形成することなく分散したものである。このよ
うな構成にするには、疎水性マトリックス形成成分に高分散する程度の表面電荷量となるよう表面処理した金属酸化物微粒子(A-2)を過剰にならないように使用すればよい。
In FIG. 4, the metal oxide fine particles (A-2) are dispersed without forming a layer. In order to achieve such a configuration, the metal oxide fine particles (A-2) that have been surface-treated so as to have a surface charge amount that is highly dispersed in the hydrophobic matrix-forming component may be used so as not to be excessive.

図5〜7は、金属酸化物微粒子(A-1)が低屈折率粒子であり、金属酸化物微粒子(A-2)が高屈折率粒子(大粒子)であり、表面に、(A-2)に由来する凹凸が形成されたものである
5-7, the metal oxide fine particles (A-1) are low refractive index particles, the metal oxide fine particles (A-2) are high refractive index particles (large particles), and (A- Concavities and convexities derived from 2) are formed.

透明被膜中の金属酸化物微粒子(A-2)は(A-1)との合計量が0.2〜90重量%、さらには0.5〜80重量%の範囲にあることが好ましい。また、金属酸化物微粒子(A-2)の含
有量(WPA-2)は固形分として0.1〜70重量%、さらには0.2〜50重量%の範囲にあることが好ましい。(WPA-2)が少ないと、膜の下層に偏在しても粒子の量が少ないため粒子の有する特性(導電性、高屈折率、低屈折率、基材との密着性向上等)が充分発現できない場合がある。また、後述する平均粒子径の大きい粒子を用いて防眩性を有する透明被膜を得ようとする場合、透明被膜表面の凹凸が不充分となり防眩性能が不充分となることがある。
The total amount of the metal oxide fine particles (A-2) in the transparent film and (A-1) is preferably in the range of 0.2 to 90% by weight, more preferably 0.5 to 80% by weight. Further, the content (W PA-2 ) of the metal oxide fine particles (A-2) is preferably in the range of 0.1 to 70% by weight, more preferably 0.2 to 50% by weight as the solid content. When (W PA-2 ) is low, the amount of particles is small even when unevenly distributed in the lower layer of the film, so the properties of the particles (conductivity, high refractive index, low refractive index, improved adhesion to the substrate, etc.) It may not be fully expressed. Moreover, when it is going to obtain the transparent film which has anti-glare property using the particle | grains with a large average particle diameter mentioned later, the unevenness | corrugation on the surface of a transparent film may become inadequate, and anti-glare performance may become inadequate.

表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)の含有量が固形分として70重量%を超えると
、透明被膜の膜厚が不均一となったり耐擦傷性が不充分となることがある。
また、上部に配列している表面処理された金属酸化物微粒子(A-1)と混合した状態となり
、本発明の2種以上の機能を有する透明被膜が得られない場合がある。
マトリックス成分
マトリックス成分としては、親水性マトリックス成分(B-1)が用いられる。
親水性マトリックス成分としてはシリコーン系(ゾルゲル系)マトリックス形成成分である下記式(3)で表される有機珪素化合物の加水分解重縮合物または有機樹脂系マトリック
ス成分である水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホ基から選ばれる1種以上の親水性官能基を有する多官能(メタ)アクリル酸エステル樹脂が好適に用いられる。
aSiX4-a (2)
(式中、X、R、aは前記した通りである。)
具体的には、前記親水性のシリコーン系(ゾルゲル系)マトリックス形成成分として例示したものの加水分解重縮合物が好適である。また。前記した親水性の有機樹脂系マトリックス形成成分の重合体、共重合体、変性体を使用することも可能である。
When the content of the surface-treated metal oxide fine particles (A-2) exceeds 70% by weight as a solid content, the film thickness of the transparent film may be uneven or the scratch resistance may be insufficient.
Moreover, it may be in a state of being mixed with the surface-treated metal oxide fine particles (A-1) arranged in the upper portion, and the transparent film having two or more functions of the present invention may not be obtained.
Matrix component As the matrix component, a hydrophilic matrix component (B-1) is used.
Hydrophilic matrix components include hydrolytic polycondensates of organosilicon compounds represented by the following formula (3) that are silicone (sol-gel) matrix forming components or hydroxyl groups, amino groups, and carboxyl groups that are organic resin matrix components. Polyfunctional (meth) acrylic acid ester resins having one or more hydrophilic functional groups selected from sulfo groups are preferably used.
R a Six 4-a (2)
(In the formula, X, R and a are as described above.)
Specifically, hydrolysis polycondensates of those exemplified as the hydrophilic silicone-based (sol-gel) matrix-forming component are preferable. Also. It is also possible to use polymers, copolymers, and modified products of the hydrophilic organic resin matrix forming component described above.

本発明に用いるマトリックス成分は前記親水性マトリックス成分にさらに疎水性マトリックス成分(B-2)が含まれていてもよい。
疎水性のマトリックス成分としては、下記式(3)で表される有機珪素化合物の加水分解
重縮合物であるシリコーン系(ゾルゲル系)マトリックス成分が用いられる。
n-SiX4-n (3)
(式中、R、Xおよびnは前記した通りである。)
具体的には、前記疎水性マトリックス形成成分として例示したものの加水分解重縮合物が挙げられる。
The matrix component used in the present invention may further contain a hydrophobic matrix component (B-2) in addition to the hydrophilic matrix component.
As the hydrophobic matrix component, a silicone (sol-gel) matrix component which is a hydrolyzed polycondensate of an organosilicon compound represented by the following formula (3) is used.
R n -SiX 4-n (3 )
(Wherein R, X and n are as described above.)
Specifically, hydrolysis polycondensates of those exemplified as the hydrophobic matrix-forming component can be mentioned.

さらに疎水性の有機樹脂系マトリックス成分を用いることもでき、具体的には前記した疎水性有機樹脂系マトリックス形成成分として例示したものの重合体などが挙げられる。
前記疎水性マトリックス成分を親水性マトリックス成分と混合して用いると親水性マトリックス成分が上層を形成し、疎水性マトリックス成分が下層を形成し、これに対応して金属酸化物微粒子(A-1)が上層の表層に偏在し、金属酸化物微粒子(A-2)が下層の下部に偏在し、金属酸化物微粒子(A-1)と金属酸化物微粒子(A-2)が分離しやすくなり、二層に分かれた膜を得ることが容易となる。なおマトリックス成分として、有機樹脂系マトリックスを使用する場合、マトリックス形成成分を用いて透明被膜を形成したのち、加熱・硬化処理などによって、重合体としてもよい。
Furthermore, a hydrophobic organic resin matrix component can also be used, and specific examples thereof include the polymers exemplified as the hydrophobic organic resin matrix forming component described above.
When the hydrophobic matrix component is used in combination with the hydrophilic matrix component, the hydrophilic matrix component forms the upper layer, and the hydrophobic matrix component forms the lower layer. Correspondingly, the metal oxide fine particles (A-1) Is unevenly distributed in the upper surface layer, the metal oxide fine particles (A-2) are unevenly distributed in the lower part of the lower layer, and the metal oxide fine particles (A-1) and the metal oxide fine particles (A-2) are easily separated. It becomes easy to obtain a film divided into two layers. In addition, when using an organic resin matrix as a matrix component, after forming a transparent film using a matrix formation component, it is good also as a polymer by a heating and hardening process.

透明被膜中の親水性マトリックス成分の固形分としての含有量(WMB-1)と疎水性マトリックス成分の固形分としての含有量(WMB-2)との含有量の比(WMB-1)/(WMB-2)が0.01〜1、さらには0.05〜0.5の範囲にあることが好ましい。 The ratio of the content of the content of the solid content of the hydrophilic matrix components in the transparent coating (W MB-1) and the content of the solid content of the hydrophobic matrix components (W MB-2) (W MB-1 ) / (W MB-2 ) is preferably in the range of 0.01 to 1, more preferably 0.05 to 0.5.

前記(WMB-1)/(WMB-2)が少なすぎると、親水性マトリックス成分が少なく、実質的に疎水性マトリックス成分のみに近くなり、金属酸化物微粒子(A-1)(上部)と金属酸
化物微粒子(A-2)(下部)とを分離する効果が不充分となる。
When the amount of (W MB-1 ) / (W MB-2 ) is too small, the hydrophilic matrix component is small, and it is substantially close to only the hydrophobic matrix component, and the metal oxide fine particles (A-1) (upper part) And the metal oxide fine particles (A-2) (lower part) are not sufficiently separated.

前記(WMB-1)/(WMB-2)が大きすぎると、親水性マトリックス成分が多く表面電荷量の高い表面処理された金属酸化物微粒子(A-1)が上層(親水性マトリックス成分)の上
部に偏在しない場合がある。
If the (W MB-1 ) / (W MB-2 ) is too large, the surface-treated metal oxide fine particles (A-1) having a large amount of hydrophilic matrix components and a high surface charge amount are formed in the upper layer (hydrophilic matrix components). ) May not be unevenly distributed at the top.

透明被膜中のマトリックス成分の合計含有量(WM)は10〜99.8重量%、さらに
は20〜99.5重量%の範囲にあることが好ましい(なお、金属酸化物微粒子との合計量が100重量%を越えることはない)。マトリックス成分の含有量が少ないと、膜中の粒
子の割合が多すぎて実質的に膜中に金属酸化物微粒子が全域に亘って均一に分散した膜となり、本発明の2種以上の機能を有する膜が得られない場合がある。透明被膜中のマトリックス成分が多すぎると、粒子の量が少ないため粒子の有する特性(低屈折率や導電性等)による反射防止性能、帯電防止性能等が不充分となる場合がある。
The total amount of the matrix component in the transparent coating (W M) is 10 to 99.8 wt%, more preferably in the range of 20 to 99.5 wt% (the total amount of the metal oxide fine particles Does not exceed 100% by weight). When the content of the matrix component is small, the ratio of the particles in the film is too large, and the film is substantially uniformly dispersed throughout the film with the metal oxide fine particles, and the two or more functions of the present invention are achieved. In some cases, a film having such a property cannot be obtained. If there are too many matrix components in the transparent coating, the amount of particles is so small that the antireflection performance and antistatic performance due to the properties (low refractive index, conductivity, etc.) of the particles may be insufficient.

透明被膜の膜厚は、用途によっても異なるが概ね30nm〜12μm、さらには、70nm〜10μm、の範囲にあることが好ましい。
膜厚が薄くしすぎると、実質的に2層に分離した透明被膜を形成することが困難であり、膜厚を厚くしすぎると、透明被膜にクラックを生じたり、プラスチック等の基材ではカーリング(湾曲あるいは反り)を生じる場合がある。
The film thickness of the transparent coating varies depending on the application, but is preferably in the range of approximately 30 nm to 12 μm, and more preferably 70 nm to 10 μm.
If the film thickness is too thin, it is difficult to form a transparent film that is substantially separated into two layers. If the film thickness is too thick, cracks may occur in the transparent film, or curling may occur on plastic substrates. (Curvature or warping) may occur.

本発明では、一液性の塗布液で、透明被膜に複数の機能を付与することができる。
透明被膜の構成によって、たとえば以下のように膜厚を調整するとよい。
ケース(1)
上部が低屈折率の反射防止膜あるいは防眩性膜で下部がハードコート膜、高屈折率膜、導電性膜等である場合は、反射防止膜部の膜厚が40nm〜10μm、さらには、60nm〜8μmの範囲にあることが好ましい。反射防止膜が薄いと、フレネルの原理から外れた光学膜厚となり充分な反射防止性能が得られない場合がある。反射防止膜が厚すぎると、膜の収縮により基材の種類によっては、例えば薄PETフィルムなどの場合はカーリングを生じる場合がある。
In the present invention, a single coating liquid can impart a plurality of functions to the transparent film.
Depending on the configuration of the transparent film, the film thickness may be adjusted as follows, for example.
Case (1)
When the upper part is an antireflection film or antiglare film having a low refractive index and the lower part is a hard coat film, a high refractive index film, a conductive film, etc., the film thickness of the antireflection film part is 40 nm to 10 μm, It is preferable that it exists in the range of 60 nm-8 micrometers. If the antireflection film is thin, the optical film thickness deviates from the Fresnel principle, and sufficient antireflection performance may not be obtained. If the antireflection film is too thick, curling may occur in the case of a thin PET film, for example, depending on the type of substrate due to film shrinkage.

このとき、膜の下部の屈折率は概ね1.48〜2.20の範囲にあることが好ましく、上部の反射防止膜部の屈折率は概ね1.45以下の範囲にあることが好ましく、このようになるように金属酸化物粒子とマトリックスを選択すればよい。   At this time, the refractive index of the lower part of the film is preferably in the range of about 1.48 to 2.20, and the refractive index of the upper antireflection film part is preferably in the range of about 1.45 or less. What is necessary is just to select a metal oxide particle and a matrix so that it may become.

また、透明被膜は低反射性、防眩性を有するとともに、下層が高屈折率膜であれば高い反射防止性能を有し、また、下層が表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)として五酸化
アンチモン微粒子を含む場合は高いハードコート性能とともに帯電防止性能を有し、ATO
やITO粒子を含む場合は帯電防止性能とともに熱線遮蔽性能を有し、酸化チタンを含む場
合は、紫外線吸収性能を有している。
ケース(2)
透明被膜全体として導電性膜として用いる場合、導電膜部の膜厚は30nm〜10μm、さらには、60nm〜8μmの範囲にあることが好ましい。導電性膜部の膜厚が薄いと、機能の異なる分離した他の膜の形成が困難であり、また充分な導電パスが形成されないために導電性が不充分となることがある。導電性膜が厚すぎると、膜の収縮が大きくなるために、基材が薄いプラスチックフィルム等の場合はカーリングを生じる場合がある。
In addition, the transparent film has low reflectivity and antiglare properties, and has high antireflection performance if the lower layer is a high refractive index film, and the metal oxide fine particles (A-2) whose lower layer is surface-treated When antimony pentoxide fine particles are included, it has high hard coat performance and antistatic performance, and ATO
When it contains ITO particles, it has heat ray shielding performance as well as antistatic performance, and when it contains titanium oxide, it has ultraviolet absorption performance.
Case (2)
When the entire transparent coating is used as a conductive film, the thickness of the conductive film portion is preferably in the range of 30 nm to 10 μm, and more preferably in the range of 60 nm to 8 μm. If the film thickness of the conductive film portion is thin, it is difficult to form other films having different functions, and the conductivity may be insufficient because a sufficient conductive path is not formed. If the conductive film is too thick, the shrinkage of the film increases, and curling may occur when the substrate is a thin plastic film or the like.

このような導電膜部を有する透明被膜の表面抵抗値は103〜1013Ω/□の範囲にあ
ることが好ましい。
上部が導電性膜の場合、金属酸化物微粒子(A-2)は導電性を有するものが使用される。
下部は粒子が存在しない場合であってもハードコート性を有する。
The surface resistance value of the transparent film having such a conductive film portion is preferably in the range of 10 3 to 10 13 Ω / □.
When the upper part is a conductive film, the metal oxide fine particles (A-2) having conductivity are used.
The lower part has a hard coat property even when no particles are present.

また、下部が表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)として酸化チタン粒子を含む場合
は、紫外線吸収性能を有し、または低屈折率微粒子を含む場合は低誘電率特性を有している。
ケース(3)
透明被膜を高屈折率膜として用いる場合、高屈折率膜部の膜厚は40nm〜10μm、さらには、60nm〜8μmの範囲にあることが好ましい。
高屈折率膜部の膜厚が40nm未満の場合は、機能の異なる分離した他の膜の形成が困難であり、また、他の機能を有する粒子あるいはマトリックスの屈折率によっては所望の屈折率を有する層が形成できない場合がある。
高屈折率膜部の膜厚が10μmを超えると、膜の収縮が大きくなるために、基材が薄いプラスチックフィルム等の場合はカーリングを生じる場合がある。
In addition, when titanium oxide particles are included as the surface-treated metal oxide fine particles (A-2), they have ultraviolet absorption performance, or when low refractive index fine particles are included, they have low dielectric constant characteristics. Yes.
Case (3)
When a transparent film is used as the high refractive index film, the film thickness of the high refractive index film portion is preferably in the range of 40 nm to 10 μm, and more preferably in the range of 60 nm to 8 μm.
When the film thickness of the high refractive index film portion is less than 40 nm, it is difficult to form other films having different functions, and depending on the refractive index of particles or matrices having other functions, a desired refractive index may be obtained. In some cases, a layer having the same cannot be formed.
When the film thickness of the high refractive index film portion exceeds 10 μm, the film shrinks greatly, and curling may occur in the case of a thin plastic film or the like.

高屈折率膜部の屈折率は概ね1.52〜2.00の範囲にあることが好ましい。
上部が高屈折率膜の場合、前記(1)、(2)のケースを除き、下部は粒子が存在しない場合であってもハードコート性を有する。
The refractive index of the high refractive index film portion is preferably in the range of approximately 1.52 to 2.00.
When the upper part is a high refractive index film, except for the cases (1) and (2), the lower part has a hard coat property even when no particles are present.

また、下部が表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)としてATO,ITOを含む場合は、導電性、帯電防止性能、赤外線遮蔽性能を有し、五酸化アンチモン、リンドープ酸化スズを含む場合は、帯電防止性能、ハードコート性能を有し、低屈折率のシリカ粒子あるいは中空シリカ微粒子等を含む場合は、高いハードコート性能、低誘電率性能を有している。   In addition, when ATO, ITO is included as the surface-treated metal oxide fine particles (A-2), it has conductivity, antistatic performance, infrared shielding performance, and contains antimony pentoxide and phosphorus-doped tin oxide. Has antistatic performance and hard coat performance, and when it contains low refractive index silica particles or hollow silica fine particles, it has high hard coat performance and low dielectric constant performance.

ケース(1)、(2)、(3)は透明被膜の膜厚が均一な場合であるが、本発明の透明被膜付基材では、透明被膜の表面が凹凸を有し、透明被膜の平均膜厚が1〜10μmの範囲にあり、透明被膜の凸部の平均高さ(T凸)と凹部の平均高さ(T凹)との差(T凸)−(T凹)が30〜1500nmの範囲にあることを特徴とする防眩性能を有する透明被膜付基材としても好適である。   Cases (1), (2), and (3) are cases where the film thickness of the transparent film is uniform. In the substrate with a transparent film of the present invention, the surface of the transparent film has irregularities, and the average of the transparent film The film thickness is in the range of 1 to 10 μm, and the difference (T convex) − (T concave) between the average height of convex parts (T convex) and the average height of concave parts (T concave) is 30 to 1500 nm. It is also suitable as a substrate with a transparent film having an antiglare property, characterized by being in the range.

防眩性能を有する透明被膜付基材の場合、表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)の平
均粒子径は0.5〜5μm、さらには1〜3μmの範囲にあることが好ましい。
表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)の平均粒子径が0.5μm未満の場合は、透明被
膜の凸部の高さ(T凸)と凹部の高さ(T凹)との差(T凸)−(T凹)が30nm未満となることがあり、充分な防眩性能が得られないことがある。
In the case of a substrate with a transparent coating having antiglare performance, the average particle diameter of the surface-treated metal oxide fine particles (A-2) is preferably in the range of 0.5 to 5 μm, more preferably 1 to 3 μm.
When the average particle diameter of the surface-treated metal oxide fine particles (A-2) is less than 0.5 μm, the difference between the height of the convex portion (T convex) and the height of the concave portion (T concave) of the transparent coating (T convex)-(T concave) may be less than 30 nm, and sufficient anti-glare performance may not be obtained.

表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)の平均粒子径が5μmを超えると、透明被膜の
凸部の高さ(T凸)と凹部の高さ(T凹)との差(T凸)−(T凹)が1.5μmを超えることがあり、この場合も充分な防眩性能が得られないことがある。また、透明被膜の耐擦傷性が問題となることがある。
When the average particle diameter of the surface-treated metal oxide fine particles (A-2) exceeds 5 μm, the difference between the height (T convex) and the height (T concave) of the convex portion of the transparent coating (T convex) )-(T-concave) may exceed 1.5 μm. In this case, sufficient antiglare performance may not be obtained. In addition, the scratch resistance of the transparent coating may be a problem.

透明被膜の凸部の平均高さ(T凸)と凹部の平均高さ(T凹)との差(T凸)−(T凹)がのさらに好ましい範囲は50〜1000nmである。
透明被膜の平均膜厚は1〜10μm、さらには2〜8μmの範囲にあることが好ましい。ここで、平均膜厚とは透明被膜の凸部の平均高さ(T凸)と凹部の平均高さ(T凹)との平均値をいう。透明被膜が薄いと、2層に分離し且つ後述する凹凸を有する透明被膜の形成が困難であり、透明被膜が厚すぎると、透明被膜にクラックを生じたり、基材がプラスチック等の場合はカーリング(湾曲あるいは反り)を生じる場合がある。
また、透明被膜の凸部の平均高さ(T凸)と凹部の平均高さ(T凹)との差(T凸)−(T凹)が30〜1500nm、さらには50〜1000nmの範囲にあることが好ましい。
(T凸)−(T凹)が小さすぎると充分な防眩性が得られない場合があり、また大きすぎると、と光の表面散乱が大きく白っぽく見える場合がある。
A more preferable range of the difference (T convex) − (T concave) between the average height of convex portions (T convex) and the average height of concave portions (T concave) of the transparent coating is 50 to 1000 nm.
The average film thickness of the transparent coating is preferably in the range of 1 to 10 μm, more preferably 2 to 8 μm. Here, the average film thickness refers to the average value of the average height of convex portions (T convex) and the average height of concave portions (T concave) of the transparent coating. If the transparent film is thin, it is difficult to form a transparent film having two layers and having irregularities, which will be described later. (Curvature or warping) may occur.
Further, the difference (T convex) − (T concave) between the average height of convex portions (T convex) and the average height of concave portions (T concave) of the transparent coating is in the range of 30 to 1500 nm, and further 50 to 1000 nm. Preferably there is.
If (T-convex)-(T-concave) is too small, sufficient antiglare properties may not be obtained. If it is too large, the surface scattering of light may appear large and whitish.

さらに、透明被膜の上部に偏在する金属酸化物微粒子(A-1)の層の厚さは、概ね10〜
500nm、さらには20〜300nm、特に50〜200nmの範囲にあることが好ましい。(A-1)層の厚さが薄いと、反射防止性能が不充分となることがある。(A-1)層の厚さが厚すぎても、フレネルの原理から外れた厚さとなる場合があり、反射防止性能が不充分となったり、明室コントラストが低下し、このため画面が白味を帯びることがある。
Further, the thickness of the metal oxide fine particles (A-1) unevenly distributed on the upper part of the transparent film is approximately 10 to 10 mm.
It is preferably in the range of 500 nm, more preferably 20 to 300 nm, particularly 50 to 200 nm. When the thickness of the (A-1) layer is small, the antireflection performance may be insufficient. (A-1) Even if the thickness of the layer is too thick, the thickness may deviate from the Fresnel principle. There is a taste.

本発明に係る透明被膜付基材は、前記した透明被膜形成用塗料を基材上に塗布し、乾燥し、硬化させることによって製造することができる。
具体的には、透明被膜形成用塗料をディップ法、スプレー法、スピナー法、ロールコート法、バーコート法、スリットコーター印刷法、グラビア印刷法、マイクログラビア印刷法等の周知の方法で基材に塗布し、乾燥し、紫外線照射、加熱処理等常法によって硬化させることによって透明被膜を形成することができる。防眩性を有する透明被膜付基材を製造する場合はロールコート法、スリットコーター印刷法、グラビア印刷法、マイクログラビア印刷法が推奨される。
The base material with a transparent film according to the present invention can be produced by applying the above-described coating material for forming a transparent film onto a base material, drying and curing.
Specifically, the transparent film-forming paint is applied to the substrate by a known method such as dipping, spraying, spinner, roll coating, bar coating, slit coater printing, gravure printing, or micro gravure printing. A transparent film can be formed by applying, drying, and curing by an ordinary method such as ultraviolet irradiation or heat treatment. When manufacturing a substrate with a transparent coating having antiglare properties, a roll coating method, a slit coater printing method, a gravure printing method, and a micro gravure printing method are recommended.

さらに、本発明の透明被膜付基材には、基材と前記透明被膜との間および/または透明被膜上に前記透明被膜と異なる他の被膜を設けることができる。他の被膜としては、従来公知のハードコート膜、高屈折率膜、導電性膜、低屈折率膜、アンチグレア膜、赤外線遮蔽膜、紫外線遮蔽膜であってもよく、本発明に係るハードコート機能を有する透明被膜、高屈折率の透明被膜、導電性を有する透明被膜等であってもよい。
[実施例]
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
Furthermore, the base material with a transparent film of the present invention may be provided with another film different from the transparent film between the base material and the transparent film and / or on the transparent film. The other coating may be a conventionally known hard coat film, high refractive index film, conductive film, low refractive index film, anti-glare film, infrared shielding film, ultraviolet shielding film, and the hard coating function according to the present invention. May be a transparent film having a high refractive index, a transparent film having a high refractive index, a transparent film having conductivity, and the like.
[Example]
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these Examples.

[実施例1]
透明被膜形成用塗料(A-1)の調製
低屈折率成分として、シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420、平均粒子径60nm、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノ−ル 粒子屈折率1.30)を用いた。このゾル100gに正珪酸エチル7.11g(多摩化学(株)製:エチルシリケート28、SiO2成分28.8重量%)を混合し超純水を10g添加し50℃で5時間攪拌し表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾルを得た(固形分濃度:19.3重量%)。この表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾルの表面電荷量を測定したところ25.3μeq/gであった。この表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾル14.3gと水酸基を有する親水性の樹脂2−ヒドロキシ3−アクリロイロキシプロピルメタクレート(共栄社化学(株):ライトエステルG−201P)3g、と疎水性の樹脂ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株)製:KAYARAD DPHA)54gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製イルガキュア184)2.3gおよび溶媒イソプロパノ−ル100g、メチルイソブチルケトン10g、プロピレングリコールモノメチルエーテル50gとを充分に混合して透明被膜形成用塗布液(A-1)を調製した。
[Example 1]
Preparation of paint for forming transparent film (A-1) Silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: through rear 1420, average particle diameter 60 nm, concentration 20.5% by weight, dispersion medium as low refractive index component : Isopropanol (particle refractive index: 1.30). The sol 100g was mixed with 7.11 g of normal ethyl silicate (manufactured by Tama Chemical Co., Ltd .: ethyl silicate 28, SiO 2 component 28.8% by weight), 10 g of ultrapure water was added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 5 hours for surface treatment. A silica-based hollow fine particle-dispersed sol was obtained (solid content concentration: 19.3% by weight). The surface charge amount of this surface-treated silica-based hollow fine particle dispersed sol was measured and found to be 25.3 μeq / g. 14.3 g of this surface-treated silica-based hollow fine particle-dispersed sol, 3 g of a hydrophilic resin having a hydroxyl group, 2-hydroxy3-acryloyloxypropyl methacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light Ester G-201P), and hydrophobicity Of resin dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .: KAYARAD DPHA), 2.3 g of photoinitiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Specialty Co., Ltd.) and 100 g of solvent isopropanol, 10 g of methyl isobutyl ketone, A coating solution (A-1) for forming a transparent film was prepared by thoroughly mixing 50 g of propylene glycol monomethyl ether.

透明被膜付基材(1)の調製
透明被膜形成用塗布液(A-1)をPETフィルム(東レ(株)製:ルミラーA−80:厚さ
100μm、屈折率1.65、基材透過率88.0%、Haze2.0%、反射率5.1%)にバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)を1分間照射して硬化させて透明被膜付基材(1)を調製した。このときの透明被膜の膜厚は5μmであった。透明被膜の一部を縦方向に垂直に切断し、断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、上部にシリカ系中空微粒子が厚さ100nmの層をなしており、下部はマトリックスのみで粒子の存在は認められなかった。
Preparation of substrate with transparent film (1) Coating liquid (A-1) for forming a transparent film was prepared as a PET film (Toray Industries, Inc .: Lumirror A-80: thickness 100 μm, refractive index 1.65, substrate transmittance. 88.0%, Haze 2.0%, reflectance 5.1%), coated with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then cured by irradiation with a high-pressure mercury lamp (80 W / cm) for 1 minute to be transparent A coated substrate (1) was prepared. The film thickness of the transparent coating at this time was 5 μm. A portion of the transparent coating was cut perpendicular to the vertical direction, and the cross-section was observed with a transmission electron microscope. Was not recognized.

得られた透明被膜付基材(1)の表面抵抗値、全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの
光線の反射率を測定し、結果を表1に示す。
全光線透過率およびヘーズはヘーズメーター(日本電色(株)製:NDH2000)により、反射率は分光光度計(日本分光(株)製:Ubest−55)により夫々測定した。
The surface resistance value, total light transmittance, haze, and reflectance of light having a wavelength of 550 nm of the obtained substrate (1) with a transparent coating were measured, and the results are shown in Table 1.
The total light transmittance and haze were measured with a haze meter (Nippon Denshoku Co., Ltd .: NDH2000), and the reflectance was measured with a spectrophotometer (Nippon Bunko Co., Ltd .: Ubest-55).

また、防眩性、密着性、鉛筆硬度を以下の方法および評価基準で評価し、結果を表に示した。
防眩性
ハードコート機能付き反射防止膜付基材(1)の防眩性を基材の裏面を黒スプレーで均
一に塗り、30Wの蛍光灯から2mはなれ、蛍光灯の映り込みを目視に確認し防眩性を評価した。結果を表1に示す。
Moreover, anti-glare property, adhesiveness, and pencil hardness were evaluated by the following methods and evaluation criteria, and the results are shown in the table.
Anti-glare base material with anti-glare coating with anti-glare function (1) The anti-glare property of the base material is evenly applied with black spray on the back side of the base material. The antiglare property was evaluated. The results are shown in Table 1.

蛍光灯が全く見えない :◎
蛍光灯がわずかに見える :○
蛍光灯は見えるが輪郭がぼける :△
蛍光灯がはっきり見える :×
密着性
ハードコート機能付き反射防止膜付基材(1)の表面にナイフで縦横1mmの間隔で1
1本の平行な傷を付け100個の升目を作り、これにセロハンテ−プを接着し、ついで、セロハンテ−プを剥離したときに被膜が剥離せず残存している升目の数を、以下の4段階に分類することにより密着性を評価した。結果を表1に示す。
I can't see any fluorescent lights: ◎
Fluorescent light is slightly visible: ○
Fluorescent lamp is visible but outline is blurred: △
Fluorescent light is clearly visible: ×
1 on the surface of the substrate with anti-reflection coating with adhesive hard coat function (1) at intervals of 1 mm in length and width with a knife
One parallel scratch was made to make 100 squares, cellophane tape was adhered to this, and when the cellophane tape was peeled off, the number of squares remaining after the coating was not peeled The adhesion was evaluated by classifying into 4 stages. The results are shown in Table 1.

残存升目の数100個 :◎
残存升目の数90〜99個 :○
残存升目の数85〜89個 :△
残存升目の数84個以下 :×
鉛筆硬度
JIS−K−5400に準じて鉛筆硬度試験器により測定した。
[実施例2]
透明被膜形成用塗料(A-2)の調製
導電成分として、五酸化アンチモン微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:ELCOM V−
4560、平均粒子径20nm、濃度30.5重量%、分散媒:イソプロパノ−ル 粒子屈折率1.60)を用いた。このゾル100gにγ-メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン3.76g(信越シリコ−ン(株)製:KBM−503、SiO2成分81.9重量%)を混合し超純水を10g添加し50℃で15時間攪拌し表面処理した五酸化アンチモン微粒子分散ゾルを得た(固形分濃度:29.5重量%)。この表面処理した五酸化アンチモン微粒子分散ゾルの表面電荷量を測定したところ、9.8μeq/gであった。この表面処理した五酸化アンチモン微粒子ゾル84.4gと実施例1と同様にして調製したシリカ系中空微粒子分散ゾル14.3gと水酸基を有する親水性の樹脂2−ヒドロキシ3−アクリロイロキシプロピルメタクレート(共栄社化学(株)製:ライトエステルG−201P)3gと疎水性の樹脂ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株)製:KAYARAD DPHA)27gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製イルガキュア184)2.3gおよび溶媒イソプロパノ−ル9.1g、メチルイソブチルケトン10g、プロピレングリコールモノメチルエーテル50gとを充分に混合して透明被膜形成用塗布液(A-2)を調製した。
透明被膜付基材(2)の調製
透明被膜形成用塗料(A-2)をPETフィルム(東レ(株)製:ルミラーA−80、厚さ1
00μm、屈折率1.65、基材透過率88.0%、Haze2.0%、反射率5.1%)にバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)を1分間照射して硬化させて透明被膜付基材(2)を調製した。このときの膜厚は5μmであった。透明被膜の一部を縦方向に垂直に切断し、断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、上部にシリカ系中空微粒子が厚さ100nmの層をなしており、下部は五酸化アンチモン微粒子の存在が認められた。
Number of remaining squares: ◎
Number of remaining squares 90-99: ○
Number of remaining squares: 85 to 89: Δ
Number of remaining squares: 84 or less: ×
Pencil hardness It measured with the pencil hardness tester according to JIS-K-5400.
[Example 2]
Preparation of paint for forming transparent film (A-2) As conductive component, antimony pentoxide fine particle dispersed sol (manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd .: ELCOM V-
4560, an average particle size of 20 nm, a concentration of 30.5% by weight, a dispersion medium: isopropanol, a particle refractive index of 1.60). 100 g of this sol was mixed with 3.76 g of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Silicon Co., Ltd .: KBM-503, SiO 2 component 81.9% by weight), and 10 g of ultrapure water was added to the mixture at 50 ° C. To obtain an antimony pentoxide fine particle-dispersed sol which was stirred for 15 hours and surface-treated (solid content concentration: 29.5% by weight). The surface charge amount of the surface-treated antimony pentoxide fine particle-dispersed sol was measured and found to be 9.8 μeq / g. 84.4 g of this surface-treated antimony pentoxide fine particle sol, 14.3 g of silica-based hollow fine particle dispersed sol prepared in the same manner as in Example 1, and hydrophilic resin 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl methacrylate having hydroxyl groups (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light Ester G-201P) 3 g and hydrophobic resin dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd .: KAYARAD DPHA) Irgacure 184) 2.3 g, solvent isopropanol 9.1 g, methyl isobutyl ketone 10 g and propylene glycol monomethyl ether 50 g were sufficiently mixed to prepare a coating solution (A-2) for forming a transparent film.
Preparation of substrate with transparent film (2) Transparent film-forming coating material ( A-2) was obtained from a PET film (Toray Industries, Inc .: Lumirror A-80, thickness 1
00 μm, refractive index 1.65, base material transmittance 88.0%, haze 2.0%, reflectance 5.1%), coated with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp (80 W / cm) was cured by irradiation for 1 minute to prepare a substrate (2) with a transparent coating. The film thickness at this time was 5 μm. A part of the transparent film was cut perpendicularly in the vertical direction, and the cross section was observed with a transmission electron microscope. Silica-based hollow fine particles formed a layer with a thickness of 100 nm at the top, and the presence of antimony pentoxide fine particles at the bottom. Was recognized.

得られた透明被膜付基材(2)の全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射率
、防眩性、密着性、鉛筆硬度を測定し結果を表1に示す。
[実施例3]
透明被膜形成用塗料(A-3)の調製
高屈折率粒子としてチタニア微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:OPTLAK 1137Z平均粒子径20nm、濃度30.5重量%、分散媒:メタノール 粒子屈折率2.10)を用
いた。このゾル100gにγ-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン7.45g(信
越シリコ−ン(株)製:KBM−5103、SiO2成分81.9重量%)を混合し超純水を10g添加し50℃で5時間攪拌し表面処理したチタニア微粒子分散ゾルを得た(固形分濃度:31.2重量%)。この表面処理したチタニア微粒子分散ゾルの表面電荷量を測定したところ8.2μeq/gであった。
Table 1 shows the results obtained by measuring the total light transmittance, haze, reflectance of light having a wavelength of 550 nm, antiglare property, adhesion, and pencil hardness of the obtained substrate (2) with a transparent coating.
[Example 3]
Preparation of coating film for forming transparent film (A-3) Titania fine particle dispersed sol (manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd .: OPTLAK 1137Z average particle diameter 20 nm, concentration 30.5% by weight, dispersion medium: methanol Particle refraction The rate 2.10) was used. 100 g of this sol was mixed with 7.45 g of γ-acryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Silicon Co., Ltd .: KBM-5103, SiO 2 component 81.9 wt%), and 10 g of ultrapure water was added to the mixture at 50 ° C. To obtain a titania fine particle dispersed sol which was stirred for 5 hours and surface-treated (solid content concentration: 31.2 wt%). The surface charge amount of the surface-treated titania fine particle-dispersed sol was measured and found to be 8.2 μeq / g.

この表面処理したチタニア微粒子ソ゛ル86.3gとと実施例1と同様にして調製した
シリカ系中空微粒子分散ゾル14.3gと水酸基を有する親水性のアクリレート樹脂(共栄社化学(株)製:MMH−40、プロピレングリコールモノメチルエーテル分散、固形分濃度:40重量%)3.8gと、疎水性の樹脂ジペンタエリスリト−ルヘキサアクリレート(日本化薬(株)製:KAYARAD DPHA)28.5g、に光開始剤(チバスプシャリティ(株)製イルガキュア184)2.4gおよび溶媒イソプロパノ−ル65.3gとメチルイソブチルケトン10g、エチレングリコールモノブチルエーテル20gとを充分に混合して透明被膜形成用塗料(A-3)を調製した。
透明被膜付基材(3)の調製
透明被膜形成用塗料(A-3)をPETフィルム(東レ(株)製:ルミラーA−80:厚さ1
00μm、屈折率1.65、基材透過率88.0%、Haze2.0%、反射率5.1%)にバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)を1分間照射して硬化させて透明被膜付基材(3)を調製した。このときの膜厚は5μmであった。透明被膜の一部を縦方向に垂直に切断し、断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、上部にシリカ系中空微粒子が厚さ100nmの層をなしており、下部はチタニア微粒子の存在が認められた。
86.3 g of this surface-treated titania fine particle gel, 14.3 g of silica-based hollow fine particle dispersed sol prepared in the same manner as in Example 1, and a hydrophilic acrylate resin having a hydroxyl group (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: MMH-40) 3.8 g of propylene glycol monomethyl ether dispersion, solid content concentration: 40% by weight) and 28.5 g of hydrophobic resin dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .: KAYARAD DPHA) A coating for transparent film formation (A- 3) was prepared.
Preparation of substrate with transparent coating (3) A coating for forming a transparent coating (A-3) was prepared from PET film (Toray Industries, Inc .: Lumirror A-80: thickness 1
00 μm, refractive index 1.65, base material transmittance 88.0%, haze 2.0%, reflectance 5.1%), coated with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp (80 W / cm) was irradiated and cured for 1 minute to prepare a substrate (3) with a transparent coating. The film thickness at this time was 5 μm. A part of the transparent coating was cut perpendicularly in the vertical direction, and the cross section was observed with a transmission electron microscope. As a result, silica-based hollow fine particles formed a layer with a thickness of 100 nm in the upper part, and the presence of titania fine particles was observed in the lower part. It was.

得られた透明被膜付基材(3)の全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射率
、防眩性、密着性、鉛筆硬度を測定し結果を表1に示す。
[実施例4]
透明被膜形成用塗料(A-4)の調製
帯電防止高屈折率成分としてATO微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:ELCOM V−3
501、平均粒子径8nm、濃度20.5重量%、分散媒:エタノール 粒子屈折率1.75)を用いた。このゾル100gにγ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン5.05g(信越シリコ−ン(株)製:KBM−503、SiO2成分81.9重量%)を混合し超純水を10g添加し50℃で15時間攪拌し表面処理したATO微粒子分散ゾルを得た(固形分濃度:21.4重量%)。この表面処理したATO微粒子分散ゾルの表面電荷量を測定したところ7.78μeq/gであった。この表面処理したATO微粒子分散ゾル100gと実施例1と同様にして調製したシリカ系中空微粒子分散ゾル14.3gと水酸基を有する親水性の樹脂2−ヒドロキシエチルアクリレート(共栄社化学(株):ライトエステルHOP-A)3gと疎水性の樹脂ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株):KAYARAD DPHA)27gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製イルガキュア184)2.3gおよび溶媒イソプロパノ−ル23.4g、エチレングリコールモノブチルエーテル20gとを充分に混合して透明被膜形成用塗布液(A-4)を調製した。
透明被膜付基材(4)の調製
透明被膜形成用塗料(A-4)をPETフィルム(東レ(株)製:ルミラーA−80、厚さ1
00μm、屈折率1.65、基材透過率88.0%、Haze2.0%、反射率5.1%)にバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)を1分間照射して硬化させて透明被膜付基材(4)を調製した。このときの膜厚は3μmであった。透明被膜の一部を縦方向に垂直に切断し、断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、上部にシリカ系中空微粒子が厚さ100nmの層をなしており、下部はATO粒子の存在が認められた。
Table 1 shows the total light transmittance, haze, reflectance of light having a wavelength of 550 nm, antiglare property, adhesion, and pencil hardness of the obtained substrate (3) with a transparent coating.
[Example 4]
Preparation of paint for forming transparent film (A-4) ATO fine particle dispersed sol (manufactured by Catalyst Chemical Industries, Ltd .: ELCOM V-3) as an antistatic high refractive index component
501; average particle diameter 8 nm; concentration 20.5 wt%; dispersion medium: ethanol particle refractive index 1.75). To 100 g of this sol, 5.05 g of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Silicon Co., Ltd .: KBM-503, SiO 2 component 81.9 wt%) was added, and 10 g of ultrapure water was added and 50 ° C. The surface-treated ATO fine particle-dispersed sol was obtained (solid content concentration: 21.4% by weight). The surface charge amount of this surface-treated ATO fine particle-dispersed sol was measured and found to be 7.78 μeq / g. 100 g of this surface-treated ATO fine particle dispersed sol, 14.3 g of silica-based hollow fine particle dispersed sol prepared in the same manner as in Example 1, and a hydrophilic resin 2-hydroxyethyl acrylate having a hydroxyl group (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light Ester) 3 g of HOP-A) and 27 g of hydrophobic resin dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd .: KAYARAD DPHA), 2.3 g of photoinitiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Specialty Chemicals) and solvent isopropanol 23.4 g and ethylene glycol monobutyl ether 20 g were sufficiently mixed to prepare a coating solution (A-4) for forming a transparent film.
Preparation of substrate with transparent film (4) Paint for transparent film formation (A-4) was obtained from PET film (Toray Industries, Inc .: Lumirror A-80, thickness 1
00 μm, refractive index 1.65, base material transmittance 88.0%, haze 2.0%, reflectance 5.1%), coated with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp (80 W / cm) was cured by irradiation for 1 minute to prepare a substrate (4) with a transparent coating. The film thickness at this time was 3 μm. When a part of the transparent coating was cut perpendicularly in the vertical direction and the cross section was observed with a transmission electron microscope, the silica-based hollow fine particles formed a layer with a thickness of 100 nm in the upper part, and the presence of ATO particles was observed in the lower part. It was.

得られた透明被膜付基材(4)の全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射率
、防眩性、密着性、鉛筆硬度を測定し結果を表1に示す。
[実施例5]
透明被膜形成用塗料(A-6)の調製
低屈折率成分として、シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420、平均粒子径60nm、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノ−ル 粒子屈折率1.30)を用いた。このゾル100gにメチルシリケート4.02g(多摩化学(株)製:メチルシリケート51、SiO2成分51.0重量%)を混合し超純水を10g添加し40℃で5時間攪拌し表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾルを得た(固形分濃度:19.8重量%)。この表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾルの表面電荷量を測定したところ28.0μeq/gであった。帯電防止高屈折率成分としてATO微粒子分散ゾル
(触媒化成工業(株)製:ELCOM V-3501、平均粒子径8nm、濃度20.5重量%、分散媒:エタノール、粒子屈折率1.75)を用いた。このゾル100gにγ-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン2.50g(信越シリコ−ン(株)製:KBM−5103、SiO2成分81.2重量%)を混合し超純水を10g添加し50℃で5時間攪拌し表面処理したATO微粒子分散ゾルを得た(固形分濃度:20.0重量%)。この表面処理したATO微粒子分散ソ゛ルの表面電荷量を測定したところ9.9μeq/gであった。この表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾル14gと表面処理したATO微粒子分散ゾル100gと水酸基を有する親水性の樹脂2−ヒドロキシエチルアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトエステルHOP-A)3gと疎水性の樹脂ヘキサエリスリトールトリペンタアクリレート(日本化薬(株)製:KAYARAD DPHA)27gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製イルガキュア184)2.3gおよびイソプロパノ−ル23.7gとエチレングリコールモノブチルエーテル30gとを充分に混合して透明被膜形成用塗料(A-5)を調製した。
透明被膜付基材(5)の調製
透明被膜形成用塗料(A-5)をPETフィルム(東レ(株)製:ルミラーA−80、厚さ1
00μm、屈折率1.65、基材透過率88.0%、Haze2.0%、反射率5.1%)にバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)を1分間照射して硬化させて透明被膜付基材(5)を調製した。このときの膜厚は3μmであった。透明被膜の一部を縦方向に垂直に切断し、断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、上部にシリカ系中空微粒子が厚さ100nmの層をなしており、下部はATO粒子の存在が認められた。
Table 1 shows the results obtained by measuring the total light transmittance, haze, reflectance of light having a wavelength of 550 nm, antiglare property, adhesion, and pencil hardness of the obtained substrate with transparent coating (4).
[Example 5]
Preparation of paint for forming transparent film (A-6) Silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: through rear 1420, average particle diameter 60 nm, concentration 20.5 wt%, dispersion medium) : Isopropanol (particle refractive index: 1.30). 100 g of this sol was mixed with 4.02 g of methyl silicate (manufactured by Tama Chemical Co., Ltd .: methyl silicate 51, SiO 2 component 51.0 wt%), 10 g of ultrapure water was added, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 5 hours for surface treatment. A silica-based hollow fine particle-dispersed sol was obtained (solid content concentration: 19.8% by weight). The surface charge amount of the surface-treated silica-based hollow fine particle-dispersed sol was measured and found to be 28.0 μeq / g. ATO fine particle dispersion sol (manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd .: ELCOM V-3501, average particle diameter 8 nm, concentration 20.5 wt%, dispersion medium: ethanol, particle refractive index 1.75) as an antistatic high refractive index component Using. 100 g of this sol was mixed with 2.50 g of γ-acryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Silicon Co., Ltd .: KBM-5103, SiO 2 component 81.2% by weight), and 10 g of ultrapure water was added to the mixture at 50 ° C. The surface-treated ATO fine particle-dispersed sol was obtained (solid content concentration: 20.0% by weight). The surface charge amount of this surface-treated ATO fine particle dispersed gel was measured and found to be 9.9 μeq / g. The surface-treated silica-based hollow fine particle dispersion sol 14 g, the surface-treated ATO fine particle dispersion sol 100 g, a hydrophilic resin 2-hydroxyethyl acrylate having a hydroxyl group (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light Ester HOP-A) and hydrophobic Resin resin hexaerythritol tripentaacrylate (made by Nippon Kayaku Co., Ltd .: KAYARAD DPHA), photoinitiator (Irgacure 184 made by Ciba Specialty Co., Ltd.) 2.3 g and isopropanol 23.7 g and ethylene glycol mono A transparent coating film-forming paint (A-5) was prepared by thoroughly mixing 30 g of butyl ether.
Preparation of substrate with transparent film (5) Paint for transparent film formation (A-5) was obtained from PET film (Toray Industries, Inc .: Lumirror A-80, thickness 1
00 μm, refractive index 1.65, base material transmittance 88.0%, haze 2.0%, reflectance 5.1%), coated with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp (80 W / cm) was irradiated for 1 minute and cured to prepare a substrate (5) with a transparent coating. The film thickness at this time was 3 μm. When a part of the transparent coating was cut perpendicularly in the vertical direction and the cross section was observed with a transmission electron microscope, the silica-based hollow fine particles formed a layer with a thickness of 100 nm in the upper part, and the presence of ATO particles was observed in the lower part. It was.

得られた透明被膜付基材(5)の全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射率
、防眩性、密着性、鉛筆硬度を測定し結果を表1に示す。
[実施例6]
透明被膜形成用塗料(A-6)の調製
高屈折率成分として酸化チタン粒子(触媒化成工業(株)製:チタンマイクロビード、平均粒子径0.5μm、粒子屈折率2.40)を用いた。エチルアルコール79.5gの中に、この酸化チタン粒子20.5gを入れ、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシ
ラン3.75g(信越化学(株)製:KBM−503、SiO2成分81.9重量%)を混合し
超純水を10g添加し50℃で5時間攪拌して表面処理をした酸化チタン粒子分散液を得た(固形分濃度:20.7重量%)。この表面処理した酸化チタン粒子分散液の表面電荷
量を測定したところ10.2μeq/gであった。この表面処理した酸化チタン粒子分散液30gと実施例1と同様にして調製したシリカ系中空微粒子分散ゾル7.7gと水酸基
を有する親水性の樹脂2−ヒドロキ−3アクリロイロキシプロピルメタクレート(共栄社化学(株)製:ライトエステルG−201P)2.7gと疎水性の樹脂ヘキサエリスリトールトリペンタアクリレート(日本化薬(株):KAYARAD DPHA)24.3gに、光開始剤(チバスプシャリティ(株)製イルガキュア184)1.6gおよび溶剤としてイソプロパノ−ル13.2g、メチルイソブチルケトン2.7g、プロピレングリコールモノメチルエーテル10gとを充分に混合して透明被膜形成用塗料(A-6)を調製した。
透明被膜付基材(6)の調製
透明被膜形成用塗料(A-6)をPETフィルム(東レ(株)製:ルミラーA−80、厚さ1
00μm、屈折率1.65、基材透過率88.0% Haze2.0% 反射率5.1%)にバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)を1分間照射して硬化させて透明被膜付基材(6)を調製した。透明被膜の一部を縦方向に垂直に切断し、断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、上部にシリカ系中空微粒子が厚さ100nmの層をなしており、下部は酸化チタン粒子の存在が認められた。
Table 1 shows the results obtained by measuring the total light transmittance, haze, reflectance of light having a wavelength of 550 nm, antiglare property, adhesion, and pencil hardness of the obtained substrate (5) with a transparent coating.
[Example 6]
Preparation of paint for forming transparent film (A-6) Titanium oxide particles (Catalyst Chemical Industries, Ltd .: titanium microbead, average particle diameter 0.5 μm, particle refractive index 2.40) were used as high refractive index components. . 20.5 g of this titanium oxide particle was put into 79.5 g of ethyl alcohol, and 3.75 g of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-503, SiO 2 component 81.9% by weight) ), 10 g of ultrapure water was added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 5 hours to obtain a surface-treated titanium oxide particle dispersion (solid content concentration: 20.7 wt%). The surface charge amount of this surface-treated titanium oxide particle dispersion was measured and found to be 10.2 μeq / g. 30 g of this surface-treated titanium oxide particle dispersion liquid, 7.7 g of a silica-based hollow fine particle dispersion sol prepared in the same manner as in Example 1, and a hydrophilic resin 2-hydroxy-3acryloyloxypropyl methacrylate having a hydroxyl group (Kyoeisha) 2.7 g of Chemical Co., Ltd .: Light Ester G-201P) and 24.3 g of hydrophobic resin hexaerythritol tripentaacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd .: KAYARAD DPHA) ) Irgacure 184) 1.6 g and 13.2 g of isopropanol as a solvent, 2.7 g of methyl isobutyl ketone, and 10 g of propylene glycol monomethyl ether were sufficiently mixed to prepare a paint (A-6) for forming a transparent film. .
Preparation of substrate with transparent film (6) Paint (A-6) for forming a transparent film was made of PET film (Toray Industries, Inc .: Lumirror A-80, thickness 1
00 μm, refractive index 1.65, base material transmittance 88.0% Haze 2.0% reflectance 5.1%), coated with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp (80 W / cm) Was cured by irradiation for 1 minute to prepare a substrate (6) with a transparent coating. When a part of the transparent coating was cut perpendicularly in the vertical direction and the cross section was observed with a transmission electron microscope, the silica-based hollow fine particles formed a layer of 100 nm in thickness on the top and the presence of titanium oxide particles on the bottom. Admitted.

得られた透明被膜付基材(6)の全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射率
、防眩性、密着性、鉛筆硬度を測定し結果を表1に示す。
[実施例7]
透明被膜形成用塗料(A-7)の調製
高屈折率成分として酸化チタン粒子(触媒化成工業(株)製:チタンマイクロビード、平均粒子径3.0μm、粒子屈折率2.40)を用いた。エチルアルコール79.5gの中に、この酸化チタン粒子20.5gを入れ、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシ
ラン3.75g(信越化学(株)製:KBM−503、SiO2成分81.9重量%)を混合し
超純水を10g添加し50℃で5時間攪拌して表面処理をした酸化チタン粒子分散液を得た(固形分濃度:20.7重量%)。この表面処理した酸化チタン粒子分散液の表面電荷量を測定したところ9.2μeq/gであった。この表面処理した酸化チタン粒子分散液30gと実施例1と同様にして調製したシリカ系中空微粒子分散ゾル7.7gとアミノ基
を有する親水性の樹脂ジエチルアミノエチルメタクレート(共栄社化学(株):ライトエステルDE)2.7gと疎水性の樹脂ペンタエリスリトールテトラアクリレート(共栄社化学(株)製:ライトアクリレートPE−4A)24.3gに、光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184)1.6gおよび溶剤としてイソプロパノ−ル13.2g、メチルイソブチルケトン2.7g、プロピレングリコールモノメチルエーテル10gとを充分に混合して透明被膜形成用塗料(A-7)を調製した。
透明被膜付基材(7)の調製
透明被膜形成用塗料(A-7)をPETフィルム(東レ(株)製:ルミラーA−80:厚さ1
00μm、屈折率1.65、基材透過率88.0%、Haze2.0%、反射率5.1%)にバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)を1分間照射して硬化させて透明被膜付基材(7)を調製した。透明被膜の一部を縦方向に垂直に切断し、断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、上部にシリカ系中空微粒子が厚さ100nmの層をなしており、下部は酸化チタン粒子の存在が認められた。
Table 1 shows the results obtained by measuring the total light transmittance, haze, reflectance of light having a wavelength of 550 nm, antiglare property, adhesion, and pencil hardness of the obtained substrate with transparent coating (6).
[Example 7]
Preparation of coating film for forming transparent film (A-7) Titanium oxide particles (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: titanium microbead, average particle diameter 3.0 μm, particle refractive index 2.40) were used as high refractive index components. . 20.5 g of this titanium oxide particle was put into 79.5 g of ethyl alcohol, and 3.75 g of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-503, SiO 2 component 81.9% by weight) ), 10 g of ultrapure water was added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 5 hours to obtain a surface-treated titanium oxide particle dispersion (solid content concentration: 20.7 wt%). The surface charge amount of the surface-treated titanium oxide particle dispersion was measured and found to be 9.2 μeq / g. 30 g of this surface-treated titanium oxide particle dispersion, 7.7 g of a silica-based hollow fine particle dispersion sol prepared in the same manner as in Example 1, and a hydrophilic resin diethylaminoethyl methacrylate having an amino group (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Wright) 2.7 g of ester DE) and 24.3 g of hydrophobic resin pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light Acrylate PE-4A) and photoinitiator (manufactured by Ciba Specialty Co., Ltd .: Irgacure 184) 1 .6 g and 13.2 g of isopropanol as a solvent, 2.7 g of methyl isobutyl ketone, and 10 g of propylene glycol monomethyl ether were sufficiently mixed to prepare a transparent film-forming paint (A-7).
Preparation of substrate with transparent coating (7) A coating for forming a transparent coating (A-7) was made from a PET film (Toray Industries, Inc .: Lumirror A-80: thickness 1
00 μm, refractive index 1.65, base material transmittance 88.0%, Haze 2.0%, reflectance 5.1%), coated with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp (80 W / cm) was irradiated and cured for 1 minute to prepare a substrate (7) with a transparent coating. When a part of the transparent coating was cut perpendicularly in the vertical direction and the cross section was observed with a transmission electron microscope, the silica-based hollow fine particles formed a layer of 100 nm in thickness on the top and the presence of titanium oxide particles on the bottom. Admitted.

得られた透明被膜付基材(7)の全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射率
、防眩性、密着性、鉛筆硬度を測定し結果を表1に示す。
[実施例8]
透明被膜形成用塗料(A-8)の調製
低屈折率成分として、シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420、平均粒子径100nm、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノール 粒子屈折率1.20)を用いた。このゾル100gに正珪酸エチル7.11g(多摩化学(
株)製:エチルシリケート28、SiO2成分28.8重量%)を混合し超純水を10g添加
し50℃で5時間攪拌し表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾルを得た(固形分濃度:19.3重量%)。この表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾルの表面電荷量を測定したところ30.0μeq/gであった。この表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾル14.3gと実施例2と同様にして調製した五酸化アンチモン微粒子ゾル84.4g(固形分濃度:29.5重量%)と水酸基を有する親水性の樹脂2−ヒドロキシエチルメタクレート(共栄社化学(株):ライトエステルHO)3g、と疎水性の樹脂ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株):KAYARAD DPHA)27gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184)2.3gおよび溶媒イソプロパノ−ル9.1g、メチルイソブチルケトン10g、プロピレングリコールモノメチルエーテル50gとを充分に混合して透明被膜形成用塗布液(A-8)を調製した。
透明被膜付基材(8)の調製
透明被膜形成用塗料(A-8)をPETフィルム(東レ(株)製:ルミラーA−80:厚さ1
00μm、屈折率1.65、基材透過率88.0% Haze2.0% 反射率5.1%)にバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)を1分間照射して硬化させて透明被膜付基材(8)を調製した。このときの膜厚は5μmであった。透明被膜の一部を縦方向に垂直に切断し、断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、上部にシリカ系中空微粒子が厚さ100nmの層をなしており、下部は五酸化アンチモン微粒子の存在が認められた。
Table 1 shows the results obtained by measuring the total light transmittance, haze, reflectance of light having a wavelength of 550 nm, antiglare property, adhesion, and pencil hardness of the obtained substrate with transparent film (7).
[Example 8]
Preparation of transparent film-forming coating material (A-8) As a low refractive index component, silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: Thruria 1420, average particle diameter 100 nm, concentration 20.5% by weight, dispersion medium : Isopropanol particle refractive index 1.20). To 100 g of this sol, 7.11 g of ethyl orthosilicate (Tama Chemical (
Co., Ltd .: ethyl silicate 28, SiO 2 component 28.8% by weight), 10 g of ultrapure water was added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 5 hours to obtain a silica-based hollow fine particle dispersed sol (solid content concentration). : 19.3% by weight). The surface charge amount of the surface-treated silica-based hollow fine particle dispersed sol was measured and found to be 30.0 μeq / g. 14.3 g of this surface-treated silica-based hollow fine particle dispersed sol, 84.4 g of antimony pentoxide fine particle sol prepared in the same manner as in Example 2 (solid content concentration: 29.5 wt%), and a hydrophilic resin having a hydroxyl group 2 g of 2-hydroxyethyl methacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light Ester HO) and 27 g of hydrophobic resin dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd .: KAYARAD DPHA) and photoinitiator (Ciba Specialty) Co., Ltd .: Irgacure 184) 2.3 g, solvent isopropanol 9.1 g, methyl isobutyl ketone 10 g, and propylene glycol monomethyl ether 50 g were sufficiently mixed to prepare a coating solution (A-8) for forming a transparent film. .
Preparation of substrate with transparent film (8) Paint for transparent film formation (A-8) was obtained from PET film (Toray Industries, Inc .: Lumirror A-80: thickness 1
00 μm, refractive index 1.65, base material transmittance 88.0% Haze 2.0% reflectance 5.1%), coated with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp (80 W / cm) Was cured by irradiation for 1 minute to prepare a substrate (8) with a transparent coating. The film thickness at this time was 5 μm. A part of the transparent film was cut perpendicularly in the vertical direction, and the cross section was observed with a transmission electron microscope. Silica-based hollow fine particles formed a layer with a thickness of 100 nm at the top, and the presence of antimony pentoxide fine particles at the bottom. Was recognized.

得られた透明被膜付基材(8)の全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射率
、防眩性、密着性、鉛筆硬度を測定し結果を表1に示す。
[実施例9]
透明被膜形成用塗料(A-9)の調製
実施例8と同様にして調製した表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾル7.7gと実施例7と同様にして調製した表面処理した酸化チタン粒子分散液30gと水酸基を有する親水性の樹脂2−ヒドロキ−3アクリロイロキシプロピルメタクレート(共栄社化学(株)製:ライトエステルG−201P)2.7gと疎水性の樹脂ヘキサエリスリトールトリペンタアクリレート(日本化薬(株):KAYARAD DPHA)24.3gに、光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184)1.6gおよび溶剤としてイソプロパノ−ル13.2g、エチレングリコールモノブチルエーテル12.7gとを充分に混合して透明被膜形成用塗料(A-9)を調製した。
透明被膜付基材(9)の調製
透明被膜形成用塗料(A-9)をPETフィルム(東レ(株)製:ルミラーA−80:厚さ1
00μm、屈折率1.65、基材透過率88.0% Haze2.0% 反射率5.1%)にバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)を1分間照射して硬化させて透明被膜付基材(9)を調製した。透明被膜の一部を縦方向に垂直に切断し、断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、上部にシリカ系中空微粒子が厚さ100nmの層をなしており、下部は酸化チタン粒子の存在が認められた。
Table 1 shows the results obtained by measuring the total light transmittance, haze, reflectance of light having a wavelength of 550 nm, antiglare property, adhesion, and pencil hardness of the obtained substrate with transparent coating (8).
[Example 9]
Preparation of paint for forming transparent film (A-9) 7.7 g of surface-treated silica-based hollow fine particle dispersion sol prepared in the same manner as in Example 8 and surface-treated titanium oxide particle dispersion prepared in the same manner as in Example 7 30 g of a liquid and 2.7 g of a hydrophilic resin having a hydroxyl group, 2-hydroxy-3acryloyloxypropyl methacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light Ester G-201P) and a hydrophobic resin hexaerythritol tripentaacrylate (Japan) 24.3 g of Kayaku Co., Ltd .: KAYARAD DPHA, 1.6 g of photoinitiator (manufactured by Ciba Specialty Co., Ltd .: Irgacure 184), 13.2 g of isopropanol as a solvent, and 12.7 g of ethylene glycol monobutyl ether Were sufficiently mixed to prepare a transparent film-forming paint (A-9).
Preparation of substrate with transparent film (9) Paint (A-9) for forming a transparent film was made of PET film (Toray Industries, Inc .: Lumirror A-80: thickness 1
00 μm, refractive index 1.65, base material transmittance 88.0% Haze 2.0% reflectance 5.1%), coated with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp (80 W / cm) Was cured by irradiation for 1 minute to prepare a substrate (9) with a transparent coating. When a part of the transparent coating was cut perpendicularly in the vertical direction and the cross section was observed with a transmission electron microscope, the silica-based hollow fine particles formed a layer of 100 nm in thickness on the top and the presence of titanium oxide particles on the bottom. Admitted.

得られた透明被膜付基材(9)の全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射率
、防眩性、密着性、鉛筆硬度を測定し結果を表1に示す。
[比較例1]
透明被膜形成用塗料(R-1)の調製
実施例1と同様にして調製したシリカ系中空微粒子分散ゾル14.3gと、疎水性の樹脂ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株)製:KAYARAD DPHA)57gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184)2.3gおよび溶媒イソプロパノ−ル90g、メチルイソブチルケトン70gとを充分に混合して透明被膜形成用塗布液(R-1)を調製した。
Table 1 shows the results obtained by measuring the total light transmittance, haze, reflectance of light having a wavelength of 550 nm, antiglare property, adhesion and pencil hardness of the obtained substrate (9) with a transparent coating.
[Comparative Example 1]
Preparation of Transparent Film Forming Paint (R-1) 14.3 g of silica-based hollow fine particle dispersion sol prepared in the same manner as in Example 1, and hydrophobic resin dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .: KAYARAD DPHA) 2.3 g of photoinitiator (manufactured by Ciba Specialty Co., Ltd .: Irgacure 184), 90 g of solvent isopropanol, and 70 g of methyl isobutyl ketone were sufficiently mixed to form a coating solution for forming a transparent film (R- 1) was prepared.

透明被膜付基材(R-1)の調製
透明被膜形成用塗布液(R-1)をPETフィルム(東レ(株)製:ルミラーA−80:厚さ
100μm、屈折率1.65、基材透過率88.0%、Haze2.0%、反射率5.1%)にバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)を1分間照射して硬化させて透明被膜付基材(1)を調製した。このときの透明被膜の膜厚は5μmであった。透明被膜の一部を縦方向に垂直に切断し、断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、シリカ系中空微粒子が膜全体に分散しており上部にも下部にもシリカ系中空微粒子の存在が認められた。
Preparation of substrate with transparent coating (R-1) A coating solution (R-1) for forming a transparent coating was obtained from a PET film (Toray Industries, Inc .: Lumirror A-80: thickness 100 μm, refractive index 1.65, substrate. (Transmissivity 88.0%, Haze 2.0%, Reflectance 5.1%) applied with a bar coater, dried at 70 ° C for 1 minute, and then cured by irradiation with a high-pressure mercury lamp (80 W / cm) for 1 minute. Thus, a substrate (1) with a transparent coating was prepared. The film thickness of the transparent coating at this time was 5 μm. A part of the transparent film was cut perpendicularly in the vertical direction, and the cross section was observed with a transmission electron microscope. Admitted.

得られた透明被膜付基材(R-1)の全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射
率を測定し、結果を表1に示す。
[比較例2]
透明被膜形成用塗料(R-2)の調製
低屈折率成分として、シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420、平均粒子径60nm、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノ−ル、粒子屈折率1.30)を用いた。このシリカ系中空微粒子分散ゾルの表面電荷量を測定したところ39.0μeq/gであった。
The total light transmittance, haze, and reflectance of light having a wavelength of 550 nm of the obtained substrate with transparent coating (R-1) were measured, and the results are shown in Table 1.
[Comparative Example 2]
Preparation of paint for forming transparent film (R-2) Silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: through rear 1420, average particle diameter 60 nm, concentration 20.5% by weight, dispersion medium as low refractive index component : Isopropanol, particle refractive index 1.30). The surface charge amount of the silica-based hollow fine particle dispersed sol was measured and found to be 39.0 μeq / g.

導電成分として、五酸化アンチモン微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:ELCOM V−
4560、平均粒子径20nm、濃度30.5重量%、分散媒:イソプロパノ−ル 粒子屈折率1.60)を用いた。この五酸化アンチモン微粒子分散ゾルの表面電荷量を測定したところ38.0μeq/gであった。
As a conductive component, antimony pentoxide fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd .: ELCOM V-
4560, an average particle size of 20 nm, a concentration of 30.5% by weight, a dispersion medium: isopropanol, a particle refractive index of 1.60). The surface charge amount of the antimony pentoxide fine particle-dispersed sol was measured and found to be 38.0 μeq / g.

この五酸化アンチモン微粒子ゾル84gとシリカ系中空微粒子分散ゾル14gと水酸基を有する親水性の樹脂2−ヒドロキシエチルメタクレート(共栄社化学(株):ライトエステルHO)3gと疎水性の樹脂ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株):KAYARAD DPHA)27gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184)2.3gおよび溶媒イソプロパノ−ル9.1g、メチルイソブチルケトン60gとを充分に混合して透明被膜形成用塗布液(R-2)を調製した。
透明被膜付基材(R-2)の調製
透明被膜形成用塗料(R-2)をPETフィルム(東レ(株)製:ルミラーA−80:厚さ1
00μm、屈折率1.65、基材透過率88.0% Haze2.0% 反射率5.1%)にバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)を1分間照射して硬化させて透明被膜付基材(R-2)を調製した。このときの膜厚は5μmであった。透明被膜の一部を縦方向に垂直に切断し、断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、膜全体にシリカ系中空微粒子と五酸化アンチモン微粒子が分散しており上部にも下部にもシリカ系中空微粒子と五酸化アンチモン微粒子が混合された状態で存在が認められた。
84 g of this antimony pentoxide fine particle sol, 14 g of silica-based hollow fine particle dispersion sol, 3 g of hydrophilic resin 2-hydroxyethyl methacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light Ester HO) having a hydroxyl group and hydrophobic resin dipentaerythritol hexa 27 g of acrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd .: KAYARAD DPHA), 2.3 g of photoinitiator (manufactured by Ciba Specialty Co., Ltd .: Irgacure 184), 9.1 g of solvent isopropanol, and 60 g of methyl isobutyl ketone are sufficiently mixed. Thus, a coating solution (R-2) for forming a transparent film was prepared.
Preparation of substrate with transparent film (R-2) Paint (R-2) for forming a transparent film was obtained from PET film (Toray Industries, Inc .: Lumirror A-80: Thickness 1
00 μm, refractive index 1.65, base material transmittance 88.0% Haze 2.0% reflectance 5.1%), coated with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp (80 W / cm) Was cured by irradiation for 1 minute to prepare a substrate with transparent coating (R-2). The film thickness at this time was 5 μm. A part of the transparent film was cut perpendicularly in the vertical direction, and the cross section was observed with a transmission electron microscope. Silica hollow fine particles and antimony pentoxide fine particles were dispersed throughout the film. Existence was observed in a state where hollow fine particles and antimony pentoxide fine particles were mixed.

得られた透明被膜付基材(R-2)の全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射
率、防眩性、密着性、鉛筆硬度を測定し結果を表1に示す。
[比較例3]
透明被膜形成用塗料(R-3)の調製
高屈折率成分として酸化チタン粒子(触媒化成工業(株)製:チタンマイクロビード、平均粒子径3.0μm、粒子屈折率2.40)を用いた。エチルアルコール79.5gの中に、この酸化チタン粒子20.5gを入れ、正珪酸エチル7.11g(多摩化学製 エチ
ルシリケート28 SiO2成分28.8%)を混合し超純水を10g添加し50℃で5時間
攪拌し表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾルを得た(固形分濃度:19.3重量%)。
Table 1 shows the results obtained by measuring the total light transmittance, haze, reflectance of light having a wavelength of 550 nm, antiglare property, adhesion, and pencil hardness of the obtained transparent film-coated substrate (R-2).
[Comparative Example 3]
Preparation of Transparent Film Forming Paint (R-3) Titanium oxide particles (Catalyst Chemical Industries, Ltd .: Titanium microbead, average particle size 3.0 μm, particle refractive index 2.40) were used as high refractive index components. . 20.5 g of the titanium oxide particles are put in 79.5 g of ethyl alcohol, 7.11 g of normal ethyl silicate (ethyl silicate 28 SiO 2 component 28.8% manufactured by Tama Chemical) is mixed, and 10 g of ultrapure water is added. A silica-based hollow fine particle-dispersed sol which was stirred for 5 hours at 50 ° C. and surface-treated was obtained (solid content concentration: 19.3% by weight).

この表面処理した酸化チタン粒子分散液の表面電荷量を測定したところ32.0μeq
/gであった。この表面処理した酸化チタン粒子分散液30gと、低屈折率成分として、シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420、平均粒子径60nm、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノ−ル、粒子屈折率1.30、表面電荷量39.0μeq/g)7.7gと水酸基を有する親水性の樹脂2−ヒドロキシエチルメタクレート(共栄社化学(株):ライトエステルHO)2.7gと疎水性の樹脂ヘキサエリスリトールトリペンタアクリレート(日本化薬(株):KAYARAD DPHA)24.3gに、光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184)1.6gおよび溶剤としてイソプロパノ−ル13.2g、エチレングリコールモノブチルエーテル12.7gとを充分に混合して透明被膜形成用塗料(R-3)を調製した。
透明被膜付基材(R-3)の調製
透明被膜形成用塗料(R-3)をPETフィルム(東レ(株)製:ルミラーA−80:厚さ1
00μm、屈折率1.65、基材透過率88.0%、Haze2.0%、反射率5.1%)にバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)を1分間照射して硬化させて透明被膜付基材(R-3)を調製した。透明被膜の一部を縦方向に垂直に切断し、断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、膜全体にシリカ系中空微粒子と酸化チタン粒子が分散しており上部にも下部にもシリカ系中空微粒子と酸化チタン粒子が混合された状態で存在が認められた。
The surface charge amount of this surface-treated titanium oxide particle dispersion was measured and found to be 32.0 μeq.
/ G. 30 g of this surface-treated titanium oxide particle dispersion and a silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: Thruria 1420, average particle diameter 60 nm, concentration 20.5 wt%, dispersion medium) : Isopropanol, particle refractive index 1.30, surface charge 39.0 μeq / g) 7.7 g and a hydrophilic resin 2-hydroxyethyl methacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light Ester HO) 2 .7 g and a hydrophobic resin hexaerythritol tripentaacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd .: KAYARAD DPHA) 24.3 g, photoinitiator (manufactured by Ciba Specialty Ltd .: Irgacure 184) and isopropano as a solvent -A coating (R-3) for forming a transparent film was prepared by thoroughly mixing 13.2 g of styrene and 12.7 g of ethylene glycol monobutyl ether.
Preparation of substrate with transparent coating (R-3) A coating for forming transparent coating (R-3) was obtained from PET film (Toray Industries, Inc .: Lumirror A-80: thickness 1
00 μm, refractive index 1.65, base material transmittance 88.0%, haze 2.0%, reflectance 5.1%), coated with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp (80 W / cm) was irradiated and cured for 1 minute to prepare a substrate with a transparent coating (R-3). When a part of the transparent coating was cut perpendicularly in the vertical direction and the cross section was observed with a transmission electron microscope, silica-based hollow fine particles and titanium oxide particles were dispersed throughout the film. Existence was observed in a state where fine particles and titanium oxide particles were mixed.

得られた透明被膜付基材(R-3)の全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射
率、防眩性、密着性、鉛筆硬度を測定し結果を表1に示す。
[比較例4]
透明被膜形成用塗料(R-3)の調製
実施例1と同様にして調製したシリカ系中空微粒子分散ゾル14.3と、実施例2と同様にして調製した五酸化アンチモン微粒子ゾル84.4gと疎水性の樹脂ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株):KAYARAD DPHA)30gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184)2.3gおよび溶媒イソプロパノール29.1g、メチルイソブチルケトン40gとを充分に混合して透明被膜形成用塗布液(R-4)を調製した。
透明被膜付基材(R-4)の調製
透明被膜形成用塗料(R-4)をPETフィルム(東レ(株)製:ルミラーA−80:厚さ1
00μm、屈折率1.65、基材透過率88.0%、Haze2.0%、反射率5.1%)にバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)を1分間照射して硬化させて透明被膜付基材(R-4)を調製した。透明被膜の一部を縦方向に垂直に切断し、断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、膜全体にシリカ系中空微粒子と五酸化アンチモン微粒子が分散しており上部にも下部にもシリカ系中空微粒子と五酸化アンチモン微粒子が混合された状態で存在が認められた。
Table 1 shows the results obtained by measuring the total light transmittance, haze, reflectance of light having a wavelength of 550 nm, antiglare property, adhesion and pencil hardness of the obtained substrate with transparent coating (R-3).
[Comparative Example 4]
Preparation of Transparent Film Forming Paint (R-3) Silica-based hollow fine particle dispersion sol 14.3 prepared in the same manner as in Example 1, and 84.4 g of antimony pentoxide fine particle sol prepared in the same manner as in Example 2 30 g of hydrophobic resin dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd .: KAYARAD DPHA) 2.3 g of photoinitiator (manufactured by Ciba Specialty Co., Ltd .: Irgacure 184) and 29.1 g of solvent isopropanol, methyl isobutyl ketone A coating solution (R-4) for forming a transparent film was prepared by sufficiently mixing 40 g.
Preparation of substrate with transparent coating (R-4) A coating for transparent coating formation (R-4) was prepared from PET film (Toray Industries, Inc .: Lumirror A-80: thickness 1
00 μm, refractive index 1.65, base material transmittance 88.0%, haze 2.0%, reflectance 5.1%), coated with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp (80 W / cm) was irradiated for 1 minute and cured to prepare a transparent coated substrate (R-4). A part of the transparent film was cut perpendicularly in the vertical direction, and the cross section was observed with a transmission electron microscope. Silica hollow fine particles and antimony pentoxide fine particles were dispersed throughout the film. Existence was observed in a state where hollow fine particles and antimony pentoxide fine particles were mixed.

得られた透明被膜付基材(R-4)の全光線透過率、ヘーズ、波長550nmの光線の反射
率、防眩性、密着性、鉛筆硬度を測定し結果を表1に示す。
[比較例5]
透明被膜形成用塗料(R-5)の調製
実施例1と同様にして調製したシリカ系中空微粒子分散ゾル143gと、水酸基を有する親水性の樹脂2−ヒドロキシエチルメタクレート(共栄社化学(株):ライトエステルHO)2.7gと疎水性の樹脂ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株):KAYARAD DPHA)27.3gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184)1.8gおよび溶媒イソプロパノ−ル90g、メチルイソブチルケトン50gとを充分に混合して透明被膜形成用塗布液(R-1)を調製した。
Table 1 shows the results obtained by measuring the total light transmittance, haze, reflectance of light having a wavelength of 550 nm, antiglare property, adhesion, and pencil hardness of the obtained substrate with transparent coating (R-4).
[Comparative Example 5]
Preparation of Transparent Film Forming Coating Material (R-5) 143 g of silica-based hollow fine particle dispersion sol prepared in the same manner as in Example 1, and hydrophilic resin 2-hydroxyethyl methacrylate having a hydroxyl group (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: 2.7 g of light ester HO and 27.3 g of hydrophobic resin dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd .: KAYARAD DPHA) 1.8 g of photoinitiator (manufactured by Ciba Specialty Co., Ltd .: Irgacure 184) Then, 90 g of a solvent isopropanol and 50 g of methyl isobutyl ketone were sufficiently mixed to prepare a coating solution (R-1) for forming a transparent film.

透明被膜付基材(R-5)の調製
透明被膜形成用塗布液(R-5)をPETフィルム(東レ(株)製:ルミラーA−80:厚さ
100μm、屈折率1.65、基材透過率88.0%、Haze2.0%、反射率5.1%)にバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)を1分間照射して硬化させて透明被膜付基材(1)を調製した。このときの透明被膜の膜厚は5μmであった。透明被膜の一部を縦方向に垂直に切断し、断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、シリカ系中空微粒子が膜全体に分散しており上部にも下部にもシリカ系中空微粒子の存在が認められた。
Preparation of substrate with transparent coating (R-5) A coating solution (R-5) for forming a transparent coating was prepared from a PET film (Toray Industries, Inc .: Lumirror A-80: thickness 100 μm, refractive index 1.65, substrate. (Transmissivity 88.0%, Haze 2.0%, Reflectance 5.1%) applied with a bar coater, dried at 70 ° C for 1 minute, and then cured by irradiation with a high-pressure mercury lamp (80 W / cm) for 1 minute. Thus, a substrate (1) with a transparent coating was prepared. The film thickness of the transparent coating at this time was 5 μm. A part of the transparent film was cut perpendicularly in the vertical direction, and the cross section was observed with a transmission electron microscope. Admitted.

得られた透明被膜付基材(R-5)の表面抵抗値、全光線透過率、ヘーズ、波長550nm
の光線の反射率を測定し、結果を表1に示す。
[比較例6]
透明被膜形成用塗料(R-6)の調製
実施例1と同様にして調製したシリカ系中空微粒子分散ゾル72gと、実施例2と同様にして調製した五酸化アンチモン微粒子ゾル72gと、水酸基を有する親水性の樹脂2−ヒドロキシエチルメタクレート(共栄社化学(株):ライトエステルHO)2.7gと疎水性の樹脂ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株):KAYARAD DPHA)30gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184)2.3gおよび溶媒イソプロパノ−ル29g、メチルイソブチルケトン40gとを充分に混合して透明被膜形成用塗布液(R-6)を調製した。
透明被膜付基材(R-6)の調製
透明被膜形成用塗料(R-6)をPETフィルム(東レ(株)製:ルミラーA−80:厚さ1
00μm、屈折率1.65、基材透過率88.0%、Haze2.0%、反射率5.1%)にバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)を1分間照射して硬化させて透明被膜付基材(R-6)を調製した。このときの膜厚は5μmであった。透明被膜の一部を縦方向に垂直に切断し、断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、膜全体にシリカ系中空微粒子と五酸化アンチモン微粒子が分散しており上部にも下部にもシリカ系中空微粒子と五酸化アンチモン微粒子が混合された状態で存在が認められた。
Surface resistance value, total light transmittance, haze, wavelength 550 nm of the obtained substrate with transparent coating (R-5)
The reflectance of the light beam was measured, and the results are shown in Table 1.
[Comparative Example 6]
Preparation of paint for forming transparent film (R-6) 72 g of silica-based hollow fine particle dispersion sol prepared in the same manner as in Example 1, 72 g of antimony pentoxide fine particle sol prepared in the same manner as in Example 2, and a hydroxyl group Photoinitiator to 2.7 g of hydrophilic resin 2-hydroxyethyl methacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light Ester HO) and 30 g of hydrophobic resin dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd .: KAYARAD DPHA) (Ciba Specialty Co., Ltd .: Irgacure 184) 2.3 g, solvent isopropanol 29 g, and methyl isobutyl ketone 40 g were sufficiently mixed to prepare a coating solution (R-6) for forming a transparent film.
Preparation of substrate with transparent coating (R-6) A coating for transparent coating (R-6) was prepared from PET film (Toray Industries, Inc .: Lumirror A-80: thickness 1
00 μm, refractive index 1.65, base material transmittance 88.0%, haze 2.0%, reflectance 5.1%), coated with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp (80 W / cm) was cured by irradiation for 1 minute to prepare a transparent coated substrate (R-6). The film thickness at this time was 5 μm. A part of the transparent film was cut perpendicularly in the vertical direction, and the cross section was observed with a transmission electron microscope. Silica hollow fine particles and antimony pentoxide fine particles were dispersed throughout the film. Existence was observed in a state where hollow fine particles and antimony pentoxide fine particles were mixed.

得られた透明被膜付基材(R-6)の表面抵抗値、全光線透過率、ヘーズ、波長550nm
の光線の反射率、防眩性、密着性、鉛筆硬度を測定し結果を表1に示す。
[比較例7]
透明被膜形成用塗料(R-7)の調製
低屈折率成分として、シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420、平均粒子径60nm、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノール 粒子屈折率1.30)を用いた。このゾル100gにパーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン10g(東レダウコーニング(株)製:AY43−158E、SiO2成分26.6重量%)を混合し超純水を10g添加し50℃で15時間攪拌して表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾルを得た(固形分濃度:19.3重量%)。この表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾルの表面電荷量を測定したところ8.3μeq/gであった。この表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾル14.3gと水酸基を有する親水性の樹脂2−ヒドロキシ3−アクリロイロキシプロピルメタクレート(共栄社化学(株):ライトエステルG−201P)3g、と疎水性の樹脂ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株)製:KAYARAD DPHA)54gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184)2.3gおよび溶媒イソプロパノ−ル100g、メチルイソブチルケトン10g、プロピレングリコールモノメチルエーテル50gとを充分に混合して透明被膜形成用塗布液(R-7)を調製した。
透明被膜付基材(R-7)の調製
透明被膜形成用塗料(R-7)をPETフィルム(東レ(株)製:ルミラーA−80:厚さ1
00μm、屈折率1.65、基材透過率88.0%、Haze2.0%、反射率5.1%)にバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)を1分間照射して硬化させて透明被膜付基材(R-7)を調製した。このときの膜厚は5μmであった。透明被膜の一部を縦方向に垂直に切断し、断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、膜全体にシリカ系中空微粒子が分散しており下部の方がシリカ系中空微粒子の存在が多く認められた。
Surface resistance value, total light transmittance, haze, wavelength 550 nm of the obtained substrate with transparent coating (R-6)
The light reflectance, antiglare property, adhesion and pencil hardness were measured and the results are shown in Table 1.
[Comparative Example 7]
Preparation of transparent film-forming coating material (R-7) As a low refractive index component, silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: through rear 1420, average particle diameter 60 nm, concentration 20.5 wt%, dispersion medium : Isopropanol particle refractive index 1.30). 100 g of this sol was mixed with 10 g of perfluorooctylethyltriethoxysilane (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd .: AY43-158E, 26.6% by weight of SiO 2 component), 10 g of ultrapure water was added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 15 hours. Thus, a silica-based hollow fine particle-dispersed sol surface-treated was obtained (solid content concentration: 19.3% by weight). The surface charge amount of this surface-treated silica-based hollow fine particle dispersed sol was measured and found to be 8.3 μeq / g. 14.3 g of this surface-treated silica-based hollow fine particle dispersed sol, 3 g of hydrophilic resin 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl methacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light Ester G-201P) having a hydroxyl group, and hydrophobicity Resin dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd .: KAYARAD DPHA) 54 g, photoinitiator (Ciba Specialty Co., Ltd .: Irgacure 184) 2.3 g, solvent isopropanol 100 g, methyl isobutyl ketone 10 g Then, 50 g of propylene glycol monomethyl ether was thoroughly mixed to prepare a coating solution for forming a transparent film (R-7).
Preparation of substrate with transparent coating (R-7) A coating for forming transparent coating (R-7) was prepared from PET film (Toray Industries, Inc .: Lumirror A-80: Thickness 1
00 μm, refractive index 1.65, base material transmittance 88.0%, Haze 2.0%, reflectance 5.1%), coated with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp (80 W / cm) was irradiated for 1 minute and cured to prepare a transparent coated substrate (R-7). The film thickness at this time was 5 μm. When a part of the transparent coating was cut perpendicular to the vertical direction and the cross section was observed with a transmission electron microscope, silica-based hollow fine particles were dispersed throughout the film, and the presence of more silica-based hollow fine particles was observed in the lower part. It was.

得られた透明被膜付基材(R-7)の表面抵抗値、全光線透過率、ヘーズ、波長550nm
の光線の反射率、防眩性、密着性、鉛筆硬度を測定し結果を表1に示す。
[比較例8]
透明被膜形成用塗料(R-7)の調製
低屈折率成分として、シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420、平均粒子径60nm、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノ−ル 粒子屈折率1.30)を用いた。このゾル100gに珪酸液20g(触媒化成工業(株)製:SiO2成分4.0%)を添加し50℃で15時間攪拌して表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾルを得た(固形分17.8%)。この表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾルの表面電荷量を測定したところ102μeq/gであった。この表面処理したシリカ系中空微粒子分散ゾル14.3gと水酸基を有する親水性の樹脂2−ヒドロキシ3−アクリロイロキシプロピルメタクレート(共栄社化学(株):ライトエステルG−201P)3g、と疎水性の樹脂ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株)製:KAYARAD DPHA)54gに光開始剤(チバスプシャリティ(株)製:イルガキュア184)2.3gおよび溶媒イソプロパノ−ル100g、メチルイソブチルケトン10g、プロピレングリコールモノメチルエーテル50gとを充分に混合して透明被膜形成用塗布液(R-8)を調製した。
透明被膜付基材(R-8)の調製
透明被膜形成用塗料(R-8)をPETフィルム(東レ(株)製:ルミラーA−80:厚さ1
00μm、屈折率1.65、基材透過率88.0%、Haze2.0%、反射率5.1%)にバーコーターで塗布し、70℃で1分間乾燥した後、高圧水銀灯(80W/cm)を1分間照射して硬化させて透明被膜付基材(R-7)を調製した。このときの膜厚は5μmであった。透明被膜の一部を縦方向に垂直に切断し、断面を透過型電子顕微鏡によって観察したところ、膜全体にシリカ系中空微粒子が分散しており局部的に凝集したシリカ系中空微粒子の存在が認められた。
Surface resistance value, total light transmittance, haze, wavelength of 550 nm of the obtained substrate with transparent coating (R-7)
The light reflectance, antiglare property, adhesion and pencil hardness were measured and the results are shown in Table 1.
[Comparative Example 8]
Preparation of transparent film-forming coating material (R-7) As a low refractive index component, silica-based hollow fine particle dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: through rear 1420, average particle diameter 60 nm, concentration 20.5 wt%, dispersion medium : Isopropanol (particle refractive index: 1.30). Silica solution 20g (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: SiO 2 component 4.0%) was added to 100 g of this sol and stirred for 15 hours at 50 ° C. to obtain a silica-based hollow fine particle dispersed sol (solid content). 17.8%). The surface charge amount of this surface-treated silica-based hollow fine particle dispersed sol was measured and found to be 102 μeq / g. 14.3 g of this surface-treated silica-based hollow fine particle dispersed sol, 3 g of hydrophilic resin 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl methacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd .: Light Ester G-201P) having a hydroxyl group, and hydrophobicity Resin dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd .: KAYARAD DPHA) 54 g, photoinitiator (Ciba Specialty Co., Ltd .: Irgacure 184) 2.3 g, solvent isopropanol 100 g, methyl isobutyl ketone 10 g Then, 50 g of propylene glycol monomethyl ether was thoroughly mixed to prepare a coating solution for forming a transparent film (R-8).
Preparation of substrate with transparent coating (R-8) A coating for forming transparent coating (R-8) was prepared from PET film (Toray Industries, Inc .: Lumirror A-80: thickness 1
00 μm, refractive index 1.65, base material transmittance 88.0%, Haze 2.0%, reflectance 5.1%), coated with a bar coater, dried at 70 ° C. for 1 minute, and then a high-pressure mercury lamp (80 W / cm) was irradiated for 1 minute and cured to prepare a transparent coated substrate (R-7). The film thickness at this time was 5 μm. A part of the transparent film was cut perpendicularly in the vertical direction, and the cross section was observed with a transmission electron microscope. Silica hollow particles were dispersed throughout the film, and the presence of locally agglomerated silica hollow particles was observed. It was.

得られた透明被膜付基材(R-8)の表面抵抗値、全光線透過率、ヘーズ、波長550nm
の光線の反射率、防眩性、密着性、鉛筆硬度を測定し結果を表1に示す。
Surface resistance value, total light transmittance, haze, wavelength of 550 nm of the obtained substrate with transparent coating (R-8)
The light reflectance, antiglare property, adhesion and pencil hardness were measured and the results are shown in Table 1.

Figure 2008291174
Figure 2008291174

本発明に係る透明被膜の断面の模式図を示す。The schematic diagram of the cross section of the transparent film which concerns on this invention is shown. 本発明に係る透明被膜の断面の模式図を示す。The schematic diagram of the cross section of the transparent film which concerns on this invention is shown. 本発明に係る透明被膜の断面の模式図を示す。The schematic diagram of the cross section of the transparent film which concerns on this invention is shown. 本発明に係る透明被膜の断面の模式図を示す。The schematic diagram of the cross section of the transparent film which concerns on this invention is shown. 本発明に係る透明被膜の断面の模式図を示す。The schematic diagram of the cross section of the transparent film which concerns on this invention is shown. 本発明に係る透明被膜の断面の模式図を示す。The schematic diagram of the cross section of the transparent film which concerns on this invention is shown. 本発明に係る透明被膜の断面の模式図を示す。The schematic diagram of the cross section of the transparent film which concerns on this invention is shown.

Claims (18)

(A-1)有機ケイ素化合物で表面処理されてなり、かつ表面処理された微粒子の表面電荷
量(QA-1)が20〜100μeq/gの範囲にある金属酸化物微粒子と、
(B-1)親水性マトリックス形成成分と、(C)極性溶媒とからなり、
金属酸化物微粒子(A-1)の固形分としての濃度(CPA-1)が0.1〜20重量%の範囲
にあり、
親水性マトリックス形成成分(B-1)の固形分としての濃度(CMB-1)が1〜50重量%
の範囲にあることを特徴とする透明被膜形成塗料。
(A-1) metal oxide fine particles that have been surface-treated with an organosilicon compound and the surface-treated fine particles have a surface charge amount (Q A-1 ) in the range of 20 to 100 μeq / g;
(B-1) consisting of a hydrophilic matrix-forming component and (C) a polar solvent,
The concentration (C PA-1 ) as a solid content of the metal oxide fine particles (A-1) is in the range of 0.1 to 20% by weight,
Concentration (C MB-1 ) as a solid content of the hydrophilic matrix forming component (B -1 ) is 1 to 50% by weight
A transparent film-forming paint characterized by being in the range of
前記有機ケイ素化合物が下記式(1)で表される有機珪素化合物であることを特徴とする
請求項1に記載の透明被膜形成塗料。
aSiX4-a (1)
(但し、式中、Xは炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。aは0か1の整数)
2. The transparent film-forming paint according to claim 1, wherein the organosilicon compound is an organosilicon compound represented by the following formula (1).
R a Six 4-a (1)
(In the formula, X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, halogen, and hydrogen, and may be the same or different. R is unsubstituted or substituted having 1 to 10 carbon atoms. Hydrocarbon groups which may be the same or different from each other, a being an integer of 0 or 1)
前記表面処理された金属酸化物微粒子(A-1)の屈折率(nA-1)が1.15〜1.40の範囲にあることを特徴とする請求項1または2に記載の透明被膜形成塗料。 The transparent film according to claim 1 or 2, wherein the surface-treated metal oxide fine particles (A-1) have a refractive index (n A-1 ) in the range of 1.15 to 1.40. Forming paint. 前記親水性マトリックス形成成分(B-1)が、下記式(2)で表される有機珪素化合物またはこれらの加水分解物、加水分解重縮合物、および/または水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホ基から選ばれる1種以上の親水性官能基を有する多官能(メタ)アクリル酸エステル樹脂であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の透明被膜形成塗料。
aSiX4-a (2)
(但し、式中、Xは炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。aは0か1の整数)
The hydrophilic matrix forming component (B-1) is an organosilicon compound represented by the following formula (2) or a hydrolyzate, hydrolyzed polycondensate thereof, and / or a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a sulfo group. The transparent film-forming paint according to any one of claims 1 to 3, which is a polyfunctional (meth) acrylic acid ester resin having at least one hydrophilic functional group selected from a group.
R a Six 4-a (2)
(In the formula, X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, halogen, and hydrogen, and may be the same or different. R is unsubstituted or substituted having 1 to 10 carbon atoms. Hydrocarbon groups which may be the same or different from each other, a being an integer of 0 or 1)
前記表面処理された金属酸化物微粒子(A-1)の平均粒子径が5〜500nmの範囲にあ
ることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の透明被膜形成用塗料。
5. The transparent film-forming paint according to claim 1, wherein the surface-treated metal oxide fine particles (A-1) have an average particle diameter in the range of 5 to 500 nm.
前記マトリックス形成成分として、さらに疎水性マトリックス形成成分(B-2)を含み、
疎水性マトリックス形成成分の固形分としての濃度(CMB-2)と、前記(CMB-1)との濃度比(CMB-1)/(CMB-2)が0.005〜1の範囲にあることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の透明被膜形成塗料。
As the matrix-forming component, further comprising a hydrophobic matrix-forming component (B-2),
The concentration ratio (C MB-1 ) / (C MB-2 ) between the concentration (C MB-2 ) of the hydrophobic matrix-forming component as a solid content and the above (C MB-1 ) is 0.005 to 1 It is in a range, The transparent film formation coating material in any one of Claims 1-5 characterized by the above-mentioned.
前記疎水性マトリックス形成成分(B-2)が、下記式(3)で表される有機珪素化合物またはこれらの加水分解物、加水分解重縮合物、および/またはビニル基、ウレタン基、エポキシ基、(メタ)アクリロイル基、CF2基から選ばれる1種以上の疎水性官能基を有する
多官能(メタ)アクリル酸エステル樹脂であることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の透明被膜形成塗料。
n-SiX4-n (3)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、n:1〜3の整数。ただし、式(2)のaが1の場合、nは2〜3となる))
The hydrophobic matrix forming component (B-2) is an organosilicon compound represented by the following formula (3) or a hydrolyzate thereof, a hydrolyzed polycondensate, and / or a vinyl group, a urethane group, an epoxy group, (meth) acryloyl group, a transparent according to claim 1, characterized in that the polyfunctional (meth) acrylic acid ester resin having one or more hydrophobic functional group selected from CF 2 group Film-forming paint.
R n -SiX 4-n (3 )
(In the formula, R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, Halogen, hydrogen, n: an integer of 1 to 3. However, when a in formula (2) is 1, n is 2 to 3))
塗料が、(A-1)金属酸化物微粒子とともに、
(A-2)有機ケイ素化合物で表面処理されてなり、表面処理された粒子の表面電荷量(QA
-2)が5〜80μeq/gの範囲にある金属酸化物微粒子であって、金属酸化物微粒子(A-2)の屈折率(nA-2)が(nA-1)よりも高く、表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)の表面電荷量(QA-2)と(QA-1)との差(QA-1)−(QA-2)が10〜95μeq/gの範囲にあることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の透明被膜形成用塗料。
The paint, together with (A-1) metal oxide fine particles,
(A-2) Surface charge of the surface treated particles (Q A
-2 ) is a metal oxide fine particle in the range of 5 to 80 μeq / g, and the refractive index (n A-2 ) of the metal oxide fine particle (A-2) is higher than (n A-1 ), The difference (Q A-1 ) − (Q A-2 ) between the surface charge amount (Q A-2 ) and (Q A-1 ) of the surface-treated metal oxide fine particles ( A-2 ) is 10 to 95 μeq. The paint for forming a transparent film according to any one of claims 1 to 7, which is in a range of / g.
前記金属酸化物微粒子(A-2)が下記式(4)で表される有機珪素化合物で表面処理されていることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の透明被膜形成用塗料。
n-SiX4-n (4)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、n:1〜3の整数。ただし、式(1)のaが1の場合、nは2〜3となる))
The paint for forming a transparent film according to any one of claims 1 to 8, wherein the metal oxide fine particles (A-2) are surface-treated with an organosilicon compound represented by the following formula (4): .
R n -SiX 4-n (4 )
(In the formula, R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, Halogen, hydrogen, n: an integer of 1 to 3. However, when a in formula (1) is 1, n is 2 to 3))
前記表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)の固形分としての濃度(CPA-2)が0.1
〜20重量%の範囲にあることを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の透明被膜形成用塗料。
The concentration (C PA-2 ) as a solid content of the surface-treated metal oxide fine particles (A -2 ) is 0.1.
The paint for forming a transparent film according to claim 1, wherein the paint is in a range of ˜20 wt%.
前記表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)の平均粒子径が5nm〜5μmの範囲にあ
ることを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の透明被膜形成用塗料。
11. The coating material for forming a transparent film according to claim 1, wherein the surface-treated metal oxide fine particles (A-2) have an average particle diameter in the range of 5 nm to 5 [mu] m.
基材上に透明被膜が形成された透明被膜付基材であって、
透明被膜が
(i)表面電荷量(QA)が20〜100μeq/gの範囲にある有機ケイ素化合物で表面処理された属酸化物微粒子(A-1)と親水性マトリックス成分(B-1)とからなり、
(ii)表面処理された金属酸化物粒子(A-1)が透明被膜の上部に層をなして偏在し、透明被
膜中の表面処理された金属酸化物微粒子(A-1)の含有量(WPA-1)が0.2〜90重量%
の範囲にあり、マトリックス成分の含有量(WM)が10〜99.8重量%の範囲にある
ことを特徴とする透明被膜付基材。
A substrate with a transparent coating in which a transparent coating is formed on the substrate,
Transparent film
(i) consisting of metal oxide fine particles (A-1) surface-treated with an organosilicon compound having a surface charge (Q A ) in the range of 20 to 100 μeq / g and a hydrophilic matrix component (B-1) ,
(ii) The surface-treated metal oxide particles (A-1) are unevenly distributed in the upper part of the transparent coating, and the content of the surface-treated metal oxide fine particles (A-1) in the transparent coating ( W PA-1 ) is 0.2 to 90% by weight
A substrate with a transparent coating, wherein the matrix component content (W M ) is in the range of 10 to 99.8% by weight.
前記マトリックス成分がさらに疎水性マトリックス成分(B-2)を含んでなり、親水性マ
トリックス成分(B-1)の固形分としての含有量(WMB-1)と疎水性マトリックス成分の固
形分としての含有量(WMB-2)との含有量の比(WMB-1)/(WMB-2)が0.005〜1の範囲にあることを特徴とする請求項12に記載の透明被膜付基材。
The matrix component further comprises a hydrophobic matrix component (B-2), and the content (W MB-1 ) of the hydrophilic matrix component (B-1) as a solid content and the solid content of the hydrophobic matrix component the ratio of the content of the content (W MB-2) (W MB-1) / (W MB-2) is transparent according to claim 12, characterized in that in the range of 0.005 Base material with coating.
さらに表面電荷量(QA-2)が5〜80μeq/gの範囲にある表面処理された金属酸
化物微粒子(A-2)を含んでなり、表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)の屈折率(nA-2)
が表面処理された金属酸化物微粒子(A-1)の屈折率(nA-1)よりも高く、表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)が基材表面上に層をなして偏在しているか、前記表面処理された金
属酸化物微粒子(A-1)からなる層と基材表面の間に分散してなることを特徴とする請求項
12または13に記載の透明被膜付基材。
Furthermore, the surface-treated metal oxide fine particles (A-2) comprising surface-treated metal oxide fine particles (A-2) having a surface charge amount (Q A-2 ) in the range of 5 to 80 μeq / g. ) Refractive index (n A-2 )
Is higher than the refractive index (n A-1 ) of the surface-treated metal oxide fine particles (A-1), and the surface-treated metal oxide fine particles (A-2) form a layer on the substrate surface. 14. The transparent film-coated base according to claim 12 or 13, wherein the transparent film-coated base is unevenly distributed or dispersed between the surface-treated metal oxide fine particles (A-1) and the substrate surface. Wood.
前記表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)の含有量が5〜70重量%の範囲にあるこ
とを特徴とする請求項12〜14のいずれかに記載の透明被膜付基材。
15. The substrate with a transparent coating according to claim 12, wherein the content of the surface-treated metal oxide fine particles (A-2) is in the range of 5 to 70% by weight.
前記表面処理された金属酸化物微粒子(A-1)の平均粒子径が5〜500nmの範囲にあ
り、前記表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)の平均粒子径が5nm〜5μmの範囲に
あることを特徴とする請求項12〜15のいずれかに記載の透明被膜付基材。
The average particle diameter of the surface-treated metal oxide fine particles (A-1) is in the range of 5 to 500 nm, and the average particle diameter of the surface-treated metal oxide fine particles (A-2) is 5 nm to 5 μm. It is in a range, The base material with a transparent film in any one of Claims 12-15 characterized by the above-mentioned.
前記表面処理された金属酸化物微粒子(A-1)の屈折率(nA-1)と前記表面処理された金属酸化物微粒子(A-2)の屈折率(nA-2)との屈折率差(nA-2)−(nA-1)が0.20以上であることを特徴とする請求項12〜16のいずれかに記載の透明被膜付基材。 Refraction of the surface-treated metal oxide fine particles refractive index of (A-1) the refractive index of the (n A-1) and the surface-treated metal oxide fine particles (A-2) (n A -2) The base material with a transparent film according to any one of claims 12 to 16, wherein the rate difference (n A-2 )-(n A-1 ) is 0.20 or more. 前記透明被膜の表面が凹凸を有し、透明被膜の平均膜厚が1〜10μmの範囲にあり、透明被膜の凸部の平均高さ(T凸)と凹部の平均高さ(T凹)との差(T凸)−(T凹)が30〜1500nmの範囲にあることを特徴とする請求項14〜17のいずれかに記載の透明被膜付基材。   The surface of the transparent coating has irregularities, the average film thickness of the transparent coating is in the range of 1 to 10 μm, the average height of convex portions (T convex) and the average height of concave portions (T concave) The substrate with a transparent coating according to claim 14, wherein the difference (T convex) − (T concave) is in the range of 30 to 1500 nm.
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