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JP2008281678A - Color filter manufacturing method, color filter, and liquid crystal display device - Google Patents

Color filter manufacturing method, color filter, and liquid crystal display device Download PDF

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JP2008281678A
JP2008281678A JP2007124365A JP2007124365A JP2008281678A JP 2008281678 A JP2008281678 A JP 2008281678A JP 2007124365 A JP2007124365 A JP 2007124365A JP 2007124365 A JP2007124365 A JP 2007124365A JP 2008281678 A JP2008281678 A JP 2008281678A
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Japan
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color filter
black matrix
colored pixels
colored
resin black
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JP2007124365A
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Japanese (ja)
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Toshiji Yasuhara
寿二 安原
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Toppan Inc
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Toppan Printing Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a color filter by which the color filter, where height of a projection is made low, a groove between colored pixels is eliminated and film thickness level difference between the colored pixels is made small, is manufactured at a low cost without providing an overcoat layer and thereby to provide the color filter having no display inferiority or the like due to rotation and inclination or the like of a liquid crystal molecule even when used for a liquid crystal display apparatus. <P>SOLUTION: A resin black matrix 51 is formed on a glass substrate 50, the colored pixels are formed so that peripheral parts of adjoining colored pixels 62 are overlapped on the resin black matrix and height of the projection 63 of the colored pixel is made to be 0.5 μm or less by polishing. Overlapping amount of the peripheral parts W12 is 0 μm or more. The film thickness level difference between colors is 0.2 μm or less. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶表示装置用カラーフィルタに関するものであり、特に、樹脂ブラックマトリックスを用いたカラーフィルタの製造にて、オーバーコート層を設けずに廉価に製造するカラーフィルタの製造方法、及び廉価なカラーフィルタに関する。   The present invention relates to a color filter for a liquid crystal display device, and in particular, a method for manufacturing a color filter that is inexpensively manufactured without providing an overcoat layer in the manufacture of a color filter using a resin black matrix, and an inexpensive It relates to a color filter.

表示装置において、カラー表示、反射率の低減、コントラストの改善、分光特性制御などの目的にカラーフィルタを用いることは、有用な手段となっている。
この表示装置に用いるカラーフィルタは、多くの場合、カラーフィルタは画素として形成されて使用される。この表示装置に用いるカラーフィルタの画素を形成する方法としては、フォトリソグラフィ法が広く用いられている。
In a display device, it is a useful means to use a color filter for purposes such as color display, reflectance reduction, contrast improvement, and spectral characteristic control.
In many cases, the color filter used in the display device is formed as a pixel. A photolithography method is widely used as a method of forming pixels of a color filter used in this display device.

図4は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。また、図5は、図4に示すカラーフィルタのX−X’線における断面図である。
図4、及び図5に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタは、ガラス基板(50)上にブラックマトリックス(51)、着色画素(52)、透明導電膜(54)が順次に形成されたものである。
図4、及び図5はカラーフィルタを模式的に示したもので、着色画素(52)は12個表されているが、実際のカラーフィルタにおいては、例えば、対角17インチの画面に数百μm程度の着色画素が多数個配列されている。
FIG. 4 is a plan view schematically showing an example of a color filter used in the liquid crystal display device. FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line XX ′ of the color filter shown in FIG.
As shown in FIGS. 4 and 5, the color filter used in the liquid crystal display device has a black matrix (51), a colored pixel (52), and a transparent conductive film (54) sequentially formed on a glass substrate (50). It has been done.
4 and 5 schematically show a color filter, and 12 colored pixels (52) are represented. In an actual color filter, for example, several hundreds are displayed on a 17-inch diagonal screen. A large number of colored pixels of about μm are arranged.

ブラックマトリックス(51)は、遮光性を有するマトリックス状のものであり、着色画素(52)は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものである。
ブラックマトリックスは、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。
The black matrix (51) is a matrix having light shielding properties, and the colored pixels (52) have, for example, red, green, and blue filter functions.
The black matrix determines the position of the colored pixels of the color filter, makes the size uniform, and shields unwanted light when used in a display device, making the image of the display device uniform and uniform. In addition, it has a function of making an image with improved contrast.

このブラックマトリックスの形成は、ガラス基板(50)上にブラックマトリックスの材料としてのクロム(Cr)、酸化クロム(CrOX )などの金属、もしくは金属化合物を薄膜状に成膜し、成膜された薄膜上に、例えば、ポジ型のフォトレジストを用いてエッチングレジストパターンを形成し、次に、成膜された金属薄膜の露出部分のエッチング及びエッチングレジストパターンの剥膜を行い、Cr、CrOX などの金属薄膜からなるブラックマトリックス(51)を形成するといった方法がとられている。 The black matrix was formed by forming a metal such as chromium (Cr) or chromium oxide (CrO x ) as a black matrix material or a metal compound in a thin film on a glass substrate (50). An etching resist pattern is formed on the thin film using, for example, a positive type photoresist, and then the exposed portion of the formed metal thin film is etched and the etching resist pattern is stripped, and Cr, CrO x, etc. The method of forming the black matrix (51) which consists of a metal thin film of this is taken.

或いは、ガラス基板(50)上に、ブラックマトリックス形成用の黒色感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によってブラックマトリックス(51)を形成するといった方法がとられている。
この図4、及び図5に示すブラックマトリックス(51)は、ガラス基板(50)上に、ブラックマトリックス形成用の黒色感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によって形成された例であり、樹脂を用いて形成されたブラックマトリックスを樹脂ブラックマトリックス(51)と称している。
Alternatively, a method is used in which a black matrix (51) is formed on a glass substrate (50) by a photolithography method using a black photosensitive resin for forming a black matrix.
The black matrix (51) shown in FIG. 4 and FIG. 5 is an example formed on a glass substrate (50) by a photolithography method using a black photosensitive resin for forming a black matrix. The black matrix thus formed is referred to as a resin black matrix (51).

また、着色画素(52)は、この樹脂ブラックマトリックス(51)が形成されたガラス基板(50)上に、例えば、顔料などの色素を分散させたネガ型の感光性着色樹脂組成物を用いたフォトリソグラフィ法によって、すなわち、感光性着色樹脂組成物の塗布膜へのフォトマスクを介した露光、現像処理によって着色画素として形成されたものである。赤色、緑色、青色の着色画素は順次に形成されている。
着色画素(52)の膜厚は、着色画素の色特性によって異なり、1.0μm〜3.0μm程度のものである。
For the colored pixel (52), a negative photosensitive colored resin composition in which a pigment such as a pigment is dispersed on the glass substrate (50) on which the resin black matrix (51) is formed is used. It is formed as a colored pixel by a photolithography method, that is, by exposure to a coating film of the photosensitive colored resin composition through a photomask and development processing. Red, green, and blue colored pixels are sequentially formed.
The film thickness of the colored pixel (52) varies depending on the color characteristics of the colored pixel, and is about 1.0 μm to 3.0 μm.

また、透明導電膜(54)の形成は、樹脂ブラックマトリックス(51)、着色画素(52)が形成されたガラス基板(50)上に、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。   Further, the transparent conductive film (54) is formed on the glass substrate (50) on which the resin black matrix (51) and the colored pixels (52) are formed by using, for example, ITO (Indium Tin Oxide) and transparent by sputtering. A method of forming a conductive film is used.

樹脂ブラックマトリックス(51)は、例えば、テレビなどのように、高輝度なバックライトを用いた際に、クロムなどの金属薄膜をブラックマトリックスとして用いたときに起こる液晶表示装置での内部反射を抑制するために、金属薄膜よりも低反射性の樹脂ブラックマトリックスが要望される場合、或いは、例えば、IPS(In Plane Switching)方式に用いたときに起こる液晶表示装置での電界の乱れを抑制するために、高絶縁性を有する樹脂ブラックマトリックスが要望される場合などに採用されていた。しかし、ブラックマトリックスは、クロムなどの金属を用いたブラックマトリックスから、次第に樹脂ブラックマトリックスへと移行が進んでいる。   Resin black matrix (51) suppresses internal reflection in a liquid crystal display device that occurs when a thin metal film such as chromium is used as a black matrix when using a high-brightness backlight such as a television. In order to suppress the disturbance of the electric field in the liquid crystal display device that occurs when a resin black matrix having a lower reflectivity than the metal thin film is desired, or when used in, for example, an IPS (In Plane Switching) method, Furthermore, it has been adopted when a resin black matrix having high insulation properties is desired. However, the black matrix is gradually shifting from a black matrix using a metal such as chromium to a resin black matrix.

カラーフィルタを大量に製造する際には、一基の液晶表示装置に対応したカラーフィルタを大サイズのガラス基板に面付けした状態で製造する。例えば、対角17インチのカラーフィルタを650mm×850mm程度の大サイズのガラス基板に4面付けして製造する。
ガラス基板が大サイズ化するに伴い、ブラックマトリックスの材料としてクロムなどの金属を用い真空装置で薄膜を成膜するブラックマトリックスよりも、黒色感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によって形成する樹脂ブラックマトリックスの方が価格的に有利なものとなり、次第に樹脂ブラックマトリックスへと移行が進んでいる。また、環境に配慮してクロムなどの金属を用いることを回避する傾向にある。
When a large number of color filters are manufactured, a color filter corresponding to a single liquid crystal display device is manufactured in a state where it is applied to a large glass substrate. For example, a 17-inch diagonal color filter is manufactured by attaching four faces to a large glass substrate of about 650 mm × 850 mm.
Resin black matrix formed by photolithography using a black photosensitive resin rather than a black matrix that uses a metal such as chromium as a black matrix material to form a thin film with a vacuum device as the glass substrate becomes larger Is becoming more advantageous in terms of price, and is gradually shifting to a resin black matrix. Moreover, it tends to avoid using metals such as chromium in consideration of the environment.

樹脂ブラックマトリックス(51)は、クロムなどの金属薄膜を用いたブラックマトリックスのように、膜厚100nm〜200nm程度の薄膜では遮光のための充分な濃度を得ることはできず、例えば、1.0μm〜1.5μm程度の厚さにして必要な高濃度を得るようにしている。
樹脂ブラックマトリックス(51)は、1.0μm〜1.5μm程度の厚さを有するために、クロムなどの金属薄膜を用いたブラックマトリックスに比較して線幅の微細なブラックマトリックスを形成する際には不利なものとなる。
The resin black matrix (51) cannot obtain a sufficient concentration for shading with a thin film having a film thickness of about 100 nm to 200 nm, such as a black matrix using a metal thin film such as chromium. The required high concentration is obtained by setting the thickness to about 1.5 μm.
The resin black matrix (51) has a thickness of about 1.0 μm to 1.5 μm. Therefore, when forming a black matrix having a finer line width than a black matrix using a metal thin film such as chromium. Is disadvantageous.

また、樹脂ブラックマトリックスの膜厚が、1.0μm〜1.5μm程度と厚くなると、図5に示すように、樹脂ブラックマトリックス(51)上にその周縁部を重ねて形成された着色画素(52)は、その周縁部が樹脂ブラックマトリックス(51)の端部上にて突起(盛り上がり)(53)となる。   Further, when the thickness of the resin black matrix becomes as thick as about 1.0 μm to 1.5 μm, as shown in FIG. 5, the colored pixels (52 formed by overlapping the peripheral portion on the resin black matrix (51). ) Is a projection (swelling) (53) on the edge of the resin black matrix (51).

図6は、図5に示す突起(53)の近傍を拡大した断面図である。図6に示すように、例えば、膜厚(T3)1.3μm程度、幅(W)20μm程度の樹脂ブラックマトリックス(51)が設けられ、着色画素(52R、52G)の膜厚(T1、T2)を1.8μm程度とするカラーフィルタにおいては、突起(盛り上がり)(53)の高さ(H)は、0.5μm以上となることがある。
また、例えば、樹脂ブラックマトリックス(51)の膜厚が1.5μm程度で、着色画素(52)の膜厚が2.0μm程度では、突起(盛り上がり)(53)の高さ(H)は、1.0μm以上となることがある。
FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view of the vicinity of the protrusion (53) shown in FIG. As shown in FIG. 6, for example, a resin black matrix (51) having a film thickness (T3) of about 1.3 μm and a width (W) of about 20 μm is provided, and the film thickness (T1, T2) of the colored pixels (52R, 52G). In a color filter having a thickness of about 1.8 μm, the height (H) of the protrusion (swell) (53) may be 0.5 μm or more.
Further, for example, when the thickness of the resin black matrix (51) is about 1.5 μm and the thickness of the colored pixel (52) is about 2.0 μm, the height (H) of the protrusion (swell) (53) is It may be 1.0 μm or more.

樹脂ブラックマトリックス(51)の端部上での、このような突起(盛り上がり)(5
3)や、樹脂ブラックマトリックス(51)上における赤色着色画素(52R)と緑色着色画素(52G)間に生じた溝(M)や、赤色着色画素(52R)の膜厚(T1)と緑色着色画素(52R)の膜厚(T2)間の膜厚段差(膜厚差)(ΔT、ΔT=T1〜T2)などが形成されたカラーフィルタを液晶表示装置に用いると、液晶分子の転傾などにより表示不良或いは画素周辺部の光漏れなど表示品質に悪影響を及ぼすことになる。
例えば、突起(盛り上がり)(53)の高さ(H)では、概ね0.5μm以上の場合に表示品質に支障をきたす。
Such protrusions (swells) on the edge of the resin black matrix (51) (5
3), the groove (M) formed between the red colored pixel (52R) and the green colored pixel (52G) on the resin black matrix (51), and the film thickness (T1) of the red colored pixel (52R) and the green color. When a color filter in which a film thickness step (film thickness difference) (ΔT, ΔT = T1 to T2) between the film thicknesses (T2) of the pixels (52R) is formed in the liquid crystal display device, the liquid crystal molecules are tilted. As a result, display quality such as display failure or light leakage around the pixel is adversely affected.
For example, when the height (H) of the protrusion (swell) (53) is approximately 0.5 μm or more, the display quality is hindered.

特に、横電界方式(IPS方式)の液晶表示装置は、主として複屈折効果により表示を行うモードであるため、基板間のギャップが変化した場合、複屈折が最適値からズレるため着色が発生し表示品質を低下させる。つまり、基板間のギャップの面内バラツキが表示特性の面内ムラとして視認される。
従って、上記樹脂ブラックマトリックス(51)の端部上の突起(53)、或いは着色画素(52)上の異物などの影響を避けて、面内ムラのない表示を得るために、IPS方式の液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの場合には平坦化処理として、オーバーコート層の形成が行われる。
In particular, the horizontal electric field type (IPS mode) liquid crystal display device is a mode in which display is mainly performed by the birefringence effect. Therefore, when the gap between the substrates changes, the birefringence deviates from the optimum value, so that coloring occurs. Reduce quality. That is, the in-plane variation of the gap between the substrates is visually recognized as in-plane unevenness of display characteristics.
Therefore, in order to avoid the influence of the protrusions (53) on the end of the resin black matrix (51) or the foreign matter on the colored pixels (52) and obtain a display without in-plane unevenness, an IPS liquid crystal is used. In the case of a color filter used in a display device, an overcoat layer is formed as a planarization process.

しかし、実際の作業では透明樹脂によるオーバーコート層は、塗布ムラや異物の発生などで収率に支障をきたしている。また、昨今、液晶表示装置の低価格化が著しく、その部材であるカラーフィルタに対しても低価格化の要望は強い。オーバーコート層に関しては、オーバーコート層の収率向上、オーバーコート層の工程簡略、オーバーコート層の削除などの課題が挙げられる。
尚、図3は、ブラックマトリックスの材料としてクロムなどの金属薄膜が用いられたブラックマトリックスの一例を示す断面図である。図3に示すように、このブラックマトリックスの膜厚は100nm〜200nm程度であるので、ブラックマトリックス(51)の端部上にて突起(盛り上がり)の影響は殆どない。
特開2006−227295号公報 特開2006−227296号公報 特開平9−189899号公報 特開2005−357828号公報
However, in actual work, the overcoat layer made of a transparent resin has hindered the yield due to uneven coating and generation of foreign matter. In recent years, the cost of liquid crystal display devices has been remarkably reduced, and there is a strong demand for cost reduction of the color filter that is a member thereof. With regard to the overcoat layer, there are problems such as improvement in yield of the overcoat layer, simplification of the process of the overcoat layer, and deletion of the overcoat layer.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of a black matrix in which a metal thin film such as chromium is used as the black matrix material. As shown in FIG. 3, since the film thickness of this black matrix is about 100 nm to 200 nm, there is almost no influence of protrusions (swells) on the end of the black matrix (51).
JP 2006-227295 A JP 2006-227296 A Japanese Patent Laid-Open No. 9-189899 JP 2005-357828 A

本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、ガラス基板上に樹脂ブラックマトリックス、着色画素を順次に形成するカラーフィルタの製造方法において、突起(盛り上がり)の高さを低いものとし、着色画素間の溝をなくし、また着色画素間の膜厚段差を小さなものとし、オーバーコート層を設けずに液晶表示装置に用いても、液晶分子の転傾などにより表示不良或いは画素周辺部の光漏れなど表示品質に支障をきたさない廉価なカラーフィルタを製造することのできるカラーフィルタの製造方法を提供することを課題とするものである。
また、上記カラーフィルタの製造方法を用いて製造した廉価なカラーフィルタ、及び該カラーフィルタを用いて製造した液晶表示装置を提供することを課題とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and in a method for manufacturing a color filter in which a resin black matrix and colored pixels are sequentially formed on a glass substrate, the height of protrusions (swells) is low. Even if it is used in a liquid crystal display device without a groove between the colored pixels and with a small film thickness difference between the colored pixels and used in a liquid crystal display device without providing an overcoat layer, a display defect or a peripheral portion of the pixel It is an object of the present invention to provide a color filter manufacturing method capable of manufacturing an inexpensive color filter that does not hinder display quality such as light leakage.
It is another object of the present invention to provide an inexpensive color filter manufactured using the above-described color filter manufacturing method and a liquid crystal display device manufactured using the color filter.

これにより、表示品質に支障をきたす突起(盛り上がり)、溝、膜厚段差のないカラーフィルタの製造が可能となる。従って、従来、表示品質に支障をきたす突起(盛り上がり)などが形成された際に行われてきたオーバーコート層の形成などカラーフィルタの平坦化処理は不要なものとなる。   Accordingly, it is possible to manufacture a color filter having no protrusions (swells), grooves, or film thickness steps that hinder display quality. Therefore, the color filter flattening process such as the formation of an overcoat layer, which has been conventionally performed when a projection (swell) or the like that hinders display quality, is unnecessary.

本発明は、ガラス基板上に少なくとも、樹脂ブラックマトリックス、着色画素を順次に形成するカラーフィルタの製造方法において、
1)前記ガラス基板上に樹脂ブラックマトリックスを形成し、
2)該樹脂ブラックマトリックス上で隣接する着色画素の周縁部が重なるように着色画素を形成し、
3)研磨処理によって、上記重なりにより生じた着色画素の突起(盛り上がり)の高さを0.5μm以下とすることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
The present invention relates to a method for producing a color filter in which at least a resin black matrix and colored pixels are sequentially formed on a glass substrate.
1) forming a resin black matrix on the glass substrate;
2) forming colored pixels so that peripheral edges of adjacent colored pixels overlap on the resin black matrix;
3) A method for producing a color filter, wherein the height of protrusions (swells) of colored pixels caused by the overlap is 0.5 μm or less by polishing treatment.

また、本発明は、上記発明によるカラーフィルタの製造方法において、前記着色画素の周縁部の重なり量が0μm以上であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。   The present invention is also the color filter manufacturing method according to the invention described above, wherein the overlapping amount of the peripheral portion of the colored pixel is 0 μm or more.

また、本発明は、上記発明によるカラーフィルタの製造方法において、前記着色画素の色間の膜厚段差が0.2μm以下であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。   The present invention is also the color filter manufacturing method according to the above invention, wherein a film thickness difference between colors of the colored pixels is 0.2 μm or less.

また、本発明は、請求項1〜3のいずれか1項に記載のカラーフィルタの製造方法を用いて製造したことを特徴とする横電界方式(IPS方式)のカラーフィルタである。   Moreover, this invention is a color filter of the horizontal electric field system (IPS system) manufactured using the manufacturing method of the color filter of any one of Claims 1-3.

また、本発明は、請求項4記載のカラーフィルタを用いて製造したことを特徴とする液晶表示装置である。   The present invention also provides a liquid crystal display device manufactured using the color filter according to claim 4.

本発明は、ガラス基板上に樹脂ブラックマトリックスを形成し、樹脂ブラックマトリックス上で隣接する着色画素の周縁部が重なるように着色画素を形成し、研磨処理によって、上記重なりにより生じた着色画素の突起(盛り上がり)の高さを0.5μm以下とする、或いは更に、着色画素の周縁部の重なり量が0μm以上であり、着色画素の周縁部の重なり量が0μm以上であるので、突起(盛り上がり)の高さは低いものとなり、着色画素間の溝はなくなり、また着色画素間の膜厚段差は小さなものとなる。従って、オーバーコート層を設けずに液晶表示装置に用いても、液晶分子の転傾などにより表示不良或いは画素周辺部の光漏れなど表示品質に支障をきたさない廉価なカラーフィルタを製造することのできるカラーフィルタの製造方法となる。   In the present invention, a resin black matrix is formed on a glass substrate, colored pixels are formed so that peripheral edges of adjacent colored pixels overlap on the resin black matrix, and the protrusions of the colored pixels generated by the above overlap by a polishing process. Since the height of (swell) is 0.5 μm or less, or the overlapping amount of the peripheral portion of the colored pixel is 0 μm or more and the overlapping amount of the peripheral portion of the colored pixel is 0 μm or more, the protrusion (swell) The height is low, the groove between the colored pixels is eliminated, and the film thickness difference between the colored pixels is small. Therefore, it is possible to manufacture an inexpensive color filter that does not hinder display quality such as display failure or light leakage at the periphery of a pixel due to tilting of liquid crystal molecules even when used in a liquid crystal display device without providing an overcoat layer. It becomes the manufacturing method of the color filter which can be performed.

また、本発明は、上記カラーフィルタの製造方法を用いて製造したカラーフィルタであるので、表示品質に支障をきたす突起(盛り上がり)、溝、膜厚段差のない廉価なカラーフィルタとなる。   In addition, since the present invention is a color filter manufactured using the above-described method for manufacturing a color filter, it is an inexpensive color filter free from protrusions (swells), grooves, and film thickness steps that hinder display quality.

以下に本発明のカラーフィルタの製造方法及びカラーフィルタの実施の形態について詳細に説明する。
図1(a)〜(b)は、本発明によるカラーフィルタの製造方法の実施例を説明する断面図である。図1(a)は、ガラス基板(50)上に樹脂ブラックマトリックス(51)、着色画素が順次に形成された段階を示す断面図である。
着色画素は、赤色着色画素(62R)、緑色着色画素(62G)、青色着色画素(62B)の順に形成されたものである。
Hereinafter, a color filter manufacturing method and a color filter embodiment according to the present invention will be described in detail.
FIGS. 1A to 1B are cross-sectional views illustrating an embodiment of a method for manufacturing a color filter according to the present invention. FIG. 1A is a cross-sectional view showing a stage in which a resin black matrix (51) and colored pixels are sequentially formed on a glass substrate (50).
The colored pixels are formed in the order of a red colored pixel (62R), a green colored pixel (62G), and a blue colored pixel (62B).

図1(a)に示すように、第1色目の赤色着色画素(62R)は、赤色着色画素(62
R)と隣接する緑色着色画素(62G)との間の樹脂ブラックマトリックス(51)上に、その周縁部を重ねて形成されており、この樹脂ブラックマトリックス(51)上に形成された赤色着色画素(62R)の周縁部上に、第2色目の緑色着色画素(62G)の周縁部が重なるように形成されている。
この赤色着色画素(62R)の周縁部上に、緑色着色画素(62G)の周縁部が重なった部分には突起(盛り上がり)(63)が生じている。
As shown in FIG. 1A, the first color red colored pixel (62R) is a red colored pixel (62R).
R) is formed on the resin black matrix (51) between the adjacent green colored pixel (62G) with its peripheral edge overlapped, and the red colored pixel formed on the resin black matrix (51). The peripheral edge of the second color green colored pixel (62G) is formed to overlap the peripheral edge of (62R).
On the periphery of the red colored pixel (62R), a protrusion (swell) (63) is generated at the portion where the peripheral edge of the green colored pixel (62G) overlaps.

また、緑色着色画素(62G)の青色着色画素(62B)側の周縁部は、緑色着色画素(62G)と隣接する青色着色画素(62B)との間の樹脂ブラックマトリックス(51)上に、その周縁部を重ねて形成されており、この樹脂ブラックマトリックス(51)上に形成された緑色着色画素(62G)の周縁部上に、第3色目の青色着色画素(62B)の周縁部が重なるように形成されている。
この重なった部分には突起(盛り上がり)(63)が生じている。
Further, the peripheral edge of the green colored pixel (62G) on the blue colored pixel (62B) side is on the resin black matrix (51) between the green colored pixel (62G) and the adjacent blue colored pixel (62B). The peripheral edge portion is formed so as to overlap, and the peripheral edge portion of the third color blue colored pixel (62B) overlaps the peripheral edge portion of the green colored pixel (62G) formed on the resin black matrix (51). Is formed.
A protrusion (swell) (63) is generated in the overlapped portion.

また、青色着色画素(62B)の赤色着色画素(62R)側の周縁部は、青色着色画素(62B)と隣接する赤色着色画素(62R)との間の樹脂ブラックマトリックス(51)上に形成された赤色着色画素(62R)の周縁部上に、第3色目の青色着色画素(62B)の周縁部が重なるように形成され、この重なった部分には突起(盛り上がり)(63)が生じている。
図1(b)は、続いて、研磨処理が施された段階を示す断面図である。図1(b)に示すように、研磨処理によって、研磨後の突起(盛り上がり)(63’)の高さ(H12)は、研磨前の突起(盛り上がり)(63)の高さ(H11)より低いものとなっている(H12<H11)。
The peripheral edge of the blue colored pixel (62B) on the red colored pixel (62R) side is formed on the resin black matrix (51) between the blue colored pixel (62B) and the adjacent red colored pixel (62R). The peripheral edge of the third color blue colored pixel (62B) is formed so as to overlap the peripheral edge of the red colored pixel (62R), and a protrusion (swell) (63) is generated in the overlapped portion. .
FIG. 1B is a cross-sectional view showing a stage where a polishing process is subsequently performed. As shown in FIG. 1B, the height (H12) of the protrusion (swell) (63 ′) after polishing is higher than the height (H11) of the protrusion (swell) (63) before polishing. It is low (H12 <H11).

以下に実施例により本発明を具体的に説明する。
<実施例1>
ガラス基板(50)上に、膜厚1.5μmの樹脂ブラックマトリックス(51)を形成した。次に、図1(a)に示すように、膜厚(T11)2.0μmの着色画素を赤色着色画素(62R)、緑色着色画素(62G)、青色着色画素(62B)の順に形成した。樹脂ブラックマトリックス(51)上での着色画素の周縁部の重なり量(W11)は2.0μmとした。この際、突起(盛り上がり)(63)の高さ(H11)は1.48μmであった。
The present invention will be specifically described below with reference to examples.
<Example 1>
On the glass substrate (50), a resin black matrix (51) having a thickness of 1.5 μm was formed. Next, as shown in FIG. 1A, colored pixels having a film thickness (T11) of 2.0 μm were formed in the order of red colored pixels (62R), green colored pixels (62G), and blue colored pixels (62B). The overlapping amount (W11) of the peripheral edge of the colored pixel on the resin black matrix (51) was 2.0 μm. At this time, the height (H11) of the protrusion (swell) (63) was 1.48 μm.

次に、研磨処理を施し、研磨後の突起(盛り上がり)(63’)の高さ(H12)を0.2μmとした。この際、着色画素の周縁部の重なり量(W12)は、2.0μmであり、着色画素(62R、62G、62B)の色間の膜厚段差(ΔT12)は0.1μmであった。   Next, a polishing process was performed, and the height (H12) of the protrusion (swell) (63 ') after polishing was set to 0.2 μm. At this time, the overlapping amount (W12) of the peripheral portion of the colored pixel was 2.0 μm, and the film thickness difference (ΔT12) between the colors of the colored pixels (62R, 62G, 62B) was 0.1 μm.

上記により得られたカラーフィルタを用いて作製した液晶表示装置の表示品質は、液晶分子の転傾などによる表示不良、及び画素周辺部の光漏れはなく良好なものであった。実施例1における突起(盛り上がり)の高さは0.2μmといった小さな値であり、また、前記図6に示すような着色画素間の溝(M)はなく、また、着色画素間の膜厚段差(ΔT12)は0.1μmといった小さな値である。すなわち、従来行われてきたオーバーコート層の形成は不要なものとなる。   The display quality of the liquid crystal display device manufactured using the color filter obtained as described above was good without display defects due to tilting of liquid crystal molecules and light leakage at the periphery of the pixels. The height of the protrusion (swell) in Example 1 is a small value such as 0.2 μm, and there is no groove (M) between the colored pixels as shown in FIG. (ΔT12) is a small value such as 0.1 μm. That is, the conventional overcoat layer formation is unnecessary.

<実施例2>
ガラス基板(50)上に、膜厚1.5μmの樹脂ブラックマトリックス(51)を形成した。次に、図1(a)に示すように、膜厚(T11)2.0μmの着色画素を赤色着色画素(62R)、緑色着色画素(62G)、青色着色画素(62B)の順に形成した。樹脂
ブラックマトリックス(51)上での着色画素の周縁部の重なり量(W11)は6.0μmとした。この際、突起(盛り上がり)(63)の高さ(H11)は1.60μmであった。
<Example 2>
On the glass substrate (50), a resin black matrix (51) having a thickness of 1.5 μm was formed. Next, as shown in FIG. 1A, colored pixels having a film thickness (T11) of 2.0 μm were formed in the order of red colored pixels (62R), green colored pixels (62G), and blue colored pixels (62B). The overlapping amount (W11) of the peripheral portion of the colored pixel on the resin black matrix (51) was 6.0 μm. At this time, the height (H11) of the protrusion (swell) (63) was 1.60 μm.

次に、研磨処理を施し、研磨後の突起(盛り上がり)(63’)の高さ(H12)を0.5μmとした。この際、着色画素の周縁部の重なり量(W12)は、6.0μmであり、着色画素(62R、62G、62B)の色間の膜厚段差(ΔT12)は0.1μmであった。
上記により得られたカラーフィルタを用いて作製した液晶表示装置の表示品質は、液晶分子の転傾などによる表示不良、及び画素周辺部の光漏れはなく良好なものであった。
Next, a polishing process was performed, and the height (H12) of the protrusion (swell) (63 ′) after polishing was set to 0.5 μm. At this time, the overlapping amount (W12) of the peripheral portion of the colored pixel was 6.0 μm, and the film thickness step (ΔT12) between the colors of the colored pixels (62R, 62G, 62B) was 0.1 μm.
The display quality of the liquid crystal display device manufactured using the color filter obtained as described above was good without display defects due to tilting of liquid crystal molecules and light leakage at the periphery of the pixels.

<比較例1>
図2(a)〜(b)は、比較例1を説明する断面図である。図2(a)は、ガラス基板(50)上に樹脂ブラックマトリックス(51)、着色画素が順次に形成された段階を示す断面図である。
着色画素は、赤色着色画素(62R)、緑色着色画素(62G)、青色着色画素(62B)の順に形成されたものである。
<Comparative Example 1>
2A and 2B are cross-sectional views illustrating Comparative Example 1. FIG. FIG. 2A is a cross-sectional view showing a stage in which a resin black matrix (51) and colored pixels are sequentially formed on a glass substrate (50).
The colored pixels are formed in the order of a red colored pixel (62R), a green colored pixel (62G), and a blue colored pixel (62B).

図2(a)に示すように、第1色目の赤色着色画素(62R)は、赤色着色画素(62R)と隣接する緑色着色画素(62G)との間の樹脂ブラックマトリックス(51)上に、その周縁部を重ねて形成されており、この樹脂ブラックマトリックス(51)上に形成された赤色着色画素(62R)の周縁部側面上に、第2色目の緑色着色画素(62G)の周縁部が重なるように形成されている。
この赤色着色画素(62R)の周縁部上に、緑色着色画素(62G)の周縁部が重なった部分は突起(盛り上がり)ではなく、凹状(65)となっている。
As shown in FIG. 2A, the first color red colored pixel (62R) is placed on the resin black matrix (51) between the red colored pixel (62R) and the adjacent green colored pixel (62G). The peripheral edge of the green colored pixel (62G) of the second color is formed on the side of the peripheral edge of the red colored pixel (62R) formed on the resin black matrix (51). It is formed to overlap.
The portion where the peripheral edge of the green colored pixel (62G) overlaps the peripheral edge of the red colored pixel (62R) is not a protrusion (swell) but a concave shape (65).

また、緑色着色画素(62G)の青色着色画素(62B)側の周縁部は、緑色着色画素(62G)と隣接する青色着色画素(62B)との間の樹脂ブラックマトリックス(51)上に、その周縁部を重ねて形成されており、この樹脂ブラックマトリックス(51)上に形成された緑色着色画素(62G)の周縁部側面上に、第3色目の青色着色画素(62B)の周縁部が重なるように形成されている。
この重なった部分は凹状(65)となっている。
Further, the peripheral edge of the green colored pixel (62G) on the blue colored pixel (62B) side is on the resin black matrix (51) between the green colored pixel (62G) and the adjacent blue colored pixel (62B). The peripheral edge portion is overlapped, and the peripheral edge portion of the third color blue colored pixel (62B) overlaps the peripheral edge side surface of the green colored pixel (62G) formed on the resin black matrix (51). It is formed as follows.
This overlapped portion is concave (65).

また、青色着色画素(62B)の赤色着色画素(62R)側の周縁部は、青色着色画素(62B)と隣接する赤色着色画素(62R)との間の樹脂ブラックマトリックス(51)上に形成された赤色着色画素(62R)の周縁部側面上に、第3色目の青色着色画素(62B)の周縁部が重なるように形成され、この重なった部分は凹状(65)となっている。   The peripheral edge of the blue colored pixel (62B) on the red colored pixel (62R) side is formed on the resin black matrix (51) between the blue colored pixel (62B) and the adjacent red colored pixel (62R). On the side surface of the peripheral edge of the red colored pixel (62R), the peripheral edge of the third color blue colored pixel (62B) is formed so as to overlap, and the overlapped portion has a concave shape (65).

図2(b)は、続いて、研磨処理が施された段階を示す断面図である。図2(b)に示すように、研磨処理によって、研磨後の突起(盛り上がり)(63’)の高さ(H22)は、研磨前の突起(盛り上がり)(63)の高さ(H21)より低いものとなっている(H22<H21)。
しかし、前記凹状(65)の部分は、着色画素間の溝(M)となり、樹脂ブラックマトリックス(51)の表面が露出した状態になっている。
FIG. 2B is a cross-sectional view showing a stage where the polishing process is subsequently performed. As shown in FIG. 2B, the height (H22) of the protrusion (swell) (63 ′) after polishing is higher than the height (H21) of the protrusion (swell) (63) before polishing. It is low (H22 <H21).
However, the concave portion (65) becomes a groove (M) between the colored pixels, and the surface of the resin black matrix (51) is exposed.

比較例1では、ガラス基板(50)上に、膜厚1.5μmの樹脂ブラックマトリックス(51)を形成した。次に、図2(a)に示すように、膜厚(T21)2.0μmの着色画素を赤色着色画素(62R)、緑色着色画素(62G)、青色着色画素(62B)の順に形成した。樹脂ブラックマトリックス(51)上での着色画素の周縁部の重なり量(W
21)は、1.0μmとした。この際、樹脂ブラックマトリックス(51)上での突起(盛り上がり)(63)の高さ(H21)は0.5μmであった。
In Comparative Example 1, a resin black matrix (51) having a film thickness of 1.5 μm was formed on a glass substrate (50). Next, as shown in FIG. 2A, colored pixels having a film thickness (T21) of 2.0 μm were formed in the order of red colored pixels (62R), green colored pixels (62G), and blue colored pixels (62B). Overlap amount (W of the peripheral edge of the colored pixel on the resin black matrix (51)
21) was 1.0 μm. At this time, the height (H21) of the protrusion (swell) (63) on the resin black matrix (51) was 0.5 μm.

次に、研磨処理を施し、研磨後の突起(盛り上がり)(63’)の高さ(H22)を0.2μmとした。この際、着色画素(62R、62G、62B)の色間の膜厚段差(ΔT22)は0.2μmであった。
上記により得られたカラーフィルタを用いて作製した液晶表示装置の表示品質は、液晶分子の転傾などによる表示不良、及び画素周辺部の光漏れが発生し良好なものではなかった。
Next, a polishing process was performed, and the height (H22) of the protrusion (swell) (63 ′) after polishing was set to 0.2 μm. At this time, the film thickness difference (ΔT22) between the colors of the colored pixels (62R, 62G, 62B) was 0.2 μm.
The display quality of the liquid crystal display device manufactured using the color filter obtained as described above was not good due to display defects due to tilting of liquid crystal molecules and light leakage at the pixel periphery.

<比較例2>
比較例2は、実施例1と同様に図1に示す構造のカラーフィルタを作製した。実施例1との相違点は、着色画素の周縁部の重なり量(W11)は3.0μm、及び研磨後の突起(盛り上がり)(63’)の高さ(H12)を0.6μmとした点である。この際、着色画素の色間の膜厚段差(ΔT12)は0.2μmであった。
得られたカラーフィルタを用いて作製した液晶表示装置の表示品質は、液晶分子の転傾などによる表示不良、及び画素周辺部の光漏れが発生し良好なものではなかった。
<Comparative example 2>
In Comparative Example 2, a color filter having the structure shown in FIG. The difference from Example 1 is that the overlapping amount (W11) of the peripheral portion of the colored pixel is 3.0 μm, and the height (H12) of the projection (swell) (63 ′) after polishing is 0.6 μm. It is. At this time, the film thickness difference (ΔT12) between colors of the colored pixels was 0.2 μm.
The display quality of the liquid crystal display device manufactured using the obtained color filter was not good due to display defects due to tilting of liquid crystal molecules and light leakage at the periphery of the pixel.

<比較例3>
比較例3は、実施例1と同様に図1に示す構造のカラーフィルタを形成した。実施例1との相違点は、着色画素の周縁部の重なり量(W11)は3.0μm、及び研磨後の突起(盛り上がり)(63’)の高さ(H12)を0.1μmとした点である。この際、着色画素の色間の膜厚段差(ΔT12)は0.3μmであった。
得られたカラーフィルタを用いて作製した液晶表示装置の表示品質は、液晶分子の転傾などによる表示不良、及び画素周辺部の光漏れが発生し良好なものではなかった。
<Comparative Example 3>
In Comparative Example 3, the color filter having the structure shown in FIG. The difference from Example 1 is that the overlapping amount (W11) of the peripheral portion of the colored pixel is 3.0 μm, and the height (H12) of the projection (swell) (63 ′) after polishing is 0.1 μm. It is. At this time, the film thickness difference (ΔT12) between colors of the colored pixels was 0.3 μm.
The display quality of the liquid crystal display device manufactured using the obtained color filter was not good due to display defects due to tilting of liquid crystal molecules and light leakage at the periphery of the pixel.

上記実施例の評価結果を表1に示す。表1中、符号○は表示品質が良好であること、符号×は表示品質が不良であることを表している。   The evaluation results of the above examples are shown in Table 1. In Table 1, symbol “◯” indicates that the display quality is good, and symbol “x” indicates that the display quality is poor.

Figure 2008281678
Figure 2008281678


(a)は、ガラス基板上に樹脂ブラックマトリックス、着色画素が順次に形成された段階を示す断面図である。(b)は、続いて、研磨処理が施された段階を示す断面図である。(A) is sectional drawing which shows the step in which the resin black matrix and the colored pixel were sequentially formed on the glass substrate. (B) is sectional drawing which shows the step to which the grinding | polishing process was performed subsequently. (a)は、比較例1を説明する断面図であり、ガラス基板上に樹脂ブラックマトリックス、着色画素が順次に形成された段階を示す断面図である。(b)は、続いて、研磨処理が施された段階を示す断面図である。(A) is sectional drawing explaining the comparative example 1, and is sectional drawing which shows the step in which the resin black matrix and the colored pixel were formed in order on the glass substrate. (B) is sectional drawing which shows the step to which the grinding | polishing process was performed subsequently. クロムなどの金属薄膜が用いられたブラックマトリックスの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the black matrix using metal thin films, such as chromium. 液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。It is the top view which showed typically an example of the color filter used for a liquid crystal display device. 図4に示すカラーフィルタのX−X’線における断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line X-X ′ of the color filter illustrated in FIG. 4. 図5に示す突起の近傍を拡大した断面図である。It is sectional drawing to which the vicinity of the protrusion shown in FIG. 5 was expanded.

符号の説明Explanation of symbols

50・・・ガラス基板
51・・・樹脂ブラックマトリックス
52・・・着色画素
52R・・・赤色着色画素
52G・・・緑色着色画素
53・・・突起(盛り上がり)
54・・・透明導電膜
62・・・本発明における着色画素
62R・・・本発明における赤色着色画素
62G・・・本発明における緑色着色画素
62B・・・本発明における青色着色画素
63・・・本発明における突起(盛り上がり)
63’・・・本発明における研磨後の突起
65・・・比較例1における着色画素の周縁部が重なった部分の凹状
H・・・突起(盛り上がり)の高さ
H11・・・本発明における突起(盛り上がり)の高さ
H12・・・研磨後の突起(盛り上がり)の高さ
H21・・・比較例1における突起(盛り上がり)の高さ
H22・・・比較例1における研磨後の突起(盛り上がり)の高さ
M・・・着色画素間に生じた溝
T1、T2、T11、T21・・・着色画素の膜厚
T3・・・樹脂ブラックマトリックスの膜厚
T12、T22・・・研磨後の着色画素の膜厚
ΔT・・・着色画素間の膜厚段差(膜厚差)
W・・・樹脂ブラックマトリックスの幅
W11、W21・・・着色画素の周縁部の重なり量
W12、W22・・・研磨後の着色画素の周縁部の重なり量
50 ... Glass substrate 51 ... Resin black matrix 52 ... Colored pixel 52R ... Red colored pixel 52G ... Green colored pixel 53 ... Projection (swell)
54 ... Transparent conductive film 62 ... Colored pixel 62R in the present invention ... Red colored pixel 62G in the present invention ... Green colored pixel 62B in the present invention ... Blue colored pixel 63 in the present invention ... Protrusion (swell) in the present invention
63 '... projection 65 after polishing in the present invention ... concave portion H where the peripheral edge of the colored pixel in Comparative Example 1 overlaps ... height H11 of the projection (swell) ... projection in the present invention (Swelling) height H12 ... Polishing protrusion (swelling) height H21 ... Comparative example 1 protrusion (swelling) height H22 ... Comparative example 1 polishing (swelling) Height M... Grooves T1, T2, T11, T21 formed between the colored pixels. Colored pixel film thickness T3... Resin black matrix film thickness T12, T22. Film thickness ΔT: film thickness difference between colored pixels (film thickness difference)
W: Resin black matrix width W11, W21: Colored pixel peripheral edge overlapping amount W12, W22: Polished colored pixel peripheral edge overlapping amount

Claims (5)

ガラス基板上に少なくとも、樹脂ブラックマトリックス、着色画素を順次に形成するカラーフィルタの製造方法において、
1)前記ガラス基板上に樹脂ブラックマトリックスを形成し、
2)該樹脂ブラックマトリックス上で隣接する着色画素の周縁部が重なるように着色画素を形成し、
3)研磨処理によって、上記重なりにより生じた着色画素の突起(盛り上がり)の高さを0.5μm以下とすることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
In a method for producing a color filter that sequentially forms at least a resin black matrix and colored pixels on a glass substrate,
1) forming a resin black matrix on the glass substrate;
2) forming colored pixels so that peripheral edges of adjacent colored pixels overlap on the resin black matrix;
3) A method for producing a color filter, wherein the height of protrusions (swells) of the colored pixels caused by the overlap is 0.5 μm or less by polishing.
前記着色画素の周縁部の重なり量が0μm以上であることを特徴とする請求項1記載のカラーフィルタの製造方法。   The method for manufacturing a color filter according to claim 1, wherein an overlapping amount of a peripheral portion of the colored pixel is 0 μm or more. 前記着色画素の色間の膜厚段差が0.2μm以下であることを特徴とする請求項1又は請求項2記載のカラーフィルタの製造方法。   The method for manufacturing a color filter according to claim 1, wherein a film thickness difference between colors of the colored pixels is 0.2 μm or less. 請求項1〜3のいずれか1項に記載のカラーフィルタの製造方法を用いて製造したことを特徴とする横電界方式(IPS方式)のカラーフィルタ。   A horizontal electric field type (IPS type) color filter manufactured using the method for manufacturing a color filter according to claim 1. 請求項4記載のカラーフィルタを用いて製造したことを特徴とする液晶表示装置。   A liquid crystal display device manufactured using the color filter according to claim 4.
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