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JP2008272601A - Method of manufacturing flexible substrate material with metal foil, flexible substrate material with metal foil and flexible laminated board - Google Patents

Method of manufacturing flexible substrate material with metal foil, flexible substrate material with metal foil and flexible laminated board Download PDF

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JP2008272601A
JP2008272601A JP2007115469A JP2007115469A JP2008272601A JP 2008272601 A JP2008272601 A JP 2008272601A JP 2007115469 A JP2007115469 A JP 2007115469A JP 2007115469 A JP2007115469 A JP 2007115469A JP 2008272601 A JP2008272601 A JP 2008272601A
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JP
Japan
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metal foil
substrate material
flexible substrate
resin
flexible
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Pending
Application number
JP2007115469A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshiyuki Osaki
良行 大崎
Fumitaka Ueno
史貴 上野
Takao Yamada
隆男 山田
Kazuhito Obata
和仁 小畑
Muraki Takayama
群基 高山
Masaki Takeuchi
雅記 竹内
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Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a flexible substrate with a metal foil which is low in the rate of dimensional change after heat treatment in a manufacturing step and excellent in the appearance of a base material. <P>SOLUTION: The method of manufacturing the flexible substrate material with the metal foil has the steps of: applying a resin solution onto the metal foil and drying; removing a solvent contained in the resin solution and supplying the resultant base material (the flexible substrate material with the metal foil) to a transportation apparatus; and carrying out a high temperature treatment in the transportation apparatus, wherein the concentration (Vc) of residual solvent in the resin on the base material is 25 wt.% to 35 wt.%. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、金属箔付きフレキシブル基板材料の製造方法、金属箔付きフレキシブル基板材料及びフレキシブル積層板に関する。   The present invention relates to a method for producing a flexible substrate material with a metal foil, a flexible substrate material with a metal foil, and a flexible laminate.

フレキシブルプリント基板は高分子絶縁フィルムの表面に導体回路を形成した可撓性のある配線板であって、近年電子機器の小型化、高密度を達成する手段として多用されている。なかでも絶縁フィルムとして芳香族ポリイミドを用いたものが主流を占めている。   A flexible printed circuit board is a flexible wiring board in which a conductor circuit is formed on the surface of a polymer insulating film, and has been frequently used as a means for achieving miniaturization and high density of electronic devices in recent years. Among them, those using aromatic polyimide as the insulating film dominate.

従来の芳香族ポリイミドを用いた片面板フレキシブルプリント基板はポリイミドフィルムと銅箔をエポキシ樹脂やアクリル樹脂等の接着剤により製造されていた為に、この耐熱性、対薬品性、難燃性、電気特性、あるいは密着性といった特性は使用する接着剤に支配されてしまいポリイミドのすぐれた諸特性を充分にいかすことが出来ないものであった。   Conventional single-sided flexible printed circuit boards using aromatic polyimide have been manufactured using polyimide film and copper foil with adhesives such as epoxy resin and acrylic resin, so this heat resistance, chemical resistance, flame resistance, electrical The properties such as properties and adhesion are governed by the adhesive used, and the various properties of polyimide cannot be fully utilized.

この問題点を解決する方法として、銅箔などの金属箔上に金属箔と同程度の熱膨張係数を有するポリアミック酸(ポリイミドの前駆体)の溶液を直接流延塗布,溶媒除去,硬化により製造する方法(以下ダイレクトコート法と略す)が提案されている(特許文献1、2参照)。   As a method of solving this problem, a solution of polyamic acid (polyimide precursor) having a thermal expansion coefficient comparable to that of metal foil is directly cast on a metal foil such as copper foil by solvent removal and curing. Have been proposed (hereinafter referred to as direct coating method) (see Patent Documents 1 and 2).

特許文献1及び2においてダイレクトコート法やその他の工程において金属箔付き樹脂フィルムの高温加熱処理を水平ロールコンベア搬送で連続して行う場合、溶剤揮発や反応による樹脂フィルムの体積減少、温度変化に伴う金属箔の膨張・収縮、基材の緩和が重要な要因の1つである。また、残溶剤濃度(Vc)が高いと搬送前工程で溶剤が抜き切れなくなる。さらに、外観上の問題だけでなく、寸法変化率が悪化する原因にもなりフレキシブル基板材料の製造上好ましくない。   In Patent Documents 1 and 2, when the high temperature heat treatment of the resin film with metal foil is continuously performed by the horizontal roll conveyer in the direct coating method or other processes, the volume of the resin film is reduced due to solvent volatilization or reaction, and the temperature change The expansion / contraction of the metal foil and the relaxation of the base material are one of the important factors. If the residual solvent concentration (Vc) is high, the solvent cannot be completely removed in the pre-conveyance process. Furthermore, not only the appearance problem but also the cause of deterioration of the dimensional change rate is not preferable in the production of the flexible substrate material.

この対策として、炉内の搬送後工程の温度条件を高く設定した。しかし、搬送後工程の温度条件を高くすることで樹脂への緩和が良好ではなく、カールや反りが大きく、又寸法変化率が悪化した。また、搬送前工程の温度条件を低くすることで、搬送中に樹脂がロールに付着しやすく、基材が切れやすいという問題があった。   As a countermeasure, the temperature condition of the post-conveying process in the furnace was set high. However, by increasing the temperature conditions in the post-conveying process, the relaxation to the resin was not good, curling and warping were large, and the dimensional change rate deteriorated. In addition, by lowering the temperature condition in the pre-conveyance process, there is a problem that the resin easily adheres to the roll during the conveyance and the substrate is easily cut.

特許第1523920号公報Japanese Patent No. 1523920 特許第1694181号公報Japanese Patent No. 1694181

本発明は上記問題点を解決するものであり、金属箔付きフレキシブル基板材料の製造方法、金属箔付きフレキシブル基板材料及びフレキシブル積層板を提供することを目的とするものである。   This invention solves the said problem, and it aims at providing the manufacturing method of the flexible board material with metal foil, the flexible board material with metal foil, and a flexible laminated board.

本発明者らは鋭意検討を行なった結果、フレキシブル基板材料を製造する為に、基材を連続的に供給し、高温処理を行なう装置において、金属箔上に樹脂溶液を塗布、乾燥し、樹脂溶液に含まれる溶媒を除去したし得られた基材を搬送装置に供給し、搬送前工程と搬送後工程からなる高温処理を行う金属箔付きフレキシブル基板材料の製造方法であって、基材の樹脂中の残溶剤濃度(Vc)が25重量%以上35重量%以下であることを特徴とする金属箔付きフレキシブル基板材料の製造方法を見出し、本発明を完成させた。   As a result of intensive studies, the inventors of the present invention applied a resin solution on a metal foil and dried it in an apparatus for continuously supplying a base material and performing a high temperature treatment in order to produce a flexible substrate material. A method for producing a flexible substrate material with a metal foil for supplying a base material obtained by removing a solvent contained in a solution to a transport device and performing a high-temperature treatment comprising a pre-transport process and a post-transport process, The present invention was completed by finding a method for producing a flexible substrate material with a metal foil, wherein the residual solvent concentration (Vc) in the resin is 25% by weight or more and 35% by weight or less.

本発明は次の事項に関する。
1. 金属箔上に樹脂溶液を塗布、乾燥する工程、樹脂溶液に含まれる溶媒を除去し得られた基材(金属箔付きフレキシブル基板材料)を搬送装置に供給する工程、搬送装置内において高温処理を行う工程を有する金属箔付きフレキシブル基板材料の製造方法であって、基材の樹脂中の残溶剤濃度(Vc)が25重量%以上35重量%以下であることを特徴とする金属箔付きフレキシブル基板材料の製造方法。
2. 搬送装置内の高温処理を行う工程が、搬送前工程と搬送後工程からなり、搬送前工程の温度が300℃未満であり、搬送後工程の温度が300℃以上であることを特徴とする項1に記載の金属箔付きフレキシブル基板材料の製造方法。
3. 金属箔が銅箔であることを特徴とする項1または2に記載の金属箔付きフレキシブル基板材料の製造方法。
4. 基材(金属箔付きフレキシブル基板材料)が、金属箔付き樹脂フィルムであることを特徴とする項1〜3のいずれかに記載の金属箔付きフレキシブル基板材料の製造方法。
5. 樹脂フィルムの樹脂成分の少なくとも1種が、ポリイミド樹脂もしくはポリイミド前駆体であることを特徴とする項4に記載の金属箔付きフレキシブル基板材料の製造方法。
6. 金属箔付きフレキシブル基板材料の硬化品の寸法変化率が、ライン速度変動時において±0.10%以下である金属箔付きフレキシブル基板材料であって、項1〜5のいずれかに記載の金属箔付きフレキシブル基板材料の製造方法を用いて得られる金属箔付きフレキシブル基板材料。
7. 項6に記載の金属箔付きフレキシブル基板材料を用いて製造されるフレキシブル積層板。
The present invention relates to the following matters.
1. A process of applying and drying a resin solution on a metal foil, a process of supplying a substrate (a flexible substrate material with a metal foil) obtained by removing a solvent contained in the resin solution to a transport apparatus, and a high-temperature treatment in the transport apparatus A method for producing a flexible substrate material with a metal foil comprising a step of performing a process, wherein the residual solvent concentration (Vc) in the resin of the base material is 25 wt% or more and 35 wt% or less Material manufacturing method.
2. The step of performing the high-temperature treatment in the transfer apparatus includes a pre-transfer process and a post-transfer process, the temperature of the pre-transfer process is less than 300 ° C., and the temperature of the post-transfer process is 300 ° C. or more. The manufacturing method of the flexible board | substrate material with metal foil of 1.
3. Item 3. The method for producing a flexible substrate material with a metal foil according to Item 1 or 2, wherein the metal foil is a copper foil.
4). Item 4. The method for producing a flexible substrate material with metal foil according to any one of Items 1 to 3, wherein the base material (flexible substrate material with metal foil) is a resin film with metal foil.
5. Item 5. The method for producing a flexible substrate material with a metal foil according to Item 4, wherein at least one of the resin components of the resin film is a polyimide resin or a polyimide precursor.
6). Item 6. The flexible substrate material with metal foil, wherein the dimensional change rate of the cured product of the flexible substrate material with metal foil is ± 0.10% or less when the line speed fluctuates, A flexible substrate material with a metal foil obtained by using the method for manufacturing a flexible substrate material with a metal foil.
7). Item 7. A flexible laminate produced by using the flexible substrate material with metal foil according to Item 6.

本発明の金属箔付きフレキシブル基板材料を用いることによって、寸法変化率が低く、外観が良好で効果的な金属箔付きフレキシブル基板材料が作製することが可能となる。   By using the flexible substrate material with a metal foil of the present invention, it is possible to produce an effective flexible substrate material with a metal foil having a low dimensional change rate and a good appearance.

以下、本発明の実施形態について説明する。
例えば、フレキシブル基板材料の金属箔付き樹脂フィルムは、樹脂フィルム前駆体を含む樹脂組成物を金属箔の上に塗布、乾燥、硬化する製造工程を経て形成することができる。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
For example, a resin film with a metal foil of a flexible substrate material can be formed through a manufacturing process in which a resin composition containing a resin film precursor is applied onto a metal foil, dried and cured.

基材(金属箔付きフレキシブル基板材料)の樹脂中の残溶剤濃度(Vc)は25重量%以上35重量%以下である。残溶剤濃度が25重量%未満では硬化の際の搬送後工程において、金属箔表面の樹脂が樹脂からポリイミドへの転移を早めてしまい、寸法変化率が大きくなる。また、残溶剤濃度が35重量%を超えると、高温処理を行なう装置において、初期のロールに樹脂がついてしまうおそれがある。   The residual solvent concentration (Vc) in the resin of the base material (flexible substrate material with metal foil) is 25 wt% or more and 35 wt% or less. When the residual solvent concentration is less than 25% by weight, the resin on the surface of the metal foil accelerates the transition from the resin to the polyimide in the post-conveying step during curing, and the dimensional change rate increases. On the other hand, if the residual solvent concentration exceeds 35% by weight, the resin may adhere to the initial roll in an apparatus that performs high-temperature treatment.

搬送前工程の温度は、300℃未満が好ましく、120℃以上300℃未満がより好ましく、150℃以上200℃以下が特に好ましい。120℃以下では、搬送時に初期のロールに樹脂がついてしまうことがある。また、300℃以上では、寸法変化率が大きくなる。   The temperature in the pre-transport process is preferably less than 300 ° C, more preferably 120 ° C or more and less than 300 ° C, and particularly preferably 150 ° C or more and 200 ° C or less. If the temperature is 120 ° C. or lower, the initial roll may be covered with resin during conveyance. Moreover, at 300 degreeC or more, a dimensional change rate becomes large.

搬送後工程の温度は、300℃以上が好ましく、300℃以上500℃以下がより好ましく、400℃以上500℃未満が特に好ましい。300℃未満では反応が十分進まず、500℃を超えると、ポリイミドの熱分解を伴うおそれがある。   The temperature in the post-conveying process is preferably 300 ° C. or higher, more preferably 300 ° C. or higher and 500 ° C. or lower, and particularly preferably 400 ° C. or higher and lower than 500 ° C. If it is less than 300 ° C., the reaction does not proceed sufficiently, and if it exceeds 500 ° C., there is a risk of thermal decomposition of the polyimide.

寸法変化率は回路形成フィルム、絶縁基板などの寸法変化が製造工程での高温多湿処理や保管環境の変化等の工程により、影響を受けにくい度合いをみるものである。このようなことから、工程前後での寸法変化率の安定性が要求されているため、寸法変化率は低く、また工程の前後で変わらないことが好ましい。上記に述べた、優れた特性を有する金属箔付フレキシブル基板材料は、樹脂フィルム前駆体を含む樹脂組成物を金属箔の上に塗布、乾燥、硬化する製造過程を経て形成することができる。   The rate of dimensional change refers to the degree to which the dimensional change of a circuit-forming film, an insulating substrate, etc. is not easily affected by processes such as high-temperature and high-humidity processing in the manufacturing process and changes in storage environment. For this reason, since the stability of the dimensional change rate before and after the process is required, it is preferable that the dimensional change rate is low and does not change before and after the process. The flexible substrate material with metal foil having the above-described excellent characteristics can be formed through a manufacturing process in which a resin composition containing a resin film precursor is applied on a metal foil, dried and cured.

金属箔付き樹脂フィルムとしては、絶縁体のフィルムであれば特に制限はないが、機械特性や電気特性の観点から少なくとも1種がポリイミド樹脂またはポリイミド前駆体であることが好ましい。ポリアミック酸は製造過程でポリイミドに変換される。また、樹脂フィルム前駆体を含む樹脂組成物としてエポキシ化合物、アクリル化合物、ジイソシアネート化合物、フェノール化合物等の硬化性分、フィラー、粒子、色材、レベリング剤、カップリング剤等の添加成分を任意に混合することも可能であるが、ポリイミド樹脂の含有量より多くの硬化成分、添加成分を加えることは特性を低下させる傾向にある。   The resin film with metal foil is not particularly limited as long as it is an insulating film, but at least one kind is preferably a polyimide resin or a polyimide precursor from the viewpoint of mechanical characteristics and electrical characteristics. Polyamic acid is converted to polyimide during the manufacturing process. Additive components such as epoxy compounds, acrylic compounds, diisocyanate compounds, phenol compounds, etc., fillers, particles, coloring materials, leveling agents, coupling agents, etc. are optionally mixed as a resin composition containing a resin film precursor. Although it is also possible to add a hardening component and an additional component more than content of a polyimide resin, there exists a tendency for a characteristic to fall.

好ましくは、金属箔上に最終的に形成されるポリイミドは下記の一般式(1)   Preferably, the polyimide finally formed on the metal foil is represented by the following general formula (1)

Figure 2008272601
Figure 2008272601

(ここでRは芳香族ジアミンのアミノ基、ジイソシアナートのジアナート基を除いた残基であり、Rは芳香族テトラカルボン酸誘導体のカルボン酸誘導部を除いた残基である。)で表される反復単位を有する重合体であり、その前駆体は下記の一般式(2) (Here, R 1 is a residue obtained by removing the amino group of the aromatic diamine and the dianate group of the diisocyanate, and R 2 is a residue obtained by removing the carboxylic acid induction part of the aromatic tetracarboxylic acid derivative.) A polymer having a repeating unit represented by the following general formula (2):

Figure 2008272601
Figure 2008272601

(ここでRは芳香族ジアミンのアミノ基、ジイソシアナートのジアナート基を除いた残基であり、Rは芳香族テトラカルボン酸誘導体のカルボン酸誘導部を除いた残基である。)で表される反復単位を有する重合体である。 (Here, R 1 is a residue obtained by removing the amino group of the aromatic diamine and the dianate group of the diisocyanate, and R 2 is a residue obtained by removing the carboxylic acid induction part of the aromatic tetracarboxylic acid derivative.) It is a polymer which has a repeating unit represented by these.

ポリイミド前駆体は、芳香族テトラカルボン酸誘導体とジアミンおよび/またはジイソシアナートを反応させることによって合成できる。   The polyimide precursor can be synthesized by reacting an aromatic tetracarboxylic acid derivative with a diamine and / or diisocyanate.

ジアミンとしてはp,m,o−フェニレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン、2,5−ジアミノトルエン、2,4−ジアミノキシレン、ジアミノジユレン1,5−ジアミノナフタレン、2,6−ジアミノナフタレン、ベンジジン、4,4’−ジアミノターフェニル、4,4’’’−ジアミノクォーターフェニル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、1,2−ビス(アニリノ)エタン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、ジアミノジフェニルスルホン、2,2−ビス(p−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(p−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,6−ジアミノナフタレン、3,3−ジメチルベンジジン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、ジアミノトルエン、ジアミノベンゾトリフルオライド、1,4−ビス(p−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(p−アミノフェノキシ)ビフェニル、2,2’−ビス{4−(p−アミノフェノキシ)フェニル}プロパン、ジアミノアントラキノン、4,4’−ビス(3−アミノフェノキシフェニル)ジフェニルスルホン、1,3−ビス(アニリノ)ヘキサフルオロプロパン、1,4−ビス(アニリノ)オクタフルオロブタン、1,5−ビス(アニリノ)デカフルオロペンタン、1,7−ビス(アニリノ)デカフルオロブタン、2,2−ビス{4−(p−アミノフェノキシ)フェニル}ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス{4−(3−アミノフェノキシ)フェニル}ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス{4−(2−アミノフェノキシ)フェニル}ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス{4−(4−アミノフェノキシ)−3,5−ジメチルフェニル}ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス{4−(4−アミノフェノキシ)−3,5−ジトリフルオロメチルフェニル}ヘキサフルオロプロパン、p−ビス(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(4−アミノ−3−トリフルオロメチルフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)ジフェニルスルホン、4,4’−ビス(3−アミノ−5−トリフルオロメチルフェノキシ)ジフェニルスルホン、2,2−ビス{4−(4−アミノ−3−トリフルオロメチルフェノキシ)フェニル}ヘキサフルオロプロパン、下記の一般式(3)   Examples of the diamine include p, m, o-phenylenediamine, 2,4-diaminotoluene, 2,5-diaminotoluene, 2,4-diaminoxylene, diaminodiurene 1,5-diaminonaphthalene, 2,6-diaminonaphthalene, benzidine, 4,4′-diaminoterphenyl, 4,4 ′ ″-diaminoquaterphenyl, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 1,2-bis (anilino) ethane, 4,4′-diaminodiphenyl ether, diaminodiphenyl sulfone, 2,2-bis (p-aminophenyl) propane, 2,2-bis (p-aminophenyl) hexafluoropropane, 2,6-diaminonaphthalene, 3,3-dimethylbenzidine, 3,3′-dimethyl-4 , 4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-dimethyl-4,4'-di Minodiphenylmethane, diaminotoluene, diaminobenzotrifluoride, 1,4-bis (p-aminophenoxy) benzene, 4,4'-bis (p-aminophenoxy) biphenyl, 2,2'-bis {4- (p- Aminophenoxy) phenyl} propane, diaminoanthraquinone, 4,4′-bis (3-aminophenoxyphenyl) diphenylsulfone, 1,3-bis (anilino) hexafluoropropane, 1,4-bis (anilino) octafluorobutane, 1,5-bis (anilino) decafluoropentane, 1,7-bis (anilino) decafluorobutane, 2,2-bis {4- (p-aminophenoxy) phenyl} hexafluoropropane, 2,2-bis { 4- (3-aminophenoxy) phenyl} hexafluoropropane, 2,2 Bis {4- (2-aminophenoxy) phenyl} hexafluoropropane, 2,2-bis {4- (4-aminophenoxy) -3,5-dimethylphenyl} hexafluoropropane, 2,2-bis {4- (4-Aminophenoxy) -3,5-ditrifluoromethylphenyl} hexafluoropropane, p-bis (4-amino-2-trifluoromethylphenoxy) benzene, 4,4′-bis (4-amino-2-) Trifluoromethylphenoxy) biphenyl, 4,4′-bis (4-amino-3-trifluoromethylphenoxy) biphenyl, 4,4′-bis (4-amino-2-trifluoromethylphenoxy) diphenylsulfone, 4, 4′-bis (3-amino-5-trifluoromethylphenoxy) diphenylsulfone, 2,2-bis {4- ( 4-amino-3-trifluoromethylphenoxy) phenyl} hexafluoropropane, the following general formula (3)

Figure 2008272601
Figure 2008272601

(Rは一価の有機基、Rは二価の有機基、nは1より大きい整数)
で示されるジアミノシロキサンなどのジアミン類、並びにこれらのジアミンとホスゲンなどの反応によって得られるジイソシアナート例えばトリレンジイソシアナート、ジフェニルメタンジイソシアナート、ナフタレンジイソシアナート、ジフェニルエーテルジイソシアナート、フェニレン−1,3−ジイソシアナートなどの芳香族ジイソシアナート類がある。
(R 3 is a monovalent organic group, R 4 is a divalent organic group, and n is an integer greater than 1)
And diisocyanates obtained by reacting these diamines with phosgene, such as tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, naphthalene diisocyanate, diphenyl ether diisocyanate, phenylene-1, There are aromatic diisocyanates such as 3-diisocyanate.

また、テトラカルボン酸並びにその誘導体としては次のようなものが挙げられる。ここでテトラカルボン酸として例示するが、これのエステル化物、酸無水物、塩酸化物ももちろん使用出来る。ピロメリット酸、2,3,3’,4’−テトラカルボキシジフェニル、3,3’,4,4’−テトラカルボキシジフェニル、3,3’,4,4’−テトラカルボキシジフェニルエーテル、2,3,3’,4’−テトラカルボキシジフェニルエーテル、3,3’,4,4’−テトラカルボキシベンゾフェノン、2,3,3’,4’−テトラカルボキシベンゾフェノン、2,3,6,7−テトラカルボキシナフタレン、1,4,5,7−テトラカルボキシナフタレン、1,2,5,6−テトラカルボキシナフタレン、3,3’,4,4’−テトラカルボキシジフェニルメタン、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、3,3’,4,4’−テトラカルボキシジフェニルスルホン、3,4,9,10−テトラカルボキシペリレン、2,2−ビス{4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル}プロパン、2,2−ビス{4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル}ヘキサフルオロプロパン、ブタンテトラカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸などがある。   Moreover, the following are mentioned as tetracarboxylic acid and its derivative (s). The tetracarboxylic acid is exemplified here, but of course, esterified products, acid anhydrides and salt oxides thereof can also be used. Pyromellitic acid, 2,3,3 ′, 4′-tetracarboxydiphenyl, 3,3 ′, 4,4′-tetracarboxydiphenyl, 3,3 ′, 4,4′-tetracarboxydiphenyl ether, 2,3 3 ′, 4′-tetracarboxydiphenyl ether, 3,3 ′, 4,4′-tetracarboxybenzophenone, 2,3,3 ′, 4′-tetracarboxybenzophenone, 2,3,6,7-tetracarboxynaphthalene, 1,4,5,7-tetracarboxynaphthalene, 1,2,5,6-tetracarboxynaphthalene, 3,3 ′, 4,4′-tetracarboxydiphenylmethane, 2,2-bis (3,4-dicarboxy) Phenyl) propane, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane, 3,3 ′, 4,4′-tetracar Xydiphenylsulfone, 3,4,9,10-tetracarboxyperylene, 2,2-bis {4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl} propane, 2,2-bis {4- (3,4- Dicarboxyphenoxy) phenyl} hexafluoropropane, butanetetracarboxylic acid, cyclopentanetetracarboxylic acid and the like.

上記の組み合わせで合成されるポリアミド酸又はポリイミドの溶液は単一組成である必要はなく2種類以上のものを混合あるいは共縮合したものをもちいることもできる。その際、硬化後の樹脂フィルムが5GHzの比誘電率が3.3以下でかつ線熱膨張係数が25以下であることが望ましい。この値を超えた場合は、フレキシブル基板材料として十分な物性を示さなくなる傾向がある。   The polyamic acid or polyimide solution synthesized by the above combination does not need to have a single composition, and may be a mixture or cocondensation of two or more kinds. At that time, it is desirable that the cured resin film has a relative dielectric constant of 5 GHz or less and a linear thermal expansion coefficient of 25 or less. When this value is exceeded, there exists a tendency which does not show sufficient physical property as a flexible substrate material.

さらに、芳香族テトラカルボン酸誘導体のモル数に対するジアミンとジイソシアナートのモル数の比は、0.95〜1.05であることが望ましく、この範囲外であると分子量が小さくなり、十分なフィルム物性が得られない。   Furthermore, the ratio of the number of moles of diamine and diisocyanate to the number of moles of the aromatic tetracarboxylic acid derivative is desirably 0.95 to 1.05, and if it is outside this range, the molecular weight becomes small and sufficient. Film properties cannot be obtained.

通常、合成反応は、N−メチル−2−ピロリドン(NNP)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジメチルスルホキサイド(DMSO)、硫酸ジメチル、スルホラン、γ−ブチロラクトン、クレゾール、フェノール、ハロゲン化フェノール、シクロヘキサン、ジオキサン、などの溶液中で0〜200℃の範囲で行われる。   Usually, the synthesis reaction consists of N-methyl-2-pyrrolidone (NNP), N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAc), dimethyl sulfoxide (DMSO), dimethyl sulfate, sulfolane, The reaction is performed in a range of 0 to 200 ° C. in a solution of γ-butyrolactone, cresol, phenol, halogenated phenol, cyclohexane, dioxane, or the like.

また、反応性官能基を有する化合物で変性し、架橋構造やラダー構造を導入することも出来る。例えば、次のような方法がある。
(i) 下記の一般式(4)で表される化合物で変性することによって、ピロロン環やイソインドロキナゾリンジオン環などを導入する。
Further, it can be modified with a compound having a reactive functional group to introduce a crosslinked structure or a ladder structure. For example, there are the following methods.
(I) A pyrrolone ring, an isoindoloquinazolinedione ring, or the like is introduced by modification with a compound represented by the following general formula (4).

Figure 2008272601
Figure 2008272601

(Rは2+x価の芳香族有機基、ZはNH基、CONH基、SONH、OH基から選ばれた基であり、アミノ基に対して、オルソ位である。xは1また2である。
(ii) 重合性不飽和結合を有するアミン、ジアミン、ジカルボン酸、トリカルボン酸、テトラカルボン酸の誘導体で変性して、硬化時に橋かけ構造を形成する。不飽和結合としては、マレイン酸、ナジック酸、テトラヒドロフタル酸、エチニルアニリンなどが使用できるが、上記化合物に限定されない。
(R 5 is a 2 + x-valent aromatic organic group, Z is a group selected from NH 2 group, CONH 2 group, SO 2 NH 2 , and OH group, and is ortho-position to the amino group. X is 1 or 2.
(Ii) It is modified with an amine, diamine, dicarboxylic acid, tricarboxylic acid or tetracarboxylic acid derivative having a polymerizable unsaturated bond to form a crosslinked structure upon curing. As the unsaturated bond, maleic acid, nadic acid, tetrahydrophthalic acid, ethynylaniline and the like can be used, but are not limited to the above compounds.

本発明における金属導体箔として用いられるものには、銅、アルミニウム、鉄、金、銀、ニッケルパラジウム、クロム、モリブデンなどまたはそれらの合金が挙げられ、ポリイミドとの接着力を高めるために化学的粗化、コロナ放電、サンデイング、メッキ、アルミニウムアルコラート、アルミニウムキレート、シランカップリング剤などによって機械的、化学的処理をしてもよい。   Examples of the metal conductor foil used in the present invention include copper, aluminum, iron, gold, silver, nickel palladium, chromium, molybdenum and the like, or alloys thereof, and chemical roughening is required to increase the adhesion with polyimide. Mechanical or chemical treatment may be carried out by chemical conversion, corona discharge, sanding, plating, aluminum alcoholate, aluminum chelate, silane coupling agent or the like.

本発明において金属箔上にポリイミドフィルム層を形成させる方法としては、金属箔の表面にポリアミド酸又はポリイミドを8〜40重量%含む溶液を製膜用スリットから吐出させて均一に塗布する。この塗工方法としてはロールコータ、コンマコータ、ナイフコータ、ドクタープレードフローコータ、密閉コータ、ダイコータ、リップコータなどによるものが挙げられる。   In the present invention, as a method for forming a polyimide film layer on the metal foil, a solution containing 8 to 40% by weight of polyamic acid or polyimide is discharged from the film-forming slit on the surface of the metal foil and uniformly applied. Examples of the coating method include a roll coater, a comma coater, a knife coater, a doctor blade flow coater, a closed coater, a die coater, and a lip coater.

例えば、ポリイミド前駆体であるポリアミック酸を硬化する製造工程は、金属箔の酸価を防ぐために酸素を含まない不活性気体からなる還元雰囲気下の250〜550℃で、ポリイミド前駆体からポリイミド樹脂に硬化を行う。ここで、酸素を含まない不活性気体雰囲気とは、真空にした容器とか、出入口の小さな乾燥機や硬化炉中に不活性気体と還元性気体を加圧パージした雰囲気で酸素濃度が5%以下の状態をいい、酸素濃度計でこれを充分に管理することが品質及び安全上重要である。   For example, the manufacturing process of curing the polyamic acid that is a polyimide precursor is performed at 250 to 550 ° C. in a reducing atmosphere composed of an inert gas not containing oxygen in order to prevent the acid value of the metal foil, from the polyimide precursor to the polyimide resin. Curing is performed. Here, the inert gas atmosphere containing no oxygen is an oxygen concentration of 5% or less in an evacuated container or an atmosphere in which an inert gas and a reducing gas are pressure-purged in a dryer or curing furnace with a small entrance and exit. It is important in terms of quality and safety to sufficiently manage this with an oximeter.

不活性ガスとしてはヘリウム、ネオン、アルゴン、窒素、金属光輝、純用気体やこれらの混合気体を例示することができ、取り扱い上窒素ガスが好適である。還元性気体としては水素ガスを例示することができる。   Examples of the inert gas include helium, neon, argon, nitrogen, metallic glitter, pure gas, and a mixed gas thereof. Nitrogen gas is preferable for handling. An example of the reducing gas is hydrogen gas.

還元雰囲気は窒素ガスと0.1体積%から4体積%未満の水素ガスの混合ガスであることが好ましく、水素ガスが0.1体積%未満だと還元ガスの効果がなく、4体積%を超えると水素ガスの空気中の爆発下限を越えるため安全上好ましくない。   The reducing atmosphere is preferably a mixed gas of nitrogen gas and 0.1% to 4% by volume of hydrogen gas. If the hydrogen gas is less than 0.1% by volume, the reducing gas has no effect and 4% by volume. If it exceeds, the lower limit of explosion of hydrogen gas in the air is exceeded, which is not preferable for safety.

上記の還元雰囲気下で硬化を行うことにより、ポリイミドの酸化を防止することができるため、信頼性の高いフィルムを得ることができる。さらに、フィルムの着色を防ぐことができ、加工時の作業性が向上する利点も併せ持っている。   By curing in the above reducing atmosphere, oxidation of the polyimide can be prevented, so that a highly reliable film can be obtained. Furthermore, coloring of the film can be prevented, and there is an advantage that workability during processing is improved.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、実施例及び比較例における寸法変化率の測定方法は次の通りである。
(寸法変化率)
金属箔付きフレキシブル基板材料を150mm角で切り出し、0.3mmのドリルを用いて四隅に穴を空けて三次元測定器で穴の位置を測定する。その後、その金属箔付きフレキシブル基板材料の金属箔部分をエッチングし、130℃で30分の乾燥した後、四隅に空けた穴の位置を三次元測定器で再測定する。その前後の差より寸法変化率を算出した。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited to these Examples. In addition, the measuring method of the dimensional change rate in an Example and a comparative example is as follows.
(Dimensional change rate)
A flexible substrate material with a metal foil is cut out at a 150 mm square, holes are drilled at four corners using a 0.3 mm drill, and the positions of the holes are measured with a three-dimensional measuring instrument. Thereafter, the metal foil portion of the flexible substrate material with metal foil is etched and dried at 130 ° C. for 30 minutes, and then the positions of the holes opened at the four corners are measured again with a three-dimensional measuring instrument. The dimensional change rate was calculated from the difference between before and after.

(合成例)
熱電対、攪拌機及び窒素吹込口を取り付けた60Lステンレス製反応釜に、約300ml/分の窒素を流しながら、p−フェニレンジアミン867.8g、4,4’−ジアミノジフェニルエ−テル1606.9g及びN−メチル−2−ピロリドン40kgを入れ攪拌し、ジアミン成分を溶解した。この溶液をウォータージャケットで50℃以下に冷却しながら3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物4722.2gを徐々に加えて重合反応を進行させて、ポリアミック酸およびN−メチル−2−ピロリドンを含む粘ちょうなポリアミック酸ワニスを得た。その後、塗工作業性を良くするために、ワニスの回転粘度が10Pa・Sになるまで80℃にてクッキングを行った。
(Synthesis example)
While flowing about 300 ml / min of nitrogen into a 60 L stainless steel reaction kettle equipped with a thermocouple, stirrer and nitrogen inlet, 867.8 g of p-phenylenediamine, 1606.9 g of 4,4′-diaminodiphenyl ether and 40 kg of N-methyl-2-pyrrolidone was added and stirred to dissolve the diamine component. While this solution was cooled to 50 ° C. or less with a water jacket, 4722.2 g of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride was gradually added to advance the polymerization reaction, and polyamic acid and N— A viscous polyamic acid varnish containing methyl-2-pyrrolidone was obtained. Thereafter, in order to improve the coating workability, cooking was performed at 80 ° C. until the rotational viscosity of the varnish reached 10 Pa · S.

(塗工例1)
上記合成例で得たポリアミック酸ワニスを、塗工機(コンマコ−タ)を用いて銅箔粗化面上に50μmの厚さに塗布した。銅箔としては、幅540mm、厚さ12μmの片面粗化した圧延銅箔(日鉱マテリアルズ社製商品名「BHY−02B−T」)を用いた。強制通風乾燥炉を用いて、銅箔に塗布したポリアミック酸ワニスから、残存溶媒量20重量%となるまで溶媒を除去して、ポリアミック酸を含んでいる樹脂組成物層を形成させた。
(Coating example 1)
The polyamic acid varnish obtained in the above synthesis example was applied on the roughened surface of the copper foil to a thickness of 50 μm using a coating machine (comma coater). As the copper foil, a rolled copper foil (trade name “BHY-02B-T” manufactured by Nikko Materials) having a width of 540 mm and a thickness of 12 μm was used. Using a forced air drying oven, the solvent was removed from the polyamic acid varnish applied to the copper foil until the residual solvent amount was 20% by weight to form a resin composition layer containing polyamic acid.

(塗工例2)
上記合成例で得たポリアミック酸ワニスを50μmの厚さに塗布し、銅箔に塗布したポリアミック酸ワニスから溶剤の割合が50重量%となるまで溶媒を除去した他は塗工例1と同様にして、樹脂組成物層を形成させた。
(Coating example 2)
The same procedure as in Application Example 1 was repeated except that the polyamic acid varnish obtained in the above synthesis example was applied to a thickness of 50 μm and the solvent was removed from the polyamic acid varnish applied to the copper foil until the ratio of the solvent reached 50% by weight. Thus, a resin composition layer was formed.

(塗工例3)
上記合成例で得たポリアミック酸ワニスを50μmの厚さに塗布し、銅箔に塗布したポリアミック酸ワニスから溶剤の割合が70重量%となるまで溶媒を除去した他は塗工例1と同様にして、樹脂組成物層を形成させた。
(Coating example 3)
The same procedure as in Application Example 1, except that the polyamic acid varnish obtained in the above synthesis example was applied to a thickness of 50 μm, and the solvent was removed from the polyamic acid varnish applied to the copper foil until the ratio of the solvent reached 70% by weight. Thus, a resin composition layer was formed.

(実施例1〜2、比較例1〜2)
遠赤外線照射方式の加熱処理装置を用いて銅箔付きポリアミック酸の高温処理を行なった。銅箔付きフレキシブル基板材料を作製した。このときの残溶剤濃度を43重量%とした。
(Examples 1-2, Comparative Examples 1-2)
High temperature treatment of the polyamic acid with copper foil was performed using a far infrared irradiation type heat treatment apparatus. A flexible substrate material with a copper foil was prepared. The residual solvent concentration at this time was 43% by weight.

塗工機(コンマコータ)を用いて、銅箔粗化面上にポリアミック酸ワニスを25μmの厚みに塗布した。銅箔には幅250mm、厚さ12μmの片面粗化した圧延銅箔(日鉱マテリアルズ社製BHY−02−BT)を用いた。塗工温度60℃、搬送速度10m/minの標準条件で塗工したところ残溶剤濃度が43重量%の基材が得られた。また、塗工温度を適宜上げ、搬送速度を下げることにより、残溶剤濃度がそれぞれ34重量%、30重量%、21重量%のものを作製し、搬送装置に供給するための基材とした。   Using a coating machine (comma coater), polyamic acid varnish was applied to a thickness of 25 μm on the roughened copper foil surface. A rolled copper foil (BHY-02-BT manufactured by Nikko Materials Co., Ltd.) having a width of 250 mm and a thickness of 12 μm and roughened on one side was used as the copper foil. When coating was performed under standard conditions of a coating temperature of 60 ° C. and a conveyance speed of 10 m / min, a base material having a residual solvent concentration of 43% by weight was obtained. In addition, by appropriately raising the coating temperature and lowering the conveyance speed, those having a residual solvent concentration of 34% by weight, 30% by weight, and 21% by weight, respectively, were prepared and used as substrates for feeding to the conveyance device.

また、加熱処理装置における搬送前工程の温度を150℃以下とし、搬送前工程の温度を450℃以上とした。このときのライン速度は0.3,1.0m/minとした。   Moreover, the temperature of the process before conveyance in a heat processing apparatus was 150 degrees C or less, and the temperature of the process before conveyance was 450 degreeC or more. The line speed at this time was 0.3 and 1.0 m / min.

Figure 2008272601
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Figure 2008272601
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表1および2に示した通り、残溶剤濃度Vcが34重量%、30重量%である実施例1
および2はライン速度に関係なくタックがなく外観が良好で、寸法変化率も低い。一方、残溶剤濃度Vcが43重量%である比較例1ではライン速度1.0m/minでタックが生じ外観が悪く、寸法変化率も高い。また、残溶剤濃度Vcが21重量%である比較例2では寸法変化率が高かった。
As shown in Tables 1 and 2, Example 1 having a residual solvent concentration Vc of 34% by weight and 30% by weight
No. 2 and No. 2 have a good appearance with no tack regardless of the line speed, and have a low dimensional change rate. On the other hand, in Comparative Example 1 where the residual solvent concentration Vc is 43% by weight, tackiness occurs at a line speed of 1.0 m / min, the appearance is poor, and the dimensional change rate is high. In Comparative Example 2 in which the residual solvent concentration Vc was 21% by weight, the dimensional change rate was high.

Claims (7)

金属箔上に樹脂溶液を塗布、乾燥する工程、樹脂溶液に含まれる溶媒を除去し得られた基材(金属箔付きフレキシブル基板材料)を搬送装置に供給する工程、搬送装置内において高温処理を行う工程を有する金属箔付きフレキシブル基板材料の製造方法であって、基材の樹脂中の残溶剤濃度(Vc)が25重量%以上35重量%以下であることを特徴とする金属箔付きフレキシブル基板材料の製造方法。   A process of applying and drying a resin solution on a metal foil, a process of supplying a substrate (a flexible substrate material with a metal foil) obtained by removing a solvent contained in the resin solution to a transport apparatus, and a high-temperature treatment in the transport apparatus A method for producing a flexible substrate material with a metal foil comprising a step of performing a process, wherein a residual solvent concentration (Vc) in a resin of a base material is 25% by weight or more and 35% by weight or less. Material manufacturing method. 搬送装置内の高温処理を行う工程が、搬送前工程と搬送後工程からなり、搬送前工程の温度が300℃未満であり、搬送後工程の温度が300℃以上であることを特徴とする請求項1に記載の金属箔付きフレキシブル基板材料の製造方法。   The process of performing high-temperature processing in the transport apparatus includes a pre-transport process and a post-transport process, wherein the temperature of the pre-transport process is less than 300 ° C., and the temperature of the post-transport process is 300 ° C. or more. Item 2. A method for producing a flexible substrate material with a metal foil according to Item 1. 金属箔が銅箔であることを特徴とする請求項1または2に記載の金属箔付きフレキシブル基板材料の製造方法。   The method for producing a flexible substrate material with a metal foil according to claim 1 or 2, wherein the metal foil is a copper foil. 基材(金属箔付きフレキシブル基板材料)が、金属箔付き樹脂フィルムであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の金属箔付きフレキシブル基板材料の製造方法。   The substrate (flexible substrate material with metal foil) is a resin film with metal foil, The method for producing a flexible substrate material with metal foil according to any one of claims 1 to 3. 樹脂フィルムの樹脂成分の少なくとも1種が、ポリイミド樹脂もしくはポリイミド前駆体であることを特徴とする請求項4に記載の金属箔付きフレキシブル基板材料の製造方法。   The method for producing a flexible substrate material with a metal foil according to claim 4, wherein at least one of the resin components of the resin film is a polyimide resin or a polyimide precursor. 金属箔付きフレキシブル基板材料の硬化品の寸法変化率が、ライン速度変動時において±0.10%以下である金属箔付きフレキシブル基板材料であって、請求項1〜5のいずれかに記載の金属箔付きフレキシブル基板材料の製造方法を用いて得られる金属箔付きフレキシブル基板材料。   The metal substrate according to any one of claims 1 to 5, wherein the dimensional change rate of the cured product of the flexible substrate material with metal foil is ± 0.10% or less when the line speed fluctuates. A flexible substrate material with a metal foil obtained by using a method for producing a flexible substrate material with a foil. 請求項6に記載の金属箔付きフレキシブル基板材料を用いて製造されるフレキシブル積層板。   The flexible laminated board manufactured using the flexible board | substrate material with metal foil of Claim 6.
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