JP2008260845A - Thermosetting adhesive sheet for sealing - Google Patents
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Abstract
【課題】中空型デバイスの封止を簡便かつ歩留り良く行なうことのできる封止用熱硬化型接着シートを提供する。
【解決手段】配線回路基板2上に搭載された接続用電極部(バンプ)3付チップ型デバイス1を封止するために用いられる封止用熱硬化型接着シートである。そして、上記封止用熱硬化型接着シートとしては、熱硬化前の80℃における引張弾性率が5×105 〜5×107 Paであり、かつ熱硬化後の150℃における引張弾性率が5.5×107 〜1×109 Paである物性を備えている。
【選択図】図1The present invention provides a thermosetting adhesive sheet for sealing which can easily and efficiently seal a hollow device.
A sealing thermosetting adhesive sheet used for sealing a chip type device with a connecting electrode portion (bump) mounted on a printed circuit board. And as said thermosetting type adhesive sheet for sealing, the tensile elasticity modulus in 80 degreeC before thermosetting is 5 * 10 < 5 > -5 * 10 < 7 > Pa, and the tensile elasticity modulus in 150 degreeC after thermosetting is It has the physical property which is 5.5 * 10 < 7 > -1 * 10 < 9 > Pa.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、チップ型デバイスを封止するために用いられる熱硬化型接着シートに関するものであって、詳しくは、その表面を中空とする必要があるデバイス、例えば、弾性表面波装置(SAWデバイス)、水晶デバイス、高周波デバイス、加速度センサー等の、いわゆる中空デバイスの封止に用いられる熱硬化型接着シートに関するものである。 The present invention relates to a thermosetting adhesive sheet used for sealing a chip-type device, and more specifically, a device whose surface needs to be hollow, such as a surface acoustic wave device (SAW device). The present invention relates to a thermosetting adhesive sheet used for sealing so-called hollow devices such as quartz devices, high-frequency devices, and acceleration sensors.
従来から、半導体素子および電子部品等のチップ型デバイスの封止は、粉末状エポキシ樹脂組成物を用いたトランスファー成形法、液状エポキシ樹脂組成物やシリコーン樹脂等を用いてポッティング法、ディスペンス法、印刷法等により行なわれてきた。しかしながら、このような封止方法では、高価な成形機を必要としたり、必要な部分以外に封止樹脂が付着したりするという課題を抱えており、より安価で簡便な封止方法が要望されていた。 Conventionally, sealing of chip-type devices such as semiconductor elements and electronic components has been performed by transfer molding using a powdered epoxy resin composition, potting, dispensing, printing using a liquid epoxy resin composition or silicone resin. It has been done by law. However, in such a sealing method, there is a problem that an expensive molding machine is required or a sealing resin adheres to other than necessary portions, and a cheaper and simpler sealing method is desired. It was.
特に、表面を中空にする必要のあるデバイスの封止において、従来の液状封止材料を用いたディスペンス法では、デバイス直下のアクティブ面への封止材料の流入を抑制することが困難であり、チップあるいは基板上にダムを設け封止材料の流入を制御することが行なわれている(例えば、特許文献1〜3参照)。このような手法においても、液状封止材料を完全に流動制御することは困難であり、歩留り低下を引き起こす要因となっていた。また、デバイスの小型化、低コスト化を妨げる要因にもなっていた。 In particular, in the sealing of a device that needs to have a hollow surface, it is difficult to suppress the inflow of the sealing material to the active surface directly under the device by the dispensing method using the conventional liquid sealing material, A dam is provided on the chip or the substrate to control the inflow of the sealing material (see, for example, Patent Documents 1 to 3). Even in such a technique, it is difficult to completely control the flow of the liquid sealing material, which causes a decrease in yield. In addition, it has been a factor that hinders downsizing and cost reduction of devices.
このような問題を解決するために、例えば、封止用フィルム積層体を用いて、中空型デバイスを封止する方法が提案されている(特許文献4参照)。
しかしながら、上記封止用フィルム積層体を用いた中空型デバイスの封止では、硬化後の弾性率が低いために中空部分への封止樹脂の流入を完全に制御することが困難であり、上記問題を解決するという観点からは充分満足のいくものとは言い難いものであった。 However, in sealing a hollow type device using the sealing film laminate, it is difficult to completely control the inflow of the sealing resin into the hollow part because the elastic modulus after curing is low, From the perspective of solving the problem, it was hard to say that it was satisfactory enough.
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、中空型デバイスの封止を簡便かつ歩留り良く行なうことのできる封止用熱硬化型接着シートの提供をその目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a thermosetting adhesive sheet for sealing that can easily seal a hollow type device with a high yield.
上記の目的を達成するために、本発明の封止用熱硬化型接着シートは、基板上に搭載されたチップ型デバイスを封止するために用いられる封止用熱硬化型接着シートであって、熱硬化前の80℃における引張弾性率が5×105 〜5×107 Paであり、かつ熱硬化後の150℃における引張弾性率が5.5×107 〜1×109 Paであるという構成をとる。 In order to achieve the above object, the sealing thermosetting adhesive sheet of the present invention is a sealing thermosetting adhesive sheet used for sealing a chip-type device mounted on a substrate. The tensile elastic modulus at 80 ° C. before thermosetting is 5 × 10 5 to 5 × 10 7 Pa, and the tensile elastic modulus at 150 ° C. after thermosetting is 5.5 × 10 7 to 1 × 10 9 Pa. It has a configuration of being.
本発明者らは、上記目的を達成するために、封止材料として用いる熱硬化型接着シートの物性について研究を重ねた。その結果、熱硬化型接着シートとして、熱硬化前の80℃における引張弾性率を5×105 〜5×107 Paに、かつ熱硬化後の150℃における引張弾性率を5.5×107 〜1×109 Paに設定してなる物性を備えたシートを用いると、チップ型デバイスの封止時において、適度な粘弾性を備えることから熱硬化型接着シートを用いての基板上のチップ型デバイスの封止時にチップ型デバイス下部への樹脂の侵入が抑制されることを見出し本発明に到達した。 In order to achieve the above object, the present inventors have repeatedly studied the physical properties of a thermosetting adhesive sheet used as a sealing material. As a result, as a thermosetting adhesive sheet, the tensile modulus at 80 ° C. before thermosetting is 5 × 10 5 to 5 × 10 7 Pa, and the tensile modulus at 150 ° C. after thermosetting is 5.5 × 10. When a sheet having physical properties set to 7 to 1 × 10 9 Pa is used, since a suitable viscoelasticity is provided at the time of sealing a chip-type device, it is on a substrate using a thermosetting adhesive sheet. The inventors have found that the intrusion of the resin into the lower part of the chip type device is suppressed at the time of sealing the chip type device, and have reached the present invention.
このように、本発明の封止用熱硬化型接着シートは、基板上に搭載されたチップ型デバイスを封止するために用いられ、熱硬化前の80℃における引張弾性率が5×105 〜5×107 Paで、かつ熱硬化後の150℃における引張弾性率が5.5×107 〜1×109 Paである。このため、基板上に搭載されたチップ型デバイスを封止する際に、チップ型デバイスの下部への侵入が抑制され、基板とチップ型デバイスとの間の中空部分が形成され保持されることとなる。したがって、この封止用熱硬化型接着シートを用いての樹脂封止では、簡便かつ歩留り良く樹脂封止を行なうことが可能となる。 As described above, the thermosetting adhesive sheet for sealing of the present invention is used for sealing a chip-type device mounted on a substrate, and has a tensile elastic modulus at 80 ° C. before thermosetting of 5 × 10 5. in ~5 × 10 7 Pa, and a tensile modulus at 0.99 ° C. after thermal curing is 5.5 × 10 7 ~1 × 10 9 Pa. For this reason, when sealing a chip-type device mounted on a substrate, intrusion into the lower portion of the chip-type device is suppressed, and a hollow portion between the substrate and the chip-type device is formed and held. Become. Therefore, in resin sealing using this sealing thermosetting adhesive sheet, it is possible to perform resin sealing simply and with good yield.
そして、上記封止用熱硬化型接着シートとして、後述のA〜E成分を含有するエポキシ樹脂組成物を用いシート状に形成したものであると、上記引張弾性率を所定の値に制御されたものが容易に得られる。 And as the said thermosetting adhesive sheet for sealing, the said tensile elasticity modulus was controlled to the predetermined value as it was formed in the sheet form using the epoxy resin composition containing the below-mentioned AE component. Things are easily obtained.
また、D成分である無機質充填剤の含有量を、エポキシ樹脂組成物全体の60〜80重量%の割合に設定すると、上記引張弾性率を所定の値に制御された封止用熱硬化型接着シートが容易に得られる。 Further, when the content of the inorganic filler as the D component is set to a ratio of 60 to 80% by weight of the entire epoxy resin composition, the thermosetting adhesive for sealing in which the tensile elastic modulus is controlled to a predetermined value. A sheet is easily obtained.
さらに、E成分である硬化促進剤として、第四級ホスホニウム塩化合物を用いると、上記引張弾性率を所定の値に制御された封止用熱硬化型接着シートが容易に得られる。 Further, when a quaternary phosphonium salt compound is used as the curing accelerator as the E component, a sealing thermosetting adhesive sheet in which the tensile elastic modulus is controlled to a predetermined value can be easily obtained.
つぎに、本発明の実施の形態について詳しく説明する。 Next, embodiments of the present invention will be described in detail.
本発明の封止用熱硬化型接着シートは、硬化前後において特定の引張弾性率を有するものであり、例えば、エポキシ樹脂(A成分)、フェノール樹脂(B成分)、エラストマー(C成分)、無機質充填剤(D成分)および硬化促進剤(E成分)を含有するエポキシ樹脂組成物を用いてシート状に形成することにより得られる。 The thermosetting adhesive sheet for sealing of the present invention has a specific tensile elastic modulus before and after curing. For example, an epoxy resin (A component), a phenol resin (B component), an elastomer (C component), an inorganic material It is obtained by forming into a sheet using an epoxy resin composition containing a filler (D component) and a curing accelerator (E component).
上記エポキシ樹脂(A成分)としては、特に限定されるものではなく、例えば、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂等の各種エポキシ樹脂を用いることができる。これらエポキシ樹脂は単独で用いてもよいし2種以上併用してもよい。中でも、硬化前の柔軟性と、硬化後の強度確保という観点から、トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂とビスフェノールA型エポキシ樹脂との併用系が好ましい。 The epoxy resin (component A) is not particularly limited. For example, dicyclopentadiene type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin. Various epoxy resins such as biphenyl type epoxy resin and trishydroxyphenylmethane type epoxy resin can be used. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more. Among these, from the viewpoint of flexibility before curing and securing strength after curing, a combined system of trishydroxyphenylmethane type epoxy resin and bisphenol A type epoxy resin is preferable.
上記フェノール樹脂(B成分)としては、上記エポキシ樹脂(A成分)との間で硬化反応を生起するものであれば特に限定するものではないが、例えば、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂等が用いられる。これらフェノール樹脂は単独で用いてもよいし2種以上併用してもよい。そして、上記フェノール樹脂としては、水酸基当量が70〜250、軟化点が50〜110℃のものを用いることが好ましく、中でも、硬化反応性が高いという観点から、フェノールノボラック樹脂が好適に用いられる。 The phenol resin (component B) is not particularly limited as long as it causes a curing reaction with the epoxy resin (component A). For example, dicyclopentadiene type phenol resin, phenol novolac resin , Cresol novolac resin, phenol aralkyl resin and the like are used. These phenolic resins may be used alone or in combination of two or more. And as said phenol resin, it is preferable to use a hydroxyl equivalent of 70-250 and a softening point of 50-110 degreeC, and a phenol novolak resin is used suitably from a viewpoint that hardening reactivity is high especially.
そして、上記エポキシ樹脂(A成分)とフェノール樹脂(B成分)の配合割合は、一般的には、エポキシ樹脂(A成分)中のエポキシ基1当量に対して、フェノール樹脂(B成分)中の水酸基の合計が0.7〜1.5当量となるように配合することが好ましい。より好ましくは0.9〜1.2当量である。 And the compounding ratio of the said epoxy resin (A component) and a phenol resin (B component) is generally in a phenol resin (B component) with respect to 1 equivalent of epoxy groups in an epoxy resin (A component). It is preferable to blend so that the total number of hydroxyl groups is 0.7 to 1.5 equivalents. More preferably, it is 0.9-1.2 equivalent.
上記A成分およびB成分とともに用いられるエラストマー(C成分)は、エポキシ樹脂組成物に柔軟性および可撓性を付与するものであり、このような作用を奏するものであれば特にその構造を制限するものではないが、例えば、つぎのようなゴム質重合体があげられる。すなわち、ポリアクリル酸エステル等の各種アクリルエステル共重合体、ブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム(SBR)、エチレン−酢酸ビニルコポリマー(EVA)、イソプレンゴム、アクリロニトリルゴム等からなる重合体があげられる。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いられる。 The elastomer (C component) used together with the A component and the B component imparts flexibility and flexibility to the epoxy resin composition, and the structure is particularly limited as long as such an effect is exhibited. Although it is not a thing, the following rubbery polymers are mention | raise | lifted, for example. That is, examples include various acrylic ester copolymers such as polyacrylic acid esters, polymers made of butadiene rubber, styrene-butadiene rubber (SBR), ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), isoprene rubber, acrylonitrile rubber, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
上記エラストマー(C成分)の含有量としては、柔軟性および可撓性を付与するという観点から、エポキシ樹脂組成物の全有機成分中の15〜70重量%の範囲に設定することが好ましく、より好ましくは全有機成分中30〜60重量%である。すなわち、エラストマー(C成分)の含有量が下限値未満では、所望の柔軟性や可撓性を付与することが困難となり、接着シートとして取り扱い作業性が低下する傾向を示し、逆に含有量が上限値を超えると、硬化後の弾性率が低下して、成形物とした際の強度が不足する傾向がみられるからである。 The content of the elastomer (component C) is preferably set in the range of 15 to 70% by weight in the total organic components of the epoxy resin composition from the viewpoint of imparting flexibility and flexibility. Preferably, it is 30 to 60% by weight in the total organic components. That is, when the content of the elastomer (component C) is less than the lower limit, it becomes difficult to impart desired flexibility and flexibility, and the handling workability tends to be reduced as an adhesive sheet. If the upper limit is exceeded, the elastic modulus after curing is lowered, and the strength of the molded product tends to be insufficient.
上記A〜C成分とともに用いられる無機質充填剤(D成分)としては、特に限定されるものではなく従来公知の各種充填剤が用いられる。例えば、石英ガラス粉末、タルク、シリカ粉末(溶融シリカ粉末や結晶性シリカ粉末等)、アルミナ粉末、窒化アルミニウム、窒化珪素粉末等があげられる。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いられる。中でも、得られる硬化物の線膨張係数の低減できるという点から、上記シリカ粉末を用いることが好ましく、上記シリカ粉末の中でも溶融シリカ粉末を用いることが、高充填性および高流動性という点から特に好ましい。上記溶融シリカ粉末としては、球状溶融シリカ粉末、破砕溶融シリカ粉末があげられるが、流動性という観点から、球状溶融シリカ粉末を用いることが特に好ましい。中でも、平均粒径が0.2〜30μmの範囲のものを用いることが好ましく、特に好ましくは0.5〜15μmの範囲のものを用いることである。なお、上記平均粒径は、例えば、母集団から任意に抽出される試料を用い、レーザー回折散乱式粒度分布測定装置を用いて測定することにより導出することができる。 It does not specifically limit as an inorganic filler (D component) used with the said AC component, Various conventionally well-known fillers are used. Examples thereof include quartz glass powder, talc, silica powder (such as fused silica powder and crystalline silica powder), alumina powder, aluminum nitride, and silicon nitride powder. These may be used alone or in combination of two or more. Among them, the silica powder is preferably used from the viewpoint that the linear expansion coefficient of the obtained cured product can be reduced, and among the silica powders, the use of the fused silica powder is particularly preferable from the viewpoint of high filling property and high fluidity. preferable. Examples of the fused silica powder include spherical fused silica powder and crushed fused silica powder. From the viewpoint of fluidity, it is particularly preferable to use a spherical fused silica powder. Among them, it is preferable to use those having an average particle diameter in the range of 0.2 to 30 μm, and particularly preferable to use those in the range of 0.5 to 15 μm. The average particle diameter can be derived by, for example, using a sample arbitrarily extracted from the population and measuring it using a laser diffraction / scattering particle size distribution measuring apparatus.
上記無機質充填剤(D成分)の含有量は、エポキシ樹脂組成物全体の60〜80重量%の範囲に設定することが好ましく、特に好ましくは65〜75重量%である。すなわち、無機質充填剤(D成分)の含有量が下限値未満では、熱硬化後の150℃における引張弾性率が低くなり所望の物性を得ることが困難となる傾向がみられ、上限値を超えると、熱硬化前の80℃における引張弾性率が高くなり所望の物性を得ることが困難となる傾向がみられるからである。 It is preferable to set content of the said inorganic filler (D component) in the range of 60 to 80 weight% of the whole epoxy resin composition, Especially preferably, it is 65 to 75 weight%. That is, if the content of the inorganic filler (component D) is less than the lower limit value, the tensile elastic modulus at 150 ° C. after thermosetting tends to be low and it becomes difficult to obtain desired physical properties, which exceeds the upper limit value. This is because the tensile elastic modulus at 80 ° C. before thermosetting tends to be high and it becomes difficult to obtain desired physical properties.
上記A〜D成分とともに用いられる硬化促進剤(E成分)としては、上記エポキシ樹脂(A成分)とフェノール樹脂(B成分)との硬化反応を促進させることができるものであれば特に限定するものではなく、従来公知の各種硬化促進剤があげられ、リン系硬化促進剤、アミン系硬化促進剤等の既存の硬化促進剤を用いることができるが、特に第四級ホスホニウム塩化合物を用いることにより、常温保管性に優れた熱硬化型接着シートを得ることができ好ましい。そして、本発明の封止用熱硬化型接着シートの使用においては、作業性および品質安定性の観点から、常温にて長期間保存できることが好ましく、このような特性が得られる硬化促進剤(E成分)としては、例えば、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレートが特に好ましく用いられる。 The curing accelerator (component E) used together with the components A to D is particularly limited as long as it can accelerate the curing reaction between the epoxy resin (component A) and the phenol resin (component B). Instead, various conventionally known curing accelerators can be used, and existing curing accelerators such as phosphorus-based curing accelerators and amine-based curing accelerators can be used, but particularly by using quaternary phosphonium salt compounds. It is preferable because a thermosetting adhesive sheet having excellent room temperature storage property can be obtained. And in use of the thermosetting adhesive sheet for sealing of this invention, it is preferable that it can be preserve | saved for a long time at normal temperature from a viewpoint of workability | operativity and quality stability, and the hardening accelerator (E As the component), for example, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate is particularly preferably used.
上記硬化促進剤(E成分)の含有量は、エポキシ樹脂組成物全体の0.1〜10重量%の範囲に設定することが好ましく、さらに好ましくは0.3〜3重量%であり、特に好ましくは0.5〜2重量%である。 The content of the curing accelerator (component E) is preferably set in the range of 0.1 to 10% by weight of the entire epoxy resin composition, more preferably 0.3 to 3% by weight, particularly preferably. Is 0.5 to 2% by weight.
なお、本発明において、上記エポキシ樹脂組成物には、上記A〜E成分以外に必要に応じて、難燃剤、カーボンブラックをはじめとする顔料等の他の添加剤を適宜配合することができる。 In the present invention, other additives such as a flame retardant and a pigment such as carbon black can be appropriately blended with the epoxy resin composition as necessary in addition to the components A to E.
上記難燃剤としては、例えば、有機リン化合物、酸化アンチモン、水酸化アルミニウムや水酸化マグネシウム等の金属水酸化物等があげられる。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いられる。 Examples of the flame retardant include organic phosphorus compounds, antimony oxide, metal hydroxides such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
本発明の封止用熱硬化型接着シートは、例えば、つぎのようにして製造することができる。まず、各配合成分を混合することによりエポキシ樹脂組成物を調製するが、各配合成分が均一に分散混合される方法であれば特に限定するものではない。そして、必要に応じて各配合成分を溶剤等に溶解しワニス塗工により製膜する。あるいは、各配合成分を直接ニーダー等で混練することにより固形樹脂を調製し、このようにして得られた固形樹脂をシート状に押し出して製膜形成してもよい。中でも、簡便に均一な厚みのシートを得ることができるという点から、上記ワニス塗工法が好適に用いられる。 The thermosetting adhesive sheet for sealing of the present invention can be produced, for example, as follows. First, an epoxy resin composition is prepared by mixing each compounding component, but there is no particular limitation as long as each compounding component is uniformly dispersed and mixed. And each compounding component is melt | dissolved in a solvent etc. as needed, and it forms into a film by varnish coating. Alternatively, a solid resin may be prepared by directly kneading each compounding component with a kneader or the like, and the solid resin thus obtained may be extruded into a sheet to form a film. Especially, the said varnish coating method is used suitably from the point that the sheet | seat of uniform thickness can be obtained simply.
上記ワニス塗工法による本発明の封止用熱硬化型接着シートの作製について述べる。すなわち、上記A〜E成分および必要に応じて他の添加剤を常法に準じて適宜混合し、有機溶剤に均一に溶解あるいは分散させ、ワニスを調製する。ついで、上記ワニスをポリエステルフィルム等の基材上に塗布し乾燥させ、ポリエステルフィルム等のフィルムで貼り合わせ、熱硬化型接着シートを巻き取る。 The production of the thermosetting adhesive sheet for sealing of the present invention by the varnish coating method will be described. That is, the above components A to E and other additives as necessary are mixed as appropriate according to a conventional method, and uniformly dissolved or dispersed in an organic solvent to prepare a varnish. Next, the varnish is applied onto a substrate such as a polyester film and dried, and bonded together with a film such as a polyester film, and the thermosetting adhesive sheet is wound up.
上記有機溶剤としては、特に限定するものではなく従来公知の各種有機溶剤、例えば、メチルエチルケトン、アセトン、ジオキサン、ジエチルケトン、トルエン、酢酸エチル等があげられる。これらは単独でもしくは2種以上併せて用いられる。また、有機溶剤における濃度は、通常、30〜60重量%の範囲とすることが好ましい。 The organic solvent is not particularly limited, and various conventionally known organic solvents such as methyl ethyl ketone, acetone, dioxane, diethyl ketone, toluene, ethyl acetate and the like can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more. The concentration in the organic solvent is usually preferably in the range of 30 to 60% by weight.
有機溶剤乾燥後のシートの厚みは、特に制限されるものではないが、厚みの均一性と残存溶剤量の観点から、通常、5〜100μmに設定することが好ましく、より好ましくは20〜70μmである。このようにして得られた本発明の封止用熱硬化型接着シートは、必要により所望の厚みとなるように積層して使用してもよい。すなわち、本発明の封止用熱硬化型接着シートは、単層構造にて使用に供してもよいし、2層以上の多層構造に積層してなる積層体として使用に供してもよい。 Although the thickness of the sheet after drying the organic solvent is not particularly limited, it is usually preferably set to 5 to 100 μm, more preferably 20 to 70 μm, from the viewpoint of uniformity of thickness and the amount of residual solvent. is there. The thermosetting adhesive sheet for sealing of the present invention thus obtained may be laminated and used so as to have a desired thickness if necessary. That is, the thermosetting adhesive sheet for sealing of the present invention may be used in a single layer structure or may be used as a laminate formed by laminating two or more layers.
このようにして得られる本発明の封止用熱硬化型接着シートは、下記の特性(x)および(y)を備えるものでなければならない。
(x)熱硬化前の80℃における引張弾性率が5×105 〜5×107 Paである。
(y)熱硬化後の150℃における引張弾性率が5.5×107 〜1×109 Paである。
The sealing thermosetting adhesive sheet of the present invention thus obtained must have the following characteristics (x) and (y).
(X) The tensile elastic modulus at 80 ° C. before thermosetting is 5 × 10 5 to 5 × 10 7 Pa.
(Y) The tensile elastic modulus at 150 ° C. after thermosetting is 5.5 × 10 7 to 1 × 10 9 Pa.
すなわち、特性(x)における、熱硬化前の80℃における引張弾性率が5×105 Pa未満では、チップ型デバイス下部の中空部分へ封止用樹脂が浸入しやすくなり、5×107 Paを超えると、封止樹脂部分と基板との密着性に劣るようになる。また、特性(y)における、熱硬化後の150℃における引張弾性率が5.5×107 Pa未満では、成形物とした際の強度不足となる傾向を示し、1×109 Paを超えると、半田リフロー時等において、シート剥離やチップ型デバイスのクラックが発生しやすくなるからである。 That is, if the tensile modulus at 80 ° C. before thermosetting in the characteristic (x) is less than 5 × 10 5 Pa, the sealing resin easily enters the hollow portion below the chip-type device, and 5 × 10 7 Pa. If it exceeds the upper limit, the adhesiveness between the sealing resin portion and the substrate becomes poor. Further, in the characteristic (y), when the tensile elastic modulus at 150 ° C. after thermosetting is less than 5.5 × 10 7 Pa, the strength tends to be insufficient when formed into a molded product, which exceeds 1 × 10 9 Pa. This is because, during solder reflow or the like, sheet peeling or chip-type device cracks are likely to occur.
上記熱硬化前の80℃における引張弾性率および熱硬化後の150℃における引張弾性率は、それぞれ、つぎのようにして測定される。すなわち、熱硬化前の80℃における引張弾性率は、加熱硬化前の封止用熱硬化型接着シートを、粘弾性測定装置を用い、所定の条件にて、熱硬化前の80℃における貯蔵弾性率を測定することにより得られる。同様に、熱硬化後の150℃における引張弾性率は、封止用熱硬化型接着シートを加熱硬化した後、粘弾性測定装置を用い、所定の条件にて、熱硬化前の80℃における貯蔵弾性率を測定することにより得られる。 The tensile elastic modulus at 80 ° C. before the thermosetting and the tensile elastic modulus at 150 ° C. after the thermosetting are respectively measured as follows. That is, the tensile elastic modulus at 80 ° C. before thermosetting is the storage elasticity at 80 ° C. before thermosetting of the thermosetting adhesive sheet for sealing before heat curing using a viscoelasticity measuring device under predetermined conditions. It is obtained by measuring the rate. Similarly, the tensile elastic modulus at 150 ° C. after thermosetting is obtained by storing the thermosetting adhesive sheet for sealing at 80 ° C. before thermosetting under a predetermined condition using a viscoelasticity measuring device after heat curing. It is obtained by measuring the elastic modulus.
上記封止用熱硬化型接着シートの加熱硬化条件としては、一般に、150〜190℃の範囲にて行なわれる。 The heat curing conditions for the sealing thermosetting adhesive sheet are generally in the range of 150 to 190 ° C.
本発明の封止用熱硬化型接着シートを用いての基板上に搭載されたチップ型デバイスの封止は、例えば、つぎのようにして行なわれる。すなわち、基板上の所定位置にチップ型デバイスを搭載した後、搭載したチップ型デバイスを覆うように封止用熱硬化型接着シートを配置し、所定の封止条件にて、シートを加熱硬化することによりチップ型デバイスと基板との空間を中空に保持した状態でチップ型デバイスを樹脂封止する。 The chip-type device mounted on the substrate using the thermosetting adhesive sheet for sealing of the present invention is sealed, for example, as follows. That is, after a chip-type device is mounted at a predetermined position on the substrate, a sealing thermosetting adhesive sheet is disposed so as to cover the mounted chip-type device, and the sheet is heat-cured under predetermined sealing conditions. As a result, the chip-type device is resin-sealed in a state where the space between the chip-type device and the substrate is held hollow.
上記封止条件としては、例えば、温度80〜100℃、圧力100〜500kPaにて0.5〜5分間真空プレスを行なった後、大気開放して、温度150〜190℃にて30〜120分間加熱することがあげられる。 As the sealing conditions, for example, after performing vacuum pressing at a temperature of 80 to 100 ° C. and a pressure of 100 to 500 kPa for 0.5 to 5 minutes, the atmosphere is opened, and the temperature is 150 to 190 ° C. for 30 to 120 minutes. Heating can be mentioned.
このようにして得られる半導体デバイスの構成の一例について述べる。すなわち、図1に示すように、チップ型デバイス1に設けられた接続用電極部(バンプ)3と配線回路基板2に設けられた接続用電極部(図示せず)を対向させた状態で、配線回路基板2上にチップ型デバイス1が搭載されている。そして、上記配線回路基板2上に搭載されたチップ型デバイス1を覆うように、配線回路基板2上に封止樹脂層4が形成され樹脂封止されている。なお、チップ型デバイス1と配線回路基板2との間となるチップ型デバイス1の下部は、中空部分5に形成されている。
An example of the configuration of the semiconductor device thus obtained will be described. That is, as shown in FIG. 1, in a state where the connection electrode portion (bump) 3 provided in the chip-type device 1 and the connection electrode portion (not shown) provided in the printed
なお、上記半導体デバイスでは、チップ型デバイス1に設けられた接続用電極部3がバンプ形状に形成されているが特にこれに限定するものではなく、配線回路基板2に設けられた接続用電極部がバンプ形状に設けられていてもよい。
In the semiconductor device, the
上記チップ型デバイス1と配線回路基板2との空隙(中空部分5)間距離は、上記接続用電極部(バンプ)3の大きさ等によって適宜設定されるが、一般に、10〜100μm程度である。また、上記接続用電極部(バンプ)3間距離は、一般に、150〜500μm程度に設定することが好ましい。
The distance between the gaps (hollow portions 5) between the chip type device 1 and the printed
つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。ただし、本発明は、これら実施例に限定されるものではない。 Next, examples will be described together with comparative examples. However, the present invention is not limited to these examples.
まず、下記に示す各成分を準備した。 First, each component shown below was prepared.
〔エポキシ樹脂a〕
トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂(日本化薬社製、EPPN−501HY)
〔エポキシ樹脂b〕
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、エピコート828)
〔フェノール樹脂〕
ノボラック型フェノール樹脂(明和化成社製、DL−65)
〔アクリル樹脂〕
アクリル共重合体(ナガセケムテックス社製、テイサンレジン SG−P3)
〔硬化促進剤a〕
テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート(北興化学社製、TPP−K)
〔硬化促進剤b〕
トリフェニルホスフィン
〔シリカ粉末〕
平均粒径5.5μmの球状溶融シリカ粉末(電気化学工業社製、FB−7SDC)
[Epoxy resin a]
Trishydroxyphenylmethane type epoxy resin (Nippon Kayaku Co., Ltd., EPPN-501HY)
[Epoxy resin b]
Bisphenol A epoxy resin (Japan Epoxy Resin, Epicoat 828)
[Phenolic resin]
Novolac type phenol resin (Maywa Kasei Co., Ltd., DL-65)
〔acrylic resin〕
Acrylic copolymer (manufactured by Nagase ChemteX Corporation, Teisan Resin SG-P3)
[Curing accelerator a]
Tetraphenylphosphonium tetraphenylborate (manufactured by Hokuko Chemical Co., Ltd., TPP-K)
[Curing accelerator b]
Triphenylphosphine (silica powder)
Spherical fused silica powder with an average particle size of 5.5 μm (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., FB-7SDC)
〔実施例1〜5、比較例1〜4〕
後記の表1〜表2に示す各成分を同表に示す割合で分散混合し、これに有機溶剤(メチルエチルケトン)100重量部を加えてシート塗工用ワニスを調製した。
[Examples 1 to 5, Comparative Examples 1 to 4]
The components shown in Tables 1 and 2 below were dispersed and mixed in the proportions shown in the same table, and 100 parts by weight of an organic solvent (methyl ethyl ketone) was added thereto to prepare a sheet coating varnish.
つぎに、上記ワニスを厚み50μmのポリエステルフィルムA(三菱化学ポリエステル社製、MRF−50)上にコンマコーターにて塗工し、乾燥させて、ついで厚み38μmのポリエステルフィルムB(三菱化学ポリエステル社製、MRX−38)にて貼り合わせることにより熱硬化型接着シートを得た。その後、ロールラミネーターを用いて上記接着シートを積層することにより、厚み200μmの熱硬化型接着シートを作製した。 Next, the varnish is coated on a polyester film A having a thickness of 50 μm (MRF-50, manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Co., Ltd.) with a comma coater, dried, and then polyester film B having a thickness of 38 μm (manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Co., Ltd.). , MRX-38) to obtain a thermosetting adhesive sheet. Then, the said adhesive sheet was laminated | stacked using the roll laminator, and the 200-micrometer-thick thermosetting type adhesive sheet was produced.
〔引張弾性率〕
得られた熱硬化型接着シートの引張弾性率(熱硬化前の80℃における引張弾性率および熱硬化後の150℃における引張弾性率)を、レオメトリックス社製の粘弾性測定装置RSAIIを用いて、測定周波数1Hz、昇温速度5℃/分にて測定し、得られた貯蔵弾性率値として求めた。なお、上記熱硬化後とは、硬化条件175℃にて加熱硬化した後のことをいう。
[Tensile modulus]
The tensile modulus of elasticity (tensile modulus at 80 ° C. before thermosetting and tensile modulus at 150 ° C. after thermosetting) of the obtained thermosetting adhesive sheet was measured using a viscoelasticity measuring device RSAII manufactured by Rheometrics. The measurement was made at a measurement frequency of 1 Hz and a heating rate of 5 ° C./min, and the obtained storage elastic modulus value was obtained. The term “after heat curing” refers to after heat curing at a curing condition of 175 ° C.
〔封止評価〕
得られた熱硬化型接着シートを、セラミック基板上にマトリックス状に配列搭載したSAWフィルターチップ(チップ厚み300μm、バンプ高さ50μm)上に覆うように載置し、温度100℃,圧力300kPaの条件にて1分間真空プレス(到達真空度6.65×102 Pa)した。大気開放後、基板を175℃のオーブンに1時間投入することにより熱硬化型接着シートを加熱硬化させた。その後、ダイシング装置を用いてパッケージを個片化し、得られたチップの断面観察を行い、チップ下部の中空部分への樹脂の侵入の有無、ならびに、基板と熱硬化型接着シートにより形成された封止樹脂部分との密着性を観察した。そして、チップ下部の中空部分への樹脂の侵入が確認されたものを×、侵入が確認されなかったものを○として評価した。一方、密着性に関しては、密着が充分であったものを○、密着が不充分でダイシング後のチップ側面において、樹脂とセラミック基板上に隙間があったものを×として評価した。
[Sealing evaluation]
The obtained thermosetting adhesive sheet was placed so as to cover a SAW filter chip (chip thickness: 300 μm, bump height: 50 μm) arrayed and mounted in a matrix on a ceramic substrate, under conditions of a temperature of 100 ° C. and a pressure of 300 kPa. For 1 minute in a vacuum (degree of ultimate vacuum 6.65 × 10 2 Pa). After opening to the atmosphere, the substrate was put into an oven at 175 ° C. for 1 hour to heat and cure the thermosetting adhesive sheet. After that, the package is separated into pieces using a dicing apparatus, the cross section of the obtained chip is observed, the presence or absence of resin intrusion into the hollow portion below the chip, and the sealing formed by the substrate and the thermosetting adhesive sheet. The adhesion with the stop resin portion was observed. And what evaluated the penetration | invasion of the resin to the hollow part of a chip | tip lower part was evaluated as x, and what was not confirmed penetration | invasion was evaluated as (circle). On the other hand, regarding the adhesiveness, the case where the adhesion was sufficient was evaluated as ◯, and the case where the adhesion was insufficient and the chip side surface after dicing had a gap between the resin and the ceramic substrate was evaluated as x.
〔耐リフロー試験〕
さらに、各チップを260℃×10秒間×3回の半田リフロー条件下にさらし、熱硬化型接着シート(封止樹脂部分)の基板からの剥離の有無を観察した。その結果、剥離が生じなかったものを○、剥離が生じたものを×として評価した。
[Reflow resistance test]
Furthermore, each chip was exposed to 260 ° C. × 10 seconds × 3 solder reflow conditions, and the presence or absence of peeling of the thermosetting adhesive sheet (sealing resin portion) from the substrate was observed. As a result, the case where peeling did not occur was evaluated as ◯, and the case where peeling occurred was evaluated as x.
〔常温保存性〕
得られた熱硬化型接着シートを20℃で6ヶ月保存した後、80℃における硬化前の引張弾性率を、上記と同様にしてレオメトリックス社製の粘弾性測定装置RSAIIを用いて測定した。その結果、測定した引張弾性率を示すとともに、その上昇率が初期の20%未満のものを○、上昇率が初期の20%以上のものを×として評価した。
[Normal temperature storage]
After the obtained thermosetting adhesive sheet was stored at 20 ° C. for 6 months, the tensile elastic modulus before curing at 80 ° C. was measured using a viscoelasticity measuring device RSAII manufactured by Rheometrics in the same manner as described above. As a result, while showing the measured tensile elasticity modulus, the thing whose increase rate was less than 20% of the initial stage was evaluated as ◯, and the one whose increase rate was 20% or more at the initial stage was evaluated as x.
上記の結果、前記特定の引張弾性率を満たす実施例品は、チップ下部への樹脂の侵入が無く、基板との密着性も充分で剥離等も生じなかった。また、常温保存性に関しても実施例5以外は良好な結果が得られた。なお、実施例5に関しては、常温保存では弾性率が上昇するため冷所保存が必要である。これに対して、前記特定の引張弾性率を外れた比較例品は、チップ下部への樹脂の侵入、基板との密着性が不充分である、剥離の発生のいずれかの評価に劣るものであった。 As a result, the example product satisfying the specific tensile elastic modulus did not penetrate into the lower part of the chip, had sufficient adhesion to the substrate, and did not peel off. In addition, with respect to the storage stability at normal temperature, good results were obtained except for Example 5. In addition, regarding Example 5, since the elastic modulus increases when stored at room temperature, it must be stored in a cold place. On the other hand, the comparative example product that deviates from the specific tensile elastic modulus is inferior to the evaluation of either the penetration of the resin into the lower part of the chip, the adhesion with the substrate, or the occurrence of peeling. there were.
1 チップ型デバイス
2 配線回路基板
3 チップ型デバイスの接続用電極部(バンプ)
4 封止樹脂層
5 中空部分
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Chip-
4 Sealing resin layer 5 Hollow part
Claims (4)
(A)エポキシ樹脂。
(B)フェノール樹脂。
(C)エラストマー。
(D)無機質充填剤。
(E)硬化促進剤。 The thermosetting adhesive sheet for sealing according to claim 1, wherein the thermosetting adhesive sheet for sealing is formed into a sheet shape using an epoxy resin composition containing the following components (A) to (E): .
(A) Epoxy resin.
(B) Phenolic resin.
(C) Elastomer.
(D) Inorganic filler.
(E) Curing accelerator.
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