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JP2008249753A - Film optical waveguide - Google Patents

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JP2008249753A
JP2008249753A JP2007087105A JP2007087105A JP2008249753A JP 2008249753 A JP2008249753 A JP 2008249753A JP 2007087105 A JP2007087105 A JP 2007087105A JP 2007087105 A JP2007087105 A JP 2007087105A JP 2008249753 A JP2008249753 A JP 2008249753A
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JP
Japan
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meth
acrylate
film
optical waveguide
mass
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Application number
JP2007087105A
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Japanese (ja)
Inventor
Takashi Kouho
俊 皇甫
Akitsugu Tatara
了嗣 多田羅
Yuuichi Eriyama
祐一 江利山
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JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
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Publication date
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Abstract

【課題】高温下における変形を抑制し得るフィルム状光導波路を提供する。
【解決手段】下部クラッド層2とコア部分3と上部クラッド層4とを含むフィルム状光導波路1であって、下部クラッド層2と上部クラッド層4の少なくとも一方の外表面に、(A)2官能以上の多官能エポキシモノマー(ただし、(メタ)アクリロイル基を有するものを除く。)、(B)2官能以上の多官能オキセタンモノマー、(C)1分子内に少なくとも1個以上の(メタ)アクリロイル基、及び、少なくとも1個以上のエポキシ基を有する化合物、及び(D)カチオン性光重合開始剤からなる放射線硬化性接着剤用組成物の硬化膜5,6を介してポリイミドフィルム層7,8を有するフィルム状光導波路1。
【選択図】図1
A film-like optical waveguide capable of suppressing deformation at high temperatures is provided.
A film-shaped optical waveguide 1 including a lower clad layer 2, a core portion 3, and an upper clad layer 4, wherein (A) 2 is formed on at least one outer surface of the lower clad layer 2 and the upper clad layer 4. Multifunctional epoxy monomer (excluding those having a (meth) acryloyl group), (B) Bifunctional or polyfunctional oxetane monomer, (C) At least one (meth) in one molecule A polyimide film layer 7 through a cured film 5, 6 of a composition for radiation curable adhesive comprising an acryloyl group, a compound having at least one epoxy group, and (D) a cationic photopolymerization initiator. A film-shaped optical waveguide 1 having 8.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、フィルム状光導波路に関する。   The present invention relates to a film-shaped optical waveguide.

マルチメディア時代を迎え、光通信システムやコンピュータにおける情報処理の大容量化及び高速化の要求から、光の伝送媒体として光導波路が注目されている。従来の光導波路の代表例である石英系光導波路は、一般に、以下の工程(1)〜(3)により製造されている。
(1)シリコン基板上に、火炎堆積法(FHD)やCVD法等の手法によって、ガラス膜からなる下部クラッド層を形成する。
(2)下部クラッド層上に、これよりも屈折率の高い無機質の薄膜を形成し、この薄膜を反応性イオンエッチング法(RIE)によりパターニングすることによってコア部分を形成する。
(3)更に、火炎堆積法によって上部クラッド層を形成する。
しかしながら、このような石英系光導波路の製造方法は、特殊な製造装置が必要であるとともに、製造時間が長くかかる等の問題があった。
In the multimedia era, optical waveguides are attracting attention as optical transmission media because of the demand for large capacity and high speed information processing in optical communication systems and computers. A quartz optical waveguide, which is a typical example of a conventional optical waveguide, is generally manufactured by the following steps (1) to (3).
(1) A lower cladding layer made of a glass film is formed on a silicon substrate by a technique such as flame deposition (FHD) or CVD.
(2) An inorganic thin film having a higher refractive index is formed on the lower cladding layer, and the thin film is patterned by reactive ion etching (RIE) to form a core portion.
(3) Further, an upper clad layer is formed by a flame deposition method.
However, such a method for manufacturing a silica-based optical waveguide has problems such as requiring a special manufacturing apparatus and a long manufacturing time.

これらの問題を解決するため、光重合可能な成分を含有するシリコーン系組成物の所定の箇所に、所定の量の光を照射して、当該箇所を硬化させた後、未露光部を現像することによってコア部分等を形成して、光導波路を製造する方法が提案されている(特許文献1)。
この方法は、従来の石英系光導波路の製造方法と比較して、短時間かつ低コストで光導波路を製造することができる点で有利である。しかし、この方法は、特殊なシリコーン系オリゴマーを用いる必要があるなどの制約がある。
一方、(A)カルボキシル基、重合性基及びそれ以外の有機基を有するビニル系重合体、(B)分子内に2個以上の重合性反応基を有する化合物、及び(C)放射線重合開始剤、を含有する光導波路形成用放射線硬化性組成物が提案されている(特許文献2)。
特開2000−180643号公報 特開2003−195079号公報
In order to solve these problems, a predetermined amount of light is irradiated to a predetermined portion of the silicone composition containing a photopolymerizable component to cure the portion, and then the unexposed portion is developed. Thus, a method of manufacturing an optical waveguide by forming a core portion or the like has been proposed (Patent Document 1).
This method is advantageous in that the optical waveguide can be manufactured in a short time and at a low cost as compared with the conventional method for manufacturing a silica-based optical waveguide. However, this method has limitations such as the need to use a special silicone-based oligomer.
On the other hand, (A) a vinyl polymer having a carboxyl group, a polymerizable group and other organic groups, (B) a compound having two or more polymerizable reactive groups in the molecule, and (C) a radiation polymerization initiator. , A radiation curable composition for forming an optical waveguide has been proposed (Patent Document 2).
JP 2000-180643 A JP 2003-195079 A

本発明者が見出した知見によると、上述の成分(A)〜(C)を含む光導波路形成用放射線硬化性組成物を用いて形成したフィルム状光導波路は、高温下において変形するなど、耐熱性が劣るという問題がある。
そこで、本発明は、高温下における変形を抑制し得るフィルム状光導波路を提供することを目的とする。
According to the knowledge found by the present inventors, a film-shaped optical waveguide formed using a radiation-curable composition for forming an optical waveguide containing the above-mentioned components (A) to (C) has a heat resistance such as deformation at high temperatures. There is a problem of inferiority.
Then, an object of this invention is to provide the film-form optical waveguide which can suppress a deformation | transformation under high temperature.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、フィルム状光導波路を構成する下部クラッド層と上部クラッド層の少なくとも一方の外表面に、(A)2官能以上の多官能エポキシモノマー(ただし、(メタ)アクリロイル基を有するものを除く。)、(B)2官能以上の多官能オキセタンモノマー、(C)1分子内に少なくとも1個以上の(メタ)アクリロイル基、及び、少なくとも1個以上のエポキシ基を有する化合物、及び、(D)カチオン性光重合開始剤からなる放射線硬化性接着剤用組成物の硬化膜を介して、ポリイミドフィルム層を形成させれば、ポリイミドフィルム層と光導波路本体(下部クラッド層、コア部分及び上部クラッド層)との剥離を生じさせずに、高温下におけるフィルム状光導波路の変形を抑制し得ることを見出し、本発明を完成した。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has (A) a bifunctional or higher polyfunctional epoxy monomer on the outer surface of at least one of the lower clad layer and the upper clad layer constituting the film-shaped optical waveguide. (Excluding those having a (meth) acryloyl group), (B) a bifunctional or higher polyfunctional oxetane monomer, (C) at least one (meth) acryloyl group in one molecule, and at least 1 If a polyimide film layer is formed through a cured film of a radiation curable adhesive composition comprising a compound having at least one epoxy group and (D) a cationic photopolymerization initiator, a polyimide film layer and Deformation of the film-like optical waveguide at high temperatures can be suppressed without causing separation from the optical waveguide body (lower cladding layer, core portion, and upper cladding layer). Headlines, and completed the present invention.

すなわち、本発明は、下記[1]〜[4]を提供するものである。
[1] 下部クラッド層とコア部分と上部クラッド層とを含むフィルム状光導波路であって、前記下部クラッド層と上部クラッド層の少なくとも一方の外表面に、下記成分(A)〜(D)からなる放射線硬化性接着剤用組成物の硬化膜を介してポリイミドフィルム層を有することを特徴とするフィルム状光導波路。
(A)2官能以上の多官能エポキシモノマー(ただし、(メタ)アクリロイル基を有するものを除く。)
(B)2官能以上の多官能オキセタンモノマー
(C)1分子内に少なくとも1個以上の(メタ)アクリロイル基、及び、少なくとも1個以上のエポキシ基を有する化合物
(D)カチオン性光重合開始剤
[2] 前記下部クラッド層及び上部クラッド層の各々が、(メタ)アクリロイル基を有する単量体及びラジカル性重合性開始剤を含む放射線硬化性組成物を硬化させてなる前記[1]に記載のフィルム状光導波路。
[3] 前記放射線硬化性接着剤用組成物全量に対する前記(A)〜(D)成分の含有率が、下記のとおりである前記[1]又は[2]に記載のフィルム状光導波路。
(A)2官能以上の多官能エポキシモノマー(ただし、(メタ)アクリロイル基を有するものを除く。) 10〜50質量%
(B)2官能以上の多官能オキセタンモノマー 10〜50質量%
(C)1分子内に少なくとも1個以上の(メタ)アクリロイル基と、少なくとも1個以上のエポキシ基を有する化合物 1〜45質量%、
(D)カチオン性光重合開始剤 0.1〜10質量%。
[4] 前記ポリイミドフィルム層は、表面がコロナ放電処理されたポリイミドフィルムからなる前記[1]〜[3]のいずれかに記載のフィルム状光導波路。
That is, the present invention provides the following [1] to [4].
[1] A film-shaped optical waveguide including a lower clad layer, a core portion, and an upper clad layer, wherein at least one outer surface of the lower clad layer and the upper clad layer has the following components (A) to (D) A film-like optical waveguide comprising a polyimide film layer through a cured film of the radiation-curable adhesive composition.
(A) Bifunctional or higher polyfunctional epoxy monomer (excluding those having a (meth) acryloyl group)
(B) Bifunctional or higher polyfunctional oxetane monomer (C) Compound having at least one (meth) acryloyl group and at least one epoxy group in one molecule (D) Cationic photopolymerization initiator [2] The above [1], wherein each of the lower clad layer and the upper clad layer is obtained by curing a radiation curable composition containing a monomer having a (meth) acryloyl group and a radical polymerizable initiator. Film-shaped optical waveguide.
[3] The film-shaped optical waveguide according to [1] or [2], wherein the content of the components (A) to (D) with respect to the total amount of the radiation curable adhesive composition is as follows.
(A) Bifunctional or higher polyfunctional epoxy monomer (excluding those having a (meth) acryloyl group) 10 to 50% by mass
(B) Bifunctional or higher polyfunctional oxetane monomer 10 to 50% by mass
(C) 1 to 45% by mass of a compound having at least one (meth) acryloyl group and at least one epoxy group in one molecule;
(D) Cationic photopolymerization initiator 0.1 to 10% by mass.
[4] The film-shaped optical waveguide according to any one of [1] to [3], wherein the polyimide film layer is formed of a polyimide film having a corona discharge-treated surface.

本発明によれば、ポリイミドフィルム層と光導波路本体との剥離を生じることなく、高温下におけるフィルム状光導波路の変形を抑制することができる。   According to the present invention, it is possible to suppress deformation of the film-like optical waveguide at a high temperature without causing separation between the polyimide film layer and the optical waveguide body.

本発明のフィルム状光導波路は、下部クラッド層とコア部分と上部クラッド層とを含むフィルム状光導波路であって、下部クラッド層と上部クラッド層の少なくとも一方の外表面に、放射線硬化性接着剤用組成物の硬化膜を介してポリイミドフィルム層を有するものである。
なお、下部クラッド層とコア部分と上部クラッド層とからなる部分は、本明細書において「光導波路本体」と称する。
[1.光導波路本体]
光導波路本体を形成するための放射線硬化性組成物及び/又は熱硬化性組成物(以下、「光導波路形成用組成物」ともいう。)の好適な例は、(メタ)アクリロイル基を有する単量体及びラジカル性重合開始剤を含む組成物である。
(メタ)アクリロイル基を有する単量体及びラジカル性重合開始剤を含む組成物の好適な一例としては、下記の(A1)〜(D1)成分及びその他の任意成分を含むものが挙げられる。
[(A1)成分]
光導波路本体の材料として用いられる(A1)成分は、下記一般式(1)及び(2)で表される繰り返し単位を含む重合体(例えば、ランダム共重合体)である。

Figure 2008249753
Figure 2008249753
(式中、R及びRは各々独立して水素原子又は炭素数1〜12のアルキル基であり、Rは(メタ)アクリロイル基であり、Xは単結合又は2価の有機基であり、Yは重合性を有しない有機基である。)
一般式(1)、(2)中のR及びRは、各々独立して、水素原子又は炭素数1〜12のアルキル基であり、好ましくは、水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基であり、より好ましくは、水素原子又はメチル基である。 The film-form optical waveguide of the present invention is a film-form optical waveguide including a lower clad layer, a core portion, and an upper clad layer, and a radiation curable adhesive on at least one outer surface of the lower clad layer and the upper clad layer. It has a polyimide film layer through the cured film of the composition for medical use.
In addition, the part which consists of a lower clad layer, a core part, and an upper clad layer is called "optical waveguide main body" in this specification.
[1. Optical waveguide body]
A preferred example of the radiation curable composition and / or thermosetting composition (hereinafter also referred to as “optical waveguide forming composition”) for forming the optical waveguide body is a simple substance having a (meth) acryloyl group. A composition comprising a monomer and a radical polymerization initiator.
Preferable examples of the composition containing a monomer having a (meth) acryloyl group and a radical polymerization initiator include those containing the following components (A1) to (D1) and other optional components.
[(A1) component]
The component (A1) used as the material of the optical waveguide body is a polymer (for example, a random copolymer) containing repeating units represented by the following general formulas (1) and (2).
Figure 2008249753
Figure 2008249753
Wherein R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, R 3 is a (meth) acryloyl group, and X is a single bond or a divalent organic group. And Y is an organic group having no polymerizability.)
R 1 and R 2 in the general formulas (1) and (2) are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or an alkyl having 1 to 5 carbon atoms. A group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group.

一般式(1)で表される繰り返し単位の好適な例としては、下記の一般式(3)で表される繰り返し単位が挙げられる。

Figure 2008249753
(式中、Rは水素原子又は炭素数1〜12のアルキル基であり、Rは(メタ)アクリロイルオキシ基であり、W及びZは各々独立して単結合又は2価の有機基である。)
ここで、一般式(3)中のW(2価の有機基)の例としては、下記一般式(4)で表される構造や、フェニレン基等が挙げられる。
Figure 2008249753
(式中、Rはメチレンまたは炭素数2〜8のアルキレン基である。)
一般式(3)中のZ(2価の有機基)の例としては、−(CH−O−(式中、nは1〜8の整数である。)等が挙げられる。 Preferable examples of the repeating unit represented by the general formula (1) include a repeating unit represented by the following general formula (3).
Figure 2008249753
(Wherein R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, R 3 is a (meth) acryloyloxy group, and W and Z are each independently a single bond or a divalent organic group. is there.)
Here, examples of W (divalent organic group) in the general formula (3) include a structure represented by the following general formula (4), a phenylene group, and the like.
Figure 2008249753
(In the formula, R 4 is methylene or an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms.)
Examples of Z (divalent organic group) in the general formula (3) include — (CH 2 ) n —O— (wherein n is an integer of 1 to 8).

一般式(2)中のYの例としては、下記一般式(5)で表される構造、フェニル基、環状アミド基、ピリジル基等が挙げられる。

Figure 2008249753
(式中、Rは炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状の炭素鎖を有する基である。) Examples of Y in the general formula (2) include a structure represented by the following general formula (5), a phenyl group, a cyclic amide group, a pyridyl group, and the like.
Figure 2008249753
(In the formula, R 5 is a group having a linear, branched or cyclic carbon chain having 1 to 20 carbon atoms.)

(A1)成分のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは5,000〜100,000、より好ましくは8,000〜70,000、特に好ましくは10,000〜50,000である。該値が5,000未満では、組成物の粘度が小さくなり、一定の厚さの組成物層を形成させるのが困難になることがある。該値が100,000を超えると、組成物の粘度が大きくなり、組成物の塗布性が悪くなる等の欠点がある。
(A1)成分の製造方法としては、例えば、(a)水酸基を有するラジカル重合性化合物、及び(b)成分(一般式(2)に対応するラジカル重合性化合物)を、溶媒中でラジカル重合した後、得られた共重合体の側鎖の水酸基に対して、(c)(メタ)アクリロイルオキシ基を有するイソシアネートを付加させる方法が挙げられる。
この方法で用いられる化合物(a)〜(c)について説明する。
The weight average molecular weight in terms of polystyrene of the component (A1) is preferably 5,000 to 100,000, more preferably 8,000 to 70,000, and particularly preferably 10,000 to 50,000. When the value is less than 5,000, the viscosity of the composition becomes small, and it may be difficult to form a composition layer having a certain thickness. When the value exceeds 100,000, there are disadvantages such as an increase in the viscosity of the composition and poor applicability of the composition.
As the method for producing the component (A1), for example, the radically polymerizable compound (a) having a hydroxyl group and the component (b) (radically polymerizable compound corresponding to the general formula (2)) were radically polymerized in a solvent. Then, the method of adding the isocyanate which has (c) (meth) acryloyloxy group with respect to the hydroxyl group of the side chain of the obtained copolymer is mentioned.
The compounds (a) to (c) used in this method will be described.

化合物(a)(水酸基を有するラジカル重合性化合物)は、該化合物中の水酸基と化合物(c)中のイソシアネート基(−N=C=O)とを反応させて、ウレタン結合(−NH−COO−)及び化合物(c)に由来する(メタ)アクリロイルオキシ基を含む側鎖部分を有する構成単位を、成分(A)中に導入するために用いられる。
化合物(a)の例としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシメチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
化合物(a)は、1種を単独でもしくは2種以上を組み合わせて用いられる。
(A1)成分中の化合物(a)の含有率は、好ましくは3〜80質量%、より好ましくは7〜60質量%、特に好ましくは10〜40質量%である。該含有率が3質量%未満であると、硬化が不十分となりやすい。該含有率が80質量%を超えると、屈折率の調整が困難となる場合がある。
The compound (a) (radical polymerizable compound having a hydroxyl group) reacts with a hydroxyl group in the compound and an isocyanate group (—N═C═O) in the compound (c) to form a urethane bond (—NH—COO). -) And a structural unit having a side chain portion containing a (meth) acryloyloxy group derived from the compound (c) is used to introduce into the component (A).
Examples of the compound (a) include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, hydroxymethyl (meth) acrylate, and 4-hydroxycyclohexyl (meth). An acrylate etc. are mentioned.
A compound (a) is used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
The content of the compound (a) in the component (A1) is preferably 3 to 80% by mass, more preferably 7 to 60% by mass, and particularly preferably 10 to 40% by mass. When the content is less than 3% by mass, curing tends to be insufficient. If the content exceeds 80% by mass, it may be difficult to adjust the refractive index.

化合物(b)(一般式(2)の構造に対応する化合物)は、主として、(A1)成分の機械的特性等を適度にコントロールするために用いられる。
化合物(b)の例としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸アルキルエステル類;ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸と環状炭化水素化合物とのエステル類;フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、o−フェニルフェノールグリシジルエーテル(メタ)アクリレート、p−クミルフェノキシエチレングリコールアクリレート等の(メタ)アクリル酸アリールエステル類;トリブロモフェノールエトキシ(メタ)アクリレート、2,2,2−トリフルオロメチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート等のハロゲン化(メタ)アクリル酸エステル類;スチレン、α−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、ビニルトルエン、p−メトキシスチレン等の芳香族ビニル類;1,3−ブタジエン、イソプレン、1,4−ジメチルブタジエン等の共役ジオレフィン類;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のニトリル基含有重合性化合物;アクリルアミド、メタクリルアミド等のアミド結合含有重合性化合物;酢酸ビニル等の脂肪酸ビニル類等が挙げられる。
中でも、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、スチレン、α−メチルスチレン等が好ましく用いられる。
化合物(b)は、1種を単独でもしくは2種以上を組み合わせて用いられる。
(A1)成分中の化合物(b)の含有率は、好ましくは15〜92質量%、より好ましくは25〜84質量%、特に好ましくは35〜78質量%である。該含有率が15質量%未満であると、屈折率の調整が困難となる場合がある。該含有率が92質量%を超えると、硬化が不十分となりやすい。
The compound (b) (compound corresponding to the structure of the general formula (2)) is mainly used to moderately control the mechanical properties and the like of the component (A1).
Examples of the compound (b) include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, and t-butyl (meth) acrylate. (Meth) acrylic acid alkyl esters such as dicyclopentanyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate and other esters of (meth) acrylic acid and cyclic hydrocarbon compounds; phenyl (meth) acrylate, benzyl ( (Meth) acrylate aryl esters such as (meth) acrylate, o-phenylphenol glycidyl ether (meth) acrylate, p-cumylphenoxyethylene glycol acrylate; tribromophenol ethoxy (meth) acrylate, 2,2,2-to Halogenation of fluoromethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl (meth) acrylate, perfluorooctylethyl (meth) acrylate and the like ( (Meth) acrylic acid esters; aromatic vinyls such as styrene, α-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, vinyltoluene, p-methoxystyrene; 1,3-butadiene, isoprene, 1,4- Conjugated diolefins such as dimethylbutadiene; nitrile group-containing polymerizable compounds such as acrylonitrile and methacrylonitrile; amide bond-containing polymerizable compounds such as acrylamide and methacrylamide; and fatty acid vinyls such as vinyl acetate.
Of these, dicyclopentanyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, styrene, α-methylstyrene and the like are preferably used.
A compound (b) is used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
The content of the compound (b) in the component (A1) is preferably 15 to 92% by mass, more preferably 25 to 84% by mass, and particularly preferably 35 to 78% by mass. If the content is less than 15% by mass, it may be difficult to adjust the refractive index. If the content exceeds 92% by mass, curing tends to be insufficient.

化合物(c)((メタ)アクリロイルオキシ基を有するイソシアネート)の例としては、2−メタクリロキシエチルイソシアネート、N−メタクリロイルイソシアネート、メタクリロキシメチルイソシアネート、2−アクリロキシエチルイソシアネート、N−アクリロイルイソシアネート、アクリロキシメチルイソシアネート等が挙げられる。
(A1)成分中の化合物(c)の含有率は、好ましくは5〜80質量%、より好ましくは 9〜60質量%、特に好ましくは12〜45質量%である。該含有率が5質量%未満であると、硬化が不十分となりやすい。該含有率が80質量%を超えると、屈折率の調整が困難となる場合がある。
Examples of the compound (c) (isocyanate having a (meth) acryloyloxy group) include 2-methacryloxyethyl isocyanate, N-methacryloyl isocyanate, methacryloxymethyl isocyanate, 2-acryloxyethyl isocyanate, N-acryloyl isocyanate, acryl Examples include loxymethyl isocyanate.
The content of the compound (c) in the component (A1) is preferably 5 to 80% by mass, more preferably 9 to 60% by mass, and particularly preferably 12 to 45% by mass. When the content is less than 5% by mass, curing tends to be insufficient. If the content exceeds 80% by mass, it may be difficult to adjust the refractive index.

(A1)成分には、一般式(1)及び(2)に記載されていない構成単位を含めることもできる。このような構成単位を導入するための化合物(以下、化合物(d)という。)の例としては、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等のジカルボン酸ジエステル類;塩化ビニル、塩化ビニリデン等の塩素含有重合性化合物等が挙げられる。(A1)成分中の化合物(d)の含有率は、好ましくは0〜20質量%、より好ましくは0〜10質量%である。   In the component (A1), structural units not described in the general formulas (1) and (2) can also be included. Examples of the compound for introducing such a structural unit (hereinafter referred to as compound (d)) include dicarboxylic acid diesters such as diethyl maleate, diethyl fumarate and diethyl itaconate; vinyl chloride, vinylidene chloride and the like. And a chlorine-containing polymerizable compound. (A1) The content rate of the compound (d) in a component becomes like this. Preferably it is 0-20 mass%, More preferably, it is 0-10 mass%.

(A1)成分の製造過程において、化合物(c)の付加反応の際に、熱重合禁止剤、保存安定剤、硬化触媒等の各種添加剤を添加することができる。
熱重合禁止剤は、熱による重合反応を抑えるために配合される。熱重合禁止剤の例としては、ピロガロール、ベンゾキノン、ヒドロキノン、メチレンブルー、tert−ブチルカテコール、モノベンジルエーテル、メトキシフェノール、アミルキノン、アミロキシヒドロキノン、n−ブチルフェノール、フェノール、ヒドロキノンモノプロピルエーテル等が挙げられる。
保存安定剤の例としては、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ベンゾキノン、p−トルキノン、p−キシロキノン、フェニル−α−ナフチルアミン等が挙げられる。
硬化触媒の例としては、ジラウリル酸ジブチル錫、ジラウリル酸ジオクチル錫、ジオレイン酸ジブチル錫、二酢酸ジブチル錫、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン等が挙げられる。
これらの各種添加剤の合計の配合量は、化合物(a)〜(c)の合計量100質量部に対して通常、10質量部以下、好ましくは5質量部以下である。
In the process of producing the component (A1), various additives such as a thermal polymerization inhibitor, a storage stabilizer, and a curing catalyst can be added during the addition reaction of the compound (c).
The thermal polymerization inhibitor is blended in order to suppress a polymerization reaction due to heat. Examples of thermal polymerization inhibitors include pyrogallol, benzoquinone, hydroquinone, methylene blue, tert-butylcatechol, monobenzyl ether, methoxyphenol, amylquinone, amyloxyhydroquinone, n-butylphenol, phenol, hydroquinone monopropyl ether and the like.
Examples of the storage stabilizer include 2,6-di-t-butyl-p-cresol, benzoquinone, p-toluquinone, p-xyloquinone, phenyl-α-naphthylamine and the like.
Examples of the curing catalyst include dibutyltin dilaurate, dioctyltin dilaurate, dibutyltin dioleate, dibutyltin diacetate, tetramethoxytitanium, tetraethoxytitanium and the like.
The total compounding amount of these various additives is usually 10 parts by mass or less, preferably 5 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the total amount of the compounds (a) to (c).

(A1)成分の製造における、化合物(a)、化合物(b)、及び必要に応じて使用される化合物(d)のラジカル重合に使用できる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類;テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等の多価アルコールのアルキルエーテル類;エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の多価アルコールのアルキルエーテルアセテート類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、ジアセトンアルコール等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル等のエステル類が挙げられる。
中でも、環状エーテル類、多価アルコールのアルキルエーテル類、多価アルコールのアルキルエーテルアセテート類、ケトン類、エステル類等が好ましい。
一方、(A1)成分の製造における、化合物(c)の付加反応時に使用される溶媒として、分子内に水酸基を有するものを使用すると、化合物(c)が溶媒と反応してしまうため、好ましくない。したがって、化合物(c)の付加反応に用いる溶媒は、好ましくは、水酸基を有しないものである。水酸基を有しない溶媒の例としては、前記のラジカル重合に使用される溶媒のうち、水酸基を有しないものが挙げられる。
Examples of the solvent that can be used for radical polymerization of the compound (a), the compound (b), and the compound (d) used as necessary in the production of the component (A1) include methanol, ethanol, ethylene glycol, diethylene glycol, Alcohols such as propylene glycol; cyclic ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl Ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, propylene glycol monomer Alkyl ethers of polyhydric alcohols such as ether and propylene glycol monoethyl ether; alkyl ether acetates of polyhydric alcohols such as ethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol ethyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, diacetone alcohol; ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, Ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, 2-hydroxy-2-methylpropio Ethyl acetate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, etc. Examples include esters.
Of these, cyclic ethers, polyhydric alcohol alkyl ethers, polyhydric alcohol alkyl ether acetates, ketones, and esters are preferred.
On the other hand, if a solvent having a hydroxyl group in the molecule is used as the solvent used in the addition reaction of compound (c) in the production of component (A1), compound (c) reacts with the solvent, which is not preferable. . Therefore, the solvent used for the addition reaction of compound (c) is preferably one having no hydroxyl group. Examples of the solvent having no hydroxyl group include those having no hydroxyl group among the solvents used for the radical polymerization.

また、(A1)成分の製造に用いられるラジカル重合用の触媒としては、通常のラジカル重合開始剤が使用できる。ラジカル重合開始剤の例としては、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)等のアゾ化合物;ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、t−ブチルペルオキシピバレート、1,1’−ビス(t−ブチルペルオキシ)シクロヘキサン等の有機過酸化物;及び過酸化水素等を挙げることができる。ラジカル重合開始剤として過酸化物を使用する場合、還元剤を組み合わせてレドックス型の開始剤としてもよい。   Moreover, as a catalyst for radical polymerization used for manufacture of (A1) component, a normal radical polymerization initiator can be used. Examples of radical polymerization initiators include 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (4-methoxy-2, Azo compounds such as 4-dimethylvaleronitrile); organic peroxides such as benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, t-butylperoxypivalate, 1,1′-bis (t-butylperoxy) cyclohexane; and hydrogen peroxide Can be mentioned. When a peroxide is used as the radical polymerization initiator, a redox initiator may be used in combination with a reducing agent.

[(B1)成分]
光導波路本体の材料として用いられる(B1)成分は、ポリオール化合物とポリイソシアネート化合物とが反応して生じる、ウレタン結合を繰り返し有する直鎖構造を含み、かつ、2〜6個の(メタ)アクリロイル基を有する化合物である。
(B1)成分は、例えば、ポリオール化合物と、ポリイソシアネート化合物と、水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させて得られる。
(B1)成分の製造方法として、例えば、以下の製法1〜4が挙げられる。
製法1:ポリオール化合物、ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有(メタ)アクリレートを一括して仕込んで反応させる方法。
製法2:ポリオール化合物及びポリイソシアネート化合物を反応させ、次いで水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させる方法。
製法3:ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させ、次いでポリオール化合物を反応させる方法。
製法4:ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させ、次いでポリオール化合物を反応させ、最後にまた水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させる方法。
製法1〜4の中でも、製法2〜4が、分子量分布を制御する上で好ましい。
[(B1) component]
The component (B1) used as the material of the optical waveguide main body includes a linear structure having a urethane bond repeatedly generated by reaction of a polyol compound and a polyisocyanate compound, and 2 to 6 (meth) acryloyl groups. It is a compound which has this.
The component (B1) is obtained, for example, by reacting a polyol compound, a polyisocyanate compound, and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate.
As a manufacturing method of (B1) component, the following manufacturing methods 1-4 are mentioned, for example.
Production method 1: A method in which a polyol compound, a polyisocyanate compound and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate are charged and reacted together.
Production method 2: A method in which a polyol compound and a polyisocyanate compound are reacted and then a hydroxyl group-containing (meth) acrylate is reacted.
Production method 3: A method in which a polyisocyanate compound and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate are reacted, and then a polyol compound is reacted.
Production Method 4: A method in which a polyisocyanate compound and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate are reacted, then a polyol compound is reacted, and finally, a hydroxyl group-containing (meth) acrylate is reacted again.
Among production methods 1 to 4, production methods 2 to 4 are preferable for controlling the molecular weight distribution.

(1)ポリオール化合物
(B1)成分の原料の一つであるポリオール化合物は、分子内に2個以上の水酸基を有する化合物である。このような化合物としては、芳香族ポリエーテルポリオール、脂肪族ポリエーテルポリオール、脂環族ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオール等が挙げられる。
芳香族ポリエーテルポリオールとしては、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールAのブチレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールFのエチレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールFのプロピレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールFのプロピレンオキサイド付加ジオール、ハイドロキノンのアルキレンオキサイド付加ジオール、ナフトキノンのアルキレンオキサイド付加ジオール等が挙げられる。市販品としては、例えば、ユニオール、DA700、DA1000(以上、日本油脂社製)等が挙げられる。
脂肪族ポリエーテルポリオールとしては、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、3−メチルテトラヒドロフラン、置換テトラヒドロフラン、オキセタン、置換オキセタン、テトラヒドロピラン及びオキセバンから選ばれる少なくとも1種の化合物を開環(共)重合することにより得られるもの等を挙げることができる。具体例としては、ポリエチレングリコール、1,2−ポリプロピレングリコール、1,3−ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、1,2−ポリブチレングリコール、ポリイソブチレングリコール、プロピレンオキシドとテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドとテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドの共重合体ポリオール、テトラヒドロフランと3−メチルテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドと1,2−ブチレンオキサイドの共重合体ポリオール等が挙げられる。
(1) Polyol compound The polyol compound which is one of the raw materials of the component (B1) is a compound having two or more hydroxyl groups in the molecule. Examples of such compounds include aromatic polyether polyols, aliphatic polyether polyols, alicyclic polyether polyols, polyester polyols, polycarbonate polyols, polycaprolactone polyols, and the like.
Aromatic polyether polyols include bisphenol A ethylene oxide addition diol, bisphenol A propylene oxide addition diol, bisphenol A butylene oxide addition diol, bisphenol F ethylene oxide addition diol, bisphenol F propylene oxide addition diol, bisphenol F Propylene oxide addition diol, hydroquinone alkylene oxide addition diol, naphthoquinone alkylene oxide addition diol, and the like. As a commercial item, Uniol, DA700, DA1000 (above, Nippon Oil & Fats Corporation) etc. are mentioned, for example.
The aliphatic polyether polyol includes at least one compound selected from ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, 3-methyltetrahydrofuran, substituted tetrahydrofuran, oxetane, substituted oxetane, tetrahydropyran, and oxeban. Examples thereof include those obtained by ring-opening (co) polymerization. Specific examples include polyethylene glycol, 1,2-polypropylene glycol, 1,3-polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, 1,2-polybutylene glycol, polyisobutylene glycol, copolymer polyol of propylene oxide and tetrahydrofuran, ethylene Copolymer polyol of oxide and tetrahydrofuran, copolymer polyol of ethylene oxide and propylene oxide, copolymer polyol of tetrahydrofuran and 3-methyltetrahydrofuran, copolymer polyol of ethylene oxide and 1,2-butylene oxide .

脂環族ポリエーテルポリオールとしては、例えば、水添ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールAのブチレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールFのエチレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールFのプロピレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールFのブチレンオキサイド付加ジオール、ジシクロペンタジエンのジメチロール化合物、トリシクロデカンジメタノール等が挙げられる。
脂肪族ポリエーテルポリオール及び脂環族ポリエーテルポリオールの市販品としては、例えばユニセーフDC1100、ユニセーフDC1800、ユニセーフDCB1100、ユニセーフDCB1800(以上、日本油脂社製);PPTG4000、PPTG2000、PPTG1000、PTG2000、PTG3000、PTG650、PTGL2000、PTGL1000(以上、保土谷化学社製);EXENOL4020、EXENOL3020、EXENOL2020、EXENOL1020(以上、旭硝子社製);PBG3000、PBG2000、PBG1000、Z3001(以上、第一工業製薬社製);ACCLAIM 2200、3201、4200、6300、8200(以上、住化バイエルウレタン社製);NPML−2002、3002、4002、8002(以上、旭硝子社製)等が挙げられる。
Examples of the alicyclic polyether polyol include hydrogenated bisphenol A ethylene oxide addition diol, hydrogenated bisphenol A propylene oxide addition diol, hydrogenated bisphenol A butylene oxide addition diol, and hydrogenated bisphenol F ethylene oxide addition diol. And propylene oxide addition diol of hydrogenated bisphenol F, butylene oxide addition diol of hydrogenated bisphenol F, dimethylol compound of dicyclopentadiene, tricyclodecane dimethanol and the like.
Examples of commercially available products of aliphatic polyether polyol and alicyclic polyether polyol include Unisafe DC1100, Unisafe DC1800, Unisafe DCB1100, Unisafe DCB1800 (manufactured by NOF Corporation); PPTG4000, PPTG2000, PPTG1000, PTG2000, PTG3000, PTG650. PTGL2000, PTGL1000 (above, manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.); 3201, 4200, 6300, 8200 (above, Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.); NPML -2002, 3002, 4002, 8002 (above, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.).

ポリエステルポリオールとしては、例えばエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,9−ノナンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール等の、多価アルコールと、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、フマル酸、アジピン酸、セバシン酸等の多塩基酸とを反応して得られるポリエステルポリオール等を挙げることができる。市販品としてはクラポールP−2010、PMIPA、PKA−A、PKA−A2、PNA−2000等(以上、クラレ社製)が入手できる。
ポリカーボネートポリオールとしては、例えば1,6−ヘキサンポリカーボネート等が挙げられる。市販品としてはDN−980、981、982、983(以上、日本ポリウレタン社製)、PLACCEL−CD205、CD−983、CD220(以上、ダイセル化学工業社製)、PC−8000(米国PPG社製)等が入手できる。
Examples of the polyester polyol include ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, tetramethylene glycol, polytetramethylene glycol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 3-methyl- Polyhydric alcohols such as 1,5-pentanediol, 1,9-nonanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, maleic acid, fumaric acid, adipic acid, Examples thereof include polyester polyols obtained by reacting with polybasic acids such as sebacic acid. As a commercial product, Kurapol P-2010, PMIPA, PKA-A, PKA-A2, PNA-2000, etc. (above, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) are available.
Examples of the polycarbonate polyol include 1,6-hexane polycarbonate. Commercially available products include DN-980, 981, 982, 983 (above, manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.), PLACEL-CD205, CD-983, CD220 (above, manufactured by Daicel Chemical Industries), PC-8000 (produced by PPG, USA). Etc. are available.

ポリカプロラクトンポリオールとしては、ε−カプロラクトンと、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、1,2−ポリブチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,4−ブタンジオール等のジオールとを反応させて得られるポリカプロラクトンジオール等が挙げられる。市販品としては、PLACCCEL205、205AL、212、212AL、220、220AL(以上、ダイセル化学工業社製)等が入手できる。
その他の本発明で使用しうるポリオール化合物としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ポリβ−メチル−δ−バレロラクトン、ヒドロキシ末端ポリブタジエン、ヒドロキシ末端水添ポリブタジエン、ひまし油変性ポリオール、ポリジメチルシロキサンの末端ジオール化合物、ポリジメチルシロキサンカルビトール変性ポリオール等が挙げられる。
前記のポリオール化合物のうち、ポリプロピレングリコール、エチレンオキサイド/プロピレンオキサイド共重合ジオール、エチレンオキサイド/1,2−ブチレンオキサイド共重合ジオール、プロピレンオキサイド/テトラヒドロフラン共重合ジオールが好ましく、エチレンオキサイド/1,2−ブチレンオキサイド共重合ジオールがより好ましい。
As polycaprolactone polyol, ε-caprolactone, ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, tetramethylene glycol, polytetramethylene glycol, 1,2-polybutylene glycol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol Polycaprolactone diol obtained by reacting with diols such as 1,4-cyclohexanedimethanol and 1,4-butanediol. As commercially available products, PLACC CEL205, 205AL, 212, 212AL, 220, 220AL (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) can be obtained.
Other polyol compounds that can be used in the present invention include ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanedi Examples include methanol, poly β-methyl-δ-valerolactone, hydroxy-terminated polybutadiene, hydroxy-terminated hydrogenated polybutadiene, castor oil-modified polyol, polydimethylsiloxane-terminated diol compound, and polydimethylsiloxane carbitol-modified polyol.
Among the polyol compounds, polypropylene glycol, ethylene oxide / propylene oxide copolymer diol, ethylene oxide / 1,2-butylene oxide copolymer diol, and propylene oxide / tetrahydrofuran copolymer diol are preferable, and ethylene oxide / 1,2-butylene. An oxide copolymer diol is more preferred.

ポリオール化合物の数平均分子量は、好ましくは400〜10,000であり、さらに好ましくは1,000〜8,000であり、最も好ましくは1,500〜5,000である。該数平均分子量が400未満であると、硬化物の常温及び低温におけるヤング率が上昇して、充分な屈曲抵抗性が得られ難くなる。一方、数平均分子量が10,000を超えると、組成物の粘度が上昇して、組成物の塗工性が悪化することがある。   The number average molecular weight of the polyol compound is preferably 400 to 10,000, more preferably 1,000 to 8,000, and most preferably 1,500 to 5,000. When the number average molecular weight is less than 400, the Young's modulus of the cured product at normal temperature and low temperature is increased, and it becomes difficult to obtain sufficient bending resistance. On the other hand, when the number average molecular weight exceeds 10,000, the viscosity of the composition increases, and the coating property of the composition may deteriorate.

(2)ポリイソシアネート化合物
(B1)成分の原料の一つであるポリイソシアネート化合物は、分子内に2個以上のイソシアネート基を有する化合物である。この様な化合物としては、例えば2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、1,3−キシリレンジイソシアネート、1,4−キシリレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、3,3’−ジメチル−4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、3,3’−ジメチルフェニレンジイソシアネート、4,4’−ビフェニレンジイソシアネート、1,6−ヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、1,4−ヘキサメチレンジイソシアネート、ビス(2−イソシアネートエチル)フマレート、6−イソプロピル−1,3−フェニルジイソシアネート、4−ジフェニルプロパンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート等のジイソシアネート化合物等が挙げられる。
中でも、水添キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等が好ましい。これらポリイソシアネート化合物は単独で用いても2種以上を併用してもよい。
(2) Polyisocyanate compound The polyisocyanate compound which is one of the raw materials of the component (B1) is a compound having two or more isocyanate groups in the molecule. Examples of such compounds include 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, and m-phenylene. Diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, 3,3′-dimethyl-4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 3,3′-dimethylphenylene diisocyanate, 4,4′-biphenylene diisocyanate, 1,6 -Hexane diisocyanate, isophorone diisocyanate, methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate), 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 1,4-hexamethylene diisocyanate, Diisocyanate compounds such as (2-isocyanatoethyl) fumarate, 6-isopropyl-1,3-phenyl diisocyanate, 4-diphenylpropane diisocyanate, lysine diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, etc. Can be mentioned.
Of these, hydrogenated xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate and the like are preferable. These polyisocyanate compounds may be used alone or in combination of two or more.

(3)水酸基含有(メタ)アクリレート
(B1)成分の原料の一つである水酸基含有(メタ)アクリレートは、分子内に水酸基と(メタ)アクリロイル基を有する化合物である。このような化合物としては、例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシアルキル(メタ)アクリロイルホスフェート、4−ヒドロキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート、6−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等が挙げられる。さらに、アルキルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、グリシジル(メタ)アクリレート等の、グリシジル基含有化合物と(メタ)アクリル酸との付加反応により得られる化合物が挙げられる。
中でも、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等が好ましい。
(B)成分を構成する各原料の配合割合は、例えば、水酸基含有(メタ)アクリレート1モルに対して、ポリオール化合物0.5〜2モル、ポリイソシアネート化合物1〜2.5モルである。
(3) Hydroxyl group-containing (meth) acrylate (B1) Hydroxyl group-containing (meth) acrylate, which is one of the raw materials, is a compound having a hydroxyl group and a (meth) acryloyl group in the molecule. Examples of such compounds include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate, 4 -Hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxyalkyl (meth) acryloyl phosphate, 4-hydroxycyclohexyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, neopentyl glycol mono (meth) acrylate, trimethylolpropane di ( And (meth) acrylate, trimethylolethane di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and the like. Furthermore, the compound obtained by addition reaction of a glycidyl group containing compound and (meth) acrylic acid, such as alkyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, and glycidyl (meth) acrylate, is mentioned.
Of these, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and the like are preferable.
(B) The compounding ratio of each raw material which comprises a component is a polyol compound 0.5-2 mol and a polyisocyanate compound 1-22.5 mol with respect to 1 mol of hydroxyl-containing (meth) acrylates, for example.

(B1)成分の数平均分子量(ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算値)は、好ましくは1,000〜100,000、より好ましくは3,000〜60,000、特に好ましくは5,000〜30,000である。数平均分子量が1,000未満であると、組成物の硬化物(例えば、クラッド層)について充分な屈曲抵抗性を得ることが困難となる。また、数平均分子量が100,000を超えると、組成物の粘度が高くなり過ぎて、組成物の塗工性が悪化することがある
光導波路本体形成用の組成物中の(B1)成分の配合量は、(A1)成分100質量部に対して、好ましくは10〜100質量部、より好ましくは20〜80質量部、特に好ましくは35〜70質量部である。該量が10質量部未満であると、組成物の硬化物(例えば、クラッド層)について十分な屈曲抵抗性が得られないことがあり、該量が100質量部を超えると、(A1)成分との相溶性が悪くなり、組成物の硬化物(例えば、クラッド層)の表面に膜荒れを生じたり、十分な透明性が得られないことがある。
The number average molecular weight (polystyrene conversion value measured by gel permeation chromatography) of the component (B1) is preferably 1,000 to 100,000, more preferably 3,000 to 60,000, particularly preferably 5,000. ~ 30,000. When the number average molecular weight is less than 1,000, it is difficult to obtain sufficient bending resistance for a cured product (eg, a clad layer) of the composition. Moreover, when the number average molecular weight exceeds 100,000, the viscosity of the composition becomes too high, and the coating property of the composition may be deteriorated. The component (B1) in the composition for forming an optical waveguide body The blending amount is preferably 10 to 100 parts by mass, more preferably 20 to 80 parts by mass, and particularly preferably 35 to 70 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A1). When the amount is less than 10 parts by mass, sufficient bending resistance may not be obtained for the cured product (eg, clad layer) of the composition. When the amount exceeds 100 parts by mass, component (A1) May become poor, resulting in film roughness on the surface of a cured product (eg, a clad layer) of the composition, or insufficient transparency.

[(C1)成分]
光導波路本体の材料である(C1)成分は、分子内にエチレン性不飽和基を1個以上有する化合物である。
なお、(C1)成分は、0.1MPaにおける沸点が130℃以上であることが好ましい。
ここで、エチレン性不飽和基としては、例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基等が挙げられる。
(C1)成分の分子量は、好ましくは2,000未満、より好ましくは1,000未満である。
分子内に2個以上のエチレン性不飽和基を有する(C1)成分の好ましい例としては、分子内に2個以上の(メタ)アクリロイル基及び/又はビニル基を有し、分子量1,000未満の化合物が挙げられる。
この場合、分子内のエチレン性不飽和基は、その全てがアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基のいずれか1種のみでもよいし、あるいは、アクリロイル基とメタクリロイル基、アクリロイル基とビニル基、メタクリロイル基とビニル基のいずれかの2種の組み合わせでもよいし、あるいは、アクリロイル基とメタクリロイル基とビニル基の3種の組み合わせでもよい。
[(C1) component]
The component (C1) which is a material of the optical waveguide body is a compound having one or more ethylenically unsaturated groups in the molecule.
The component (C1) preferably has a boiling point of 130 ° C. or higher at 0.1 MPa.
Here, examples of the ethylenically unsaturated group include a (meth) acryloyl group and a vinyl group.
The molecular weight of the component (C1) is preferably less than 2,000, more preferably less than 1,000.
Preferred examples of the component (C1) having two or more ethylenically unsaturated groups in the molecule include two or more (meth) acryloyl groups and / or vinyl groups in the molecule, and a molecular weight of less than 1,000 The compound of this is mentioned.
In this case, all of the ethylenically unsaturated groups in the molecule may be any one of acryloyl group, methacryloyl group and vinyl group, or acryloyl group and methacryloyl group, acryloyl group and vinyl group, methacryloyl group. And a combination of any two of vinyl group, or a combination of three types of acryloyl group, methacryloyl group and vinyl group.

分子内に2個の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレートの例としては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−へキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドの付加体であるジオールのジ(メタ)アクリレート、水添ビスフェノールAのエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドの付加体であるジオールのジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのジグリシジルエーテルに(メタ)アクリレートを付加させたエポキシ(メタ)アクリレート、ポリオキシアルキレン化ビスフェノールAのジアクリレート、9,9−ビス[4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン等が挙げられる。
分子内に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレートの例としては、3個以上の水酸基を有する多価アルコールに3モル以上の(メタ)アクリル酸がエステル結合した化合物、例えばトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
また、主鎖にポリエーテル、ポリエステルを有するポリエーテルアクリルオリゴマー、ポリエステルアクリルオリゴマー、あるいはポリエポキシアクリルオリゴマーも使用することができる。
Examples of (meth) acrylates having two (meth) acryloyl groups in the molecule include ethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4 -Butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate, bis (hydroxymethyl) ) Addition of tricyclodecane di (meth) acrylate, di (meth) acrylate of diol which is an adduct of bisphenol A ethylene oxide or propylene oxide, addition of ethylene oxide or propylene oxide of hydrogenated bisphenol A Di (meth) acrylate of diol, epoxy (meth) acrylate obtained by adding (meth) acrylate to diglycidyl ether of bisphenol A, diacrylate of polyoxyalkylenated bisphenol A, 9,9-bis [4- ( 2-acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene and the like.
Examples of (meth) acrylates having 3 or more (meth) acryloyl groups in the molecule include compounds in which 3 mol or more of (meth) acrylic acid is ester-bonded to a polyhydric alcohol having 3 or more hydroxyl groups, for example, Trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane trioxyethyl (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate Etc.
Moreover, polyether acrylic oligomer, polyester acrylic oligomer, or polyepoxy acrylic oligomer having polyether or polyester in the main chain can also be used.

分子内に1個の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレートの例としては、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルフォリン、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、ジイソプロピルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、イソブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシ−1−アダマンチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジエニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、2−アクリロイルシクロヘキシルコハク酸、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、アルキルアルコール(炭素数1〜8)のエチレンオキサイドの付加体であるアルコールの(メタ)アクリレート、フェノールのエチレンオキサイドの付加体であるアルコールの(メタ)アクリレート、p−クミルフェノールのエチレンオキサイドの付加体であるアルコールの(メタ)アクリレート、ノニルフェノールのエチレンオキサイドの付加体であるアルコールの(メタ)アクリレート、o−フェニルフェノールグリシジルエーテル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−フェノキシエチル(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシシクロヘキシルアクリレート、トリブロモフェノールエトキシ(メタ)アクリレート、2,2,2−トリフルオロメチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of (meth) acrylate having one (meth) acryloyl group in the molecule include dimethylaminoethyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, dimethylacrylamide, diethylacrylamide, diisopropylacrylamide, diacetoneacrylamide, and isobutoxymethyl. (Meth) acrylamide, N-vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactam, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxy-1 -Adamantyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate , Cyclohexyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, dicyclopentadienyl (meth) acrylate, tricyclo Decanyl (meth) acrylate, 2-acryloylcyclohexyl succinic acid, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, alkyl alcohol (1-8 carbon atoms) ) Of (meth) acrylate of alcohol which is an adduct of ethylene oxide, (meth) acrylate of alcohol which is an adduct of ethylene oxide of phenol, p-cumylphenol (Meth) acrylate of alcohol which is an adduct of tylene oxide, (meth) acrylate of alcohol which is an adduct of ethylene oxide of nonylphenol, o-phenylphenol glycidyl ether (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl ( (Meth) acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 3-hydroxycyclohexyl acrylate, tribromophenol ethoxy (meth) acrylate Rate, 2,2,2-trifluoromethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl (meth) acrylate, perfluorooctylethyl (Meth) acrylate etc. are mentioned.

これらの市販品としては、ユピマーUV SA1002、SA2007(以上、三菱化学社製)、ビスコート#150、#155、#160、#190、#192、#195、#230、#215、#260、#295、#300、#335HP、#360、#400、#540、#700、3F、3FM、4F、8F、8FM、2−MTA、2−ETA、V−MTG、3PA、GPT、HEA、HPA、4−HBA、AIB、IOAA、LA、STA、(以上、大阪有機化学工業社製)、ライトエステルM、E、NB、IB、EH、ID、L、L−7、TD、L−8、S、130MA、041MA、CH、THF、BZ、PO、IB−X、HO、HOP、HOA、HOP−A、HOB、DM、DE、HO−MS、EG、2EG、1.4BG、1.6HX、1.9ND、1.10DC、TMP、G−101P、G−201P、BP−2EM、BP−4EM、BP−6EM、MTG、BO、BC、3EG、4EG、9EG、14EG、NP、FM−108、G−201P、ライトアクリレートIO−A、HOB−A、TMP−3EO−A、FA−108、IAA、L−A、S−A、BO−A、EC−A、MTG−A、130A、DPM−A、PO−A、P−200A、NP−4EA、NP−8EA、THF−A、IB−XA、HOA、HOP−A、M−600A、HOA−MS、3EG−A、4EG−A、9EG−A、14EG−A、NP−A、MPD−A、1.6HX−A、BEPG−A、1.9ND−A、MOD−A、DCP−A、BP−4EA、BP−4PA、BP−10EA、TMP−A、TMP−6EO−3A、PE−3A、PE−4A、DPE−6A、BA−104、BA−134(以上、共栄社化学社製)、KAYARAD
MANDA、HX−220、HX−620、R−551、R−712、R−604、R−684、PET−30、GPO−303、TMPTA、DPHA、D−310、D−330、DPCA−20、−30、−60、−120(以上、日本化薬社製)、アロニックスM208、M210、M215、M220、M240、M305、M309、M310、M315、M325、M400、M1200、M6100、M6200、M6250、M7100、M8030、M8060、M8100、M8530、M8560、M9050(以上、東亞合成社製)、NKエステル#401P、NKエステルA−BPEF、NKエステルA−CMP−1E(以上、新中村化学工業社製)、ニューフロンティアBR−31(以上、第一工業製薬社製)、リポキシVR−77、VR−60、VR−90(以上、昭和高分子社製)、Ebecryl81、83、600、629、645、745、754、767、701、755、705、770、800、805、810、830、450、1830、1870(以上、ダイセルUCB社製)、ビームセット575、551B、502H、102(以上、荒川化学社製)、アダマンテートHA、HM(以上、出光興産社製)等が挙げられる。
(C1)成分は、1種を単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いられる。
(C1)成分の配合量は、(A1)成分100質量部に対して、好ましくは5〜100質量部、より好ましくは10〜70質量部、特に好ましくは20〜50質量部である。該量が5質量部未満であると、光導波路本体を形成する際、目的とする導波路の形状の精度が劣ることがあり、該量が100質量部を超えると、(A1)成分との相溶性が悪くなり、硬化物の表面に膜荒れを生じることがある。
As these commercial products, Iupimer UV SA1002, SA2007 (above, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Biscote # 150, # 155, # 160, # 190, # 192, # 195, # 230, # 215, # 260, # 260 295, # 300, # 335HP, # 360, # 400, # 540, # 700, 3F, 3FM, 4F, 8F, 8FM, 2-MTA, 2-ETA, V-MTG, 3PA, GPT, HEA, HPA, 4-HBA, AIB, IOAA, LA, STA (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), light ester M, E, NB, IB, EH, ID, L, L-7, TD, L-8, S , 130MA, 041MA, CH, THF, BZ, PO, IB-X, HO, HOP, HOA, HOP-A, HOB, DM, DE, HO-MS, EG, 2EG, 1.4BG, 1.6HX, 1.9ND, 1.10DC, TMP, G-101P, G-201P, BP-2EM, BP-4EM, BP-6EM, MTG, BO, BC, 3EG, 4EG, 9EG, 14EG, NP, FM-108, G-201P, light acrylate IO-A, HOB-A, TMP-3EO-A, FA-108, IAA, LA, SA, BO-A, EC-A, MTG-A, 130A, DPM-A, PO-A, P-200A, NP-4EA, NP-8EA, THF-A, IB-XA, HOA, HOP-A, M-600A, HOA-MS, 3EG-A, 4EG- A, 9EG-A, 14EG-A, NP-A, MPD-A, 1.6HX-A, BEPG-A, 1.9ND-A, MOD-A, DCP-A, BP-4EA, BP-4PA, BP-10EA, MP-A, TMP-6EO-3A, PE-3A, PE-4A, DPE-6A, BA-104, BA-134 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co.), KAYARAD
MANDA, HX-220, HX-620, R-551, R-712, R-604, R-684, PET-30, GPO-303, TMPTA, DPHA, D-310, D-330, DPCA-20, -30, -60, -120 (Nippon Kayaku Co., Ltd.), Aronix M208, M210, M215, M220, M240, M305, M309, M310, M315, M325, M400, M1200, M6100, M6200, M6250, M7100 M8030, M8060, M8100, M8530, M8560, M9050 (above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), NK ester # 401P, NK ester A-BPEF, NK ester A-CMP-1E (above, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), New Frontier BR-31 (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), Lipoxy VR-77, VR-60, VR-90 (manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.), Ebecryl 81, 83, 600, 629, 645, 745, 754, 767, 701, 755, 705, 770, 800, 805, 810, 830, 450, 1830, 1870 (manufactured by Daicel UCB), beam sets 575, 551B, 502H, 102 (manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd.), adamantate HA, HM (manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.), etc. Is mentioned.
(C1) A component is used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
(C1) The compounding quantity of a component becomes like this. Preferably it is 5-100 mass parts with respect to 100 mass parts of (A1) component, More preferably, it is 10-70 mass parts, Most preferably, it is 20-50 mass parts. When the amount is less than 5 parts by mass, the accuracy of the shape of the target waveguide may be inferior when the optical waveguide body is formed. When the amount exceeds 100 parts by mass, the component (A1) Compatibility may deteriorate and film roughness may occur on the surface of the cured product.

[(D1)成分]
光導波路本体の材料である(D1)成分の一例としては、エチレン性不飽和基を重合しうる活性種(ラジカル種)を光の照射によって発生することのできる光ラジカル重合開始剤が挙げられる。
ここで光とは、例えば赤外線、可視光線、紫外線、及びX線、電子線、α線、β線、γ線のような電離放射線を意味する。
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が挙げられる。
光ラジカル重合開始剤の市販品としては、例えば、Irgacure184、369、651、500、819、907、784、2959、CGI1700、CGI1750、CGI11850、CG24−61、Darocur1116、1173(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、LucirinTPO、TPO−L(以上、BASF社製)、ユベクリルP36(UCB社製)等が挙げられる。
光ラジカル重合開始剤は、1種を単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いられる。
[(D1) component]
As an example of the component (D1) that is a material of the optical waveguide body, there is a photo radical polymerization initiator that can generate an active species (radical species) capable of polymerizing an ethylenically unsaturated group by light irradiation.
Here, light means ionizing radiation such as infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, and X-rays, electron beams, α rays, β rays, and γ rays.
Examples of the photo radical polymerization initiator include acetophenone, acetophenone benzyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, xanthone, fluorenone, benzaldehyde, fluorene, anthraquinone, triphenylamine, carbazole, 3-methylacetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4′-dimethoxybenzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone, Michler's ketone, benzoin propyl ether, benzoin ethyl ether, benzyldimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2 -Hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, thioxanthone, diethylthio Xanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, And bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide.
Examples of commercially available radical photopolymerization initiators include Irgacure 184, 369, 651, 500, 819, 907, 784, 2959, CGI 1700, CGI 1750, CGI 11850, CG 24-61, Darocur 1116, 1173 (and above, Ciba Specialty Chemicals). Co., Ltd.), Lucirin TPO, TPO-L (above, manufactured by BASF), Ubekrill P36 (manufactured by UCB), and the like.
A radical photopolymerization initiator is used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

光導波路本体形成用の組成物中の(D1)成分の含有率は、好ましくは0.1〜10質量%、より好ましくは0.2〜5質量%である。該含有率が0.1質量%未満では、硬化が十分に進行せず、光導波路の伝送特性に問題が生じることがある。一方、該含有率が10質量%を超えると、光重合開始剤が長期の伝送特性に悪影響を及ぼす可能性がある。
本発明においては、上述の光重合開始剤と共に光増感剤を配合することができる。光増感剤を併用すれば、光等のエネルギー線をより効果的に吸収することができる。
光増感剤としては、例えば、チオキサントン、ジエチルチオキサントン及びチオキサントンの誘導体;アントラキノン、ブロムアントラキノン及びアントラキノンの誘導体;アントラセン、ブロムアントラセン及びアントラセン誘導体;ペリレン及びペリレンの誘導体;キサントン、チオキサントン及びチオキサントンの誘導体;クマリン及びケトクマリン等を挙げることができる。光増感剤の種類は、光重合開始剤の種類に応じて選択すればよい。
The content of the component (D1) in the composition for forming an optical waveguide body is preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.2 to 5% by mass. When the content is less than 0.1% by mass, curing does not proceed sufficiently, and a problem may occur in the transmission characteristics of the optical waveguide. On the other hand, if the content exceeds 10% by mass, the photopolymerization initiator may adversely affect long-term transmission characteristics.
In this invention, a photosensitizer can be mix | blended with the above-mentioned photoinitiator. If a photosensitizer is used in combination, energy rays such as light can be absorbed more effectively.
Photosensitizers include, for example, thioxanthone, diethylthioxanthone and thioxanthone derivatives; anthraquinone, bromoanthraquinone and anthraquinone derivatives; anthracene, bromoanthracene and anthracene derivatives; perylene and perylene derivatives; xanthone, thioxanthone and thioxanthone derivatives; And ketocoumarin. What is necessary is just to select the kind of photosensitizer according to the kind of photoinitiator.

光導波路本体形成用の組成物には、前記の(A1)〜(D1)以外に必要に応じて、本発明の樹脂組成物の特性を損なわない範囲で、例えば、分子中に1個の重合性反応基を有する化合物や、高分子樹脂(例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリクロロプレン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、セルロース樹脂、フッ素系ポリマー、シリコーン系ポリマー)等を配合することができる。
さらにまた、必要に応じて各種添加剤として、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、老化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等を配合することができる。
In the composition for forming the optical waveguide body, other than the above (A1) to (D1), if necessary, for example, one polymerization in the molecule within a range not impairing the characteristics of the resin composition of the present invention. A compound having a reactive reactive group or a polymer resin (for example, epoxy resin, acrylic resin, polyamide resin, polyamideimide resin, polyurethane resin, polybutadiene resin, polychloroprene resin, polyether resin, polyester resin, styrene-butadiene block copolymer) Coal, petroleum resin, xylene resin, ketone resin, cellulose resin, fluorine-based polymer, silicone-based polymer) and the like can be blended.
Furthermore, various additives as necessary, for example, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, silane coupling agents, coating surface improvers, thermal polymerization inhibitors, leveling agents, surfactants, colorants, Storage stabilizers, plasticizers, lubricants, fillers, inorganic particles, anti-aging agents, wettability improvers, antistatic agents and the like can be blended.

ここで酸化防止剤としては、例えばIrganox1010、1035、1076、1222(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、Antigene P、3C、FR、スミライザー(住友化学工業社製)等が挙げられる。紫外線吸収剤としては、例えばTinuvin P、234、320、326、327、328、329、213(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、Seesorb102、103、110、501、202、712、704(以上、シプロ化成社製)等が挙げられる。光安定剤としては、例えばTinuvin 292、144、622LD(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、サノールLS770(三共社製)、Sumisorb TM−061(住友化学工業社製)等が挙げられる。シランカップリング剤としては、例えばγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられ、市販品として、SH6062、SZ6030(以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン社製)、KBE903、603、403(以上、信越化学工業社製)等が挙げられる。塗面改良剤としては、例えばジメチルシロキサンポリエーテル等のシリコーン添加剤が挙げられ、市販品としてはDC−57、DC−190(以上、ダウコーニング社製)、SH一28PA、SH−29PA、SH−30PA、SH−190(以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン社製)、KF351、KF352、KF353、KF354(以上、信越化学工業社製)、L−700、L−7002、L−7500、FK−024−90(以上、日本ユニカー社製)等が挙げられる。
組成物を調製するには、常法にしたがって前記の各成分を混合撹拌すればよい。
Here, examples of the antioxidant include Irganox 1010, 1035, 1076, 1222 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), Antigene P, 3C, FR, and Sumilizer (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.). Examples of ultraviolet absorbers include Tinuvin P, 234, 320, 326, 327, 328, 329, 213 (and above, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), Seesorb 102, 103, 110, 501, 202, 712, and 704 (and above). , Manufactured by Sipro Kasei Co., Ltd.). Examples of the light stabilizer include Tinuvin 292, 144, 622LD (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), Sanol LS770 (manufactured by Sankyo Co., Ltd.), Sumisorb TM-061 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), and the like. Examples of the silane coupling agent include γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and the like, and commercially available products such as SH6062 and SZ6030 (above, Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.), KBE903, 603, 403 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). Examples of the coating surface improver include silicone additives such as dimethylsiloxane polyether, and commercially available products include DC-57, DC-190 (manufactured by Dow Corning), SH-28PA, SH-29PA, SH. -30PA, SH-190 (above, manufactured by Toray Dow Corning Silicone), KF351, KF352, KF353, KF354 (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), L-700, L-7002, L-7500, FK- 024-90 (manufactured by Nihon Unicar).
In order to prepare the composition, the above-described components may be mixed and stirred according to a conventional method.

[2.放射線硬化性接着剤用組成物の硬化膜]
放射線硬化性接着剤用組成物の硬化膜(以下、「接着剤層」ともいう。)は、下部クラッド層と上部クラッド層の少なくとも一方の外表面と、ポリイミドフィルム層との間に介在するように形成される。
本発明において、放射線硬化性接着剤用組成物の硬化膜は、高温での変形の抑制効果を高める観点から、下部クラッド層とポリイミドフィルム層の間、及び、上記クラッド層とポリイミドフィルム層の間の各々に対して、形成されることが好ましい。
放射線硬化性接着剤用組成物は、(A)2官能以上の多官能エポキシモノマー(ただし、(メタ)アクリロイル基を有するものを除く。)、(B)2官能以上の多官能オキセタンモノマー、(C)1分子内に少なくとも1個以上の(メタ)アクリロイル基、及び、少なくとも1個以上のエポキシ基を有する化合物、及び(D)カチオン性重合開始剤を含むものである。
なお、(A)成分である2官能以上の多官能エポキシモノマーとは、分子内にエポキシ基を2個以上有するモノマーを意味する。また、(B)成分である2官能以上の多官能オキセタンモノマーとは、分子内にオキセタニル基を2個以上有するモノマーを意味する。
[2. Cured film of radiation curable adhesive composition]
A cured film of the radiation-curable adhesive composition (hereinafter also referred to as “adhesive layer”) is interposed between the outer surface of at least one of the lower cladding layer and the upper cladding layer and the polyimide film layer. Formed.
In the present invention, the cured film of the radiation curable adhesive composition is between the lower clad layer and the polyimide film layer and between the clad layer and the polyimide film layer from the viewpoint of enhancing the effect of suppressing deformation at high temperatures. Are preferably formed for each of the above.
The composition for radiation curable adhesives comprises (A) a bifunctional or higher polyfunctional epoxy monomer (except for those having a (meth) acryloyl group), (B) a bifunctional or higher polyfunctional oxetane monomer, ( C) A compound having at least one (meth) acryloyl group and at least one epoxy group in one molecule, and (D) a cationic polymerization initiator.
In addition, the polyfunctional epoxy monomer more than bifunctional which is (A) component means the monomer which has 2 or more of epoxy groups in a molecule | numerator. Moreover, the bifunctional or more polyfunctional oxetane monomer which is the component (B) means a monomer having two or more oxetanyl groups in the molecule.

(A)成分として使用することのできる多官能エポキシモノマーとしては、例えばビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールFジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールSジグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールSジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ε−カプロラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチルカプロラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、β−メチル−δ−バレロラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート等が挙げられる。
接着剤用組成物中の(A)成分の含有率は、好ましくは10〜50質量%、より好ましくは20〜50質量%である。該含有率が10質量%未満では、ポリイミドフィルムとの接着性が低下することがある。該含有率が50質量%を超えると、硬化速度が低下し、機械的強度が低下する傾向にある。
Examples of the polyfunctional epoxy monomer that can be used as the component (A) include bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, brominated bisphenol A diglycidyl ether, and brominated bisphenol F diglycidyl. Ether, brominated bisphenol S diglycidyl ether, epoxy novolac resin, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol S diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4 '-Epoxycyclohexanecarboxylate, ε-caprolactone modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate, Limethylcaprolactone-modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, β-methyl-δ-valerolactone-modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-meta-dioxane, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, and the like.
The content rate of (A) component in the composition for adhesives becomes like this. Preferably it is 10-50 mass%, More preferably, it is 20-50 mass%. If this content rate is less than 10 mass%, adhesiveness with a polyimide film may fall. When the content exceeds 50% by mass, the curing rate decreases and the mechanical strength tends to decrease.

(B)成分として使用することのできる2官能以上の多官能オキセタンモノマーとしては、例えば、キシリレンジオキセタン、ビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、1,4−ビス{[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ]メチル}ベンゼン、1,3−ビス{(1−エチル−3−オキセタニル)メトキシ}ベンゼン等が挙げられる。
接着剤用組成物中の(B)成分の含有率は、好ましくは10〜50質量%、より好ましくは20〜50質量%である。該含有率が10質量%未満では、硬化速度が低下し、機械的強度が低下する傾向にある。該含有率が50質量%を超えると、光導波路本体との接着強度が低下することがある。
(C)成分として使用することのできる、1分子内に少なくとも1個以上の(メタ)アクリロイル基、及び、少なくとも1個以上のエポキシ基を有する化合物としては、例えば、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート等が挙げられる。
接着剤用組成物中の(C)成分の含有率は、好ましくは1〜45質量%、より好ましくは5〜40質量%である。該含有率が1質量%未満では、光導波路本体との接着強度が低下する傾向がある。該含有率が45質量%を超えると、硬化速度が低下し、機械的強度が低下することがある。
Examples of the bifunctional or higher polyfunctional oxetane monomer that can be used as the component (B) include xylylene oxetane, bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 1,4-bis {[(3- And ethyl-3-oxetanyl) methoxy] methyl} benzene, 1,3-bis {(1-ethyl-3-oxetanyl) methoxy} benzene, and the like.
The content rate of (B) component in the composition for adhesives becomes like this. Preferably it is 10-50 mass%, More preferably, it is 20-50 mass%. When the content is less than 10% by mass, the curing rate tends to decrease and the mechanical strength tends to decrease. When this content rate exceeds 50 mass%, the adhesive strength with an optical waveguide main body may fall.
Examples of the compound having at least one (meth) acryloyl group and at least one epoxy group in one molecule that can be used as the component (C) include 3,4-epoxycyclohexylmethyl. Examples include methacrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl acrylate, glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, and the like.
The content rate of (C) component in the composition for adhesive agents becomes like this. Preferably it is 1-45 mass%, More preferably, it is 5-40 mass%. When the content is less than 1% by mass, the adhesive strength with the optical waveguide main body tends to decrease. When this content rate exceeds 45 mass%, a cure rate may fall and mechanical strength may fall.

(D)成分として使用することのできるカチオン性光重合開始剤は、光などのエネルギー線を受けることによって、前記(A)成分〜(C)成分のカチオン重合を開始させる物質を放出することができる化合物である。ここで、光などのエネルギー線とは可視光、紫外光、赤外光、X線、α線、β線、γ線などを意味する。特に好ましい(D)成分の化合物として、下記一般式(6)で表される構造を有するオニウム塩を挙げることができる。
[R W]+m[MXn+m−m (6)
(式中、カチオンはオニウムイオンであり、WはS、Se、Te、P、As、Sb、Bi、O、I、Br、Clまたは−N=Nであり、R、R、RおよびRは同一または異なる有機基であり、a、b、cおよびdは各々0〜3の整数であって、(a+b+c+d−m)はWの価数に等しい。Mはハロゲン化物錯体[MXn+m]の中心原子を構成する金属またはメタロイドであり、例えばB、P、As、Sb、Fe、Sn、Bi、Al、Ca、In、Ti、Zn、Sc、V、Cr、Mn、Coなどである。Xは、例えばF、Cl、Brなどのハロゲン原子であり、mはハロゲン化物錯体イオンの正味の電荷であり、nはMの原子価である。)
The cationic photopolymerization initiator that can be used as the component (D) releases a substance that initiates the cationic polymerization of the components (A) to (C) by receiving energy rays such as light. It is a compound that can be. Here, energy rays such as light means visible light, ultraviolet light, infrared light, X-rays, α rays, β rays, γ rays, and the like. Particularly preferable examples of the compound (D) include onium salts having a structure represented by the following general formula (6).
[R 2 a R 3 b R 4 c R 5 d W] + m [MX n + m] -m (6)
(Wherein the cation is an onium ion, W is S, Se, Te, P, As, Sb, Bi, O, I, Br, Cl or -N = N, R 2, R 3, R 4 And R 5 are the same or different organic groups, a, b, c and d are each an integer of 0 to 3, and (a + b + c + dm) is equal to the valence of W. M is a halide complex [MX n + m ], which is a metal or metalloid constituting the central atom of B, P, As, Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ca, In, Ti, Zn, Sc, V, Cr, Mn, Co, etc. X is a halogen atom such as F, Cl, Br, etc., m is the net charge of the halide complex ion, and n is the valence of M.)

一般式(6)で表されるオニウム塩は、光を受けることによりルイス酸を放出する化合物である。一般式(6)中におけるアニオン[MXn+m]の具体例としては、テトラフルオロボレート(BF )、ヘキサフルオロホスフェート(PF )、ヘキサフルオロアンチモネート(SbF )、ヘキサフルオロアルセネート(AsF )、ヘキサクロロアンチモネート(SbCl )などが挙げられる。 The onium salt represented by the general formula (6) is a compound that releases a Lewis acid by receiving light. Specific examples of the anion [MX n + m ] in the general formula (6) include tetrafluoroborate (BF 4 ), hexafluorophosphate (PF 6 ), hexafluoroantimonate (SbF 6 ), hexafluoroarsenate. (AsF 6 ), hexachloroantimonate (SbCl 6 ) and the like.

また、一般式[MX(OH)]で表されるアニオンを有するオニウム塩を使用することができる。さらに、過塩素酸イオン(ClO )、トリフルオロメタンスルフォン酸イオン(CFSO )、フルオロスルフォン酸イオン(FSO )、トルエンスルフォン酸イオン、トリニトロベンゼンスルフォン酸アニオン、トリニトロトルエンスルフォン酸アニオンなどの他のアニオンを有するオニウム塩を使用することもできる。 Moreover, the onium salt which has an anion represented with general formula [MXn (OH) < - >] can be used. Furthermore, perchlorate ion (ClO 4 ), trifluoromethane sulfonate ion (CF 3 SO 3 ), fluorosulfonate ion (FSO 3 ), toluene sulfonate ion, trinitrobenzene sulfonate anion, trinitrotoluene sulfonate Onium salts having other anions such as anions can also be used.

このようなオニウム塩のうち、(D)成分として特に有効なオニウム塩は芳香族オニウム塩である。中でも、特開昭50−151996号公報、特開昭50−158680号公報などに記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭50−151997号公報、特開昭52−30899号公報、特開昭56−55420号公報、特開昭55−125105号公報などに記載のVIA族芳香族オニウム塩、特開昭50−158698号公報などに記載のVA族芳香族オニウム塩、特開昭56−8428号公報、特開昭56−149402号公報、特開昭57−192429号公報などに記載のオキソスルホキソニウム塩、特開昭49−17040号公報などに記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第4,139,655号明細書に記載のチオビリリウム塩などが好ましい。また、鉄/アレン錯体、アルミニウム錯体/光分解ケイ素化合物系開始剤なども挙げることができる。   Among such onium salts, aromatic onium salts are particularly effective as the component (D). Of these, aromatic halonium salts described in JP-A-50-151996, JP-A-50-158680, JP-A-50-151997, JP-A-52-30899, JP-A-56. Group VIA aromatic onium salts described in JP-A-55420, JP-A-55-125105, etc., Group VA aromatic onium salts described in JP-A-50-158698, etc., JP-A-56-8428 Oxosulfoxonium salts described in JP-A-56-149402 and JP-A-57-192429, aromatic diazonium salts described in JP-A-49-17040, US Pat. , 139,655 specification, and the like. Moreover, an iron / allene complex, an aluminum complex / photolytic silicon compound-based initiator, and the like can also be mentioned.

(D)成分として好適に使用できるカチオン性光重合開始剤の市販品としては、UVI−6950、UVI−6970、UVI−6974、UVI−6990(以上、ユニオンカーバイド社製)、アデカオプトマーSP−150、SP−151、SP−170、SP−172(以上、ADEKA社製)、Irgacure 261(以上、チバスペシャルティケミカルズ社製)、CI−2481、CI−2624、CI−2639、CI−2064(以上、日本曹達社製)、CD−1010、CD−1011、CD−1012(以上、サートマー社製)、DTS−102、DTS−103、NAT−103、NDS−103、TPS−103、MDS−103、MPI−103、BBI−103(以上、みどり化学社製)、PCI−061T、PCI−062T、PCI−020T、PCI−022T(以上、日本化薬社製)、CPI−100A、CPI−110A、K−1(以上、サンアプロ株式会社製)などを挙げることができる。これらのうち、UVI−6970、UVI−6974、アデカオプトマーSP−170、SP−172、CD−1012、MPI−103は、これらを含有してなる組成物に高い光硬化感度を発現させることができることから特に好ましい。上記のカチオン性光重合開始剤は、1種単独でまたは2種以上組み合わせて(D)成分を構成することができる。
接着剤用組成物中の(D)成分の含有率は、好ましくは0.1〜10質量%、より好ましくは1〜8質量%である。該含有率が0.1質量%未満では、組成物の硬化性が低下する。該含有率が10質量%を超えると、接着剤用組成物を放射線硬化させるときに、十分な光透過性を得ることが出来ず、硬化不良を生じる。
Commercially available cationic photopolymerization initiators that can be suitably used as the component (D) include UVI-6950, UVI-6970, UVI-6974, UVI-6990 (manufactured by Union Carbide), Adekaoptomer SP- 150, SP-151, SP-170, SP-172 (above, manufactured by ADEKA), Irgacure 261 (above, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), CI-2481, CI-2624, CI-2638, CI-2064 (above Manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.), CD-1010, CD-1011, CD-1012 (above, manufactured by Sartomer), DTS-102, DTS-103, NAT-103, NDS-103, TPS-103, MDS-103, MPI-103, BBI-103 (manufactured by Midori Chemical Co., Ltd.), PCI-061T, PCI-062T, PCI-020T, PCI-022T (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), CPI-100A, CPI-110A, K-1 (manufactured by San Apro Co., Ltd.) and the like. Among these, UVI-6970, UVI-6974, Adekaoptomer SP-170, SP-172, CD-1012, and MPI-103 can exhibit high photocuring sensitivity in the composition containing them. This is particularly preferable because it can be performed. Said cationic photoinitiator can comprise (D) component individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
The content rate of (D) component in the composition for adhesives becomes like this. Preferably it is 0.1-10 mass%, More preferably, it is 1-8 mass%. When the content is less than 0.1% by mass, the curability of the composition is lowered. When this content rate exceeds 10 mass%, when the adhesive composition is cured by radiation, sufficient light transmittance cannot be obtained, resulting in poor curing.

[3.ポリイミドフィルム層]
ポリイミドフィルム層は、ポリイミドフィルムからなる。
ポリイミドフィルムは、芳香族ポリイミド及び/又は芳香族ポリアミック酸を含む重合物からなる。
芳香族ポリイミド及び/又は芳香族ポリアミック酸の好適な例として、下記の成分(A2)と成分(B2)を反応させてなるものが挙げられる。
[成分(A2)]
成分(A2)は、下記一般式(7)で表される芳香族テトラカルボン酸二無水物である。

Figure 2008249753
(式中、Xは2価の基であり、ベンゼン環のどの位置に結合していてもよい。)
ここで、一般式(7)中のX(2価の基)は、例えば、−O−、−SO−、−CO−、−S−、−C(CH−、−Si(CH−または−Si(Ph)−であり、好ましくは、−O−、−SO−、より好ましくは−O−である。
成分(A2)の具体的な化合物名としては、4,4’−オキシジフタル酸二無水物(オルトジフェニルフタル酸二無水物)、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−テトラフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物等が挙げられる。
中でも、紫外線透過性の向上の観点から、4,4’−オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物等が、好ましく用いられ、4,4’−オキシジフタル酸二無水物が特に好ましく用いられる。 [3. Polyimide film layer]
The polyimide film layer is made of a polyimide film.
A polyimide film consists of a polymer containing an aromatic polyimide and / or an aromatic polyamic acid.
Preferable examples of the aromatic polyimide and / or aromatic polyamic acid include those obtained by reacting the following component (A2) and component (B2).
[Component (A2)]
The component (A2) is an aromatic tetracarboxylic dianhydride represented by the following general formula (7).
Figure 2008249753
(In the formula, X is a divalent group and may be bonded to any position of the benzene ring.)
Here, X (divalent group) in the general formula (7) is, for example, —O—, —SO 2 —, —CO—, —S—, —C (CH 3 ) 2 —, —Si ( CH 3 ) 2 — or —Si (Ph) 2 —, preferably —O—, —SO 2 —, more preferably —O—.
Specific compound names of component (A2) include 4,4′-oxydiphthalic dianhydride (orthodiphenylphthalic dianhydride), 3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-dimethyldiphenylsilanetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′- Examples thereof include tetraphenyltetracarboxylic dianhydride and 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride.
Among these, 4,4′-oxydiphthalic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, and the like are preferably used from the viewpoint of improving ultraviolet transmittance. '-Oxydiphthalic dianhydride is particularly preferably used.

[成分(B2)]
成分(B2)は、芳香族ジアミンである。
成分(B2)として用いられる芳香族ジアミンの例としては、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジメトキシ−4,4’−ジアミノビフェニル、1,5−ジアミノナフタレン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)−10−ヒドロアントラセン、4,4’−(p−フェニレンイソプロピリデン)ビスアニリン、4,4’−(m−フェニレンイソプロピリデン)ビスアニリン、5−アミノ−1−(4’−アミノフェニル)−1,3,3−トリメチルインダン、6−アミノ−1−(4’−アミノフェニル)−1,3,3−トリメチルインダン、2,7−ジアミノフルオレン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノベンズアニリド、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、3,4’−ジアミノベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−(p−ビフェニレンジオキシ)ジアニリン等が挙げられる。
中でも、紫外線透過性の向上の観点から、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−(p−ビフェニレンジオキシ)ジアニリンが、好ましく用いられ、4,4’−(p−ビフェニレンジオキシ)ジアニリンが特に好ましく用いられる。
[Component (B2)]
Component (B2) is an aromatic diamine.
Examples of the aromatic diamine used as the component (B2) include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 3,3′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 3,3′-dimethoxy-4,4. '-Diaminobiphenyl, 1,5-diaminonaphthalene, 9,9-bis (4-aminophenyl) -10-hydroanthracene, 4,4'-(p-phenyleneisopropylidene) bisaniline, 4,4 '-(m -Phenylene isopropylidene) bisaniline, 5-amino-1- (4'-aminophenyl) -1,3,3-trimethylindane, 6-amino-1- (4'-aminophenyl) -1,3,3- Trimethylindane, 2,7-diaminofluorene, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'- Diaminodiphenylethane, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminobenzanilide, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3 '-Diaminobenzophenone, 3,4'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4- Aminophenoxy) phenyl] sulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 4,4 ′ -(P-biphenylenedioxy) dianiline etc. are mentioned.
Among these, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene and 4,4 ′-(p-biphenylenedioxy) dianiline are preferably used from the viewpoint of improving ultraviolet transmittance, and 4,4 ′-(p -Biphenylenedioxy) dianiline is particularly preferably used.

ポリイミドフィルムを形成するための芳香族ポリイミド及び/又は芳香族ポリアミック酸は、成分(A2)と成分(B2)を反応させることにより製造される。
下記の式(8)で表される成分(A2)(4,4’−オキシジフタル酸二無水物)と下記の式(9)で表される成分(B2)(4,4’−(p−ビフェニレンジオキシ)ジアニリン)を反応させて芳香族ポリイミドを製造する場合を例にして、反応機構を説明する。

Figure 2008249753
Figure 2008249753
The aromatic polyimide and / or aromatic polyamic acid for forming the polyimide film is produced by reacting the component (A2) and the component (B2).
Component (A2) represented by the following formula (8) (4,4′-oxydiphthalic dianhydride) and component (B2) represented by the following formula (9) (4,4 ′-(p- The reaction mechanism will be described by taking an example of producing an aromatic polyimide by reacting biphenylenedioxy) dianiline).
Figure 2008249753
Figure 2008249753

まず、下記の式(10)、(11)に示すように、成分(A2)の酸無水物基(式(10)の左側の化学式を参照)と、成分(B2)のアミノ基(式(10)の右側の化学式を参照)が反応して、芳香族ポリアミック酸(式(11)を参照)が生成する。

Figure 2008249753
Figure 2008249753
First, as shown in the following formulas (10) and (11), the acid anhydride group of the component (A2) (see the chemical formula on the left side of the formula (10)) and the amino group of the component (B2) (formula ( 10) on the right side) reacts to produce an aromatic polyamic acid (see formula (11)).
Figure 2008249753
Figure 2008249753

本発明において、成分(A2)と成分(B2)の反応による芳香族ポリアミック酸の生成は、有機溶媒中で−20〜150℃、好ましくは0〜100℃の温度下に成分(A2)と成分(B2)を混合攪拌することにより行われる。
成分(A2)及び成分(B2)の配合割合は、成分(B2)のアミノ基1当量に対して、成分(A2)の酸無水物基が0.8〜1.2当量となる割合が好ましく、1.0〜1.1当量となる割合がより好ましい。成分(B2)のアミノ基1当量に対して、成分(A2)の酸無水物基の量が0.8当量未満、若しくは1.2当量を超えると、基材に塗布し乾燥させた後にフィルムが形成されない場合がある。
本発明で使用される有機溶媒の例としては、例えば、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミド等の非プロトン系極性溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸n−ブチル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、しゅう酸ジエチル、マロン酸ジエチル、乳酸エチル、乳酸n−プロピル、乳酸n−ブチル等のエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;フェノール、m−クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノール等のフェノール類等を挙げることができる。
中でも、溶解性の観点からN−メチルピロリドン(NMP)が、好ましく用いられる。
In the present invention, the formation of the aromatic polyamic acid by the reaction of the component (A2) and the component (B2) is carried out at a temperature of -20 to 150 ° C., preferably 0 to 100 ° C. in an organic solvent. (B2) is performed by mixing and stirring.
The proportion of component (A2) and component (B2) is preferably such that the acid anhydride group of component (A2) is 0.8 to 1.2 equivalents relative to 1 equivalent of amino group of component (B2). The ratio which becomes 1.0-1.1 equivalent is more preferable. When the amount of the acid anhydride group of the component (A2) is less than 0.8 equivalent or more than 1.2 equivalent with respect to 1 equivalent of the amino group of the component (B2), the film is applied to the substrate and dried. May not be formed.
Examples of the organic solvent used in the present invention include, for example, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, tetramethylurea , Aprotic polar solvents such as hexamethyl phosphortriamide; methyl acetate, ethyl acetate, n-propyl acetate, n-butyl acetate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, diethyl oxalate, diethyl malonate, ethyl lactate And esters such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; phenols such as phenol, m-cresol, xylenol, and halogenated phenol. .
Among these, N-methylpyrrolidone (NMP) is preferably used from the viewpoint of solubility.

有機溶媒の使用量は、成分(A2)と成分(B2)と有機溶媒とを含む反応溶液の全量中に占める成分(A2)と成分(B2)の合計量の質量割合が0.1〜30質量%、好ましくは1〜20質量%、より好ましくは1〜15質量%となる量である。
反応時の圧力は特に限定されず、通常、常圧でよい。反応時間は、通常、1〜10時間である。
The amount of the organic solvent used is such that the mass ratio of the total amount of the component (A2) and the component (B2) in the total amount of the reaction solution containing the component (A2), the component (B2), and the organic solvent is 0.1 to 30. The amount is 1% by mass, preferably 1-20% by mass, more preferably 1-15% by mass.
The pressure at the time of reaction is not specifically limited, Usually, a normal pressure may be sufficient. The reaction time is usually 1 to 10 hours.

式(11)で示される芳香族ポリアミック酸は、基材に塗布し乾燥させて形成されたフィルム状態で加熱することによってイミド化が進み、式(12)で示される芳香族ポリイミドになる。

Figure 2008249753
When the aromatic polyamic acid represented by the formula (11) is heated in a film state formed by applying it to a substrate and drying it, the imidization proceeds to become an aromatic polyimide represented by the formula (12).
Figure 2008249753

イミド化の際の加熱温度は、200℃〜400℃、好ましくは250℃〜350℃である。該温度範囲内で加熱することにより、芳香族ポリアミック酸のイミド化を十分に進行させることができる。加熱時間は、好ましくは、30〜120分間である。
芳香族ポリアミック酸のイミド化の割合は、0〜100%の間で特に限定されるものではないが、好ましくは50〜100%、より好ましくは80〜100%である。該割合が50%未満では、フィルムの耐水性が低下することがある。
芳香族ポリイミド及び芳香族ポリアミック酸の数平均分子量は、GPC法で測定されたポリスチレン換算値として、機械的強度の観点から、好ましくは3,000以上である。
芳香族ポリイミド及び芳香族ポリアミック酸の数平均分子量の上限値は、特に限定されないが、通常、500,000以下である。
ポリイミドフィルムは、表面がコロナ放電処理されていることが好ましい。
ポリイミドフィルム層の厚さは、十分な難燃性を付与し、かつ高い光透過性を得る観点から、好ましくは1〜60μm、より好ましくは10〜40μmである。
The heating temperature during imidization is 200 ° C to 400 ° C, preferably 250 ° C to 350 ° C. By heating within the temperature range, imidization of the aromatic polyamic acid can be sufficiently advanced. The heating time is preferably 30 to 120 minutes.
The imidation ratio of the aromatic polyamic acid is not particularly limited to 0 to 100%, but is preferably 50 to 100%, more preferably 80 to 100%. If the proportion is less than 50%, the water resistance of the film may be lowered.
The number average molecular weight of the aromatic polyimide and aromatic polyamic acid is preferably 3,000 or more from the viewpoint of mechanical strength as a polystyrene equivalent value measured by the GPC method.
The upper limit of the number average molecular weight of the aromatic polyimide and aromatic polyamic acid is not particularly limited, but is usually 500,000 or less.
The polyimide film is preferably subjected to corona discharge treatment on the surface.
The thickness of the polyimide film layer is preferably 1 to 60 μm, more preferably 10 to 40 μm, from the viewpoint of imparting sufficient flame retardancy and obtaining high light transmittance.

図面を参照して本発明のフィルム状光導波路の一例を説明する。図1は、本発明のフィルム状光導波路の一例を模式的に示す断面図である。図1中、フィルム状光導波路1は、下部クラッド層2とコア部分3と上部クラッド層4とからなる光導波路本体の上面及び下面の各々に対して、放射線硬化性接着剤用組成物の硬化膜5,6を介してポリイミドフィルム層7,8を有している。
フィルム状光導波路1の製造方法の一例は、次のとおりである。まず、表面をコロナ放電処理したポリイミドフィルム7の当該処理面に、放射線硬化性接着剤用組成物を一定の厚さ(例えば、5μm)となるように塗布する。次いで、この組成物層に対して紫外線を照射して光硬化させ、硬化膜5を形成させる。硬化膜5の上面に対して、下部クラッド層形成用組成物を一定の厚さ(例えば、10μm)となるように塗布し、この組成物層に対して紫外線を照射して光硬化させ、下部クラッド層2を形成させる。同様にして、下部クラッド層2の上にコア部分3、上部クラッド層4を順次形成させ、光導波路本体等からなる積層体を得る。その後、表面をコロナ放電処理したポリイミドフィルム8の当該処理面に、放射線硬化性接着剤用組成物を一定の厚さ(例えば、5μm)となるように塗布する。次いで、この組成物層の上に、前記の光導波路本体等からなる積層体を載置し、下方から紫外線を照射して、組成物層を光硬化させ、硬化膜6を形成させれば、フィルム状光導波路が完成する。
An example of the film-like optical waveguide of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view schematically showing an example of the film-like optical waveguide of the present invention. In FIG. 1, a film-shaped optical waveguide 1 is formed by curing a radiation-curable adhesive composition on each of the upper and lower surfaces of an optical waveguide body composed of a lower cladding layer 2, a core portion 3, and an upper cladding layer 4. Polyimide film layers 7 and 8 are provided through the films 5 and 6.
An example of the manufacturing method of the film-form optical waveguide 1 is as follows. First, the radiation curable adhesive composition is applied to the treated surface of the polyimide film 7 whose surface has been subjected to corona discharge treatment so as to have a certain thickness (for example, 5 μm). Next, the composition layer is irradiated with ultraviolet rays and photocured to form a cured film 5. The lower clad layer forming composition is applied to the upper surface of the cured film 5 so as to have a certain thickness (for example, 10 μm), and the composition layer is irradiated with ultraviolet rays to be photocured, The clad layer 2 is formed. Similarly, the core portion 3 and the upper clad layer 4 are sequentially formed on the lower clad layer 2 to obtain a laminate composed of an optical waveguide body and the like. Thereafter, the radiation curable adhesive composition is applied to the treated surface of the polyimide film 8 whose surface has been subjected to corona discharge treatment so as to have a certain thickness (for example, 5 μm). Next, on this composition layer, a laminate composed of the optical waveguide main body or the like is placed, irradiated with ultraviolet rays from below, the composition layer is photocured, and a cured film 6 is formed. A film-like optical waveguide is completed.

[1.クラッド層用組成物の調製]
[(A1)成分の製造]
ドライアイス/メタノール還流器の付いたフラスコを窒素置換した後、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)1.5g、有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート115gを仕込み、重合開始剤が溶解するまで攪拌した。引き続いて、ヒドロキシエチルメタクリレート20g、ジシクロペンタニルメタクリレート25g、メチルメタクリレート40g、及びn−ブチルアクリレート15gを仕込んだ後、緩やかに攪拌を始めた。その後、溶液の温度を70℃に上昇させ、この温度で6時間重合を行った。その後、得られた溶液にジラウリル酸ジ−n−ブチル錫0.12g、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール0.05gを仕込み、攪拌しながら2−メタクリロキシエチルイソシアネート23.7gを温度が60℃以下に保たれるように滴下した。滴下終了後、60℃で5時間反応させ、側鎖にメタクリル基を有するポリマー溶液を得た。その後、反応生成物を多量のヘキサンに滴下して反応生成物を凝固させた。さらに、この凝固物と同質量のテトラヒドロフランに再溶解し、多量のヘキサンで再度凝固させた。この再溶解−凝固操作を計3回行った後、得られた凝固物を40℃で48時間真空乾燥して、目的とする共重合体A−1を得た。なお、使用したモノマーの化合物名及び配合量を表1に示す。
[1. Preparation of composition for clad layer]
[Production of component (A1)]
After substituting a flask equipped with a dry ice / methanol reflux with nitrogen, 1.5 g of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as a polymerization initiator and 115 g of propylene glycol monomethyl ether acetate as an organic solvent were charged. The mixture was stirred until the polymerization initiator was dissolved. Subsequently, 20 g of hydroxyethyl methacrylate, 25 g of dicyclopentanyl methacrylate, 40 g of methyl methacrylate, and 15 g of n-butyl acrylate were charged, and then gently stirred. Thereafter, the temperature of the solution was raised to 70 ° C., and polymerization was carried out at this temperature for 6 hours. Thereafter, 0.12 g of di-n-butyltin dilaurate and 0.05 g of 2,6-di-t-butyl-p-cresol were charged into the obtained solution, and 23.7 g of 2-methacryloxyethyl isocyanate was stirred. Was added dropwise so that the temperature was kept at 60 ° C. or lower. After completion of the dropwise addition, the mixture was reacted at 60 ° C. for 5 hours to obtain a polymer solution having a methacryl group in the side chain. Thereafter, the reaction product was dropped into a large amount of hexane to solidify the reaction product. Further, it was redissolved in tetrahydrofuran having the same mass as the coagulated product and coagulated again with a large amount of hexane. After performing this re-dissolution-coagulation operation three times in total, the obtained coagulated product was vacuum-dried at 40 ° C. for 48 hours to obtain the desired copolymer A-1. In addition, Table 1 shows compound names and blending amounts of the monomers used.

Figure 2008249753
Figure 2008249753

[(B1)成分の製造]
攪拌機を備えた反応容器に、イソホロンジイソシアネート13.6質量部、数平均分子量が2,000のポリプロピレングリコール81.7質量部、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール0.01質量部を仕込み、5〜10℃に冷却した。撹拌しながらジラウリル酸ジ−n−ブチル錫0.05質量部を加え、温度が30℃以下に保たれるように調整しながら2時間撹拌した後、50℃まで昇温しさらに2時間撹拌した。続いて、2−ヒドロキシエチルアクリレート4.7質量部(以上の合計量100質量部)を滴下し、滴下終了後、50〜70℃で1時間反応させた。残留イソシアネートが0.1質量%以下になった時を反応終了とし、化合物B−1を得た。
[クラッド層用の放射線硬化性組成物の調製]
表2に示す各成分を混合して、クラッド層用の組成物J−1を得た。
[Production of component (B1)]
In a reaction vessel equipped with a stirrer, 13.6 parts by mass of isophorone diisocyanate, 81.7 parts by mass of polypropylene glycol having a number average molecular weight of 2,000, 0.01 parts by mass of 2,6-di-t-butyl-p-cresol Was cooled to 5 to 10 ° C. While stirring, 0.05 parts by mass of di-n-butyltin dilaurate was added and the mixture was stirred for 2 hours while adjusting the temperature to be kept at 30 ° C. or lower, and then the temperature was raised to 50 ° C. and further stirred for 2 hours. . Subsequently, 4.7 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate (the total amount of 100 parts by mass above) was dropped, and after completion of the dropping, the mixture was reacted at 50 to 70 ° C. for 1 hour. The reaction was terminated when the residual isocyanate was 0.1% by mass or less, and Compound B-1 was obtained.
[Preparation of radiation curable composition for clad layer]
The components shown in Table 2 were mixed to obtain a cladding layer composition J-1.

Figure 2008249753
Figure 2008249753

[実施例1〜3、比較例1]
表3に示すように、(A)成分〜(D)成分を混合して、接着剤用組成物(実施例1〜3、比較例1)を得た。これらの接着剤用組成物を用いて、下記の試験を行なった。
なお、ポリイミドフィルムとしては、「カプトン100H」(商品名、東レ・デュポン社製、厚さ:25μm)を用いた。

Figure 2008249753
[Examples 1 to 3, Comparative Example 1]
As shown in Table 3, components (A) to (D) were mixed to obtain adhesive compositions (Examples 1 to 3, Comparative Example 1). The following tests were conducted using these adhesive compositions.
As the polyimide film, “Kapton 100H” (trade name, manufactured by Toray DuPont, thickness: 25 μm) was used.
Figure 2008249753

表3中の成分の詳細は、次のとおりである。
(A)成分:3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート(ADEKA社製、商品名:KRM2110)
(B)成分:キシリレンジオキセタン(東亞合成社製、商品名:XDO)
(C)成分:3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート(ダイセル化学工業社製、商品名:Cyclomer M100)
(D)成分:「SP−172(商品名)」(ADEKA社製)
The details of the components in Table 3 are as follows.
(A) Component: 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexylcarboxylate (manufactured by ADEKA, trade name: KRM2110)
(B) component: Xylylene oxetane (product name: XDO, manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
Component (C): 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate (Daicel Chemical Industries, trade name: Cycler M100)
(D) component: "SP-172 (brand name)" (made by ADEKA)

[耐熱性]
実施例1〜3の接着剤用組成物を用いて、光導波路本体とポリイミドフィルムを接着して得られたフィルム状光導波路は、比較例1の接着剤用組成物を用いて得られたフィルム状光導波路と比べて、85℃の環境下での熱変形を大きく抑制することができた。
[接着剤層とクラッド層との密着性]
コロナ放電処理したポリイミドフィルム上に、厚さ20μmとなるように接着剤用組成物を塗布した後、ディスコ社製のアライナーを用いて、照度20mW/cm、照射光量1.5J/cmの条件で接着剤層を光硬化させた。その後、硬化済みの接着剤層の上面に、厚さ70μmとなるように前記の調製済みのクラッド層用組成物を塗布し、120℃で5分間乾燥した後、ディスコ社製のアライナーを用いて、照度20mW/cm、照射光量1.5J/cmの条件でクラッド層用組成物層を光硬化させ、積層フィルムを得た。
得られた積層フィルムのクラッド層を手で剥離する作業を行ない、その結果、剥離できなかった場合を「○」、剥離できた場合を「×」として、接着剤層とクラッド層との密着性を評価した。結果を表3に示す。
[接着剤層とポリイミドフィルム層との密着性]
前記の「接着剤層とクラッド層との密着性」と同様にして、積層フィルムを得た。
23℃、相対湿度50%の環境下に、インストロン社製の引張試験機を用いて、積層フィルムに対して50mm/分の速度で180度ピール試験を行ない、その結果、密着力測定値が200N/m以上の場合を「○」、200N/m未満の場合を「×」として、接着剤層とポリイミドフィルム層との密着性を評価した。結果を表3に示す。
[Heat-resistant]
The film-like optical waveguide obtained by bonding the optical waveguide body and the polyimide film using the adhesive composition of Examples 1 to 3 is a film obtained using the adhesive composition of Comparative Example 1. Compared with the optical waveguide, thermal deformation under an environment of 85 ° C. could be greatly suppressed.
[Adhesion between adhesive layer and cladding layer]
After applying a composition for an adhesive on a polyimide film subjected to corona discharge treatment so as to have a thickness of 20 μm, an illuminance of 20 mW / cm 2 and an irradiation light amount of 1.5 J / cm 2 are used using an aligner manufactured by Disco Corporation. The adhesive layer was photocured under conditions. Thereafter, the prepared clad layer composition is applied to the upper surface of the cured adhesive layer so as to have a thickness of 70 μm, dried at 120 ° C. for 5 minutes, and then used with an DISCO aligner. The clad layer composition layer was photocured under the conditions of an illuminance of 20 mW / cm 2 and an irradiation light amount of 1.5 J / cm 2 to obtain a laminated film.
Work to peel the clad layer of the resulting laminated film by hand. As a result, if it could not be peeled, "○" and if it could be peeled "x", the adhesiveness between the adhesive layer and the clad layer Evaluated. The results are shown in Table 3.
[Adhesion between adhesive layer and polyimide film layer]
A laminated film was obtained in the same manner as in the above “adhesiveness between the adhesive layer and the clad layer”.
In an environment of 23 ° C. and 50% relative humidity, a 180 ° peel test was performed on the laminated film at a speed of 50 mm / min using an Instron tensile tester. The case of 200 N / m or more was evaluated as “◯”, and the case of less than 200 N / m was evaluated as “x”, and the adhesion between the adhesive layer and the polyimide film layer was evaluated. The results are shown in Table 3.

本発明のフィルム状光導波路の一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically an example of the film-form optical waveguide of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 フィルム状光導波路
2 下部クラッド層
3 コア部分
4 上部クラッド層
5,6 接着剤層(光硬化性接着剤用組成物の硬化膜)
7,8 ポリイミドフィルム層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Film-form optical waveguide 2 Lower clad layer 3 Core part 4 Upper clad layer 5,6 Adhesive layer (hardened film of the composition for photocurable adhesives)
7,8 Polyimide film layer

Claims (4)

下部クラッド層とコア部分と上部クラッド層とを含むフィルム状光導波路であって、前記下部クラッド層と上部クラッド層の少なくとも一方の外表面に、下記成分(A)〜(D)からなる放射線硬化性接着剤用組成物の硬化膜を介してポリイミドフィルム層を有することを特徴とするフィルム状光導波路。
(A)2官能以上の多官能エポキシモノマー(ただし、(メタ)アクリロイル基を有するものを除く。)
(B)2官能以上の多官能オキセタンモノマー
(C)1分子内に少なくとも1個以上の(メタ)アクリロイル基、及び、少なくとも1個以上のエポキシ基を有する化合物
(D)カチオン性光重合開始剤
A film-shaped optical waveguide comprising a lower clad layer, a core portion, and an upper clad layer, wherein at least one outer surface of the lower clad layer and the upper clad layer has radiation curing comprising the following components (A) to (D): A film-like optical waveguide comprising a polyimide film layer through a cured film of a composition for adhesive.
(A) Bifunctional or higher polyfunctional epoxy monomer (excluding those having a (meth) acryloyl group)
(B) Bifunctional or higher polyfunctional oxetane monomer (C) Compound having at least one (meth) acryloyl group and at least one epoxy group in one molecule (D) Cationic photopolymerization initiator
前記下部クラッド層及び上部クラッド層の各々が、(メタ)アクリロイル基を有する単量体及びラジカル性重合性開始剤を含む放射線硬化性組成物を硬化させてなる請求項1に記載のフィルム状光導波路。   The film-like light according to claim 1, wherein each of the lower clad layer and the upper clad layer is obtained by curing a radiation curable composition containing a monomer having a (meth) acryloyl group and a radical polymerizable initiator. Waveguide. 前記放射線硬化性接着剤用組成物全量に対する前記(A)〜(D)成分の含有率が、下記のとおりである請求項1又は2に記載のフィルム状光導波路。
(A)2官能以上の多官能エポキシモノマー(ただし、(メタ)アクリロイル基を有するものを除く。) 10〜50質量%
(B)2官能以上の多官能オキセタンモノマー 10〜50質量%
(C)1分子内に少なくとも1個以上の(メタ)アクリロイル基と、少なくとも1個以上のエポキシ基を有する化合物 1〜45質量%、
(D)カチオン性光重合開始剤 0.1〜10質量%。
The film-shaped optical waveguide according to claim 1 or 2, wherein the content of the components (A) to (D) with respect to the total amount of the radiation-curable adhesive composition is as follows.
(A) Bifunctional or higher polyfunctional epoxy monomer (excluding those having a (meth) acryloyl group) 10 to 50% by mass
(B) Bifunctional or higher polyfunctional oxetane monomer 10 to 50% by mass
(C) 1 to 45% by mass of a compound having at least one (meth) acryloyl group and at least one epoxy group in one molecule;
(D) Cationic photopolymerization initiator 0.1 to 10% by mass.
前記ポリイミドフィルム層は、表面がコロナ放電処理されたポリイミドフィルムからなる請求項1〜3のいずれか1項に記載のフィルム状光導波路。   The said polyimide film layer is a film-form optical waveguide of any one of Claims 1-3 which consists of a polyimide film by which the surface was corona-discharge-treated.
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