JP2008244067A

JP2008244067A - 透明導電膜形成用感光材料、透明導電膜及びその製造方法、電磁波遮蔽材料

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Publication number: JP2008244067A
Application number: JP2007081226A
Authority: JP
Inventors: Toshihiko Iwasaki; 利彦岩崎; Makoto Honda; 本田　　誠; Kazuhiro Miyazawa; 一宏宮澤
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 2007-03-27
Filing date: 2007-03-27
Publication date: 2008-10-09

Abstract

【課題】高い導電性と光透過性を有し、かつ、干渉ムラとモアレを低減した透明導電膜とその製造方法、該透明導電膜を用いた電磁波遮蔽材料及び該透明導電膜の製造に用いられる塗布性が良好な透明導電膜形成用感光材料を提供することにある。
【解決手段】支持体上に、少なくともハロゲン化銀及びバインダーを含有する乳剤層を有し、露光後、現像処理してメッシュ状に金属銀部を形成することにより、透明導電膜を製造可能な透明導電膜形成用感光材料であって、前記乳剤層が不飽和炭素結合を有する含フッ素界面活性剤を含有することを特徴とする透明導電膜形成用感光材料。
【選択図】なし

Description

本発明は、本発明は、携帯電話、電子レンジ、ＣＲＴ、及びフラットパネルディスプレイ等の電子機器から発生する電磁波を遮断でき、かつ透明性を必要とする導電性材料を形成するための透明導電膜形成用感光材料、透明導電膜及びその製造方法、電磁波遮蔽材料に関する。

近年、電子機器の使用増大のために電磁波障害（Ｅｌｅｃｔｒｏ−ＭａｇｎｅｔｉｃＩｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ：ＥＭＩ）を低減する必要性が高まっている。ＥＭＩは、電子、電気機器の誤動作、障害の原因になるほか、人体に対しても害を与えることが指摘されている。このため、電子機器では、電磁波放出の強さを規格または規制内に抑えることが要求されている。

特に、プラズマ表示パネル（ＰＤＰ）は、希ガスをプラズマ状態にして紫外線を放射させこの光線で蛍光体を発光させる原理に基づくために原理的に電磁波を発生する。また、このとき近赤外線も放射されるので、リモコン等の操作素子の誤動作を引き起こすので電磁波遮蔽能と同時に近赤外線の遮蔽も求められている。電磁波遮蔽能は、簡便には表面抵抗値で表すことができ、ＰＤＰ用の透光性電磁波遮蔽材料では、１０Ω／□以下が要求され、ＰＤＰを用いた民生用プラズマテレビにおいては、１Ω／□以下とする必要性が高く、より望ましくは０．１Ω／□以下という極めて高い導電性が要求されている。

上記の問題のうち、特に電磁波防止を解決するために、フォトリソグラフィー法を用いたエッチングメッシュや電着加工メッシュといった、開口部を有する金属メッシュを利用した電磁波遮蔽材料の製造方法がこれまで提案されている（例えば、特許文献１及び２参照。）。しかしながら、これらは製造工程が複雑であり、かつモアレや金属線部の交点が太る交点太りといった欠点が生じていた。

上記問題を解決するため、開口部を有する導電性メッシュを利用して電磁波シールド性と透光性とを両立させる種々の材料・方法が提案されている。その中で、銀塩感光材料を用いて導電性メッシュの細線パターンを安価で大量に提供する透光性電磁波シールド形成方法が提案されている（例えば、特許文献３、４参照。）。

この方法は、感光材料をメッシュ状に露光、現像処理及び定着処理を経て金属銀部を形成した後に、物理現像及び／またはメッキ処理により金属銀部に導電性金属粒子を担持することで導電性メッシュを形成する方法であるが、物理現像及び／またはメッキ処理後の光透過部の光透過性低下、モアレが問題となっていた。光透過性を向上するためには、酸化処理により光透過部の導電性金属粒子を除去する処理を追加する必要があり、製造コストの上昇が問題であった。また、モアレを解消するには感光材料の薄膜均一塗布技術が必要であるが、このために用いる感光材料塗布液は高い導電性が要求され、銀／バインダー比が写真用感光材料に比べ１０倍以上であり、薄膜均一塗布は困難であった。
特開２００３−４６２９３号公報特開平１１−２６９８０号公報特開２００４−２２１５６４号公報国際公開第０６／９８３３３号パンフレット

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、高い導電性と光透過性を有し、かつ、干渉ムラとモアレを低減した透明導電膜とその製造方法、該透明導電膜を用いた電磁波遮蔽材料及び該透明導電膜の製造に用いられる塗布性が良好な透明導電膜形成用感光材料を提供することにある。

本発明の上記課題は、以下の構成により達成される。

１．支持体上に、少なくともハロゲン化銀及びバインダーを含有する乳剤層を有し、露光後、現像処理してメッシュ状に金属銀部を形成することにより、透明導電膜を製造可能な透明導電膜形成用感光材料であって、前記乳剤層が不飽和炭素結合を有する含フッ素界面活性剤を含有することを特徴とする透明導電膜形成用感光材料。

２．支持体上に、少なくともハロゲン化銀及びバインダーを含有する乳剤層を有し、露光後、現像処理し、さらに補力処理をすることでメッシュ状に金属銀部を形成することにより、透明導電膜を製造可能な透明導電膜形成用感光材料であって、前記乳剤層が不飽和炭素結合を有する含フッ素界面活性剤を含有することを特徴とする透明導電膜形成用感光材料。

３．前記ハロゲン化銀の塗布銀量が１ｇ／ｍ²以下、かつ前記乳剤層の乾燥膜厚が０．５μｍ以下であることを特徴とする前記１または２に記載の透明導電膜形成用感光材料。

４．前記メッシュ状に金属銀部を形成することにより得られた透明導電膜の、非メッシュ部（光透過部）の乳剤層の厚みが０．１μｍ以下であることを特徴とする前記１〜３のいずれか１項に記載の透明導電膜形成用感光材料。

５．前記支持体は前記乳剤層側に易接着層を有し、該易接着層の屈折率が該支持体の屈折率より小さく、かつ該易接着層と該支持体との屈折率差が０．１以内であることを特徴とする前記１〜４のいずれか１項に記載の透明導電膜形成用感光材料。

６．前記１〜５のいずれか１項に記載の透明導電膜形成用感光材料を露光後、現像処理してメッシュ状に金属銀部を形成することを特徴とする透明導電膜の製造方法。

７．前記１〜５のいずれか１項に記載の透明導電膜形成用感光材料を露光後、現像処理し、さらに補力処理してメッシュ状に金属銀部を形成することを特徴とする透明導電膜の製造方法。

８．前記６または７に記載の製造方法により得られることを特徴とする透明導電膜。

９．前記８に記載の透明導電膜を用いることを特徴とする電磁波遮蔽材料。

本発明によれば、高い導電性と光透過性を有し、かつ、干渉ムラとモアレを低減した透明導電膜とその製造方法、該透明導電膜を用いた電磁波遮蔽材料及び該透明導電膜の製造に用いられる塗布性が良好な透明導電膜形成用感光材料を提供することができる。

本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討を行った結果、高い導電性と光透過性を有し、かつ、モアレを低減した透明導電膜を得るには、これに用いられる感光材料の乳剤層（現像処理後、透明導電膜となる）の膜厚を極めて薄くすることで、非メッシュ部（光透過部）の光透過性を向上し、メッシュ部の高さが低くモアレを低減できることが分かった。しかしながら、極薄の乳剤層の均一塗布（塗布ムラ／濃度ムラなし）は難易度が高く、均一塗布ができず膜厚ムラがあると、支持体表面で反射される光と乳剤層表面で反射される光が干渉し、干渉ムラが生じる問題があった。本発明者らは、さらに検討を行った結果、特定構造の含フッ素界面活性剤を使用すると、極薄の薄膜であっても均一な塗布膜が得られることを見出し、本発明に至った次第である。このような効果が発現されるのは、本発明に係る特定構造の含フッ素界面活性剤を塗布液に添加すると塗布膜（塗布液膜）のレベリング効果が大きく、均一な塗布膜が得られるものと考えている。

以下、本発明を詳細に説明する。

《不飽和炭素結合を有する含フッ素界面活性剤》
本発明の透明導電膜形成用感光材料（以下、単に感光材料ともいう）は、支持体上に、少なくともハロゲン化銀及びバインダーを含有する乳剤層を有し、前記乳剤層が疎水性部分に不飽和炭素結合を有する含フッ素界面活性剤を含有することを特徴とする。親水性部はイオン性基（例えば、アニオン、カチオン、ベタイン）、非イオン性基でも構わないが、中でもアニオン性基が塗布液との親和性の点で好ましい。不飽和炭素結合を有する含フッ素界面活性剤を用いることで、乳剤層塗布液の表面張力を２０ｍＮ／ｍ台に設定することが可能となり、薄膜で均一塗布が実現した。

本発明に用いられる不飽和炭素結合を有する含フッ素界面活性剤の具体例を示すが、本発明はこれに限定されない。

これらの化合物は（株）ネオス社より市販されている。

本発明に係る乳剤層中に含有される含フッ素界面活性剤の含有量は、特に限定されないが、乳剤層塗布液の表面張力を２０ｍＮ／ｍ台にする量が好ましい。

以下、本発明の感光材料のその他の構成について説明する。

《支持体》
本発明の感光材料は、支持体としてプラスチックフィルム、プラスチック板、ガラス等を用いることができる。プラスチックフィルム及びプラスチック板の原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン等のビニル系樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等を用いることができる。

透明性、耐熱性、取り扱いやすさ及び価格の点から、上記プラスチックフィルムはＰＥＴ、ＰＥＮ、ＴＡＣであることが好ましい。

ディスプレイ用の電磁波遮蔽材では透明性が要求されるため、支持体の透明性は高いことが望ましい。この場合におけるプラスチックフィルムまたはプラスチック板の全可視光透過率は好ましくは７０〜１００％であり、より好ましくは８０〜１００％であり、さらに好ましくは９０〜１００％である。また、本発明では、色気調節剤として前記プラスチックフィルム及びプラスチック板を本発明の目的を妨げない程度に着色したものを用いることもできる。

《乳剤層》
本発明の感光材料は、光センサーとしてハロゲン化銀を含有する乳剤層が支持体上に設けられる。乳剤層は、ハロゲン化銀のほか、バインダー、溶媒等を含有することができる。

〈ハロゲン化銀〉
本発明に用いられるハロゲン化銀は、従来から種々のハロゲン化銀写真感光材料において使用されている技術が、本発明においてもそのまま用いることができる。

ハロゲン化銀粒子に含有されるハロゲン元素は、塩素、臭素及びヨウ素のいずれであってもよく、これらを組み合わせてもよい。例えば、ＡｇＣｌ、ＡｇＢｒ、ＡｇＩを主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられ、さらにＡｇＣｌを主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられる。

ここで、「ＡｇＣｌを主体としたハロゲン化銀」とは、ハロゲン化銀組成中に占める塩化物イオンのモル分率が５０％以上のハロゲン化銀をいう。このＡｇＣｌを主体としたハロゲン化銀粒子は、塩化物イオンのほかに沃化物イオン、臭化物イオンを含有していてもよい。

ハロゲン化銀粒子については、露光、現像処理後に形成されるパターン状金属銀層の画像品質の観点からは、平均粒子サイズは、球相当径で０．１〜１０００ｎｍ（１μｍ）であることが好ましく、０．１〜１００ｎｍであることがより好ましく、１〜５０ｎｍであることがさらに好ましい。なお、ハロゲン化銀粒子の球相当径とは、粒子形状が球形の同じ体積を有する粒子の直径である。

ハロゲン化銀粒子の形状は特に限定されず、例えば、球状、立方体状、平板状（六角平板状、三角形平板状、四角形平板状等）、八面体状、十四面体状等様々な形状であることができる。

本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、さらに他の元素を含有していてもよい。例えば、ハロゲン化銀粒子写真乳剤において、硬調な階調を得るために用いられる金属イオンをドープすることも有用である。特にロジウムイオンやイリジウムイオン等の遷移金属イオンは、金属銀像の生成の際に露光部と未露光部の差が明確に生じやすくなるため好ましく用いられる。ロジウムイオン、イリジウムイオンに代表される遷移金属イオンは、各種の配位子を有する化合物であることもできる。そのような配位子としては、例えば、シアン化物イオンやハロゲンイオン、チオシアナートイオン、ニトロシルイオン、水、水酸化物イオン等を挙げることができる。具体的な化合物の例としては、Ｋ₃Ｒｈ₂Ｂｒ₉及びＫ₂ＩｒＣｌ₆等が挙げられる。

本発明において、ハロゲン化銀に含有されるロジウム化合物及び／またはイリジウム化合物の含有率は、ハロゲン化銀の銀のモル数に対して、１０^-10〜１０^-2モル／モルＡｇであることが好ましく、１０^-9〜１０^-3モル／モルＡｇであることがさらに好ましい。

本発明では、さらに光センサーとしての感度を向上させるため、ハロゲン化銀粒子写真乳剤で行われる化学増感を施すこともできる。化学増感としては、例えば、金増感、パラジウム等の貴金属増感、イオウ、セレン、テルル等のカルコゲン増感、還元増感等を利用することができる。

本発明で使用できる乳剤としては、例えば、特開平１１−３０５３９６号公報、特開２０００−３２１６９８号公報、特開平１３−２８１８１５号公報、特開２００２−７２４２９号公報の実施例に記載されたカラーネガフィルム用乳剤、特開２００２−２１４７３１号公報に記載されたカラーリバーサルフィルム用乳剤、特開２００２−１０７８６５号公報に記載されたカラー印画紙用乳剤等を好適に用いることができる。

〈バインダー〉
本発明に係る銀塩含有層においてバインダー（樹脂）は、銀塩粒子を均一に分散させ、かつ銀塩含有層と支持体との密着を補助する目的で用いることができる。本発明に用いるバインダーとしては、ゼラチンが好ましい。ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンの他、酸処理ゼラチン、また、フタル化ゼラチンあるいはフェニルカルバモイル化ゼラチン等、各種修飾ゼラチンも含むものである。

本発明に係る銀塩含有層中に含有されるバインダーの含有量は、特に限定されず、分散性と密着性を発揮し得る範囲で適宜決定することができる。銀塩含有層中のバインダーの含有量は、Ａｇ／バインダー体積比で１／５〜５であることが好ましく、１／３〜３であることがより好ましく、１／２〜２であることがさらに好ましい。銀塩含有層中にバインダーをＡｇ／バインダー体積比で１／４以上含有すれば、物理現像及び／またはメッキ処理工程において金属粒子同士が互いに接触しやすく、高い導電性を得ることが可能であるため好ましい。Ａｇ／バインダー体積比が５を超えると、バインダー不足によりハロゲン化銀粒子の凝集の発生、塗布性の著しい劣化、乾燥後のひび割れ発生等の問題があり、好ましくない。

また、上記バインダーは、銀塩含有層を形成する際には、架橋剤によって架橋されていてもよい。架橋剤としては公知の剤が使用できるが、例えば、特開昭６１−２４９０４５号、同６１−２４５１５３号広報記載のビニルスルホン型硬膜剤やクロロトリアジン型硬膜剤等を使用することができる。

また、本発明においては、電磁波遮蔽材料用原版は、上記のゼラチンバインダー樹脂に加えて、デキストリン等の水溶性化合物を含んでもよい。

〈溶媒〉
本発明に係る乳剤層の塗布液等の調製において用いることができる溶媒は、特に限定されるものではないが、例えば、水、有機溶媒（例えば、メタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、酢酸エチル等のエステル類、エーテル類等）、イオン性液体、及びこれらの混合溶媒を挙げることができる。写真用ハロゲン化銀ゼラチン乳剤が用いられることから、水を主体とする溶媒が好ましい。

本発明においては、前述のように、膜厚を薄くすることで、非メッシュ部（光透過部）の光透過性を向上し、メッシュ部の高さが低くモアレを低減するため、ハロゲン化銀の塗布銀量は１ｇ／ｍ²以下、かつ乳剤層の乾燥膜厚は０．５μｍ以下であることが好ましい。

また、同じ理由から、メッシュ状に金属銀部を形成することにより得られた透明導電膜の、非メッシュ部（光透過部）の乳剤層の厚みは０．１μｍ以下であることが好ましい。

《易接着層》
本発明においては、支持体は乳剤層側に易接着層を有し、該易接着層の屈折率が該支持体の屈折率より小さく、かつ該易接着層と該支持体との屈折率差が０．１以内であることが好ましい。

これは、表面の面方向の屈折率が１．６６前後と高いポリエステル支持体（支持体としてはポリエステルが最も好ましい）と、主たるバインダーが屈折率１．５２程度のゼラチンである乳剤層（透明導電膜）との間に、屈折率がこの中間の易接着層を設けることにより、ポリエステル支持体とそれに隣接する易接着層との界面の屈折率差、及び透明導電膜と易接着層との界面の屈折率差を小さくして界面反射を抑え、透明導電膜としての干渉光を低減するためである。

本発明に用いられる易接着層は、接着性を達成するための樹脂（バインダー）と所望の屈折率を得るための材料（屈折率調整剤）を少なくとも含有する。

（樹脂）
樹脂としては、支持体の易接着層として用いられる公知の材料を使用でき、例えば、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂を使用することができる。

アクリル系樹脂としては、アクリル系モノマー単独で、あるいは、複数の種類のアクリル系モノマーを共重合して得ることができる。さらには、他のモノマーを用いて（コモノマーとする）製造することもできる。

アクリル系のモノマーとしては、例えば、アクリル酸；メタクリル酸；アクリル酸エステル、例えば、アルキルアクリレート（例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、フェニルエチルアクリレート等）、ヒドロキシ含有アルキルアクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等）；メタクリル酸エステル、例えば、アルキルメタクリレート（例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、フェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルエチルメタクリレート等）、ヒドロキシ含有アルキルメタクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等）；アクリルアミド；置換アクリルアミド（例えば、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロールアクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルアクリルアミド等）；メタクリルアミド；置換メタクリルアミド（例えば、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロールメタクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルメタクリルアミド等）；アミノ基置換アルキルアクリレート（例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート）；アミノ基置換アルキルメタクリレート（例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノメタクリレート）；エポキシ基含有アクリレート（例えば、グリシジルアクリレート）；エポキシ基含有メタクリレート（例えば、グリシジルメタクリレート）；アクリル酸の塩（例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩）；メタクリル酸の塩（例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩）が挙げられる。上述のモノマーは１種もしくは２種以上を併用することができる。

コモノマーとしては、例えば、スチレン及びその誘導体；不飽和ジカルボン酸（例えば、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸）；不飽和ジカルボン酸のエステル（例えば、イタコン酸メチル、イタコン酸ジメチル、マレイン酸メチル、マレイン酸ジメチル、フマール酸メチル、フマール酸ジメチル）；不飽和ジカルボン酸の塩（例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩）；スルホン酸基またはその塩を含有するモノマー（例えば、スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸及びそれらの塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩））；無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物；ビニルイソシアネート；アリルイソシアネート；ビニルメチルエーテル；ビニルエチルエーテル；酢酸ビニルが挙げられる。上述のモノマーは１種もしくは２種以上を併用することができる。

ポリエステル樹脂としては、例えば混合ジカルボン酸成分とグリコール成分との縮重合反応により得られる水性ポリエステルが挙げられる。

上記ジカルボン酸成分とは、スルホン酸塩を有するジカルボン酸成分（スルホン酸塩を有するジカルボン酸及び／またはそのエステル形成性誘導体）を水溶性ポリエステル共重合体中の全ジカルボン酸成分に対して５〜１５モル％含有するジカルボン酸成分である。

本発明に用いられるスルホン酸塩を有するジカルボン酸及び／またはそのエステル形成性誘導体としては、スルホン酸アルカリ金属塩の基を有するものが特に好ましく、例えば４−スルホイソフタル酸、５−スルホイソフタル酸、スルホテレフタル酸、４−スルホフタル酸、４−スルホナフタレン−２，７−ジカルボン酸、５−［４−スルホフェノキシ］イソフタル酸等のアルカリ金属塩またはそのエステル形成性誘導体が用いられるが、５−スルホイソフタル酸ナトリウム塩またはそのエステル形成性誘導体が特に好ましい。これらのスルホン酸塩を有するジカルボン酸及び／またはそのエステル形成性誘導体は、水溶性及び耐水性の点から全ジカルボン酸成分に対し６〜１０モル％で用いられることが特に好ましい。

その他のジカルボン酸成分としては、芳香族ジカルボン酸成分（芳香族ジカルボン酸及び／またはそのエステル形成性誘導体）、脂環族ジカルボン酸成分（脂環族ジカルボン酸及び／またはそのエステル形成性誘導体）、脂肪族ジカルボン酸成分（脂肪族ジカルボン酸及び／またはそのエステル形成性誘導体）等が挙げられる。

芳香族ジカルボン酸成分としては、主としてテレフタル酸成分（テレフタル酸及び／またはそのエステル形成性誘導体）、イソフタル酸成分（イソフタル酸及び／またはそのエステル形成性誘導体）等が挙げられる。

具体的な芳香族ジカルボン酸成分としては例えばフタル酸、２，５−ジメチルテレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸またはこれらのエステル形成性誘導体が挙げられる。

脂環族ジカルボン酸及び／またはそのエステル形成性誘導体としては、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、１，３−シクロヘキサンジカルボン酸、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸、１，３−シクロペンタンジカルボン酸、４，４′−ビシクロヘキシルジカルボン酸等、またはこれらのエステル形成性誘導体が用いられる。

また、本発明においては直鎖状脂肪族ジカルボン酸及び／またはそのエステル形成性誘導体を全ジカルボン酸成分の１５モル％以下の範囲内で用いてもよい。このようなジカルボン酸成分としては例えばアジピン酸、ピメリン酸、スペリン酸、アゼライン酸、セバシン酸等の脂肪族ジカルボン酸またはこれらのエステル形成性誘導体が挙げられる。

本発明においては、ポリエステル共重合体の機械的性質及びポリエステルフィルムとの接着性の点からエチレングリコールを全グリコール成分に対して５０モル％以上使用することが好ましい。本発明に用いられるグリコール成分としてはエチレングリコール以外に１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール等を併用してもよい。

ポリウレタン系樹脂としては、以下に示す市販の水性ポリウレタンを用いることができる。

市販の水性ポリウレタンの例としては、三井化学ポリウレタン社製のタケラックシリーズのＷ−７００４、Ｗ−６０１０、Ｗ−６０５、Ｗ−５１２、Ｗ−５１１、Ｗ−４０５、バイエル社のインプラニル（ｉｍｐｒａｎｉｌ）ＤＬＨ及びインプラニルＤＬＮ、第一工業製薬社製のスーパーフレックス１００、スーパーフレックス２００、スーパーフレックス３００、ハイドランＨＷ−１４０、ハイドランＨＷ−１１１、ハイドランＨＷ−１００、ハイドランＨＷ−１０１、ハイドランＨＷ−３１２、ハイドランＨＷ−３１１、ハイドランＨＷ−３１０、ハイドランＬＷ−５１３、ハイドランＨＣ−２００、ハイドランＨＣ−４００Ｍ、ボンディック１０１０Ｃ、ボンディック１０５０、ボンディック１０７０、ボンディック１３１０Ｂ、ボンディック１３１０Ｆ、ボンディック１３１０ＮＳ、ボンディック１３４０、ボンディック１５１０、ボンディック１６１０ＮＳ、ボンディック１６３０、ボンディック１６４０、ボンディック１６７０（Ｎ）、ボンディック１６７０−４０等を挙げることができる。これら市販品の水性ポリウレタンのうち特に好ましい商品としてはＷ−７００４、Ｗ−６０５、インプラニルＤＬＨ、インプラニルＤＬＮ、スーパーフレックス１００、スーパーフレックス２００、ハイドランＨＷ−３１２、ハイドランＨＷ−１４０、ハイドランＨＷ−３１０、ハイドランＨＷ−３１１等を挙げることができる。

（屈折率調整剤）
易接着層に用いられる屈折率調整剤としては、所望の屈折率を達成できれば特に限定されないが、バインダー樹脂の屈折率は一般に１．５前後と比較的低屈折率のものが多いことから、屈折率が１．７を超えるような比較的高屈折率の剤であることが好ましい。そうした高屈折率の材料としては、酸化スズ、酸化セリウム、酸化チタン、酸化イットリウム、酸化ランタン、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム等の金属酸化物を挙げることができる。ただし、こうした金属酸化物は粒子径が１００ｎｍを超えるとフィルムのヘイズが上昇することから、一次粒子径が１〜１００ｎｍであることが好ましく、１〜５０ｎｍであることがより好ましい。こうした粒子径を達成する剤として、前述の金属酸化物ゾルを好ましく用いることができる。中でも酸化スズゾル、酸化セリウムゾルが好ましい。

金属酸化物ゾルは公知の方法で製造できるが、例えば、酸化スズゾルについては特公昭３５−６６１６号公報に記載された方法を用いることができる。

また、前述の金属酸化物ゾルについては、例えば、多木化学社より市販されており、こうした材料を使用することができる。

本発明に係る易接着層は、一般によく知られている塗布方法を用いてプラスチックフィルム上に塗布乾燥することにより形成することができる。

用いることができる塗布方法としては、例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビヤコート法、あるいは米国特許第２，６８１，２９４号明細書に記載のホッパーを使用するエクストルージョンコート法等が挙げられる。また、必要に応じて、米国特許第２，７６１，７９１号明細書、同３，５０８，９４７号明細書、同２，９４１，８９８号明細書及び同３，５２６，５２８号明細書、原崎勇次著「コーティング工学」２５３頁（１９７３年朝倉書店発行）等に記載された２層以上の層を同時に塗布する方法も用いることができる。乾燥条件は、一般的に１００〜２００℃で、１０秒〜１０分程度である。

易接着層の塗布液を支持体上に塗布するにあたり、支持体に前処理を施すことができる。前処理としては、薬品処理、アルカリ処理、混酸処理、機械的疎面化処理、コロナ放電処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、オゾン処理等の表面活性化処理を挙げることができる。

支持体上に易接着層を設ける場合、支持体フィルムの製膜中、延伸前あるいは延伸後に設けることができるが、易接着層の延伸性を考慮しなくてよい、延伸後に設ける方法が容易である。

塗布液には、必要に応じて、界面活性剤、膨潤剤、マット剤、アンチハレーション染料、顔料、カブリ防止剤、防腐剤等を加えてもよい。

また、必要に応じて、易接着層上に第二の易接着層を設けてもよい。この時、第二の易接着層はその屈折率が支持体に隣接する第一の易接着層の屈折率と同じか、小さいことが好ましく、電磁波遮蔽層のバインダーの屈折率と同じか、大きいことが好ましい。特に、透明導電膜の接着性、干渉ムラ低減の観点から、第二の易接着層はゼラチンを主たるバインダーとすることが好ましい。

《透明導電膜とその製造方法》
本発明の透明導電膜の製造方法は、前記透明導電膜形成用感光材料を露光後、現像処理してメッシュ状に金属銀部を形成する、または前記透明導電膜形成用感光材料を露光後、現像処理し、さらに補力処理してメッシュ状に金属銀部を形成するものである。

（露光）
本発明の透明導電膜の製造方法では、支持体上に設けられた乳剤層にパターン状の露光を行う。露光は、電磁波を用いて行うことができる。電磁波としては、例えば、可視光線、紫外線等の光、Ｘ線等の放射線等が挙げられる。さらに露光には波長分布を有する光源を利用してもよく、特定の波長の光源を用いてもよい。

乳剤層をパターン状に露光する方法は、フォトマスクを利用した面露光で行ってもよいし、レーザービームによる走査露光で行ってもよい。

（現像）
本発明の透明導電膜の製造方法では、乳剤層を露光した後、現像（以下、物理現像と区別するため化学現像ともいう）する。化学現像は、銀塩写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の化学現像を主体とする現像処理の技術を用いることができる。現像液については化学現像を主体とする現像液であれば、特に限定はしないが、ＰＱ現像液、ＭＱ現像液、ＭＡＡ現像液等を用いることもでき、また、Ｄ−８５等のリス現像液を用いることができる。

ここで、「化学現像」とは、潜像銀を触媒として現像されてできる画像の金属銀が、個々のハロゲン化銀粒子を構成する銀イオンが還元されて形成される現像過程をいう。

（定着）
本発明では、未露光部分の銀塩（ハロゲン化銀粒子）を除去して安定化させる定着が行われる。本発明における定着は、銀塩写真フィルムや印画紙、印刷製版用フィルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる定着の技術を用いることができる。

本発明に使用する定着液は、定着剤としてチオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸カリウム、チオ硫酸アンモニウム等を使用することができる。定着時の硬膜剤として硫酸アルミウム、硫酸クロミウム等を使用することができる。定着剤の保恒剤としては、現像組成物で述べた亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、アスコルビン酸、エリソルビン酸等を使用することができ、その他にクエン酸、蓚酸等を使用することができる。

（補力処理）
本発明の透明導電膜の製造方法の一つでは、前記透明導電膜形成用感光材料を露光後、現像処理し、さらに導電性を向上するため、補力処理してメッシュ状に金属銀部を形成する。補力処理としては、物理現像処理及び／またはメッキ処理が挙げられる。

本発明では、前記露光及び現像処理により形成された金属銀部に導電性を付与する目的で、前記金属銀部に導電性金属粒子を担持させるための物理現像及び／またはメッキ処理を行う。

本発明において、物理現像とは、金属や金属化合物の核上に、銀イオン等の金属イオンを還元剤で還元して金属粒子を析出させることをいう。この物理現象は、インスタントＢ＆Ｗフィルム、インスタントスライドフィルムや、印刷版製造等に利用されており、本発明ではその技術を用いることができる。

また、物理現像は、露光後の現像処理と同時に行っても、現像処理後に別途行ってもよい。

本発明において、メッキ処理は、無電解メッキ（化学還元メッキや置換メッキ）、電解メッキ、または無電解メッキと電解メッキの両方を用いることができる。本発明における無電解メッキは、公知の無電解メッキ技術を用いることができ、例えば、プリント配線板等で用いられている無電解メッキ技術を用いることができ、無電解メッキは無電解銅メッキであることが好ましい。

無電解銅メッキ液に含まれる化学種としては、硫酸銅や塩化銅、還元剤としてホルマリンやグリオキシル酸、銅の配位子としてＥＤＴＡやトリエタノールアミン等、その他、浴の安定化やメッキ皮膜の平滑性を向上させるための添加剤としてポリエチレングリコール、黄血塩、ビピリジン等が挙げられる。電解銅メッキ浴としては、硫酸銅浴やピロリン酸銅浴が挙げられる。

本発明におけるメッキ処理時のメッキ速度は、緩やかな条件で行うことができ、さらに５μｍ／ｈｒ以上の高速メッキも可能である。メッキ処理において、メッキ液の安定性を高める観点からは、例えば、ＥＤＴＡ等の配位子等種々の添加剤を用いることができる。

（電磁波遮蔽材料）
本発明の透明導電膜の製造方法により得られた本発明の透明導電膜は、高い導電性と光透過性を有し、かつ、干渉ムラとモアレが低減され、電磁波遮蔽材料として用いられる。

（導電性金属部）
本発明では、導電性金属部からなる電磁波遮蔽性のバターンは、前述した露光及び現像処理により形成された金属銀部からなるパターンを物理現像、またはメッキ処理することにより前記金属銀部に導電性金属粒子を担持させることにより形成されることが好ましい。

金属銀は、本発明においては、透明性を高めるために露光部に形成させることが好ましい。

前記金属銀部に、物理現像及び／またはメッキ処理により担持させる導電性金属粒子としては、上述した銀のほか、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、コバルト、スズ、ステンレス、タングステン、クロム、チタン、パラジウム、白金、マンガン、亜鉛、ロジウム等の金属、またはこれらを組み合わせた合金の粒子を挙げることができる。導電性、価格等から、銅、アルミニウムまたはニッケルの粒子が好ましい。また、磁場シールド性を付与する場合、常磁性金属粒子を用いることが好ましい。

上記導電性金属部において、コントラストを高め、かつ導電性金属部が経時的に酸化され退色するのを防止する観点から、導電性金属部に含まれる導電性金属粒子は銅粒子であることが好ましく、その表面が黒化処理されたものであることがさらに好ましい。黒化処理は、プリント配線板分野で行われている方法を用いて行うことができる。例えば、亜塩素酸ナトリウム（３１ｇ／ｌ）、水酸化ナトリウム（１５ｇ／ｌ）、リン酸三ナトリウム（１２ｇ／ｌ）の水溶液中で、９５℃で２分間処理することにより黒化処理を行うことができる。

上記導電性金属部は、該導電性金属部に含まれる金属の全質量に対して、銀を５０質量％以上含有することが好ましく、６０質量％以上含有することがさらに好ましい。銀を５０質量％以上含有すれば、物理現像及び／またはメッキ処理に要する時間を短縮し、生産性を向上させ、かつ低コストとすることができる。

さらに、導電性金属部を形成する導電性金属粒子として銅及びパラジウムが用いられる場合、銀、銅及びパラジウムの合計の質量が導電性金属部に含まれる金属の全質量に対して８０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがさらに好ましい。

本発明における導電性金属部は、導電性金属粒子を担持するため良好な導電性が得られる。このため、本発明の透光性電磁波シールド膜（導電性金属部）の表面抵抗率は、１０Ω／□以下であることが好ましく、１Ω／□以下であることがより好ましく、０．５Ω／□以下であることが最も好ましい。

透光性電磁波遮蔽材料の用途において、上記導電性金属部の線幅は２０μｍ以下、線間隔は５０μｍ以上であることが好ましい。また、導電性金属部は、アース接続等の目的においては、線幅は２０μｍより広い部分を有していてもよい。また画像を目立たせなくする観点からは、導電性金属部の線幅は１８μｍ未満であることが好ましく、１５μｍ未満であることがより好ましく、１４μｍ未満であることがさらに好ましく、１０μｍ未満であることがさらにより好ましく、７μｍ未満であることが最も好ましい。

（光透過性部）
本発明において、可視光域の平均透過率とは、４００〜７００ｎｍの可視光領域の透過率を、少なくとも５ｎｍ毎に測定して求めた可視光域の各透過率を積算し、その平均値として求めたものと定義する。

測定においては、測定アパチャーを、前述のメッシュパターンより十分大きくとっておく必要があり、少なくともメッシュの格子面積よ１００倍以上大きな面積で測定して求める。

本発明においては、可視光域による平均透過率が、８０％以上であることが好ましく、より好ましくは８５％以上、さらに好ましくは９０％以上である。

（電磁波遮蔽以外の機能性材料）
本発明の透明導電膜は、必要に応じて、別途、機能性を有する機能層を設けていてもよい。この機能層は、用途ごとに種々の仕様とすることができる。例えば、ディスプレイ用電磁波遮蔽材料用途としては、屈折率や膜厚を調整した反射防止機能を付与した反射防止層や、ノングレアー層またはアンチグレアー層（共にぎらつき防止機能を有する）、近赤外線を吸収する化合物や金属からなる近赤外線吸収層、特定の波長域の可視光を吸収する色調調節機能をもった層、指紋等の汚れを除去しやすい機能を有した防汚層、傷のつき難いハードコート層、衝撃吸収機能を有する層、ガラス破損時のガラス飛散防止機能を有する層等を設けることができる。これらの機能層は、ハロゲン化銀粒子含有層と支持体とを挟んで反対側の面に設けてもよく、さらに同一面側に設けてもよい。

これらの機能性膜はＰＤＰに直接貼合してもよく、プラズマディスプレイ用パネル本体とは別に、ガラス板やアクリル樹脂板等の透明基板に貼合してもよい。これらの機能性膜を光学フィルター（または単にフィルター）と呼び、プラズマディスプレイ用であれば、プラズマディスプレイ用フィルターと呼びぶ。

反射防止機能を付与した反射防止層は、外光の反射を抑えてコントラストの低下を抑えるために、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機物を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法等で単層あるいは多層に積層させる方法、アクリル樹脂、フッ素樹脂等の屈折率の異なる樹脂を単層あるいは多層に積層させる方法等がある。また、反射防止処理を施したフィルムを該フィルター上に張り付けることもできる。また、必要であればノングレアー層またはアンチグレアー層を設けることもできる。ノングレアー層やアンチグレアー層は、シリカ、メラミン、アクリル等の微粉体をインキ化して、表面にコーティングする方法等を用いることができる。インキの硬化は熱硬化あるいは光硬化等を用いることができる。また、ノングレア処理またはアンチグレア処理をしたフィルムを該フィルター上に張り付けることもできる。更に必要で有ればハードコート層を設けることもできる。

近赤外線吸収層は、金属錯体化合物等の近赤外線吸収色素を含有する層、または、銀スパッタ層等である。ここで銀スパッタ層とは、誘電体層と金属層を基材上に交互にスパッタリング等で積層させることで、近赤外線、遠赤外線から電磁波まで１０００ｎｍ以上の光をカットすることもできる。誘電体層としては酸化インジウム、酸化亜鉛等の透明な金属酸化物等であり、金属層としては銀あるいは銀−パラジウム合金が一般的であり、通常、誘電体層よりはじまり３層、５層、７層あるいは１１層程度積層する。

特定の波長域の可視光を吸収する色調調節機能をもった層は、ＰＤＰが青色を発光する蛍光体が青色以外に僅かであるが赤色を発光する特性を有しているため、青色に表示されるべき部分が紫がかった色で表示されるという問題があり、この対策として発色光の補正を行う層であり、５９５ｎｍ付近の光を吸収する色素を含有する。

本発明の透明導電膜は、良好な電磁波遮蔽性及び透過性を有するため、電磁波遮蔽材料として用いることができ。特に本発明の電磁波遮蔽材料は、ＣＲＴ（陰極線管）、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）、液晶、ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）等のディスプレイ前面、電子レンジ、電子機器、プリント配線板等、特にプラズマディスプレイパネルで用いられる透光性の電磁波遮蔽材料として好適に用いることができる。さらに、回路配線等の各種の導電性配線材料として用いることができる。

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。

実施例１
（ポリエステル支持体の作製）
固有粘度０．６５ｄｌ／ｇのポリエチレンテレフタレートペレットを１５０℃で６時間乾燥した後、押し出し成形用ダイとして、コートハンガー式Ｔダイを用いて２９０℃で溶融押出し、静電印加させ、約３０℃の冷却ドラム上で急冷して、厚さ１．１ｍｍの未延伸フィルムを得た。得られた未延伸フィルムを下記条件で縦・横逐次二軸延伸し、熱固定した後、両耳をスリットして厚さ１００μｍの二軸延伸ポリエステル支持体を得た。

縦延伸：ロール周速差による延伸予熱ロール温度：７８℃
赤外線ヒータ加熱延伸時フィルム温度：９５℃
延伸倍率：３．３倍
横延伸：ステンター方式による延伸
ゾーン温度：１００℃
延伸倍率：３．３倍
熱固定温度：２２０℃
（易接着層付きポリエステル支持体）
得られた１００μｍのポリエステル支持体の両面に１２Ｗ・ｍｉｎ／ｍ²のコロナ放電処理を施し、それぞれの面に易接着塗布液Ｂ１を乾燥膜厚０．１μｍになるように塗布し、さらに、その上に１２Ｗ・ｍｉｎ／ｍ²のコロナ放電処理を施し、易接着塗布液Ｂ２を乾燥膜厚０．０６μｍになるように塗布した。その後、１２０℃で１．５分熱処理を実施し、易接着層付きポリエステル支持体を得た。

〈易接着塗布液Ｂ１〉
易接着層樹脂Ｐ−１５０ｇ
屈折率調整剤Ｚ−１表１記載
化合物（ＵＬ−１）０．２ｇ
水で１０００ｍｌに仕上げる
〈易接着塗布液Ｂ２〉
ゼラチン１０ｇ
化合物（ＵＬ−１）０．２ｇ
化合物（ＵＬ−２）０．２ｇ
シリカ粒子（平均粒径３μｍ）０．１ｇ
硬膜剤（ＵＬ−３）１ｇ
水で１０００ｍｌに仕上げる

（易接着層樹脂）
Ｐ−１；スチレン２０質量部、グリシジルメタクリレート４０質量部、ブチルアクリレート４０質量部の共重合体ラテックス液（固形分質量３０％）
（屈折率調整剤）
Ｚ−１；酸化スズゾル
（酸化スズゾルの合成）
ＳｎＣｌ₄・５Ｈ₂Ｏ６５ｇを蒸留水２０００ｍｌに溶解して均一溶液とし、次いでこれを煮沸し沈澱物を得た。生成した沈澱物をデカンテーションにより取り出し、蒸留水にて何度も水洗する。沈澱を水洗した蒸留水中に硝酸銀を滴下し、塩素イオンの反応がないことを確認後、洗浄した沈澱物に蒸留水を添加し全量を２０００ｍｌとする。これに３０％アンモニア水４０ｍｌを加え加温することにより、均一なゾルを得た。さらに、アンモニア水を添加しながらＳｎＯ₂の固型分濃度が８．３質量％になるまで加熱濃縮し、酸化スズゾルを得た。

〔透明導電膜形成用感光材料の作製〕
（ハロゲン化銀乳剤の調製）
反応容器内で下記溶液Ａを３４℃に保ち、特開昭６２−１６０１２８号公報記載の混合撹拌装置を用いて高速に撹拌しながら、硝酸（濃度６％）を用いてｐＨを２．９５に調整した。引き続き、ダブルジェット法を用いて下記溶液Ｂと下記溶液Ｃを一定の流量で８分６秒間かけて添加した。添加終了後に、炭酸ナトリウム（濃度５％）を用いてｐＨを５．９０に調整し、続いて下記溶液Ｄと溶液Ｅを添加した。

（溶液Ａ）
アルカリ処理不活性ゼラチン（平均分子量１０万）１８．７ｇ
塩化ナトリウム０．３１ｇ
下記溶液Ｉ１．５９ｍｌ
純水１２４６ｍｌ
（溶液Ｂ）
硝酸銀１６９．９ｇ
硝酸（濃度６％）５．８９ｍｌ
純水にて３１７．１ｍｌに仕上げる
（溶液Ｃ）
アルカリ処理不活性ゼラチン（平均分子量１０万）５．６６ｇ
塩化ナトリウム５８．８ｇ
臭化カリウム１３．３ｇ
下記溶液Ｉ０．８５ｍｌ
下記溶液II ２．７２ｍｌ
純水にて３１７．１ｍｌに仕上げる。

（溶液Ｄ）
２−メチル−４ヒドロキシ−１，３，３ａ，７−テトラアザインデン０．５６ｇ
純水１１２．１ｍｌ
（溶液Ｅ）
アルカリ処理不活性ゼラチン（平均分子量１０万）３．９６ｇ
下記溶液Ｉ０．４０ｍｌ
純水１２８．５ｍｌ
（溶液Ｉ）
界面活性剤：ポリイソプロピレンポリエチレンオキシジコハク酸エステルナトリウム塩の１０％メタノール溶液
（溶液II）
六塩化ロジウム錯体の１０％水溶液
上記操作終了後に、常法に従い４０℃にてフロキュレーション法を用いて脱塩及び水洗処理を施し、溶液Ｆと防バイ剤を加えて６０℃でよく分散し、４０℃にてｐＨを５．９０に調整して、最終的に臭化銀を１０モル％含む平均粒子径０．０９μｍ、変動係数１０％の塩臭化銀立方体粒子乳剤を得た。

（溶液Ｆ）
アルカリ処理不活性ゼラチン（平均分子量１０万）１６．５ｇ
純水１３９．８ｍｌ
上記ハロゲン化銀乳剤に対し、チオ硫酸ナトリウムをハロゲン化銀１モル当たり２０ｍｇ用い、６０℃にて５０分間化学増感を行い、化学増感終了後に４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデン（ＴＡＩ）をハロゲン化銀１モル当たり５００ｍｇ、１−フェニル−５−メルカプトテトラゾールをハロゲン化銀１モル当たり１５０ｍｇ添加して、ハロゲン化銀乳剤ＥＭ−１を得た。このハロゲン化銀乳剤ＥＭ−１のハロゲン化銀粒子とゼラチンの体積比（ハロゲン化銀粒子／ゼラチン）は０．６２５であった。さらに染料（Ｆ−１）を３０ｍｇ／ｍ²、硬膜剤（Ｈ−１）をゼラチン１ｇ当たり１５０ｍｇの比率となるようにして添加して乳剤層塗布液を作製した。

こうして得られた塗布液を表１記載の乳剤層乾燥膜厚、非メッシュ部膜厚、銀量、界面活性剤の有無または種類となるように上記易接着ポリエステルフィルム支持体の片方の面上に塗布した後、５０℃、２４時間のエージング処理を実施して透明導電膜形成用感光材料を作製した。なお、界面活性剤の添加量は乳剤層塗布液の表面張力を２０ｍＮ／ｍにする量とした。

〔露光〕
得られた感光材料をＡ４サイズに断裁し、メッシュ状のフォトマスク（ピッチ／線幅＝３００μｍ／５μｍ）を介してＵＶ露光器で露光した。

〔化学現像〕
露光した感光材料を、下記現像液（ＤＥＶ−１）を用いて２５℃で６０秒間現像処理を行った後、下記定着液（ＦＩＸ−１）を用いて２５℃で１２０秒間の定着処理を行った。

（ＤＥＶ−１）
純水５００ｍｌ
メトール２ｇ
無水亜硫酸ナトリウム８０ｇ
ハイドロキノン４ｇ
ホウ砂４ｇ
チオ硫酸ナトリウム１０ｇ
臭化カリウム０．５ｇ
水を加えて全量を１リットルとする
（ＦＩＸ−１）
純水７５０ｍｌ
チオ硫酸ナトリウム２５０ｇ
無水亜硫酸ナトリウム１５ｇ
氷酢酸１５ｍｌ
カリミョウバン１５ｇ
水を加えて全量を１リットルとする
〔物理現像〕
次に、下記物理現像液（ＰＤＥＶ−１）を用いて２５℃で１０分間物理現像を行った後、水洗、乾燥処理を行った。

（ＰＤＥＶ−１）
下記Ａ液、Ｂ液を処理の直前に混合する
（Ａ液）
純水４００ｍｌ
クエン酸１０ｇ
リン酸水素２ナトリウム１ｇ
アンモニア水（２８％水溶液）１．２ｍｌ
ハイドロキノン３ｇ
（Ｂ液）
純水１０ｍｌ
硝酸銀０．４ｇ
（水洗処理及び乾燥処理）
水洗処理は、水道水で１０分間洗い流した。また乾燥処理は、乾燥風（５０℃）を用いてドライ状態になるまで乾燥した。

〔電解銅メッキ〕
さらに、引き続き、下記メッキ液（ＰＬ−１）を用いて６Ａ、２５℃で２分間電解メッキを施して、導電性金属部が現像銀及び銅からなる透明導電膜１０１〜１０７を作製した。

（ＰＬ−１）
純水１０００ｍｌ
硫酸銅２００ｇ
硫酸５０ｇ
得られた、透明導電膜の導電性金属部は露光パターンに応じたメッシュパターンを呈しており、いずれの試料においても線幅１０μｍ、ピッチ幅２９０μｍであった。また光透過部の開口率は約９３％であった。

〔測定及び評価〕
支持体及び易接着層の屈折率の測定、下記方法で乳剤層（透明導電膜形成用感光材料）の塗布性、補力適性、透明導電膜の透過率、表面抵抗、干渉ムラ及びモアレを評価した。

（塗布性）
乳剤層を塗布、乾燥した段階で乳剤層側のムラの有無を目視で調べ、下記基準で評価した。

○：ムラが認められない
△：ムラが若干認められる
×：ムラがかなり認められる
××：ムラが多い
（メッキ均一性）
メッキ処理後の試料についてムラの有無を目視で調べ、下記基準で評価した。

○：ムラがほとんど認められない
△：ムラが若干認められる（全面積の２５％程度）
×：ムラがかなり認められる（全面積の５０％程度）
××：ムラが非常に多い（全面積の８０％以上）
（透過率）
上記のようにして得られた導電性金属部と光透過性部を有する試料の、支持体の光吸収及び反射の寄与を除いた３８０〜７８０ｎｍの波長領域における全透過率を測定し、導電性金属部の線幅を測定して得られる開口率から算出した理論透過率との比を下記基準で評価した。

◎：全透過率／理論透過率が９０％以上
○：全透過率／理論透過率が８０％〜９０％未満
△：全透過率／理論透過率が７０％〜８０％未満
×：全透過率／理論透過率が７０％未満
（表面抵抗）
透明導電膜の導電性金属部の表面抵抗測定はダイアインスツルメンツ社製抵抗率計ロレスタＧＰ直列４探針プローブを用いて行い、２０箇所を測定し平均を求めた。

（干渉ムラ）
試料の乳剤層を上にしてブラックボードの上に置き、２７Ｗの三波長蛍光灯を上から照らして、干渉ムラの濃淡の有無を目視で調べ、下記基準で評価した。

○：ムラが認められない
△：ムラが若干認められる
×：ムラがかなり認められる
（モアレ）
日立製ＰＤＰテレビ及び松下電器製ＰＤＰテレビの前面に、モアレが最小のバイアス角度で試料を設置し、目視による官能評価を行った。テレビ画面に正対して観察すると共に、テレビ画面に対して観察位置を例えば斜め等様々な位置に変えて画像表示面の観察を行い、下記基準で評価した。

○：モアレが認められない
△：モアレが若干認められる
×：モアレがかなり認められる
測定及び評価の結果を表１に示す。

表１から明らかなように、本発明の不飽和炭素結合を有する含フッ素界面活性剤を含有する透明導電膜形成用感光材料の塗布性は良好で、メッキ均一性も良好であり、これを用いて作製した本発明の透明導電膜は、高い透過率と高い導電性を同時に満たし、干渉ムラとモアレが低減されていることが分かる。また、易接着層の屈折率が支持体の屈折率より小さく、かつ易接着層と支持体の屈折率差が０．１以内とすることで、干渉ムラが低減することが分かる。

Claims

支持体上に、少なくともハロゲン化銀及びバインダーを含有する乳剤層を有し、露光後、現像処理してメッシュ状に金属銀部を形成することにより、透明導電膜を製造可能な透明導電膜形成用感光材料であって、前記乳剤層が不飽和炭素結合を有する含フッ素界面活性剤を含有することを特徴とする透明導電膜形成用感光材料。
支持体上に、少なくともハロゲン化銀及びバインダーを含有する乳剤層を有し、露光後、現像処理し、さらに補力処理をすることでメッシュ状に金属銀部を形成することにより、透明導電膜を製造可能な透明導電膜形成用感光材料であって、前記乳剤層が不飽和炭素結合を有する含フッ素界面活性剤を含有することを特徴とする透明導電膜形成用感光材料。
前記ハロゲン化銀の塗布銀量が１ｇ／ｍ²以下、かつ前記乳剤層の乾燥膜厚が０．５μｍ以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の透明導電膜形成用感光材料。
前記メッシュ状に金属銀部を形成することにより得られた透明導電膜の、非メッシュ部（光透過部）の乳剤層の厚みが０．１μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の透明導電膜形成用感光材料。
前記支持体は前記乳剤層側に易接着層を有し、該易接着層の屈折率が該支持体の屈折率より小さく、かつ該易接着層と該支持体との屈折率差が０．１以内であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の透明導電膜形成用感光材料。
請求項１〜５のいずれか１項に記載の透明導電膜形成用感光材料を露光後、現像処理してメッシュ状に金属銀部を形成することを特徴とする透明導電膜の製造方法。
請求項１〜５のいずれか１項に記載の透明導電膜形成用感光材料を露光後、現像処理し、さらに補力処理してメッシュ状に金属銀部を形成することを特徴とする透明導電膜の製造方法。
請求項６または７に記載の製造方法により得られることを特徴とする透明導電膜。
請求項８に記載の透明導電膜を用いることを特徴とする電磁波遮蔽材料。