JP2008242374A - 電気光学装置及び電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】高い表示品位を得ることが可能な二端子型非線形素子を備える横電界方式の電気光学装置を提供する。
【解決手段】この液晶装置は、液晶層を挟持するアレイ基板及びカラーフィルタ（ＣＦ）基板を備える。アレイ基板は、複数行及び複数列に亘って配列されたサブ画素領域の各々に対応して、ＴＦＤ素子と、それに接続された画素電極と、画素電極との間で電界を発生させる共通電極とを備える。これにより、ＴＦＤ素子を備えたＦＦＳ方式の液晶装置を構成している。特に、各共通電極はＩＴＯにより形成され、各行方向に配列された各共通電極は、アレイ基板に設けられた金属膜よりなる各共通配線に直接的に接続されている。これにより、各行方向に配列された各共通電極と各共通配線との接続構造体の抵抗値を下げることができる。その結果、１行毎に縞状の表示ムラ等が生じるのを防止でき、高い表示品位を得ることができる。
【選択図】図２

Description

本発明は、各種情報の表示に用いて好適な電気光学装置等に関する。

現在、ＩＰＳ（In−Plane Switching）方式やＦＦＳ（Fringe Field Switching）方式などに代表される横電界方式の液晶装置（電気光学装置）が携帯機器などの各種の表示装置として好適に用いられている。この方式は、液晶に印加する電界の方向を基板にほぼ平行な方向とする方式であり、ＴＮ（Twisted Nematic）方式などに比べて高透過率及び高視角特性を得ることができるという利点がある。

なお、特許文献１には、ＴＦＤ(Thin Film Diode)素子を用いた横電界方式の液晶装置が記載されている。

特開２００７−０２５５２１号公報

本発明は、高い表示品位を得ることが可能な二端子型非線形素子を備える横電界方式の電気光学装置及びそれを用いた電子機器を提供することを課題とする。

本発明の１つの観点では、電気光学装置は、アレイ基板と対向基板との間に電気光学層を挟持してなり、前記アレイ基板と前記対向基板との重なり合う領域には、複数行及び複数列に亘って配列されたサブ画素領域が設けられ、前記アレイ基板は、複数の二端子型非線形素子と、前記二端子型非線形素子の各々に電気的に接続された複数の第１の電極と、前記第１の電極の各々との間で電界を発生させる複数の第２の電極と、を有すると共に、前記二端子型非線形素子、前記第１の電極及び前記第２の電極の各々は、前記アレイ基板において、前記サブ画素領域の各々に対応して設けられ、前記第２の電極の各々は透明導電膜により形成されていると共に、各行方向に配列された前記第２の電極の各々は、前記アレイ基板に設けられた金属膜よりなる各共通配線に直接的に接続されている。

上記の電気光学装置は、アレイ基板と対向基板との間に電気光学層を挟持してなる。そして、アレイ基板と対向基板との重なり合う領域には、複数行及び複数列に亘って配列された表示の最小単位となるサブ画素領域が設けられている。また、アレイ基板は、複数の二端子型非線形素子（例えば、ＴＦＤ素子）と、二端子型非線形素子の各々に電気的に接続された複数の第１の電極（例えば、画素電極）と、第１の電極の各々との間で電界を発生させる複数の第２の電極（例えば、共通電極）と、を有する。また、二端子型非線形素子、第１の電極及び第２の電極の各々は、アレイ基板において、サブ画素領域の各々に対応して設けられている。好適な例では、前記電界は、電気光学層の駆動時にアレイ基板の基板面に対し略平行な方向に強い電界成分を有するフリンジフィールドとすることができる。これにより、二端子型非線形素子を備えた、横電界方式の一例としてのＦＦＳ方式の電気光学装置を構成することができる。

特に、この電気光学装置では、前記第２の電極の各々は透明導電膜により形成されていると共に、各行方向に配列された前記第２の電極の各々は、前記アレイ基板に設けられた金属膜よりなる各共通配線に直接的に接続されている。好適な例では、前記第２の電極はＩＴＯにより形成されていることが好ましく、また、前記各共通配線は、Ｃｒ、Ａｇ及びＡｌのうちいずれかの金属膜又はこれらのいずれかを含む金属膜により形成されていることが好ましい。

これにより、各行方向に配列された第２の電極の各々と、各共通配線との接続構造体がＩＴＯのみにより形成された比較例と比較して、各行方向に配列された第２の電極の各々と、各共通配線との接続構造体の抵抗値を下げることができる。これにより、透明導電膜よりなる第２の電極の厚さを薄くすることも可能となり、第２の電極を櫛歯形状とした場合には、当該櫛歯部分の外形付近において液晶分子の配向異常が起き難くなり、その外形付近にて光り漏れが生じるのを防止でき、コントラストを向上させることができる。また、これにより、電気信号（例えば、走査信号）の入力側に対して近い側に位置する第１の電極と、当該電気信号の入力側に対して遠い側に位置する第１の電極とで、Ｖ（電圧）−Ｔ（透過率）特性に差が生じるのを防止できると共に、１行毎に縞状の表示ムラが生じるのを防止でき、高い表示品位を得ることができる。

上記の電気光学装置の一つの態様では、前記各共通配線は、遮光性を有する金属膜により形成されていると共に、任意の前記サブ画素領域と、当該サブ画素領域に対して前記列方向に隣接する他の前記サブ画素領域との境界近傍に配置されている。これにより、当該各共通配線を遮光層として機能させつつ、開口率の向上を図ることができる。

上記の電気光学装置の他の態様では、前記各共通配線は、前記行方向に延在する直線状の形状を有すると共に、前記任意の前記サブ画素領域に対応して設けられた前記二端子型非線形素子と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する前記第２の電極の端部と重なる位置に且つ直接的に接続される位置に配置されている。

この態様によれば、各行方向に配列された第２の電極の各々は、当該第２の電極の各々の端部の位置において、直線状の１つの共通配線と直接的に接続される。よって、各行方向に配列された第２の電極の各々と、各共通配線との接続構造体の抵抗値を下げることができる。また、このように、各共通配線をサブ画素領域内における表示に寄与しない二端子型非線形素子と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する第２の電極の端部と重なる位置に配置することで、当該各共通配線を遮光層として機能させつつ、開口率の向上を図ることができる。

上記の電気光学装置の他の態様では、前記各共通配線は、直線状の第１の配線と、前記第１の配線の延在方向と同一の方向に延在する直線状の第２の配線と、を有し、前記第１の配線は、前記任意の前記サブ画素領域に対応して設けられた前記二端子型非線形素子と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する前記第２の電極の端部と重なる位置に且つ直接的に接続される位置に配置されており、前記第２の配線は、当該第２の電極の端部に対して反対側に位置すると共に、前記他の前記サブ画素領域に対応して設けられた他の前記二端子型非線形素子と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する当該第２の電極の他の端部と重なる位置に且つ直接的に接続される位置に配置されている。

この態様によれば、各行方向に配列された第２の電極の各々は、当該第２の電極の各々の端部又は他の端部の位置において、一対の第１の配線及び第２の配線と直接的に接続される。よって、各行方向に配列された第２の電極の各々を１つの金属配線と直接的に接続した接続構造体と比較して、各行方向に配列された第２の電極の各々と、各共通配線の第１及び第２の配線との接続構造体の抵抗値をより下げることができる。また、この態様の場合、万が一、一対の第１及び第２の配線のうち、どちらか一方が断線した場合でも、断線していない側の配線は、各行方向に配列された第２の電極の各々と電気的に接続されることになるため、共通配線の冗長性を高めることができる。また、このように、各共通配線の第１の配線及び第２の配線の各々を、サブ画素領域内における表示に寄与しない二端子型非線形素子と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する第２の電極の端部又は他の端部と重なる位置に配置することで、当該各共通配線の第１の配線及び第２の配線の各々を遮光層として機能させつつ、開口率の向上を図ることができる。

上記の電気光学装置の他の態様では、前記第２の電極は、複数の櫛歯部分を含む櫛歯形状を有し、隣接する前記櫛歯部分の間には、前記第１の電極との間で前記電界を発生させるための間隙が形成されており、前記間隙の各々はＵ字状の平面形状を有する。

ここで、櫛歯部分の根元付近に位置する間隙の角部が直角状の形状に形成されている場合、その角部付近では、電気光学層を構成する分子（例えば、液晶分子）の配向制御がし難くなり、電気光学層を構成する分子の配向異常による光り抜けが生じ易くなる。

この点、この態様では、間隙の各々はＵ字状の平面形状を有するので、櫛歯部分の根元付近の間隙の角部は湾曲状の形状となる。これにより、間隙の角部付近では、電気光学層を構成する分子の配向異常が起き難くなり、光り抜けが生じるのを抑制することができる。

上記の電気光学装置の他の態様では、前記第２の電極は、矩形状の平面形状を有すると共に、前記第１の電極との間で前記電界を発生させるための複数のスリットを有し、前記スリットの各々は、角丸四角状又は楕円状の平面形状を有する。

ここで、スリットの角部が直角状の形状に形成されている場合、その角部付近では、電気光学層を構成する分子（例えば、液晶分子）の配向制御がし難くなり、電気光学層を構成する分子の配向異常による光り抜けが生じ易くなる。

この点、この態様では、スリットの各々は角丸四角状又は楕円状の平面形状を有するので、スリットの角部は湾曲状の形状となる。これにより、スリットの角部付近では、電気光学層を構成する分子の配向異常が起き難くなり、光り抜けが生じるのを抑制することができる。

本発明の他の観点では、上記の電気光学装置を表示部として備える電子機器を構成することができる。

以下、図面を参照しながら本発明の実施の形態について説明する。本発明の各種実施形態は、本発明を電気光学装置の一例としての液晶装置に適用したものである。

[第１実施形態]
（液晶装置の構成）
まず、図１を参照して、本発明の第１実施形態に係る液晶装置の電極及び配線構成を中心とした平面構成について説明する。

図１は、第１実施形態に係る液晶装置の電極及び配線構成を模式的に示す平面図である。図１では、紙面手前側（観察側）にカラーフィルタ基板９２が、また、紙面奥側にアレイ基板９１が夫々配置されている。但し、本発明では、カラーフィルタ基板９２とアレイ基板９１の配置関係は図１の構成と逆でも構わない。また、図１において、カラーフィルタ基板９２側に設けられた矩形状の平面形状を有するＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色層４の各々に対応する領域と、アレイ基板９１側に設けられた各画素電極３との重なり合う領域は、表示の最小単位となる１つのサブ画素領域ＳＧを示していると共に、１行３列に配置されたＲ、Ｇ、Ｂの各色のサブ画素領域ＳＧを含む領域は１つの画素領域Ｇを示している。サブ画素領域ＳＧ又は画素領域Ｇが複数行（紙面横方向：以下同様）及び複数列（紙面縦方向：以下同様）に亘って配列された領域が、文字、数字、図形等の画像が表示される有効表示領域Ｖ（２点鎖線により囲まれる領域）である。有効表示領域Ｖの外側の領域は表示に寄与しない額縁領域３８である。

第１実施形態の液晶装置１００は、二端子型非線形素子の一例としてのＴＦＤ素子を用いたアクティブマトリクス駆動方式であって、且つ、電極が形成されたアレイ基板９１側において、当該アレイ基板９１の基板面に対して略平行な方向にフリンジフィールド（電界）Ｅを発生させて液晶分子の配向を制御する、横電界方式の一例としてのＦＦＳ（Fringe Field Switching）方式の液晶装置である。このため、高透過率及び高視角特性を得ることが可能となっている。また、第１実施形態の液晶装置１００は、透過型の液晶装置でもある。

第１実施形態に係る液晶装置１００は、アレイ基板９１と、カラーフィルタ基板９２とが枠状のシール材４３にて貼り合わされ、そのシール材４３で区画される領域に液晶層１５が封入されてなる。

まず、アレイ基板９１の電極及び配線構成を中心とした平面構成について説明する。

アレイ基板９１は、主として、複数のデータ線３２、複数の引き回し配線１７、複数の共通配線７、複数のＴＦＤ素子２１、複数の画素電極３、複数の共通電極９、ドライバＩＣ４１、複数の外部接続用配線３５、及びＦＰＣ４２を有する。

アレイ基板９１は、カラーフィルタ基板９２の一辺側から外側へ張り出してなる張り出し領域３６を有しており、その張り出し領域３６上には、液晶を駆動するためのドライバＩＣ４１が実装されている。ドライバＩＣ４１の入力側の各電極（図示略）は、各外部接続用配線３５の一端側と電気的に接続されていると共に、各外部接続用配線３５の他端側はＦＰＣ４２の各電極（図示略）と電気的に接続されている。ＦＰＣ４２の一端側（図示略）は、後述する電子機器などと電気的に接続されている。

各データ線３２は、張り出し領域３６から有効表示領域Ｖにかけて延在するように形成されている。各データ線３２の一端側は、ドライバＩＣ４１の出力側の各電極（図示略）に電気的に接続されている。

各引き回し配線１７は、有効表示領域Ｖの両側に位置する各額縁領域３８において張り出し領域３６から当該張り出し領域３６と反対側にかけて延在するように形成されている。好適な例では、各引き回し配線１７は、Ｃｒ（クロム）、Ａｇ（銀）及びＡｌ（アルミニウム）のうちいずれかの金属膜又はこれらのいずれかを含む金属膜により形成されているのが好ましい。各引き回し配線１７の一端側は、ドライバＩＣ４１の出力側の各電極（図示略）に電気的に接続されている。

各共通配線７は、コの字状の平面形状を有し、データ線３２の延在方向と直交する方向に延在する直線状の第１の配線７ａと、第１の配線７ａの延在方向と同一の方向に延在する直線状の第２の配線７ｂと、第１の配線７ａの一端側と第２の配線７ｂの一端側とを電気的に繋ぐ直線状の第３の配線７ｃと、を備える。各共通配線７は、各行方向に配列されたサブ画素領域ＳＧ群毎に対応して設けられ、各第３の配線７ｃは、コンタクトホール５ａを通じて各引き回し配線１７の他端側と電気的に接続されている。また、アドレス番号Ｇ_１、Ｇ_３・・に対応する奇数行の共通配線７は、液晶装置１００の紙面視左辺１００Ｌ側からその紙面視右辺１００Ｒ側に向かって延在するように引き回されていると共に、アドレス番号Ｇ_２、Ｇ_４・・に対応する偶数行の共通配線７は、液晶装置１００の紙面視右辺１００Ｒ側からその紙面視左辺１００Ｌ側に向かって延在するように引き回されている。

各ＴＦＤ素子２１は、サブ画素領域ＳＧの各々に対応して設けられ、各データ線３２と電気的に接続されている。

各画素電極３は、サブ画素領域ＳＧの各々に対応して設けられ、対応する各ＴＦＤ素子２１と電気的に接続されている。

各共通電極９は、サブ画素領域ＳＧの各々に対応して設けられ、対応する画素電極３との間でフリンジフィールド（電界）Ｅを発生させる機能を有する。

次に、カラーフィルタ基板９２の平面構成について説明する。

カラーフィルタ基板９２は、光を遮光する黒色樹脂又は金属膜などからなる遮光層（一般に「ブラックマトリクス」と呼ばれ、以下では、単に「ＢＭ」と略記する）、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂなどを備える。なお、以下の説明において、色を問わずに着色層を指す場合は単に「着色層４」と記し、色を区別して着色層を指す場合は「着色層４Ｒ」などと記す。

ＢＭは、各サブ画素領域ＳＧを区画する位置や、各ＴＦＤ素子２１に対応する位置などに形成されている。Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の着色層４は、サブ画素領域ＳＧの各々に対応して設けられている。第１実施形態では、着色層４は、共通配線７の第１の配線７ａ及び第２の配線７ｂの各延在方向にＲ、Ｇ、Ｂの順に配列されているが、その配列順序に特に限定はない。

以上の構成を有する液晶装置１００では次のようにして動作が行われる。

まず、スイッチング素子であるＴＦＤ素子２１を一定期間だけそのスイッチを開けることにより、例えば、線順次方式により、データ線３２から供給される、アドレス番号Ｓ_１、Ｓ_２、…、Ｓ_ｎ（ｎ：自然数）に対応する画像信号を所定のタイミングで書き込む。また、アドレス番号Ｇ_１、Ｇ_２、…、Ｇ_ｍ（ｍ：自然数）に対応する走査信号は、引き回し配線１７及び当該引き回し配線１７に電気的に接続された共通配線７に所定のタイミングでパルス的に、この順に線順次で印加される。これにより、液晶層１５の液晶分子の配向状態が制御され、表示画像が観察者により視認される。

（画素構成）
次に、図２及び図３を参照して、第１実施形態に係る液晶装置１００の画素構成について説明する。

まず、図２において、アレイ基板９１における複数のサブ画素領域ＳＧを含む画素構成は次の通りである。図２は、第１実施形態に係るアレイ基板９１における複数のサブ画素領域ＳＧを含む画素構成を示す平面図である。

アレイ基板９１において、各行方向に隣接するサブ画素領域ＳＧの間には、画像信号が供給されるデータ線３２が列方向に延在するように設けられている。また、アレイ基板９１において、各サブ画素領域ＳＧの隅の位置であって、且つ各列方向に隣接するサブ画素ＳＧの境界付近には、対応するデータ線３２の各々と電気的に接続されたＴＦＤ素子２１が対応して設けられ、各ＴＦＤ素子２１は、サブ画素領域ＳＧの各々に対応して設けられた矩形状の画素電極３に電気的に接続されている。また、アレイ基板９１は、各サブ画素領域ＳＧの各々に対応して設けられた共通電極９を有する。各共通電極９は、複数の櫛歯部分９ｃを含む櫛歯形状を有し、各画素電極３と平面的に重なり合っている。各櫛歯部分９ｃは、各データ線３２及び各共通配線７の第１の配線７ａ及び第２の配線７ｂと交差する方向に延在していると共に、隣接する櫛歯部分９ｃの間には、画素電極３との間で、データ線３２の延在方向に電界Ｅを発生させるための間隙９ｋが形成されている。

また、アレイ基板９１は、走査信号が供給される共通配線７を有する。各共通配線７は、遮光性を有する金属膜にて形成されている。好適な例では、共通配線７は、各引き回し配線１７と同様に、Ｃｒ、Ａｇ及びＡｌのうちいずれかの金属膜又はこれらのいずれかを含む金属膜により形成されているのが好ましい。各共通配線７の第１の配線７ａ及び第２の配線７ｂは、任意のサブ画素領域ＳＧと、当該任意のサブ画素領域ＳＧに対して前記列方向に隣接する他のサブ画素領域ＳＧとの境界近傍に配置されている。

なお、本例では、アレイ基板９１に対向配置されるカラーフィルタ基板９２側に設けられる、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の着色層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂは、各サブ画素ＳＧに対応して配置され、且つデータ線３２の延在方向と直交する方向に対してこの順に配置されている。また、カラーフィルタ基板９２側において、前記行方向に隣接するサブ画素領域ＳＧの間、及び、各共通配線７の第１の配線７ａと、当該各第１の配線７ａに対して前記列方向に隣接する各共通配線７の第２の配線７ｂとの間、及び、ＴＦＤ素子２１に対応する位置などには、それぞれ、ＢＭが設けられている。

次に、図３を参照して、サブ画素領域ＳＧの断面構成について説明する。図３は、図２の切断線Ａ−Ａ´に沿ったサブ画素領域ＳＧの断面構成を示す断面図である。

液晶装置１００は、観察側に配置されたアレイ基板９１と、そのアレイ基板９１に対向して配置されたカラーフィルタ基板９２との間にホモジニアス配向を呈する液晶層１５を挟持した構成を有する。

まず、図３に対応するアレイ基板９１の断面構成は次の通りである。

アレイ基板９１は、ガラスなどの透光性材料により形成された第１の基板１と、第１の基板１の液晶層１５側に形成された複数の構成要素と、を備える。

具体的には、第１の基板１の液晶層１５側の内面上には、ＴＦＤ素子２１、及びＴＦＤ素子２１に電気的に接続された画素電極３が夫々形成されている。

ＴＦＤ素子２１は、第１のＴＦＤ素子２１ａ及び第２のＴＦＤ素子２１ｂを含んで構成される。第１のＴＦＤ素子２１ａ及び第２のＴＦＤ素子２１ｂは、島状に形成され、タンタルを主成分とし、タングステンを添加物とする第１の導電膜３２２と、この第１の導電膜３２２の表面を陽極酸化することによって形成され、酸化タンタル等の陽極酸化膜たる絶縁膜３２３と、この表面に形成されて相互に離間した第２の導電膜３１６、３３６とを有する。このうち、第２の導電膜３１６、３３６は、クロム等の同一導電膜をパターニングしたものであり、前者の第２の導電膜３１６は、画素電極３と電気的に接続するために用いられると共に、後者の第２の導電膜３３６は、データ線３２からＴ字状に分岐したものが用いられる。

ここで、ＴＦＤ素子２１のうち、第１のＴＦＤ素子２１ａは、データ線３２の側からみると順番に、第２の導電膜３３６／絶縁膜３２３／第１の導電膜３２２となって、金属／絶縁体／金属の構造を採るため、その電流−電圧特性は正負双方向にわたって非線形となる。一方、第２のＴＦＤ素子２１ｂは、データ線３２の側からみると順番に、第１の導電膜３２２／絶縁膜３２３／第２の導電膜３１６となって、第１のＴＦＤ素子２１ａとは逆向きの構造を採る。このため、第２のＴＦＤ素子２１ｂの電流−電圧特性は、第１のＴＦＤ素子２１ａの電流−電圧特性を、原点を中心に点対称化したものとなる。その結果、ＴＦＤ素子２１は、２つのＴＦＤ素子を互いに逆向きに直列接続した形態となるため、１つのＴＦＤ素子を用いる場合と比べると、電流−電圧の非線形特性が正負双方向にわたって対称化されることになる。

画素電極３は、ＩＴＯ（Indium-Tin-Oxide）などの透明導電膜により形成されている。ＴＦＤ素子２１及び画素電極３等の内面上には、アクリル樹脂又は窒化シリコンなどの絶縁性を有する透明材料にて形成された絶縁膜５が形成されている。絶縁膜５の内面上には共通電極９及び共通配線７が形成されている。共通電極９は、ＩＴＯなどの透明導電膜により形成されている。共通電極９と画素電極３とは相互に平面的に重なり合っており、液晶層１５に対する電圧印加時には、画素電極３と共通電極９との間で間隙９ｋを通じて電界Ｅが形成されるが、電界Ｅは絶縁膜５によりアーチ状に歪められて液晶層１５中を通過し、液晶分子の配向が制御される。共通配線７の第１の配線７ａは、図２又は図３の破線領域Ａ１に示すように、サブ画素領域ＳＧに対応して設けられたＴＦＤ素子２１と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する共通電極９の端部９ａと重なる位置に且つ直接的に接続される位置に配置されていると共に、共通配線７の第２の配線７ｂは、図２又は図３の破線領域Ａ２に示すように、当該共通電極９の端部９ａに対して反対側に位置すると共に、当該他のサブ画素領域ＳＧに対応して設けられた他のＴＦＤ素子２１と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する当該共通電極９の他の端部９ｂと重なる位置に且つ直接的に接続される位置に配置されている。共通配線７及び共通電極９の内面上には、ポリイミド樹脂などの有機材料により形成された配向膜１１が形成されている。なお、アレイ基板９１の液晶層１５側に対して反対側の外面上には、偏光板１３、及び照明装置としてのバックライト１５がこの順に配置されている。バックライト１５は、例えば、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）等といった点状光源や、冷陰極蛍光管等といった線状光源と導光板を組み合わせたものなどが好適である。

次に、図３に対応するカラーフィルタ基板９２の断面構成は次の通りである。

カラーフィルタ基板９２は、ガラスなどの透光性材料により形成された第２の基板２と、第２の基板２の液晶層１５側に形成された複数の構成要素と、を備える。

具体的には、第２の基板２の液晶層１５側の内面上には、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の着色層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂ（図３では着色層４Ｒ）、及び遮光性を有するＢＭが夫々形成されている。

各着色層４は、画素電極３及び共通電極９と平面的に重なる位置に対応して設けられており、ＢＭは、ＴＦＤ素子２１に対応する位置などに設けられている。各着色層４及びＢＭの内面上には、アクリル樹脂などの絶縁性を有する透明材料にて形成されたオーバーコート層６が形成されている。このオーバーコート層６は、カラーフィルタ基板９２の製造工程中に使用される薬剤等による腐食や汚染から着色層４を保護する機能を有する。オーバーコート層６の内面上には、ポリイミド樹脂などの有機材料により形成された配向膜８が形成されている。なお、カラーフィルタ基板９２の液晶層１５側に対して反対側の外面上には、偏光板１２が配置されている。

以上の構成を有する液晶装置１００では、その駆動時、画素電極３と共通電極９との間において生じるフリンジフィールド（電界）Ｅにより液晶分子の配向状態が制御され、これによりカラー透過表示が行われる。このとき、バックライト１５から出射した照明光は、図３に示す経路Ｌｔに沿って進行し、画素電極３、共通電極９、着色層４等を通過して観察者に至る。この場合、その照明光は、その着色層４等を透過することにより所定の色相及び明るさを呈する。こうして、所望のカラー表示画像が観察者により視認される。

次に、比較例と比較した、本発明の第１実施形態に係る液晶装置１００の特有の作用効果について説明する。

まず、図４を参照して、比較例に係る液晶装置１００ｘの電極及び配線構成を中心とした平面構成について説明する。図４は、図１に対応する、比較例に係る液晶装置１００ｘの電極及び配線構成を中心とした平面構成を示す。

比較例と第１実施形態とを比較した場合、比較例では、共通配線７が設けられていない点と共通電極９の構成とが第１実施形態と異なり、それ以外は第１実施形態と同様である。よって、以下では、第１実施形態と同一の要素については同一の符号を付し、その説明は省略する。

比較例に係る共通電極９ｘは、ＩＴＯ等の透明導電膜により形成されており、各行方向に配列されたサブ画素領域ＳＧの各々に対応して設けられ且つ共通電極９と同様の櫛歯形状を有する第１の共通電極９ｘａと、第１の共通電極９ｘａの各々を繋ぐ第２の共通電極９ｘｂと、引き回し配線１７に近い側の第２の共通電極９ｘｂの一端側と、コンタクトホール５ａを通じて当該引き回し配線１７に電気的に接続された第３の共通電極９ｘｃと、を有する。

各行方向に対応して設けられた各第２の共通電極９ｘｂは、任意のサブ画素領域ＳＧと、当該サブ画素領域ＳＧに対して列方向に隣接する他のサブ画素領域ＳＧとの境界近傍に対応して設けられている。また、液晶装置１００ｘを平面的に見たときに、アドレス番号Ｇ_１、Ｇ_３・・に対応する奇数行の共通電極９ｘは、液晶装置１００ｘの紙面視左辺１００Ｌ側からその紙面視右辺１００Ｒ側に向かって延在するように引き回されていると共に、アドレス番号Ｇ_２、Ｇ_４・・に対応する偶数行の共通電極９ｘは、液晶装置１００ｘの紙面視右辺１００Ｒ側からその紙面視左辺１００Ｌ側に向かって延在するように引き回されている。

以上の構成を有する比較例では次のような課題がある。

上記のように、比較例では、共通電極９ｘは高い抵抗値を有するＩＴＯなどの透明導電膜にて形成されているため、共通電極９ｘは、ドライバＩＣ４１の出力側の各電極（図示略）から遠ざかるに従って抵抗値が飛躍的に高くなってしまう。これにより、各行方向に配列された各画素電極３に対して同一階調のデータを書き込んだとしても、ドライバＩＣ４１の出力側の各電極（図示略）に対して近い側（走査信号の入力側に対して近い側）に位置する画素電極３と、ドライバＩＣ４１の出力側の各電極（図示略）に対して遠い側（走査信号の入力側に対して遠い側）に位置する画素電極３とで、Ｖ（電圧）−Ｔ（透過率）特性（以下、「Ｖ−Ｔ特性」と呼ぶ）に差が生じてしまうといった課題がある。これに加え、前記奇数行の共通電極９ｘは、液晶装置１００ｘの紙面視左辺１００Ｌ側からその紙面視右辺１００Ｒ側に向かって延在するように引き回されていると共に、前記偶数行の共通電極９ｘは、液晶装置１００ｘの紙面視右辺１００Ｒ側からその紙面視左辺１００Ｌ側に向かって延在するように引き回されているため、１行毎に表示状態が異なってしまい、１行毎に縞状の表示ムラが生じてしまうといった課題がある。

このような課題に対して、共通電極９ｘの厚さを厚くすれば（例えば１０００Å程度）、当該共通電極９ｘの抵抗値を下げることができるので、このような課題を改善することが可能である。しかしながら、この場合、櫛歯形状を有する第１の共通電極９ｘａの櫛歯部分の外形付近の形状は絶壁形状となってしまうため、その櫛歯部分の外形付近では液晶分子の配向が制御されずに光り抜けが生じてしまい、これを原因としてコントラストが低下してしまうといった新たな課題が生じる。この課題に対して、櫛歯部分の外形付近をテーパー状にすれば液晶分子の配向異常の発生を抑制することが可能となるが、相隣接する櫛歯部分の間隔は約５μｍ程度と極めて狭いため、櫛歯部分の外形をテーパー状に形成することは困難である。

そこで、これらの点を考慮して、本発明の第１実施形態では、各行方向に配列されたＩＴＯ等の透明導電膜よりなる共通電極９の各々を、金属膜よりなる各共通配線７の第１の配線７ａ及び第２の配線７ｂと直接的に接続する。これにより、各行方向に配列された共通電極９の各々と、各共通配線７との接続構造体の抵抗値を下げることができる。これにより、ＩＴＯ等の透明導電膜よりなる共通電極９の厚さを薄くすることも可能となり、共通電極９の櫛歯部分９ｃの外形付近において液晶分子の配向異常が起き難くなり、その外形付近にて光り漏れが生じるのを防止でき、コントラストを向上させることができる。また、これにより、走査信号の入力側に対して近い側に位置する画素電極３と、走査信号の入力側に対して遠い側に位置する画素電極３とで、Ｖ−Ｔ特性に差が生じるのを防止できると共に、１行毎に縞状の表示ムラが生じるのを防止でき、高い表示品位を得ることができる。

ここで、図５に、上記比較例に係る共通電極９ｘと、第１実施形態に係る、共通電極９と共通配線７の接続構造体との抵抗値の比較結果を図表として示す。

図５において、ＩＴＯ共通配線は、比較例に係るＩＴＯよりなる共通電極９ｘに対応していると共に、ＩＴＯ/Ｍｅｔａｌ配線は、第１実施形態に係る、ＩＴＯよりなる共通電極９と金属膜（Ｍｅｔａｌ膜）よりなる共通配線７の接続構造体に対応している。

また、図５に示すＩＴＯ共通配線の項目において、「ＩＴＯ膜厚」は共通電極９ｘの厚さを、また、「ＩＴＯシート抵抗」は共通電極９ｘのシート抵抗値を、また、「横ドットピッチ」はサブ画素領域ＳＧの横（行方向）周期の長さを、また、「縦ドットピッチ」はサブ画素領域ＳＧの縦（列方向）周期の長さ（＝横ドットピッチの３倍）を、また、「ＩＴＯ配線抵抗」は１つの横サブ画素分の抵抗値で櫛歯形状の第１の共通電極９ｘａとそれを繋ぐ第２の共通電極９ｘｂの抵抗値の和を、また、「横ドット数」は１行分に対応する共通電極９ｘの第１の共通電極９ｘａの数を夫々示す。

一方、図５に示すＩＴＯ/Ｍｅｔａｌ配線の項目において、「ＩＴＯ膜厚」は共通電極９の厚さを、また、「Ｍｅｔａｌ膜厚」は共通配線７の厚さを、また、「Ｍｅｔａｌシート抵抗」は共通配線７のシート抵抗値を、また、「横ドットピッチ」はサブ画素領域ＳＧの横（行方向）周期の長さを、また、「縦ドットピッチ」はサブ画素領域ＳＧの縦（列方向）周期の長さ（＝横ドットピッチの３倍）を、また、「Ｍｅｔａｌ配線幅」は前記接続構造体の積層部分に対応する列方向の長さを、また、「ライン抵抗（１ドット分）」は１つの横サブ画素領域ＳＧ内のＭｅｔａｌ配線部の抵抗値を、また、「横ドット数」は１行分に対応する共通電極９の数を夫々示す。

以上の各項目より、比較例に係る１行分に対応する共通電極９ｘの総合横ライン抵抗は、１４３８０[Ω]と算出され、一方、第１実施形態に係る１行分に対応する総合横ライン抵抗｛ＩＴＯ＋Ｍｅｔａｌ（２本分）｝は、１行分に対応する共通配線７の横ライン抵抗（Ｍｅｔａｌ：２本分）の抵抗値７７９[Ω]と、１行分に対応する共通電極９の横ライン抵抗（ＩＴＯ）の抵抗値１４３８０[Ω]とに基づき、７３９[Ω]と算出される。

かかる算出結果より、第１実施形態に係る液晶装置１００において、シート抵抗０.４[Ω]の金属膜よりなる共通配線７を用いれば、２インチ表示パネル（横ドットピッチ：５９[μｍ]×縦ドットピッチ：１７７[μｍ]、ドット数：５２８×２２０）において、１行分に対応する総合横ライン抵抗｛ＩＴＯ＋Ｍｅｔａｌ（２本分）｝の抵抗値は、比較例に係る１行分に対応する共通電極９ｘの総合横ライン抵抗値の約１／２０倍にすることができる。よって、上記した第１実施形態に係る作用効果を得ることができる。

また、第１実施形態において、各共通配線７は、遮光性を有する金属膜により形成されていると共に、任意のサブ画素領域ＳＧと、当該サブ画素領域ＳＧに対して前記列方向に隣接する他のサブ画素領域ＳＧとの境界近傍に配置されている。これにより、各共通配線７を遮光層として機能させつつ、開口率の向上を図ることができる。

また、第１実施形態において、共通配線７の第１の配線７ａは、図２又は図３の破線領域Ａ１に示すように、サブ画素領域ＳＧに対応して設けられたＴＦＤ素子２１と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する共通電極９の端部９ａと重なる位置に且つ直接的に接続される位置に配置されていると共に、共通配線７の第２の配線７ｂは、図２又は図３の破線領域Ａ２に示すように、当該共通電極９の端部９ａに対して反対側に位置すると共に、当該他のサブ画素領域ＳＧに対応して設けられた他のＴＦＤ素子２１と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する当該共通電極９の他の端部９ｂと重なる位置に且つ直接的に接続される位置に配置されている。

これにより、各行方向に配列された共通電極９の各々は、当該共通電極９の各々の端部９ａ又は他の端部９ｂの位置において、一対の第１の配線７ａ及び第２の配線７ｂと直接的に接続される。よって、各行方向に配列された共通電極９の各々を１つの金属配線と直接的に接続した接続構造体と比較して、各行方向に配列された共通電極９の各々と、各共通配線７の第１の配線７ａ及び第２の配線７ｂとの接続構造体の抵抗値をより下げることができる。また、この場合、万が一、一対の第１の配線７ａ及び第２の配線７ｂのうち、どちらか一方が断線した場合でも、断線していない側の配線は、各行方向に配列された共通電極９の各々と電気的に接続されることになるため、共通配線７の冗長性を高めることができる。また、図２の領域Ａ３に示すように、各共通配線７をサブ画素領域ＳＧ内における表示に寄与しないＴＦＤ素子２１と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する共通電極９の端部９ａ又は他の端部９ｂと重なる位置に配置することで、当該各共通配線７を遮光層として機能させつつ、開口率の向上を図ることができる。また、各共通配線７は遮光層として機能するので、カラーフィルタ基板９２側において、列方向に相隣接するサブ画素領域ＳＧの間に配置されるＢＭの幅を小さくすることができる。

また、第１実施形態に係る液晶装置１００では、アレイ基板９１側に各種の配線及び電極が形成され、カラーフィルタ基板９２側には各種の配線及び電極が形成されない構造となるので、アレイ基板９１側とカラーフィルタ基板９２で上下導通をとる必要がなくなる。これにより、シール材４３内に上下導通をとるための導通部材を混入する必要がなくなる。よって、その分だけ、工数削減を図ることができると共に、シール材４３の幅を小さくすることができるため、額縁領域３８の小さい液晶装置１００を構成することができる。

[第２実施形態]
次に、図６及び図７を参照して、本発明の第２実施形態に係る液晶装置２００の構成について説明する。なお、以下では、第１実施形態と同一の要素については同一の符号を付し、その説明は省略する。

図６は、図１に対応する、本発明の第２実施形態に係る液晶装置２００の電極及び配線構成を中心とした平面構成を示す。図７は、第２実施形態に係るアレイ基板９３における複数のサブ画素領域ＳＧを含む画素構成を示す平面図である。

第２実施形態と第１実施形態とを比較した場合、第２実施形態では、共通配線は、第２の配線７ｂを有しない点が第１実施形態と異なり、それ以外は第１実施形態と同様である。

即ち、第２実施形態に係る共通配線７ｘは、直線状の第１の配線７ａと、第１の配線７ａの一端側を電気的に繋ぐ直線状の第３の配線７ｃと、を備える。各共通配線７ｘは、各行方向に配置されたサブ画素領域ＳＧ群毎に対応して設けられ、各第３の配線７ｃは、コンタクトホール５ａを通じて各引き回し配線１７の他端側と電気的に接続されている。また、アドレス番号Ｇ_１、Ｇ_３・・に対応する奇数行の共通配線７ｘは、液晶装置２００の紙面視左辺２００Ｌ側からその紙面視右辺２００Ｒ側に向かって延在するように引き回されていると共に、アドレス番号Ｇ_２、Ｇ_４・・に対応する偶数行の共通配線７ｘは、液晶装置２００の紙面視右辺２００Ｒ側からその紙面視左辺２００Ｌ側に向かって延在するように引き回されている。また、各共通配線７ｘの第１の配線７ａは、任意のサブ画素領域ＳＧと、当該サブ画素領域ＳＧに対して前記列方向に隣接する他のサブ画素領域ＳＧとの境界近傍に対応して配置されている。具体的には、共通配線７ｘの第１の配線７ａは、図６又は図７の領域Ａ４に示すように、サブ画素領域ＳＧに対応して設けられたＴＦＤ素子２１と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する共通電極９の端部９ａと重なる位置に且つ直接的に接続される位置に配置されている。

以上、本発明の第２実施形態では、各行方向に配列されたＩＴＯ等の透明導電膜よりなる共通電極９の各々が、金属膜よりなる各共通配線７ｘの第１の配線７ａと直接的に接続されている。これにより、各行方向に配列された共通電極９の各々と、各共通配線７ｘとの接続構造体の抵抗値を下げることができる。これにより、ＩＴＯ等の透明導電膜よりなる共通電極９の厚さを薄くすることも可能となり、共通電極９の櫛歯部分９ｃの外形付近において液晶分子の配向異常が起き難くなり、その外形付近にて光り漏れが生じるのを防止でき、コントラストを向上させることができる。また、これにより、走査信号の入力側に対して近い側に位置する画素電極３と、走査信号の入力側に対して遠い側に位置する画素電極３とで、Ｖ−Ｔ特性に差が生じるのを防止できると共に、１行毎に縞状の表示ムラが生じるのを防止でき、高い表示品位を得ることができる。

この点について、第２実施形態に係る１行分に対応する総合横ライン抵抗｛ＩＴＯ＋Ｍｅｔａｌ（１本分）｝は、図５の各項目より、１行分に対応する共通配線７ｘの横ライン抵抗（Ｍｅｔａｌ：１本分）の抵抗値１５５８[Ω]と、１行分に対応する共通電極９の横ライン抵抗（ＩＴＯ）の抵抗値１４３８０[Ω]とに基づき、１４０５[Ω]と算出される。

かかる算出結果より、第２実施形態に係る液晶装置２００において、シート抵抗０.４[Ω]の金属膜よりなる共通配線７を用いれば、２インチ表示パネル（横ドットピッチ：５９[μｍ]×縦ドットピッチ：１７７[μｍ]、ドット数：５２８×２２０）において、１行分に対応する総合横ライン抵抗｛ＩＴＯ＋Ｍｅｔａｌ（１本分）｝の抵抗値は、比較例に係る１行分に対応する共通電極９ｘの総合横ライン抵抗値の約１／１０倍にすることができる。

また、第２実施形態では、共通配線７ｘの第１の配線７ａは、図６又は図７の領域Ａ４に示すように、サブ画素領域ＳＧに対応して設けられたＴＦＤ素子２１と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する共通電極９の端部９ａと重なる位置に且つ直接的に接続される位置に配置されている。

これにより、各行方向に配列された共通電極９の各々は、当該共通電極９の各々の端部９ａの位置において、直線状の１つの共通配線７ｘの第１の配線７ａと直接的に接続される。よって、各行方向に配列された共通電極９の各々と、各共通配線７ｘとの接続構造体の抵抗値を下げることができる。また、このように、各共通配線７ｘをサブ画素領域ＳＧ内における表示に寄与しないＴＦＤ素子２１と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する共通電極９の端部９ａと重なる位置に配置することで、当該各共通配線７ｘを遮光層として機能させつつ、開口率の向上を図ることができる。

［変形例］
上記の各種の実施形態では、共通配線７又は７ｘは、共通電極９上に積層するように形成したが、これとは逆に、本発明では、共通配線７又は７ｘ上に共通電極９を積層するように形成しても構わない。

また、本発明では、共通電極９の間隙９ｋはＵ字状の平面形状を有していることが好ましい。

ここで、櫛歯部分９ｃの根元付近に位置する間隙９ｋの角部（破線領域Ａ５の部分に相当）が直角状の形状に形成されている場合、その角部付近では、液晶分子の配向制御がし難くなり、液晶分子の配向異常による光り抜けが生じ易くなる。

この点、この態様では、間隙９ｋはＵ字状の平面形状を有するので、櫛歯部分９ｃの根元付近の間隙９ｋの角部（破線領域Ａ５の部分）は、図８（ａ）に示すように、湾曲状の形状となる。これにより、間隙９ｋの角部付近では、液晶分子の配向異常が起き難くなり、光り抜けが生じるのを抑制することができる。

または、本発明では、共通電極９は、図８（ｂ）に示すように、矩形状の平面形状を有すると共に、画素電極３との間で電界Ｅを発生させるための複数のスリット９ｓを有し、各スリット９ｓは角丸四角状又は楕円状の平面形状を有していることが好ましい。

ここで、スリット９ｓの角部（破線領域Ａ６及びＡ７の部分に相当）が直角状の形状に形成されている場合、その角部付近では、液晶分子の配向制御がし難くなり、液晶分子の配向異常による光り抜けが生じ易くなる。

この点、この態様では、スリット９ｓは角丸四角状又は楕円状の平面形状を有するので、スリット９ｓの角部（破線領域Ａ６及びＡ７の部分）は、湾曲状の形状となる。これにより、スリット９ｓの角部付近では、液晶分子の配向異常が起き難くなり、光り抜けが生じるのを抑制することができる。

また、上記の各種の実施形態では、透過型の液晶装置に本発明を適用することにしたが、これに限らず、反射型又は半透過反射型の液晶装置に本発明を適用しても構わない。

その他、本発明では、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の変形をすることができる。

［電子機器］
次に、本発明の液晶装置１００又は２００を適用可能な電子機器の具体例について図９を参照して説明する。

まず、本発明の液晶装置１００又は２００を、可搬型のパーソナルコンピュータ（いわゆるノート型パソコン）の表示部に適用した例について説明する。図９（ａ）は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ７１０は、キーボード７１１を備えた本体部７１２と、本発明の液晶装置１００又は２００をパネルとして適用した表示部７１３とを備えている。

続いて、本発明の液晶装置１００又は２００を、携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。図９（ｂ）は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機７２０は、複数の操作ボタン７２１のほか、受話口７２２、送話口７２３とともに、本発明の液晶装置１００等を適用した表示部７２４を備える。

なお、本発明の実施形態に係る液晶装置１００又は２００を適用可能な電子機器としては、図９（ａ）に示したパーソナルコンピュータや図９（ｂ）に示した携帯電話機の他にも、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、ディジタルスチルカメラなどが挙げられる。

本発明の第１実施形態に係る液晶装置の電極等を中心とした平面図。 第１実施形態に係るアレイ基板の平面構成を示す平面図。 第１実施形態に係る液晶装置のサブ画素領域の断面構成を示す断面図。 比較例に係る液晶装置の電極等を中心とした平面図。 比較例の共通電極の抵抗値と、本発明の実施例に係る共通電極と共通配線の接続構造体の抵抗値との関係等を示す図表。 本発明の第２実施形態に係る液晶装置の電極等を中心とした平面図。 第２実施形態に係るアレイ基板の平面構成を示す平面図。 本発明の各種変形例に係る共通電極の構成を示す平面図。 本発明の液晶装置を適用した電子機器の例を示す。

符号の説明

３ 画素電極、 ７、７ｘ 共通配線、 ７ａ 第１の配線、 ７ｂ 第２の配線、 ９ 共通電極、 ９ａ 端部、 ９ｂ 他の端部、 ９ｃ 櫛歯部分、 ９ｋ 間隙、 ９ｓ スリット、 １５ 液晶層、 ２１ ＴＦＤ素子、 ９１、９３ アレイ基板、 ９２ カラーフィルタ基板、 １００、２００ 液晶装置

Claims (8)

1. アレイ基板と対向基板との間に電気光学層を挟持してなり、
   前記アレイ基板と前記対向基板との重なり合う領域には、複数行及び複数列に亘って配列されたサブ画素領域が設けられ、
   前記アレイ基板は、複数の二端子型非線形素子と、前記二端子型非線形素子の各々に電気的に接続された複数の第１の電極と、前記第１の電極の各々との間で電界を発生させる複数の第２の電極と、を有すると共に、前記二端子型非線形素子、前記第１の電極及び前記第２の電極の各々は、前記アレイ基板において、前記サブ画素領域の各々に対応して設けられ、
   前記第２の電極の各々は透明導電膜により形成されていると共に、各行方向に配列された前記第２の電極の各々は、前記アレイ基板に設けられた金属膜よりなる各共通配線に直接的に接続されていることを特徴とする電気光学装置。
2. 前記各共通配線は、遮光性を有する金属膜により形成されていると共に、任意の前記サブ画素領域と、当該サブ画素領域に対して前記列方向に隣接する他の前記サブ画素領域との境界近傍に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
3. 前記各共通配線は、前記行方向に延在する直線状の形状を有すると共に、前記任意の前記サブ画素領域に対応して設けられた前記二端子型非線形素子と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する前記第２の電極の端部と重なる位置に且つ直接的に接続される位置に配置されていることを特徴とする請求項２に記載の電気光学装置。
4. 前記各共通配線は、直線状の第１の配線と、前記第１の配線の延在方向と同一の方向に延在する直線状の第２の配線と、を有し、
   前記第１の配線は、前記任意の前記サブ画素領域に対応して設けられた前記二端子型非線形素子と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する前記第２の電極の端部と重なる位置に且つ直接的に接続される位置に配置されており、
   前記第２の配線は、当該第２の電極の端部に対して反対側に位置すると共に、前記他の前記サブ画素領域に対応して設けられた他の前記二端子型非線形素子と部分的且つ平面的に重なる位置に存在する当該第２の電極の他の端部と重なる位置に且つ直接的に接続される位置に配置されていることを特徴とする請求項２に記載の電気光学装置。
5. 前記第２の電極はＩＴＯにより形成されており、
   前記各共通配線は、Ｃｒ、Ａｇ及びＡｌのうちいずれかの金属膜又はこれらのいずれかを含む金属膜により形成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
6. 前記第２の電極は、複数の櫛歯部分を含む櫛歯形状を有し、
   隣接する前記櫛歯部分の間には、前記第１の電極との間で前記電界を発生させるための間隙が形成されており、
   前記間隙の各々はＵ字状の平面形状を有することを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
7. 前記第２の電極は、矩形状の平面形状を有すると共に、前記第１の電極との間で前記電界を発生させるための複数のスリットを有し、
   前記スリットの各々は、角丸四角状又は楕円状の平面形状を有することを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
8. 請求項１乃至７のいずれか一項に記載の電気光学装置を表示部として備えることを特徴とする電子機器。

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