JP2008139578A - Waveguide type optical isolator - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光通信や光を用いた放送波伝送、及び光による計測等において、光源となるレーザーから出射された光波が、種々の原因で光源に戻ることを防止するために用いる導波路型光アイソレータに関する。 The present invention relates to a waveguide type used to prevent light waves emitted from a laser serving as a light source from returning to the light source due to various causes in optical communication, broadcast wave transmission using light, measurement using light, and the like. The present invention relates to an optical isolator.
図11に、従来からよく知られた、ファラデー回転子を用いた光アイソレータの構成概略を示す。図中、111はファラデー回転子、112は偏光子、113は検光子、114は永久磁石等の磁界印加手段、115は半導体レーザー等から成る光源、116は光源115から出射された光の伝播方向を示す。 FIG. 11 shows a schematic configuration of an optical isolator using a Faraday rotator that is well known in the art. In the figure, 111 is a Faraday rotator, 112 is a polarizer, 113 is an analyzer, 114 is a magnetic field applying means such as a permanent magnet, 115 is a light source composed of a semiconductor laser or the like, and 116 is a propagation direction of light emitted from the light source 115. Indicates.
従来、ファラデー回転子111の材料としては、例えば特開平7−206593号公報に記載されているように、非磁性ガーネット基板上に液相エピタキシャル法で形成されたビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶が用いられていた。一般的に、ファラデー回転子111に入射する光の偏光方向と、ファラデー回転子を透過した後の光の偏光方向との成す角度、すなわちファラデー回転角は、ファラデー回転子の光伝播方向の厚さに比例する。 Conventionally, as a material of the Faraday rotator 111, for example, a bismuth-substituted rare earth iron garnet single crystal formed on a nonmagnetic garnet substrate by a liquid phase epitaxial method has been used as described in JP-A-7-206593. It was done. In general, an angle formed between the polarization direction of light incident on the Faraday rotator 111 and the polarization direction of light after passing through the Faraday rotator, that is, the Faraday rotation angle is the thickness of the light propagation direction of the Faraday rotator. Is proportional to
例えば、光アイソレータの場合、ファラデー回転角は45度であることが必要であり、そのためのビスマス置換希土類鉄ガーネットの厚さは400〜500μmとなる(以下、45度のファラデー回転角を得るための厚さを「伝播長」と記す)。通常、係る伝播長を得るために、液相エピタキシャル法で、ビスマス置換希土類鉄ガーネットを前述した伝播長より厚く形成した後、基板を研磨で除去し、更に、精密研磨により所望のファラデー回転角を得るために必要な膜厚に追い込む、と云う加工方法が採られていた。 For example, in the case of an optical isolator, the Faraday rotation angle needs to be 45 degrees, and the thickness of the bismuth-substituted rare earth iron garnet is 400 to 500 μm (hereinafter, for obtaining a Faraday rotation angle of 45 degrees). The thickness is referred to as “propagation length”). Usually, in order to obtain such propagation length, after forming the bismuth-substituted rare earth iron garnet thicker than the above-mentioned propagation length by liquid phase epitaxy, the substrate is removed by polishing, and further, the desired Faraday rotation angle is obtained by precision polishing. A processing method has been adopted in which the film thickness required for obtaining is obtained.
一方、小型でかつ構造が簡単な光アイソレータとして、例えば、特開平7−3600号公報においては、所謂導波路型の光アイソレータが開示されている。同公報に開示されている導波路型光アイソレータは、所定形状のYIG単結晶膜から成る導波路を形成した後、その光伝搬方向の長さを、偏光面が45度回転するようにチップ状に切断、研磨し、その両端の研磨面に偏光子を貼り付ける、と云う方法で製造されていた。当該構成の導波路型光アイソレータにおいては、YIG単結晶膜から成る導波路が、ファラデー回転子としての機能を担っている。
光アイソレータの、半導体レーザー等の光源への戻り光遮断能(以下、「アイソレーション」と記す)は、ファラデー回転子の特性もさることながら、偏光子112と検光子113の消光軸の角度調整の精度に大きく依存する。ここに消光軸とは、偏光子、検光子において、直線偏光波を入射した場合に、その透過率が極小となる直線偏光の方向を云う。すなわち、光アイソレータにおいては、ファラデー回転子のファラデー回転角を45度に設定し、かつ偏光子112と検光子113の消光軸が、互いに45度の角度をなすように設定した場合に、最大のアイソレーションが得られる。例えば、ファラデー回転子のファラデー回転角が45度の場合、偏光子と検光子の消光軸の合わせ角度が絶対値で1度ずれた場合、偏光子、検光子の性能にも依存するが、光アイソレータのアイソレーションの劣化量は、10〜15dB程度となることが見積もられる。 The ability of the optical isolator to block the return light to the light source such as a semiconductor laser (hereinafter referred to as “isolation”) adjusts the angle of the extinction axes of the polarizer 112 and the analyzer 113 as well as the characteristics of the Faraday rotator. Depends heavily on the accuracy of Here, the extinction axis refers to the direction of linearly polarized light that has a minimum transmittance when a linearly polarized wave is incident on the polarizer and analyzer. That is, in the optical isolator, when the Faraday rotation angle of the Faraday rotator is set to 45 degrees, and the extinction axes of the polarizer 112 and the analyzer 113 are set to form an angle of 45 degrees, the maximum is obtained. Isolation is obtained. For example, when the Faraday rotation angle of the Faraday rotator is 45 degrees, the alignment angle of the extinction axes of the polarizer and the analyzer is deviated by 1 degree in absolute value, depending on the performance of the polarizer and the analyzer. It is estimated that the amount of degradation of the isolator is about 10 to 15 dB.
従って、高いアイソレーションを実現するためには、偏光子112と検光子113との成す角度を、可能な限り正確に45度に合わせることが重要となり、斯かる事情は導波路型光アイソレータにおいても同様である。 Therefore, in order to realize high isolation, it is important to adjust the angle formed by the polarizer 112 and the analyzer 113 to 45 degrees as accurately as possible. Such a situation also applies to the waveguide type optical isolator. It is the same.
このため、上述の従来の光アイソレータにおいて高いアイソレーションを得るためには、この角度合わせ調整を、検光子側から試験光を入射させて偏光子を透過する光の強度が最小になる角度に偏光子の設置角度を調整する等の極めて煩雑な調整が必要であった。それゆえ、この点が技術上の障害の1つになって、高いアイソレーションを有する光アイソレータを、歩留まりよく安価に大量に製造することを困難にしていた。 For this reason, in order to obtain high isolation in the above-described conventional optical isolator, this angle alignment adjustment is performed so that the test light is incident from the analyzer side and the intensity of the light passing through the polarizer is minimized. An extremely complicated adjustment such as adjusting the installation angle of the child was necessary. Therefore, this point has become one of the technical obstacles, and it has been difficult to manufacture a large amount of optical isolators having high isolation with high yield.
発明者等の導波路型光アイソレータの開発に関する系統的な検討の結果、例えば、図3に示したような構成とすることで偏光子と検光子の消光軸を高精度で合わせることが可能であることが見いだされた。図3は、発明者等が新たに発明した導波路型光アイソレータの構成概略図で、図中31は基板、32は下部クラッド層、33はファラデー効果を有する磁性体ガーネットから成るコア部、34は上部クラッド層、35は偏光子、36は検光子、37は光源(図示せず)から出射された光の伝搬方向を示す矢印、38は当該導波路型光アイソレータから出射した光の伝搬方向を示す矢印である。 As a result of a systematic study on the development of the waveguide type optical isolator by the inventors, it is possible to align the extinction axes of the polarizer and the analyzer with high accuracy by adopting the configuration shown in FIG. 3, for example. Something was found. FIG. 3 is a schematic diagram of the configuration of a waveguide type optical isolator newly invented by the inventors, in which 31 is a substrate, 32 is a lower cladding layer, 33 is a core portion made of a magnetic garnet having a Faraday effect, 34 Is an upper cladding layer, 35 is a polarizer, 36 is an analyzer, 37 is an arrow indicating the propagation direction of light emitted from a light source (not shown), and 38 is a propagation direction of light emitted from the waveguide type optical isolator. It is an arrow which shows.
本構成における導波路型光アイソレータにおいては、偏光子35、検光子36共に、コア部に形成された溝に挿入された形態となっており、溝部底面が基準面となっているため、高精度の軸合わせが可能となる。 In the waveguide type optical isolator in this configuration, both the polarizer 35 and the analyzer 36 are inserted into the groove formed in the core portion, and the bottom surface of the groove portion serves as a reference surface. Axis alignment is possible.
ところが、同構成の導波路型光アイソレータにおいては、良好な消光比が実現されるもののアイソレータの損失が大きいと云う問題点があることが、新たに見いだされた。 However, it was newly found that the waveguide type optical isolator having the same configuration has a problem that the loss of the isolator is large although a good extinction ratio is realized.
本発明の目的は、高いアイソレーションと小さな損失を備え、かつ安価で量産に適した、導波路型光アイソレータの構成を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a configuration of a waveguide type optical isolator that has high isolation and small loss, is inexpensive, and is suitable for mass production.
なお、光伝搬方向とは、光源から出射された光が導波路型光アイソレータの設けられた導波路内を伝搬する方向を意味し、導波路型光アイソレータの出射端とは、光源から出射された光が導波路型光アイソレータに設けられた導波路内を伝搬し、伝搬した光が該導波路から出射される端部、例えば図3においては、矢印38側に位置する端部を意味する。 The light propagation direction means the direction in which the light emitted from the light source propagates through the waveguide provided with the waveguide type optical isolator. The emission end of the waveguide type optical isolator is emitted from the light source. Means the end where the propagated light propagates through the waveguide provided in the waveguide type optical isolator, and the propagated light is emitted from the waveguide, for example, the end located on the arrow 38 side in FIG. .
前記解決すべき課題に対して、本発明により提供される第1の手段は、
基体上に第1のクラッド層、該第1のクラッド層上に設けられたファラデー効果を有するガーネット磁性体から成るコア部、該コア部を覆う第2のクラッド層を有する導波路型光アイソレータであって、該コア部の光伝搬方向に位置する端部以外の該コア部に、光源側から第1の偏光素子、及び該第1の偏光素子から所望の間隔を隔てて第2の偏光素子が設けられ、少なくとも該第2の偏光素子がコア部の光伝搬方向と略直交するように該コア部に挿入された偏光板であり、かつ該第2の偏光素子の光出射端側に位置するコア部が、該コア部の光伝搬方向に直交する方向の断面積が、光出射端側に向けて増大する部分を具備することを特徴とする導波路型光アイソレータである。
In response to the problem to be solved, the first means provided by the present invention is as follows:
A waveguide type optical isolator having a first clad layer on a substrate, a core portion made of a garnet magnetic material having a Faraday effect provided on the first clad layer, and a second clad layer covering the core portion. The first polarizing element from the light source side and the second polarizing element spaced apart from the first polarizing element at the core part other than the end part positioned in the light propagation direction of the core part. Is provided, and at least the second polarizing element is a polarizing plate inserted into the core portion so as to be substantially orthogonal to the light propagation direction of the core portion, and is positioned on the light output end side of the second polarizing element. The waveguide type optical isolator is characterized in that the core section includes a portion in which a cross-sectional area in a direction orthogonal to the light propagation direction of the core section increases toward the light emitting end side.
また、本発明により提供される第2の手段は、
基体上に第1のクラッド層、該第1のクラッド層上に設けられたファラデー効果を有するガーネット磁性体から成るコア部、該コア部を覆う第2のクラッド層を有する導波路型光アイソレータにおいて、該コア部の光伝搬方向と略直交するように、光源側から第1の偏光板、及び該第1の偏光板から所望の間隔を隔てて第2の偏光板が挿入され、かつ該第1、及び第2の偏光板の光出射端側に位置するコア部が、共に、該コア部の光伝搬方向に直交する方向の断面積が、光出射端側に向けて増大する部分を具備することを特徴とする導波路型光アイソレータである。
The second means provided by the present invention includes
In a waveguide type optical isolator having a first clad layer on a substrate, a core portion made of a garnet magnetic material having a Faraday effect provided on the first clad layer, and a second clad layer covering the core portion The first polarizing plate from the light source side and the second polarizing plate are inserted at a desired distance from the first polarizing plate so as to be substantially orthogonal to the light propagation direction of the core portion, and the first 1 and the core part located in the light emission end side of a 2nd polarizing plate has a part where the cross-sectional area of the direction orthogonal to the light propagation direction of this core part increases toward the light emission end side This is a waveguide type optical isolator.
また、本発明により提供される第3の手段は、
前記導波路型光アイソレータにおいて、該偏光板が、ガラス体に針状金属微粒子の長手方向を一方向に優先的に配向分散させて成る偏光ガラスであることを特徴とする手段である。
The third means provided by the present invention includes
In the waveguide type optical isolator, the polarizing plate is a polarizing glass formed by preferentially aligning and dispersing the longitudinal direction of the acicular metal fine particles in one direction on the glass body.
また、本発明により提供される第4の手段は、
前記導波路型光アイソレータにおいて、該コア部が単結晶の磁気光学効果を有する磁性ガーネットであることを特徴とする手段である。
The fourth means provided by the present invention includes:
In the waveguide type optical isolator, the core portion is a magnetic garnet having a single crystal magneto-optic effect.
更に、本発明により提供される第5の手段は、
前記導波路型光アイソレータにおいて、該コア部が多結晶の磁気光学効果を有する磁性ガーネットであることを特徴とする手段である。
Furthermore, the fifth means provided by the present invention includes
In the waveguide type optical isolator, the core portion is a magnetic garnet having a polycrystalline magneto-optical effect.
以下、図3に示した導波路型光アイソレータにおいて、損失が増大する原因、及びその解決手段について、図4a及び図4bを用いて詳細に説明する。 Hereinafter, in the waveguide type optical isolator shown in FIG. 3, the cause of the increase in loss and the means for solving it will be described in detail with reference to FIGS. 4a and 4b.
図4aは、導波路から出射された光が拡がる様子を模式的に示した図であり、図4bは、図3において、検光子36近傍における光の伝搬の様子を模式的に示す概略側断面図である。図4a中、41は基板、42は下部クラッド層、43はコア部、44は上部クラッド層、44は模式的に示した光の拡がり、45は導波路の出射端から出射された光が伝搬する方向を示す矢印である。また、図4b中、331は光源(図示せず)側に位置するコア部、332は出射端側に位置するコア部、47、48は各々コア部331、332の内部を伝搬する光の伝搬方向を示す矢印、441は模式的に示した検光子36の内部を伝搬する光の拡がり、である。 FIG. 4A is a diagram schematically illustrating how light emitted from the waveguide spreads, and FIG. 4B is a schematic side cross-sectional view schematically illustrating light propagation in the vicinity of the analyzer 36 in FIG. FIG. In FIG. 4a, 41 is a substrate, 42 is a lower clad layer, 43 is a core part, 44 is an upper clad layer, 44 is a light spread schematically shown, and 45 is a light propagated from the exit end of the waveguide. It is an arrow which shows the direction to do. 4b, reference numeral 331 denotes a core portion located on the light source (not shown) side, 332 denotes a core portion located on the emission end side, and 47 and 48 denote light propagation propagating through the core portions 331 and 332, respectively. A direction arrow 441 is a spread of light propagating inside the analyzer 36 schematically shown.
一般的に導波路の出射端から空間に出射された光は、図4aに模式的に示したように拡散する。拡散の程度は、空間の比屈折率を1とすると以下の(1)式で定義される開口数(NA)で表される。 In general, light emitted into the space from the output end of the waveguide diffuses as schematically shown in FIG. 4a. The degree of diffusion is represented by the numerical aperture (NA) defined by the following equation (1), where the relative refractive index of the space is 1.
また、図4bに示したように、導波路の途中を切断し、偏光ガラス等から成る検光子36を挿入した場合の光の伝搬についても同様の状態であり、コア部331内を伝搬する光47は、検光子36内を伝搬する際に拡がり441に模式的に示したように拡がることとなる。従って、コア部332とコア部331の断面形状が同一である場合には、コア部332内を伝搬する光のエネルギーは、検光子36内におけるビーム拡がり幅とコア部332の光伝搬方向に直交する面の断面積(以下、係る断面積を単に「コア部の断面積」と記す)との比率に応じて減少することとなり、結果として光アイソレータの損失が増大することとなる。 In addition, as shown in FIG. 4b, the propagation of light when the waveguide is cut in the middle and the analyzer 36 made of polarizing glass or the like is inserted is the same state, and the light propagating in the core portion 331 47 propagates in the analyzer 36 as shown schematically in the spread 441. Therefore, when the cross-sectional shapes of the core part 332 and the core part 331 are the same, the energy of light propagating in the core part 332 is orthogonal to the beam spread width in the analyzer 36 and the light propagation direction of the core part 332. As a result, the loss of the optical isolator increases as a result of a decrease in proportion to the ratio of the cross-sectional area of the surface (hereinafter referred to simply as “the cross-sectional area of the core portion”).
係る損失を低減する方法として、受け側であるコア部332の断面積を増大せしめる方法が考えられる。しかし、同方法をとる場合には、コア部内を伝搬する光のシングルモード条件が満足されなくなることから適当ではない。 As a method of reducing such loss, a method of increasing the cross-sectional area of the core portion 332 on the receiving side can be considered. However, this method is not suitable because the single mode condition of light propagating in the core portion is not satisfied.
すなわち、本発明は、導波路を伝搬する光のモードフィルド径(伝搬する光のエネルギーが全伝搬エネルギーに対して1/e2になる径)が、導波路を構成するコア部の光伝搬方向に直交する面の形状(以下、係るコア部の形状を単に「コア部形状」と記す。)に大きく依存することに着目し、その効果を利用することにより完成されたものである。 That is, according to the present invention, the mode-filled diameter of light propagating through the waveguide (the diameter of propagating light becomes 1 / e 2 with respect to the total propagation energy) is the light propagation direction of the core portion constituting the waveguide. Focusing on the fact that it largely depends on the shape of the surface orthogonal to the shape (hereinafter, the shape of the core portion is simply referred to as “core portion shape”), it was completed by utilizing the effect.
以下、本発明における光アイソレータの損失低減手段について説明する。 Hereinafter, the loss reduction means of the optical isolator in the present invention will be described.
図5及び図6に導波路内を伝搬する光の電界強度分布及びパワー分布の計算結果の一例を示す。計算に用いたコア部の屈折率は2.20、クラッド層の屈折率は2.19である。また、コア部の断面形状は正方形である。図5は、コア部の中心を原点として、中心からの距離と電界強度との関係を示した図である。同図において、規格化電界強度とは、コア部の中心における電界強度で規格化した電界強度を意味し、中心からの距離とは、コア部の正方断面における一辺に平行方向の距離である。 5 and 6 show an example of calculation results of the electric field intensity distribution and power distribution of light propagating in the waveguide. The refractive index of the core used for the calculation is 2.20, and the refractive index of the cladding layer is 2.19. Moreover, the cross-sectional shape of the core part is a square. FIG. 5 is a diagram showing the relationship between the distance from the center and the electric field strength with the center of the core portion as the origin. In the figure, the normalized electric field strength means the electric field strength normalized by the electric field strength at the center of the core portion, and the distance from the center is a distance parallel to one side in the square cross section of the core portion.
図6は、コア部の中心を原点として、中心からの距離と積算パワーとの関係を示した図である。同図において、伝送パワーの規格化積算値とは、全伝送パワーで規格化したパワーの積算値を意味する。また、中心からの距離については前述したとおりである。 FIG. 6 is a diagram showing the relationship between the distance from the center and the integrated power with the center of the core portion as the origin. In the figure, the normalized integrated value of transmission power means an integrated value of power normalized by the total transmission power. The distance from the center is as described above.
図中、51、61はコア部の形状が5μm角の正方形状の場合、52、62はコア部の形状が0.8μm角の正方形状の場合についての計算結果である。 In the figure, 51 and 61 are calculation results when the core portion is a square shape of 5 μm square, and 52 and 62 are calculation results when the core portion is a square shape of 0.8 μm square.
図5に示したように、コア部の形状が0.8μm角の正方形状の場合、同5μmの場合に比べて、電界強度分布はブロードになっていることが理解される。また、これに呼応して、図6に示したように、コア部の形状が5μm角の正方形状の場合、全パワーの〜90%がコア部内で伝搬されるのに対し、同0.8μm角の正方形状の場合には、その量は全パワーの〜20%に過ぎず、大半の伝搬パワーはクラッド層、すなわち、エバネッセント成分として伝搬されていることが判る。換言すると、コア部の形状が0.8μm角の正方形状の場合のモードフィルド径は、同5μmの場合のモードフィルド径に比べて大きいことが理解される。 As shown in FIG. 5, it is understood that the electric field intensity distribution is broader in the case where the core portion has a square shape of 0.8 μm square than in the case of 5 μm. Correspondingly, as shown in FIG. 6, when the shape of the core part is a square of 5 μm square, ˜90% of the total power is propagated in the core part, whereas 0.8 μm In the case of a square corner, the amount is only ˜20% of the total power, and it can be seen that most of the propagation power is propagated as a clad layer, that is, an evanescent component. In other words, it is understood that the mode filled diameter in the case where the core portion has a square shape of 0.8 μm square is larger than the mode filled diameter in the case of 5 μm.
図7に正方形状コア部の一辺の長さとモードフィルド径との関係について計算した結果を示す。ここでモードフィルド径とは、例えば、図6に示した計算結果において、伝搬パワーの規格化積算値が〜0.86(厳密には、1−1/e2)となる距離の2倍の値である。同図に示したように、四角形状コア部の一辺の長さが1μm以下になると、モードフィルド径が急激に増大することが判る。 FIG. 7 shows the calculation result of the relationship between the length of one side of the square core portion and the mode filled diameter. Here, the mode filled diameter is, for example, a value that is twice the distance at which the normalized integrated value of propagation power is ~ 0.86 (strictly, 1-1 / e 2 ) in the calculation result shown in FIG. is there. As shown in the figure, it can be seen that when the length of one side of the quadrangular core portion is 1 μm or less, the mode field diameter increases rapidly.
本発明は、係るモードフィルド径の増大効果を利用して、前述した光アイソレータの損失を改善せんとするものである。 The present invention is intended to improve the above-described loss of the optical isolator by utilizing the effect of increasing the mode filled diameter.
本発明により、高いアイソレーションと小さな損失を備え、かつ安価で量産に適した、導波路型光アイソレータの構成を提供される。 According to the present invention, a configuration of a waveguide type optical isolator having high isolation, small loss, low cost, and suitable for mass production is provided.
図1に本発明により成る導波路型光アイソレータの第1の実施形態を示す。 FIG. 1 shows a first embodiment of a waveguide type optical isolator according to the present invention.
図中、1は基板、2は下部クラッド層、3は出射端側に位置するファラデー効果を有する磁性体ガーネットから成るコア部、4は上部クラッド層、6は光源(図示せず)側に位置するファラデー効果を有する磁性ガーネットから成るコア部、5はコア部6の上に形成された金属膜、7は偏光板から成る検光子、8はコア部3においてその断面積が変化する部分、9、10は各々コア部5及びコア部3内を伝播する光の伝搬方向を示すブロック矢印である。 In the figure, 1 is a substrate, 2 is a lower clad layer, 3 is a core portion made of a magnetic garnet having a Faraday effect located on the emission end side, 4 is an upper clad layer, and 6 is located on the light source (not shown) side. A core portion made of magnetic garnet having a Faraday effect, 5 is a metal film formed on the core portion 6, 7 is an analyzer made of a polarizing plate, 8 is a portion of the core portion 3 whose cross-sectional area changes, 9 Reference numerals 10 denote block arrows indicating the propagation directions of light propagating through the core part 5 and the core part 3, respectively.
以下、本実施形態の光アイソレータの動作原理について説明する。 Hereinafter, the operation principle of the optical isolator of this embodiment will be described.
コア部6の上に設けられた金属膜5は、所謂金属クラッディングとして設けられたものであり、当該金属膜の設けられたコア部分は、TE−TMフィルタとして機能する。 The metal film 5 provided on the core part 6 is provided as a so-called metal cladding, and the core part provided with the metal film functions as a TE-TM filter.
光源(図示せず)から出射され、当該導波路型光アイソレータに入射した光は、TE波成分(偏光面が基板表面と平行である成分)とTM波成分(偏光面が基板表面と直交である成分)の両者を含んだ光であるが、TE−TMフィルタを通過することによりTM波成分は除かれる。TE−TMフィルタを通過したTE波の偏光面は、コア部6内を伝搬する際にファラデー効果により回転し、検光子7に到達する直前には、その偏光面は基板表面に対して45度の角度を成す。検光子の透過軸(消光軸と直交する軸)は、基板表面に対して45度の角度を成すように配置されているので、当該偏光波は損失を受けずに検光子7を通過する。検光子7を通過する際、前述したように光は拡散し、そのビーム径は拡がることになる。しかし、コア部8の断面積(コア部の一辺の長さに相当)は他の部分に比して小さいため、前述したように、当該部分のモードフィルド径は他の部分よりも大きく、拡散した光の大部分をコア部8で受けることができる。その結果、コア部5を伝搬する光を、損失を伴わずしてコア部3に導くことが可能となる。 Light emitted from a light source (not shown) and incident on the waveguide type optical isolator is composed of a TE wave component (a component whose polarization plane is parallel to the substrate surface) and a TM wave component (the polarization plane is orthogonal to the substrate surface). Although the light includes both of a certain component), the TM wave component is removed by passing through the TE-TM filter. The polarization plane of the TE wave that has passed through the TE-TM filter is rotated by the Faraday effect when propagating in the core portion 6, and immediately before reaching the analyzer 7, the polarization plane is 45 degrees with respect to the substrate surface. Make an angle. Since the transmission axis of the analyzer (axis orthogonal to the extinction axis) is arranged at an angle of 45 degrees with respect to the substrate surface, the polarized wave passes through the analyzer 7 without loss. When passing through the analyzer 7, the light is diffused as described above, and the beam diameter is expanded. However, since the cross-sectional area of the core part 8 (corresponding to the length of one side of the core part) is smaller than that of the other part, the mode filled diameter of the part is larger than that of the other part as described above. Most of the light thus received can be received by the core portion 8. As a result, the light propagating through the core unit 5 can be guided to the core unit 3 without loss.
逆に光アイソレータに戻る光については、その偏光方向がランダムに分布しているが、当該戻り光が検光子7(この場合には、当該検光子は、偏光子として機能することから、厳密には“偏光子”と記すべきであるが、混同を生じるおそれがあるので、“検光子”と記載する。)を透過することによって、基板面に対して電界振動方向が45度の角度を成す成分が、コア部6に取り込まれることになる。コア部6に取り込まれた光は、その内部を伝搬することにより、ファラデー回転の非相反性により、TE−TMフィルタの直前においては、その偏光方向は基板表面に垂直方向、すなわちTM波となる。当該TM波は、TE−TMフィルタを透過する際に減衰するため、結果として戻り光が光源に到達することが妨げられることとなる。 On the contrary, the light returning to the optical isolator is randomly distributed in the polarization direction, but the return light is strictly analyzed by the analyzer 7 (in this case, the analyzer functions as a polarizer. Should be described as “polarizer”, but may be confused, so it is described as “analyzer”.) By transmitting through, the electric field oscillation direction forms an angle of 45 degrees with respect to the substrate surface. Ingredients are taken into the core section 6. The light taken into the core unit 6 propagates in the inside thereof, and due to the nonreciprocity of the Faraday rotation, the polarization direction is a direction perpendicular to the substrate surface, that is, a TM wave immediately before the TE-TM filter. . The TM wave attenuates when passing through the TE-TM filter, and as a result, the return light is prevented from reaching the light source.
図2に、本発明により成る導波路型光アイソレータの第2の実施形態を示す。
図中、21は検光子35と偏光子36とに夾持されたコア部、22は検光子36の出射端側に位置するコア部である。すなわち、同図に示した実施形態は、図3に示した導波路型光アイソレータにおいて、偏光子35と検光子36に夾持されたコア部21と、検光子36の出射端側に位置するコア部22の両者において、光源(図示せず)側の端部近傍におけるコア部の断面積を他の部分に比して小さくしたものである。
FIG. 2 shows a second embodiment of a waveguide type optical isolator according to the present invention.
In the figure, 21 is a core portion sandwiched between the analyzer 35 and the polarizer 36, and 22 is a core portion located on the exit end side of the analyzer 36. That is, the embodiment shown in the figure is positioned on the output end side of the analyzer 36 and the core portion 21 held between the polarizer 35 and the analyzer 36 in the waveguide type optical isolator shown in FIG. In both the core parts 22, the cross-sectional area of the core part in the vicinity of the end part on the light source (not shown) side is made smaller than that of the other parts.
本実施形態においては、第1の実施形態で用いられているTE−TMフィルタの代わりに、偏光ガラス等からなる偏光板が偏光子35として用いられ、かつ偏光子35と検光子36との透過軸は互いに45度の角度を成すように配置される。本実施形態の光アイソレータの動作原理は、第1の実施形態とほぼ同様である。 In the present embodiment, a polarizing plate made of polarizing glass or the like is used as the polarizer 35 instead of the TE-TM filter used in the first embodiment, and transmission between the polarizer 35 and the analyzer 36 is performed. The axes are arranged to make an angle of 45 degrees with each other. The operation principle of the optical isolator of this embodiment is almost the same as that of the first embodiment.
図8−1〜図8−6に、本発明により成るコア部の先端の形状(図1あるいは図2におけるコア部8の形状)の主たる態様を概略的に記す。同図において、(a)はコア部8の光伝搬方向からみた概略正面図、(b)は上部クラッド層側からみたコア部8の概略上面図、(c)はコア部8の概略側面図である。 FIGS. 8-1 to 8-6 schematically show main modes of the shape of the tip of the core portion according to the present invention (the shape of the core portion 8 in FIG. 1 or FIG. 2). In the figure, (a) is a schematic front view seen from the light propagation direction of the core part 8, (b) is a schematic top view of the core part 8 seen from the upper cladding layer side, and (c) is a schematic side view of the core part 8. It is.
図8−1に示した態様は、コア部8の先端が四角錐台形状となっている場合であり、四角錐台の頂点は、コア部の中心線とほぼ一致する態様である。 The mode illustrated in FIG. 8A is a mode in which the tip of the core portion 8 has a quadrangular pyramid shape, and the apex of the quadrangular pyramid substantially matches the center line of the core portion.
図8−2に示した態様は、コア部8の先端部に、他に比して断面積が小さな矩形の凸部を設けた態様で、当該矩形の凸部の中心線は、コア部の中心線とほぼ一致する態様である。 The mode shown in FIG. 8-2 is a mode in which a rectangular convex part having a small cross-sectional area is provided at the tip of the core part 8 as compared to the other, and the center line of the rectangular convex part is This is a mode that almost coincides with the center line.
図8−3に示した態様は、コア部の一方向、すなわち基板面に対して平行方向の幅のみが、その先端に向けて減少している態様である。 The mode illustrated in FIG. 8C is a mode in which only one direction of the core portion, that is, the width in the direction parallel to the substrate surface, decreases toward the tip.
図8−4に示した態様は、コア部の基板法線方向の幅(換言する膜厚)が、その先端に向けて減少している態様である。 The mode shown in FIG. 8-4 is a mode in which the width of the core portion in the substrate normal direction (in other words, the film thickness) decreases toward the tip.
図8−5に示した態様は、図8−1に示した態様において四角錐台の頂点が、コア部の中心位置からずれてその底面(下部クラッド層と接する面)にある場合である。 The mode shown in FIG. 8-5 is a case where the apex of the quadrangular pyramid is shifted from the center position of the core portion and is on the bottom surface (surface in contact with the lower cladding layer) in the mode shown in FIG.
図8−6に示した態様は、図8−2に示した態様において、矩形の突部の一側面がコア部の底面と略同一の面にある場合である。 The mode illustrated in FIG. 8-6 is a case where one side surface of the rectangular protrusion is substantially the same as the bottom surface of the core unit in the mode illustrated in FIG.
図8−1〜図8−6に示した態様の内、図8−1と図8−2に示した態様がモードフィルドの中心とコア部の中心とが一致する点で最良の態様であると云える。しかし、他の態様の場合でにおいても、モードフィルドの拡大効果は期待されるため、本発明により成る導波路型光アイソレータの損失低減には有効である。 Among the modes shown in FIGS. 8-1 to 8-6, the mode shown in FIGS. 8-1 and 8-2 is the best mode in that the center of the mode field coincides with the center of the core part. It can be said. However, even in the case of other embodiments, since the effect of expanding the mode field is expected, it is effective for reducing the loss of the waveguide type optical isolator according to the present invention.
なお、本発明により成る導波路型光アイソレータにおけるコア部8の形状として、図8−1〜図8−6に示した態様に限定されず、要はその断面積が他の部分に比して小さくなっている限りにおいて、他のバリーエーシヨンも採りうるものであることは、改めて言及するまでもない。 In addition, the shape of the core portion 8 in the waveguide type optical isolator according to the present invention is not limited to the embodiment shown in FIGS. 8-1 to 8-6, and the cross-sectional area is in comparison with other portions. It goes without saying that other varieties can be used as long as they are smaller.
以下、本発明について、実施例を用いて、更に詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail using examples.
本発明の第1の実施例について、図9(図9a〜図9e)を用いて説明する。図9は、本発明より成る導波路型光アイソレータの製造工程を示す流れ図である。図中、91は3インチφの(111)面 (CaGd)3(MgZrGa)5O12単結晶基板、92はTb2.3Bi0.7Fe4.6Ga0.4O12単結晶から成る下部クラッド層、93はTb2.3Bi0.7Fe4.7Ga0.3O12単結晶膜から成るコア層、931はコア層93をパターニングして得られた第1のコア部、932は同第2のコア部、933は同第3のコア部、94はTb2.3Bi0.7Fe4.6Ga0.4O12から成る上部クラッド層、95は偏光板挿入溝、96、97は偏光ガラスで、両者の消光軸は互いに45度の角度を成す。 A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 9 (FIGS. 9a to 9e). FIG. 9 is a flowchart showing a manufacturing process of a waveguide type optical isolator according to the present invention. In the figure, 91 is a 3-inch φ (111) face (CaGd) 3 (MgZrGa) 5 O 12 single crystal substrate, and 92 is a Tb 2.3 Bi 0.7 Fe 4.6 Ga 0.4 O 12 single crystal. A lower clad layer 93, a core layer made of a Tb 2.3 Bi 0.7 Fe 4.7 Ga 0.3 O 12 single crystal film, and 931 a first core portion obtained by patterning the core layer 93. 932 is the second core part, 933 is the third core part, 94 is the upper clad layer made of Tb 2.3 Bi 0.7 Fe 4.6 Ga 0.4 O 12 , and 95 is the polarizing plate insertion The grooves 96 and 97 are polarizing glass, and the extinction axes of the two make an angle of 45 degrees.
最初に、通常の液相エピタキシャル成長法により,(CaGd)3(MgZrGa)5O12単結晶基板91の表面にTb2.3Bi0.7Fe4.6Ga0.4O12単結晶から成る下部クラッド層92、及びTb2.3Bi0.7Fe4.7Ga0.3O12単結晶膜から成るコア層93を順次積層した。各々の膜厚は、下部クラッド層92が7μm、コア層が5μmであった。(図9a)
その後、上部コア層を通常のフォトリソ・エッチングプロセスで、第1のコア部931、第2のコア部932、及び第3のコア部を形成した。コア部の幅はいずれも5μmで、第1のコア部931の長さは600μm、第2のコア部932の長さは570μm、第3のコア部933の長さは600μmであった。図10に、第2のコア部932と第3のコア部933の先端形状についてその概略を示す。図中、d1、d2は、各部位の寸法、φはコア部先端の開き角を示す。前述した方法で作成した第2及び第3のコア部のd1は共に〜70μm、またd2は〜1μm、φは〜4度であった。(図9b)
コア部のパターニング後、コア部を覆うように下部クラッド層形成と同様の条件で、液相エピタキシャル成長法により上部クラッド層94として、Tb2.3Bi0.7Fe4.6Ga0.4O12を7μm形成した。(図9c)
上部クラッド層94の形成後、第2コア部を挟むように、幅:35μmで深さ:40μmの偏光板挿入溝95を、高精度ダイサーで形成した。第2コア部を挟む溝の間隔は、第2コア部の長さと同様、570μmである。(図9d)
その後、短辺が10mmの短冊状に切り出した偏光ガラスを第2コア部を挟み偏光子96、検光子97の構成となるように挿入し、光学用接着剤で固定し(図9e)、最後に、短冊を導波路毎に切断し、光学研磨にて導波路端面を露出させ、図2に示した導波路型光アイソレータと略同型の光アイソレータを作成した。
First, a lower clad layer 92 made of Tb2.3Bi0.7Fe4.6Ga0.4O12 single crystal and Tb2.3Bi0.7Fe4 are formed on the surface of a (CaGd) 3 (MgZrGa) 5O12 single crystal substrate 91 by a normal liquid phase epitaxial growth method. A core layer 93 made of a .7Ga0.3O12 single crystal film was sequentially laminated. The thicknesses of the lower cladding layer 92 and the core layer were 7 μm and 5 μm, respectively. (Fig. 9a)
Thereafter, the first core portion 931, the second core portion 932, and the third core portion were formed on the upper core layer by a normal photolithography etching process. The width of each core part was 5 μm, the length of the first core part 931 was 600 μm, the length of the second core part 932 was 570 μm, and the length of the third core part 933 was 600 μm. FIG. 10 schematically shows the tip shapes of the second core portion 932 and the third core portion 933. In the figure, d1 and d2 are dimensions of each part, and φ is an opening angle of the core tip. The d1 of the second and third core portions prepared by the method described above were both about 70 μm, d2 was about 1 μm, and φ was about 4 degrees. (Fig. 9b)
After patterning the core part, 7 μm of Tb2.3Bi0.7Fe4.6Ga0.4O12 was formed as the upper clad layer 94 by liquid phase epitaxial growth under the same conditions as the formation of the lower clad layer so as to cover the core part. (Fig. 9c)
After the formation of the upper clad layer 94, a polarizing plate insertion groove 95 having a width of 35 μm and a depth of 40 μm was formed by a high-precision dicer so as to sandwich the second core portion. The interval between the grooves sandwiching the second core part is 570 μm, similar to the length of the second core part. (Fig. 9d)
After that, the polarizing glass cut into a strip shape having a short side of 10 mm is inserted so as to have the configuration of the polarizer 96 and the analyzer 97 with the second core portion interposed therebetween, and fixed with an optical adhesive (FIG. 9e). Then, the strip was cut for each waveguide, and the end face of the waveguide was exposed by optical polishing, so that an optical isolator substantially the same type as the waveguide type optical isolator shown in FIG. 2 was produced.
作成した導波路型光アイソレータの特性を測定した結果、アイソレーションは〜23dBで損失は〜1dBであった。なお、測定波長は1.55μmであった。 As a result of measuring the characteristics of the produced waveguide type optical isolator, the isolation was ˜23 dB and the loss was ˜1 dB. The measurement wavelength was 1.55 μm.
比較例として、実施例1と同様の条件で、図3に示した態様の導波路型光アイソレータを作成した。ただし、当該比較例においては、コア部の断面形状は一様であり、一辺が〜5μmの正方形状である。また、偏光子35と検光子36とに夾持されたコア部の長さは、実施例1と同様、〜570μmであった。作成した導波路型光アイソレータの波長:1.55μmにおけるアイソレーションは〜23dBで損失は〜4dBであった。 As a comparative example, a waveguide type optical isolator having the mode shown in FIG. 3 was prepared under the same conditions as in Example 1. However, in the comparative example, the cross-sectional shape of the core portion is uniform, and is a square shape with one side of ˜5 μm. Further, the length of the core portion held between the polarizer 35 and the analyzer 36 was ˜570 μm as in the first embodiment. The waveguide type optical isolator thus prepared had an isolation of ˜23 dB and a loss of ˜4 dB at a wavelength of 1.55 μm.
実施例1と同様の条件で、図1に示した導波路型光アイソレータと略同型の光アイソレータを作成した。ただし、本実施例においては、コアパターン形成(図9b)に先立ち、Cr/Auから成る2層膜(Crがコア層93側)に通常のスパッタリング法を用いて全面に形成し、金属クラッディング5を形成した。各々の膜厚は、Cr:〜0.05μm、Au:〜0.3μmで、光伝搬方向の長さは〜5mmとした。 Under the same conditions as in Example 1, an optical isolator of substantially the same type as the waveguide type optical isolator shown in FIG. However, in this example, prior to the core pattern formation (FIG. 9b), a two-layer film made of Cr / Au (Cr is on the core layer 93 side) is formed on the entire surface by using a normal sputtering method, and metal cladding is performed. 5 was formed. Each film thickness was Cr: ˜0.05 μm, Au: ˜0.3 μm, and the length in the light propagation direction was ˜5 mm.
また、コア部8の形状は、実施例1と同様、図10に示した形状である。
なお、本実施例においては、金属クラッディングの端部と検光子7との間隔は〜570μmであった。
Moreover, the shape of the core part 8 is the shape shown in FIG.
In this example, the distance between the end of the metal cladding and the analyzer 7 was ˜570 μm.
作成した光アイソレータの波長:1.55μmにおけるアイソレーションは〜18dBで、損失は〜2.5dBであった。 The isolation wavelength at the wavelength of 1.55 μm of the produced optical isolator was ˜18 dB, and the loss was ˜2.5 dB.
本実施例においては、3インチφの(111)面 (CaGd)3(MgZrGa)5O12単結晶基板の代わりに3インチφのc面 サファイア基板を用いた。サファイア基板上にエアロゾルデポジション法により、下部クラッド層として多結晶のBi0.6Gd2.4Fe5O12を〜7μm厚に、その上にコア層としてBi0.7Tb2.3Fe5O12を〜5μm厚に成膜した。ここで用いた原料微粒子の平均粒径は0.8μm、搬送ガスは酸素で、その流量は5リットル/分であった。また、噴射ノズルの開口径は0.6mmφであった。その後、実施例1に示した方法と同様の方法でコア部を形成した。第1,2,3のコア部の形状は、実施例1に示した形状と同様である。その後、上部クラッド層として、下部クラッド層と同様の条件で、〜7μm厚のBi0.6Gd2.4Fe5O12を形成した後、700℃で1時間の熱処理を施した。 In this example, a 3 inch φ c-plane sapphire substrate was used instead of the 3 inch φ (111) face (CaGd) 3 (MgZrGa) 5 O 12 single crystal substrate. By an aerosol deposition method on a sapphire substrate, polycrystalline Bi 0.6 Gd 2.4 Fe 5 O 12 is formed as a lower cladding layer to a thickness of ˜7 μm, and Bi 0.7 Tb 2.3 Fe as a core layer thereon. 5 O 12 was deposited to a thickness of ˜5 μm. The average particle diameter of the raw material fine particles used here was 0.8 μm, the carrier gas was oxygen, and the flow rate was 5 liters / minute. The opening diameter of the injection nozzle was 0.6 mmφ. Then, the core part was formed by the method similar to the method shown in Example 1. The shapes of the first, second, and third core portions are the same as those shown in the first embodiment. Thereafter, Bi 0.6 Gd 2.4 Fe 5 O 12 having a thickness of ˜7 μm was formed as an upper cladding layer under the same conditions as the lower cladding layer, and then heat treatment was performed at 700 ° C. for 1 hour.
その後の作成条件は、実施例1に示した条件と同様である。 The subsequent creation conditions are the same as the conditions shown in the first embodiment.
作成した導波路型光アイソレータの特性を測定した結果、アイソレーションは〜25dBで損失は〜2dBであった。なお、測定波長は1.55μmであった。 As a result of measuring the characteristics of the produced waveguide type optical isolator, the isolation was ˜25 dB and the loss was ˜2 dB. The measurement wavelength was 1.55 μm.
以上、本発明により成る導波路型光アイソレータについて、実施例を用いて詳細に説明した。しかし、本発明は、実施例に記載した形状、製法に限定されるものではなく、所望の特性に応じて、形状及び製法を適宜選定することができる。 As described above, the waveguide type optical isolator according to the present invention has been described in detail using the embodiments. However, the present invention is not limited to the shape and manufacturing method described in the examples, and the shape and manufacturing method can be appropriately selected according to desired characteristics.
本発明は、光通信や光を用いた放送波伝送、及び光による計測等において、光源となるレーザーから出射された光波が、種々の原因で光源に戻ることを防止するための光アイソレータとして利用できる。 The present invention is used as an optical isolator for preventing light waves emitted from a laser serving as a light source from returning to the light source due to various causes in optical communication, broadcast wave transmission using light, measurement using light, and the like. it can.
1 基板
2 下部クラッド層
3 出射端側に位置するファラデー効果を有する磁性ガーネットから成るコア部
4 上部クラッド層
5 光源(図示せず)側に位置するファラデー効果を有する磁性ガーネットから成るコア 部
6 コア部6の上に形成された金属膜
7 偏光板から成る検光子
8 コア部3においてその断面積が変化する部分
9、10 各々コア部5及びコア部3内を伝播する光の伝搬方向を示すブロック矢印
21 検光子35と偏光子36とに夾持されたコア部
22 検光子36の出射端側に位置するコア部
31 基板
32 下部クラッド層
33 ファラデー効果を有する磁性ガーネットから成るコア部
34 上部クラッド層
35 偏光子
36 検光子
37 光源(図示せず)から出射された光の伝搬方向を示す矢印
38 当該導波路型光アイソレータから出射した光の伝搬方向を示す矢印
331 光源(図示せず)側に位置するコア部
332 出射端側に位置するコア部
41 基板
42 下部クラッド層
43 コア部
44 上部クラッド層
45 導波路の出射端から出射された光が伝搬する方向を示す矢印
47、48 各々コア部331、332の内部を伝搬する光の伝搬方向を示す矢印
441 模式的に示した検光子36の内部を伝搬する光の拡がり
51、61 コア部の形状が5μm角の正方形状の場合の計算結果
52、62 コア部の形状が0.8μm角の正方形状の場合についての計算結果
91 3インチφの(111)面 (CaGd)3(MgZrGa)5O12単結晶基板
92 Tb2.3Bi0.7Fe4.6Ga0.4O12単結晶から成る下部クラッド層
93 Tb2.3Bi0.7Fe4.7Ga0.3O12単結晶膜から成るコア層
931 第1のコア部
932 第2のコア部
933 第3のコア部
94 Tb2.3Bi0.7Fe4.6Ga0.4O12から成る上部クラッド層
95 偏光板挿入溝
96、97は偏光ガラス
d1、d2は、各部位の寸法
φ コア部先端の開き角
111 ファラデー回転子
112 偏光子
113 検光子
114 永久磁石等の磁界印加手段
115 半導体レーザー等から成る光源
116 光源115から出射された光の伝播方向
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Board | substrate 2 Lower clad layer 3 Core part which consists of magnetic garnet which has a Faraday effect located in the output end side 4 Upper clad layer 5 Core part which consists of magnetic garnet which has a Faraday effect located in the light source (not shown) side 6 Core Metal film 7 formed on the portion 6 Analyzer 8 comprising a polarizing plate Portions 9 and 10 in which the cross-sectional area of the core portion 3 changes, showing the propagation direction of light propagating in the core portion 5 and the core portion 3 respectively. Block arrow 21 Core portion 22 sandwiched between analyzer 35 and polarizer 36 Core portion 31 positioned on emission end side of analyzer 36 Substrate 32 Lower clad layer 33 Core portion 34 made of magnetic garnet having Faraday effect Cladding layer 35 Polarizer 36 Analyzer 37 Arrow indicating the propagation direction of light emitted from a light source (not shown) 38 From the waveguide type optical isolator Arrow 331 indicating the propagation direction of the emitted light Core portion 332 located on the light source (not shown) side Core portion 41 located on the emission end side Substrate 42 Lower clad layer 43 Core portion 44 Upper clad layer 45 Output end of the waveguide Arrows 47 and 48 indicating directions in which the light emitted from the light propagates Arrows 441 indicating the propagation direction of light propagating through the core portions 331 and 332 respectively Spreading of light propagating through the analyzer 36 schematically illustrated 51, 61 Calculation results when the core portion is a square shape of 5 μm square 52, 62 Calculation results when the core portion is a square shape of 0.8 μm square 913 (111) plane of 3 inches φ (CaGd ) 3 (MgZrGa) 5O12 single crystal substrate 92 Lower clad layer 93 made of Tb2.3Bi0.7Fe4.6Ga0.4O12 single crystal 93 Core layer 931 made of Tb2.3Bi0.7Fe4.7Ga0.3O12 single crystal film Part 932 second core part 933 third core part 94 upper clad layer 95 made of Tb2.3Bi0.7Fe4.6Ga0.4O12 polarizing plate insertion grooves 96 and 97 are polarizing glasses d1 and d2 are dimensions φ of each part Opening angle 111 at the tip of the head Faraday rotator 112 Polarizer 113 Analyzer 114 Magnetic field applying means 115 such as a permanent magnet Light source 116 comprising a semiconductor laser or the like Propagation direction of light emitted from the light source 115
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| JP2006325913A Pending JP2008139578A (en) | 2006-12-01 | 2006-12-01 | Waveguide type optical isolator |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2008139578A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014013640A1 (en) * | 2012-07-17 | 2014-01-23 | 日本電気株式会社 | Polarization separator, polarization separation structure, optical mixer, and method for manufacturing polarization separator |
| JPWO2013140792A1 (en) * | 2012-03-21 | 2015-08-03 | オリンパス株式会社 | Optical element |
-
2006
- 2006-12-01 JP JP2006325913A patent/JP2008139578A/en active Pending
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|---|---|---|---|---|
| JPWO2013140792A1 (en) * | 2012-03-21 | 2015-08-03 | オリンパス株式会社 | Optical element |
| WO2014013640A1 (en) * | 2012-07-17 | 2014-01-23 | 日本電気株式会社 | Polarization separator, polarization separation structure, optical mixer, and method for manufacturing polarization separator |
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