[go: up one dir, main page]

JP2008139555A - Liquid crystal display device and manufacturing method thereof - Google Patents

Liquid crystal display device and manufacturing method thereof Download PDF

Info

Publication number
JP2008139555A
JP2008139555A JP2006325614A JP2006325614A JP2008139555A JP 2008139555 A JP2008139555 A JP 2008139555A JP 2006325614 A JP2006325614 A JP 2006325614A JP 2006325614 A JP2006325614 A JP 2006325614A JP 2008139555 A JP2008139555 A JP 2008139555A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
substrate
display device
crystal display
sealing material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006325614A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Minoru Takagi
稔 高木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP2006325614A priority Critical patent/JP2008139555A/en
Publication of JP2008139555A publication Critical patent/JP2008139555A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

【課題】液晶表示装置において、シール材の未硬化を抑制すると共に、表示品位の低下を抑制する。
【解決手段】互いに対向して配置されたカラーフィルター基板20及びTFT基板10と、カラーフィルター基板20及びTFT基板10の間に設けられた液晶層15と、カラーフィルター基板20及びTFT基板10の間に設けられ、液晶層15を封止するためのUV硬化型のシール材16と、カラーフィルター基板20にシール材16に重畳するように設けられた遮光層21cとを備えた液晶表示装置であって、遮光層21cは、シール材16にカラーフィルター基板20側からのUV光1を到達させるように開口した開口部Aを有し、シール材16は、遮光性の着色材16aを含んでいる。
【選択図】図4
In a liquid crystal display device, uncured sealing material is suppressed and deterioration of display quality is suppressed.
A color filter substrate 20 and a TFT substrate 10 disposed opposite to each other, a liquid crystal layer 15 provided between the color filter substrate 20 and the TFT substrate 10, and a space between the color filter substrate 20 and the TFT substrate 10. The liquid crystal display device includes a UV curable sealing material 16 for sealing the liquid crystal layer 15 and a light shielding layer 21c provided on the color filter substrate 20 so as to overlap the sealing material 16. The light shielding layer 21c has an opening A that is opened to allow the UV light 1 from the color filter substrate 20 side to reach the sealing material 16, and the sealing material 16 includes a light shielding coloring material 16a. .
[Selection] Figure 4

Description

本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に関し、特に、シール材にUV硬化型樹脂を用いた液晶表示装置に関するものである。   The present invention relates to a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof, and more particularly to a liquid crystal display device using a UV curable resin as a sealing material.

従来より広く知られた液晶表示装置は、一対の透明基板がシール材によって接合され、それらの基板間に液晶材料が封入された液晶パネルを備えている。そして、液晶表示装置では、画像の最小単位である画素毎に、能動素子として、薄膜トランジスタ(以下、「TFT」と称する)などが設けられたアクティブマトリクス駆動方式のものがよく利用されている。   Conventionally known liquid crystal display devices include a liquid crystal panel in which a pair of transparent substrates are joined by a sealing material, and a liquid crystal material is sealed between the substrates. In the liquid crystal display device, an active matrix driving type in which a thin film transistor (hereinafter referred to as “TFT”) or the like is provided as an active element for each pixel which is the minimum unit of an image is often used.

このアクティブマトリクス駆動方式の液晶表示装置は、TFTなどが形成されたTFT母基板と、カラーフィルター層などが形成されたカラーフィルター母基板とを各液晶パネル形成部(セル単位)毎に枠状に設けられたシール材を介して貼り合わせ、その貼り合わせ基板を各セル単位毎に分割した後に、各セル単位を構成する基板間に液晶材料を真空注入法などによって注入することにより製造される。   In this active matrix liquid crystal display device, a TFT mother substrate on which TFTs and the like are formed and a color filter mother substrate on which color filter layers and the like are formed are formed in a frame shape for each liquid crystal panel forming portion (cell unit). It is manufactured by bonding through a provided sealing material, dividing the bonded substrate into each cell unit, and then injecting a liquid crystal material between the substrates constituting each cell unit by a vacuum injection method or the like.

ここで、液晶材料を基板間に注入する方法としては、上記真空注入法が従来より実用化されているが、近年、滴下注入法が採用されるようになっている。   Here, as a method for injecting the liquid crystal material between the substrates, the above-described vacuum injection method has been put into practical use, but in recent years, the drop injection method has been adopted.

上記滴下注入法は、例えば、カラーフィルター基板にシール材を枠状に描画し、その枠状に描画されたシール材の内側に液晶材料を滴下した後に、そのカラーフィルター基板とTFT基板とを貼り合わせる方法であるので、従来の真空注入法と比較して、液晶材料の使用量を大幅に低減できる、液晶材料を注入する時間を短縮できる、及び基板の貼り合わせと液晶材料の封入とを同時に行うことにより製造コストを削減できるなどの利点を有している。   In the dropping injection method, for example, a seal material is drawn in a frame shape on a color filter substrate, a liquid crystal material is dropped inside the seal material drawn in the frame shape, and then the color filter substrate and the TFT substrate are attached. Compared with the conventional vacuum injection method, the amount of liquid crystal material used can be greatly reduced, the time for injecting the liquid crystal material can be shortened, and the bonding of the substrate and the encapsulation of the liquid crystal material can be performed simultaneously. This has the advantage that the manufacturing cost can be reduced.

ところで、上記滴下注入法では、加熱によって硬化する熱硬化型のシール材ではなく、UV光の照射によって硬化するUV硬化型のシール材が一般的に用いられている。   By the way, in the dropping injection method, a UV curable sealing material that is cured by irradiation with UV light is generally used instead of a thermosetting sealing material that is cured by heating.

そのため、シール材に対してカラーフィルター基板側からUV光を照射する場合には、カラーフィルター基板上に遮光膜として設けられたブラックマトリクスによりUV光が遮断されるので、シール材の硬化を進行させることが困難である。ここで、ブラックマトリクスは、シール材を形成するシール材形成領域に、バックライトからの光が漏れて表示品位を低下させないように目隠し(遮光)するために、例えば、クロム蒸着膜や黒色樹脂などにより形成されているので、シール材に対してカラーフィルター基板側からUV光を照射しようとしても、UV光がそのブラックマトリクスの遮断によってシール材に到達せずに、シール材の硬化がほとんど進行しないことになる。   Therefore, when irradiating the sealing material with UV light from the color filter substrate side, the UV light is blocked by the black matrix provided as a light shielding film on the color filter substrate, so that the sealing material is cured. Is difficult. Here, the black matrix is concealed (shielded) in a sealing material forming region for forming a sealing material so that light from the backlight does not leak and deteriorate display quality. Therefore, even if an attempt is made to irradiate the sealing material with UV light from the color filter substrate side, the UV light does not reach the sealing material by blocking the black matrix, and the curing of the sealing material hardly proceeds. It will be.

また、シール材に対してTFT基板側からUV光を照射する場合には、TFT基板上に設けられた金属配線によって、UV光の一部が遮断されるので、シール材の硬化が不十分になるおそれがある。そうなると、製造された液晶表示装置を、例えば、通電エージングなどの試験装置などに投入した場合には、シール材の未硬化成分が液晶材料の成分と反応したり、液晶材料内に拡散溶解したりするので、点灯表示時に表示ムラなどが発生して、表示品位を低下させてしまうことがある。   In addition, when UV light is irradiated from the TFT substrate side to the sealing material, since a part of the UV light is blocked by the metal wiring provided on the TFT substrate, the sealing material is not sufficiently cured. There is a risk. Then, when the manufactured liquid crystal display device is put into, for example, a test device such as energization aging, an uncured component of the sealing material reacts with a component of the liquid crystal material or diffuses and dissolves in the liquid crystal material. As a result, display unevenness or the like may occur at the time of lighting display, and the display quality may be lowered.

そこで、特許文献1には、照射される光をシール材に対し斜めに入射するように反射させる光反射部材が取り付けられたマスクを備えたディスプレイパネルの貼り合わせ装置が開示されている。これによれば、ブラックマトリクスなどの遮光部分の影になる部分のシール材に斜めに光が照射されるので、遮光部分の影になる部分のシール材を十分に硬化させることができる、と記載されている。   Therefore, Patent Document 1 discloses a display panel bonding apparatus including a mask to which a light reflecting member that reflects irradiated light so as to be incident obliquely on a sealing material. According to this, the light is obliquely applied to the seal material in the shadow portion of the light shielding portion such as the black matrix, so that the seal material in the shadow portion of the light shielding portion can be sufficiently cured. Has been.

また、特許文献2では、上記金属配線に対応するゲート線及びデータ線の間隔、並びにゲート線及びデータ線の幅を最適化すると共に、反射板又は散乱板を、UV発光ランプ及び液晶パネル形成部の間、又は液晶パネル形成部の下側及び側面に配置することにより、シール材に対しUV光を様々な高さ又は角度から照射するように構成された液晶表示装置及び液晶表示装置用光照射装置が開示されている。これによれば、上記シール部に対応する封印材のうち、UV光が直接照射されない部分の硬化度が高まるので、封印材による液晶物質の汚染を防止することができる、と記載されている。
特開2005−43700号公報 特開2003−66486号公報
Further, in Patent Document 2, the gap between the gate line and the data line corresponding to the metal wiring and the width of the gate line and the data line are optimized, and the reflection plate or the scattering plate is replaced with a UV light emitting lamp and a liquid crystal panel forming unit. Or a liquid crystal display device configured to irradiate the sealing material with UV light from various heights or angles by being disposed on the lower side or the side surface of the liquid crystal panel forming portion. An apparatus is disclosed. According to this, it is described that, among the sealing materials corresponding to the sealing portions, the degree of curing of the portion that is not directly irradiated with UV light is increased, so that contamination of the liquid crystal substance by the sealing materials can be prevented.
JP 2005-43700 A JP 2003-66486 A

しかしながら、上記特許文献1に開示されたディスプレイパネルの貼り合わせ装置では、マスクの寸法精度よりもシール材の描画精度が劣るため、マスク及び被処理体液晶の間において位置ずれが発生することが予想される。そして、上記貼り合わせ装置では、被処理体が載置されるワークステージの反射を利用して、光の反射を繰り返す工夫もなされているが、シール材の幅が広くなれば、当然、光強度が弱まり、照射部より遠い位置で硬化不良を起こすことが懸念される。   However, in the display panel bonding apparatus disclosed in Patent Document 1, since the drawing accuracy of the sealing material is inferior to the dimensional accuracy of the mask, it is expected that misalignment occurs between the mask and the liquid crystal to be processed. Is done. And in the said bonding apparatus, although the device which repeats reflection of light using the reflection of the work stage in which a to-be-processed object is mounted is made | formed, if the width | variety of a sealing material becomes wide, naturally light intensity will be carried out. There is a concern that curing will be poor at a position far from the irradiated part.

また、上記特許文献2に開示された液晶表示装置及び液晶表示装置用光照射装置では、金属配線の幅を制御することによって、その電気抵抗が高くなり、また、金属配線が細線化することによって、その断線の可能性が高くなることが懸念される。そして、金属配線の間隔を制御することによって、液晶表示装置の設計の自由度も妨げられる。さらに、上記液晶表示装置用光照射装置では、液晶パネルを単数で製造する場合に効果を奏するものの、モバイル用途の液晶パネルを製造する場合のように、マザーガラスに多数の液晶パネルを同時に製造する場合には、様々な方向からUV光を照射することが困難であると考えられる。   Further, in the liquid crystal display device and the light irradiation device for liquid crystal display device disclosed in Patent Document 2, the electrical resistance is increased by controlling the width of the metal wiring, and the metal wiring is thinned. There is a concern that the possibility of the disconnection becomes high. Further, by controlling the interval between the metal wirings, the degree of freedom in designing the liquid crystal display device is also hindered. Furthermore, although the light irradiation device for a liquid crystal display device is effective when a single liquid crystal panel is manufactured, a large number of liquid crystal panels are simultaneously manufactured on a mother glass as in the case of manufacturing a liquid crystal panel for mobile use. In some cases, it is considered difficult to irradiate UV light from various directions.

以上のように、上記特許文献1及び2などに開示された従来の技術では、シール材が完全に硬化せず、シール材の未硬化部分が液晶材料に接触することになるので、画像表示の際に表示ムラが発生し、表示品位の低下が懸念される。   As described above, in the conventional techniques disclosed in Patent Documents 1 and 2 and the like, the sealing material is not completely cured, and the uncured portion of the sealing material comes into contact with the liquid crystal material. In this case, display unevenness occurs, and there is a concern about deterioration of display quality.

本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、液晶表示装置において、シール材の未硬化を抑制すると共に、表示品位の低下を抑制することにある。   The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to suppress uncured sealing material and suppress deterioration of display quality in a liquid crystal display device.

上記目的を達成するために、本発明は、光硬化型のシール材に重畳するように設けられた遮光層がその重畳するシール材に光を到達させるように開口した開口部を有するようにしたものである。   In order to achieve the above object, according to the present invention, the light-shielding layer provided so as to overlap with the photo-curing type sealing material has an opening that opens to allow the light to reach the overlapping sealing material. Is.

具体的に本発明に係る液晶表示装置は、互いに対向して配置された第1基板及び第2基板と、上記第1基板及び第2基板の間に設けられた液晶層と、上記第1基板及び第2基板の間に設けられ、上記液晶層を封止するための光硬化型の樹脂を含むシール材と、上記第1基板に上記シール材に重畳するように設けられた遮光層とを備えた液晶表示装置であって、上記遮光層は、上記シール材に上記第1基板側からの光を到達させるように開口した開口部を有し、上記シール材は、遮光性の着色材を含んでいることを特徴とする。   Specifically, a liquid crystal display device according to the present invention includes a first substrate and a second substrate disposed to face each other, a liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate, and the first substrate. And a sealing material provided between the second substrate and containing a photocurable resin for sealing the liquid crystal layer, and a light shielding layer provided on the first substrate so as to overlap the sealing material. In the liquid crystal display device, the light-shielding layer has an opening that is opened to allow the light from the first substrate side to reach the sealing material, and the sealing material includes a light-shielding coloring material. It is characterized by including.

上記の構成によれば、遮光層に開口部が設けられているので、光硬化型の樹脂を含むシール材には、その遮光層の開口部を介して光が到達することになる。そのため、シール材の光硬化が十分になって、シール材の未硬化が抑制されるので、シール材の未硬化部分が液晶層を構成する液晶材料に接触することによる表示品位の低下が抑制される。また、シール材が遮光性の着色材を含んでいるので、シール材が遮光性を有することになる。そのため、遮光層の開口部には、遮光性のシール材が配置されているので、例えば、バックライトからの光が遮光層の開口部から漏れることによる表示品位の低下が抑制される。したがって、液晶表示装置において、シール材の未硬化が抑制されると共に、表示品位の低下が抑制される。   According to the above configuration, since the opening is provided in the light shielding layer, the light reaches the sealing material containing the photocurable resin through the opening of the light shielding layer. As a result, the photocuring of the sealing material becomes sufficient, and the uncured sealing material is suppressed, so that the deterioration of display quality due to the uncured portion of the sealing material contacting the liquid crystal material constituting the liquid crystal layer is suppressed. The Moreover, since the sealing material contains a light-shielding coloring material, the sealing material has a light-shielding property. For this reason, since a light-shielding sealing material is disposed in the opening of the light shielding layer, for example, deterioration of display quality due to leakage of light from the backlight from the opening of the light shielding layer is suppressed. Therefore, in the liquid crystal display device, the uncured sealing material is suppressed, and the deterioration of display quality is suppressed.

上記着色材は、黒色の顔料であってもよい。   The colorant may be a black pigment.

上記の構成によれば、シール材が黒色の顔料を含んでいるので、シール材が具体的に遮光性を有することになる。   According to said structure, since the sealing material contains the black pigment, a sealing material has light-shielding property concretely.

上記着色材は、黒色の染料であってもよい。   The colorant may be a black dye.

上記の構成によれば、シール材が黒色の染料を含んでいるので、シール材が具体的に遮光性を有することになる。   According to said structure, since a sealing material contains black dye, a sealing material has light-shielding property concretely.

上記着色材は、黒色の球状体又は柱状体であってもよい。   The colorant may be a black spherical body or a columnar body.

上記の構成によれば、シール材が黒色の球状体又は柱状体を含んでいるので、シール材が具体的に遮光性を有することになる。   According to said structure, since a sealing material contains a black spherical body or a columnar body, a sealing material has light-shielding property concretely.

上記着色材は、上記液晶層の厚さを規定するように構成されていてもよい。   The colorant may be configured to define the thickness of the liquid crystal layer.

上記の構成によれば、液晶層の厚さを規定するためのスペーサーを黒色にすることによって、シール材が具体的に遮光性を有することになる。   According to said structure, a sealing material has light-shielding property concretely by making the spacer for prescribing | regulating the thickness of a liquid-crystal layer black.

上記シール材は、紫外線硬化型の樹脂を含んでいてもよい。   The sealing material may contain an ultraviolet curable resin.

上記の構成によれば、シール材が紫外線の照射によって硬化するので、本発明の作用効果が具体的に奏される。   According to said structure, since a sealing material hardens | cures by irradiation of an ultraviolet-ray, the effect of this invention is show | played concretely.

上記シール材は、上記液晶層を囲むように枠状に設けられていてもよい。   The sealing material may be provided in a frame shape so as to surround the liquid crystal layer.

上記の構成によれば、液晶層が枠状に設けられたシール材によって封止されるので、本発明の作用効果が具体的に奏される。   According to said structure, since a liquid-crystal layer is sealed with the sealing material provided in frame shape, the effect of this invention is show | played concretely.

上記第1基板は、カラーフィルター層が設けられたカラーフィルター基板であってもよい。   The first substrate may be a color filter substrate provided with a color filter layer.

上記の構成によれば、ブラックマトリクスを含むカラーフィルター層が設けられたカラーフィルター基板に、ブラックマトリクスと同一層に同一材料で形成される遮光層が設けられているので、本発明の作用効果が具体的に奏される。   According to the above configuration, since the color filter substrate provided with the color filter layer including the black matrix is provided with the light shielding layer formed of the same material in the same layer as the black matrix, the effect of the present invention is achieved. Played specifically.

上記シール材における着色材の含有量は、0.1重量%〜10重量%であってもよい。   The content of the coloring material in the sealing material may be 0.1% by weight to 10% by weight.

上記の構成によれば、シール材における着色材の含有量が0.1重量%〜10重量%であるので、シール材の遮光性及びシール特性が良好になる。ここで、シール材における着色材の含有量が0.1重量%未満の場合には、シール材の遮光性が不足して、例えば、バックライトからの光が遮光層の開口部から漏れることなどによる表示品位の低下が懸念される。また、シール材における着色材の含有量が10重量%を超えた場合には、シール材のシール特性が不足して、第1基板及び第2基板の接合強度の低下、及び液晶層を構成する液晶材料の漏れなどが懸念される。   According to said structure, since content of the coloring material in a sealing material is 0.1 weight%-10 weight%, the light-shielding property and sealing characteristic of a sealing material become favorable. Here, when the content of the coloring material in the sealing material is less than 0.1% by weight, the light shielding property of the sealing material is insufficient, for example, light from the backlight leaks from the opening of the light shielding layer. There is a concern about the deterioration of display quality due to. Further, when the content of the coloring material in the sealing material exceeds 10% by weight, the sealing property of the sealing material is insufficient, and the bonding strength of the first substrate and the second substrate is reduced, and the liquid crystal layer is configured. There are concerns about leakage of liquid crystal materials.

また、本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、カラーフィルター層及び該カラーフィルター層の周囲に遮光層を有する第1基板を作製する第1基板作製工程と、上記第1基板に対向して配置される第2基板を作製する第2基板作製工程と、上記第1基板作製工程で作製された第1基板、及び上記第2基板作製工程で作製された第2基板を、上記遮光層に重畳するように枠状に設けられた光硬化型の樹脂を含むシール材を介して貼り合わせることにより、貼合体を作製する貼り合わせ工程と、上記貼り合わせ工程で作製された貼合体におけるシール材に光を照射して該シール材を硬化させる光硬化工程とを備える液晶表示装置の製造方法であって、上記シール材は、遮光性の着色材を含んでおり、上記第1基板作製工程では、上記遮光層に上記貼り合わせ工程で作製される貼合体において上記シール材に光を到達させるための開口部を形成し、上記光硬化工程では、上記貼り合わせ工程で作製された貼合体に対して上記第1基板側から光を照射することを特徴とする。   The method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention includes a first substrate manufacturing step of manufacturing a color filter layer and a first substrate having a light-shielding layer around the color filter layer, and facing the first substrate. The second substrate manufacturing step for manufacturing the second substrate to be disposed, the first substrate manufactured in the first substrate manufacturing step, and the second substrate manufactured in the second substrate manufacturing step are used as the light shielding layer. A bonding step for producing a bonded body by bonding through a sealing material containing a photocurable resin provided in a frame shape so as to overlap, and a sealing material in the bonded body manufactured in the bonding step And a photocuring step of curing the sealing material by irradiating light on the liquid crystal display device, wherein the sealing material contains a light-shielding coloring material, and in the first substrate manufacturing step, Above the shading layer In the bonded body produced in the bonding process, an opening for allowing light to reach the sealing material is formed, and in the photocuring process, the first substrate side with respect to the bonded body produced in the bonding process. It is characterized by irradiating light from.

上記の方法によれば、第1基板作製工程において、遮光層に開口部が形成されるので、光硬化工程において、光硬化型の樹脂を含むシール材には、その遮光層の開口部を介して光が到達することになる。そのため、光硬化工程において、シール材の光硬化が十分になって、シール材の未硬化が抑制されるので、シール材の未硬化部分が液晶層を構成する液晶材料に接触することによる表示品位の低下が抑制される。また、シール材が遮光性の着色材を含むので、シール材が遮光性を有することになる。そのため、遮光層の開口部には、遮光性のシール材が配置されるので、例えば、バックライトからの光が遮光層の開口部から漏れることによる表示品位の低下が抑制される。したがって、液晶表示装置において、シール材の未硬化が抑制されると共に、表示品位の低下が抑制される。   According to the above method, since the opening is formed in the light shielding layer in the first substrate manufacturing process, in the photocuring process, the sealing material containing the photocurable resin is passed through the opening of the light shielding layer. The light will reach. Therefore, in the photocuring process, the photocuring of the sealing material becomes sufficient and uncured of the sealing material is suppressed. Is suppressed. Moreover, since the sealing material includes a light-shielding coloring material, the sealing material has light-shielding properties. For this reason, since a light-shielding sealing material is disposed in the opening of the light shielding layer, for example, deterioration in display quality due to leakage of light from the backlight from the opening of the light shielding layer is suppressed. Therefore, in the liquid crystal display device, the uncured sealing material is suppressed, and the deterioration of display quality is suppressed.

上記貼り合わせ工程では、上記シール材の内側に液晶材料を供給してもよい。   In the bonding step, a liquid crystal material may be supplied inside the sealing material.

上記の方法によれば、枠状のシール材を介する第1基板及び第2基板の貼り合わせと同時に、シール材の内側に液晶材料が封止されるので、滴下注入法において、本発明の作用効果が具体的に奏される。   According to the above method, the liquid crystal material is sealed inside the sealing material simultaneously with the bonding of the first substrate and the second substrate via the frame-shaped sealing material. The effect is specifically demonstrated.

上記第1基板作製工程及び第2基板作製工程では、上記第1基板及び第2基板をそれぞれ多面取りで作製してもよい。   In the first substrate manufacturing step and the second substrate manufacturing step, the first substrate and the second substrate may be manufactured by multi-cavity respectively.

上記の方法によれば、例えば、一対のマザーガラスに第1基板及び第2基板がそれぞれ多数作製されるモバイル用途の液晶表示装置の製造方法において、本発明の作用効果が具体的に奏される。   According to the above method, for example, in the method of manufacturing a liquid crystal display device for mobile use in which a large number of first substrates and second substrates are respectively formed on a pair of mother glasses, the effects of the present invention are specifically exhibited. .

本発明によれば、光硬化型の樹脂を含むシール材に重畳するように設けられた遮光層が、その重畳するシール材に光を到達させるように開口した開口部を有しているので、液晶表示装置において、シール材の未硬化を抑制することができると共に、表示品位の低下を抑制することができる。   According to the present invention, the light shielding layer provided so as to overlap the sealing material containing the photocurable resin has an opening that is opened so that the light reaches the overlapping sealing material. In the liquid crystal display device, it is possible to suppress uncured sealing material and to suppress deterioration in display quality.

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, this invention is not limited to the following embodiment.

図1は、本発明の実施形態に係る液晶表示装置30の平面図である。そして、図2は、液晶表示装置30を構成するカラーフィルター基板20の平面図であり、図3は、図2中のIII−III線に沿ったカラーフィルター基板20の断面図である。   FIG. 1 is a plan view of a liquid crystal display device 30 according to an embodiment of the present invention. 2 is a plan view of the color filter substrate 20 constituting the liquid crystal display device 30, and FIG. 3 is a cross-sectional view of the color filter substrate 20 taken along line III-III in FIG.

液晶表示装置30は、図1に示すように、互いに対向して配置されたTFT基板10及びカラーフィルター基板20と、TFT基板10及びカラーフィルター基板20の間に設けられた液晶層15と、TFT基板10及びカラーフィルター基板20の間において液晶層15を包囲するように枠状に設けられたシール材16と、TFT基板10及びカラーフィルター基板20の液晶層15側にそれぞれ設けられた配向膜(不図示)と、TFT基板10及びカラーフィルター基板20における液晶層15の反対側にそれぞれ設けられた偏光板(不図示)と、TFT基板10の上辺のカラーフィルター基板20が重ならない領域に設けられた駆動用のドライバ(不図示)とを備えている。   As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device 30 includes a TFT substrate 10 and a color filter substrate 20 which are arranged to face each other, a liquid crystal layer 15 provided between the TFT substrate 10 and the color filter substrate 20, and a TFT A sealing material 16 provided in a frame shape so as to surround the liquid crystal layer 15 between the substrate 10 and the color filter substrate 20, and an alignment film (on the liquid crystal layer 15 side of the TFT substrate 10 and the color filter substrate 20). (Not shown), a polarizing plate (not shown) provided on the opposite side of the liquid crystal layer 15 in the TFT substrate 10 and the color filter substrate 20, and the color filter substrate 20 on the upper side of the TFT substrate 10 are provided in a region where they do not overlap. And a driving driver (not shown).

第1基板であるカラーフィルター基板20は、図2及び図3に示すように、透明な絶縁基板19と、絶縁基板19上に設けられたカラーフィルター層21と、カラーフィルター層21の周囲に設けられた遮光層21cと、そのカラーフィルター層21上に設けられた共通電極(不図示)とを備えている。   As shown in FIGS. 2 and 3, the color filter substrate 20 as the first substrate is provided around the transparent insulating substrate 19, the color filter layer 21 provided on the insulating substrate 19, and the color filter layer 21. And the common electrode (not shown) provided on the color filter layer 21.

カラーフィルター層21は、画像の最小単位である画素毎に、例えば、赤色、緑色又は青色に着色された複数の着色層21aと、各着色層21aの間に設けられたブラックマトリクス21bとを備えている。   The color filter layer 21 includes, for each pixel, which is the minimum unit of an image, for example, a plurality of colored layers 21a colored in red, green, or blue, and a black matrix 21b provided between the colored layers 21a. ing.

遮光層21cは、図2〜図4に示すように、シール材16に沿ってカラーフィルター基板20から例えばUV光1を到達させるように開口した開口部Aを有している。ここで、図4は、TFT基板10及びカラーフィルター基板20を貼り合わせた貼合体25の断面図である。   As shown in FIGS. 2 to 4, the light shielding layer 21 c has an opening A that is opened so that, for example, the UV light 1 reaches the color filter substrate 20 along the sealing material 16. Here, FIG. 4 is a cross-sectional view of a bonded body 25 in which the TFT substrate 10 and the color filter substrate 20 are bonded together.

第2基板であるTFT基板10は、互いに平行に延びるように設けられた複数のゲート線(不図示)と、各ゲート線と直交する方向に互いに平行に延びるように設けられた複数のソース線(不図示)と、各ゲート線及び各ソース線の交差部分にそれぞれスイッチング素子として設けられた複数のTFT(不図示)と、カラーフィルター基板20上の各着色層21aに対応してそれぞれ設けられた複数の画素電極(不図示)とを備えている。   The TFT substrate 10 as the second substrate includes a plurality of gate lines (not shown) provided so as to extend in parallel to each other and a plurality of source lines provided so as to extend in parallel to each other in a direction orthogonal to the respective gate lines. (Not shown), a plurality of TFTs (not shown) provided as switching elements at the intersections of the gate lines and source lines, and the colored layers 21a on the color filter substrate 20, respectively. And a plurality of pixel electrodes (not shown).

上記TFTは、絶縁基板上に設けられ、上記ゲート線の側方に突出した部分であるゲート電極と、そのゲート電極を覆うように設けられたゲート絶縁膜と、そのゲート絶縁膜上でゲート電極に対応する位置に島状に設けられた半導体層と、その半導体層上で互いに対峙するように設けられたソース電極及びドレイン電極とを備えている。ここで、上記ソース電極は、上記ソース線の側方に突出した部分である。そして、上記ドレイン電極は、画素電極に電気的に接続されている。   The TFT is provided on an insulating substrate, a gate electrode that is a portion protruding to the side of the gate line, a gate insulating film provided so as to cover the gate electrode, and a gate electrode on the gate insulating film And a source layer and a drain electrode provided so as to face each other on the semiconductor layer. Here, the source electrode is a portion protruding to the side of the source line. The drain electrode is electrically connected to the pixel electrode.

また、TFT基板10及びカラーフィルター基板では、各画素電極及び各着色層21aによって画素がそれぞれ構成され、それらの画素がマトリクス状に配置されることによって表示領域Dが構成されている(図1及び図2参照)。   Further, in the TFT substrate 10 and the color filter substrate, pixels are configured by the pixel electrodes and the colored layers 21a, respectively, and the display region D is configured by arranging these pixels in a matrix (see FIG. 1 and FIG. 1). (See FIG. 2).

液晶層15は、電気光学特性を有するネマチック液晶(液晶材料)などにより構成されている。   The liquid crystal layer 15 is composed of nematic liquid crystal (liquid crystal material) having electro-optical characteristics.

シール材16は、例えば、UV硬化型や熱硬化及びUV硬化併用型の樹脂により構成され、UV硬化型の樹脂を含んでいる。なお、シール材16は、上記UV硬化型の樹脂を含むものだけでなく、可視光硬化型など他の光硬化型の樹脂を含むものであってもよい。   The sealing material 16 is made of, for example, a UV curable resin, a thermosetting and UV curable resin, and includes a UV curable resin. The sealing material 16 may include not only the UV curable resin but also other light curable resins such as a visible light curable resin.

上記構成の液晶表示装置30では、各画素において、ゲート線からゲート信号がゲート電極に送られて、TFTがオン状態になったときに、ソース線からソース信号がソース電極に送られて、半導体層及びドレイン電極を介して、画素電極に所定の電荷が書き込まれる。このとき、TFT基板10の各画素電極とカラーフィルター基板20の共通電極との間において電位差が生じ、液晶層15に所定の電圧が印加される。そして、液晶表示装置30では、液晶層15に印加された電圧の大きさによって液晶層15の配向状態を変えることにより、液晶層15の光透過率を調整して画像が表示される。   In the liquid crystal display device 30 configured as described above, in each pixel, when the gate signal is sent from the gate line to the gate electrode and the TFT is turned on, the source signal is sent from the source line to the source electrode, and the semiconductor A predetermined charge is written into the pixel electrode through the layer and the drain electrode. At this time, a potential difference is generated between each pixel electrode of the TFT substrate 10 and the common electrode of the color filter substrate 20, and a predetermined voltage is applied to the liquid crystal layer 15. In the liquid crystal display device 30, an image is displayed by adjusting the light transmittance of the liquid crystal layer 15 by changing the alignment state of the liquid crystal layer 15 according to the magnitude of the voltage applied to the liquid crystal layer 15.

次に、本実施形態の液晶表示装置30を製造する方法について説明する。本実施形態の製造方法は、カラーフィルター基板作製工程、TFT基板作製工程、貼り合わせ工程及び光硬化工程を備えている。   Next, a method for manufacturing the liquid crystal display device 30 of the present embodiment will be described. The manufacturing method of this embodiment includes a color filter substrate manufacturing process, a TFT substrate manufacturing process, a bonding process, and a photocuring process.

<カラーフィルター基板作製工程>
まず、ガラス基板などの絶縁基板の基板全体に、スパッタリング法により、例えば、厚さ100nm程度でクロム薄膜を成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターン形成して、格子状のブラックマトリクス21b、及び開口部Aを有する遮光層21cを形成する。
<Color filter substrate manufacturing process>
First, a chromium thin film having a thickness of, for example, about 100 nm is formed on the entire substrate of an insulating substrate such as a glass substrate by a sputtering method, and then patterned by photolithography to form a grid-like black matrix 21b and openings. The light shielding layer 21c having the portion A is formed.

続いて、ブラックマトリクス21bの格子間のそれぞれに、例えば、1.0μm〜2.5μm程度の厚さで、赤、緑又は青の着色層21aをパターン形成して、カラーフィルター層21を形成する。   Subsequently, a color filter layer 21 is formed by patterning a red, green or blue colored layer 21a with a thickness of, for example, about 1.0 μm to 2.5 μm between the lattices of the black matrix 21b. .

さらに、カラーフィルター層21上に、スパッタリング法により、例えば、厚さ100nm程度でITO(Indium Tin Oxide)膜を成膜して、共通電極を形成する。   Furthermore, an ITO (Indium Tin Oxide) film is formed on the color filter layer 21 by sputtering, for example, with a thickness of about 100 nm to form a common electrode.

最後に、共通電極が形成された基板全体に、印刷法により、ポリイミド系樹脂の薄膜を成膜し、その後、ラビング法により、その表面に配向処理を行うことにより、配向膜を形成する。   Finally, a polyimide resin thin film is formed on the entire substrate on which the common electrode is formed by a printing method, and then an alignment treatment is performed on the surface by a rubbing method to form an alignment film.

以上のようにして、表面に配向膜が形成されたカラーフィルター基板20を作製することができる。   As described above, the color filter substrate 20 having the alignment film formed on the surface can be manufactured.

<TFT基板作製工程>
まず、ガラス基板などの絶縁基板の基板全体に、チタンなどからなる金属膜をスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、ゲート線及びゲート電極などを形成する。
<TFT substrate manufacturing process>
First, a metal film made of titanium or the like is formed on the entire substrate of an insulating substrate such as a glass substrate by a sputtering method, and then patterned by photolithography to form gate lines and gate electrodes.

続いて、ゲート線及びゲート電極が形成された基板全体に、CVD(Chemical Vapor Deposition)法により窒化シリコン膜などを成膜し、ゲート絶縁膜を形成する。   Subsequently, a silicon nitride film or the like is formed by a CVD (Chemical Vapor Deposition) method on the entire substrate on which the gate line and the gate electrode are formed, thereby forming a gate insulating film.

さらに、ゲート絶縁膜が形成された基板全体に、CVD法により真性アモルファスシリコン膜と、リンがドープされたn+アモルファスシリコン膜とを連続して成膜し、その後、フォトリソグラフィによりゲート電極上に島状にパターニングして、真性アモルファスシリコン層及びn+アモルファスシリコン層からなる半導体層を形成する。   Further, an intrinsic amorphous silicon film and an n + amorphous silicon film doped with phosphorus are successively formed by CVD on the entire substrate on which the gate insulating film is formed, and then the island is formed on the gate electrode by photolithography. Then, a semiconductor layer made of an intrinsic amorphous silicon layer and an n + amorphous silicon layer is formed.

そして、半導体層が形成された基板全体に、チタンなどからなる金属膜をスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、ソース線、ソース電極及びドレイン電極を形成する。   Then, a metal film made of titanium or the like is formed over the entire substrate on which the semiconductor layer is formed by a sputtering method, and then patterned by photolithography to form a source line, a source electrode, and a drain electrode.

続いて、ソース電極及びドレイン電極をマスクとして半導体層のn+アモルファスシリコン層をエッチングすることにより、チャネル部をパターニングして、TFTを形成する。   Subsequently, by etching the n + amorphous silicon layer of the semiconductor layer using the source electrode and the drain electrode as a mask, the channel portion is patterned to form a TFT.

さらに、TFTが形成された基板全体に、CVD法を用いて窒化シリコン膜などを成膜し、その後、フォトリソグラフィによりドレイン電極上にコンタクトホールをパターニングして、保護絶縁膜を形成する。   Further, a silicon nitride film or the like is formed over the entire substrate on which the TFT is formed using a CVD method, and then a contact hole is patterned on the drain electrode by photolithography to form a protective insulating film.

そして、保護絶縁膜上の基板全体に、ITO膜をスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィによりパターニングして、画素電極を形成する。   Then, an ITO film is formed on the entire substrate on the protective insulating film by a sputtering method, and then patterned by photolithography to form a pixel electrode.

最後に、画素電極が形成された基板全体に、ポリイミド樹脂を塗布し、その後、ラビング処理を行うことにより、配向膜を形成する。   Finally, a polyimide resin is applied to the entire substrate on which the pixel electrodes are formed, and then an alignment film is formed by performing a rubbing process.

以上のようにして、表面に配向膜が形成されたTFT基板10を作製することができる。   As described above, the TFT substrate 10 having the alignment film formed on the surface can be manufactured.

<貼り合わせ工程>
まず、カラーフィルター基板作製工程で作製されたカラーフィルター基板20に対し、ディスペンサー式の塗布装置を用いて、遮光層21cの開口部Aに沿って、シール材16を枠状に描画する。ここで、シール材16には、例えば、カーボンブラックなどの黒色顔料からなる着色材16aが5重量%含まれている。また、着色材16aは、上記黒色顔料の代わりに、アニリンブラックなどの黒色染料、液晶層15の厚さを規定するための黒色の球状体や柱状体などからなるスペーサーであってもよい。さらに、シール材16における着色材16aの含有量は、0.1重量%〜10重量%であれば、シール材16の遮光性及びシール特性が良好になる。なお、シール材16における着色材16aの含有量が0.1重量%未満の場合には、シール材16の遮光性が不足して、例えば、バックライトからの光が遮光層21cの開口部Aから漏れることなどによる表示品位の低下が懸念される。また、シール材16における着色材16aの含有量が10重量%を超えた場合には、シール材16のシール特性が不足して、TFT基板10及びカラーフィルター基板20の接合強度の低下、及び液晶層15を構成する液晶材料の漏れなどが懸念される。
<Lamination process>
First, the seal material 16 is drawn in a frame shape along the opening A of the light shielding layer 21c on the color filter substrate 20 produced in the color filter substrate production process using a dispenser type coating device. Here, the sealing material 16 includes, for example, 5% by weight of a coloring material 16a made of a black pigment such as carbon black. Further, the colorant 16a may be a spacer made of a black dye such as aniline black, a black spherical body or a columnar body for defining the thickness of the liquid crystal layer 15, instead of the black pigment. Furthermore, if the content of the coloring material 16a in the sealing material 16 is 0.1% by weight to 10% by weight, the light shielding properties and sealing characteristics of the sealing material 16 are improved. When the content of the coloring material 16a in the sealing material 16 is less than 0.1% by weight, the light shielding property of the sealing material 16 is insufficient, for example, the light from the backlight emits the opening A of the light shielding layer 21c. There is concern about the deterioration of display quality due to leakage from the market. When the content of the coloring material 16a in the sealing material 16 exceeds 10% by weight, the sealing properties of the sealing material 16 are insufficient, the bonding strength between the TFT substrate 10 and the color filter substrate 20 is reduced, and the liquid crystal There is a concern about leakage of the liquid crystal material constituting the layer 15.

続いて、シール材16が描画されたカラーフィルター基板20に対し、シール材21の内側に液晶材料15を滴下供給する(図3参照)。   Subsequently, the liquid crystal material 15 is supplied dropwise to the color filter substrate 20 on which the sealing material 16 is drawn inside the sealing material 21 (see FIG. 3).

最後に、液晶材料15が滴下供給されたカラーフィルター基板20と、上記TFT基板作製工程で作製されたTFT基板10とを貼り合わて、貼合体25を作製する(図4参照)。   Finally, the color filter substrate 20 to which the liquid crystal material 15 is dropped and supplied is bonded to the TFT substrate 10 manufactured in the TFT substrate manufacturing step to manufacture a bonded body 25 (see FIG. 4).

<光硬化工程>
上記貼り合わせ工程で作製された貼合体25に対し、図4に示すように、カラーフィルター基板20側から遮光層21cの開口部Aを介して、例えば、10J/cm(100mW/cm×100秒)で、UV光1を照射することにより、シール材16を硬化させて、液晶パネルを作製する。その後、作製された液晶パネルの表面及び裏面に偏光板をそれぞれ貼り付け、さらに、ドライバなどを実装する。
<Photocuring process>
For example, 10 J / cm 2 (100 mW / cm 2 ×) from the color filter substrate 20 side through the opening A of the light shielding layer 21c with respect to the bonded body 25 produced in the bonding process, as shown in FIG. 100 seconds), the sealing material 16 is cured by irradiating the UV light 1 to produce a liquid crystal panel. Thereafter, polarizing plates are respectively attached to the front and back surfaces of the manufactured liquid crystal panel, and a driver and the like are mounted.

以上のようにして、本実施形態の液晶表示装置30を製造することができる。   As described above, the liquid crystal display device 30 of this embodiment can be manufactured.

以上説明したように、本実施形態の液晶表示装置30及びその製造方法によれば、カラーフィルター基板作製工程において、遮光層21cに開口部Aが形成されるので、光硬化工程において、UV硬化型のシール材16には、遮光層21cの開口部Aを介してUV光1が到達することになる。そのため、光硬化工程において、シール材16のUV硬化が十分になって、シール材16の未硬化を抑制することができるので、シール材16の未硬化部分が液晶層15を構成する液晶材料に接触することによる表示品位の低下を抑制することができる。また、シール材16が遮光性の着色材16aを含んでいるので、シール材16が遮光性を有することになる。そのため、遮光層21cの開口部Aには、遮光性のシール材16が配置されるので、例えば、バックライトからの光が遮光層21cの開口部Aから漏れることによる表示品位の低下を抑制することができる。したがって、液晶表示装置において、シール材16の未硬化を抑制することができると共に、表示品位の低下を抑制することができる。   As described above, according to the liquid crystal display device 30 and the manufacturing method thereof of the present embodiment, the opening A is formed in the light shielding layer 21c in the color filter substrate manufacturing process. The UV light 1 reaches the sealing material 16 through the opening A of the light shielding layer 21c. Therefore, in the photocuring step, the UV curing of the sealing material 16 becomes sufficient and the uncured portion of the sealing material 16 can be suppressed, so that the uncured portion of the sealing material 16 becomes a liquid crystal material constituting the liquid crystal layer 15. Deterioration of display quality due to contact can be suppressed. Further, since the sealing material 16 includes the light shielding colorant 16a, the sealing material 16 has the light shielding property. Therefore, since the light-shielding sealing material 16 is disposed in the opening A of the light-shielding layer 21c, for example, display quality deterioration due to leakage of light from the backlight from the opening A of the light-shielding layer 21c is suppressed. be able to. Therefore, in the liquid crystal display device, it is possible to suppress the uncured sealing material 16 and to suppress the deterioration of display quality.

また、上記実施形態では、枠状に設けられたシール材16のUV硬化について説明したが、本発明は、液晶注入口を有するシール材の内側に液晶材料を注入した後に、その液晶注入口にUV硬化樹脂を塗布してUV硬化する際にも適用することができる。   In the above embodiment, the UV curing of the sealing material 16 provided in a frame shape has been described. However, in the present invention, after injecting the liquid crystal material inside the sealing material having the liquid crystal injection port, It can also be applied when a UV curable resin is applied and UV cured.

さらに、上記実施形態では、枠状のシール材16を介してTFT基板10及びカラーフィルター基板20を貼り合わせると同時に、シール材16の内側に液晶材料15が封止される滴下注入法について説明したが、本発明は、真空注入法について適用することができる。   Furthermore, in the above embodiment, the dropping injection method in which the TFT substrate 10 and the color filter substrate 20 are bonded together via the frame-shaped sealing material 16 and the liquid crystal material 15 is sealed inside the sealing material 16 has been described. However, the present invention can be applied to the vacuum injection method.

また、上記実施形態では、TFT基板10及びカラーフィルター基板20をそれぞれ単独で作製する方法を例示したが、本発明は、小型の液晶パネルであっても、シール材16を確実に硬化できるので、例えば、一対のマザーガラスにTFT基板10及びカラーフィルター基板20を多面取りでそれぞれ多数作製されるモバイル用途の液晶表示装置及びその製造方法について有効である。   Moreover, in the said embodiment, although the method which produces each TFT substrate 10 and the color filter substrate 20 was illustrated, since this invention can harden the sealing material 16 reliably even if it is a small-sized liquid crystal panel, For example, it is effective for a liquid crystal display device for mobile use in which a large number of TFT substrates 10 and color filter substrates 20 are produced on a pair of mother glasses, respectively, and a manufacturing method thereof.

さらに、上記実施形態では、アクティブマトリクス駆動方式の液晶表示装置を例示して説明したが、本発明は、パッシブマトリクス駆動方式の液晶表示装置、有機EL(electroluminescence)表示装置、プラズマ表示装置などにも適用することができる。   Further, in the above-described embodiment, the active matrix driving type liquid crystal display device has been described as an example. However, the present invention is also applied to a passive matrix driving type liquid crystal display device, an organic EL (electroluminescence) display device, a plasma display device, and the like. Can be applied.

以上説明したように、本発明は、光硬化型のシール材の未硬化を抑制することができるので、一対の基板をシール材を介して貼り合わて製造される表示装置について有用である。   As described above, the present invention can suppress uncured photocurable sealing material, and thus is useful for a display device manufactured by bonding a pair of substrates through a sealing material.

本発明の実施形態に係る液晶表示装置30を示す平面図である。It is a top view which shows the liquid crystal display device 30 which concerns on embodiment of this invention. 液晶表示装置30を構成するカラーフィルター基板20を示す平面図である。4 is a plan view showing a color filter substrate 20 constituting the liquid crystal display device 30. FIG. 図2中のIII−III線に沿ったカラーフィルター基板20を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the color filter board | substrate 20 along the III-III line in FIG. 図3に対応する光硬化工程における貼合体25を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the bonding body 25 in the photocuring process corresponding to FIG.

符号の説明Explanation of symbols

A 開口部
1 UV光
10 TFT基板(第2基板)
15 液晶層(液晶材料)
16 シール材
16a 着色材
20 カラーフィルター基板(第1基板)
21 カラーフィルター層
21c 遮光層
25 貼合体
30 液晶表示装置
A Opening 1 UV light 10 TFT substrate (second substrate)
15 Liquid crystal layer (Liquid crystal material)
16 Sealing material 16a Coloring material 20 Color filter substrate (first substrate)
21 Color filter layer 21c Light shielding layer 25 Bonded body 30 Liquid crystal display device

Claims (12)

互いに対向して配置された第1基板及び第2基板と、
上記第1基板及び第2基板の間に設けられた液晶層と、
上記第1基板及び第2基板の間に設けられ、上記液晶層を封止するための光硬化型の樹脂を含むシール材と、
上記第1基板に上記シール材に重畳するように設けられた遮光層とを備えた液晶表示装置であって、
上記遮光層は、上記シール材に上記第1基板側からの光を到達させるように開口した開口部を有し、
上記シール材は、遮光性の着色材を含んでいることを特徴とする液晶表示装置。
A first substrate and a second substrate disposed to face each other;
A liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate;
A sealing material provided between the first substrate and the second substrate and including a photocurable resin for sealing the liquid crystal layer;
A liquid crystal display device comprising a light shielding layer provided on the first substrate so as to overlap the sealing material,
The light shielding layer has an opening that is opened to allow the light from the first substrate side to reach the sealing material;
The liquid crystal display device, wherein the sealing material includes a light-shielding coloring material.
請求項1に記載された液晶表示装置において、
上記着色材は、黒色の顔料であることを特徴とする液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1,
The liquid crystal display device, wherein the colorant is a black pigment.
請求項1に記載された液晶表示装置において、
上記着色材は、黒色の染料であることを特徴とする液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1,
The liquid crystal display device, wherein the colorant is a black dye.
請求項1に記載された液晶表示装置において、
上記着色材は、黒色の球状体又は柱状体であることを特徴とする液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1,
The liquid crystal display device, wherein the colorant is a black spherical body or a columnar body.
請求項4に記載された液晶表示装置において、
上記着色材は、上記液晶層の厚さを規定するように構成されていることを特徴とする液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 4,
The liquid crystal display device, wherein the colorant is configured to define a thickness of the liquid crystal layer.
請求項1に記載された液晶表示装置において、
上記シール材は、紫外線硬化型の樹脂を含んでいることを特徴とする液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1,
The liquid crystal display device, wherein the sealing material contains an ultraviolet curable resin.
請求項1に記載された液晶表示装置において、
上記シール材は、上記液晶層を囲むように枠状に設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1,
The liquid crystal display device, wherein the sealing material is provided in a frame shape so as to surround the liquid crystal layer.
請求項1に記載された液晶表示装置において、
上記第1基板は、カラーフィルター層が設けられたカラーフィルター基板であることを特徴とする液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1,
The liquid crystal display device, wherein the first substrate is a color filter substrate provided with a color filter layer.
請求項1に記載された液晶表示装置において、
上記シール材における着色材の含有量は、0.1重量%〜10重量%であることを特徴とする液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1,
Content of the coloring material in the said sealing material is 0.1 weight%-10 weight%, The liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.
カラーフィルター層及び該カラーフィルター層の周囲に遮光層を有する第1基板を作製する第1基板作製工程と、
上記第1基板に対向して配置される第2基板を作製する第2基板作製工程と、
上記第1基板作製工程で作製された第1基板、及び上記第2基板作製工程で作製された第2基板を、上記遮光層に重畳するように枠状に設けられた光硬化型の樹脂を含むシール材を介して貼り合わせることにより、貼合体を作製する貼り合わせ工程と、
上記貼り合わせ工程で作製された貼合体におけるシール材に光を照射して該シール材を硬化させる光硬化工程とを備える液晶表示装置の製造方法であって、
上記シール材は、遮光性の着色材を含んでおり、
上記第1基板作製工程では、上記遮光層に上記貼り合わせ工程で作製される貼合体において上記シール材に光を到達させるための開口部を形成し、
上記光硬化工程では、上記貼り合わせ工程で作製された貼合体に対して上記第1基板側から光を照射することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
A first substrate production step of producing a color filter layer and a first substrate having a light shielding layer around the color filter layer;
A second substrate manufacturing step of manufacturing a second substrate disposed to face the first substrate;
A photo-curable resin provided in a frame shape so that the first substrate manufactured in the first substrate manufacturing step and the second substrate manufactured in the second substrate manufacturing step overlap with the light shielding layer. A pasting step for producing a pasted body by pasting together through a sealing material including,
A method of manufacturing a liquid crystal display device comprising a photocuring step of curing the sealing material by irradiating light to the sealing material in the bonded body produced in the bonding step,
The sealing material includes a light-shielding coloring material,
In the first substrate manufacturing step, an opening for allowing light to reach the sealing material in the bonded body manufactured in the bonding step is formed in the light shielding layer,
In the said photocuring process, light is irradiated from the said 1st board | substrate side with respect to the bonding body produced at the said bonding process, The manufacturing method of the liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.
請求項10に記載された液晶表示装置の製造方法において、
上記貼り合わせ工程では、上記シール材の内側に液晶材料を供給することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
In the manufacturing method of the liquid crystal display device described in Claim 10,
In the bonding process, a liquid crystal material is supplied to the inside of the sealing material.
請求項10に記載された液晶表示装置の製造方法において、
上記第1基板作製工程及び第2基板作製工程では、上記第1基板及び第2基板をそれぞれ多面取りで作製することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
In the manufacturing method of the liquid crystal display device described in Claim 10,
In the first substrate manufacturing step and the second substrate manufacturing step, the first substrate and the second substrate are each manufactured by multi-chamfering.
JP2006325614A 2006-12-01 2006-12-01 Liquid crystal display device and manufacturing method thereof Pending JP2008139555A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006325614A JP2008139555A (en) 2006-12-01 2006-12-01 Liquid crystal display device and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006325614A JP2008139555A (en) 2006-12-01 2006-12-01 Liquid crystal display device and manufacturing method thereof

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008139555A true JP2008139555A (en) 2008-06-19

Family

ID=39601091

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006325614A Pending JP2008139555A (en) 2006-12-01 2006-12-01 Liquid crystal display device and manufacturing method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008139555A (en)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102662275A (en) * 2012-04-27 2012-09-12 深圳市华星光电技术有限公司 Liquid crystal display module and liquid crystal display device
CN102799018A (en) * 2012-08-09 2012-11-28 深圳市华星光电技术有限公司 Liquid crystal display panel and manufacturing method thereof
CN103777406A (en) * 2013-12-25 2014-05-07 深圳市华星光电技术有限公司 Method for solidifying frame adhesives in liquid crystal panel manufacturing and liquid crystal panel
CN105892165A (en) * 2016-06-27 2016-08-24 京东方科技集团股份有限公司 Display panel and preparation method thereof
WO2017038670A1 (en) * 2015-08-31 2017-03-09 シャープ株式会社 Method for producing display panel, and display panel
CN108535920A (en) * 2018-04-24 2018-09-14 京东方科技集团股份有限公司 Sealant, display panel and its manufacturing method, display device
DE102018212445A1 (en) * 2018-07-25 2020-03-05 Volkswagen Aktiengesellschaft Display and control device for a motor vehicle
CN114690487A (en) * 2022-03-03 2022-07-01 广州华星光电半导体显示技术有限公司 Liquid crystal display panel and display device

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102662275A (en) * 2012-04-27 2012-09-12 深圳市华星光电技术有限公司 Liquid crystal display module and liquid crystal display device
WO2013159417A1 (en) * 2012-04-27 2013-10-31 深圳市华星光电技术有限公司 Liquid crystal display module and liquid crystal display device
CN102799018A (en) * 2012-08-09 2012-11-28 深圳市华星光电技术有限公司 Liquid crystal display panel and manufacturing method thereof
WO2014023065A1 (en) * 2012-08-09 2014-02-13 深圳市华星光电技术有限公司 Liquid crystal display panel and manufacturing method thereof
CN103777406A (en) * 2013-12-25 2014-05-07 深圳市华星光电技术有限公司 Method for solidifying frame adhesives in liquid crystal panel manufacturing and liquid crystal panel
WO2017038670A1 (en) * 2015-08-31 2017-03-09 シャープ株式会社 Method for producing display panel, and display panel
US20180275437A1 (en) * 2015-08-31 2018-09-27 Sharp Kabushiki Kaisha Display panel and method of producing display panel
CN105892165A (en) * 2016-06-27 2016-08-24 京东方科技集团股份有限公司 Display panel and preparation method thereof
CN105892165B (en) * 2016-06-27 2020-07-28 京东方科技集团股份有限公司 Display panel and preparation method thereof
CN108535920A (en) * 2018-04-24 2018-09-14 京东方科技集团股份有限公司 Sealant, display panel and its manufacturing method, display device
DE102018212445A1 (en) * 2018-07-25 2020-03-05 Volkswagen Aktiengesellschaft Display and control device for a motor vehicle
EP3826876B1 (en) * 2018-07-25 2022-11-16 Volkswagen Aktiengesellschaft Display device for a motor vehicle
CN114690487A (en) * 2022-03-03 2022-07-01 广州华星光电半导体显示技术有限公司 Liquid crystal display panel and display device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102308247B (en) Liquid crystal display device and method for manufacturing same
CN104508731B (en) Display panel
KR100870660B1 (en) Liquid crystal display device and manufacturing method with improved adhesion of panel
JP4473238B2 (en) Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
JP5299873B2 (en) LCD panel
JP5285809B2 (en) Display device and manufacturing method thereof
WO2016204056A1 (en) Method for manufacturing display device, and display device
WO2011062009A1 (en) Liquid crystal panel and liquid crystal display device
KR101288835B1 (en) Liquid crystal display device and fabrication method thereof
US9360728B2 (en) Liquid crystal display panel and method of manufacturing the same
WO2011145258A1 (en) Display device and manufacturing method for same
US20130321719A1 (en) Electronic device and method for manufacturing same
WO2016204054A1 (en) Method for manufacturing display device, and display device
WO2016204055A1 (en) Display device, and method for manufacturing display device
US20090316089A1 (en) Liquid crystal display panel and method for fabricating the same
WO2012063719A1 (en) Liquid crystal display panel, and method for producing same
JP2008139555A (en) Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
US20200012137A1 (en) Substrate for display device, display device, and method of producing substrate for display device
US8979607B2 (en) Method of manufacturing liquid crystal display panel
JP5292594B2 (en) LCD panel
WO2011080968A1 (en) Method for manufacturing liquid crystal panel
KR20130045733A (en) Display panel and method for manufacturing the same
KR20080053804A (en) LCD and its manufacturing method
KR101096715B1 (en) Liquid Crystal Display Device
KR101080133B1 (en) The color filter on TFT structure liquid crystal display device using plastic substrate and method of fabricating the same