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JP2008139246A - Microchip, microchip energization unit - Google Patents

Microchip, microchip energization unit Download PDF

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JP2008139246A
JP2008139246A JP2006328130A JP2006328130A JP2008139246A JP 2008139246 A JP2008139246 A JP 2008139246A JP 2006328130 A JP2006328130 A JP 2006328130A JP 2006328130 A JP2006328130 A JP 2006328130A JP 2008139246 A JP2008139246 A JP 2008139246A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
microchip
forming plate
analysis
transparent
recess
Prior art date
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Pending
Application number
JP2006328130A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideji Tsuchiya
秀治 土屋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokai Hit Co Ltd
Original Assignee
Tokai Hit Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokai Hit Co Ltd filed Critical Tokai Hit Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a microchip and a microchip energization unit capable of heating a sample surely up to a prescribed temperature, and observing the sample in a recessed part for analysis by a microscope. <P>SOLUTION: When setting at a desired temperature, for example, at 40°C, and switching on a controller 27 by operating an operation knob of the controller 27, a transparent conducting film 19 is energized through alligator lead wires 29, 31. Hereby, the transparent conducting film 19 is heated, and a recessed part formation plate 7 or the like is heated. The surface temperature of the recessed part formation plate 7 is detected by a temperature sensor 39, and the result is transmitted to the controller 27, and energization to the transparent conducting film 19 is controlled by the controller 27 based on the transmitted detection result. Hereby, the temperature of the recessed part formation plate 7 including the bottom part and the inner side face of the recessed part 11 for analysis is kept at 40°C. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明はマイクロチップ、マイクロチップ通電ユニットに係り、特にマイクロチップの分析用凹部に収容される試料を加温することができるマイクロチップ、マイクロチップ通電ユニットに関するものである。   The present invention relates to a microchip and a microchip energization unit, and more particularly to a microchip and a microchip energization unit that can heat a sample accommodated in an analysis recess of the microchip.

マイクロチップ等と呼ばれるデバイスは化学実験をダウンサイジングできることから、測定時間の短縮化、試薬量、排液量の削減等、種々のメリットがあり、その利用が広まりつつある。そして、単に基板に分析用凹部を備えただけでなく、特許文献1に記載されたマイクロチップのようにポンプ機能を備えたものなど、実験に有用な機能を備えたものが登場してきている。 Since devices such as microchips can downsize chemical experiments, they have various merits such as shortening measurement time, reducing the amount of reagents and the amount of drainage, and their use is spreading. And not only having a concave portion for analysis on a substrate, but also having a function useful for experiments such as a microchip described in Patent Document 1 having a pump function has appeared.

特開2006−212473JP 2006-212473 A

しかしながら、試料を加温するための機能を備えたマイクロチップは存在せず、その登場が望まれている。特にマイクロチップは分析用凹部内の試料を顕微鏡観察することも多く、試料を加温するためのヒータが顕微鏡による観察を妨げるものでは実用に適さないものになってしまう。
本発明は上記従来の問題点に着目して為されたものであり、試料を確実に所定の温度に加温できて、しかも加温した状態の試料を顕微鏡によって観察することが可能なマイクロチップ、マイクロチップ通電ユニットを提供することを、その目的とする。
However, there is no microchip having a function for heating a sample, and its appearance is desired. In particular, a microchip often observes a sample in a concave portion for analysis under a microscope, and if a heater for heating the sample prevents observation with a microscope, it becomes unsuitable for practical use.
The present invention has been made paying attention to the above-mentioned conventional problems, and is a microchip capable of reliably heating a sample to a predetermined temperature and observing the heated sample with a microscope. An object of the present invention is to provide a microchip energization unit.

本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、請求項1の発明は、 少なくとも一部に透明部を有する基板と、前記基板の透明部の表面側に設けられた分析用凹部とを具備するマイクロチップにおいて、前記基板の少なくとも分析用凹部に対応する領域に形成され、且つ分析用凹部に対し電気的絶縁部を介して設けられた通電により発熱する透明発熱体を備え、前記透明発熱体は通電手段と接続されて分析用凹部を加温するものであることを特徴とするマイクロチップである。   The present invention has been made to solve the above problems, and the invention of claim 1 includes a substrate having a transparent portion at least in part, and a concave portion for analysis provided on the surface side of the transparent portion of the substrate. A transparent heating element that is formed in at least a region corresponding to the analysis concave portion of the substrate and that generates heat by energization provided to the analysis concave portion through an electrical insulating portion, the transparent chip The heating element is a microchip that is connected to the energizing means and heats the analysis recess.

請求項2の発明は、請求項1に記載したマイクロチップにおいて、基板は分析用凹部が設けられた凹部形成板を有しており、前記凹部形成板の裏面に透明発熱体が直接形成されていることを特徴とするマイクロチップである。 According to a second aspect of the present invention, in the microchip according to the first aspect, the substrate has a concave portion forming plate provided with a concave portion for analysis, and a transparent heating element is directly formed on the back surface of the concave portion forming plate. It is a microchip characterized by having.

請求項3の発明は、請求項2に記載したマイクロチップにおいて、凹部形成板の裏面側には透明発熱体を覆うカバーが重ね合わされ固定されていることを特徴とするマイクロチップである。   A third aspect of the present invention is the microchip according to the second aspect, wherein a cover covering the transparent heating element is overlapped and fixed on the back surface side of the recess forming plate.

請求項4の発明は、請求項3に記載したマイクロチップにおいて、凹部形成板とカバーは透明性を有する接着剤によって貼り合わされていることを特徴とするマイクロチップである。   A fourth aspect of the present invention is the microchip according to the third aspect, wherein the recess forming plate and the cover are bonded together with an adhesive having transparency.

請求項5の発明は、請求項1に記載したマイクロチップにおいて、基板は分析用凹部が設けられた凹部形成板と、前記凹部形成板の裏面側に重ね合わされ固定された導電膜形成板とを有しており、前記導電膜形成板の透明部に透明発熱体が設けられていることを特徴とするマイクロチップである。 According to a fifth aspect of the present invention, in the microchip according to the first aspect, the substrate includes a concave portion forming plate provided with a concave portion for analysis, and a conductive film forming plate which is overlapped and fixed on the back side of the concave portion forming plate. And a transparent heating element is provided in the transparent portion of the conductive film forming plate.

請求項6の発明は、請求項5に記載したマイクロチップにおいて、凹部形成板と導電膜形成板は透明性を有する接着剤によって貼り合わされていることを特徴とするマイクロチップである。   A sixth aspect of the invention is the microchip according to the fifth aspect, wherein the concave portion forming plate and the conductive film forming plate are bonded together with an adhesive having transparency.

請求項7の発明は、請求項1から6のいずれかに記載したマイクロチップにおいて、透明発熱体に電気的に接続される一対の電極が設けられていることを特徴とするマイクロチップである。   The invention of claim 7 is the microchip according to any one of claims 1 to 6, wherein a pair of electrodes electrically connected to the transparent heating element is provided.

請求項8の発明は、請求項7に記載したマイクロチップにおいて、一対の電極は分析用凹部に対応する領域を挟んで両側にそれぞれ配置され、且つ互いに間隔をあけて備えられていることを特徴とするマイクロチップである。   According to an eighth aspect of the present invention, in the microchip according to the seventh aspect, the pair of electrodes are respectively arranged on both sides of the region corresponding to the concave portion for analysis, and are spaced apart from each other. It is a microchip.

請求項9の発明は、請求項8に記載したマイクロチップにおいて、一対の電極は分析用凹部の長さ方向の両端部を結ぶ範囲に延びていることを特徴とするマイクロチップである。   A ninth aspect of the present invention is the microchip according to the eighth aspect, wherein the pair of electrodes extend in a range connecting both end portions in the length direction of the concave portion for analysis.

請求項10の発明は、請求項1から9のいずれかに記載したマイクロチップと、前記マイクロチップの透明発熱体に通電するための通電手段を備えたことを特徴とするマイクロチップ通電ユニットである。   A tenth aspect of the present invention is a microchip energization unit comprising the microchip according to any one of the first to ninth aspects and an energizing means for energizing the transparent heating element of the microchip. .

請求項11の発明は、請求項10に記載したマイクロチップ通電ユニットにおいて、透明発熱体の温度を制御するための温度制御手段を具備したことを特徴とするマイクロチップ通電ユニットである。 An eleventh aspect of the present invention is the microchip energization unit according to the tenth aspect, further comprising temperature control means for controlling the temperature of the transparent heating element.

請求項12の発明は、請求項11に記載したマイクロチップ通電ユニットにおいて通電制御手段は、基板の温度を検知する温度検知手段と、前記温度検知手段の検知結果に基づいて通電を行う通電制御手段とから構成されることを特徴とするマイクロチップ通電ユニットである。 According to a twelfth aspect of the present invention, in the microchip energization unit according to the eleventh aspect, the energization control means includes a temperature detection means for detecting the temperature of the substrate, and an energization control means for energization based on the detection result of the temperature detection means. It is comprised from these. The microchip electricity supply unit characterized by the above-mentioned.

本発明によれば、試料を確実に所定の温度に加温できるようになる。また分析用凹部内の試料を加温したままの状態で顕微鏡によって観察することが可能である。   According to the present invention, the sample can be reliably heated to a predetermined temperature. Moreover, it is possible to observe with the microscope in the state which heated the sample in the recessed part for analysis.

本発明の実施の形態1に係るマイクロチップ1及びマイクロチップ通電ユニット3を図1から図4にしたがって説明する。
マイクロチップ1の構成について説明する。
符号5は基板を示し、この基板5は凹部形成板7、カバー9等を有している。
凹部形成板7、カバー9はガラス板、合成樹脂製板であり、透明かつ電気的絶縁性をもつ板状物が使用される。合成樹脂板としては、透明性と電気的絶縁性を有するものであれば特に制限はないが、アクリル板、ポリカーボネート板、スチレン板などの透明性の高いものが好ましい。
凹部形成板7の表面には分析用凹部11が形成されており、この分析用凹部11は1つの貯留部13、3つの供給部15及び貯留部13と供給部15とを連通させる3つの流路17によって構成されている。
A microchip 1 and a microchip energization unit 3 according to Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to FIGS.
The configuration of the microchip 1 will be described.
Reference numeral 5 denotes a substrate, and the substrate 5 includes a recess forming plate 7, a cover 9, and the like.
The recess forming plate 7 and the cover 9 are a glass plate or a synthetic resin plate, and a transparent and electrically insulating plate is used. The synthetic resin plate is not particularly limited as long as it has transparency and electrical insulation, but a highly transparent one such as an acrylic plate, a polycarbonate plate, and a styrene plate is preferable.
An analysis recess 11 is formed on the surface of the recess forming plate 7, and the analysis recess 11 has three reservoirs 13, three supply units 15, and three flows for connecting the reservoir 13 and the supply unit 15. It is constituted by a path 17.

凹部形成板7の裏面の全体には透明発熱体としての透明導電膜19が直接形成されている。透明導電膜19は導電性金属薄膜によって構成されており、通電により発熱する性質を有するものが使用される。具体的には、酸化スズ、SiO2−インジウム合金、酸化インジウム、スズまたはアンチモンをドープした酸化インジウム、アンチモンをドープした酸化スズなどを使用することができる。導電性金属薄膜を透明板7、9の内面に形成する方法としては、蒸着法(例えば、真空蒸着法)、スパッタリング法、デッピング法、CVD法などにより行うことができる。
上記のように透明導電膜19は凹部形成板7の裏面の全体に形成されているので、分析用凹部11に対応する領域に形成され、且つ分析用凹部11に対し電気的絶縁部である凹部形成板7を介して設けられている。
A transparent conductive film 19 as a transparent heating element is directly formed on the entire back surface of the recess forming plate 7. The transparent conductive film 19 is made of a conductive metal thin film and has a property of generating heat when energized. Specifically, tin oxide, SiO 2 -indium alloy, indium oxide, tin or antimony-doped indium oxide, antimony-doped tin oxide, or the like can be used. As a method of forming the conductive metal thin film on the inner surfaces of the transparent plates 7 and 9, it can be performed by a vapor deposition method (for example, a vacuum vapor deposition method), a sputtering method, a dipping method, a CVD method or the like.
Since the transparent conductive film 19 is formed on the entire back surface of the recess forming plate 7 as described above, the recess is formed in a region corresponding to the analysis recess 11 and is an electrically insulating portion with respect to the analysis recess 11. It is provided via a forming plate 7.

透明導電膜19の表面には一対の電極21、23が固定されており、電極21、23は透明導電膜19に電気的に接続している。電極21、23の一端部は基板5の端面から突出している。また電極21、23は透明導電膜19の分析用凹部11に対応する領域を挟んで両側にそれぞれ配置され、且つ互いに間隔をあけて備えられている。電極21、23としては、銅、銀などの導電性の高い金属薄膜が好適に使用される。   A pair of electrodes 21 and 23 are fixed to the surface of the transparent conductive film 19, and the electrodes 21 and 23 are electrically connected to the transparent conductive film 19. One end portions of the electrodes 21 and 23 protrude from the end surface of the substrate 5. The electrodes 21 and 23 are arranged on both sides of a region corresponding to the analysis concave portion 11 of the transparent conductive film 19 and are provided at a distance from each other. As the electrodes 21 and 23, a metal thin film having high conductivity such as copper or silver is preferably used.

凹部形成板7の裏面側にはカバー9が接着剤25によって貼り付けられて固定されている。
接着剤25は絶縁性および透明性を有しており、シリコーン、ポリウレタンなどが使用でき、シリコーンが、絶縁性、安定性などの点から好適に使用することができる。シリコーンとしては、シリコーンゲル、シリコーンゴムなどがあり、シリコーンゴムとしては、接着性を有するRTVシリコーンゴム、LTVシリコーンゴムなどが好適であり、一液型、二液型のいずれでもよい。
A cover 9 is adhered and fixed to the back surface side of the recess forming plate 7 with an adhesive 25.
The adhesive 25 has insulation and transparency, and silicone, polyurethane and the like can be used, and silicone can be suitably used from the viewpoint of insulation and stability. Examples of silicone include silicone gel and silicone rubber. As silicone rubber, RTV silicone rubber having adhesiveness, LTV silicone rubber and the like are suitable, and either one-pack type or two-pack type may be used.

マイクロチップ1の製造方法は、凹部形成板7の表面に分析用凹部11を形成した後、図3、図4が示すように凹部形成板7の裏面に透明導電膜19を形成した後、一対の電極21、23を形成する。そして、凹部形成板7の裏面にカバー9を接着剤25によって貼り付けて固定し、図1、図2に示すマイクロチップ1を完成する。   The microchip 1 is manufactured by forming the analysis recess 11 on the surface of the recess forming plate 7 and then forming the transparent conductive film 19 on the back surface of the recess forming plate 7 as shown in FIGS. The electrodes 21 and 23 are formed. And the cover 9 is affixed and fixed to the back surface of the recessed part formation board 7 with the adhesive agent 25, and the microchip 1 shown in FIG. 1, FIG. 2 is completed.

マイクロチップ1は以上のように構成されており、このマイクロチップ1と次に説明するコントローラ27等とによってマイクロチップ通電ユニット3が構成されている。
符号29、31は鰐口リード線を示し、この鰐口リード線29、31の一端部側に設けられた鰐口33、35は電極21、23の基板5の端面から突出する部分を挟んで接続され、他端部は制御手段としてのコントローラ27に接続されている。
The microchip 1 is configured as described above, and the microchip energization unit 3 is configured by the microchip 1 and a controller 27 described below.
Reference numerals 29 and 31 denote shed lead wires, and sheds 33 and 35 provided on one end side of the shed lead wires 29 and 31 are connected across a portion protruding from the end face of the substrate 5 of the electrodes 21 and 23, The other end is connected to a controller 27 as control means.

符号39は温度検知手段としての温度センサを示し、この温度センサ39の検知部は基板5の表面で、貯留部13の近傍に貼り付けられている。この温度センサ39の信号線はコントローラ27に接続されている。
コントローラ27は図示しない交流電源に接続されており、このコントローラ27は温度センサ39の検知結果に基づいて電流や電圧を調整し、透明導電膜19に通電する。
上記鰐口リード線29、31とコントローラ27によって通電手段が構成されている。
Reference numeral 39 denotes a temperature sensor as temperature detection means, and the detection part of the temperature sensor 39 is attached to the surface of the substrate 5 in the vicinity of the storage part 13. A signal line of the temperature sensor 39 is connected to the controller 27.
The controller 27 is connected to an AC power source (not shown), and the controller 27 adjusts the current and voltage based on the detection result of the temperature sensor 39 and energizes the transparent conductive film 19.
The shed lead wires 29 and 31 and the controller 27 constitute energization means.

次に、マイクロチップ1、マイクロチップ通電ユニット3の使用方法について説明する。
まずマイクロチップ1を図示しない顕微鏡のステージに置き、貯留部13を顕微鏡の対物レンズと対向させる。
また一対の電極21、23の基板5の端面から突出する部分を鰐口33、35によって挟んで鰐口リード線29、31を介して、一対の電極21、23とコントローラ27とを接続する。そしてコントローラ27の操作摘みを操作して、所望の温度、例えば40℃に設定して、コントローラ27をオンにすると、鰐口リード線29、31を介して透明導電膜19に通電される。これにより透明導電膜19が発熱して、凹部形成板7等が加温される。凹部形成板7の表面温度は温度センサ39によって検知され、この結果がコントローラ27へ伝達され、この伝達された検知結果に基づいてコントローラ27が透明導電膜19に対する通電を制御する。これにより分析用凹部11の底部及び内側面を含む凹部形成板7の温度が40℃に保たれる。
Next, how to use the microchip 1 and the microchip energization unit 3 will be described.
First, the microchip 1 is placed on a stage of a microscope (not shown), and the storage unit 13 is opposed to the objective lens of the microscope.
Further, the pair of electrodes 21 and 23 and the controller 27 are connected to each other through the shed lead wires 29 and 31 with the portions protruding from the end face of the substrate 5 of the pair of electrodes 21 and 23 interposed between the sheds 33 and 35. When the operation knob of the controller 27 is operated to set a desired temperature, for example, 40 ° C. and the controller 27 is turned on, the transparent conductive film 19 is energized through the shed lead wires 29 and 31. Thereby, the transparent conductive film 19 generates heat, and the recess forming plate 7 and the like are heated. The surface temperature of the recess forming plate 7 is detected by the temperature sensor 39, and the result is transmitted to the controller 27, and the controller 27 controls the energization of the transparent conductive film 19 based on the transmitted detection result. Thereby, the temperature of the recessed part formation board 7 containing the bottom part and inner surface of the recessed part 11 for an analysis is maintained at 40 degreeC.

上記のようにして分析用凹部11の底部及び内側面が40℃に保たれた状態で、図示しない試料を供給部15から供給する。試料は加温されながら流路17を通って貯留部13へ流入して反応する。この試料の反応の様子を顕微鏡によって観察する。凹部形成板7、カバー9、透明導電膜19及び接着剤25はいずれも透明であるので、顕微鏡による観察を妨げることはなく、加温したままの状態の試料の様子を顕微鏡により観察することができる。   A sample (not shown) is supplied from the supply unit 15 in a state where the bottom and the inner side surface of the analysis recess 11 are kept at 40 ° C. as described above. The sample flows through the flow path 17 and reacts by being heated. The state of reaction of this sample is observed with a microscope. Since all of the recess forming plate 7, the cover 9, the transparent conductive film 19 and the adhesive 25 are transparent, the observation of the sample in a heated state can be observed with the microscope without hindering the observation with the microscope. it can.

実施の形態2に係るマイクロチップ51を図5、図6にしたがって説明する。
このマイクロチップ51は実施の形態1に係るマイクロチップ1と同様の構成部分を有するので、同じ構成部分については実施の形態1で用いた符号を付して、その説明を省略し、実施の形態1と実施の形態2との相違点についてのみ説明する。
A microchip 51 according to Embodiment 2 will be described with reference to FIGS.
Since the microchip 51 has the same components as the microchip 1 according to the first embodiment, the same components are denoted by the same reference numerals used in the first embodiment, and the description thereof is omitted. Only differences between the first embodiment and the second embodiment will be described.

マイクロチップ51は、透明導電膜19が導電膜形成板53の表面(凹部形成板7の裏面に対向する側の面)に形成されており、凹部形成板7には透明導電膜19は形成されていない。従って、マイクロチップ51の製造方法は、凹部形成板7の表面に分析用凹部11を形成し、また導電膜形成板53の表面に透明導電膜19を形成した後、一対の電極21、23を形成する。そして、凹部形成板7の裏面に導電膜形成板53を接着剤25によって貼り付けて固定し、マイクロチップ51を完成する。
なお、導電膜形成板53は凹部形成板7、カバー9と同じ材料によって構成されている。
このマイクロチップ51は、実施の形態1のマイクロチップ1と同様にマイクロチップの通電ユニット3の構成要素として用いられる。
In the microchip 51, the transparent conductive film 19 is formed on the surface of the conductive film forming plate 53 (the surface on the side facing the back surface of the concave forming plate 7), and the transparent conductive film 19 is formed on the concave forming plate 7. Not. Therefore, in the method of manufacturing the microchip 51, the analysis recess 11 is formed on the surface of the recess forming plate 7, and the transparent conductive film 19 is formed on the surface of the conductive film forming plate 53. Form. Then, the conductive film forming plate 53 is adhered and fixed to the back surface of the recess forming plate 7 with the adhesive 25 to complete the microchip 51.
The conductive film forming plate 53 is made of the same material as the recess forming plate 7 and the cover 9.
The microchip 51 is used as a constituent element of the microchip energization unit 3 in the same manner as the microchip 1 of the first embodiment.

以上、本発明の実施の形態について詳述してきたが、具体的構成は、この実施の形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲における設計の変更などがあっても発明に含まれる。
例えば、上記実施の形態1では透明導電膜19が凹部形成板7の裏面の全体に形成され、実施の形態2では導電膜形成板53の表面の全体に形成されているが、分析用凹部11を所望の温度に加温できれば必ずしも全体に透明導電膜19を形成しなくてもよく、少なくとも分析用凹部11に対応する領域に形成すればよい。
The embodiment of the present invention has been described in detail above. However, the specific configuration is not limited to this embodiment, and the present invention can be changed even if there is a design change without departing from the gist of the present invention. included.
For example, in the first embodiment, the transparent conductive film 19 is formed on the entire back surface of the recess forming plate 7, and in the second embodiment, the transparent conductive film 19 is formed on the entire surface of the conductive film forming plate 53. Can be heated to a desired temperature, the transparent conductive film 19 does not necessarily have to be formed on the entire surface, and at least in the region corresponding to the recess 11 for analysis.

また、凹部形成板7、カバー9は必ずしも全体が透明である必要はなく、少なくとも分析用凹部11に対応する領域が透明であればよい。
凹部形成板7とカバー9との固定は接着剤を用いる他、凹部形成板7とカバー9とを枠等によって力学的に連結固定してもよく、拡散接着、分散接着等によって固定してもよい。
Further, the recess forming plate 7 and the cover 9 do not necessarily have to be transparent as a whole, and at least a region corresponding to the analysis recess 11 may be transparent.
The recess forming plate 7 and the cover 9 may be fixed using an adhesive, or the recess forming plate 7 and the cover 9 may be mechanically connected and fixed by a frame or the like, or may be fixed by diffusion bonding, dispersion bonding, or the like. Good.

更に、実施の形態1においてカバー9を設けず、凹部形成板7の裏面に透明性、絶縁性を有する材料をコーティングして、透明導電膜19の裏面が電気的に絶縁されるように被覆する構成にすることも可能である。
また、電極21、23を備える位置、長さ寸法等は上記実施の形態に限定されず、適宜変更することができる。更に電極21、23を設けない構成とすることも可能である。
電極21、23の一端部を基板5の端面から突出させずに、コネクタ等の凹部形成板7とカバー9との間にある電極21、23に電気的に接続する部材を介して電極21、23とコントローラ27とを接続する構成としてもよい。
Further, in Embodiment 1, the cover 9 is not provided, and the back surface of the recess forming plate 7 is coated with a material having transparency and insulation so that the back surface of the transparent conductive film 19 is electrically insulated. A configuration is also possible.
Moreover, the position, length dimension, etc. provided with the electrodes 21 and 23 are not limited to the said embodiment, It can change suitably. Furthermore, a configuration in which the electrodes 21 and 23 are not provided is also possible.
Without projecting one end of the electrodes 21, 23 from the end face of the substrate 5, the electrode 21, via a member electrically connected to the electrodes 21, 23 between the recess forming plate 7 such as a connector and the cover 9, 23 and the controller 27 may be connected.

上記マイクロチップの通電ユニット3は、温度センサ39の検知結果に基づいてコントローラ27が透明導電膜19に対する通電を制御する構成としたが、本発明はこれに限定されず、例えばコントローラのタイマーによって予め設定した時間ごとに所定時間、予め設定した電圧、電流で通電することによって、分析用凹部11の温度を保つ構成とすることも可能である。 The power supply unit 3 of the microchip is configured such that the controller 27 controls the power supply to the transparent conductive film 19 based on the detection result of the temperature sensor 39. However, the present invention is not limited to this, for example, in advance by a timer of the controller. It is also possible to maintain the temperature of the analysis recess 11 by energizing with a preset voltage and current for a set time every predetermined time.

また、分析用凹部11を上方から覆う蓋体を設けてもよく、この蓋に透明導電膜を形成して、分析用凹部11を上方からも加温する構成としてもよい。更に蓋に温度センサを備えて、この温度センサの検知結果に基づいて透明導電膜に対する通電を上記実施の形態と同様に制御する構成とすることも可能である。
更に、この蓋に対して分析用凹部11の供給部15に対応する穴を形成し、この穴から試料を分析用凹部11へ供給する構成としてもよい。このような構成とすれば蓋を凹部形成板7から外すことなく、試料を分析用凹部11へ供給することが可能である。
なお、蓋は上記実施の形態に示した凹部形成板7と同じ大きさの板状として、この蓋を凹部形成板7の表面に重ね合わせて、分析用凹部11を覆う構成としてもよいが、分析用凹部11を覆うことができれば凹部形成板7より小さいサイズであってもよい。また、蓋は全体が透明である必要はなく、少なくとも分析用凹部11に対応する部分が透明であればよい。
Further, a lid that covers the analysis recess 11 from above may be provided, and a transparent conductive film may be formed on the lid to heat the analysis recess 11 from above. Furthermore, it is also possible to provide a structure in which the lid is provided with a temperature sensor and the energization of the transparent conductive film is controlled in the same manner as in the above embodiment based on the detection result of the temperature sensor.
Furthermore, it is good also as a structure which forms the hole corresponding to the supply part 15 of the analysis recessed part 11 with respect to this lid | cover, and supplies a sample to the analysis recessed part 11 from this hole. With such a configuration, the sample can be supplied to the analysis recess 11 without removing the lid from the recess formation plate 7.
The lid may be a plate having the same size as the recess forming plate 7 shown in the above embodiment, and the lid may be overlapped on the surface of the recess forming plate 7 to cover the analysis recess 11. The size may be smaller than the recess forming plate 7 as long as the analysis recess 11 can be covered. Further, the entire lid does not need to be transparent, and at least a portion corresponding to the analysis recess 11 may be transparent.

本発明は各種試料の混合、反応、分離、検出を行う化学実験を所望の温度で行う場合に利用可能である。   The present invention can be used when a chemical experiment for mixing, reacting, separating, and detecting various samples is performed at a desired temperature.

本発明の実施の形態1に係るマイクロチップの通電ユニット斜視図である。It is an electricity supply unit perspective view of the microchip which concerns on Embodiment 1 of this invention. 図1のA−A断面図である。It is AA sectional drawing of FIG. 図2のB−B断面図である。It is BB sectional drawing of FIG. 本発明の実施の形態1に係るマイクロチップの製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the microchip which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態2に係るマイクロチップの実施の形態1のマイクロチップの図2に対応する断面図である。It is sectional drawing corresponding to FIG. 2 of the microchip of Embodiment 1 of the microchip which concerns on Embodiment 2 of this invention. 図5に示すマイクロチップの製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the microchip shown in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1、51 マイクロチップ 3 マイクロチップの通電ユニット
5 基板 7 凹部形成板 9 カバー
11 分析用凹部 13 貯留部 15 供給部
17 流路 19 透明導電膜 21、23 電極
25 接着剤 27 コントローラ 29、31 鰐口リード線
33、35 鰐口 39 温度センサ 53 導電膜形成板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,51 Microchip 3 Current supply unit 5 of microchip 5 Substrate 7 Recess formation plate 9 Cover 11 Recess for analysis 13 Storage part 15 Supply part 17 Flow path 19 Transparent conductive film 21, 23 Electrode 25 Adhesive 27 Controller 29, 31 Inlet lead Wires 33 and 35 鰐 口 39 Temperature sensor 53 Conductive film forming plate

Claims (12)

少なくとも一部に透明部を有する基板と、前記基板の透明部の表面側に設けられた分析用凹部とを具備するマイクロチップにおいて、前記基板の少なくとも分析用凹部に対応する領域に形成され、且つ分析用凹部に対し電気的絶縁部を介して設けられた通電により発熱する透明発熱体を備え、前記透明発熱体は通電手段と接続されて分析用凹部を加温するものであることを特徴とするマイクロチップ。   In a microchip comprising a substrate having a transparent part at least in part and a concave portion for analysis provided on the surface side of the transparent portion of the substrate, the microchip is formed in a region corresponding to at least the concave portion for analysis, and It comprises a transparent heating element that generates heat by energization provided to the analysis recess through an electrical insulation, and the transparent heating element is connected to an energizing means to heat the analysis recess. To microchip. 請求項1に記載したマイクロチップにおいて、基板は分析用凹部が設けられた凹部形成板を有しており、前記凹部形成板の裏面に透明発熱体が直接形成されていることを特徴とするマイクロチップ。 2. The microchip according to claim 1, wherein the substrate has a recess forming plate provided with an analysis recess, and a transparent heating element is directly formed on the back surface of the recess forming plate. Chip. 請求項2に記載したマイクロチップにおいて、凹部形成板の裏面側には透明発熱体を覆うカバーが重ね合わされ固定されていることを特徴とするマイクロチップ。   3. The microchip according to claim 2, wherein a cover covering the transparent heating element is overlapped and fixed on the back surface side of the recess forming plate. 請求項3に記載したマイクロチップにおいて、凹部形成板とカバーは透明性を有する接着剤によって貼り合わされていることを特徴とするマイクロチップ。   4. The microchip according to claim 3, wherein the recess forming plate and the cover are bonded together with a transparent adhesive. 請求項1に記載したマイクロチップにおいて、基板は分析用凹部が設けられた凹部形成板と、前記凹部形成板の裏面側に重ね合わされ固定された導電膜形成板とを有しており、前記導電膜形成板の透明部に透明発熱体が設けられていることを特徴とするマイクロチップ。 2. The microchip according to claim 1, wherein the substrate includes a concave portion forming plate provided with a concave portion for analysis, and a conductive film forming plate that is overlapped and fixed on a back surface side of the concave portion forming plate, and A microchip, wherein a transparent heating element is provided in a transparent portion of a film forming plate. 請求項5に記載したマイクロチップにおいて、凹部形成板と導電膜形成板は透明性を有する接着剤によって貼り合わされていることを特徴とするマイクロチップ。   6. The microchip according to claim 5, wherein the recess forming plate and the conductive film forming plate are bonded together with a transparent adhesive. 請求項1から6のいずれかに記載したマイクロチップにおいて、透明発熱体に電気的に接続される一対の電極が設けられていることを特徴とするマイクロチップ。   7. The microchip according to claim 1, further comprising a pair of electrodes that are electrically connected to the transparent heating element. 請求項7に記載したマイクロチップにおいて、一対の電極は分析用凹部に対応する領域を挟んで両側にそれぞれ配置され、且つ互いに間隔をあけて備えられていることを特徴とするマイクロチップ。   8. The microchip according to claim 7, wherein the pair of electrodes are respectively disposed on both sides of a region corresponding to the analysis concave portion, and are spaced apart from each other. 請求項8に記載したマイクロチップにおいて、一対の電極は分析用凹部の長さ方向の両端部を結ぶ範囲に延びていることを特徴とするマイクロチップ。   9. The microchip according to claim 8, wherein the pair of electrodes extend in a range connecting both end portions in the length direction of the concave portion for analysis. 請求項1から9のいずれかに記載したマイクロチップと、前記マイクロチップの透明発熱体に通電するための通電手段を備えたことを特徴とするマイクロチップ通電ユニット。   10. A microchip energization unit comprising: the microchip according to claim 1; and energization means for energizing the transparent heating element of the microchip. 請求項10に記載したマイクロチップ通電ユニットにおいて、透明発熱体の温度を制御するための温度制御手段を具備したことを特徴とするマイクロチップ通電ユニット。 The microchip energization unit according to claim 10, further comprising temperature control means for controlling the temperature of the transparent heating element. 請求項11に記載したマイクロチップ通電ユニットにおいて通電制御手段は、基板の温度を検知する温度検知手段と、前記温度検知手段の検知結果に基づいて通電を行う通電制御手段とから構成されることを特徴とするマイクロチップ通電ユニット。 In the microchip energization unit according to claim 11, the energization control means includes a temperature detection means for detecting the temperature of the substrate and an energization control means for energization based on the detection result of the temperature detection means. A featured microchip energizing unit.
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