JP2008135480A - Magnetic control method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、磁性制御方法に関し、特に強磁性半導体の強磁性を常磁性に昇温法でない方法で転移させる方法に関する。 The present invention relates to a magnetic control method, and more particularly to a method for transferring ferromagnetism of a ferromagnetic semiconductor to paramagnetism by a method other than a temperature raising method.
近年、スピントロニクス(電子のスピンとエレクトロニクスを組み合わせた造語)と称される分野が注目を集めている。このスピントロニクスとは、電子が有する物理的性質であるところの電荷とスピンという2つの性質を利用し、まったく新しい機能を持つ素材や素子を開発する研究分野である。 In recent years, a field called spintronics (a coined word combining electron spin and electronics) has attracted attention. Spintronics is a research field in which materials and devices with completely new functions are developed by utilizing two properties of charge and spin, which are physical properties of electrons.
このスピントロニクスにおいて、半導体に磁性を担う磁性元素(遷移元素、希土類元素等)を添加し、磁性元素で半導体の構成元素の一部を置換した半導体(以下、磁性半導体という)は電子スピン制御の観点から重要な材料である。そして、その中でもとりわけ磁性元素の磁気モーメントが揃った「強磁性半導体」は、スピンの揃った自由電子の供給源など半導体スピントロニクスにおける基本的な機能実現のために必要な新材料と考えられている。 In this spintronics, a semiconductor in which a magnetic element (transition element, rare earth element, etc.) responsible for magnetism is added to a semiconductor and a part of the constituent elements of the semiconductor is replaced with the magnetic element (hereinafter referred to as a magnetic semiconductor) is a viewpoint of electron spin control. Is an important material. Among them, “ferromagnetic semiconductors” with magnetic moments of magnetic elements are considered new materials necessary for realizing basic functions in semiconductor spintronics, such as a source of free electrons with uniform spin. .
このような強磁性半導体を用いて実用的なデバイスを実現する場合、室温以上の温度で強磁性を示す強磁性半導体の開発が必須である。常温で強磁性を示す強磁性半導体としては、例えばMnと酸素とを不純物として含有させたGaNの結晶や、MnとSiとを不純物として含有させたGaN結晶が開示されている(例えば、特許文献1参照)。
ところで、一般的に強磁性から常磁性への転移は、強磁性体を強磁性転移温度(キュリー温度)以上に昇温することにより行われる。従って、強磁性半導体を用いて例えば磁気−電気間のエネルギー変換を行うデバイス(磁性メモリ等)を実現する場合、所望の磁性状態を発現・維持するために、強磁性半導体の温度を高精度に制御することが必要になる。その結果、デバイスの構造が複雑になり、デバイスが大型化する。 By the way, in general, the transition from ferromagnetism to paramagnetism is performed by raising the temperature of the ferromagnet above the ferromagnetic transition temperature (Curie temperature). Therefore, when realizing a device (magnetic memory, etc.) that performs energy conversion between magnetism and electricity using a ferromagnetic semiconductor, the temperature of the ferromagnetic semiconductor is set with high accuracy in order to develop and maintain a desired magnetic state. It becomes necessary to control. As a result, the structure of the device becomes complicated and the device becomes larger.
そこで、本発明は、かかる問題点に鑑み、強磁性から常磁性への転移が必要とされる、強磁性体を用いたデバイスを小型化することが可能な磁性制御方法を提供することを目的とする。 Therefore, in view of such problems, the present invention has an object to provide a magnetic control method capable of downsizing a device using a ferromagnetic material that requires a transition from ferromagnetism to paramagnetism. And
上記目的を達成するために、本発明の磁性制御方法は、強磁性体の強磁性を常磁性に転移させる方法であって、前記強磁性体内に伝導電子又は正孔を発生させ、前記伝導電子又は正孔を前記強磁性体の強磁性を担う元素にトラップさせることにより前記転移を行わせることを特徴とする。ここで、前記強磁性体は、強磁性半導体であり、前記転移は、前記伝導電子又は正孔により前記強磁性半導体における強磁性を担うイオンの価数を変化させることにより行われてもよいし、前記強磁性半導体は、GaGdNであり、前記転移は、Gdイオンの価数を3から2に変化させることにより行われてもよい。また、前記伝導電子又は正孔の発生は、前記強磁性半導体への光照射により前記強磁性半導体のバンドギャップエネルギー以上のエネルギーを前記強磁性半導体に与えることにより行われてもよいし、前記伝導電子又は正孔の発生は、前記強磁性半導体への電界印加により前記強磁性半導体のバンドギャップエネルギー以上のエネルギーを前記強磁性半導体に与えることにより行われてもよい。 In order to achieve the above object, a magnetic control method of the present invention is a method for transferring ferromagnetism of a ferromagnetic material to paramagnetism, which generates conduction electrons or holes in the ferromagnetic material, and Alternatively, the transition is performed by trapping holes in an element responsible for ferromagnetism of the ferromagnetic material. Here, the ferromagnetic material is a ferromagnetic semiconductor, and the transition may be performed by changing a valence of ions responsible for ferromagnetism in the ferromagnetic semiconductor by the conduction electrons or holes. The ferromagnetic semiconductor is GaGdN, and the transition may be performed by changing the valence of Gd ions from 3 to 2. The generation of the conduction electrons or holes may be performed by giving the ferromagnetic semiconductor energy that is equal to or higher than the band gap energy of the ferromagnetic semiconductor by irradiating the ferromagnetic semiconductor with light. The generation of electrons or holes may be performed by applying energy higher than the band gap energy of the ferromagnetic semiconductor to the ferromagnetic semiconductor by applying an electric field to the ferromagnetic semiconductor.
これによって、キャリア(伝導電子又は正孔)により強磁性体の強磁性を常磁性に転移させることができる。従って、強磁性体を用いて例えば磁気−電気間のエネルギー変換を行うデバイス(磁性メモリ等)を実現する場合でも、所望の磁性状態を発現・維持するために、強磁性体の温度を高精度に制御する必要が無くなる。その結果、強磁性体を用いたデバイスを小型化することができる。また、強磁性体においてキャリアを発生させた部分のみが強磁性から常磁性に転移する。従って、強磁性状態・常磁性状態の往復を微小領域で制御することが可能なデバイスを実現することができる。 Thereby, the ferromagnetism of the ferromagnet can be transferred to paramagnetism by carriers (conduction electrons or holes). Therefore, even when a device (such as a magnetic memory) that converts energy between magnetism and electricity using a ferromagnetic material is realized, the temperature of the ferromagnetic material is highly accurate in order to develop and maintain a desired magnetic state. There is no need to control it. As a result, a device using a ferromagnetic material can be reduced in size. In addition, only the portion of the ferromagnetic material where carriers are generated transitions from ferromagnetism to paramagnetism. Therefore, a device capable of controlling the reciprocation between the ferromagnetic state and the paramagnetic state in a minute region can be realized.
また、本発明は、第1信号光の照射に応じて円偏光又は直線偏光の第2信号光を出力する発光素子と、前記第2信号光の光路上に配置され、前記直線偏光の偏光方向と異なる偏光主軸を有する偏光子とを備え、前記発光素子は、第1導電型の第1クラッド層及び第2導電型の第2クラッド層と、前記第1クラッド層及び第2クラッド層に挟まれ、前記第1信号光が照射され、前記第2信号光を出力する活性層と、前記活性層及び第1クラッド層に挟まれ、制御光が照射されるGaGdN層とを有することを特徴とする光スイッチとすることもできる。 According to the present invention, a light emitting element that outputs circularly or linearly polarized second signal light in response to irradiation of the first signal light, and a polarization direction of the linearly polarized light are disposed on the optical path of the second signal light. The light-emitting element is sandwiched between a first conductivity type first cladding layer and a second conductivity type second cladding layer, and the first cladding layer and the second cladding layer. And an active layer that emits the first signal light and outputs the second signal light, and a GaGdN layer that is sandwiched between the active layer and the first cladding layer and is irradiated with control light. It can also be an optical switch.
これによって、制御光の照射によりGaGdN層にGaGdNのバンドギャップエネルギー以上のエネルギーが与えられ、直線偏光の第2信号光が出力される場合には、偏光子から光が出力されない。従って、制御光の制御を受けて信号光のスイッチングを行う光スイッチを実現できる。その結果、偏光子及び発光素子の構造を変化させることで、光スイッチから出力される信号光を変化させることができ、設計自由度の高い光スイッチを実現することができる。 As a result, when the GaGdN layer is supplied with energy equal to or higher than the band gap energy of GaGdN by the irradiation of the control light and the linearly polarized second signal light is output, no light is output from the polarizer. Therefore, it is possible to realize an optical switch that switches the signal light under the control of the control light. As a result, by changing the structure of the polarizer and the light emitting element, the signal light output from the optical switch can be changed, and an optical switch with a high degree of design freedom can be realized.
さらに、本発明は、上記磁性制御方法を用いたメモリであって、前記GaGdNから構成される記録層を備え、前記記録層への光照射により情報の書き込みが行われることを特徴とするメモリとすることもできる。 Furthermore, the present invention is a memory using the above magnetic control method, comprising a recording layer composed of the GaGdN, wherein information is written by irradiating the recording layer with light. You can also
これによって、記録層に強磁性半導体のバンドギャップエネルギー以上のエネルギーの光が照射されることにより、強磁性半導体の磁性が常磁性に変化し、記録層に情報が書き込まれる。従って、記録層が強磁性半導体によってのみ形成されるので、不揮発性ランダムアクセスメモリ(RAM)の構造を簡素化でき、小型のRAMを実現できる。 As a result, when the recording layer is irradiated with light having an energy equal to or higher than the band gap energy of the ferromagnetic semiconductor, the magnetism of the ferromagnetic semiconductor changes to paramagnetism, and information is written to the recording layer. Therefore, since the recording layer is formed only by the ferromagnetic semiconductor, the structure of the nonvolatile random access memory (RAM) can be simplified, and a small RAM can be realized.
本発明によれば、強磁性体を用いたデバイスを小型化することができる。また、強磁性状態・常磁性状態の往復を微小領域で制御することが可能なデバイスを実現することができる。制御光の制御を受けて信号光のスイッチングを行う設計自由度の高い光スイッチを実現できる。光の照射を受けて記録層に情報が書き込まれる小型のRAMを実現できる。 According to the present invention, a device using a ferromagnetic material can be reduced in size. In addition, a device capable of controlling the reciprocation between the ferromagnetic state and the paramagnetic state in a minute region can be realized. It is possible to realize an optical switch having a high degree of design freedom for switching signal light under the control of control light. A small RAM in which information is written to the recording layer when irradiated with light can be realized.
以下、本発明の実施の形態における磁性制御方法、光スイッチ及びRAMについて、図面を参照しながら説明する。 Hereinafter, a magnetic control method, an optical switch, and a RAM according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
(第1の実施の形態)
図1は、本実施の形態に係る強磁性半導体の断面図である。
(First embodiment)
FIG. 1 is a cross-sectional view of a ferromagnetic semiconductor according to the present embodiment.
この強磁性半導体110は、室温で強磁性を示し、RF−MBE(Radio-Frequency Molecular Beam Epitaxy)法等の結晶成長技術を用いて基板100上に形成される。
The
強磁性半導体110としては、遷移金属又は希土類元素が添加された半導体、例えばGaNにGdが添加されたGaGdN等が用いられる。このとき、基板100としてはGaNとの格子不整合が小さい6H−SiC基板等が用いられる。そして、強磁性半導体110は、例えばGa及びGdを蒸発させて得られる分子線と、RFプラズマを用いてN2ガスを分解することによって得られる窒素ラジカルとを約400〜800℃に加熱された基板100に供給することにより形成される。
As the
ここで、「室温」の語は0℃以上、40℃以下の範囲内に存在する温度を意味するものとして使用している。 Here, the term “room temperature” is used to mean a temperature existing in the range of 0 ° C. or more and 40 ° C. or less.
上記構造を有する強磁性半導体110では、次のようにその磁性が制御される。
In the
すなわち、強磁性半導体110を強磁性から常磁性に転移させる場合には、光照射又は電界印加により強磁性半導体110のバンドギャップエネルギー以上のエネルギーを強磁性半導体110に与え、強磁性半導体110にキャリア(伝導電子又は正孔)を発生させる。これにより、発生したキャリアが強磁性半導体110内の強磁性を担う遷移金属又は希土類元素イオンにトラップされ、その結果遷移金属又は希土類元素イオンの価数を変化させるため、強磁性半導体110の磁性が強磁性から常磁性に転移する。
That is, when the
具体的には、強磁性半導体110がGaGdNである場合には、例えば光照射によりGaGdNのバンドギャップエネルギーである3.5eV以上のエネルギーをGaGdNに与え、GaGdNに伝導電子を発生させる。これにより、伝導電子がGaGdN内における強磁性を担う強磁性元素Gdにトラップされ、3価のGdイオンを常磁性の2価のGdイオンに変化させ、つまりGdイオンの価数を3価から2価に減少させるため、GaGdNが強磁性から常磁性に転移する。
Specifically, when the
一方、強磁性半導体110を常磁性から強磁性に転移させる場合には、強磁性半導体110に磁場を印加する。これにより、強磁性半導体110内の磁気モーメントの方向が揃えられるため、強磁性半導体110が常磁性から強磁性に転移する。
On the other hand, when the
図2A及び2Bは、強磁性半導体110の発光スペクトルを示す図である。この発光スペクトルは、強磁性半導体110としてGa0.96Gd0.06Nが用いられ、励起光源としてHe−Cdレーザ(325nm=3.814eV)が用いられた場合におけるものである。そして、図2Aは強磁性半導体110の温度を20K、50K、100K、150K、200K及び300Kと変化させた場合におけるものであり、図2Bは強磁性半導体110の温度を10Kとした場合におけるものである。
2A and 2B are diagrams showing emission spectra of the
図2A及び2Bから、652nm(1.9eV)、755nm(1.6eV)及び810nm(1.5eV)の位置に発光ピークが現われていることがわかる。これらの発光ピークは、GaNにおける3価のTbイオンの発光ピークに対応するものであるため、3価のTbイオンと等電子配置の2価のGdイオンの発光ピークであると考えられる。従って、強磁性半導体110では、光照射によりキャリアが生成されてGa0.96Gd0.06N層中のGdイオンの価数が3から2に減少することがわかる。すなわち、光照射により部分的に3価のTbイオンと等電子配置である2価のGdイオンが生成され、Ga0.96Gd0.06N層が強磁性体から常磁性体に転移することがわかる。
2A and 2B, it can be seen that emission peaks appear at positions of 652 nm (1.9 eV), 755 nm (1.6 eV), and 810 nm (1.5 eV). Since these emission peaks correspond to the emission peaks of trivalent Tb ions in GaN, they are considered to be emission peaks of divalent Gd ions having the same electron arrangement as the trivalent Tb ions. Therefore, the
以上のように本実施の形態の強磁性半導体110によれば、光照射又は電界印加によりその磁性が強磁性から常磁性に転移する。従って、強磁性半導体110を用いて例えば磁気−電気間のエネルギー変換を行うデバイス(磁性メモリ等)を実現する場合でも、所望の磁性状態を発現・維持するために、強磁性半導体110の温度を局所的(サブミクロンオーダー)に高精度に制御する必要が無くなる。その結果、強磁性半導体を用いたデバイスを小型化することができる。
As described above, according to the
また、本実施の形態の強磁性半導体110によれば、強磁性半導体110において光照射又は電界印加が行われた局所部分のみが強磁性から常磁性に転移する。従って、強磁性状態・常磁性状態の往復を微小領域で制御することが可能なデバイスを実現することができる。
Further, according to the
(第2の実施の形態)
図3は、本実施の形態に係る光スイッチの構造を示す図である。
(Second Embodiment)
FIG. 3 is a diagram showing the structure of the optical switch according to the present embodiment.
この光スイッチは、パルス状の制御光500による制御を受けて信号光のスイッチングを行う光スイッチであって、外部からのパルス状の第1信号光510の照射を受けてパルス状で円偏光又は直線偏光の第2信号光520を出力する発光素子200と、発光素子200から出力される第2信号光520の光路上に配置され、パルス状の第3信号光530を出力する偏光子300と、発光素子200に磁場を印加するソレノイドコイル等の磁場印加手段400とから構成される。
This optical switch is an optical switch that performs switching of signal light under the control of the
発光素子200は、導電性の透明基板であるGaN基板210と、GaN基板210上に順次積層されたp型AlGaNクラッド層220、強磁性半導体層230、InGaN活性層240及びn型AlGaNクラッド層250と、n型AlGaNクラッド層250上に形成されたn型電極260と、GaN基板210上に形成されたp型電極270と、n型電極260及びp型電極270の間に電圧を印加する直流電源280とから構成される。
The
InGaN活性層240には、直流電源280により発光を引き起こす直前の電圧が印加されている。従って、InGaN活性層240にHiレベルの第1信号光510が照射された場合には発光が起こってInGaN活性層240から光が出力される。一方、InGaN活性層240にLoレベルの第1信号光510が照射された場合には、発光が起こらずInGaN活性層240からは光が出力されない。その結果、第1信号光510と等しいタイミングでHiレベル及びLoレベルとなる、つまり第1信号光510のパルス波形に対応したパルス波形を持つ第2信号光520がInGaN活性層240から出力される。
The InGaN
強磁性半導体層230としては、第1の実施の形態の強磁性半導体110が用いられる。強磁性半導体層230には、制御光500が照射されている。強磁性半導体層230にHiレベルの制御光500、つまり強磁性半導体層230のバンドギャップエネルギー以上のエネルギーの光が照射された場合には、強磁性半導体層230の磁性が強磁性から常磁性に転移する。一方、強磁性半導体層230にLoレベルの制御光500、つまり強磁性半導体層230のバンドギャップエネルギーより小さいエネルギーの光が照射された場合には、強磁性半導体層230の磁性は変化しない。このとき、強磁性半導体層230には、磁場印加手段400により常に一定の磁場が印加されている。従って、強磁性半導体層230は、Hiレベルの制御光500が照射されている場合に常磁性を示し、Loレベルの制御光500が照射されている場合に強磁性を示す。
As the
偏光子300の偏光主軸は、第2信号光520が直線偏光である場合のその偏光方向と異なる、つまり直交する。従って、第2信号光520が直線偏光である場合には、光が遮断されて偏光子300からは光が出力されない。一方、第2信号光520が円偏光である場合には、光の一部が通過して偏光子300から光が出力される。その結果、図4に示されるような、第1信号光510がHiレベルであり、かつ制御光500がLoレベルである場合にのみHiレベルとなり、それ以外はLoレベルとなるパルス波形を持つ第3信号光530が偏光子300から出力される。
The polarization main axis of the
以上のように本実施の形態の光スイッチによれば、偏光子300及び発光素子200の構造を変化させることで、光スイッチから出力される信号光を変化させることができる。従って、設計自由度の高い光スイッチを実現することができる。
As described above, according to the optical switch of the present embodiment, the signal light output from the optical switch can be changed by changing the structures of the
(第3の実施の形態)
図5は、本実施の形態に係るRAM600の構造を示す図である。
(Third embodiment)
FIG. 5 is a diagram showing the structure of the
このRAM600は、第1の実施の形態の強磁性半導体110から構成される複数のメモリセル610がマトリクス状に配列(例えば、M列N行配列:M×N配列)されて構成されている。RAM600では、各メモリセル610に強磁性半導体110のバンドギャップエネルギー以上のエネルギーの光が照射されることにより、強磁性半導体110が常磁性に変化し、メモリセル610に記録情報が書き込まれる。
The
以上のように本実施の形態のRAM600によれば、メモリセル610が強磁性半導体110によってのみ形成される。従って、例えば、強磁性半導体層を形成し、その強磁性半導体層を複数のセルに区分するだけでRAM600を形成できる。その結果、RAMの構造を簡素化でき、小型のRAMを実現できる。
As described above, according to the
以上、本発明の磁性制御方法、光スイッチ及びRAMについて、実施の形態に基づいて説明したが、本発明は、この実施の形態に限定されるものではない。本発明の要旨を逸脱しない範囲内で当業者が思いつく各種変形を施したものも本発明の範囲内に含まれる。 The magnetic control method, the optical switch, and the RAM according to the present invention have been described based on the embodiment, but the present invention is not limited to this embodiment. The present invention includes various modifications made by those skilled in the art without departing from the scope of the present invention.
本発明は、強磁性体を用いる分野に適用でき、特にスピントロニクスと称される電子のスピンを利用した素子の分野に適用できる INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be applied to the field using ferromagnets, and particularly applicable to the field of elements using spin of electrons called spintronics.
100 基板
110 強磁性半導体
200 発光素子
210 GaN基板
220 p型AlGaNクラッド層
230 強磁性半導体層
240 InGaN活性層
250 n型AlGaNクラッド層
260 n型電極
270 p型電極
280 直流電源
300 偏光子
400 磁場印加手段
500 制御光
510 第1信号光
520 第2信号光
530 第3信号光
600 RAM
610 メモリセル
DESCRIPTION OF
610 memory cell
Claims (7)
前記強磁性体内に伝導電子又は正孔を発生させ、前記伝導電子又は正孔を前記強磁性体の強磁性を担う元素にトラップさせることにより前記転移を行わせる
ことを特徴とする磁性制御方法。 A method for transferring the ferromagnetism of a ferromagnet to paramagnetism,
A magnetic control method characterized by generating conduction electrons or holes in the ferromagnetic body and trapping the conduction electrons or holes in an element responsible for ferromagnetism of the ferromagnetic body.
前記転移は、前記伝導電子又は正孔により前記強磁性半導体における強磁性を担うイオンの価数を変化させることにより行われる
ことを特徴とする請求項1に記載の磁性制御方法。 The ferromagnetic material is a ferromagnetic semiconductor;
The magnetic control method according to claim 1, wherein the transition is performed by changing a valence of an ion responsible for ferromagnetism in the ferromagnetic semiconductor by the conduction electrons or holes.
前記転移は、Gdイオンの価数を3から2に変化させることにより行われる
ことを特徴とする請求項2に記載の磁性制御方法。 The ferromagnetic semiconductor is GaGdN,
The magnetic control method according to claim 2, wherein the transfer is performed by changing a valence of Gd ions from 3 to 2. 4.
ことを特徴とする請求項2に記載の磁性制御方法。 The generation of the conduction electrons or holes is performed by giving the ferromagnetic semiconductor energy that is equal to or higher than the band gap energy of the ferromagnetic semiconductor by irradiating the ferromagnetic semiconductor with light. The magnetic control method as described.
ことを特徴とする請求項2に記載の磁性制御方法。 The generation of the conduction electrons or holes is performed by applying energy higher than the band gap energy of the ferromagnetic semiconductor to the ferromagnetic semiconductor by applying an electric field to the ferromagnetic semiconductor. The magnetic control method as described.
前記第2信号光の光路上に配置され、前記直線偏光の偏光方向と異なる偏光主軸を有する偏光子とを備え、
前記発光素子は、第1導電型の第1クラッド層及び第2導電型の第2クラッド層と、前記第1クラッド層及び第2クラッド層に挟まれ、前記第1信号光が照射され、前記第2信号光を出力する活性層と、前記活性層及び第1クラッド層に挟まれ、制御光が照射されるGaGdN層とを有する
ことを特徴とする光スイッチ。 A light emitting element that outputs circularly or linearly polarized second signal light in response to irradiation of the first signal light;
A polarizer disposed on the optical path of the second signal light and having a polarization main axis different from the polarization direction of the linearly polarized light,
The light emitting device is sandwiched between a first conductivity type first cladding layer and a second conductivity type second cladding layer, the first cladding layer and the second cladding layer, and is irradiated with the first signal light, An optical switch comprising: an active layer that outputs second signal light; and a GaGdN layer that is sandwiched between the active layer and the first cladding layer and is irradiated with control light.
前記GaGdNから構成される記録層を備え、
前記記録層への光照射により情報の書き込みが行われる
ことを特徴とするメモリ。 A memory using the magnetic control method according to claim 3,
Comprising a recording layer composed of GaGdN,
Information is written by light irradiation to the recording layer.
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