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JP2008134975A - Input device and its manufacturing method - Google Patents

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JP2008134975A
JP2008134975A JP2006322335A JP2006322335A JP2008134975A JP 2008134975 A JP2008134975 A JP 2008134975A JP 2006322335 A JP2006322335 A JP 2006322335A JP 2006322335 A JP2006322335 A JP 2006322335A JP 2008134975 A JP2008134975 A JP 2008134975A
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JP
Japan
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connection terminal
electrode
substrate
external connection
connection
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Application number
JP2006322335A
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Japanese (ja)
Inventor
Mutsumi Abe
睦 阿部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Display Corp
Original Assignee
Kyocera Display Corp
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Publication date
Application filed by Kyocera Display Corp filed Critical Kyocera Display Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an input device favorably connecting one connection substrate on which a connection terminal is formed on one side. <P>SOLUTION: This input device comprises an X-electrode 31 formed on a first side of a transparent substrate 30, an X-external connection terminal 37 formed on the first side of the transparent substrate 30 and connected to the X-electrode 31, an insulating layer 33 formed so as to cover the X-electrode 31, a Y-electrode 32 formed on the insulating layer 33, an electrode substrate 13 having a Y-external connection terminal 39 formed on the first side of the transparent substrate 30 and connected to the Y-electrode 32, and a connection substrate 15 having an X-connection terminal connected to the X-external connection terminal 37 and a Y-connection terminal connected to the Y-external connection terminal 39 on one side. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、入力装置及びその製造方法に関し、例えば、手指等が接触した位置を、導体と電極との間の静電容量の変化に基づいて検出する静電容量方式の入力装置及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an input device and a method for manufacturing the same, for example, a capacitance type input device that detects a position where a finger or the like is in contact based on a change in capacitance between a conductor and an electrode, and a method for manufacturing the same. About.

近年、直接使用者の手指を接触させることにより、所望の機能選択等の入力操作を行う静電容量方式のタッチパネルが実用化されている(例えば、特許文献1参照)。入力装置である静電容量方式のタッチパネルは、一般的に、間隔をあけて配置されている一対の電極を備えており、使用者の指が一対の電極に近接した際に生じる当該一対の電極間の静電容量の変化を検出することによって、使用者による入力を認識している。   In recent years, a capacitive touch panel that performs an input operation such as selecting a desired function by directly touching a user's finger has been put into practical use (see, for example, Patent Document 1). A capacitive touch panel that is an input device generally includes a pair of electrodes arranged at intervals, and the pair of electrodes generated when a user's finger approaches the pair of electrodes. The input by the user is recognized by detecting the change in the capacitance between them.

この静電容量方式のタッチパネルは、例えば、ガラスなどからなる透明基板の両面に、接触位置検出のための透明導電膜からなる複数本のX電極及びY電極がそれぞれ設けられた電極基板と、電極基板の接触面側に透明接着材によって貼り合わせられたカバーから構成されている。カバーの表面が、操作時に指が接触する操作面となる。また、電極基板の両面にそれぞれ設けられたX電極及びY電極は互いに交差するように形成されている。   This capacitive touch panel includes, for example, an electrode substrate in which a plurality of X electrodes and Y electrodes made of a transparent conductive film for detecting a contact position are provided on both surfaces of a transparent substrate made of glass or the like, and an electrode It is comprised from the cover bonded together by the transparent adhesive material to the contact surface side of the board | substrate. The surface of the cover becomes an operation surface with which a finger contacts during operation. Further, the X electrode and the Y electrode respectively provided on both surfaces of the electrode substrate are formed so as to cross each other.

このように構成される入力装置において、電極基板上に載置されているカバーの表面の任意の箇所に使用者の手指を接触させると、X電極からY電極へと回り込んで向かう電気力線の一部が使用者の手指に吸収され、Y電極に吸収される電気力線が減って静電容量が変化する。この容量変化に応じて変化する電極基板の電流出力値に基づいて、手指を接触させた座標位置が検出される。
特開平8−147092号公報
In the input device configured as described above, when the user's finger is brought into contact with an arbitrary position on the surface of the cover placed on the electrode substrate, the electric lines of force go around from the X electrode to the Y electrode. Is absorbed by the user's finger, and the lines of electric force absorbed by the Y electrode are reduced to change the capacitance. Based on the current output value of the electrode substrate that changes in accordance with the capacitance change, the coordinate position where the finger is brought into contact is detected.
JP-A-8-147092

図7に、従来のタッチパネルに用いられる電極基板の構成を示す。図7に示すように、基板100の表面・裏面には、X電極101、Y電極102がそれぞれ形成されている。基板100の表面に形成されたX電極101には、基板100の一辺側まで引き回す接続配線が接続されており、当該接続配線の端部には外部接続端子103が形成されている。一方、基板100の裏面に形成されたY電極102には、外部接続端子103が形成された辺とは異なる辺側まで引き回す接続配線が接続されており、当該接続配線の端部には外部接続端子104が形成されている。   FIG. 7 shows a configuration of an electrode substrate used for a conventional touch panel. As shown in FIG. 7, an X electrode 101 and a Y electrode 102 are formed on the front and back surfaces of the substrate 100, respectively. A connection wiring routed to one side of the substrate 100 is connected to the X electrode 101 formed on the surface of the substrate 100, and an external connection terminal 103 is formed at an end of the connection wiring. On the other hand, the Y electrode 102 formed on the back surface of the substrate 100 is connected to a connection wiring routed to a side different from the side where the external connection terminal 103 is formed, and an external connection is provided at the end of the connection wiring. A terminal 104 is formed.

外部接続端子103、104には、外部から電源電圧、表示信号などを供給するため、駆動回路等が実装された接続基板105、106がそれぞれ接続されている。通常、両面に電極が形成された基板100においては、一方の面に形成された外部接続端子103に接続基板105を接続した後に、他方の面の外部接続端子104に接続基板106を接続する。このため、基板100に接続基板を接続する工程に時間がかかり、生産性が低下するという問題があった。また、基板100の両面にそれぞれ1枚ずつ接続基板105、106を接続する必要があるため、コストが増加してしまう。   In order to supply a power supply voltage, a display signal, and the like from the outside, connection boards 105 and 106 mounted with a drive circuit and the like are connected to the external connection terminals 103 and 104, respectively. Normally, in the substrate 100 having electrodes formed on both sides, the connection substrate 105 is connected to the external connection terminal 103 formed on one surface, and then the connection substrate 106 is connected to the external connection terminal 104 on the other surface. For this reason, there is a problem that the process of connecting the connection substrate to the substrate 100 takes time and productivity is lowered. Further, since it is necessary to connect the connection substrates 105 and 106 one on each side of the substrate 100, the cost increases.

この2枚の接続基板を1枚にするために、1枚の接続基板の両面の所定の位置に接続端子を設け、基板100の両面にそれぞれ形成された外部接続端子103、104に接続する構成をとることも可能である。しかしながら、この場合には、一方の面に接続基板を接続した後、他方の面に接続する際、接続基板を基板100の裏面側まで引っ張ることになり、接続の信頼性が低下してしまうおそれがある。   In order to make the two connection boards into one, a connection terminal is provided at a predetermined position on both sides of one connection board, and connected to the external connection terminals 103 and 104 formed on both sides of the board 100, respectively. It is also possible to take However, in this case, after connecting the connection substrate to one surface, when connecting to the other surface, the connection substrate is pulled to the back surface side of the substrate 100, and the connection reliability may be reduced. There is.

本発明は、このような事情を背景としてなされたものであり、本発明の目的は、一方の面に接続端子が形成された1枚の接続基板を良好に接続することができる入力装置及びその製造方法を提供することである。   The present invention has been made against the background of such circumstances, and an object of the present invention is to provide an input device that can satisfactorily connect one connection board having a connection terminal formed on one surface thereof, and the input device. It is to provide a manufacturing method.

本発明の第1の態様に係る入力装置は、基板の第1面上に形成された第1電極と、前記基板の第1面側に形成され、前記第1電極に接続された第1外部接続端子と、前記第1電極を覆うように形成された絶縁層と、前記絶縁層上に形成された第2電極と、前記基板の第1面側に形成され、前記第2電極に接続された第2外部接続端子とを有する電極基板と、前記第1外部接続端子に接続された第1接続端子と、前記第2外部接続端子に接続された第2接続端子とを一方の面側に有する接続基板とを備えるものである。これにより、一方の面に接続端子が形成された接続基板を良好に接続することができる。   An input device according to a first aspect of the present invention includes a first electrode formed on a first surface of a substrate, and a first external formed on the first surface side of the substrate and connected to the first electrode. A connection terminal, an insulating layer formed to cover the first electrode, a second electrode formed on the insulating layer, and formed on the first surface side of the substrate and connected to the second electrode An electrode substrate having a second external connection terminal, a first connection terminal connected to the first external connection terminal, and a second connection terminal connected to the second external connection terminal on one surface side. And a connection board having the same. Thereby, the connection board | substrate with which the connection terminal was formed in one surface can be connected favorably.

本発明の第2の態様に係る入力装置は、上記の入力装置において、前記第1外部接続端子上に形成され、前記第1外部接続端子を前記絶縁層の上まで延設する接続パッドをさらに備え、前記第1接続端子は前記接続パッドを介して前記第1外部接続端子と導通されるものである。これにより、接続基板と接続される接続部のそれぞれの高さの差を少なくすることができ、接続基板との接続の信頼性を向上させることができる。   The input device according to a second aspect of the present invention is the above input device, further comprising a connection pad formed on the first external connection terminal and extending the first external connection terminal to the insulating layer. The first connection terminal is electrically connected to the first external connection terminal via the connection pad. Thereby, the difference of each height of the connection part connected with a connection board | substrate can be decreased, and the reliability of a connection with a connection board | substrate can be improved.

本発明の第3の態様に係る入力装置は、上記の入力装置において、前記第2外部接続端子は、前記絶縁層上に形成されているものである。これにより、第1外部接続端子と第2外部接続端子の高さをそろえることができ、接続基板との接続の信頼性を向上させることができる。   The input device according to a third aspect of the present invention is the above input device, wherein the second external connection terminal is formed on the insulating layer. Thereby, the height of the first external connection terminal and the second external connection terminal can be made uniform, and the reliability of connection with the connection substrate can be improved.

本発明の第4の態様に係る入力装置は、上記の入力装置において、前記絶縁層は、前記第1外部接続端子上には形成されていないものである。これにより、第1電極と絶縁層及び第2電極と絶縁層間の剥離による接続基板の接続の信頼性の低下を防止することができる。   The input device according to a fourth aspect of the present invention is the above input device, wherein the insulating layer is not formed on the first external connection terminal. As a result, it is possible to prevent a decrease in the connection reliability of the connection substrate due to the peeling between the first electrode and the insulating layer and between the second electrode and the insulating layer.

本発明の第5の態様に係る入力装置は、上記の入力装置において、前記絶縁層は、前記第1電極又は前記第2電極を形成する際に用いられるレジスト材からなるものである。これにより、製造コストの増大を抑制することができる。   The input device according to a fifth aspect of the present invention is the above input device, wherein the insulating layer is made of a resist material used when forming the first electrode or the second electrode. Thereby, the increase in manufacturing cost can be suppressed.

本発明の第6の態様に係る入力装置は、上記の入力装置において、前記第1外部接続端子と前記第2外部接続端子とは、前記基板の同一辺側に形成されているものである。これにより、額縁領域の狭小化を実現することができる。   The input device according to a sixth aspect of the present invention is the above input device, wherein the first external connection terminal and the second external connection terminal are formed on the same side of the substrate. Thereby, narrowing of a frame area | region is realizable.

本発明の第7の態様に係る入力装置の製造方法は、基板の第1面上に第1導電膜を形成し、前記第1導電膜をパターニングして、第1電極及び第1外部接続端子を形成し、前記第1電極上に絶縁層を形成し、前記絶縁層上に第2導電膜を形成し、前記第2導電膜をパターニングして、第2電極及び第2外部接続端子を形成し、前記第1外部接続端子と接続される第1接続端子と、前記第2外部接続端子と接続される第2接続端子とを同一面に備える接続基板を前記基板に接続する。これにより、一方の面に接続端子が形成された接続基板を良好に接続することができる。   In the input device manufacturing method according to the seventh aspect of the present invention, a first conductive film is formed on a first surface of a substrate, the first conductive film is patterned, and a first electrode and a first external connection terminal are formed. Forming an insulating layer on the first electrode, forming a second conductive film on the insulating layer, and patterning the second conductive film to form a second electrode and a second external connection terminal Then, a connection board having a first connection terminal connected to the first external connection terminal and a second connection terminal connected to the second external connection terminal on the same surface is connected to the board. Thereby, the connection board | substrate with which the connection terminal was formed in one surface can be connected favorably.

本発明の第8の態様に係る入力装置の製造方法は、上記の製造方法において、前記第2電極及び前記第2外部接続端子を形成すると同時に、前記第1外部接続端子上に前記第1外部接続端子を前記絶縁層の上まで延設する接続パッドを形成する。これにより、接続基板と接続される接続部のそれぞれの高さの差を小さくすることができ、接続基板の接続の信頼性を向上させることができる。   An input device manufacturing method according to an eighth aspect of the present invention is the above manufacturing method, wherein the second electrode and the second external connection terminal are formed simultaneously with the first external connection terminal on the first external connection terminal. A connection pad is formed to extend the connection terminal over the insulating layer. Thereby, the difference in height between the connection portions connected to the connection substrate can be reduced, and the connection reliability of the connection substrate can be improved.

本発明の第9の態様に係る入力装置の製造方法は、上記の製造方法において、前記絶縁層を、レジスト材を用いて形成する。これにより、製造コストの増大を抑制することができる。   An input device manufacturing method according to a ninth aspect of the present invention is the above manufacturing method, wherein the insulating layer is formed using a resist material. Thereby, the increase in manufacturing cost can be suppressed.

本発明によれば、一方の面に接続端子が形成された1枚の接続基板を良好に接続することができる入力装置及びその製造方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide an input device that can satisfactorily connect one connection board having a connection terminal formed on one surface, and a method for manufacturing the same.

以下に、本発明を適用可能な実施の形態が説明される。以下の説明は、本発明の実施形態を説明するものであり、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。   Hereinafter, embodiments to which the present invention can be applied will be described. The following description explains the embodiment of the present invention, and the present invention is not limited to the following embodiment.

本発明の実施の形態について、図1を参照して説明する。図1は、実施の形態1に係る入力装置の構成の一例を示す図である。図1に示すように、本実施の形態に係る入力装置は、表示素子20と表示素子20の視認側に配置されたタッチパネル10とを備えている。タッチパネル10は、視認側から順にカバー11、接着層12、電極基板13を備えている。表示素子20とタッチパネル10とは接着層14により貼り合わされている。また、本実施の形態において、表示素子20は、例えば、液晶表示素子であり、視認側から順に偏光板26、対向基板24、TFTアレイ基板23、偏光板25、及びバックライトユニット22を備えている。   An embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a diagram illustrating an example of the configuration of the input device according to the first embodiment. As shown in FIG. 1, the input device according to the present embodiment includes a display element 20 and a touch panel 10 arranged on the viewing side of the display element 20. The touch panel 10 includes a cover 11, an adhesive layer 12, and an electrode substrate 13 in order from the viewing side. The display element 20 and the touch panel 10 are bonded together by the adhesive layer 14. In the present embodiment, the display element 20 is, for example, a liquid crystal display element, and includes a polarizing plate 26, a counter substrate 24, a TFT array substrate 23, a polarizing plate 25, and a backlight unit 22 in order from the viewing side. Yes.

まず、表示素子20の構成について説明する。ここでは、表示素子の一例として、アクティブマトリクス型の液晶表示素子について説明する。もちろん、表示素子20は、アクティブマトリクス型の液晶表示素子に限らず、パッシブマトリクス型の液晶表示素子であってもよい。さらには、表示素子20は、液晶表示素子に限らず、有機EL表示素子などの他の表示素子であってもよい。   First, the configuration of the display element 20 will be described. Here, an active matrix liquid crystal display element will be described as an example of a display element. Of course, the display element 20 is not limited to an active matrix liquid crystal display element, and may be a passive matrix liquid crystal display element. Furthermore, the display element 20 is not limited to a liquid crystal display element, and may be another display element such as an organic EL display element.

表示素子20は、入力される表示信号に基づいて画像表示を行う。表示素子20は、液晶表示パネル21とバックライトユニット22を有している。液晶表示パネル21は、対向基板24とTFTアレイ基板23との間に液晶(不図示)を封入した構成を有している。対向基板24及びTFTアレイ基板23は、例えば、透明なガラス基板から構成される。   The display element 20 performs image display based on the input display signal. The display element 20 includes a liquid crystal display panel 21 and a backlight unit 22. The liquid crystal display panel 21 has a configuration in which liquid crystal (not shown) is sealed between the counter substrate 24 and the TFT array substrate 23. The counter substrate 24 and the TFT array substrate 23 are made of a transparent glass substrate, for example.

TFTアレイ基板23には、複数の走査線が一定間隔を隔てて形成されている。また、走査線の上には、複数の信号線が一定間隔を隔てて形成されている。走査線と信号線とは、絶縁膜を介して交差するように配置されている。そして、走査線と信号線との交差点近傍にスイッチング素子である薄膜トランジスタ(TFT)が形成される。このTFTを介して、画素電極に信号線から表示信号が供給される。画素電極は、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)などの透明導電膜から形成されている。液晶表示パネル21の表示領域27はマトリクス状に配置された複数の画素により構成されている。表示領域27は通常、矩形状に形成される。さらに、液晶表示パネル21には、表示領域27を囲むように設けられた額縁領域28が設けられている。   A plurality of scanning lines are formed on the TFT array substrate 23 at regular intervals. A plurality of signal lines are formed at regular intervals on the scanning lines. The scanning line and the signal line are arranged so as to intersect with each other through an insulating film. A thin film transistor (TFT) as a switching element is formed in the vicinity of the intersection of the scanning line and the signal line. A display signal is supplied from the signal line to the pixel electrode via the TFT. The pixel electrode is formed of a transparent conductive film such as ITO (Indium Tin Oxide), for example. The display area 27 of the liquid crystal display panel 21 is composed of a plurality of pixels arranged in a matrix. The display area 27 is usually formed in a rectangular shape. Further, the liquid crystal display panel 21 is provided with a frame area 28 provided so as to surround the display area 27.

対向基板24には、例えば、ブラックマトリクス(BM)及びR、G、Bの着色層からなるカラーフィルタが形成されている。各着色層は、BMの間に形成され、画素に対応する。この着色層とBMの上には、ITO等の透明導電膜からなる対向電極が形成されている。このようなTFTアレイ基板23と対向基板24とがシール材(不図示)を介して貼り合わせられている。   On the counter substrate 24, for example, a color filter including a black matrix (BM) and R, G, and B colored layers is formed. Each colored layer is formed between BMs and corresponds to a pixel. A counter electrode made of a transparent conductive film such as ITO is formed on the colored layer and BM. Such a TFT array substrate 23 and the counter substrate 24 are bonded to each other through a sealing material (not shown).

また、液晶表示パネル21の額縁領域28には、駆動回路(不図示)が接続される。駆動回路は、外部から入力される表示信号に基づいて、画像の表示に必要な各種の制御信号、走査電圧及び表示電圧などを出力する。なお、駆動回路はTFTアレイ基板23の端部上にCOG(Chip On Glass)実装されていてもよい。画素電極と対向電極との間の電圧によって液晶の配向状態が変化する。これにより、液晶表示パネル21を透過する光の量が調整され、表示を行うことができる。   Further, a drive circuit (not shown) is connected to the frame region 28 of the liquid crystal display panel 21. The drive circuit outputs various control signals, scan voltages, display voltages, and the like necessary for image display based on display signals input from the outside. The drive circuit may be mounted on the end of the TFT array substrate 23 by COG (Chip On Glass). The alignment state of the liquid crystal changes depending on the voltage between the pixel electrode and the counter electrode. Thereby, the amount of light transmitted through the liquid crystal display panel 21 is adjusted, and display can be performed.

TFTアレイ基板23及び対向基板24の外面には、偏光板25、26がそれぞれ貼着されている。これにより、液晶表示パネル21が形成される。具体的には、TFTアレイ基板23の反視認側の面には、偏光板25が貼り合わせられている。また、対向基板24の視認側の面には、偏光板26が貼り合わせられている。偏光板26及び偏光板25は、それぞれ所定の方向に吸収軸を有している。従って、偏光板26又は偏光板25を通過した光は直線偏光になる。このように、表示素子20は、一般的な構成の液晶表示パネル21を有している。   Polarizing plates 25 and 26 are attached to the outer surfaces of the TFT array substrate 23 and the counter substrate 24, respectively. Thereby, the liquid crystal display panel 21 is formed. Specifically, a polarizing plate 25 is bonded to the surface of the TFT array substrate 23 on the non-viewing side. A polarizing plate 26 is bonded to the surface on the viewing side of the counter substrate 24. The polarizing plate 26 and the polarizing plate 25 each have an absorption axis in a predetermined direction. Therefore, the light passing through the polarizing plate 26 or the polarizing plate 25 becomes linearly polarized light. Thus, the display element 20 includes the liquid crystal display panel 21 having a general configuration.

液晶表示パネル21の背面側には、バックライトユニット22が備えられている。バックライトユニット22は、液晶表示パネル21の反視認側から液晶表示パネル21に対して面状の光を照射する。バックライトユニット22としては、例えば、光源、導光板、プリズムシートなどを備えた一般的な構成のものを用いる。   A backlight unit 22 is provided on the back side of the liquid crystal display panel 21. The backlight unit 22 irradiates the liquid crystal display panel 21 with planar light from the non-viewing side of the liquid crystal display panel 21. As the backlight unit 22, for example, a unit having a general configuration including a light source, a light guide plate, a prism sheet, and the like is used.

次に、表示素子20の視認側に配置されたタッチパネル10の構成について説明する。上述したように、タッチパネル10は静電容量方式である。図1に示すように、タッチパネル10は、カバー11、接着層12、電極基板13、接続基板15等を有している。   Next, the configuration of the touch panel 10 disposed on the viewing side of the display element 20 will be described. As described above, the touch panel 10 is a capacitive type. As shown in FIG. 1, the touch panel 10 includes a cover 11, an adhesive layer 12, an electrode substrate 13, a connection substrate 15, and the like.

図1に示すように、電極基板13の視認側には、カバー11が接着層12により貼り付けられている。カバー11は、例えば、厚さ0.8mmのプラスチック板によって構成されている。カバー11と電極基板13との間には、接着層12が設けられている。なお、カバー11の表面は、操作時に手指等の位置指示体が接触する操作面となる。   As shown in FIG. 1, a cover 11 is attached to the viewing side of the electrode substrate 13 with an adhesive layer 12. The cover 11 is made of, for example, a plastic plate having a thickness of 0.8 mm. An adhesive layer 12 is provided between the cover 11 and the electrode substrate 13. Note that the surface of the cover 11 serves as an operation surface with which a position indicator such as a finger contacts during operation.

接着層12は、例えば、両面接着テープや接着材であり、カバー11と電極基板13とを貼り合わせる。接着層12は、例えば、厚さ175μmの透明な樹脂材料などによって形成されている。接着層12は、表示領域27の略全体に配設されている。   The adhesive layer 12 is, for example, a double-sided adhesive tape or an adhesive, and bonds the cover 11 and the electrode substrate 13 together. The adhesive layer 12 is formed of, for example, a transparent resin material having a thickness of 175 μm. The adhesive layer 12 is disposed on substantially the entire display area 27.

電極基板13の一端には、1枚のFPC(Flexible Printed Circuit)等の接続基板15が接続されている。接続基板15は、電極基板13の視認側の面に取り付けられている。この接続基板15によって電極基板13に対する信号の入出力が行なわれる。   One end of the electrode substrate 13 is connected to a connection substrate 15 such as a single FPC (Flexible Printed Circuit). The connection substrate 15 is attached to the surface on the viewing side of the electrode substrate 13. Input / output of signals to / from the electrode substrate 13 is performed by the connection substrate 15.

このようにして形成されたタッチパネル10は、表示素子20の視認側すなわち表示面側に接着層14によって貼り付けられている。接着層14は、例えば、両面接着テープや接着材であり、表示素子20と電極基板13とを貼り合わせる。接着層14は、例えば、厚さ125μmの透明な樹脂材料などによって形成されている。接着層14もまた、表示領域27の略全体に配設されている。   The touch panel 10 thus formed is attached to the viewing side of the display element 20, that is, the display surface side by an adhesive layer 14. The adhesive layer 14 is, for example, a double-sided adhesive tape or an adhesive, and bonds the display element 20 and the electrode substrate 13 together. The adhesive layer 14 is formed of, for example, a transparent resin material having a thickness of 125 μm. The adhesive layer 14 is also disposed on substantially the entire display area 27.

ここで、上述のタッチパネル10の動作について説明する。透明基板30の第1面側に第1電極及び第2電極が形成されており、第1電極であるX電極31と第2電極であるY電極32の各交差点では固定容量が形成されている。使用者がカバー11の上から有効エリア34内のX電極31に指等を接近させることによって、指先とX電極31の間の寄生容量及び人体の寄生容量が固定容量に並列に接続されることとなる。これにより、合成容量の値が変化し、固定容量の両端の電極の電圧が変化する。この電圧の変化を検出回路にて検出することにより、接触した位置を検出することができる。表示素子20が所定の表示を行なっている状態で、使用者が有効エリア34の任意の位置に接近すると、その表示に基づいた処理が実行される。   Here, the operation of the touch panel 10 will be described. A first electrode and a second electrode are formed on the first surface side of the transparent substrate 30, and a fixed capacitance is formed at each intersection of the X electrode 31 that is the first electrode and the Y electrode 32 that is the second electrode. . When the user brings a finger or the like closer to the X electrode 31 in the effective area 34 from above the cover 11, the parasitic capacitance between the fingertip and the X electrode 31 and the parasitic capacitance of the human body are connected in parallel to the fixed capacitance. It becomes. As a result, the value of the combined capacitance changes, and the voltage of the electrodes at both ends of the fixed capacitance changes. By detecting this change in voltage with a detection circuit, the contacted position can be detected. When the user approaches an arbitrary position in the effective area 34 while the display element 20 is performing a predetermined display, processing based on the display is executed.

ここで、図2〜図4を参照して、電極基板13の構成について詳細に説明する。図2は、本実施の形態に用いられる電極基板13の構成を示す図である。また、図3は図2のX−X断面図であり、図4は図2のY−Y断面図である。図2に示すように、電極基板13は、透明基板30を有している。透明基板30としては、ガラス基板やPET等のプラスチックからなるフィルム基板等を用いることができる。   Here, the configuration of the electrode substrate 13 will be described in detail with reference to FIGS. FIG. 2 is a diagram showing a configuration of the electrode substrate 13 used in the present embodiment. 3 is a cross-sectional view taken along line XX in FIG. 2, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line YY in FIG. As shown in FIG. 2, the electrode substrate 13 has a transparent substrate 30. As the transparent substrate 30, a glass substrate or a film substrate made of plastic such as PET can be used.

透明基板30の第1面は、視認側の面でもよいし、反視認側の面でもよい。ここでは、透明基板30の反視認側の面を第1面とする。透明基板30の視認側の第1面上には、水平方向に互いに平行に延設された複数のX電極31が形成されている。また、電極基板13のX電極31が形成された面と同一の第1面には、X電極31と交差するように、垂直方向に互いに平行に延設された複数のY電極32が形成されている。従って、図2に示すように、電極基板13には、Y電極32とX電極31とが互いに交差するように形成されている。   The first surface of the transparent substrate 30 may be a viewing side surface or a non-viewing side surface. Here, the surface on the opposite side of the transparent substrate 30 is defined as the first surface. A plurality of X electrodes 31 extending in parallel with each other in the horizontal direction are formed on the first surface on the viewing side of the transparent substrate 30. A plurality of Y electrodes 32 extending in parallel to each other in the vertical direction are formed on the first surface of the electrode substrate 13 that is the same as the surface on which the X electrodes 31 are formed so as to intersect the X electrodes 31. ing. Therefore, as shown in FIG. 2, the Y electrode 32 and the X electrode 31 are formed on the electrode substrate 13 so as to cross each other.

図3及び図4に示すように、X電極31とY電極32との間には、絶縁層33が形成されている。従って、X電極31とY電極32とは、絶縁層33を介して直交するように配置されている。すなわち、透明基板30上にはX電極31が形成され、X電極31上にはX電極31を覆うように絶縁層33が形成されている。そして、絶縁層33上にY電極32が形成されている。   As shown in FIGS. 3 and 4, an insulating layer 33 is formed between the X electrode 31 and the Y electrode 32. Therefore, the X electrode 31 and the Y electrode 32 are disposed so as to be orthogonal to each other with the insulating layer 33 interposed therebetween. That is, the X electrode 31 is formed on the transparent substrate 30, and the insulating layer 33 is formed on the X electrode 31 so as to cover the X electrode 31. A Y electrode 32 is formed on the insulating layer 33.

X電極31及びY電極32が形成されている領域が有効エリア34となる。この有効エリア34は、表示領域27に対応している。従って、有効エリア34は表示素子20の表示領域27と同じ矩形状に形成される。この有効エリア34の外側の枠状の領域が非有効エリア35となる。   A region where the X electrode 31 and the Y electrode 32 are formed becomes an effective area 34. This effective area 34 corresponds to the display area 27. Therefore, the effective area 34 is formed in the same rectangular shape as the display area 27 of the display element 20. A frame-shaped area outside the effective area 34 becomes a non-effective area 35.

有効エリア34に形成されたX電極31及びY電極32は、例えば、ITOによって形成されている。また、導電膜はITOのみならず、IZO、ITZOなど他の透明導電膜でもよい。従って、タッチパネル10の有効エリア34は透明であり、視認側から表示素子20に表示されている内容をタッチパネル10を介して確認することができる。   The X electrode 31 and the Y electrode 32 formed in the effective area 34 are made of, for example, ITO. Further, the conductive film is not limited to ITO, but may be other transparent conductive films such as IZO and ITZO. Therefore, the effective area 34 of the touch panel 10 is transparent, and the content displayed on the display element 20 can be confirmed via the touch panel 10 from the viewing side.

絶縁層33としては、厚みが数100μm程度の感光性樹脂からなるレジスト材を用いることができる。本実施の形態においては、絶縁層33として、後述するように、X電極31又はY電極32を形成する際に用いられるものと同一のレジスト材を用いる。これにより、製造コストの増大を抑制することができる。なお、X電極31とY電極32との絶縁性を確保することができれば、SiO等の無機絶縁材料を用いてもよい。 As the insulating layer 33, a resist material made of a photosensitive resin having a thickness of about several hundred μm can be used. In the present embodiment, as the insulating layer 33, as will be described later, the same resist material as that used when forming the X electrode 31 or the Y electrode 32 is used. Thereby, the increase in manufacturing cost can be suppressed. An inorganic insulating material such as SiO 2 may be used as long as the insulation between the X electrode 31 and the Y electrode 32 can be secured.

図2に示すように、透明基板30の視認側の第1面には、複数のX電極31が一定の間隔で形成されている。そして、非有効エリア35には、X電極31と接続されるX接続配線36が設けられている。X接続配線36はX電極31とそれぞれ接続されている。ここでは、6つのX電極31に接続されるため、6本のX接続配線36が形成されている。なお、X電極31及びX接続配線36の数はこれに限られるものではない。   As shown in FIG. 2, a plurality of X electrodes 31 are formed at regular intervals on the first surface on the viewing side of the transparent substrate 30. In the ineffective area 35, an X connection wiring 36 connected to the X electrode 31 is provided. The X connection wiring 36 is connected to the X electrode 31. Here, since six X electrodes 31 are connected, six X connection wirings 36 are formed. The numbers of the X electrodes 31 and the X connection wirings 36 are not limited to this.

X接続配線36は、図2中、有効エリア34の右端においてX電極31と接続されている。そして、X接続配線36は電極基板13の右端まで延設されている。このX接続配線36は、例えば、X電極32と同じ透明導電膜によって構成される。また、X接続配線36の端部には、第1外部接続端子であるX外部接続端子37が形成されている。   The X connection wiring 36 is connected to the X electrode 31 at the right end of the effective area 34 in FIG. The X connection wiring 36 extends to the right end of the electrode substrate 13. For example, the X connection wiring 36 is formed of the same transparent conductive film as the X electrode 32. Further, an X external connection terminal 37 that is a first external connection terminal is formed at an end of the X connection wiring 36.

一方、透明基板30のX電極31が形成された面と同一の第1面には、複数のY電極32が一定の間隔で形成されている。そして、非有効エリア35には、Y電極32と接続されるY接続配線38が形成されている。Y接続配線38はY電極32とそれぞれ接続されている。ここでは、6つのY電極32に接続されるため、6本のY接続配線38が形成されている。なお、Y電極32及びY接続配線38の数はこれに限られるものではない。   On the other hand, a plurality of Y electrodes 32 are formed at regular intervals on the same first surface of the transparent substrate 30 as the surface on which the X electrodes 31 are formed. In the non-effective area 35, a Y connection wiring 38 connected to the Y electrode 32 is formed. The Y connection wiring 38 is connected to the Y electrode 32. Here, since six Y electrodes 32 are connected, six Y connection wirings 38 are formed. The number of Y electrodes 32 and Y connection wirings 38 is not limited to this.

Y接続配線38は、有効エリア34の下端においてY電極32と接続されている。そして、Y接続配線38は有効エリア34の下端から透明基板30の下端まで延設されている。このY接続配線38は、例えば、Y電極32と同じ透明導電膜によって構成される。すなわち、Y接続配線38はY電極32から延在されている。また、Y接続配線38の端部には、第2外部接続端子であるY外部接続端子39が形成されている。Y外部接続端子39は、透明基板30のX外部接続端子37が形成された辺とは異なる辺の端部に形成されている。   The Y connection wiring 38 is connected to the Y electrode 32 at the lower end of the effective area 34. The Y connection wiring 38 extends from the lower end of the effective area 34 to the lower end of the transparent substrate 30. The Y connection wiring 38 is configured by the same transparent conductive film as the Y electrode 32, for example. That is, the Y connection wiring 38 extends from the Y electrode 32. A Y external connection terminal 39 as a second external connection terminal is formed at the end of the Y connection wiring 38. The Y external connection terminal 39 is formed at the end of a side different from the side where the X external connection terminal 37 of the transparent substrate 30 is formed.

図3に示すように、透明基板30上に形成されたX外部接続端子37上には、絶縁層33は形成されていない。すなわち、絶縁層33は、X電極31及びX接続配線36上に形成されている。そして、X外部接続端子37上には、X外部接続端子37を絶縁層33の上まで引き出す接続パッド40が形成されている。接続パッド40は、Y電極32及びY接続配線38等と同一の材料により形成されている。このように、X外部接続端子37上に直接接続パッド40が形成されるため、X外部接続端子37と接続パッド40との間の剥離を抑制することができる。一方、図4に示すように、Y外部接続端子39は絶縁層33上に形成されている。   As shown in FIG. 3, the insulating layer 33 is not formed on the X external connection terminal 37 formed on the transparent substrate 30. That is, the insulating layer 33 is formed on the X electrode 31 and the X connection wiring 36. On the X external connection terminal 37, a connection pad 40 is formed to draw the X external connection terminal 37 over the insulating layer 33. The connection pad 40 is formed of the same material as the Y electrode 32 and the Y connection wiring 38. Thus, since the connection pad 40 is directly formed on the X external connection terminal 37, peeling between the X external connection terminal 37 and the connection pad 40 can be suppressed. On the other hand, as shown in FIG. 4, the Y external connection terminal 39 is formed on the insulating layer 33.

なお、X外部接続端子37上に、絶縁層33を形成することも可能である。この場合、絶縁層33にコンタクトホールを設け、絶縁層33の下層のX外部接続端子37と上層の接続パッド40とを導通させることができる。   It is also possible to form the insulating layer 33 on the X external connection terminal 37. In this case, a contact hole is provided in the insulating layer 33 so that the X external connection terminal 37 in the lower layer of the insulating layer 33 and the connection pad 40 in the upper layer can be made conductive.

また、電極基板13には、1つの接続基板15が接続されている。接続基板15の反視認側の面には、X外部接続端子37と接続されるX接続端子(不図示)及びY外部接続端子39と接続されるY接続端子(不図示)がそれぞれ形成されている。すなわち、X接続端子及びY接続端子は、接続基板15の同一面に形成されている。図2に示すように、本実施の形態においては、接続基板15はL字型の形状を有している。接続基板15の透明基板30の右端に対応する辺にはX接続端子が形成され、透明基板30の下端に対応する辺にはY接続端子が形成されている。   In addition, one connection substrate 15 is connected to the electrode substrate 13. An X connection terminal (not shown) connected to the X external connection terminal 37 and a Y connection terminal (not shown) connected to the Y external connection terminal 39 are formed on the surface of the connection substrate 15 on the side opposite to the visual recognition side. Yes. That is, the X connection terminal and the Y connection terminal are formed on the same surface of the connection substrate 15. As shown in FIG. 2, in the present embodiment, the connection substrate 15 has an L-shape. An X connection terminal is formed on the side corresponding to the right end of the transparent substrate 30 of the connection substrate 15, and a Y connection terminal is formed on the side corresponding to the lower end of the transparent substrate 30.

上述のとおり、X外部接続端子37上には接続パッド40が形成されている。接続基板15のX接続端子は、接続パッド40と対向するように配置されている。接続基板15のX接続端子は、接続パッド40を介してX外部接続端子37と接続される。また、接続基板15のY接続端子は、Y外部接続端子39と対向するように形成されている。そして、X外部接続端子37と接続基板15のX接続端子、及びY外部接続端子39と接続基板15のY接続端子とは、従来から広く用いられているように、ACF(Anisotropic conductive film)を介して熱圧着することにより接続されている。   As described above, the connection pad 40 is formed on the X external connection terminal 37. The X connection terminals of the connection board 15 are arranged to face the connection pads 40. The X connection terminal of the connection board 15 is connected to the X external connection terminal 37 through the connection pad 40. Further, the Y connection terminal of the connection board 15 is formed to face the Y external connection terminal 39. The X external connection terminal 37 and the X connection terminal of the connection board 15, and the Y external connection terminal 39 and the Y connection terminal of the connection board 15 are made of ACF (Anisotropic Conductive Film) as widely used conventionally. It is connected by thermocompression bonding.

このように、X外部接続端子37とY外部接続端子39とを、透明基板30の同一面上に形成することができる。このため、X外部接続端子37、Y外部接続端子39のそれぞれに1枚ずつ接続基板を接続する必要がなくなり、生産性が向上し、コストを低下させることができる。また、第1接続端子と第2接続端子とがの同一面に形成された接続基板15を用いることができるため、接続基板15自体のコストも削減することができる。   Thus, the X external connection terminal 37 and the Y external connection terminal 39 can be formed on the same surface of the transparent substrate 30. For this reason, it is not necessary to connect one connection board to each of the X external connection terminal 37 and the Y external connection terminal 39, thereby improving the productivity and reducing the cost. Moreover, since the connection board | substrate 15 in which the 1st connection terminal and the 2nd connection terminal were formed in the same surface can be used, the cost of the connection board | substrate 15 itself can also be reduced.

また、従来は、一方の面に形成された外部接続端子に接続基板を接続した後に、他方の面の外部接続端子に接続基板を接続していた。このため、両面に接続端子を設けた接続基板を接続する構成をとると、一方の面に接続した後、他方の面に接続する際、接続基板を他方の面まで引っ張ることとなり、接続の信頼性が低下してしまうおそれがあった。しかしながら、本発明によれば、接続基板15の第1接続端子と第2接続端子とは同一面に形成さすることができるため、後の接続時に前に接続した部分が引っ張られ、接続の信頼性が低下するという問題を解決することが可能である。   Conventionally, after connecting a connection board to an external connection terminal formed on one side, the connection board is connected to an external connection terminal on the other side. For this reason, if the connection board with the connection terminals provided on both sides is connected, the connection board is pulled to the other side when connecting to the other side after connecting to one side. There was a possibility that the property would be lowered. However, according to the present invention, since the first connection terminal and the second connection terminal of the connection substrate 15 can be formed on the same surface, the previously connected portion is pulled at the time of the subsequent connection, and the connection reliability is increased. It is possible to solve the problem that the performance decreases.

また、接続基板15と接続される各接続部(接続パッド40、Y外部接続端子39)は、それぞれ絶縁層33上に形成されている。このため、各接続部の高さの差を小さくすることができ、接続の信頼性を向上させることができる。なお、X外部接続端子37とY外部接続端子39との高さの差が、接続基板15の接続時に問題とならない場合には、接続パッド40を設けなくてもよい。すなわち、X外部接続端子37と接続基板15とを接続することも可能である。   In addition, each connection portion (connection pad 40, Y external connection terminal 39) connected to the connection substrate 15 is formed on the insulating layer 33. For this reason, the difference of the height of each connection part can be made small, and the reliability of a connection can be improved. If the difference in height between the X external connection terminal 37 and the Y external connection terminal 39 does not cause a problem when the connection board 15 is connected, the connection pad 40 may not be provided. That is, the X external connection terminal 37 and the connection substrate 15 can be connected.

ここで、図5を参照して、上述の2層型の入力装置の製造方法について説明する。図5は、本実施の形態に係る入力装置の製造方法を説明するためのフロー図である。まず、透明基板30上にX電極31を形成する(ステップS1)。具体的には、透明基板30上に一面にわたって透明導電膜を成膜し、当該導電膜をレジスト材を利用してパターニングする。これにより、透明基板30上に、X電極31、X接続配線36、X外部接続端子37が形成される。そして、X電極31等の形成に用いたレジスト材を有機溶剤等を用いて除去する。   Here, with reference to FIG. 5, the manufacturing method of the above-mentioned two-layer type input device will be described. FIG. 5 is a flowchart for explaining the manufacturing method of the input device according to the present embodiment. First, the X electrode 31 is formed on the transparent substrate 30 (step S1). Specifically, a transparent conductive film is formed over the entire surface of the transparent substrate 30, and the conductive film is patterned using a resist material. Thereby, the X electrode 31, the X connection wiring 36, and the X external connection terminal 37 are formed on the transparent substrate 30. Then, the resist material used for forming the X electrode 31 and the like is removed using an organic solvent or the like.

次に、X電極及びX接続配線36上に絶縁層33を形成する(ステップS2)。具体的には、前のX電極31を形成する際に利用したレジスト材を塗布して、絶縁層33を形成する。また、X外部接続端子37上には、絶縁層33を形成しない。   Next, the insulating layer 33 is formed on the X electrode and the X connection wiring 36 (step S2). Specifically, the insulating layer 33 is formed by applying the resist material used when forming the previous X electrode 31. Further, the insulating layer 33 is not formed on the X external connection terminal 37.

その後、絶縁層33上にY電極32を形成する(ステップS3)。具体的には、絶縁層33上に一面にわたって透明導電膜を成膜し、当該導電膜をレジスト材を用いてパターニングする。これにより、絶縁層33上に、Y電極32、Y接続配線38、Y外部接続端子39が形成される。同時に、X外部接続端子37上に接続パッド40が形成される。すなわち、接続パッド40は、Y電極32等と同一材料で形成される。   Thereafter, the Y electrode 32 is formed on the insulating layer 33 (step S3). Specifically, a transparent conductive film is formed over the entire surface of the insulating layer 33, and the conductive film is patterned using a resist material. As a result, the Y electrode 32, the Y connection wiring 38, and the Y external connection terminal 39 are formed on the insulating layer 33. At the same time, the connection pad 40 is formed on the X external connection terminal 37. That is, the connection pad 40 is formed of the same material as the Y electrode 32 and the like.

そして、Y電極32等の形成に用いたレジスト材を有機溶剤等を用いて除去する。このとき、X電極31とY電極32との間に形成された絶縁層33は、上層にY電極32等が形成されているため除去されない。従って、絶縁層33は、Y電極32、Y接続配線38が形成された領域の下側に形成される。このように、X外部接続端子37とY外部接続端子39とが透明基板30の一方の面側に形成される。   Then, the resist material used for forming the Y electrode 32 and the like is removed using an organic solvent or the like. At this time, the insulating layer 33 formed between the X electrode 31 and the Y electrode 32 is not removed because the Y electrode 32 and the like are formed in the upper layer. Therefore, the insulating layer 33 is formed below the region where the Y electrode 32 and the Y connection wiring 38 are formed. Thus, the X external connection terminal 37 and the Y external connection terminal 39 are formed on one surface side of the transparent substrate 30.

その後、透明基板30上に接続基板15を接続する(ステップS4)。上述のとおり、X外部接続端子37とY外部接続端子39とは透明基板30の同一の面に形成されている。このため、X接続端子とY接続端子とが一方の面に形成された接続基板15を用いることができる。具体的には、接続基板15のX接続端子を透明基板30に形成されたX外部接続端子37に対向するようにACFを介して配置する。また、接続基板15のY接続端子を透明基板30に形成されたY外部接続端子39に対向するようにACFを介して配置する。そして、それぞれの接続部を例えばL字型のヒーターバーを用いて、加熱圧着する。これにより、接続基板15が透明基板30に固着されるとともに、X外部接続端子37と接続基板15のX接続端子が、Y外部接続端子39と接続基板15のY接続端子がそれぞれ導通する。   Thereafter, the connection substrate 15 is connected on the transparent substrate 30 (step S4). As described above, the X external connection terminal 37 and the Y external connection terminal 39 are formed on the same surface of the transparent substrate 30. For this reason, the connection substrate 15 in which the X connection terminal and the Y connection terminal are formed on one surface can be used. Specifically, the X connection terminal of the connection substrate 15 is disposed via the ACF so as to face the X external connection terminal 37 formed on the transparent substrate 30. Further, the Y connection terminal of the connection substrate 15 is arranged via the ACF so as to face the Y external connection terminal 39 formed on the transparent substrate 30. And each connection part is thermocompression-bonded, for example using an L-shaped heater bar. Thereby, the connection substrate 15 is fixed to the transparent substrate 30, and the X external connection terminal 37 and the X connection terminal of the connection substrate 15 are electrically connected to each other, and the Y external connection terminal 39 and the Y connection terminal of the connection substrate 15 are electrically connected.

そして、電極基板13のX電極31及びY電極形成面側に、接着層12によりカバー11を貼り合わせる(ステップS5)。その後、表示素子20とタッチパネル10とを接着層14により貼り合わせる(ステップS6)ことにより、入力装置が完成する。以上説明したように、本発明によれば、2層の電極を有する電極基板に、一方の面に接続端子が形成された1枚の接続基板を良好に接続することができる。   Then, the cover 11 is bonded to the X electrode 31 and Y electrode formation surface side of the electrode substrate 13 with the adhesive layer 12 (step S5). Thereafter, the display device 20 and the touch panel 10 are bonded together by the adhesive layer 14 (step S6), thereby completing the input device. As described above, according to the present invention, it is possible to satisfactorily connect one connection substrate having a connection terminal on one surface to an electrode substrate having two layers of electrodes.

なお、外部接続端子の形成位置としては、上述の例に限られるものではない。例えば、透明基板30の表面及び裏面にそれぞれ形成されるY外部接続端子39とX外部接続端子37とを透明基板30の同一辺側に形成してもよい。図6に、実施の形態に係る電極基板13の他の構成を示す。図6に示すように、X接続配線36は、有効エリア34の右端又は左端においてX電極31と接続されている。そして、X接続配線36は、有効エリア34の右端又は左端から透明基板30の下側まで延設されている。また、X接続配線36の端部には、X外部接続端子37が形成されている。   In addition, as a formation position of an external connection terminal, it is not restricted to the above-mentioned example. For example, the Y external connection terminal 39 and the X external connection terminal 37 formed on the front surface and the back surface of the transparent substrate 30 may be formed on the same side of the transparent substrate 30. FIG. 6 shows another configuration of the electrode substrate 13 according to the embodiment. As shown in FIG. 6, the X connection wiring 36 is connected to the X electrode 31 at the right end or the left end of the effective area 34. The X connection wiring 36 extends from the right end or the left end of the effective area 34 to the lower side of the transparent substrate 30. An X external connection terminal 37 is formed at the end of the X connection wiring 36.

X外部接続端子37は、同一第1面に形成され、電極基板13のY外部接続端子39が形成された一辺側の端部に形成されている。また、Y外部接続端子39は、X外部接続端子37と重ならないように配置されている。すなわち、X外部接続端子37は、電極基板13のY外部接続端子39が形成された端辺において、Y外部接続端子39が形成された領域から、当該端辺に沿ってずれて設けられている。ここでは、X外部接続端子37は、Y外部接続端子39が形成された領域の両端に形成されている。   The X external connection terminal 37 is formed on the same first surface, and is formed at an end of one side of the electrode substrate 13 where the Y external connection terminal 39 is formed. The Y external connection terminal 39 is arranged so as not to overlap the X external connection terminal 37. That is, the X external connection terminal 37 is provided on the end side of the electrode substrate 13 where the Y external connection terminal 39 is formed, and is shifted from the region where the Y external connection terminal 39 is formed along the end side. . Here, the X external connection terminals 37 are formed at both ends of the region where the Y external connection terminals 39 are formed.

このような場合においても、上述したように、X電極31とY電極32との間には絶縁層33が形成される。このように、Y外部接続端子39とX外部接続端子37とを透明基板30の同一辺側に形成することにより、外部接続端子が形成される非有効エリア35の増大を防止することができる。このため、マザー基板からのパネルの取り数を多くすることができ、生産性を向上させることができる。   Even in such a case, the insulating layer 33 is formed between the X electrode 31 and the Y electrode 32 as described above. Thus, by forming the Y external connection terminal 39 and the X external connection terminal 37 on the same side of the transparent substrate 30, an increase in the ineffective area 35 in which the external connection terminals are formed can be prevented. For this reason, the number of panels to be taken from the mother substrate can be increased, and the productivity can be improved.

実施の形態に係る液晶表示装置の構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a structure of the liquid crystal display device which concerns on embodiment. 実施の形態に係る電極基板の構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a structure of the electrode substrate which concerns on embodiment. 図2のX−X断面図である。It is XX sectional drawing of FIG. 図2のY−Y断面図である。It is YY sectional drawing of FIG. 実施の形態に係る液晶表示装置の製造方法を示すフロー図である。It is a flowchart which shows the manufacturing method of the liquid crystal display device which concerns on embodiment. 実施の形態に係る電極基板の構成の他の例を示す図である。It is a figure which shows the other example of a structure of the electrode substrate which concerns on embodiment. 従来の電極基板の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the conventional electrode substrate.

符号の説明Explanation of symbols

10 タッチパネル
11 カバー
12、14 接着層
13 電極基板
15 接続基板
21 液晶表示パネル
22 バックライトユニット
23 TFTアレイ基板
24 対向基板
25、26 偏光板
30 透明基板
31 X電極
32 Y電極
33 絶縁層
34 有効エリア
35 非有効エリア
36 X接続配線
37 X外部接続端子
38 Y接続配線
39 Y外部接続端子
40 接続パッド
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Touch panel 11 Cover 12, 14 Adhesive layer 13 Electrode substrate 15 Connection substrate 21 Liquid crystal display panel 22 Backlight unit 23 TFT array substrate 24 Opposite substrate 25, 26 Polarizing plate 30 Transparent substrate 31 X electrode 32 Y electrode 33 Insulating layer 34 Effective area 35 Non-effective area 36 X connection wiring 37 X external connection terminal 38 Y connection wiring 39 Y external connection terminal 40 connection pad

Claims (9)

基板の第1面上に形成された第1電極と、
前記基板の第1面側に形成され、前記第1電極に接続された第1外部接続端子と、
前記第1電極を覆うように形成された絶縁層と、
前記絶縁層上に形成された第2電極と、
前記基板の第1面側に形成され、前記第2電極に接続された第2外部接続端子と、
を有する電極基板と、
前記第1外部接続端子に接続された第1接続端子と、前記第2外部接続端子に接続された第2接続端子とを一方の面側に有する接続基板とを備える入力装置。
A first electrode formed on the first surface of the substrate;
A first external connection terminal formed on the first surface side of the substrate and connected to the first electrode;
An insulating layer formed to cover the first electrode;
A second electrode formed on the insulating layer;
A second external connection terminal formed on the first surface side of the substrate and connected to the second electrode;
An electrode substrate having
An input device comprising: a connection board having a first connection terminal connected to the first external connection terminal and a second connection terminal connected to the second external connection terminal on one surface side.
前記第1外部接続端子上に形成され、前記第1外部接続端子を前記絶縁層の上まで延設する接続パッドをさらに備え、
前記第1接続端子は前記接続パッドを介して前記第1外部接続端子と導通される請求項1に記載の入力装置。
A connection pad formed on the first external connection terminal and extending the first external connection terminal to the insulating layer;
The input device according to claim 1, wherein the first connection terminal is electrically connected to the first external connection terminal via the connection pad.
前記第2外部接続端子は、前記絶縁層上に形成されている請求項1又は2に記載の入力装置。   The input device according to claim 1, wherein the second external connection terminal is formed on the insulating layer. 前記絶縁層は、前記第1外部接続端子上には形成されていない請求項1、2又は3に記載の入力装置。   The input device according to claim 1, wherein the insulating layer is not formed on the first external connection terminal. 前記絶縁層は、前記第1電極又は前記第2電極を形成する際に用いられるレジスト材からなる請求項1〜4のいずれか1項に記載の入力装置。   The input device according to claim 1, wherein the insulating layer is made of a resist material that is used when the first electrode or the second electrode is formed. 前記第1外部接続端子と前記第2外部接続端子とは、前記基板の同一辺側に形成されている請求項1〜5のいずれか1項に記載の入力装置。   The input device according to claim 1, wherein the first external connection terminal and the second external connection terminal are formed on the same side of the substrate. 基板の第1面上に第1導電膜を形成し、
前記第1導電膜をパターニングして、第1電極及び第1外部接続端子を形成し、
前記第1電極上に絶縁層を形成し、
前記絶縁層上に第2導電膜を形成し、
前記第2導電膜をパターニングして、第2電極及び第2外部接続端子を形成し、
前記第1外部接続端子と接続される第1接続端子と、前記第2外部接続端子と接続される第2接続端子とを同一面に備える接続基板を前記基板に接続する入力装置の製造方法。
Forming a first conductive film on the first surface of the substrate;
Patterning the first conductive film to form a first electrode and a first external connection terminal;
Forming an insulating layer on the first electrode;
Forming a second conductive film on the insulating layer;
Patterning the second conductive film to form a second electrode and a second external connection terminal;
A method for manufacturing an input device, wherein a connection board having a first connection terminal connected to the first external connection terminal and a second connection terminal connected to the second external connection terminal on the same surface is connected to the board.
前記第2電極及び前記第2外部接続端子を形成すると同時に、前記第1外部接続端子上に前記第1外部接続端子を前記絶縁層の上まで延設する接続パッドを形成する請求項7に記載の入力装置の製造方法。   The connection pad which extends the said 1st external connection terminal on the said insulating layer is formed on the said 1st external connection terminal simultaneously with forming the said 2nd electrode and the said 2nd external connection terminal. Method for manufacturing the input device. 前記絶縁層を、レジスト材を用いて形成する請求項7又は8に記載の入力装置の製造方法。   The method for manufacturing an input device according to claim 7, wherein the insulating layer is formed using a resist material.
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