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JP2008132761A - Gas barrier film, packaging material, and package - Google Patents

Gas barrier film, packaging material, and package Download PDF

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JP2008132761A
JP2008132761A JP2007183647A JP2007183647A JP2008132761A JP 2008132761 A JP2008132761 A JP 2008132761A JP 2007183647 A JP2007183647 A JP 2007183647A JP 2007183647 A JP2007183647 A JP 2007183647A JP 2008132761 A JP2008132761 A JP 2008132761A
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gas barrier
barrier film
transparent
packaging material
film
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Application number
JP2007183647A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Takahara
健 高原
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Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

【課題】無機酸化物層を形成したプラスチック基材フィルムとヒートシール性樹脂層との密着性の低下を生じ難くした透明ガスバリア性フィルムを提供する。
【解決手段】透明ガスバリア性フィルム11は、プラスチック基材フィルム111と、前記基材フィルムの一方の主面上に形成され、芳香族カルボン酸基と脂肪族カルボン酸基とを有するポリエステルウレタンを含んだプライマー層112と、前記プライマー層上に気相堆積法によって形成された無機酸化物層113とを具備する。
【選択図】図1
The present invention provides a transparent gas barrier film in which a decrease in adhesion between a plastic substrate film on which an inorganic oxide layer is formed and a heat-sealable resin layer is less likely to occur.
A transparent gas barrier film includes a plastic base film and a polyester urethane formed on one main surface of the base film and having an aromatic carboxylic acid group and an aliphatic carboxylic acid group. The primer layer 112 and the inorganic oxide layer 113 formed on the primer layer by a vapor deposition method are provided.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、ガスバリア性フィルム、包装材料、及び包装体に係り、特には、透明ガスバリア性フィルム、透明包装材料、及びこの透明包装材料を用いた包装体に関する。   The present invention relates to a gas barrier film, a packaging material, and a packaging body, and particularly relates to a transparent gas barrier film, a transparent packaging material, and a packaging body using the transparent packaging material.

食品、医薬品及び精密電子部品の包装には、ガスバリア性に優れた包装材料を使用することがある。例えば、高ガスバリア性包装材料で食品を包装した場合には、食品が含む油脂の酸化、その水分含量の変化、及び香味成分の散逸などを防止できる。また、高ガスバリア性包装材料で医薬品を包装した場合には、有効成分の変質及び散逸などを防止でき、高ガスバリア性包装材料で電子部品を包装した場合には、金属の腐食及び絶縁不良等を防止できる。   For packaging foods, pharmaceuticals and precision electronic parts, a packaging material having excellent gas barrier properties may be used. For example, when food is packaged with a high gas barrier packaging material, it is possible to prevent oxidation of fats and oils contained in the food, change in its moisture content, dissipation of flavor components, and the like. In addition, when a pharmaceutical product is packaged with a high gas barrier packaging material, the active ingredient can be prevented from being altered or dissipated. When an electronic component is packaged with a high gas barrier packaging material, corrosion of the metal, poor insulation, etc. Can be prevented.

高ガスバリア性包装材料は、ガスバリア層を含んだ多層構造を有している。このガスバリア層としては、例えば、アルミニウム箔などの金属箔、ポリ塩化ビニリデン(PVDC)層、エチレン−ビニルアルコール共重合体けん化物(EVOH)層、及びメタキシレンジアミンとアジピン酸との重縮合反応により得られるポリアミドであるナイロンMXD6からなる層が使用されている。これら高ガスバリア性包装材料は、比較的高いガスバリア性を示すものの、何らかの欠点を有している。   The high gas barrier packaging material has a multilayer structure including a gas barrier layer. Examples of the gas barrier layer include a metal foil such as an aluminum foil, a polyvinylidene chloride (PVDC) layer, a saponified ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH) layer, and a polycondensation reaction of metaxylenediamine and adipic acid. A layer made of nylon MXD6, the resulting polyamide, is used. These high gas barrier packaging materials show some relatively high gas barrier properties but have some drawbacks.

例えば、金属箔を含んだ高ガスバリア性包装材料は、温度及び湿度などの環境の如何に拘らず、優れたガスバリア性を示す。しかしながら、この包装材料を用いて形成した包装体には、内容物を視認できない、廃棄の際に不燃物として扱わなければならない、内容物を入れた後の異物検査に金属探知機を使用できないなどの欠点がある。また、この包装体で内容物を包装してなる包装品は、マイクロ波加熱には不向きである。   For example, a high gas barrier packaging material containing a metal foil exhibits excellent gas barrier properties regardless of the environment such as temperature and humidity. However, the package formed using this packaging material cannot visually recognize the contents, must be treated as non-combustible when discarded, cannot use a metal detector for inspection of foreign matter after the contents are put in, etc. There are drawbacks. Moreover, the packaged product in which the contents are packaged by this package is not suitable for microwave heating.

PVDC層を含んだ高ガスバリア性包装材料は、安価であり、比較的高いガスバリア性を有している。しかしながら、この包装材料は、焼却した際に有害ガスを発生する可能性がある。   The high gas barrier packaging material including the PVDC layer is inexpensive and has a relatively high gas barrier property. However, this packaging material may generate harmful gases when incinerated.

EVOH層又はナイロンMXD6層を含んだ高ガスバリア性包装材料は、そのガスバリア性の環境依存度が大きい。特に、高温高湿度環境では、ガスバリア性が著しく劣化する。   The high gas barrier packaging material including the EVOH layer or the nylon MXD6 layer has a large environmental dependency of the gas barrier property. In particular, in a high temperature and high humidity environment, the gas barrier property is remarkably deteriorated.

特許文献1及び2には、真空蒸着やスパッタリングなどの気相堆積法により、プラスチック基材フィルム上に、酸化珪素、酸化アルミニウム、又は酸化マグネシウムからなる無機酸化物層を形成してなるガスバリア性フィルムが記載されている。このガスバリア性フィルムは、透明に形成することができると共に、ガスバリア性に優れている。したがって、このガスバリア性フィルムは、高ガスバリア性包装材料として適している。   In Patent Documents 1 and 2, a gas barrier film formed by forming an inorganic oxide layer made of silicon oxide, aluminum oxide, or magnesium oxide on a plastic substrate film by a vapor deposition method such as vacuum evaporation or sputtering. Is described. This gas barrier film can be formed transparent and has excellent gas barrier properties. Therefore, this gas barrier film is suitable as a high gas barrier packaging material.

ところで、このガスバリア性フィルムは、単独で使用されることは殆どない。通常、このガスバリア性フィルムには、他のフィルムをラミネートするか、又は、印刷層を形成する。例えば、ガスバリア性フィルムとヒートシール性樹脂層とを、プラスチック基材フィルムとヒートシール性樹脂層との間に無機酸化物層が介在するようにラミネートすることがある。本発明者は、本発明を為すに際し、例えば、このような構造を採用した包装材料は、以下の問題を生じ得ることを見出している。   By the way, this gas barrier film is rarely used alone. Usually, this gas barrier film is laminated with another film or formed with a printing layer. For example, the gas barrier film and the heat-sealable resin layer may be laminated so that the inorganic oxide layer is interposed between the plastic substrate film and the heat-sealable resin layer. The present inventor has found that, for example, a packaging material adopting such a structure can cause the following problems when making the present invention.

例えば、この包装材料からなる包装体で食品などの内容物を包装し、これにより得られる包装品を煮沸滅菌処理に供すると、水蒸気等の浸透に起因して、包装材料の一部でデラミネーションが発生することがある。この場合、見栄えが悪くなるのに加え、デラミネーションを生じた部分でガスバリア性が低下して、内容物が早期に劣化する。   For example, if a package made of this packaging material is used to package contents such as food, and the resulting package is subjected to boiling sterilization, delamination may occur in part of the packaging material due to the penetration of water vapor and the like. May occur. In this case, in addition to the poor appearance, the gas barrier property is lowered at the portion where delamination is caused, and the contents are deteriorated at an early stage.

また、この包装材料からなる包装体で精密電子部品を包装し、これにより得られる包装品を高温多湿環境中に長時間放置すると、外部環境からの水蒸気等の浸透に起因して、プラスチック基材フィルムとヒートシール性樹脂層との密着性が大幅に低下することがある。   In addition, if a precision electronic component is packaged with a package made of this packaging material and the resulting package is left in a high-temperature and high-humidity environment for a long time, the plastic substrate The adhesion between the film and the heat-sealable resin layer may be significantly reduced.

また、この包装材料からなる包装体に香味成分を含有した内容物を収容し、これにより得られる包装品を保存試験に供すると、香味成分の浸透に起因して、プラスチック基材フィルムとヒートシール性樹脂層との密着性が大幅に低下することがある。
米国特許第3442686号明細書 特開昭49−041469号公報
In addition, when the contents containing flavor components are contained in a package made of this packaging material, and the resulting packaged product is subjected to a storage test, the plastic base film and heat seal are caused by the penetration of the flavor components. Adhesiveness with the conductive resin layer may be significantly reduced.
U.S. Pat. No. 3,442,686 JP 49-041469 A

本発明の目的は、無機酸化物層を形成したプラスチック基材フィルムとヒートシール性樹脂層との密着性の低下を生じ難くすることにある。   An object of the present invention is to make it difficult for a decrease in adhesiveness between a plastic substrate film on which an inorganic oxide layer is formed and a heat-sealable resin layer.

本発明の第1側面によると、プラスチック基材フィルムと、前記基材フィルムの一方の主面上に形成され、芳香族カルボン酸基と脂肪族カルボン酸基とを有するポリエステルウレタンを含んだプライマー層と、前記プライマー層上に気相堆積法によって形成された無機酸化物層とを具備したことを特徴とする透明ガスバリア性フィルムが提供される。   According to the first aspect of the present invention, a primer layer comprising a plastic base film and a polyester urethane formed on one main surface of the base film and having an aromatic carboxylic acid group and an aliphatic carboxylic acid group. And a transparent gas barrier film comprising an inorganic oxide layer formed by a vapor deposition method on the primer layer.

本発明の第2側面によると、第1側面に係るガスバリア性フィルムと、前記ガスバリア性フィルムに貼り合わされると共に前記無機酸化物層を間に挟んで前記プラスチック基材フィルムと向き合ったヒートシール性樹脂層とを具備したことを特徴とする透明包装材料が提供される。   According to the second aspect of the present invention, the gas barrier film according to the first aspect and the heat-sealable resin bonded to the gas barrier film and facing the plastic substrate film with the inorganic oxide layer interposed therebetween A transparent packaging material comprising a layer is provided.

本発明の第3側面によると、第2側面に係る包装材料を具備したことを特徴とする包装体が提供される。   According to the 3rd side surface of this invention, the packaging body characterized by having comprised the packaging material which concerns on a 2nd side surface is provided.

本発明によると、無機酸化物層を形成したプラスチック基材フィルムとヒートシール性樹脂層との密着性の低下を生じ難くすることが可能となる。   According to this invention, it becomes possible to make it difficult to produce the fall of the adhesiveness of the plastic base film which formed the inorganic oxide layer, and a heat-sealable resin layer.

以下、本発明の態様について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において、同様又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, in each figure, the same referential mark is attached | subjected to the component which exhibits the same or similar function, and the overlapping description is abbreviate | omitted.

図1は、本発明の一態様に係る透明包装材料を概略的に示す断面図である。
この透明包装材料10は、透明ガスバリア性フィルム11と、接着剤層12と、ヒートシール性樹脂層13とを含んでいる。
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a transparent packaging material according to one embodiment of the present invention.
The transparent packaging material 10 includes a transparent gas barrier film 11, an adhesive layer 12, and a heat sealable resin layer 13.

透明ガスバリア性フィルム11は、プラスチック基材フィルム111と、プライマー層112と、無機酸化物層113と、ガスバリア性被膜114とを含んでいる。なお、用語「フィルム」と用語「シート」とは厚さに応じて使い分けることがあるが、ここでは、厚さの大小とは無関係に用語「フィルム」を使用している。   The transparent gas barrier film 11 includes a plastic substrate film 111, a primer layer 112, an inorganic oxide layer 113, and a gas barrier film 114. Note that the term “film” and the term “sheet” may be properly used depending on the thickness, but the term “film” is used here regardless of the thickness.

プラスチック基材フィルム111は、透明フィルムである。プラスチック基材フィルム111の材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリアクリロニトリル、ポリイミド、エチレン−ビニルアルコール共重合体、又はセロファンなどを使用することができる。プラスチック基材フィルム111は、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤などの添加剤及び/又は安定剤を含有していてもよい。   The plastic substrate film 111 is a transparent film. Examples of the material of the plastic substrate film 111 include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, polyamide, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polycarbonate, polyacrylonitrile, polyimide, and ethylene-vinyl alcohol. A copolymer, cellophane, or the like can be used. The plastic base film 111 may contain additives and / or stabilizers such as an antistatic agent, an ultraviolet absorber, a plasticizer, and a lubricant.

プラスチック基材フィルム111は、未延伸フィルム及び延伸フィルムの何れであってもよい。機械的強度及び寸法安定性を考慮した場合には、一軸延伸フィルム及び二軸延伸フィルムなどの延伸フィルム、特には二軸延伸フィルム、を使用することが有利である。例えば、プラスチック基材フィルム111として、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、二軸延伸ポリアミドフィルム、又は二軸延伸ポリプロピレンフィルムを使用してもよい。   The plastic substrate film 111 may be either an unstretched film or a stretched film. In consideration of mechanical strength and dimensional stability, it is advantageous to use a stretched film such as a uniaxially stretched film and a biaxially stretched film, particularly a biaxially stretched film. For example, as the plastic substrate film 111, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film, a biaxially stretched polyamide film, or a biaxially stretched polypropylene film may be used.

プラスチック基材フィルム111の厚さに制限はないが、プラスチック基材フィルム111は、基材として十分な強度を達成し得る厚さを有している必要がある。また、プラスチック基材フィルム111が厚い場合、透明包装材料10又は透明ガスバリア性フィルム11の柔軟性が不十分となることがある。プラスチック基材フィルム111の厚さは、例えば6μm乃至200μmの範囲内とし、典型的には9μm乃至100μmの範囲内とする。   Although there is no restriction | limiting in the thickness of the plastic base film 111, The plastic base film 111 needs to have the thickness which can achieve sufficient intensity | strength as a base material. Moreover, when the plastic base film 111 is thick, the flexibility of the transparent packaging material 10 or the transparent gas barrier film 11 may be insufficient. The thickness of the plastic substrate film 111 is, for example, in the range of 6 μm to 200 μm, and typically in the range of 9 μm to 100 μm.

透明包装材料10又は透明ガスバリア性フィルム11の製造の際、その材料としてのプラスチック基材フィルム111の形状に制限はない。但し、量産性を考慮した場合には、プラスチック基材フィルム111は長尺物であることが有利である。   When manufacturing the transparent packaging material 10 or the transparent gas barrier film 11, there is no restriction | limiting in the shape of the plastic base film 111 as the material. However, when considering mass productivity, the plastic substrate film 111 is advantageously a long product.

プライマー層112は、プラスチック基材フィルム111の一方の主面上に形成された透明層である。プライマー層112は、無機酸化物層113とプラスチック基材フィルム111との密着性を向上させる。その結果、水蒸気や香味成分等の浸透に起因したプラスチック基材フィルム111とヒートシール性樹脂層13との密着性低下が抑制される。   The primer layer 112 is a transparent layer formed on one main surface of the plastic substrate film 111. The primer layer 112 improves the adhesion between the inorganic oxide layer 113 and the plastic substrate film 111. As a result, a decrease in the adhesion between the plastic substrate film 111 and the heat-sealable resin layer 13 due to penetration of water vapor, flavor components, and the like is suppressed.

プライマー層112の飛行時間型二次質量イオン分析計(TOF−SIMS)による正及び負の2次イオン質量スペクトル分析結果は、典型的には、芳香族カルボン酸及びポリオール並びにそれらの反応生成物成分、脂肪族カルボン酸成分、及びイソシアネート成分の存在を示す。例えば、このプライマー層112のTOF−SIMSによる正及び負の2次イオン質量スペクトル分析を行ったときに、C74+、C853 +、C1094 +、C18137 +、C742 - 及びC752 - を含む芳香族カルボン酸及びエチレングリコール並びにそれらの反応生成物成分由来のピーク群と、C672 + 及びC693 + を含む脂肪族カルボン酸成分由来のピーク群と、CNO- 及びC872- を含むイソシアネート由来のピーク群とが検出される。 The results of positive and negative secondary ion mass spectral analysis of the primer layer 112 by a time-of-flight secondary mass ion spectrometer (TOF-SIMS) typically include aromatic carboxylic acids and polyols and their reaction product components. , The presence of an aliphatic carboxylic acid component and an isocyanate component. For example, when the positive and negative secondary ion mass spectrum analysis of the primer layer 112 by TOF-SIMS is performed, C 7 H 4 O + , C 8 H 5 O 3 + , C 10 H 9 O 4 + , A group of peaks derived from aromatic carboxylic acid and ethylene glycol and their reaction product components including C 18 H 13 O 7 + , C 7 H 4 O 2 and C 7 H 5 O 2 , and C 6 H 7 O A peak group derived from an aliphatic carboxylic acid component containing 2 + and C 6 H 9 O 3 + and a peak group derived from an isocyanate containing CNO and C 8 H 7 N 2 O are detected.

さらに詳しくは、プライマー層112は、芳香族カルボン酸基と脂肪族カルボン酸基とを有するポリエステルウレタンを含んでいる。このプライマー層112は、例えば、プラスチック基材フィルム111上に、芳香族カルボン酸と脂肪族カルボン酸とポリオールとイソシアネートとを用いて調製したコーティング液を塗布し、この塗膜を加熱して乾燥させることにより得られる。   More specifically, the primer layer 112 includes polyester urethane having an aromatic carboxylic acid group and an aliphatic carboxylic acid group. For example, the primer layer 112 is formed by applying a coating solution prepared using an aromatic carboxylic acid, an aliphatic carboxylic acid, a polyol, and an isocyanate onto a plastic substrate film 111, and heating and drying the coating film. Can be obtained.

このコーティング液は、例えば、以下の方法により調製する。まず、芳香族カルボン酸と脂肪族カルボン酸とポリオールと溶剤とを混合し、重縮合反応を生じさせてポリエステルを含有した分散液を得る。次いで、この分散液にイソシアネートを混合し、ポリエステルとイソシアネートとの付加反応を生じさせる。これにより、ポリエステルウレタンを含有したコーティング液を得る。   This coating solution is prepared by the following method, for example. First, an aromatic carboxylic acid, an aliphatic carboxylic acid, a polyol, and a solvent are mixed and a polycondensation reaction is caused to obtain a dispersion containing polyester. Next, an isocyanate is mixed into this dispersion to cause an addition reaction between the polyester and the isocyanate. Thereby, the coating liquid containing polyester urethane is obtained.

芳香族カルボン酸としては、芳香族ジカルボン酸などの芳香族ポリカルボン酸を使用することができる。芳香族ジカルボン酸としては、例えば、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、又はそれらの無水物を使用することができる。芳香族ポリカルボン酸は、芳香族ジカルボン酸でなくてもよい。例えば、トリメリット酸、ピロメリット酸、ベンゼンヘキサカルボン酸などの芳香族ポリカルボン酸を使用してもよい。芳香族ポリカルボン酸は、単独で使用してもよく、複数を混合して使用してもよい。   As the aromatic carboxylic acid, aromatic polycarboxylic acid such as aromatic dicarboxylic acid can be used. As the aromatic dicarboxylic acid, for example, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, or anhydrides thereof can be used. The aromatic polycarboxylic acid may not be an aromatic dicarboxylic acid. For example, aromatic polycarboxylic acids such as trimellitic acid, pyromellitic acid, and benzenehexacarboxylic acid may be used. Aromatic polycarboxylic acids may be used alone or in combination.

脂肪族カルボン酸としては、脂肪族ジカルボン酸などの脂肪族ポリカルボン酸を使用することができる。脂肪族ジカルボン酸としては、例えば、マレイン酸、フマル酸、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、ペンタン−1,5−ジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、又はそれらの無水物を使用することができる。脂肪族ポリカルボン酸は、脂肪族ジカルボン酸でなくてもよい。例えば、脂肪族トリカルボン酸を使用してもよい。脂肪族ポリカルボン酸は、単独で使用してもよく、複数を混合して使用してもよい。   As the aliphatic carboxylic acid, an aliphatic polycarboxylic acid such as an aliphatic dicarboxylic acid can be used. Examples of the aliphatic dicarboxylic acid include maleic acid, fumaric acid, malonic acid, succinic acid, adipic acid, sebacic acid, azelaic acid, pentane-1,5-dicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, or those Anhydrides can be used. The aliphatic polycarboxylic acid may not be an aliphatic dicarboxylic acid. For example, an aliphatic tricarboxylic acid may be used. Aliphatic polycarboxylic acids may be used alone or in combination.

ポリオールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、エチレングリコール変性ビスフェノールA、グリセリン、トリメチロールエタン、又はトリメチロールプロパンを使用することができる。ポリオールは、単独で使用してもよく、複数を混合して使用してもよい。   Examples of the polyol include ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, ethylene glycol-modified bisphenol A, glycerin, trimethylolethane, Alternatively, trimethylolpropane can be used. Polyols may be used alone or in combination.

イソシアネートとしては、ジイソシアネートなどのポリイソシアネートを使用することができる。ジイソシアネートとしては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート又はジフェニルメタンジイソシアネートを使用することができる。或いは、これらのトリメチロール変性体、ビウレット体、又はアロファネートを使用してもよい。ポリイソシアネートは、ジイソシアネートでなくてもよい。例えば、トリイソシアネートを使用してもよい。ポリイソシアネートは、単独で使用してもよく、複数を混合して使用してもよい。   As isocyanate, polyisocyanate, such as diisocyanate, can be used. As the diisocyanate, for example, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, metaxylylene diisocyanate, tolylene diisocyanate or diphenylmethane diisocyanate can be used. Or you may use these trimethylol modified body, biuret body, or allophanate. The polyisocyanate may not be diisocyanate. For example, triisocyanate may be used. Polyisocyanate may be used alone or in combination.

透明包装材料10に要求される耐熱性の観点から、プライマー層112の軟化点を70℃乃至180℃の範囲内に設定してもよい。また、プラスチック基材フィルム111として長尺物を使用し且つプライマー層112を形成した直後のプラスチック基材フィルム111を巻き取る場合には、プライマー層112はブロッキングを生じないものである必要がある。密着性に関する上記性能に加え、軟化点及びブロッキング等を考慮すると、テレフタル酸及び/又はイソフタル酸と、アジピン酸と、エチレングリコールと、トリレンジイソシアネート及び/又はジフェニルメタンジイソシアネートとを含有したコーティング液を用いてプライマー層112を形成することが有利である。   From the viewpoint of heat resistance required for the transparent packaging material 10, the softening point of the primer layer 112 may be set within a range of 70 ° C to 180 ° C. Moreover, when using a long thing as the plastic base film 111 and winding up the plastic base film 111 immediately after forming the primer layer 112, the primer layer 112 needs to be a thing which does not produce blocking. In consideration of the softening point and blocking in addition to the above-mentioned performance related to adhesion, a coating solution containing terephthalic acid and / or isophthalic acid, adipic acid, ethylene glycol, tolylene diisocyanate and / or diphenylmethane diisocyanate is used. Thus, it is advantageous to form the primer layer 112.

コーティング液は、添加剤をさらに含んでいてもよい。添加剤としては、例えば、3級アミン、イミダゾール誘導体、カルボン酸の金属化合物、4級アンモニウム塩、及び4級ホスホニウム塩などの硬化促進剤、フェノール系又はホスファイト系の酸化防止剤、レベリング剤、レオロジー調整剤、充填材、又はそれらの混合物を使用することができる。   The coating liquid may further contain an additive. Examples of additives include tertiary amines, imidazole derivatives, metal compounds of carboxylic acids, quaternary ammonium salts, and quaternary phosphonium salts and other curing accelerators, phenolic or phosphite antioxidants, leveling agents, Rheology modifiers, fillers, or mixtures thereof can be used.

プライマー層112の厚さに制限はないが、薄いプライマー層112を厚さが均一な連続膜として形成することは難しい。また、厚いプライマー層112は柔軟性が低く、透明ガスバリア性フィルム11を屈曲させた場合に亀裂を生じる可能性がある。プライマー層112の厚さは、例えば10nm乃至1000nmの範囲内とし、典型的には20nm乃至400nmの範囲内とする。   Although the thickness of the primer layer 112 is not limited, it is difficult to form the thin primer layer 112 as a continuous film having a uniform thickness. Further, the thick primer layer 112 has low flexibility, and may crack when the transparent gas barrier film 11 is bent. The thickness of the primer layer 112 is, for example, in the range of 10 nm to 1000 nm, and typically in the range of 20 nm to 400 nm.

プライマー層112は、例えば、プラスチック基材フィルム111上に、上述した成分を含有したコーティング液を塗布し、この塗膜を乾燥させることにより得られる。コーティング液の塗布には、例えば、ロールコート法、ナイフエッジコート法、バーコート法、ディップコート法、ダイコート法、又はグラビアコート法を利用することができる。   The primer layer 112 is obtained, for example, by applying a coating liquid containing the above-described components on the plastic substrate film 111 and drying the coating film. For application of the coating liquid, for example, a roll coating method, a knife edge coating method, a bar coating method, a dip coating method, a die coating method, or a gravure coating method can be used.

コーティング液の塗布に先立ち、例えば濡れ性及び/又は密着性を改善するために、プラスチック基材フィルム111の被塗布面に前処理を施しておいてもよい。この前処理としては、例えば、コロナ放電処理、低温プラズマ処理、イオンボンバード処理、リアクティブイオンエッチング処理、薬品処理、溶剤処理、又はそれらの組み合わせを挙げることができる。   Prior to application of the coating liquid, for example, in order to improve wettability and / or adhesion, a surface to be coated of the plastic substrate film 111 may be pretreated. Examples of this pretreatment include corona discharge treatment, low temperature plasma treatment, ion bombardment treatment, reactive ion etching treatment, chemical treatment, solvent treatment, or a combination thereof.

塗膜の乾燥は、例えば、コーティング液を塗布した直後に行なうことができる。或いは、プラスチック基材フィルム111を延伸処理する場合には、延伸処理前のプラスチック基材フィルム111上にコーティング液を塗布し、次いで、プラスチック基材フィルム111を延伸処理し、その後の応力緩和工程における熱処理により塗膜を乾燥させてもよい。この場合、プラスチック基材フィルム111と同一方向に延伸処理されたプライマー層112が得られる。   The coating film can be dried, for example, immediately after the coating liquid is applied. Alternatively, when the plastic base film 111 is stretched, the coating liquid is applied onto the plastic base film 111 before the stretching process, and then the plastic base film 111 is stretched, and in the subsequent stress relaxation step. The coating film may be dried by heat treatment. In this case, the primer layer 112 stretched in the same direction as the plastic substrate film 111 is obtained.

無機酸化物層113は、プライマー層112上に気相堆積法によって形成されたガスバリア性透明層である。無機酸化物層113の材料としては、例えば、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化マグネシウム、又はこれらの混合物を使用することができる。   The inorganic oxide layer 113 is a gas barrier transparent layer formed on the primer layer 112 by a vapor deposition method. As a material of the inorganic oxide layer 113, for example, silicon oxide, aluminum oxide, tin oxide, magnesium oxide, or a mixture thereof can be used.

無機酸化物層113の形成には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、又はプラズマ化学気相堆積法を利用することができる。真空蒸着法を利用する場合、蒸発材料の加熱には、例えば、電子線加熱、抵抗加熱、又は誘導加熱を利用することができる。電子線加熱を利用した場合、蒸発材料の選択の自由度が大きい。蒸着にプラズマアシスト法又はイオンビームアシスト法を利用すると、より緻密な無機酸化物層113を形成することができる。また、蒸着の際に酸素などのガスを吹き込む反応蒸着を利用すると、透明性に優れた無機酸化物層113を形成することができる。   For the formation of the inorganic oxide layer 113, for example, a vacuum evaporation method, a sputtering method, an ion plating method, or a plasma chemical vapor deposition method can be used. When the vacuum deposition method is used, for example, electron beam heating, resistance heating, or induction heating can be used for heating the evaporation material. When electron beam heating is used, the degree of freedom in selecting the evaporation material is great. When a plasma assist method or an ion beam assist method is used for vapor deposition, a denser inorganic oxide layer 113 can be formed. In addition, when reactive vapor deposition in which a gas such as oxygen is blown during vapor deposition, the inorganic oxide layer 113 having excellent transparency can be formed.

無機酸化物層113が薄い場合、無機酸化物層113を厚さが均一な連続膜として形成することは難しく、また、十分なガスバリア性が得られない。厚い無機酸化物層113は柔軟性が低く、透明ガスバリア性フィルム11を撓ませた場合や引っ張った場合に亀裂を生じる可能性がある。また、気相堆積法は、経済的観点で厚膜の形成には適していない。無機酸化物層113の厚さは、例えば1nm乃至500nmの範囲内とする。   When the inorganic oxide layer 113 is thin, it is difficult to form the inorganic oxide layer 113 as a continuous film having a uniform thickness, and sufficient gas barrier properties cannot be obtained. The thick inorganic oxide layer 113 is low in flexibility and may crack when the transparent gas barrier film 11 is bent or pulled. Further, the vapor deposition method is not suitable for forming a thick film from an economical viewpoint. The thickness of the inorganic oxide layer 113 is, for example, in the range of 1 nm to 500 nm.

ガスバリア性被膜114は、無機酸化物層113上に形成された透明層である。ガスバリア性被膜114は、透明樹脂と無機酸化物などの無機物とを含んだ混合物からなる。無機酸化物は、例えば、酸化珪素である。ガスバリア性被膜114は、省略することも可能であるが、ガスバリア性被膜114を設けると、より高いガスバリア性を有する透明包装材料10を得ることができる。   The gas barrier film 114 is a transparent layer formed on the inorganic oxide layer 113. The gas barrier coating 114 is made of a mixture containing a transparent resin and an inorganic substance such as an inorganic oxide. The inorganic oxide is, for example, silicon oxide. The gas barrier coating 114 can be omitted, but when the gas barrier coating 114 is provided, the transparent packaging material 10 having higher gas barrier properties can be obtained.

ガスバリア性被膜114は、例えば、無機酸化物層113上に、水溶性高分子と1種又は2種以上の金属アルコキシド及び/又はその加水分解生成物と水とを含有したコーティング液を塗布し、この塗膜を加熱して乾燥させることにより得られる。なお、このコーティング液の溶媒としては、例えば、水、又は水とアルコールとの混合液を使用することができる。   The gas barrier coating 114 is, for example, applied on the inorganic oxide layer 113 with a coating solution containing a water-soluble polymer, one or more metal alkoxides and / or hydrolysis products thereof, and water, It is obtained by heating and drying this coating film. In addition, as a solvent of this coating liquid, water or the liquid mixture of water and alcohol can be used, for example.

水溶性高分子としては、例えば、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリビニルピロリドン、デンプン、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸ナトリウム、又はそれらの混合物を使用することができる。特に、PVAを使用した場合、最もガスバリア性に優れたガスバリア性被膜114を形成することができる。なお、ここでいうPVAは、典型的には、ポリ酢酸ビニルをけん化することにより得られるものである。このPVAとしては、アセチル基が数10%残存している部分けん化PVAからアセチル基が数%しか残存していない完全けん化PVAまで様々なけん化PVAを使用することができる。   As the water-soluble polymer, for example, polyvinyl alcohol (PVA), polyvinyl pyrrolidone, starch, methyl cellulose, carboxymethyl cellulose, sodium alginate, or a mixture thereof can be used. In particular, when PVA is used, the gas barrier coating 114 having the most excellent gas barrier properties can be formed. In addition, PVA here is typically obtained by saponifying polyvinyl acetate. As this PVA, various saponified PVA can be used from partially saponified PVA in which several tens% of acetyl groups remain to fully saponified PVA in which only several% of acetyl groups remain.

金属アルコキシドは、一般式M(OR)nで表される化合物である。ここで、Mは、チタン、アルミニウム、及びジルコニウムなどの金属又は珪素を示し、Rは、メチル基及びエチル基などのアルキル基を示している。また、nは、元素Mの価数を示している。 A metal alkoxide is a compound represented by the general formula M (OR) n . Here, M represents a metal such as titanium, aluminum, and zirconium or silicon, and R represents an alkyl group such as a methyl group and an ethyl group. N represents the valence of the element M.

金属アルコキシドとしては、例えば、テトラエトキシシラン[Si(OC254]又はトリイソプロポキシアルミニウム[Al(OCH(CH323]を使用することができる。テトラエトキシシラン及びトリイソプロポキシアルミニウムの加水分解生成物は、水を含んだ溶液中で比較的安定に存在することができる。 As the metal alkoxide, for example, tetraethoxysilane [Si (OC 2 H 5 ) 4 ] or triisopropoxyaluminum [Al (OCH (CH 3 ) 2 ) 3 ] can be used. The hydrolysis products of tetraethoxysilane and triisopropoxyaluminum can exist relatively stably in water-containing solutions.

金属アルコキシドとしてアルコキシシランを使用する場合、このアルコキシシランとしては、例えば、Si(OR1)4若しくはR2Si(OR3)3で表される化合物又はそれらの混合物を使用することができる。ここで、R1及びR3はCH3基、C25基及びC24OCH3基などの加水分解性基を示し、R2は有機官能基を示している。 When alkoxysilane is used as the metal alkoxide, for example, a compound represented by Si (OR1) 4 or R2Si (OR3) 3 or a mixture thereof can be used as the alkoxysilane. Here, R1 and R3 represent a hydrolyzable group such as a CH 3 group, a C 2 H 5 group, and a C 2 H 4 OCH 3 group, and R 2 represents an organic functional group.

なお、金属アルコキシドを加水分解物及び縮合させることにより得られる金属酸化物膜は硬いため、外力や縮合時の体積縮小によるひずみに起因してクラックが生じ易い。それゆえ、クラックなどを生じることなく、この金属酸化物膜を均一な厚さに形成することは非常に困難である。   In addition, since the metal oxide film obtained by hydrolyzing and condensing metal alkoxide is hard, cracks are likely to occur due to external force or strain due to volume reduction during condensation. Therefore, it is very difficult to form the metal oxide film with a uniform thickness without causing cracks.

これに対し、高分子と金属アルコキシド及び/又はその加水分解物と水とを含有したコーティング液を用いて形成した膜は、金属酸化物膜と比較して柔軟性が高いため、クラックを発生しがたい。但し、この膜は、微視的には金属酸化物が均一に分散しておらず、高いガスバリア性が得られないことがある。この高分子として、水溶性高分子を使用した場合には、高分子の水酸基と金属アルコキシドの加水分解物の水酸基との強い水素結合を利用して、縮合の際に金属酸化物を高分子中に均一に分散させることができる。それゆえ、金属酸化物膜に近いガスバリア性を達成することができる。したがって、このようなガスバリア性被膜114を無機酸化物層113上に形成すると、それらを単独で使用した場合と比較して、はるかに高いガスバリア性を達成することができる。   On the other hand, a film formed using a coating solution containing a polymer, a metal alkoxide and / or a hydrolyzate thereof, and water has higher flexibility than a metal oxide film, and thus cracks are generated. It ’s hard. However, in this film, the metal oxide is not uniformly dispersed microscopically, and a high gas barrier property may not be obtained. When a water-soluble polymer is used as this polymer, a strong hydrogen bond between the hydroxyl group of the polymer and the hydroxyl group of the hydrolyzate of the metal alkoxide is used to convert the metal oxide into the polymer during condensation. Can be uniformly dispersed. Therefore, a gas barrier property close to that of a metal oxide film can be achieved. Therefore, when such a gas barrier coating 114 is formed on the inorganic oxide layer 113, a much higher gas barrier property can be achieved as compared with the case where they are used alone.

金属アルコキシドとして、例えば、R2Si(OR3)3で示されるアルコキシシランを使用すると、水が浸入した場合でも膨潤しがたく、耐水性に優れたガスバリア性被膜114を得ることができる。特に、有機官能基R2が、ビニル基、エポキシ基、メタクリルオキシ基、ウレイド基、及びイソシアネート基などの非水溶性官能基である場合、より高い耐水性を達成できる。 For example, when an alkoxysilane represented by R 2 Si (OR 3 ) 3 is used as the metal alkoxide, it is difficult to swell even when water enters, and a gas barrier coating 114 having excellent water resistance can be obtained. In particular, when the organic functional group R2 is a water-insoluble functional group such as a vinyl group, an epoxy group, a methacryloxy group, a ureido group, and an isocyanate group, higher water resistance can be achieved.

有機官能基R2が、ビニル基又はメタクリルオキシ基である場合は、製造過程で紫外線又は電子線等の電離放射線の照射を行なう。   When the organic functional group R2 is a vinyl group or a methacryloxy group, irradiation with ionizing radiation such as ultraviolet rays or electron beams is performed in the production process.

また、金属アルコキシドの加水分解の反応促進剤として、一般に水と触媒(酸又はアルカリ)とを用いているが、この反応触媒の代わりに、光酸発生剤を使用することもできる。光酸発生剤は、紫外線などの電離放射線を照射することによって酸を発生する化合物であり、金属アルコキシドの加水分解反応は電離放射線を照射することによって初めて開始される。したがってコーティング液中では加水分解が進行せず、時間の経過によって物性が変化する心配がない。   In addition, water and a catalyst (acid or alkali) are generally used as a reaction accelerator for hydrolysis of the metal alkoxide, but a photoacid generator may be used instead of the reaction catalyst. A photoacid generator is a compound that generates an acid upon irradiation with ionizing radiation such as ultraviolet rays, and the hydrolysis reaction of a metal alkoxide is initiated only by irradiation with ionizing radiation. Therefore, hydrolysis does not proceed in the coating solution, and there is no fear that the physical properties change with time.

光酸発生剤としては、公知の光カチオン開始剤を使用することができる。 光カチオン開始剤としては、例えば、オニウム塩を挙げることができる。このオニウム塩は、光反応し、ルイス酸を放出する化合物である。   A known photocationic initiator can be used as the photoacid generator. Examples of the photocation initiator include onium salts. This onium salt is a compound that photoreacts and releases a Lewis acid.

金属アルコキシドとして一般式Si(OR1)4で表されるテトラアルコキシシランと一般式R2Si(OR3)3で表されるトリアルコキシシランとの2種を使用する場合、これらのアルコキシシランの比は、例えば、Si(OR1)4のSiO2換算質量M1とR2Si(OR3)3のR2Si(OH)3換算質量M2との和に対する換算質量M2の割合M2/(M1+M2)が、1%乃至50%の範囲内となるように設定してもよい。1%より小さくすると耐水性が低くなり、50%を超えると有機官能基R2がガスバリアの孔となり、ガスバリア性が低下する。 When two types of tetraalkoxysilane represented by the general formula Si (OR1) 4 and trialkoxysilane represented by the general formula R2Si (OR3) 3 are used as the metal alkoxide, the ratio of these alkoxysilanes is, for example, , Si (OR1) 4 in terms of SiO 2 mass M 1 and R2Si (OR3) 3 in R2Si (OH) 3 reduced mass M 2 ratio of reduced mass M 2 to the sum of M 2 / (M 1 + M 2) is, You may set so that it may become in the range of 1% thru | or 50%. When it is smaller than 1%, the water resistance is lowered, and when it exceeds 50%, the organic functional group R2 becomes a pore of the gas barrier, and the gas barrier property is lowered.

一般式Si(OR1)4で表されるテトラアルコキシシランと一般式R2Si(OR3)3で表されるトリアルコキシシランとの混合比は、上述の割合M2/(M1+M2)が、5%乃至30%の範囲内となるように設定してもよい。この場合、液体内容物又は水分含有内容物を煮沸殺菌処理又は加圧・加熱殺菌処理し、さらに高温多湿環境中で長期保存するのに十分な耐水性及びハイバリア性を達成することができる。 As for the mixing ratio of the tetraalkoxysilane represented by the general formula Si (OR1) 4 and the trialkoxysilane represented by the general formula R2Si (OR3) 3 , the above-mentioned ratio M 2 / (M 1 + M 2 ) is 5 You may set so that it may exist in the range of% thru | or 30%. In this case, the liquid content or the water-containing content can be sterilized by boiling or pressurized and heat sterilized, and water resistance and high barrier properties sufficient for long-term storage in a high temperature and high humidity environment can be achieved.

また、水溶性高分子の質量をM3とした場合、比率 M1/(M2/M3)は、例えば、100/100乃至100/30の範囲内に設定してもよい。この場合、長期保存、煮沸殺菌処理、又は加圧・加熱殺菌処理などの際に十分なバリア性が得られるのに加え、柔軟性に優れたガスバリア性被膜5が得られる。それゆえ、包装材として使用するうえで有利である。 Further, when the mass of the water-soluble polymer is M 3 , the ratio M 1 / (M 2 / M 3 ) may be set in the range of 100/100 to 100/30, for example. In this case, in addition to obtaining a sufficient barrier property during long-term storage, boiling sterilization treatment, pressurization / heat sterilization treatment, etc., the gas barrier coating 5 having excellent flexibility can be obtained. Therefore, it is advantageous when used as a packaging material.

一般式Si(OR1)4で表されるアルコキシシランのうち、テトラエトキシシランは加水分解生成物が水系の溶媒中で比較的安定に存在しうる。そのため、これを使用した場合、製造条件の制御が比較的容易である。 Among the alkoxysilanes represented by the general formula Si (OR1) 4 , tetraethoxysilane can be present in a hydrolytic product relatively stably in an aqueous solvent. Therefore, when this is used, control of manufacturing conditions is relatively easy.

ガスバリア性被膜114を形成するコーティング液の各成分である、一般式Si(OR1)4で表されるアルコキシシランと一般式R2Si(OR3)3で表されるアルコキシシランと水溶性高分子とは、どの順番で混合してもよい。例えば、一般式Si(OR1)4で表されるアルコキシシランと一般式R2Si(OR3)3で表されるアルコキシシランとを別々に加水分解し、その後、水溶性高分子を含んだ溶液中にこれらを添加してもよい。この方法は、シリコン酸化物の分散性や加水分解の効率の点で優れている。 The alkoxysilane represented by the general formula Si (OR1) 4 , the alkoxysilane represented by the general formula R2Si (OR3) 3 , and the water-soluble polymer, which are components of the coating liquid that forms the gas barrier film 114, You may mix in any order. For example, an alkoxysilane represented by the general formula Si (OR1) 4 and an alkoxysilane represented by the general formula R2Si (OR3) 3 are separately hydrolyzed, and then these are contained in a solution containing a water-soluble polymer. May be added. This method is excellent in terms of dispersibility of silicon oxide and efficiency of hydrolysis.

ガスバリア性被膜114を形成するためのコーティング液は、添加剤をさらに含有することができる。この添加剤としては、例えば、イソシアネート化合物、シランカップリング剤、分散剤、安定化剤、レオロジー調整剤、又はそれらの混合物を使用することができる。   The coating liquid for forming the gas barrier film 114 can further contain an additive. As this additive, for example, an isocyanate compound, a silane coupling agent, a dispersant, a stabilizer, a rheology modifier, or a mixture thereof can be used.

無機酸化物層113上へのコーティング液の塗布には、例えば、ディッピング法、ロールコーティング法、スクリーン印刷法、スプレーコート法、又はグラビア印刷法を利用することができる。   For application of the coating liquid onto the inorganic oxide layer 113, for example, a dipping method, a roll coating method, a screen printing method, a spray coating method, or a gravure printing method can be used.

ガスバリア性被膜114が薄い場合、ガスバリア性被膜114を厚さが均一な連続膜として形成することは難しく、また、十分なガスバリア性が得られない。厚いガスバリア性被膜114は、亀裂を生じ易い。ガスバリア性被膜114の厚さは、例えば0.01μm乃至50μmの範囲内とする。   When the gas barrier coating 114 is thin, it is difficult to form the gas barrier coating 114 as a continuous film having a uniform thickness, and sufficient gas barrier properties cannot be obtained. The thick gas barrier coating 114 is likely to crack. The thickness of the gas barrier coating 114 is, for example, in the range of 0.01 μm to 50 μm.

接着剤層12は、無機酸化物層113を被覆した透明層である。接着剤層12の材料としては、例えば、ポリウレタン、ポリエステルウレタン、ポリエステル、ポリアミド、エポキシ樹脂、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリエチレンイミン、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリブタジエン、ワックス、カゼイン、又はそれらの混合物を主成分として含有した、無溶剤型、溶剤型、水性型、又は熱溶融型接着剤を使用することができる。   The adhesive layer 12 is a transparent layer that covers the inorganic oxide layer 113. Examples of the material of the adhesive layer 12 include polyurethane, polyester urethane, polyester, polyamide, epoxy resin, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyethyleneimine, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, Solvent-free, solvent-type, aqueous-type, or hot-melt-type adhesives containing polyvinyl acetate, polyolefin, modified polyolefin, polybutadiene, wax, casein, or a mixture thereof as a main component can be used.

この接着剤の無機酸化物層113上への塗布には、例えば、ダイレクトグラビアコート法、リバースグラビアコート法、キスコート法、ダイコート法、ロールコート法、ディップコート法、ナイフコート法、スプレーコート法、又はフォンテンコート法などを利用することができる。接着剤は、例えば、乾燥状態で塗布量が0.1g/m2乃至8g/m2の範囲内となるように塗布する。 For application of the adhesive onto the inorganic oxide layer 113, for example, direct gravure coating method, reverse gravure coating method, kiss coating method, die coating method, roll coating method, dip coating method, knife coating method, spray coating method, Alternatively, the Fontaen coat method or the like can be used. For example, the adhesive is applied in a dry state so that the application amount is within a range of 0.1 g / m 2 to 8 g / m 2 .

ヒートシール性樹脂層13は、接着剤層12を介して透明ガスバリア性フィルム11に貼り合わされた透明層である。ヒートシール性樹脂層13は、プライマー層112と無機酸化物層113とガスバリア性被膜114と接着剤層12とを間に挟んでプラスチック基材フィルム111と向き合っている。   The heat-sealable resin layer 13 is a transparent layer bonded to the transparent gas barrier film 11 via the adhesive layer 12. The heat-sealable resin layer 13 faces the plastic substrate film 111 with the primer layer 112, the inorganic oxide layer 113, the gas barrier film 114, and the adhesive layer 12 interposed therebetween.

ヒートシール性樹脂層13は、ヒートシール性を有している透明樹脂層である。ヒートシール性樹脂層13の材料としては、例えば、高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、及び直鎖状低密度ポリエチレンなどのポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリエステル、ポリアミド、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体けん化物、ポリカーボネート、ポリアクリロニトリル、ニトロセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エステル共重合体、エチレン−メタクリル酸エステル共重合体、これらの金属架橋物、又はポリ乳酸樹脂などの生分解性樹脂を使用することができる。   The heat sealable resin layer 13 is a transparent resin layer having heat sealability. Examples of the material of the heat-sealable resin layer 13 include polyethylene such as high-density polyethylene, medium-density polyethylene, low-density polyethylene, and linear low-density polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, polyester, polyamide, and ethylene. -Vinyl acetate copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer saponified product, polycarbonate, polyacrylonitrile, nitrocellulose, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, ethylene-acrylic acid ester copolymer, Biodegradable resins such as ethylene-methacrylic acid ester copolymers, cross-linked products of these, or polylactic acid resins can be used.

ヒートシール性樹脂層13の厚さは、例えば、透明包装材料10の用途に応じて設定する。通常、ヒートシール性樹脂層13の厚さは、10μm乃至200μmの範囲内とする。   The thickness of the heat-sealable resin layer 13 is set according to the application of the transparent packaging material 10, for example. Usually, the thickness of the heat-sealable resin layer 13 is in the range of 10 μm to 200 μm.

ヒートシール性樹脂層13と透明ガスバリア性フィルム11との貼り合わせには、例えば、ドライラミネート法、ノンソルベントラミネート法、又は押出しラミネート法を利用することができる。例えば、押出しラミネート法を利用した場合には、接着剤層12は省略することができる。   For bonding the heat-sealable resin layer 13 and the transparent gas barrier film 11, for example, a dry lamination method, a non-solvent lamination method, or an extrusion lamination method can be used. For example, when the extrusion laminating method is used, the adhesive layer 12 can be omitted.

透明ガスバリア性フィルム11とヒートシール性樹脂層13との間には、接着剤層12以外の層を介在させてもよい。例えば、それらの間に、印刷層及び/又は基材フィルムなどを介在させてもよい。   A layer other than the adhesive layer 12 may be interposed between the transparent gas barrier film 11 and the heat sealable resin layer 13. For example, a printing layer and / or a base film may be interposed between them.

この透明包装材料10は、包装体の少なくとも一部として使用することができる。例えば、この透明包装材料10を用いて袋を形成することができる。或いは、この透明包装材料10を用いて、成型容器の蓋を形成することができる。なお、ヒートシール性樹脂層13は、包装体の内部空間と透明ガスバリア性フィルム11との間に位置させる。   This transparent packaging material 10 can be used as at least a part of a package. For example, a bag can be formed using this transparent packaging material 10. Alternatively, the transparent packaging material 10 can be used to form a lid of a molded container. The heat-sealable resin layer 13 is positioned between the internal space of the package and the transparent gas barrier film 11.

この透明包装材料10は、プラスチック基材フィルム111とヒートシール性樹脂層13との密着性に優れている。そのため、例えば、この透明包装材料10で食品などを包装してなる包装品は、煮沸滅菌処理に供したとしても、デラミネーションを生じ難い。また、この透明包装材料10で香味成分を含有した内容物を包装してなる包装品は、長期に保存した場合であっても、プラスチック基材フィルム111とヒートシール性樹脂層13との密着性が大幅に低下することはない。さらに、この透明包装材料10で精密電子部品等を包装してなる包装品は、高温多湿環境中に長時間放置した場合であっても、プラスチック基材フィルム111とヒートシール性樹脂層13との密着性が大幅に低下することはない。それゆえ、内容物の劣化を長期にわたって防止することができる。   This transparent packaging material 10 is excellent in adhesion between the plastic substrate film 111 and the heat-sealable resin layer 13. Therefore, for example, a packaged product obtained by packaging food with the transparent packaging material 10 is less likely to cause delamination even when subjected to boiling sterilization treatment. Moreover, even if the packaged product formed by packaging the content containing the flavor component with the transparent packaging material 10 is stored for a long period of time, the adhesion between the plastic substrate film 111 and the heat-sealable resin layer 13 is maintained. Will not drop significantly. Further, a packaged product in which precision electronic components and the like are packaged with the transparent packaging material 10 is provided with the plastic substrate film 111 and the heat-sealable resin layer 13 even when left in a high temperature and high humidity environment for a long time. Adhesion does not drop significantly. Therefore, deterioration of the contents can be prevented over a long period of time.

このように、透明包装材料10は常態強度に優れている。したがって、この透明包装材料10を用いて形成した四方シール袋に内容物として水を充填してなる包装品は、95℃で30分間の煮沸滅菌処理を行った後でも、プラスチック基材フィルム111とヒートシール性樹脂層13との常態ラミネート強度を例えば3.0N/15mm以上に維持する。   Thus, the transparent packaging material 10 is excellent in normal strength. Therefore, the packaged product formed by filling the four-side sealed bag formed using the transparent packaging material 10 with water as the contents is the same as the plastic base film 111 even after the boiling sterilization treatment at 95 ° C. for 30 minutes. The normal laminate strength with the heat-sealable resin layer 13 is maintained at, for example, 3.0 N / 15 mm or more.

以下、本発明の実施例を説明する。
<コーティング液Aの調製>
溶媒にテレフタル酸とアジピン酸とエチレングリコールとを混合し、重縮合反応を生じさせた。これにより、数平均分子量が約40000であり、酸価が10mg KOH/gのポリエステル樹脂を含有した分散液を得た。次いで、この分散液にイソホロンジイソシアネートを添加し、ポリエステル樹脂とイソシアネートとの付加反応を生じさせた。この付加反応は、赤外吸収スペクトルからイソシアネート基の吸収ピークが無くなるまで継続した。以上のようにして、酸価が3mg KOH/gであり、軟化点が70℃のポリエステルウレタン樹脂を含有したコーティング液を得た。以下、このコーティング液を、「コーティング液A」と呼ぶ。
Examples of the present invention will be described below.
<Preparation of coating liquid A>
The solvent was mixed with terephthalic acid, adipic acid and ethylene glycol to cause a polycondensation reaction. As a result, a dispersion containing a polyester resin having a number average molecular weight of about 40000 and an acid value of 10 mg KOH / g was obtained. Next, isophorone diisocyanate was added to this dispersion to cause an addition reaction between the polyester resin and the isocyanate. This addition reaction was continued until the absorption peak of the isocyanate group disappeared from the infrared absorption spectrum. As described above, a coating liquid containing a polyester urethane resin having an acid value of 3 mg KOH / g and a softening point of 70 ° C. was obtained. Hereinafter, this coating solution is referred to as “coating solution A”.

<コーティング液Bの調製>
溶媒にイソフタル酸とアジピン酸とエチレングリコールとを混合し、重縮合反応を生じさせた。これにより、数平均分子量が約40000であり、酸価が20mg KOH/gのポリエステル樹脂を含有した分散液を得た。次いで、この分散液にトリレンジイソシアネートとジフェニルメタンジイソシアネートとを添加し、ポリエステル樹脂とイソシアネートとの付加反応を生じさせた。この付加反応は、赤外吸収スペクトルからイソシアネート基の吸収ピークが無くなるまで継続した。以上のようにして、酸価が15mg KOH/gであり、軟化点が90℃のポリエステルウレタン樹脂を含有したコーティング液を得た。以下、このコーティング液を、「コーティング液B」と呼ぶ。
<Preparation of coating solution B>
Isophthalic acid, adipic acid and ethylene glycol were mixed in a solvent to cause a polycondensation reaction. As a result, a dispersion containing a polyester resin having a number average molecular weight of about 40,000 and an acid value of 20 mg KOH / g was obtained. Next, tolylene diisocyanate and diphenylmethane diisocyanate were added to this dispersion to cause an addition reaction between the polyester resin and the isocyanate. This addition reaction was continued until the absorption peak of the isocyanate group disappeared from the infrared absorption spectrum. As described above, a coating liquid containing a polyester urethane resin having an acid value of 15 mg KOH / g and a softening point of 90 ° C. was obtained. Hereinafter, this coating solution is referred to as “coating solution B”.

<コーティング液Cの調製>
溶媒にイソフタル酸とセバシン酸とエチレングリコールとネオペンチルグリコールとを混合し、重縮合反応を生じさせた。これにより、数平均分子量が約20000であり、酸価が50mg KOH/gのポリエステル樹脂を含有した分散液を得た。次いで、この分散液にイソホロンジイソシアネートを添加し、ポリエステル樹脂との付加反応を生じさせた。この付加反応は、赤外吸収スペクトルからイソシアネート基の吸収ピークが無くなるまで継続した。以上のようにして、酸価が6mg KOH/gであり、軟化点が100℃のポリエステルウレタン樹脂を含有したコーティング液を得た。以下、このコーティング液を、「コーティング液C」と呼ぶ。
<Preparation of coating liquid C>
Isophthalic acid, sebacic acid, ethylene glycol, and neopentyl glycol were mixed in a solvent to cause a polycondensation reaction. As a result, a dispersion containing a polyester resin having a number average molecular weight of about 20,000 and an acid value of 50 mg KOH / g was obtained. Next, isophorone diisocyanate was added to this dispersion to cause an addition reaction with the polyester resin. This addition reaction was continued until the absorption peak of the isocyanate group disappeared from the infrared absorption spectrum. As described above, a coating liquid containing a polyester urethane resin having an acid value of 6 mg KOH / g and a softening point of 100 ° C. was obtained. Hereinafter, this coating solution is referred to as “coating solution C”.

<コーティング液Dの調製>
溶媒にイソフタル酸とアゼライン酸とエチレングリコールと1,6−ヘキサンジオールとを混合し、重縮合反応を生じさせた。これにより、数平均分子量が約10000であり、酸価が100mg KOH/gのポリエステル樹脂を含有した分散液を得た。次いで、この分散液にトリレンジイソシアネートとジフェニルメタンジイソシアネートとを添加し、ポリエステル樹脂との付加反応を生じさせた。この付加反応は、赤外吸収スペクトルからイソシアネート基の吸収ピークが無くなるまで継続した。以上のようにして、酸価が20mg KOH/gであり、軟化点が83℃のポリエステルウレタン樹脂を含有したコーティング液を得た。以下、このコーティング液を、「コーティング液D」と呼ぶ。
<Preparation of coating solution D>
Isophthalic acid, azelaic acid, ethylene glycol, and 1,6-hexanediol were mixed in a solvent to cause a polycondensation reaction. As a result, a dispersion containing a polyester resin having a number average molecular weight of about 10,000 and an acid value of 100 mg KOH / g was obtained. Next, tolylene diisocyanate and diphenylmethane diisocyanate were added to this dispersion to cause an addition reaction with the polyester resin. This addition reaction was continued until the absorption peak of the isocyanate group disappeared from the infrared absorption spectrum. As described above, a coating liquid containing a polyester urethane resin having an acid value of 20 mg KOH / g and a softening point of 83 ° C. was obtained. Hereinafter, this coating solution is referred to as “coating solution D”.

<コーティング液Eの調製>
溶媒にイソフタル酸とテレフタル酸とエチレングリコールと1,4−ブタンジオールとを混合し、重縮合反応を生じさせた。これにより、数平均分子量が約40000であり、酸価が50mg KOH/gのポリエステル樹脂を含有した分散液を得た。次いで、この分散液にトリレンジイソシアネートとジフェニルメタンジイソシアネートとを添加し、ポリエステル樹脂との付加反応を生じさせた。この付加反応は、赤外吸収スペクトルからイソシアネート基の吸収ピークが無くなるまで継続した。以上のようにして、酸価が20mg KOH/gであり、軟化点が83℃のポリエステルウレタン樹脂を含有したコーティング液を得た。以下、このコーティング液を、「コーティング液E」と呼ぶ。
<Preparation of coating solution E>
Isophthalic acid, terephthalic acid, ethylene glycol, and 1,4-butanediol were mixed in a solvent to cause a polycondensation reaction. As a result, a dispersion containing a polyester resin having a number average molecular weight of about 40000 and an acid value of 50 mg KOH / g was obtained. Next, tolylene diisocyanate and diphenylmethane diisocyanate were added to this dispersion to cause an addition reaction with the polyester resin. This addition reaction was continued until the absorption peak of the isocyanate group disappeared from the infrared absorption spectrum. As described above, a coating liquid containing a polyester urethane resin having an acid value of 20 mg KOH / g and a softening point of 83 ° C. was obtained. Hereinafter, this coating solution is referred to as “coating solution E”.

<コーティング液Fの調製>
溶媒にイソフタル酸とアゼライン酸とエチレングリコールと1,6−ヘキサンジオールとを混合し、重縮合反応を生じさせた。以上のようにして、酸価が100mg KOH/gであり、軟化点が75℃のポリエステル樹脂を含有したコーティング液を得た。以下、このコーティング液を、「コーティング液F」と呼ぶ。
以下の表1に、コーティング液A乃至Fの調製に使用した材料を纏める。

Figure 2008132761
<Preparation of coating solution F>
Isophthalic acid, azelaic acid, ethylene glycol, and 1,6-hexanediol were mixed in a solvent to cause a polycondensation reaction. As described above, a coating solution containing a polyester resin having an acid value of 100 mg KOH / g and a softening point of 75 ° C. was obtained. Hereinafter, this coating liquid is referred to as “coating liquid F”.
Table 1 below summarizes the materials used for the preparation of coating solutions A to F.
Figure 2008132761

<コーティング液Gの調製>
10gのテトラエトキシシランに0.1Nの塩酸水溶液を89g混合し、この混合液を30分間攪拌してテトラエトキシシランの加水分解を生じさせた。これにより、SiO2換算で3質量%の固形分を含有した溶液を得た。次いで、ポリビニルアルコールを3質量%の濃度で含有した溶液を添加した。ポリビニルアルコールの溶媒としては、水とイソプロピルアルコールとを90:10の質量比で含有した混合液を使用した。以下、このようにして得られたコーティング液を、「コーティング液G」と呼ぶ。
<Preparation of coating solution G>
89 g of 0.1N hydrochloric acid aqueous solution was mixed with 10 g of tetraethoxysilane, and this mixed solution was stirred for 30 minutes to cause hydrolysis of tetraethoxysilane. This gave a solution with a solids content of 3% by weight in terms of SiO 2. Next, a solution containing 3% by mass of polyvinyl alcohol was added. As a solvent for polyvinyl alcohol, a mixed solution containing water and isopropyl alcohol at a mass ratio of 90:10 was used. Hereinafter, the coating liquid thus obtained is referred to as “coating liquid G”.

<コーティング液Hの調製>
17.9gのテトラエトキシシランと10gのメタノールと72.1gの0.1N塩酸水溶液とを混合し、30分間攪拌して、テトラエトキシシランを加水分解させた。これにより、SiO2換算で5質量%の固形分を含有した加水分解溶液を得た。以下、この加水分解溶液を、「溶液1」とする。
<Preparation of coating solution H>
17.9 g of tetraethoxysilane, 10 g of methanol, and 72.1 g of 0.1N hydrochloric acid aqueous solution were mixed and stirred for 30 minutes to hydrolyze tetraethoxysilane. Thus, to obtain a hydrolysis solution containing solids 5% by weight in terms of SiO 2. Hereinafter, this hydrolysis solution is referred to as “solution 1”.

PVAを、水とイソプロピルアルコールとを95:5の質量比で含有した混合溶媒で溶解し、固形分濃度が5質量%となるように、PVA水溶液を調製した。以下、このPVA水溶液を、「溶液2」とする。   PVA was dissolved in a mixed solvent containing water and isopropyl alcohol at a mass ratio of 95: 5, and an aqueous PVA solution was prepared so that the solid content concentration was 5% by mass. Hereinafter, this PVA aqueous solution is referred to as “Solution 2”.

γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシランのイソプロピルアルコール溶液に、1N塩酸水溶液を添加した。この際、水とイソプロピルアルコールとの質量比は50:50とした。また、この混合溶液におけるγ―グリシドキシプロピルトリメトキシシランの濃度はR2Si(OH)3換算濃度で5質量%とした。次に、この混合溶液を20分攪拌して、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを加水分解させた。これにより、R2Si(OH)3換算で5質量%の固形分を含有した加水分解溶液を得た。以下、この加水分解溶液を、「溶液3」とする。 A 1N aqueous hydrochloric acid solution was added to an isopropyl alcohol solution of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane. At this time, the mass ratio of water to isopropyl alcohol was 50:50. The concentration of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane in this mixed solution was 5% by mass in terms of R2Si (OH) 3 . Next, this mixed solution was stirred for 20 minutes to hydrolyze γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane. This obtained the hydrolysis solution containing 5 mass% solid content in conversion of R2Si (OH) 3 . Hereinafter, this hydrolysis solution is referred to as “solution 3”.

その後、溶液1と溶液2と溶液3とを、それらの固形分の質量比が、60:30:10となるように混合した。以下、この混合溶液を、「コーティング液H」と呼ぶ。   Then, the solution 1, the solution 2, and the solution 3 were mixed so that mass ratio of those solid content might be set to 60:30:10. Hereinafter, this mixed solution is referred to as “coating liquid H”.

<コーティング液Iの調製>
3-アミノプロピルトリメトキシシランのイソプロピルアルコール溶液に、水を徐々に加えて30分間攪拌し、3-アミノプロピルトリメトキシシランを加水分解させた。3-アミノトリメトキシシランの濃度はR2Si(OH)3換算濃度で5質量%とした。これにより、R2Si(OH)3換算で5質量%の固形分を含有した加水分解溶液を得た。以下、この加水分解溶液を、「溶液4」とする。
<Preparation of coating liquid I>
Water was gradually added to an isopropyl alcohol solution of 3-aminopropyltrimethoxysilane and stirred for 30 minutes to hydrolyze 3-aminopropyltrimethoxysilane. The concentration of 3-aminotrimethoxysilane was 5% by mass in terms of R2Si (OH) 3 . This obtained the hydrolysis solution containing 5 mass% solid content in conversion of R2Si (OH) 3 . Hereinafter, this hydrolysis solution is referred to as “solution 4”.

その後、溶液1と溶液2と溶液4とを、それらの固形分濃度の質量比が60:25:15となるように混合した。以下、この混合液を、「コーティング液I」と呼ぶ。   Then, the solution 1, the solution 2, and the solution 4 were mixed so that the mass ratio of those solid content concentrations might be 60:25:15. Hereinafter, this liquid mixture is referred to as “coating liquid I”.

<コーティング液Jの調製>
溶液1と溶液2と溶液3とを、それらの固形分の質量比が30:20:60となるように混合した。以下、この混合液を、「コーティング液J」と呼ぶ。
<Preparation of coating liquid J>
Solution 1, solution 2 and solution 3 were mixed so that the mass ratio of their solids was 30:20:60. Hereinafter, this liquid mixture is referred to as “coating liquid J”.

<コーティング液Kの調製>
溶液1と溶液2と溶液3とを、それらの固形分の質量比が80:10:10となるように混合した。以下、この混合液を、「コーティング液K」と呼ぶ。
<Preparation of coating liquid K>
Solution 1, solution 2, and solution 3 were mixed so that the mass ratio of their solid contents was 80:10:10. Hereinafter, this liquid mixture is referred to as “coating liquid K”.

<透明ガスバリア性フィルムA1及び透明包装材料A1の製造>
まず、ナイロン6からなる厚さが150μmのプラスチック基材フィルムを準備した。
<Manufacture of transparent gas barrier film A1 and transparent packaging material A1>
First, a plastic substrate film made of nylon 6 and having a thickness of 150 μm was prepared.

次に、このプラスチック基材フィルムの一方の主面上に、ロールコート法により、コーティング液Aを塗布した。続いて、プラスチック基材フィルムをその厚さが15μmになるまで縦方向と横方向とに同じ延伸倍率で延伸すると共に、塗膜を乾燥させた。このようにして、プラスチック基材フィルム上に、厚さが40nmのプライマー層を形成した。   Next, the coating liquid A was applied to one main surface of the plastic substrate film by a roll coating method. Subsequently, the plastic substrate film was stretched at the same stretch ratio in the longitudinal direction and the transverse direction until the thickness became 15 μm, and the coating film was dried. In this way, a primer layer having a thickness of 40 nm was formed on the plastic substrate film.

次いで、電子線加熱方式を利用した真空蒸着装置を用いて、プライマー層上に、酸化アルミニウムからなる厚さが10nmの無機酸化物層を形成した。   Next, an inorganic oxide layer made of aluminum oxide and having a thickness of 10 nm was formed on the primer layer using a vacuum vapor deposition apparatus utilizing an electron beam heating method.

その後、グラビアコート法により、無機酸化物層上にコーティング液Gを塗布した。続いて、塗膜を乾燥させ、これにより、厚さが0.5μmのガスバリア性被膜を得た。   Then, the coating liquid G was apply | coated on the inorganic oxide layer by the gravure coating method. Subsequently, the coating film was dried, thereby obtaining a gas barrier coating film having a thickness of 0.5 μm.

以上のようにして、透明ガスバリア性フィルムを完成した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムA1」と呼ぶ。   As described above, a transparent gas barrier film was completed. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film A1”.

次に、透明ガスバリア性フィルムA1とヒートシール性樹脂層とを、ヒートシール性樹脂層がガスバリア性被膜と向き合うように、ドライラミネーション法により貼り合わせた。ヒートシール性樹脂層としては、厚さが50μmの直鎖状低密度ポリエチレンフィルム(東セロ社製、TUX−FCS)を使用し、接着剤としては、ポリウレタン系ラミネート用接着剤(三井化学ポリウレタン社製、A616/A65)を使用した。   Next, the transparent gas barrier film A1 and the heat sealable resin layer were bonded together by a dry lamination method so that the heat sealable resin layer faced the gas barrier film. As the heat-sealable resin layer, a 50 μm-thick linear low-density polyethylene film (manufactured by Tosero Co., Ltd., TUX-FCS) is used, and as an adhesive, an adhesive for polyurethane-based laminate (manufactured by Mitsui Chemicals Polyurethane Co., Ltd.) , A616 / A65).

その後、この積層体を、40℃で5日間養生した。以上のようにして、透明包装材料を完成した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料A1」と呼ぶ。   Thereafter, this laminate was cured at 40 ° C. for 5 days. The transparent packaging material was completed as mentioned above. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material A1”.

<透明ガスバリア性フィルムA2及び透明包装材料A2の製造>
酸化アルミニウムからなる厚さが10nmの無機酸化物層の代わりに酸化珪素からなる厚さが40nmの無機酸化物層を形成したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムA1について説明したのと同様の方法により透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この
透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムA2」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film A2 and transparent packaging material A2>
Except that an inorganic oxide layer made of silicon oxide having a thickness of 40 nm was formed instead of an inorganic oxide layer made of aluminum oxide having a thickness of 10 nm, the same method as described for the transparent gas barrier film A1 was used. A transparent gas barrier film was produced. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film A2”.

次に、透明ガスバリア性フィルムA1の代わりに透明ガスバリア性フィルムA2を使用したこと以外は、透明包装材料A1について説明したのと同様の方法により透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料A2」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material A1 except that the transparent gas barrier film A2 was used instead of the transparent gas barrier film A1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material A2”.

<透明ガスバリア性フィルムA3及び透明包装材料A3の製造>
酸化アルミニウムからなる厚さが10nmの無機酸化物層の代わりに酸化マグネシウムからなる厚さが20nmの無機酸化物層を形成したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムA1について説明したのと同様の方法により透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムA3」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film A3 and transparent packaging material A3>
Except that an inorganic oxide layer made of magnesium oxide having a thickness of 20 nm was formed instead of an inorganic oxide layer made of aluminum oxide having a thickness of 10 nm, the same method as described for the transparent gas barrier film A1 was used. A transparent gas barrier film was produced. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film A3”.

次に、透明ガスバリア性フィルムA1の代わりに透明ガスバリア性フィルムA3を使用したこと以外は、透明包装材料A1について説明したのと同様の方法により透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料A3」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material A1 except that the transparent gas barrier film A3 was used instead of the transparent gas barrier film A1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material A3”.

<透明ガスバリア性フィルムB1及び透明包装材料B1の製造>
コーティング液Aの代わりにコーティング液Bを使用したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムA1について説明したのと同様の方法により透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムB1」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film B1 and transparent packaging material B1>
A transparent gas barrier film was produced by the same method as described for the transparent gas barrier film A1 except that the coating liquid B was used instead of the coating liquid A. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film B1”.

次に、透明ガスバリア性フィルムA1の代わりに透明ガスバリア性フィルムB1を使用したこと以外は、透明包装材料A1について説明したのと同様の方法により透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料B1」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material A1 except that the transparent gas barrier film B1 was used instead of the transparent gas barrier film A1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material B1”.

<透明ガスバリア性フィルムB2及び透明包装材料B2の製造>
まず、ポリエチレンテレフタレートからなる厚さが150μmのプラスチック基材フィルムを準備した。
<Manufacture of transparent gas barrier film B2 and transparent packaging material B2>
First, a plastic substrate film having a thickness of 150 μm made of polyethylene terephthalate was prepared.

次に、このプラスチック基材フィルムを、縦方向に延伸した。次いで、このプラスチック基材フィルムの一方の主面上に、ロールコート法により、コーティング液Bを塗布した。続いて、プラスチック基材フィルムを横方向に延伸すると共に、塗膜を乾燥させた。なお、縦方向の延伸倍率と横方向の延伸倍率とは等しくし、これら延伸は、プラスチック基材フィルムの厚さが12μmとなるように行った。このようにして、プラスチック基材フィルム上に、厚さが50nmのプライマー層を形成した。   Next, the plastic substrate film was stretched in the longitudinal direction. Subsequently, the coating liquid B was apply | coated by roll coating method on one main surface of this plastic substrate film. Subsequently, the plastic substrate film was stretched in the transverse direction and the coating film was dried. In addition, the draw ratio of the vertical direction and the draw ratio of the horizontal direction were made equal, and these drawing were performed so that the thickness of the plastic substrate film was 12 μm. In this way, a primer layer having a thickness of 50 nm was formed on the plastic substrate film.

その後、透明ガスバリア性フィルムA1について説明したのと同様の方法により、プライマー層上に、無機酸化物層及びガスバリア性被膜を順次形成した。   Thereafter, an inorganic oxide layer and a gas barrier film were sequentially formed on the primer layer by the same method as described for the transparent gas barrier film A1.

以上のようにして、透明ガスバリア性フィルムを完成した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムB2」と呼ぶ。   As described above, a transparent gas barrier film was completed. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film B2”.

次に、透明ガスバリア性フィルムA1の代わりに透明ガスバリア性フィルムB2を使用したこと以外は、透明包装材料A1について説明したのと同様の方法により透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料B2」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material A1 except that the transparent gas barrier film B2 was used instead of the transparent gas barrier film A1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material B2”.

<透明ガスバリア性フィルムB3及び透明包装材料B3の製造>
酸化アルミニウムからなる厚さが10nmの無機酸化物層の代わりに酸化珪素からなる厚さが50nmの無機酸化物層を形成したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムB2について説明したのと同様の方法により透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この
透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムB3」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film B3 and transparent packaging material B3>
By the same method as described for the transparent gas barrier film B2 except that an inorganic oxide layer made of silicon oxide was formed in place of the inorganic oxide layer made of aluminum oxide and having a thickness of 50 nm instead of aluminum oxide. A transparent gas barrier film was produced. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film B3”.

次に、透明ガスバリア性フィルムA1の代わりに透明ガスバリア性フィルムB3を使用したこと以外は、透明包装材料A1について説明したのと同様の方法により透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料B3」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material A1 except that the transparent gas barrier film B3 was used instead of the transparent gas barrier film A1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material B3”.

<透明ガスバリア性フィルムB4及び透明包装材料B4の製造>
まず、ポリプロピレンからなる厚さが150μmのプラスチック基材フィルムを準備した。
<Manufacture of transparent gas barrier film B4 and transparent packaging material B4>
First, a plastic base film having a thickness of 150 μm made of polypropylene was prepared.

次に、このプラスチック基材フィルムを、その厚さが20μmになるまで縦方向と横方向とに同じ延伸倍率で延伸した。次いで、このプラスチック基材フィルムの一方の主面上に、ロールコート法により、コーティング液Bを塗布した。続いて、この塗膜を乾燥させた。このようにして、プラスチック基材フィルム上に、厚さが100nmのプライマー層を形成した。   Next, this plastic base film was stretched at the same stretch ratio in the longitudinal direction and the lateral direction until the thickness became 20 μm. Subsequently, the coating liquid B was apply | coated by roll coating method on one main surface of this plastic substrate film. Subsequently, this coating film was dried. In this way, a primer layer having a thickness of 100 nm was formed on the plastic substrate film.

その後、透明ガスバリア性フィルムA1について説明したのと同様の方法により、プライマー層上に、無機酸化物層及びガスバリア性被膜を順次形成した。   Thereafter, an inorganic oxide layer and a gas barrier film were sequentially formed on the primer layer by the same method as described for the transparent gas barrier film A1.

以上のようにして、透明ガスバリア性フィルムを完成した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムB4」と呼ぶ。   As described above, a transparent gas barrier film was completed. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film B4”.

次に、透明ガスバリア性フィルムA1の代わりに透明ガスバリア性フィルムB4を使用したこと以外は、透明包装材料A1について説明したのと同様の方法により透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料B4」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material A1 except that the transparent gas barrier film B4 was used instead of the transparent gas barrier film A1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material B4”.

<透明ガスバリア性フィルムC及び透明包装材料Cの製造>
コーティング液Aの代わりにコーティング液Cを使用したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムA1について説明したのと同様の方法により透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムC」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film C and transparent packaging material C>
A transparent gas barrier film was produced in the same manner as described for the transparent gas barrier film A1 except that the coating liquid C was used instead of the coating liquid A. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film C”.

次に、透明ガスバリア性フィルムA1の代わりに透明ガスバリア性フィルムCを使用したこと以外は、透明包装材料A1について説明したのと同様の方法により透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料C」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material A1 except that the transparent gas barrier film C was used instead of the transparent gas barrier film A1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material C”.

<透明ガスバリア性フィルムD及び透明包装材料Dの製造>
コーティング液Aの代わりにコーティング液Dを使用したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムA1について説明したのと同様の方法により透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムD」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film D and transparent packaging material D>
A transparent gas barrier film was produced in the same manner as described for the transparent gas barrier film A1 except that the coating liquid D was used instead of the coating liquid A. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film D”.

次に、透明ガスバリア性フィルムA1の代わりに透明ガスバリア性フィルムDを使用したこと以外は、透明包装材料A1について説明したのと同様の方法により透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料D」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material A1 except that the transparent gas barrier film D was used instead of the transparent gas barrier film A1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material D”.

<透明ガスバリア性フィルムE1及び透明包装材料E1の製造>
コーティング液Bの代わりにコーティング液Eを使用したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムB3について説明したのと同様の方法により透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムE1」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film E1 and transparent packaging material E1>
A transparent gas barrier film was produced in the same manner as described for the transparent gas barrier film B3 except that the coating liquid E was used instead of the coating liquid B. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film E1”.

次に、透明ガスバリア性フィルムA1の代わりに透明ガスバリア性フィルムE1を使用したこと以外は、透明包装材料A1について説明したのと同様の方法により透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料E1」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material A1 except that the transparent gas barrier film E1 was used instead of the transparent gas barrier film A1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material E1”.

<透明ガスバリア性フィルムE2及び透明包装材料E2の製造>
ガスバリア性被膜を得る際に、コーティング液Gの代わりにコーティング液Hを使用したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムE1について説明したのと同様の方法により透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムE2」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film E2 and transparent packaging material E2>
A transparent gas barrier film was produced by the same method as described for the transparent gas barrier film E1 except that the coating liquid H was used in place of the coating liquid G when the gas barrier film was obtained. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film E2”.

次に、透明ガスバリア性フィルムA1の代わりに透明ガスバリア性フィルムE2を使用したこと以外は、透明包装材料A1について説明したのと同様の方法により透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料E2」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material A1 except that the transparent gas barrier film E2 was used instead of the transparent gas barrier film A1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material E2.”

<透明ガスバリア性フィルムE3及び透明包装材料E3の製造>
コーティング液Gを用いて厚さが0.5μmのガスバリア性被膜を形成する代わりに、コーティング液Hを用いて厚さが5.0μmのガスバリア性被膜を形成したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムE1について説明したのと同様の方法により透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムE3」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film E3 and transparent packaging material E3>
Transparent gas barrier film E1 except that instead of forming a gas barrier film having a thickness of 0.5 μm using coating liquid G, a gas barrier film having a thickness of 5.0 μm was formed using coating liquid H A transparent gas barrier film was produced in the same manner as described above. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film E3”.

次に、透明ガスバリア性フィルムA1の代わりに透明ガスバリア性フィルムE3を使用したこと以外は、透明包装材料A1について説明したのと同様の方法により透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料E3」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material A1 except that the transparent gas barrier film E3 was used instead of the transparent gas barrier film A1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material E3”.

<透明ガスバリア性フィルムE4及び透明包装材料E4の製造>
コーティング液Gを用いて厚さが0.5μmのガスバリア性被膜を形成する代わりに、コーティング液Iを用いて厚さが1.0μmのガスバリア性被膜を形成したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムE1について説明したのと同様の方法により透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムE4」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film E4 and transparent packaging material E4>
A transparent gas barrier film E1 except that instead of forming a gas barrier film having a thickness of 0.5 μm using the coating liquid G, a gas barrier film having a thickness of 1.0 μm was formed using the coating liquid I. A transparent gas barrier film was produced in the same manner as described above. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film E4”.

次に、透明ガスバリア性フィルムA1の代わりに透明ガスバリア性フィルムE4を使用したこと以外は、透明包装材料A1について説明したのと同様の方法により透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料E4」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material A1 except that the transparent gas barrier film E4 was used instead of the transparent gas barrier film A1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material E4”.

<透明ガスバリア性フィルムE5及び透明包装材料E5の製造>
コーティング液Gを用いる代わりにコーティング液Jを用いたこと以外は、透明ガスバリア性フィルムE1について説明したのと同様の方法により透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムE5」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film E5 and transparent packaging material E5>
A transparent gas barrier film was produced by the same method as described for the transparent gas barrier film E1 except that the coating liquid J was used instead of the coating liquid G. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film E5”.

次に、透明ガスバリア性フィルムA1の代わりに透明ガスバリア性フィルムE5を使用したこと以外は、透明包装材料A1について説明したのと同様の方法により透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料E5」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material A1 except that the transparent gas barrier film E5 was used instead of the transparent gas barrier film A1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material E5”.

<透明ガスバリア性フィルムE6及び透明包装材料E6の製造>
コーティング液Gの代わりにコーティング液Kを用いてガスバリア性被膜を形成し、酸化珪素からなる厚さが50nmの無機酸化物層の代わりに酸化アルミニウムからなる厚さが10nmの無機酸化物層を形成したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムE1について説明したのと同様の方法により透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムE6」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film E6 and transparent packaging material E6>
A gas barrier film is formed using the coating liquid K instead of the coating liquid G, and an inorganic oxide layer made of aluminum oxide is formed with a thickness of 10 nm instead of an inorganic oxide layer made of silicon oxide with a thickness of 50 nm. A transparent gas barrier film was produced by the same method as that described for the transparent gas barrier film E1 except that. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film E6”.

次に、透明ガスバリア性フィルムA1の代わりに透明ガスバリア性フィルムE6を使用したこと以外は、透明包装材料A1について説明したのと同様の方法により透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料E6」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material A1 except that the transparent gas barrier film E6 was used instead of the transparent gas barrier film A1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material E6”.

<透明ガスバリア性フィルムF及び透明包装材料Fの製造>
コーティング液Aの代わりにコーティング液Fを使用したこと以外は、透明ガスバリア性フィルムA1について説明したのと同様の方法により透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムF」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film F and transparent packaging material F>
A transparent gas barrier film was produced in the same manner as described for the transparent gas barrier film A1 except that the coating liquid F was used instead of the coating liquid A. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film F”.

次に、透明ガスバリア性フィルムA1の代わりに透明ガスバリア性フィルムFを使用したこと以外は、透明包装材料A1について説明したのと同様の方法により透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料F」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material A1 except that the transparent gas barrier film F was used instead of the transparent gas barrier film A1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material F”.

<透明ガスバリア性フィルムX及び透明包装材料Xの製造>
プライマー層を形成しなかったこと以外は、透明ガスバリア性フィルムA1について説明したのと同様の方法により透明ガスバリア性フィルムを製造した。以下、この透明ガスバリア性フィルムを、「透明ガスバリア性フィルムX」と呼ぶ。
<Manufacture of transparent gas barrier film X and transparent packaging material X>
A transparent gas barrier film was produced by the same method as described for the transparent gas barrier film A1 except that the primer layer was not formed. Hereinafter, this transparent gas barrier film is referred to as “transparent gas barrier film X”.

次に、透明ガスバリア性フィルムA1の代わりに透明ガスバリア性フィルムXを使用したこと以外は、透明包装材料A1について説明したのと同様の方法により透明包装材料を製造した。以下、この透明包装材料を、「透明包装材料X」と呼ぶ。   Next, a transparent packaging material was produced by the same method as described for the transparent packaging material A1 except that the transparent gas barrier film X was used instead of the transparent gas barrier film A1. Hereinafter, this transparent packaging material is referred to as “transparent packaging material X”.

以下の表2及び表3に、透明ガスバリア性フィルムA1乃至A3、B1乃至B4、C、D、E1及至E6、F及びXの構成等を纏める。なお、表2及び表3において、「NY6」はナイロン6を示し、「PET」はポリエチレンテレフタレートを示し、「PP」はポリプロピレンを示している。「成膜→縦横延伸」は、プライマー層の塗膜を形成した後に基材フィルムを縦方向及び横方向に延伸したことを示している。「縦延伸→成膜→横延伸」は、基材フィルムを縦方向に延伸し、次いで、プライマー層の塗膜を形成し、その後、基材フィルムを横方向に延伸したことを示している。「縦横延伸→成膜」は、基材フィルムを縦方向及び横方向に延伸した後にプライマー層の塗膜を形成したことを示している。

Figure 2008132761
Tables 2 and 3 below summarize the configurations of the transparent gas barrier films A1 to A3, B1 to B4, C, D, E1 to E6, F, and X. In Tables 2 and 3, “NY6” indicates nylon 6, “PET” indicates polyethylene terephthalate, and “PP” indicates polypropylene. “Film formation → longitudinal and transverse stretching” indicates that the base film was stretched in the longitudinal and lateral directions after the coating film of the primer layer was formed. “Longitudinal stretching → deposition → transverse stretching” indicates that the base film was stretched in the longitudinal direction, then a coating film of the primer layer was formed, and then the base film was stretched in the lateral direction. “Longitudinal and transverse stretching → film formation” indicates that the primer film was formed after stretching the base film in the longitudinal and transverse directions.
Figure 2008132761

Figure 2008132761
Figure 2008132761

<プライマー層のTOF−SIMS分析>
透明ガスバリア性フィルムA1乃至A3、B1乃至B4、C、D、E1及至E6、及びFの各々のプライマー層について、TOF−SIMSによる分析を行なった。TOF−SIMS分析装置としてはアルバック−ファイ社製TRIFT2を用い、一次イオン:69Ga+、1次イオン加速電圧:15kV、測定面積100μm角、帯電補正用電子銃を用いて実施し、正及び負の2次イオン質量スペクトルにより、プライマー層より検出されるイオン種を分析した。
<TOF-SIMS analysis of primer layer>
The primer layers of the transparent gas barrier films A1 to A3, B1 to B4, C, D, E1 to E6, and F were analyzed by TOF-SIMS. As the TOF-SIMS analyzer, TRIFT2 manufactured by ULVAC-PHI is used, and the primary ion is 69 Ga + , the primary ion acceleration voltage is 15 kV, the measurement area is 100 μm square, and the charge correction electron gun is used. The ion species detected from the primer layer were analyzed by secondary ion mass spectrum.

透明ガスバリア性フィルムA1乃至A3、B1乃至B4、C、D、及びE1及至E6の各々のプライマー層は、芳香族カルボン酸及びポリオール並びにそれらの反応生成物成分と、脂肪族カルボン酸成分と、イソシアネート成分とを含有していると判断された。これに対し、透明ガスバリア性フィルムFは、芳香族カルボン酸及びポリオール並びにそれらの反応生成物成分と脂肪族カルボン酸成分とを含有していると判断され、イソシアネート成分は検出されなかった。   Each of the primer layers of the transparent gas barrier films A1 to A3, B1 to B4, C, D, and E1 to E6 includes an aromatic carboxylic acid and a polyol, a reaction product component thereof, an aliphatic carboxylic acid component, and an isocyanate. It was judged that it contained an ingredient. On the other hand, the transparent gas barrier film F was judged to contain an aromatic carboxylic acid and a polyol, a reaction product component thereof, and an aliphatic carboxylic acid component, and an isocyanate component was not detected.

透明ガスバリア性フィルムA1乃至A3、B1乃至B4、C、D、E1及至E6、及びFの各々のプライマー層について、TOF−SIMSによる正及び負の2次イオン質量スペクトル分析結果から確認された主なピークは、以下の通りであった。   The primary gas layers of the transparent gas barrier films A1 to A3, B1 to B4, C, D, E1 to E6, and F were confirmed from the positive and negative secondary ion mass spectrum analysis results by TOF-SIMS. The peaks were as follows.

(1)芳香族カルボン酸及びエチレングリコール並びにそれらの反応生成物成分由来のピーク群: C74+、C853 +、C1094 +、C18137 +、C742 - 及びC752 -
(2)脂肪族カルボン酸成分由来のピーク群: C672 + 及びC693 +
(3)イソシアネート由来のピーク群: CNO- 及びC872-
<酸素透過度の測定>
透明ガスバリア性フィルムA1乃至A3、B1乃至B4、C、D、E1及至E6、F及びXの各々について、日本工業規格 JIS K7126−1987「プラスチックフィルム及びシートの気体透過度試験方法」で規定されているB法(等圧法)に従って酸素透過度を測定した。この測定は、温度が30℃であり相対湿度が70%の環境中で、Modern Control社製のOxtran2/21を使用して行った。以下の表4及び表5に、測定結果を纏める。
(1) Peak groups derived from aromatic carboxylic acid and ethylene glycol and their reaction product components: C 7 H 4 O + , C 8 H 5 O 3 + , C 10 H 9 O 4 + , C 18 H 13 O 7 +, C 7 H 4 O 2 - and C 7 H 5 O 2 -
(2) Peak group derived from aliphatic carboxylic acid component: C 6 H 7 O 2 + and C 6 H 9 O 3 +
(3) an isocyanate-derived peaks: CNO - and C 8 H 7 N 2 O -
<Measurement of oxygen permeability>
Each of transparent gas barrier films A1 to A3, B1 to B4, C, D, E1 to E6, F and X is defined in Japanese Industrial Standards JIS K7126-1987 “Plastic Film and Sheet Gas Permeability Test Method”. The oxygen permeability was measured according to the B method (isobaric method). This measurement was performed using an Oxford 2/21 manufactured by Modern Control in an environment where the temperature was 30 ° C. and the relative humidity was 70%. Tables 4 and 5 below summarize the measurement results.

<初期ラミネート強度の測定>
透明包装材料A1乃至A3、B1乃至B4、C、D、E1及至E6、F及びXの各々について、日本工業規格 JIS K6854−3:1999「接着剤−はく離接着強さ試験方法−第3部:T形はく離」で規定されている試験方法に従ってラミネート強度を測定した。
<Measurement of initial laminate strength>
For each of transparent packaging materials A1 to A3, B1 to B4, C, D, E1 to E6, F and X, Japanese Industrial Standard JIS K6854-3: 1999 “Adhesive—Peeling Adhesive Strength Test Method—Part 3: The laminate strength was measured according to the test method specified in “T-peeling”.

すなわち、まず、透明包装材料A1乃至A3、B1乃至B4、C、D、E1及至E6、F及びXの各々から、幅が15mmの短冊状の試験片を準備した。次いで、各試験片の一端でヒートシール性樹脂層と透明ガスバリア性フィルムとを互いから剥離し、これらをそれぞれ引張試験機のつかみ具に取り付けた。その後、引張応力を加えて、ヒートシール性樹脂層と透明ガスバリア性フィルムとを互いから剥離させ、剥離長さ(つかみ移動距離)と引張応力との関係を記録した。ここでは、剥離速度は300mm/minとした。そして、最初及び最後の25mmを除いた100mm以上の剥離長さに亘って、力−つかみ移動距離曲線から平均剥離力(N)を求めた。この平均剥離力(N)をラミネート強度とした。   That is, first, a strip-shaped test piece having a width of 15 mm was prepared from each of the transparent packaging materials A1 to A3, B1 to B4, C, D, E1 to E6, F, and X. Next, the heat-sealable resin layer and the transparent gas barrier film were peeled from each other at one end of each test piece, and each was attached to a gripping tool of a tensile tester. Thereafter, a tensile stress was applied to separate the heat-sealable resin layer and the transparent gas barrier film from each other, and the relationship between the peeling length (grasping movement distance) and the tensile stress was recorded. Here, the peeling speed was 300 mm / min. And average peeling force (N) was calculated | required from the force-grasping movement distance curve over the peeling length of 100 mm or more except the first and the last 25 mm. This average peel force (N) was taken as the laminate strength.

以下の表4及び表5に、測定結果を纏める。なお、表4及び表5中の「破断」は、ヒートシール性樹脂層と透明ガスバリア性フィルムとの互いからの剥離を生じる前に破断を生じたことを意味している。   Tables 4 and 5 below summarize the measurement results. In addition, the "break" in Table 4 and Table 5 means that the break occurred before the heat-sealable resin layer and the transparent gas barrier film peeled from each other.

<煮沸処理後におけるラミネート強度の測定>
透明包装材料A1乃至A3、B1乃至B4、C、D、E1及至E6、F及びXの各々を用いて、寸法が100mm×150mmの四方シール袋を作成した。各四方シール袋には、150gの水を充填した。次に、これら包装品を95℃で30分間の煮沸処理に供し、その後、上述したのと同様の方法によりラミネート強度を測定した。以下の表4及び表5に、測定結果を纏める。
<Measurement of laminate strength after boiling treatment>
Using each of the transparent packaging materials A1 to A3, B1 to B4, C, D, E1 to E6, F and X, a four-side sealed bag having a size of 100 mm × 150 mm was prepared. Each four-sided seal bag was filled with 150 g of water. Next, these packaged products were subjected to boiling treatment at 95 ° C. for 30 minutes, and then the laminate strength was measured by the same method as described above. Tables 4 and 5 below summarize the measurement results.

<落下試験>
透明包装材料A1乃至A3、B1乃至B4、C、D、E1及至E6、F及びXを用いて、寸法が100mm×150mmの四方シール袋を10個ずつ作成した。各四方シール袋には、150gの水を充填した。次に、これら包装品の各々を、1.5mの高さから100回落下させた。そして、透明包装材料A1乃至A3、B1乃至B4、C、D、E1及至E6、F及びXの各々について、この落下試験によって破れた袋の数を求めた。以下の表4及び表5に、試験結果を纏める。
<Drop test>
Ten transparent packaging materials having dimensions of 100 mm × 150 mm were prepared using transparent packaging materials A1 to A3, B1 to B4, C, D, E1 to E6, F and X, respectively. Each four-sided seal bag was filled with 150 g of water. Next, each of these packages was dropped 100 times from a height of 1.5 m. And the number of bags torn by this drop test was calculated | required about each of transparent packaging material A1 thru | or A3, B1 thru | or B4, C, D, E1 to E6, F, and X. Tables 4 and 5 below summarize the test results.

<食酢保存後におけるラミネート強度の測定>
透明包装材料A1乃至A3、B1乃至B4、C、D、E1及至E6、F及びXの各々を用いて、寸法が100mm×100mmの四方シール袋を作成した。各四方シール袋には、20gの食酢を充填した。次に、これら包装品の各々を、40℃の環境中に1ヶ月放置し、その後、上述したのと同様の方法によりラミネート強度を測定した。
<Measurement of laminate strength after storage of vinegar>
Using each of the transparent packaging materials A1 to A3, B1 to B4, C, D, E1 to E6, F and X, a four-side sealed bag having a size of 100 mm × 100 mm was prepared. Each four-sided seal bag was filled with 20 g of vinegar. Next, each of these packaged products was left in an environment of 40 ° C. for one month, and then the laminate strength was measured by the same method as described above.

以下の表4及び表5に、測定結果を纏める。なお、表4及び表5中の「デラミネーション」は、ラミネート強度を測定する前の段階でデラミネーションを生じていたことを示している。

Figure 2008132761
Tables 4 and 5 below summarize the measurement results. Note that “delamination” in Tables 4 and 5 indicates that delamination occurred before the measurement of the laminate strength.
Figure 2008132761

Figure 2008132761
Figure 2008132761

表4及び表5に示すように、透明ガスバリア性フィルムA1乃至A3、B1乃至B4、C、D、E1及至E6、F及びXの何れも、酸素透過度が十分に小さい。また、透明包装材料A1乃至A3、B1乃至B4、C、D、及びE1及至E6は、煮沸処理後及び食酢保存後の何れにおいても、ラミネート強度が十分に大きい。そして、落下試験の結果も、透明包装材料A1乃至A3、B1乃至B4、C、D、及びE1及至E6は、優れた性能を有していることを示している。以上から、透明包装材料A1乃至A3、B1乃至B4、C、D、及びE1及至E6は、例えば、煮沸滅菌処理を要する包装品の包装体や香味成分を含有した内容物を収容する包装体などの用途に特に適していることが分かる。   As shown in Tables 4 and 5, the transparent gas barrier films A1 to A3, B1 to B4, C, D, E1 to E6, F and X all have sufficiently low oxygen permeability. In addition, the transparent packaging materials A1 to A3, B1 to B4, C, D, and E1 to E6 have sufficiently high laminate strength both after boiling and after storage of vinegar. The results of the drop test also indicate that the transparent packaging materials A1 to A3, B1 to B4, C, D, and E1 to E6 have excellent performance. From the above, the transparent packaging materials A1 to A3, B1 to B4, C, D, and E1 to E6 are, for example, packaging bodies that require boiling sterilization treatment, packaging bodies that contain contents containing flavor components, and the like. It can be seen that it is particularly suitable for the application.

本発明の一態様に係る透明包装材料を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the transparent packaging material which concerns on 1 aspect of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10…透明包装材料、11…透明ガスバリア性フィルム、12…接着剤層、13…ヒートシール性樹脂層、111…プラスチック基材フィルム、112…プライマー層、113…無機酸化物層、114…ガスバリア性被膜。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Transparent packaging material, 11 ... Transparent gas barrier film, 12 ... Adhesive layer, 13 ... Heat-sealable resin layer, 111 ... Plastic base film, 112 ... Primer layer, 113 ... Inorganic oxide layer, 114 ... Gas barrier property Coating.

Claims (13)

プラスチック基材フィルムと、
前記基材フィルムの一方の主面上に形成され、芳香族カルボン酸基と脂肪族カルボン酸基とを有するポリエステルウレタンを含んだプライマー層と、
前記プライマー層上に気相堆積法によって形成された無機酸化物層とを具備したことを特徴とする透明ガスバリア性フィルム。
A plastic substrate film;
A primer layer formed on one main surface of the base film and including a polyester urethane having an aromatic carboxylic acid group and an aliphatic carboxylic acid group;
A transparent gas barrier film comprising an inorganic oxide layer formed on the primer layer by a vapor deposition method.
前記プライマー層の飛行時間型二次イオン質量分析計による正及び負の2次イオン質量スペクトル分析結果は、芳香族カルボン酸及びポリオール並びにそれらの反応生成物成分と、脂肪族カルボン酸成分と、イソシアネート成分との存在を示すことを特徴とする請求項1に記載のガスバリア性フィルム。   The results of the positive and negative secondary ion mass spectrum analysis of the primer layer by a time-of-flight secondary ion mass spectrometer are as follows: aromatic carboxylic acid and polyol, their reaction product component, aliphatic carboxylic acid component, isocyanate The gas barrier film according to claim 1, which exhibits the presence of components. 前記プライマー層の飛行時間型二次イオン質量分析計による正及び負の2次イオン質量スペクトル分析を行ったときに、C74+、C853 +、C1094 +、C18137 +、C742 - 及びC752 - を含む芳香族カルボン酸及びエチレングリコール並びにそれらの反応生成物成分由来のピーク群と、C672 + 及びC693 + を含む脂肪族カルボン酸成分由来のピーク群と、CNO- 及びC872- を含むイソシアネート由来のピーク群とが検出されることを特徴とする請求項1又は2に記載のガスバリア性フィルム。 C 7 H 4 O + , C 8 H 5 O 3 + , C 10 H 9 O were analyzed when positive and negative secondary ion mass spectrum analysis was performed on the primer layer using a time-of-flight secondary ion mass spectrometer. 4 +, C 18 H 13 O 7 +, C 7 H 4 O 2 - and C 7 H 5 O 2 - and peaks derived from aromatic carboxylic acid and ethylene glycol and the reaction product thereof component containing, C 6 A peak group derived from an aliphatic carboxylic acid component containing H 7 O 2 + and C 6 H 9 O 3 + and a peak group derived from an isocyanate containing CNO and C 8 H 7 N 2 O are detected. The gas barrier film according to claim 1 or 2. 前記ポリエステルウレタンは、テレフタル酸及び/又はイソフタル酸を含む芳香族カルボン酸とアジピン酸を含む脂肪族カルボン酸とエチレングリコールを含むポリオールとの重縮合反応により得られるポリエステルとトリレンジイソシアネート及び/又はジフェニルメタンジイソシアネートを含むイソシアネートとの付加反応により得られるポリエステルウレタンを含んだことを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載のガスバリア性フィルム。   The polyester urethane is a polyester obtained by a polycondensation reaction between an aromatic carboxylic acid containing terephthalic acid and / or isophthalic acid, an aliphatic carboxylic acid containing adipic acid and a polyol containing ethylene glycol, and tolylene diisocyanate and / or diphenylmethane. The gas barrier film according to any one of claims 1 to 3, comprising a polyester urethane obtained by an addition reaction with an isocyanate containing a diisocyanate. 前記基材フィルムは、ポリエステル、ポリアミド及びポリプロピレンからなる群より選
択される1つを含有した延伸フィルムであることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載のガスバリア性フィルム。
The gas barrier film according to any one of claims 1 to 4, wherein the base film is a stretched film containing one selected from the group consisting of polyester, polyamide, and polypropylene.
前記基材フィルムと前記プライマー層とは同一方向に延伸されていることを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載のガスバリア性フィルム。   The gas barrier film according to claim 1, wherein the base film and the primer layer are stretched in the same direction. 前記無機酸化物層は、酸化アルミニウム、酸化ケイ素及び酸化マグネシウムからなる群より選ばれる少なくとも1つを含有したことを特徴とする請求項1乃至6の何れか1項に記載のガスバリア性フィルム。   7. The gas barrier film according to claim 1, wherein the inorganic oxide layer contains at least one selected from the group consisting of aluminum oxide, silicon oxide, and magnesium oxide. 前記無機酸化物層上に形成され、透明樹脂と無機物とを含んだ混合物からなるガスバリア性被膜をさらに具備したことを特徴とする請求項1乃至7の何れか1項に記載のガスバリア性フィルム。   8. The gas barrier film according to claim 1, further comprising a gas barrier film formed on the inorganic oxide layer and made of a mixture containing a transparent resin and an inorganic material. 9. 前記ガスバリア性被膜は、水溶性高分子と金属アルコキシド及び/又はその加水分解生成物と水とを含有した溶液を原料としていることを特徴とする請求項8に記載のガスバリア性フィルム。   The gas barrier film according to claim 8, wherein the gas barrier film is made of a solution containing a water-soluble polymer, a metal alkoxide and / or a hydrolysis product thereof, and water. 前記ガスバリア性被膜は、水溶性高分子と2種以上の金属アルコキシド及び/又はその加水分解生成物と水とを含有した溶液を原料としていることを特徴とする請求項8に記載のガスバリア性フィルム。   The gas barrier film according to claim 8, wherein the gas barrier film is made of a solution containing a water-soluble polymer, two or more metal alkoxides and / or hydrolysis products thereof, and water. . 前記ガスバリア性被膜に含まれた金属アルコキシド又はその加水分解生成物は、テトラアルコキシシラン及びトリアルコキシシラン又はそれらの加水分解生成物であることを特徴とする請求項8に記載のガスバリア性フィルム。   The gas barrier film according to claim 8, wherein the metal alkoxide or the hydrolysis product thereof contained in the gas barrier film is a tetraalkoxysilane and a trialkoxysilane or a hydrolysis product thereof. 請求項1乃至11の何れか1項に記載のガスバリア性フィルムと、前記ガスバリア性フィルムに貼り合わされると共に前記無機酸化物層を間に挟んで前記プラスチック基材フィルムと向き合ったヒートシール性樹脂層とを具備したことを特徴とする透明包装材料。   The gas barrier film according to any one of claims 1 to 11, and a heat-sealable resin layer bonded to the gas barrier film and facing the plastic substrate film with the inorganic oxide layer interposed therebetween. A transparent packaging material characterized by comprising: 請求項12に記載の包装材料を具備したことを特徴とする包装体。   A package comprising the packaging material according to claim 12.
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