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JP2008129324A - Color filter and liquid crystal display device - Google Patents

Color filter and liquid crystal display device Download PDF

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JP2008129324A
JP2008129324A JP2006314212A JP2006314212A JP2008129324A JP 2008129324 A JP2008129324 A JP 2008129324A JP 2006314212 A JP2006314212 A JP 2006314212A JP 2006314212 A JP2006314212 A JP 2006314212A JP 2008129324 A JP2008129324 A JP 2008129324A
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display device
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color filter
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JP2006314212A
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Hidenori Shindo
英則 真銅
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Toppan Inc
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Toppan Printing Co Ltd
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Abstract

【課題】 静電遮蔽効果を有するとともに、液晶表示装置の薄膜化が可能な構造を有するIPS方式液晶表示装置用カラーフィルタ及びIPS方式液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】 透明基板と、この透明基板上に形成された複数色の着色画素と、この着色画素上及びその周辺の透明基板上に形成された透明導電層と、この透明導電層上の前記着色画素に対応する領域に形成されたオーバーコート層とを具備し、前記透明導電層の周辺部には前記オーバーコート層が形成されていないことを特徴とする。
【選択図】 図1
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a color filter for an IPS mode liquid crystal display device and an IPS mode liquid crystal display device having an electrostatic shielding effect and a structure capable of reducing the thickness of the liquid crystal display device.
SOLUTION: A transparent substrate, a plurality of colored pixels formed on the transparent substrate, a transparent conductive layer formed on the colored pixel and a transparent substrate around the colored pixel, and the transparent conductive layer on the transparent conductive layer And an overcoat layer formed in a region corresponding to the colored pixel, wherein the overcoat layer is not formed in a peripheral portion of the transparent conductive layer.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、カラーフィルタ及びこのカラーフィルタを備える液晶表示装置に係り、特に、IPS方式液晶表示装置用カラーフィルタ及びこのカラーフィルタを備えるIPS方式液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a color filter and a liquid crystal display device including the color filter, and more particularly to a color filter for an IPS liquid crystal display device and an IPS liquid crystal display device including the color filter.

従来、ガラス基板に垂直方向の電界を用いて液晶をスイッチングするTN方式の液晶表示装置が使用されてきたが、このTN方式の液晶表示装置は視野角が狭いという問題がある。このTN方式の液晶表示装置に代わるものとして、ガラス基板に水平方向の電界を用いて液晶をスイッチングするIPS方式(イン・プレイン・スイッチング)の液晶表示装置がある。   Conventionally, a TN liquid crystal display device that switches liquid crystals using an electric field perpendicular to a glass substrate has been used. However, this TN liquid crystal display device has a problem that the viewing angle is narrow. As an alternative to this TN liquid crystal display device, there is an IPS (in-plane switching) liquid crystal display device that switches liquid crystal using a horizontal electric field on a glass substrate.

このIPS方式の液晶表示装置は、液晶分子が斜めに立ち上がることがないため、見る角度による光学特性の変化が小さく、広い視野角が得られるという利点がある。   This IPS liquid crystal display device has the advantage that the liquid crystal molecules do not stand up obliquely, so that the change in optical characteristics depending on the viewing angle is small and a wide viewing angle can be obtained.

このようなIPS方式の液晶表示装置の構造を図3に示す。図3に示すように、IPS方式の液晶表示装置は、カラーフィルタ基板11と、TFT駆動電極基板12とを対向して配置し、間に液晶層13を封入してなる。カラーフィルタ基板11は、ガラス基板14の所定の領域上に遮光層(図示せず)及び着色層15を設け、この着色層15上にオーバーコート層16を形成し、ガラス基板14の裏面にITO層17を形成することにより構成されている。(例えば、特開2000−250023公報)。また、TFT駆動電極基板12には、基板に水平方向の横電界が生ずるように複数の両電極が設けられている。   The structure of such an IPS liquid crystal display device is shown in FIG. As shown in FIG. 3, the IPS liquid crystal display device includes a color filter substrate 11 and a TFT drive electrode substrate 12 facing each other and a liquid crystal layer 13 sealed between them. The color filter substrate 11 is provided with a light shielding layer (not shown) and a colored layer 15 on a predetermined region of the glass substrate 14, an overcoat layer 16 is formed on the colored layer 15, and ITO is formed on the back surface of the glass substrate 14. It is configured by forming the layer 17. (For example, JP 2000-250023 A). The TFT drive electrode substrate 12 is provided with a plurality of electrodes so that a horizontal transverse electric field is generated on the substrate.

現在、液晶パネルの薄板化が望まれているが、この薄板化は、カラーフィルタのガラス基板の裏面をケミカルエッチングすることにより行われている。しかし、図3に示すようなIPS方式の液晶表示装置は、カラーフィルタ11のガラス基板14の裏面にITO膜17が存在するため、ケミカルエッチングによる薄板化は困難であった。   At present, thinning of the liquid crystal panel is desired, but this thinning is performed by chemically etching the back surface of the glass substrate of the color filter. However, in the IPS liquid crystal display device as shown in FIG. 3, since the ITO film 17 exists on the back surface of the glass substrate 14 of the color filter 11, it is difficult to reduce the thickness by chemical etching.

なお、カラーフィルタ11のガラス基板14の裏面のITO膜17は、液晶パネル本体を介して接地されており、液晶パネルの製造工程における静電気の帯電防止の役割を果たしている。また、液晶パネル完成後は、静電気を帯電した人間が手を触れた場合でも、その静電気を逃がすことができるので、静電気による火花でTFT駆動基板のTFTが破壊されるのを防止することができる。
特開2000−250023公報
The ITO film 17 on the back surface of the glass substrate 14 of the color filter 11 is grounded via the liquid crystal panel body, and plays a role of preventing static electricity in the manufacturing process of the liquid crystal panel. In addition, after the liquid crystal panel is completed, even if a person charged with static electricity touches it, the static electricity can be released, so that it is possible to prevent the TFT of the TFT drive substrate from being destroyed by static electricity. .
JP 2000-250023 JP

本発明は、以上のような事情の下になされ、液晶表示装置の薄膜化が可能な構造を有するとともに、静電遮蔽効果をも発揮し得るIPS方式液晶表示装置用カラーフィルタ及びIPS方式液晶表示装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made under the circumstances as described above, and has a structure capable of reducing the thickness of a liquid crystal display device, and can also exhibit an electrostatic shielding effect, and a color filter for an IPS liquid crystal display device and an IPS mode liquid crystal display. An object is to provide an apparatus.

上記課題を解決するために、本発明の第1の態様は、透明基板と、この透明基板上に形成された複数色の着色画素からなる着色層と、この着色層上及びその周辺の透明基板上に形成された透明導電層と、この透明導電層上の前記着色層に対応する領域に形成されたオーバーコート層とを具備し、前記透明導電層の周辺部には前記オーバーコート層が形成されていないことを特徴とするIPS方式液晶表示装置用カラーフィルタを提供する。   In order to solve the above-mentioned problems, a first aspect of the present invention is a transparent substrate, a colored layer composed of a plurality of colored pixels formed on the transparent substrate, and a transparent substrate on and around the colored layer. A transparent conductive layer formed thereon, and an overcoat layer formed in a region corresponding to the colored layer on the transparent conductive layer, and the overcoat layer is formed in a peripheral portion of the transparent conductive layer A color filter for an IPS mode liquid crystal display device is provided.

本発明の第2の態様は、上述のカラーフィルタを具備することを特徴とするIPS方式液晶表示装置を提供する。   According to a second aspect of the present invention, there is provided an IPS liquid crystal display device comprising the color filter described above.

本発明の第1の態様によると、導電層が透明基板の裏面ではなく、着色層上に形成されているため、透明基板の研磨による液晶表示装置の薄膜化が可能であり、また導電層の周辺部にオーバーコート層が形成されていないために、その部分から接地をとることができるので、静電遮蔽効果をも発揮し得るIPS方式液晶表示装置用カラーフィルタが提供される。   According to the first aspect of the present invention, since the conductive layer is formed not on the back surface of the transparent substrate but on the colored layer, it is possible to reduce the thickness of the liquid crystal display device by polishing the transparent substrate. Since the overcoat layer is not formed in the peripheral portion, the portion can be grounded. Therefore, a color filter for an IPS mode liquid crystal display device that can also exhibit an electrostatic shielding effect is provided.

また、本発明の第2の態様によると、薄膜化され、静電遮蔽効果を発揮し得るIPS方式液晶表示装置が提供される。   In addition, according to the second aspect of the present invention, there is provided an IPS liquid crystal display device that is thinned and can exhibit an electrostatic shielding effect.

以下、本発明の実施形態について説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.

図1は、本発明の第1の実施形態に係るカラーフィルタを備えるIPS方式の液晶表示装置の構造を示す断面図である。図1に示すように、IPS方式の液晶表示装置は、カラーフィルタ基板1と、TFT駆動電極基板2とを対向して配置し、間に液晶層3を封入してなる。カラーフィルタ基板1は、ガラス基板4の所定の領域上に遮光層(図示せず)及び着色層5を設け、この着色層5上及びその周辺のガラス基板4上にITO層6を設け、更にこのITO層6上にオーバーコート層7を形成することにより構成されている。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing the structure of an IPS liquid crystal display device including a color filter according to the first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the IPS liquid crystal display device includes a color filter substrate 1 and a TFT drive electrode substrate 2 which are arranged to face each other and a liquid crystal layer 3 sealed between them. The color filter substrate 1 is provided with a light shielding layer (not shown) and a colored layer 5 on a predetermined region of the glass substrate 4, an ITO layer 6 is provided on the colored layer 5 and on the surrounding glass substrate 4, The overcoat layer 7 is formed on the ITO layer 6.

以上のような構造のカラーフィルタ基板1は、従来のカラーフィルタ基板1では、図3に示すように、ITO層17がガラス基板14の裏面に設けられているのと異なり、ITO層6は、着色層5上に設けられている。このような構造のカラーフィルタ基板1によると、ガラス基板4の裏面にITO膜が存在しないため、ガラス基板4の裏面に研磨処理を施すことが可能であり、それによりガラス基板4を薄くすることができ、液晶表示装置の薄型化が可能となる。   The color filter substrate 1 having the above structure is different from the conventional color filter substrate 1 in that the ITO layer 17 is provided on the back surface of the glass substrate 14 as shown in FIG. It is provided on the colored layer 5. According to the color filter substrate 1 having such a structure, since there is no ITO film on the back surface of the glass substrate 4, it is possible to polish the back surface of the glass substrate 4, thereby thinning the glass substrate 4. Therefore, the liquid crystal display device can be thinned.

なお、TFT駆動電極基板2には、基板に水平方向の横電界が生ずるように複数の両電極が設けられている。   The TFT drive electrode substrate 2 is provided with a plurality of electrodes so that a horizontal electric field in the horizontal direction is generated on the substrate.

次に、以上説明したカラーフィルタ基板1の製造方法について、図2を参照して説明する。   Next, a method for manufacturing the color filter substrate 1 described above will be described with reference to FIG.

図2は、上述した着色層5、ITO層6、及びオーバーコート層7の積層構造を、ガラス基板4上に4面付けした構成を示す。   FIG. 2 shows a configuration in which the laminated structure of the colored layer 5, the ITO layer 6, and the overcoat layer 7 described above is provided on the glass substrate 4.

最初に、無アルカリガラス(1737G、コーニング社製)からなるLCD用ガラス基板4(厚さ0.7mm)をアルカリ洗浄剤等により洗浄する。次いで、樹脂からなるブラックマトリクス層(樹脂BM層)を形成するために、カーボンブラックを分散させた感光性樹脂(BKISシリーズフォトレジスト、新日鉄社製)をコーターを用いてガラス基板4の表面に塗布する。膜厚は、完成後の樹脂BM層の膜厚が1〜2μmとなるような厚さとする。   First, the glass substrate 4 for LCD (thickness 0.7 mm) made of non-alkali glass (1737G, manufactured by Corning) is cleaned with an alkali cleaner or the like. Next, in order to form a black matrix layer (resin BM layer) made of resin, a photosensitive resin (BKIS series photoresist, manufactured by Nippon Steel Co., Ltd.) in which carbon black is dispersed is applied to the surface of the glass substrate 4 using a coater. To do. The film thickness is such that the film thickness of the completed resin BM layer is 1 to 2 μm.

次に、感光性樹脂層表面を、フォトマスクを介して所定のパターンで露光し、アルカリ現像液により現像して、例えば、200〜250℃程度の温度で1時間のポストベークを行い、樹脂BM層(図示せず)を形成する。   Next, the photosensitive resin layer surface is exposed with a predetermined pattern through a photomask, developed with an alkali developer, and post-baked at a temperature of about 200 to 250 ° C. for 1 hour, for example, to form a resin BM. A layer (not shown) is formed.

その後、全面に赤色顔料分散フォトレジストを塗布し、塗布面をフォトマスクを介して所定のパターンで露光し、現像及びポストベークして、赤色画素を形成する。同様にして、緑色画素層及び青色画素を形成し、赤色画素、緑色画素層及び青色画素からなる着色層5を形成する。赤色、緑色、青色の各顔料分散フォトレジストとしては、CDPシリーズ各顔料分散レジスト(東洋インキ製造株式会社製)を用いた。また、赤色、緑色、青色の各画素の厚さは、例えば、0.6〜3.0μmである。   Thereafter, a red pigment-dispersed photoresist is applied to the entire surface, the coated surface is exposed with a predetermined pattern through a photomask, developed and post-baked to form red pixels. Similarly, a green pixel layer and a blue pixel are formed, and a colored layer 5 including a red pixel, a green pixel layer, and a blue pixel is formed. As the pigment dispersion photoresists of red, green, and blue, CDP series pigment dispersion resists (manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.) were used. Moreover, the thickness of each pixel of red, green, and blue is, for example, 0.6 to 3.0 μm.

次に、着色層5上及びその周辺のガラス基板4上に、スパッタリング法によりITO層6を形成した後、例えば200〜250℃でアニール処理を施す。ITO膜6の膜厚は、例えば、100〜3000オングストロームである。   Next, after forming the ITO layer 6 on the colored layer 5 and the surrounding glass substrate 4 by a sputtering method, annealing treatment is performed at 200 to 250 ° C., for example. The thickness of the ITO film 6 is, for example, 100 to 3000 angstroms.

このようにして形成されたITO膜6の上に、オーバーコート用フォトレジストを塗布し、塗布面をフォトマスクを介して所定のパターンで露光し、現像及びポストベークして、オーバーコート層7を形成する。これにより、図2に示す構造のカラーフィルタが4面付けされたカラーフィルタ基板が得られる。なお、オーバーコート層7は、着色層5に対応する領域に形成する。即ち、パターニングにより、ITO膜6の周辺領域を非オーバーコート領域とする。オーバーコート用フォトレジストとしては、KMHシリースフォトレジスト材料(大阪有機化学工業社製)を用いた。オーバーコート層7の膜厚は、例えば、1〜5μmである。   An overcoat photoresist is applied on the ITO film 6 thus formed, the coated surface is exposed in a predetermined pattern through a photomask, developed and post-baked, and an overcoat layer 7 is formed. Form. As a result, a color filter substrate having four faces of the color filter having the structure shown in FIG. 2 is obtained. The overcoat layer 7 is formed in a region corresponding to the colored layer 5. That is, the peripheral region of the ITO film 6 is made a non-overcoat region by patterning. As the overcoat photoresist, KMH series photoresist material (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) was used. The film thickness of the overcoat layer 7 is, for example, 1 to 5 μm.

その後、各オーバーコート層7の周辺部にフォトリソグラフィーによりフォトスペーサーを形成した後、カラーフィルタが4面付けされたカラーフィルタ基板は、別途作成されたTFT基板と、接着剤により貼り合される。   Then, after forming a photo spacer on the periphery of each overcoat layer 7 by photolithography, the color filter substrate having four color filters attached thereto is bonded to a separately prepared TFT substrate with an adhesive.

次いで、このようにして貼り合された構造のガラス基板4の裏面を研磨して、膜厚を0.3〜0.5mmに薄板化する。研磨は、フッ酸系のエッチング液によるケミカルエッチング、オスカー型機械的研磨法やサンドブラスト法による機械的研磨により行うことができる。   Subsequently, the back surface of the glass substrate 4 having a structure bonded in this manner is polished to reduce the film thickness to 0.3 to 0.5 mm. Polishing can be performed by chemical etching using a hydrofluoric acid-based etching solution, or mechanical polishing using an Oscar-type mechanical polishing method or a sandblasting method.

このようにガラス基板4が薄板化された構造は、次いで断裁され、4個のセルとされる。そして、これらセル内の空隙に液晶が充填されて、図1に示すような液晶表示パネルが作成される。この液晶表示パネルでは、ITO膜6の周辺部にはオーバーコート層7が形成されていないため、その部分を液晶表示パネル本体に電気的に接続することができ、液晶表示パネル本体は接地されているため、液晶表示パネルに対する静電遮蔽効果が発揮される。   The structure in which the glass substrate 4 is thinned in this way is then cut into four cells. Then, liquid crystal is filled in the voids in these cells, and a liquid crystal display panel as shown in FIG. 1 is produced. In this liquid crystal display panel, since the overcoat layer 7 is not formed on the periphery of the ITO film 6, the portion can be electrically connected to the liquid crystal display panel body, and the liquid crystal display panel body is grounded. Therefore, the electrostatic shielding effect with respect to the liquid crystal display panel is exhibited.

また、ガラス基板4の裏面の研磨により、液晶表示パネルの薄膜化を達成することができる。   Moreover, the thinning of the liquid crystal display panel can be achieved by polishing the back surface of the glass substrate 4.

本発明の一実施形態に係るカラーフィルタ基板を備える液晶表示装置の構成を示す断面図。1 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a liquid crystal display device including a color filter substrate according to an embodiment of the present invention. 図1に示す液晶表示装置を得るための、基板上にカラーフィルタを4面付けした構成を示す斜視図。FIG. 3 is a perspective view showing a configuration in which four color filters are provided on a substrate for obtaining the liquid crystal display device shown in FIG. 1. 従来のカラーフィルタ基板を備える液晶表示装置の構成を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of a liquid crystal display device provided with the conventional color filter board | substrate.

符号の説明Explanation of symbols

1,11…カラーフィルタ基板、2,12…TFT駆動電極基板、3,13…液晶層、4,14…ガラス基板、5,15…着色層、6,17…ITO層、7,16…オーバーコート層。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,11 ... Color filter substrate, 2,12 ... TFT drive electrode substrate, 3,13 ... Liquid crystal layer, 4,14 ... Glass substrate, 5,15 ... Colored layer, 6, 17 ... ITO layer, 7, 16 ... Over Coat layer.

Claims (2)

透明基板と、この透明基板上に形成された複数色の着色画素からなる着色層と、この着色層上及びその周辺の透明基板上に形成された透明導電層と、この透明導電層上の前記着色層に対応する領域に形成されたオーバーコート層とを具備し、前記透明導電層の周辺部には前記オーバーコート層が形成されていないことを特徴とするIPS方式液晶表示装置用カラーフィルタ。   A transparent substrate, a colored layer comprising colored pixels of a plurality of colors formed on the transparent substrate, a transparent conductive layer formed on the colored layer and its surrounding transparent substrate, and the transparent conductive layer on the transparent conductive layer And an overcoat layer formed in a region corresponding to the colored layer, wherein the overcoat layer is not formed in the periphery of the transparent conductive layer. 請求項1に記載のカラーフィルタを具備することを特徴とするIPS方式液晶表示装置。   An IPS liquid crystal display device comprising the color filter according to claim 1.
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