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JP2008120689A - Method for producing n-substituted formyl polymethylene imine - Google Patents

Method for producing n-substituted formyl polymethylene imine Download PDF

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JP2008120689A
JP2008120689A JP2006302719A JP2006302719A JP2008120689A JP 2008120689 A JP2008120689 A JP 2008120689A JP 2006302719 A JP2006302719 A JP 2006302719A JP 2006302719 A JP2006302719 A JP 2006302719A JP 2008120689 A JP2008120689 A JP 2008120689A
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Makoto Saito
真 齊藤
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Koei Chemical Co Ltd
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Koei Chemical Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an industrially advantageous method for producing an N-substututed formyl polyethylene imine. <P>SOLUTION: This method for producing the N-substituted formyl polyethylene imine represented by formula (2) [R is an aryl or an aralkyl; (m) is an integer of 0 to 3] by oxidizing an N-substituted hydroxymethyl polyethylene imine represented by formula (1) with an alkali metal hypohalite in the presence of a compound having a nitroxide-releasing group, is characterized by treating the compound having the nitroxide-releasing group with an oxidizing agent and then reusing the compound, when reusing the compound having the nitroxide-releasing group. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、医薬品等の合成中間体として有用な化合物である式(2):   The present invention is a compound useful as a synthetic intermediate for pharmaceuticals and the like (2):

Figure 2008120689
(式中、Rはアリール基又はアラルキル基を表し、mは0〜3の整数である。)で示されるN−置換−ホルミルポリメチレンイミン(以下、N−置換−ホルミルポリメチレンイミン(2)という。)の製造方法に関する。
Figure 2008120689
(In the formula, R represents an aryl group or an aralkyl group, and m is an integer of 0 to 3.) N-substituted-formylpolymethyleneimine (hereinafter, N-substituted-formylpolymethyleneimine (2) Is related to the manufacturing method.

従来、N−置換−ホルミルポリメチレンイミン(2)の製造方法としては、式(1):   Conventionally, as a method for producing N-substituted-formylpolymethyleneimine (2), formula (1):

Figure 2008120689
(式中、R及びmは前記に同じ。)で示されるN−置換−ヒドロキシメチルポリメチレンイミン(以下、N−置換−ヒドロキシメチルポリメチレンイミン(1)という。)を、ニトロキシド遊離基を有する化合物の存在下、次亜ハロゲン酸アルカリ金属塩で酸化反応せしめる方法が知られており(例えば、特許文献1参照)、反応終了後に回収したニトロキシド遊離基を有する化合物は、N−置換−ホルミルポリメチレンイミン(1)の製造に再使用できることが記載されている。
特開2000−143627
Figure 2008120689
(In the formula, R and m are the same as above.) N-substituted hydroxymethylpolymethyleneimine (hereinafter referred to as N-substituted hydroxymethylpolymethyleneimine (1)) has a nitroxide free radical. There is known a method of oxidizing with an alkali metal hypohalous acid salt in the presence of a compound (see, for example, Patent Document 1), and a compound having a nitroxide free radical recovered after the reaction is N-substituted-formylpoly It is described that it can be reused for the production of methyleneimine (1).
JP 2000-143627 A

本発明者は、反応終了後の回収ニトロキシド遊離基を有する化合物の再使用について鋭意検討したところ、回収したニトロキシド遊離基を有する化合物には不純物として式(3):
R−CHO (3)
(式中、Rは前記に同じ。)で示されるアルデヒド化合物(以下、アルデヒド化合物(3)という。)が含まれており、このまま再使用すればアルデヒド化合物(3)と次亜ハロゲン酸アルカリ金属塩が反応するために、次亜ハロゲン酸アルカリ金属塩の使用量を低減して、例えば理論量相当で反応を行うと目的物であるN−置換−ホルミルポリメチレンイミン(2)の収率がかなり低下することを見出した。従って、本発明は、かかる問題点を解決しうる工業的に有利なN−置換−ホルミルポリメチレンイミン(2)の製造方法を提供することを課題とする。
The present inventor diligently investigated the reuse of the compound having a recovered nitroxide free group after completion of the reaction. As a result, the recovered compound having a nitroxide free group has an impurity represented by the formula (3):
R-CHO (3)
(Wherein R is the same as above) (hereinafter referred to as aldehyde compound (3)), and if reused as it is, aldehyde compound (3) and alkali metal hypohalite For example, when the reaction is carried out in an amount equivalent to the theoretical amount by reducing the amount of alkali metal hypohalite used because the salt reacts, the yield of the target N-substituted-formylpolymethyleneimine (2) is increased. I found it to drop considerably. Accordingly, an object of the present invention is to provide an industrially advantageous method for producing N-substituted-formylpolymethyleneimine (2) which can solve such problems.

本発明は、N−置換−ヒドロキシメチルポリメチレンイミン(1)を、ニトロキシド遊離基を有する化合物の存在下、次亜ハロゲン酸アルカリ金属塩で酸化反応せしめてN−置換−ホルミルポリメチレンイミン(2)を製造する方法において、ニトロキシド遊離基を有する化合物を再使用するに当たり、ニトロキシド遊離基を有する化合物を酸化剤で処理して再使用することを特徴とする、N−置換−ホルミルポリメチレンイミンの製造方法に関する。   In the present invention, N-substituted-formylpolymethyleneimine (2) is obtained by oxidizing N-substituted-hydroxymethylpolymethyleneimine (1) with an alkali metal hypohalite in the presence of a compound having a nitroxide free group. In the process for producing N) -formylpolymethyleneimine, the compound having a nitroxide free radical is reused after being treated with an oxidizing agent. It relates to a manufacturing method.

本発明の製造方法により、ニトロキシド遊離基を有する化合物を酸化剤で処理することによって副生するアルデヒド化合物(3)を除去することができ、このようにして得られるニトロキシド遊離基を有する化合物を再使用することにより、理論量相当の次亜ハロゲン酸アルカリ金属塩を用いてもN−置換−ホルミルポリメチレンイミン(2)の収率低下を抑制することができ、工業的に有利にN−置換−ホルミルポリメチレンイミン(2)を製造することができる。   According to the production method of the present invention, the by-product aldehyde compound (3) can be removed by treating a compound having a nitroxide free radical with an oxidizing agent, and the thus obtained compound having a nitroxide free radical is recycled. By using the hypohalous acid alkali metal salt corresponding to the theoretical amount, it is possible to suppress the yield reduction of the N-substituted formylpolymethyleneimine (2), and industrially advantageous N-substituted. -Formyl polymethyleneimine (2) can be produced.

以下、本発明を詳細に説明する。
式(1)及び式(2)中、Rはアリール基又はアラルキル基を表し、好ましくはアリール基である。アリール基としては、メチル基、エチル基等のアルキル基等を有していてもよいフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。アラルキル基としては、例えば芳香環にメチル基、エチル基等のアルキル基等を有していてもよいベンジル基、1−フェネチル基、2−フェネチル基等が挙げられる。mは0〜3の整数であり、好ましくは、mは1及び2である。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
In formula (1) and formula (2), R represents an aryl group or an aralkyl group, preferably an aryl group. Examples of the aryl group include a phenyl group and naphthyl group which may have an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group. Examples of the aralkyl group include a benzyl group, a 1-phenethyl group, and a 2-phenethyl group, which may have an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group in an aromatic ring. m is an integer of 0 to 3, and preferably m is 1 or 2.

N−置換−ヒドロキシメチルポリメチレンイミン(1)としては、N−置換−ヒドロキシメチルアゼチジン類、N−置換−ヒドロキシメチルピロリジン類、N−置換−ヒドロキシメチルピペリジン類及びN−置換−ヒドロキシメチルヘキサメチレンイミン類であり、好ましくはN−置換−ヒドロキシメチルピロリジン類及びN−置換−ヒドロキシメチルピペリジン類である。具体的には、N−ベンジル−2−(ヒドロキシメチル)ピロリジン、N−ベンジル−3−(ヒドロキシメチル)ピロリジン、N−ベンジル−2−(ヒドロキシメチル)ピペリジン、N−ベンジル−3−(ヒドロキシメチル)ピペリジン、N−ベンジル−4−(ヒドロキシメチル)ピペリジン等が挙げられる。   N-substituted-hydroxymethyl polymethyleneimines (1) include N-substituted-hydroxymethyl azetidines, N-substituted-hydroxymethyl pyrrolidines, N-substituted-hydroxymethyl piperidines and N-substituted-hydroxymethyl hexaxines. Methyleneimines, preferably N-substituted-hydroxymethylpyrrolidines and N-substituted-hydroxymethylpiperidines. Specifically, N-benzyl-2- (hydroxymethyl) pyrrolidine, N-benzyl-3- (hydroxymethyl) pyrrolidine, N-benzyl-2- (hydroxymethyl) piperidine, N-benzyl-3- (hydroxymethyl) ) Piperidine, N-benzyl-4- (hydroxymethyl) piperidine and the like.

そして本発明の製造方法により、上記N−置換−ヒドロキシメチルポリメチレンイミン(1)のヒドロキシメチル基がホルミル基に酸化されて対応するN−置換−ホルミルポリメチレンイミン(2)が製造される。例えば、N−置換−ヒドロキシメチルアゼチジン類、N−置換−ヒドロキシメチルピロリジン類、N−置換−ヒドロキシメチルピペリジン類及びN−置換−ヒドロキシメチルヘキサメチレンイミン類から、それぞれN−置換−ホルミルアゼチジン類、N−置換−ホルミルピロリジン類、N−置換−ホルミルピペリジン類及びN−置換−ホルミルヘキサメチレンイミン類が製造される。N−置換−ホルミルポリメチレンイミン(2)の具体例としては、N−ベンジル−2−ホルミルピロリジン、N−ベンジル−3−ホルミルピロリジン、N−ベンジル−2−ホルミルピペリジン、N−ベンジル−3−ホルミルピペリジン、N−ベンジル−4−ホルミルピペリジン等が挙げられる。   Then, by the production method of the present invention, the hydroxymethyl group of the N-substituted-hydroxymethylpolymethyleneimine (1) is oxidized to a formyl group to produce the corresponding N-substituted-formylpolymethyleneimine (2). For example, N-substituted-formylazetidine, N-substituted-hydroxymethylpyrrolidines, N-substituted-hydroxymethylpiperidines and N-substituted-hydroxymethylhexamethyleneimines, respectively. , N-substituted-formylpyrrolidines, N-substituted-formylpiperidines and N-substituted-formylhexamethyleneimines are prepared. Specific examples of N-substituted-formylpolymethyleneimine (2) include N-benzyl-2-formylpyrrolidine, N-benzyl-3-formylpyrrolidine, N-benzyl-2-formylpiperidine, N-benzyl-3- Examples include formylpiperidine and N-benzyl-4-formylpiperidine.

本発明において使用するニトロキシド遊離基を有する化合物は、好ましくは当該遊離基近傍に嵩高い置換基を有する化合物であり、例えばJ.Med.Chem.41、3477(1998)等に記載されるような2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル及びその誘導体、2,2,5,5−テトラメチルピロリジン−1−オキシル及びその誘導体並びに2,2,5,5−テトラメチル−3−ピロリン−1−オキシル及びその誘導体が挙げられ、具体的には、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル、該2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルの4位にアシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等)又はアラルキルオキシ基(例えば、ベンジルオキシ基等)等の置換基を有する2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル誘導体、2,2,5,5−テトラメチルピロリジン−1−オキシル、該2,2,5,5−テトラメチルピロリジン−1−オキシルの3位にアシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等)又はアラルキルオキシ基(例えば、ベンジルオキシ基等)等の置換基を有する2,2,5,5−テトラメチルピロリジン−1−オキシル誘導体、並びに2,2,5,5−テトラメチル−3−ピロリン−1−オキシル、該2,2,5,5−テトラメチル−3−ピロリン−1−オキシルの3位にアシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等)又はアラルキルオキシ基(例えば、ベンジルオキシ基等)等の置換基を有する2,2,5,5−テトラメチル−3−ピロリン−1−オキシル誘導体等が挙げられる。その使用量はN−置換−ヒドロキシメチルポリメチレンイミン(1)1モルに対して0.0005〜10モル、好ましくは0.1〜1.0モルの範囲が適切である。   The compound having a nitroxide free radical used in the present invention is preferably a compound having a bulky substituent in the vicinity of the free radical. Med. Chem. 41, 3477 (1998) and the like, 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl and derivatives thereof, 2,2,5,5-tetramethylpyrrolidine-1-oxyl and derivatives thereof 2,2,5,5-tetramethyl-3-pyrroline-1-oxyl and derivatives thereof, specifically, 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, Acyloxy group (eg, acetoxy group, propionyloxy group, benzoyloxy group, etc.), alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, etc.) at the 4-position of 2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl Or a 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl derivative having a substituent such as an aralkyloxy group (eg, benzyloxy group) 2,2,5,5-tetramethylpyrrolidine-1-oxyl, an acyloxy group (for example, acetoxy group, propionyloxy group, 3-position of 2,2,5,5-tetramethylpyrrolidine-1-oxyl, 2,2,5,5-tetramethylpyrrolidine having a substituent such as benzoyloxy group, alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, etc.) or aralkyloxy group (for example, benzyloxy group, etc.) -1, -oxyl derivative, 2,2,5,5-tetramethyl-3-pyrrolin-1-oxyl, acyloxy at the 3-position of 2,2,5,5-tetramethyl-3-pyrrolin-1-oxyl Groups (for example, acetoxy group, propionyloxy group, benzoyloxy group, etc.), alkoxy groups (for example, methoxy group, ethoxy group, propoxy group) Group) or an aralkyl group (e.g., such as 2,2,5,5-tetramethyl-3-pyrroline-1-oxyl derivatives having a substituent such as a benzyloxy group). The amount used is 0.0005 to 10 mol, preferably 0.1 to 1.0 mol, per 1 mol of N-substituted-hydroxymethylpolymethyleneimine (1).

また、本発明の製造方法においては、収率を向上させる点から、相間移動触媒の存在下の反応が好ましい。相間移動触媒としては、一般に有機合成反応に使用されている公知の相間移動触媒が挙げられ、好ましくは第4級アンモニウム塩、ピリジニウム塩及び第4級ホスホニウム塩等のイオン型のものである。具体的には、第4級アンモニウム塩としては、例えばテトラメチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムクロリド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、及びベンジルトリブチルアンモニウムクロリド、並びにこれらの塩の塩化物イオンが他のアニオン(例えば、臭化物イオン、ヨウ化物イオン及び硫酸水素イオン等)に置き換わったもの等が挙げられ、ピリジニウム塩としては、例えばN−ブチルピリジニウムクロリド、N−ヘキシルピリジニウムクロリド、N−オクチルピリジニウムクロリド、N−ラウリルピリジニウムクロリド、N−セチルピリジニウムクロリド等のN−アルキルピリジニウムクロリド、N−ラウリル−2−ピコリウムクロリド、N−セチル−2−ピコリウムクロリド、N−ラウリル−3−ピコリウムクロリド、N−セチル−3−ピコリウムクロリド、N−ラウリル−4−ピコリウムクロリド、N−セチル−4−ピコリウムクロリド等のN−アルキルピコリニウムクロリド、N−ブチル−4−フェニルプロピルピリジニウムクロリド、N−ヘキシル−4−フェニルプロピルピリジニウムクロリド、N−オクチル−4−フェニルプロピルピリジニウムクロリド、N−ラウリル−4−フェニルプロピルピリジニウムクロリド等のN−アルキル−4−フェニルプロピルピリジニウムクロリド、並びにこれらの塩の塩化物イオンが他のアニオン(例えば、臭化物イオン、ヨウ化物イオン及び硫酸水素イオン等)に置き換わったもの等が挙げられ、また第4級ホスホニウム塩としては、テトラブチルホスホニウムクロリド、テトラフェニルホスホニウムクロリド、トリブチルデシルホスホニウムクロリド、トリエチルヘキサデシルホスホニウムクロリド、並びにこれらの塩の塩化物イオンが他のアニオン(例えば、臭化物イオン、ヨウ化物イオン及び硫酸水素イオン等)に置き換わったものが挙げられる。その使用量は、N−置換―ヒドロキシメチルポリメチレンイミン(1)1重量部に対し0.0005〜1重量部、好ましくは0.05〜0.2重量部の範囲が適切である。   Moreover, in the manufacturing method of this invention, the reaction in presence of a phase transfer catalyst is preferable from the point of improving a yield. Examples of the phase transfer catalyst include known phase transfer catalysts that are generally used in organic synthesis reactions, and are preferably ionic types such as quaternary ammonium salts, pyridinium salts, and quaternary phosphonium salts. Specifically, examples of the quaternary ammonium salt include tetramethylammonium chloride, tetrabutylammonium chloride, trioctylmethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium chloride, and benzyltributylammonium chloride, and chloride ions of these salts. Examples of the pyridinium salt include N-butylpyridinium chloride, N-hexylpyridinium chloride, N-octylpyridinium chloride, and the like, which include other anions (for example, bromide ion, iodide ion and hydrogen sulfate ion). N-alkylpyridinium chloride such as N-laurylpyridinium chloride, N-cetylpyridinium chloride, N-lauryl-2-picolium chloride, N-cetyl-2-pico N-alkylpicolinium chlorides such as um chloride, N-lauryl-3-picolium chloride, N-cetyl-3-picolium chloride, N-lauryl-4-picolium chloride, N-cetyl-4-picolium chloride, N-alkyl-4 such as N-butyl-4-phenylpropylpyridinium chloride, N-hexyl-4-phenylpropylpyridinium chloride, N-octyl-4-phenylpropylpyridinium chloride, N-lauryl-4-phenylpropylpyridinium chloride -Phenylpropylpyridinium chloride, and those in which chloride ions of these salts are replaced with other anions (for example, bromide ion, iodide ion, hydrogen sulfate ion, etc.), and quaternary phosphonium salts include Tetrabutylphos Nitrogen chloride, tetraphenylphosphonium chloride, tributyldecylphosphonium chloride, triethylhexadecylphosphonium chloride, and the chloride ions of these salts replaced with other anions (eg, bromide ion, iodide ion, hydrogen sulfate ion, etc.) Is mentioned. The amount used is 0.0005 to 1 part by weight, preferably 0.05 to 0.2 part by weight per 1 part by weight of N-substituted-hydroxymethylpolymethyleneimine (1).

また、本発明における次亜ハロゲン酸アルカリ金属塩としては、次亜塩素酸及び次亜臭素酸のナトリウム塩及びカリウム塩が使用でき、好ましくは次亜塩素酸ナトリウムである。その使用量は、理論量相当であれば十分であり、N−置換−ヒドロキシメチルポリメチレンイミン(1)1モルに対して、通常0.5〜1.5モル、好ましくは0.8〜1.2モルである。   Moreover, as an alkali metal hypohalous acid salt in this invention, the sodium salt and potassium salt of hypochlorous acid and hypobromite can be used, Preferably it is sodium hypochlorite. The amount used is sufficient if it corresponds to the theoretical amount, and is usually 0.5 to 1.5 mol, preferably 0.8 to 1 mol per mol of N-substituted-hydroxymethylpolymethyleneimine (1). .2 moles.

また、臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭化マグネシウム等のアルカリ金属、アルカリ土類金属等の臭化物塩を添加しても良い。その添加量は、N−置換−ヒドロキシメチルポリメチレンイミン(1)1モルに対して0.01〜5モル、好ましくは0.05モル〜1.5モルの範囲が適切である。   Further, an alkali metal such as sodium bromide, potassium bromide, or magnesium bromide, or a bromide salt such as an alkaline earth metal may be added. The addition amount is 0.01 to 5 mol, preferably 0.05 to 1.5 mol per mol of N-substituted-hydroxymethylpolymethyleneimine (1).

反応には、通常溶媒を使用する。溶媒には、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、酢酸エチル、エチルエーテル及びイソプロピルエーテル等から選ばれる少なくとも1種の疎水性有機溶媒と水の混合溶媒が使用される。溶媒の使用量は特に制限は無いが、N−置換−ヒドロキシメチルポリメチレンイミン(1)1重量部に対して、有機溶媒は4〜15重量部、水は0.1〜4重量部が適切である。   A solvent is usually used for the reaction. As the solvent, a mixed solvent of water and at least one hydrophobic organic solvent selected from dichloromethane, dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride, benzene, toluene, xylene, mesitylene, ethyl acetate, ethyl ether, isopropyl ether and the like is used. The Although there is no restriction | limiting in particular in the usage-amount of a solvent, 4-15 weight part of organic solvents and 0.1-4 weight part of water are suitable with respect to 1 weight part of N-substituted-hydroxymethyl polymethyleneimine (1). It is.

反応温度は、通常−10〜60℃の範囲であるが、−5〜30℃の範囲で実施することが好ましい。反応時間については、反応温度、原料化合物の種類及び使用量等によって異なり、それぞれの条件に応じて適宜変わり得る。   The reaction temperature is usually in the range of −10 to 60 ° C., but preferably in the range of −5 to 30 ° C. About reaction time, it changes with reaction temperature, the kind of raw material compound, the usage-amount, etc., and can change suitably according to each condition.

反応終了後の反応混合物からは、例えば次のようにして生成したN−置換−ホルミルポリメチレンイミン(2)を単離することができる。すなわち、得られた反応混合物を水層と有機層とに分液し、有機層に酸の水溶液を加えてN−置換−ホルミルポリメチレンイミン(2)と酸との塩を形成させて分液する。このような酸処理をすることにより、水層にはN−置換−ホルミルポリメチレンイミン(2)の酸塩が、有機層には反応に使用したニトロキシド遊離基を有する化合物及びアルデヒド化合物(3)が、それぞれ分配するため、N−置換−ホルミルポリメチレンイミン(2)と、ニトロキシド遊離基を有する化合物及びアルデヒド化合物(3)とを分離することができる。次いで水層にアルカリを加えて、上記N−置換−ホルミルポリメチレンイミン(2)の酸塩から遊離のN−置換−ホルミルポリメチレンイミン(2)を生成させ、次いで疎水性有機溶媒を加えて抽出し、有機層を蒸留すれば、N−置換−ホルミルポリメチレンイミン(2)を単離することができる。   From the reaction mixture after completion of the reaction, for example, N-substituted-formylpolymethyleneimine (2) produced as follows can be isolated. That is, the obtained reaction mixture is separated into an aqueous layer and an organic layer, and an aqueous solution of an acid is added to the organic layer to form a salt of N-substituted formylpolymethyleneimine (2) and an acid. To do. By performing such acid treatment, the aqueous layer contains an acid salt of N-substituted-formylpolymethyleneimine (2), and the organic layer has a nitroxide free radical compound and an aldehyde compound (3) used in the reaction. However, since each distributes, the N-substituted formylpolymethyleneimine (2) can be separated from the compound having a nitroxide free group and the aldehyde compound (3). Next, alkali is added to the aqueous layer to form free N-substituted-formylpolymethyleneimine (2) from the acid salt of N-substituted-formylpolymethyleneimine (2), and then a hydrophobic organic solvent is added. If extracted and the organic layer is distilled, N-substituted-formylpolymethyleneimine (2) can be isolated.

そして、本発明の製造方法におけるニトロキシド遊離基を有する化合物の酸化剤処理としては、通常、ニトロキシド遊離基を有する化合物及びアルデヒド化合物(3)を含有する、上記酸処理において得られる有機層を酸化剤と混合すればよい(以下、酸化剤処理という)。このようにすれば、アルデヒド化合物(3)が式(4):
R−COOH (4)
(式中、Rは前記に同じ。)で示されるカルボン酸(以下、カルボン酸(4)という。)に酸化される。その後、アルカリ水溶液を加えて抽出すれば、アルデヒド化合物(3)が除去された、反応に再使用できるニトロキシド遊離基を有する化合物を含有する有機層が得られる。該有機層は、そのまま又は有機溶媒を除去して、N−置換−ホルミルポリメチレンイミンの製造のためのニトロキシド遊離基を有する化合物として再使用できる。
And as an oxidizing agent process of the compound which has a nitroxide free group in the manufacturing method of this invention, the organic layer obtained in the said acid treatment containing the compound and aldehyde compound (3) which have a nitroxide free group normally is an oxidizing agent. (Hereinafter referred to as oxidant treatment). In this way, the aldehyde compound (3) is represented by the formula (4):
R-COOH (4)
(Wherein R is the same as above) and is oxidized to a carboxylic acid (hereinafter referred to as carboxylic acid (4)). Then, if it extracts by adding aqueous alkali solution, the organic layer containing the compound which has the nitroxide free radical which can be reused for reaction from which the aldehyde compound (3) was removed will be obtained. The organic layer can be reused as it is or as a compound having a nitroxide free radical for the preparation of N-substituted-formylpolymethyleneimine, with the organic solvent removed.

酸化剤としては、アルデヒド化合物(3)を酸化せしめてカルボン酸(4)を生成させるものであれば、特に限定されず、例えば過酸化水素、過ホウ酸塩、過マンガン酸塩、過クロム酸塩、過有機酸、亜ハロゲン酸アルカリ金属塩等が挙げられ、好ましくは亜ハロゲン酸アルカリ金属塩である。亜ハロゲン酸アルカリ金属塩としては、亜塩素酸ナトリウム、亜塩素酸カリウム、亜臭素酸ナトリウム、亜臭素酸カリウム等が挙げられ、好ましくは亜塩素酸ナトリウムである。酸化剤の使用量は回収したニトロキシド遊離基を有する化合物中に含有するアルデヒド化合物1モルに対して0.5〜10モル、好ましくは1〜3モルである。酸化剤は水溶液として用いることもでき、その際の濃度は1〜45%、好ましくは10〜35%である。   The oxidizing agent is not particularly limited as long as it oxidizes the aldehyde compound (3) to produce the carboxylic acid (4). For example, hydrogen peroxide, perborate, permanganate, perchromic acid Examples thereof include salts, perorganic acids, alkali metal halides and the like, preferably alkali metal halides. Examples of the alkali metal phosphite include sodium chlorite, potassium chlorite, sodium bromite, potassium bromite and the like, preferably sodium chlorite. The amount of the oxidizing agent used is 0.5 to 10 mol, preferably 1 to 3 mol based on 1 mol of the aldehyde compound contained in the recovered compound having a nitroxide free group. The oxidizing agent can also be used as an aqueous solution, and the concentration at that time is 1 to 45%, preferably 10 to 35%.

酸化剤処理を実施するには、ニトロキシド遊離基を有する化合物及びアルデヒド化合物(3)を含有する酸処理において得られる有機層に水を存在させるのが好ましく、さらに好ましくは緩衝剤を共存させる。有機層を形成する有機溶媒には、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、酢酸エチル、エチルエーテル及びイソプロピルエーテル等から選ばれる少なくとも1種の疎水性有機溶媒が挙げられる。溶媒の使用量は特に制限は無いが、N−置換−ヒドロキシメチルポリメチレンイミン(1)1重量部に対して有機溶媒は4〜15重量部、水は2〜10重量部が適切である。   In order to carry out the oxidizing agent treatment, water is preferably present in the organic layer obtained in the acid treatment containing the compound having a nitroxide free group and the aldehyde compound (3), and more preferably a buffering agent is allowed to coexist. Examples of the organic solvent that forms the organic layer include at least one hydrophobic organic solvent selected from dichloromethane, dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride, benzene, toluene, xylene, mesitylene, ethyl acetate, ethyl ether, isopropyl ether, and the like. It is done. The amount of the solvent used is not particularly limited, but 4 to 15 parts by weight of the organic solvent and 2 to 10 parts by weight of water are suitable for 1 part by weight of the N-substituted-hydroxymethylpolymethyleneimine (1).

緩衝剤としては、例えばリン酸ナトリウム、リン酸カリウム、等のアルカリ金属リン酸塩、例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等のアルカリ金属酢酸塩等が挙げられる。かかる緩衝剤の使用量は、用いた緩衝剤が有効に機能する量であれば特に限定されない。また、2−メチル−2−ブテン、過酸化水素、スルファミン酸、レゾルシノール等の次亜ハロゲン酸捕捉剤を使用してもよい。かかる次亜ハロゲン酸捕捉剤の使用量は、使用する亜ハロゲン酸アルカリ金属塩1モルに対して0.1〜20モル、好ましくは0.5〜10モルである。   Examples of the buffer include alkali metal phosphates such as sodium phosphate and potassium phosphate, and alkali metal acetates such as sodium acetate and potassium acetate. The amount of the buffer used is not particularly limited as long as the buffer used functions effectively. Further, a hypohalous acid scavenger such as 2-methyl-2-butene, hydrogen peroxide, sulfamic acid, resorcinol may be used. The usage-amount of this hypohalous acid scavenger is 0.1-20 mol with respect to 1 mol of alkali metal halous acid salts to be used, Preferably it is 0.5-10 mol.

反応温度は、通常−10〜50℃の範囲であるが、0〜30℃の範囲で実施することが好ましい。反応時間については、反応温度、原料化合物の種類及び使用量等によって異なり、それぞれの条件に応じて適宜変わり得る。   The reaction temperature is usually in the range of −10 to 50 ° C., but preferably in the range of 0 to 30 ° C. About reaction time, it changes with reaction temperature, the kind of raw material compound, the usage-amount, etc., and can change suitably according to each condition.

酸化剤処理終了後の混合物は水層と有機層に分液しているので、有機層を分取し、該有機層にアルカリ水溶液を加える。こうすれば、カルボン酸(4)のアルカリ金属塩が生成し、該アルカリ金属塩を水層に、ニトロキシド遊離基を有する化合物は有機層に、それぞれ分配することができる。この際に使用するアルカリは特に限定されないが、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の金属水酸化物、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム等の金属炭酸塩が用いられる。かかるアルカリの使用量は、回収したニトロキシド遊離基を有する化合物中に含有するアルデヒド化合物1モルに対して0.5〜20モル、好ましくは1〜5モルである。次いで有機層を分取することにより、アルデヒド化合物(3)が除去された、反応に使用したニトロキシド遊離基を有する化合物を含む有機層が得られる。該有機層は、そのまま又は有機溶媒を除去して、N−置換−ホルミルポリメチレンイミンの製造のためのニトロキシド遊離基を有する化合物として再使用することができる。   Since the mixture after the oxidant treatment is separated into an aqueous layer and an organic layer, the organic layer is separated, and an alkaline aqueous solution is added to the organic layer. In this way, an alkali metal salt of carboxylic acid (4) is generated, and the alkali metal salt can be distributed in the aqueous layer, and the compound having a nitroxide free radical can be distributed in the organic layer. Although the alkali used in this case is not particularly limited, for example, metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, and metal carbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium carbonate are used. The amount of the alkali used is 0.5 to 20 mol, preferably 1 to 5 mol, relative to 1 mol of the aldehyde compound contained in the recovered compound having a nitroxide free group. Next, by separating the organic layer, an organic layer containing a compound having a nitroxide free radical used in the reaction from which the aldehyde compound (3) has been removed is obtained. The organic layer can be reused as it is or after removal of the organic solvent as a compound having a nitroxide free radical for the preparation of N-substituted-formylpolymethyleneimine.

以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はそれらの実施例に限定されるものではない。なお、下記の実施例におけるHPLC及びGC分析条件は次の通りである。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. The HPLC and GC analysis conditions in the following examples are as follows.

[HPLC]
カラム;L−カラム(4.6mmΦ×25cm;化学物質評価研究機構製)
カラム温度;40℃
検出;220nm
溶離液;0.2%過塩素酸:アセトニトリル=9:1(10分)−9:1→3:7(40分)−3:7(10分)−3:7→9:1(10分)−9:1(10分)
溶離液流速;1.0mL/分
[GC]
カラム;DB−17(1.0μm)0.53mmφ×30m(J&Wサイエンティフィック社製)
キャリアガス;ヘリウム 20 mL/分
カラム温度;50℃−(5℃/分)−100℃(20℃/分)−250℃(2.5分)
検出器;FID
検出器温度;250℃
注入口温度;300℃
分析時間;20分
[HPLC]
Column; L-column (4.6 mmΦ × 25 cm; manufactured by Chemical Substance Evaluation Research Organization)
Column temperature: 40 ° C
Detection: 220 nm
Eluent: 0.2% perchloric acid: acetonitrile = 9: 1 (10 minutes) -9: 1 → 3: 7 (40 minutes) -3: 7 (10 minutes) -3: 7 → 9: 1 (10 Min) -9: 1 (10 min)
Eluent flow rate: 1.0 mL / min [GC]
Column; DB-17 (1.0 μm) 0.53 mmφ × 30 m (manufactured by J & W Scientific)
Carrier gas: Helium 20 mL / min Column temperature: 50 ° C-(5 ° C / min)-100 ° C (20 ° C / min)-250 ° C (2.5 min)
Detector; FID
Detector temperature: 250 ° C
Inlet temperature: 300 ° C
Analysis time: 20 minutes

参考例1
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル(以下、TEMPOという)80g、テトラブチルアンモニウムブロミド21gをトルエン1250gに溶解させ、撹拌下温度を11〜13℃に保ちながら、N−ベンジル−4−ヒドロキシメチルピペリジン210gを含むトルエン溶液680gと12重量%次亜塩素酸ナトリウム水溶液680gをそれぞれ8時間かけて同時に滴下した後、更に2時間撹拌した。反応終了後の反応混合物を水層と有機層に分液し、得られた有機層をHPLCにて分析したところ、N−ベンジル−4−ホルミルピペリジンの収率は58%(N−ベンジル−4−ヒドロキシメチルピペリジン基準)であった。この有機層を10〜20℃に保ちながら6重量%塩酸675gを加えた。滴下終了30分後に水層と有機層に分液し、有機層1700gを得た。有機層GCにて分析したところ、TEMPOを78g、ベンズアルデヒドを27g含有していた。この有機層を0.5重量%炭酸水素ナトリウム水溶液300gで洗浄し、分液して得られる有機層を減圧下で濃縮後、回収したTEMPO溶液550g(TEMPO:76g、ベンズアルデヒド:18g含有)を得た。
Reference example 1
80 g of 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl (hereinafter referred to as TEMPO) and 21 g of tetrabutylammonium bromide were dissolved in 1250 g of toluene, and while maintaining the temperature at 11 to 13 ° C. with stirring, N-benzyl 680 g of a toluene solution containing 210 g of -4-hydroxymethylpiperidine and 680 g of a 12 wt% sodium hypochlorite aqueous solution were simultaneously added dropwise over 8 hours, and the mixture was further stirred for 2 hours. The reaction mixture after completion of the reaction was separated into an aqueous layer and an organic layer, and the obtained organic layer was analyzed by HPLC. As a result, the yield of N-benzyl-4-formylpiperidine was 58% (N-benzyl-4 -Based on hydroxymethylpiperidine). While maintaining this organic layer at 10 to 20 ° C., 675 g of 6 wt% hydrochloric acid was added. 30 minutes after the completion of the dropping, the aqueous layer and the organic layer were separated to obtain 1700 g of an organic layer. When analyzed by the organic layer GC, 78 g of TEMPO and 27 g of benzaldehyde were contained. The organic layer was washed with 300 g of a 0.5 wt% aqueous sodium bicarbonate solution, and the resulting organic layer was concentrated under reduced pressure, and then recovered 550 g of TEMPO solution (containing TEMPO: 76 g, benzaldehyde: 18 g) was obtained. It was.

実施例1
参考例1で得られたTEMPO溶液500g(TEMPOを69g、ベンズアルデヒドを16g含む)に水(200g)とリン酸二水素カリウム(37g)を加え、溶液を撹拌して懸濁させた。25重量%亜塩素酸ナトリウム水溶液(104g)を15℃、6時間で滴下した。滴下終了後、2時間静置して反応液を分液し、有機層を5重量%炭酸水素ナトリウム水溶液(500g)で洗浄後、精製したTEMPO溶液457g(TEMPOを64g、ベンズアルデヒドを0.8g含む)を得た。
Example 1
Water (200 g) and potassium dihydrogen phosphate (37 g) were added to 500 g of the TEMPO solution obtained in Reference Example 1 (69 g of TEMPO and 16 g of benzaldehyde), and the solution was stirred and suspended. A 25 wt% aqueous sodium chlorite solution (104 g) was added dropwise at 15 ° C. for 6 hours. After completion of dropping, the reaction solution is separated by allowing to stand for 2 hours, and the organic layer is washed with a 5% by weight aqueous sodium hydrogen carbonate solution (500 g) and then purified 457 g (containing 64 g of TEMPO and 0.8 g of benzaldehyde). )

このようして得られたTEMPO溶液177g(TEMPOを25g含む)にトルエン180gとテトラブチルアンモニウムブロミド6gを加え、撹拌下温度を11〜13℃に保ちながら、N−ベンジル−4−ヒドロキシメチルピペリジン62gを含むトルエン溶液201gと12重量%次亜塩素酸ナトリウム水溶液200gをそれぞれ8時間かけて同時に滴下した後、更に2時間撹拌した。反応終了後の反応混合物を水層と有機層に分液し、得られた有機層をHPLCにて分析したところ、N−ベンジル−4−ホルミルピペリジンの収率は57%であった。   To 177 g of the TEMPO solution thus obtained (containing 25 g of TEMPO), 180 g of toluene and 6 g of tetrabutylammonium bromide were added, and 62 g of N-benzyl-4-hydroxymethylpiperidine was maintained while maintaining the temperature at 11 to 13 ° C. with stirring. Toluene solution 201 g containing 12 wt% sodium hypochlorite aqueous solution 200 g was added dropwise simultaneously over 8 hours, and the mixture was further stirred for 2 hours. The reaction mixture after completion of the reaction was separated into an aqueous layer and an organic layer, and the obtained organic layer was analyzed by HPLC. As a result, the yield of N-benzyl-4-formylpiperidine was 57%.

比較例1
実施例1のTEMPO溶液の代わりに参考例1で得られたTEMPO溶液181g(TEMPOを25g含む)を用いて、製造例1と同様の操作を実施し、得られた有機層をHPLCにて分析したところ、N−ベンジル−4−ホルミルピペリジンの収率は52%であった。
Comparative Example 1
The same operation as in Production Example 1 was performed using 181 g of the TEMPO solution obtained in Reference Example 1 (containing 25 g of TEMPO) instead of the TEMPO solution in Example 1, and the obtained organic layer was analyzed by HPLC. As a result, the yield of N-benzyl-4-formylpiperidine was 52%.

Claims (2)

式(1):
Figure 2008120689
(式中、Rはアリール基又はアラルキル基を表し、mは0〜3の整数である。)で示されるN−置換−ヒドロキシメチルポリメチレンイミンを、ニトロキシド遊離基を有する化合物の存在下、次亜ハロゲン酸アルカリ金属塩で酸化反応せしめて式(2):
Figure 2008120689
(式中、R及びmは前記に同じ。)で示されるN−置換−ホルミルポリメチレンイミンを製造する方法において、ニトロキシド遊離基を有する化合物を再使用するに当たり、ニトロキシド遊離基を有する化合物を酸化剤で処理して再使用することを特徴とする、N−置換−ホルミルポリメチレンイミンの製造方法。
Formula (1):
Figure 2008120689
(Wherein R represents an aryl group or an aralkyl group, and m is an integer of 0 to 3). In the presence of a compound having a nitroxide free group, N-substituted hydroxymethylpolymethyleneimine Oxidation reaction with an alkali metal halohalide salt gives formula (2):
Figure 2008120689
In the method for producing an N-substituted-formylpolymethyleneimine represented by the formula (wherein R and m are the same as above), the compound having a nitroxide free radical is oxidized when the compound having a nitroxide free radical is reused. A method for producing an N-substituted-formylpolymethyleneimine, which is treated with an agent and reused.
酸化剤が亜ハロゲン酸アルカリ金属塩である、請求項1記載の製造方法。   The production method according to claim 1, wherein the oxidizing agent is an alkali metal halite.
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