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JP2008116635A - Image display medium and method for manufacturing the same - Google Patents

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JP2008116635A
JP2008116635A JP2006298955A JP2006298955A JP2008116635A JP 2008116635 A JP2008116635 A JP 2008116635A JP 2006298955 A JP2006298955 A JP 2006298955A JP 2006298955 A JP2006298955 A JP 2006298955A JP 2008116635 A JP2008116635 A JP 2008116635A
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JP
Japan
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thin film
image display
display medium
substrate
film electrode
Prior art date
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Pending
Application number
JP2006298955A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeo Kakinuma
武夫 柿沼
Naoki Hiji
直樹 氷治
Hideo Kobayashi
英夫 小林
Shigeru Yamamoto
滋 山本
Taketo Hikiji
丈人 曳地
Masaaki Araki
雅昭 荒木
Mamoru Fujita
護 藤田
Tsutomu Manabe
力 真鍋
Motohiko Sakamaki
元彦 酒巻
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an image display medium in which the occurrence of short circuiting between electrodes is effectively prevented, the reliability of a display portion is high and the constitution is simple and inexpensive, and a method for manufacturing the same. <P>SOLUTION: The image display medium is constituted to include a first substrate laminate 1 formed with a first thin film electrode 1 having a high resistance portion 1d along top of a continuous line L connecting a point apart by a prescribed distance from a peripheral edge on a first substrate 1a, a second substrate laminate 2 arranged to face the first substrate laminate 1 and formed with a second thin film electrode 2b on a second substrate 2a, and a display layer 3 held between the first thin film electrode 1b of the first substrate laminate 1 and the second thin film electrode 2b of the second substrate laminate 2. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、画像表示媒体及びその製造方法に関し、さらに詳しくは、電極間の短絡の発生が有効に防止されて表示部分の信頼性が高いとともに、簡易かつ安価な構成の画像表示媒体及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an image display medium and a method for manufacturing the same, and more specifically, an image display medium having a simple and inexpensive structure with a highly reliable display portion in which occurrence of a short circuit between electrodes is effectively prevented and the manufacture thereof. Regarding the method.

近年、画像表示媒体として、紙媒体や電子ディスプレイデバイスの他に、両者の長所を併せ持った、紙の長所とされる視認性や携帯性を保持した表示媒体のうち表示内容を電気的に書き換えることができる「電子ペーパー」又「はデジタルペーパー」と呼ばれる画像表示媒体が注目されている。すなわち、RFID(RFタグ)に代表される非接触式ICを備えたカード類(例えば、定期券、診察券、会員カード、IDカード、キャッシュカード、クレジットカード、商品流通用タグ等)が普及するに従い、これらのカード上に文字、図形等の内容を書き換え可能に表示したいという要請が高まって来たことから、「電子ペーパー」等に対して大きな需要が見込まれるようになっている。   In recent years, in addition to paper media and electronic display devices as image display media, the contents of both have been combined, and the display contents are electrically rewritten among display media that have the advantages of paper and retain visibility and portability. An image display medium called “electronic paper” or “digital paper” that can be used is attracting attention. That is, cards (for example, commuter pass, examination ticket, membership card, ID card, cash card, credit card, merchandise distribution tag, etc.) having a non-contact IC represented by RFID (RF tag) are widely used. Accordingly, there has been a growing demand for rewritable display of characters, graphics, and the like on these cards, so that there is a great demand for “electronic paper” and the like.

このような「電子ペーパー」技術の中でも、単純な給電手段で短時間に高精彩の表示が可能で、表示面に対して非接触の書き込みが可能なことから、書き換え回数の多いICカード等への応用が期待される光書き込み型の「電子ペーパー」技術が注目されている(特許文献1参照)。このようなICカードに用いられる「電子ペーパー」の場合、機能層(表示層)の形成は塗布工程で行われるため、連続塗布を行った場合にはコストを低減することができるが、電極のパターン形成はフォトレジストの塗布、露光、現像、洗浄等からなるエッチング工程が必要であるため連続作業が困難で、コストを低減することが困難であった。コストダウンの方法としてはシート型無機ELデバイスに見られるようにパターニングを行わない全面電極を利用する方法があるが、「電子ペーパー」の駆動電圧は300V〜400Vと比較的大きいため「電子ペーパー」媒体を切り出した端面の電極間距離がばらついた場合、電極間距離(電極間水平距離)の小さな部分が短絡して放電し、破損してしまうおそれがあった。
特開2005−18348号公報
Among these “electronic paper” technologies, high-definition display can be achieved in a short time with simple power supply means, and non-contact writing can be performed on the display surface. The optical writing type “electronic paper” technology that is expected to be applied is attracting attention (see Patent Document 1). In the case of “electronic paper” used for such an IC card, since the formation of the functional layer (display layer) is performed in the coating process, the cost can be reduced when continuous coating is performed. Since pattern formation requires an etching process consisting of photoresist application, exposure, development, and washing, continuous operation is difficult and cost reduction is difficult. As a cost reduction method, there is a method using a full-surface electrode that is not patterned as seen in a sheet-type inorganic EL device. However, since the driving voltage of “electronic paper” is relatively large, 300V to 400V, “electronic paper” When the distance between the electrodes on the end face from which the medium was cut was varied, a portion having a small distance between the electrodes (horizontal distance between the electrodes) could be short-circuited and discharged, resulting in damage.
JP 2005-18348 A

本発明は上述の背景技術に鑑みてなされたものであり、電極間の短絡の発生が有効に防止されて表示部分の信頼性が高いとともに、簡易かつ安価な構成の画像表示媒体及びその効率的な製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described background art. The occurrence of a short circuit between electrodes is effectively prevented, the reliability of a display portion is high, and an image display medium having a simple and inexpensive configuration and its efficiency. An object of the present invention is to provide a simple manufacturing method.

上記目的を達成するため、本発明によれば、以下の画像表示媒体及びその製造方法が提供される。   In order to achieve the above object, according to the present invention, the following image display medium and a manufacturing method thereof are provided.

[1]第1の基板上に、周縁から所定距離だけ離れた地点を結んだ連続線上に沿って高抵抗部分を有する第1の薄膜電極が形成された第1の基板積層体と、前記第1の基板積層体に対向配置された、第2の基板上に第2の薄膜電極が形成された第2の基板積層体と、前記第1の基板積層体の第1の薄膜電極と前記第2の基板積層体の第2の薄膜電極との間に挟持された表示層と、を備えたことを特徴とする画像表示媒体。 [1] A first substrate laminate in which a first thin film electrode having a high resistance portion is formed on a first substrate along a continuous line connecting points separated from a peripheral edge by a predetermined distance; A second substrate laminate in which a second thin film electrode is formed on a second substrate, opposite to the first substrate laminate, the first thin film electrode of the first substrate laminate, and the first substrate laminate An image display medium comprising: a display layer sandwiched between the second thin film electrodes of the two substrate laminates.

[2]前記第1及び第2の薄膜電極は、前記第1及び第2の基板の全面に形成された全面電極であることを特徴とする前記[1]に記載の画像表示媒体。 [2] The image display medium according to [1], wherein the first and second thin film electrodes are full surface electrodes formed on the entire surfaces of the first and second substrates.

[3]前記第1の薄膜電極における前記高抵抗部分は、前記第1の薄膜電極の周縁から所定距離だけ離れた地点を結んだ1本又は複数本の連続線上に沿って形成されたことを特徴とする前記[1]に記載の画像表示媒体。 [3] The high resistance portion of the first thin film electrode is formed along one or a plurality of continuous lines connecting points separated by a predetermined distance from the periphery of the first thin film electrode. The image display medium according to [1], wherein the image display medium is characterized.

[4]前記第1の薄膜電極における前記高抵抗部分は、前記第1の薄膜電極に対する折り曲げ加工によって形成されたクラックに起因する導通破断部分であることを特徴とする前記[1]に記載の画像表示媒体。 [4] The high resistance portion of the first thin film electrode is a conductive fracture portion caused by a crack formed by bending the first thin film electrode. Image display medium.

[5]前記第1の薄膜電極における前記高抵抗部分は、前記第1の薄膜電極に対するレーザー加工によって形成された熱的ダメージに起因する導通破断部分であることを特徴とする前記[1]に記載の画像表示媒体。 [5] In the above [1], the high resistance portion in the first thin film electrode is a conductive fracture portion caused by thermal damage formed by laser processing on the first thin film electrode. The image display medium described.

[6]前記表示層は、液晶層及び光導電体層を含むことを特徴とする前記[1]に記載の画像表示媒体。 [6] The image display medium according to [1], wherein the display layer includes a liquid crystal layer and a photoconductor layer.

[7]前記第1及び第2の薄膜電極の表面に接続された、外部との電気的な接続を行うための第1及び第2の取出電極をさらに備えたことを特徴とする前記[1]に記載の画像表示媒体。 [7] The above [1], further comprising first and second extraction electrodes connected to the surfaces of the first and second thin film electrodes for electrical connection with the outside. ] The image display medium as described in.

[8]全体を被覆する保護層をさらに備えたことを特徴とする前記[1]に記載の画像表示媒体。 [8] The image display medium according to [1], further including a protective layer covering the entire surface.

[9]第1の基板上に第1の薄膜電極が形成された第1の基板積層体を用意する第1の工程と、前記第1の基板積層体の周縁から所定距離だけ離れた地点を結んだ連続線上に高抵抗部分を形成して、前記第1の基板積層体を高抵抗積層体とする第2の工程と、第2の基板上に第2の薄膜電極が形成された第2の基板積層体を用意するとともに、前記第2の基板積層体上に表示層を積層して表示積層体を形成する第3の工程と、前記高抵抗積層体と前記表示積層体とを貼り合わせる第4の工程とを含むことを特徴とする画像表示媒体の製造方法。 [9] A first step of preparing a first substrate laminate in which a first thin film electrode is formed on a first substrate, and a point separated by a predetermined distance from the periphery of the first substrate laminate. A second step in which a high resistance portion is formed on the connected continuous line to make the first substrate laminate a high resistance laminate, and a second thin film electrode is formed on the second substrate. A third step of forming a display laminate by laminating a display layer on the second substrate laminate, and bonding the high-resistance laminate and the display laminate together. And a fourth step. A method for manufacturing an image display medium, comprising:

[10]前記第2の工程において、前記第1の基板積層体の周縁から所定距離だけ離れた地点を結んだ連続線上に沿って折り曲げて、前記第1の薄膜電極の周縁から所定距離だけ離れた地点を結んだ連続線上に沿ってクラックに起因する導通破断部分からなる前記高抵抗部分を形成させることを特徴とする前記[9]に記載の画像表示媒体の製造方法。 [10] In the second step, bending is performed along a continuous line connecting points separated from the periphery of the first substrate stack by a predetermined distance, and separated from the periphery of the first thin film electrode by a predetermined distance. The method for manufacturing an image display medium according to [9], wherein the high-resistance portion including a conductive breakage portion caused by a crack is formed along a continuous line connecting the spots.

[11]前記第2の工程において、前記第1の基板積層体の周縁から所定距離だけ離れた地点を結んだ連続線上にレーザー光線を照射して、前記第1の薄膜電極の周縁から所定距離だけ離れた地点を結んだ連続線上に沿って熱的ダメージに起因する導通破断部分からなる前記高抵抗部分を形成させることを特徴とする前記[9]に記載の画像表示媒体の製造方法。 [11] In the second step, a laser beam is irradiated on a continuous line connecting points separated by a predetermined distance from the periphery of the first substrate stack, and only a predetermined distance from the periphery of the first thin film electrode. The method for producing an image display medium according to [9], wherein the high-resistance portion including a conductive breakage portion caused by thermal damage is formed along a continuous line connecting remote points.

[12]前記第1及び第2の薄膜電極として、前記第1及び第2の基板の全面に形成された全面電極を用いることを特徴とする前記[9]に記載の画像表示媒体の製造方法。 [12] The method for manufacturing an image display medium according to [9], wherein the first and second thin film electrodes are full surface electrodes formed on the entire surfaces of the first and second substrates. .

[13]前記表示層として、液晶層及び光導電体層を含むものを用いることを特徴とする前記[9]に記載の画像表示媒体の製造方法。 [13] The method for producing an image display medium according to [9], wherein the display layer includes a liquid crystal layer and a photoconductor layer.

[14]前記第1及び第2の薄膜電極の表面に、外部との電気的な接続を行うための第1及び第2の取出電極を接続する第5の工程をさらに含むことを特徴とする前記[9]に記載の画像表示媒体の製造方法。 [14] The method further includes a fifth step of connecting the first and second extraction electrodes for electrical connection to the outside to the surfaces of the first and second thin film electrodes. The method for producing an image display medium according to [9].

[15]全体を被覆する保護層を形成する第6の工程をさらに含むことを特徴とする前記[9]に記載の画像表示媒体の製造方法。 [15] The method for manufacturing an image display medium according to [9], further including a sixth step of forming a protective layer covering the whole.

本発明の請求項1に係る画像表示媒体によって、電極間の短絡の発生が有効に防止されて表示部分の信頼性が高いとともに、簡易かつ安価な構成が実現される。   With the image display medium according to the first aspect of the present invention, the occurrence of a short circuit between the electrodes is effectively prevented, the reliability of the display portion is high, and a simple and inexpensive configuration is realized.

本発明の請求項2に係る画像表示媒体の場合に、特に有効に上述の効果が発揮される。   In the case of the image display medium according to claim 2 of the present invention, the above-described effects are exhibited particularly effectively.

本発明の請求項3〜5に係る画像表示媒体によって、上述の効果が円滑かつ確実に発揮される。   With the image display medium according to claims 3 to 5 of the present invention, the above-described effects can be exhibited smoothly and reliably.

本発明の請求項6〜7に係る画像表示媒体によって、上述の効果を発揮する光書き込み型の「電子ペーパー」が実現される。   The image display medium according to claims 6 to 7 of the present invention realizes an optical writing type “electronic paper” that exhibits the above-described effects.

本発明の請求項8に係る画像表示媒体によって、上述の効果がさらに円滑かつ確実に発揮される。   With the image display medium according to claim 8 of the present invention, the above-described effects can be exhibited more smoothly and reliably.

本発明の請求項9に係る画像表示媒体の製造方法によって、電極間の短絡の発生が有効に防止されて表示部分の信頼性が高いとともに、簡易かつ安価な構成の画像表示媒体を効率的に製造することができる。   According to the method for manufacturing an image display medium according to claim 9 of the present invention, the occurrence of a short circuit between the electrodes is effectively prevented, the reliability of the display portion is high, and an image display medium having a simple and inexpensive configuration is efficiently produced. Can be manufactured.

本発明の請求項10〜11に係る画像表示媒体の製造方法によって、上述の効果が円滑かつ確実に発揮される。   By the method for manufacturing an image display medium according to claims 10 to 11 of the present invention, the above-described effects can be exhibited smoothly and reliably.

本発明の請求項12に係る画像表示媒体の製造方法の場合に、特に有効に上述の効果が発揮される。   In the case of the image display medium manufacturing method according to the twelfth aspect of the present invention, the above-described effects are exhibited particularly effectively.

本発明の請求項13〜14に係る画像表示媒体の製造方法によって、上述の効果を発揮する光書き込み型の「電子ペーパー」を効率的に製造することができる。   By the method for manufacturing an image display medium according to the thirteenth to fourteenth aspects of the present invention, an optical writing type “electronic paper” that exhibits the above-described effects can be efficiently manufactured.

本発明の請求項15に係る画像表示媒体の製造方法によって、上述の効果がさらに円滑かつ確実に発揮される。   According to the image display medium manufacturing method of the fifteenth aspect of the present invention, the above-described effects can be exhibited more smoothly and reliably.

〔第1の実施の形態〕
(画像表示媒体の構成)
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る画像表示媒体を示し、(a)は平面図、(b)はA−A線断面図、(c)はB−B線断面図である。図2は、図1に示す画像表示媒体の分解斜視図である。
[First Embodiment]
(Configuration of image display medium)
1A and 1B show an image display medium according to a first embodiment of the present invention. FIG. 1A is a plan view, FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line AA, and FIG. 1C is a cross-sectional view taken along line BB. is there. FIG. 2 is an exploded perspective view of the image display medium shown in FIG.

図1及び図2に示すように、本実施の形態の画像表示媒体10は、第1の基板1a上に、周縁から所定距離だけ離れた地点を結んだ連続線L上に沿って高抵抗部分1dを有する第1の薄膜電極1bが形成された第1の基板積層体1と、第1の基板積層体1に対向配置された、第2の基板2a上に第2の薄膜電極2bが形成された第2の基板積層体2と、第1の基板積層体1の第1の薄膜電極1bと第2の基板積層体2の第2の薄膜電極2bとの間に挟持された表示層3と、を備えた構成を有している。   As shown in FIGS. 1 and 2, the image display medium 10 according to the present embodiment has a high resistance portion along a continuous line L connecting points separated from the periphery by a predetermined distance on the first substrate 1a. The first thin film electrode 1b having the first thin film electrode 1b is formed, and the second thin film electrode 2b is formed on the second substrate 2a disposed opposite to the first thin film substrate 1 Display layer 3 sandwiched between the second substrate laminate 2 formed, the first thin film electrode 1b of the first substrate laminate 1 and the second thin film electrode 2b of the second substrate laminate 2 And a configuration provided with.

また、本実施の形態の画像表示媒体10は、第1及び第2の薄膜電極1b、2bの表面に接続された、外部との電気的な接続を行うための第1及び第2の取出電極1c、2cをさらに備えた構成を有している。なお、図1(b)、(c)において、表示層3は、第2の基板積層体2の第2の薄膜電極2b側に配置されているが、第1の基板積層体1の第1の薄膜電極1b側に配置されてもよい。また、表示層3と第1の薄膜電極1b又は第2の薄膜電極2bとの間に接着剤層を配置してもよい。   In addition, the image display medium 10 of the present embodiment includes first and second extraction electrodes connected to the surfaces of the first and second thin film electrodes 1b and 2b for electrical connection with the outside. 1c and 2c are further provided. In FIGS. 1B and 1C, the display layer 3 is disposed on the second thin film electrode 2b side of the second substrate laminate 2, but the first layer of the first substrate laminate 1 is the first. It may be arranged on the thin film electrode 1b side. Moreover, you may arrange | position an adhesive bond layer between the display layer 3 and the 1st thin film electrode 1b or the 2nd thin film electrode 2b.

また、本実施の形態の画像表示媒体10においては、第1及び第2の薄膜電極1b、2bとして、第1及び第2の基板1a、2aの全面に形成された全面電極が用いられている。   Further, in the image display medium 10 of the present embodiment, as the first and second thin film electrodes 1b and 2b, full-surface electrodes formed on the entire surfaces of the first and second substrates 1a and 2a are used. .

本実施の形態における画像表示媒体10は、例えば、光書き込み型、トナーディスプレイ型、電気泳動方式等の「電子ペーパー」による表示機能を付加したICカード等として用いられる。以下、構成要素ごとに具体的に説明する。   The image display medium 10 in the present embodiment is used as an IC card or the like to which a display function using “electronic paper” such as an optical writing type, a toner display type, and an electrophoretic method is added. Hereinafter, each component will be specifically described.

(基板積層体)
第1の基板積層体1は、第1の基板1a上に、周縁から所定距離だけ離れた地点を結んだ連続線L上に沿って高抵抗部分1dを有する第1の薄膜電極1bが形成されて構成されている。第2の基板積層体2は、第2の基板2a上に第2の薄膜電極2bが形成されて構成されている。第1の基板積層体1の第1の薄膜電極1bと第2の基板積層体2の第2の薄膜電極2bとの間には、後述する表示層3が挟持されている。
(Substrate laminate)
In the first substrate laminate 1, a first thin film electrode 1b having a high resistance portion 1d is formed on a first substrate 1a along a continuous line L connecting points separated from the periphery by a predetermined distance. Configured. The second substrate laminate 2 is configured by forming a second thin film electrode 2b on a second substrate 2a. A display layer 3 described later is sandwiched between the first thin film electrode 1b of the first substrate laminate 1 and the second thin film electrode 2b of the second substrate laminate 2.

第1及び第2の基板積層体1、2を構成する第1及び第2の基板1a、2aとしては、少なくとも表示側に位置する一方が、例えば、厚さが25〜200μmのポリエチレンテレフタレート(PET)等の透明な樹脂材料からなるように構成されたものを挙げることができる。   As the 1st and 2nd board | substrates 1a and 2a which comprise the 1st and 2nd board | substrate laminated bodies 1 and 2, at least one located in the display side, for example, the polyethylene terephthalate (PET) whose thickness is 25-200 micrometers And the like that are made of a transparent resin material.

第1及び第2の基板積層体1、2を構成する第1及び第2の薄膜電極1b、2bとしては、少なくとも表示側に位置する一方が、例えば、50〜350nmの酸化インジウム錫(ITO)、酸化亜鉛等からなる透明電極からなるように構成されたものを挙げることができる。   As the first and second thin film electrodes 1b and 2b constituting the first and second substrate laminates 1 and 2, at least one of them positioned on the display side is, for example, indium tin oxide (ITO) having a thickness of 50 to 350 nm. And a transparent electrode made of zinc oxide or the like.

第1の薄膜電極1bにおける高抵抗部分1dとしては、電極間の短絡の発生を有効に防止することが可能なものであれば特に制限はないが、例えば、第1の薄膜電極1bに対する折り曲げ加工によって形成されたクラックに起因する導通破断部分であることを挙げることができる。   The high resistance portion 1d of the first thin film electrode 1b is not particularly limited as long as it can effectively prevent the occurrence of a short circuit between the electrodes. For example, the first thin film electrode 1b is bent. It can be mentioned that the portion is a conductive fracture due to a crack formed by the above.

また、このような高抵抗部分1dの他の例としては、第1の薄膜電極1bに対するレーザー加工によって形成された熱的ダメージに起因する導通破断部分であることを挙げることができる。このようなレーザー加工としては、例えば、エキシマーレーザーや炭酸ガスレーザーなどのガスレーザー、YAGレーザーや半導体レーザーなどの固体レーザーなどを用いることができる。   Further, as another example of such a high resistance portion 1d, it can be mentioned that the portion is a conductive fracture due to thermal damage formed by laser processing on the first thin film electrode 1b. As such laser processing, for example, a gas laser such as an excimer laser or a carbon dioxide laser, or a solid laser such as a YAG laser or a semiconductor laser can be used.

上述のように、本実施の形態において、第1及び第2の薄膜電極1b、2bは、両者とも全面電極の形態を有するように構成されているが、画像表示媒体の種類により、例えば、一方が全面電極で他方が画素電極の形態、一方が複数の走査電極で他方が走査電極に直交する複数の信号電極の形態、一方が複数の走査電極で他方が走査電極上を長手方向に移動することにより走査する複数の個別電極の形態、一方が複数の信号電極で他方が信号電極上を長手方向に移動することにより走査する複数の個別電極の形態を有するものであってもよい。また、第1及び第2の薄膜電極1b、2bが行電極、列電極等の複数の電極からなる場合等において、後述する取出電極1c、2cが複数となる場合は、第1及び第2の取出電極5a、5bは、それぞれ第1及び第2の薄膜電極1b、2bに対応する電極群から構成される。   As described above, in the present embodiment, the first and second thin film electrodes 1b and 2b are both configured to have the form of full-surface electrodes, but depending on the type of the image display medium, for example, Is a full surface electrode, the other is a pixel electrode, one is a plurality of scan electrodes, the other is a plurality of signal electrodes perpendicular to the scan electrodes, one is a plurality of scan electrodes, and the other moves in the longitudinal direction on the scan electrodes It may have a form of a plurality of individual electrodes to be scanned, one of which is a plurality of signal electrodes, and the other of which is a form of a plurality of individual electrodes which are scanned by moving in the longitudinal direction on the signal electrode. Further, when the first and second thin film electrodes 1b and 2b are composed of a plurality of electrodes such as row electrodes and column electrodes, etc., when there are a plurality of extraction electrodes 1c and 2c described later, the first and second thin film electrodes 1b and 2b The extraction electrodes 5a and 5b are composed of electrode groups corresponding to the first and second thin film electrodes 1b and 2b, respectively.

(表示層)
表示層3としては、画像表示媒体10の種類により異なるが、例えば、液晶、着色粒子等を有する層からなるものを挙げることができる。画像表示媒体10が光書き込み型の「電子ペーパー」である場合、液晶層及び光導電体層を含むものを挙げることができる。このような表示層3の具体例としては、例えば、印加される電圧に応じて反射率(透過率)が変化する液晶層、光を吸収する光吸収層、光の照射によって抵抗値が小さくなる光導電体層を表示面側から順に積層した構成、又は、光吸収層、光導電体層、隔離層、液晶層を表示面側から順に積層した構成を有するものを挙げることができる。なお、液晶層としては、高分子分散液晶、マイクロカプセル化液晶(例えば、コレステリック液晶が封入されたマイクロカプセルを有するように構成されたもの)を挙げることができる。また、光導電体層としては、電荷輸送層と、この電荷輸送層の両側に積層された一対の電荷発生層とからなるように構成されたものを挙げることができる。これにより、液晶層への交流電圧の印加が可能となるため、液晶層の劣化を抑えることができ、駆動電圧の低電圧化、電子ペーパーの高寿命化を実現することができる。さらに、表示層3として、上述の他に、マイクロカプセル化電気泳動素子、ジリコン(Gyricon)素子等を挙げることができる。表示層3と薄膜電極1b、2bとの接合は、例えば、塗布や圧着等による貼り合わせ等を挙げることができる。
(Display layer)
As the display layer 3, although it changes with kinds of the image display medium 10, what consists of a layer which has a liquid crystal, a colored particle, etc. can be mentioned, for example. In the case where the image display medium 10 is an optical writing type “electronic paper”, a liquid crystal layer and a photoconductor layer may be included. Specific examples of such a display layer 3 include, for example, a liquid crystal layer whose reflectance (transmittance) changes according to an applied voltage, a light absorption layer that absorbs light, and a resistance value that is reduced by light irradiation. Examples thereof include a structure in which a photoconductor layer is laminated in order from the display surface side, or a structure in which a light absorption layer, a photoconductor layer, an isolation layer, and a liquid crystal layer are laminated in order from the display surface side. Note that examples of the liquid crystal layer include a polymer dispersed liquid crystal and a microencapsulated liquid crystal (for example, a liquid crystal layer configured to have a microcapsule in which a cholesteric liquid crystal is encapsulated). Examples of the photoconductor layer may include a charge transport layer and a pair of charge generation layers stacked on both sides of the charge transport layer. Thus, an alternating voltage can be applied to the liquid crystal layer, so that deterioration of the liquid crystal layer can be suppressed, and the driving voltage can be lowered and the lifetime of the electronic paper can be increased. Further, as the display layer 3, in addition to the above, a microencapsulated electrophoretic element, a gyricon element, and the like can be given. Examples of the bonding between the display layer 3 and the thin-film electrodes 1b and 2b include bonding by coating or pressure bonding.

(接着剤層)
表示層3と薄膜電極1b、2bとの接合性を高めるため、接着剤層(図示せず)を配置してもよい。このような接着剤層としては、例えば、アクリル系、ウレタン系の接着剤又は粘着剤を挙げることができる。接着剤層の厚さは、例えば、1〜8μmであることが好ましい。
(Adhesive layer)
In order to improve the bondability between the display layer 3 and the thin film electrodes 1b and 2b, an adhesive layer (not shown) may be disposed. Examples of such an adhesive layer include acrylic and urethane adhesives and pressure-sensitive adhesives. The thickness of the adhesive layer is preferably 1 to 8 μm, for example.

(取出電極)
第1及び第2の取出電極1c、2cとしては、例えば、厚さが50〜200μmのNi等の金属からなり、第1及び第2の薄膜電極1b、2bよりも高い剛性、又は硬度を有するものであることが好ましい。
(Extraction electrode)
The first and second extraction electrodes 1c and 2c are made of a metal such as Ni having a thickness of 50 to 200 μm, for example, and have higher rigidity or hardness than the first and second thin film electrodes 1b and 2b. It is preferable.

(保護層)
本実施の形態においては、図示はしないが、全体を被覆する保護層をさらに備えた構成とすることが好ましい。このような保護層としては、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)、非晶質PET(PET−G)、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、又はこれらを組み合わせて用いた透明な熱可塑性樹脂からなる熱可塑性フィルムを挙げることができる。このような熱可塑性フィルムは、例えば、熱可塑性部材を画像表示媒体10の表面にボンディングツールを用いて熱圧着することにより形成される。この場合、外部から第1及び第2の取出電極1c、2cに接続するための取出孔を有するように構成することが好ましい。なお、取出孔の磨耗を防止するため、取出孔に、Niやステンレス等の金属のパイプを嵌合し、この金属のパイプの中に第1及び第2の取出電極1c、2cを配線するようにしてもよい。
(Protective layer)
In the present embodiment, although not shown, it is preferable to further include a protective layer covering the whole. As such a protective layer, for example, a thermoplastic film made of a transparent thermoplastic resin using PET (polyethylene terephthalate), amorphous PET (PET-G), polyvinyl chloride, polyester, or a combination thereof. Can be mentioned. Such a thermoplastic film is formed, for example, by thermocompression bonding a thermoplastic member to the surface of the image display medium 10 using a bonding tool. In this case, it is preferable to have an extraction hole for connecting to the first and second extraction electrodes 1c and 2c from the outside. In order to prevent wear of the extraction hole, a metal pipe such as Ni or stainless steel is fitted into the extraction hole, and the first and second extraction electrodes 1c and 2c are wired in the metal pipe. It may be.

(ICチップ)
本実施の形態においては、図示はしないが、必要に応じて、無線タグ等のICチップを所定の領域に搭載してもよい。
(IC chip)
In this embodiment mode, although not illustrated, an IC chip such as a wireless tag may be mounted in a predetermined area as necessary.

(画像表示媒体の作製)
図3は、本発明の第1の実施の形態に係る画像表示媒体の製造工程を工程順に示す説明図であり、(a)は第1の基板積層体を用意する第1の工程を示し、(b)は折り曲げ加工によって高抵抗部分を形成して第1の基板積層体を高抵抗積層体とする第2の工程において、折り曲げ加工前の状態を示し、(c)は第2の工程において、折り曲げ加工後の状態を示し、(d)は、第2の基板積層体に表示層を積層して表示積層体を形成する第3の工程を示し、(e)は高抵抗積層体と表示積層体とを貼り合わせる第4の工程を示す。
(Production of image display medium)
FIG. 3 is an explanatory view showing the manufacturing process of the image display medium according to the first embodiment of the present invention in the order of steps, (a) shows the first step of preparing the first substrate laminate, (B) shows a state before bending in the second step in which the high resistance portion is formed by bending and the first substrate laminate is made into a high resistance laminate, and (c) is in the second step. The state after bending is shown, (d) shows the third step of forming the display laminate by laminating the display layer on the second substrate laminate, and (e) shows the high resistance laminate and the display. The 4th process of bonding a laminated body is shown.

(第1の工程)
図3(a)に示すように、第1の基板1a上に第1の薄膜電極1bが形成された第1の基板積層体1を用意する。具体的には、第1の基板1a上に第1の薄膜電極1bを全面塗布することによって形成し、図1(a)に示す平面形状に打ち抜いて第1の基板積層体1とする。
(First step)
As shown in FIG. 3A, a first substrate laminate 1 is prepared in which a first thin film electrode 1b is formed on a first substrate 1a. Specifically, the first thin film electrode 1b is formed on the entire surface of the first substrate 1a, and is punched into a planar shape shown in FIG.

(第2の工程)
図3(b)、(c)に示すように、第1の薄膜電極1bに確実に電気的な断線部分(高抵抗部分1d(図1(a)、図3(e)参照))を形成するために、雄型4aと雌型4bとを用い、これらの間に第1の基板積層体1(第1の基板1a、第1の薄膜電極1b)を配置して、曲率半径が、通常10mm以下、好ましくは3mm以下になるようにして加圧による曲げ加工をする。このようにして、第1の基板積層体1の周縁から所定距離Dだけ離れた地点を結んだ連続線L上に高抵抗部分1dを形成して、第1の基板積層体1を高抵抗積層体S1とすることができる。この場合、1本の連続線L(図1(a)参照)に沿った高抵抗部分1dを形成することができる。なお、図3(b)においては、第1の薄膜電極1b側から第1の基板1a側に折り曲げた場合を示すが、これとは逆に、第1の基板1a側から第1の薄膜電極1b側に折り曲げてもよい。
(Second step)
As shown in FIGS. 3B and 3C, the first thin-film electrode 1b is reliably formed with an electrically disconnected portion (high resistance portion 1d (see FIGS. 1A and 3E)). In order to achieve this, a male mold 4a and a female mold 4b are used, and the first substrate stack 1 (the first substrate 1a and the first thin film electrode 1b) is disposed between the male mold 4a and the female mold 4b. Bending by pressurization is performed so that it is 10 mm or less, preferably 3 mm or less. In this way, the high resistance portion 1d is formed on the continuous line L connecting the points separated from the peripheral edge of the first substrate laminate 1 by the predetermined distance D, and the first substrate laminate 1 is formed into the high resistance laminate. It can be the body S1. In this case, the high resistance portion 1d along one continuous line L (see FIG. 1A) can be formed. FIG. 3B shows a case where the first thin film electrode 1b is bent from the first substrate 1a side, but conversely, the first thin film electrode is formed from the first substrate 1a side. You may bend to the 1b side.

(第3の工程)
図3(d)に示すように、第2の基板2a上に第2の薄膜電極2bが形成された第2の基板積層体2を用意するとともに、第2の基板積層体2上に表示層3を積層して表示積層体S2を形成する。具体的には、第2の基板2a上に第2の薄膜電極2bを全面塗布することによって第2の基板積層体2形成した後、第2の薄膜電極2bの上に表示層3を連続塗布によって形成し、次いで、図1(a)に示す平面形状に打ち抜いて第2の表示積層体S2を形成する。
(Third step)
As shown in FIG. 3D, a second substrate laminate 2 in which a second thin film electrode 2b is formed on a second substrate 2a is prepared, and a display layer is provided on the second substrate laminate 2. 3 is laminated to form a display laminate S2. Specifically, the second substrate laminate 2 is formed by coating the entire surface of the second thin film electrode 2b on the second substrate 2a, and then the display layer 3 is continuously applied on the second thin film electrode 2b. And then punched into the planar shape shown in FIG. 1A to form the second display laminate S2.

(第4の工程)
図3(e)に示すように、高抵抗積層体S1と表示積層体S2とを貼り合わせる。この場合、例えば、台上に固定した高抵抗積層体S1と表示積層体S2との全体にボンディングツールを用いて、緩衝材を挟んで鉛直上方向から加熱(例えば、80〜150℃)、加圧(例えば、0.3MPa以上)を施すことによって貼り合わせることができる。また、例えば、加熱ローラーを用いたラミネート法等を用いて、高抵抗積層体S1と表示積層体S2の裏表両面から同条件で加熱、加圧を施してもよい。また、接合面に接着剤を用いてもよい。
(Fourth process)
As shown in FIG. 3 (e), the high resistance laminate S1 and the display laminate S2 are bonded together. In this case, for example, a heating tool (for example, 80 to 150 ° C.) is applied to the entire high resistance laminated body S1 and display laminated body S2 fixed on the stand by using a bonding tool and sandwiching a cushioning material from above. Bonding can be performed by applying pressure (for example, 0.3 MPa or more). Further, for example, heating and pressurization may be performed under the same conditions from both the front and back surfaces of the high resistance laminate S1 and the display laminate S2 by using a laminating method using a heating roller. Moreover, you may use an adhesive agent for a joint surface.

(第5の工程)
次に、第1及び第2の薄膜電極1b、2bの表面に、外部との電気的な接続を行うための第1及び第2の取出電極1c、2c(図1(a)参照)を接続する。
(Fifth step)
Next, first and second extraction electrodes 1c and 2c (see FIG. 1A) for electrical connection with the outside are connected to the surfaces of the first and second thin film electrodes 1b and 2b. To do.

(第6の工程)
次に、必要に応じて、無線タグ等のICチップを搭載するとともに、全体を被覆する保護層を形成する。
(Sixth step)
Next, if necessary, an IC chip such as a wireless tag is mounted and a protective layer covering the whole is formed.

このようにして、第1の薄膜電極1bに高抵抗部分1dが形成された、短絡し難い画像表示媒体10を得ることができる。また、この実施の形態の方法は、パターニングが不要なため低コストで画像表示媒体10を作製することができる。   In this way, it is possible to obtain the image display medium 10 in which the high resistance portion 1d is formed on the first thin film electrode 1b and which is not easily short-circuited. Moreover, since the method of this embodiment does not require patterning, the image display medium 10 can be manufactured at low cost.

〔第2の実施の形態〕
(画像表示媒体の構成)
図4は、本発明の第2の実施の形態に係る画像表示媒体を示し、(a)は平面図、(b)はE−E線断面図、(c)はF−F線断面図である。
[Second Embodiment]
(Configuration of image display medium)
4A and 4B show an image display medium according to a second embodiment of the present invention, where FIG. 4A is a plan view, FIG. 4B is a cross-sectional view taken along line EE, and FIG. 4C is a cross-sectional view taken along line FF. is there.

図4に示すように、第2の実施の形態に係る画像表示媒体10の基本的な構成は、図1に示す第1の実施の形態の場合と同じであるが、第2の実施の形態に係る画像表示媒体10の場合、3本の連続線(L1、L2、L3)に沿った高抵抗部分1dが形成され、さらに確実に短絡を防止することができるように構成されている。   As shown in FIG. 4, the basic configuration of the image display medium 10 according to the second embodiment is the same as that of the first embodiment shown in FIG. 1, but the second embodiment. In the case of the image display medium 10 according to the above, the high resistance portion 1d along the three continuous lines (L1, L2, L3) is formed, and the short circuit can be surely prevented.

図5は、第2の実施の形態に係る画像表示媒体10の作製方法の一部を示す断面図であり、(a)は折り曲げ加工における加圧前の状態、(b)は加圧中の状態、(c)は加圧後の状態をそれぞれ示す。図5に示す折り曲げ加工は、基本的には図3(b)、(c)に示す折り曲げ加工の場合と同じであるが、折り曲げ箇所を増加させて、3本の連続線(L1、L2、L3)に沿った高抵抗部分1dを形成するようにしている(図4(a)、(c)参照)。   FIGS. 5A and 5B are cross-sectional views illustrating a part of the method for manufacturing the image display medium 10 according to the second embodiment, in which FIG. 5A is a state before pressurization during bending, and FIG. 5B is during pressurization. A state and (c) show the state after pressurization, respectively. The bending process shown in FIG. 5 is basically the same as the bending process shown in FIGS. 3B and 3C. However, the number of bent portions is increased, and three continuous lines (L1, L2,. The high resistance portion 1d along L3) is formed (see FIGS. 4A and 4C).

なお、本発明は、上記各実施の形態に限定されることはなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲内において種々変形実施が可能である。また、発明の趣旨を逸脱しない範囲内において上記各実施の形態の構成要素を任意に組み合わせてもよい。   The present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the spirit of the invention. In addition, the constituent elements of the above-described embodiments may be arbitrarily combined within a scope that does not depart from the spirit of the invention.

本発明の画像表示媒体は、視認性や携帯性を保持するとともに、表示内容を電気的に書き換えることができる「電子ペーパー」又「はデジタルペーパー」等の応用としての、RFID(RFタグ)に代表される非接触式ICを備えたカード類(例えば、定期券、診察券、会員カード、IDカード、キャッシュカード、クレジットカード、商品流通用タグ等)や情報媒体(例えば、書籍、電子新聞等)を取り扱う各種産業分野、例えば、交通業、医療業、金融業、流通業、出版業、情報伝達業、電子機器製造業、観光業、娯楽産業等において有効に利用される。   The image display medium of the present invention can be used as an RFID (RF tag) as an application such as “electronic paper” or “digital paper” that can maintain the visibility and portability and can electrically rewrite display contents. Cards (for example, commuter pass, examination ticket, membership card, ID card, cash card, credit card, merchandise distribution tag, etc.) and information media (eg, books, electronic newspapers, etc.) equipped with representative non-contact ICs For example, transportation industry, medical industry, financial industry, distribution industry, publishing industry, information transmission industry, electronic equipment manufacturing industry, tourism industry, entertainment industry, etc.

本発明の第1の実施形態に係る画像表示媒体を示し、(a)は平面図、(b)はA−A線断面図、(c)はB−B線断面図である。The image display medium which concerns on the 1st Embodiment of this invention is shown, (a) is a top view, (b) is an AA sectional view, (c) is a BB sectional drawing. 図1に示す画像表示媒体の分解斜視図である。It is a disassembled perspective view of the image display medium shown in FIG. 本発明の第1の実施形態に係る画像表示媒体の製造工程を工程順に示す説明図であり、(a)は第1の基板積層体を用意する第1の工程を示し、(b)は折り曲げ加工によって高抵抗部分を形成して第1の基板積層体を高抵抗積層体とする第2の工程において、折り曲げ加工前の状態を示し、(c)は第2の工程において、折り曲げ加工後の状態を示し、(d)は、第2の基板積層体に表示層を積層して表示積層体を形成する第3の工程を示し、(e)は高抵抗積層体と表示積層体とを貼り合わせる第4の工程を示す。It is explanatory drawing which shows the manufacturing process of the image display medium based on the 1st Embodiment of this invention in order of a process, (a) shows the 1st process of preparing a 1st board | substrate laminated body, (b) is bending. In the second step of forming a high resistance portion by processing and making the first substrate laminate a high resistance laminate, the state before folding is shown. (C) shows the state after bending in the second step. (D) shows a third step of forming the display laminate by laminating the display layer on the second substrate laminate, and (e) is a step of attaching the high resistance laminate and the display laminate. The 4th process to match is shown. 本発明の第2の実施の形態に係る画像表示媒体を示し、(a)は平面図、(b)はE−E線断面図、(c)はF−F線断面図である。The image display medium which concerns on the 2nd Embodiment of this invention is shown, (a) is a top view, (b) is EE sectional view taken on the line, (c) is FF sectional view taken on the line. 本発明の第2の実施形態に係る画像表示媒体の作製方法の一部を示す断面図であり、(a)は折り曲げ加工における加圧前の状態、(b)は加圧中の状態、(c)は加圧後の状態をそれぞれ示す。It is sectional drawing which shows a part of manufacturing method of the image display medium concerning the 2nd Embodiment of this invention, (a) is the state before the pressurization in a bending process, (b) is the state under pressurization, ( c) shows the state after pressurization.

符号の説明Explanation of symbols

1 第1の基板積層体
1a 第1の基板
1b 第1の薄膜電極
1c 第1の取出電極
1d 高抵抗部分
2 第2の基板積層体
2a 第2の基板
2b 第2の薄膜電極
2c 第2の取出電極
3 表示層
4a 雄型
4b 雌型
10 画像表示媒体
D 第1の薄膜電極の周縁からの距離
L 連続線
L1〜L3 連続線
P 圧力
S1 高抵抗積層体
S2 表示積層体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st board | substrate laminated body 1a 1st board | substrate 1b 1st thin film electrode 1c 1st extraction electrode 1d High resistance part 2 2nd board | substrate laminated body 2a 2nd board | substrate 2b 2nd thin film electrode 2c 2nd Extraction electrode 3 Display layer 4a Male mold 4b Female mold 10 Image display medium D Distance from the periphery of the first thin film electrode L Continuous line L1 to L3 Continuous line P Pressure S1 High resistance laminate S2 Display laminate

Claims (14)

第1の基板上に、周縁から所定距離だけ離れた地点を結んだ連続線上に沿って高抵抗部分を有する第1の薄膜電極が形成された第1の基板積層体と、
前記第1の基板積層体に対向配置された、第2の基板上に第2の薄膜電極が形成された第2の基板積層体と、
前記第1の基板積層体の第1の薄膜電極と前記第2の基板積層体の第2の薄膜電極との間に挟持された表示層と、
を備えたことを特徴とする画像表示媒体。
A first substrate laminate in which a first thin film electrode having a high resistance portion is formed on a first substrate along a continuous line connecting points separated from the periphery by a predetermined distance;
A second substrate laminate in which a second thin film electrode is formed on a second substrate disposed opposite to the first substrate laminate;
A display layer sandwiched between a first thin film electrode of the first substrate stack and a second thin film electrode of the second substrate stack;
An image display medium comprising:
前記第1及び第2の薄膜電極は、前記第1及び第2の基板の全面に形成された全面電極であることを特徴とする請求項1に記載の画像表示媒体。   The image display medium according to claim 1, wherein the first and second thin film electrodes are full surface electrodes formed on the entire surfaces of the first and second substrates. 前記第1の薄膜電極における前記高抵抗部分は、前記第1の薄膜電極の周縁から所定距離だけ離れた地点を結んだ1本又は複数本の連続線上に沿って形成されたことを特徴とする請求項1に記載の画像表示媒体。   The high resistance portion of the first thin film electrode is formed along one or a plurality of continuous lines connecting points separated by a predetermined distance from the periphery of the first thin film electrode. The image display medium according to claim 1. 前記第1の薄膜電極における前記高抵抗部分は、前記第1の薄膜電極に対する折り曲げ加工によって形成されたクラックに起因する導通破断部分であることを特徴とする請求項1に記載の画像表示媒体。   2. The image display medium according to claim 1, wherein the high resistance portion of the first thin film electrode is a conductive break portion caused by a crack formed by bending the first thin film electrode. 前記第1の薄膜電極における前記高抵抗部分は、前記第1の薄膜電極に対するレーザー加工によって形成された熱的ダメージに起因する導通破断部分であることを特徴とする請求項1に記載の画像表示媒体。   2. The image display according to claim 1, wherein the high resistance portion of the first thin film electrode is a conductive break portion caused by thermal damage formed by laser processing on the first thin film electrode. Medium. 前記表示層は、液晶層及び光導電体層を含むことを特徴とする請求項1に記載の画像表示媒体。   The image display medium according to claim 1, wherein the display layer includes a liquid crystal layer and a photoconductor layer. 前記第1及び第2の薄膜電極の表面に接続された、外部との電気的な接続を行うための第1及び第2の取出電極をさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載の画像表示媒体。   The first and second extraction electrodes connected to the surfaces of the first and second thin film electrodes for electrical connection with the outside are further provided. Image display medium. 全体を被覆する保護層をさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載の画像表示媒体。   The image display medium according to claim 1, further comprising a protective layer covering the whole. 第1の基板上に第1の薄膜電極が形成された第1の基板積層体を用意する第1の工程と、
前記第1の基板積層体の周縁から所定距離だけ離れた地点を結んだ連続線上に高抵抗部分を形成して、前記第1の基板積層体を高抵抗積層体とする第2の工程と、
第2の基板上に第2の薄膜電極が形成された第2の基板積層体を用意するとともに、前記第2の基板積層体上に表示層を積層して表示積層体を形成する第3の工程と、
前記高抵抗積層体と前記表示積層体とを貼り合わせる第4の工程とを含むことを特徴とする画像表示媒体の製造方法。
A first step of preparing a first substrate laminate in which a first thin film electrode is formed on a first substrate;
A second step of forming a high resistance portion on a continuous line connecting points separated by a predetermined distance from the periphery of the first substrate stack, and making the first substrate stack a high resistance stack;
A second substrate laminate in which a second thin film electrode is formed on a second substrate is prepared, and a display layer is laminated on the second substrate laminate to form a display laminate. Process,
A method for producing an image display medium, comprising: a fourth step of bonding the high-resistance laminate and the display laminate.
前記第2の工程において、前記第1の基板積層体の周縁から所定距離だけ離れた地点を結んだ連続線上に沿って折り曲げて、前記第1の薄膜電極の周縁から所定距離だけ離れた地点を結んだ連続線上に沿ってクラックに起因する導通破断部分からなる前記高抵抗部分を形成させることを特徴とする請求項9に記載の画像表示媒体の製造方法。   In the second step, a point separated by a predetermined distance from the periphery of the first thin film electrode is bent along a continuous line connecting points separated by a predetermined distance from the periphery of the first substrate stack. The method for manufacturing an image display medium according to claim 9, wherein the high resistance portion including a conductive breakage portion caused by a crack is formed along the connected continuous line. 前記第2の工程において、前記第1の基板積層体の周縁から所定距離だけ離れた地点を結んだ連続線上にレーザー光線を照射して、前記第1の薄膜電極の周縁から所定距離だけ離れた地点を結んだ連続線上に沿って熱的ダメージに起因する導通破断部分からなる前記高抵抗部分を形成させることを特徴とする請求項9に記載の画像表示媒体の製造方法。   In the second step, a laser beam is irradiated on a continuous line connecting points separated by a predetermined distance from the periphery of the first substrate stack, and a point separated by a predetermined distance from the periphery of the first thin film electrode. The method of manufacturing an image display medium according to claim 9, wherein the high resistance portion including a conductive fracture portion caused by thermal damage is formed along a continuous line connecting the two. 前記第1及び第2の薄膜電極として、前記第1及び第2の基板の全面に形成された全面電極を用いることを特徴とする請求項9に記載の画像表示媒体の製造方法。
前記表示層として、液晶層及び光導電体層を含むものを用いることを特徴とする請求項9に記載の画像表示媒体の製造方法。
The method for manufacturing an image display medium according to claim 9, wherein the first and second thin film electrodes are full surface electrodes formed on the entire surfaces of the first and second substrates.
The method for manufacturing an image display medium according to claim 9, wherein the display layer includes a liquid crystal layer and a photoconductor layer.
前記第1及び第2の薄膜電極の表面に、外部との電気的な接続を行うための第1及び第2の取出電極を接続する第5の工程をさらに含むことを特徴とする請求項9に記載の画像表示媒体の製造方法。   10. The method according to claim 9, further comprising a fifth step of connecting first and second extraction electrodes for electrical connection to the outside to the surfaces of the first and second thin film electrodes. The manufacturing method of the image display medium as described in 2. 全体を被覆する保護層を形成する第6の工程をさらに含むことを特徴とする請求項9に記載の画像表示媒体の製造方法。   The method for producing an image display medium according to claim 9, further comprising a sixth step of forming a protective layer covering the whole.
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