JP2008116611A - 反射防止フィルム - Google Patents
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Abstract
【課題】
本発明は、入射角によらず全光線反射率が低く、色味が赤くならず、ディスプレイを使用したときの観察者にとって好ましい反射色を有したディスプレイ用反射防止フィルムを提供することを目的とする。
【解決手段】
透明可とう性基材の少なくとも一方の面に、表面ヘイズが3〜40%であるアンチグレアハードコート層、550nmの波長における屈折率が1.9〜2.30である高屈折率材料層(第1層)、550nmの波長における屈折率が1.38〜1.40である低屈折率材料層(第2層)を順次積層した反射防止フィルムであって、第2層がフッ化マグネシウムもしくはフッ化マグネシウムを含む無機透明酸化物材料からなることにより、反射率を低減し、かつ、斜入射での観察においてもコントラストの低下や外観の損失のない良好なディスプレイ表面を提供することができる。
【選択図】 図1
本発明は、入射角によらず全光線反射率が低く、色味が赤くならず、ディスプレイを使用したときの観察者にとって好ましい反射色を有したディスプレイ用反射防止フィルムを提供することを目的とする。
【解決手段】
透明可とう性基材の少なくとも一方の面に、表面ヘイズが3〜40%であるアンチグレアハードコート層、550nmの波長における屈折率が1.9〜2.30である高屈折率材料層(第1層)、550nmの波長における屈折率が1.38〜1.40である低屈折率材料層(第2層)を順次積層した反射防止フィルムであって、第2層がフッ化マグネシウムもしくはフッ化マグネシウムを含む無機透明酸化物材料からなることにより、反射率を低減し、かつ、斜入射での観察においてもコントラストの低下や外観の損失のない良好なディスプレイ表面を提供することができる。
【選択図】 図1
Description
本発明は、液晶、陰極線管(CRT)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンス(EL)、リアプロジェクションなどのディスプレイ上、あるいはディスプレイに設けられた偏光フィルムに適用される反射防止フィルムに関するものである。
液晶表示装置、CRT、PDP等の光学表示装置においては、外光の表示画面上への写り込みによって画像を認識しづらくなるという問題がある。光学表示装置は、最近では屋内だけでなく屋外にも持ち出される機会が増加し、表示画面上への外光の写り込みは一層深刻な問題になっている。
外光の写り込みを低減するために、表示画面表面のヘイズを高くして防眩性を付与したフィルムや、可視光領域の波長の広い範囲にわたって反射率の低い反射防止積層体を光学表示装置の前面に設けることが行われている。
これらの防眩性フィルムや反射防止積層体は、第一に可視光線の反射率低減、第二に表示品質の向上のためディスプレイの色味を変化させることのないように着色が少ないことが求められている。
これらの防眩性フィルムや反射防止積層体は、第一に可視光線の反射率低減、第二に表示品質の向上のためディスプレイの色味を変化させることのないように着色が少ないことが求められている。
従来の防眩性フィルムは入射角度0°における反射率が低く抑えられ、色度もニュートラルに近い。しかし、低屈折率材料を積層した単層フィルムや低屈折率材料と高屈折率材料を積層したた反射防止フィルムと比較すると、十分な反射防止性能は得ることができず、外観も白っぽくなってしまう。特に入射角度が上がっていくと散乱光によって反射率が大きくなってしまうという欠点がある。
また、反射率を下げるための積層フィルムは層数が増えるほど反射防止性能は向上するが、層数の増加とともにコストも上がるため、コストを抑えつつ単層より良好な反射防止性能を発揮する2層ないし3層の積層体が使用される例が多い。この中で2層構成の場合、高屈折率材料を第1層として基材側に堆積し、低屈折率材料を第2層である最外層に用いる構成が一般的であり低反射フィルム特性が良好なものが得られる。特許文献1には、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層を順次積層した2層構成の反射防止フィルムが示されており、特許文献2にはアンチグレアハードコート層に多孔性シリカとポリシロキサン系ポリマーを順次積層した光学用フィルムが示されている。
ただし、これまではこれら構成の入射角度0°における反射率を低く抑えることを重視した構成が多く、構成によっては垂直入射でニュートラルから青紫に近い色味であっても、入射角度が大きくなるにつれて赤味が強くなり、ディスプレイのコントラストを大幅に低下させるとともに、黒色画面に色が付いて外観が著しく損なわれてしまうという問題があった。
本発明は、上記の問題点に鑑みて行われたものであり、構成から低コスト化を実現でき、単に反射率を低減するだけでなく、ディスプレイを使用したときの観察者にとって好ましい反射色を有し、十分な反射率低減性を備えたディスプレイ用反射防止フィルムを提供することにある。
請求項1記載の発明は、透明可とう性基材の少なくとも一方の面に
アンチグレアハードコート層、高屈折率材料層(第1層)、低屈折率材料層(第2層)を順次積層した反射防止フィルムであって、
前記第2層がフッ化マグネシウムもしくはフッ化マグネシウムを含む無機透明酸化物材料からなることを特徴とする反射防止フィルムである。
これによると、単なる防眩性フィルムや低屈折率材料の単層堆積フィルムよりも反射率を低減することが可能となり、さらに低屈折率材料層(第2層)が無機材料の中で屈折率が特に低いフッ化マグネシウムもしくはフッ化マグネシウムを含む無機透明酸化物材料からなることで、より一層の反射率を低下することができる。また、フッ化マグネシウムもしくはフッ化マグネシウムを含む無機透明酸化物材料は、蒸着、スパッタ、CVDなどのドライコーティングプロセスで積層することができ、ウェットコーティングでは難しい精密な膜厚のコントロールが可能である。
アンチグレアハードコート層、高屈折率材料層(第1層)、低屈折率材料層(第2層)を順次積層した反射防止フィルムであって、
前記第2層がフッ化マグネシウムもしくはフッ化マグネシウムを含む無機透明酸化物材料からなることを特徴とする反射防止フィルムである。
これによると、単なる防眩性フィルムや低屈折率材料の単層堆積フィルムよりも反射率を低減することが可能となり、さらに低屈折率材料層(第2層)が無機材料の中で屈折率が特に低いフッ化マグネシウムもしくはフッ化マグネシウムを含む無機透明酸化物材料からなることで、より一層の反射率を低下することができる。また、フッ化マグネシウムもしくはフッ化マグネシウムを含む無機透明酸化物材料は、蒸着、スパッタ、CVDなどのドライコーティングプロセスで積層することができ、ウェットコーティングでは難しい精密な膜厚のコントロールが可能である。
請求項2記載の発明は、前記高屈折率材料層(第1層)の波長550nmにおける屈折率が1.90〜2.30の範囲内にあり、
かつ前記低屈折率材料層(第2層)の波長550nmにおける屈折率が1.38〜1.40の範囲内にあることを特徴とする請求項1に記載の反射防止フィルムである。
これによると、低屈折率材料単層構成の反射防止フィルムよりも反射率が低く、かつ、反射防止フィルム自身の着色を少なく抑えることができる。
かつ前記低屈折率材料層(第2層)の波長550nmにおける屈折率が1.38〜1.40の範囲内にあることを特徴とする請求項1に記載の反射防止フィルムである。
これによると、低屈折率材料単層構成の反射防止フィルムよりも反射率が低く、かつ、反射防止フィルム自身の着色を少なく抑えることができる。
請求項3記載の発明は、前記高屈折率材料層(第1層)が、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化ニオブ、酸化チタン、アルミ−酸化亜鉛合金(AZO)、ガリウム−酸化亜鉛合金(GZO)、酸化インジウム−酸化スズ合金(ITO)、酸化インジウム−酸化セリウム(ICO)、もしくは、これらの混合物であることを特徴とする請求項1または2に記載の反射防止フィルムである。
これによると、低屈折率材料層(第2層)と同様に蒸着、スパッタ、CVDなどのドライコーティングプロセスで高屈折率材料層(第1層)を積層することができ、ウェットコーティングでは難しい精密な膜厚のコントロールが可能である。
さらに、高屈折率材料層(第1層)に酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、アルミ−酸化亜鉛合金(AZO)、ガリウム−酸化亜鉛合金(GZO)、酸化インジウム−酸化スズ合金(ITO)、酸化インジウム−酸化セリウム(ICO)、もしくは、これらの混合物などの導電性材料を使用することにより、反射防止フィルムに帯電防止機能などを付与できる。
これによると、低屈折率材料層(第2層)と同様に蒸着、スパッタ、CVDなどのドライコーティングプロセスで高屈折率材料層(第1層)を積層することができ、ウェットコーティングでは難しい精密な膜厚のコントロールが可能である。
さらに、高屈折率材料層(第1層)に酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、アルミ−酸化亜鉛合金(AZO)、ガリウム−酸化亜鉛合金(GZO)、酸化インジウム−酸化スズ合金(ITO)、酸化インジウム−酸化セリウム(ICO)、もしくは、これらの混合物などの導電性材料を使用することにより、反射防止フィルムに帯電防止機能などを付与できる。
請求項4記載の発明は、前記アンチグレアハードコート層のヘイズが3〜40%であり、うち外部ヘイズが2.5%以上であることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の反射防止フィルムである。
これによると、表面に凹凸を有するアンチグレアハードコート層により、最外層の低屈折率材料層(第2層)が空気層と低屈折率材料との混合層となり、見かけ上の屈折率がより低く表されて反射率がより一層低減できるという効果がある。
これによると、表面に凹凸を有するアンチグレアハードコート層により、最外層の低屈折率材料層(第2層)が空気層と低屈折率材料との混合層となり、見かけ上の屈折率がより低く表されて反射率がより一層低減できるという効果がある。
請求項5記載の発明は、前記高屈折率材料層(第1層)の厚みが10〜30nmの範囲内にあり、かつ前記低屈折率材料層(第2層)の厚みが120〜140nmの範囲内にあることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の反射防止フィルムである。
これによると、反射防止機能を保持しながら、反射防止フィルム自身の着色を少なく抑えることができる。
これによると、反射防止機能を保持しながら、反射防止フィルム自身の着色を少なく抑えることができる。
請求項6記載の発明は、請求項1から5のいずれかに記載の反射防止フィルムの最上層に防汚層を積層すること特徴とする反射防止フィルムである。
これによると、フィルム表面についた水滴、指紋等の拭き取りを容易にし、かつ表面への衝撃による擦り傷等の外傷を防止することができる。
これによると、フィルム表面についた水滴、指紋等の拭き取りを容易にし、かつ表面への衝撃による擦り傷等の外傷を防止することができる。
請求項7記載の発明は、請求項1から6のいずれかに記載の反射防止フィルムであって、
光線の入射角度0°から40°における分光反射率が1.0%以下であることを特徴とする反射防止フィルムである。
これによると、斜めからの観察においても良好な視認性を有し、光線の入射角が0°から40°までは反射光色度が極端に赤色や黄色に変化することがないディスプレイ表面を提供することができる。
光線の入射角度0°から40°における分光反射率が1.0%以下であることを特徴とする反射防止フィルムである。
これによると、斜めからの観察においても良好な視認性を有し、光線の入射角が0°から40°までは反射光色度が極端に赤色や黄色に変化することがないディスプレイ表面を提供することができる。
請求項8記載の発明は、請求項1から7のいずれかに記載の反射防止フィルムであって、
光線の入射角度0°から40°において、L*a*b*表色系における反射色の色座標a*、b*がそれぞれ、a*が30以下であり、b*が−10以下であることを特徴とする反射防止フィルムである。
これによると、斜入射での観察においてもコントラストの低下や外観の損失のない良好なディスプレイ表面を提供することができる。
光線の入射角度0°から40°において、L*a*b*表色系における反射色の色座標a*、b*がそれぞれ、a*が30以下であり、b*が−10以下であることを特徴とする反射防止フィルムである。
これによると、斜入射での観察においてもコントラストの低下や外観の損失のない良好なディスプレイ表面を提供することができる。
ディスプレイ観察者の観察角度は使用環境や用途によって様々である。本発明の反射防止フィルムを用いれば、単なる防眩性フィルムや低屈折率材料の単層堆積フィルムよりも反射率を低減することが可能となり、斜入射での観察においてもコントラストの低下や外観の損失のない良好なディスプレイを提供することができる。
本発明の好ましい実施形態を図1に基づいて説明する。図1は本発明の反射防止フィルムの一例を示した断面図である。
図1の反射防止フィルムは、透明可とう性基材1、アンチグレアハードコート層2、反射防止層3から構成されている。さらに反射防止層3は、高屈折率材料層(第1層)4と、低屈折率材料層(第2層)5からなっており、さらにその上に防汚層6が堆積している。
本発明における透明可とう性基材は、フレキシブルガラスや種々の有機高分子形成フィルムが挙げられるが、有機高分子形成フィルムは軽く割れにくいため、より好適に使用できる。高分子形成フィルムは可視波長領域において透明であればよく、その種類を具体的に挙げれば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエーテルサルフォン(PES)、ポリスチレン(PS)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリアリレート(PAR)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ナイロン6等のポリアミド(PA)、ポリイミド(PI)、トリアセチルセルロース(TAC)等のセルロース系樹脂フィルム、ポリウレタン(PUR)、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニル(PVC)等のビニル化合物、ポリアクリル酸(PMMA)、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン等のビニリデン化合物、フッ化ビニリデン/トリフルオロエチレン共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体等のビニル化合物またはフッ素系化合物の共重合体、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリビニルブチラール等があるが、これらに限定されるものではない。これら透明な高分子形成フィルムは可とう性があるため、ロール・ツー・ロール法で連続的に形成することができ、長尺大面積に積層体を生産できることから好適に使用できる。
これらの透明可とう性基材1を構成する有機高分子に、公知の添加剤、例えば、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を含有させたものも使用することができる。
また、これらの透明可とう性基材1としては、単層あるいは複数の有機高分子を積層したものでも良い。また、その厚みは特に限定されるものではないが、フィルム基材が薄すぎると基材強度が不足し、厚すぎると可とう性が損なわれるため、通常10〜250μmのものが用いられる。好ましくは50〜200μmのものが良い。
本発明では、透明可とう性基材1の上にアンチグレアハードコート層2を形成しているが、アンチグレアハードコート層2としては、透明可とう性基材1の表面硬度を向上させ、鉛筆等の荷重のかかる引っ掻きによる傷を防止し、また、基材の屈曲により反射防止層3にクラックが入るのを抑制することができ、反射防止フィルムの機械的強度を改善することができる。
さらに、アンチグレアハードコート層2の表面は、防眩性を持つようにアンチグレア処理が施されており、そのトータルヘイズは3〜40%であり、好ましくは5〜30%とし、うち外部ヘイズが2.5%以上、好ましくは2.5〜30%であることが望ましい。ヘイズが高すぎると、ディスプレイ表示画像の精細度が失われてしまう。また低すぎると反射防止フィルム最表面の低屈折率材料層5と空気が作り出す見かけ上の超低屈折率層による低反射化効果が得られず、光散乱による防眩性も低下するため、本構成では所望の低反射率を得ることが難しくなる。
アンチグレアハードコート層2は電離放射線や紫外線照射による硬化樹脂や熱硬化性のモノマーを単独または混合して重合した樹脂が使用でき、特に紫外線硬化型であるアクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類等のアクリル系や、有機シリカ系の樹脂、熱硬化型のポリシロキサン樹脂等が好適である。
アクリル系樹脂に用いられるモノマーとしては、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングロコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、3−メチルペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールビスβ−(メタ)アクリロイルオキシプロピオネート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリ(2−ヒドロキシエチル)イソシアネートジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、2,3−ビス(メタ)アクリロイルオキシエチルオキシメチル[2.2.1]ヘプタン、ポリ1,2−ブタジエンジ(メタ)アクリレート、1,2−ビス(メタ)アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、10−デカンジオール(メタ)アクリレート、3,8−ビス(メタ)アクリロイルオキシメチルトリシクロ[5.2.10]デカン、水素添加ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシジエトキシフェニル)プロパン、1,4−ビス((メタ)アクリロイルオキシメチル)シクロヘキサン、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、エポキシ変成ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種類以上を組み合わせて用いても良い。
有機シリカ系樹脂としては、アルコキシシラン化合物を、塩酸や硫酸などの無機酸、シュウ酸や酢酸などの有機酸を用いて部分または完全加水分解し、重縮合させる方法が好ましく用いられる。これらアルコキシシラン化合物としては例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタイソプロキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、2種類以上を組み合わせて用いても良い。
アンチグレアハードコート層2は、透明可とう性基材1と屈折率が同等若しくは近似していることがより好ましい。厚さは3〜20μmの範囲であれば十分な機械強度が発現するが、透明性、塗工精度、取り扱い等から、より好ましくは5〜15μmの範囲が好ましい。
また、必要であればアンチグレアハードコート層2の表面に予めスパッタリング処理、コロナ処理、火炎処理、紫外線照射、電子線照射、エキシマランプ照射、大気圧グロー放電プラズマ処理、アルカリ処理、酸処理法などのエッチング処理や、下塗り処理を施して高屈折率材料層(第1層)4との密着性を向上させても良い。アンチグレアハードコート層2の表面にCrやSiOなど任意の無機物層を形成して密着層としても良い。また、密着層形成前に必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄等の防塵処理を施しても良い。
本発明における反射防止層3は高屈折率層(第1層)4と低屈折率層(第2層)5を、順次、所定の膜厚で積層させることにより機能を発現するものである。低屈折率材料単層構成の反射防止フィルムよりも反射率が低く、かつ、反射防止フィルム自身の着色を少なく抑えるには、高屈折率材料層(第1層)4の550nmにおける屈折率が1.90〜2.30の範囲にあり、かつ、低屈折率材料層(第2層)5の550nmにおける屈折率が1.38〜1.40の範囲にあると良い。また、高屈折率材料層(第1層)4の厚みが10〜30nmの範囲であり、かつ、低屈折率材料層(第2層)5の厚みが120〜140nmの範囲であり、好ましくは120〜135nmの範囲であると良い。
本発明の高屈折率材料層(第1層)4を形成する材料としては、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化ニオブ、酸化チタン、アルミ−酸化亜鉛合金(AZO)、ガリウム−酸化亜鉛合金(GZO)、酸化インジウム−酸化スズ合金(ITO)、酸化インジウム−酸化セリウム(ICO)、もしくはこれらの混合物がよい。
また、高屈折率材料層(第1層)4は導電性材料を有することが好ましく、たとえば酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、アルミ−酸化亜鉛合金(AZO)、ガリウム−酸化亜鉛合金(GZO)、酸化インジウム−酸化スズ合金(ITO)、酸化インジウム−酸化セリウム(ICO)、もしくはこれらの混合物を用いることにより、反射防止フィルムに帯電防止機能などを付与できる。
前記高屈折率材料層(第1層)4の膜厚は、10〜30nmの範囲が好ましく、これよりも薄くなると反射防止機能が低下し、所望の反射防止性能を得られにくい。また、これより厚くなるとフィルムに着色を生じやすくなる。
本発明の低屈折率材料層(第2層)5を形成する材料としては、フッ化マグネシウムもしくはフッ化マグネシウムに酸化珪素などの無機透明酸化物材料を含有する物質からなることを特徴とする。
前記低屈折率材料層(第2層)5の膜厚は、120〜140nmの範囲が好ましく、さらに好ましくは120〜135nmの範囲が良い。これよりも薄く、およそ110nmであると入射角0°で正対したときの反射率は下がるものの、入射角が上がるにつれて急激に反射率の上昇が起こり、さらには赤色側に反射スペクトルがシフトして、観察者から好まれず、外観上見辛くなる。また、これより厚く、150nm以上では所望の低反射率を得ることができなくなり、さらには入射角0°で正対したときの反射色が極端に青色になってしまう。
このように反射防止層3を構成することにより、本発明の反射防止フィルムは、光線の入射角度0°から40°における分光反射率が1.0%以下となり、斜めからの観察においても良好な視認性を有するディスプレイ表面を提供することができる。また、光線の入射角度0°から40°において、L*a*b*表色系における反射色の色座標a*、b*がそれぞれ、a*が30以下、b*が−10以下となり、斜入射での観察においてもコントラストの低下や外観の損失のない良好なディスプレイ表面を提供することができる。
これら高屈折率材料層(第1層)4ならびに低屈折率材料層(第2層)5からなる反射防止層3の形成方法としては、蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法などのPVD法(Physical Vapor Deposition)ならびに、プラズマCVD法(Chemical Vapor Deposition)の様な公知のドライコーティング技術が挙げられる。
本発明の反射防止フィルムに、表面についた水滴、指紋等の拭き取りを容易にし、かつ表面への衝撃による擦り傷等の外傷を防止する目的で、防汚層6を形成しても良い。防汚層6の材料としては、撥水性、撥油性および低摩擦性を有するものであればよく、例えば、シリコン酸化物、フッ素含有シラン化合物、フルオロアルキルシラザン、フルオロアルキルシラン、フッ素含有シリコン系化合物、パーフルオロポリエーテル基含有シランカップリング剤等が挙げられる。
防汚層6は、蒸着法、スパッタリング法、CVD法、プラズマ重合法等の真空ドライプロセスの他、マイクログラビア法、スクリーンコート法、ディップコート法等のウェットプロセスにより形成できる。防汚層6の物理膜厚は、5〜10nm程度が適当である。
実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明は下記実施例に限るものではない。
なお、実施例、比較例で得られた反射防止フィルムの性能評価は次のとおりとした。
<可視光反射率>
JIS R 3106に基づき、分光光度計(U−4000、株式会社日立製作所製)により波長380〜780nm間の可視光線反射率を測定した。
<反射色度>
分光光度計(U−4000、株式会社日立製作所製)により種々の入射角における波長380〜780nm間の分光反射率を測定し、色演算によってL*a*b*表色系におけるC光源ベースの色座標a*、b*を算出した。
<ヘイズ測定>
JIS K 7105に基づき、ヘイズメーター(HDM2000、日本電色工業株式会社製)により測定した。
<耐擦傷性>
各反射防止フィルム表面をスチールウール(ボンスター#0000、日本スチールウール株式会社製)により250g/cm2で20回擦り、傷の有無を目視判定にて行った。判定基準を以下に示す。
○:傷を確認できない。
△:傷が1〜10本確認できる。
×:傷が11本以上確認できる。
<可視光反射率>
JIS R 3106に基づき、分光光度計(U−4000、株式会社日立製作所製)により波長380〜780nm間の可視光線反射率を測定した。
<反射色度>
分光光度計(U−4000、株式会社日立製作所製)により種々の入射角における波長380〜780nm間の分光反射率を測定し、色演算によってL*a*b*表色系におけるC光源ベースの色座標a*、b*を算出した。
<ヘイズ測定>
JIS K 7105に基づき、ヘイズメーター(HDM2000、日本電色工業株式会社製)により測定した。
<耐擦傷性>
各反射防止フィルム表面をスチールウール(ボンスター#0000、日本スチールウール株式会社製)により250g/cm2で20回擦り、傷の有無を目視判定にて行った。判定基準を以下に示す。
○:傷を確認できない。
△:傷が1〜10本確認できる。
×:傷が11本以上確認できる。
[実施例1]
基材として、トリアセチルセルロース(TAC)フィルムにアンチグレア処理されたハードコート層を塗布し、可視光積算透過率93%、ヘイズ12.4%(外部ヘイズ11.3%)に調整したものを用い、真空成膜チャンバーを用いて下記順序で反射防止層3を形成した。まず、フィルムを真空チャンバー内に投入し、5.0×10−4Pa以下となるように排気したのち、100sccmのArガスと3sccmの酸素ガスを真空チャンバー内に導入して、チャンバー内圧力を0.3Paに調整した。酸化インジウム−酸化スズ合金(以下ITOとする)をターゲットとしてターゲットに電力を印加し、DCマグネトロンスパッタリング法によりアンチグレアハードコート層上に550nmにおける屈折率が1.99のITO層を26nmの膜厚にて形成し、第1層とした。
基材として、トリアセチルセルロース(TAC)フィルムにアンチグレア処理されたハードコート層を塗布し、可視光積算透過率93%、ヘイズ12.4%(外部ヘイズ11.3%)に調整したものを用い、真空成膜チャンバーを用いて下記順序で反射防止層3を形成した。まず、フィルムを真空チャンバー内に投入し、5.0×10−4Pa以下となるように排気したのち、100sccmのArガスと3sccmの酸素ガスを真空チャンバー内に導入して、チャンバー内圧力を0.3Paに調整した。酸化インジウム−酸化スズ合金(以下ITOとする)をターゲットとしてターゲットに電力を印加し、DCマグネトロンスパッタリング法によりアンチグレアハードコート層上に550nmにおける屈折率が1.99のITO層を26nmの膜厚にて形成し、第1層とした。
次に低屈折率材料層(第2層)として、電子ビーム蒸着法により第1層上に550nmにおける屈折率が1.38のMgF2層を135nmの膜厚にて形成し、第1層と第2層をあわせて反射防止層3とした。
さらに、反射防止層3上に、フッ素系材料(信越化学工業株式会社製、商品名:KP801M)を抵抗加熱型真空蒸着法により堆積させ、物理膜厚6nmの防汚層6を形成した。
実施例1で作製した反射防止フィルムの分光反射スペクトルを図2に示す。
実施例1で作製した反射防止フィルムの特性を評価した結果、全光線反射率が入射角5°のとき0.3%、入射角40°のとき0.4%であった。また色座標は入射角5°のとき(a*,b*)=(7.5,−20.8)、入射角40°のとき(a*,b*)=(14.0,−17.0)であり、入射角度の上昇によっても視認性を損なわず、コントラストの低下や外観の損失のない良好な反射防止フィルムであることが分かった。
実施例1で作製した反射防止フィルムの特性を評価した結果、全光線反射率が入射角5°のとき0.3%、入射角40°のとき0.4%であった。また色座標は入射角5°のとき(a*,b*)=(7.5,−20.8)、入射角40°のとき(a*,b*)=(14.0,−17.0)であり、入射角度の上昇によっても視認性を損なわず、コントラストの低下や外観の損失のない良好な反射防止フィルムであることが分かった。
[実施例2]
実施例1と同様の真空成膜チャンバーを用いて、100sccmのArガスおよび20sccmの酸素ガスをチャンバー内に導入し、Nbをターゲットとした反応性スパッタリング法により屈折率が2.25のNb2O5層を16nmにてアンチグレア処理を施したTAC基材上に形成し、第1層とした。
実施例1と同様の真空成膜チャンバーを用いて、100sccmのArガスおよび20sccmの酸素ガスをチャンバー内に導入し、Nbをターゲットとした反応性スパッタリング法により屈折率が2.25のNb2O5層を16nmにてアンチグレア処理を施したTAC基材上に形成し、第1層とした。
次に低屈折率材料層(第2層)として、電子ビーム蒸着法により第1層上に550nmにおける屈折率が1.38のMgF2層を135nmの膜厚にて形成し、第1層と第2層をあわせて反射防止層3とした。
さらに、反射防止層3上に、フッ素系材料(信越化学工業株式会社製、商品名:KP801M)を抵抗加熱型真空蒸着法により堆積させ、物理膜厚6nmの防汚層6を形成した。このようにして形成した反射防止フィルムに、実施例1と同様の特性評価を行い表1に示した。
[比較例1]
実施例1と同様の基材、材料、成膜装置を用いてアンチグレア処理を施したTAC基材上に第1層のITOを15nm、第2層のMgF2を115nm積層して反射防止層とし、防汚層を6nm堆積して反射防止フィルムを形成した。このようにして形成した反射防止フィルムに、実施例1と同様の特性評価を行い表1に示した。
[比較例1]
実施例1と同様の基材、材料、成膜装置を用いてアンチグレア処理を施したTAC基材上に第1層のITOを15nm、第2層のMgF2を115nm積層して反射防止層とし、防汚層を6nm堆積して反射防止フィルムを形成した。このようにして形成した反射防止フィルムに、実施例1と同様の特性評価を行い表1に示した。
[比較例2]
基材としてアンチグレア処理を施していないハードコート付きTAC基材を用いた以外は実施例1と同様の材料、成膜装置、膜厚で反射防止フィルムを形成した。このようにして形成した反射防止フィルムに、実施例1と同様の特性評価を行い表1に示した。
基材としてアンチグレア処理を施していないハードコート付きTAC基材を用いた以外は実施例1と同様の材料、成膜装置、膜厚で反射防止フィルムを形成した。このようにして形成した反射防止フィルムに、実施例1と同様の特性評価を行い表1に示した。
[比較例3]
基材として実施例1と同様にアンチグレア処理されたハードコート付きトリアセチルセルロース(TAC)フィルムを用い、真空成膜チャンバーを用いて電子ビーム蒸着法によりMgF2を100nmの膜厚にて形成した。さらに、防汚層を6nm堆積して反射防止フィルムを形成した。このようにして形成した反射防止フィルムに、実施例1と同様の特性評価を行い表1に示した。また、分光反射スペクトルを図3に示す。
基材として実施例1と同様にアンチグレア処理されたハードコート付きトリアセチルセルロース(TAC)フィルムを用い、真空成膜チャンバーを用いて電子ビーム蒸着法によりMgF2を100nmの膜厚にて形成した。さらに、防汚層を6nm堆積して反射防止フィルムを形成した。このようにして形成した反射防止フィルムに、実施例1と同様の特性評価を行い表1に示した。また、分光反射スペクトルを図3に示す。
本発明の反射防止フィルムによれば、入射角によらず表面反射率を低く抑えられ、色度がニュートラルに近い青に寄っているため、たとえば液晶ディスプレイのような平面テレビ画面や、カーナビゲーションシステムの表示パネルのようなディスプレイの前面に適用される反射防止フィルムとして好適である。
1 透明可とう性基材
2 アンチグレア(AG)ハードコート層
3 反射防止層
4 高屈折率材料層(第1層)
5 低屈折率材料層(第2層)
6 防汚層
2 アンチグレア(AG)ハードコート層
3 反射防止層
4 高屈折率材料層(第1層)
5 低屈折率材料層(第2層)
6 防汚層
Claims (8)
- 透明可とう性基材の少なくとも一方の面に
アンチグレアハードコート層、高屈折率材料層(第1層)、低屈折率材料層(第2層)を順次積層した反射防止フィルムであって、
前記第2層がフッ化マグネシウムもしくはフッ化マグネシウムを含む無機透明酸化物材料からなることを特徴とする反射防止フィルム。 - 前記高屈折率材料層(第1層)の波長550nmにおける屈折率が1.90〜2.30の範囲内にあり、
かつ前記低屈折率材料層(第2層)の波長550nmにおける屈折率が1.38〜1.40の範囲内にあることを特徴とする請求項1に記載の反射防止フィルム。 - 前記高屈折率材料層(第1層)が、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化ニオブ、酸化チタン、アルミ−酸化亜鉛合金(AZO)、ガリウム−酸化亜鉛合金(GZO)、酸化インジウム−酸化スズ合金(ITO)、酸化インジウム−酸化セリウム(ICO)、もしくは、これらの混合物であることを特徴とする請求項1または2に記載の反射防止フィルム。
- 前記アンチグレアハードコート層のヘイズが3〜40%であり、うち外部ヘイズが2.5%以上であることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の反射防止フィルム。
- 前記高屈折率材料層(第1層)の厚みが10〜30nmの範囲内にあり、かつ前記低屈折率材料層(第2層)の厚みが120〜140nmの範囲内にあることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の反射防止フィルム。
- 請求項1から5のいずれかに記載の反射防止フィルムの最上層に防汚層を積層すること特徴とする反射防止フィルム。
- 請求項1から6のいずれかに記載の反射防止フィルムであって、
光線の入射角度0°から40°における分光反射率が1.0%以下であることを特徴とする反射防止フィルム。 - 請求項1から7のいずれかに記載の反射防止フィルムであって、
光線の入射角度0°から40°において、L*a*b*表色系における反射色の色座標a*、b*がそれぞれ、a*が30以下であり、b*が−10以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| KR20220082363A (ko) * | 2020-12-10 | 2022-06-17 | (주)아이컴포넌트 | 폴더블 디스플레이용 광학 투명 복합 필름 및 이의 제조방법 |
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2006
- 2006-11-02 JP JP2006298711A patent/JP2008116611A/ja active Pending
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