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JP2008116550A - Liquid crystal device, method for manufacturing liquid crystal device, and electronic device - Google Patents

Liquid crystal device, method for manufacturing liquid crystal device, and electronic device Download PDF

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JP2008116550A
JP2008116550A JP2006297833A JP2006297833A JP2008116550A JP 2008116550 A JP2008116550 A JP 2008116550A JP 2006297833 A JP2006297833 A JP 2006297833A JP 2006297833 A JP2006297833 A JP 2006297833A JP 2008116550 A JP2008116550 A JP 2008116550A
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JP
Japan
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liquid crystal
crystal device
photo spacer
retardation layer
layer
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Withdrawn
Application number
JP2006297833A
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Japanese (ja)
Inventor
Akinori Masuzawa
明徳 増澤
Hitoshi Tsuchiya
仁 土屋
Takumi Seki
▲琢▼巳 関
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal device capable of preventing generation of cell thickness unevenness due to insufficient hardness of a phase difference layer, while having a phase difference layer that has satisfactory optical characteristics. <P>SOLUTION: In the liquid crystal device provided with a pair of substrates interposing a liquid crystal layer, the phase difference layers 23 provided on the liquid crystal layer side of at least one substrate (substrate main body 20A) of the pair of substrates and photo spacers PS, provided on the liquid crystal layer side of at least one substrate (substrate body 20A) of the pair of substrates, the phase difference layers 23 and the photo spacers PS are disposed so as not to be mutually superimposed two-dimensionally. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶装置、液晶装置の製造方法並びに電子機器に関し、特に、液晶パネルの内側に位相差層及びフォトスペーサを設けた反射型又は半透過反射型の液晶装置及びその製造技術に関するものである。   The present invention relates to a liquid crystal device, a method for manufacturing the liquid crystal device, and an electronic apparatus, and more particularly to a reflective or transflective liquid crystal device in which a retardation layer and a photo spacer are provided inside a liquid crystal panel, and a manufacturing technique thereof. is there.

半透過反射型の液晶装置は、携帯電話や携帯情報端末等の表示デバイスとして広く用いられている。半透過反射型の液晶装置では、反射表示と透過表示とを単一の液晶層を用いて実現するために、表示モード間での位相差の調整が必要である。そこで、下記特許文献1〜3では、反射表示領域に位相差層を設けることで、適切な反射表示及び透過表示を得られるようにしている。
特開2003−279956号公報 特開2004−4494号公報 特開2003−167126号公報
A transflective liquid crystal device is widely used as a display device such as a mobile phone or a portable information terminal. In a transflective liquid crystal device, in order to realize reflective display and transmissive display using a single liquid crystal layer, it is necessary to adjust a phase difference between display modes. Therefore, in Patent Documents 1 to 3 below, an appropriate reflective display and transmissive display can be obtained by providing a retardation layer in the reflective display region.
Japanese Patent Laid-Open No. 2003-279956 JP 2004-4494 A JP 2003-167126 A

特許文献1〜3に記載の液晶装置によれば、液晶セルに位相差層を内蔵しているため、液晶セルの外側に上記位相差の調整のためのλ/4位相差板等を設ける必要がなく、液晶装置の薄型化や低コスト化を実現できる。しかしながら、液晶セルの内面側に設けられる位相差層は、重合性液晶オリゴマーやコレステリック液晶が用いて形成されているため、硬度が低く、スペーサ材として樹脂ボール(Elastic Ball; EB)やガラスボール(Glass Ball; GB)を用いると、スペーサ材が位相差層の中に埋まってしまい、セル厚均一性が確保できないという問題がある。   According to the liquid crystal devices described in Patent Literatures 1 to 3, since the retardation layer is built in the liquid crystal cell, it is necessary to provide a λ / 4 retardation plate for adjusting the retardation on the outside of the liquid crystal cell. Therefore, the liquid crystal device can be reduced in thickness and cost. However, since the retardation layer provided on the inner surface side of the liquid crystal cell is formed using a polymerizable liquid crystal oligomer or cholesteric liquid crystal, the hardness is low, and resin balls (Elastic Ball; EB) or glass balls ( When Glass Ball (GB) is used, the spacer material is buried in the retardation layer, and there is a problem that cell thickness uniformity cannot be ensured.

この問題に対して、特許文献3では、位相差層の表面に無機絶縁膜を形成し、位相差層の硬度を高める技術が開示されている。しかしながら、この方法では、液晶パネルのセル厚均一性は改善できるものの、無機絶縁膜を形成するための新たな工程が必要になり、製造工程の複雑化、製造コストの上昇を招くといった問題が発生する。また、重合性液晶材料を選択し、位相差層の硬度を高める方法が開示されているが、この方法では、位相差層の材料が限定されてしまい、十分な表示特性が得られないという問題がある。   With respect to this problem, Patent Document 3 discloses a technique for increasing the hardness of the retardation layer by forming an inorganic insulating film on the surface of the retardation layer. However, this method can improve the cell thickness uniformity of the liquid crystal panel, but requires a new process for forming the inorganic insulating film, which causes problems such as a complicated manufacturing process and an increase in manufacturing cost. To do. In addition, a method of selecting a polymerizable liquid crystal material and increasing the hardness of the retardation layer is disclosed, but this method limits the material of the retardation layer and cannot provide sufficient display characteristics. There is.

また、液晶装置は、使用環境によって低温、高温の温度サイクルに曝される場合があり、その温度サイクルによって、完成体としての液晶パネルにセル厚むらが発生するという問題がある。その理由は次の通りである。まず、低温時に液晶の収縮があると、その収縮に液晶パネルの体積の収縮が追随せず、その結果、液晶パネルに大気圧(この圧力は、液晶パネル製造時の圧力以上である)が加わり、フォトスペーサの一部が位相差層に埋まってしまう。そして、この状態で液晶パネルが室温に戻ると、液晶の体積は元に戻るため、平均セル厚は元通りとなるが、上下の基板をフォトスペーサが支えていないため、セル厚むらが発生する。高温になると、さらに液晶の体積が増加するため、このセル厚むらは顕著になる。   In addition, the liquid crystal device may be exposed to a low-temperature and high-temperature cycle depending on the use environment, and there is a problem that cell thickness unevenness occurs in the liquid crystal panel as a finished product due to the temperature cycle. The reason is as follows. First, if the liquid crystal shrinks at low temperatures, the volume shrinkage of the liquid crystal panel does not follow the shrinkage. As a result, atmospheric pressure (this pressure is higher than the pressure at the time of manufacturing the liquid crystal panel) is applied to the liquid crystal panel. A part of the photo spacer is buried in the retardation layer. When the liquid crystal panel returns to room temperature in this state, the volume of the liquid crystal returns to the original value, so that the average cell thickness is restored. However, since the upper and lower substrates are not supported by the photo spacers, uneven cell thickness occurs. . As the temperature increases, the volume of the liquid crystal further increases, and this uneven cell thickness becomes significant.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、良好な光学特性を有する位相差層を備えつつ、位相差層の硬度不足によるセル厚むらの発生を防止することが可能な液晶装置及びその製造方法を提供することを目的とする。また、このような液晶装置を備えることにより、表示品質が高く、信頼性に優れた電子機器を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and includes a retardation layer having good optical characteristics, and is capable of preventing occurrence of cell thickness unevenness due to insufficient hardness of the retardation layer. An object is to provide an apparatus and a method for manufacturing the same. It is another object of the present invention to provide an electronic device with high display quality and high reliability by including such a liquid crystal device.

上記の課題を解決するため、本発明の液晶装置は、液晶層を挟持する一対の基板と、前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板の前記液晶層側に設けられた位相差層と、前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板の前記液晶層側に設けられたフォトスペーサとを備え、前記位相差層と前記フォトスペーサとが平面的に重ならないように配置されていることを特徴とする。この構成によれば、位相差層の硬度が低くてもフォトスペーサが位相差層の中に埋まることがないので、低温、高温の温度サイクルに曝された場合でもセル厚むらが発生しにくい。また、位相差層の材料選択の余地が広がるので、表示品質に優れた液晶装置が提供できる。   In order to solve the above problems, a liquid crystal device of the present invention includes a pair of substrates that sandwich a liquid crystal layer, a retardation layer provided on the liquid crystal layer side of at least one of the pair of substrates, A photo spacer provided on the liquid crystal layer side of at least one of the pair of substrates, and the retardation layer and the photo spacer are arranged so as not to overlap in a plane. And According to this configuration, even if the hardness of the retardation layer is low, the photo spacer is not embedded in the retardation layer, so that even when exposed to a low-temperature and high-temperature cycle, uneven cell thickness is unlikely to occur. In addition, since the room for selecting the material for the retardation layer is widened, a liquid crystal device having excellent display quality can be provided.

本発明においては、前記一対の基板のうちの一方の基板に遮光膜が設けられ、前記遮光膜と前記フォトスペーサとは平面的に重なるように配置されていることが望ましい。この構成によれば、フォトスペーサの近傍で液晶の配向が乱れた場合でも、表示品質の高い液晶装置が提供できる。特に、本発明の場合には、位相差層とフォトスペーサとが重ならないように設けられているので、フォトスペーサの高さが高くなり、フォトスペーサ近傍の液晶の配向の乱れは大きくなるが、遮光膜によってその部分の表示を遮光することによって、そのような表示の乱れを最小限に抑えることができる。   In the present invention, it is desirable that a light shielding film is provided on one of the pair of substrates, and the light shielding film and the photo spacer are arranged so as to overlap in a plane. According to this configuration, a liquid crystal device with high display quality can be provided even when the orientation of the liquid crystal is disturbed in the vicinity of the photo spacer. In particular, in the case of the present invention, since the retardation layer and the photo spacer are provided so as not to overlap, the height of the photo spacer is increased, and the disorder of the alignment of the liquid crystal near the photo spacer is increased. By shielding the display of the portion with the light shielding film, such display disturbance can be minimized.

本発明においては、前記フォトスペーサが設けられた基板の前記液晶層側に配向膜が設けられ、前記配向膜にはラビング処理が施されており、前記遮光膜は、前記フォトスペーサを通って前記ラビング方向と平行な方向に延びていることが望ましい。この構成によれば、フォトスペーサの影の部分でラビング不良が発生しても、ラビング不良となる領域は遮光膜によって遮光され、表示に影響を与えない。したがって、表示品質の高い液晶装置が提供できる。   In the present invention, an alignment film is provided on the liquid crystal layer side of the substrate provided with the photo spacer, the alignment film is subjected to rubbing treatment, and the light shielding film passes through the photo spacer and passes through the photo spacer. It is desirable to extend in a direction parallel to the rubbing direction. According to this configuration, even if a rubbing failure occurs in the shadow portion of the photo spacer, the region where the rubbing failure occurs is shielded by the light shielding film and does not affect the display. Therefore, a liquid crystal device with high display quality can be provided.

本発明においては、前記ラビング方向と平行な方向に延びている部分の前記遮光膜の長さは、前記フォトスペーサの高さよりも大きいことが望ましい。フォトスペーサの影によってラビング不良が発生する領域は、フォトスペーサの高さと同等以上の大きさを有するからである。   In the present invention, it is preferable that the length of the light shielding film in a portion extending in a direction parallel to the rubbing direction is larger than the height of the photo spacer. This is because the region where the rubbing failure occurs due to the shadow of the photo spacer has a size equal to or greater than the height of the photo spacer.

本発明においては、前記位相差層、前記フォトスペーサ及び前記遮光膜は、同一の前記基板に設けられていることが望ましい。この構成によれば、位相差層とフォトスペーサとを別々の基板に設ける場合に比べて、組み立てずれによる遮光膜のマージンを小さくすることができる。このため、開口率を大きくすることができ、明るい表示が実現できる。   In the present invention, it is desirable that the retardation layer, the photo spacer, and the light shielding film are provided on the same substrate. According to this configuration, it is possible to reduce the margin of the light-shielding film due to the assembly deviation as compared with the case where the retardation layer and the photo spacer are provided on separate substrates. For this reason, the aperture ratio can be increased and bright display can be realized.

本発明においては、前記フォトスペーサは、互いに隣接する2つの前記位相差層の中間の位置に設けられていることが望ましい。この構成によれば、位相差層とフォトスペーサとが互いに離れた位置に設けられているので、互いに相手の段差、形状等の影響を受けて、その高さ、形状等が、所望の高さ、形状等からずれてしまう等の問題が発生しない。したがって、セル厚及びリタデーション(複屈折位相差)の精度が高い液晶装置が提供できる。   In the present invention, it is preferable that the photo spacer is provided at a position intermediate between the two retardation layers adjacent to each other. According to this configuration, since the retardation layer and the photo spacer are provided at positions separated from each other, the height, shape, etc. are affected by the other step, shape, etc., and the desired height, shape, etc. The problem of deviating from the shape and the like does not occur. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal device having high cell thickness and retardation (birefringence phase difference) accuracy.

本発明においては、前記フォトスペーサは、互いに異なる着色層が設けられたサブ画素同士の境界部に設けられていることが望ましい。この構成によれば、上述した位相差層及びフォトスペーサの前記所望の高さ、形状等からのずれを最小限に抑えることができる。互いに異なる着色層はサブ画素の長手方向において隣接するため、このような着色層の境界部にフォトスペーサを配置すれば、位相差層との距離を最大限大きくすることができるからである。   In the present invention, it is desirable that the photo spacer is provided at a boundary portion between sub-pixels provided with different colored layers. According to this configuration, it is possible to minimize the deviation of the retardation layer and the photo spacer from the desired height, shape, and the like. This is because different colored layers are adjacent to each other in the longitudinal direction of the sub-pixel, and therefore, if a photo spacer is arranged at the boundary between such colored layers, the distance from the retardation layer can be maximized.

本発明においては、前記位相差層と前記フォトスペーサとは、互いに異なる前記基板に設けられていることが望ましい。この構成によれば、位相差層とフォトスペーサとが別々の基板に形成されているので、互いに相手の段差、形状等の影響を受けて、その高さ、形状等が、所望の高さ、形状等からずれてしまうという問題が発生しない。したがって、セル厚及びリタデーション(複屈折位相差)の精度が高い液晶装置が提供できる。また、フォトスペーサの形成工程における処理(現像、加熱等)によって、位相差層の特性が変化するような材料も使用できるようになり、更に表示品質を高めることができる。   In the present invention, it is desirable that the retardation layer and the photospacer are provided on different substrates. According to this configuration, since the retardation layer and the photo spacer are formed on separate substrates, the height, shape, and the like are affected by the other step, shape, etc., and the desired height, There is no problem of deviating from the shape or the like. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal device having high cell thickness and retardation (birefringence phase difference) accuracy. In addition, it is possible to use a material whose characteristics of the retardation layer are changed by processing (development, heating, etc.) in the photo spacer formation process, and display quality can be further improved.

本発明の液晶装置の製造方法は、基板上に位相差層を形成する工程と、前記位相差層が形成された領域を避けて、前記基板上にフォトスペーサを形成する工程とを備えることを特徴とする。この方法によれば、位相差層の硬度が低くてもフォトスペーサが位相差層の中に埋まることがないので、低温、高温の温度サイクルに曝された場合でもセル厚むらが発生しにくい。また、位相差層の材料選択の余地が広がるので、表示品質に優れた液晶装置が提供できる。また、位相差層を形成した後にフォトスペーサを形成するので、フォトスペーサの影響によって位相差層の形状、厚み等が不均一になることを防止することができる。フォトスペーサは位相差層よりも厚く(高く)形成されるので、フォトスペーサを形成した後に位相差層の形成材料を塗布すると、塗膜から突出するフォトスペーサの影響によって塗膜の均一性が大きく損なわれるからである。一方、位相差層を形成してからフォトスペーサの形成材料を塗布した場合、位相差層は塗膜によって完全に覆われるので、位相差層の部分では塗膜は若干凹凸状に形成されるものの、それ以外の部分では概ね均一な膜厚で形成される。したがって、フォトスペーサの形状、厚み等は高い精度で形成されることになる。   The method for manufacturing a liquid crystal device of the present invention includes a step of forming a retardation layer on a substrate, and a step of forming a photo spacer on the substrate while avoiding a region where the retardation layer is formed. Features. According to this method, even if the hardness of the retardation layer is low, the photo spacer is not buried in the retardation layer, so that even when exposed to low temperature and high temperature cycles, cell thickness unevenness hardly occurs. In addition, since the room for selecting the material for the retardation layer is widened, a liquid crystal device having excellent display quality can be provided. In addition, since the photo spacer is formed after the retardation layer is formed, it is possible to prevent the retardation, the thickness, and the like of the retardation layer from becoming uneven due to the influence of the photo spacer. Since the photo spacer is formed thicker (higher) than the retardation layer, if the material for forming the retardation layer is applied after the formation of the photo spacer, the uniformity of the coating film is increased due to the influence of the photo spacer protruding from the coating film. It is because it is damaged. On the other hand, when the photo spacer forming material is applied after forming the retardation layer, the retardation layer is completely covered with the coating film, so that the coating film is slightly uneven in the retardation layer portion. The other portions are formed with a substantially uniform film thickness. Accordingly, the shape and thickness of the photo spacer are formed with high accuracy.

本発明の電子機器は、前述した本発明の液晶装置又は前述した本発明の液晶装置の製造方法により製造されてなる液晶装置を備えることを特徴とする。この構成によれば、表示品質が高く、信頼性に優れた電子機器を提供することができる。   An electronic apparatus of the present invention includes the liquid crystal device of the present invention described above or the liquid crystal device manufactured by the method of manufacturing the liquid crystal device of the present invention described above. According to this configuration, an electronic apparatus with high display quality and excellent reliability can be provided.

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。かかる実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. This embodiment shows one aspect of the present invention, and does not limit the present invention, and can be arbitrarily changed within the scope of the technical idea of the present invention. Moreover, in the following drawings, in order to make each structure easy to understand, an actual structure and a scale, a number, and the like in each structure are different.

また、以下の説明においては、XYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。この際、水平面内における所定方向をX軸方向、水平面内においてX軸方向と直交する方向をY軸方向、X軸方向及びY軸方向のそれぞれに直交する方向(すなわち鉛直方向)をZ軸方向とする。例えば本実施形態においては、X軸方向を走査線の延在方向、Y軸方向をデータ線の延在方向、Z軸方向を観察者による液晶パネルの観察方向としている。   In the following description, an XYZ orthogonal coordinate system is set, and the positional relationship of each member will be described with reference to this XYZ orthogonal coordinate system. At this time, the predetermined direction in the horizontal plane is the X-axis direction, the direction orthogonal to the X-axis direction in the horizontal plane is the Y-axis direction, and the direction orthogonal to each of the X-axis direction and the Y-axis direction (that is, the vertical direction) is the Z-axis direction. And For example, in the present embodiment, the X-axis direction is the scanning line extending direction, the Y-axis direction is the data line extending direction, and the Z-axis direction is the viewing direction of the liquid crystal panel by the observer.

[第1の実施の形態]
図1は、本発明の液晶装置の第1実施形態である液晶装置100の概略構成図である。同図に示すように、液晶装置100は、互いに対向する第1基板10及び第2基板20と、該第1基板10及び第2基板20の間に挟持された液晶層50とを備えている。第1基板10は、ガラスや石英、プラスチック等からなる基板本体10Aを基体としてなり、基板本体10Aの液晶層50側には、ITO等からなる複数の画素電極12が設けられている。画素電極12はX軸方向及びY軸方向に配列されており、該画素電極12の間隙に沿ってY軸方向に延在する複数のデータ線11が設けられている。画素電極12の配置された領域は表示の最小単位であるサブ画素を構成し、該サブ画素がX軸方向及びY軸方向に配列することにより全体としての表示領域が形成されている。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a liquid crystal device 100 according to a first embodiment of the liquid crystal device of the present invention. As shown in the figure, the liquid crystal device 100 includes a first substrate 10 and a second substrate 20 facing each other, and a liquid crystal layer 50 sandwiched between the first substrate 10 and the second substrate 20. . The first substrate 10 has a substrate body 10A made of glass, quartz, plastic, or the like as a base, and a plurality of pixel electrodes 12 made of ITO or the like are provided on the liquid crystal layer 50 side of the substrate body 10A. The pixel electrodes 12 are arranged in the X-axis direction and the Y-axis direction, and a plurality of data lines 11 extending in the Y-axis direction along the gap between the pixel electrodes 12 are provided. The area where the pixel electrode 12 is arranged constitutes a sub-pixel which is the minimum unit of display, and the sub-pixel is arranged in the X-axis direction and the Y-axis direction to form a display area as a whole.

データ線11と画素電極12との間には、画素スイッチング素子である薄膜ダイオード(Thin Film Diode;以下、「TFD」と略記する)素子13が設けられている。TFD素子13は、X軸方向を長手方向とする長尺状の第1導電膜13aと、第1導電膜13aの表面を覆って形成された図示略の絶縁膜と、該絶縁膜の表面を覆ってデータ線11と平行に配置された長尺状の第2導電膜13cとを備えている。データ線11は画素電極12に向かってX軸方向に分岐した分岐部を備えており、該分岐部が第1導電膜13aとなっている。データ線11及び第1導電膜13aの表面には陽極酸化膜が形成されており、該陽極酸化膜が前記絶縁膜となっている。画素電極12は第2導電膜13cの一部に乗り上げるように形成されており、両者が重なり合う部分において第2導電膜13cと画素電極12とが電気的に接続されている。なお、第1導電膜13aとしてはタンタル(Ta)が用いられ、前記絶縁膜としては酸化タンタル(Ta)が用いられる。また、第2導電膜13cとしては、クロム(Cr)が用いられる。 A thin film diode (Thin Film Diode; hereinafter abbreviated as “TFD”) element 13 which is a pixel switching element is provided between the data line 11 and the pixel electrode 12. The TFD element 13 includes an elongated first conductive film 13a whose longitudinal direction is the X-axis direction, an insulating film (not shown) formed to cover the surface of the first conductive film 13a, and a surface of the insulating film. A long second conductive film 13c is provided so as to be covered and arranged in parallel with the data line 11. The data line 11 includes a branch portion that branches in the X-axis direction toward the pixel electrode 12, and the branch portion serves as a first conductive film 13a. An anodized film is formed on the surfaces of the data line 11 and the first conductive film 13a, and the anodized film serves as the insulating film. The pixel electrode 12 is formed so as to run over a part of the second conductive film 13c, and the second conductive film 13c and the pixel electrode 12 are electrically connected at a portion where both overlap. Note that tantalum (Ta) is used as the first conductive film 13a, and tantalum oxide (Ta 2 O 5 ) is used as the insulating film. Further, chromium (Cr) is used for the second conductive film 13c.

画素電極12と基板本体10Aとの間には、平面視矩形状の反射膜14が設けられている。画素電極12は、サブ画素領域内に部分的に設けられた反射膜14を覆うように形成されている。1サブ画素内において、反射膜14と画素電極12とが平面的に重なる領域が反射表示領域であり、反射膜14と画素電極12とが平面的に重ならない領域が透過表示領域である。本実施形態の場合、画素電極12はITO(インジウム錫酸化物)等の透明導電材料からなる導電膜であり、反射膜14は、アルミニウムや銀等の光反射性の金属膜や、屈折率の異なる誘電体膜(SiOとTiO等)を積層した誘電体積層膜(誘電体ミラー)からなるものである。液晶装置100は、反射膜14での反射光を散乱させる機能を具備していることが好ましく、かかる構成により反射表示の視認性を向上させることができる。 A reflective film 14 having a rectangular shape in plan view is provided between the pixel electrode 12 and the substrate body 10A. The pixel electrode 12 is formed so as to cover the reflective film 14 partially provided in the sub-pixel region. In one subpixel, a region where the reflective film 14 and the pixel electrode 12 overlap in a plane is a reflective display region, and a region where the reflective film 14 and the pixel electrode 12 do not overlap in a plane is a transmissive display region. In the case of this embodiment, the pixel electrode 12 is a conductive film made of a transparent conductive material such as ITO (indium tin oxide), and the reflective film 14 is a light-reflective metal film such as aluminum or silver, or a refractive index. It is composed of a dielectric laminated film (dielectric mirror) in which different dielectric films (SiO 2 and TiO 2 or the like) are laminated. The liquid crystal device 100 preferably has a function of scattering the reflected light from the reflective film 14, and such a configuration can improve the visibility of the reflective display.

なお、画素電極12は、本実施形態のように反射膜14を覆うように形成されている構成のほか、透明導電材料からなる透明電極と、光反射性の金属材料からなる反射電極とが平面的に区画されている構成、即ち、透過表示領域に対応して配置された透明電極と、反射表示領域に対応して配置された反射電極とを備え、前記両電極が透過表示領域と反射表示領域との間(境界部)で互いに電気的に接続されているものも採用することができる。この場合、反射電極は反射表示を行うための反射膜としても機能する。   The pixel electrode 12 has a structure in which the reflective film 14 is formed so as to cover the reflective film 14 as in the present embodiment, and a transparent electrode made of a transparent conductive material and a reflective electrode made of a light reflective metal material are planar. A transparent electrode arranged corresponding to the transmissive display area, and a reflective electrode arranged corresponding to the reflective display area, both electrodes being a transmissive display area and a reflective display Those that are electrically connected to each other between the regions (boundary portions) can also be employed. In this case, the reflective electrode also functions as a reflective film for performing reflective display.

画素電極12の液晶層50側には、データ線11、画素電極12及びTFD素子13を覆ってポリイミド等からなる配向膜18が設けられている。また、基板本体10Aの液晶層50とは反対側には、第1偏光板19が設けられている。さらに、第1偏光板19の基板本体10Aとは反対側には、図示略の照明装置(バックライト)が設けられている。   An alignment film 18 made of polyimide or the like is provided on the liquid crystal layer 50 side of the pixel electrode 12 so as to cover the data line 11, the pixel electrode 12, and the TFD element 13. A first polarizing plate 19 is provided on the opposite side of the substrate body 10 </ b> A from the liquid crystal layer 50. Further, a lighting device (backlight) (not shown) is provided on the opposite side of the first polarizing plate 19 from the substrate body 10A.

一方、第2基板20は、ガラスやプラスチック、石英等の透光性材料からなる基板本体20Aを基体としてなり、基板本体20Aの液晶層50側には、カラーフィルタ22が設けられている。カラーフィルタ22は、互いに色の異なる複数の着色層22R,22G,22Bを備えている。各着色層22R,22G,22Bは、それぞれY軸方向に延在するストライプ状に形成されており、これらがX軸方向に互いに交互に配列されている。カラーフィルタ22と基板本体20Aとの間には、遮光膜22BMが設けられている。遮光膜22BMには、透過表示領域及び反射表示領域に対応する図示略の開口部が設けられており、これらの開口部を介して、着色層22R,22G,22Bを透過した光が外部に射出されるようになっている。各サブ画素領域には3原色のうちの1色の着色層が配置され、3つのサブ画素領域によって3色の着色層22R,22G,22Bを含む1つの画素領域が形成されている。   On the other hand, the second substrate 20 has a substrate body 20A made of a translucent material such as glass, plastic, or quartz as a base, and a color filter 22 is provided on the liquid crystal layer 50 side of the substrate body 20A. The color filter 22 includes a plurality of colored layers 22R, 22G, and 22B having different colors. Each of the colored layers 22R, 22G, and 22B is formed in a stripe shape extending in the Y-axis direction, and these are alternately arranged in the X-axis direction. A light shielding film 22BM is provided between the color filter 22 and the substrate body 20A. The light shielding film 22BM is provided with openings (not shown) corresponding to the transmissive display area and the reflective display area, and light transmitted through the colored layers 22R, 22G, and 22B is emitted to the outside through these openings. It has come to be. In each sub pixel area, a colored layer of one of the three primary colors is arranged, and one pixel area including three colored layers 22R, 22G, and 22B is formed by the three sub pixel areas.

カラーフィルタ22の液晶層50側には、反射表示領域に対応して複数の位相差層23が設けられている。位相差層23はX軸方向に延在して帯状に設けられており、X軸方向に配列した複数の画素電極12に跨って配置されている。位相差層23は、その光学軸方向に平行な振動方向を有する光に対して略1/2波長(λ/2)の位相差を付与するものであり、基板本体20Aの内面側に設けられたいわゆる内面位相差層である。位相差層23は、高分子液晶(コレステリック液晶等)の溶液や液晶モノマー(あるいは液晶オリゴマー)の溶液を配向膜上に塗布し、乾燥固化させる際に所定方向に配向させる方法により形成することができる。また、付与する位相差はこれに限らず、構造に応じて略1/4波長(λ/4)の位相差を付与してもよい。   On the liquid crystal layer 50 side of the color filter 22, a plurality of retardation layers 23 are provided corresponding to the reflective display region. The retardation layer 23 extends in the X-axis direction and is provided in a strip shape, and is disposed across the plurality of pixel electrodes 12 arranged in the X-axis direction. The retardation layer 23 gives a phase difference of approximately ½ wavelength (λ / 2) to light having a vibration direction parallel to the optical axis direction, and is provided on the inner surface side of the substrate body 20A. It is a so-called inner surface retardation layer. The retardation layer 23 may be formed by a method in which a polymer liquid crystal (cholesteric liquid crystal or the like) solution or a liquid crystal monomer (or liquid crystal oligomer) solution is applied onto an alignment film and is oriented in a predetermined direction when dried and solidified. it can. Further, the phase difference to be applied is not limited to this, and a phase difference of approximately ¼ wavelength (λ / 4) may be applied according to the structure.

本実施形態の場合、位相差層23は、反射表示領域における液晶層50の厚さを透過表示領域における液晶層50の厚さよりも小さくするための液晶層厚調整層としても機能するものとなっている。半透過反射型の液晶装置では、反射表示領域への入射光は液晶層50を2回透過するが、透過表示領域への入射光は液晶層50を1回しか透過しない。これにより反射表示領域と透過表示領域との間で液晶層50のリタデーションが異なると、光透過率に差異を生じて均一な画像表示が得られないことになる。そこで位相差層23を液晶層50側に突出させて形成することでいわゆるマルチギャップ構造を実現している。具体的には、反射表示領域における液晶層50の層厚が透過表示領域における液晶層50の層厚の半分程度に設定されて、反射表示領域および透過表示領域における液晶層50のリタデーションが略同一に設定されている。これにより、反射表示領域および透過表示領域において均一な画像表示を得ることができるようになっている。   In the case of this embodiment, the retardation layer 23 also functions as a liquid crystal layer thickness adjusting layer for making the thickness of the liquid crystal layer 50 in the reflective display region smaller than the thickness of the liquid crystal layer 50 in the transmissive display region. ing. In the transflective liquid crystal device, light incident on the reflective display region is transmitted twice through the liquid crystal layer 50, but light incident on the transmissive display region is transmitted only once through the liquid crystal layer 50. As a result, if the retardation of the liquid crystal layer 50 is different between the reflective display area and the transmissive display area, a difference in light transmittance occurs, and a uniform image display cannot be obtained. Therefore, a so-called multi-gap structure is realized by forming the retardation layer 23 so as to protrude toward the liquid crystal layer 50. Specifically, the layer thickness of the liquid crystal layer 50 in the reflective display region is set to about half the layer thickness of the liquid crystal layer 50 in the transmissive display region, and the retardation of the liquid crystal layer 50 in the reflective display region and the transmissive display region is substantially the same. Is set to Thereby, a uniform image display can be obtained in the reflective display area and the transmissive display area.

本実施形態では、位相差層23を反射表示領域に選択的に形成しているが、位相差層としての機能の観点からは透過表示領域における透過光に対する位相差と、反射表示領域における透過光に対する位相差とに所定の差異を生じさせることができればよく、液晶層厚調整層としての機能の観点からは反射表示領域において透過表示領域においてよりも液晶層50側に突出して形成されていればよいため、部位により膜厚の異なる位相差層をカラーフィルタ22上に形成してもよい。すなわち、透過表示領域において薄い膜厚、小さい位相差を有し、反射表示領域において厚い膜厚、大きい位相差を有する位相差層を形成してもよい。   In the present embodiment, the retardation layer 23 is selectively formed in the reflective display area. However, from the viewpoint of the function as the retardation layer, the phase difference with respect to the transmitted light in the transmissive display area and the transmitted light in the reflective display area. From the viewpoint of the function as the liquid crystal layer thickness adjusting layer, it is sufficient that the phase difference with respect to the liquid crystal layer 50 is formed so as to protrude toward the liquid crystal layer 50 rather than in the transmissive display region. Therefore, a phase difference layer having a different thickness depending on the part may be formed on the color filter 22. That is, a retardation layer having a thin film thickness and a small phase difference in the transmissive display region and a thick film thickness and a large phase difference in the reflective display region may be formed.

位相差層23の液晶層50側には、位相差層23及びカラーフィルタ22を覆ってITO等からなる複数の走査線21が設けられている。走査線21はX軸方向に延在して帯状に設けられており、X軸方向に配列した複数の画素電極12に跨って配置されている。そして、これらの画素電極12に対して共通の共通電極となっている。カラーフィルタ22の液晶層50側には、走査線21及びカラーフィルタ22を覆ってポリイミド等からなる配向膜28が設けられている。また、基板本体20Aの液晶層50とは反対側には偏光板29が設けられている。偏光板29の透過軸と偏光板19の透過軸とは互いに直交するように配置されている。   A plurality of scanning lines 21 made of ITO or the like are provided on the liquid crystal layer 50 side of the retardation layer 23 so as to cover the retardation layer 23 and the color filter 22. The scanning line 21 extends in the X-axis direction and is provided in a strip shape, and is disposed across the plurality of pixel electrodes 12 arranged in the X-axis direction. The pixel electrodes 12 are common electrodes. On the liquid crystal layer 50 side of the color filter 22, an alignment film 28 made of polyimide or the like is provided so as to cover the scanning lines 21 and the color filter 22. A polarizing plate 29 is provided on the opposite side of the substrate body 20A from the liquid crystal layer 50. The transmission axis of the polarizing plate 29 and the transmission axis of the polarizing plate 19 are arranged so as to be orthogonal to each other.

次に、図2〜図6を用いて、液晶装置100の製造方法について説明する。なお、図2〜図6では、第2基板20の形成工程を中心に説明し、他の工程の説明は省略する。   Next, a method for manufacturing the liquid crystal device 100 will be described with reference to FIGS. 2 to 6, the description will focus on the formation process of the second substrate 20, and the description of the other processes will be omitted.

まず、図2に示すように、遮光膜22BM及びカラーフィルタ22が形成された基板本体20Aを用意する。遮光膜22BMは、X軸方向及びY軸方向に沿って格子状に設けられており、反射表示領域及び透過表示領域に対応する部分にそれぞれ矩形の開口部H1及びH2を備えている。開口部H1及びH2は、それぞれカラーフィルタ22の着色層22R,22G,22Bに対向してX軸方向に一定の間隔で配置されている。また、着色層22R,22G,22Bの延在方向(Y軸方向)に沿って開口部H1と開口部H2とが互いに交互に配置されている。着色層22R,22G,22Bは、それぞれY軸方向に延びるストライプ状に形成されており、各着色層22R,22G,22BがX軸方向に沿って互いに交互に隙間なく配置されている。   First, as shown in FIG. 2, a substrate body 20A on which a light shielding film 22BM and a color filter 22 are formed is prepared. The light shielding film 22BM is provided in a lattice shape along the X-axis direction and the Y-axis direction, and includes rectangular openings H1 and H2 in portions corresponding to the reflective display area and the transmissive display area, respectively. The openings H1 and H2 are arranged at regular intervals in the X-axis direction so as to face the colored layers 22R, 22G, and 22B of the color filter 22, respectively. Further, the openings H1 and the openings H2 are alternately arranged along the extending direction (Y-axis direction) of the colored layers 22R, 22G, and 22B. The colored layers 22R, 22G, and 22B are formed in stripes extending in the Y-axis direction, and the colored layers 22R, 22G, and 22B are alternately arranged with no gap along the X-axis direction.

次に、図3に示すように、カラーフィルタ22上に位相差層23を形成する。位相差層23は、X軸方向に配列された複数のサブ画素領域に跨って平面視帯状に形成される。位相差層23は、各サブ画素領域の反射表示領域(より詳細には、反射表示領域用の開口部H1に対向する領域)に対応して形成され、Y軸方向に均等な間隔で配列される。   Next, as shown in FIG. 3, a retardation layer 23 is formed on the color filter 22. The retardation layer 23 is formed in a planar view band shape across a plurality of sub-pixel regions arranged in the X-axis direction. The phase difference layer 23 is formed corresponding to the reflective display region of each sub-pixel region (more specifically, the region facing the reflective display region opening H1), and is arranged at equal intervals in the Y-axis direction. The

位相差層23は、例えば以下の方法によって形成することができる。まず、カラーフィルタ22上に配向膜形成材料をスピンコート法或いはフレキソ印刷法で塗布、焼成した後、ラビング処理を行う。次に、この配向膜上に高分子液晶溶液をスピンコート法により塗布する。次に、塗布した高分子液晶溶液のプレベイクを行い、さらにベイクにより得られた高分子液晶層のアイソトロピック転移温度(相転移温度)以上となる温度で加熱した後、徐々に冷却して高分子液晶を配向させる。ここで、相転移温度とは、位相差を生じさせて変化する温度のことである。次に、形成した高分子液晶層上であって反射表示領域に対応する平面領域にレジストをパターン形成し、かかるレジストをマスクとして前記高分子液晶層のエッチングを行う。かかるエッチング処理には、ドライエッチングの他、ウェットエッチングも適用できる。以上の工程により、反射表示領域に対応する領域に高分子液晶層からなる位相差層23を形成することができる。   The retardation layer 23 can be formed by the following method, for example. First, an alignment film forming material is applied and baked on the color filter 22 by a spin coating method or a flexographic printing method, and then a rubbing process is performed. Next, a polymer liquid crystal solution is applied onto the alignment film by spin coating. Next, the applied polymer liquid crystal solution is pre-baked and heated at a temperature equal to or higher than the isotropic transition temperature (phase transition temperature) of the polymer liquid crystal layer obtained by baking, and then gradually cooled to polymer. Align the liquid crystal. Here, the phase transition temperature is a temperature that changes by causing a phase difference. Next, a resist is patterned on the formed polymer liquid crystal layer on a planar region corresponding to the reflective display region, and the polymer liquid crystal layer is etched using the resist as a mask. In addition to dry etching, wet etching can be applied to the etching process. Through the above steps, the retardation layer 23 made of a polymer liquid crystal layer can be formed in a region corresponding to the reflective display region.

なお、位相差層23の形成方法としては、液晶モノマーや液晶オリゴマーの溶液をカラーフィルタ22上に塗布した後、露光して重合させる方法も適用できる。この形成方法では、液晶モノマーや液晶オリゴマーの塗布膜に対して部分的に露光処理を行った後、現像することで容易にパターニングすることが可能であるため、高分子液晶層上でのレジストのパターン形成、エッチング及びレジスト剥離が不要であるという利点がある。   In addition, as a formation method of the phase difference layer 23, after apply | coating the solution of a liquid crystal monomer or a liquid crystal oligomer on the color filter 22, the method of exposing and polymerizing can also be applied. In this formation method, the resist film on the polymer liquid crystal layer can be easily patterned after being partially exposed to the coating film of the liquid crystal monomer or liquid crystal oligomer and then developed. There is an advantage that pattern formation, etching and resist stripping are unnecessary.

次に、図4に示すように、位相差層23と重ならない領域にギャップ材であるフォトスペーサPSを形成する。フォトスペーサPSは、例えば、カラーフィルタ22及び位相差層23を覆って感光性材料をスピンコート法或いはフレキソ印刷法で塗布し、該感光性材料を露光処理及び現像処理することにより形成することができる。ここで、フォトスペーサPSの厚み(高さ)は、透過表示領域における第1基板と第2基板との間隔(ギャップ)と同じ厚みである。本実施形態の場合、この間隔は位相差層23の厚みの2倍程度であるので、フォトスペーサPSの厚みも位相差層23の厚みの2倍程度となる。   Next, as shown in FIG. 4, a photo spacer PS that is a gap material is formed in a region that does not overlap with the retardation layer 23. The photo spacer PS can be formed by, for example, applying a photosensitive material by spin coating or flexographic printing so as to cover the color filter 22 and the retardation layer 23, and subjecting the photosensitive material to exposure processing and development processing. it can. Here, the thickness (height) of the photo spacer PS is the same as the distance (gap) between the first substrate and the second substrate in the transmissive display region. In the case of the present embodiment, since this interval is about twice the thickness of the retardation layer 23, the thickness of the photo spacer PS is also about twice the thickness of the retardation layer 23.

図5は、1画素領域を位相差層23及びフォトスペーサPSの側から見た平面図である。同図に示すように、フォトスペーサPSは、遮光膜22BMと平面的に重なる領域に形成されている。フォトスペーサPSは、Y軸方向において隣接する2つの位相差層23の中間の位置に設けられている。前述のように、フォトスペーサPSを構成する感光性材料は位相差層23を覆って形成されるため、感光性材料の厚みは位相差層23による凹凸の影響を受けることになる。しかし、フォトスペーサPSは位相差層23と位相差層23との中間の位置(すなわち位相差層23から最も離れた位置)に形成されるため、フォトスペーサPSの形成領域においては感光性材料の膜厚は安定し、膜厚のばらつきは最小限に抑えられる。また、フォトスペーサPSは、青色カラーフィルタ22Bの配置された領域に形成されているため、仮にフォトスペーサPSの位置から光が漏れたとしても、表示への悪影響は小さい。緑や赤に比べて青色は視覚への影響が最も小さいからである。   FIG. 5 is a plan view of one pixel region viewed from the phase difference layer 23 and the photo spacer PS side. As shown in the figure, the photo spacer PS is formed in a region overlapping the light shielding film 22BM in a planar manner. The photo spacer PS is provided at an intermediate position between the two retardation layers 23 adjacent in the Y-axis direction. As described above, since the photosensitive material constituting the photospacer PS is formed so as to cover the retardation layer 23, the thickness of the photosensitive material is affected by unevenness due to the retardation layer 23. However, since the photo spacer PS is formed at an intermediate position between the phase difference layer 23 and the phase difference layer 23 (that is, a position farthest from the phase difference layer 23), the photosensitive material PS is formed in the region where the photo spacer PS is formed. The film thickness is stable and variations in film thickness are minimized. Further, since the photo spacer PS is formed in the region where the blue color filter 22B is arranged, even if light leaks from the position of the photo spacer PS, the adverse effect on the display is small. This is because blue has the least visual impact compared to green and red.

次に、図6に示すように、カラーフィルタ22及び位相差層23上に走査線21を形成し、走査線21、位相差層23及びカラーフィルタ22を覆って配向膜28を形成する。そして、配向膜28に対してラビング処理を施す。ラビング方向Rubは、走査線21及び位相差層23の延在方向(X軸方向)と平行な方向である。その後、データ線、反射膜、画素電極及び外部接続端子等を形成した第1基板を第2基板に対向配置し、第1基板上に形成したシール材を介して第1基板と第2基板とを貼り合わせる。そして、シール材を硬化し、第1基板、第2基板及びシール材によって囲まれた空間に液晶を注入し、更に第1基板及び第2基板の外面に偏光板を貼着して液晶装置を完成する。   Next, as shown in FIG. 6, the scanning line 21 is formed on the color filter 22 and the retardation layer 23, and the alignment film 28 is formed to cover the scanning line 21, the retardation layer 23 and the color filter 22. Then, the alignment film 28 is rubbed. The rubbing direction Rub is a direction parallel to the extending direction (X-axis direction) of the scanning line 21 and the retardation layer 23. Thereafter, the first substrate on which the data lines, the reflective film, the pixel electrodes, the external connection terminals, and the like are formed is disposed opposite to the second substrate, and the first substrate and the second substrate are interposed through the sealing material formed on the first substrate. Paste together. Then, the sealing material is cured, the liquid crystal is injected into a space surrounded by the first substrate, the second substrate, and the sealing material, and a polarizing plate is attached to the outer surfaces of the first substrate and the second substrate, thereby providing a liquid crystal device. Complete.

以上説明したように、本実施形態の液晶装置100においては、位相差層23とフォトスペーサPSとが平面的に重ならないように配置されているので、位相差層23の硬度が低くてもフォトスペーサPSが位相差層23の中に埋まることがなく、低温、高温の温度サイクルに曝された場合でもセル厚むらが発生しにくい。また、位相差層23の材料選択の余地が広がるので、表示品質に優れた液晶装置100が提供できる。   As described above, in the liquid crystal device 100 according to the present embodiment, the retardation layer 23 and the photo spacer PS are arranged so as not to overlap in a plan view. The spacer PS is not buried in the retardation layer 23, and even when the spacer PS is exposed to a low-temperature and high-temperature cycle, the cell thickness unevenness hardly occurs. Further, since the room for selecting the material of the retardation layer 23 is widened, the liquid crystal device 100 having excellent display quality can be provided.

また、フォトスペーサPSと遮光膜22BMとが平面的に重なるように配置されているので、フォトスペーサPSの近傍で液晶の配向が乱れた場合でも、表示品質の高い液晶装置が提供できる。特に、本実施形態の場合には、位相差層23とフォトスペーサPSとが重ならないように設けられているので、フォトスペーサPSの高さが高くなり、フォトスペーサ近傍の液晶の配向の乱れは大きくなるが、遮光膜22BMによってその部分の表示を遮光することによって、そのような表示の乱れを最小限に抑えることができる。   In addition, since the photo spacer PS and the light shielding film 22BM are arranged so as to overlap in a plane, a liquid crystal device with high display quality can be provided even when the alignment of the liquid crystal is disturbed in the vicinity of the photo spacer PS. In particular, in the case of the present embodiment, since the retardation layer 23 and the photo spacer PS are provided so as not to overlap with each other, the height of the photo spacer PS becomes high, and the alignment disorder of the liquid crystal near the photo spacer is Although it becomes large, such display disturbance can be minimized by shielding the portion of the display with the light shielding film 22BM.

また、位相差層23、フォトスペーサPS及び遮光膜22BMは、同一の基板20に設けられているので、位相差層23とフォトスペーサPSとを別々の基板に設ける場合に比べて、組み立てずれによる遮光膜22BMのマージンを小さくすることができる。このため、開口率を大きくすることができ、明るい表示が実現できる。   Further, since the phase difference layer 23, the photo spacer PS, and the light shielding film 22BM are provided on the same substrate 20, compared to the case where the phase difference layer 23 and the photo spacer PS are provided on different substrates, due to assembly deviation. The margin of the light shielding film 22BM can be reduced. For this reason, the aperture ratio can be increased and bright display can be realized.

また、フォトスペーサPSは、互いに隣接する2つの位相差層23の中間の位置に設けられているので、互いに相手の段差、形状等の影響を受けて、その高さ、形状等が、所望の高さ、形状等からずれてしまう等の問題を回避することができる。特に本実施形態では、フォトスペーサPSを互いに異なる着色層が設けられたサブ画素同士の境界部に設けているので、位相差層23との距離を最大限大きくすることができ、その形状等への影響を最小限に抑えることができる。互いに異なる着色層はサブ画素の長手方向において隣接するからである。したがって、セル厚及びリタデーション(複屈折位相差)の精度が高い液晶装置が提供できる。   In addition, since the photo spacer PS is provided at an intermediate position between the two phase difference layers 23 adjacent to each other, the height, shape, etc. of the desired height, shape, etc. are affected by the other step, shape, etc. Problems such as deviation from height, shape, etc. can be avoided. In particular, in the present embodiment, since the photo spacer PS is provided at the boundary between sub-pixels provided with different colored layers, the distance from the retardation layer 23 can be maximized, and the shape and the like can be increased. Can be minimized. This is because the different colored layers are adjacent in the longitudinal direction of the sub-pixel. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal device having high cell thickness and retardation (birefringence phase difference) accuracy.

また、本実施形態では、位相差層23を形成した後にフォトスペーサPSを形成するので、フォトスペーサPSの影響によって位相差層23の形状、厚み等が不均一になることを防止することができる。フォトスペーサPSは位相差層23よりも厚く(高く)形成されるので、フォトスペーサPSを形成した後に位相差層23の形成材料を塗布すると、塗膜から突出するフォトスペーサPSの影響によって塗膜の均一性が大きく損なわれるからである。一方、位相差層23を形成してからフォトスペーサPSの形成材料を塗布した場合、位相差層23は塗膜によって完全に覆われるので、位相差層23の部分では塗膜は若干凹凸状に形成されるものの、それ以外の部分では概ね均一な膜厚で形成される。したがって、フォトスペーサPSの形状、厚み等は高い精度で形成されることになる。   In the present embodiment, since the photo spacer PS is formed after the phase difference layer 23 is formed, it is possible to prevent the shape, thickness, and the like of the phase difference layer 23 from becoming uneven due to the influence of the photo spacer PS. . Since the photo spacer PS is formed thicker (higher) than the retardation layer 23, when the material for forming the retardation layer 23 is applied after the photo spacer PS is formed, the coating film is affected by the photo spacer PS protruding from the coating film. This is because the uniformity of the is greatly impaired. On the other hand, when the material for forming the photo spacer PS is applied after forming the retardation layer 23, the retardation layer 23 is completely covered with the coating film, so that the coating film is slightly uneven in the retardation layer 23 portion. Although formed, the other portions are formed with a substantially uniform film thickness. Therefore, the shape and thickness of the photo spacer PS are formed with high accuracy.

なお、本実施形態では、位相差層23、フォトスペーサPS及び遮光膜22BMを同一基板上に設けたが、位相差層23とフォトスペーサPSとは互いに異なる基板に設けてもよい。この場合、位相差層23とフォトスペーサPSとが別々の基板に形成されているので、互いに相手の段差、形状等の影響を受けて、その高さ、形状等が、所望の高さ、形状等からずれてしまうという問題が発生しない。したがって、セル厚及びリタデーション(複屈折位相差)の精度が高い液晶装置が提供できる。また、フォトスペーサPSの形成工程における処理(現像、加熱等)によって、位相差層23の特性が変化するような材料も使用できるようになり、更に表示品質を高めることができる。   In the present embodiment, the retardation layer 23, the photo spacer PS, and the light shielding film 22BM are provided on the same substrate. However, the retardation layer 23 and the photo spacer PS may be provided on different substrates. In this case, since the retardation layer 23 and the photo spacer PS are formed on different substrates, the height, shape, etc. are affected by the other step, shape, etc., and the desired height, shape, etc. The problem of deviating from the above does not occur. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal device having high cell thickness and retardation (birefringence phase difference) accuracy. In addition, it is possible to use a material whose characteristics of the phase difference layer 23 are changed by processing (development, heating, etc.) in the formation process of the photo spacer PS, and the display quality can be further improved.

[第2の実施の形態]
次に、図7及び図8を用いて、本発明の第2の実施形態について説明する。図7は、配向膜28に対してラビング処理を施す工程の工程図である。本実施形態において液晶装置の基本構成は第1実施形態の液晶装置と同じであり、異なるのは、配向膜28のラビング方向Rubのみである。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 7 is a process diagram of a process of performing a rubbing process on the alignment film 28. In this embodiment, the basic configuration of the liquid crystal device is the same as that of the liquid crystal device of the first embodiment, and the only difference is the rubbing direction Rub of the alignment film 28.

図8は、1画素領域を位相差層23及びフォトスペーサPSの側から見た平面図である。同図に示すように、フォトスペーサPSは、遮光膜22BMと平面的に重なる領域に形成されている。ラビング方向Rubは、カラーフィルタ22の着色層22R,22G,22Bの延在方向(Y軸方向)と平行な方向である。遮光膜22BMは、フォトスペーサPSを通ってラビング方向Rubと平行な方向に延びている。このため、フォトスペーサPSの影の部分でラビング不良が発生しても、ラビング不良となる領域Dは遮光膜22BMによって遮光され、表示に影響を与えない。したがって、表示品質の高い液晶装置が提供できる。   FIG. 8 is a plan view of one pixel region viewed from the phase difference layer 23 and the photo spacer PS side. As shown in the figure, the photo spacer PS is formed in a region overlapping the light shielding film 22BM in a planar manner. The rubbing direction Rub is a direction parallel to the extending direction (Y-axis direction) of the colored layers 22R, 22G, and 22B of the color filter 22. The light shielding film 22BM extends in a direction parallel to the rubbing direction Rub through the photo spacer PS. For this reason, even if a rubbing failure occurs in the shaded portion of the photo spacer PS, the region D in which the rubbing failure occurs is shielded by the light shielding film 22BM and does not affect the display. Therefore, a liquid crystal device with high display quality can be provided.

[第3の実施の形態]
次に、図9を用いて、本発明の第3の実施形態について説明する。図9は、1画素領域を位相差層23及びフォトスペーサPSの側から見た平面図である。本実施形態において液晶装置の基本構成は第1実施形態の液晶装置と同じであり、異なるのは、フォトスペーサPSの配置位置のみである。
[Third Embodiment]
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 9 is a plan view of one pixel region viewed from the phase difference layer 23 and the photo spacer PS side. In this embodiment, the basic configuration of the liquid crystal device is the same as that of the liquid crystal device of the first embodiment, and the only difference is the arrangement position of the photo spacers PS.

図9に示すように、フォトスペーサPSは、位相差層23の近傍において遮光膜22BMと平面的に重なる領域に形成されている。ラビング方向Rubは、位相差層23の延在方向(X軸方向)と平行な方向である。遮光膜22BMは、フォトスペーサPSを通ってラビング方向Rubと平行な方向に延びている。このため、フォトスペーサPSの影の部分でラビング不良が発生しても、ラビング不良となる領域Dは遮光膜22BMによって遮光され、表示に影響を与えない。したがって、表示品質の高い液晶装置が提供できる。   As shown in FIG. 9, the photo spacer PS is formed in a region overlapping the light shielding film 22BM in the vicinity of the retardation layer 23. The rubbing direction Rub is a direction parallel to the extending direction (X-axis direction) of the retardation layer 23. The light shielding film 22BM extends in a direction parallel to the rubbing direction Rub through the photo spacer PS. For this reason, even if a rubbing failure occurs in the shaded portion of the photo spacer PS, the region D in which the rubbing failure occurs is shielded by the light shielding film 22BM and does not affect the display. Therefore, a liquid crystal device with high display quality can be provided.

なお、図9では、フォトスペーサPSを位相差層23の近傍に形成したが、Y軸方向に延びる遮光膜22BMの幅が広い場合には、点線で示した領域にフォトスペーサPSを配置することもできる。この場合、ラビング方向Rubと平行な方向に延びている部分の遮光膜22BMの長さ(X軸方向における遮光膜22BMの幅)は、フォトスペーサPSの高さよりも大きいことが望ましい。フォトスペーサPSの影によってラビング不良が発生する領域Dは、フォトスペーサPSの高さと同等以上の大きさを有するからである。   In FIG. 9, the photo spacer PS is formed in the vicinity of the retardation layer 23. However, when the width of the light shielding film 22BM extending in the Y-axis direction is wide, the photo spacer PS is disposed in the region indicated by the dotted line. You can also. In this case, the length of the portion of the light shielding film 22BM extending in the direction parallel to the rubbing direction Rub (the width of the light shielding film 22BM in the X-axis direction) is preferably larger than the height of the photo spacer PS. This is because the region D where the rubbing failure occurs due to the shadow of the photo spacer PS has a size equal to or greater than the height of the photo spacer PS.

[電子機器]
次に、図10を用いて、本発明の液晶装置を備えた電子機器の実施形態について説明する。図10は、本発明の液晶装置の一例である図1の液晶装置を携帯電話の表示部に適用した例についての概略構成図である。同図に示す携帯電話1300は、上記実施形態の液晶装置を小サイズの表示部1301として備え、複数の操作ボタン1302、受話口1303、及び送話口1304を備えて構成されている。上記各実施の形態の液晶装置は、上記携帯電話に限らず、電子ブック、プロジェクタ、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、テレビジョン受像機、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、かかる構成とすることで、表示特性に優れた電子機器を提供できる。
[Electronics]
Next, an embodiment of an electronic apparatus including the liquid crystal device of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 10 is a schematic configuration diagram of an example in which the liquid crystal device of FIG. 1 which is an example of the liquid crystal device of the present invention is applied to a display unit of a mobile phone. A cellular phone 1300 shown in the figure includes the liquid crystal device of the above embodiment as a small-sized display portion 1301 and includes a plurality of operation buttons 1302, an earpiece 1303, and a mouthpiece 1304. The liquid crystal device of each of the above embodiments is not limited to the mobile phone, but an electronic book, a projector, a personal computer, a digital still camera, a television receiver, a viewfinder type or a monitor direct view type video tape recorder, a car navigation device, It can be suitably used as an image display means for devices such as pagers, electronic notebooks, calculators, word processors, workstations, videophones, POS terminals, touch panels, etc., and by adopting such a configuration, electronic devices having excellent display characteristics Can provide.

第1実施形態の液晶装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the liquid crystal device of 1st Embodiment. 同液晶装置の製造方法の説明図である。FIG. 26 is an explanatory diagram representing a production method of the liquid crystal device. 同液晶装置の製造方法の説明図である。FIG. 26 is an explanatory diagram representing a production method of the liquid crystal device. 同液晶装置の製造方法の説明図である。FIG. 26 is an explanatory diagram representing a production method of the liquid crystal device. 同液晶装置の製造方法の説明図である。FIG. 26 is an explanatory diagram representing a production method of the liquid crystal device. 同液晶装置の製造方法の説明図である。FIG. 26 is an explanatory diagram representing a production method of the liquid crystal device. 第2実施形態の液晶装置の製造方法の説明図である。It is explanatory drawing of the manufacturing method of the liquid crystal device of 2nd Embodiment. 同液晶装置の製造方法の説明図である。FIG. 26 is an explanatory diagram representing a production method of the liquid crystal device. 第3実施形態の液晶装置の製造方法の説明図である。It is explanatory drawing of the manufacturing method of the liquid crystal device of 3rd Embodiment. 電子機器の一例である携帯電話機の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the mobile telephone which is an example of an electronic device.

符号の説明Explanation of symbols

10…第1基板、20…第2基板、22BM…遮光膜、22R,22G,22B…着色層、23…位相差層、28…配向膜、50…液晶層、100…液晶装置、1300…携帯電話機(電子機器)、PS…フォトスペーサ、Rub…ラビング方向 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... 1st board | substrate, 20 ... 2nd board | substrate, 22BM ... Light shielding film, 22R, 22G, 22B ... Colored layer, 23 ... Phase difference layer, 28 ... Orientation film, 50 ... Liquid crystal layer, 100 ... Liquid crystal device, 1300 ... Mobile Telephone (electronic equipment), PS ... Photo spacer, Rub ... Rubbing direction

Claims (10)

液晶層を挟持する一対の基板と、前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板の前記液晶層側に設けられた位相差層と、前記一対の基板のうちの少なくとも一方の基板の前記液晶層側に設けられたフォトスペーサとを備え、
前記位相差層と前記フォトスペーサとが平面的に重ならないように配置されていることを特徴とする液晶装置。
A pair of substrates sandwiching a liquid crystal layer; a retardation layer provided on the liquid crystal layer side of at least one of the pair of substrates; and the liquid crystal layer of at least one of the pair of substrates. A photo spacer provided on the side,
The liquid crystal device, wherein the retardation layer and the photo spacer are arranged so as not to overlap in a plane.
前記一対の基板のうちの一方の基板に遮光膜が設けられ、前記遮光膜と前記フォトスペーサとは平面的に重なるように配置されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。   2. The liquid crystal device according to claim 1, wherein a light-shielding film is provided on one of the pair of substrates, and the light-shielding film and the photo spacer are arranged so as to overlap in a plane. 前記フォトスペーサが設けられた基板の前記液晶層側に配向膜が設けられ、前記配向膜にはラビング処理が施されており、前記遮光膜は、前記フォトスペーサを通って前記ラビング方向と平行な方向に延びていることを特徴とする請求項2に記載の液晶装置。   An alignment film is provided on the liquid crystal layer side of the substrate provided with the photo spacer, the alignment film is subjected to rubbing treatment, and the light shielding film passes through the photo spacer and is parallel to the rubbing direction. The liquid crystal device according to claim 2, wherein the liquid crystal device extends in a direction. 前記ラビング方向と平行な方向に延びている部分の前記遮光膜の長さは、前記フォトスペーサの高さよりも大きいことを特徴とする請求項3に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 3, wherein a length of the light shielding film in a portion extending in a direction parallel to the rubbing direction is larger than a height of the photo spacer. 前記位相差層、前記フォトスペーサ及び前記遮光膜は、同一の前記基板に設けられていることを特徴とする請求項2〜4のいずれかの項に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 2, wherein the retardation layer, the photo spacer, and the light shielding film are provided on the same substrate. 前記フォトスペーサは、互いに隣接する2つの前記位相差層の中間の位置に設けられていることを特徴とする請求項5に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 5, wherein the photo spacer is provided at an intermediate position between the two retardation layers adjacent to each other. 前記フォトスペーサは、互いに異なる着色層が設けられたサブ画素同士の境界部に設けられていることを特徴とする請求項6に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 6, wherein the photo spacer is provided at a boundary portion between sub-pixels provided with different colored layers. 前記位相差層と前記フォトスペーサとは、互いに異なる前記基板に設けられていることを特徴とする請求項2〜4のいずれかの項に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 2, wherein the retardation layer and the photo spacer are provided on different substrates. 基板上に位相差層を形成する工程と、前記位相差層が形成された領域を避けて、前記基板上にフォトスペーサを形成する工程とを備えることを特徴とする液晶装置の製造方法。   A method of manufacturing a liquid crystal device, comprising: a step of forming a retardation layer on a substrate; and a step of forming a photo spacer on the substrate while avoiding a region where the retardation layer is formed. 請求項1〜8のいずれかの項に記載の液晶装置又は請求項9に記載の液晶装置の製造方法により製造されてなる液晶装置を備えることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to claim 1 or the liquid crystal device manufactured by the method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 9.
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