JP2008114042A - 高周波手術装置及び高周波手術方法 - Google Patents

Abstract

【課題】過渡的なインピーダンス変化があっても確実に組織の脱水を達成して血管封止の確実性を高めること。
【解決手段】高周波手術装置であって、対象組織１３を処置するのに用いられる高周波エネルギを生成して出力する高周波エネルギ生成部３と、高周波エネルギ生成部３から出力される高周波エネルギを対象組織１３に供給したときの、対象組織１３の状態を示す電気的パラメータの経時的変化を監視するパラメータ監視部（インピーダンス検出部９）と、パラメータ監視部での監視結果に基づいて、高周波エネルギの出力を制御する制御部（主制御部８）と、を具備する。
【選択図】 図１

Description

本発明は、電気的パラメータの経時変化をもとに高周波出力を制御する高周波手術装置及び高周波手術方法に関する。

外科手術に於ける血管の処理を高周波エネルギにて行う技術が従来から知られている。例えば、血管を適切な把持力量にて把持した状態で高周波電流を供給し、その際に生ずる熱エネルギにより血管を封止させるデバイスが存在する。一般的に、組織の変性が得られると組織中の水分は脱水し、電気的な抵抗であるインピーダンスは上昇することが知られている。このような事実により、上述の血管を閉塞させるデバイスにおいても、検出されたインピーダンスにより高周波出力を制御することが行われている。

また、血管封止処理において用いられる電源は、その出力が極めて低い周波数にてＯＮ，ＯＦＦ制御されることが多いが、その際のＯＮ，ＯＦＦのタイミングも検出されたインピーダンスに従って制御されている。

上記のことから、組織の状態を示す電気的なインピーダンスに応じて高周波出力を制御することは合理的なことであると考えられるが、電気的なインピーダンスの挙動は、高周波出力を開始してから焼灼過程に伴って組織インピーダンスは漸増していき、組織中の水分が概ね脱水して電気的インピーダンスが高くなった場合にはほぼ一定のインピーダンスとなる、理想的な挙動を示すことが望ましい。

特開２００２−３２５７７２は、組織インピーダンスの大きさに応じて高周波電力の出力を制御する電気手術装置の一例を開示している。
特開２００２−３２５７７２

しかしながら、電気的なインピーダンスの挙動は、対象組織の状態あるいは術野周囲の環境、電源の出力特性等により、必ずしも上記した理想的な挙動を示さずに、パルス状に変化する場合がある。このような傾向は特に、対象組織が太い血管や把持組織量が多い場合に顕著に見られる。

すなわち、鉗子の把持対象組織の量が多いと、当然、水分含有量も多くなる。従来のように、ある固有のインピーダンスに到達したところで、休止サイクルへ移行する場合、確実に脱水が完了しない状態で出力を休止させてしまうことになり、これが封止性能に影響を及ぼしていた。

本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、例えば鉗子の把持部位において接触状態が不良になったことや微小なスパークの発生に基づく過渡的なインピーダンス変化があっても、確実に組織の脱水を行って血管封止の確実性を高めるとともに封止精度のばらつきを少なくすることができる高周波手術装置及び高周波手術方法を提供することにある。

上記の目的を設定するために、本発明の第１の態様に係る高周波手術装置は、対象組織を処置するのに用いられる高周波エネルギを生成して出力する高周波エネルギ生成部と、前記高周波エネルギ生成部から出力される高周波エネルギを前記対象組織に供給したときの、前記対象組織の状態を示す電気的パラメータの経時的変化を監視するパラメータ監視部と、前記パラメータ監視部での監視結果に基づいて、前記高周波エネルギの出力を制御する制御部と、を具備する。

また、本発明の第２の態様に係る高周波手術装置は、第１の態様において、前記パラメータ監視部は、前記対象組織の状態を示すインピーダンスの経時的変化を監視する。

また、本発明の第３の態様に係る高周波手術装置は、第３の態様において、前記パラメータ監視部は、前記処置中のインピーダンスを所定の時間間隔で計測して前記インピーダンスが第１のしきい値を越えるか否かを監視し、当該第１のしきい値を越えた回数が所定回数に到達したときに、前記制御部は、前記高周波エネルギの出力を停止する。

また、本発明の第４の態様に係る高周波手術装置は、第３の態様において、前記パラメータ監視部は、前記インピーダンスの計測中に、前記インピーダンスが前記第１のしきい値を下回った場合には、それまでの計測により得られた計数値をリセットするとともに、前記インピーダンスの計測を継続する。

また、本発明の第５の態様に係る高周波手術装置は、第３の態様において、前記パラメータ監視部は、前記インピーダンスが前記第１のしきい値を越えた回数が所定回数に到達した後、前記インピーダンスが前記第１のしきい値とは異なる第２のしきい値を越えたか否かを判断し、前記インピーダンスが前記第２のしきい値を越えたときに、前記制御部は、前記高周波エネルギの出力を停止する。

また、本発明の第６の態様に係る高周波手術装置は、第１の態様において、前記パラメータ監視部は、前記対象組織に印加される高周波エネルギの電力量を監視し、前記電力量が所定のしきい値を越えたときに、前記制御部は、前記高周波エネルギの出力を停止する。

また、本発明の第７の態様に係る高周波手術装置は、第６の態様において、前記パラメータ監視部での前記電力量の監視は、操作者が前記高周波エネルギの出力操作をしている期間における総積算電力量を監視する第１の形態と、前記高周波エネルギが実際に出力されている期間における積算電力量を監視する第２の形態とを備える。

また、本発明の第８の態様に係る高周波手術装置は、第２の態様において、前記パラメータ監視部は、第１出力周期において前記処置中のインピーダンスを所定の時間間隔で計測して前記インピーダンスが所定のしきい値を越えるか否かを監視し、当該所定のしきい値を越えたときに、前記制御部は、前記高周波エネルギの出力を停止するとともに、前記第１のしきい値を越えたときのインピーダンスを第１メモリに記憶し、前記第１出力周期の後の第２出力周期において、前記制御部は、前記高周波エネルギ生成部からの高周波エネルギの出力を再び開始し、当該開始時のインピーダンスと、前記第１メモリに記憶されたインピーダンスとの差分値を算出し、この差分値に基づいて前記高周波エネルギの出力を制御する。

また、本発明の第９の態様に係る高周波手術方法は、対象組織を処置するのに用いられる高周波エネルギを生成して出力する高周波エネルギ生成ステップと、前記高周波エネルギ生成ステップにおいて出力される高周波エネルギを前記対象組織に供給したときの、前記対象組織の状態を示す電気的パラメータの経時的変化を監視するパラメータ監視ステップと、前記パラメータ監視ステップでの監視結果に基づいて、前記高周波エネルギの出力を制御する制御ステップと、を具備する。

また、本発明の第１０の態様に係る高周波手術方法は、第９の態様において、前記パラメータ監視ステップは、前記対象組織の状態を示すインピーダンスの経時的変化を監視することを含む。

また、本発明の第１１の態様に係る高周波手術方法は、第１０の態様において、前記パラメータ監視ステップは、前記処置中のインピーダンスを所定の時間間隔で計測して前記インピーダンスが第１のしきい値を越えるか否かを監視し、当該第１のしきい値を越えた回数が所定回数に到達したときに、前記制御部ステップは、前記高周波エネルギの出力を停止する。

また、本発明の第１２の態様に係る高周波手術方法は、第１１の態様において、前記パラメータ監視ステップは、前記インピーダンスの計測中に、前記インピーダンスが前記第１のしきい値を下回った場合には、それまでの計測により得られた計数値をリセットするとともに、前記インピーダンスの計測を継続する。

また、本発明の第１３の態様に係る高周波手術方法は、第１１の態様において、前記パラメータ監視ステップは、前記インピーダンスが前記第１のしきい値を越えた回数が所定回数に到達した後、前記インピーダンスが前記第１のしきい値とは異なる第２のしきい値を越えたか否かを判断し、前記インピーダンスが前記第２のしきい値を越えたときに、前記制御ステップは、前記高周波エネルギの出力を停止する。

また、本発明の第１４の態様に係る高周波手術方法は、第９の態様において、前記パラメータ監視ステップは、前記対象組織に印加される高周波エネルギの電力量を監視し、前記電力量が所定のしきい値を越えたときに、前記制御部ステップは、前記高周波エネルギの出力を停止する。

また、本発明の第１５の態様に係る高周波手術方法は、第１４の態様において、前記パラメータ監視ステップでの前記電力量の監視は、操作者が前記高周波エネルギの出力操作をしている期間における総積算電力量を監視する第１の形態と、前記高周波エネルギが実際に出力されている期間における積算電力量を監視する第２の形態とを備える。

また、本発明の第１６の態様に係る高周波手術方法は、第１０の態様において、前記パラメータ監視ステップは、第１出力周期において前記処置中のインピーダンスを所定の時間間隔で計測して前記インピーダンスが所定のしきい値を越えるか否かを監視し、当該所定のしきい値を越えたときに、前記制御ステップは、前記高周波エネルギの出力を停止するとともに、前記第１のしきい値を越えたときのインピーダンスを第１メモリに記憶し、前記第１出力周期の後の第２出力周期において、前記制御ステップは、前記高周波エネルギの出力を再び開始し、当該開始時のインピーダンスと、前記第１メモリに記憶されたインピーダンスとの差分値を算出し、この差分値に基づいて前記高周波エネルギの出力を制御する。

本発明によれば、過渡的なインピーダンス変化があっても、確実に組織の脱水を行って血管封止の確実性を高めるとともに封止精度のばらつきを少なくすることができる。

以下、本発明の実施の形態を図面を参照して詳細に説明する。

（第１実施形態）
第１実施形態では、対象組織の状態を示す電気的パラメータとしてのインピーダンスの経時的変化を監視して高周波エネルギの出力を制御することを特徴とする。

図１は、本発明の第１実施形態に係る高周波焼灼電源装置の概略構成を示すブロック図である。図２は、本発明の第１実施形態に係る制御部８の制御動作を説明するためのフロー図であり、図３（Ａ），３（Ｂ）は、第１実施形態の作用を説明するための図であり、血管封止を行う際の電気的なパラメータとしてのインピーダンスの経時的挙動を示している。

図１において、主制御部８は各部の動作を制御する部分である。高周波エネルギ生成部３の一次側には並列共振部４が設けられるとともに、同二次側には高周波出力トランス５が設けられている。一次側の並列共振部４は可変電源２に接続され、主としてスイッチング動作して得られる矩形波のスプリアス除去、昇圧を行うものである。

高周波エネルギ生成部３で生成された高周波電流は、出力リード１０、１１を介して電極１２に伝達される。これによって電極１２間に適切な把持力量にて把持されている処置対象としての対象組織１３に対する焼灼処理が行われる。この間、インピーダンス検出部９では、検出電圧を検出電流で除算することによりインピーダンスを検出し、その検出結果をインピーダンス検出信号として主制御部８に送る。ここで検出されるインピーダンスは、組織の焼灼状況に応じて変化する。

なお、ここでは、インピーダンスの経時的変化を監視するようにしたが、それに限定されることはなく、対象組織の状態を示す他の電気的パラメータを用いてもよい。

主制御部８は、可変電源２及び波形生成部７に対して設定条件、並びにインピーダンス検出部９にて検出されたインピーダンスに応じた制御信号を送出する。可変電源２は、主制御部８から送出された制御信号に応じた直流電力を出力する。また、波形生成部７は、主制御部８から送出された制御信号に応じた波形（ここでは矩形波）を出力する。高周波エネルギ生成部３は、可変電源２から送出される直流電力及び波形生成部７から送出される矩形波によりＯＮ，ＯＦＦされるスイッチング回路６の動作により高周波エネルギを生成する。

対象組織に対する処置を行うにあたって、主制御部８の制御のもとに高周波エネルギ生成部３において高周波エネルギが生成、出力されて電極１２を介して対象組織１３に供給される（図２のステップＳ１）。主制御部８は、後述するしきい値を越えた回数を表わす変数Ｎに０を代入する（ステップＳ２）。次に、主制御部８は、インピーダンス検出部９にて検出されたインピーダンスを所定周期（図３（Ａ）では５０ｍｓ周期）で連続的に取り込む（ステップＳ３）。ここでのインピーダンス検出は、高周波焼灼電源装置１から高周波エネルギが出力されている間、継続的に実施される。

主制御部８は、取り込まれたインピーダンス信号が固有の対象インピーダンスである第１のインピーダンスしきい値（ｔｈ１）を越えたか否かを判別し（ステップＳ４）、越えない場合にはステップＳ３に戻り、越えた場合には変数Ｎに１を代入する（ステップＳ５）。次に、主制御部８は、変数Ｎが所定回数（ここでは９回）に到達したか否かを判定する（ステップＳ６）。Ｎ＝９になるまでステップＳ３〜Ｓ６を繰り返し、ステップＳ６の判断がＹＥＳになったときに、最終到達インピーダンスＰが第２のインピーダンスしきい値（ｔｈ２）を越えたか否かを判定する（ステップＳ７）。ここでＮＯの場合、主制御部８は、高周波出力を継続し、ステップＳ７の判断がＹＥＳになったときには組織が充分に乾燥したと判断して、高周波出力を停止する信号を可変電源２及び波形生成部７に出力する（ステップＳ８）。

なお、図３（Ｂ）に示すように、主制御部８に取り込まれたインピーダンス信号が第１のインピーダンスしきい値ｔｈ１を越えた回数を計測している最中にインピーダンスレベルが当該ｔｈ１を下回ることがあった場合（図３（Ｂ）では第５回目の測定においてインピーダンスレベルが当該ｔｈ１を下回っている）には、外乱の影響によりインピーダンス挙動が不安定になっている（即ち、組織の脱水が充分ではない）と判断して、それまでの計数値をリセットし、最初から同様のプロセスを繰り返す。

上記した第１実施形態によれば、高周波電力により対象組織１３の焼灼処理を行っているときに、何らかの外的要因で過渡的なインピーダンス変化があっても、その時点で高周波出力を停止させる判断を行わずに、インピーダンスの経時変化に基づいて高周波出力の継続／停止を判定するようにしている。これによって、鉗子の把持部位に於いて接触状態が不良になった場合、若しくは微小なスパークが発生する事により生ずる過渡的なインピーダンス変化があっても、確実に組織の脱水を達成できる。従って、血管封止の確実性を増す事が可能となる。

（第２実施形態）
第２実施形態では、対象組織の状態を示す電気的パラメータとしての電力量の経時的変化を監視して高周波エネルギの出力を制御することを特徴とする。

図４は、本発明の第２実施形態に係る高周波焼灼電源装置の概略構成を示すブロック図である。図５は、本発明の第２実施形態に係る高周波出力制御の手順を説明するためのフロー図であり、図６は、第２実施形態の作用を説明するための図であり、血管封止を行う際の電気的なパラメータとしての積算電力量１０３，１０４の経時的挙動を示している。

図４の構成は、図１のインピーダンス検出部９が対象組織１３に投入される電力量を検出する電力量検出部１９で置き換わった点を除いて図１と同様である。電力量検出部１９は、出力電流（図６の１０１）と、出力電圧（図６の１００）とを所定周期（例えば５０ｍｓ周期）で連続的に検出し、これらを乗算することにより電力量を検出する。対象組織１３に投入される電力量に伴い、対象組織１３における発熱量も上昇する。したがって電力量を監視することにより対象組織１３の水分の脱水状態を監視することができる。

対象組織１３に対する処置を行うにあたって、主制御部８の制御のもとに高周波エネルギ生成部３において高周波エネルギが生成、出力されて電極１２を介して対象組織１３に供給される（ステップＳ１０）。

処置中、主制御部８は、電力量検出部１９にて検出された電力量（瞬時電力１０２×出力時間）をデータとして取り込む（ステップＳ１１）。ここでの電力量検出は、高周波焼灼電源装置１から高周波エネルギが出力されている間、継続的に実施される。

次に主制御部８は、取り込んだ電力量にもとづき積算電力量を計算する（ステップＳ１２）。次に、計算した積算電力量が所定の電力量しきい値（終了条件電力量）を越えたか否かを判定する（ステップＳ１３）。ここでＮＯの場合、主制御部８はステップＳ１１に戻ってそれ以降のステップを繰り返し、ステップＳ１３においてＹＥＳになったならば、組織が充分に乾燥したと判断して、高周波出力を停止する信号を可変電源２及び波形制御部７に出力する（ステップＳ１４）。

図６は、２通りの電力量監視のようすを示しており、第１は総出力時間（操作者が継続して出力操作をしている期間）の総積算電力量１０３を監視する形態であり、第２は高周波エネルギが実際に出力されている（高周波エネルギはＯＮ，ＯＦＦを繰り返しながら間歇的に出力される）期間の積算電力量１０４を監視する形態である。ここで第１の形態では、高周波出力の停止／継続を判別するために設定されるしきい値は、電力量が積算されるので経時的に高いレベルに設定されるのに対して、第２の形態では、当該閾値が経時的に低いレベルに設定される。しかし、２つの形態の違いにより得られる効果に差異は無い。

高周波出力の開始時は、対象組織は水分を多く含んでいるので大きな電力量を必要とするが、対象組織の水分が蒸散し十分に乾燥すると、組織インピーダンスが増大して電流はほとんど流れなくなる。このため、出力開始時は休止期間へ移行するための電力量しきい値を高めに設定し、その後徐々に出力が進むと電力量しきい値は低く設定される。

上記した第２実施形態によれば、対象組織１３に供給される電力量に基づいて対象組織１３の状態を判別するようにしたので、対象組織１３の性状による封止レベルのバラツキを軽減することができ、且つ外的要因の影響を受け難くなる。従って、条件によらず安定した封止性能を得る事が可能となる。

（第３実施形態）
第３実施形態では、対象組織の状態を示す電気的パラメータとして、異なるタイミングで検出される２つのインピーダンスの差分値を監視して高周波エネルギの出力を制御することを特徴としており、より詳細には、最初の（第Ｎ時点における）高周波出力停止時のインピーダンスＺ１と、次の（第Ｎ＋１時点における）高周波出力開始時のインピーダンスＺ２との差分値Ｄに基づいて高周波エネルギの出力を制御する。その詳細をまとめると以下のようになる。

Ａ：インピーダンスＺ１の高低に応じた高周波出力の制御
（１）Ｚ１が固有のインピーダンスしきい値よりも低い場合には、鉗子で把持された部分の焼灼が不十分である。この場合には、差分値Ｄの情報を考慮するまでもなく、次ステップでの処置制御パラメータは電力量を増大させる様に制御する。

（２）Ｚ１が固有のインピーダンスしきい値よりも高い場合には、鉗子で把持された部分の脱水は概ね完了している。但し、周辺組織の焼灼が充分でない可能性がある。そこで、差分値Ｄの情報を考慮して次ステップでの処置制御パラメータ（インピーダンスしきい値）を決定する。

Ｂ：差分値ＤとZ１／Z２の相対関係による状態判別
（１）Ｄがしきい値よりも大きい場合に、Z１＜Z２ならば、鉗子で把持された部分、並びにその周辺組織の脱水が充分に行われている。したがって、高周波出力の継続は不要であり、休止あるいは停止させる。

（２）Ｄがしきい値よりも大きい場合に、Z１＞Z２ならば、鉗子で把持された部分はある程度焼灼が完了しているが、その周辺組織の脱水が不十分、又は、鉗子で把持された部分の焼灼が不十分である。したがって、高周波出力の継続は不要であり、休止あるいは停止させる。

（３）Ｄがしきい値よりも小さい場合に、Z１＜Z２ならば、鉗子で把持された部分、並びにその周辺組織の脱水が充分に行われている。したがって、高周波出力の継続は不要であり、休止あるいは停止させる。

（４）Ｄがしきい値よりも小さい場合に、Z１＞Z２ならば、鉗子で把持された部分、及びその周辺組織の脱水がほぼ充分なレベルだが、もう少し焼灼継続が必要である。したがって、高周波出力は継続するが、組織に供給する電力量は低減させる様に制御する。

上記のように第３実施形態では、最初の高周波出力停止時のインピーダンスＺ１、及び次の出力開始時のインピーダンスＺ２、及びその差異Ｄの３通りの条件から組織の状態判別を行うようにしている。したがって、組織の状態をより詳細に判別することができるとともに、組織の状態に応じたきめ細かな出力制御が可能となる。即ち、対象組織の状態によらず、封止性能のレベルの均一化（バラツキの軽減）が可能となる。

以下に、上記した第３実施形態の方法を実際の出力制御に適用した場合について説明する。図７は、本発明の第３実施形態に係る高周波出力制御の手順を説明するためのフロー図であり、図８は、第３実施形態の作用を説明するための図であり、血管封止を行う際の電気的なパラメータ、特にインピーダンス２０２の経時的挙動を示している。

第３実施形態の構成は基本的に第１実施形態（図１）と同様であり、インピーダンス検出手段９で検出された信号を主制御部８に取り込み、最終的に高周波出力の継続／停止を判断する点は第１実施形態と同じであるが、その方法が第１実施形態と異なる。

対象組織１３に対する処置を行うにあたって、主制御部８の制御のもとに高周波エネルギ生成部３において高周波エネルギが生成、出力されて電極１２を介して対象組織１３に供給される（ステップＳ２０）。

主制御部８は、インピーダンス検出手段９で検出されたインピーダンスを取り込み（ステップＳ２１）、これが固有のインピーダンスしきい値を越えたか否かを判別し（ステップＳ２２）、越えない場合にはステップＳ２１に戻り、越えた場合には、高周波出力を停止する信号を可変電源２及び波形制御部７に出力する（ステップＳ２３）。このとき、高周波出力が停止された時点に於けるインピーダンス（Ｚ１）の絶対値を装置内部のメモリに記憶しておく（ステップＳ２４）。

このように、高周波電力の開始から第一出力周期（０〜Ｔ１）での出力の停止／継続の判断は、まず、取り込んだインピーダンスを固有のインピーダンスしきい値と比較し、次に取り込んだインピーダンスが固有のインピーダンスしきい値を越えた時点で高周波出力を停止させるようにしている。尚、ここで出力を停止させる条件は予め決められた時間としても良い。

その後、所定期間（Ｔ１〜Ｔ２）の高周波出力休止期間を経て、高周波焼灼電源装置１から再び高周波電力を生成、出力させる（ステップＳ２５）。この時、高周波出力を開始した時点（Ｔ２）に於けるインピーダンス（Ｚ２）をインピーダンス検出部９で検出して主制御部８に取り込み（ステップＳ２６）、その絶対値を内部のメモリに記憶する（ステップＳ２７）。主制御部８は、メモリに格納されたインピーダンスＺ１とＺ２とを読み出して両者の差分値Ｄ＝Ｚ２−Ｚ１を計算する（ステップＳ２８）。次に、主制御部８は、計算したＤの値に基づいて高周波出力の遮断／継続判断を行うインピーダンスしきい値（Ｔ３時点の判別しきい値）を設定する（ステップＳ２９）。そして、随時取り込んだインピーダンス信号と、ステップＳ２９で設定されたインピーダンスしきい値とを比較判別する（ステップＳ３０）。そして、Ｔ３に於いて、インピーダンス信号が差分値Ｄに応じて設定されたしきい値を越えたときに、高周波出力を停止する信号を可変電源２及び波形制御部７に出力する（ステップＳ３１）。以下、最終的に組織の脱水が完了した事が検出されるまで、このプロセスを継続する。

図９は、図７のステップＳ２９の詳細を説明するための図である。上記したように、第３実施形態では、第Ｎ時点で高周波出力を停止したときのインピーダンスＺ１と、第（Ｎ＋１）時点で高周波出力を開始したときのインピーダンスＺ２と、Ｚ１とＺ２の差分値Ｄの３つのファクタに基づいて高周波出力を制御している。ここではさらに差分値Ｄの大きさが所定のしきい値を下回った場合（つまり、Ｄ１とＤ２の差がほとんどない場合）の判定を追加することとする。すなわち、差分値Ｄが所定のしきい値を下回った場合（Ｄの大きさが図９の領域αあるいはγに属する場合）にはＺ１の絶対値を考慮してインピーダンスしきい値を設定して高周波出力の制御を行う。

上記したことをまとめると図９のようになる。図９において、領域αでは、差分値Ｄはほぼ０であるが、Ｚ１が十分に高いレベルにある。この場合には高周波出力を下げるかまたは停止する制御を行う。また、領域βでは、Ｚ１とＺ２に著しいインピーダンス差Ｄがあり、第Ｎ時点で高周波出力を停止したときのインピーダンスＺ１よりも第（Ｎ＋１）時点で高周波出力を開始したときのインピーダンスＺ２の方が高い。この場合には高周波出力を下げるかまたは停止する制御を行う。また、領域γでは、差分値Ｄはほぼ０であるが、Ｚ１が十分に低いレベルにある。この場合には高周波出力を上げるかまたはより長時間出力する制御を行う。また、領域δでは、Ｚ１とＺ２に著しいインピーダンス差Ｄがあり、第Ｎ時点で高周波出力を停止したときのインピーダンスＺ１よりも第（Ｎ＋１）時点で高周波出力を開始したときのインピーダンスＺ２の方が低い。この場合には高周波出力を上げるかまたはより長時間出力する制御を行う。

なお、第３実施形態では、インピーダンス差分値Ｄに応じて、出力遮断／継続を決定するインピーダンスしきい値のレベルを調整するようにしたが、ここで調整する因子は例えば第Ｎ出力に於ける電力値、電流値、電圧値等でも同等の効果が得られる。

特に大きな組織を把持して処置を行う場合、初期インピーダンスは低い。尚且つ、処置部位に於ける電流密度（電力密度）が低下する事から中々焼灼が進まずに出力が継続される事になり、処置時間が長くなってしまう事がある。そこで、本実施形態では、詳述はしていないが、例えば各出力周期で許容し得る最長出力時間を別途設けておき、これと組み合わせる事で特に大きな効果が得られる。

図１は、本発明の第１実施形態に係る高周波焼灼電源装置の概略構成を示すブロック図である。 図２は、本発明の第１実施形態に係る制御部の制御動作を説明するためのフロー図である。 図３（Ａ），（Ｂ）は、第１実施形態の作用を説明するための図である。 図４は、本発明の第２実施形態に係る高周波焼灼電源装置の概略構成を示すブロック図である。 図５は、本発明の第２実施形態に係る高周波出力制御の手順を説明するためのフロー図である。 図６は、第２実施形態の作用を説明するための図である。 図７は、本発明の第３実施形態に係る高周波出力制御の手順を説明するためのフロー図である。 図８は、第３実施形態の作用を説明するための図である。 図９は、第３実施形態において、図７のステップＳ２９の詳細を説明するための図である。

符号の説明

１ 高周波焼灼電源装置
２ 可変電源
３ 高周波エネルギ生成部
４ 並列共振部
５ 高周波出力トランス
６ スイッチング回路
７ 波形生成部
８ 主制御部
９ インピーダンス検出部
１０、１１ 出力リード
１２ 電極
１３ 対象組織

Claims (16)

1. 高周波手術装置であって、
   対象組織を処置するのに用いられる高周波エネルギを生成して出力する高周波エネルギ生成部と、
   前記高周波エネルギ生成部から出力される高周波エネルギを前記対象組織に供給したときの、前記対象組織の状態を示す電気的パラメータの経時的変化を監視するパラメータ監視部と、
   前記パラメータ監視部での監視結果に基づいて、前記高周波エネルギの出力を制御する制御部と、
   を具備することを特徴とする高周波手術装置。
2. 前記パラメータ監視部は、前記対象組織の状態を示すインピーダンスの経時的変化を監視することを含むことを特徴とする請求項１記載の高周波手術装置。
3. 前記パラメータ監視部は、前記処置中のインピーダンスを所定の時間間隔で計測して前記インピーダンスが第１のしきい値を越えるか否かを監視し、当該第１のしきい値を越えた回数が所定回数に到達したときに、前記制御部は、前記高周波エネルギの出力を停止することを特徴とする請求項２記載の高周波手術装置。
4. 前記パラメータ監視部は、前記インピーダンスの計測中に、前記インピーダンスが前記第１のしきい値を下回った場合には、それまでの計測により得られた計数値をリセットするとともに、前記インピーダンスの計測を継続することを特徴とする請求項３記載の高周波手術装置。
5. 前記パラメータ監視部は、前記インピーダンスが前記第１のしきい値を越えた回数が所定回数に到達した後、前記インピーダンスが前記第１のしきい値とは異なる第２のしきい値を越えたか否かを判断し、前記インピーダンスが前記第２のしきい値を越えたときに、前記制御部は、前記高周波エネルギの出力を停止することを特徴とする請求項３記載の高周波手術装置。
6. 前記パラメータ監視部は、前記対象組織に印加される高周波エネルギの電力量を監視し、前記電力量が所定のしきい値を越えたときに、前記制御部は、前記高周波エネルギの出力を停止することを特徴とする請求項１記載の高周波手術装置。
7. 前記パラメータ監視部での前記電力量の監視は、操作者が前記高周波エネルギの出力操作をしている期間における総積算電力量を監視する第１の形態と、前記高周波エネルギが実際に出力されている期間における積算電力量を監視する第２の形態とを備えることを特徴とする請求項６に記載の高周波手術装置。
8. 前記パラメータ監視部は、第１出力周期において前記処置中のインピーダンスを所定の時間間隔で計測して前記インピーダンスが所定のしきい値を越えるか否かを監視し、当該所定のしきい値を越えたときに、前記制御部は、前記高周波エネルギの出力を停止するとともに、前記第１のしきい値を越えたときのインピーダンスを第１メモリに記憶し、
   前記第１出力周期の後の第２出力周期において、前記制御部は、前記高周波エネルギ生成部からの高周波エネルギの出力を再び開始し、当該開始時のインピーダンスと、前記第１メモリに記憶されたインピーダンスとの差分値を算出し、この差分値に基づいて前記高周波エネルギの出力を制御することを特徴とする請求項２記載の高周波手術装置。
9. 高周波手術方法であって、
   対象組織を処置するのに用いられる高周波エネルギを生成して出力する高周波エネルギ生成ステップと、
   前記高周波エネルギ生成ステップにおいて出力される高周波エネルギを前記対象組織に供給したときの、前記対象組織の状態を示す電気的パラメータの経時的変化を監視するパラメータ監視ステップと、
   前記パラメータ監視ステップでの監視結果に基づいて、前記高周波エネルギの出力を制御する制御ステップと、
   を具備することを特徴とする高周波手術方法。
10. 前記パラメータ監視ステップは、前記対象組織の状態を示すインピーダンスの経時的変化を監視することを含むことを特徴とする請求項９記載の高周波手術方法。
11. 前記パラメータ監視ステップは、前記処置中のインピーダンスを所定の時間間隔で計測して前記インピーダンスが第１のしきい値を越えるか否かを監視し、当該第１のしきい値を越えた回数が所定回数に到達したときに、前記制御部ステップは、前記高周波エネルギの出力を停止することを特徴とする請求項１０記載の高周波手術方法。
12. 前記パラメータ監視ステップは、前記インピーダンスの計測中に、前記インピーダンスが前記第１のしきい値を下回った場合には、それまでの計測により得られた計数値をリセットするとともに、前記インピーダンスの計測を継続することを特徴とする請求項１１記載の高周波手術方法。
13. 前記パラメータ監視ステップは、前記インピーダンスが前記第１のしきい値を越えた回数が所定回数に到達した後、前記インピーダンスが前記第１のしきい値とは異なる第２のしきい値を越えたか否かを判断し、前記インピーダンスが前記第２のしきい値を越えたときに、前記制御ステップは、前記高周波エネルギの出力を停止することを特徴とする請求項１１記載の高周波手術方法。
14. 前記パラメータ監視ステップは、前記対象組織に印加される高周波エネルギの電力量を監視し、前記電力量が所定のしきい値を越えたときに、前記制御部ステップは、前記高周波エネルギの出力を停止することを特徴とする請求項９記載の高周波手術方法。
15. 前記パラメータ監視ステップでの前記電力量の監視は、操作者が前記高周波エネルギの出力操作をしている期間における総積算電力量を監視する第１の形態と、前記高周波エネルギが実際に出力されている期間における積算電力量を監視する第２の形態とを備えることを特徴とする請求項１４記載の高周波手術方法。
16. 前記パラメータ監視ステップは、第１出力周期において前記処置中のインピーダンスを所定の時間間隔で計測して前記インピーダンスが所定のしきい値を越えるか否かを監視し、当該所定のしきい値を越えたときに、前記制御ステップは、前記高周波エネルギの出力を停止するとともに、前記第１のしきい値を越えたときのインピーダンスを第１メモリに記憶し、
    前記第１出力周期の後の第２出力周期において、前記制御ステップは、前記高周波エネルギの出力を再び開始し、当該開始時のインピーダンスと、前記第１メモリに記憶されたインピーダンスとの差分値を算出し、この差分値に基づいて前記高周波エネルギの出力を制御することを特徴とする請求項１０記載の高周波手術方法。

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