JP2008113750A - 炭酸ガス発生装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】足裏を接触させて足を載置可能な足置き部(2)と、炭酸ガス発生剤及びスチーム発生剤を収納する剤収納部(3)と、下肢乃至足の甲を包囲して覆う空間を形成する下肢覆い部(5)とを具備し、上記下肢覆い部(5)の下方内部に上記足置き部(2)を配置して接合し、上記剤収納部(3)内で炭酸ガス及びスチームを発生させ、該炭酸ガス及びスチームを上記足置き部(2)の下方から上記下肢覆い部(5)内に上昇させるようにした炭酸ガス発生装置(1)。
【選択図】図1
Description
本実施形態の炭酸ガス発生装置1は、足裏を接触させて足を載置可能な足置き部2と、該足置き部2の下方に設けられた剤収納部3と、該足置き部2及び該剤収納部3を内部に収納する箱状体4と、該足置き部2の上方に設けられた、下肢乃至足の甲を包囲して覆う空間を形成する下肢覆い部5とから構成されている。
また、上記箱状体4は、図3及び図4に示すように、その開口部の周縁の外周を段部42となしてある。
本実施形態では、上記炭酸ガス発生剤及びスチーム発生剤7として、水の添加により炭酸ガス及びスチームを発生する一体型剤であって、水添加時の崩壊性の異なる2種の錠剤7a及び7bを用いている。この炭酸ガス発生剤及びスチーム発生剤7の詳細については後述する。
また、足載置板21の天面に設けられた突起23の高さは、足裏への炭酸ガス及びスチームの進入のし易さや足裏に対する温熱効果等の観点から、1〜15mm、特に1.5〜7mmであることが好ましい。
本実施形態では、上記のA/B比が1.3、足載置板21の下面と剤収納部3の上部開口部の稜線との間の距離が25mm、突起23の高さが1.5〜7mmである。
上記発熱物質としては、酸化カルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸アルミニウム、硫酸カルシウム、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、塩化アルミニウム等の無機塩、活性化ゼオライト等が挙げられる。これらの発熱物質は、ポリエチレングリコール(PEG)、デキストリン、キサンタンガム、デンプン、グアーガム、カラギーナン、寒天、マンナン、ゼラチン、コラーゲン、メチルセルロース、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、カゼイン、アルギン酸、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸塩、可溶性デンプン、アルブミン、アルギン酸塩等の水溶性高分子で常法にて表面処理されたものが好ましい。
上記炭酸塩としては、重曹、炭酸ナトリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、セスキ炭酸ナトリウム等が挙げられ、上記有機酸としては、フマル酸、コハク酸、リンゴ酸、アジピン酸、酒石酸、クエン酸、マロン酸、マレイン酸等が挙げられる。これらの炭酸塩や有機酸も、発熱物質と同様に水溶性高分子により表面処理を行うこともできる。
〈水添加時の崩壊性の速い錠剤〉
処方:重曹 5.7g
フマル酸 8.4g
酸化カルシウム 30.0g
打錠圧:16MPa
錠剤の大きさ:径49mm×高19mm
この錠剤の炭酸ガス発生量は約2L(炭酸ガス濃度は下肢覆い部の容積が20Lとして約7%)、スチーム発生量は約10g(スチーム発生割合は下肢覆い部の容積が20Lとして約0.5g/L)である。
〈水添加時の崩壊性の遅い錠剤〉
処方:重曹 19.4g
フマル酸 28.7g
酸化カルシウム 30.0g
打錠圧:4MPa
錠剤の大きさ:径49mm×高28mm
この錠剤の炭酸ガス発生量は約6L(炭酸ガス濃度は下肢覆い部の容積が20Lとして約21%)、スチーム発生量は約10g(スチーム発生割合は下肢覆い部の容積が20Lとして約0.5g/L)である。
また、図7に示すように、該箱体5’は、両足の挿入口5aを有する上面の代わりに、該箱体5’の開口部の周縁に、上部開口部の周縁に固定バンド52を有するプラスチックフイルム製の筒状物5cの下部開口部の周縁を接合した構成としてもよい。
2 足置き部
3 剤収納部
4 箱状体
5 下肢覆い部
6 連通空間
7 炭酸ガス発生剤及びスチーム発生剤
21 足載置板
Claims (8)
- 足裏を接触させて足を載置可能な足置き部と、炭酸ガス発生剤及びスチーム発生剤を収納する剤収納部と、下肢乃至足の甲を包囲して覆う空間を形成する下肢覆い部とを具備し、
上記下肢覆い部の下方内部に上記足置き部を配置して接合し、上記剤収納部内で炭酸ガス及びスチームを発生させ、該炭酸ガス及びスチームを上記足置き部の下方から上記下肢覆い部内に上昇させるようにした炭酸ガス発生装置。 - 上記足置き部は、足裏を接触させて足を載置可能な足載置板を有し、上記下肢覆い部は、該足置き部の上方に設けられ、上記剤収納部は、該足置き部の下方に設けられ、かつ上面に開口部を有する箱状体の内部に設けられており、
上記足載置板は、該箱状体の開口部を覆うように配置され、上記剤収納部は、該箱状体の内部で該足載置板の下部に配置され、上記下肢覆い部は、その下部開口部の周縁又は該周縁の近傍が、上記箱状体の上記開口部の周縁又は該周縁の近傍に連接されている請求項1記載の炭酸ガス発生装置。 - 上記剤収納部、上記足置き部及び上記下肢覆い部に亘り、上記下肢覆い部の上方部を除き密閉された連通空間が形成されており、上記剤収納部で発生する炭酸ガス及びスチームを該連通空間に上昇させるようにした請求項2記載の炭酸ガス発生装置。
- 上記足載置板は、複数本の支持体又は上記箱状体の内周壁の一部で支持される請求項2又は3記載の炭酸ガス発生装置。
- 上記足載置板は、伝熱緩衝構造からなる請求項2〜4の何れかに記載の炭酸ガス発生装置。
- 上記剤収納部は、上記箱状体内に、その側部から出入自在に設けられる請求項2〜5の何れかに記載の炭酸ガス発生装置。
- 上記炭酸ガス発生剤及び上記スチーム発生剤は、水が添加されて炭酸ガス及びスチームを発生する請求項1〜6の何れかに記載の炭酸ガス発生装置。
- 上記下肢覆い部内の炭酸ガス濃度が1%以上、スチーム発生割合が0.05g/L以上となるように、上記剤収納部内から上記下肢覆い部内へ炭酸ガス及びスチームを上昇させる請求項1〜7の何れかに記載の炭酸ガス発生装置。
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