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JP2008108823A - Device and method for supplying and discharging substrate - Google Patents

Device and method for supplying and discharging substrate Download PDF

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JP2008108823A
JP2008108823A JP2006288648A JP2006288648A JP2008108823A JP 2008108823 A JP2008108823 A JP 2008108823A JP 2006288648 A JP2006288648 A JP 2006288648A JP 2006288648 A JP2006288648 A JP 2006288648A JP 2008108823 A JP2008108823 A JP 2008108823A
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JP
Japan
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substrate
storage container
semiconductor wafer
container
handling
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Pending
Application number
JP2006288648A
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Japanese (ja)
Inventor
Noriyoshi Hosono
則義 細野
Satoshi Odajima
智 小田嶋
Kiyobumi Tanaka
清文 田中
Atsushi Taniguchi
敦 谷口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Polymer Co Ltd
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Polymer Co Ltd
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Shin Etsu Polymer Co Ltd, Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Polymer Co Ltd
Priority to JP2006288648A priority Critical patent/JP2008108823A/en
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device and a method for supplying and discharging a substrate capable of preventing a space saving and an increase in the load of the device and capable of solving an adverse effect with the deflection of the substrate. <P>SOLUTION: The device supplies and discharges semiconductor wafers W to a substrate housing 1 by a charging/expelling device 20. In the device, the substrate housing 1 is composed of a vessel body 4 with a housing cassette 3 housing the semiconductor wafers W on a base plate 2 and a covering case 5 being fitted to the base plate 2 for the vessel body 4 and covering the housing cassette 3. The charging/expelling device 20 is composed of a load port 21 erecting and loading the substrate housing 1 and erecting the semiconductor wafers W and a detachable carrier mechanism 27 being advanced to and retracted from the substrate housing 1 loaded on the load port 21 and mounting and demounting the vessel body 4 to and from the covering case 5. The charging/expelling device is further composed of a pushing-up mechanism 30 pushing up the semiconductor wafers W in the vessel body 4 removed from the covering case 5 and a handling robot 31 handling the pushed-up semiconductor wafers W. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、薄く撓みやすい大口径の半導体ウェーハ等からなる基板を投入・払い出しする基板の給排装置及び基板の給排方法に関するものである。   The present invention relates to a substrate supply / discharge device and a substrate supply / discharge method for loading and unloading a substrate made of a thin, flexible, large-diameter semiconductor wafer or the like.

半導体ウェーハは、現在、フロントオープンボックスタイプの基板収納容器に収納される口径300mmのタイプが主流である(特許文献1参照)が、将来的には、チップサイズの大型化と生産性の向上の観点から口径450mmのタイプに移行すると考えられている。このように半導体ウェーハが口径300mmから450mmのタイプに移行すると、その撓み量、重量、スペースが増大するので、フロントオープンボックスタイプの基板収納容器やその蓋体を開閉する蓋体開閉装置、及びハンドリングロボット等をそのまま使用することができなくなる。   Currently, semiconductor wafers are mainly 300 mm in diameter and stored in a front open box type substrate storage container (see Patent Document 1). In the future, however, chip size increases and productivity increases. From the viewpoint, it is considered to shift to a type having a diameter of 450 mm. When the semiconductor wafer shifts from the 300 mm diameter to the 450 mm type in this way, the amount of deflection, weight, and space increase. Therefore, a front open box type substrate storage container, a lid opening / closing device that opens and closes the lid, and handling The robot cannot be used as it is.

そこで、現在、450mmのタイプの半導体ウェーハWに対応可能な新しいシステムが模索されているが、その一つとして図6に示すシステムがあげられる。このシステムは、図6に示すように、投入・払い出し装置20Aのロードポート21Aにボトムオープンタイプで大型の基板収納容器1Aを水平に搭載し、この基板収納容器1Aに対して口径450mmの半導体ウェーハWを水平多関節のハンドリングロボット31Aにより水平に投入したり、払い出すようにしている。   Therefore, a new system capable of dealing with a 450 mm type semiconductor wafer W is currently being sought, and one of them is the system shown in FIG. In this system, as shown in FIG. 6, a bottom open type large substrate storage container 1A is mounted horizontally on a load port 21A of a loading / dispensing apparatus 20A, and a semiconductor wafer having a diameter of 450 mm with respect to the substrate storage container 1A. W is thrown in and out horizontally by a horizontal articulated handling robot 31A.

ボトムオープンタイプの基板収納容器1Aは、図7に示すように、底板11上に複数枚の半導体ウェーハWを上下多段に整列収納する収納カセット3Aを備えた容器本体4と、この容器本体4の底板11に上方から着脱自在に嵌合されて収納カセット3Aを被覆する被覆ケース5とを備えて構成され(特許文献2参照)、投入・払い出し装置20Aの昇降可能なロードポート21A上に底板11が水平に搭載される。
特開2006‐216775号公報 特公平7‐46694号公報
As shown in FIG. 7, the bottom open type substrate storage container 1 </ b> A includes a container main body 4 including a storage cassette 3 </ b> A for storing a plurality of semiconductor wafers W in a vertical and multistage manner on a bottom plate 11, and the container main body 4. A cover case 5 that is detachably fitted to the bottom plate 11 from above and covers the storage cassette 3A is configured (see Patent Document 2), and the bottom plate 11 is placed on a load port 21A that can be moved up and down of the loading / dispensing device 20A. Is mounted horizontally.
JP 2006-216775 A Japanese Patent Publication No. 7-46694

450mmタイプの半導体ウェーハWに対応可能な新しいシステムは、以上のように構成され、ロードポート21Aに基板収納容器1Aを水平に搭載するので、大型の基板収納容器1Aを搭載するため、広いスペースが必要になり、しかも、装置の負荷が増大するおそれがある。また、基板収納容器1Aに対して半導体ウェーハWをハンドリングロボット31Aにより水平に投入したり、払い出すので、重い半導体ウェーハWが弓なりに撓んで他の半導体ウェーハWに干渉する事態や、ハンドリングロボット31Aのハンドが挿入時に半導体ウェーハWに干渉することにより、半導体ウェーハWを損傷するおそれが懸念される。   The new system capable of handling 450 mm type semiconductor wafers W is configured as described above, and the substrate storage container 1A is mounted horizontally on the load port 21A. Therefore, a large space is available for mounting the large substrate storage container 1A. In addition, the load on the apparatus may increase. Further, since the semiconductor wafer W is horizontally inserted into or discharged from the substrate storage container 1A by the handling robot 31A, the situation where the heavy semiconductor wafer W bends in a bow and interferes with another semiconductor wafer W, or the handling robot 31A. There is a concern that the hand may damage the semiconductor wafer W by interfering with the semiconductor wafer W during insertion.

このような懸念を解消するには、収納カセット3Aに収納された複数枚の半導体ウェーハW間のピッチを拡大すれば良いが、そうすると、収納カセット3Aが上下方向に高く長くなるので、基板収納容器1Aのさらなる大型化を招くこととなる。   In order to eliminate such a concern, the pitch between the plurality of semiconductor wafers W stored in the storage cassette 3A may be increased. However, since the storage cassette 3A becomes higher and longer in the vertical direction, the substrate storage container 1A will be further increased in size.

本発明は上記に鑑みなされたもので、省スペース化や装置の負荷の増大防止を図ることができ、しかも、基板の撓みに伴う弊害を解消することのできる基板の給排装置及び基板の給排方法を提供することを目的としている。   The present invention has been made in view of the above, and can save space and prevent an increase in the load on the apparatus, and can eliminate the adverse effects caused by the bending of the substrate and the substrate supply / discharge device. The purpose is to provide a drainage method.

本発明においては上記課題を解決するため、基板収納容器に対して基板を投入・払い出し装置により給排するものであって、
基板収納容器は、ベース板上に基板を収納する収納カセットを備えた容器本体と、この容器本体のベース板に着脱自在に嵌め合わされて収納カセットを被覆する被覆体とを含み、
投入・払い出し装置は、基板収納容器を立てて搭載して基板を起立させるロードポートと、このロードポートに搭載された基板収納容器に対して進退動し、基板収納容器の被覆体に対して容器本体を略水平に着脱する着脱搬送機構と、この着脱搬送機構により基板収納容器の被覆体から取り外された容器本体の基板を突き上げる突き上げ機構と、この突き上げ機構により突き上げられた基板をハンドリングするハンドリング機構とを含んでなることを特徴としている。
In the present invention, in order to solve the above-described problem, the substrate is supplied to and discharged from the substrate storage container by a loading / dispensing device,
The substrate storage container includes a container main body including a storage cassette for storing a substrate on a base plate, and a covering that is detachably fitted to the base plate of the container main body to cover the storage cassette,
The loading / dispensing device includes a load port that stands and mounts the substrate storage container, and moves up and down relative to the substrate storage container mounted on the load port. An attachment / detachment transport mechanism that attaches and detaches the main body substantially horizontally, a push-up mechanism that pushes up the substrate of the container body removed from the cover of the substrate storage container by the attachment / detachment transport mechanism, and a handling mechanism that handles the substrate pushed up by the push-up mechanism It is characterized by comprising.

なお、基板収納容器の収納カセットは、ベース板上に設けられて基板の後部と両側部を支持する複数の棚板と、この複数の棚板に設けられて基板に対向する抑え体とを含み、複数の棚板の間に空間を形成することが好ましい。
また、ハンドリング機構を、突き上げられた基板の周縁部をクランプするハンドリングロボットとすることが好ましい。
The storage cassette for the substrate storage container includes a plurality of shelf plates that are provided on the base plate and support the rear and both sides of the substrate, and a holding member that is provided on the plurality of shelf plates and faces the substrate. It is preferable to form a space between the plurality of shelf boards.
Moreover, it is preferable that the handling mechanism is a handling robot that clamps the peripheral edge portion of the pushed-up substrate.

また、本発明においては上記課題を解決するため、請求項1、2、又は3記載の基板の給排装置を使用して基板収納容器に対し基板を給排することを特徴としている。   In order to solve the above-mentioned problems, the present invention is characterized in that the substrate is supplied to and discharged from the substrate storage container using the substrate supply / discharge device according to claim 1, 2, or 3.

ここで、特許請求の範囲における基板には、少なくとも単数複数の半導体ウェーハ、液晶基板、ガラス基板等が含まれる。基板が半導体ウェーハの場合、口径450mmタイプが主ではあるが、口径200mmや300mmのタイプ等でも良い。また、ベース板は、円板形でも良いし、多角形や矩形の板等でも良い。突き上げ機構やハンドリング機構は、単数複数を特に問うものではない。   Here, the substrate in the claims includes at least one semiconductor wafer, a liquid crystal substrate, a glass substrate, and the like. When the substrate is a semiconductor wafer, a 450 mm type is mainly used, but a 200 mm or 300 mm type may be used. Further, the base plate may be a disc shape, a polygonal plate or a rectangular plate. The push-up mechanism and the handling mechanism do not specifically ask for a plurality.

本発明によれば、基板収納容器から基板を排出する場合には、投入・払い出し装置のロードポート上に基板収納容器を立てて搭載し、収納カセットの開口側を上方向に向けるとともに、収納カセット内の基板を縦方向に指向させる。すると、投入・払い出し装置の着脱搬送機構が基板収納容器の容器本体を保持し、この着脱搬送機構が進退動して被覆体から容器本体を取り外して引き離す。こうして被覆体から容器本体が引き離されると、突き上げ機構が上昇して収納カセットの基板に干渉し、基板が上昇した後、ハンドリング機構が基板に干渉してハンドリングし、基板が排出される。   According to the present invention, when the substrate is discharged from the substrate storage container, the substrate storage container is stood and mounted on the load port of the loading / dispensing device, the opening side of the storage cassette is directed upward, and the storage cassette The inner substrate is oriented vertically. Then, the detachable transport mechanism of the loading / dispensing device holds the container main body of the substrate storage container, and this detachable transport mechanism moves forward and backward to remove the container main body from the covering body and pull it away. When the container body is pulled away from the cover, the push-up mechanism rises and interferes with the substrate of the storage cassette. After the substrate rises, the handling mechanism interferes with the substrate and handles it, and the substrate is discharged.

これに対し、基板収納容器に基板を供給する場合には、容器本体の収納カセット内に基板がハンドリング機構により上方から収納され、着脱搬送機構がロードポート側に移動して被覆体に容器本体を組み合わせ、この組み合わせにより、基板収納容器に基板が供給される。   On the other hand, when a substrate is supplied to the substrate storage container, the substrate is stored in the storage cassette of the container body from above by the handling mechanism, and the detachable transport mechanism moves to the load port side so that the container body is attached to the covering. The substrate is supplied to the substrate storage container by this combination.

本発明によれば、省スペース化や装置の負荷の増大防止を図ることができ、しかも、基板の撓みに伴う弊害を解消することができるという効果がある。
また、基板収納容器の収納カセットを、ベース板上に設けられて基板の後部と両側部を支持する複数の棚板と、この複数の棚板に設けられて基板に対向する抑え体とから構成し、複数の棚板の間に空間を形成すれば、突き上げ機構により基板を円滑に突き上げることができる。
According to the present invention, it is possible to save space and prevent an increase in the load on the apparatus, and to eliminate the adverse effects caused by the bending of the substrate.
Further, the storage cassette for the substrate storage container includes a plurality of shelf plates provided on the base plate and supporting the rear and both sides of the substrate, and a holding body provided on the plurality of shelf plates and facing the substrate. If a space is formed between the plurality of shelf boards, the board can be smoothly pushed up by the pushing-up mechanism.

また、ハンドリング機構を、突き上げられた基板の周縁部をクランプするハンドリングロボットとすれば、容器本体内の基板間のピッチを拡大することなく、基板を円滑に供給したり、排出することができる。   Further, if the handling mechanism is a handling robot that clamps the peripheral edge of the pushed-up substrate, the substrate can be smoothly supplied or discharged without increasing the pitch between the substrates in the container body.

以下、図面を参照して本発明の好ましい実施の形態を説明すると、本実施形態における基板の給排装置は、図1ないし図5に示すように、基板収納容器1を起立させた状態で搭載する投入・払い出し装置20を備え、この投入・払い出し装置20のロードポート21上に基板収納容器1を起立させて搭載し、この基板収納容器1に対して口径450mmの薄く丸い半導体ウェーハWを突き上げ機構30と多関節のハンドリングロボット31とにより投入したり、払い出すようにしている。   Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. A substrate supply / discharge device in the present embodiment is mounted with the substrate storage container 1 standing up as shown in FIGS. The substrate storage container 1 is erected and mounted on the load port 21 of the input / discharge apparatus 20, and a thin and round semiconductor wafer W having a diameter of 450 mm is pushed up with respect to the substrate storage container 1. The mechanism 30 and the multi-joint handling robot 31 are used for insertion and withdrawal.

基板収納容器1は、図1や図2に示すように、円板のベース板2上に複数枚(例えば13枚)の半導体ウェーハWを多段に整列収納する収納カセット3を備えた容器本体4と、この容器本体4のベース板2に上方から着脱自在に嵌合されて収納カセット3を被覆する被覆ケース5とを備え、使用状況や必要に応じ、水平状態で使用されたり、起立状態で使用される。   As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the substrate storage container 1 is a container main body 4 provided with a storage cassette 3 for storing a plurality of (for example, 13) semiconductor wafers W in a multistage manner on a circular base plate 2. And a covering case 5 that is detachably fitted to the base plate 2 of the container body 4 from above and covers the storage cassette 3, and is used in a horizontal state or in an upright state as required. used.

収納カセット3は、図1や図2に示すように、ベース板2上に間隔をおき立設されて半導体ウェーハWの後部周縁と両側部周縁とをそれぞれ保持溝6により嵌合支持する複数の棚板7を備え、この複数の棚板7の間には、突き上げ機構30用の挿入空間8が複数区画され、複数の棚板7の上部には、半導体ウェーハWの表面に対向する保護用の抑えリング9が一体形成されており、正面側(図1の上方向、図2の右方向)10から半導体ウェーハWが出し入れされる。   As shown in FIGS. 1 and 2, the storage cassette 3 is erected on the base plate 2 with a space therebetween, and the rear periphery and both side periphery of the semiconductor wafer W are fitted and supported by the holding grooves 6. A plurality of insertion spaces 8 for the push-up mechanism 30 are defined between the plurality of shelf boards 7, and the upper part of the plurality of shelf boards 7 is for protection facing the surface of the semiconductor wafer W. The control ring 9 is integrally formed, and the semiconductor wafer W is taken in and out from the front side (upward direction in FIG. 1, right direction in FIG. 2) 10.

各棚板7は、半導体ウェーハWの形状に対応するよう略半円弧形の縦長の板に湾曲形成され、半導体ウェーハWに対向する内面には、断面略U字形あるいは略V字形の保持溝6が上下方向に所定のピッチで複数並設される。   Each shelf plate 7 is curved and formed into a substantially semicircular arc-like long plate corresponding to the shape of the semiconductor wafer W, and a holding groove having a substantially U-shaped or substantially V-shaped cross section is formed on the inner surface facing the semiconductor wafer W. A plurality of 6 are arranged in parallel in the vertical direction at a predetermined pitch.

被覆ケース5は、図2に示すように、中空円柱形の断面略ハット形に形成され、周面の一部には複数の位置決め具が配設されており、半導体ウェーハWの投入・払い出し時にベース板2から取り外される。この被覆ケース5の天井中央部には、搬送用のフランジが選択的に装着される。   As shown in FIG. 2, the covering case 5 is formed in a hollow cylindrical cross-section with a substantially hat shape, and a plurality of positioning tools are disposed on a part of the peripheral surface. It is removed from the base plate 2. A transport flange is selectively attached to the center of the ceiling of the covering case 5.

投入・払い出し装置20は、図1に示すように、基板収納容器1を起立させて搭載し、半導体ウェーハWを上下方向に向けるロードポート21と、このロードポート21に搭載された基板収納容器1に対して水平に進退動し、被覆ケース5に対して容器本体4を水平に着脱する着脱搬送機構27と、この着脱搬送機構27により被覆ケース5から取り外された容器本体4内の半導体ウェーハWを垂直上方に突き上げる突き上げ機構30と、この突き上げ機構30により垂直上方に突き上げられた半導体ウェーハWをハンドリングするエッジクランプ式のハンドリングロボット31とを備えて構成される。   As shown in FIG. 1, the loading / dispensing device 20 has a substrate storage container 1 standing up and mounted, a load port 21 for directing a semiconductor wafer W in the vertical direction, and a substrate storage container 1 mounted on the load port 21. An attachment / detachment transport mechanism 27 that moves forward and backward horizontally with respect to the covering case 5 to attach / detach the container body 4 horizontally, and the semiconductor wafer W in the container body 4 detached from the covering case 5 by the attachment / detachment transport mechanism 27. Is configured to include a push-up mechanism 30 that pushes the semiconductor wafer W vertically upward, and an edge clamp type handling robot 31 that handles the semiconductor wafer W pushed vertically upward by the push-up mechanism 30.

ロードポート21は、図1に示すように、略同じ高さの架台22が隣接して設置され、この架台22上には、基板収納容器1よりも大きい作業ステージ23が透明の特殊ガラスからなる複数のパネル24により区画形成されており、この透明のパネル24の一部には、起立した基板収納容器1の容器本体4に対向する連通口25が開口して形成される。   As shown in FIG. 1, the load port 21 is provided with a gantry 22 having substantially the same height adjacent thereto, and a work stage 23 larger than the substrate storage container 1 is made of transparent special glass on the gantry 22. A plurality of panels 24 are defined and a part of the transparent panel 24 is formed with a communication port 25 facing the container body 4 of the upright substrate storage container 1.

ロードポート21の略平坦な上部には、被覆ケース5の複数の位置決め具に嵌合接触する位置決め機構26が配設され、この位置決め機構26が基板収納容器1の被覆ケース5を起立させて位置決め固定するよう機能する。また、架台22上の作業ステージ23は、着脱搬送機構27、突き上げ機構30、及びハンドリングロボット31が配設され、ダウンフローのエアが流下しやすい構造に構成される。   A positioning mechanism 26 that fits and contacts a plurality of positioning tools of the covering case 5 is disposed on a substantially flat upper portion of the load port 21, and the positioning mechanism 26 stands up and positions the covering case 5 of the substrate storage container 1. Function to fix. In addition, the work stage 23 on the gantry 22 includes a detachable transport mechanism 27, a push-up mechanism 30, and a handling robot 31, and has a structure in which downflow air can easily flow down.

着脱搬送機構27は、同図に示すように、架台22上に複数のガイドレール28を介して搭載支持され、架台22内のモータの駆動に伴うスクリュー螺子の回転により水平にスライドし、ロードポート21に搭載された基板収納容器1に対して連通口25を介し進出したり、後退する。この着脱搬送機構27には、容器本体4の底面を真空吸着する吸着機構29が配設される。   As shown in the figure, the detachable transport mechanism 27 is mounted and supported on the gantry 22 via a plurality of guide rails 28, and slides horizontally by the rotation of a screw screw accompanying the drive of the motor in the gantry 22 to load the load port. The board storage container 1 mounted on the board 21 advances or retreats through the communication port 25. The attachment / detachment conveyance mechanism 27 is provided with an adsorption mechanism 29 that vacuum-adsorbs the bottom surface of the container body 4.

突き上げ機構30は、図5に示すように、架台22に内蔵され、この架台22内の歯車機構や螺子機構等の駆動に基づいて昇降し、半導体ウェーハWの下部周縁に干渉して上昇させるよう機能する。また、ハンドリングロボット31は、図1に示すように、架台22上に回転可能、かつ昇降可能に設置され、突き上げ機構30により突き上げられた半導体ウェーハWの上部周縁に干渉してハンドリングし、半導体ウェーハWを投入、排出、移載するよう機能する。   As shown in FIG. 5, the push-up mechanism 30 is built in the gantry 22, and ascends and descends based on driving of a gear mechanism, a screw mechanism, and the like in the gantry 22, and interferes with the lower peripheral edge of the semiconductor wafer W to be raised. Function. In addition, as shown in FIG. 1, the handling robot 31 is installed on the gantry 22 so as to be rotatable and capable of moving up and down. The handling robot 31 interferes with the upper peripheral edge of the semiconductor wafer W pushed up by the push-up mechanism 30 and handles the semiconductor wafer. Functions to load, discharge, and transfer W.

上記において、基板収納容器1から口径450mmの半導体ウェーハWを払い出す場合には、投入・払い出し装置20のロードポート21上に基板収納容器1を水平ではなく、起立させて位置決め搭載し、パネル24の連通口25や着脱搬送機構27の吸着機構29に基板収納容器1の容器本体4を対向させ、収納カセット3の正面側10を上方向に向けるとともに、半導体ウェーハWを起立させる(図3参照)。   In the above, when the semiconductor wafer W having a diameter of 450 mm is discharged from the substrate storage container 1, the substrate storage container 1 is positioned upright on the load port 21 of the loading / dispensing apparatus 20, not horizontally, and mounted on the panel 24. The container body 4 of the substrate storage container 1 is made to face the communication port 25 and the suction mechanism 29 of the detachable transport mechanism 27, the front side 10 of the storage cassette 3 is directed upward, and the semiconductor wafer W is erected (see FIG. 3). ).

すると、光学センサの検知等に基づき、着脱搬送機構27が基板収納容器1の容器本体4底面を連通口25を介して吸着し、この着脱搬送機構27が反ロードポート21側にスライドして被覆ケース5から容器本体4を取り外して離隔させ、作業ステージ23に収納カセット3と半導体ウェーハWとが移動する(図4参照)。   Then, based on the detection of the optical sensor or the like, the attachment / detachment conveyance mechanism 27 sucks the bottom surface of the container body 4 of the substrate storage container 1 through the communication port 25, and the attachment / detachment conveyance mechanism 27 slides toward the anti-load port 21 side to cover it. The container body 4 is removed from the case 5 and separated, and the storage cassette 3 and the semiconductor wafer W move to the work stage 23 (see FIG. 4).

作業ステージ23に収納カセット3と半導体ウェーハWとが移動すると、二股の突き上げ機構30が上昇して収納カセット3に収納された半導体ウェーハWの下部周縁に挿入空間8を介し干渉し、半導体ウェーハWが上昇して収納カセット3から飛び出し、その後、ハンドリングロボット31が半導体ウェーハWの上部周縁に干渉してハンドリングし、半導体ウェーハWが排出され、移載される(図5参照)。   When the storage cassette 3 and the semiconductor wafer W move to the work stage 23, the bifurcated push-up mechanism 30 rises and interferes with the lower peripheral edge of the semiconductor wafer W stored in the storage cassette 3 via the insertion space 8. Rises and jumps out of the storage cassette 3, and then the handling robot 31 interferes with the upper peripheral edge of the semiconductor wafer W for handling, and the semiconductor wafer W is discharged and transferred (see FIG. 5).

突き上げ機構30が半導体ウェーハWの下部周縁に干渉する際、複数の棚板7の間に突き上げ機構30用の挿入空間8が区画されるので、棚板7と突き上げ機構30とが衝突することがなく、突き上げ機構30の干渉に何ら支障を来たすことがない。   When the push-up mechanism 30 interferes with the lower peripheral edge of the semiconductor wafer W, since the insertion space 8 for the push-up mechanism 30 is partitioned between the plurality of shelf boards 7, the shelf board 7 and the push-up mechanism 30 may collide. And there is no hindrance to the interference of the push-up mechanism 30.

これに対し、基板収納容器1に半導体ウェーハWを投入する場合には、突き上げ機構30の突き上げを除き、上記作業と逆の作業が行われる。すなわち、作業ステージ23の収納カセット3に半導体ウェーハWがハンドリングロボット31により垂直上方から挿入して収納され、容器本体4を吸着保持する着脱搬送機構27がロードポート21側にスライドして対向する被覆ケース5の開口部に容器本体4を連通口25を介し嵌合し、この嵌合により、基板収納容器1に半導体ウェーハWが投入される。   On the other hand, when the semiconductor wafer W is put into the substrate storage container 1, the work opposite to the above work is performed except for the push-up mechanism 30 being pushed up. That is, the semiconductor wafer W is inserted and stored in the storage cassette 3 of the work stage 23 from above by the handling robot 31, and the removable transport mechanism 27 that sucks and holds the container body 4 slides toward the load port 21 to face the cover. The container body 4 is fitted into the opening of the case 5 through the communication port 25, and the semiconductor wafer W is put into the substrate storage container 1 by this fitting.

上記構成によれば、ロードポート21に基板収納容器1を水平ではなく、立てて搭載するので、基板収納容器1が大型でも省スペースや効率化が可能になり、装置の負荷増大のおそれを有効に排除することができる。また、基板収納容器1に対して半導体ウェーハWをハンドリングロボット31により垂直に投入したり、払い出すので、半導体ウェーハWの下方向の撓みが減少し、他の半導体ウェーハWに干渉する事態や、ハンドリングロボット31のハンドが挿入時に半導体ウェーハWに干渉することにより、半導体ウェーハWの損傷を招くおそれがない。したがって、収納カセット3に収納された複数枚の半導体ウェーハW間のピッチを拡大する必要もない。   According to the above configuration, since the substrate storage container 1 is mounted on the load port 21 in an upright rather than horizontal manner, even if the substrate storage container 1 is large, it is possible to save space and improve efficiency, which effectively increases the load on the apparatus. Can be eliminated. Further, since the semiconductor wafer W is vertically inserted into or dispensed from the substrate storage container 1 by the handling robot 31, the downward deflection of the semiconductor wafer W is reduced, and the semiconductor wafer W interferes with other semiconductor wafers W. Since the hand of the handling robot 31 interferes with the semiconductor wafer W during insertion, there is no possibility of causing damage to the semiconductor wafer W. Therefore, it is not necessary to increase the pitch between the plurality of semiconductor wafers W stored in the storage cassette 3.

また、半導体ウェーハWを垂直上方に突き出すので、ハンドリングスペースを大きく確保することができる。さらに、着脱搬送機構27により半導体ウェーハWの突き上げ位置やハンドリング位置を任意に調整することができるので、ハンドリングロボット31の動作の簡素化が大いに期待できる。さらにまた、ハンドリングロボット31が半導体ウェーハWの中央部ではなく、上部周縁をハンドリングするので、半導体ウェーハW間のピッチを拡大することなく、半導体ウェーハWの円滑なハンドリングや移載が大いに期待できる。   Further, since the semiconductor wafer W protrudes vertically upward, a large handling space can be secured. Furthermore, since the push-up position and handling position of the semiconductor wafer W can be arbitrarily adjusted by the detachable transfer mechanism 27, simplification of the operation of the handling robot 31 can be greatly expected. Furthermore, since the handling robot 31 handles not the central portion of the semiconductor wafer W but the upper peripheral edge, smooth handling and transfer of the semiconductor wafer W can be greatly expected without increasing the pitch between the semiconductor wafers W.

なお、上記実施形態では被覆ケース5を単に示したが、被覆ケース5の形状をベース板2の形状に応じて変更したり、被覆ケース5を透明や半透明に形成しても良い。また、着脱搬送機構27をリニアモータによりスライドさせても良い。また、着脱搬送機構27に、基板収納容器1の容器本体4底面を複数の保持爪等により保持する保持機構を吸着機構29の代わりに配設しても良い。さらに、突き上げ機構30をエアシリンダ等のシリンダにより昇降させても良い。   In the above embodiment, the covering case 5 is simply shown, but the shape of the covering case 5 may be changed according to the shape of the base plate 2, or the covering case 5 may be formed to be transparent or translucent. Further, the detachable transport mechanism 27 may be slid by a linear motor. In addition, a holding mechanism that holds the bottom surface of the container body 4 of the substrate storage container 1 with a plurality of holding claws or the like may be provided in the detachable transport mechanism 27 instead of the suction mechanism 29. Further, the push-up mechanism 30 may be moved up and down by a cylinder such as an air cylinder.

本発明に係る基板の給排装置及び基板の給排方法の実施形態を模式的に示す側面説明図である。It is side surface explanatory drawing which shows typically embodiment of the board | substrate supply / discharge apparatus and board | substrate supply / discharge method which concern on this invention. 本発明に係る基板の給排装置及び基板の給排方法の実施形態における基板収納容器を模式的に示す分解斜視説明図である。It is an exploded perspective explanatory view showing typically a substrate storage container in an embodiment of a substrate supply / discharge device and a substrate supply / discharge method concerning the present invention. 本発明に係る基板の給排装置及び基板の給排方法の実施形態におけるロードポート上に基板収納容器を起立させて搭載し、半導体ウェーハを起立させた状態を模式的に示す側面説明図である。It is side surface explanatory drawing which shows typically the state which stood and mounted the board | substrate storage container on the load port in embodiment of the board | substrate supply / discharge apparatus which concerns on this invention, and the substrate supply / discharge method, and stood up the semiconductor wafer. . 図3の着脱搬送機構がスライドして被覆ケースから容器本体を取り外した状態を模式的に示す側面説明図である。It is side surface explanatory drawing which shows typically the state which the detachable conveyance mechanism of FIG. 3 slid and removed the container main body from the coating | coated case. 図4の突き上げ機構が上昇して半導体ウェーハの下部に干渉し、ハンドリングロボットが半導体ウェーハの上部に干渉してハンドリングする状態を模式的に示す側面説明図である。FIG. 5 is a side explanatory view schematically showing a state in which the push-up mechanism in FIG. 4 rises and interferes with the lower part of the semiconductor wafer, and the handling robot interferes with and handles the upper part of the semiconductor wafer. 450mmのタイプの半導体ウェーハに対応可能な一システムを示す側面説明図である。It is side explanatory drawing which shows one system which can respond to a 450 mm type semiconductor wafer. ボトムオープンタイプの基板収納容器を示す分解斜視説明図である。It is a disassembled perspective explanatory drawing which shows a bottom open type substrate storage container.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板収納容器
1A 基板収納容器
2 ベース板
3 収納カセット
4 容器本体
5 被覆ケース(被覆体)
7 棚板
8 挿入空間(空間)
9 抑えリング(抑え体)
10 正面側
20 投入・払い出し装置
20A 投入・払い出し装置
21 ロードポート
27 着脱搬送機構
30 突き上げ機構
31 ハンドリングロボット(ハンドリング機構)
W 半導体ウェーハ(基板)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate storage container 1A Substrate storage container 2 Base plate 3 Storage cassette 4 Container body 5 Covering case (covering body)
7 Shelf 8 Insertion space (space)
9 Retaining ring
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Front side 20 Loading / dispensing device 20A Loading / dispensing device 21 Load port 27 Detachable conveyance mechanism 30 Push-up mechanism 31 Handling robot
W Semiconductor wafer (substrate)

Claims (4)

基板収納容器に対して基板を投入・払い出し装置により給排する基板の給排装置であって、
基板収納容器は、ベース板上に基板を収納する収納カセットを備えた容器本体と、この容器本体のベース板に着脱自在に嵌め合わされて収納カセットを被覆する被覆体とを含み、
投入・払い出し装置は、基板収納容器を立てて搭載して基板を起立させるロードポートと、このロードポートに搭載された基板収納容器に対して進退動し、基板収納容器の被覆体に対して容器本体を略水平に着脱する着脱搬送機構と、この着脱搬送機構により基板収納容器の被覆体から取り外された容器本体の基板を突き上げる突き上げ機構と、この突き上げ機構により突き上げられた基板をハンドリングするハンドリング機構とを含んでなることを特徴とする基板の給排装置。
A substrate supply / discharge device that supplies / discharges a substrate to / from a substrate storage container by a loading / unloading device,
The substrate storage container includes a container main body including a storage cassette for storing a substrate on a base plate, and a covering that is detachably fitted to the base plate of the container main body to cover the storage cassette,
The loading / dispensing device includes a load port that stands and mounts the substrate storage container, and moves up and down relative to the substrate storage container mounted on the load port. An attachment / detachment transport mechanism for attaching and detaching the main body substantially horizontally, a push-up mechanism for pushing up the substrate of the container body removed from the cover of the substrate storage container by the attachment / detachment transport mechanism, and a handling mechanism for handling the substrate pushed up by the push-up mechanism A substrate supply / discharge device characterized by comprising:
基板収納容器の収納カセットは、ベース板上に設けられて基板の後部と両側部を支持する複数の棚板と、この複数の棚板に設けられて基板に対向する抑え体とを含み、複数の棚板の間に空間を形成した請求項1記載の基板の給排装置。   The storage cassette of the substrate storage container includes a plurality of shelf plates provided on the base plate and supporting the rear and both sides of the substrate, and a pressing body provided on the plurality of shelf plates and facing the substrate. 2. The substrate supply / discharge device according to claim 1, wherein a space is formed between the shelf boards. ハンドリング機構を、突き上げられた基板の周縁部をクランプするハンドリングロボットとした請求項1又は2記載の基板の給排装置。   3. The substrate supply / discharge device according to claim 1, wherein the handling mechanism is a handling robot that clamps a peripheral portion of the pushed-up substrate. 請求項1、2、又は3記載の基板の給排装置を使用して基板収納容器に対し基板を給排することを特徴とする基板の給排方法。   4. A substrate supply / discharge method, wherein the substrate supply / discharge device according to claim 1, 2 or 3 is used to supply / discharge a substrate to / from a substrate storage container.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN104129914A (en) * 2014-07-24 2014-11-05 蓝思科技股份有限公司 Magazine-type automatic glass loading and unloading device
CN109979851A (en) * 2017-12-05 2019-07-05 东京毅力科创株式会社 Substrate board treatment and its setting method and computer storage medium
CN114078730A (en) * 2020-08-12 2022-02-22 大立钰科技有限公司 Telescopic storage mechanism and storage box for accommodating telescopic storage mechanism

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