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JP2008105361A - Photosensitive laminate manufacturing apparatus and manufacturing method - Google Patents

Photosensitive laminate manufacturing apparatus and manufacturing method Download PDF

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JP2008105361A
JP2008105361A JP2006292976A JP2006292976A JP2008105361A JP 2008105361 A JP2008105361 A JP 2008105361A JP 2006292976 A JP2006292976 A JP 2006292976A JP 2006292976 A JP2006292976 A JP 2006292976A JP 2008105361 A JP2008105361 A JP 2008105361A
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JP
Japan
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photosensitive
substrate
manufacturing
laminate
rotational speed
Prior art date
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Pending
Application number
JP2006292976A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Makoto Shimizu
誠 清水
Yasuhisa Watanabe
泰寿 渡辺
Kazuyoshi Suehara
和芳 末原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
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Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
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Priority to US12/443,182 priority patent/US20100024954A1/en
Priority to PCT/JP2007/069132 priority patent/WO2008041664A1/en
Priority to TW096135854A priority patent/TW200833500A/en
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Abstract

【課題】貼り付けに要する時間をタクトタイム内に調整し、むらのない高品質な感光性積層体を製造する。
【解決手段】ゴムローラ80a、80b間にガラス基板24を挿入するとともに、露出された感光性樹脂層28をガラス基板24側として感光性ウエブ22a、22bをゴムローラ80a、80b間に送り出し、感光性ウエブ22a、22bの可撓性ベースフイルム26に対するゴムローラ80aの静止摩擦係数μを、0.15≦μ≦1.8の範囲に設定するとともに、ゴムローラ80aの回転速度と、感光性積層体を製造するタクトタイムを基準とする回転速度との比率gを1.0<g≦1.017の範囲で、前記タクトタイムよりも速い速度に設定した状態で、感光性樹脂層28をガラス基板24に貼り付ける。
【選択図】図6
An object of the present invention is to produce a high-quality photosensitive laminate without unevenness by adjusting the time required for pasting within a tact time.
A glass substrate 24 is inserted between rubber rollers 80a and 80b, and the photosensitive web 22a and 22b are fed between the rubber rollers 80a and 80b with the exposed photosensitive resin layer 28 as the glass substrate 24 side. The static friction coefficient μ of the rubber roller 80a with respect to the flexible base film 26 of 22a and 22b is set in the range of 0.15 ≦ μ ≦ 1.8, and the rotational speed of the rubber roller 80a and the photosensitive laminate are manufactured. The photosensitive resin layer 28 is attached to the glass substrate 24 in a state where the ratio g to the rotation speed based on the tact time is set to a speed faster than the tact time in the range of 1.0 <g ≦ 1.017. wear.
[Selection] Figure 6

Description

本発明は、基板と、支持体上に感光材料層が設けられた長尺状感光性ウエブとを同期させて一対の圧着ローラ間に送り出し、前記感光材料層を前記基板に貼り付けることで感光性積層体を製造する感光性積層体の製造装置及び製造方法に関する。   In the present invention, a substrate and a long photosensitive web provided with a photosensitive material layer on a support are synchronized and fed between a pair of pressure rollers, and the photosensitive material layer is attached to the substrate to be photosensitive. The present invention relates to a manufacturing apparatus and a manufacturing method for a photosensitive laminate for producing a conductive laminate.

例えば、液晶パネル用基板、プリント配線用基板、PDPパネル用基板では、感光性樹脂層(感光材料層)を有する感光性シート体(感光性ウエブ)を基板表面に貼り付けて構成されている。感光性シート体は、可撓性プラスチック支持体上に感光性樹脂層と保護フイルムとが、順次、積層されている。   For example, in a liquid crystal panel substrate, a printed wiring substrate, and a PDP panel substrate, a photosensitive sheet body (photosensitive web) having a photosensitive resin layer (photosensitive material layer) is attached to the substrate surface. In the photosensitive sheet body, a photosensitive resin layer and a protective film are sequentially laminated on a flexible plastic support.

この種の感光性シート体の貼り付けに使用される製造装置は、通常、ガラス基板や樹脂基板等の基板を所定の間隔ずつ離間させて搬送するとともに、前記基板に貼り付けられる感光性樹脂層の範囲に対応して、前記感光性シート体から保護フイルムを剥離する方式が採用されている。   A manufacturing apparatus used for attaching this type of photosensitive sheet body usually conveys a glass substrate or a resin substrate such as a glass substrate or a resin substrate spaced apart from each other by a predetermined distance, and a photosensitive resin layer attached to the substrate. Corresponding to this range, a method of peeling the protective film from the photosensitive sheet body is adopted.

例えば、特許文献1に開示されている製造装置では、図10に示すように、フイルムロール1から繰り出される積層体フイルム(感光性シート体)1aは、ガイドローラ2a、2bに巻き付けられて水平のフイルム搬送面に沿って延在している。このガイドローラ2bには、積層体フイルム1aの送り量に応じた数のパルス信号を出力するロータリエンコーダ3が取り付けられている。   For example, in the manufacturing apparatus disclosed in Patent Document 1, as shown in FIG. 10, a laminate film (photosensitive sheet body) 1 a fed out from a film roll 1 is wound around guide rollers 2 a and 2 b to be horizontal. It extends along the film transport surface. A rotary encoder 3 that outputs a number of pulse signals corresponding to the feed amount of the laminated film 1a is attached to the guide roller 2b.

水平のフイルム搬送面に沿って延在する積層体フイルム1aは、サクションローラ4に巻き掛けられるとともに、前記ガイドローラ2bと前記サクションローラ4との間には、ハーフカッタ5とカバーフイルム剥離装置6とが設けられている。   A laminate film 1a extending along a horizontal film transport surface is wound around a suction roller 4, and a half cutter 5 and a cover film peeling device 6 are interposed between the guide roller 2b and the suction roller 4. And are provided.

ハーフカッタ5は、一対のディスクカッタ5a、5bを備えている。ディスクカッタ5a、5bは、積層体フイルム1aのフイルム幅方向に沿って移動することにより、前記積層体フイルム1aのカバーフイルム(図示せず)をその裏側の感光性樹脂層(図示せず)と一体に切断する。   The half cutter 5 includes a pair of disk cutters 5a and 5b. The disc cutters 5a and 5b move along the film width direction of the laminated film 1a, so that the cover film (not shown) of the laminated film 1a is replaced with a photosensitive resin layer (not shown) on the back side thereof. Cut it together.

カバーフイルム剥離装置6は、粘着テープロール7から繰り出される粘着テープ7aを押圧ローラ8a、8b間でカバーフイルムに強く圧着させた後、巻き取りロール9によって巻き取る。これにより、カバーフイルムは、感光性樹脂層から剥離されて粘着テープ7aと共に巻き取りロール9に巻き取られる。   The cover film peeling apparatus 6 strongly presses the adhesive tape 7a fed out from the adhesive tape roll 7 to the cover film between the pressing rollers 8a and 8b, and then winds it by the take-up roll 9. As a result, the cover film is peeled off from the photosensitive resin layer and wound around the winding roll 9 together with the adhesive tape 7a.

サクションローラ4の下流には、基板搬送装置10によって、順次、間欠的に搬送される複数の基板11の上面に、積層体フイルム1aを重ねて圧着する一対のラミネーションローラ12a、12bが配設されている。このラミネーションローラ12a、12bの下流側には、支持フイルム巻き取りロール13が配置されている。基板11に貼り付けられている透光性支持フイルム(図示せず)は、支持フイルム巻き取りロール13に巻き取られる。   Downstream of the suction roller 4, a pair of lamination rollers 12 a and 12 b are arranged to stack and press the laminated film 1 a on the upper surfaces of a plurality of substrates 11 that are sequentially and intermittently conveyed by the substrate conveying device 10. ing. A support film take-up roll 13 is disposed downstream of the lamination rollers 12a and 12b. A translucent support film (not shown) attached to the substrate 11 is taken up by a support film take-up roll 13.

特開平11−34280号公報(図1)Japanese Patent Laid-Open No. 11-34280 (FIG. 1)

ところで、このような製造装置において、基板11に積層体フイルム1aの感光性樹脂層を貼り付けるのに要する時間は、貼り付け後の処理工程を含む製造装置全体のタクトタイムの制約を受ける。従って、製造装置では、このタクトタイムを考慮してラミネーションローラ12a、12bの回転速度等が設定されることになる。   By the way, in such a manufacturing apparatus, the time required to apply the photosensitive resin layer of the laminate film 1a to the substrate 11 is restricted by the takt time of the entire manufacturing apparatus including the processing steps after the application. Therefore, in the manufacturing apparatus, the rotational speeds of the lamination rollers 12a and 12b are set in consideration of the tact time.

しかしながら、多数の感光性積層体を連続的に製造する場合、ラミネーションローラ12a、12b及び積層体フイルム1aの特性が常時一定である訳ではなく、例えば、ラミネーションローラ12a、12bの表面の摩擦係数が変化すると、積層体フイルム1aとラミネーションローラ12a、12bとの間で滑りが生じるため、貼り付けに要する時間が変動するおそれがある。また、貼り付けに要する時間が変動すると、製造された感光性積層体間で品質のばらつきが発生することが懸念される。   However, when a large number of photosensitive laminates are continuously manufactured, the characteristics of the lamination rollers 12a and 12b and the laminate film 1a are not always constant. For example, the friction coefficient of the surfaces of the lamination rollers 12a and 12b is If it changes, since slip occurs between the laminated film 1a and the lamination rollers 12a and 12b, the time required for attachment may vary. In addition, when the time required for pasting varies, there is a concern that variations in quality occur between the manufactured photosensitive laminates.

本発明は、この種の問題を解決するものであり、貼り付けに要する時間をタクトタイム内に調整し、むらのない高品質な感光性積層体を製造することのできる感光性積層体の製造装置及び製造方法を提供することを目的とする。   The present invention solves this type of problem, and adjusts the time required for pasting within the tact time to produce a photosensitive laminate that can produce a high-quality photosensitive laminate without unevenness. An object is to provide an apparatus and a manufacturing method.

本発明は、基板と、支持体上に感光材料層が設けられた長尺状感光性ウエブとを同期させて一対の圧着ローラ間に送り出し、前記感光材料層を前記基板に貼り付けることで感光性積層体を製造する感光性積層体の製造装置及び製造方法において、
前記支持体に当接する一方の前記圧着ローラの回転速度が、前記感光性積層体を製造するタクトタイムを基準とする回転速度よりも所定量だけ速くなるように設定することを特徴とする。
In the present invention, a substrate and a long photosensitive web provided with a photosensitive material layer on a support are synchronized and fed between a pair of pressure rollers, and the photosensitive material layer is attached to the substrate to be photosensitive. In the manufacturing apparatus and manufacturing method of the photosensitive laminated body which manufactures a conductive laminate,
The rotational speed of one of the pressure-bonding rollers in contact with the support is set to be higher by a predetermined amount than the rotational speed based on the takt time for manufacturing the photosensitive laminate.

この場合、前記一方の圧着ローラの回転速度と、前記タクトタイムを基準とする回転速度との比率gを、1.0<g≦1.017の範囲で設定することにより、前記タクトタイムを超過することなく、感光性積層体を製造することができる。   In this case, by setting the ratio g between the rotation speed of the one pressure roller and the rotation speed based on the tact time in the range of 1.0 <g ≦ 1.017, the tact time is exceeded. A photosensitive laminate can be produced without doing so.

また、前記比率gは、前記一方の圧着ローラの前記支持体に対する静止摩擦係数μに基づいて設定することにより、感光性積層体の製造に要する時間を、静止摩擦係数μの変化によらず一定の範囲内とすることができる。なお、この場合の静止摩擦係数μは、0.15≦μ≦1.8の範囲で設定すると好適である。   The ratio g is set based on the static friction coefficient μ of the one pressure roller with respect to the support, so that the time required for manufacturing the photosensitive laminate is constant regardless of the change of the static friction coefficient μ. Can be within the range. In this case, the static friction coefficient μ is preferably set in the range of 0.15 ≦ μ ≦ 1.8.

前記圧着ローラの回転速度は、前記感光材料層を前記基板に貼り付けるのに要する時間を検出し、その時間に基づいて調整するようにしてもよい。   The rotation speed of the pressure roller may be adjusted based on the time required for adhering the photosensitive material layer to the substrate.

本発明では、長尺状感光性ウエブの支持体に当接する圧着ローラの回転速度を調整することにより、基板への貼り付けに要する時間を感光性積層体を製造するためのタクトタイム内とすることができるとともに、各感光性積層体の製造に要する時間を安定させ、むらのない高品質な感光性積層体を連続的に製造することができる。   In the present invention, by adjusting the rotation speed of the pressure roller in contact with the support of the long photosensitive web, the time required for adhering to the substrate is within the tact time for manufacturing the photosensitive laminate. In addition, the time required for the production of each photosensitive laminate can be stabilized, and a high-quality photosensitive laminate with no unevenness can be continuously produced.

図1は、本発明の第1の実施形態に係る感光性積層体の製造装置20の概略構成図であり、この製造装置20は、液晶又は有機EL用カラーフィルタ等の製作工程で、長尺状感光性ウエブ22a、22bの各感光性樹脂層28(後述する)を並列してガラス基板24に熱転写する作業を行う。感光性ウエブ22a、22bは、それぞれ所定の幅寸法に設定されており、例えば、前記感光性ウエブ22aが前記感光性ウエブ22bよりも幅広に構成されている。   FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a photosensitive laminate manufacturing apparatus 20 according to the first embodiment of the present invention. This manufacturing apparatus 20 is a process for manufacturing a liquid crystal or a color filter for organic EL, etc. The photosensitive resin layers 28 (to be described later) of the film-like photosensitive webs 22a and 22b are parallelly transferred to the glass substrate 24 in parallel. The photosensitive webs 22a and 22b are each set to a predetermined width dimension. For example, the photosensitive web 22a is configured to be wider than the photosensitive web 22b.

図2は、製造装置20に使用される感光性ウエブ22a、22bの断面図である。この感光性ウエブ22a、22bは、可撓性ベースフイルム(支持体)26と、感光性樹脂層(感光材料層)28と、保護フイルム30とを積層して構成される。   FIG. 2 is a cross-sectional view of the photosensitive webs 22 a and 22 b used in the manufacturing apparatus 20. The photosensitive webs 22a and 22b are formed by laminating a flexible base film (support) 26, a photosensitive resin layer (photosensitive material layer) 28, and a protective film 30.

図1に示すように、製造装置20は、感光性ウエブ22a、22bをローラ状に巻回した2本(2本以上であればよい)の感光性ウエブロール23a、23bを収容し、各感光性ウエブロール23a、23bから前記感光性ウエブ22a、22bを同期して送り出し可能な第1及び第2ウエブ送り出し機構32a、32bと、送り出された各感光性ウエブ22a、22bの保護フイルム30に幅方向に切断可能な境界位置であるハーフカット部位(加工部位)34を形成する第1及び第2加工機構36a、36bと、一部に非接着部38aを有する接着ラベル38(図3参照)を各保護フイルム30に接着させる第1及び第2ラベル接着機構40a、40bとを備える。   As shown in FIG. 1, the manufacturing apparatus 20 accommodates two (or more than two) photosensitive web rolls 23a and 23b obtained by winding photosensitive webs 22a and 22b in a roller shape. Width of the first and second web feed mechanisms 32a and 32b capable of synchronously feeding the photosensitive webs 22a and 22b from the photosensitive web rolls 23a and 23b, and the protective film 30 of each of the fed photosensitive webs 22a and 22b. First and second processing mechanisms 36a and 36b that form a half-cut portion (processing portion) 34 that is a boundary position that can be cut in the direction, and an adhesive label 38 (see FIG. 3) having a non-adhesive portion 38a in part. First and second label adhering mechanisms 40a and 40b for adhering to each protective film 30 are provided.

第1及び第2ラベル接着機構40a、40bの下流には、各感光性ウエブ22a、22bをタクト送りから連続送りに変更するための第1及び第2リザーバ機構42a、42bと、各感光性ウエブ22a、22bから保護フイルム30を所定の長さ間隔で剥離させる第1及び第2剥離機構44a、44bと、ガラス基板24を所定の温度に加熱した状態で貼り付け位置に搬送する基板搬送機構45と、前記保護フイルム30の剥離により露出した感光性樹脂層28を前記ガラス基板24に一体的且つ並列に貼り付ける貼り付け機構46とが配設される。   Downstream of the first and second label adhering mechanisms 40a and 40b are first and second reservoir mechanisms 42a and 42b for changing the photosensitive webs 22a and 22b from tact feed to continuous feed, and the respective photosensitive webs. First and second peeling mechanisms 44a and 44b for peeling the protective film 30 from the 22a and 22b at a predetermined length interval, and a substrate transport mechanism 45 for transporting the glass substrate 24 to a pasting position while being heated to a predetermined temperature. And an affixing mechanism 46 for adhering the photosensitive resin layer 28 exposed by peeling off the protective film 30 to the glass substrate 24 integrally and in parallel.

貼り付け機構46における貼り付け位置の上流近傍には、各感光性ウエブ22a、22bの境界位置であるそれぞれのハーフカット部位34を直接検出する第1及び第2検出機構47a、47bが配設される。   First and second detection mechanisms 47a and 47b that directly detect the respective half-cut portions 34, which are the boundary positions of the photosensitive webs 22a and 22b, are disposed in the vicinity of the attachment position in the attachment mechanism 46. The

第1及び第2ウエブ送り出し機構32a、32bの下流近傍には、略使用済みの感光性ウエブ22a、22bの後端と、新たに使用される感光性ウエブ22a、22bの先端とを貼り付けるそれぞれの貼り付け台49が配設される。貼り付け台49の下流には、感光性ウエブロール23a、23bの巻きずれによる幅方向のずれを制御するために、フイルム端末位置検出器51が配設される。ここで、フイルム端末位置調整は、第1及び第2ウエブ送り出し機構32a、32bを幅方向に移動させて行うが、ローラを組み合わせた位置調整機構を付設して行ってもよい。なお、第1及び第2ウエブ送り出し機構32a、32bは、感光性ウエブロール23a、23bを装填して感光性ウエブ22a、22bを繰り出す繰り出し軸を、2軸又は3軸等の多軸に構成してもよい。   Near the downstream of the first and second web feed mechanisms 32a and 32b, the rear ends of the substantially used photosensitive webs 22a and 22b and the tips of the newly used photosensitive webs 22a and 22b are pasted, respectively. Is attached. A film terminal position detector 51 is disposed downstream of the attachment table 49 in order to control the displacement in the width direction due to the winding displacement of the photosensitive web rolls 23a and 23b. Here, the film terminal position adjustment is performed by moving the first and second web feed mechanisms 32a and 32b in the width direction, but may be performed by attaching a position adjustment mechanism combining rollers. The first and second web feed mechanisms 32a and 32b are configured with a multi-axis such as a biaxial or triaxial feeding shaft for loading the photosensitive web rolls 23a and 23b and feeding the photosensitive webs 22a and 22b. May be.

第1及び第2加工機構36a、36bは、第1及び第2ウエブ送り出し機構32a、32bに収容巻回されている各感光性ウエブロール23a、23bのロール径を算出するためのローラ対50の下流に配置される。第1及び第2加工機構36a、36bは、それぞれ単一の丸刃52を備え、この丸刃52は、感光性ウエブ22a、22bの幅方向に走行して前記感光性ウエブ22a、22bの所定の位置にハーフカット部位34を形成する。   The first and second processing mechanisms 36a and 36b are provided with a roller pair 50 for calculating the roll diameter of each photosensitive web roll 23a and 23b accommodated and wound in the first and second web feed mechanisms 32a and 32b. Arranged downstream. Each of the first and second processing mechanisms 36a and 36b includes a single round blade 52. The round blade 52 travels in the width direction of the photosensitive webs 22a and 22b, and the photosensitive webs 22a and 22b are predetermined. A half-cut portion 34 is formed at the position.

図2に示すように、ハーフカット部位34は、少なくとも保護フイルム30を切断する必要があり、実際上、この保護フイルム30を確実に切断するために感光性樹脂層28乃至ベースフイルム26まで切り込むように丸刃52の切り込み深さが設定される。丸刃52は、回転することなく固定された状態で、感光性ウエブ22a、22bの幅方向に移動してハーフカット部位34を形成する方式や、前記感光性ウエブ22a、22b上を滑ることなく回転しながら前記幅方向に移動して前記ハーフカット部位34を形成する方式が採用される。このハーフカット部位34は、丸刃52に代替して、例えば、レーザ光や超音波を用いたカット方式の他、ナイフ刃、押し切り刃(トムソン刃)等で形成する方式を採用してもよい。   As shown in FIG. 2, the half-cut portion 34 needs to cut at least the protective film 30. In practice, in order to cut the protective film 30 with certainty, the photosensitive resin layer 28 to the base film 26 are cut. The cutting depth of the round blade 52 is set. The round blade 52 is fixed without rotating and moves in the width direction of the photosensitive webs 22a and 22b to form a half-cut portion 34, or without sliding on the photosensitive webs 22a and 22b. A method of moving in the width direction while rotating to form the half-cut portion 34 is employed. In place of the round blade 52, the half-cut portion 34 may employ, for example, a method of forming with a knife blade, a push cutting blade (Thomson blade) or the like in addition to a cutting method using laser light or ultrasonic waves. .

なお、第1及び第2加工機構36a、36bは、それぞれ感光性ウエブ22a、22bの搬送方向(矢印A方向)に所定の距離だけ離間して2台配設し、保護フイルム30の残存部分30b(図2)を挟んで2つのハーフカット部位34を同時に形成してもよい。   The first and second processing mechanisms 36a and 36b are disposed at a predetermined distance in the conveying direction (direction of arrow A) of the photosensitive webs 22a and 22b, respectively, and the remaining portion 30b of the protective film 30 is disposed. Two half-cut portions 34 may be formed simultaneously with (FIG. 2) in between.

ハーフカット部位34は、例えば、両側の前記ガラス基板24にそれぞれ10mmずつ入り込んだ位置に設定される。ガラス基板24間のハーフカット部位34で挟まれた部分は、後述する貼り付け機構46において感光性樹脂層28を前記ガラス基板24に額縁状に貼り付ける際のマスクとして機能するものである。   For example, the half-cut portions 34 are set at positions where they enter into the glass substrates 24 on both sides by 10 mm each. A portion sandwiched between the half cut portions 34 between the glass substrates 24 functions as a mask when the photosensitive resin layer 28 is attached to the glass substrate 24 in a frame shape in an attaching mechanism 46 described later.

第1及び第2ラベル接着機構40a、40bは、ガラス基板24間に対応して保護フイルム30の残存部分30bを残すため、剥離側前方の剥離部分30aaと剥離側後方の剥離部分30abとを連結する接着ラベル38を供給する。図2に示すように、保護フイルム30は、残存部分30bを挟んで、先に剥離される部分を前方の剥離部分30aaとする一方、後に剥離される部分を後方の剥離部分30abとする。   The first and second label bonding mechanisms 40a and 40b connect the peeling portion 30aa at the front side of the peeling side and the peeling portion 30ab at the back side of the peeling side in order to leave the remaining portion 30b of the protective film 30 correspondingly between the glass substrates 24. An adhesive label 38 is supplied. As shown in FIG. 2, the protective film 30 has a remaining portion 30 b sandwiched between the first peeled portion 30 aa and the later peeled portion 30 ab.

図3に示すように、接着ラベル38は、短冊状に構成されており、例えば、保護フイルム30と同一の樹脂材で形成される。接着ラベル38は、中央部に粘着剤が塗布されない非接着部(微粘着を含む)38aを有するとともに、この非接着部38aの両側、すなわち、前記接着ラベル38の長手方向両端部に、前方の剥離部分30aaに接着される第1接着部38bと、後方の剥離部分30abに接着される第2接着部38cとを有する。   As shown in FIG. 3, the adhesive label 38 is formed in a strip shape, and is formed of, for example, the same resin material as the protective film 30. The adhesive label 38 has a non-adhesive portion (including a slight adhesion) 38a to which a pressure-sensitive adhesive is not applied at the center, and the front side of the non-adhesive portion 38a, that is, both ends in the longitudinal direction of the adhesive label 38 It has the 1st adhesion part 38b adhered to exfoliation part 30aa, and the 2nd adhesion part 38c adhered to back exfoliation part 30ab.

図1に示すように、第1及び第2ラベル接着機構40a、40bは、それぞれ最大7枚の接着ラベル38を所定間隔ずつ離間して貼り付け可能な吸着パッド54a〜54gを備えるとともに、前記吸着パッド54a〜54gによる前記接着ラベル38の貼り付け位置には、感光性ウエブ22a、22bを下方から保持するための受け台56が昇降自在に配置される。   As shown in FIG. 1, each of the first and second label bonding mechanisms 40a and 40b includes suction pads 54a to 54g, each of which can attach a maximum of seven adhesive labels 38 with a predetermined interval between them. A pedestal 56 for holding the photosensitive webs 22a and 22b from below is disposed so as to be movable up and down at the position where the adhesive label 38 is attached by the pads 54a to 54g.

第1及び第2リザーバ機構42a、42bは、上流側の感光性ウエブ22a、22bのタクト搬送と、下流側の前記感光性ウエブ22a、22bの連続搬送との速度差を吸収するために、矢印方向に揺動自在なダンサーローラ60を備える。第2リザーバ機構42bには、第1及び第2ウエブ送り出し機構32a、32bから送り出される各感光性ウエブ22a、22bが貼り付け機構46に至るまでの各搬送路長を同一に調整するためのダンサーローラ61が配設される。   The first and second reservoir mechanisms 42a and 42b are arranged to absorb the speed difference between the tact conveyance of the upstream photosensitive webs 22a and 22b and the continuous conveyance of the downstream photosensitive webs 22a and 22b. A dancer roller 60 that can swing in a direction is provided. The second reservoir mechanism 42b includes a dancer for adjusting the lengths of the conveyance paths until the photosensitive webs 22a and 22b sent from the first and second web delivery mechanisms 32a and 32b reach the attaching mechanism 46. A roller 61 is provided.

第1及び第2リザーバ機構42a、42bの下流に配置される第1及び第2剥離機構44a、44bは、それぞれ感光性ウエブ22a、22bの送り出し側のテンション変動を遮断し、ラミネート時のテンションを安定化させるためのサクションドラム62を備える。各サクションドラム62の近傍には、剥離ローラ63が配置されるとともに、この剥離ローラ63を介して感光性ウエブ22a、22bから鋭角の剥離角で剥離される保護フイルム30は、残存部分30bを除いてそれぞれ保護フイルム巻き取り部64に巻き取られる。   The first and second peeling mechanisms 44a and 44b arranged downstream of the first and second reservoir mechanisms 42a and 42b block the tension fluctuation on the delivery side of the photosensitive webs 22a and 22b, respectively, and the tension at the time of lamination is reduced. A suction drum 62 is provided for stabilization. In the vicinity of each suction drum 62, a peeling roller 63 is disposed, and the protective film 30 that is peeled off from the photosensitive webs 22a and 22b through the peeling roller 63 with an acute peeling angle except for the remaining portion 30b. Then, the film is wound around the protective film winding section 64 respectively.

第1及び第2剥離機構44a、44bの下流側には、感光性ウエブ22a、22bにテンションを付与可能な第1及び第2テンション制御機構66a、66bが配設される。第1及び第2テンション制御機構66a、66bは、それぞれシリンダ68を備え、前記シリンダ68の駆動作用下に、それぞれテンションダンサー70が揺動変位することにより、各テンションダンサー70が摺接する感光性ウエブ22a、22bのテンションが調整可能である。なお、第1及び第2テンション制御機構66a、66bは、必要に応じて使用すればよく、削除することもできる。   On the downstream side of the first and second peeling mechanisms 44a and 44b, first and second tension control mechanisms 66a and 66b capable of applying tension to the photosensitive webs 22a and 22b are disposed. Each of the first and second tension control mechanisms 66a and 66b includes a cylinder 68, and the tension dancer 70 swings and displaces under the driving action of the cylinder 68, whereby each tension dancer 70 is in sliding contact with the photosensitive web. The tension of 22a, 22b can be adjusted. The first and second tension control mechanisms 66a and 66b may be used as necessary, and may be deleted.

第1及び第2検出機構47a、47bは、レーザセンサやフォトセンサ等の光電センサ72a、72bを備えており、前記光電センサ72a、72bは、ハーフカット部位34の楔状の溝形状部や、保護フイルム30の厚さによる段差、あるいは、これらの組み合わせによる変化を直接検出し、この検出信号を境界位置信号とする。光電センサ72a、72bは、バックアップローラ73a、73bに対向して配置される。なお、光電センサ72a、72bに代えて、非接触変位計やCCDカメラ等の画像検査手段等を用いてもよい。   The first and second detection mechanisms 47a and 47b are provided with photoelectric sensors 72a and 72b such as laser sensors and photosensors. The photoelectric sensors 72a and 72b are wedge-shaped groove-shaped portions of the half-cut portion 34, and are protected. A step due to the thickness of the film 30 or a change due to a combination thereof is directly detected, and this detection signal is used as a boundary position signal. The photoelectric sensors 72a and 72b are disposed to face the backup rollers 73a and 73b. In place of the photoelectric sensors 72a and 72b, an image inspection means such as a non-contact displacement meter or a CCD camera may be used.

第1及び第2検出機構47a、47bにより検出されるハーフカット部位34の位置データは、リアルタイムで統計処理及びグラフ化が可能であり、ばらつき異常や偏りの発生時に警報を出すことができる。   The position data of the half-cut portion 34 detected by the first and second detection mechanisms 47a and 47b can be statistically processed and graphed in real time, and an alarm can be issued when a variation abnormality or bias occurs.

また、ハーフカット部位34を直接検出するのではなく、このハーフカット部位34に対応して第1及び第2加工機構36a、36bの近傍で孔部や切り欠きを形成したり、レーザ加工やアクアジェット加工による孔開けや切り込みを設けたり、インクジェットやプリンタ等によるマーキングを設けたりしてマーク部を形成し、このマーク部を検出して境界位置信号としてもよい。   Further, instead of directly detecting the half-cut portion 34, holes or notches are formed in the vicinity of the first and second processing mechanisms 36a and 36b corresponding to the half-cut portion 34, or laser processing or aqua A mark portion may be formed by providing a hole or notch by jet machining, or by marking by an ink jet or a printer, and the mark portion may be detected and used as a boundary position signal.

基板搬送機構45は、ガラス基板24を挟持するように配設される複数組の基板加熱部(例えば、ヒータ)74と、このガラス基板24を矢印C方向に搬送する搬送部76とを備える。基板加熱部74では、ガラス基板24の温度を常時監視し、異常時には、搬送部76の停止や警報を発生するとともに、異常情報を発信して異常なガラス基板24を後工程でNG排出、品質管理又は生産管理等に活用することができる。搬送部76には、図示しないエア浮上プレートが配設され、ガラス基板24が浮上されて矢印C方向に搬送される。ガラス基板24の搬送は、ローラコンベアでも行える。   The substrate transport mechanism 45 includes a plurality of sets of substrate heating units (for example, heaters) 74 disposed so as to sandwich the glass substrate 24 and a transport unit 76 that transports the glass substrate 24 in the direction of arrow C. The substrate heating unit 74 constantly monitors the temperature of the glass substrate 24. When an abnormality occurs, the conveyance unit 76 is stopped or alarmed, and abnormal information is transmitted to cause the abnormal glass substrate 24 to be discharged NG in the subsequent process. It can be used for management or production management. An air levitation plate (not shown) is disposed in the conveyance unit 76, and the glass substrate 24 is levitated and conveyed in the direction of arrow C. The glass substrate 24 can be transported by a roller conveyor.

ガラス基板24の温度測定は、基板加熱部74内又は貼り付け位置直前で行うことが好ましい。測定方法としては、接触式(例えば、熱電対)の他、非接触式であってもよい。   The temperature measurement of the glass substrate 24 is preferably performed in the substrate heating unit 74 or immediately before the attachment position. The measuring method may be a contact type (for example, thermocouple) or a non-contact type.

基板加熱部74の上流には、複数のガラス基板24が収容される基板ストッカー71が設けられる。この基板ストッカー71に収容されている各ガラス基板24は、ロボット75のハンド部75aに設けられた吸着パッド79に吸着されて取り出され、基板加熱部74に挿入される。   A substrate stocker 71 that accommodates a plurality of glass substrates 24 is provided upstream of the substrate heating unit 74. Each glass substrate 24 accommodated in the substrate stocker 71 is sucked and taken out by a suction pad 79 provided in the hand portion 75 a of the robot 75 and inserted into the substrate heating portion 74.

貼り付け機構46は、上下に配設されるとともに、所定温度に加熱されるゴムローラ(圧着ローラ)80a、80bを備える。ゴムローラ80a、80bには、バックアップローラ82a、82bが摺接する。一方のバックアップローラ82bは、ローラクランプ部83を構成する加圧シリンダ84a、84bによりゴムローラ80b側に押圧される。   The affixing mechanism 46 includes rubber rollers (compression rollers) 80a and 80b that are arranged vertically and heated to a predetermined temperature. Backup rollers 82a and 82b are in sliding contact with the rubber rollers 80a and 80b. One backup roller 82b is pressed toward the rubber roller 80b by the pressure cylinders 84a and 84b constituting the roller clamp portion 83.

ゴムローラ80aの近傍には、感光性ウエブ22a、22bが前記ゴムローラ80aに接触することを防止するための接触防止ローラ86が移動可能に配設される。貼り付け機構46の上流近傍には、感光性ウエブ22a、22bを予め所定温度に予備加熱するための予備加熱部87が配設される。この予備加熱部87は、例えば、赤外線バーヒータ等の加熱手段を備える。   In the vicinity of the rubber roller 80a, a contact prevention roller 86 for preventing the photosensitive webs 22a and 22b from contacting the rubber roller 80a is movably disposed. In the vicinity of the upstream of the attaching mechanism 46, a preheating unit 87 for preheating the photosensitive webs 22a and 22b to a predetermined temperature is disposed. This preheating part 87 is provided with heating means, such as an infrared bar heater, for example.

ガラス基板24は、貼り付け機構46から矢印C方向に延在する搬送路88を介して搬送される。この搬送路88には、フイルム搬送ローラ90a、90b及び基板搬送ローラ92が配設される。ゴムローラ80a、80bと基板搬送ローラ92との間隔は、ガラス基板24の一枚分の長さ以下に設定されることが好ましい。基板搬送ローラ92の下流側近傍には、搬送されたガラス基板24の先端部を検知する基板先端検知センサ94が配設される。   The glass substrate 24 is transported from the pasting mechanism 46 via a transport path 88 extending in the direction of arrow C. In the transport path 88, film transport rollers 90a and 90b and a substrate transport roller 92 are disposed. The distance between the rubber rollers 80 a and 80 b and the substrate transport roller 92 is preferably set to be equal to or less than the length of one glass substrate 24. In the vicinity of the downstream side of the substrate transport roller 92, a substrate front end detection sensor 94 that detects the front end portion of the transported glass substrate 24 is disposed.

また、基板搬送ローラ92の下流には、冷却機構122とベース自動剥離機構142とが設けられる。ベース自動剥離機構142は、所定間隔ずつ離間する各ガラス基板24に貼り付けられている長尺なベースフイルム26を連続して剥離するものであり、プレ剥離部144と、比較的小径な剥離ローラ146と、巻き取り軸148と、自動貼り付け機150とを備えている。巻き取り軸148は、駆動時にトルク制御してベースフイルム26に張力を付与する一方、例えば、剥離ローラ146に張力検出器(図示せず)を設けることにより、張力のフィードバック制御を行うことが好ましい。プレ剥離部144は、ガラス基板24間で昇降可能な剥離バー156を備える。   Further, a cooling mechanism 122 and a base automatic peeling mechanism 142 are provided downstream of the substrate transport roller 92. The automatic base peeling mechanism 142 continuously peels the long base film 26 affixed to each glass substrate 24 separated by a predetermined interval, and includes a pre-peeling portion 144 and a relatively small-diameter peeling roller. 146, a winding shaft 148, and an automatic pasting machine 150. The take-up shaft 148 preferably applies torque control during driving to apply tension to the base film 26, while providing a tension detector (not shown) on the peeling roller 146, for example, to perform tension feedback control. . The pre-peeling portion 144 includes a peeling bar 156 that can move up and down between the glass substrates 24.

ベース自動剥離機構142の下流には、ガラス基板24に実際に貼り付けられた感光性樹脂層28のエリア位置を測定する測定器158が配設される。この測定器158は、例えば、感光性樹脂層28が貼り付けられたガラス基板24を撮影するCCD等のカメラ160を備える。   A measuring instrument 158 that measures the area position of the photosensitive resin layer 28 actually attached to the glass substrate 24 is disposed downstream of the automatic base peeling mechanism 142. The measuring device 158 includes, for example, a camera 160 such as a CCD that images the glass substrate 24 on which the photosensitive resin layer 28 is attached.

また、ベース自動剥離機構142の下流には、測定器158によって感光性樹脂層28にエリア位置の測定された複数の感光性積層体106が収容される感光性積層体ストッカー132が設けられる。ベース自動剥離機構142でベースフイルム26及び残存部分30bが剥離された感光性積層体106は、ロボット134のハンド部134aに設けられた吸着パッド136に吸着されて取り出され、感光性積層体ストッカー132に収容される。   A photosensitive laminate stocker 132 in which a plurality of photosensitive laminates 106 whose area positions are measured in the photosensitive resin layer 28 by the measuring device 158 is accommodated downstream of the automatic base peeling mechanism 142. The photosensitive laminate 106 from which the base film 26 and the remaining portion 30b have been peeled off by the automatic base peeling mechanism 142 is sucked and taken out by the suction pad 136 provided on the hand portion 134a of the robot 134, and the photosensitive laminate stocker 132 is removed. Is housed in.

なお、以上のように構成される製造装置20では、第1及び第2ウエブ送り出し機構32a、32b、第1及び第2加工機構36a、36b、第1及び第2ラベル接着機構40a、40b、第1及び第2リザーバ機構42a、42b、第1及び第2剥離機構44a、44b、第1及び第2テンション制御機構66a、66b並びに第1及び第2検出機構47a、47bが、貼り付け機構46の上方に配置されているが、これとは逆に、前記第1及び第2ウエブ送り出し機構32a、32bから前記第1及び第2検出機構47a、47bまでを前記貼り付け機構46の下方に配置し、感光性ウエブ22a、22bの上下が逆になって感光性樹脂層28がガラス基板24の下側に貼り付けてもよく、また、前記製造装置20全体を直線状に構成してもよい。   In the manufacturing apparatus 20 configured as described above, the first and second web feed mechanisms 32a and 32b, the first and second processing mechanisms 36a and 36b, the first and second label adhesion mechanisms 40a and 40b, The first and second reservoir mechanisms 42a and 42b, the first and second peeling mechanisms 44a and 44b, the first and second tension control mechanisms 66a and 66b, and the first and second detection mechanisms 47a and 47b Although arranged above, conversely, the first and second web delivery mechanisms 32a, 32b to the first and second detection mechanisms 47a, 47b are arranged below the attaching mechanism 46. The photosensitive webs 22a and 22b may be turned upside down, and the photosensitive resin layer 28 may be attached to the lower side of the glass substrate 24. Further, the entire manufacturing apparatus 20 is configured linearly. It may be.

図1に示すように、製造装置20は、ラミネート工程制御部100により全体が制御されており、この製造装置20の各機能部毎に、例えば、ラミネート制御部102、基板加熱制御部104及びベース剥離制御部108等が設けられ、これらが工程内ネットワークにより相互に接続されている。さらに、ラミネート工程制御部100は、工場ネットワークに接続されており、図示しない工場CPUからの指示情報(条件設定や生産情報)の生産管理や稼動管理等、生産のための情報処理を行う。   As shown in FIG. 1, the entire manufacturing apparatus 20 is controlled by a laminating process control unit 100. For example, a laminating control unit 102, a substrate heating control unit 104, and a base are provided for each functional unit of the manufacturing apparatus 20. A peeling control unit 108 and the like are provided, and these are connected to each other by an in-process network. Further, the laminating process control unit 100 is connected to a factory network, and performs information processing for production such as production management and operation management of instruction information (condition setting and production information) from a factory CPU (not shown).

基板加熱制御部104は、上流工程からガラス基板24を受け入れ、このガラス基板24を所望の温度まで加熱して貼り付け機構46に供給する動作及び該ガラス基板24の情報のハンドリング等を制御する。   The substrate heating control unit 104 receives the glass substrate 24 from the upstream process, controls the operation of heating the glass substrate 24 to a desired temperature and supplying the glass substrate 24 to the pasting mechanism 46, and handling of information on the glass substrate 24.

ラミネート制御部102は、工程全体のマスターとして、各機能部の制御を行うものであり、第1及び第2検出機構47a、47bにより検出された感光性ウエブ22a、22bのハーフカット部位34の位置情報に基づいて、貼り付け位置における各境界位置とガラス基板24との相対位置及び各境界位置同士の相対位置を制御可能な制御機構を構成している。   The laminating control unit 102 controls each functional unit as a master of the entire process, and the position of the half cut portion 34 of the photosensitive webs 22a and 22b detected by the first and second detection mechanisms 47a and 47b. Based on the information, a control mechanism capable of controlling the relative position between each boundary position and the glass substrate 24 at the pasting position and the relative position between the respective boundary positions is configured.

また、ラミネート制御部102は、図4に示すように、貼り付け機構46を構成する上部のゴムローラ80aの回転速度を調整してラミネート時間を制御する構成を備える。   Further, as shown in FIG. 4, the laminating control unit 102 has a configuration in which the laminating time is controlled by adjusting the rotational speed of the upper rubber roller 80 a constituting the attaching mechanism 46.

すなわち、ラミネート制御部102は、上部のゴムローラ80aを回転させるローラ駆動モータ103と、基板先端検知センサ94から供給されるガラス基板24の先端検知信号に基づいてラミネート時間を算出するラミネート時間算出部105と、ゴムローラ80aの静止摩擦係数μ及び算出したラミネート時間に基づいてゴムローラ80aの回転速度を調整する回転速度調整部107とを備える。   That is, the laminating control unit 102 calculates the laminating time based on the roller driving motor 103 that rotates the upper rubber roller 80a and the front end detection signal of the glass substrate 24 supplied from the substrate front end detecting sensor 94. And a rotational speed adjusting unit 107 that adjusts the rotational speed of the rubber roller 80a based on the static friction coefficient μ of the rubber roller 80a and the calculated lamination time.

ベース剥離制御部108は、ガラス基板24に貼り付けられた感光性ウエブ22a、22bからベースフイルム26を剥離し、感光性積層体106として下流に搬送する動作制御を行うとともに、前記感光性積層体106の情報をハンドリング制御する。   The base peeling control unit 108 controls the operation of peeling the base film 26 from the photosensitive webs 22a and 22b attached to the glass substrate 24 and transporting it downstream as the photosensitive laminated body 106, and the photosensitive laminated body. The information of 106 is handled and controlled.

製造装置20内は、仕切り壁110を介して第1クリーンルーム112aと第2クリーンルーム112bとに仕切られる。第1クリーンルーム112aには、第1及び第2ウエブ送り出し機構32a、32bから第1及び第2テンション制御機構66a、66bまでが収容されるとともに、第2クリーンルーム112bには、第1及び第2検出機構47a、47b以降が収容される。第1クリーンルーム112aと第2クリーンルーム112bとは、貫通部114を介して連通する。   The inside of the manufacturing apparatus 20 is partitioned into a first clean room 112a and a second clean room 112b through a partition wall 110. The first clean room 112a accommodates the first and second web delivery mechanisms 32a and 32b to the first and second tension control mechanisms 66a and 66b, and the second clean room 112b contains the first and second detections. The mechanisms 47a and 47b and thereafter are accommodated. The first clean room 112a and the second clean room 112b communicate with each other through the penetration part 114.

以上のように構成される製造装置20の動作について、本発明に係る製造方法との関連で以下に説明する。   The operation of the manufacturing apparatus 20 configured as described above will be described below in relation to the manufacturing method according to the present invention.

先ず、第1及び第2ウエブ送り出し機構32a、32bに取り付けられている各感光性ウエブロール23a、23bから感光性ウエブ22a、22bが送り出される。感光性ウエブ22a、22bは、第1及び第2加工機構36a、36bに搬送される。   First, the photosensitive webs 22a and 22b are sent out from the respective photosensitive web rolls 23a and 23b attached to the first and second web delivery mechanisms 32a and 32b. The photosensitive webs 22a and 22b are conveyed to the first and second processing mechanisms 36a and 36b.

第1及び第2加工機構36a、36bでは、丸刃52が感光性ウエブ22a、22bの幅方向に移動して、前記感光性ウエブ22a、22bを保護フイルム30から感光性樹脂層28乃至ベースフイルム26まで切り込んでハーフカット部位34を形成する(図2参照)。さらに、感光性ウエブ22a、22bは、図1に示すように、保護フイルム30の残存部分30bの寸法に対応して矢印A方向に搬送された後に停止され、丸刃52の走行作用下にハーフカット部位34が形成される。これにより、感光性ウエブ22a、22bには、残存部分30bを挟んで前方の剥離部分30aaと後方の剥離部分30abとが設けられる(図2参照)。   In the first and second processing mechanisms 36a and 36b, the round blade 52 moves in the width direction of the photosensitive webs 22a and 22b, and the photosensitive webs 22a and 22b are moved from the protective film 30 to the photosensitive resin layer 28 to the base film. Cut to 26 to form a half-cut portion 34 (see FIG. 2). Further, as shown in FIG. 1, the photosensitive webs 22a and 22b are stopped after being transported in the direction of the arrow A corresponding to the dimension of the remaining portion 30b of the protective film 30, and the half-blade 52 is halfway under the traveling action. A cut site 34 is formed. Thus, the photosensitive webs 22a and 22b are provided with a front peeling portion 30aa and a rear peeling portion 30ab with the remaining portion 30b interposed therebetween (see FIG. 2).

次いで、各感光性ウエブ22a、22bは、第1及び第2ラベル接着機構40a、40bに搬送されて、保護フイルム30の所定の貼り付け部位が受け台56上に配置される。第1及び第2ラベル接着機構40a、40bでは、所定枚数の接着ラベル38が吸着パッド54b〜54gにより吸着保持され、各接着ラベル38が保護フイルム30の残存部分30bを跨いで、前方の剥離部分30aaと後方の剥離部分30abとに一体的に接着される(図3参照)。   Next, the respective photosensitive webs 22 a and 22 b are conveyed to the first and second label adhering mechanisms 40 a and 40 b, and a predetermined application site of the protective film 30 is arranged on the cradle 56. In the first and second label adhering mechanisms 40a and 40b, a predetermined number of adhesive labels 38 are adsorbed and held by the adsorbing pads 54b to 54g, and each adhering label 38 straddles the remaining portion 30b of the protective film 30, and a front peeling portion. 30aa and the rear peeling portion 30ab are integrally bonded (see FIG. 3).

例えば、7枚の接着ラベル38が接着された感光性ウエブ22a、22bは、図1に示すように、第1及び第2リザーバ機構42a、42bを介して送り出し側のテンション変動を防いだ後、第1及び第2剥離機構44a、44bに連続的に搬送される。第1及び第2剥離機構44a、44bでは、図5に示すように、感光性ウエブ22a、22bのベースフイルム26がサクションドラム62に吸着保持されるとともに、保護フイルム30が残存部分30bを残して前記感光性ウエブ22a、22bから剥離される。この保護フイルム30は、剥離ローラ63を介して剥離されて保護フイルム巻き取り部64に巻き取られる(図1参照)。   For example, the photosensitive webs 22a and 22b to which the seven adhesive labels 38 are bonded, as shown in FIG. 1, after the first and second reservoir mechanisms 42a and 42b are prevented from changing the tension on the delivery side, It is continuously conveyed to the first and second peeling mechanisms 44a and 44b. In the first and second peeling mechanisms 44a and 44b, as shown in FIG. 5, the base film 26 of the photosensitive webs 22a and 22b is adsorbed and held by the suction drum 62, and the protective film 30 leaves the remaining portion 30b. It peels from the said photosensitive webs 22a and 22b. The protective film 30 is peeled off via the peeling roller 63 and wound around the protective film take-up portion 64 (see FIG. 1).

第1及び第2剥離機構44a、44bの作用下に、保護フイルム30が残存部分30bを残してベースフイルム26から剥離された後、感光性ウエブ22a、22bは、第1及び第2テンション制御機構66a、66bによってテンション調整が行われ、さらに第1及び第2検出機構47a、47bで光電センサ72a、72bによりハーフカット部位34の検出が行われる。   Under the action of the first and second peeling mechanisms 44a and 44b, after the protective film 30 is peeled from the base film 26 leaving the remaining portion 30b, the photosensitive webs 22a and 22b are moved to the first and second tension control mechanisms. The tension is adjusted by 66a and 66b, and the half-cut portion 34 is detected by the photoelectric sensors 72a and 72b by the first and second detection mechanisms 47a and 47b.

各感光性ウエブ22a、22bは、ハーフカット部位34の検出情報に基づいて、フイルム搬送ローラ90a、90bの回転作用下に、それぞれ貼り付け機構46に定量搬送される。一方、ガラス基板24は、基板搬送機構45の作用下に、予め加熱された状態で貼り付け位置に搬送される。このガラス基板24は、並列されている感光性ウエブ22a、22bの感光性樹脂層28の貼り付け部分に対応してゴムローラ80a、80b間に一旦配置される。   Each photosensitive web 22a, 22b is quantitatively transported to the affixing mechanism 46 under the rotational action of the film transport rollers 90a, 90b based on the detection information of the half-cut region 34, respectively. On the other hand, the glass substrate 24 is transported to the affixing position in a heated state under the action of the substrate transport mechanism 45. The glass substrate 24 is temporarily disposed between the rubber rollers 80a and 80b corresponding to the portion where the photosensitive resin layer 28 of the photosensitive webs 22a and 22b arranged in parallel is attached.

この状態で、バックアップローラ82b及びゴムローラ80bを上昇させることにより、ゴムローラ80a、80b間にガラス基板24が所定のプレス圧力で挟み込まれる。さらに、ゴムローラ80aの回転作用下に、このガラス基板24には、図6に示すように、並列されている各感光性樹脂層28が転写(ラミネート)される。   In this state, by raising the backup roller 82b and the rubber roller 80b, the glass substrate 24 is sandwiched between the rubber rollers 80a and 80b with a predetermined pressing pressure. Further, the photosensitive resin layers 28 arranged in parallel are transferred (laminated) to the glass substrate 24 under the rotating action of the rubber roller 80a as shown in FIG.

ここで、ラミネート条件としては、速度が1.0m/min〜10.0m/min、ゴムローラ80a、80bの温度が90℃〜140℃、前記ゴムローラ80a、80bのゴム硬度が40度〜90度、該ゴムローラ80a、80bのプレス圧(線圧)が50N/cm〜400N/cmである。   Here, as lamination conditions, the speed is 1.0 m / min to 10.0 m / min, the temperature of the rubber rollers 80a and 80b is 90 ° C to 140 ° C, the rubber hardness of the rubber rollers 80a and 80b is 40 ° to 90 °, The pressing pressure (linear pressure) of the rubber rollers 80a and 80b is 50 N / cm to 400 N / cm.

また、ラミネート条件として、感光性ウエブ22a、22bの可撓性ベースフイルム26に当接する上部のゴムローラ80aの可撓性ベースフイルム26に対する静止摩擦係数μを、0.15≦μ≦1.8の範囲で設定する。静止摩擦係数μをこの範囲で設定することにより、ガラス基板24と感光性樹脂層28との間に気泡が混入する事態や、不均一な貼り付け状態が発生する事態を回避することができる。   Further, as a laminating condition, a static friction coefficient μ of the upper rubber roller 80a contacting the flexible base film 26 of the photosensitive webs 22a and 22b with respect to the flexible base film 26 is 0.15 ≦ μ ≦ 1.8. Set the range. By setting the static friction coefficient μ within this range, it is possible to avoid a situation where bubbles are mixed between the glass substrate 24 and the photosensitive resin layer 28 or a situation where a non-uniform pasting state occurs.

さらに、ラミネート条件として、ガラス基板24に感光性樹脂層28が貼り付けられた感光性積層体を製造する製造装置20の全体のタクトタイムを基準とする回転速度に対して、上部のゴムローラ80aの回転速度が、1.0<g≦1.017となる比率gの範囲で速くなるように設定することにより、後述するように、タクトタイム内の時間で高品質な感光性積層体を製造することができる。   Furthermore, as a laminating condition, the upper rubber roller 80a has a rotational speed based on the overall tact time of the manufacturing apparatus 20 that manufactures the photosensitive laminate in which the photosensitive resin layer 28 is bonded to the glass substrate 24. By setting the rotation speed to be faster in the range of ratio g satisfying 1.0 <g ≦ 1.017, a high-quality photosensitive laminate is produced in a time within the tact time, as will be described later. be able to.

ゴムローラ80a、80bを介してガラス基板24に感光性ウエブ22a、22bの一枚分のラミネートが終了すると、前記ゴムローラ80aの回転が停止される一方、前記感光性ウエブ22a、22bがラミネートされた前記ガラス基板24(以下、貼り付け基板24aともいう。)が基板搬送ローラ92によりクランプされる。   When the lamination of one photosensitive web 22a, 22b is completed on the glass substrate 24 via the rubber rollers 80a, 80b, the rotation of the rubber roller 80a is stopped, while the photosensitive webs 22a, 22b are laminated. A glass substrate 24 (hereinafter also referred to as a bonded substrate 24 a) is clamped by a substrate transport roller 92.

そして、ゴムローラ80bが、ゴムローラ80aから離間する方向に退避してクランプが解除されるとともに、基板搬送ローラ92の回転が開始されて、貼り付け基板24aが矢印C方向に定量搬送され、感光性ウエブ22a、22bの基板間位置がゴムローラ80aの下方付近の所定位置に移動する。一方、基板搬送機構45を介して次なるガラス基板24が貼り付け位置に向かって搬送される。   Then, the rubber roller 80b is retracted in the direction away from the rubber roller 80a to release the clamp, and the rotation of the substrate transport roller 92 is started, so that the bonded substrate 24a is quantitatively transported in the direction of arrow C, and the photosensitive web. The position between the substrates 22a and 22b moves to a predetermined position near the lower side of the rubber roller 80a. On the other hand, the next glass substrate 24 is transported toward the attaching position via the substrate transport mechanism 45.

この次なるガラス基板24の先端がゴムローラ80a、80b間に配置されると、前記ゴムローラ80bが上昇して、前記ゴムローラ80a、80bにより前記次なるガラス基板24と感光性ウエブ22a、22bとがクランプされる。そして、ゴムローラ80a、80b及び基板搬送ローラ92の回転作用下にラミネートが開始されるとともに、貼り付け基板24aが矢印C方向に搬送される。   When the tip of the next glass substrate 24 is disposed between the rubber rollers 80a and 80b, the rubber roller 80b is raised, and the next glass substrate 24 and the photosensitive webs 22a and 22b are clamped by the rubber rollers 80a and 80b. Is done. Lamination is started under the rotational action of the rubber rollers 80a and 80b and the substrate transport roller 92, and the bonded substrate 24a is transported in the direction of arrow C.

その際、貼り付け基板24aは、図6に示すように、それぞれの端部同士が残存部分30bによって覆われている。従って、感光性樹脂層28がガラス基板24に転写される際、ゴムローラ80a、80bが前記感光性樹脂層28により汚れることがない。   At that time, as shown in FIG. 6, the pasting substrate 24a is covered with the remaining portion 30b at each end. Therefore, when the photosensitive resin layer 28 is transferred to the glass substrate 24, the rubber rollers 80a and 80b are not soiled by the photosensitive resin layer 28.

貼り付け機構46でラミネートされた貼り付け基板24aは、冷却機構122を通って冷却された後、プレ剥離部144に移送される。このプレ剥離部144では、剥離バー156がガラス基板24間に臨入して上昇し、これによって、ガラス基板24間の保護フイルム30が持ち上げられ、隣接するガラス基板24の後端及び先端から剥離する。   The pasted substrate 24 a laminated by the pasting mechanism 46 is cooled through the cooling mechanism 122 and then transferred to the pre-peeling portion 144. In the pre-peeling portion 144, the peeling bar 156 enters between the glass substrates 24 and rises, whereby the protective film 30 between the glass substrates 24 is lifted and peeled from the rear end and the leading end of the adjacent glass substrates 24. To do.

次いで、ベース自動剥離機構142では、巻き取り軸148の回転作用下に、貼り付け基板24aからベースフイルム26が連続して巻き取られる。さらに、トラブル停止での切り離しや、不良品分離時の切断の後、新たにラミネート処理が開始された貼り付け基板24aのベースフイルム26の先端と、巻き取り軸148に巻き取られているベースフイルム26の後端とは、自動貼り付け機150を介して自動的に貼り付けられる。   Next, in the automatic base peeling mechanism 142, the base film 26 is continuously wound from the pasting substrate 24 a under the rotating action of the winding shaft 148. Further, after separation when trouble stops or separation when defective products are separated, the base film 26 wound on the winding shaft 148 and the tip of the base film 26 of the pasting substrate 24a which has been newly laminated are started. 26 is automatically pasted via the automatic pasting machine 150.

ベースフイルム26が剥離された貼り付け基板24aは、測定器158に対応する検査ステーションに配置される。この検査ステーションでは、ガラス基板24が位置決め固定された状態で、カメラ160によりガラス基板24と感光性樹脂層28の画像を取り込む。そして、画像処理が施されることにより、貼り付け位置が演算される。   The bonded substrate 24a from which the base film 26 has been peeled is placed at an inspection station corresponding to the measuring instrument 158. In this inspection station, images of the glass substrate 24 and the photosensitive resin layer 28 are captured by the camera 160 with the glass substrate 24 positioned and fixed. Then, by applying image processing, the pasting position is calculated.

感光性樹脂層28の貼り付け位置が確認された貼り付け基板24aは、ロボット134によって取り出され、感光性積層体106として感光性積層体ストッカー132に収容される。   The attachment substrate 24 a on which the attachment position of the photosensitive resin layer 28 is confirmed is taken out by the robot 134 and accommodated in the photosensitive laminate stocker 132 as the photosensitive laminate 106.

ここで、本出願人は、ラミネート条件として、ガラス基板24に感光性樹脂層28が貼り付けられた感光性積層体を製造する製造装置20のタクトタイムを基準とする回転速度に対して、上部のゴムローラ80aの回転速度を、1.0<g≦1.017となる比率gの範囲で速くなるように設定することにより、以下のように、タクトタイム内の時間で高品質な感光性積層体を製造できることを見いだした。   Here, the present applicant, as the laminating condition, has an upper limit with respect to the rotation speed based on the tact time of the manufacturing apparatus 20 that manufactures the photosensitive laminate in which the photosensitive resin layer 28 is bonded to the glass substrate 24. By setting the rotational speed of the rubber roller 80a to be faster in the range of the ratio g satisfying 1.0 <g ≦ 1.017, the high-quality photosensitive lamination can be performed within the tact time as follows. I found that I can make a body.

図7は、ガラス基板24に対して感光性樹脂層28の貼り付けを開始してからの時間Tと、ガラス基板24の送り量Lとの関係を、ゴムローラ80aの可撓性ベースフイルム26に対する静止摩擦係数μと、ガラス基板24をタクトタイムT0で貼り付け範囲である所定量L0だけ送ることのできる計算上のゴムローラ80aの回転速度に対する設定された回転速度の比率gとを変えて測定した結果を示す。 FIG. 7 shows the relationship between the time T from the start of attaching the photosensitive resin layer 28 to the glass substrate 24 and the feed amount L of the glass substrate 24 with respect to the flexible base film 26 of the rubber roller 80a. The coefficient of static friction μ and the ratio g of the rotational speed set to the rotational speed of the calculated rubber roller 80a capable of feeding the glass substrate 24 by the predetermined amount L 0 as the pasting range at the tact time T 0 are changed. The measurement results are shown.

この場合、静止摩擦係数μ=1.8、比率g=1.0、すなわち、ゴムローラ80aの回転速度をタクトタイムT0で貼り付けが完了する理想的な回転速度に設定したとしても、貼り付けに要する時間TLがタクトタイムT0よりも長くなる結果が得られている。この理由は、例えば、ゴムローラ80aの静止摩擦係数μが大きいため、ゴムローラ80aによって感光性ウエブ22a、22bが伸ばされてしまい、結果的に貼り付けが完了するまでの時間Tも長くなってしまうことが考えられる。 In this case, even if the static friction coefficient μ = 1.8 and the ratio g = 1.0, that is, the rotational speed of the rubber roller 80a is set to an ideal rotational speed at which the pasting is completed at the tact time T 0 , As a result, the time T L required for the time is longer than the tact time T 0 . This is because, for example, the static friction coefficient μ of the rubber roller 80a is large, so that the photosensitive webs 22a and 22b are stretched by the rubber roller 80a, and as a result, the time T until the pasting is completed also becomes long. Can be considered.

静止摩擦係数μ=1.8、比率g=1.017とし、ゴムローラ80aの回転速度をタクトタイムT0で貼り付けが完了する理想的な回転速度よりも速めに設定した場合、貼り付けが完了するまでの時間TがタクトタイムT0に一致する結果が得られている。また、静止摩擦係数μ=0.15、比率g=1.0とした場合においても同様に、貼り付けが完了するまでの時間TがタクトタイムT0に一致する結果が得られている。さらに、静止摩擦係数μ=0.15、比率g=1.017とした場合には、貼り付けが完了するまでの時間TがタクトタイムT0よりも短い時間TSとなる結果が得られている。 If the coefficient of static friction μ is 1.8 and the ratio g is 1.017, and the rotational speed of the rubber roller 80a is set faster than the ideal rotational speed at which the pasting is completed at the tact time T 0 , the pasting is completed. A result is obtained in which the time T until the time coincides with the tact time T 0 . Similarly, when the static friction coefficient μ = 0.15 and the ratio g = 1.0, a result in which the time T until the pasting is completed coincides with the tact time T 0 is obtained. Further, when the static friction coefficient μ = 0.15 and the ratio g = 1.018, the result is that the time T until the pasting is completed is a time T S shorter than the tact time T 0. Yes.

以上の結果を纏めると、タクトタイムT0で貼り付けが完了するゴムローラ80aの理想的な回転速度に対して回転速度を速く設定し、また、可撓性ベースフイルム26に対するゴムローラ80aの静止摩擦係数μを小さくすれば、貼り付けに要する時間Tを短縮できることが了解される。そして、図7のハッチングで示す範囲において、ゴムローラ80aの回転速度の比率g及び静止摩擦係数μを設定することにより、タクトタイムT0以内の安定した処理時間で貼り付けを完了することができる。この場合、処理時間が安定するため、むらのない高品質な感光性積層体を安定して製造することができる。 To summarize the above results, set faster rotational speed with respect to the ideal rotation speed of the paste is completed rubber rollers 80a in tact time T 0, also the static friction coefficient of the rubber roller 80a for the flexible base film 26 It is understood that the time T required for pasting can be shortened by reducing μ. Then, by setting the rotation speed ratio g and the static friction coefficient μ of the rubber roller 80a within the range indicated by hatching in FIG. 7, the pasting can be completed within a stable processing time within the tact time T 0 . In this case, since the processing time is stabilized, a high-quality photosensitive laminate having no unevenness can be stably produced.

図8は、上記の結果に基づく静止摩擦係数μと、タクトタイムT0以内で貼り付けを行うことのできる適切な比率gとの関係を示す。この場合、図4に示すラミネート制御部102を用いて、ゴムローラ80aを適切な回転速度に調整することができる。 FIG. 8 shows the relationship between the static friction coefficient μ based on the above result and an appropriate ratio g that can be applied within the tact time T 0 . In this case, the rubber roller 80a can be adjusted to an appropriate rotation speed using the laminate control unit 102 shown in FIG.

すなわち、ゴムローラ80aによるラミネートを開始してから、ラミネートが完了して基板先端検知センサ94がガラス基板24の先端を検知するまでの時間をラミネート時間算出部105により算出し、算出したラミネート時間を回転速度調整部107に供給する。回転速度調整部107は、ラミネート時間がタクトタイムT0を超過するおそれがあると判断したとき、ゴムローラ80aの静止摩擦係数μに基づいて、適切なラミネート時間を得ることのできる比率gを図8の関係を用いて求め、その比率gに従ってゴムローラ80aの回転速度を調整する。この結果、タクト時間T0を超過することのない安定した処理時間で感光性積層体のラミネート処理を行わせることができる。 That is, the time from the start of lamination by the rubber roller 80a to the completion of the lamination until the substrate tip detection sensor 94 detects the tip of the glass substrate 24 is calculated by the laminate time calculation unit 105, and the calculated lamination time is rotated. This is supplied to the speed adjustment unit 107. When the rotational speed adjustment unit 107 determines that the lamination time may exceed the tact time T 0 , the ratio g at which an appropriate lamination time can be obtained based on the static friction coefficient μ of the rubber roller 80a is shown in FIG. The rotational speed of the rubber roller 80a is adjusted according to the ratio g. As a result, the photosensitive laminate can be laminated in a stable processing time that does not exceed the tact time T 0 .

なお、回転速度調整部107に供給される静止摩擦係数μは、ラミネート処理を継続することによって変動するため、例えば、定期的なメンテナンスを行う際に測定して回転速度調整部107に供給することが望ましい。   Note that the static friction coefficient μ supplied to the rotation speed adjustment unit 107 varies as the laminating process is continued. For example, the static friction coefficient μ is measured and supplied to the rotation speed adjustment unit 107 during regular maintenance. Is desirable.

なお、第1の実施形態では、2本の感光性ウエブロール23a、23bを用いているが、これに限定されるものではなく、1本の感光性ウエブローラや、3本以上の感光性ウエブローラを採用してもよい。また、以下に説明する第2の実施形態においても、同様である。   In the first embodiment, two photosensitive web rolls 23a and 23b are used. However, the present invention is not limited to this. One photosensitive web roller or three or more photosensitive web rolls are used. A roller may be employed. The same applies to the second embodiment described below.

図9は、本発明の第2の実施形態に係る製造装置300の概略構成図である。なお、第1の実施形態に係る製造装置20と同一の構成要素には同一の参照符号を付して、その詳細な説明は省略する。   FIG. 9 is a schematic configuration diagram of a manufacturing apparatus 300 according to the second embodiment of the present invention. In addition, the same referential mark is attached | subjected to the component same as the manufacturing apparatus 20 which concerns on 1st Embodiment, and the detailed description is abbreviate | omitted.

製造装置300は、貼り付け機構46の下流に配置され、各ガラス基板24間の感光性ウエブ22a、22bを一体的に切断可能な基板間ウエブ切断機構48を備える。   The manufacturing apparatus 300 includes an inter-substrate web cutting mechanism 48 that is disposed downstream of the attaching mechanism 46 and that can integrally cut the photosensitive webs 22 a and 22 b between the glass substrates 24.

このように構成される製造装置300では、上記の第1の実施形態と同様に、貼り付け機構46でラミネートされた貼り付け基板24aは、矢印C方向に搬送される。そして、貼り付け基板24a間が基板間ウエブ切断機構48に対応する位置に至ると、この基板間ウエブ切断機構48は、前記貼り付け基板24aと同一の搬送速度で矢印C方向に移動しながら、該貼り付け基板24a間で2本の感光性ウエブ22a、22bを一体的に切断する。   In the manufacturing apparatus 300 configured as described above, the pasting substrate 24a laminated by the pasting mechanism 46 is transported in the direction of arrow C, as in the first embodiment. When the space between the bonded substrates 24a reaches a position corresponding to the inter-substrate web cutting mechanism 48, the inter-substrate web cutting mechanism 48 moves in the direction of arrow C at the same conveyance speed as the bonded substrate 24a, The two photosensitive webs 22a and 22b are integrally cut between the pasting substrates 24a.

この切断後に、基板間ウエブ切断機構48は、所定の待機位置に戻される一方、貼り付け基板24aでは、ベースフイルム26及び残存部分30bが順次剥離(枚葉剥離)されて感光性積層体106が製造される。   After this cutting, the inter-substrate web cutting mechanism 48 is returned to a predetermined standby position, while the base film 26 and the remaining portion 30b are sequentially peeled (single-wafer peeling) on the bonded substrate 24a, and the photosensitive laminate 106 is formed. Manufactured.

本発明の第1の実施形態に係る製造装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the manufacturing apparatus which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 前記製造装置に使用される長尺状感光性ウエブの断面図である。It is sectional drawing of the elongate photosensitive web used for the said manufacturing apparatus. 前記長尺状感光性ウエブに接着ラベルが接着された状態の説明図である。It is explanatory drawing of the state by which the adhesive label was adhere | attached on the said elongate photosensitive web. ラミネート制御部における圧着ローラの回転速度調整機能の構成ブロック図である。It is a block diagram of the configuration of the function of adjusting the rotation speed of the pressure roller in the laminating control unit. 前記長尺状感光性ウエブから保護フイルムを剥離する際の説明図である。It is explanatory drawing at the time of peeling a protective film from the said elongate photosensitive web. ガラス基板に感光性樹脂層をラミネートする状態の説明図である。It is explanatory drawing of the state which laminates the photosensitive resin layer on a glass substrate. 圧着ローラの静止摩擦係数及び回転速度の比率をパラメータとする、貼り付け機構による貼り付けに要する時間と、基板の送り量との関係説明図である。It is explanatory drawing of the relationship between the time required for affixing by an affixing mechanism and the feed amount of a board | substrate which use the ratio of the static friction coefficient and rotation speed of a pressurizing roller as a parameter. 前記比率と前記静止摩擦係数との関係説明図である。It is a relation explanatory view of the ratio and the coefficient of static friction. 本発明の第2の実施形態に係る製造装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the manufacturing apparatus which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 特許文献1の製造装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the manufacturing apparatus of patent document 1.

符号の説明Explanation of symbols

20、300…製造装置 22a、22b…感光性ウエブ
24…ガラス基板 26…可撓性ベースフイルム
28…感光性樹脂層 30…保護フイルム
46…貼り付け機構 74…基板加熱部
80a、80b…ゴムローラ 94…基板先端検知センサ
103…ローラ駆動モータ 105…ラミネート時間算出部
107…回転速度調整部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 20,300 ... Manufacturing apparatus 22a, 22b ... Photosensitive web 24 ... Glass substrate 26 ... Flexible base film 28 ... Photosensitive resin layer 30 ... Protective film 46 ... Pasting mechanism 74 ... Substrate heating part 80a, 80b ... Rubber roller 94 ... Board tip detection sensor 103 ... Roller drive motor 105 ... Lamination time calculation unit 107 ... Rotation speed adjustment unit

Claims (9)

基板と、支持体上に感光材料層が設けられた長尺状感光性ウエブとを同期させて一対の圧着ローラ間に送り出し、前記感光材料層を前記基板に貼り付けることで感光性積層体を製造する感光性積層体の製造装置において、
前記支持体に当接する一方の前記圧着ローラの回転速度が、前記感光性積層体を製造するタクトタイムを基準とする回転速度よりも所定量だけ速くなるように設定することを特徴とする感光性積層体の製造装置。
A substrate and a long photosensitive web provided with a photosensitive material layer on a support are synchronized and sent between a pair of pressure rollers, and the photosensitive material layer is attached to the substrate to form a photosensitive laminate. In the manufacturing apparatus for the photosensitive laminate to be manufactured,
The photosensitivity is characterized in that the rotational speed of one of the pressure rollers in contact with the support is set to be higher by a predetermined amount than the rotational speed based on the tact time for manufacturing the photosensitive laminated body. Laminate manufacturing equipment.
請求項1記載の製造装置において、
前記一方の圧着ローラの回転速度と、前記タクトタイムを基準とする回転速度との比率gを、1.0<g≦1.017の範囲で設定することを特徴とする感光性積層体の製造装置。
The manufacturing apparatus according to claim 1,
The ratio g between the rotational speed of the one pressure roller and the rotational speed based on the tact time is set in a range of 1.0 <g ≦ 1.017. apparatus.
請求項2記載の製造装置において、
前記比率gは、前記一方の圧着ローラの前記支持体に対する静止摩擦係数μに基づいて設定することを特徴とする感光性積層体の製造装置。
The manufacturing apparatus according to claim 2, wherein
The said ratio g is set based on the static friction coefficient (micro | micron | mu) with respect to the said support body of said one press roller, The manufacturing apparatus of the photosensitive laminated body characterized by the above-mentioned.
請求項3記載の製造装置において、
前記静止摩擦係数μは、0.15≦μ≦1.8の範囲で設定することを特徴とする感光性積層体の製造装置。
The manufacturing apparatus according to claim 3.
The static friction coefficient μ is set in a range of 0.15 ≦ μ ≦ 1.8.
請求項1〜4のいずれか1項に記載の装置において、
前記感光材料層を前記基板に貼り付けるのに要する時間を検出する貼り付け時間検出部と、
前記時間に基づいて前記一方の圧着ローラの回転速度を調整する回転速度調整部と、
を備えることを特徴とする感光性積層体の製造装置。
In the apparatus of any one of Claims 1-4,
An affixing time detection unit for detecting a time required for adhering the photosensitive material layer to the substrate;
A rotation speed adjustment unit that adjusts the rotation speed of the one pressure-bonding roller based on the time;
An apparatus for producing a photosensitive laminate, comprising:
基板と、支持体上に感光材料層が設けられた長尺状感光性ウエブとを同期させて一対の圧着ローラ間に送り出し、前記感光材料層を前記基板に貼り付けることで感光性積層体を製造する感光性積層体の製造方法において、
前記支持体に当接する一方の前記圧着ローラの回転速度が、前記感光性積層体を製造するタクトタイムを基準とする回転速度よりも所定量だけ速くなるように設定することを特徴とする感光性積層体の製造方法。
A substrate and a long photosensitive web provided with a photosensitive material layer on a support are synchronized and sent between a pair of pressure rollers, and the photosensitive material layer is attached to the substrate to form a photosensitive laminate. In the manufacturing method of the photosensitive laminate to be manufactured,
The photosensitivity is characterized in that the rotational speed of one of the pressure rollers in contact with the support is set to be higher by a predetermined amount than the rotational speed based on the tact time for manufacturing the photosensitive laminated body. A manufacturing method of a layered product.
請求項6記載の製造方法において、
前記一方の圧着ローラの回転速度と、前記タクトタイムを基準とする回転速度との比率gを、1.0<g≦1.017の範囲で設定することを特徴とする感光性積層体の製造方法。
In the manufacturing method of Claim 6,
The ratio g between the rotational speed of the one pressure roller and the rotational speed based on the tact time is set in a range of 1.0 <g ≦ 1.017. Method.
請求項7記載の製造方法において、
前記比率gは、前記一方の圧着ローラの前記支持体に対する静止摩擦係数μに基づいて設定することを特徴とする感光性積層体の製造方法。
In the manufacturing method of Claim 7,
The method of manufacturing a photosensitive laminate, wherein the ratio g is set based on a static friction coefficient μ of the one pressure roller with respect to the support.
請求項8記載の製造方法において、
前記静止摩擦係数μは、0.15≦μ≦1.8の範囲で設定することを特徴とする感光性積層体の製造方法。
The manufacturing method according to claim 8, wherein
The method for producing a photosensitive laminate, wherein the static friction coefficient μ is set in a range of 0.15 ≦ μ ≦ 1.8.
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