JP2008199021A - 基板を処理するための設備における搬送装置 - Google Patents

Abstract

【課題】搬送ラインに沿って基板を幾つかの処理セクションの中に連続的にインライン搬送するための連続する搬送セグメントを具備する搬送装置に関し、小さなサイクルタイムを保証するために、搬送装置の機能を改善する。
【解決手段】少なくとも２つの対等な移動式組合せセグメント１０を有する移送手段９によって達成され、その組合せセグメント１０によって、基板８を所定の位置に配置することができ、搬送ライン４に交互に割り当てられる状態にある組合せセグメント１０は、搬送セグメント５を形成する。
【選択図】図１

Description

発明の内容

本発明は、幾つかの処理セクションの中を通る搬送ラインに沿って連続的に基板をインライン搬送するための連続する搬送セグメントを具備する基板を処理するための設備における搬送装置に関し、それぞれの基板を静止処理位置に配置するために、移送手段が、提供される。

この種の搬送装置は、幾つかの連続する処理セクションにおいて、例えば、特殊ガラスなどをマルチプルコーティングするための真空コーティング設備において基板を処理するための設備において見られる。これらの搬送装置は、インライン構成、すなわち、直列に接続された様々なコーティングセクションを含み、そのインライン構成において、基板は、搬送装置によって、１つのコーティングセクションから次のコーティングセクションの中へ搬送される。コーティングセクションにおけるコーティングプロセスの設定されたシーケンスと一致して、材料および厚さが変化する幾つの層からなるあらゆる種類の層構造が、例えば、蒸着またはスパッタリングによって、基板上に付加される。様々な層構造は、個々のコーティングセクションにおける基板の様々な保持時間を発生させる。例えば、コーティングプロセスの連続的なスパッタリング速度における異なる層厚は、層厚にほぼ比例するコーティング時間をもたらす。したがって、層構造のその他の層厚と比較して、２倍の層厚は、そのコーティングセクションにおいてこの層厚を基板に付加するのに２倍の保持時間を必要とする。しかしながら、一連のコーティングを伴うインライン構造の設備の場合、プロセスステーションの中の１つにおける基板の最も長い保持時間が、コーティング設備を介しての連続基板スループット率のサイクルタイムを決定する。基板処理のその他のプロセスステップと比較して異常に長い保持時間を具備するコーティングプロセスステップが必要な場合、これは、結果として、より短い保持時間を有するコーティングセクションが十分に利用されないことをもたらし、全体的には、コーティング設備の低い生産性をもたらす。

インライン構造のこの問題を解決するために、ＷＯ２００４／０１３３７５Ａ１によれば、搬送ラインの外側へ基板を１つずつ配置するための移送手段を有する搬送装置が、従来技術において提案されている。この設備構造は、モジュールＭ間で基板を搬送するための搬送装置によって、また、基板をモジュールＭ内に個々に配置するための移送手段によって基板を真空処理するための直線状に連続する幾つかのモジュールＭを備え、その結果、特定の処理を施される基板は、移送手段によって、モジュール内に配置され、それと同時に搬送装置は、そのモジュールを通り越して別の基板を隣接するモジュールＭに、処理のために搬送することができる。搬送装置のそれぞれのモジュールは、ホイール３および４によって駆動されるベルト１および２（当該公報の図１およびそれに関連する説明）からなる対構成を備える１つの搬送セグメントを有する。これらのベルト１および２上において、基板Ｓが収容される基板ホルダー９が、下部平面Ｂ上においてインライン搬送方向へ水平に動かされ、モジュールからモジュールへ移送される。線形推進力による移送のために、ノッチ９ａが、基板ホルダーに提供され、それは、ベルト１および２の突起８と係合する（当該公報の図３および図４およびそれに関連する説明）。移送手段は、プラットホーム１０を具備する支持フレーム１１を備え、その移送手段は、駆動リフト装置１４を用いて、また、スイベル式に取り付けられたレバー１２および１３によって支持されて、垂直方向に調節されてもよい（当該公報の図５および図６およびそれに関連する説明）。この構造の移送手段は、ベルト１および２間において、また、ベルト１および２の動力伝達平面の下方において、モジュールの下方部分へ降下させられてもよく、それによって、基板Ｓの妨害されることのない水平移動が、ベルトによって実行されてもよい（当該公報の図３および図４）。基板が、開口１６ｂに対して処理チャンバーＣと整列した適切な位置に到達すると、リフト装置１４は、駆動され、それは、基板ホルダー９および基板Ｓとともにプラットホーム１０の上部平面Ａへの垂直移動をもたらし、それによって、基板ホルダー９は、ベルト１および２から引き離される（当該公報の図５および図６）。基板Ｓを具備するプラットホーム１０が、上部位置Ａにあり、かつ、基板処理が、処理チャンバーＣにおいて実行されているとき、下流側の処理チャンバーＣにおける処理のために、別の基板Ｓ１を、基板Ｓを通り越して１つのモジュールから次のモジュールへ直線状に搬送することができる（当該公報の図１）。したがって、基板に対するとりわけ時間のかかる処理ステップを並列時間で実行することができ、それによって、インライン設備のサイクルタイムは、もはや、この処理プロセスによって決定されることはなく、かつ、それによって、減少する。さらに、この迂回機能の助けによって、設備内において様々な層構造を連続的に製造することができる。

しかしながら、従来技術の解決法の欠点は、処理位置に配置するために水平インライン運動から垂直運動へルート変更することが、搬送装置によって基板を特定の移送手段へ移送することを必要とすることである。基板（基板ホルダーを含む）を移送手段へ移送することによって、水平線形運動の力を伝達するための密接な接続が解除され、それとは逆に、この接続は、基板または基板ホルダーの搬送装置への移送によって、再度、正確に復旧されなければならない。一方の独立した搬送システムから他方の独立した搬送システムへの基板のこの移送は、搬送が、ベルト、レール搬送、または、その他の何らかのシステムを必要とするかどうかに関係なく、位置決め精度が偏移することに密接に関係し、その結果として、プロセスサイクルにおける干渉または誤差の永久的な発生源を形成する。さらに、基板の妨害されることのない水平線形運動のために、搬送装置に適合したものとして設計されなければならない移送手段の構造は、真空処理モジュールの内部に大きな空間を必要とする。

このことから、本発明の目的は、一般的方法による搬送装置をさらに発展させることであり、それによって、小さいサイクルタイムを簡単な手段によって保証するそれの機能が改善される。

本発明によれば、この目的は、請求項１に記載の搬送装置によって達成される。

本発明による搬送装置は、少なくとも２つの対等な移動式組合せセグメントを具備する移送手段を有し、搬送ラインに交互に割り当てられる状態にあるその組合せセグメントは、搬送セグメントを構成する。一方の組合せセグメントは、搬送ラインに沿って連続する搬送セグメントにおける搬送セグメントとして配置され、他方の組合せセグメントは、搬送ラインの外側に配置される。搬送セグメントに割り当てられた組合せセグメントは、まさにその他の搬送セグメント間における結合のように、搬送装置の隣接する搬送セグメントとの結合を鎖結合の形で実現する。搬送ラインに沿った基板または基板ホルダーが、この組合せセグメントに関係していれば、移送手段は、この組合せセグメントを搬送ラインから外側へ送り込み、基板を静止処理位置に配置し、その静止処理位置において、基板は、好ましくは、処理ツールと向かい合う。それと同時に、搬送ラインに現れる「ギャップ」は、移送手段の他方のしかも同一の組合せセグメントによって代替的に解消される。この組合せセグメントは、外側へ送り込まれた組合せセグメントの代わりに搬送セグメントに加わり、再び、これまでに説明された搬送装置の隣接する搬送セグメントとの結合を実現する。したがって、搬送装置は、制限または干渉の影響を伴うことなく、基板を連続的にインライン搬送するために継続的に簡単に使用することができ、それによって、さらなる基板を、外側へ送り込まれた先行する基板を通り越して、例えば、次の処理セクションへ運搬することができる。逆の手順において、組み入れられた組合せセグメントを搬送ラインから外側へ送り込むことによって、外側へ送り込まれた組合せ搬送エレメントが、同時に、ギャップに戻り、その組合せエレメントは、搬送セグメントの中において利用可能になり、それによって、搬送ラインの外側に配置された基板さえも、不都合な変位または干渉の影響を伴うことなく、搬送装置によってさらに運ぶことができる。本発明は、また、設備、特に、真空コーティング設備に関する。

請求項１に記載される本発明による搬送装置の有利な実施形態は、従属クレームに特定された手段に関連する。

好ましい実施形態においては、組合せセグメントは、お互いに所定の距離を置いて平行に配置される。したがって、組合せセグメントの位置は、ただ１つのサーボ駆動装置によって、同時に調節またはシフトすることができる。

組合せセグメントが、特に、搬送ラインに直角に移動可能であれば、組合せセグメントを交互に割り当てるための位置決めの手間は、さらに減少し、それによって、搬送装置の設計および搬送ラインの方向に応じて、搬送ラインに対する組合せセグメントの好ましくは水平または垂直な外側への送り込みを適切なものにすることができる。組合せセグメントを水平に押し出しあるいは垂直に上下させることは、それ相応に適切に都合よく設計されたロール伝動装置または歯車伝動装置または摺動歯車伝動装置またはベルト伝動装置によって実現され、それらのそれぞれは、電気、空気圧、または、液圧によって動作させることができる。

好ましくは、１つの移送手段が、少なくとも２つの連続する処理セクションに提供され、あるいは、少なくとも２つの連続する処理ツールに割り当てられる。したがって、設備における複数の時間のかかる処理プロセスが、考案されてもよく、また、基板の連続する並列の処理が、実行されてもよい。インライン設備のサイクルタイムは、もはや、この長い処理プロセスによって決定されることはなく、それによって、サイクルタイムは、減少する。したがって、第１の基板が、第１の処理セクションにおいて、あるいは、第１の処理ツールによって、処理されてもよく、搬送方向においてそれに続く第２の基板は、第１の基板を通り越して次の処理セクションにまたは次の処理ツールへ搬送され、そして、並列に処理されてもよい。

処理ツールに割り当てられる基板の組合せセグメントおよび／または基板ホルダーがチャンバーパーティションとして形成されるならば、それは特に有益なことである。チャンバーパーティションを含む組合せセグメントを処理ツールに向けて外側へ送り込むことによって、処理セクションをプロセスチャンバーと搬送チャンバーとに分離可能に分割することができる。好ましくは、形成されたチャンバーパーティションをチャンバー壁の封止エレメントに接続することによって、処理されるべき基板は、プロセスチャンバー内部に真空気密状態で封止される。搬送装置によって処理セクションの中を基板の静止処理中に搬送される基板は、この処理プロセスによって影響を受けることがない。したがって、様々な処理プロセスをお互いに独立して隣接する処理セクションにおいて実行することができる。

基板の処理面を具備する平坦な基板が、１つの平面における静止処理中に基板搬送平面に平行に整列したままであれば、すなわち、基板が、向きを変えることなく、ただ単に処理面に平行に押し出されるならば、それは技術的に都合のよいことである。本発明による移送手段を具備する搬送装置においては、平坦な基板の処理面は、好ましくは、水平または基本的には垂直に整列する。

さらなる好ましい実施形態においては、搬送装置は、少なくとも１つの搬送セグメントを具備するロータリーモジュールを有し、その搬送セグメントは、２つの処理セクションの搬送セグメントに割り当てられてもよい。同様に、直線状に配置された搬送モジュールによって２つの処理セクションの搬送セグメントを少なくとも１つの搬送セグメントに相互接続することが可能である。隣接する処理セクションが、それぞれ、本発明による移送手段を有するならば、静的処理のための処理設備をこのような形で実現してもよく、その処理設備は、インライン設備として、かつ、クラスタ設備に類似するものとして、動作してもよく、それによって、個々の処理セクションに直列にまたは並列にアクセスすることができる。個々の処理セクションへのこの随意的なアクセスは、搬送ラインに沿った基板の前進運動がいかなる動作条件においても阻止されないことを保証する。それぞれの基板は、搬送方向において空きの処理セクションにいつでも動かされることが可能である。本発明による搬送装置によって、例えば、限られた基板保持容量しか持たずそのために処理セクションが満杯のときに過負荷となる中央ロータリーモジュールを具備する周知のクラスタ設備の場合よりも大きなスループットが、ある種の処理シーケンスの場合に可能となる。

以下、本発明による搬送装置が、２つの実施形態に基づいて、より詳細に説明される。それらの実施形態に関連する概略図が、添付の図面に示される。

図１に示される実施形態Ａによる垂直インラインコーティング設備は、２つの隣接するコーティングセクション１および２つの当接ロックチャンバー２からなり、コーティングセクション１とロックチャンバー２とは、真空気密チャンバー弁３によって、お互いに分離可能である。本発明による搬送装置は、ロックチャンバー２およびコーティングセクション１を通過し、その搬送装置は、搬送ライン４に沿って連続的に配置された幾つかの搬送セグメント５から形成される。実施形態Ａによる搬送セグメント５は、基本的には垂直に整列した平坦な基板８を搬送するように形成され、具体的には、図１に示される搬送セグメント５は、ガスクッション搬送装置のエレメントであり、搬送セグメント５は、それぞれ、傾斜したあるいは基本的に垂直に配置された基板ガイドプレート６を有し、その基板ガイドプレート６は、基部に配置された搬送ロール７を具備し（図２ａから容易にわかる）、それらの助けによって、平坦な基板８は、わずかに傾斜して立った状態で搬送ライン４に沿ってインラインコーティング設備の中を搬送される。基板８は、搬送セグメント５の基板ガイドプレート６を覆うガスクッション上に浮かんでいる。コーティングセクション１のそれぞれは、搬送ライン４に沿って水平に移動可能な２つの平行な組合せセグメント１０を具備する移送手段９を備え、それらの組合せセグメント１０は、その構造が、搬送セグメント５と同じである。図１は、組合せセグメント１０の考えられる２つの位置IおよびIIにあるそれぞれの移送手段９を示し、それらの２つの位置IおよびIIのそれぞれにおいて、組合せセグメント１０は、搬送セグメント５として搬送ライン４に割り当てられる。位置Iにおいて、搬送ライン４の外側にある組合せセグメント１０は、コーティングツール１１に面している。位置IIにおいて、搬送ライン４の外側にある組合せセグメント１０は、コーティングツール１１に背を向けている。

図２ａは、移送手段９を側面図として示し、この図２ａから、これまでに説明されかつ搬送セグメント５と同じものである組合せセグメント１０の構造および位置の変化に対するそれらの動き方を知ることができる。所定の距離を置いて配置されかつ平行である組合せセグメント１０は、移送ロール１３上に取り付けられたキャリアプレート１２に接続され、そのキャリアプレート１２は、例えば、図示しない電気モーターまたは空気圧シリンダーによって駆動される。キャリアプレート１２および移送ロール１３は、組合せセグメント１０を搬送ライン４に直角に移送方向１４に水平に同時に動かすことができ、それによって、組合せセグメント１０の位置IおよびIIを実現するように、お互いに整列させられる。この整列に基づいて、組合せセグメント１０によって移送方向１４に沿って搬送される平坦な基板８の整列が、搬送ライン４に沿って搬送されるときに維持される。キャリアプレート１２および移送ロール１３は、搬送ライン４に割り当てられたそれぞれの組合せセグメント１０が搬送ライン４に沿ってそれ自身をその他の搬送セグメント５の中に搬送セグメント５としてスムーズに組み入れるように、組合せセグメント１０の下方に配置される。

図２ｂは、移送手段９の別の実施形態を示し、この実施形態は、同時に、搬送装置の別の実施形態をレール搬送装置として含む。この実施形態の搬送セグメント５と同じ組合せセグメント１０は、それぞれ、両側に配置された駆動搬送ロール１６を具備するレールセグメント１５からなる。組合せセグメント１０の１つの上には、基板８が存在し、その基板８は、平坦なキャリア１７（基板ホルダー）によって保持され、そして、組合せセグメント１０は、ロール１８上の動くことのできるキャリアカー１９に接続される。この組合せセグメント１０が搬送セグメント５を形成する位置において、搬送ロール１６によって駆動されるキャリアカー１９は、搬送ライン４に沿って連続的に配置されたレールセグメント１５上を基板８とともに動く。搬送ロール１６を具備するレールセグメント１５の代わりに、基板の搬送は、図示しないレールシステムによって実行されてもよく、その場合、レールセグメント１５は、線形モーターとして形成され、その線形モーターの磁界上に、キャリアカー１９が浮かぶ。さらに、キャリアプレート１２の代わりに、図２ｂは、２つのＵ字形キャリアレール２０の１つを示し、移送ロール１３が、そのＵ字形キャリアレール２０に係合し、その結果として、それらが移送方向１４に沿って移動するとき、組合せセグメント１０は、良好に搬送される。

コーティングツール１１に面した移送手段９の組合せセグメント１０は、図１に示される組合せセグメント１０の位置Iから明らかなように、コーティングツール１１に向かい合ったコーティング位置に基板８を配置する。したがって、組合せセグメント１０は、搬送セグメント５の役割、および、基板８を処理位置に配置するための「位置決めエレメント」の役割の両方を組み合わせた形で果たす。

図２ａによる組合せセグメント１０の基板ガイドプレート６、あるいは、その代わりとしての図２ｂによる平坦なキャリア１７は、チャンバーパーティション２１として設計され、そのチャンバーパーティション２１は、組合せセグメント１０の位置Iにおいて、コーティングセクション１のプロセスチャンバー２２を搬送チャンバー２３から機能的に分離する。封止エレメント２４を具備するチャンバーパーティション２１は、コーティングセクション１のチャンバー壁２５に合致し、それによって、プロセスチャンバー２２は、基板８のコーティング中に、搬送チャンバー２３から真空気密状態で分離される。

図３は、４つのコーティングセクション１を具備する図１に基づく拡張インラインコーティング設備を示し、２つの隣接するコーティングセクション１は、ロータリーモジュール２６によってお互いに接続される。ロータリーモジュール２６の搬送セグメント５は、コーティングセクション１の搬送セグメント５に搬送ライン４に沿って交互に接続する。ロータリーモジュール２６の搬送セグメント５は、この搬送セグメント５をコーティングセクション１のそれぞれの搬送セグメント５にわずかな距離で接続することができるように、回転運動だけでなく搬送ライン４に沿った縦方向運動も実行する。このように、インラインコーティング設備は、ロータリーモジュール２６に隣接するコーティングセクション１への随意的なアクセスによって、クラスタコーティング設備と同様に構成される。

図４ａおよび図４ｂは、実施形態Ｂによる水平インラインコーティング設備を示す。実施形態Ａによるインラインコーティング設備と同様に、この設備は、２つの隣接するコーティングセクション１からなり、図面をわかりやすくするために、隣接するロックチャンバー２および真空気密チャンバー弁３は、省略されている。本発明による搬送装置は、コーティングセクション１および当接ロックチャンバー２の中を移動し、そして、その搬送装置は、搬送ライン４に沿った連続する幾つかの搬送セグメント５からなる。水平インラインコーティング設備における搬送セグメント５は、水平に整列した平坦な基板８を搬送するように形成され、例えば、図４ａおよび図４ｂに示される搬送セグメント５は、ローラー搬送装置のローラーセグメント２７であり、平坦な基板８は、ローラーセグメント２７の搬送ロール２８上の横臥位置に搬送され、それによって、インラインコーティング設備の中を搬送ライン４に沿って搬送される。

実施形態Ａによるインラインコーティング設備の場合と同様に、平行な２つの組合せセグメント１０を具備する移送手段９が、実施形態Ｂによるインラインコーティング設備内に提供され、その組合せセグメント１０の構造は、搬送ライン４に沿った搬送セグメント５、ここでは、特に、ローラーセグメント２７と同じである。図４ａは、組合せセグメント１０の考えられる２つの位置IおよびIIにあるそれぞれの移送手段９を示し、それらの位置のそれぞれにおいて、１つの組合せセグメント１０が、搬送セグメント５として搬送ライン４に割り当てられる。組合せセグメント１０のグループ化が、実施形態Ａによるインラインコーティング設備の組合せセグメント１０と同じように発生するが、実施形態Ｂによる組合せセグメント１０は、図４ｂから明らかなように、リフト装置３０によって垂直に移動可能である。このために、所定の距離を置いて配置されかつお互いに平行である組合せセグメント１０は、ガイドプロフィール２９に接続され、そのガイドプロフィール２９は、リフト装置３０のコンポーネントであり、それは、例えば、サーボモーターまたは空気圧シリンダーのような詳細には図示されない伝動装置によって駆動される。したがって、組合せセグメント１０は、垂直移送方向３１へ位置IまたはIIに同時に移動可能であり、位置Iにおいて、組合せセグメント１０上に配置された水平に整列した平坦な基板８は、搬送装置の上方に配置されたコーティングするためのコーティングツール１１へ向けて搬送される（同様に、図４ｂから明らかである）。

図４ａおよび図４ｂに示される実施形態Ｂによれば、桶形チャンバーパーティション２１が、提供され、それらは、それぞれの組合せセグメント１０の搬送ロール２８の下方に配置され、いずれの場合においても、組合せセグメント１０の対間の平面に配置されたそのチャンバーパーティション２１は、位置Iにおいてプロセスチャンバー２２を搬送チャンバー２３から機能的に分離する役割をなす。桶形チャンバーパーティション２１の周辺端部は、それは搬送ロール２８を部分的に備えるが、コーティングセクション１のチャンバー壁２５の封止接触フレーム３２に合致し、それによって、この実施形態においても、プロセスチャンバー２２は、基板８のコーティング中に、搬送チャンバー２３から真空気密状態で分離される。

以下、実施形態ＡおよびＢによるインラインコーティング設備がどのように動作するかを説明する。

基板８は、チャンバーロック１を介して送り込まれ、搬送セグメント５によって、搬送ライン４に沿って搬送される。基板８が、それの搬送ルート上における第１のコーティングセクション１に到達すると、基板８は、そこの移送手段９の組合せセグメント１０の中の１つに収容され、その組合せセグメント１０は、一時的に、搬送セグメント５の役割をなす。移送ロール１３によって、または、リフト装置３０によって、移送手段９は、移送手段９が基板８をコーティングツール１１に向かい合った処理位置（組合せセグメント１０の位置I）に配置するまで、両方の組合せセグメント１０を同時に水平移送方向１４または垂直移送方向３１に位置IIからコーティングツール１１に向けて動かす。それと同時に、連続する搬送セグメント５の結果として生じるギャップが、平行な組合せセグメント１０によって占められ、そして、その組合せセグメント１０は、搬送ライン４に沿った搬送セグメント５を形成する。搬送ライン４に沿って搬送される次の基板８は、この時点において、先行する基板８を通り越して隣接するコーティングセクション１に到達するために、第１のコーティングセクション１を妨害されることなくまた干渉されることなく通過することができる。その隣接するコーティングセクション１において、基板８は、組合せセグメント１０の位置IIにある移送手段９の組合せセグメント１０に収容され、それに続いて、同様に、処理位置（組合せセグメント１０の位置I）に配置されることが可能である。第１のコーティングセクション１における基板８のコーティング中、プロセスチャンバー２２は、チャンバーパーティション２１によって、搬送チャンバー２３から分離され、それによって、通過する基板８は、第１のコーティングセクション１におけるコーティングプロセスから影響を受けることがない。

このようにして、隣接するコーティングセクション１における基板８の並列のまた連続的なコーティングが、可能となる。特に、基板８に対する時間のかかるコーティングプロセスを、時間を節約して並列に実施することができる。インライン搬送による対応する搬送システムへの基板８の移送、および、基板を静止処理位置に配置しかつ元の位置に再び戻すための移送が、干渉を起こしやすい、異なる搬送システムへの基板８の並進運動を必要とせずに、好都合に実施される。

実施形態Ａによる垂直インラインコーティング設備の平面図であり、基本的には垂直に整列する基板のための本発明による２つのコーティングセクションおよび１つの搬送装置を備える。 この搬送装置の本発明による移送手段の側面図であり、２つの組合せセグメントを備える。 本発明による移送手段の別の実施形態の側面図である。 実施形態Ａによる拡張インラインコーティング設備の平面図であり、それらの間にロータリーモジュールを備える。 実施形態Ｂによる水平インラインコーティング設備の側面図であり、水平に整列する基板のための本発明による２つのコーティングセクションおよび搬送装置を備える。 実施形態Ｂによるインラインコーティング設備の断面図である。

符号の説明

１…処理セクション、コーティングセクション、２…ロックチャンバー、３…真空気密チャンバー弁、４…搬送ライン、５…搬送セグメント、６…基板ガイドプレート、７…基板ガイドプレートの搬送ロール、８…基板、９…移送手段、１０…組合せセグメント、１１…処理ツール、コーティングツール、１２…キャリアプレート、１３…移送ロール、１４…水平移送方向、１５…レールセグメント、１６…レールセグメントの搬送ロール、１７…基板ホルダー、基板キャリア、１８…キャリアカーロール、１９…キャリアカー、２０…キャリアレール、２１…チャンバーパーティション、２２…プロセスチャンバー、２３…搬送チャンバー、２４…封止エレメント、２５…コーティングセクションのチャンバー壁、２６…ロータリーモジュール、２７…ローラーセグメント、２８…ロールセグメントの搬送ロール、２９…ガイドプロフィール、３０…リフト装置、３１…垂直移送方向、３２…封止接触フレーム、I…組合せセグメントの位置I、II…組合せセグメントの位置II

Claims (15)

1. 移送手段が、基板を静止処理位置に一枚ずつ配置するために提供され、幾つかの処理セクションの中を通る搬送ラインに沿って前記基板を連続的にインライン搬送するための連続する搬送セグメントを具備する前記基板を処理するための設備とりわけ真空コーティング設備における搬送装置において、
   前記移送手段（９）が、少なくとも２つの対等な移動式組合せセグメント（１０）を有し、前記組合せセグメント（１０）によって、前記基板（８）を所定の位置に配置することができ、前記搬送ライン（４）に交互に割り当てられる状態にある前記組合せセグメント（１０）が、搬送セグメント（５）を形成することを特徴とする、搬送装置。
2. 前記処理セクション（１）の中の１つが、少なくとも１つの処理ツール（１１）を有し、前記処理ツール（１１）と向かい合った前記静止処理位置に存在する基板（８）が、前記処理ツール（１１）に割り当てられることを特徴とする、請求項１に記載の搬送装置。
3. 前記組合せセグメント（１０）が、平行であり、かつ、所定の距離を置いて配置されたことを特徴とする、請求項１または２のいずれか一項に記載の搬送装置。
4. 前記組合せセグメント（１０）が、前記搬送ライン（４）に対して、横方向に、好ましくは、直角に移動可能であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の搬送装置。
5. 前記組合せセグメント（１０）が、水平方向におよび／または垂直方向に移動可能であることを特徴とする、請求項４に記載の搬送装置。
6. 前記移送手段（９）が、電気によって、空気圧によって、または、液圧によって動作させることのできるロール伝動装置または歯車伝動装置あるいは摺動歯車伝動装置またはベルト伝動装置を有することを特徴とする、請求項４または５のいずれか一項に記載の搬送装置。
7. 前記移送手段（９）が、１つずつ、少なくとも２つの連続する前記処理セクション（１）に提供され、あるいは、少なくとも２つの連続する前記処理ツール（１１）に割り当てられたことを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の搬送装置。
8. 前記移送手段（９）が、チャンバーパーティション（２１）を有し、前記チャンバーパーティション（２１）が、前記組合せセグメント（１０）間に１つの平面として配置されたことを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の搬送装置。
9. 前記組合せセグメント（１０）が、前記処理ツール（１１）に割り当てられ、および／または、前記基板（８）の基板ホルダー（１７）が、チャンバーパーティション（２１）として形成されたことを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の搬送装置。
10. 前記チャンバーパーティション（２１）が、封止エレメント（２４、３２）を具備する前記処理セクション（１）のチャンバー壁（２５）に合致することを特徴とする、請求項８または９のいずれか一項に記載の搬送装置。
11. 前記搬送セグメント（５）が、ロール搬送装置、レール搬送装置、または、ガスクッション搬送装置からなるエレメントであることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の搬送装置。
12. 前記基板（８）が、処理面を有し、前記処理面が、前記搬送ライン（４）に沿って前記基板（８）がインライン搬送される場合に、搬送平面を形成し、かつ、前記基板（８）を前記処理位置に配置するときに、前記搬送平面に平行な平面に整列することを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の搬送装置。
13. 前記基板（８）の前記処理面が、水平方向にまたは基本的には垂直方向に整列することを特徴とする、請求項１２に記載の搬送装置。
14. 前記搬送装置が、少なくとも１つの前記搬送セグメント（５）を具備するロータリーモジュール（２６）を有し、少なくとも１つの前記搬送セグメント（５）を２つの前記処理セクション（１）の前記搬送セグメント（５）に割り当てることができることを特徴とする、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の搬送装置。
15. 連続する幾つかの処理ステーションを具備する、基板を処理とりわけコーティングするための設備とりわけ真空コーティング設備であって、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の前記移送手段（９）を特徴とする、設備。

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