JP2008199040A - 縦型熱処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】処理容器2の開口端2aを閉塞する蓋体8と、蓋体上に設けられ複数枚の被処理体を保持する保持具とを備え、蓋体8は、処理容器の開口端に当接される石英製の内側蓋部17と、内側蓋部17の外面を覆う金属製の外側蓋部18とからなり、内側蓋部17の外周上側部に処理容器の開口端外周部よりも内側に凹んだ環状凹部50を、且つ内側蓋部17の外周下側部にフランジ部21を形成し、外側蓋部18に、環状凹部50に位置して内側蓋部17のフランジ部21を保持するフランジ押え27を設け、フランジ押え27の上部と下部に処理容器の開口端下面に接する第1Oリング51とフランジ部21に接する第2Oリング52とを設け、フランジ押え27の内部に冷媒通路31を設けた。
【選択図】図2
Description
2 処理容器
2a 開口端
8 蓋体
9 ボート(保持具)
17 内側蓋部
18 外側蓋部
21 フランジ部
27 フランジ押え
31 冷媒通路
32 面状のヒーター
45 Oリング
46 排気通路
47 排気孔
50 環状凹部
51 第1Oリング
52 第2Oリング
60 液受部
61 液受皿
70 液案内部
Claims (4)
- 下端が開口された石英製の処理容器と、該処理容器の下方に昇降可能に設けられ、処理容器の開口端を閉塞する蓋体と、該蓋体上に設けられ複数枚の被処理体を所定の間隔で保持する保持具と、前記処理容器の周囲に設けられた加熱手段とを備えた縦型熱処理装置において、前記蓋体は、前記処理容器の開口端に当接される石英製の内側蓋部と、該内側蓋部の外面を覆う金属製の外側蓋部とからなり、前記内側蓋部の外周上側部に前記処理容器の開口端外周部よりも内側に凹んだ環状凹部を、且つ内側蓋部の外周下側部にフランジ部を形成し、前記外側蓋部に、前記環状凹部に位置して内側蓋部のフランジ部を保持するフランジ押えを設け、該フランジ押えの上部と下部に前記処理容器の開口端下面に接する第1Oリングと前記フランジ部に接する第2Oリングとを設け、前記フランジ押えの内部に第1Oリング及び第2Oリングを冷却する冷媒通路を設けたことを特徴とする縦型熱処理装置。
- 前記内側蓋部の上面にはフッ化水素を用いたドライクリーニング時に発生する水溶液を受ける液受部が設けられ、前記処理容器の内周面の下方には処理容器の内周面に発生して流下する水溶液を前記液受部に導く液案内部が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の縦型熱処理装置。
- 前記液受部が内側蓋部の上面に載置された石英製の液受皿であることを特徴とする請求項2に記載の縦型熱処理装置。
- 前記処理容器の開口端下面に第1Oリングの焼損を防止するための不透明層が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の縦型熱処理装置。
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2008
- 2008-03-13 JP JP2008064519A patent/JP4268211B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
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| JP2014090145A (ja) * | 2012-10-31 | 2014-05-15 | Tokyo Electron Ltd | 熱処理装置 |
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