JP2008197409A - Method for manufacturing optical filter for display and optical filter roll for display - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 84
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 59
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 37
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 106
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 106
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 19
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 97
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 95
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 6
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 claims description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 4
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 abstract description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 285
- 239000010408 film Substances 0.000 description 72
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 42
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 42
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 42
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 37
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 18
- -1 2-hydroxypropyl Chemical group 0.000 description 17
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 12
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 11
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 9
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 9
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 8
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 7
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 7
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 7
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 7
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 7
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 6
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 5
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 5
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 5
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 5
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Chemical compound Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 4
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 4
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 3
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- UYJXRRSPUVSSMN-UHFFFAOYSA-P ammonium sulfide Chemical compound [NH4+].[NH4+].[S-2] UYJXRRSPUVSSMN-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 3
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000005987 sulfurization reaction Methods 0.000 description 3
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 description 3
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 3
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 2
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 2
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001919 chlorite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052619 chlorite group Inorganic materials 0.000 description 2
- QBWCMBCROVPCKQ-UHFFFAOYSA-N chlorous acid Chemical compound OCl=O QBWCMBCROVPCKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 2
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940117969 neopentyl glycol Drugs 0.000 description 2
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DYIZHKNUQPHNJY-UHFFFAOYSA-N oxorhenium Chemical compound [Re]=O DYIZHKNUQPHNJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 2
- DPLVEEXVKBWGHE-UHFFFAOYSA-N potassium sulfide Chemical compound [S-2].[K+].[K+] DPLVEEXVKBWGHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003449 rhenium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- SOLUNJPVPZJLOM-UHFFFAOYSA-N trizinc;distiborate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-][Sb]([O-])([O-])=O.[O-][Sb]([O-])([O-])=O SOLUNJPVPZJLOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 1,9-Nonanediol Chemical compound OCCCCCCCCCO ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylazepan-2-one Chemical compound C=CN1CCCCCC1=O JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(C)C YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZZVAVMGKRNEAT-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropane-1,3-diol;3-hydroxy-2,2-dimethylpropanoic acid Chemical compound OCC(C)(C)CO.OCC(C)(C)C(O)=O CZZVAVMGKRNEAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSKYSDCYIODJPC-UHFFFAOYSA-N 2-butyl-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCCCC(CC)(CO)CO DSKYSDCYIODJPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXFJDZNJHVPHPH-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentane-1,5-diol Chemical compound OCCC(C)CCO SXFJDZNJHVPHPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDIYEOMDOWUDTJ-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethylamino)benzoic acid Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 YDIYEOMDOWUDTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 229920002978 Vinylon Polymers 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JODIJOMWCAXJJX-UHFFFAOYSA-N [O-2].[Al+3].[O-2].[Zn+2] Chemical compound [O-2].[Al+3].[O-2].[Zn+2] JODIJOMWCAXJJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZWHFTKIBIQKCA-UHFFFAOYSA-N [Sn+2]=O.[O-2].[In+3] Chemical compound [Sn+2]=O.[O-2].[In+3] AZWHFTKIBIQKCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- CJDPJFRMHVXWPT-UHFFFAOYSA-N barium sulfide Chemical compound [S-2].[Ba+2] CJDPJFRMHVXWPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical class C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000000788 chromium alloy Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 229920005648 ethylene methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical group FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000007849 furan resin Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- YLHXLHGIAMFFBU-UHFFFAOYSA-N methyl phenylglyoxalate Chemical compound COC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 YLHXLHGIAMFFBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- FVXBCDWMKCEPCL-UHFFFAOYSA-N nonane-1,1-diol Chemical compound CCCCCCCCC(O)O FVXBCDWMKCEPCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- WMHSAFDEIXKKMV-UHFFFAOYSA-N oxoantimony;oxotin Chemical compound [Sn]=O.[Sb]=O WMHSAFDEIXKKMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-N peroxydisulfuric acid Chemical compound OS(=O)(=O)OOS(O)(=O)=O JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(4-phenylphenyl)methanone Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 1
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 1
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007763 reverse roll coating Methods 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- JPJALAQPGMAKDF-UHFFFAOYSA-N selenium dioxide Chemical compound O=[Se]=O JPJALAQPGMAKDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N triacetic acid Chemical compound CC(=O)CC(=O)CC(O)=O ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
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- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
Description
本発明は、プラズマディスプレイなどのディスプレイの画像表示部に用いられ、電磁波シールド性、反射防止性及び耐傷付き性を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法、前記製造方法により製造されたディスプレイ用光学フィルタを用いたディスプレイ用光学フィルタロールに関する。 The present invention relates to a method for producing an optical filter for a display which is used in an image display part of a display such as a plasma display and has electromagnetic wave shielding properties, antireflection properties and scratch resistance, and an optical filter for a display produced by the production method. It is related with the optical filter roll for displays used.
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）及びＣＲＴディスプレイなどの電子ディスプレイが、表示装置として広く普及している。 Electronic displays such as liquid crystal displays (LCD), plasma displays (PDP), flat panel displays (FPD) such as EL displays, and CRT displays are widely used as display devices.
近年、このような表示装置や通信機器等の普及にともない、これらから発生する電磁波によりもたらされる人体への影響が懸念されている。また、携帯電話等の電磁波により精密機器の誤作動などを起こす場合もあり、電磁波は問題視されている。そこで、電子ディスプレイ用フィルタとして、電磁波シールド性および光透過性を有するディスプレイ用光学フィルタが開発され、実用に供されている。 In recent years, with the spread of such display devices and communication devices, there is a concern about the influence on the human body caused by electromagnetic waves generated therefrom. In addition, electromagnetic waves from a mobile phone or the like may cause malfunction of precision equipment, and electromagnetic waves are regarded as a problem. Therefore, as an electronic display filter, an optical filter for display having electromagnetic wave shielding properties and light transmittance has been developed and put into practical use.
このディスプレイ用光学フィルタでは、光透過性と電磁波シールド性を両立することが必要である。そのために、ディスプレイ用光学フィルタには、例えば、透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたメッシュ状の金属導電層からなる電磁波シールド層が形成されたもの等が知られている。 In this display optical filter, it is necessary to satisfy both light transmittance and electromagnetic wave shielding properties. For this purpose, for example, an optical filter for display is formed by etching a layer of copper foil or the like on a transparent film into a net and forming an electromagnetic shielding layer made of a mesh-like metal conductive layer having openings. It has been known.
電子ディスプレイ表面は傷が付くと視認性が低下するため、ディスプレイ用光学フィルタには、耐傷付き性を付与するためのハードコート層がさらに用いられている。また、ディスプレイ前面に外光が差し込んだ場合、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みによって、視認性の低下を招く恐れがある。そこで、光学干渉の原理を用いて反射率を低減するための反射防止層を設置するなど種々の対策がなされている。 When the surface of the electronic display is scratched, the visibility is lowered. Therefore, a hard coat layer for imparting scratch resistance is further used for the display optical filter. In addition, when external light is inserted into the front surface of the display, there is a risk that visibility may be reduced due to a decrease in contrast due to reflection of external light or reflection of an image. Therefore, various measures have been taken, such as installing an antireflection layer for reducing the reflectance by using the principle of optical interference.
従来のディスプレイ用光学フィルタでは、上述した各層を積層一体化させ、電磁波シールド性、反射防止性及び耐傷付き性を兼ね備えたディスプレイ用複合機能フィルタとして用いられている。また、電磁波シールド層における電磁波シールド性を良好なものとするために、電磁波シールド層を電子ディスプレイ本体にアース（接地）する必要がある。そのため、ディスプレイ用光学フィルタからメッシュ状の金属導電層を外部にはみ出させ、ディスプレイ用光学フィルタの裏側に折り込ませてアースするか、電磁波シールド層に接触するように導電性粘着テープを挟み込むなどの手段が用いられている。 In the conventional optical filter for display, the above-mentioned layers are laminated and integrated, and used as a composite function filter for display having electromagnetic shielding properties, antireflection properties, and scratch resistance. Further, in order to improve the electromagnetic wave shielding property in the electromagnetic wave shielding layer, it is necessary to ground the electromagnetic wave shielding layer to the electronic display main body. Therefore, the mesh-shaped metal conductive layer protrudes from the optical filter for display to the outside and is folded to the back side of the optical filter for display to be grounded, or the conductive adhesive tape is sandwiched so as to be in contact with the electromagnetic wave shielding layer. Is used.
ディスプレイ用光学フィルタにおける各層の積層順序は、ディスプレイ用光学フィルタの用途及び機能などを考慮して決定される。しかしながら、透明フィルムの一方の面に電磁波シールド層を設け、他方の面にハードコート層及び反射防止層を設け、電磁波シールド層接地側が電子ディスプレイ本体側となるように配置される構成を有するディスプレイ用光学フィルタでは、電子ディスプレイ本体側に電磁波シールド層が配置されるため構造上、アースが取り難くなる。 The stacking order of the layers in the display optical filter is determined in consideration of the application and function of the display optical filter. However, for a display having a configuration in which an electromagnetic wave shielding layer is provided on one surface of the transparent film, a hard coat layer and an antireflection layer are provided on the other surface, and the electromagnetic shielding layer grounding side is the electronic display main body side. In the optical filter, since the electromagnetic wave shielding layer is disposed on the electronic display main body side, it is difficult to ground the structure.
そこで、ディスプレイ用光学フィルタでは、透明フィルム／電磁波シールド層／ハードコート層／反射防止層などの積層順序とし、透明フィルムの電磁波シールド層が形成されていない面を電子ディスプレイ本体側に配置するのが好ましい（特許文献１）。 Therefore, in the optical filter for display, the order of lamination of the transparent film / electromagnetic wave shielding layer / hard coat layer / antireflection layer, etc. is used, and the surface of the transparent film on which the electromagnetic wave shielding layer is not formed is disposed on the electronic display body side. Preferred (Patent Document 1).
このような従来のディスプレイ用光学フィルタを製造するには、所定のサイズに裁断した透明フィルム上に、メッシュ状の金属導電層、ハードコート層及び反射防止層などの各層を順次、形成する方法などが用いられている。 In order to manufacture such a conventional optical filter for display, a method of sequentially forming each layer such as a mesh-shaped metal conductive layer, a hard coat layer, and an antireflection layer on a transparent film cut into a predetermined size, etc. Is used.
近年、電子ディスプレイが著しく普及するとともに大画面化が主流となってとなってきている一方で、コストダウンへの要求が強まっている。したがって、ディスプレイ用光学フィルタについてもコストダウンを図るために、生産性の向上が必要とされている。しかしながら、ディスプレイ用光学フィルタの製造方法は、上述の通り、枚葉化した複数の透明フィルム上にメッシュ状の金属導電層、ハードコート層及び反射防止層をそれぞれ形成する手段を用いるため、製造工程が複雑となるだけでなく印刷速度又は塗工速度も遅くなり、生産性を向上させるには限界があった。 In recent years, electronic displays have become widespread and larger screens have become mainstream, while demands for cost reduction have increased. Therefore, the productivity of the display optical filter is also required to reduce the cost. However, as described above, the manufacturing method of the optical filter for display uses a means for forming a mesh-shaped metal conductive layer, a hard coat layer, and an antireflection layer on a plurality of transparent films formed into a single sheet. In addition to being complicated, the printing speed or coating speed is also slowed, and there is a limit to improving productivity.
そこで、本発明の目的は、製造工程を簡略化することによって優れた生産性を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法を提供することである。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing an optical filter for display having excellent productivity by simplifying the manufacturing process.
さらに、本発明は、ディスプレイ用光学フィルタを巻き取ることにより得られるディスプレイ用光学フィルタロールを提供することを目的とする。 Furthermore, an object of this invention is to provide the optical filter roll for displays obtained by winding up the optical filter for displays.
本発明者等は、上記課題に鑑み種々の検討を行った結果、連続的に形成されたメッシュ状の金属導電層を有する長尺状の透明フィルムを用い、前記透明フィルムを裁断せずに、透明フィルム上のメッシュ状の金属導電層上に、ハードコート層及び反射防止層を間欠塗工に形成することによって上記課題を解決できることを見出した。 As a result of various studies in view of the above problems, the present inventors have used a long transparent film having a mesh-shaped metal conductive layer formed continuously, without cutting the transparent film, It has been found that the above problem can be solved by forming a hard coat layer and an antireflection layer on a mesh-like metal conductive layer on a transparent film by intermittent coating.
すなわち、本発明は、表面にメッシュ状の金属導電層が形成された長尺状の透明フィルムの走行下、前記金属導電層上にハードコート層形成用塗工液を間欠塗工することにより、走行方向に間欠的に且つ走行方向における両端部に前記金属導電層が帯状に露出するようにハードコート層を形成する工程と、
前記ハードコート層が形成された金属導電層上に反射防止層形成用塗工液を間欠塗工することにより、前記ハードコート層上に反射防止層を形成する工程を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法により上記課題を解決する。
That is, the present invention intermittently coats a coating liquid for forming a hard coat layer on the metal conductive layer while running a long transparent film having a mesh-shaped metal conductive layer formed on the surface. A step of forming a hard coat layer so that the metal conductive layer is exposed in a strip shape intermittently in the running direction and at both ends in the running direction;
Manufacture of an optical filter for a display having a step of forming an antireflection layer on the hard coat layer by intermittently applying an antireflection layer forming coating solution on the metal conductive layer on which the hard coat layer is formed. The above problem is solved by a method.
以下、本発明の製造方法の好ましい態様を列記する。 Hereinafter, preferable embodiments of the production method of the present invention will be listed.
（１）間欠塗工をダイコート法を用いて行う。 (1) Intermittent coating is performed using a die coating method.
（２）間欠塗工を、前記透明フィルムを１〜１００ｃｍ／秒の速度で走行させながら行う。 (2) Intermittent coating is performed while running the transparent film at a speed of 1 to 100 cm / sec.
（３）ハードコート層形成用塗工液が、２５℃において３〜３５ｍＰａ・ｓの粘度を有する。 (3) The coating liquid for forming a hard coat layer has a viscosity of 3 to 35 mPa · s at 25 ° C.
（４）ハードコート層形成用塗工液が、紫外線硬化性塗工液である。 (4) The hard coat layer forming coating solution is an ultraviolet curable coating solution.
（５）前記ハードコート層形成用塗工液を間欠塗工した後、紫外線を照射する。 (5) After intermittently applying the hard coat layer forming coating solution, ultraviolet rays are irradiated.
（６）帯状に露出させた金属導電層の幅を、２〜５０ｍｍとする。 (6) The width of the metal conductive layer exposed in a band shape is 2 to 50 mm.
（７）ハードコート層間に露出させた金属導電層の幅を、２〜５０ｍｍとする。 (7) The width of the metal conductive layer exposed between the hard coat layers is 2 to 50 mm.
（８）反射防止層形成用塗工液が、２５℃において３〜３５ｍＰａ・ｓの粘度を有する。 (8) The antireflection layer-forming coating solution has a viscosity of 3 to 35 mPa · s at 25 ° C.
（９）反射防止層形成用塗工液が、紫外線硬化性塗工液である。 (9) The antireflection layer-forming coating solution is an ultraviolet curable coating solution.
（１０）前記反射防止層形成用塗工液を間欠塗工した後、紫外線を照射する。 (10) The antireflection layer forming coating solution is intermittently applied and then irradiated with ultraviolet rays.
（１１）金属導電層が、５〜５０μｍの線幅を有し、開口率が７０〜９５％である。 (11) The metal conductive layer has a line width of 5 to 50 μm and an aperture ratio of 70 to 95%.
（１２）金属導電層の厚さが、前記ハードコート層及び前記反射防止層の合計の厚さよりも薄い。 (12) The thickness of the metal conductive layer is thinner than the total thickness of the hard coat layer and the antireflection layer.
（１３）前記金属導電層の厚さが、０．１〜１０μｍである。 (13) The metal conductive layer has a thickness of 0.1 to 10 μm.
本発明の方法によれば、好ましくはロール・トゥー・ロール（Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ）方式を用いることにより、製造工程を簡略化でき、製造が容易で生産性に優れるディスプレイ用光学フィルタを製造することが可能となる。また、本発明により得られるディスプレイ用光学フィルタは、前記ハードコート層及び前記反射防止層の周辺部にメッシュ状の金属導電層が露出していることにより、電子ディスプレイ本体への接地を容易に行うことが可能となる。 According to the method of the present invention, it is possible to manufacture a display optical filter that can simplify the manufacturing process, and is easy to manufacture and excellent in productivity, preferably by using a roll-to-roll method. It becomes possible. In addition, the optical filter for display obtained by the present invention is easily grounded to the electronic display body because the mesh-shaped metal conductive layer is exposed in the peripheral part of the hard coat layer and the antireflection layer. It becomes possible.
以下に、本発明の実施形態を、図面を参照しながら説明する。図１は、本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法の好適な一実施形態を示す説明図である。なお、本発明の製造方法が図１に示す方法に限定されるわけではない。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is an explanatory view showing a preferred embodiment of a method for producing an optical filter for display according to the present invention. In addition, the manufacturing method of this invention is not necessarily limited to the method shown in FIG.
本発明のディスプレイ用光学フィルタの製造方法は、まず、表面にメッシュ状の金属導電層が形成された長尺状の透明フィルムの走行下、前記金属導電層上にハードコート層形成用塗工液を間欠塗工することにより、ハードコート層を間欠的に形成する工程を実施する。長尺状の透明フィルムを走行させるには、例えば、図１に示すように、ロール・トゥー・ロール方式などを用いて行うことができる。 In the method for producing an optical filter for display according to the present invention, first, a coating liquid for forming a hard coat layer is formed on the metal conductive layer while running on a long transparent film having a mesh-like metal conductive layer formed on the surface. The process of forming a hard-coat layer intermittently is implemented by carrying out intermittent coating. In order to run the long transparent film, for example, as shown in FIG. 1, a roll-to-roll method or the like can be used.
すなわち、本発明の方法では、まず、表面にメッシュ状の金属導電層（図示せず）が形成された長尺状の透明フィルム１０１を巻き取ったロール１００から透明フィルム１０１を引き出し、透明フィルム１０１の走行下、メッシュ状の金属導電層上にハードコート層形成用塗工液を塗工装置１１０により間欠塗工することでハードコート層１０３を間欠的に形成する工程を実施する（図１（ａ））。その後、前記ハードコート層１０３が形成された金属導電層を有する透明フィルムを巻き取ったロール１０５から透明フィルム１０６を引き出し、ハードコート層１０３と同様にして、透明フィルム１０６の走行下に、反射防止層形成用塗工液を塗工装置１２０による間欠塗工により、前記ハードコート層１０３上に反射防止層１０４を形成する工程を実施する（図１（ｂ））。
That is, in the method of the present invention, first, the
このような本発明の方法によれば、所定の長さを有する金属導電層が形成された透明フィルムを枚葉化する前に、ハードコート層及び反射防止層を形成するため、従来の枚葉塗工法に比べて生産性を非常に高く向上させることができる。 According to the method of the present invention as described above, since the hard coat layer and the antireflection layer are formed before the transparent film on which the metal conductive layer having a predetermined length is formed, the conventional single wafer is formed. Productivity can be improved significantly compared to the coating method.
また、本発明の方法では、メッシュ状の金属導電層上にハードコート層及び反射防止層を間欠塗工する際に塗工部位を調整することによって、ハードコート層及び反射防止層の周辺部にメッシュ状の金属導電層を容易に露出させる。すなわち、本発明の方法により得られたディスプレイ用光学フィルタの上面図を示す図３（ａ）、及び図３（ａ）のＡＡ'における断面図を示す図３（ｂ）のように、本発明の方法により得られたディスプレイ用光学フィルタは、所定の長さを有する透明フィルム３０１上に、ハードコート層３０３及び反射防止層３０４の間と、前記透明フィルムの走行方向（矢印ａ）の両端部とにメッシュ状の金属導電層３０２を露出させる。このような塗工部位の調整は、間欠塗工時に容易且つ高精度で行うことができる。このようにメッシュ状の金属導電層を露出させることで、メッシュ状の金属導電層を折り曲げたり露出させたりする特別な接地作業を必要とせず、電子ディスプレイ本体にアースを設置することが可能となる。
Further, in the method of the present invention, by adjusting the coating portion when intermittently applying the hard coat layer and the antireflection layer on the mesh-like metal conductive layer, the peripheral portion of the hard coat layer and the antireflection layer is adjusted. The mesh metal conductive layer is easily exposed. That is, as shown in FIG. 3 (a) showing a top view of a display optical filter obtained by the method of the present invention, and FIG. 3 (b) showing a cross-sectional view along AA ′ in FIG. The optical filter for display obtained by the method is provided on the
以下、本発明の方法について、順を追ってより詳細に説明する。 Hereinafter, the method of the present invention will be described in detail in order.
（ハードコート層）
本発明の方法では、まず、表面にメッシュ状の金属導電層が形成された長尺状の透明フィルムの走行下、前記金属導電層上にハードコート層形成用塗工液を間欠塗工することにより、走行方向に間欠的に且つ走行方向における両端部に前記金属導電層が帯状に露出するようにハードコート層を形成する工程を実施する。
(Hard coat layer)
In the method of the present invention, first, a coating solution for forming a hard coat layer is intermittently applied on the metal conductive layer while traveling on a long transparent film having a mesh-like metal conductive layer formed on the surface. Thus, a step of forming a hard coat layer so that the metal conductive layer is exposed in a strip shape intermittently in the traveling direction and at both ends in the traveling direction is performed.
前記間欠塗工は、例えば、メッシュ状の金属導電層上の所定の区間にハードコート層形成用塗工液を塗工した後、所定の区間には一切、塗工せず、この塗工区間と無塗工区間とを繰り返すことにより行われる。このように間欠塗工によれば、透明フィルムの走行方向において間欠的にハードコート層を形成することができ、形成されたハードコート層の間に金属導電層を露出させることが容易且つ高精度でできる。さらに、間欠塗工時にハードコート層の幅方向の塗工区間を調整することによって、前記透明フィルムの走行方向の両端部にも金属導電層が帯状に露出している区間を容易に且つ高精度で形成することができる。 The intermittent coating is performed, for example, by applying a hard coat layer forming coating solution to a predetermined section on the mesh-like metal conductive layer, and then applying no coating to the predetermined section. And by repeating the uncoated section. As described above, according to the intermittent coating, the hard coat layer can be intermittently formed in the traveling direction of the transparent film, and the metal conductive layer can be easily exposed between the formed hard coat layers with high accuracy. You can do it. Furthermore, by adjusting the width-direction coating section of the hard coat layer during intermittent coating, the section where the metal conductive layer is exposed in a strip shape at both ends in the running direction of the transparent film can be easily and highly accurate. Can be formed.
前記ハードコート層としては、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂などの熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂を含む層が挙げられる。なお、本発明において、ハードコート層とは、ＪＩＳ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験でＨ以上の硬度を有するものをいう。 Examples of the hard coat layer include a layer containing a thermosetting resin such as an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, or a silicon resin, and an ultraviolet curable resin. In the present invention, the hard coat layer means a layer having a hardness of H or more in a pencil hardness test specified by JIS 5600-5-4 (1999).
前記ハードコート層を形成するには、前記樹脂または前記樹脂のモノマーもしくはオリゴマーの他、必要に応じて、無機系帯電防止粒子、光重合開始剤などの反応開始剤及びトルエンなどの溶剤等を含むハードコート層形成用塗工液を間欠塗工する方法が用いられる。その後、加熱、電子線または紫外線の照射により硬化させるのが好ましい。また、加熱、電子線または紫外線の照射により硬化させる場合には、後述する反射防止層の硬化と同時に行っても良い。 In order to form the hard coat layer, in addition to the resin or the monomer or oligomer of the resin, if necessary, a reaction initiator such as inorganic antistatic particles and a photopolymerization initiator, a solvent such as toluene, and the like are included. A method of intermittently applying the hard coat layer forming coating solution is used. Thereafter, it is preferably cured by heating, electron beam or ultraviolet irradiation. Moreover, when curing by heating, electron beam or ultraviolet irradiation, it may be performed simultaneously with curing of the antireflection layer described later.
前記塗工液を間欠塗工するには、従来公知の方法を用いて行えばよい。具体的には、ディッピング、バーコート、ブレードコート、ナイフコート、リバースロールコート、グラビアロールコート、スクイズコート、カーテンコート、スプレイコート、ダイコートなどの方法が用いられる。なかでも、幅方向の均一性や、塗布面の平滑性に優れることから、ダイコート法を用いるのが好ましい。ダイコート法としてより具体的には、スロットダイ、バキューム式スロットダイなどが好ましい。 In order to intermittently apply the coating solution, a conventionally known method may be used. Specifically, methods such as dipping, bar coating, blade coating, knife coating, reverse roll coating, gravure roll coating, squeeze coating, curtain coating, spray coating, and die coating are used. Of these, the die coating method is preferably used because of excellent uniformity in the width direction and smoothness of the coated surface. More specifically, the die coating method is preferably a slot die, a vacuum slot die, or the like.
前記間欠塗工は、前記透明フィルムを１〜１００ｃｍ／秒、特に８〜３０ｃｍ／秒の走行速度で引き出しながら行うのが好ましい。これにより、間欠塗工時に均一な厚さを有するハードコート層を所望の位置に精度よく塗工することができ、表面平滑性に優れるディスプレイ用光学フィルタを作製することが可能となる。 The intermittent coating is preferably performed while pulling out the transparent film at a running speed of 1 to 100 cm / second, particularly 8 to 30 cm / second. As a result, a hard coat layer having a uniform thickness during intermittent application can be applied to a desired position with high accuracy, and an optical filter for display having excellent surface smoothness can be produced.
前記ハードコート層形成用塗工液の粘度は、２５℃において、３〜３５ｍＰａ・ｓ、特に３〜２０ｍＰａ・ｓとするのが好ましい。これにより、間欠塗工時に均一な厚さを有するハードコート層を所望の位置に精度よく塗工することができ、表面平滑性に優れるディスプレイ用光学フィルタを作製することが可能となる。 The viscosity of the hard coat layer forming coating solution is preferably 3 to 35 mPa · s, particularly 3 to 20 mPa · s at 25 ° C. As a result, a hard coat layer having a uniform thickness during intermittent application can be applied to a desired position with high accuracy, and an optical filter for display having excellent surface smoothness can be produced.
また、ハードコート層を形成するために用いられる前記塗工液における各材料を以下に詳述する。 Moreover, each material in the said coating liquid used in order to form a hard-coat layer is explained in full detail below.
ハードコート層に用いられる樹脂のうち、熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などを挙げることができる。 Among the resins used for the hard coat layer, examples of the thermosetting resin include phenol resin, resorcinol resin, urea resin, melamine resin, epoxy resin, acrylic resin, urethane resin, furan resin, and silicon resin.
また、紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４′−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２′−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。 Examples of the ultraviolet curable resin (monomer or oligomer) include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl polyethoxy (meta). ) Acrylate, benzyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, phenyloxyethyl (meth) acrylate, tricyclodecane mono (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, Acryloylmorpholine, N-vinylcaprolactam, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate, o-phenylphenyloxyethyl (meth) acrylate, neopenty Glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol dipropoxy di (meth) acrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethylol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) ) Acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, tris [(meth) acryloxyethyl] isocyanurate, ditrimethylol (Meth) acrylate monomers such as propanetetra (meth) acrylate; polyol compounds (for example, ethylene glycol, propylene glycol, neopentylglycol) 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,9-nonanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, trimethylolpropane, diethylene glycol, dipropylene Polyols such as glycol, polypropylene glycol, 1,4-dimethylolcyclohexane, bisphenol A polyethoxydiol, polytetramethylene glycol, the polyols and succinic acid, maleic acid, itaconic acid, adipic acid, hydrogenated dimer acid, phthalate Polyester polyols which are reaction products of polybasic acids such as acids, isophthalic acid and terephthalic acid, or acid anhydrides thereof, polycaprolactone polyols which are reaction products of the polyols and ε-caprolactone, and the polyols And said polybasic acid Is a reaction product of these acid anhydrides with ε-caprolactone, polycarbonate polyol, polymer polyol, etc.) and organic polyisocyanate (for example, tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′-diisocyanate, Dicyclopentanyl diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,4,4′-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,2′-4-trimethylhexamethylene diisocyanate, etc.) and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate (for example, 2-hydroxyethyl ( (Meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) Acrylate, cyclohexane-1,4-dimethylol mono (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, etc.) (Meth) such as bisphenol type epoxy (meth) acrylate, which is a reaction product of bisphenol type epoxy resin such as polyurethane (meth) acrylate, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin and (meth) acrylic acid which is a reaction product Examples include acrylate oligomers. These compounds can be used alone or in combination. These ultraviolet curable resins may be used as a thermosetting resin together with a thermal polymerization initiator.
本発明の方法において使用するハードコート層形成用塗工液は、間欠塗工後、紫外線を照射するのが好ましい。紫外線照射により塗工したハードコート層形成用塗工液を硬化させることで、透明フィルムとの密着性や耐傷付き性に優れるハードコート層とすることができる。したがって、前記ハードコート層形成用塗工液は、紫外線硬化性塗工液であるのが好ましい。 The coating liquid for forming a hard coat layer used in the method of the present invention is preferably irradiated with ultraviolet rays after intermittent coating. By curing the coating solution for forming a hard coat layer applied by ultraviolet irradiation, a hard coat layer having excellent adhesion to a transparent film and scratch resistance can be obtained. Therefore, the hard coat layer forming coating solution is preferably an ultraviolet curable coating solution.
前記ハードコート層形成用塗工液を紫外線硬化性塗工液とするには、ハードコート層形成用塗工液が上記紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）を含むのが好ましい。また、上記の紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）の内、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。 In order for the hard coat layer forming coating solution to be an ultraviolet curable coating solution, the hard coat layer forming coating solution preferably contains the ultraviolet curable resin (monomer, oligomer). In addition, among the above UV curable resins (monomers, oligomers), mainly hard polyfunctional monomers such as pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc. It is preferable to use it.
ハードコート層は、ディスプレイ表面への埃の付着による視認性の低下を防止するため、無機系帯電防止粒子をさらに含んでいてもよい。前記無機系帯電防止粒子としては、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、リンドープ酸化スズ（ＰＴＯ）、アンチモン酸亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、酸化ルテニウム、酸化レニウム、酸化銀、酸化ニッケル、酸化銅、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｂＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2などが挙げられる。 The hard coat layer may further contain inorganic antistatic particles in order to prevent a decrease in visibility due to dust adhering to the display surface. Examples of the inorganic antistatic particles include tin-doped indium oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), fluorine-doped tin oxide (FTO), phosphorus-doped tin oxide (PTO), zinc antimonate, indium-doped zinc oxide, and ruthenium oxide. , Rhenium oxide, silver oxide, nickel oxide, copper oxide, Sb 2 O 3 , SbO 2 , In 2 O 3 , SnO 2 , ZnO, Al-doped ZnO, TiO 2 and the like.
ハードコート層における無機系帯電防止粒子の含有量は、上述した樹脂１００質量部に対して、０．００１〜１質量部とするのが好ましい。これによりハードコート層の透明性を低下させずに無機系帯電防止粒子を含有させることができる。 The content of the inorganic antistatic particles in the hard coat layer is preferably 0.001 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the resin described above. Thereby, the inorganic antistatic particles can be contained without lowering the transparency of the hard coat layer.
紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４）が好ましい。 Any compound suitable for the properties of the ultraviolet curable resin can be used as the photopolymerization initiator for the ultraviolet curable resin. For example, acetophenone such as 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1 Benzoin series such as benzyl dimethyl ketal, benzophenone, 4-phenylbenzophenone, benzophenone series such as hydroxybenzophenone, thioxanthone series such as isopropylthioxanthone, 2-4-diethylthioxanthone, and other special types include methylphenyl glyoxylate Etc. can be used. Particularly preferably, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1, Examples include benzophenone. These photopolymerization initiators may be optionally selected from one or more known photopolymerization accelerators such as benzoic acid type or tertiary amine type such as 4-dimethylaminobenzoic acid. It can be used by mixing at a ratio. Moreover, it can be used by 1 type, or 2 or more types of mixture of only a photoinitiator. Particularly preferred is 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals).
本発明の方法では、上述したハードコート層形成用塗工液を、間欠塗工した後、図１に示すようにハードコート層形成用紫外線照射装置１１１などにより紫外線を照射する場合、光源としては、紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め積層体を４０〜１２０℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。
In the method of the present invention, after the above-described hard coat layer forming coating liquid is intermittently applied, and then irradiated with ultraviolet rays by the hard coat layer forming
本発明の方法において、メッシュ状の金属導電層上に形成されるハードコート層の形状は、ディスプレイ用光学フィルタの用途に合わせて決定すればよいが、矩形状であるのが好ましい。前記ハードコート層の硬化後の厚さは、０．１〜１００μｍ程度とするのが好ましい。また、前記ハードコート層の屈折率は、１．４８〜１．５５程度とするのが好ましい。 In the method of the present invention, the shape of the hard coat layer formed on the mesh-shaped metal conductive layer may be determined according to the use of the optical filter for display, but is preferably rectangular. The thickness of the hard coat layer after curing is preferably about 0.1 to 100 μm. The refractive index of the hard coat layer is preferably about 1.48 to 1.55.
間欠的に形成されるハードコート層の間に露出させる金属導電層の幅、すなわち図３（ａ）におけるＬ1の長さは、好ましくは２〜５０ｍｍ、より好ましくは５〜２０ｍｍとするのが好ましい。これによりディスプレイ用光学フィルタを電子ディスプレイ本体へアースを確実に行うことができる。 The width of the metal conductive layer exposed between the intermittently formed hard coat layers, that is, the length of L 1 in FIG. 3A is preferably 2 to 50 mm, more preferably 5 to 20 mm. preferable. As a result, the display optical filter can be reliably grounded to the electronic display body.
また、前記透明フィルムの走行方向の両端部に帯状に露出させるハードコート層の幅、すなわち図３（ａ）におけるＬ2の長さは、好ましくは２〜５０ｍｍ、より好ましくは５〜２０ｍｍとするのが好ましい。これによりディスプレイ用光学フィルタを電子ディスプレイ本体へアースを確実に行うことができる。 Further, the width of the hard coat layer exposed in a strip shape at both ends in the running direction of the transparent film, that is, the length of L 2 in FIG. 3A is preferably 2 to 50 mm, more preferably 5 to 20 mm. Is preferred. As a result, the display optical filter can be reliably grounded to the electronic display body.
（反射防止層）
次に、本発明の方法では、上述の通りにして形成したハードコート層が形成された金属導電層上に反射防止層形成用塗工液を間欠塗工することにより、前記ハードコート層上に反射防止層を形成する工程を実施する。
(Antireflection layer)
Next, in the method of the present invention, an antireflection layer-forming coating solution is intermittently applied on the metal conductive layer on which the hard coat layer formed as described above is formed, so that the hard coat layer is formed on the hard coat layer. A step of forming an antireflection layer is performed.
反射防止層は、ハードコート層よりも屈折率が低い低屈折率層が好ましく用いられる。 As the antireflection layer, a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the hard coat layer is preferably used.
前記低屈折率層としては、化学蒸着（ＣＶＤ）および物理蒸着（ＰＶＤ）等の手段により形成された金属酸化物からなる透明薄膜を用いることも可能であるが、生産性の向上の観点から酸化物微粒子およびフッ素樹脂微粒子などの屈折率調整用微粒子を、ポリマー、好ましくは紫外線硬化性樹脂中に分散させた硬化層であるのが好ましい。 As the low refractive index layer, it is possible to use a transparent thin film made of a metal oxide formed by means such as chemical vapor deposition (CVD) and physical vapor deposition (PVD), but it is oxidized from the viewpoint of improving productivity. A cured layer in which fine particles for refractive index adjustment such as fine product particles and fluororesin fine particles are dispersed in a polymer, preferably an ultraviolet curable resin, is preferable.
前記低屈折率層を形成するには、後記する各種成分を含む低屈折率層形成用塗工液を、間欠塗工する方法が用いられる。間欠塗工方法として、具体的には、ハードコート層において上述した方法と同様の方法が用いられる。その後、加熱、電子線または紫外線の照射により硬化させるのが好ましい。 In order to form the low refractive index layer, a method of intermittently applying a low refractive index layer forming coating solution containing various components described later is used. Specifically, as the intermittent coating method, the same method as described above in the hard coat layer is used. Thereafter, it is preferably cured by heating, electron beam or ultraviolet irradiation.
低屈折率層を形成するために用いられる紫外線硬化性樹脂などの樹脂としては、ハードコート層において上述したのと同様のものが用いられる。 As the resin such as an ultraviolet curable resin used for forming the low refractive index layer, the same resin as described above in the hard coat layer is used.
前記酸化物微粒子としては、ジルコニア、チタニア、酸化セレン、および酸化亜鉛が好ましく挙げられる。また、前記フッ素樹脂微粒子としては、ＦＥＴ（フルオロエチレン／プロピレン共重合体）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＥＴＦＥ（エチレン／テトラフルオロエチレン）、ＰＶＦ（ポリフッ化ビニル）、ＰＶＤ（ポリフッ化ビニリデン）などからなるものが挙げられる。 Preferred examples of the oxide fine particles include zirconia, titania, selenium oxide, and zinc oxide. The fluororesin fine particles include FET (fluoroethylene / propylene copolymer), PTFE (polytetrafluoroethylene), ETFE (ethylene / tetrafluoroethylene), PVF (polyvinyl fluoride), PVD (polyvinylidene fluoride). The thing which consists of etc. is mentioned.
低屈折率層における屈折率調整用微粒子の平均粒子径は、１ｎｍ〜１μｍ、好ましくは５〜２００ｎｍとするのがよい。また、前記平均粒子径がこれらの範囲内であれば、屈折率調整用微粒子の添加によって、得られる光学フィルタの巻取性を向上させることができる。なかでも、中空シリカが特に好ましく挙げられる。中空シリカとしては、平均粒子径１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍ、比重０．５〜１．０、好ましくは０．８〜０．９のものが好ましい。 The average particle diameter of the fine particles for refractive index adjustment in the low refractive index layer is 1 nm to 1 μm, preferably 5 to 200 nm. If the average particle diameter is within these ranges, the winding property of the obtained optical filter can be improved by adding fine particles for refractive index adjustment. Among these, hollow silica is particularly preferable. As the hollow silica, those having an average particle diameter of 10 to 100 nm, preferably 10 to 50 nm and specific gravity of 0.5 to 1.0, preferably 0.8 to 0.9 are preferable.
低屈折率層における屈折率調整用微粒子の含有量は、上述した紫外線硬化性樹脂などのバインダ樹脂１００質量部に対して、５〜９０重量部、好ましくは１０〜７０重量部とするのがよい。 The content of fine particles for refractive index adjustment in the low refractive index layer is 5 to 90 parts by weight, preferably 10 to 70 parts by weight, based on 100 parts by weight of the binder resin such as the ultraviolet curable resin described above. .
前記低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．５０、特に１．３０〜１．５０とするのが好ましい。また、前記低屈折率層の厚さは、５０〜４４０ｎｍ、特に５０〜２００ｎｍ程度とするのが好ましい。 The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.20 to 1.50, particularly 1.30 to 1.50. The thickness of the low refractive index layer is preferably about 50 to 440 nm, particularly about 50 to 200 nm.
反射防止層は、上述した低屈折率層のみからなってもよいが、低屈折率層の他に低屈折率層よりも低屈折が高い高屈折率層がさらに設けられてもよい。高屈折率層を形成するには、以下の導電性金属酸化物微粒子を用いる以外は低屈折率層と同様の方法が用いられる。 The antireflection layer may be composed of only the above-described low refractive index layer, but in addition to the low refractive index layer, a high refractive index layer having a lower refractive index than the low refractive index layer may be further provided. In order to form the high refractive index layer, the same method as that for the low refractive index layer is used except that the following conductive metal oxide fine particles are used.
高屈折率層は、樹脂、好ましくは紫外線硬化性樹脂中に、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、リンドープ酸化スズ（ＰＴＯ）、アンチモン酸亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、酸化ルテニウム、酸化レニウム、酸化銀、酸化ニッケル、酸化銅、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｂＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2等の導電性金属酸化物微粒子（無機化合物）を屈折率調整用微粒子として分散させた層であるのが好ましい。 The high refractive index layer is formed of a resin, preferably an ultraviolet curable resin, in tin-doped indium oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), fluorine-doped tin oxide (FTO), phosphorus-doped tin oxide (PTO), or zinc antimonate. Indium-doped zinc oxide, ruthenium oxide, rhenium oxide, silver oxide, nickel oxide, copper oxide, Sb 2 O 3 , SbO 2 , In 2 O 3 , SnO 2 , ZnO, Al-doped ZnO, TiO 2, etc. A layer in which fine metal oxide fine particles (inorganic compounds) are dispersed as fine particles for refractive index adjustment is preferred.
高屈折率層における導電性金属酸化物微粒子の平均粒子径は、１０〜１００００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍとするのがよい。 The average particle diameter of the conductive metal oxide fine particles in the high refractive index layer is 10 to 10,000 nm, preferably 10 to 50 nm.
高屈折率層は、屈折率を１．６以上、特に１．６４以上としたものが好適である。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。 The high refractive index layer preferably has a refractive index of 1.6 or more, particularly 1.64 or more. The film thickness is generally in the range of 10 to 500 nm, preferably 20 to 200 nm.
低屈折率層と高屈折率層とを有する反射防止層において、これらの積層順序及び積層数は特に制限されず目的に応じて決定すればよいが、生産性向上の観点から、ハードコート層上に高屈折率層及び低屈折率層がこの順で積層されてなる反射防止層が好ましい。この場合、低屈折率層の屈折率は、高屈折率層の屈折率よりも低い値とする。 In the antireflection layer having a low refractive index layer and a high refractive index layer, the order of lamination and the number of laminations are not particularly limited and may be determined according to the purpose, but from the viewpoint of improving productivity, on the hard coat layer. Further, an antireflection layer in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are laminated in this order is preferable. In this case, the refractive index of the low refractive index layer is set to a value lower than the refractive index of the high refractive index layer.
なお、製造工程の簡略化及び材料費の削減の観点から、反射防止層は低屈折率層のみからなるのが好ましい。 In addition, it is preferable that an antireflection layer consists only of a low refractive index layer from a viewpoint of simplification of a manufacturing process and reduction of material cost.
反射防止層を形成する際に、間欠塗工は、前記透明フィルムを１〜１００ｃｍ／秒、特に８〜３０ｃｍ／秒の走行速度で引き出しながら行うのが好ましい。これにより、間欠塗工時に均一な厚さを有する反射防止層を所望の位置に精度よく塗工することができ、表面平滑性に優れるディスプレイ用光学フィルタを作製することが可能となる。 When forming the antireflection layer, the intermittent coating is preferably performed while pulling out the transparent film at a running speed of 1 to 100 cm / second, particularly 8 to 30 cm / second. Thereby, the antireflection layer having a uniform thickness at the time of intermittent application can be applied to a desired position with high accuracy, and an optical filter for display having excellent surface smoothness can be produced.
本発明において、上述した低屈折率層及び高屈折率層など反射防止層の形成のために用いられる塗工液（反射防止層形成用塗工液）の粘度は、２５℃において、３〜３５ｍＰａ・ｓ、特に３〜２０ｍＰａ・ｓとするのが好ましい。このような範囲内の粘度を有する塗工液によれば、間欠塗工時に均一な厚さを有する反射防止層を所望の位置に精度よく塗工することができ、表面平滑性に優れるディスプレイ用光学フィルタを作製することが可能となる。 In the present invention, the viscosity of the coating liquid (antireflection layer forming coating liquid) used for forming the antireflection layer such as the low refractive index layer and the high refractive index layer described above is 3 to 35 mPa at 25 ° C. · S, preferably 3 to 20 mPa · s. According to the coating liquid having a viscosity in such a range, an antireflection layer having a uniform thickness can be accurately applied at a desired position during intermittent coating, and the display has excellent surface smoothness. An optical filter can be manufactured.
反射防止層形成用塗工液の間欠塗工は、ハードコート層形成用塗工液を間欠塗工した部位と同じ部位に行われるのが好ましい。 The intermittent coating of the antireflection layer forming coating solution is preferably performed at the same site as the site where the hard coating layer forming coating solution is intermittently applied.
本発明の方法において使用する反射防止層形成用塗工液は、間欠塗工後、紫外線を照射するのが好ましい。紫外線照射により反射防止層形成用塗工液を硬化させることにより、ハードコート層との密着性に優れる反射防止とすることができる。 The antireflection layer-forming coating solution used in the method of the present invention is preferably irradiated with ultraviolet rays after intermittent coating. By curing the coating liquid for forming an antireflection layer by irradiation with ultraviolet rays, it is possible to prevent reflection with excellent adhesion to the hard coat layer.
したがって、前記反射防止層形成用塗工液は、紫外線硬化性塗工液であるのが好ましい。前記反射防止層形成用塗工液を紫外線硬化性塗工液とするには、反射防止層形成用塗工液が上記紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）を含むのが好ましい。また、上記の紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）の内、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。 Therefore, the antireflection layer forming coating solution is preferably an ultraviolet curable coating solution. In order to use the antireflection layer forming coating solution as an ultraviolet curable coating solution, the antireflection layer forming coating solution preferably contains the ultraviolet curable resin (monomer or oligomer). In addition, among the above UV curable resins (monomers, oligomers), mainly hard polyfunctional monomers such as pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc. It is preferable to use it.
また、上述した反射防止層形成用塗工液を間欠塗工した後、図１に示すように反射防止層形成用紫外線照射装置１２１により紫外線を照射して硬化させる場合、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、具体的にはハードコート層において上述したのと同様な手段を用いることができる。
In addition, after intermittently applying the above-described antireflection layer forming coating solution, as shown in FIG. 1, when ultraviolet rays are irradiated and cured by an antireflection layer forming
本発明の方法では、メッシュ状の金属導電層上にハードコート層及び反射防止層を形成する際に少なくとも一部にロール・トゥー・ロール方式を用いて行うのが好ましい。例えば、図１に示すように、透明フィルム１０１上の金属導電層にハードコート層１０３を形成した後、透明フィルム１０１を巻き取ってロール１０５とし（図１（ａ））、このロール１０５から再度、透明フィルム１０６を引き出してハードコート層１０３上に反射防止層１０４を形成する（図１（ｂ））方法などが用いられる。
In the method of the present invention, it is preferable to use at least a part of the roll-to-roll method when forming the hard coat layer and the antireflection layer on the mesh-like metal conductive layer. For example, as shown in FIG. 1, after forming a
このようにロール・トゥー・ロール方式を用いて行う場合、ハードコート層を形成する工程と、反射防止層を形成する工程とは別々に行ってもよいが、これらの工程を連続させて行ってもよい。例えば、図２に示すように、透明フィルム２０１上の金属導電層（図示せず）にハードコート層２０３を形成した後、透明フィルム２０１を巻き取らずに続けて、ハードコート層２０３上に反射防止層２０４を形成する方法も用いられる。このような方法によれば、より製造工程を簡略化することが可能となる。
When performing using the roll-to-roll method as described above, the step of forming the hard coat layer and the step of forming the antireflection layer may be performed separately, but these steps are performed continuously. Also good. For example, as shown in FIG. 2, after forming a
（メッシュ状の金属導電層）
本発明の方法では、上述したハードコート層及び反射防止層は、透明フィルム上に好ましくは連続的に形成されたメッシュ状の金属導電層上に形成される。前記メッシュ状の金属導電層としては、（１）金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属をメッシュ状にしたもの、（２）透明フィルム上の銅箔等の金属箔をエッチング加工し、開口部を設けてメッシュ状にしたもの、（３）透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの（例、金属粒子含有樹脂層）などを挙げることができる。
(Mesh-like metal conductive layer)
In the method of the present invention, the above-described hard coat layer and antireflection layer are preferably formed on a mesh-like metal conductive layer formed continuously on a transparent film. As the mesh-shaped metal conductive layer, (1) a metal fiber and metal-coated organic fiber metal meshed, (2) a metal foil such as a copper foil on a transparent film is etched to form an opening. Examples thereof include those provided in a mesh form, and (3) those obtained by printing a conductive ink in a mesh form on a transparent film (eg, a metal particle-containing resin layer).
連続的に形成されたメッシュ状の金属導電層を有する透明フィルムのロールは、市販されているものを直接、用いてもよい他、ハードコート層及び反射防止層を形成する工程に先立って、透明フィルム上に連続的にメッシュ状の金属導電層を作製したものを巻き取る工程を行うことにより得られたロールを用いることもできる。 The roll of the transparent film having the mesh-like metal conductive layer formed continuously may be a commercially available one, or may be transparent prior to the step of forming the hard coat layer and the antireflection layer. It is also possible to use a roll obtained by performing a step of winding up a continuous metal mesh layer produced on a film.
前記（１）の金属導電層を透明フィルム上に作製する場合、金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属を網状にしたものを別途、作製した後に、前記透明フィルム上に加熱加圧する手段などが用いられる。 When the metal conductive layer of (1) is produced on a transparent film, a means for heating and pressurizing the metal film and metal-coated organic fiber on the transparent film after separately producing a metal-like metal mesh is used. It is done.
前記（１）の金属導電層を構成する金属繊維及び金属被覆有機繊維の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、炭素或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルが用いられる。金属被覆有機繊維の有機材料としては、ポリエステル、ナイロン、塩化ビニリデン、アラミド、ビニロン、セルロース等が用いられる。 As the metal of the metal fiber and metal-coated organic fiber constituting the metal conductive layer of (1), copper, stainless steel, aluminum, nickel, titanium, tungsten, tin, lead, iron, silver, carbon or an alloy thereof, preferably Copper, stainless steel and nickel are used. As the organic material for the metal-coated organic fiber, polyester, nylon, vinylidene chloride, aramid, vinylon, cellulose and the like are used.
前記（２）の金属導電層の場合、金属箔の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。 In the case of the metal conductive layer (2), the metal of the metal foil is copper, stainless steel, aluminum, nickel, iron, brass, or an alloy thereof, preferably copper, stainless steel, or aluminum.
金属箔は一般的に気相成膜法により形成される。その形成方法としては、特に制限はないが、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等の気相製膜法や、印刷、塗工等が挙げることができるが、気相成膜法（スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着）が好ましい。 The metal foil is generally formed by a vapor deposition method. The formation method is not particularly limited, and examples thereof include vapor deposition methods such as sputtering, ion plating, electron beam vapor deposition, vacuum vapor deposition, and chemical vapor deposition, and printing and coating. A film forming method (sputtering, ion plating, electron beam vapor deposition, vacuum vapor deposition, chemical vapor deposition) is preferable.
前記（３）の金属導電層の場合には、次のような導電性インキを用い、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、静電印刷法等により透明フィルムの表面に連続的に印刷することにより作製できる。 In the case of the metal conductive layer of (3) above, it is produced by continuously printing on the surface of a transparent film by screen printing, ink jet printing, electrostatic printing or the like using the following conductive ink. it can.
具体的には、粒径１００μｍ以下のカーボンブラック粒子、或いは銅、アルミニウム、ニッケル等の金属又は合金の粒子等の導電性粒子を５０〜９０重量％濃度でＰＭＭＡ、ポリ酢酸ビニル、エポキシ樹脂等のバインダ樹脂に分散させたものである。このインクは、トルエン、キシレン、塩化メチレン、水等の溶媒に適当な濃度に希釈または分散させて透明フィルムの板面に印刷により塗布し、その後、必要に応じ室温〜１２０℃で乾燥させ透明フィルム上に塗着させる。上記と同様の導電性材料の粒子をバインダ樹脂で覆った粒子を静電印刷法により直接塗布し熱等で固着させる方法も用いられる。塗着後、必要に応じて乾燥し、紫外線を照射することにより得られる。 Specifically, carbon black particles having a particle diameter of 100 μm or less, or conductive particles such as particles of metals or alloys such as copper, aluminum, nickel, etc., such as PMMA, polyvinyl acetate, and epoxy resin at a concentration of 50 to 90% by weight. Dispersed in a binder resin. This ink is diluted or dispersed at a suitable concentration in a solvent such as toluene, xylene, methylene chloride, water, etc., and applied to the surface of the transparent film by printing, and then dried at room temperature to 120 ° C. as necessary. Apply on top. A method in which the same conductive material particles as those described above are covered with a binder resin is directly applied by electrostatic printing and fixed by heat or the like. After coating, it is obtained by drying as necessary and irradiating with ultraviolet rays.
前記導電性粒子を構成する無機化合物としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金；或いはＩＴＯ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ、いわゆるインジウムドープ酸化スズ）、酸化スズ−酸化アンチモン（ＡＴＯ、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ）、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＺＡＯ；いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛）等の導電性酸化物等を挙げることができる。特に、ＩＴＯが好ましい。平均粒径は１０〜１００００ｎｍ、特に１０〜５０ｎｍが好ましい。 Examples of the inorganic compound constituting the conductive particles include metals, alloys such as aluminum, nickel, indium, chromium, gold, vanadium, tin, cadmium, silver, platinum, copper, titanium, cobalt, and lead; or ITO, Indium oxide, tin oxide, zinc oxide, indium oxide-tin oxide (ITO, so-called indium-doped tin oxide), tin oxide-antimony oxide (ATO, so-called antimony-doped tin oxide), zinc oxide-aluminum oxide (ZAO; so-called aluminum dope) Examples thereof include conductive oxides such as zinc oxide). In particular, ITO is preferable. The average particle size is preferably 10 to 10,000 nm, particularly preferably 10 to 50 nm.
前記バインダ樹脂としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。 Examples of the binder resin include acrylic resin, polyester resin, epoxy resin, urethane resin, phenol resin, maleic acid resin, melamine resin, urea resin, polyimide resin, and silicon-containing resin. Furthermore, it is preferable that it is a thermosetting resin among these resins.
上述した（１）〜（３）の金属導電層の他にも、（４）透明フィルム上に、溶剤に対して可溶な材料によってドットを形成した後、溶剤に対して不溶な導電材料からなる導電材料層を形成し、フィルム面を溶剤と接触させてドット及びドット上の導電材料層を除去することによりメッシュ状にした金属導電層などを用いることもできる。これは、例えば、特開２００１−３３２８８９号公報に開示された方法を用いて実施することができる。 In addition to the metal conductive layers (1) to (3) described above, (4) after forming dots on a transparent film with a material soluble in a solvent, the conductive material insoluble in the solvent It is also possible to use a metal conductive layer formed into a mesh shape by forming a conductive material layer to be formed and removing the dots and the conductive material layer on the dots by bringing the film surface into contact with a solvent. This can be performed using, for example, the method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2001-332889.
メッシュ状の金属導電層のメッシュパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の開口部が形成された格子状の印刷膜や、円形、六角形、三角形又は楕円形の開口部が形成されたパンチングメタル状の印刷膜等が挙げられる。また、開口部は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。 There is no particular limitation on the shape of the mesh pattern of the mesh-shaped metal conductive layer. For example, a lattice-shaped printed film having a square opening or a circular, hexagonal, triangular, or elliptical opening is formed. For example, a punched metal-like printed film. Further, the openings are not limited to those regularly arranged, and may be a random pattern.
また、金属導電層のメッシュとしては、５〜５０μｍの線幅を有し、開口率７０〜９５％のものが好ましい。より好ましい線幅は５〜４０μｍ、開口率は７５〜９０％である。このようなメッシュ状の金属導電層であれば、電磁波シールド性及び光透過性に優れ、間欠塗工によりハードコート層及び金属導電層を形成しても凹凸の発生が抑制されたディスプレイ用光学フィルタを形成することができる。 The mesh of the metal conductive layer preferably has a line width of 5 to 50 μm and an aperture ratio of 70 to 95%. A more preferable line width is 5 to 40 μm, and an aperture ratio is 75 to 90%. With such a mesh-like metal conductive layer, an optical filter for display excellent in electromagnetic wave shielding properties and light transmission properties, and generation of irregularities is suppressed even when a hard coat layer and a metal conductive layer are formed by intermittent coating. Can be formed.
なお、導電性メッシュの開口率とは、当該導電性メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。 The opening ratio of the conductive mesh refers to the area ratio occupied by the opening portion in the projected area of the conductive mesh.
ディスプレイ用光学フィルタは、電子ディスプレイ表面の意匠性及び視認性を向上させるために表面が平滑であるのが好ましい。したがって、本発明の方法において、金属導電層の厚さを、ハードコート層及び反射防止層の合計の厚さよりも薄くするのが好ましい。これにより、高い透明性を確保しつつ、凹凸の発生が抑制された平滑性に優れるディスプレイ用光学フィルタを得ることができる。 The optical filter for display preferably has a smooth surface in order to improve the design and visibility of the electronic display surface. Therefore, in the method of the present invention, it is preferable to make the thickness of the metal conductive layer thinner than the total thickness of the hard coat layer and the antireflection layer. As a result, it is possible to obtain an optical filter for display excellent in smoothness in which generation of irregularities is suppressed while ensuring high transparency.
また、ディスプレイ用光学フィルタの表面の平滑性を向上させる観点から、金属導電層の厚さを、０．１〜１０μｍ、好ましくは０．５〜８μｍ、特に好ましくは０．５〜５μｍとするのがよい。これにより、ディスプレイ用光学フィルタの表面の優れた平滑性を確保するとともに、ディスプレイ用光学フィルタを巻き取る際にクラック、巻ぐせやシワの発生を抑制することができる。 Further, from the viewpoint of improving the smoothness of the surface of the optical filter for display, the thickness of the metal conductive layer is set to 0.1 to 10 μm, preferably 0.5 to 8 μm, particularly preferably 0.5 to 5 μm. Is good. Thereby, while ensuring the outstanding smoothness of the surface of the optical filter for displays, when winding up the optical filter for displays, generation | occurrence | production of a crack, winding, and a wrinkle can be suppressed.
本発明の方法では、透明フィルム上に作製したメッシュ状の金属導電層をさらに低い抵抗値にして、電磁波シールド効果を向上させたい場合は、メッシュ状の金属導電層上に金属メッキ層を形成することが好ましい。 In the method of the present invention, when a mesh-like metal conductive layer produced on a transparent film is to have a lower resistance value and to improve the electromagnetic shielding effect, a metal plating layer is formed on the mesh-like metal conductive layer. It is preferable.
金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、これらは単独で使用しても、２種以上の合金として使用しても良い。好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。 The metal plating layer can be formed by a known electrolytic plating method or electroless plating method. Generally, copper, copper alloy, nickel, silver, gold, zinc or tin can be used as the metal used for plating. These can be used alone or as two or more kinds of alloys. You may do it. Copper, copper alloy, silver, or nickel is preferable, and copper or copper alloy is particularly preferably used from the viewpoint of economy and conductivity.
また、メッシュ状の金属導電層には防眩性能を付与させても良い。そのため、本発明の方法では、金属導電層に黒化処理を行う工程により、金属導電層の表面に黒化処理層を設けることにより行っても良い。例えば、金属導電層の酸化処理、硫化処理、クロム合金等の黒色メッキ、又は黒もしくは暗色系のインクの塗布等により行うことができる。なかでも、黒化処理としては、酸化処理及び硫化処理が好ましい。 Further, the mesh-shaped metal conductive layer may be provided with antiglare performance. Therefore, in the method of this invention, you may carry out by providing a blackening process layer on the surface of a metal conductive layer by the process of performing a blackening process to a metal conductive layer. For example, it can be performed by oxidation treatment of the metal conductive layer, sulfurization treatment, black plating of chromium alloy or the like, or application of black or dark ink. Among these, as the blackening treatment, oxidation treatment and sulfurization treatment are preferable.
前記黒化処理として酸化処理を行う場合には、黒化処理液として、一般には次亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液、亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液、ペルオキソ二硫酸と水酸化ナトリウムの混合水溶液等を使用することが可能であり、特に経済性の点から、次亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液、又は亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液を使用することが好ましい。 When the oxidation treatment is performed as the blackening treatment, the blackening treatment liquid is generally a mixed aqueous solution of hypochlorite and sodium hydroxide, a mixed aqueous solution of chlorite and sodium hydroxide, peroxodisulfuric acid, It is possible to use a mixed aqueous solution of sodium hydroxide, etc. Especially from the economical point of view, a mixed aqueous solution of hypochlorite and sodium hydroxide or a mixed aqueous solution of chlorite and sodium hydroxide is used. It is preferable to do.
前記黒化処理として硫化処理を行う場合には、黒化処理液として、一般には硫化カリウム、硫化バリウム及び硫化アンモニウム等の水溶液を使用することが可能であり、好ましくは、硫化カリウム及び硫化アンモニウムであり、特に低温で使用可能である点から、硫化アンモニウムを使用することが好ましい。 In the case of performing sulfurization treatment as the blackening treatment, it is generally possible to use an aqueous solution such as potassium sulfide, barium sulfide and ammonium sulfide as the blackening treatment liquid, preferably potassium sulfide and ammonium sulfide. In particular, ammonium sulfide is preferably used because it can be used at a low temperature.
黒化処理層の厚さは、特に制限されないが、０．０１〜１μｍ、好ましくは０．０１〜０．５μｍとするのがよい。前記厚さが、０．０１μｍ未満であると、光の防眩効果が充分でない恐れがあり、１μｍを超えると、斜視した際の見かけ上の開口率が低下する恐れがある。 The thickness of the blackening treatment layer is not particularly limited, but is 0.01 to 1 μm, preferably 0.01 to 0.5 μm. If the thickness is less than 0.01 μm, the antiglare effect of light may not be sufficient, and if it exceeds 1 μm, the apparent aperture ratio when viewed from the perspective may be reduced.
（透明フィルム）
上述したメッシュ状の金属導電層が形成される透明フィルムとしては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はないが、一般にプラスチックフィルムが使用される。例えば、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。特に、ＰＥＴが、加工性に優れているので好ましい。
(Transparent film)
The transparent film on which the mesh-like metal conductive layer is formed is not particularly limited as long as it is transparent (meaning “transparent to visible light”), but a plastic film is generally used. For example, polyester {eg, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate}, polymethyl methacrylate (PMMA), acrylic resin, polycarbonate (PC), polystyrene, triacetate resin, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyethylene, Examples thereof include ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral, metal ion crosslinked ethylene-methacrylic acid copolymer, polyurethane, cellophane and the like. Among these, polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), etc. are highly resistant to loads during processing (heat, solvent, bending, etc.) and particularly highly transparent. preferable. In particular, PET is preferable because it has excellent processability.
透明フィルムの厚さは、光学フィルタの用途等によっても異なるが、一般に１μｍ〜１０ｍｍ、１μｍ〜５ｍｍ、特に２５〜２５０μｍが好ましい。 The thickness of the transparent film varies depending on the use of the optical filter and the like, but is generally 1 μm to 10 mm, 1 μm to 5 mm, particularly preferably 25 to 250 μm.
（透明粘着剤層）
本発明の方法では、透明フィルムのメッシュ状の金属導電層などが形成された面とは逆の面に透明粘着剤層を形成する工程をさらに有していてもよい。透明粘着剤層は、本発明のディスプレイ用光学フィルタを電子ディスプレイに接着するための層であり、接着機能を有する樹脂を含む層などが挙げられる。
(Transparent adhesive layer)
In the method of this invention, you may have further the process of forming a transparent adhesive layer in the surface on the opposite side to the surface in which the mesh-shaped metal conductive layer etc. of the transparent film were formed. A transparent adhesive layer is a layer for adhere | attaching the optical filter for displays of this invention to an electronic display, and the layer containing resin which has an adhesive function etc. are mentioned.
透明接着剤層を形成するには、前記樹脂の他、必要に応じて添加剤を混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形したものを、透明フィルムに貼着すればよい。 In order to form a transparent adhesive layer, in addition to the resin, additives are mixed as necessary, kneaded with an extruder, roll, etc., and then formed by a film forming method such as calendar, roll, T-die extrusion, inflation, etc. What is necessary is just to stick what was sheet-formed by the predetermined shape to a transparent film.
透明接着剤層に用いられる前記樹脂としては、例えば、ブチルアクリレート等から形成されたアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）を主成分とするＴＰＥ系粘着剤及び接着剤等も用いることができる。 Examples of the resin used for the transparent adhesive layer include an acrylic adhesive formed from butyl acrylate, a rubber adhesive, SEBS (styrene / ethylene / butylene / styrene), and SBS (styrene / butadiene / styrene). It is also possible to use TPE-based pressure-sensitive adhesives and adhesives mainly composed of a thermoplastic elastomer (TPE).
透明粘着材層の厚さは、一般に５〜５００μｍ、特に１０〜１００μｍの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。 The thickness of the transparent adhesive layer is generally 5 to 500 μm, particularly preferably 10 to 100 μm. In general, the optical filter can be equipped by heat-pressing the pressure-sensitive adhesive layer to a glass plate of a display.
本発明の方法において、透明フィルム上にメッシュ状の金属導電層、ハードコート層及び反射防止層を形成した後は、透明フィルムを図３（ｂ）において点線で示すように、ハードコート層及び反射防止層の間で裁断して枚葉化することによって、ディスプレイ用光学フィルタとすることができる。 In the method of the present invention, after forming the mesh-like metal conductive layer, hard coat layer and antireflection layer on the transparent film, as shown by the dotted line in FIG. By cutting between the prevention layers into a single sheet, a display optical filter can be obtained.
また、図１及び図２に示すように、金属導電層、ハードコート層及び反射防止層を形成された透明フィルムを、裁断せずにロール状に巻き取ってディスプレイ用光学フィルタロール１０７、２０７とすることができる。このようなディスプレイ用光学フィルタロールは、ディスプレイ用光学フィルタを使用する際に、前記ロールからディスプレイ用光学フィルタを裁断して枚葉化すればよい。ディスプレイ用光学フィルタロールとすることにより、輸送時や保管時の取り扱い性を向上させることができる。 Further, as shown in FIGS. 1 and 2, the transparent film on which the metal conductive layer, the hard coat layer, and the antireflection layer are formed is wound up into a roll shape without cutting, and the optical filter rolls 107 and 207 for display are used. can do. Such an optical filter roll for display may be formed into a single sheet by cutting the optical filter for display from the roll when the optical filter for display is used. By using the optical filter roll for display, handling properties during transportation and storage can be improved.
また、金属導電層、ハードコート層及び反射防止層を形成された透明フィルムは、図１及び図２に示す実施形態に限定されず、ディスプレイ用光学フィルタロール１０７、２０７のようにロール状に巻き取らずに裁断して枚葉化することにより、ディスプレイ用光学フィルタとしてもよい。 Further, the transparent film on which the metal conductive layer, the hard coat layer, and the antireflection layer are formed is not limited to the embodiment shown in FIGS. 1 and 2, and is wound into a roll like the display optical filter rolls 107 and 207. It is good also as an optical filter for a display by cut | judging and making a sheet without taking.
上述した本発明の方法により得られるディスプレイ用光学フィルタは、ディスプレイの画像表示ガラス板の表面に透明粘着層を介して貼り合わされて使用されるのが好ましい。ディスプレイとしては、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）、及びＣＲＴディスプレイなどが挙げられる。 The optical filter for display obtained by the above-described method of the present invention is preferably used by being bonded to the surface of the image display glass plate of the display via a transparent adhesive layer. Examples of the display include a field emission display (FED) including a surface electric field display (SED), a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), a flat panel display (FPD) such as an EL display, and a CRT display. Can be mentioned.
以下、本発明を実施例により説明する。本発明は、以下の実施例により制限されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples. The present invention is not limited by the following examples.
なお、以下において、各塗工液の粘度の測定は、Ｒ１００型粘度計（東機産業社製）を用いて、２５℃、コーンの回転数２０ｒｐｍの条件下で行った。 In the following, the viscosity of each coating solution was measured using an R100 viscometer (manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.) under the conditions of 25 ° C. and cone rotation speed of 20 rpm.
（実施例１）
１．メッシュ状の金属導電層の作製
ポリビニルアルコール樹脂（分子量３０００）と硫酸バリウムの混合物（質量比 ポリビニルアルコール樹脂：硫酸バリウム＝２：１）を、水とメタノールの混合溶液（質量比 水：メタノール＝１：４）に溶解して、固形分量３０ｗｔ％のポリビニルアルコール樹脂塗工液（２５℃：粘度３０００ｍＰａ・ｓ）を調製した。この塗工液をインクとして用いて、ＰＥＴフィルムロール（ＰＥＴフィルム：長さ１００００ｍｍ、幅７８０ｍｍ、厚さ２５０μｍ）からＰＥＴフィルムを引き出し、グラビア印刷により正方形のドットを印刷した。これを乾燥後に銅を真空蒸着して、厚さ０．１μｍの銅層を得た。次いで、常温の水でドット部分を溶解除去し、水洗の後に乾燥して、メッシュ状の銅層（金属導電層；厚さ０．１μｍ）が形成された透明フィルムを巻芯に巻き取った。
(Example 1)
1. Preparation of mesh-shaped metal conductive layer Mixture of polyvinyl alcohol resin (molecular weight 3000) and barium sulfate (mass ratio polyvinyl alcohol resin: barium sulfate = 2: 1), mixed solution of water and methanol (mass ratio water: methanol = 1) : 4) to prepare a polyvinyl alcohol resin coating solution (25 ° C .: viscosity 3000 mPa · s) having a solid content of 30 wt%. Using this coating liquid as ink, a PET film was drawn from a PET film roll (PET film: length 10,000 mm, width 780 mm, thickness 250 μm), and square dots were printed by gravure printing. After drying this, copper was vacuum-deposited to obtain a copper layer having a thickness of 0.1 μm. Next, the dot part was dissolved and removed with water at room temperature, dried after washing with water, and a transparent film on which a mesh-like copper layer (metal conductive layer; thickness 0.1 μm) was formed was wound around a core.
２．ハードコート層の作製
下記の配合；
ジルコニア（平均粒子径８０ｎｍ） ８０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ） ２０質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製） ４質量部
シクロヘキサノン １００質量部
で各材料を混合して得た塗工液（２５℃：粘度５ｍＰａ・ｓ）を、金属導電層が形成された透明フィルムのロールから１７ｃｍ／秒の速度で透明フィルムを引き出しながら、この透明フィルム上にダイコートを用いて、硬化後に長さ６００ｍｍ、幅５８０ｍｍ、厚さ１００μｍのハードコート層が得られるように塗布する塗布区間と、長さ１００ｍｍの無塗布区間とを繰り返して間欠塗工を行った。その後、８０℃、１分間、乾燥させた後、高圧水銀ランプにより２００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線照射により硬化させ、金属導電層上にハードコート層を形成した。また、透明フィルムの走行方向の両端部には、それぞれ１０ｍｍの幅でメッシュ状の金属導電層を帯状に露出させた。
2. Preparation of hard coat layer:
Zirconia (average particle size 80 nm) 80 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) 20 parts by mass Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 4 parts by mass Cyclohexanone Coating solution obtained by mixing 100 parts by mass with each material ( 25 ° C .: viscosity 5 mPa · s), while drawing the transparent film at a rate of 17 cm / second from the roll of transparent film on which the metal conductive layer was formed, using a die coat on this transparent film, the length of 600 mm after curing, Intermittent coating was performed by repeating a coating section to be applied so that a hard coat layer having a width of 580 mm and a thickness of 100 μm was obtained, and a non-application section having a length of 100 mm. Then, after drying at 80 ° C. for 1 minute, it was cured by ultraviolet irradiation of 200 mJ / cm 2 with a high-pressure mercury lamp to form a hard coat layer on the metal conductive layer. Further, a mesh-like metal conductive layer having a width of 10 mm was exposed at both ends in the running direction of the transparent film in a strip shape.
３．低屈折率層の作製
ハードコート層の作製に続けて、下記の配合：
オプスターＪＮ−７２１２ （ＪＳＲ（株）製） １００質量部
メチルエチルケトン １１７質量部
メチルイソブチルケトン １１７質量部
で各材料を混合して得た塗工液（２５℃：粘度１．５ｍＰａ・ｓ）を、ダイコートを用いて上記ハードコート層と同様にしてハードコート層上に間欠塗工した。なお、前記塗工液の塗布厚さは、硬化後のハードコート層の厚さが９０ｎｍとなるように調整した。その後、８０℃、１分間、乾燥させた後、高圧水銀ランプにより２００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線照射により硬化させ、ハードコート層上に低屈折率層を形成した。これにより図３（ａ）及び図３（ｂ）に示すようなハードコート層及び低屈折率層（反射防止層）が形成されたディスプレイ用光学フィルタを得、その後、巻芯に巻き取ることにより、ディスプレイ用光学フィルタロールを得た。
3. Preparation of low refractive index layer Following preparation of the hard coat layer, the following formulation:
Opstar JN-7212 (manufactured by JSR Co., Ltd.) 100 parts by mass Methyl ethyl ketone 117 parts by mass Methyl isobutyl ketone 117 parts by mass Each material was mixed to obtain a coating solution (25 ° C .: viscosity 1.5 mPa · s). Was applied on the hard coat layer in the same manner as the hard coat layer. The coating thickness of the coating solution was adjusted so that the thickness of the hard coat layer after curing was 90 nm. Then, after drying at 80 ° C. for 1 minute, it was cured by UV irradiation at 200 mJ / cm 2 with a high-pressure mercury lamp to form a low refractive index layer on the hard coat layer. As a result, an optical filter for display having a hard coat layer and a low refractive index layer (antireflection layer) as shown in FIGS. 3A and 3B is obtained, and then wound on a core. An optical filter roll for display was obtained.
４．切断
ディスプレイ用光学フィルタロールからディスプレイ用光学フィルタを、引き出しながら、７００ｍｍの長さに切り出すことにより、ディスプレイ用光学フィルタを得た。
4). Cutting The optical filter for display was obtained by cutting out the optical filter for display from the optical filter roll for display to a length of 700 mm while pulling it out.
１００、２００ 透明フィルムロール、
１０１、３０１ 透明フィルム、
３０２ メッシュ状の金属導電層、
１０３、２０３、３０３ ハードコート層、
１０４、２０４、３０４ 反射防止層、
１０５ ハードコート層が形成された電磁波シールド層を有する透明フ
ィルムロール、
１０５ｂ ハードコート層が形成された電磁波シールド層を有する透明フ
ィルム、
１０６、２０６ 光学フィルタロール
１１０、２２０ ハードコート層形成用塗工装置、
１１１、２２１ ハードコート層形成用紫外線照射装置、
１２０ 反射防止層形成用塗工装置、
１２１ 反射防止層形成用紫外線照射装置、
矢印ａ 透明フィルムの走行方向。
100, 200 transparent film roll,
101, 301 transparent film,
302 mesh conductive metal layer,
103, 203, 303 hard coat layer,
104, 204, 304 antireflection layer,
105 A transparent film having an electromagnetic wave shielding layer on which a hard coat layer is formed.
Film roll,
105b A transparent film having an electromagnetic wave shielding layer on which a hard coat layer is formed.
Film,
106, 206
111, 221 Ultraviolet irradiation device for hard coat layer formation,
120 coating apparatus for forming an antireflection layer,
121 UV irradiation apparatus for forming an antireflection layer,
Arrow a Direction of travel of the transparent film.
Claims (15)
前記ハードコート層が形成された金属導電層上に反射防止層形成用塗工液を間欠塗工することにより、前記ハードコート層上に反射防止層を形成する工程と、を有するディスプレイ用光学フィルタの製造方法。 By intermittently applying a coating liquid for forming a hard coat layer on the metal conductive layer while running on a long transparent film having a mesh-like metal conductive layer formed on the surface, intermittently in the running direction. And a step of forming a hard coat layer so that the metal conductive layer is exposed in a strip shape at both ends in the running direction;
Forming an antireflective layer on the hard coat layer by intermittently applying an antireflective layer forming coating solution on the metal conductive layer on which the hard coat layer is formed. Manufacturing method.
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010278090A (en) * | 2009-05-26 | 2010-12-09 | Seiji Kagawa | Electromagnetic wave-absorbing film |
| US10564780B2 (en) | 2015-08-21 | 2020-02-18 | 3M Innovative Properties Company | Transparent conductors including metal traces and methods of making same |
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2007
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