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JP2008188867A - Optical information recording medium, information recording method, metal complex compound and method of using the same - Google Patents

Optical information recording medium, information recording method, metal complex compound and method of using the same Download PDF

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JP2008188867A
JP2008188867A JP2007025412A JP2007025412A JP2008188867A JP 2008188867 A JP2008188867 A JP 2008188867A JP 2007025412 A JP2007025412 A JP 2007025412A JP 2007025412 A JP2007025412 A JP 2007025412A JP 2008188867 A JP2008188867 A JP 2008188867A
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information recording
optical information
recording medium
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JP2007025412A
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Japanese (ja)
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Kosuke Watanabe
康介 渡辺
Kazutoshi Katayama
和俊 片山
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Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
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Abstract

【課題】短波長レーザー光照射による情報記録における記録特性および耐光性に優れる光情報記録媒体、および前記光情報記録媒体の記録層用色素として好適な新規化合物を提供すること。
【解決手段】基板上に記録層を有する光情報記録媒体。前記記録層は、下記一般式(1)で表される金属錯体化合物を含有する。一般式(1)中、Q1およびQ2は、各々独立に、1,3-チアゾール、1,3,4-チアジアゾールおよび1,3,4-トリアゾールを除く5員単環ヘテロ環を形成する原子群を表し、Mは金属イオンもしくは金属酸化物イオンを表し、Rは置換基を表し、nは0〜4の範囲の整数を表す。nが2以上の整数であるとき、複数存在するRは互いに同じであっても異なっていてもよい。

Figure 2008188867

【選択図】なしAn optical information recording medium excellent in recording characteristics and light resistance in information recording by irradiation with a short wavelength laser beam, and a novel compound suitable as a dye for a recording layer of the optical information recording medium.
An optical information recording medium having a recording layer on a substrate. The recording layer contains a metal complex compound represented by the following general formula (1). In the general formula (1), Q 1 and Q 2 each independently form a 5-membered monocyclic hetero ring excluding 1,3-thiazole, 1,3,4-thiadiazole and 1,3,4-triazole. Represents an atomic group, M represents a metal ion or a metal oxide ion, R represents a substituent, and n represents an integer in the range of 0-4. When n is an integer of 2 or more, a plurality of R may be the same as or different from each other.
Figure 2008188867

[Selection figure] None

Description

本発明は、レーザー光照射による情報記録が可能な光情報記録媒体およびレーザー光照射により光情報記録媒体へ情報を記録する方法に関する。より詳しくは、本発明は、波長440nm以下の短波長レーザー光照射による情報記録に好適なヒートモード型の光情報記録媒体に関する。更に、本発明は、光情報記録媒体の記録層用色素として好適な金属錯体化合物およびその使用方法に関する。   The present invention relates to an optical information recording medium capable of recording information by laser light irradiation and a method for recording information on the optical information recording medium by laser light irradiation. More specifically, the present invention relates to a heat mode type optical information recording medium suitable for information recording by irradiation with a short wavelength laser beam having a wavelength of 440 nm or less. Furthermore, the present invention relates to a metal complex compound suitable as a recording layer dye for an optical information recording medium and a method for using the same.

従来から、レーザー光により1回限りの情報記録が可能な光情報記録媒体として、追記型CD(CD−R)および追記型DVD(DVD−R)が知られている。CD−Rへの情報の記録は、近赤外域のレーザー光(通常、波長780nm程度)により行われるのに対し、DVD−Rへの情報の記録は可視レーザー光(約630〜680nm)によって行われる。DVD−Rは、記録用レーザー光としてCD−Rより短波長のレーザー光を使用するため、CD−Rと比べて高密度記録可能であるという利点を有する。そのため、近年、DVD−Rは、大容量の記録媒体としての地位をある程度まで確保している。   Conventionally, a write-once CD (CD-R) and a write-once DVD (DVD-R) are known as optical information recording media capable of recording information only once with a laser beam. Information recording on a CD-R is performed by a near-infrared laser beam (usually a wavelength of about 780 nm), whereas information recording on a DVD-R is performed by a visible laser beam (about 630 to 680 nm). Is called. Since DVD-R uses laser light having a shorter wavelength than CD-R as recording laser light, DVD-R has the advantage that high-density recording is possible compared to CD-R. Therefore, in recent years, DVD-R has secured its position as a large-capacity recording medium to some extent.

最近、インターネット等のネットワークやハイビジョンTVが急速に普及している。また、HDTV(High Definition Television)の放映を間近にひかえて、画像情報を安価簡便に記録するための大容量の記録媒体の要求が高まっている。しかし、CD−RおよびDVD−Rは、将来の要求に対応できる程の充分に大きな記録容量を有しているとはいえない。そこで、DVD−Rよりも更に短波長のレーザー光を用いることによって記録密度を向上させるため、短波長レーザー(例えば波長440nm以下)による記録が可能な大容量光ディスクの開発が進められている。そのような光ディスクとして、例えば405nmの青色レーザーを用いたBlu−ray方式と称される光記録ディスクが提案されている。   Recently, networks such as the Internet and high-definition TV are rapidly spreading. In addition, there is an increasing demand for a large-capacity recording medium for recording image information inexpensively and easily, with the upcoming broadcast of HDTV (High Definition Television). However, it cannot be said that the CD-R and DVD-R have a recording capacity that is large enough to meet future requirements. Therefore, in order to improve the recording density by using a laser beam having a shorter wavelength than that of the DVD-R, development of a large-capacity optical disc capable of recording with a short wavelength laser (for example, a wavelength of 440 nm or less) is in progress. As such an optical disk, for example, an optical recording disk called a Blu-ray system using a 405 nm blue laser has been proposed.

特許文献1および2には、前記Blu−ray方式の光記録ディスクのように短波長レーザー光を照射することにより情報を記録するための光情報記録媒体が提案されている。
特開2003−246141号公報 WO2005−068459号公報
Patent Documents 1 and 2 propose an optical information recording medium for recording information by irradiating a short wavelength laser beam like the Blu-ray optical recording disk.
JP 2003-246141 A WO2005-068459

光情報記録において良好な記録特性を得るためには、記録用レーザー光の波長付近に吸収を有する色素を記録層用色素として使用することが好ましい。本発明者らの検討の結果、特許文献1および2に記載の光情報記録媒体において記録層に使用される色素は、短波長領域に吸収を有するものの、必ずしも十分な記録特性を得ることができないことが判明した。更に、本発明者らの検討の結果、上記色素は耐光性が不十分であるため、この色素を含む記録層は耐光保存性に劣ることも判明した。   In order to obtain good recording characteristics in optical information recording, it is preferable to use a dye having absorption near the wavelength of the recording laser light as the dye for the recording layer. As a result of the study by the present inventors, the dye used in the recording layer in the optical information recording media described in Patent Documents 1 and 2 has absorption in the short wavelength region, but cannot always obtain sufficient recording characteristics. It has been found. Further, as a result of the study by the present inventors, it has been found that since the above dye has insufficient light resistance, the recording layer containing this dye is inferior in light resistance storage stability.

そこで、本発明の目的は、短波長レーザー光照射による情報記録における記録特性および耐光性に優れる光情報記録媒体、および前記光情報記録媒体の記録層用色素として好適な新規化合物を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide an optical information recording medium excellent in recording characteristics and light resistance in information recording by irradiation with a short wavelength laser beam, and a novel compound suitable as a dye for a recording layer of the optical information recording medium. is there.

本発明者らが上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、特許文献1および2に記載の光情報記録媒体の記録特性が低い理由は、記録層用色素の熱分解性が低い(熱分解温度が高い)ことに起因することが判明した。そこで、本発明者らは上記知見に基づき更に検討を重ね、優れた熱分解性と耐光性を兼ね備えた所定の金属錯体化合物を記録層用色素として使用することにより、短波長レーザー光照射による記録において優れた記録特性を示すとともに、優れた耐光性を有する光情報記録媒体が得られること、および優れた耐光性と熱分解性を兼ね備えた新規金属錯体化合物を見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies by the present inventors to achieve the above object, the reason why the recording characteristics of the optical information recording media described in Patent Documents 1 and 2 are low is that the thermal decomposability of the recording layer dye is low ( It was found that this was due to the high pyrolysis temperature. Therefore, the present inventors have further studied based on the above findings, and by using a predetermined metal complex compound having both excellent thermal decomposability and light resistance as a recording layer dye, recording by irradiation with short wavelength laser light is performed. The present invention has led to the completion of the present invention by finding an optical information recording medium exhibiting excellent recording characteristics and having excellent light resistance and a novel metal complex compound having both excellent light resistance and thermal decomposability. It was.

即ち、上記目的を達成する手段は、以下の通りである。
[1]基板上に記録層を有する光情報記録媒体であって、前記記録層は、下記一般式(1)で表される金属錯体化合物を含有することを特徴とする光情報記録媒体。

Figure 2008188867
一般式(1)中、Q1およびQ2は、各々独立に、1,3-チアゾール、1,3,4-チアジアゾールおよび1,3,4-トリアゾールを除く5員単環ヘテロ環を形成する原子群を表し、Mは金属イオンもしくは金属酸化物イオンまたはそれらの塩を表し、Rは置換基を表し、nは0〜4の範囲の整数を表す。nが2以上の整数であるとき、複数存在するRは互いに同じであっても異なっていてもよい。]
[2]一般式(1)で表される金属錯体化合物は、下記一般式(2)で表される金属錯体化合物である[1]に記載の光情報記録媒体。
Figure 2008188867
[一般式(2)中、Q3およびQ4は、各々独立に、下記部分構造(A-1)または(A-2)で表される環を形成する原子群を表し、R、Mおよびnは、それぞれ一般式(1)における定義と同義である。]
Figure 2008188867
[上記式中、*は結合するN原子との結合位置を表し、R1およびR2は、各々独立に、水素原子または置換基を表す。]
[3]前記Mは鉄イオンである[1]または[2]に記載の光情報記録媒体。
[4]前記基板上に、光反射層、前記記録層、バリア層、接着層または粘着層、およびカバー層をこの順に有する[1]〜[3]のいずれかに記載の光情報記録媒体。
[5]前記基板は、少なくとも一方の面にトラックピッチ50〜500nmのプリグルーブを有し、前記記録層を、前記プリグルーブが形成された面上に有する[1]〜[4]のいずれかに記載の光情報記録媒体。
[6]前記記録層は、波長440nm以下のレーザー光により情報の記録が可能な層である[1]〜[5]のいずれかに記載の光情報記録媒体。
[7]基板上に記録層を有する光情報記録媒体に情報を記録する情報記録方法であって、
前記光情報記録媒体は、[1]〜[6]のいずれかに記載の光情報記録媒体であり、
前記情報を、前記光情報記録媒体に対してレーザー光を照射することにより、該記録層に記録する情報記録方法。
[8]前記レーザー光の波長は440nm以下である[7]に記載の情報記録方法。
[9]下記一般式(3)で表される金属錯体化合物。
Figure 2008188867
[一般式(3)中、Q3およびQ4は、各々独立に、下記部分構造(A-1)で表される環を形成する原子群を表し、R、Mおよびnは、それぞれ一般式(1)における定義と同義である。]
Figure 2008188867
[上記式中、*は結合するN原子との結合位置を表し、R1およびR2は、各々独立に、水素原子または置換基を表す。]
[10][9]に記載の金属錯体化合物を、色素含有記録層を有する光情報記録媒体において、前記記録層用色素として使用する方法。 That is, the means for achieving the above object is as follows.
[1] An optical information recording medium having a recording layer on a substrate, wherein the recording layer contains a metal complex compound represented by the following general formula (1).
Figure 2008188867
In the general formula (1), Q 1 and Q 2 each independently form a 5-membered monocyclic hetero ring excluding 1,3-thiazole, 1,3,4-thiadiazole and 1,3,4-triazole. Represents an atomic group, M represents a metal ion or metal oxide ion or a salt thereof, R represents a substituent, and n represents an integer in the range of 0-4. When n is an integer of 2 or more, a plurality of R may be the same as or different from each other. ]
[2] The optical information recording medium according to [1], wherein the metal complex compound represented by the general formula (1) is a metal complex compound represented by the following general formula (2).
Figure 2008188867
[In General Formula (2), Q 3 and Q 4 each independently represent an atomic group forming a ring represented by the following partial structure (A-1) or (A-2), and R, M and n is synonymous with the definition in General formula (1), respectively. ]
Figure 2008188867
[In the above formula, * represents the bonding position with the N atom to be bonded, and R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. ]
[3] The optical information recording medium according to [1] or [2], wherein M is an iron ion.
[4] The optical information recording medium according to any one of [1] to [3], which includes a light reflecting layer, the recording layer, a barrier layer, an adhesive layer or an adhesive layer, and a cover layer in this order on the substrate.
[5] The substrate has a pregroove with a track pitch of 50 to 500 nm on at least one surface, and has the recording layer on the surface on which the pregroove is formed. An optical information recording medium described in 1.
[6] The optical information recording medium according to any one of [1] to [5], wherein the recording layer is a layer capable of recording information with a laser beam having a wavelength of 440 nm or less.
[7] An information recording method for recording information on an optical information recording medium having a recording layer on a substrate,
The optical information recording medium is the optical information recording medium according to any one of [1] to [6],
An information recording method for recording the information on the recording layer by irradiating the optical information recording medium with laser light.
[8] The information recording method according to [7], wherein the wavelength of the laser beam is 440 nm or less.
[9] A metal complex compound represented by the following general formula (3).
Figure 2008188867
[In General Formula (3), Q 3 and Q 4 each independently represent an atomic group forming a ring represented by the following partial structure (A-1), and R, M and n are each a general formula It is synonymous with the definition in (1). ]
Figure 2008188867
[In the above formula, * represents the bonding position with the N atom to be bonded, and R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. ]
[10] A method of using the metal complex compound according to [9] as the recording layer dye in an optical information recording medium having a dye-containing recording layer.

本発明によれば、優れた記録特性を有し、更に記録後においても高い耐光性を有する光情報記録媒体(特に440nm以下のレーザー光照射による情報の記録が可能な光情報記録媒体)を提供することができる。
更に、本発明によれば、優れた記録特性および耐光性を有する光情報記録媒体を提供し得る新規金属錯体化合物を提供することができる。
According to the present invention, an optical information recording medium having excellent recording characteristics and high light resistance even after recording (particularly an optical information recording medium capable of recording information by irradiation with laser light of 440 nm or less) is provided. can do.
Furthermore, according to the present invention, a novel metal complex compound capable of providing an optical information recording medium having excellent recording characteristics and light resistance can be provided.

以下、本発明について更に詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

本発明は、基板上に記録層を有する光情報記録媒体に関する。本発明の光情報記録媒体は、記録層に下記一般式(1)で表される金属錯体化合物を含有する。   The present invention relates to an optical information recording medium having a recording layer on a substrate. The optical information recording medium of the present invention contains a metal complex compound represented by the following general formula (1) in the recording layer.

Figure 2008188867
Figure 2008188867

以下に、一般式(1)について説明する。
一般式(1)中、Q1およびQ2は、各々独立に、1,3-チアゾール、1,3,4-チアジアゾールおよび1,3,4-トリアゾールを除く5員単環ヘテロ環を形成する原子群を表す。1,3-チアゾール、1,3,4-チアジアゾールおよび1,3,4-トリアゾールを除く5員単環ヘテロ環としては、特に限定されないが、後述する部分構造(A-1)〜(A-4)で表される5員単環ヘテロ環、ピラゾール、イミダゾールなどが挙げられる。Q1が形成する5員単環へテロ環とQ2が形成する5員単環へテロ環は同じであっても異なっていてもよい。
Below, general formula (1) is demonstrated.
In the general formula (1), Q 1 and Q 2 each independently form a 5-membered monocyclic hetero ring excluding 1,3-thiazole, 1,3,4-thiadiazole and 1,3,4-triazole. Represents an atomic group. The 5-membered monocyclic hetero ring excluding 1,3-thiazole, 1,3,4-thiadiazole and 1,3,4-triazole is not particularly limited, but the partial structures (A-1) to (A- And 5-membered monocyclic heterocycle represented by 4), pyrazole, imidazole and the like. The 5-membered monocyclic heterocycle formed by Q 1 and the 5-membered monocyclic heterocycle formed by Q 2 may be the same or different.

前記5員単環ヘテロ環としては、部分構造(A-1)または(A-2)で表される5員単環ヘテロ環が好ましく、部分構造(A-1)で表される5員単環ヘテロ環がより好ましい。   The 5-membered monocyclic heterocycle is preferably a 5-membered monocyclic heterocycle represented by the partial structure (A-1) or (A-2), and is preferably a 5-membered monocyclic heterocycle represented by the partial structure (A-1). A ring heterocycle is more preferred.

Rは置換基を表す。置換基としては特に限定されないが、例えば、ハロゲン(例えばF、Cl、Br、I)、アルキル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜10であり、例えばメチル基、エチル基、iso−プロピル基、tert−ブチル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばビニル基、アリル基、2−ブテニル基、3−ペンテニル基などが挙げられる。)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばプロパルギル基、3−ペンチニル基などが挙げられる。)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、ナフチル基、アントラニル基、ピリジル基、チアゾール基、オキサゾール基、トリアゾール基などが挙げられる。)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜10であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基などが挙げられる。)、アミノ基(好ましくは炭素数0〜30、より好ましくは炭素数0〜20、特に好ましくは炭素数0〜10であり、例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基などが挙げられる。)、アシル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基、トリフルオロメチルカルボニル基などが挙げられる。)、アルキルスルホニル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基などが挙げられる。)、アリールスルホニル基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜20、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばフェニルスルホニル基などが挙げられる。)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。)、アミノカルボニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばN,N-ジメチルアミノカルボニル基、N,N-ジエチルカルボニル基などが挙げられる。)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜30、より好ましくは炭素数7〜20、特に好ましくは炭素数7〜12であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。)、アルコキシスルホニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシスルホニル基、エトキシスルホニル基などが挙げられる。)、アミノスルホニル基(好ましくは炭素数2〜30、より好ましくは炭素数2〜20、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばN,N-ジメチルアミノスルホニル基、N,Nスルホニル基などが挙げられる。)、芳香族ではないヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜12であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子が挙げられる。具体的には、例えば、ピペリジル基、モルホリノ基などが挙げられる。)、シアノ基、シリル基(好ましくは炭素数3〜40、より好ましくは炭素数3〜30、特に好ましくは炭素数3〜24であり、例えばトリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる。)などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。   R represents a substituent. Although it does not specifically limit as a substituent, For example, halogen (for example, F, Cl, Br, I), an alkyl group (preferably C1-C30, more preferably C1-C20, especially preferably C1-C1). And examples thereof include a methyl group, an ethyl group, an iso-propyl group, a tert-butyl group, an n-octyl group, an n-decyl group, an n-hexadecyl group, a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group. ), An alkenyl group (preferably having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, such as vinyl group, allyl group, 2-butenyl group, 3-pentenyl group, etc. ), An alkynyl group (preferably having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 10 carbon atoms. Pargyl group, 3-pentynyl group, etc.), aryl group (preferably having 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenyl group, p -Methylphenyl group, naphthyl group, anthranyl group, pyridyl group, thiazole group, oxazole group, triazole group, etc.), alkoxy group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, especially Preferably it is C1-C10, for example, a methoxy group, an ethoxy group, a benzyloxy group etc., an amino group (preferably C0-30, more preferably C0-20, especially preferably). The number of carbon atoms is 0 to 10, for example, methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, diphenylamino group, methylphenyl An amino group, etc.), an acyl group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as an acetyl group, a benzoyl group, a formyl group, A pivaloyl group, a trifluoromethylcarbonyl group, etc.), an alkylsulfonyl group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as methanesulfonyl). Group, a trifluoromethanesulfonyl group, etc.), an arylsulfonyl group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, such as a phenylsulfonyl group) An alkoxycarbonyl group (preferably having a carbon number of 2 to 30, more preferably a carbon number). The number of carbon atoms is 2 to 20, particularly preferably 2 to 12, and examples thereof include a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group. ), An aminocarbonyl group (preferably having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, such as N, N-dimethylaminocarbonyl group, N, N-diethylcarbonyl group) Group), an aryloxycarbonyl group (preferably having a carbon number of 7 to 30, more preferably a carbon number of 7 to 20, particularly preferably a carbon number of 7 to 12, such as a phenyloxycarbonyl group). ), An alkoxysulfonyl group (preferably having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, and examples thereof include a methoxysulfonyl group and an ethoxysulfonyl group). An aminosulfonyl group (preferably having 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 20 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 12 carbon atoms); , For example, N, N-dimethylaminosulfonyl group, N, N sulfonyl group, etc.), non-aromatic heterocyclic group (preferably having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, Examples of the hetero atom include a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom, specifically, a piperidyl group, a morpholino group, and the like, a cyano group, and a silyl group (preferably having 3 to 40 carbon atoms). More preferably, it has 3 to 30 carbon atoms, particularly preferably 3 to 24 carbon atoms, and examples thereof include a trimethylsilyl group and a triphenylsilyl group. These substituents may be further substituted.

Rは、ハロゲン、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノカルボニル基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノスルホニル基、アミノ基であることが好ましく、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノカルボニル基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノスルホニル基、アミノ基であることがより好ましく、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アミノ基であることがさらに好ましく、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基であることが特に好ましい。   R is preferably halogen, alkyl group, aryl group, acyl group, alkoxy group, alkoxycarbonyl group, aminocarbonyl group, alkylthio group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, aminosulfonyl group, amino group, and alkoxy group , An alkoxycarbonyl group, an aminocarbonyl group, an alkylthio group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an aminosulfonyl group, and an amino group, and more preferably an alkoxy group, an alkylthio group, an alkylsulfonyl group, and an amino group. Of these, an alkylthio group and an alkylsulfonyl group are particularly preferable.

nは0〜4の範囲の整数を表し、0〜3の範囲の整数であることが好ましく、0〜2の範囲の整数であることがより好ましく、1または2であることが更に好ましい。nが2以上の整数であるとき、複数存在するRは互いに同じであっても異なっていてもよい。溶解性、膜安定性(結晶化のしにくさ)などの観点からは、nが1であることが特に好ましい。   n represents an integer in the range of 0 to 4, preferably an integer in the range of 0 to 3, more preferably an integer in the range of 0 to 2, and even more preferably 1 or 2. When n is an integer of 2 or more, a plurality of R may be the same as or different from each other. From the viewpoint of solubility, film stability (hardness of crystallization) and the like, n is particularly preferably 1.

Mは、金属イオンもしくは金属酸化物イオンを表す。金属イオンとしては、例えば、Mg、Al、Si、Ca、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Ge、As、Sr、Y、Zr、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、Cd、In、Sn、Sb、Ba、Pr、Eu、Yb、Hf、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、Au、Hg、Tl、Pb、Bi、Th等の金属のイオンが挙げられ、中でも、遷移金属イオンが好ましい。遷移金属とは、不完全d電子殻を持つ元素であり、周期表のIIIa族〜VIII族の元素およびIb族の元素が含まれる。遷移金属イオンとしては、特に限定されるものではないが、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Znのイオンが好ましく、Fe、Co、Ni、Cu、Mnのイオンがより好ましく、Fe、Co、Ni、Muのイオンがさらに好ましく、Feのイオンが特に好ましい。   M represents a metal ion or a metal oxide ion. Examples of metal ions include Mg, Al, Si, Ca, Sc, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga, Ge, As, Sr, Y, Zr, Nb, and Mo. , Tc, Ru, Rh, Pd, Ag, Cd, In, Sn, Sb, Ba, Pr, Eu, Yb, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, Pt, Au, Hg, Tl, Pb, Bi And metal ions such as Th, and transition metal ions are preferred. The transition metal is an element having an incomplete d electron shell, and includes elements of Group IIIa to Group VIII and Group Ib of the periodic table. The transition metal ions are not particularly limited, but ions of Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, and Zn are preferable, ions of Fe, Co, Ni, Cu, and Mn are more preferable, Fe, Co, Ni, and Mu ions are more preferable, and Fe ions are particularly preferable.

金属イオンとしては、2価または3価の金属イオンが好ましく、2価の金属イオンがより好ましい。2価または3価の金属イオンとしては、例えば、Mn2+、Fe2+、Fe3+、Co2+、Co3+、Ni2+、Ni3+、Cu2+、Zn2+、Cr3+、Ru2+、Rh3+、Pd2+、Ir3+、Pt2+、Re+等が挙げられ、Mn2+、Fe2+、Fe3+、Co2+、Co3+、Ni2+、Ni3+、Cu2+、Zn2+が好ましく、Mn2+、Fe2+、Co2+、Co3+、Ni2+、Cu2+、Zn2+がより好ましく、Fe2+、Fe3+、Co2+、Co3+、Ni2+、Ni3+、Mn2+がさらに好ましい。環境有害性や人体への影響の観点から、特に、Fe2+、Fe3+が好ましい。金属イオンの価数が3+の場合、配位子によって電荷が中和されないため、対アニオンが存在する。対アニオンは、特に限定されない。 As the metal ion, a divalent or trivalent metal ion is preferable, and a divalent metal ion is more preferable. Examples of the divalent or trivalent metal ions include Mn 2+ , Fe 2+ , Fe 3+ , Co 2+ , Co 3+ , Ni 2+ , Ni 3+ , Cu 2+ , Zn 2+ and Cr. 3+ , Ru 2+ , Rh 3+ , Pd 2+ , Ir 3+ , Pt 2+ , Re + and the like, Mn 2+ , Fe 2+ , Fe 3+ , Co 2+ , Co 3+ , Ni 2+ , Ni 3+ , Cu 2+ , Zn 2+ are preferable, Mn 2+ , Fe 2+ , Co 2+ , Co 3+ , Ni 2+ , Cu 2+ , Zn 2+ are more preferable, and Fe 2+ , Fe 3+ , Co 2+ , Co 3+ , Ni 2+ , Ni 3+ , and Mn 2+ are more preferable. Fe 2+ and Fe 3+ are particularly preferable from the viewpoint of environmental hazards and effects on the human body. When the valence of the metal ion is 3+, the charge is not neutralized by the ligand, so a counter anion is present. The counter anion is not particularly limited.

一般式(1)で表される金属錯体化合物は、好ましくは下記一般式(2)で表される金属錯体化合物である。   The metal complex compound represented by the general formula (1) is preferably a metal complex compound represented by the following general formula (2).

Figure 2008188867
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以下に、一般式(2)について説明する。
一般式(2)中、Q3およびQ4は、各々独立に、下記部分構造(A-1)または(A-2)で表される環を形成する原子群を表す。
Below, general formula (2) is demonstrated.
In General Formula (2), Q 3 and Q 4 each independently represent an atomic group that forms a ring represented by the following partial structure (A-1) or (A-2).

Figure 2008188867
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上記式中、*は、上記環が結合するN原子との結合位置を表す。Q3およびQ4が形成する5員単環へテロ環は、部分構造(A-1)で表される5員単環ヘテロ環であることが好ましい。 In the above formula, * represents the bonding position with the N atom to which the ring is bonded. Q 3 and Q 4 heterocyclic 5-membered monocyclic ring form is preferably a 5-membered monocyclic hetero ring represented by the partial structure (A-1).

R1およびR2は、各々独立に、水素原子または置換基を表す。R1は水素原子であることが好ましく、R2は置換基であることが好ましい。置換基としては一般式(1)中のRで挙げられた置換基が挙げられる。 R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. R 1 is preferably a hydrogen atom, and R 2 is preferably a substituent. Examples of the substituent include the substituents exemplified for R in the general formula (1).

R2は、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオ基、アミノ基であることが好ましく、アルキル基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオ基であることがより好ましく、アルキル基、アルキルチオ基であることがさらに好ましく、アルキル基であることがより一層好ましい。アルキル基の中でも特に3級アルキル基が好ましく、tert−ブチル基であることが最も好ましい。 R 2 is preferably an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, an alkylthio group or an amino group, more preferably an alkyl group, an alkoxycarbonyl group or an alkylthio group, and an alkyl group or an alkylthio group. More preferably, it is more preferably an alkyl group. Among the alkyl groups, a tertiary alkyl group is particularly preferable, and a tert-butyl group is most preferable.

一般式(2)中、R、Mおよびnは、それぞれ一般式(1)における定義と同義であり、具体例および好ましい例も同様である。   In general formula (2), R, M, and n have the same definitions as in general formula (1), and specific examples and preferred examples are also the same.

一般式(1)および一般式(2)中、MとN原子を結ぶ点線は配位結合を表すが、仮に分子全体としてこの配位結合数が1つまたは2つ欠け、その結果配位結合数が2つまたは3つの状態であったとしても、一般式(1)および一般式(2)で表される化合物に含まれるものとする。   In general formula (1) and general formula (2), the dotted line connecting M and N atoms represents a coordination bond, but the number of coordination bonds as a whole molecule is missing, resulting in a coordination bond. Even if the number is two or three, it is included in the compounds represented by the general formula (1) and the general formula (2).

以下に、一般式(1)および一般式(2)で表される金属錯体化合物の具体例を示す。但し、本発明は下記具体例に限定されるものではない。   Specific examples of the metal complex compound represented by the general formula (1) and the general formula (2) are shown below. However, the present invention is not limited to the following specific examples.

Figure 2008188867
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Figure 2008188867
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Figure 2008188867
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一般式(1)で表される金属錯体化合物および一般式(2)で表される金属錯体化合物の配位子の一般的合成法としては、J.Org.Chem.,Vol.42, No.11,(1977)およびWO2005−068459号公報に記載の方法が挙げられる。ただし、これらに限定されるものではない。得られた配位子と金属化合物を反応させて金属錯体化合物を得る方法としては、特開平11−130970号公報、特開平11−310728号公報、および特開2001−158862号公報に記載の金属アゾキレート色素の合成法と同様の方法等が挙げられる。ただし、これに限定されるものではなく、他の金属塩を用いてもよく、他の反応溶媒を用いても良い。また、目的の金属錯体化合物が合成されたことは、NMR、質量分析法等の公知の方法で確認することができる。   As a general synthesis method of the ligand of the metal complex compound represented by the general formula (1) and the metal complex compound represented by the general formula (2), J. Org. Chem., Vol. 42, No. 11, (1977) and the method described in WO2005-068459. However, it is not limited to these. As a method of obtaining a metal complex compound by reacting the obtained ligand with a metal compound, the metals described in JP-A-11-130970, JP-A-11-310728, and JP-A-2001-158862 are used. Examples include the same method as the synthesis method of the azo chelate dye. However, it is not limited to this, Other metal salt may be used and another reaction solvent may be used. Moreover, it can confirm that the target metal complex compound was synthesize | combined by well-known methods, such as NMR and mass spectrometry.

以下に、一般式(2)で表される化合物の合成方法の一例を示す。但し、一般式(2)で表される金属錯体化合物の合成方法は、以下に示す方法に限定されるものではない。   Below, an example of the synthesis | combining method of the compound represented by General formula (2) is shown. However, the synthesis method of the metal complex compound represented by the general formula (2) is not limited to the method shown below.

Figure 2008188867
Figure 2008188867

一般式(1)で表される金属錯体化合物は、優れた熱分解性を示すことができ、これにより良好な記録特性を有する光情報記録媒体を提供することができる。熱分解性の指標としては、熱分解温度を用いることができる。一般式(1)で表される金属錯体化合物は、例えば200〜400℃の熱分解温度を有し得る。更に、一般式(2)で表される金属錯体化合物は、好ましくは230〜370℃、より好ましくは250〜350℃の熱分解温度を有することができる。なお、本発明における熱分解温度は、TG/DTA測定によって求められる値をいうものとする。具体的には、例えばSeiko Instruments Inc.製EXSTAR6000を用い、N2気流下(流量200ml/min)、30℃〜550℃の範囲において10℃/minで昇温を行い、質量減少率が10%に達した時点の温度として熱分解温度を求めることができる。 The metal complex compound represented by the general formula (1) can exhibit excellent thermal decomposability, thereby providing an optical information recording medium having good recording characteristics. As an index of thermal decomposability, the thermal decomposition temperature can be used. The metal complex compound represented by the general formula (1) may have a thermal decomposition temperature of 200 to 400 ° C., for example. Furthermore, the metal complex compound represented by the general formula (2) can preferably have a thermal decomposition temperature of 230 to 370 ° C, more preferably 250 to 350 ° C. In addition, the thermal decomposition temperature in this invention shall say the value calculated | required by TG / DTA measurement. Specifically, for example, using an EXSTAR6000 manufactured by Seiko Instruments Inc., the temperature was raised at 10 ° C./min in the range of 30 ° C. to 550 ° C. under an N 2 air flow (flow rate 200 ml / min), and the mass reduction rate was 10%. The thermal decomposition temperature can be obtained as the temperature at the time when the temperature reaches the value.

本発明の光情報記録媒体は、一般式(1)で表される金属錯体化合物を含む記録層を基板上に有するものである。前記記録層は、一般式(1)で表される色素を1種含むこともでき、2種以上含むこともできる。前記記録層中の一般式(1)で表される金属錯体化合物の含有率は、記録層の全質量に対して、例えば1〜100質量%の範囲であり、好ましくは70〜100質量%の範囲であり、より好ましくは80〜100質量%の範囲であり、最も好ましくは90〜100質量%の範囲である。   The optical information recording medium of the present invention has a recording layer containing a metal complex compound represented by the general formula (1) on a substrate. The recording layer may contain one type of dye represented by the general formula (1), or may contain two or more types. The content of the metal complex compound represented by the general formula (1) in the recording layer is, for example, in the range of 1 to 100% by mass, preferably 70 to 100% by mass with respect to the total mass of the recording layer. It is a range, More preferably, it is the range of 80-100 mass%, Most preferably, it is the range of 90-100 mass%.

本発明の光情報記録媒体は、一般式(1)で表される金属錯体化合物を含む記録層を基板上に少なくとも一層有するものであればよく、前記記録層を二層以上有することもできる。または、一般式(1)で表される金属錯体化合物を含む記録層以外の記録層を有することも可能である。一般式(1)で表される金属錯体化合物を含む記録層において、記録用色素として他の色素を併用する場合、全色素成分に対する一般式(1)で表される金属錯体化合物の割合が、70〜100質量%であることが好ましく、80〜100質量%であることが更に好ましい。   The optical information recording medium of the present invention only needs to have at least one recording layer containing a metal complex compound represented by the general formula (1) on the substrate, and may have two or more recording layers. Alternatively, it is possible to have a recording layer other than the recording layer containing the metal complex compound represented by the general formula (1). In the recording layer containing the metal complex compound represented by the general formula (1), when another dye is used in combination as a recording dye, the ratio of the metal complex compound represented by the general formula (1) to the total dye component is: It is preferable that it is 70-100 mass%, and it is still more preferable that it is 80-100 mass%.

本発明において、色素成分として、一般式(1)で表される金属錯体化合物以外の色素を使用する場合、該色素としては、例えば波長440nm以下の短波長領域において吸収を有するものが好ましい。そのような色素としては、特に限定されないが、アゾ色素、アゾ金属錯体色素、フタロシアニン色素、オキソノール色素、シアニン色素等が挙げられる。   In the present invention, when a dye other than the metal complex compound represented by the general formula (1) is used as the dye component, the dye preferably has an absorption in a short wavelength region of, for example, a wavelength of 440 nm or less. Examples of such dyes include, but are not limited to, azo dyes, azo metal complex dyes, phthalocyanine dyes, oxonol dyes, and cyanine dyes.

本発明の光情報記録媒体において、一般式(1)で表される金属錯体化合物を含む記録層は、レーザー光の照射により情報の記録が可能な層である。ここで、レーザー光の照射により情報の記録が可能とは、記録層のレーザー光が照射された部分がその光学的特性を変えることをいう。光学的特性の変化は、記録層のレーザー光が照射された部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的または化学的変化(例えば、ピットの生成)を生じすることによってもたらされると考えられる。記録層に記録された情報の読み取り(再生)は、例えば記録用のレーザー光と同様の波長のレーザー光を照射することにより、記録層の光学的特性が変化した部位(記録部分)と変化しない部位(未記録部分)との反射率等の光学的特性の違いを検出することにより行うことができる。一般式(1)で表される金属錯体化合物は、例えば440nm以下のレーザー光に対して吸収性を有するものである。このように短波長領域に吸収性を有する金属錯体化合物を含む記録層を有する本発明の光情報記録媒体は、405nmの青色レーザーを用いるBlu−ray方式の光ディスクなどの短波長レーザーによる記録が可能な大容量光ディスクとして好適である。本発明の光情報記録媒体への情報の記録方法については後述する。   In the optical information recording medium of the present invention, the recording layer containing the metal complex compound represented by the general formula (1) is a layer capable of recording information by laser light irradiation. Here, recording of information by laser light irradiation means that the portion of the recording layer irradiated with the laser light changes its optical characteristics. The change in the optical properties is caused by the portion of the recording layer irradiated with the laser light absorbing the light and locally raising the temperature, causing a physical or chemical change (for example, generation of pits). It is thought that. Reading (reproduction) of information recorded on the recording layer is not changed from a portion (recording portion) where the optical characteristics of the recording layer are changed by irradiating laser light having the same wavelength as that of the recording laser light, for example. This can be done by detecting a difference in optical characteristics such as reflectance from the portion (unrecorded portion). The metal complex compound represented by the general formula (1) has absorptivity with respect to a laser beam having a wavelength of 440 nm or less, for example. As described above, the optical information recording medium of the present invention having a recording layer containing a metal complex compound having an absorptivity in a short wavelength region can be recorded by a short wavelength laser such as a Blu-ray optical disk using a 405 nm blue laser. It is suitable as a large-capacity optical disk. The method for recording information on the optical information recording medium of the present invention will be described later.

本発明の光情報記録媒体は、少なくとも一般式(1)で表される金属錯体化合物を含む記録層を基板上に有するものであり、更に、前記記録層に加えて光反射層、保護層などを有することもできる。   The optical information recording medium of the present invention has a recording layer containing at least a metal complex compound represented by the general formula (1) on a substrate. Further, in addition to the recording layer, a light reflecting layer, a protective layer, etc. Can also be included.

本発明に用いられる基板としては、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ガラス;ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂;エポキシ樹脂;アモルファスポリオレフィン;ポリエステル;アルミニウム等の金属;等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
前記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂が好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。これらの樹脂を用いた場合、射出成型を用いて基板を作製することができる。
また、基板の厚さは、一般に0.7〜2mmの範囲であり、0.9〜1.6mmの範囲であることが好ましく、1.0〜1.3mmとすることがより好ましい。
なお、後述する光反射層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することもできる。
As the substrate used in the present invention, various materials used as substrate materials for conventional optical information recording media can be arbitrarily selected and used.
Specifically, glass; acrylic resin such as polycarbonate and polymethyl methacrylate; vinyl chloride resin such as polyvinyl chloride and vinyl chloride copolymer; epoxy resin; amorphous polyolefin; polyester; metal such as aluminum; These may be used together if desired.
Among the materials, thermoplastic resins such as amorphous polyolefin and polycarbonate are preferable, and polycarbonate is particularly preferable from the viewpoints of moisture resistance, dimensional stability, and low price. When these resins are used, the substrate can be manufactured by injection molding.
The thickness of the substrate is generally in the range of 0.7 to 2 mm, preferably in the range of 0.9 to 1.6 mm, and more preferably 1.0 to 1.3 mm.
An undercoat layer can also be formed on the surface of the substrate on the side where the light reflecting layer, which will be described later, is provided for the purpose of improving flatness and adhesion.

前記基板の記録層が形成される面には、通常、トラッキング用の案内溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸(プリグルーブ)が形成されている。本発明の光情報記録媒体は、より高い記録密度を達成するためにCD−RやDVD−Rに比べてより狭いトラックピッチを形成した基板を用いることが好ましい。トラックピッチの好ましい範囲等の詳細は後述する。   The surface on which the recording layer of the substrate is formed is usually provided with unevenness (pregroove) representing information such as tracking guide grooves or address signals. In order to achieve a higher recording density, the optical information recording medium of the present invention preferably uses a substrate on which a narrower track pitch is formed than CD-R and DVD-R. Details such as a preferable range of the track pitch will be described later.

本発明の光情報記録媒体の好ましい態様としては、下記態様(1)および(2)を挙げることができる。   Preferred embodiments of the optical information recording medium of the present invention include the following embodiments (1) and (2).

態様(1):厚さ0.7〜2mmの基板上に、色素を含有する追記型記録層と、厚さ0.01〜0.5mmのカバー層とを基板側から順に有する光情報記録媒体
態様(2):厚さ0.1〜1.0mmの基板上に、色素を含有する追記型記録層と、厚さ0.1〜1.0mmの保護基板とを基板側から順に有する光情報記録媒体
Aspect (1): Optical information recording medium having a write-once recording layer containing a dye and a cover layer having a thickness of 0.01 to 0.5 mm in order from the substrate side on a substrate having a thickness of 0.7 to 2 mm Aspect (2): Optical information having a write-once recording layer containing a dye and a protective substrate having a thickness of 0.1 to 1.0 mm in order from the substrate side on a substrate having a thickness of 0.1 to 1.0 mm. recoding media

態様(1)においては、基板に形成されるプリグルーブのトラックピッチが50〜500nm、溝幅が25〜250nm、溝深さが5〜150nmであることが好ましく、態様(2)においては、基板に形成されるプリグルーブのトラックピッチが200〜600nm、溝幅が50〜300nm、溝深さが30〜150nmであり、ウォブル振幅が5〜50nmであることが好ましい。   In aspect (1), it is preferable that the track pitch of the pregroove formed on the substrate is 50 to 500 nm, the groove width is 25 to 250 nm, and the groove depth is 5 to 150 nm. In aspect (2), the substrate It is preferable that the track pitch of the pregroove formed is 200 to 600 nm, the groove width is 50 to 300 nm, the groove depth is 30 to 150 nm, and the wobble amplitude is 5 to 50 nm.

[態様(1)の光情報記録媒体]
態様(1)の光情報記録媒体は、少なくとも、基板と、追記型記録層と、カバー層とを有する態様である。態様(1)の光情報記録媒体の具体例を、図1に示す。図1に示す第1光情報記録媒体10Aは、第1基板12上に、第1光反射層18と、第1追記型記録層14と、バリア層20と、第1接着層または第1粘着層22と、カバー層16とをこの順に有する。
以下に、これらを構成する材料について順次説明する。
[Optical Information Recording Medium of Aspect (1)]
The optical information recording medium of aspect (1) is an aspect having at least a substrate, a write-once recording layer, and a cover layer. A specific example of the optical information recording medium of aspect (1) is shown in FIG. A first optical information recording medium 10A shown in FIG. 1 has a first light reflecting layer 18, a first write-once recording layer 14, a barrier layer 20, and a first adhesive layer or a first adhesive on a first substrate 12. It has the layer 22 and the cover layer 16 in this order.
Below, the material which comprises these is demonstrated one by one.

基板
態様(1)の基板には、トラックピッチ、溝幅(半値幅)、溝深さ、およびウォブル振幅のいずれもが下記の範囲である形状を有するプリグルーブ(案内溝)が形成されている。このプリグルーブは、CD−RやDVD−Rに比べてより高い記録密度を達成するために設けられたものであり、例えば、本発明の光情報記録媒体を、青紫色レーザーに対応する媒体として使用する場合に好適である。
In the substrate of the substrate mode (1), pregrooves (guide grooves) having a shape in which the track pitch, groove width (half width), groove depth, and wobble amplitude are all within the following ranges are formed. . This pre-groove is provided to achieve a higher recording density than CD-R and DVD-R. For example, the optical information recording medium of the present invention is used as a medium corresponding to a blue-violet laser. It is suitable for use.

プリグルーブのトラックピッチは、50〜500nmの範囲であり、上限値は420nm以下であることが好ましく、370nm以下であることがより好ましく、330nm以下であることが更に好ましい。また、下限値は、100nm以上であることが好ましく、200nm以上であることがより好ましく、260nm以上であることが更に好ましい。トラックピッチが50nm以上であれば、プリグルーブを正確に形成することができる上に、クロストークの発生を回避することができ、500nm以下であれば、高密度記録を行うことができる。   The track pitch of the pregroove is in the range of 50 to 500 nm, and the upper limit is preferably 420 nm or less, more preferably 370 nm or less, and further preferably 330 nm or less. Further, the lower limit is preferably 100 nm or more, more preferably 200 nm or more, and further preferably 260 nm or more. If the track pitch is 50 nm or more, the pregroove can be formed accurately, and the occurrence of crosstalk can be avoided. If the track pitch is 500 nm or less, high-density recording can be performed.

プリグルーブの溝幅(半値幅)は、25〜250nmの範囲であり、上限値は240nm以下であることが好ましく、230nm以下であることがより好ましく、220nm以下であることが更に好ましい。また、下限値は、50nm以上であることが好ましく、80nm以上であることがより好ましく、100nm以上であることが更に好ましい。プリグルーブの溝幅が25nm以上であれば、成型時に溝を十分に転写することができ、さらに記録時のエラーレート上昇を抑制することができ、250nm以下であれば、同じく成型時に溝を十分に転写することができ、更に記録時に形成されるピットの広がりによりクロストークが発生することを回避することができる。   The groove width (half width) of the pregroove is in the range of 25 to 250 nm, and the upper limit is preferably 240 nm or less, more preferably 230 nm or less, and further preferably 220 nm or less. Further, the lower limit is preferably 50 nm or more, more preferably 80 nm or more, and further preferably 100 nm or more. If the groove width of the pregroove is 25 nm or more, the groove can be sufficiently transferred at the time of molding, and further, an increase in error rate at the time of recording can be suppressed. Furthermore, it is possible to avoid the occurrence of crosstalk due to the spread of pits formed during recording.

プリグルーブの溝深さは、5〜150nmの範囲であり、上限値は85nm以下であることが好ましく、80nm以下であることがより好ましく、75nm以下であることが更に好ましい。また、下限値は、10nm以上であることが好ましく、20nm以上であることがより好ましく、28nm以上であることが更に好ましい。プリグルーブの溝深さが5nm以上であれば十分な記録変調度を得ることができ、150nm以下であれば、高い反射率を得ることができる。   The groove depth of the pregroove is in the range of 5 to 150 nm, and the upper limit is preferably 85 nm or less, more preferably 80 nm or less, and further preferably 75 nm or less. Further, the lower limit is preferably 10 nm or more, more preferably 20 nm or more, and further preferably 28 nm or more. If the groove depth of the pregroove is 5 nm or more, a sufficient recording modulation degree can be obtained, and if it is 150 nm or less, a high reflectance can be obtained.

また、プリグルーブの溝傾斜角度は、上限値が80°以下であることが好ましく、75°以下であることがより好ましく、70°以下であることが更に好ましく、65°以下であることが特に好ましい。また、下限値は、20°以上であることが好ましく、30°以上であることがより好ましく、40°以上であることが更に好ましい。
プリグルーブの溝傾斜角度が20°以上であれば、十分なトラッキングエラー信号振幅を得ることができ、80°以下であれば成型性が良好である。
In addition, the groove inclination angle of the pregroove is preferably 80 ° or less, more preferably 75 ° or less, still more preferably 70 ° or less, and particularly preferably 65 ° or less. preferable. Further, the lower limit value is preferably 20 ° or more, more preferably 30 ° or more, and further preferably 40 ° or more.
If the groove inclination angle of the pregroove is 20 ° or more, a sufficient tracking error signal amplitude can be obtained, and if it is 80 ° or less, the moldability is good.

追記型記録層
態様(1)の追記型記録層は、色素を、結合剤等と共にまたは結合剤を用いないで適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで、この塗布液を基板上または後述する光反射層上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成することができる。ここで、追記型記録層は、単層でも重層でもよく、重層構造の場合、塗布液を塗布する工程が複数回行なわれることになる。
塗布液中の色素の濃度は、一般に0.01〜15質量%の範囲であり、好ましくは0.1〜10質量%の範囲、より好ましくは0.5〜5質量%の範囲、最も好ましくは0.5〜3質量%の範囲である。
In the write-once recording layer of write-once recording layer mode (1), a dye is dissolved in a suitable solvent together with a binder or the like or without using a binder, and a coating solution is prepared. Or after apply | coating on the light reflection layer mentioned later and forming a coating film, it can form by drying. Here, the write-once recording layer may be a single layer or a multilayer. In the case of a multilayer structure, the step of applying the coating liquid is performed a plurality of times.
The concentration of the dye in the coating solution is generally in the range of 0.01 to 15% by mass, preferably in the range of 0.1 to 10% by mass, more preferably in the range of 0.5 to 5% by mass, most preferably. It is the range of 0.5-3 mass%.

塗布液の調製に用いる溶剤としては、例えば、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン;ジクロルメタン、1,2−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素;ジメチルホルムアミド等のアミド;メチルシクロヘキサン等の炭化水素;テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル;エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール;2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノール等のフッ素系溶剤;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;等を挙げることができる。
溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中には、さらに、結合剤、酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
Solvents used for preparing the coating solution include, for example, esters such as butyl acetate, ethyl lactate and cellosolve acetate; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone and methyl isobutyl ketone; chlorinated hydrocarbons such as dichloromethane, 1,2-dichloroethane and chloroform. Amides such as dimethylformamide; hydrocarbons such as methylcyclohexane; ethers such as tetrahydrofuran, ethyl ether and dioxane; alcohols such as ethanol, n-propanol, isopropanol and n-butanol diacetone alcohol; 2,2,3,3- Fluorinated solvents such as tetrafluoro-1-propanol; glycol agents such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether And the like can be given; le compound.
Solvents can be used alone or in combination of two or more in consideration of the solubility of the dye used. In the coating solution, various additives such as a binder, an antioxidant, a UV absorber, a plasticizer, and a lubricant may be added according to the purpose.

塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。
塗布の際、塗布液の温度は23〜50℃の範囲であることが好ましく、24〜40℃の範囲であることがより好ましく、中でも、23〜50℃の範囲であることが特に好ましい。
Examples of the coating method include a spray method, a spin coating method, a dip method, a roll coating method, a blade coating method, a doctor roll method, and a screen printing method.
At the time of application, the temperature of the coating solution is preferably in the range of 23 to 50 ° C, more preferably in the range of 24 to 40 ° C, and particularly preferably in the range of 23 to 50 ° C.

追記型記録層の厚さは、ランド(前記基板において凸部)上で、300nm以下であることが好ましく、250nm以下であることがより好ましく、200nm以下であることが更に好ましく、180nm以下であることが特に好ましい。下限値としては1nm以上であることが好ましく、3nm以上であることがより好ましく、5nm以上であることが更に好ましく、7nm以上であることが特に好ましい。
また、追記型記録層の厚さは、グルーブ上(前記基板において凹部)で、400nm以下であることが好ましく、300nm以下であることがより好ましく、250nm以下であることが更に好ましい。下限値としては、10nm以上であることが好ましく、20nm以上であることがより好ましく、25nm以上であることが更に好ましい。
更に、ランド上の追記型記録層の厚さ/グルーブ上の追記型記録層の厚さの比は、0.1以上であることが好ましく、0.13以上であることがより好ましく、0.15以上であることが更に好ましく、0.17以上であることが特に好ましい。上限値としては、1未満であることが好ましく、0.9以下であることがより好ましく、0.85以下であることが更に好ましく、0.8以下であることが特に好ましい。
The thickness of the write-once recording layer is preferably 300 nm or less, more preferably 250 nm or less, even more preferably 200 nm or less, and 180 nm or less on the land (the convex portion in the substrate). It is particularly preferred. The lower limit is preferably 1 nm or more, more preferably 3 nm or more, still more preferably 5 nm or more, and particularly preferably 7 nm or more.
The thickness of the write-once recording layer is preferably 400 nm or less, more preferably 300 nm or less, and even more preferably 250 nm or less on the groove (the concave portion in the substrate). The lower limit is preferably 10 nm or more, more preferably 20 nm or more, and further preferably 25 nm or more.
Further, the ratio of the thickness of the write-once recording layer on the land / the thickness of the write-once recording layer on the groove is preferably 0.1 or more, more preferably 0.13 or more, and More preferably, it is 15 or more, and it is especially preferable that it is 0.17 or more. The upper limit is preferably less than 1, more preferably 0.9 or less, still more preferably 0.85 or less, and particularly preferably 0.8 or less.

また、追記型記録層には、追記型記録層の耐光性をさらに向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。褪色防止剤としては一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。   The write-once recording layer can contain various anti-fading agents in order to further improve the light resistance of the write-once recording layer. As the anti-fading agent, a singlet oxygen quencher is generally used.

カバー層
態様(1)のカバー層は、通常、上述した追記型記録層上に、または図1に示すようにバリア層上に、接着剤や粘着材を介して貼り合わされる。
カバー層としては、透明な材質のフィルムであれば、特に限定されないが、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂;エポキシ樹脂;アモルファスポリオレフィン;ポリエステル;三酢酸セルロース等を使用することが好ましく、中でも、ポリカーボネートまたは三酢酸セルロースを使用することがより好ましい。
なお、「透明」とは、記録および再生に用いられる光に対して、透過率80%以上であることを意味する。
The cover layer of the cover layer mode (1) is usually bonded on the write-once recording layer described above or on the barrier layer as shown in FIG. 1 via an adhesive or an adhesive.
The cover layer is not particularly limited as long as it is a transparent film, but is not limited to acrylic resins such as polycarbonate and polymethyl methacrylate; vinyl chloride resins such as polyvinyl chloride and vinyl chloride copolymers; epoxy resins; amorphous polyolefins Polyester; cellulose triacetate or the like is preferably used, and among them, polycarbonate or cellulose triacetate is more preferably used.
Note that “transparent” means that the transmittance is 80% or more with respect to light used for recording and reproduction.

また、カバー層は、本発明の効果を妨げない範囲において、種々の添加剤が含有されていてもよい。例えば、波長400nm以下の光をカットするためのUV吸収剤および/または500nm以上の光をカットするための色素が含有されていてもよい。
更に、カバー層の表面物性としては、表面粗さが2次元粗さパラメータおよび3次元粗さパラメータのいずれも5nm以下であることが好ましい。
また、記録および再生に用いられる光の集光度の観点から、カバー層の複屈折は10nm以下であることが好ましい。
Further, the cover layer may contain various additives as long as the effects of the present invention are not hindered. For example, a UV absorber for cutting light having a wavelength of 400 nm or less and / or a dye for cutting light having a wavelength of 500 nm or more may be contained.
Further, as the surface physical properties of the cover layer, it is preferable that the surface roughness is 5 nm or less for both the two-dimensional roughness parameter and the three-dimensional roughness parameter.
Further, from the viewpoint of the concentration of light used for recording and reproduction, the birefringence of the cover layer is preferably 10 nm or less.

カバー層の厚さは、記録および再生のために照射されるレーザー光の波長やNAにより、適宜、規定することができるが、本発明においては、0.01〜0.5mmの範囲内であることが好ましく、0.05〜0.12mmの範囲であることがより好ましい。
また、カバー層と、接着剤または粘着剤からなる層と、を合わせた総厚は、0.09〜0.11mmであることが好ましく、0.095〜0.105mmであることがより好ましい。
なお、カバー層の光入射面には、光情報記録媒体の製造時に、光入射面が傷つくことを防止するための保護層(図1に示す態様ではハードコート層44)が設けられていてもよい。
The thickness of the cover layer can be appropriately determined according to the wavelength and NA of the laser light irradiated for recording and reproduction, but is within the range of 0.01 to 0.5 mm in the present invention. It is preferable that the thickness is in the range of 0.05 to 0.12 mm.
The total thickness of the cover layer and the layer made of an adhesive or a pressure-sensitive adhesive is preferably 0.09 to 0.11 mm, and more preferably 0.095 to 0.105 mm.
The light incident surface of the cover layer may be provided with a protective layer (hard coat layer 44 in the embodiment shown in FIG. 1) for preventing the light incident surface from being damaged when the optical information recording medium is manufactured. Good.

カバー層と追記型記録層またはバリア層を貼り合わせるために、両層の間に接着層または粘着層を設けることができる。
接着層に使用される接着剤としては、UV硬化樹脂、EB硬化樹脂、熱硬化樹脂等を使用することが好ましく、特にUV硬化樹脂を使用することが好ましい。
接着剤としてUV硬化樹脂を使用する場合は、該UV硬化樹脂をそのまま、またはメチルエチルケトン、酢酸エチル等の適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、ディスペンサからバリア層表面に供給してもよい。また、作製される光情報記録媒体の反りを防止するため、接着層を構成するUV硬化樹脂としては硬化収縮率の小さいものを使用することが好ましい。このようなUV硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業(株)製の「SD−640」等のUV硬化樹脂を挙げることができる。
In order to bond the cover layer and the write-once recording layer or barrier layer, an adhesive layer or an adhesive layer can be provided between the two layers.
As the adhesive used for the adhesive layer, it is preferable to use a UV curable resin, an EB curable resin, a thermosetting resin or the like, and it is particularly preferable to use a UV curable resin.
When a UV curable resin is used as an adhesive, the UV curable resin may be used as it is or dissolved in an appropriate solvent such as methyl ethyl ketone or ethyl acetate to prepare a coating solution, which may be supplied from the dispenser to the barrier layer surface. . Further, in order to prevent warpage of the produced optical information recording medium, it is preferable to use a UV curable resin having a low curing shrinkage rate as the UV curable resin constituting the adhesive layer. Examples of such UV curable resins include UV curable resins such as “SD-640” manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.

接着層の形成方法は特に限定されないが、バリア層または追記型記録層の表面(被貼り合わせ面)上に、接着剤を所定量塗布し、その上にカバー層を載置した後、スピンコートにより接着剤を、被貼り合わせ面とカバー層との間に均一になるように広げた後、硬化させることが好ましい。
接着層の厚さは、0.1〜100μmの範囲であることが好ましく、より好ましくは0.5〜50μmの範囲、更に好ましくは10〜30μmの範囲である。
The method for forming the adhesive layer is not particularly limited, but a predetermined amount of adhesive is applied on the surface (bonded surface) of the barrier layer or write-once recording layer, and a cover layer is placed thereon, followed by spin coating. It is preferable that the adhesive is cured after being spread uniformly between the bonded surface and the cover layer.
The thickness of the adhesive layer is preferably in the range of 0.1 to 100 μm, more preferably in the range of 0.5 to 50 μm, and still more preferably in the range of 10 to 30 μm.

粘着層に使用される粘着剤としては、例えば、アクリル系、ゴム系、シリコン系の粘着剤を使用することができる。透明性、耐久性の観点から、アクリル系の粘着剤が好ましい。アクリル系粘着剤としては、2−エチルヘキシルアクリレート、n−ブチルアクリレートなどを主成分とし、凝集力を向上させるために、短鎖のアルキルアクリレートやメタクリレート、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタクリレートと、架橋剤との架橋点となり得るアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド誘導体、マレイン酸、ヒドロキシルエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなどとを共重合したものを用いることが好ましい。主成分、短鎖成分および架橋点を付加するための成分との混合比率およびそれら成分の種類を、適宜調節することにより、ガラス転移温度(Tg)や架橋密度を変えることができる。   As the pressure-sensitive adhesive used for the pressure-sensitive adhesive layer, for example, an acrylic-based, rubber-based, or silicon-based pressure-sensitive adhesive can be used. From the viewpoint of transparency and durability, an acrylic pressure-sensitive adhesive is preferred. As an acrylic adhesive, 2-ethylhexyl acrylate, n-butyl acrylate and the like are the main components, and in order to improve cohesion, short-chain alkyl acrylates and methacrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, It is preferable to use a copolymer of acrylic acid, methacrylic acid, an acrylamide derivative, maleic acid, hydroxylethyl acrylate, glycidyl acrylate, or the like that can be a crosslinking point with a crosslinking agent. The glass transition temperature (Tg) and the crosslinking density can be changed by appropriately adjusting the mixing ratio of the main component, the short chain component and the component for adding a crosslinking point and the kind of the component.

粘着層の形成方法は特に限定されないが、バリア層または追記型記録層の表面(被貼り合わせ面)上に、粘着剤を所定量均一に塗布し、その上にカバー層を載置した後、硬化させてもよいし、予め、カバー層の片面に、所定量の粘着剤をを均一に塗布して粘着剤塗膜を形成しておき、該塗膜を被貼り合わせ面に貼り合わせ、その後、硬化させてもよい。
また、カバー層に、予め、粘着層が設けられた市販の粘着フィルムを用いてもよい。
粘着層の厚さは、0.1〜100μmの範囲であることが好ましく、より好ましくは0.5〜50μmの範囲、更に好ましくは10〜30μmの範囲である。
またカバー層は、UV硬化樹脂を利用してスピンコーティング法により形成してもよい。
The method of forming the adhesive layer is not particularly limited, but after applying a predetermined amount of the adhesive uniformly on the surface of the barrier layer or write-once recording layer (bonded surface), and placing the cover layer thereon, It may be cured, or beforehand, a predetermined amount of pressure-sensitive adhesive is uniformly applied to one side of the cover layer to form a pressure-sensitive adhesive coating film, and the coating film is bonded to the surface to be bonded. It may be cured.
Moreover, you may use the commercially available adhesive film in which the adhesion layer was previously provided for the cover layer.
The thickness of the adhesive layer is preferably in the range of 0.1 to 100 μm, more preferably in the range of 0.5 to 50 μm, and still more preferably in the range of 10 to 30 μm.
The cover layer may be formed by spin coating using a UV curable resin.

その他の層
態様(1)の光情報記録媒体は、本発明の効果を損なわない範囲においては、上記の必須の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。他の任意の層としては、例えば、基板の裏面(追記型記録層が形成された側と逆側の非形成面側)に形成される、所望の画像を有するレーベル層や、基板と追記型記録層との間に設けられる光反射層(詳細は後述する)、追記型記録層とカバー層との間に設けられるバリア層(詳細は後述する)、該光反射層と追記型記録層との間に設けられる界面層などが挙げられる。ここで、前記レーベル層は、紫外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、および熱乾燥樹脂などを用いて形成することができる。
なお、上記した必須及び任意の層はいずれも、単層でも、多層構造でもよい。
The optical information recording medium of the other layer mode (1) may have other arbitrary layers in addition to the essential layers as long as the effects of the present invention are not impaired. As other optional layers, for example, a label layer having a desired image formed on the back surface of the substrate (the non-formation surface side opposite to the side on which the write-once recording layer is formed) or the substrate and write-once type A light reflection layer (details will be described later) provided between the recording layer, a barrier layer (details will be described later) provided between the write-once recording layer and the cover layer, the light reflection layer and the write-once recording layer, And an interface layer provided between the two. Here, the label layer can be formed using an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, a heat drying resin, or the like.
The essential and optional layers described above may be a single layer or a multilayer structure.

態様(1)の光情報記録媒体では、レーザ光に対する反射率を高めたり、記録再生特性を改良する機能を付与するために、基板と追記型記録層との間に、光反射層を形成することが好ましい。   In the optical information recording medium of aspect (1), a light reflecting layer is formed between the substrate and the write-once recording layer in order to increase the reflectivity with respect to the laser beam and to provide the function of improving the recording / reproducing characteristics. It is preferable.

光反射層は、レーザー光に対する反射率が高い光反射性物質を、例えば、真空蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより基板上に形成することができる。
光反射層の層厚は、一般的には10〜300nmの範囲とし、50〜200nmの範囲とすることが好ましい。
なお、前記反射率は、70%以上であることが好ましい。
The light reflecting layer can be formed on the substrate by, for example, vacuum deposition, sputtering, or ion plating with a light reflecting material having a high reflectance with respect to laser light.
The thickness of the light reflecting layer is generally in the range of 10 to 300 nm, and preferably in the range of 50 to 200 nm.
The reflectance is preferably 70% or more.

反射率が高い光反射性物質としては、Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi等の金属および半金属またはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Cr、Ni、Pt、Cu、Ag、Au、Alおよびステンレス鋼である。特に好ましくは、Au、Ag、Alまたはこれらの合金であり、最も好ましくは、Au、Agまたはこれらの合金である。   As a light reflective material having a high reflectance, Mg, Se, Y, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Re, Fe, Co, Ni, Ru, Rh, Pd , Ir, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Si, Ge, Te, Pb, Po, Sn, Bi, and the like, and metal and semi-metal or stainless steel. These light reflecting materials may be used alone, or may be used in combination of two or more kinds or as an alloy. Among these, Cr, Ni, Pt, Cu, Ag, Au, Al, and stainless steel are preferable. Particularly preferred is Au, Ag, Al or an alloy thereof, and most preferred is Au, Ag or an alloy thereof.

バリア層(中間層)
態様(1)の光情報記録媒体においては、図1に示すように、追記型記録層とカバー層との間にバリア層を形成することが好ましい。
バリア層は、追記型記録層の保存性向上、追記型記録層とカバー層との接着性向上、反射率調整、熱伝導率調整等のために設けることができる。
バリア層に用いられる材料としては、記録および再生に用いられる光を透過する材料であり、上記の機能を発現し得るものであれば、特に制限されるものではないが、例えば、一般的には、ガスや水分の透過性の低い材料であり、誘電体であることが好ましい。
具体的には、Zn、Si、Ti、Te、Sn、Mo、Ge等の窒化物、酸化物、炭化物、硫化物からなる材料が好ましく、MoO2、GeO2、TeO、SiO2、TiO2、ZuO、SnO2、ZnO−Ga23、Nb25、Ta25が好ましく、SnO2、ZnO−Ga23、SiO2、Nb25、Ta25がより好ましい。
Barrier layer (intermediate layer)
In the optical information recording medium of aspect (1), it is preferable to form a barrier layer between the write-once recording layer and the cover layer as shown in FIG.
The barrier layer can be provided for improving the storage stability of the write-once recording layer, improving the adhesion between the write-once recording layer and the cover layer, adjusting the reflectivity, adjusting the thermal conductivity, and the like.
The material used for the barrier layer is not particularly limited as long as it is a material that transmits light used for recording and reproduction and can express the above functions. For example, in general, It is a material with low gas and moisture permeability and is preferably a dielectric.
Specifically, a material made of nitride, oxide, carbide, sulfide, etc. such as Zn, Si, Ti, Te, Sn, Mo, Ge is preferable. MoO 2 , GeO 2 , TeO, SiO 2 , TiO 2 , ZuO, SnO 2 , ZnO—Ga 2 O 3 , Nb 2 O 5 and Ta 2 O 5 are preferred, and SnO 2 , ZnO—Ga 2 O 3 , SiO 2 , Nb 2 O 5 and Ta 2 O 5 are more preferred.

また、バリア層は、真空蒸着、DCスパッタリング、RFスパッタリング、イオンプレーティングなどの真空成膜法により形成することができる。中でも、スパッタリングを用いることがより好ましい。
バリア層の厚さは、1〜200nmの範囲が好ましく、2〜100nmの範囲がより好ましく、3〜50nmの範囲が更に好ましい。
The barrier layer can be formed by a vacuum film forming method such as vacuum deposition, DC sputtering, RF sputtering, or ion plating. Among these, it is more preferable to use sputtering.
The thickness of the barrier layer is preferably in the range of 1 to 200 nm, more preferably in the range of 2 to 100 nm, and still more preferably in the range of 3 to 50 nm.

[態様(2)の光情報記録媒体]
態様(2)の光情報記録媒体は、少なくとも、基板と、追記型記録層と、保護基板とを有し、好ましくは貼り合わせ型の光情報記録媒体である。その代表的な層構成は下記の通りである。
(1)第1の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、接着層を順次形成し、接着層上に保護基板を設けた構成である。
(2)第2の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、保護層、接着層を順次形成し、接着層上に保護基板を設けた構成である。
(3)第3の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、保護層、接着層、保護層を順次形成し、該保護層上に保護基板を設けた構成である。
(4)第4の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、保護層、接着層、保護層、光反射層を順次形成し、該光反射層上に保護基板を設けた構成である。
(5)第5の層構成は、基板上に、追記型記録層、光反射層、接着層、光反射層を順次形成し、該光反射層上に保護基板を設けた構成である。
なお、上記(1)〜(5)の層構成は単なる例示であり、層構成は上述の順番のみでなく、一部を入れ替えてもよいし、一部を省略してもよい。また、追記型記録層は、保護基板側にも形成されていてもよく、その場合、両面からの記録、再生が可能な光情報記録媒体となる。更に、各層は1層で構成されても複数層で構成されてもよい。
[Optical Information Recording Medium of Aspect (2)]
The optical information recording medium of aspect (2) has at least a substrate, a write-once recording layer, and a protective substrate, and is preferably a bonded optical information recording medium. The typical layer structure is as follows.
(1) The first layer configuration is a configuration in which a write-once recording layer, a light reflection layer, and an adhesive layer are sequentially formed on a substrate, and a protective substrate is provided on the adhesive layer.
(2) The second layer configuration is a configuration in which a write-once recording layer, a light reflection layer, a protective layer, and an adhesive layer are sequentially formed on a substrate, and a protective substrate is provided on the adhesive layer.
(3) The third layer configuration is a configuration in which a write-once recording layer, a light reflection layer, a protective layer, an adhesive layer, and a protective layer are sequentially formed on a substrate, and a protective substrate is provided on the protective layer.
(4) In the fourth layer configuration, a write-once recording layer, a light reflecting layer, a protective layer, an adhesive layer, a protective layer, and a light reflecting layer are sequentially formed on a substrate, and a protective substrate is provided on the light reflecting layer. It is a configuration.
(5) The fifth layer configuration is a configuration in which a write-once recording layer, a light reflection layer, an adhesive layer, and a light reflection layer are sequentially formed on a substrate, and a protective substrate is provided on the light reflection layer.
Note that the layer configurations (1) to (5) above are merely examples, and the layer configuration is not limited to the order described above, but may be partially replaced or may be partially omitted. The write-once recording layer may also be formed on the protective substrate side. In this case, an optical information recording medium capable of recording and reproducing from both sides is obtained. Furthermore, each layer may be composed of one layer or a plurality of layers.

上記のうち、態様(2)の光情報記録媒体として、基板上に、追記型記録層、光反射層、接着層、保護基板を基板側から順に有する構成を例に以下に詳細に説明をする。前記構成を有する光情報記録媒体の具体例を図2に示す。図2に示す第2光情報記録媒体10Bは、第2基板24上に、第2追記型記録層26と、第2光反射層30と、第2接着層32と、保護基板28とをこの順に有する。   Of the above, the optical information recording medium of aspect (2) will be described in detail below, taking as an example a configuration having a write-once recording layer, a light reflection layer, an adhesive layer, and a protective substrate in this order from the substrate side. . A specific example of the optical information recording medium having the above configuration is shown in FIG. A second optical information recording medium 10B shown in FIG. 2 includes a second write-once recording layer 26, a second light reflecting layer 30, a second adhesive layer 32, and a protective substrate 28 on a second substrate 24. Have in order.

基板
態様(2)における基板には、トラックピッチ、溝幅(半値幅)、溝深さ、およびウォブル振幅のいずれもが下記の範囲である形状を有するプリグルーブ(案内溝)が形成されている。このプリグルーブは、CD−RやDVD−Rに比べてより高い記録密度を達成するために設けられたものであり、例えば、本発明の光情報記録媒体を、青紫色レーザーに対応する媒体として使用する場合に好適である。
The substrate in the substrate mode (2) is formed with a pregroove (guide groove) having a shape in which all of the track pitch, groove width (half width), groove depth, and wobble amplitude are in the following ranges. . This pre-groove is provided to achieve a higher recording density than CD-R and DVD-R. For example, the optical information recording medium of the present invention is used as a medium corresponding to a blue-violet laser. It is suitable for use.

プリグルーブのトラックピッチは、200〜600nmの範囲であり、上限値は450nm以下であることが好ましく、430nm以下であることが更に好ましい。また、下限値は、300nm以上であることが好ましく、330nm以上であることがより好ましく、370nm以上であることが更に好ましい。トラックピッチが200nm以上であればプリグルーブを正確に形成することができ、更にクロストークの発生を回避することができ、600nm以下であれば、高密度記録を行うことができる。   The track pitch of the pregroove is in the range of 200 to 600 nm, and the upper limit value is preferably 450 nm or less, and more preferably 430 nm or less. The lower limit is preferably 300 nm or more, more preferably 330 nm or more, and still more preferably 370 nm or more. If the track pitch is 200 nm or more, the pregroove can be formed accurately, and further, the occurrence of crosstalk can be avoided. If the track pitch is 600 nm or less, high-density recording can be performed.

プリグルーブの溝幅(半値幅)は、50〜300nmの範囲であり、上限値は290nm以下であることが好ましく、280nm以下であることがより好ましく、250nm以下であることが更に好ましい。また、下限値は、100nm以上であることが好ましく、120nm以上であることがより好ましく、140nm以上であることが更に好ましい。プリグルーブの溝幅が50nm以上であれば、成型時に溝を十分に転写することができ、さらに記録時のエラーレート上昇を抑制することができ、300nm以下であれば、記録時に形成されるピットの広がりによりクロストークが発生することを回避することができ、さらに十分な変調度を得ることができる。   The groove width (half width) of the pregroove is in the range of 50 to 300 nm, and the upper limit is preferably 290 nm or less, more preferably 280 nm or less, and further preferably 250 nm or less. Further, the lower limit value is preferably 100 nm or more, more preferably 120 nm or more, and further preferably 140 nm or more. If the groove width of the pregroove is 50 nm or more, the groove can be sufficiently transferred at the time of molding, and further, an increase in error rate at the time of recording can be suppressed. It is possible to avoid the occurrence of crosstalk due to the spread of, and to obtain a sufficient degree of modulation.

プリグルーブの溝深さは、30〜150nmの範囲であり、上限値は140nm以下であることが好ましく、130nm以下であることがより好ましく、120nm以下であることが更に好ましい。また、下限値は、40nm以上であることが好ましく、50nm以上であることがより好ましく、60nm以上であることが更に好ましい。プリグルーブの溝深さが30nm以上であれば、十分な記録変調度を得ることができ、150nm以下であれば、高い反射率を得ることができる。   The groove depth of the pregroove is in the range of 30 to 150 nm, and the upper limit is preferably 140 nm or less, more preferably 130 nm or less, and further preferably 120 nm or less. The lower limit is preferably 40 nm or more, more preferably 50 nm or more, and further preferably 60 nm or more. If the groove depth of the pregroove is 30 nm or more, a sufficient recording modulation degree can be obtained, and if it is 150 nm or less, a high reflectance can be obtained.

基板の厚さは、一般に0.1〜1.0mmの範囲であり、0.2〜0.8mmの範囲であることが好ましく、0.3〜0.7mmの範囲であることがより好ましい。   The thickness of the substrate is generally in the range of 0.1 to 1.0 mm, preferably in the range of 0.2 to 0.8 mm, and more preferably in the range of 0.3 to 0.7 mm.

なお、後述する追記型記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することができる。
下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、N−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質;シランカップリング剤等の表面改質剤;を挙げることができる。
下塗層は、前記材料を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。
下塗層の層厚は、一般に0.005〜20μmの範囲にあり、好ましくは0.01〜10μmの範囲である。
An undercoat layer can be formed on the surface of the substrate on the side where a write-once recording layer, which will be described later, is provided for the purpose of improving flatness and adhesion.
Examples of the material for the undercoat layer include polymethyl methacrylate, acrylic acid / methacrylic acid copolymer, styrene / maleic anhydride copolymer, polyvinyl alcohol, N-methylol acrylamide, styrene / vinyl toluene copolymer, chlorosulfone. Polymer materials such as chlorinated polyethylene, nitrocellulose, polyvinyl chloride, chlorinated polyolefin, polyester, polyimide, vinyl acetate-vinyl chloride copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyethylene, polypropylene, polycarbonate; silane coupling agents And the like.
The undercoat layer is formed by dissolving or dispersing the above materials in an appropriate solvent to prepare a coating solution, and then applying this coating solution to the substrate surface by a coating method such as spin coating, dip coating, or extrusion coating. can do.
The thickness of the undercoat layer is generally in the range of 0.005 to 20 μm, and preferably in the range of 0.01 to 10 μm.

追記型記録層
態様(2)における追記型記録層に関する詳細については、態様(1)の追記型記録層と同様である。
Details regarding the write-once recording layer in the write-once recording layer aspect (2) are the same as those of the write-once recording layer in aspect (1).

光反射層
態様(2)において、レーザー光に対する反射率を高めたり、記録再生特性を改良する機能を付与するために、追記型記録層上に光反射層を形成することができる。態様(2)の光反射層に関する詳細は、態様(1)の光反射層と同様である。
In the light reflection layer mode (2), a light reflection layer can be formed on the write-once recording layer in order to increase the reflectivity with respect to the laser light and to provide the function of improving the recording / reproducing characteristics. Details regarding the light reflecting layer of the aspect (2) are the same as those of the light reflecting layer of the aspect (1).

接着層
態様(2)では、前記光反射層と後述の保護基板との密着性を向上させるために、光反射層と保護基板の間に接着層を設けることもできる。
接着層を構成する材料としては、光硬化性樹脂が好ましく、中でもディスクの反りを防止するため、硬化収縮率の小さいものが好ましい。このような光硬化性樹脂としては、例えば、大日本インク社製の「SD−640」、「SD−661」等のUV硬化性樹脂(UV硬化性接着剤)を挙げることができる。
また、接着層の厚さは、弾力性を持たせるため、1〜1000μmの範囲が好ましい。
In the adhesive layer mode (2), an adhesive layer may be provided between the light reflecting layer and the protective substrate in order to improve the adhesion between the light reflecting layer and the protective substrate described later.
As a material constituting the adhesive layer, a photo-curing resin is preferable, and among them, a material having a small curing shrinkage rate is preferable in order to prevent warping of the disk. Examples of such a photocurable resin include UV curable resins (UV curable adhesives) such as “SD-640” and “SD-661” manufactured by Dainippon Ink.
Further, the thickness of the adhesive layer is preferably in the range of 1 to 1000 μm in order to give elasticity.

保護基板
態様(2)における保護基板(ダミー基板)は、上述した基板と同じ材質で、同じ形状のものを使用することができる。保護基板の厚さは、一般に厚さ0.1〜1.0mmの範囲であり、0.2〜0.8mmの範囲であることが好ましく、0.3〜0.7mmの範囲であることがより好ましい。
The protective substrate (dummy substrate) in the protective substrate mode (2) can be made of the same material and the same shape as the substrate described above. The thickness of the protective substrate is generally in the range of 0.1 to 1.0 mm, preferably in the range of 0.2 to 0.8 mm, and preferably in the range of 0.3 to 0.7 mm. More preferred.

保護層
態様(2)の光情報記録媒体は、その層構成によっては、光反射層や追記型記録層などを物理的および化学的に保護する目的で保護層が設けられることある。
保護層に用いられる材料の例としては、ZnS、ZnS−SiO2、SiO、SiO2、MgF2、SnO2、Si34等の無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。
保護層は、例えば、プラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着剤を介して光反射層上に貼り合わせることにより形成することができる。また、真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。
Depending on the layer structure of the optical information recording medium of the protective layer mode (2), a protective layer may be provided for the purpose of physically and chemically protecting the light reflecting layer, the write-once recording layer, and the like.
Examples of materials used for the protective layer include inorganic substances such as ZnS, ZnS—SiO 2 , SiO, SiO 2 , MgF 2 , SnO 2 , and Si 3 N 4 , thermoplastic resins, thermosetting resins, and UV curable materials. Organic substances such as resins can be mentioned.
The protective layer can be formed, for example, by bonding a film obtained by plastic extrusion onto the light reflecting layer via an adhesive. Moreover, you may provide by methods, such as vacuum evaporation, sputtering, and application | coating.

また、保護層として、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂を用いる場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。UV硬化性樹脂を用いて保護層を形成する場合には、UV硬化性樹脂をそのまままたは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、UV光を照射して硬化させることによって形成することもできる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。
保護層の層厚は、一般には0.1μm〜1mmの範囲にある。
Further, when a thermoplastic resin or a thermosetting resin is used as the protective layer, it is also formed by dissolving these in an appropriate solvent to prepare a coating solution, and then applying and drying the coating solution. be able to. When forming a protective layer using a UV curable resin, after preparing the coating solution by dissolving the UV curable resin as it is or in an appropriate solvent, the coating solution is applied and irradiated with UV light. It can also be formed by curing. In these coating liquids, various additives such as an antistatic agent, an antioxidant, and a UV absorber may be added according to the purpose.
The thickness of the protective layer is generally in the range of 0.1 μm to 1 mm.

その他の層
態様(2)の光情報記録媒体は、本発明の効果を損なわない範囲においては、上記の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。他の任意の層の詳細については、前記態様(1)のその他の層と同様である。
The optical information recording medium of the other layer mode (2) may have other arbitrary layers in addition to the above layers as long as the effects of the present invention are not impaired. The details of the other optional layers are the same as those of the other layers in the aspect (1).

更に、本発明は、基板上に記録層を有する光情報記録媒体に情報を記録する方法に関する。本発明の情報記録方法では、本発明の光情報記録媒体に対してレーザー光を照射することにより、一般式(1)で表される金属錯体化合物を含む記録層へ情報を記録する。   Furthermore, the present invention relates to a method for recording information on an optical information recording medium having a recording layer on a substrate. In the information recording method of the present invention, information is recorded on the recording layer containing the metal complex compound represented by the general formula (1) by irradiating the optical information recording medium of the present invention with laser light.

前述の好ましい態様(1)または態様(2)の光情報記録媒体に対する情報の記録は、例えば次のように行われる。
まず、光情報記録媒体を定線速度(例えば0.5〜10m/秒)または定角速度にて回転させながら、基板側または保護層側から半導体レーザー光などの記録用の光を照射する。この光の照射により、レーザー光照射部分の光学的特性が変化して情報が記録される。図1に示す態様では、カバー層16側から半導体レーザー光等の記録用のレーザー光46を、第一対物レンズ42(例えば開口数NAが0.85)を介して照射する。このレーザー光46の照射により、追記型記録層14がレーザー光46を吸収して局所的に温度上昇し、物理的または化学的変化(例えばピットの生成)が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。同様に、図2に示す態様では、第2基板24側から半導体レーザー光等の記録用のレーザー光46を、開口数NAが例えば0.65の第2対物レンズ48を介して照射する。このレーザー光46の照射により、第2追記型記録層26がレーザー光46を吸収して局所的に温度上昇し、物理的または化学的変化(例えばピットの生成)が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。
Information is recorded on the optical information recording medium of the above-described preferred embodiment (1) or embodiment (2), for example, as follows.
First, while rotating the optical information recording medium at a constant linear velocity (for example, 0.5 to 10 m / sec) or a constant angular velocity, recording light such as semiconductor laser light is irradiated from the substrate side or the protective layer side. By this light irradiation, the optical characteristics of the laser light irradiated portion change and information is recorded. In the embodiment shown in FIG. 1, a recording laser beam 46 such as a semiconductor laser beam is irradiated from the cover layer 16 side through a first objective lens 42 (for example, a numerical aperture NA is 0.85). By the irradiation of the laser beam 46, the write-once recording layer 14 absorbs the laser beam 46 and the temperature rises locally, causing a physical or chemical change (for example, generation of pits) to change its optical characteristics. Thus, it is considered that information is recorded. Similarly, in the embodiment shown in FIG. 2, a recording laser beam 46 such as a semiconductor laser beam is irradiated from the second substrate 24 side through a second objective lens 48 having a numerical aperture NA of, for example, 0.65. By the irradiation of the laser beam 46, the second write-once recording layer 26 absorbs the laser beam 46 and the temperature rises locally, causing a physical or chemical change (for example, generation of pits) to change its optical characteristics. By changing, it is considered that information is recorded.

本発明においては、波長440nm以下のレーザー光を照射することにより情報を記録することが好ましい。記録光としては、440nm以下の範囲の発振波長を有する半導体レーザー光が好適に用いられ、好ましい光源としては390〜415nmの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光、中心発振波長850nmの赤外半導体レーザー光を光導波路素子を使って半分の波長にした中心発振波長425nmの青紫色SHGレーザー光を挙げることができる。特に、記録密度の点で390〜415nmの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光を用いることが好ましい。上記のように記録された情報の再生は、光情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら半導体レーザー光を基板側または保護層側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。   In the present invention, it is preferable to record information by irradiating a laser beam having a wavelength of 440 nm or less. As the recording light, a semiconductor laser light having an oscillation wavelength in the range of 440 nm or less is preferably used. As a preferable light source, a blue-violet semiconductor laser light having an oscillation wavelength in the range of 390 to 415 nm, an infrared having a central oscillation wavelength of 850 nm is used. A blue-violet SHG laser beam having a central oscillation wavelength of 425 nm, which is a half wavelength of the semiconductor laser beam using an optical waveguide device, can be mentioned. In particular, it is preferable to use a blue-violet semiconductor laser beam having an oscillation wavelength in the range of 390 to 415 nm in terms of recording density. The information recorded as described above is reproduced by irradiating a semiconductor laser beam from the substrate side or the protective layer side while rotating the optical information recording medium at the same constant linear velocity as above and detecting the reflected light. Can be performed.

本発明における記録層への情報の記録は、好ましくは、記録層のレーザー光が照射された部分に空隙(ピット)が形成されることによって行われる。先に説明した態様(1)の光情報記録媒体において、空隙形成により情報を記録する場合、バリア層とカバー層の間に粘着層を有する態様では良好な記録を行うことができるにも関わらず、粘着層を接着層に変えると記録特性が低下する場合があった。これは、以下の理由によるものと考えられる。
通常、レーザー光照射による空隙の形成は記録層の変形を伴うため、記録層の変形が妨げられると空隙が良好に形成されず、これが記録特性の低下を引き起こすと考えられる。基板上に、光反射層、記録層、バリア層、粘着層およびカバー層をこの順に有する光情報記録媒体では、基板および光反射層は、粘着層やバリア層に比べて剛性が高い。よって、空隙が形成されると記録層はバリア層を押し上げ、粘着層に凹状の変形を生じさせる。この場合は空隙の形成が妨げられることなく、ピットの形成を良好に行うことができる。
一方、接着層は、一般に、粘着層と比べて硬く柔軟性に乏しい。そのため、基板上に、光反射層、記録層、接着層、バリア層およびカバー層をこの順に有する光情報記録媒体では、記録層が粘着層側へ変形することができずに空隙の形成が妨げられることがある。そのため接着層を有する態様では、良好な記録特性を得ることが困難となる場合があると考えられる。
それに対し、一般式(1)で表される金属錯体化合物を含む記録層は、比較的剛性の高い接着層を有する光情報記録媒体においてもレーザー光照射による空隙形成を良好に行うことができる。
Recording of information on the recording layer in the present invention is preferably performed by forming voids (pits) in the portion of the recording layer irradiated with the laser beam. In the optical information recording medium of the aspect (1) described above, when information is recorded by forming a gap, an aspect having an adhesive layer between the barrier layer and the cover layer can perform good recording. When the pressure-sensitive adhesive layer is changed to an adhesive layer, the recording characteristics may be deteriorated. This is considered to be due to the following reasons.
Usually, the formation of voids by laser light irradiation is accompanied by deformation of the recording layer. Therefore, if the deformation of the recording layer is hindered, the voids are not formed satisfactorily, which is considered to cause a decrease in recording characteristics. In an optical information recording medium having a light reflecting layer, a recording layer, a barrier layer, an adhesive layer and a cover layer in this order on the substrate, the substrate and the light reflecting layer have higher rigidity than the adhesive layer and the barrier layer. Therefore, when a void is formed, the recording layer pushes up the barrier layer, causing a concave deformation in the adhesive layer. In this case, the formation of pits can be performed satisfactorily without preventing the formation of voids.
On the other hand, the adhesive layer is generally harder and less flexible than the adhesive layer. Therefore, in an optical information recording medium having a light reflecting layer, a recording layer, an adhesive layer, a barrier layer, and a cover layer in this order on the substrate, the recording layer cannot be deformed to the adhesive layer side, preventing the formation of voids. May be. Therefore, it is considered that it may be difficult to obtain good recording characteristics in an embodiment having an adhesive layer.
On the other hand, the recording layer containing the metal complex compound represented by the general formula (1) can satisfactorily form voids by laser light irradiation even in an optical information recording medium having a relatively rigid adhesive layer.

更に、本発明は、下記一般式(3)で表される金属錯体化合物に関する。   Furthermore, this invention relates to the metal complex compound represented by following General formula (3).

Figure 2008188867
Figure 2008188867

一般式(3)中、Q3およびQ4は、各々独立に、下記部分構造(A-1)で表される環を形成する原子群を表し、R、Mおよびnは、それぞれ一般式(1)における定義と同義である。 In the general formula (3), Q 3 and Q 4 each independently represent an atomic group forming a ring represented by the following partial structure (A-1), and R, M, and n are each represented by the general formula ( It is synonymous with the definition in 1).

Figure 2008188867
Figure 2008188867

上記式中、*は結合するN原子との結合位置を表し、R1およびR2は、各々独立に、水素原子または置換基を表す。 In the above formula, * represents the bonding position with the N atom to be bonded, and R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.

本発明の金属錯体化合物は、先に説明した一般式(2)で表される金属錯体化合物において、Q3およびQ4として上記部分構造(A-1)を有するものである。本発明の金属錯体化合物は、顔料、写真用材料、UV吸収材料、レーザー用色素、カラーフィルター用染料、色変換フィルターなどの各種用途に使用することができる。好ましくは、色素含有記録層を有する光情報記録媒体における記録層用色素として使用される。本発明の金属錯体化合物およびその使用方法の詳細は、先に説明した通りである。 The metal complex compound of the present invention has the above partial structure (A-1) as Q 3 and Q 4 in the metal complex compound represented by the general formula (2) described above. The metal complex compound of the present invention can be used in various applications such as pigments, photographic materials, UV absorbing materials, laser dyes, color filter dyes, and color conversion filters. Preferably, it is used as a recording layer dye in an optical information recording medium having a dye-containing recording layer. The details of the metal complex compound of the present invention and the method of using the same are as described above.

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to the examples.

実施例1:例示化合物(M−1)の合成
(I)配位子(1)の合成

Figure 2008188867
Example 1: Synthesis of Exemplified Compound (M-1) (I) Synthesis of Ligand (1)
Figure 2008188867

100mlナスフラスコに化合物(1)1g、化合物(2)1.41g、CaCl2 58mg、1−ヘキサノール20mlを入れ、5時間加熱還流させた。室温に戻し生成する結晶をろ別し、ろ液の溶媒を減圧留去した。酢酸エチル/ヘキサン=1/4(体積比)を溶離液としてシリカゲルカラムにて精製を行い、乾燥させることで配位子(1)720mgを得た。 A 100 ml eggplant flask was charged with 1 g of compound (1), 1.41 g of compound (2), 58 mg of CaCl 2 and 20 ml of 1-hexanol, and heated to reflux for 5 hours. The crystals that were returned to room temperature were filtered off, and the solvent of the filtrate was distilled off under reduced pressure. Purification was performed on a silica gel column using ethyl acetate / hexane = 1/4 (volume ratio) as an eluent, and dried to obtain 720 mg of ligand (1).

化合物の同定は300MHz1H-NMRにより行った。結果を以下に示す。1H-NMR(CDCl3)[ppm];δ 8.40(d,1H),8.30(d,1H),6.13(s,1H),6.07(s,1H),4.63-4.53(m,1H),2.16-2.00(m,1H),1.77-1.62(m,1H),1.40(s,18H),1.33(d,3H),1.06(t,3H) The compound was identified by 300 MHz 1 H-NMR. The results are shown below. 1 H-NMR (CDCl 3 ) [ppm]; δ 8.40 (d, 1H), 8.30 (d, 1H), 6.13 (s, 1H), 6.07 (s, 1H), 4.63-4.53 (m, 1H), 2.16-2.00 (m, 1H), 1.77-1.62 (m, 1H), 1.40 (s, 18H), 1.33 (d, 3H), 1.06 (t, 3H)

(II)例示化合物(M−1)の合成 (II) Synthesis of exemplary compound (M-1)

Figure 2008188867
Figure 2008188867

次に、50mlナスフラスコに配位子(1)590mg、メタノール10mlを入れ、攪拌しながらFeCl2・4H2O 126mgを加え、3時間加熱還流させた。蒸留水50mlを加え、室温に戻し、沈殿物をろ過し、蒸留水による洗浄、乾燥を施し(M−1)410mgを得た。化合物の同定はMALDI−TOF−MSにて行った。結果は[M−H+]=1078であった。 Next, 590 mg of ligand (1) and 10 ml of methanol were placed in a 50 ml eggplant flask, and 126 mg of FeCl 2 .4H 2 O was added with stirring, and the mixture was heated to reflux for 3 hours. Distilled water (50 ml) was added, the temperature was returned to room temperature, the precipitate was filtered, washed with distilled water and dried to obtain 410 mg (M-1). The compound was identified by MALDI-TOF-MS. The result was [M−H + ] = 1078.

実施例2:例示化合物(M−2)の合成
50mlナスフラスコに実施例1と同様の方法で合成した配位子(1)0.4g、メタノール10mlを入れ、攪拌しながらNi(OAc)2・4H2O 0.1gを加え、3時間加熱還流させた。蒸留水50mlを加え、室温に戻し、沈殿物をろ過し、蒸留水による洗浄、乾燥を施し(M−2)300mgを得た。化合物の同定はMALDI−TOF−MSにて行った。結果は[M−H+]=1081であった。
Example 2: Synthesis of exemplary compound (M-2) 0.4 g of ligand (1) synthesized by the same method as in Example 1 and 10 ml of methanol were placed in a 50 ml eggplant flask and Ni (OAc) 2 was stirred. · 4H 2 O 0.1 g was added and refluxed under heating for 3 hours. 50 ml of distilled water was added, the temperature was returned to room temperature, the precipitate was filtered, washed with distilled water and dried to obtain 300 mg (M-2). The compound was identified by MALDI-TOF-MS. The result was [M−H + ] = 1081.

実施例3:例示化合物(M−5)の合成
50mlナスフラスコに実施例1と同様の方法で合成した配位子(1)0.4g、メタノール10mlを入れ、攪拌しながらCo(OAc)2・4H2O 0.1gを加え、3時間加熱還流させた。蒸留水50mlを加え、室温に戻し、沈殿物をろ過し、蒸留水による洗浄、乾燥を施し(M−5)300mgを得た。化合物の同定はMALDI−TOF−MSにて行った。結果は[M−H+]=1081であった。
Example 3 Synthesis of Exemplary Compound (M-5) Into a 50 ml eggplant flask, 0.4 g of the ligand (1) synthesized by the same method as in Example 1 and 10 ml of methanol were placed, and Co (OAc) 2 was stirred. · 4H 2 O 0.1 g was added and refluxed under heating for 3 hours. 50 ml of distilled water was added, the temperature was returned to room temperature, the precipitate was filtered, washed with distilled water, and dried (M-5) to obtain 300 mg. The compound was identified by MALDI-TOF-MS. The result was [M−H + ] = 1081.

実施例4:例示化合物(M−6)の合成
50mlナスフラスコに実施例1と同様の方法で合成した配位子(1)0.4g、メタノール10mlを入れ、攪拌しながらMn(OAc)2・4H2O 0.1gを加え、3時間加熱還流させた。蒸留水50mlを加え、室温に戻し、沈殿物をろ過し、蒸留水による洗浄、乾燥を施し(M−6)0.3gを得た。化合物の同定はMALDI−TOF−MSにて確認した。結果は[M−H+]=1077であった。
Example 4: Synthesis of Exemplified Compound (M-6) 0.4 g of ligand (1) synthesized by the same method as in Example 1 and 10 ml of methanol were placed in a 50 ml eggplant flask, and Mn (OAc) 2 was stirred. · 4H 2 O 0.1 g was added and refluxed under heating for 3 hours. 50 ml of distilled water was added, the temperature was returned to room temperature, the precipitate was filtered, washed with distilled water and dried (M-6) to obtain 0.3 g. The identity of the compound was confirmed by MALDI-TOF-MS. The result was [M−H + ] = 1077.

実施例5:例示化合物(M−9)の合成
(I)配位子(2)の合成

Figure 2008188867
Example 5: Synthesis of exemplary compound (M-9) (I) Synthesis of ligand (2)
Figure 2008188867

100mlナスフラスコに化合物(3)1g、化合物(2)1.5g、CaCl2 50mg、1−ヘキサノール20mlを入れ、5時間加熱還流させた。室温に戻し生成する結晶をろ別し、ろ液の溶媒を減圧留去した。酢酸エチル/ヘキサン=1/4(体積比)を溶離液としてシリカゲルカラムにて精製を行い、乾燥させることで配位子(2)0.6gを得た。化合物の同定はMALDI−TOF−MSにて行った。結果は[M−H+]=507であった。 A 100 ml eggplant flask was charged with 1 g of compound (3), 1.5 g of compound (2), 50 mg of CaCl 2 and 20 ml of 1-hexanol, and heated to reflux for 5 hours. The crystals that were returned to room temperature were filtered off, and the solvent of the filtrate was distilled off under reduced pressure. Purification was performed on a silica gel column using ethyl acetate / hexane = 1/4 (volume ratio) as an eluent, and dried to obtain 0.6 g of ligand (2). The compound was identified by MALDI-TOF-MS. The result was [M−H + ] = 507.

(II)例示化合物(M−9)の合成
50mlナスフラスコに配位子(2)0.4g、メタノール10mlを入れ、攪拌しながらFeCl2・4H2O 0.1gを加え、1時間加熱還流させた。蒸留水50mlを加え、室温に戻し、沈殿物をろ過し、蒸留水による洗浄、乾燥を施し(M−9)0.3gを得た。化合物の同定はMALDI−TOF−MSにて行った。結果は[M−H+]=1066であった。
(II) Synthesis of Exemplified Compound (M-9) 0.4 g of Ligand (2) and 10 ml of methanol were placed in a 50 ml eggplant flask, and 0.1 g of FeCl 2 .4H 2 O was added with stirring for 1 hour under reflux. I let you. Distilled water (50 ml) was added, the temperature was returned to room temperature, the precipitate was filtered, washed with distilled water and dried (M-9) to obtain 0.3 g. The compound was identified by MALDI-TOF-MS. The result was [M−H + ] = 1066.

実施例6:光情報記録媒体の作製
(基板の作製)
厚さ1.1mm、外径120mm、内径15mmでスパイラル状のプリグルーブ(トラックピッチ:320nm、溝幅:オングルーブ幅140nm、溝深さ:45nm、溝傾斜角度:65°、ウォブル振幅:20nm)を有する、ポリカーボネート樹脂からなる射出成形基板を作製した。射出成型時に用いられたスタンパのマスタリングは、レーザーカッティング(351nm)を用いて行なわれた。
Example 6: Production of optical information recording medium (production of substrate)
Thickness 1.1 mm, outer diameter 120 mm, inner diameter 15 mm, spiral pre-groove (track pitch: 320 nm, groove width: on-groove width 140 nm, groove depth: 45 nm, groove inclination angle: 65 °, wobble amplitude: 20 nm) An injection-molded substrate made of a polycarbonate resin was prepared. Mastering of the stamper used at the time of injection molding was performed using laser cutting (351 nm).

(光反射層の形成)
基板上に、Unaxis社製Cubeを使用し、Ar雰囲気中で、DCスパッタリングにより、膜厚100nmの真空成膜層としてのANC光反射層(Ag:98.1at%、Nd:0.7at%、Cu:0.9at%)を形成した。光反射層の膜厚の調整は、スパッタ時間により行った。
(Formation of light reflection layer)
An ANC light reflecting layer (Ag: 98.1 at%, Nd: 0.7 at%, as a vacuum film-forming layer having a film thickness of 100 nm was formed on the substrate by DC sputtering in an Ar atmosphere using Cube manufactured by Unaxis. Cu: 0.9 at%) was formed. The film thickness of the light reflecting layer was adjusted by the sputtering time.

(追記型記録層の形成)
実施例1で合成した例示化合物(M−1)2gを、2,2,3,3−テトラフロロプロパノール100ml中に添加して溶解し、色素含有塗布液を調製した。そして、光反射層上に、調製した色素含有塗布液を、スピンコート法により回転数300〜4000rpmまで変化させながら23℃、50%RHの条件で塗布した。その後、23℃、50%RHで1時間保存して、追記型記録層(グルーブ上の厚さ40nm、ランド上の厚さ15nm)を形成した。
(Formation of write-once recording layer)
2 g of the exemplified compound (M-1) synthesized in Example 1 was added and dissolved in 100 ml of 2,2,3,3-tetrafluoropropanol to prepare a dye-containing coating solution. And the prepared pigment | dye containing coating liquid was apply | coated on the conditions of 23 degreeC and 50% RH, changing the rotation speed to 300-4000 rpm with a spin coat method on the light reflection layer. Then, it was stored at 23 ° C. and 50% RH for 1 hour to form a write-once recording layer (thickness on the groove of 40 nm, thickness on the land of 15 nm).

追記型記録層を形成した後、クリーンオーブンにてアニール処理を施した。アニール処理は、基板を垂直のスタックポールにスペーサーで間をあけながら支持し、80℃で1時間保持して行った。   After the write-once recording layer was formed, annealing treatment was performed in a clean oven. The annealing treatment was performed by supporting the substrate on a vertical stack pole while leaving a gap with a spacer, and holding at 80 ° C. for 1 hour.

(バリア層の形成)
その後、追記型記録層上に、Unaxis社製Cubeを使用し、Ar雰囲気中で、RFスパッタリングによりZnO−Ga23(ZnO:Ga23=3:7(質量比))からなる、厚さ5nmのバリア層を形成した。
(Formation of barrier layer)
Thereafter, on the write-once recording layer, a Cubes made by Unaxis is used and made of ZnO—Ga 2 O 3 (ZnO: Ga 2 O 3 = 3: 7 (mass ratio)) by RF sputtering in an Ar atmosphere. A barrier layer having a thickness of 5 nm was formed.

(カバー層の貼り合わせ)
カバー層としては、内径15mm、外径120mmで、片面に粘着層(ガラス転移温度−30℃)を有するポリカーボネート製フィルム(帝人ピュアエース、厚さ:80μm)を用い、該粘着層とポリカーボネート製フィルムとの厚さの合計が100μmとなるように設定した。
そして、バリア層上に、該バリア層と粘着層とが当接するようにカバー層を載置した後、そのカバー層を押し当て部材にて圧接して、貼り合わせた。以上の工程により、図1に示す層構成を有する光情報記録媒体を作製した。
(Covering the cover layer)
As the cover layer, a polycarbonate film (Teijin Pure Ace, thickness: 80 μm) having an inner diameter of 15 mm and an outer diameter of 120 mm and having an adhesive layer (glass transition temperature of −30 ° C.) on one side is used. The total thickness was set to 100 μm.
Then, the cover layer was placed on the barrier layer so that the barrier layer and the adhesive layer were in contact with each other, and then the cover layer was pressed and pressed with a pressing member. Through the above steps, an optical information recording medium having the layer structure shown in FIG. 1 was produced.

比較例1〜5:光情報記録媒体の作製
追記型記録層に使用する色素として例示化合物(M−1)に代えて表1に示す比較化合物を使用した以外は実施例2と同様の方法で比較例1〜5の光情報記録媒体を作製した。
Comparative Examples 1 to 5: Production of optical information recording medium The same method as in Example 2 except that the comparative compound shown in Table 1 was used instead of the exemplified compound (M-1) as the dye used in the write-once recording layer. Optical information recording media of Comparative Examples 1 to 5 were produced.

<光情報記録媒体の評価>
(1)C/N(搬送波対雑音比)評価
作製した光情報記録媒体を、403nmレーザー、NA0.85ピックアップを積んだ記録再生評価機(パルステック社製:DDU1000)を用い、クロック周波数66MHz、線速4.92m/sにて、0.16μmの信号(2T)を記録し、スペクトルアナライザー(ローデ&シュウハ゛ルツ社製FSP−3型)にて記録ピットを再生した。記録後の16MHzの出力をCarrier出力、記録前の16MHzの出力をNoise出力として、記録後の出力−記録前の出力をC/N値とした。記録はグルーブ上に行った。また、記録パワー7mW、再生パワー0.3mWであった。結果を表1に示す。
<Evaluation of optical information recording media>
(1) C / N (carrier-to-noise ratio) evaluation The produced optical information recording medium was recorded using a recording / reproduction evaluation machine (manufactured by Pulstec: DDU1000) loaded with a 403 nm laser and NA 0.85 pickup. A signal (2T) of 0.16 μm was recorded at a linear velocity of 4.92 m / s, and the recorded pits were reproduced with a spectrum analyzer (FSP-3 type manufactured by Rohde & Schwartz). The 16 MHz output after recording was defined as Carrier output, the 16 MHz output before recording was defined as Noise output, and the output after recording−the output before recording was defined as the C / N value. Recording was done on the groove. The recording power was 7 mW and the reproducing power was 0.3 mW. The results are shown in Table 1.

(2)耐光性評価
上記(1)の評価後の光情報記録媒体を、耐光性試験機(FAL−25AX−HCBECL型、石英+#275フィルタ使用、スガ試験機社製)を用いてキセノン光を55時間照射した後、再びスペクトルアナライザー(ローデ&シュウハ゛ルツ社製FSP−3型)にて記録ピットを再生した。記録後の16MHzの出力をCarrier出力、記録前の16MHzの出力をNoise出力として、記録後の出力−記録前の出力をC/N値とした。結果を表1に示す。
(2) Light resistance evaluation The optical information recording medium after the evaluation in (1) above was subjected to xenon light using a light resistance tester (FAL-25AX-HCBECL type, using quartz + # 275 filter, manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.). Were recorded for 55 hours, and the recorded pits were reproduced again with a spectrum analyzer (FSP-3, manufactured by Rohde & Schwartz). The 16 MHz output after recording was defined as Carrier output, the 16 MHz output before recording was defined as Noise output, and the output after recording−the output before recording was defined as the C / N value. The results are shown in Table 1.

<色素膜の耐光性評価>
実施例2、比較例1〜5と同様の色素含有塗布液を調製し、厚さ1.1mmのガラス板上に、調製した色素含有塗布液を、スピンコート法により回転数500〜1000rpmまで変化させながら23℃、50%RHの条件で塗布した。その後、23℃、50%RHで24時間保存した後、メリーゴーランド型耐光試験機(イーグルエンジニアリング社製、セルテスト機III型、Schott製WG320フィルタ付)を用いて耐光性試験を行った。耐光性試験直前の色素膜および耐光性試験48時間後の色素膜について、UV−1600PC(SHIMADZU社製)を用いて色素膜の吸収スペクトルを測定し、最大吸収波長における吸光度の変化を読み取った。
<Light resistance evaluation of dye film>
The same pigment-containing coating solution as in Example 2 and Comparative Examples 1 to 5 was prepared, and the prepared pigment-containing coating solution was changed to a rotational speed of 500 to 1000 rpm by a spin coating method on a glass plate having a thickness of 1.1 mm. The coating was performed under the conditions of 23 ° C. and 50% RH. Then, after storing at 23 ° C. and 50% RH for 24 hours, a light resistance test was performed using a merry-go-round type light resistance tester (manufactured by Eagle Engineering Co., Ltd., cell test machine type III, with Schott WG320 filter). With respect to the dye film immediately before the light resistance test and the dye film after 48 hours of the light resistance test, the absorption spectrum of the dye film was measured using UV-1600PC (manufactured by SHIMADZU), and the change in absorbance at the maximum absorption wavelength was read.

<熱分解温度の測定>
例示化合物(M−1)、比較化合物(A)〜(E)についてTG/DTA測定を行った。測定はSeiko Instruments Inc.製EXSTAR6000を用い、N2気流下(流量200ml/min)、30℃〜550℃の範囲において10℃/minで昇温を行った。重量減少率が10%に達した時点の温度を読み取り、結果を表1に示す。
<Measurement of thermal decomposition temperature>
TG / DTA measurement was performed on the exemplary compound (M-1) and the comparative compounds (A) to (E). Measurements were taken from Seiko Instruments Inc. Using EXSTAR6000 manufactured, the temperature was raised at 10 ° C./min in the range of 30 ° C. to 550 ° C. under N 2 air flow (flow rate 200 ml / min). The temperature when the weight loss rate reached 10% was read, and the results are shown in Table 1.

Figure 2008188867
***Xe光照射48時間後の色素残存率が90%以上のときが◎、80%以上90%未満のときが○、70%以上80%未満のときが△、70%未満のときは×。
Figure 2008188867
*** When the dye residual ratio after 90 hours of Xe light irradiation is 90% or more, ◎, when 80% or more and less than 90%, ◯, when 70% or more and less than 80%, and when less than 70% X.

Figure 2008188867
Figure 2008188867

Figure 2008188867
Figure 2008188867

Figure 2008188867
Figure 2008188867

Figure 2008188867
Figure 2008188867

Figure 2008188867
Figure 2008188867

表1に示すように、例示化合物(M−1)は、溶解性が良好であり色素膜の成膜を良好に行うことができた。また、例示化合物(M−1)を用いて形成した色素膜は、比較化合物(A)〜(E)を用いて形成した色素膜に比べて耐光性が良好であった。更に実施例2の光情報記録媒体はXe光照射前後の記録特性(C/N)が良好であった。実施例2の光情報記録媒体の記録特性が高いことは、記録層に含まれる例示化合物(M−1)の熱分解温度が低い(熱分解性が高い)ことに起因すると考えられる。また、Xe光照射後のC/Nが高いことは記録層の耐光性が高いことを示す。   As shown in Table 1, Exemplified Compound (M-1) had good solubility and was able to form a dye film satisfactorily. In addition, the dye film formed using the exemplary compound (M-1) had better light resistance than the dye films formed using the comparative compounds (A) to (E). Furthermore, the optical information recording medium of Example 2 had good recording characteristics (C / N) before and after irradiation with Xe light. The high recording characteristics of the optical information recording medium of Example 2 are considered to be due to the low thermal decomposition temperature (high thermal decomposition) of the exemplified compound (M-1) contained in the recording layer. Further, a high C / N ratio after Xe light irradiation indicates that the recording layer has high light resistance.

また、例示化合物(M−1)に代えて例示化合物(M−2)、(M−4)、(M−5)、(M−9)、(M−22)を使用して同様の評価を行ったところ、いずれも例示化合物(M−1)と同様に良好な溶解性および耐光性、良好な記録特性が得られた。   Moreover, it replaces with exemplary compound (M-1), and the same evaluation is performed using exemplary compound (M-2), (M-4), (M-5), (M-9), and (M-22). As in the case of Exemplified Compound (M-1), good solubility and light resistance and good recording characteristics were obtained.

本発明によれば、優れた耐光性と記録特性を兼ね備えた光情報記録媒体を提供することができる。本発明の光情報記録媒体は、440nm以下の青色レーザー光により記録再生を行う情報記録媒体として好適である。   According to the present invention, it is possible to provide an optical information recording medium having both excellent light resistance and recording characteristics. The optical information recording medium of the present invention is suitable as an information recording medium for recording / reproducing with a blue laser beam of 440 nm or less.

本発明の光情報記録媒体の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the optical information recording medium of this invention. 本発明の光情報記録媒体の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the optical information recording medium of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10A…第1光情報記録媒体 10B…第2光情報記録媒体
12…第1基板 14…第1追記型記録層
16…カバー層 18…第1光反射層
20…バリア層 22…第1接着層
24…第2基板 26…第2追記型記録層
28…保護基板 30…第2光反射層
32…第2接着層 44…ハードコート層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10A ... 1st optical information recording medium 10B ... 2nd optical information recording medium 12 ... 1st board | substrate 14 ... 1st write-once recording layer 16 ... cover layer 18 ... 1st light reflection layer 20 ... Barrier layer 22 ... 1st adhesion layer 24 ... Second substrate 26 ... Second write-once recording layer 28 ... Protective substrate 30 ... Second light reflecting layer 32 ... Second adhesive layer 44 ... Hard coat layer

Claims (10)

基板上に記録層を有する光情報記録媒体であって、前記記録層は、下記一般式(1)で表される金属錯体化合物を含有することを特徴とする光情報記録媒体。
Figure 2008188867
[一般式(1)中、Q1およびQ2は、各々独立に、1,3-チアゾール、1,3,4-チアジアゾールおよび1,3,4-トリアゾールを除く5員単環ヘテロ環を形成する原子群を表し、Mは金属イオンもしくは金属酸化物イオンを表し、Rは置換基を表し、nは0〜4の範囲の整数を表す。nが2以上の整数であるとき、複数存在するRは互いに同じであっても異なっていてもよい。]
An optical information recording medium having a recording layer on a substrate, wherein the recording layer contains a metal complex compound represented by the following general formula (1).
Figure 2008188867
[In the general formula (1), Q 1 and Q 2 each independently form a 5-membered monocyclic hetero ring except 1,3-thiazole, 1,3,4-thiadiazole and 1,3,4-triazole. M represents a metal ion or a metal oxide ion, R represents a substituent, and n represents an integer in the range of 0-4. When n is an integer of 2 or more, a plurality of R may be the same as or different from each other. ]
一般式(1)で表される金属錯体化合物は、下記一般式(2)で表される金属錯体化合物である請求項1に記載の光情報記録媒体。
Figure 2008188867
[一般式(2)中、Q3およびQ4は、各々独立に、下記部分構造(A-1)または(A-2)で表される環を形成する原子群を表し、R、Mおよびnは、それぞれ一般式(1)における定義と同義である。]
Figure 2008188867
[上記式中、*は結合するN原子との結合位置を表し、R1およびR2は、各々独立に、水素原子または置換基を表す。]
The optical information recording medium according to claim 1, wherein the metal complex compound represented by the general formula (1) is a metal complex compound represented by the following general formula (2).
Figure 2008188867
[In General Formula (2), Q 3 and Q 4 each independently represent an atomic group forming a ring represented by the following partial structure (A-1) or (A-2), and R, M and n is synonymous with the definition in General formula (1), respectively. ]
Figure 2008188867
[In the above formula, * represents the bonding position with the N atom to be bonded, and R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. ]
前記Mは鉄イオンである請求項1または2に記載の光情報記録媒体。 The optical information recording medium according to claim 1, wherein the M is an iron ion. 前記基板上に、光反射層、前記記録層、バリア層、接着層または粘着層、およびカバー層をこの順に有する請求項1〜3のいずれか1項に記載の光情報記録媒体。 The optical information recording medium according to any one of claims 1 to 3, further comprising a light reflecting layer, the recording layer, a barrier layer, an adhesive layer or an adhesive layer, and a cover layer in this order on the substrate. 前記基板は、少なくとも一方の面にトラックピッチ50〜500nmのプリグルーブを有し、前記記録層を、前記プリグルーブが形成された面上に有する請求項1〜4のいずれか1項に記載の光情報記録媒体。 The said board | substrate has a pregroove with a track pitch of 50-500 nm on at least one surface, and has the said recording layer on the surface in which the said pregroove was formed. Optical information recording medium. 前記記録層は、波長440nm以下のレーザー光により情報の記録が可能な層である請求項1〜5のいずれか1項に記載の光情報記録媒体。 The optical information recording medium according to claim 1, wherein the recording layer is a layer capable of recording information with a laser beam having a wavelength of 440 nm or less. 基板上に記録層を有する光情報記録媒体に情報を記録する情報記録方法であって、
前記光情報記録媒体は、請求項1〜6のいずれか1項に記載の光情報記録媒体であり、
前記情報を、前記光情報記録媒体に対してレーザー光を照射することにより、該記録層に記録する情報記録方法。
An information recording method for recording information on an optical information recording medium having a recording layer on a substrate,
The optical information recording medium is the optical information recording medium according to any one of claims 1 to 6,
An information recording method for recording the information on the recording layer by irradiating the optical information recording medium with laser light.
前記レーザー光の波長は440nm以下である請求項7に記載の情報記録方法。 The information recording method according to claim 7, wherein a wavelength of the laser beam is 440 nm or less. 下記一般式(3)で表される金属錯体化合物。
Figure 2008188867
[一般式(3)中、Q3およびQ4は、各々独立に、下記部分構造(A-1)で表される環を形成する原子群を表し、R、Mおよびnは、それぞれ一般式(1)における定義と同義である。]
Figure 2008188867
[上記式中、*は結合するN原子との結合位置を表し、R1およびR2は、各々独立に、水素原子または置換基を表す。]
A metal complex compound represented by the following general formula (3).
Figure 2008188867
[In General Formula (3), Q 3 and Q 4 each independently represent an atomic group forming a ring represented by the following partial structure (A-1), and R, M and n are each a general formula It is synonymous with the definition in (1). ]
Figure 2008188867
[In the above formula, * represents the bonding position with the N atom to be bonded, and R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. ]
請求項9に記載の金属錯体化合物を、色素含有記録層を有する光情報記録媒体において、前記記録層用色素として使用する方法。 A method of using the metal complex compound according to claim 9 as the recording layer dye in an optical information recording medium having a dye-containing recording layer.
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