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JP2008182039A - 多層配線板およびその製造方法 - Google Patents

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JP2008182039A JP2007014077A JP2007014077A JP2008182039A JP 2008182039 A JP2008182039 A JP 2008182039A JP 2007014077 A JP2007014077 A JP 2007014077A JP 2007014077 A JP2007014077 A JP 2007014077A JP 2008182039 A JP2008182039 A JP 2008182039A
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Hiroshi Abe
博史 阿部
Satoru Nakao
知 中尾
Takuya Aizawa
卓也 相沢
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Abstract

【課題】電気的接続の信頼性が高く、通信距離の向上や高機能化を達成させると共に、電子部品の小型化に対応できる多層配線板を提供する。
【解決手段】アンテナ構成用パターン11、21が形成された、複数の絶縁基板12,22が接着材層を介して積層され、積層方向に離れた前記アンテナ構成パターン11,21同士が貫通電極17B,24を介して接続されてアンテナコイルを形成するアンテナ部2と、アンテナコイルに電気的に接続され、かつ接着材層13,23に埋設された通信用ICチップ30と、を備える。
【選択図】図1

Description

この発明は、電子部品とアンテナを備える多層配線板およびその製造方法に関する。
ウエハレベルCSPと呼ばれるパッケージング製法は、製造工程中にシリコンウエハに絶縁樹脂層、再配線層、ポスト、封止樹脂層、はんだバンプを形成し、ウエハのままで一括してパッケージングまでを行う。そして、最終工程においてウエハのダイシングを行って個片化している。このようなウエハレベルCSP技術を用いれば、実装基板に対して最小の投影面積を有する半導体パッケージを得ることができる。
近年、このウエハレベルCSP技術を用いて半導体チップ上にRF−IDタグ用アンテナやRF回路用LCR素子を形成する技術が開発されている(例えば、特許文献1参照)。ウエハレベルCSP技術を用いて製造したRF−IDタグは、実装面積の縮小だけでなく、工程が終了した時点で電気的接続が確保されているため接続コストが抑えられ、接続信頼性も高いなどの利点がある。
また、ICチップに対して外付けアンテナを設ける例として、アンテナ構造や使用する材料を工夫することで、通信距離は落とさずにタグの小型化や高機能化を図った技術も提案されている(例えば、特許文献2参照)。
特開2002−92566 特開2005−192124
しかしながら、ICチップ上に通信用アンテナを形成するRF−IDタグは、アンテナ形成の可能な領域がチップサイズに限定される。例えば、導体近傍での通信に有効なソレノイドタイプアンテナの場合は、コイル軸部の断面積が通信距離を決定するため、チップ上に積層する絶縁樹脂層および配線層の厚膜化が必須である。しかし、絶縁樹脂層および配線層の厚膜化を行うと、ウエハレベルCSP技術の利点である低コスト、高信頼性を保つことが困難である。一方、スパイラルタイプアンテナをICチップ上に形成することは困難ではないが、通信距離を確保するためには、スパイラルコイルの面積を大きくする必要がある。そのため、サイズの大きなICチップを使用している例もあるが、その場合はICチップのコスト上昇やサイズの大型化により使用用途が限定されてしまうという問題がある。プロセスの微細化に伴いチップサイズの今後更なる縮小が見込まれるため、チップ上にアンテナを形成するには限界が生じると考えられる。
一方、ICチップに外付けアンテナを設けた特許文献2に記載された技術では、製造工程が複雑となり低コスト化を達成することや、外付けアンテナとタグICチップ間の接続信頼性を高めることが困難であった。
そこで、本発明の目的は、アンテナの大型化を可能にして通信距離の向上や高機能化を達成させると共に電気的接続の信頼性が高く、電子部品の小型化に対応できる多層配線板を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、製造が簡単で低コスト化を達成でき、大幅に生産時間を短縮できると共に、歩留まりが向上でき、しかも接続信頼性を高めた多層配線板の製造方法を提供することにある。
本発明の第1の特徴は、多層配線板であって、少なくとも片面にアンテナ構成パターンが形成された、複数の絶縁基板が接着材層を介して積層され、積層方向に離れたアンテナ構成パターン同士が貫通電極を介して接続されてアンテナコイルを形成するアンテナ部と、アンテナ部の前記アンテナコイルに電気的に接続され、かつ前記接着材層に埋設された電子部品と、を備えることを要旨とする。
第1の特徴に係る発明において、電子部品が、絶縁基板を貫通してアンテナ構成パターンに接続された部品接続用貫通電極に接続されている構成としてもよい。この発明においては、電子部品が、複数の絶縁基板のうち積層方向の一方の最外側に位置する絶縁基板に形成された部品収納用貫通口内に配置され、部品収納用貫通口を有する絶縁基板の積層方向に隣接する絶縁基板に形成された部品接続用貫通電極に接続されている構成としてもよい。さらに、電子部品が、複数の絶縁基板のうち積層方向の一方の最外側に位置する絶縁基板に形成された部品接続用貫通電極に接続され、かつ電子部品と同程度の厚さを有する板状のスペーサに形成された部品収納用貫通口内に配置されている構成としてもよい。
また、第1の特徴に係る発明において、絶縁基板は、少なくとも樹脂材料を含むことが好ましい。そして、この発明は、電子部品が通信用ICチップである場合に特に有効である。
本発明の第2の特徴は、多層配線板の製造方法であって、少なくとも片面にアンテナ構成パターンが形成された絶縁基板と、絶縁基板の少なくとも一方の面に設けられた接着材層とでなる複数のアンテナ構成用配線板を用意する工程と、複数のアンテナ構成用配線板のいずれかのアンテナ構成パターンに電気的に接続される電極端子を有する電子部品を用意する工程と、複数のアンテナ構成用配線板を積み重ねて電子部品を実装位置に配置した状態で、一括して加熱プレスを行って、アンテナ構成パターン同士を電気的に接続すると共に、電子部品をアンテナ構成パターンに電気的に接続し、かつ接着材層に埋設させる工程と、を備えることを要旨とする。
第2の特徴に係る発明では、加熱プレスを行う前に、複数のアンテナ構成用配線板のうち少なくともいずれかのアンテナ構成用配線板の絶縁基板および接着材層には、アンテナ構成用パターン同士を接続するためのビアホールを開設し、電子部品の電極端子が接続されるアンテナ構成用配線板の絶縁基板および接着材層には、アンテナ構成パターンに接続されるビアホールを開設し、ビアホール内に導電性ペーストでなる貫通電極を形成しておいてもよい。
また、第2の特徴に係る発明では、加熱プレスを行う前に、複数のアンテナ構成用配線板のいずれかに部品収納用貫通口を形成しておき、部品収納用貫通口に電子部品を配置させてもよいし、電子部品の周囲を取り囲むように、当該電子部品と同程度の厚さを有する板状のスペーサを配置させてもよい。
本発明によれば、アンテナ構成用パターン同士およびアンテナ構成用パターンと電子部品との電気的接続の信頼性が高く、通信距離の向上や高機能化を可能にすると共に、電子部品の小型化に対応できる多層配線板を実現できる。
また、本発明によれば、多層配線板の生産時間を大幅に短縮できると共に、歩留まりが向上でき、しかも接続信頼性を高めることができる。
以下、本発明の実施の形態に係る多層配線板およびその製造方法の詳細を図面に基づいて説明する。但し、図面は模式的なものであり、各材料層の厚みやその比率などは現実のものとは異なることに留意すべきである。図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれている。また、以下の説明において、各材料層の厚みは一例であり、これに限定されるものではない。
(第1の実施の形態)
図1〜図12は、本発明の第1の実施の形態に係る多層配線板1およびその製造方法について示している。なお、図1〜図8は、図9のA−A断面(電子部品を搭載する箇所の断面)に対応する箇所の断面を示している。また、図12は、図11のB−B断面図である。
〔多層配線板の構成〕
図1に示すように、本実施の形態に係る多層配線板1は、アンテナ部2と、このアンテナ部2に電気的に接続された電子部品としての通信用ICチップ30と、この通信用ICチップ30を埋設(内包)する接着材層13,23と、から大略構成されている。なお、多層配線板1における通信用ICチップ30が設けられた一方側には支持基板40が配置され、他方側には封止基材50が配置されている。
アンテナ部2は、第1のアンテナ構成用配線板10と第2のアンテナ構成用配線板20とでなり、後述するアンテナ構成用パターンが互いに接続されて通信用のアンテナコイルを構成している。
図1に示すように、第1のアンテナ構成用配線板10は、アンテナ構成用パターン(回路パターン)11A,11B,11C(図9参照)が一方の表面(片面)上に形成された絶縁基板12と、接着材層13と、絶縁基板12および接着材層13を貫通して形成された貫通電極17A,17B(図12参照)と、を備えている。
絶縁基板12は、例えばポリイミド樹脂フィルムでなる。なお、本実施の形態では、絶縁基板12の厚さが例えば25μm、アンテナ構成用パターン11A,11B,11Cの厚さが例えば12μmのものを用いている。
アンテナ構成用パターン11Aは、図9に示すように、複数の平行なアンテナ構成用パターン11B群の中央に位置する一対のパターンであり、アンテナ構成用パターン11Bの長さのほぼ半分程度の長さ寸法を有している。また、これらアンテナ構成用パターン11Aは、アンテナ構成用パターン11Bとほぼ平行をなすように形成されている。さらに、これら一対のアンテナ構成用パターン11Aの一端部は、アンテナ構成用パターン11B群の中央で一端部が近接して配置されたコンタクトパッド11aとなっている。これらコンタクトパッド11aは、図1に示す部品接続用貫通電極17Aに接続されている。また、これら一対のアンテナ構成用パターン11A同士は、それぞれのコンタクトパッド11aを起点にして互いに離れる方向に伸びるように配置されている。そして、これら一対のアンテナ構成用パターン11Aの他端部はコンタクトパッド11bとなっている。
また、アンテナ構成用パターン11B,11Cの長手方向の両端部は、コンタクトパッド11b,11cとなっている。コンタクトパッド11b、11cは、貫通電極17B(図12参照)に接続されている。本実施の形態では、このコンタクトパッド11a,11b,11cの中央には、例えば直径30μm程度の小孔16がパターン形成されている(図3参照)。
本実施の形態では、接着材層13として、エポキシ系熱硬化性接着材を用いている。なお、接着材層13としては、エポキシ系熱硬化性接着材に限定されるものではなく、アクリル系などの接着材や、熱可塑性ポリイミドなどに代表される熱可塑性接着材であっても構わない。
第2のアンテナ構成用配線板20は、図1に示すように、第1のアンテナ構成用配線板10とは反対側の表面に複数のアンテナ構成用パターン21が形成されている。また、絶縁基板22の他方の表面(図中、下面)に接着材層23が設けられている。図10に示すように、それぞれのアンテナ構成用パターン21の長手方向の両端はコンタクトパッド21aとなっている。複数のアンテナ構成用パターン21は、上記した第1のアンテナ構成用配線板10と重ね合わせたときに(図11参照)、アンテナ構成用パターン11Bと反対の方に傾くように形成されている。しかも、このとき、アンテナ構成用パターン21の両端部のコンタクトパッド21aは、第1のアンテナ構成用配線板10の中央の一対のコンタクトパッド11aを除く、コンタクトパッド11b,11cと過不足無く対向する位置に配置されるように設定されている。
そして、絶縁基板22におけるコンタクトパッド21aに対応する位置には、ビアホールが形成されこのビアホール内にアンテナ構成用パターン同士を接続するための貫通電極24(図12参照)が形成されている。すなわち、これら貫通電極24は、上記した第1のアンテナ構成用配線板10の貫通電極17Bと一体的に接続されている。また、この第2のアンテナ構成用配線板20の中央には、通信用ICチップ30を収納された部品収納用貫通口25が開設されている(図10参照)。
通信用ICチップ30は、周知のWLPプロセスを用いて加工されたものであり、素子が作り込まれたシリコンチップ31の上面に電極パッド32が形成され、この電極パッド32を露出させる絶縁層33が形成され、絶縁層33上に電極パッド32に接続された再配線層(接続端子部)34が延在されている。通信用ICチップ30は、再配線層34が部品接続用貫通電極17Aに接続されている。
以上、本実施の形態に係る多層配線板1では、通信用ICチップ30が接着材層13,23に埋設(内包)された構造であるため、電気的接続の信頼性が高い。今後、通信用ICチップ30を始めとする各種の電子部品が小型化しても、第1のアンテナ構成用配線板10と第2のアンテナ構成用配線板20とでアンテナ部2を構成しているため、通信距離の向上や高機能化を図ることができる。
また、本実施の形態では、今後更に通信用ICチップ30の小型化が進んでも、アンテナコイルがアンテナ部2で形成されるため、アンテナ長さや断面積を確保できる。
〔多層配線板の製造方法〕
以下、図1〜図12を用いて本実施の形態に係る多層配線板の製造方法について説明する。
〈第1のアンテナ構成用配線板の作製方法〉
先ず、図6に示すような第1のアンテナ構成用配線板10の作製方法について説明する。
図2に示すように、一方の表面(片面)に銅箔11が張り合わされた絶縁基板(CCL:Copper Clad Laminate)12を用意する。なお、絶縁基板12は、例えばポリイミド樹脂フィルムである。なお、本実施の形態では、絶縁基板12の厚さが例えば25μm、銅箔11の厚さが例えば12μmのものを用いている。なお、銅箔11を張り合わせた絶縁基板12は、銅箔11にポリイミドワニスを塗布してワニスを硬化させた所謂キャスティング法を用いて作製したものでもよいし、ポリイミドフィルム上にシード層をスパッタしめっきにより銅を成長させたものや、圧延や電解銅箔とポリイミドフィルムを接着剤によって貼り合わせたものを使用してもよい。また、絶縁基板12は、ポリイミドである必要はなく、液晶ポリマーなどのプラスチックフィルムなどを用いることもできる。
次に、銅箔11上に、フォトリソグラフィー技術を用いて、図示しないエッチング用レジストパターンを形成する。そして、エッチャントとして例えば塩化第二鉄を主成分とするエッチング液を用いて、このエッチング用レジストパターンをマスクとして、銅箔11のウェットエッチングを行って、図3および図9に示すようなアンテナ構成用パターン(回路パターン)11A,11B,11Cを形成する。なお、本実施の形態では、銅のエッチャントとして塩化第二鉄を主成分とするものを用いたが、塩化第二銅を主成分とするエッチャントを用いてもよし、さらには、他のパターニング方法を適用してもよい。
図9に示すように、アンテナ構成用パターン11Aは、複数の平行なアンテナ構成用パターン11B群の中央に位置する一対のパターンであり、アンテナ構成用パターン11Bとほぼ平行をなすように形成されている。さらに、これら一対のアンテナ構成用パターン11Aの一端部は、アンテナ構成用パターン11B群の中央で一端部が近接して配置されたコンタクトパッド11aとなっている。これらコンタクトパッド11aは、部品接続用貫通電極17Aに接続されている。また、これら一対のアンテナ構成用パターン11A同士は、それぞれのコンタクトパッド11aを起点にして互いに離れる方向に伸びるように配置されている。そして、これら一対のアンテナ構成用パターン11Aの他端部はコンタクトパッド11bとなっている。
また、アンテナ構成用パターン11B,11Cの長手方向の両端部は、コンタクトパッド11b,11cとなっている。コンタクトパッド11b、11cは、貫通電極17B(図12参照)に接続されている。本実施の形態では、コンタクトパッド11a,11b,11cの中央には、例えば直径30μm程度の小孔16がパターン形成されている(図3参照)。
本実施の形態では、接着材層13として、エポキシ系熱硬化性接着材を用いている。なお、接着材層13としては、エポキシ系熱硬化性接着材に限定されるものではなく、アクリル系などの接着材や、熱可塑性ポリイミドなどに代表される熱可塑性接着材であっても構わない。
本実施の形態では、このコンタクトパッド11a,11b,11cの中央には、例えば直径30μm程度の小孔16をパターン形成している。なお、一対のアンテナ構成用パターン11A同士の近接して配置されたコンタクトパッド11a,11a同士は、後述する部品接続用貫通電極17Aに接続される。
そして、図4に示すように、上述した絶縁基板12の他方の表面には、接着材層13および剥離用樹脂フィルム14を加熱圧着により貼り合わせる。本実施の形態では、接着材層13として、厚さが例えば25μmのエポキシ系熱硬化性フィルム接着材を用いている。また、剥離用樹脂フィルム14としては、例えば25μm厚のポリイミドフィルムを用いている。ここで、接着材層13の加熱圧着には、例えば真空ラミネータを用い、減圧下の雰囲気中にて、接着材の硬化温度以下の温度で、0.3MPaの圧力でプレスして貼り合わせた。
なお、接着材層13としては、エポキシ系熱硬化性フィルム接着材に限定されるものではなく、アクリル系などの接着材や、熱可塑性ポリイミドなどに代表される熱可塑性接着材であっても構わない。また、接着材層13は、フィルム状である必要はなく、ワニス状の樹脂を塗布してもよい。剥離用樹脂フィルム14としては、ポリイミドの他に、PETやPENなどのプラスチックフィルムを使用することも可能であり、UV照射によって接着や剥離が可能なフィルムを使用することもできる。
次に、上記工程により作製された、図4に示す構造の基板における貫通電極を形成する箇所の絶縁基板12、接着材層13、剥離用樹脂フィルム14に対して、図5に示すように、YAGレーザによって例えば直径100μmのビアホール15を開口する。なお、本実施の形態では、アンテナ構成用パターン11A,11B,11Cのコンタクトパッド11a,11b,11cには予めビアホール15と連通する小孔16を形成しておいたが、YAGレーザを用いた孔開けの工程で行ってもよい。そして、ビアホール15を形成した後に、例えばCFおよびOの混合ガスによるプラズマデスミア処理を施す。
なお、本実施の形態では、YAGレーザを用いてビアホール15を形成したが、この他の手段として炭酸ガスレーザ、エキシマレーザなどを使用してもよいし、ドリル加工や化学的なエッチングによってビアホール15を形成してもよい。また、プラズマデスミア処理は、使用するガスの種類がCFおよびOの混合ガスに限定されるものではなく、Arなどのその他の不活性ガスを使用することもできるし、ドライ処理ではなく薬液を用いたウェットデスミア処理を行っても勿論よい。
その後、剥離用樹脂フィルム14側から、ビアホール15および小孔16に導電性ペーストをスクリーン印刷法により充填して部品接続用貫通電極17Aおよびアンテナ構成用パターン11B,11C同士を接続するための貫通電極17B(図12参照)を形成する。本実施の形態では、導電性ペーストとして、ニッケル(Ni)、銀(Ag)、銅(Cu)から選択される少なくとも1種上の低電気抵抗性を有する金属粒子と、錫(Sn)、ビスマス(Bi)、インジウム(In)、鉛(Pb)から選択される少なくとも1種類の低融点金属粒子を含み、エポキシ樹脂を主成分とするバインダ成分を混合したペーストを用いた。
上述のように部品接続用貫通電極17Aおよび貫通電極17Bを形成した後に、剥離用樹脂フィルム14を剥離することにより、図6に示すよう部品接続用貫通電極17A,貫通電極17B(図6は部品接続用貫通電極17Aのみを示す。)の第1のアンテナ構成用配線板10の作製が完了する。
〈第2のアンテナ構成用配線板の作製方法〉
第2のアンテナ構成用配線板20は、図8および図10に示すように、一方の表面に複数のアンテナ構成用パターン21が形成された絶縁基板22の他方の表面に接着材層23を備えている。それぞれのアンテナ構成用パターン21の長手方向の両端はコンタクトパッド21aとなっている。図10に示すように、複数のアンテナ構成用パターン21は、上記した第1のアンテナ構成用配線板10と重ね合わせたときに(図11参照)、アンテナ構成用パターン11Bと反対の方に傾くように形成されている。しかも、このとき、アンテナ構成用パターン21の両端部のコンタクトパッド21aは、第1のアンテナ構成用配線板10の中央の一対のコンタクトパッド11aを除く、コンタクトパッド11b,11cと過不足無く対向する位置になるように設定されている。
そして、絶縁基板22におけるコンタクトパッド21aに対応する位置には、ビアホールが形成されこのビアホール内にアンテナ構成用パターン同士を接続するための貫通電極24(図12参照)が形成されている。すなわち、これら貫通電極24は、上記した第1のアンテナ構成用配線板10の貫通電極17Bと対応する位置に形成されている。なお、この第2のアンテナ構成用配線板20の中央には、通信用ICチップ30を収納するための部品収納用貫通口25が開設されている。
このような構造の第2のアンテナ構成用配線板20を作製するには、先ず絶縁基板22に、上記第1のアンテナ構成用配線板の作製と同様に、アンテナ構成用パターン21をパターニングする。そして、絶縁基板22にYAGレーザなどを用いてビアホールを形成して、貫通電極24を導電性ペーストをスクリーン印刷法により充填して形成する。その後、絶縁基板22の他方の表面に接着材層23を上記第1のアンテナ構成用配線板の作製方法と同様に貼り合わせればよい。その後、部品収納用貫通口25を形成することにより、第2のアンテナ構成用配線板20の作製が終了する。
〈通信用ICチップの仮留め工程〉
図7に示すように、上述した第1のアンテナ構成用配線板10に対して電子部品としての通信用ICチップ30を仮留めする。この通信用ICチップ30は、周知のWLPプロセスを用いて加工されたものであり、素子が作り込まれたシリコンチップ31の上面に電極パッド32が形成され、この電極パッド32を露出させる絶縁層33が形成され、絶縁層33上に電極パッド32に接続された再配線層34が形成されている。
このような通信用ICチップ30を第1のアンテナ構成用配線板10に仮留めするには、第1のアンテナ構成用配線板10に対して半導体チップ用マウンタを用いて通信用ICチップ30を位置合わせして、接着材層13および導電性ペーストの硬化温度以下で加熱すればよい。
〈張り合わせ工程〉
次に、図8に示すように、第1のアンテナ構成用配線板10の下に第2のアンテナ構成用配線板20を重ね合わせる。このとき、上述したように、第1のアンテナ構成用配線板10側の貫通電極17Bと第2のアンテナ構成用配線板20側の貫通電極24とが突き合わされた状態となり、上下のアンテナ構成用配線板10,20でアンテナコイル(ソレノイドコイル)が構成された状態となる。また、通信用ICチップ30は、第2のアンテナ構成用配線板20の部品収納用貫通口25内に収納された状態となる。
そして、図8に示すように、通信用ICチップ30および第2のアンテナ構成用配線板20の下面に、表面に絶縁膜41が形成された、例えば厚さ100μmの銅箔42でなる支持基板40を配置する。なお、この支持基板40は、銅箔42に限定されるものではなく、他の金属板や樹脂板を使用することができるが、通信用ICチップ30の主構成物であるシリコンと膨張係数が近く、放熱特性に優れる物質であることが望ましく、例えばモリブデン(Mo)、インバー合金を銅で両側から挟み込んだ金属板などを使用することもできる。
次いで、図8に示すように、第1のアンテナ構成用配線板10の上に、例えばポリイミド樹脂フィルムでなる絶縁層51に接着材層52を張り合わせた封止基材50を重ね合わせる。なお、絶縁層51は、ポリイミド樹脂フィルムでなくてもよく、液晶ポリマーなどのプラスチックフィルムを使用してもよい。
〈加熱プレス工程〉
次に、図8に示したように重ね合わせた積層体を、真空キュアプレス機を用いて、1kPa以下の減圧雰囲気中で加熱圧着し、一括で図1に示すような多層配線板1の製造が完了する。
このとき、接着材層13,23,52の硬化と同時に導電性ペーストの硬化および合金化が達成される。このようにして、各アンテナ構成用パターン11A,11B,11C,21は、一体的に接続されて、アンテナコイルを構成する。
上述の多層配線板の製造方法では、層間接続に導電性ペーストを用いた貫通電極でビアを構成するため、従来のようなビルドアップ方式に比べ、全ての工程においてめっき工程を排除でき、生産時間を大幅に短縮できる。さらに、各層を構成する基材は、予め作製されるため、各工程で発生する不良品をその都度排除でき、歩留まりを向上できる。
また、導電性ペーストには、接着材層の硬化温度程度の低温で合金化する組成、例えば錫(Sn)と銅(Cu)の成分を有する配合で、Sn/(Cu+Sn)で表される重量比が0.25〜0.75となる割合なる導電性ペーストを適用することで、金属粒子同士、または、銅の接続パッドと導電性ペーストの金属粒子が拡散接合し、バルクの金属やめっきによる層間接続と同等の接続信頼性を確保できる。
さらに、本実施の形態では、絶縁基板12,22を樹脂含む材料で構成したことにより、加熱プレスにより接着材層13,23と絶縁基板12,22とが一体化し易く、通信用ICチップ30を接着材層や絶縁基板を構成する樹脂で包囲させることができる。
(第2の実施の形態)
図13は、本発明の第2の実施の形態に係る多層配線板1Aの通信用ICチップ30を搭載した箇所の断面図である。本実施の形態において上記第1の実施の形態の多層配線板1と同一部材は同一の符号を付して説明を省略する。
本実施の形態の多層配線板1Aは、通信用ICチップ30を第2のアンテナ構成用配線板20側に接続して、第1のアンテナ構成用配線板10と第2のアンテナ構成用配線板20とでなるアンテナ部2と、通信用ICチップ30との距離を離すことで通信用ICチップ30の誤動作が発生することを抑制する構造を有する。
本実施の形態では、第1のアンテナ構成用配線板10と第2のアンテナ構成用配線板20とでなるアンテナ部2に接続された通信用ICチップ30を収納する部品収納用貫通口を有する板状のスペーサ60を備えている。スペーサ60は、ほぼ通信用ICチップ30と同程度の厚さを有するものであり、絶縁層61の下面に接着材層62を備えている。
なお、本実施の形態の多層配線板1Aでは、上記第1の実施の形態の多層配線板1が備える封止基材50を省略した構造であるが、第1のアンテナ構成用配線板10の上に封止基材を設けても勿論よい。
本実施の形態の多層配線板1Aによれば、上述したように、アンテナ部2と、通信用ICチップ30との距離を離すことで通信用ICチップ30の誤動作が発生することを抑制することができる。本実施の形態における他の作用・効果は、上記第1の実施の形態と同様である。
(その他の実施の形態)
上述した実施の形態の開示の一部をなす論述および図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例および運用技術が明らかとなろう。
例えば、上述の第1の実施の形態では、第1のアンテナ構成用配線板10と第2のアンテナ構成用配線板20のアンテナ構成用パターンを形成する面が互いに反対側に位置する構成であるが、アンテナコイル(ソレノイドコイル)の設計値によっては、図13に示した第2の実施の形態と同様に、両方のアンテナ構成用配線板10,20のアンテナ構成用パターン11、21が同一方向を向くように配置し、貫通電極が接着材層に面するアンテナ構成用パターンに直接接続する構成としてもよい。
上述した第1および第2の実施の形態では、絶縁基板の一方の面にアンテナ構成用パターンを形成したが、絶縁基板の両面にアンテナ構成用パターンを形成する構成としてもよい。例えば、ダイポールタイプアンテナを形成する場合は、アンテナ部2を構成するアンテナ構成用配線板を単層としてもよい。また、ソレノイドコイルの断面積を大きくしたい場合などに積層厚さを稼ぐ場合は、アンテナ構成用パターンが形成されたアンテナ構成用配線板を3層以上備える構成としてもよい。
上述した第1および第2の実施の形態に係る多層配線板1では、支持基板40を設けているが、多層配線板1の製造完了後にこれを取り除いてもよい。
また、上述した第1および第2の実施の形態に係る多層配線板1では、電子部品として通信用ICチップ30を適用したが、他の半導体装置やセンサ部品などを適用できることは勿論である。
さらに、上述した第1および第2の実施の形態に係る多層配線板1では、アンテナ部2がソレノイドタイプのアンテナを構成したが、片面銅張板や両面銅張板をパターニング、積層することで形成可能な如何なる形状のアンテナに本発明を適用できる。
また、上述した第1および第2の実施の形態では、絶縁基板12,22として樹脂製のフィルムを用いたが、少なくとも樹脂材料を含む絶縁基板を用いて加熱プレス時に溶融した樹脂材料が電子部品を埋設させる構成としてもよい。
本発明の第1の実施の形態に係る多層配線板の断面図である。 本発明の第1の実施の形態に係る多層配線板の製造方法を示す工程断面図である。 本発明の第1の実施の形態に係る多層配線板の製造方法を示す工程断面図である。 本発明の第1の実施の形態に係る多層配線板の製造方法を示す工程断面図である。 本発明の第1の実施の形態に係る多層配線板の製造方法を示す工程断面図である。 本発明の第1の実施の形態に係る多層配線板の製造方法を示す工程断面図である。 本発明の第1の実施の形態に係る多層配線板の製造方法を示す工程断面図である。 本発明の第1の実施の形態に係る多層配線板の製造方法を示す工程断面図である。 本発明の第1の実施の形態に係る多層配線板の第1のアンテナ構成用配線板を示す平面図である。 本発明の第1の実施の形態に係る多層配線板の第1のアンテナ構成用配線板を示す平面図である。 本発明の第1の実施の形態に係る多層配線板の第1のアンテナ構成用配線板と第2のアンテナ構成用配線板を重ねた状態を示す平面図である。 図11のB−B断面図である。 本発明の第2の実施の形態に係る多層配線板の断面図である。
符号の説明
1,1a 多層配線板
2 アンテナ部
10 第1のアンテナ構成用配線板
20 第2のアンテナ構成用配線板
11A,11B,11C,21 アンテナ構成用パターン
12,22 絶縁基板
13,23,52 接着材層
14 剥離用樹脂フィルム
15 ビアホール
17A 部品接続用貫通電極
17B 貫通電極
24 貫通電極
25 部品収納用貫通口
30 通信用ICチップ
40 支持基板
50 封止基材
60 スペーサ

Claims (8)

  1. 少なくとも片面にアンテナ構成パターンが形成された、複数の絶縁基板が接着材層を介して積層され、積層方向に離れた前記アンテナ構成パターン同士が貫通電極を介して接続されてアンテナコイルを形成するアンテナ部と、
    前記アンテナ部の前記アンテナコイルに電気的に接続され、かつ前記接着材層に埋設された電子部品と、
    を備えることを特徴とする多層配線板。
  2. 前記電子部品は、前記絶縁基板を貫通して前記アンテナ構成パターンに接続された部品接続用貫通電極に接続されていることを特徴とする請求項1記載の多層配線板。
  3. 前記電子部品は、前記複数の絶縁基板のうち積層方向の一方の最外側に位置する前記絶縁基板に形成された部品収納用貫通口内に配置され、前記部品収納用貫通口を有する前記絶縁基板と積層方向に隣接する前記絶縁基板に形成された前記部品接続用貫通電極に接続されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載された多層配線板。
  4. 前記電子部品は、前記複数の絶縁基板のうち積層方向の一方の最外側に位置する前記絶縁基板に形成された前記部品接続用貫通電極に接続され、かつ当該電子部品と同程度の厚さを有する板状のスペーサに形成された部品収納用貫通口内に配置されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載された多層配線板。
  5. 少なくとも片面にアンテナ構成パターンが形成された絶縁基板と、前記絶縁基板の少なくとも一方の面に設けられた接着材層とでなる複数のアンテナ構成用配線板を用意する工程と、
    前記複数のアンテナ構成用配線板のいずれかの前記アンテナ構成パターンに電気的に接続される電極端子を有する電子部品を用意する工程と、
    前記複数のアンテナ構成用配線板を積み重ねて前記電子部品を実装位置に配置した状態で、一括して加熱プレスを行って、前記アンテナ構成パターン同士を電気的に接続すると共に、前記電子部品を前記アンテナ構成パターンに電気的に接続し、かつ前記接着材層に埋設させる工程と、
    を備えることを特徴とする多層配線板の製造方法。
  6. 前記加熱プレスを行う前に、
    前記複数のアンテナ構成用配線板のうち少なくともいずれかのアンテナ構成用配線板の前記絶縁基板および前記接着材層には、前記アンテナ構成用パターン同士を接続するためのビアホールを開設し、
    前記電子部品の電極端子が接続される前記アンテナ構成用配線板の前記絶縁基板および前記接着材層には、前記アンテナ構成パターンに接続されるビアホールを開設し、
    前記ビアホール内に導電性ペーストでなる貫通電極を形成しておくことを特徴とする請求項5記載の多層配線板の製造方法。
  7. 前記加熱プレスを行う前に、前記複数のアンテナ構成用配線板のいずれかに部品収納用貫通口を形成しておき、前記部品収納用貫通口に前記電子部品を配置させることを特徴とする請求項5または請求項6に記載された多層配線板の製造方法。
  8. 前記電子部品の周囲を取り囲むように、当該電子部品と同程度の厚さを有する板状のスペーサを配置させることを特徴とする請求項5または請求項6に記載された多層配線板の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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