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JP2008181886A - プラズマディスプレイ装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】蛍光体の輝度劣化や色度変化、又は放電特性の改善され、初期特性が高い蛍光体及びプラズマディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイ装置は、1色又は複数色の放電セルが複数配列されるとともに、各放電セルに対応する色の蛍光体層(110B,110R,110G)が配設され、前記蛍光体層が紫外線により励起されて発光するプラズマディスプレイパネル(100)を備えたプラズマディスプレイ装置であって、前記蛍光体層は青色蛍光体(110B)を含み、かつ前記青色蛍光体は、Wの元素を含むアルカリ土類金属アルミン酸塩蛍光体で構成する。
【選択図】 図2

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネルや無水銀蛍光ランプ等に使用されるプラズマディスプレイ装置に関するものである。
近年、コンピュータやテレビなどの画像表示に用いられているカラー表示デバイスにおいて、プラズマディスプレイパネル(以下PDPともいう)を用いた表示装置は、大型で薄型軽量を実現することのできるカラー表示デバイスとして注目されている。PDPによるプラズマディスプレイ装置は、いわゆる3原色(赤、緑、青)を加法混色することにより、フルカラー表示を行っている。このフルカラー表示を行うために、プラズマディスプレイ装置には3原色である赤(R)、緑(G)、青(B)の各色を発光する蛍光体層が備えられ、この蛍光体層を構成する蛍光体粒子はPDPの放電セル内で発生する紫外線により励起され、各色の可視光を生成している。
上記各色の蛍光体に用いられる化合物としては、例えば、赤色を発光する(YGd)BO3:Eu3+、Y23:Eu3+、緑色を発光するZn2SiO4:Mn2+、青色を発光するBaMgAl1017:Eu2+が知られている。これらの各蛍光体は、所定の原材料を混ぜ合わせた後、1000℃以上の高温で焼成することにより固相反応されて作製される(例えば、非特許文献1参照)。この焼成により得られた蛍光体粒子は、粉砕してふるい分け(赤、緑の平均粒径:2μm〜5μm、青の平均粒径:3μm〜10μm)を行ってから使用している。
蛍光体粒子を粉砕、ふるい分け(分級)する理由は、一般にPDPに蛍光体層を形成する場合において各色蛍光体粒子をペーストにしてスクリーン印刷する手法が用いられており、ペーストを塗布した際に蛍光体の粒子径が小さく、均一である(粒度分布がそろっている)方がよりきれいな塗布面が得易いためである。つまり、蛍光体の粒子径が小さく、均一で形状が球状に近いほど、塗布面がきれいになり、蛍光体層における蛍光体粒子の充填密度が向上するとともに粒子の発光表面積が増加し、アドレス駆動時の不安定性も改善される。理論的にはプラズマディスプレイ装置の輝度を上げることができると考えられるからである。
しかし、蛍光体粒子の粒径を小さくすることで蛍光体の表面積が増大したり、蛍光体表面の欠陥が増大したりする。そのため、蛍光体表面に多くの水や炭酸ガス、又は炭化水素系の有機物が付着しやすくなる。特に、2価のユーロピウム(Eu)を付活材とするアルカリ土類金属アルミン酸塩蛍光体であるBa1-xMgAl1017:EuxやBa1-x-ySryMgAl1017:Eux(但し、0.03≦X≦0.20、0.1≦Y≦0.5)からなる青色蛍光体の場合は、これらの結晶構造が層状構造を有しており(例えば、非特許文献2参照)、その層の中でBa原子を含有する層(Ba−O層)近傍の酸素(O)に欠損を有している(例えば、非特許文献3参照)。
そのため、蛍光体のBa−O層の表面に空気中に存在する水が選択的に吸着してしまう。したがって、パネル製造工程中で水が大量にパネル内に放出され、放電中に蛍光体やMgOと反応して輝度劣化(特に青色や、緑色の輝度劣化)やパネルの色度変化(色度変化による色ずれや画面の焼き付け)、又は駆動マージンの低下や放電電圧の上昇といった課題が発生する。また酸素欠陥に147nmの真空紫外光(VUV)が吸収されることで、欠陥がさらに増殖されるため蛍光体の輝度劣化がさらに大きくなると言う課題も発生する。これらの課題を解決するために、従来Ba−O層の欠陥の修復することを目的に蛍光体表面にAl23の結晶を全面にコーティングする方法が提案されている(例えば特許文献1参照)。しかし、全面にコートすることによって、紫外線の吸収が起こり、蛍光体の発光輝度が低下するという課題及び紫外線による輝度の低下という課題があった。
蛍光体ハンドブックP219、225オーム社 ディスプレイアンドイメージング1999.Vol.7、pp225-234 応用物理、第70巻第3号2001年pp310 特開2001−55567号公報
本発明は上記課題に鑑みなされたもので、蛍光体の輝度劣化や色度変化、又は放電特性の改善され、初期特性が高いプラズマディスプレイ装置を提供する。
本発明のプラズマディスプレイ装置は、1色又は複数色の放電セルが複数配列されるとともに、各放電セルに対応する色の蛍光体層が配設され、前記蛍光体層が紫外線により励起されて発光するプラズマディスプレイパネルを備えたプラズマディスプレイ装置であって、前記蛍光体層は青色蛍光体を含み、かつ前記青色蛍光体は、Wの元素を含むアルカリ土類金属アルミン酸塩蛍光体で構成したことを特徴とするプラズマディスプレイ装置。
本発明によれば、アルカリ土類金属アルミン酸塩蛍光体である青色蛍光体の結晶中のMg、Al、Ba元素を、Wの元素で置換したことにより、青色蛍光体の酸素の欠陥を少なくして蛍光体層の各種工程での輝度劣化を防止し、パネルの輝度劣化や色度変化又は放電特性の改善を行うことができる。これにより、パネルのアドレスミス防止や色むら、色ずれの低減が図れ、初期特性と信頼性の高いプラズマディスプレイ装置を実現することができる。
まず、青色蛍光体のBa−O層近傍の酸素欠陥を無くすことによる作用効果について説明する。
PDPなどに用いられている蛍光体は、固相反応法や水溶液反応法等で作製されているが、粒子径が小さくなると欠陥が発生しやすくなる。特に固相反応では蛍光体を焼成後粉砕することで、多くの欠陥が生成することが知られている。また、パネルを駆動する時の放電によって生じる波長が147nmの紫外線によっても、蛍光体に欠陥が発生するということも知られている(例えば、電子情報通信学会技術研究報告、EID99−942000年1月27日)。
特にアルカリ土類金属アルミン酸塩の青色蛍光体であるBaMgAl1017:Euは、蛍光体自体、特にBa−O層に酸素欠陥を有していることも知られている(例えば、応用物理、第70巻第3号2001年PP310)。
図6は、BaMgAl1017:Eu青色蛍光体のBa−O層の構成を模式的に示した図である。
従来の青色蛍光体について、これらの欠陥が発生すると、それ自体が輝度劣化の原因となるとされてきた。すなわち、パネル駆動時に発生するイオンによる蛍光体の衝撃によってできる欠陥や、波長147nmの紫外線によってできる欠陥が劣化の原因であるとされてきた。
本発明者らは、輝度劣化の原因の本質は欠陥が存在することだけで起こるのではなく、Ba−O層近傍の酸素(O)欠陥に選択的に水や炭酸ガス又は炭化水素系ガスが吸着し、その吸着した状態に真空紫外光(VUV)やイオンが照射されることによって蛍光体が水と反応して輝度劣化や色ずれが起こることを見出した。すなわち、青色蛍光体中のBa−O層近傍の酸素欠陥に多くの水や炭酸ガス又は炭化水素ガスを吸着することにより、放電中に吸着した水や炭酸ガス又は炭化水素がパネル内に拡散して、青色の劣化だけでなく緑色の劣化も起こるという知見を得た。
これらの知見から青色蛍光体のBa−O層近傍の酸素欠陥を低減させることで、青色蛍光体に吸着する水や炭酸ガス、炭化水素ガスの吸着を大幅に低減させ、パネル製造工程中やパネル駆動時の青色及び緑色の輝度劣化防止を行い、色むらや画面の焼き付きのない長寿命のプラズディスプレイ装置を得た。すなわち、Ba−O層近傍の酸素欠陥を低減させるために、Ba1-xMgAl1017:Eux又はBa1-x-ySryMgAl1017:Eux(但し、0.03≦X≦0.20、0.1≦Y≦0.5)の結晶構造を有する青色蛍光体のアルミニウム(Al)、マグネシウム(Mg)、バリウム(Ba)元素の一部を、元素(Nb,Ta,W,B)で置換したり、これらのイオン又は元素の近傍に配置させることで、Ba−O層近傍の酸素欠陥を低減させることができた。
ここで、Ba1-xMgAl1017(但し、0.03≦X≦0.20)中の陽イオンを、特定の元素(Nb,Ta,W,B)を添加して置換することの作用効果について説明する。
青色蛍光体であるBa1-xMgAl1017:Eux(但し、0.03≦x≦0.20)中のAl、Mg、Baは、それぞれ3価(Al)又は2価(Mg、Ba、Sr)のプラスイオンとして存在している。その内のいずれかの位置又は近傍に、主にプラスイオンとして存在するNb,Ta,W及びBから選ばれる少なくとも一つの元素又はイオンを存在させることにより、従来のものよりもプラスの電荷が結晶中に増大する。このプラス(+)電荷を中和するために(電荷を補償するために)Ba元素の近傍酸素欠陥を負電荷を持つ酸素が埋めるため、結果としてBa−O層近傍の酸素欠陥が低減できるものと考えられる。すなわち3〜5価の特定の元素は、より多くの酸素を引き寄せるため効率よく酸素欠陥を補償できる。元素Cr、Se、Te、Mo、W、Re等の内、Nb,Ta,W,Bの添加が特に選択的に効果が大きいことを見出した。
蛍光体の製造方法としては、従来の酸化物や硝酸塩又は炭酸化物原料をフラックスを用いた固相焼結法や、有機金属塩や硝酸塩を用い、これらを水溶液中で加水分解したり、アルカリ等を加えて沈殿させる共沈法を用いて蛍光体の前駆体を作製し、次にこれを熱処理する液相法、又は蛍光体原料が入った水溶液を加熱された炉中に噴霧して作製する液体噴霧法等の蛍光体の製造方法が考えられるが、いずれの方法で作製した蛍光体を用いてもBa1-xMgAl1017:Eux(但し、0.03≦x≦0.20)中のAl、Mg、Ba元素の一部を、特定の元素(Nb,Ta,W,B)で置換することで効果があることが判明した。
まず、蛍光体の作製方法の一例として、青色蛍光体の固相反応法による製法について説明する。原料として、BaCO3、MgCO3、Al23、Eu23、MO3(ただし、Mは、Nb,Ta,W,B)等の炭酸化物や酸化物と、焼結促進剤であるフラックス(AlF3、BaCl2)を少量加えて1400℃で2時間焼成した後、これを粉砕及びふるい分けを行い、次に1500℃で2時間還元性雰囲気(H2 5vol%,N2 75vol%)中で焼成し、再び粉砕とふるい分けを行い、蛍光体とする。次に、前記還元工程において作製した蛍光体の欠陥をさらに低減するために蛍光体が再焼結しない温度の酸化雰囲気中でアニールして青色蛍光体とする。
次に、水溶液から蛍光体を作製する場合(液相法)は、蛍光体を構成する元素を含有する有機金属塩、例えばアルコキシドやアセチルアセトン又は硝酸塩を水に溶解した後、加水分解して共沈物(水和物)を作製し、それを水熱合成(オートクレーブ中で結晶化)したり、空気中で焼成又は高温炉中に噴霧して得られた粉体を1500℃で2時間、還元性雰囲気(H25vol%,N275vol%)中で焼成して蛍光体とする。上記の方法で得られた青色蛍光体を粉砕した後、ふるい分けを行ない、次に蛍光体が再焼結しない温度の酸化雰囲気中でアニールして蛍光体とする。
なお、Al、Mg、Baと置換する特定の元素(Nb,Ta,W,B)の置換量は、Al、Mg、Baに対して0.001モル%以上3モル%以下の範囲が望ましい。置換量が0.001モル%未満では輝度劣化を防止する効果が少なく、3モル%を超えると蛍光体の輝度が低下する傾向となる。
このように従来の青色蛍光体粉作製工程を用いて、Ba1-xMgAl1017:Eux(但し、0.03≦x≦0.20)結晶中のAl、Mg、Baイオンを特定のイオン又は元素(Nb,Ta,W,B)で置換することで、青色蛍光体や緑色蛍光体の輝度を低下させることなく、水や真空紫外光(VUV)に対して強い(蛍光体焼成工程や、パネル封着工程、パネルエージング工程又は、パネル駆動中に発生する水や炭酸ガスに耐久性を持つ)蛍光体が得られる。
このように本発明に係るプラズマディスプレイ装置は、1色又は複数色の放電セルが複数配列されるとともに、各放電セルに対応する色の蛍光体層が配設され、前記蛍光体層が紫外線により励起されて発光するPDPを備え、前記青色蛍光体層は、粒度分布のそろったBa1-xMgAl1017:Eux又はBa1-x-ySryMgAl1017:Eux(但し、0.03≦X≦0.20、0.1≦Y≦0.5)結晶中のAl、Mg、Baイオンを特定のイオン(Nb,Ta,W,B)で置換した青色蛍光体粒子から構成されている。
そして、Ba1-xMgAl1017:Eux又はBa1-x-ySryMgAl1017:Eux(但し、0.03≦X≦0.20、0.1≦Y≦0.5)のAl又はMgイオンの一部をイオンM(Nb,Ta,W,B)で置換した青色蛍光体粒子の粒径は0.05μm〜3μmと小さく、粒度分布も良好である。また、蛍光体層を形成する蛍光体粒子の形状が球状であれば、さらに充填密度が向上し、実質的に発光に寄与する蛍光体粒子の発光面積が増加する。したがって、プラズマディスプレイ装置の輝度も向上すると共に、輝度劣化や色ずれが抑制されて輝度特性に優れたプラズマディスプレイ装置を得ることができる。
前記青色蛍光体は、タングステン(W)を含むアルカリ土類金属アルミン酸塩蛍光体であり、前記蛍光体粒子の表面近傍でのタングステン(W)の濃度が蛍光体粒子全体のタングステン(W)の平均濃度より高いことが好ましい。
本発明においては、前記アルカリ土類金属アルミン酸塩が、一般式xBaO・(1−x)SrO・zMgO・5Al23(0.60≦x≦1.00,1.00≦z≦1.05)で表されるアルカリ土類金属アルミン酸塩からなり、前記アルカリ土類金属アルミン酸塩に対し、Eu換算で0.40〜1.70モル%のEu酸化物及びW換算で0.04〜0.80モル%のW酸化物を含むことが好ましい。
また、前記蛍光体粒子の表面近傍でのWの濃度が0.30〜9.00モル%であることが好ましい。
また、前記蛍光体粒子の表面近傍でのEu濃度が、蛍光体粒子全体のEuの平均濃度より高く、かつ、蛍光体粒子の表面近傍での2価Eu率(全Eu元素のうちの2価Eu元素の割合)が蛍光体粒子全体の平均の2価Eu率よりも低いことが好ましい。
また、前記蛍光体粒子の表面近傍での2価Eu率が5〜50モル%であり、蛍光体粒子全体の平均の2価Eu率が60〜95モル%であることが好ましい。
また、前記蛍光体粒子の表面近傍での2価Eu率が5〜15モル%であり、蛍光体粒子全体の平均の2価Eu率が60〜80モル%であることが好ましい。
ここで、本発明に係るプラズマディスプレイ装置の製造方法について説明すると、後述する背面パネル(背面基板)の放電セル内に、Ba1-xMgAl1017:Eux又はBa1-x-ySryMgAl1017:Eux(但し、0.03≦X≦0.20、0.1≦Y≦0.5)の青色蛍光体のAl、Ba又は、Mgイオンをイオン(Nb,Ta,W,B)で置換した蛍光体粒子及び赤色、緑色蛍光体粒子とバインダとからなるペーストを配設する配設工程と、前記背面パネル上に配設されたペーストに含まれるバインダを焼失させる焼成工程と、焼成工程により蛍光体粒子が基板上に配設された背面パネルと後述する前面パネルとを重ね合わせて封着する工程とを備える。
なお、蛍光体粒子の平均粒径は、0.1μm〜2.0μmの範囲がさらに好ましい。また粒度分布は最大粒径が平均値の4倍以下で最小値が平均値の1/4以上がさらに好ましい。これは、蛍光体粒子において紫外線が到達する領域は、粒子表面から数百nm程度と浅く、ほとんど表面しか発光しない状態であり、こうした蛍光体粒子の粒径が2.0μm以下になれば、発光に寄与する粒子の表面積が増加して蛍光体層の発光効率は高い状態に保たれる。また3.0μmを超えると、蛍光体の厚みが20μm以上必要となり、放電空間が十分確保できない傾向となる。0.05μm未満であると、欠陥が生じやすく、輝度が向上しない傾向となる。蛍光体層の厚みは、蛍光体粒子の平均粒径の8〜25倍の範囲内にすれば、蛍光体層の発光効率が高い状態を保ちつつ放電空間を十分に確保することができるので、プラズマディスプレイ装置における輝度を高くすることができる。
また、本発明の蛍光体においては、前記蛍光体粒子の表面近傍でのM(Nb,Ta,W,B)の濃度が蛍光体粒子全体のMの平均濃度より高い蛍光体であることが好ましい。かかる蛍光体とすることにより、真空紫外光照射と熱による発光強度の劣化及び色度変化を小さくすることができる。具体的には、前記蛍光体粒子の表面近傍における元素Mの濃度は、蛍光体粒子全体の平均濃度より2倍以上高いことがさらに好ましく、とくに3倍以上が好ましい。
そして、蛍光体粒子の表面近傍でのMの濃度としては、蛍光体粒子全体のMの平均濃度より高く、且つアルカリ土類金属アルミン酸塩に対する含有割合(好ましくは上記一般式で示されるアルカリ土類金属アルミン酸塩に対する含有割合)で、0.30〜9.00モル%であることが好ましい。そして、蛍光体粒子の表面近傍でのMの濃度は蛍光体粒子全体のMの平均濃度より高ければよいが、好ましくは0.26〜8.20モル%の範囲高いことが好ましい。
なお、蛍光体粒子の表面近傍とは、真空紫外線等の短波長の光によって蛍光体が励起され発光する領域程度であり、具体的には蛍光体表面から50nm程度である。さらに好ましくは、蛍光体表面から10nmまでの平均値で示すこともできる。ただし、励起光の波長により蛍光体へ進入する深さは変わるため、これに限定するものではない。
蛍光体粒子の表面近傍でのM(Nb,Ta,W,B)濃度を蛍光体粒子全体のM(Nb,Ta,W,B)の平均の濃度より高くするには、蛍光体の焼成工程での雰囲気と温度を制御する方法が好ましい。具体的には、蛍光体の原料混合粉又は大気焼成粉を還元性雰囲気で焼成する第一ステップと、前記第一ステップの降温時又はその後に、不活性雰囲気での熱処理を行う第二ステップとを経る方法などが挙げられる。
ここで、このような蛍光体の製造方法の一例を説明する。
出発原料として、BaCO3,SrCO3,MgO,Al23,EuF3,Nb25,Ta25,WO3,B23を用い、これらを所定の組成になるよう秤量し、ボールミルを用いて純水中で湿式混合した。この混合物を乾燥させた後、還元性雰囲気に相当する窒素と水素の混合ガス(一例として、窒素96体積%、水素4体積%の混合ガス)中で1200〜1500℃で4時間還元焼成し、前記焼成温度から1000℃までを不活性雰囲気に相当する窒素中で降温し、さらに酸化性雰囲気に相当する窒素と酸素の混合ガス(一例として、窒素98体積%、酸素2体積%の混合ガス)中で室温まで冷却して蛍光体を得た。このように焼成温度及び降温過程での雰囲気を変化させることにより、蛍光体粒子中のM濃度分布、Eu濃度分布と2価Eu率を制御した。
蛍光体粒子の表面近傍でのM濃度(表面M濃度)、Eu濃度(表面Eu濃度)及び2価Eu率(表面2価Eu率)は、X線光電子分光法(XPS)により測定した。XPSの表面分析では、蛍光体の表面から10nmまでの元素の平均値を測定した。また、蛍光体粒子全体でのMの平均濃度(平均M濃度)、Eu平均濃度(平均Eu濃度)及び平均の2価Eu率(平均2価Eu率)は蛍光X線法により測定した。
作製した蛍光体の組成比と各元素濃度(平均M濃度、平均Eu濃度、平均2価Eu率、表面M濃度、表面Eu濃度、表面2価Eu率)及び波長146nmの真空紫外光100時間照射後の試料の発光強度Y/yの維持率(発光強度の初期値に対する照射後の発光強度値の割合)を表1に示す。ただし、Y及びyは国際照明委員会XYZ表色系における輝度Yと色度yであり、発光強度Y/yは相対値である。なお、表1において*印を付した試料は比較例である。
また、x、zは一般式xBaO・(1−x)SrO・zMgO・5Al23におけるx、zの値を示す。
Figure 2008181886
表1から明らかなように、本発明の蛍光体は、真空紫外光照射による発光強度の劣化が少ない。さらに、表面M濃度が0.30〜9.00モル%である試料では、特に劣化が少ないことが分かる。
また、試料番号2〜11の試料を大気中において500℃で1時間保持し、熱処理前後での発光強度と色度の変化を評価したところ、試料番号2の試料では発光強度、色度とも大きく変化したが、試料番号3〜11の試料の発光強度、色度ともほとんど変化しなかった。特に、表面2価Eu率が5〜50モル%で平均2価Eu率が60〜95モル%である試料では発光強度が全く変化せず、さらに、表面2価Eu率が5〜15モル%で平均2価Eu率が60〜80モル%である試料では色度も全く変化しなかった。
また、本発明において、次に示す最適な蛍光体の組合せとすることにより、色度変化(色ずれ、焼き付き)輝度劣化のないプラズマディスプレイ装置を得ることができる。
まず、青色蛍光体層に使用する最適な蛍光体粒子としては、特定のイオン又は元素(Nb,Ta,W,B)が添加されたBa1-xMgAl1017:Eux又はBa1-x-ySryMgAl1017:Euxで表される化合物を用いることができる。ここで、前記化合物におけるXの値は、0.03≦X≦0.20、0.1≦Y≦0.5であれば、輝度が高く好ましい。
赤色蛍光体層に使用する好適な蛍光体粒子としては、Y2-x3:Eux又は(Y、Gd)1-xBO3:Euxで表される化合物又はこれらの混合物を用いることができる。ここで、赤色蛍光体の化合物におけるXの値は、0.05≦X≦0.20であれば、輝度及び輝度劣化に対して優れた効果を発揮するため好ましい。
緑色蛍光体層に使用する好適な蛍光体粒子としては、Y1-xBO3:Tbx又はZn2-xSiO4:Mnxで表される化合物又はこれらの混合物を用いることができる。ここで、上記緑色蛍光体の化合物におけるXの値は、0.01≦X≦0.10であることが、輝度及び輝度劣化に対して優れた効果を発揮するため好ましい。
以下、本発明の一実施の形態に係るプラズマディスプレイ装置について図面を参照しながら説明する。
図1はPDPにおける前面ガラス基板を取り除いた概略平面図であり、図2はPDPの画像表示領域における部分断面斜視図である。なお、図1においては表示電極群、表示スキャン電極群、アドレス電極群の本数などについては分かり易くするため一部省略して図示している。この図1、図2を参照しながらPDPの構造について説明する。
図1に示すように、PDP100は、前面ガラス基板(図示せず)と、背面ガラス基板102と、N本の表示電極103と、N本の表示スキャン電極104(N本目を示す場合はその数字を付す)と、M本のアドレス電極107群(M本目を示す場合はその数字を付す)と、気密シール層121などからなり、各電極103、104、107による3電極構造の電極マトリックスを有しており、各表示スキャン電極104と各アドレス電極107との交点にセルが形成されている。122は放電空間、123は画像表示領域である。
このPDP100は、図2に示すように、前面ガラス基板101の一主面上に表示電極103群、表示スキャン電極104群、誘電体ガラス層105、MgO保護層106が配された前面パネルと、背面ガラス基板102の一主面上にアドレス電極107、誘電体ガラス層108、隔壁109、及び蛍光体層110R(赤色蛍光体)、蛍光体層110G(緑色蛍光体)、蛍光体層110B(青色蛍光体)が配置された背面パネルとを貼り合わせ、前面パネルと背面パネルとの間に形成される放電空間122内に放電ガスを封入することにより構成されている。図2の矢印は画像の表示方向である。
プラズマディスプレイ装置の表示駆動を行う場合は、図3に示すようにPDPに表示ドライバ回路153、表示スキャンドライバ回路154、アドレスドライバ回路155を接続する。そして、コントローラ152の制御にしたがい、点灯させようとする放電セルに、表示スキャン電極104とアドレス電極107に信号電圧を印加し、その間でアドレス放電を行う。その後、表示電極103、表示スキャン電極104間にパルス電圧を印加して維持放電を行う。この維持放電により、前記放電セルで紫外線が発生し、この紫外線により励起された蛍光体層が発光することで放電セルが点灯し、各色放電セルの点灯、非点灯の組み合わせによって画像が表示される。
次に、上述したPDP100について、その製造方法を図4及び図5を参照しながら説明する。
前面パネルは、前面ガラス基板101上に、まず各N本の表示電極103及び表示スキャン電極104(図2においては各2本のみ表示している。)を交互かつ平行にストライプ状に形成した後、その上を誘電体ガラス層105で被覆し、さらに誘電体ガラス層105の表面にMgO保護層106を形成することによって作製する。
表示電極103及び表示スキャン電極104は、銀からなる電極であって、電極用の銀ペーストをスクリーン印刷により塗布した後、焼成することによって形成する。
誘電体ガラス層105は、鉛系のガラス材料を含むペーストをスクリーン印刷で塗布した後、所定温度、所定時間(例えば560℃で20分)焼成することによって、所定の層の厚み(約20μm)となるように形成する。上記鉛系のガラス材料を含むペーストとしては、例えばPbO(70wt%)、B23(15wt%)、SiO2(10wt%)、及びAl23(5wt%)と有機バインダ(α−ターピネオールに10wt%のエチルセルローズを溶解したもの)との混合物を使用する。ここで、有機バインダとは樹脂を有機溶媒に溶解したものであり、エチルセルローズ以外に、樹脂としてアクリル樹脂、有機溶媒としてブチルカービトールなども使用することができる。さらに、こうした有機バインダに分散剤(例えば、グリセルトリオレエート)を混入させてもよい。
MgO保護層106は、酸化マグネシウム(MgO)から成るものであり、例えばスパッタリング法やCVD法(化学蒸着法)によって層が所定の厚み(約0.5μm)となるように形成する。
背面パネルは、まず背面ガラス基板102上に、電極用の銀ペーストをスクリーン印刷し、その後、焼成することによってM本のアドレス電極107を列方向に配列した状態で形成する。その上に鉛系のガラス材料を含むペーストをスクリーン印刷法で塗布して誘電体ガラス層108を形成し、その上に同じく鉛系のガラス材料を含むペーストをスクリーン印刷法により所定のピッチで繰り返し塗布した後、焼成することによって、隔壁109を形成する。この隔壁109により、放電空間122はライン方向に一つの放電セル(単位発光領域)毎に区画される。
図4はPDP100の一部断面図である。同図に示すように、隔壁109の間隙寸法W(一つの放電セルの幅)は、130μm〜240μm程度に規定される。これは、32インチ〜50インチのHD−TV(高密度−TV)の一般的な規定である。そして、隔壁109間の溝に、赤色(R)、緑色(G)、Ba1-xMgAl1017:Eux又はBa1-x-ySryMgAl1017:EuxのAl、Ba又は、Mg元素イオンをイオン又は元素(Nb,Ta,W,B)で置換した青色(B)の各蛍光体粒子と有機バインダとからなるペースト状の蛍光体インキを塗布し、これを400〜590℃の温度で焼成して有機バインダを焼失させることによって、各蛍光体粒子が結着してなる蛍光体層110R、110G、110Bが形成される。
この蛍光体層110R、110G、110Bのアドレス電極107上における積層方向の厚みLは、各色蛍光体粒子の平均粒径の約8〜25倍程度に形成することが望ましい。すなわち、蛍光体層に一定の紫外線を照射したときの輝度(発光効率)を確保するためには、蛍光体層は放電空間において発生した紫外線を透過させることなく吸収することが必要であり、蛍光体粒子が最低でも8層、好ましくは20層程度積層された厚みを保持することが望ましい。それ以上の厚みとなると、蛍光体層の発光効率はほとんどサチュレートしてしまうとともに、20層程度積層された厚みを超えると放電空間122の大きさを十分に確保できなくなるからである。
また、水熱合成法等により得られた蛍光体粒子のように、その粒径が十分小さく、かつ球状であれば、球状でない粒子を使用する場合と比べ、積層段数が同じ場合であっても蛍光体層の充填度が高まるとともに、蛍光体粒子の総表面積が増加するため、蛍光体層における実際の発光に寄与する蛍光体粒子表面積が増加し、さらに発光効率が高まる。
この蛍光体層110R、110G、110Bの合成方法、及び青色蛍光体層に用いる特定のイオン(Nb,Ta,W,B)が置換された青色蛍光体粒子の製造法については後述する。
このようにして作製された前面パネルと背面パネルは、前面パネルの各電極と背面パネルのアドレス電極とが直交するように重ね合わせるとともに、パネル周縁に封着用ガラスを介挿させ、これを例えば450℃程度で10〜20分間焼成して気密シール層121(図1)を形成することにより封着される。そして、一旦放電空間122内を高真空(例えば、1.1×10-4Pa)に排気した後、放電ガス(例えば、He−Xe系、Ne−Xe系の不活性ガス)を所定の圧力で封入することによってPDP100を作製する。
図5は蛍光体層110R、110G、110Bを形成する際に用いるインキ塗布装置200の概略構成図である。
図5に示すように、インキ塗布装置200は、供給容器210、加圧ポンプ220、ヘッダ230などを備え、蛍光体インキを蓄える供給容器210から供給される蛍光体インキは、加圧ポンプ220によりヘッダ230に加圧されて供給される。ヘッダ230にはインキ室230a及びノズル240が設けられており、加圧されてインキ室230aに供給された蛍光体インキは、ノズル240から連続的に吐出されるように構成されている。このノズル240の口径Dは、ノズルの目詰まり防止のため30μm以上とし、かつ塗布の際の隔壁からのはみ出し防止のため隔壁109間の間隔W(約130μm〜200μm)以下にすることが望ましく、通常30μm〜130μmに設定している。
ヘッダ230は、図示しないヘッダ走査機構によって直線的に駆動されるように構成されており、ヘッダ230を走査させるとともに、ノズル240から蛍光体インキ250を連続的に吐出することにより、背面ガラス基板102上の隔壁109間の溝に蛍光体インキが均一に塗布される。ここで、使用される蛍光体インキの粘度は25℃において、1500〜30000CPの範囲に保たれている。
なお、上記供給容器210には図示しない攪拌装置が備えられており、その攪拌により蛍光体インキ中の粒子の沈殿が防止される。またヘッダ230は、インキ室230aやノズル240の部分も含めて一体成形されたものであり、金属材料を機器加工ならびに放電加工することによって作製されたものである。
また、蛍光体層を形成する方法としては、上記方法に限定されるものではなく、例えばフォトリソ法、スクリーン印刷法、及び蛍光体粒子を混合させたフィルムを配設する方法など、種々の方法を利用することができる。
蛍光体インキは、各色蛍光体粒子、バインダ、溶媒とが混合され、1500〜30000センチポアズ(CP)となるように調合されたものであり、必要に応じて、界面活性剤、シリカ、分散剤(0.1〜5wt%)等を添加してもよい。
この蛍光体インキに調合される赤色蛍光体としては、(Y、Gd)1-xBO3:Eux、又はY2-x3:Euxで表される化合物が用いられる。これらは、その母体材料を構成するY元素の一部がEuに置換された化合物である。ここで、Y元素に対するEu元素の置換量Xは、0.05≦X≦0.20の範囲となることが好ましい。これ以上の置換量とすると、輝度は高くなるものの輝度劣化が著しくなることから実用上使用できにくくなると考えられる。一方、この置換量以下である場合には、発光中心であるEuの組成比率が低下し、輝度が低下して蛍光体として使用できなくなるためである。
緑色蛍光体としては、Zn2-xSiO4:Mnx又はY1-xBO3:Tbxの結晶構造を有する化合物が用いられる。Zn2-xSiO4:Mnxは、その母体材料を構成するZn元素の一部がMnに置換された化合物である。また、Y1-xBO3:Tbxは、その母体材料を構成するY元素の一部がTb元素に置換された化合物である。ここで、Zn元素に対するMn元素の置換量Xは、上記赤色蛍光体のところで説明した理由と同様の理由により、0.01≦X≦0.10の範囲となることが好ましい。またY元素に対するTb元素の置換量Xは、0.02≦x≦0.15の範囲となることが好ましい。
青色蛍光体としては、Ba1-xMgAl1017:Eux又はBa1-x-ySryMgAl1017:Eux(但し、0.03≦X≦0.20、0.1≦Y≦0.5)で表される化合物が用いられる。Ba1-xMgAl1017:Eux又はBa1-x-ySryMgAl1017:Eux(但し、0.03≦X≦0.20、0.1≦Y≦0.5)は、その母体材料を構成するBa元素の一部がEu又はSrに置換された化合物である。
また、Al、Mg、Ba元素イオンと置換させるイオン又は元素(Nb,Ta,W,B)の置換量は、0.001モル%〜3モル%の範囲が好ましい。
蛍光体インキに調合されるバインダとしては、エチルセルローズやアクリル樹脂を用い(インキの0.1〜10wt%を混合)、溶媒としては、α−ターピネオール、ブチルカービトールを用いることができる。なお、バインダとして、ポリメチルメタクリレート(PMA)やポリビニルアセテート(PVA)などのポリマーと、ジエチレングリコール、メチルエーテルなどの有機溶媒を用いることもできる。
また、本実施の形態において、蛍光体粒子には、固相焼成法、水溶液法、噴霧焼成法、水熱合成法により製造されたものが用いられ、以下にさらに詳しく説明する。
(1)青色蛍光体(Ba1-xMgAl1017:Eux
まず、混合液作製工程において、原料となる、硝酸バリウムBa(NO32、硝酸マグネシウムMg(NO32、硝酸アルミニウムAl(NO33、硝酸ユーロピウムEu(NO32をモル比が1−X:1:10:X(0.03≦X≦0.20)となるように混合し、これを水性媒体に溶解して混合液を作製する。この水性媒体にはイオン交換水、純水が不純物を含まない点で好ましいが、これらに非水溶媒(メタノール、エタノールなど)が含まれていても使用することができる。
また、イオン(Nb,Ta,W,B)をMg、Al、Baと置換するための原料としては、上記イオン(Nb,Ta,W,B)の硝酸塩、塩化物、有機化合物を用いる。その置換量としては、Al、Mg、Ba元素イオンと置換させるイオン又は元素(Nb,Ta,W,B)の置換量は、0.001モル%〜3モル%の範囲が好ましい。
次に、水和混合液を金又は白金などの耐食性、耐熱性を持つものからなる容器に入れて、例えばオートクレーブなどの加圧しながら加熱することができる装置を用い、高圧容器中で所定温度(100〜300℃)、所定圧力(0.2MPa〜10MPa)の下で水熱合成(12〜20時間)を行う。
次に、この粉体を還元雰囲気下、例えば水素を5%、窒素を95%含む雰囲気で、所定温度、所定時間、例えば1350℃で2時間焼成し、次にこれを分級することによりMg、Al、Baにイオン(Nb,Ta,W,B)を一部置換した所望の青色蛍光体Ba1-xMgAl1017:Euxを得ることができる。また、さらに真空紫外光(VUV)に対する、耐性を強めるために前記蛍光体を酸化雰囲気中(好ましくは、700℃〜1000℃)で焼成する。
水熱合成を行うことにより得られる蛍光体粒子は形状が球状となり、かつ平均粒径が0.05μm〜2.0μm程度の物が得られる。従来の固相反応から作製されるものに比べて小さな粒径に形成される。なお、ここでいう「球状」とは、ほとんどの蛍光体粒子の軸径比(短軸径/長軸径)が、例えば0.9以上1.0以下となるように定義されるものであるが、必ずしも蛍光体粒子のすべてがこの範囲に入る必要はない。すなわち、様々な粒子形状も含む。
また、前記水和混合物を金又は、白金の容器にいれずに、この水和混合物をノズルから高温炉に吹き付けて蛍光体を合成する噴霧法によっても青色蛍光体を作製できる。
(2)青色蛍光体(Ba1-x-ySryMgAl1017:Eux
この蛍光体(x、yは前記と同様)は、上述したBa1-xMgAl1017:Euxと原料が異なるのみで固相反応法で作製する。以下、その使用する原料について説明する。
原料として、水酸化バリウムBa(OH)2、水酸化ストロンチウムSr(OH)2、水酸化マグネシウムMg(OH)2、水酸化アルミニウムAl(OH)3、水酸化ユーロピウムEu(OH)2を必要に応じたモル比となるように秤量し、次にMg、Al、Baと置換する特定のイオン(Nb,Ta,W,B)の酸化物や水酸化物を必要に応じた比になるように秤量し、これらをフラックスとしてのAlF3と共に混合し、所定の温度(1300℃〜1400℃)、焼成時間(12〜20時間)を経ることにより、Mg、Alを特定のイオン(Nb,Ta,W,B)で置換したBa1-x-ySryMgAl1017:Euxを得ることができる。本方法で得られる蛍光体粒子の平均粒径は、0.1μm〜3.0μm程度のものが得られる。
次に、これを還元雰囲気下、例えば水素を5%、窒素を95%の雰囲気で所定温度(1000℃から1600℃)2時間焼成した後、空気分級機によって分級して蛍光体粉を作製する。なお、蛍光体の原料として、酸化物、硝酸塩、水酸化物を主に用いたが、Ba、Sr、Mg、Al、Eu、Mo、W等の元素を含む有機金属化合物、例えば金属アルコキシドやアセチルアセトン等を用いて蛍光体を作製することもできる。また前記還元された蛍光体を酸化雰囲気中でアニールすることで、さらに真空紫外光(VUV)に対する劣化の少ない蛍光体を得ることができる。
(3)緑色蛍光体(Zn2-xSiO4:Mnx
まず、混合液作製工程において、原料である硝酸亜鉛Zn(NO32、硝酸珪素Si(NO32、硝酸マンガンMn(NO32をモル比で2−X:1:X(0.01≦X≦0.10)となるように混合し、次にこの混合溶液をノズルから超音波を印加しながら1500℃に加熱した炉中に噴霧して緑色蛍光体を作製する。
(4)緑色蛍光体(Y1-xBO3:Tbx
まず、混合液作製工程において、原料である硝酸イットリウムY2(NO33、硼酸H3BO3、硝酸テルビウムTb(NO33がモル比で1−X:1:X(0.01≦X≦0.10)となるように混合し、これをイオン交換水に溶解して混合液を作製する。
次に、水和工程においてこの混合液に塩基性水溶液(例えばアンモニア水溶液)を滴下することにより、水和物を形成させる。その後、水熱合成工程において、この水和物とイオン交換水を白金や金などの耐食性、耐熱性を持つものからなるカプセル中に入れて、例えばオートクレーブを用いて高圧容器中で所定温度、所定圧力、例えば温度100〜300℃、圧力0.2MPa〜10MPaの条件下で所定時間、例えば、2〜20時間水熱合成を行う。
その後、乾燥することにより、所望のY1-xBO3:Tbxが得られる。この水熱合成工程により、得られる蛍光体は粒径が0.1μm〜2.0μm程度となり、その形状が球状となる。
次に、この粉体を空気中で800℃〜1100℃でアニール処理した後、分級して、緑色の蛍光体とする。
(5)赤色蛍光体((Y、Gd)1-xBO3:Eux
混合液作製工程において、原料である、硝酸イットリウムY2(NO33と硝酸ガドリニウムGd2(NO33とホウ酸H3BO3と硝酸ユーロピウムEu2(NO33を混合し、モル比が1−X:2:X(0.05≦X≦0.20)でYとGdの比は65対35となるように混合し、次にこれを空気中で1200℃〜1350℃で2時間熱処理した後、分級して赤色蛍光体を得る。
(6)赤色蛍光体(Y2-x3:Eux
混合液作製工程において、原料である硝酸イットリウムY2(NO32と硝酸ユーロピウムEu(NO32を混合し、モル比が2−X:X(0.05≦X≦0.30)となるようにイオン交換水に溶解して混合液を作製する。次に、水和工程において、この水溶液に対して塩基性水溶液、例えばアンモニア水溶液を添加し、水和物を形成させる。
その後、水熱合成工程において、この水和物とイオン交換水を白金や金などの耐食性、耐熱性を持つものからなる容器中に入れ、例えばオートクレーブを用いて高圧容器中で温度100〜300℃、圧力0.2MPa〜10MPaの条件下で、3〜12時間の水熱合成を行う。その後、得られた化合物の乾燥を行うことにより、所望のY2-x3:Euxが得られる。次にこの蛍光体を空気中で1300℃〜1400℃、2時間のアニール処理の後、分級して赤色蛍光体とする。この水熱合成工程により得られる蛍光体は粒径が0.1μm〜2.0μm程度となり、かつその形状が球状となる。この粒径、形状は発光特性の優れた蛍光体層を形成するのに適している。
次に、本発明のプラズマディスプレイ装置の性能を評価するために、上記実施の形態に基づくサンプルを作製し、そのサンプルについて性能評価実験を行った。その実験結果を以下に説明する。
作製した各プラズマディスプレイ装置は、42インチの大きさを持ち(リブピッチ150μmのHD−TV仕様)、誘電体ガラス層の厚みは20μm、MgO保護層の厚みは0.5μm、表示電極と表示スキャン電極の間の距離は0.08mmとなるように作製した。また、放電空間に封入される放電ガスは、ネオンを主体にキセノンガスを7vol%混合したガスであり、所定の放電ガス圧で封入されている。
サンプル1〜10のプラズマディスプレイ装置に用いる各青色蛍光体粒子には、蛍光体を構成するMg、Al、Baイオンをイオンで置換した蛍光体を用いた。それぞれの合成条件を表2〜3に示す。
Figure 2008181886
Figure 2008181886
サンプル1〜4は、赤色蛍光体に(Y、Gd)1-xBO3:Eux、緑色蛍光体に(Zn2-xSiO4:Mnx)、青色蛍光体に(Ba1-xMgAl1017:Eux)を用いた組み合わせのものであり、蛍光体の合成の方法、発光中心となるEu、Mnの置換比率、すなわちY、Ba元素に対するEuの置換比率、及びZn元素に対するMnの置換比率及びMg、Al、Baと置換するイオン(元素)の種類と量を表2〜3のように変化させたものである。
サンプル5〜10は、赤色蛍光体に(Y2-x3:Eux)、緑色蛍光体に(Zn2-xSiO4:MnxとY1-xBO3:Tbxの混合)、青色蛍光体に(Ba1-x-ySryMgAl1017:Eux)を用いた組み合わせのものであり、上記と同様、蛍光体合成方法の条件及び発光中心の置換比率及び青色蛍光体を構成するMg、Al、Baイオンと置換するイオン(元素)の種類と量を表2〜3のように変化させたものである。
また、蛍光体層の形成に使用した蛍光体インキは、表2〜3に示す各蛍光体粒子を使用して蛍光体、樹脂、溶剤、分散剤を混合して作製した。そのときの蛍光体インキの粘度(25℃)について測定した結果を、いずれも粘度が1500CP〜30000CPの範囲に保たれている。形成された蛍光体層を観察したところ、いずれも隔壁壁面に均一に蛍光体インキが塗布されていた。また、各色における蛍光体層に使用される蛍光体粒子については、平均粒径0.1μm〜3.0μm、最大粒径8μm以下の粒径のものが各サンプルに使用されている。
次に、比較サンプル11について説明する。まず、サンプル11は各色蛍光粒子には特に処理は行っていない従来の蛍光体粒子を用いたサンプルである。
(実験1)
作製されたサンプル1〜10及び比較サンプル11について、背面パネル製造工程における蛍光体焼成工程(520℃、20分)後の、各色の輝度を測定し、次にパネル製造工程におけるパネル貼り合わせ工程(封着工程450℃、20分)を経た後、各蛍光体の輝度変化(劣化)率を測定した。
(実験2)
パネルを各色に点燈した時の輝度及び輝度劣化変化率の測定は、プラズマディスプレイ装置に電圧180V、周波数100kHzの放電維持パルスを1000時間連続して印加し(寿命テスト)、その前後におけるパネル輝度を測定し、そこから輝度劣化変化率(〔{印加後の輝度−印加前の輝度}/印加前の輝度〕×100)を求めた。また、アドレス放電時のアドレスミスについては画像を見てちらつきがあるかないかで判断し、1ヶ所でもあれば、ありとしている。また、パネルの輝度分布や色むら、色ずれについては白表示時の輝度を輝度計で測定して、その全面の分布及び目視で判断した。
これら実験1、2の各色の輝度及び輝度劣化変化率及び、アドレスミス、色むらの目視検査についての結果を表4に示す。
(実験3)
サンプル1〜10及び、比較サンプル11のパネルから全色の蛍光体を回収し、これらの蛍光体の吸着ガス量を、TDS分析装置(昇温脱離ガス質量分析装置)を用いて、水、CO2、炭化水素ガスの100℃〜600℃の脱離ガス量を測定する。次に、サンプル1の水、CO2、炭化水素ガス(質量番号40以上)の脱離ガスの総量を1とし、サンプル2〜10と比較サンプル11との相対量を測定して蛍光体が内蔵しているガス量の相対値を測定した。その結果も表4に示している。
Figure 2008181886
表4に示すように比較サンプル11において、青色蛍光体にイオンで置換処理を施していないサンプルでは、各工程における輝度劣化率が大きい。特に、青色と緑色輝度劣化が大きく、青色に於いては、蛍光体焼成工程後の、封着工程で21.5%、180V、100kHzの寿命テストで20.5%の輝度低下が見られた。また緑色はパネル貼り合わせ工程で13.2%、180V、100KHzの寿命テストで10.3%の輝度劣化が見られ、これらの輝度変化に伴ってパネルの色むら、色ずれも大きくなっている。これに対し、サンプル1〜10において、パネル貼り合わせ工程及び寿命テストによる、青色の変化率がすべて2%以下で、緑色の変化率も4%以下の値となっており、しかもパネルのアドレスミスや色むら、色ずれもない。
これは、青色蛍光体を構成するMg、Al、Baイオン(元素)を特定のイオン又は元素(Nb,Ta,W,B)で置換することにより、青色蛍光体中の酸素欠陥(特にBa−O近傍の酸素欠陥)が大幅に減少したためである。このため、この青色蛍光体から持ち込まれる水、CO2、炭化水素ガス等が非常に少なくなり、パネル封着時に青色蛍光体からの出ガスが少なくなり青色自体のみならず、隣接する緑色や赤色蛍光体及びMgOにも良い影響を与えたためである。また、特に青色蛍光体を酸化雰囲気中でアニールしたサンプルNo.4、6、8の180V、100kHzの放電維持パルス試験の輝度変化率は、酸素欠陥がより低減されており、低くなっている。
また、表2〜3に示すように、サンプル1〜10の青色蛍光体のMg、Al、Baを特定のイオン又は元素(Nb,Ta,W,B)で置換した蛍光体を使用したパネル内の全蛍光体の不純ガス量が比較例11、12と較べて少ないことがわかる。この不純ガス(水、CO2、炭化水素)の少ないことが青色や緑色の輝度劣化の少ないことに起因していると考えられる。従って、Mg、Al、Baを特定のイオン又は元素(Nb,Ta,W,B)で置換した青色蛍光体を用いたパネルは、パネルのアドレスミスや色むら、色ずれを改善できる。
従来の青色蛍光体は、本発明の青色蛍光体と比べて各工程中の劣化が大きいため、3色同時に発光した場合の白色の色温度が低下する傾向があった。そのため、プラズマディスプレイ装置においては、回路的に青色以外の蛍光体(赤、緑)のセルの輝度を下げることにより白表示の色温度を改善していたが、このように青色蛍光体を構成するMg、Al、Baイオンの一部を特定のイオン又は元素(W)で置換した蛍光体粒子を使用することにより、青色セルの輝度が高まり、またパネル作製工程中における劣化も少ない上に、緑色の劣化も少なくなるため、他の色のセルの輝度を意図的に下げることが不要となり、全ての色のセルの輝度を意図的に下げることが不要となる。したがって、全ての色のセルの輝度をフルに使用することができるので、白表示の色温度が高い状態を保ちつつ、プラズマディスプレイ装置の輝度を上げることができる。
なお、上記青色蛍光体は、同じ紫外線により励起、発光する蛍光灯にも応用することができる。その場合には、蛍光管内壁に塗布されている従来の青色蛍光体粒子を構成するMg、Al、Baイオンを特定のイオン(W)で置換した青色蛍光体からなる蛍光体層に置換すればよい。このように蛍光灯や液晶のバックライトに適用すれば、従来の蛍光灯やバックライトより輝度が高く、かつ輝度劣化のしにくいものが得られる。
[産業上の利用可能性]
本発明によれば、蛍光体層を構成する青色蛍光体の結晶中のMg、Al、Ba元素を特定のイオン又は元素(W)で置換したことにより、蛍光体層の各種工程での輝度劣化を防止することができ、パネルのアドレスミス防止や色むら、色ずれの低減が図れ、信頼性の高いプラズマディスプレイ装置を実現することができる。
本発明の一実施の形態によるPDPの前面ガラス基板を除いた平面図 同PDPの画像表示領域の構造の一部を断面で示す斜視図 本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイ装置の回路ブロック図 本発明の一実施の形態によるPDPの画像表示領域の構造を示す断面図 同PDPの蛍光体層を形成する際に用いるインキ塗布装置の概略構成断面図 従来の青色蛍光体の原子構造を示す概略図
符号の説明
100 PDP
101 前面ガラス基板
102 背面ガラス基板
103 表示電極
104 表示スキャン電極
105 誘電体ガラス層
106 MgO保護層
107 アドレス電極
108 誘電体ガラス層
109 隔壁
110R 蛍光体層(赤)
110G 蛍光体層(緑)
110B 蛍光体層(青)
122 放電空間

Claims (19)

  1. 1色又は複数色の放電セルが複数配列されるとともに、各放電セルに対応する色の蛍光体層が配設され、前記蛍光体層が紫外線により励起されて発光するプラズマディスプレイパネルを備えたプラズマディスプレイ装置であって、
    前記蛍光体層は青色蛍光体を含み、かつ前記青色蛍光体は、Wの元素を含むアルカリ土類金属アルミン酸塩蛍光体で構成したことを特徴とするプラズマディスプレイ装置。
  2. 前記アルカリ土類金属アルミン酸塩蛍光体は、Ba1-xMgAl1017:Eux又はBa1-x-ySryMgAl1017:Eux(但し、0.03≦x≦0.20、0.1≦y≦0.
    5)の結晶構造を有する青色蛍光体である請求項1に記載のプラズマディスプレイ装置。
  3. 前記青色蛍光体のWの元素の平均含有量は、0.001〜3.0モル%の範囲である請求項1に記載のプラズマディスプレイ装置。
  4. 前記青色蛍光体が粒子であり、前記粒子の表面近傍のWの元素の濃度は、蛍光体粒子全体における前記元素の平均濃度より高い請求項1に記載のプラズマディスプレイ装置。
  5. 前記蛍光体粒子の表面近傍におけるWの元素の濃度は、蛍光体粒子全体における前記元素の平均濃度より2倍以上高い請求項4に記載のプラズマディスプレイ装置。
  6. 前記蛍光体粒子の表面近傍におけるWの元素の濃度は、蛍光体粒子全体における前記元素の平均濃度より3倍以上高い請求項5に記載のプラズマディスプレイ装置。
  7. 蛍光体粒子の表面近傍におけるWの元素の濃度は、0.30〜9.00モル%である請求項4に記載のプラズマディスプレイ装置。
  8. 蛍光体粒子の表面近傍は、蛍光体粒子表面から50nm以下の範囲である請求項4に記載のプラズマディスプレイ装置。
  9. 蛍光体粒子の表面近傍は、蛍光体粒子表面から10nmまでの平均値である請求項8に記載のプラズマディスプレイ装置。
  10. 前記蛍光体粒子の平均粒子径は、0.05μm以上3.0μm以下の範囲である請求項4に記載のプラズマディスプレイ装置。
  11. 前記蛍光体粒子の平均粒子径は、0.1μm以上2.0μm以下の範囲である請求項10に記載のプラズマディスプレイ装置。
  12. 前記蛍光体粒子の粒度分布は、最大粒子径が前記平均粒子径の4倍以下であり、かつ最小粒子径が平均粒子径の1/4以上である請求項10に記載のプラズマディスプレイ装置。
  13. 前記蛍光体層は、蛍光体粒子をバインダーと混合してペースト化し、これを放電セルの表面に塗布し、焼成して形成されている請求項1に記載のプラズマディスプレイ装置。
  14. 前記蛍光体層の厚みは、蛍光体粒子の平均粒径の8倍以上25倍以下の範囲である請求項1に記載のプラズマディスプレイ装置。
  15. 前記アルカリ土類金属アルミン酸塩が、一般式xBaO・(1−x)SrO・zMgO・5Al23(0.60≦x≦1.00,1.00≦z≦1.05)で表されるアルカリ土類金属アルミン酸塩からなり、前記アルカリ土類金属アルミン酸塩に対し、Eu換算で0.40〜1.70モル%のEuおよびW換算で0.04〜0.80モル%のWを含む請求項4に記載のプラズマディスプレイ装置。
  16. 前記蛍光体粒子の表面近傍でのWの濃度が0.30〜9.00モル%である請求項4に記載のプラズマディスプレイ装置。
  17. 前記蛍光体粒子の表面近傍でのEu濃度が、蛍光体粒子全体のEuの平均濃度より高く、かつ、蛍光体粒子の表面近傍での2価Eu率(全Eu元素のうちの2価Eu元素の割合)が蛍光体粒子全体の平均の2価Eu率よりも低い請求項4に記載のプラズマディスプレイ装置。
  18. 前記蛍光体粒子の表面近傍での2価Eu率が5〜50モル%であり、蛍光体粒子全体の平均の2価Eu率が60〜95モル%である請求項17に記載のプラズマディスプレイ装置。
  19. 前記蛍光体粒子の表面近傍での2価Eu率が5〜15モル%であり、蛍光体粒子全体の平均の2価Eu率が60〜80モル%である請求項17に記載のプラズマディスプレイ装置。
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