JP2008181786A - 荷電粒子線装置 - Google Patents
荷電粒子線装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008181786A JP2008181786A JP2007014909A JP2007014909A JP2008181786A JP 2008181786 A JP2008181786 A JP 2008181786A JP 2007014909 A JP2007014909 A JP 2007014909A JP 2007014909 A JP2007014909 A JP 2007014909A JP 2008181786 A JP2008181786 A JP 2008181786A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- astigmatism
- charged particle
- particle beam
- lens
- electron microscope
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Abandoned
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/153—Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
- H01J37/12—Lenses electrostatic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/21—Means for adjusting the focus
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/153—Correcting image defects, e.g. stigmators
- H01J2237/1532—Astigmatism
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/153—Correcting image defects, e.g. stigmators
- H01J2237/1534—Aberrations
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/21—Focus adjustment
- H01J2237/216—Automatic focusing methods
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/317—Processing objects on a microscale
- H01J2237/31749—Focused ion beam
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明の荷電粒子線装置によると、対物レンズと試料の間に、荷電粒子線の軌道上に電場を生成する静電レンズが設けられている。静電レンズは、複数の電極に分割され、各電極には独立に電圧を印加することができる。この電圧を調整することにより、対物レンズの非点収差補正、軸外収差補正、及び、焦点ずれ補正のいずれかを行う。
【選択図】図1
Description
V2=v2 + Vst2
V3=v3 -Vst3
V4=v4 -Vst4
V5=v5 + Vst5 ・・・ 式(1)
V6=v6 + Vst6
V7=v7 -Vst7
V8=v8 -Vst8
V2=v2 + Vax2
V3=v3 + Vax3
V4=v4 + kVax4
V5=v5 -kVax5 ・・・ 式(2)
V6=v6 -Vax6
V7=v7 -Vax7
V8=v8 -kVax8
V2=v2 + Vf
V3=v3 + Vf
V4=v4 + Vf
V5=v5 + Vf ・・・ 式(3)
V6=v6 + Vf
V7=v7 + Vf
V8=v8 + Vf
V2=v2 + ΔV2
V3=v3 + ΔV3
V4=v4 + ΔV4
V5=v5 + ΔV5 ・・・ 式(4)
V6=v6 + ΔV6
V7=v7 + ΔV7
V8=v8 + ΔV8
ΔV2= + Vst2 + Vax2 + Vf
ΔV3= -Vst3 +Vax3 + Vf)
ΔV4= -Vst4 + kVax4 + Vf
ΔV5= + Vst5 -kVax5 + Vf ・・・ 式(5)
ΔV6= + Vst6 -Vax6 + Vf
ΔV7= -Vst7 -Vax7 + Vf
ΔV8= -Vst8 -kVax8 + Vf
先ず、レビューウィンドウについて説明する。レビューウィンドウは、レビュー条件を表示するInformation部位(501)と、欠陥レビュー作業の進捗、動作速度、残時間を表示するADR(AutoDefect Review) Progress部位およびADR Throughput部位(502)と、欠陥アライメントの為の低倍画像と、特許文献3の光学系で得られた各画像を表示するImage Display部位(503)と、欠陥分類毎の数量を表示するUserclass Histogram部位(504)と、図5のステップS411、及び、ステップS412の関数表示ウィンドウであるBeam Parameter部位(506)を含む。
Claims (20)
- 荷電粒子線を試料上に照射する照射レンズと、荷電粒子線を走査するための偏向レンズと、試料から生じた二次粒子および反射粒子を検出する検出器と、荷電粒子線を収束する対物レンズと、荷電粒子線の軌道上に電場を生成する静電レンズと、を備え、前記静電レンズは、複数の電極を含み、前記複数の電極への印加電圧は各々独立に制御されるように構成されていることを特徴とする荷電粒子線装置。
- 請求項1の荷電粒子線装置において、前記静電レンズは、前記対物レンズの磁極によって構成されていることを特徴とする荷電粒子線装置。
- 請求項1の荷電粒子線装置において、前記印加電圧の値を調整することにより、前記荷電粒子線の軸外収差、非点収差、及び、焦点ずれの少なくとも1つを補正することを特徴とする荷電粒子線装置。
- 請求項1の荷電粒子線装置において、前記印加電圧は初期電圧と補正量の和として表され、該補正量を増減させることにより前記印加電圧が調整されることを特徴とする荷電粒子線装置。
- 請求項1の荷電粒子線装置において、前記印加電圧の値と前記荷電粒子線の軸外収差、非点収差、及び、焦点ずれの間の関数を記憶する記憶装置を設け、試料の撮像条件が与えられたとき、前記記憶装置に記憶された関数から、前記荷電粒子線の軸外収差、非点収差、及び、焦点ずれの少なくとも1つが最小となるように、前記複数の電極への印加電圧を得ることを特徴とする荷電粒子線装置。
- 請求項5の荷電粒子線装置において、試料の像を表示する表示装置が設けられ、該表示装置には、撮像条件を入力するフィールドと、該撮像条件において上記関数のグラフを表示するフィールドを有する画面が表示されることを特徴とする荷電粒子線装置。
- 請求項5の荷電粒子線装置において、前記表示装置に表示された画面には、前記荷電粒子線の軸外収差、非点収差、又は、焦点ずれを最小化するために前記印加電圧の値を変化させるためのボタン又はスライドバーが表示されていることを特徴とする荷電粒子線装置。
- 電子線を試料上に照射する照射レンズと、電子線を走査するための偏向レンズと、試料から生じた二次電子および反射電子を検出する検出器と、電子線を収束する対物レンズと、前記対物レンズと試料の間に配置され電子線の軌道上に電場を生成する静電レンズと、前記試料の像を表示する表示装置と、オペレータからの命令を入力する入力装置と、前記レンズを制御するデータを記憶する記憶装置と、前記レンズの電圧を調整する制御装置と、を備え、前記静電レンズは複数の電極を含み、前記制御装置は、前記複数の電極の各々への印加電圧の値を調整することにより、軸外収差、非点収差、及び、焦点ずれの少なくとも1つを補正することを特徴とする走査電子顕微鏡装置。
- 請求項8の走査電子顕微鏡装置において、前記静電レンズは、前記対物レンズの磁極によって構成されていることを特徴とする走査電子顕微鏡装置。
- 請求項8の走査電子顕微鏡装置において、前記印加電圧は初期電圧と補正量の和として表され、該補正量を増減させることにより前記印加電圧が調整されることを特徴とする走査電子顕微鏡装置。
- 請求項8の走査電子顕微鏡装置において、前記記憶装置には、前記印加電圧の値と前記荷電粒子線の軸外収差、非点収差、及び、焦点ずれの間の関数が記憶されており、前記入力装置を介して撮像条件が与えられたとき、前記制御装置は、前記記憶装置に記憶された関数から前記荷電粒子線の軸外収差、非点収差、及び、焦点ずれの少なくとも1つが最小となるように前記複数の電極への印加電圧の値を読出すことを特徴とする走査電子顕微鏡装置。
- 請求項8の走査電子顕微鏡装置において、前記制御装置は、前記複数の電極への印加電圧の値を変化させたとき、前記試料の像から軸外収差、非点収差、及び、焦点ずれの少なくとも1つを検出することによって、前記複数の電極への印加電圧の値と、前記軸外収差、非点収差、及び、焦点ずれの少なくとも1つの間の関係を表す関数を導き出し、それを前記記憶装置に格納することを特徴とする走査電子顕微鏡装置。
- 請求項12の走査電子顕微鏡装置において、前記制御装置は、画像処理によって、前記試料の像から軸外収差、非点収差、及び、焦点ずれの少なくとも1つを検出することを特徴とする走査電子顕微鏡装置。
- 請求項8の走査電子顕微鏡装置において、前記表示装置は、試料の像と共に、軸外収差、非点収差、及び、焦点ずれの少なくとも1つと、前記複数の電極への印加電圧の値とを表示する画面を表示することを特徴とする走査電子顕微鏡装置。
- 請求項14の走査電子顕微鏡装置において、前記表示装置に表示される画面は、軸外収差、非点収差、及び、焦点ずれを調整するためのタブ形式のウィンドウを有し、オペレータは、軸外収差を補正する場合には、軸外収差補正用のウィンドウ、非点収差を補正する場合には、非点収差補正用のウィンドウ、焦点ずれを補正する場合には、焦点ずれ補正用のウィンドウを選択することができるように構成されていることを特徴とする走査電子顕微鏡装置。
- 請求項15の走査電子顕微鏡装置において、前記各ウィンドウには、補正用のボタン又はバーが表示され、オペレータが該ボタン又はバーを操作することによって、前記複数の電極への印加電圧の値が調整されることを特徴とする走査電子顕微鏡装置。
- 照射レンズによって電子線を試料上に照射するステップと、偏向レンズによって電子線を走査するステップと、試料から生じた二次電子および反射電子を検出するステップと、対物レンズによって電子線を収束するステップと、前記対物レンズと試料の間に配置された複数の電極を含む静電レンズによって電子線の軌道上に電場を生成するステップと、前記静電レンズの複数の電極への印加電圧の各々を独立に制御することによって、荷電粒子線の軸外収差、非点収差、及び、焦点ずれの少なくとも1つを補正するステップと、を含むことを特徴とする走査電子顕微鏡装置の制御方法。
- 請求項17に記載の走査電子顕微鏡装置の制御方法において、前記静電レンズは、前記対物レンズの磁極によって構成されていることを特徴とする走査電子顕微鏡装置の制御方法。
- 請求項17に記載の走査電子顕微鏡装置の制御方法において、前記複数の電極への印加電圧の値と前記軸外収差、非点収差、及び、焦点ずれの間の関係を表す関数を求めるステップと、を有し、前記補正するステップは、撮像条件が与えられたとき、前記関数より前記静電レンズの複数の電極への印加電圧の値を求めることを特徴とする走査電子顕微鏡装置の制御方法。
- 請求項17に記載の走査電子顕微鏡装置の制御方法において、表示装置に、軸外収差、非点収差、及び、焦点ずれを調整するためのタブ形式のウィンドウを有する画面を表示するステップと、を有し、オペレータは、軸外収差を補正する場合には、軸外収差補正用のウィンドウ、非点収差を補正する場合には、非点収差補正用のウィンドウ、焦点ずれを補正する場合には、焦点ずれ補正用のウィンドウを選択することができるように構成されていることを特徴とする走査電子顕微鏡装置の制御方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007014909A JP2008181786A (ja) | 2007-01-25 | 2007-01-25 | 荷電粒子線装置 |
| US12/018,898 US20080283744A1 (en) | 2007-01-25 | 2008-01-24 | Charged Particle Beam Device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007014909A JP2008181786A (ja) | 2007-01-25 | 2007-01-25 | 荷電粒子線装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008181786A true JP2008181786A (ja) | 2008-08-07 |
Family
ID=39725512
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007014909A Abandoned JP2008181786A (ja) | 2007-01-25 | 2007-01-25 | 荷電粒子線装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20080283744A1 (ja) |
| JP (1) | JP2008181786A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017208285A (ja) * | 2016-05-20 | 2017-11-24 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
| TWI642081B (zh) * | 2016-11-24 | 2018-11-21 | 日立全球先端科技股份有限公司 | Charged particle beam device |
| JP2020053272A (ja) * | 2018-09-27 | 2020-04-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
| JP2021144789A (ja) * | 2020-03-10 | 2021-09-24 | 日本電子株式会社 | 磁界レンズの制御方法および荷電粒子線装置 |
| JP2024079725A (ja) * | 2020-02-21 | 2024-06-11 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 荷電粒子検査ツール、検査方法 |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5438937B2 (ja) * | 2008-09-05 | 2014-03-12 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子ビーム装置 |
| WO2011016182A1 (ja) * | 2009-08-03 | 2011-02-10 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子顕微鏡 |
| EP2602807A1 (en) * | 2011-12-08 | 2013-06-12 | FEI Company | Adjustment assist tool for charged particle microscope |
| JP6254445B2 (ja) | 2014-01-09 | 2017-12-27 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子ビーム装置 |
| JP2016170896A (ja) * | 2015-03-11 | 2016-09-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子ビーム装置及びそれを用いた画像の形成方法 |
| US12525430B2 (en) * | 2020-04-28 | 2026-01-13 | Hitachi High-Tech Corporation | Charged particle beam apparatus |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4351108B2 (ja) * | 2004-04-07 | 2009-10-28 | 日本電子株式会社 | Semの収差自動補正方法及び収差自動補正装置 |
-
2007
- 2007-01-25 JP JP2007014909A patent/JP2008181786A/ja not_active Abandoned
-
2008
- 2008-01-24 US US12/018,898 patent/US20080283744A1/en not_active Abandoned
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017208285A (ja) * | 2016-05-20 | 2017-11-24 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
| TWI642081B (zh) * | 2016-11-24 | 2018-11-21 | 日立全球先端科技股份有限公司 | Charged particle beam device |
| JP2020053272A (ja) * | 2018-09-27 | 2020-04-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
| US11257658B2 (en) | 2018-09-27 | 2022-02-22 | Hitachi High-Tech Corporation | Charged particle beam apparatus |
| JP7051655B2 (ja) | 2018-09-27 | 2022-04-11 | 株式会社日立ハイテク | 荷電粒子線装置 |
| JP2024079725A (ja) * | 2020-02-21 | 2024-06-11 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 荷電粒子検査ツール、検査方法 |
| JP7765529B2 (ja) | 2020-02-21 | 2025-11-06 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 荷電粒子検査ツール、検査方法 |
| US12505978B2 (en) | 2020-02-21 | 2025-12-23 | Asml Netherlands B.V. | Charged particle assessment tool, inspection method |
| JP2021144789A (ja) * | 2020-03-10 | 2021-09-24 | 日本電子株式会社 | 磁界レンズの制御方法および荷電粒子線装置 |
| JP7346333B2 (ja) | 2020-03-10 | 2023-09-19 | 日本電子株式会社 | 磁界レンズの制御方法および荷電粒子線装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20080283744A1 (en) | 2008-11-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2008181786A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
| US10699869B2 (en) | Operating a particle beam apparatus | |
| CN111354614B (zh) | 带电粒子束装置及其光轴调整方法 | |
| CN104040676B (zh) | 带电粒子线装置以及倾斜观察图像显示方法 | |
| CN108538693B (zh) | 带电粒子显微镜的像差测量 | |
| JP2005310602A (ja) | 荷電粒子線調整方法、及び荷電粒子線装置 | |
| US10658152B1 (en) | Method for controlling a particle beam device and particle beam device for carrying out the method | |
| WO2011152303A1 (ja) | 自動収差補正法を備えた荷電粒子線装置 | |
| EP3203493B1 (en) | Charged-particle microscope with astigmatism compensation and energy-selection | |
| JP6266467B2 (ja) | 電子顕微鏡、およびモノクロメーターの調整方法 | |
| JP4887030B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
| JP4431624B2 (ja) | 荷電粒子線調整方法、及び荷電粒子線装置 | |
| JP4668807B2 (ja) | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線画像生成方法 | |
| JP6959969B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
| US11626266B2 (en) | Charged particle beam device | |
| US20250157782A1 (en) | Method for operating a particle beam apparatus, computer program product and particle beam apparatus for carrying out the method | |
| JP2010016007A (ja) | 荷電粒子線調整方法及び荷電粒子線装置 | |
| JP5218683B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
| JP2002216685A (ja) | 軸調整装置および軸調整方法 | |
| CN121439657A (zh) | 操作包括束偏转器的带电粒子显微镜系统的方法和相关联的系统 | |
| CN121075889A (zh) | 电子显微镜系统中的透镜配置 | |
| JP2009016361A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
| JP2003331771A (ja) | 電子顕微鏡 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081217 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090217 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090417 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090616 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090812 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20091006 |
|
| A762 | Written abandonment of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 Effective date: 20091109 |