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JP2008180863A - Heat developable photosensitive material - Google Patents

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JP2008180863A
JP2008180863A JP2007013584A JP2007013584A JP2008180863A JP 2008180863 A JP2008180863 A JP 2008180863A JP 2007013584 A JP2007013584 A JP 2007013584A JP 2007013584 A JP2007013584 A JP 2007013584A JP 2008180863 A JP2008180863 A JP 2008180863A
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JP
Japan
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group
layer
photothermographic material
silver
heat
Prior art date
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Pending
Application number
JP2007013584A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeto Goto
成人 後藤
Takuji Hasegawa
拓治 長谷川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Original Assignee
Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Medical and Graphic Inc filed Critical Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Priority to JP2007013584A priority Critical patent/JP2008180863A/en
Priority to US11/972,691 priority patent/US20090042125A1/en
Publication of JP2008180863A publication Critical patent/JP2008180863A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat developable photosensitive material which can be rapidly heat-developed with a small low-cost heat developing apparatus while substantially avoiding the internal contamination of the heat developing apparatus and film scratching, and which is excellent in transportability at low humidity, density variation due to humidity change, and image density. <P>SOLUTION: The heat developable photosensitive material has a photosensitive layer containing silver halide grains, an organic silver salt, a reducing agent and a binder on one surface of a support and a back coat layer on the other surface of the support, wherein the photosensitive layer has a dry film thickness of 9-16 μm; the outermost surface on the back coat layer side has a center line average roughness (Ra) of 100-150 nm, and the back coat layer contains a lubricant having a molecular weight of 550-10,000. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、支持体上に有機銀塩、ハロゲン化銀粒子、バインダー及び還元剤を含有する熱現像感光材料に関する。   The present invention relates to a photothermographic material containing an organic silver salt, silver halide grains, a binder and a reducing agent on a support.

従来、医療や印刷製版の分野では、画像形成材料の湿式処理に伴う廃液が作業性の上で問題となっており、近年では環境保全、省スペースの観点からも処理廃液の減量が強く望まれている。そこで、熱を加えるだけで画像形成ができる熱現像感光材料が実用化され、上記分野で急速に普及してきている。   Conventionally, in the fields of medical treatment and printing plate making, waste liquid from wet processing of image forming materials has been a problem in terms of workability. In recent years, reduction of waste processing liquid has been strongly desired from the viewpoint of environmental conservation and space saving. ing. Therefore, photothermographic materials capable of forming an image only by applying heat have been put into practical use and are rapidly spreading in the above fields.

この熱現像感光材料は、通常、熱現像処理機と呼ばれる熱現像感光材料に安定した熱を加えて画像を形成する熱現像処理装置により処理される。上述したように、近年の急速な普及に伴い、この熱現像処理装置も多種多量に市場に供給されて来た。又、近年、レーザイメージャーのコンパクト化や処理の迅速化が要望されている。   This photothermographic material is usually processed by a photothermographic processor called a photothermographic processor that applies stable heat to the photothermographic material to form an image. As described above, with the rapid spread in recent years, a large amount of this heat development processing apparatus has been supplied to the market. In recent years, there has been a demand for a compact laser imager and quick processing.

一方、熱現像感光材料においては搬送性を改良するためにすべり剤を使用して摩擦係数を調整することが知られて(例えば、特許文献1、2参照)いる。
特開2004−219794号公報(特許請求の範囲) 特開2004−334077号公報(特許請求の範囲)
On the other hand, it is known that in a photothermographic material, a friction coefficient is adjusted by using a slip agent in order to improve transportability (see, for example, Patent Documents 1 and 2).
JP 2004-219794 A (Claims) JP 2004-334077 A (Claims)

小型で低コストかつファーストプリントも早い熱現像装置が望まれており、これらの熱現像装置を使用して迅速処理を行った場合、熱現像時の熱現像装置の機内汚染やフィルム傷が発生するという問題があらたに発生した。またマンモグラフィーにも使用できる十分な画像濃度を得ることが難しく、低湿下での搬送性、湿度変化に伴う濃度変動についても改良が必要であった。   There is a need for a thermal development apparatus that is small, low-cost, and has a fast first print. When rapid processing is performed using these thermal development apparatuses, internal contamination of the thermal development apparatus and film scratches occur during thermal development. A new problem occurred. In addition, it is difficult to obtain a sufficient image density that can also be used for mammography, and it is necessary to improve transportability under low humidity and density fluctuation accompanying humidity change.

本発明は上記の背景的事情に鑑みてなされたものである。本発明の目的は、小型かつ低コストの熱現像装置により、熱現像感光材料を、迅速に熱現像した場合でも熱現像装置内の機内汚染及びフィルム傷の発生が低く、低湿下での搬送性、湿度変化に伴う濃度変動及び画像濃度に優れる熱現像感光材料を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above background circumstances. The object of the present invention is to reduce the occurrence of in-machine contamination and film scratches in the heat developing device even when the photothermographic material is rapidly heat-developed by a small and low-cost heat developing device, and transportability under low humidity. Another object of the present invention is to provide a photothermographic material that is excellent in density fluctuations and image density accompanying changes in humidity.

上記目的を達成するために、熱現像装置の機内汚染、フイルム傷の発生、低湿下での搬送性、湿度変化に伴う濃度変動が発生する現象を検討した。その結果、使用する潤滑剤の種類、感光性層の乾燥膜厚及びバックコート層側最表面の表面粗さにより機内汚染の発生、フイルム傷の発生、低湿下での搬送性、湿度変化に伴う濃度変動、が大きく影響されることを見いだし本発明に到達した。また他にも支持体との接着層を向上させるためにバックコート層に使用している接着性促進バインダーが熱現像時の機内汚染に影響することも判明した。これらの知見に基づいて検討をすすめた結果、熱現像装置に接触するバックコート層表面に存在する接着性促進バインダーの量を極力減らし、接着性促進バインダーは下引層に含有させることで、熱現像装置内の機内汚染の発生が改良された。そして、本発明の目的がより高いレベルで達成されることを見いだした。   In order to achieve the above-mentioned object, the phenomenon of in-machine contamination of the heat developing apparatus, the occurrence of film scratches, the transportability under low humidity, and the density fluctuation accompanying the humidity change was examined. As a result, depending on the type of lubricant used, the dry thickness of the photosensitive layer, and the surface roughness of the outermost surface of the backcoat layer, it causes contamination in the machine, film scratches, transportability under low humidity, and changes in humidity. The present inventors have found that the concentration fluctuation is greatly affected and have reached the present invention. In addition, it has also been found that the adhesion promoting binder used in the backcoat layer to improve the adhesive layer with the support affects on-machine contamination during heat development. As a result of investigations based on these findings, the amount of the adhesion promoting binder existing on the surface of the backcoat layer in contact with the heat development apparatus was reduced as much as possible. The occurrence of in-machine contamination in the developing device has been improved. And it has been found that the object of the present invention is achieved at a higher level.

本発明の上記目的は、以下の構成により達成することができる。   The above object of the present invention can be achieved by the following configuration.

1.支持体上にハロゲン化銀粒子、有機銀塩、還元剤およびバインダーを含有する感光性層を有し、かつ支持体の反対側の面にバックコート層を有する熱現像感光材料において、該感光性層の乾燥膜厚が9〜16μmであり、該バックコート層側の最表面の中心線平均粗さ(Ra)が100〜150nmであって、該バックコート層が分子量550以上10000以下の潤滑剤を含有することを特徴とする熱現像感光材料。   1. A photothermographic material having a photosensitive layer containing silver halide grains, an organic silver salt, a reducing agent and a binder on a support, and a backcoat layer on the opposite side of the support. Lubricant having a dry film thickness of 9 to 16 μm, a center line average roughness (Ra) of the outermost surface on the back coat layer side of 100 to 150 nm, and the back coat layer having a molecular weight of 550 to 10,000 A photothermographic material comprising a photothermographic material.

2.支持体上にハロゲン化銀粒子、有機銀塩、還元剤およびバインダーを含有する感光性層を有し、かつ支持体の反対側の面にバックコート層を有する熱現像感光材料において、該感光性層の乾燥膜厚が9〜16μmであり、該バックコート層側の最表面の中心線平均粗さ(Ra)が100〜150nmであって、該バックコート層が多価アルコールの脂肪酸エステルを含有することを特徴とする熱現像感光材料。   2. A photothermographic material having a photosensitive layer containing silver halide grains, an organic silver salt, a reducing agent and a binder on a support, and a backcoat layer on the opposite side of the support. The dry film thickness of the layer is 9 to 16 μm, the center line average roughness (Ra) on the outermost surface on the back coat layer side is 100 to 150 nm, and the back coat layer contains a fatty acid ester of a polyhydric alcohol A photothermographic material characterized in that:

3.前記バックコート層側最表面の中心線平均粗さ(Ra)が110〜140nmであることを特徴とする前記1または2に記載の熱現像感光材料。   3. 3. The photothermographic material according to item 1 or 2, wherein the center line average roughness (Ra) of the outermost surface on the backcoat layer side is 110 to 140 nm.

4.前記感光性層に省銀化剤を含有することを特徴とする前記1〜3のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。   4). 4. The photothermographic material according to any one of items 1 to 3, wherein the photosensitive layer contains a silver saving agent.

5.前記省銀化剤が、ヒドラジン誘導体、ビニル化合物、フェノール誘導体、ナフトール誘導体、4級オニウム化合物及びシラン化合物から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする前記4に記載の熱現像感光材料。   5. 5. The photothermographic material according to 4 above, wherein the silver saving agent is at least one selected from hydrazine derivatives, vinyl compounds, phenol derivatives, naphthol derivatives, quaternary onium compounds, and silane compounds.

6.熱現像後の画像濃度の最大値が4.0以上5.0以下であることを特徴とする前記1〜5のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。   6). 6. The photothermographic material according to any one of 1 to 5, wherein the maximum value of image density after heat development is 4.0 or more and 5.0 or less.

7.写真特性曲線の光学濃度0.25〜2.5における平均階調(Ga値)が2.0〜6.0であることを特徴とする前記1〜6のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。   7. 7. The thermal development according to any one of 1 to 6 above, wherein an average gradation (Ga value) at an optical density of 0.25 to 2.5 in a photographic characteristic curve is 2.0 to 6.0. Photosensitive material.

8.支持体上にハロゲン化銀粒子、有機銀塩、還元剤およびバインダーを含有する感光性層を有し、かつ支持体の反対側の面にバックコート層を有する熱現像感光材料において、支持体とバックコート層の間にバインダーを含む下引層を設けてなり、該バックコート層及び該下引層が少なくともポリエステル樹脂、アクリル樹脂またはポリウレタン樹脂のいずれかを含有し、かつ該バックコート層におけるポリエステル樹脂、アクリル樹脂及びポリウレタン樹脂の合計量の該バックコート層のバインダ量に対する質量比率をAとし、該下引層におけるポリエステル樹脂、アクリル樹脂及びポリウレタン樹脂の合計量の該下引層のバインダ量に対する質量比率をBとするとき、B>Aであることを特徴とする熱現像感光材料。   8). A photothermographic material having a photosensitive layer containing silver halide grains, an organic silver salt, a reducing agent and a binder on a support, and a backcoat layer on the opposite side of the support. An undercoat layer containing a binder is provided between the backcoat layers, the backcoat layer and the undercoat layer contain at least one of a polyester resin, an acrylic resin, or a polyurethane resin, and the polyester in the backcoat layer The mass ratio of the total amount of resin, acrylic resin and polyurethane resin to the binder amount of the backcoat layer is A, and the total amount of polyester resin, acrylic resin and polyurethane resin in the undercoat layer to the binder amount of the undercoat layer A photothermographic material, wherein B> A, where B is a mass ratio.

本発明によれば、画像濃度が高く、熱現像装置の機内汚染、フイルム傷の発生、低湿下での搬送性、湿度変化に伴う濃度変動に優れる熱現像感光材料を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a photothermographic material having a high image density and excellent in in-machine contamination of the heat developing apparatus, film scratches, transportability under low humidity, and density fluctuation accompanying humidity change.

以下、本発明を実施するための最良の形態について説明するが、本発明はこれらに限定されない。   Hereinafter, although the best mode for carrying out the present invention will be described, the present invention is not limited to these.

以下、本発明の構成要素について順次説明する。   Hereinafter, the constituent elements of the present invention will be sequentially described.

(潤滑剤)
本発明においては、潤滑剤としては分子量が550以上の潤滑剤または多価アルコールの脂肪酸エステルを用いる。特に分子量が550以上である多価アルコールの脂肪酸エステルを用いることが好ましい。分子量は好ましくは700以上、より好ましくは800以上である。分子量の上限は本願の目的を達成できるものであれば特に制限はないが、通常10,000以下、好ましくは7,000以下、より好ましくは5,000以下である。分子量を550以上とすることで本発明の効果の中でも特に熱現像装置内の機内汚染を顕著に改良することができる。本発明の潤滑剤は分子量が550以上であれば構造は特に限定されないが、パラフィン、流動パラフィン、脂肪酸エステル、ケイ素含有櫛形グラフトポリマーがより好ましい。ケイ素含有櫛形グラフトポリマーについては特開2003−15259号段落番号「0018」に記載された化合物を用いることができる。これらの中では特に脂肪酸エステルが好ましく、さらに多価アルコールの脂肪酸エステルがより好ましい。
(lubricant)
In the present invention, a lubricant having a molecular weight of 550 or more or a fatty acid ester of a polyhydric alcohol is used as the lubricant. In particular, it is preferable to use a fatty acid ester of a polyhydric alcohol having a molecular weight of 550 or more. The molecular weight is preferably 700 or more, more preferably 800 or more. The upper limit of the molecular weight is not particularly limited as long as the object of the present application can be achieved, but is usually 10,000 or less, preferably 7,000 or less, more preferably 5,000 or less. By setting the molecular weight to 550 or more, among the effects of the present invention, in-machine contamination in the heat developing apparatus can be remarkably improved. The structure of the lubricant of the present invention is not particularly limited as long as the molecular weight is 550 or more, but paraffin, liquid paraffin, fatty acid ester, and silicon-containing comb graft polymer are more preferable. As the silicon-containing comb-shaped graft polymer, the compounds described in paragraph number “0018” of JP-A No. 2003-15259 can be used. Of these, fatty acid esters are particularly preferred, and fatty acid esters of polyhydric alcohols are more preferred.

また多価アルコールの脂肪酸エステルを用いる場合は、すべてエステル化されていても、一部アルコール基が残存していてもよい。一分子中に2個以上のエステル基を含有する脂肪酸エステルが好ましく、3個以上のエステル基を含有する脂肪酸エステルがより好ましい。本発明で用いられる潤滑剤としては、例えばトリオレイン(グリセリントリオレート)、グリセリントリラウレート、グリセリントリパルミテート、グリセリントリステアレート、グリセリントリベヘネート、ラウリン酸イソトリデシル、ミリスチン酸イソトリデシル、パルミチン酸イソトリデシル、ステアリン酸イソトリデシル、アラキジン酸イソトリデシル、エルカ酸イソトリデシル、ベヘン酸イソトリデシル、トリイソラウリン酸トリメチロールプロパン、トリイソミリスチン酸トリメチロールプロパン、トリイソパルミチン酸トリメチロールプロパン、トリイソステアリン酸トリメチロールプロパン、トリイソエルカ酸トリメチロールプロパン、トリイソアラキジン酸トリメチロールプロパン、トリイソオレイン酸トリメチロールプロパン、トリイソベヘン酸トリメチロールプロパン、ヘキサイソステアリン酸ジペンタエリスリチル、ヘキサイソパルミチン酸ジペンタエリスリチル、ヘキサイソミリスチン酸ジペンタエリスリチル、ヘキサイソベヘン酸ジペンタエリスリチル、特開2004−334077号の表1、表2、表3に記載の化合物が挙げられるが、これらの化合物に限定されない。   Moreover, when using the fatty acid ester of a polyhydric alcohol, even if all are esterified, some alcohol groups may remain | survive. A fatty acid ester containing two or more ester groups in one molecule is preferred, and a fatty acid ester containing three or more ester groups is more preferred. Examples of the lubricant used in the present invention include triolein (glycerin trioleate), glycerin trilaurate, glycerin tripalmitate, glycerin tristearate, glycerin tribehenate, isotridecyl laurate, isotridecyl myristate, and palmitic acid. Isotridecyl, isotridecyl stearate, isotridecyl arachidate, isotridecyl erucate, isotridecyl behenate, trimethylolpropane triisolaurate, trimethylolpropane triisomyristate, trimethylolpropane triisopalmitate, trimethylolpropane triisostearate, triisoeruca Acid trimethylolpropane, triisoarachidic acid trimethylolpropane, triisooleic acid trimethylolpropane Bread, trimethylolpropane triisobehenate, dipentaerythrityl hexaisostearate, dipentaerythrityl hexaisopalmitate, dipentaerythrityl hexaisomyristate, dipentaerythrityl hexaisobehenate, compounds described in Table 1, Table 2 and Table 3 of JP-A No. 2004-334077 However, it is not limited to these compounds.

本発明の潤滑剤はバックコート層に含まれる。本発明におけるバックコート層は支持体上の感光性層が設けられた側とは反対側に設けられる層を意味し、バックコート側下引層、バックコート層保護層もバックコート層に含まれるものとする。本発明の潤滑剤はバックコート層の中でもバックコート保護層に含まれることがより好ましい。本発明の潤滑剤のバックコート層への添加量は、用いられる層に含まれるバインダー(硬化剤が含まれる場合は硬化剤もバインダーに含める)の質量に対し、0.1〜20質量%が好ましく、0.5〜10質量%であるのがより好ましい。本発明の潤滑剤はバックコート層以外のいずれの層に添加しても良いが、好ましくは感光性層側の表面保護層にも添加することがより好ましい。本発明の潤滑剤のバックコート層以外の層への添加量も、バックコート層同様、用いられる層に含まれるバインダー(硬化剤が含まれる場合は硬化剤もバインダーに含める)の質量に対し、0.1〜20質量%が好ましく、0.5〜10質量%であるのがより好ましい。   The lubricant of the present invention is contained in the backcoat layer. In the present invention, the back coat layer means a layer provided on the opposite side of the support on the side where the photosensitive layer is provided, and the back coat side undercoat layer and the back coat layer protective layer are also included in the back coat layer. Shall. The lubricant of the present invention is more preferably contained in the backcoat protective layer among the backcoat layers. The addition amount of the lubricant of the present invention to the backcoat layer is 0.1 to 20% by mass with respect to the mass of the binder contained in the layer to be used (when the curing agent is contained, the curing agent is also included in the binder). Preferably, it is 0.5-10 mass%. The lubricant of the present invention may be added to any layer other than the back coat layer, but is preferably added to the surface protective layer on the photosensitive layer side. The amount of addition of the lubricant of the present invention to the layers other than the backcoat layer is the same as that of the backcoat layer, with respect to the mass of the binder contained in the layer used (when the curing agent is included, the curing agent is also included in the binder), 0.1-20 mass% is preferable, and it is more preferable that it is 0.5-10 mass%.

(ガンマ値)
写真特性曲線
本発明において、写真特性曲線とは、露光エネルギーである露光量の常用対数(logE)を横軸にとり、光学濃度、すなわち散乱光写真濃度(D)を横軸にとって両者の関係を表したD−logE曲線のことをいう。またガンマ(γ)値とは、特性曲線上の光学濃度0.25〜2.5における平均階調(Ga値)(光学濃度0.25と2.5を結ぶ直線と横軸のなす角をθとするときのtanθ)のことである。
(Gamma value)
Photographic Characteristic Curve In the present invention, the photographic characteristic curve represents the relationship between the optical density, that is, the scattered light photographic density (D), on the horizontal axis and the common logarithm (logE) of the exposure amount, which is exposure energy, on the horizontal axis. The D-log E curve. The gamma (γ) value is the average gradation (Ga value) at the optical density 0.25 to 2.5 on the characteristic curve (the angle formed by the straight line connecting the optical density 0.25 and 2.5 and the horizontal axis). tan θ when θ is set.

写真特性曲線の光学濃度0.25〜2.5における平均階調(Ga値)は、2.0〜6.0が好ましく、3.5〜5.5が特に好ましい。光学濃度0.25〜2.5における平均階調(Ga値)を2.0〜6.0にすることで高速で搬送しながら熱現像を行っても現像ムラのレベルを良好に保つことができ、また銀量が少なくても診断認識性の高い画像を得ることが可能となる。   The average gradation (Ga value) at an optical density of 0.25 to 2.5 in the photographic characteristic curve is preferably 2.0 to 6.0, and particularly preferably 3.5 to 5.5. By setting the average gradation (Ga value) at an optical density of 0.25 to 2.5 to 2.0 to 6.0, it is possible to maintain a good level of development unevenness even if thermal development is performed while transporting at high speed. In addition, it is possible to obtain an image with high diagnostic recognizability even if the amount of silver is small.

本発明において0.25〜2.5における平均階調(Ga値)を2.0〜6.0に調整するためには下記の技術を適宜組み合わせて用いることで容易に調整することができる。
1)現像剤の種類および添加量を変える
2)省銀化剤の種類および添加量を変える
3)ハロゲン化銀粒子の添加量、平均粒子サイズを変える
4)ハロゲン化銀粒子に吸着させる分光増感色素の種類や添加量を変化させる
5)ハロゲン化銀粒子の化学増感の方法や熟成程度を変化させる。
In the present invention, in order to adjust the average gradation (Ga value) in the range of 0.25 to 2.5 to 2.0 to 6.0, it can be easily adjusted by appropriately combining the following techniques.
1) Change the type and addition amount of developer 2) Change the type and addition amount of silver saving agent 3) Change the addition amount and average grain size of silver halide grains 4) Spectral increase to be adsorbed on silver halide grains 5) Change the type and amount of sensitization of silver halide grains.

感光性層の乾燥膜厚は9.0μm以上、16.0μm以下であるが、9.5μm以上、14.0μm以下であることが好ましく、10.0μm以上、13.0μm以下であることが特に好ましい。このことにより、最高濃度が高く、画像保存性にもすぐれる効果を奏することができて好ましい。また熱現像感光材料の支持体の少なくとも一方の面上に設けられる感光性層と非感光性層の乾燥膜厚の合計は12.0μm以上、19.0μm以下が好ましく、14.0μm以上、18.0μm以下であることが特に好ましい。熱現像後の画像濃度ムラや鮮鋭性を向上させるためには、熱現像後の画像濃度の最大値は4.0以上5.0以下であることが好ましいが、4.0以上4.8以下であることがより好ましく、4.2以上4.6以下であることが特に好ましい。   The dry film thickness of the photosensitive layer is from 9.0 μm to 16.0 μm, preferably from 9.5 μm to 14.0 μm, particularly preferably from 10.0 μm to 13.0 μm. preferable. This is preferable because the maximum density is high and the effect of excellent image storability can be obtained. The total dry film thickness of the photosensitive layer and the non-photosensitive layer provided on at least one surface of the support of the photothermographic material is preferably 12.0 μm or more and 19.0 μm or less, more preferably 14.0 μm or more, 18 It is particularly preferable that the thickness is 0.0 μm or less. In order to improve image density unevenness and sharpness after heat development, the maximum value of image density after heat development is preferably 4.0 or more and 5.0 or less, but 4.0 or more and 4.8 or less. It is more preferable that it is 4.2 or more and 4.6 or less.

(表面層)
本発明においては、バックコート層が設けられた側の最表面の中心線平均粗さ(Ra(B))が100〜150nmである。110〜140nmであることがより好ましく、115〜135nmであることが特に好ましい。バックコート層側表面のRa(B)をこの範囲とすることで本発明の効果、中でも熱現像装置の機内汚染、すり傷特性について向上させることができる。ここで、(B)は感光性層とは反対側のバックコート層側の最表面を表す。バックコート層が設けられた側の最表面の十点平均粗さ(Rz)は4.0〜8.0μmであることが好ましく、4.0〜7.0μmであることが特に好ましい。バックコート層が設けられた側の最表面の最大粗さ(Rt)は5.0〜12.0μmであることが好ましく、5.5〜10.0μmであることが特に好ましい。バックコート層側表面のRz(B)、Rt(B)をこの範囲とすることで本発明の効果、中でも熱現像装置の機内汚染、すり傷特性について向上させることができる。
(Surface layer)
In the present invention, the center line average roughness (Ra (B)) on the outermost surface on the side where the back coat layer is provided is 100 to 150 nm. More preferably, it is 110-140 nm, and it is especially preferable that it is 115-135 nm. By setting Ra (B) on the surface of the back coat layer side in this range, the effects of the present invention, in particular, the in-machine contamination and scratch characteristics of the heat developing apparatus can be improved. Here, (B) represents the outermost surface on the back coat layer side opposite to the photosensitive layer. The ten-point average roughness (Rz) of the outermost surface on the side where the back coat layer is provided is preferably 4.0 to 8.0 μm, and particularly preferably 4.0 to 7.0 μm. The maximum roughness (Rt) of the outermost surface on the side where the back coat layer is provided is preferably 5.0 to 12.0 μm, and particularly preferably 5.5 to 10.0 μm. By setting Rz (B) and Rt (B) on the back coat layer side surface in this range, the effects of the present invention, in particular, the in-machine contamination and scratch characteristics of the thermal development apparatus can be improved.

本発明における十点平均粗さ(Rz)、最大粗さ(Rt)、中心線平均粗さ(Ra)は、下記のJIS表面粗さ(B0601−1994年)により定義される。十点平均粗さ(Rz)とは断面曲線から基準長さだけ抜き取り。抜き取り部分を、平均線に平行、且つ断面曲線を横切らない直線から縦倍率の方向に測定した最高から5番目までの山頂の標高の平均値と最深から5番目までの谷底の標高の平均値との差をマイクロメートル(μm)で表したものをRzという。最大粗さ(Rt)とは粗さ曲線を基準長さLだけ抜き取り、中心線に平行な2直線で抜き取り部分を挟んだとき、この2直線の間隔を粗さ曲線の縦倍率の方向に測定して、この値をマイクロメートル(μm)で表したものをいう。中心線平均粗さ(Ra)とは粗さ曲線からその中心線の方向に測定長さLの部分を抜き取る。この抜き取り部分の中心線をX軸、縦倍率の方向をY軸、粗さ曲線をy=f(x)で表したとき、次の式によって求められる値をマイクロメートル(μm)で表したものをいう。   The ten-point average roughness (Rz), maximum roughness (Rt), and centerline average roughness (Ra) in the present invention are defined by the following JIS surface roughness (B0601-1994). The 10-point average roughness (Rz) is the reference length extracted from the cross-sectional curve. The average value of the top to fifth peak elevations and the average of the bottom to fifth peak elevations, measured in the direction of the vertical magnification from the straight line that does not cross the cross-section curve, and the extracted part. The difference between the two is expressed in micrometers (μm) and is called Rz. The maximum roughness (Rt) is the roughness curve extracted by the reference length L, and when the extracted part is sandwiched between two straight lines parallel to the center line, the distance between the two straight lines is measured in the direction of the vertical magnification of the roughness curve. Then, this value is expressed in micrometers (μm). With the centerline average roughness (Ra), a portion of the measurement length L is extracted from the roughness curve in the direction of the centerline. When the center line of this extracted portion is represented by the X axis, the direction of the vertical magnification is represented by the Y axis, and the roughness curve is represented by y = f (x), the value obtained by the following formula is represented by micrometers (μm). Say.

Figure 2008180863
Figure 2008180863

Rz、Rt、Raの測定方法としては、25℃、65%RH環境下で測定試料同士が重ね合わされない条件で24時間調湿した後、該環境下で測定した。ここで示す重ね合わされない条件とは、例えば、熱現像感光材料エッジ部分を高くした状態で巻き取る方法や熱現像感光材料と熱現像感光材料の間に紙をはさんで重ねる方法、厚紙等で枠を作製しその四隅を固定する方法のいずれかである。用いることのできる測定装置としては、例えば、WYKO社製RSTPLUS非接触三次元微小表面形状測定システム等を挙げることができる。   As a method for measuring Rz, Rt, and Ra, the humidity was adjusted for 24 hours under the condition that the measurement samples were not overlapped in an environment of 25 ° C. and 65% RH, and then measured in the environment. The non-overlapping conditions shown here include, for example, a method in which the edge of the photothermographic material is rolled up, a method in which paper is stacked between the photothermographic material and the photothermographic material, and a frame such as cardboard Is one of the methods of manufacturing and fixing the four corners. Examples of the measuring apparatus that can be used include a RSTPLUS non-contact three-dimensional micro surface shape measuring system manufactured by WYKO.

熱現像感光材料の表面と裏面のRz、Rt、Raについては、下記に示す技術手段を適宜組み合わせて用いることで容易に調整することができる。   Rz, Rt, and Ra on the front and back surfaces of the photothermographic material can be easily adjusted by appropriately combining the following technical means.

1)感光性層を有する側の層、感光性層を有する側と反対面の層に含まれるマット剤(無機または有機粉末)の種類、平均粒径、添加量、表面処理方法
2)マット剤の分散条件(使用する分散機の種類、分散時間、分散に使用するビーズの種類、平均粒径、分散時に使用する分散剤の種類と量、バインダーの極性基の種類、極性基含有量)
3)塗布時の乾燥条件(塗布速度、温風の吹き出しノズルの塗布面からの距離、乾燥風量)、残留溶媒量
4)塗布液の濾過に用いるフイルターの種類、濾過時間
5)塗布後にカレンダ処理を行う場合は、その条件(例えばカレンダ温度40〜80℃、圧力50〜300kg/cm、ラインスピード20〜100m/分、ニップ数2〜6)
本発明においては、感光性層が設けられた側の最表面の中心線平均粗さ(Ra(E))が70〜140nmであることが好ましいが、80〜135nmであることがより好ましく、90〜130nmであることが特に好ましい。感光性層が設けられた側の最表面の十点平均粗さは1.5〜4.0μmであることが好ましく、2.0〜3.5μmであることがより好ましい。本発明においては、Rz(E)/Rz(B)の値が0.1以上、0.7以下であるのが好ましく、0.2以上、0.6以下であるのがより好ましい。
1) Type of matting agent (inorganic or organic powder) contained in the layer on the side having the photosensitive layer and the layer opposite to the side having the photosensitive layer, the average particle diameter, the amount added, and the surface treatment method 2) Matting agent Dispersion conditions (type of disperser used, dispersion time, type of beads used for dispersion, average particle size, type and amount of dispersant used during dispersion, type of polar group of binder, polar group content)
3) Drying conditions at the time of application (application speed, distance from the application surface of the hot air blowing nozzle, amount of dry air), amount of residual solvent 4) Type of filter used for filtering the coating liquid, filtration time 5) Calendar treatment after application Conditions (for example, calendar temperature 40-80 ° C, pressure 50-300 kg / cm, line speed 20-100 m / min, nip number 2-6)
In the present invention, the center line average roughness (Ra (E)) on the outermost surface on the side provided with the photosensitive layer is preferably 70 to 140 nm, more preferably 80 to 135 nm, 90 It is particularly preferable that the thickness is ˜130 nm. The ten-point average roughness of the outermost surface on the side where the photosensitive layer is provided is preferably 1.5 to 4.0 μm, and more preferably 2.0 to 3.5 μm. In the present invention, the value of Rz (E) / Rz (B) is preferably 0.1 or more and 0.7 or less, and more preferably 0.2 or more and 0.6 or less.

ここで(E)は感光性層側の最表面を、(B)は感光性層とは反対側のバックコート層側の最表面を表す。(Rz(E))を1.5〜4.0μmとすることで、熱現像装置の機内汚染、フィルム搬送性を向上させることができる。   Here, (E) represents the outermost surface on the photosensitive layer side, and (B) represents the outermost surface on the back coat layer side opposite to the photosensitive layer. By setting (Rz (E)) to 1.5 to 4.0 μm, it is possible to improve in-machine contamination and film transportability of the thermal development apparatus.

また本発明においては、Ra(E)/Ra(B)の値が0.6以上、1.5以下であることが好ましく、特にRa(E)/Ra(B)の値が0.6以上、1.3以下であるのが好ましい。この範囲とすることで、経時でのかぶり上昇が小さく、フィルムの搬送性がよく、熱現像時の濃度むらの発生についてより向上させることができる。   In the present invention, the value of Ra (E) / Ra (B) is preferably 0.6 or more and 1.5 or less, and particularly the value of Ra (E) / Ra (B) is 0.6 or more. 1.3 or less. By setting it within this range, the increase in fog over time is small, the transportability of the film is good, and the occurrence of uneven density during heat development can be further improved.

本発明の熱現像感光材料は、感光性層側の最表面に平均粒径が0.3〜2.0μmのマット剤Aと平均粒径2.5μm〜7.0μmのマット剤Bを含有することが好ましい。マット剤Aの平均粒径は0.5〜1.5μmであることがより好ましく、マット剤Bの平均粒径は3.0〜6.0μmであることがより好ましい。マット剤Aとマット剤Bの質量比は99:1〜60:40であることが好ましく、95:5〜70:30であることがより好ましい。感光性層側の最外層に使用されるマット剤の添加量は最外層に用いられるバインダー量(架橋剤についてはバインダー量に含む)に対して通常1.0〜20質量%であり、好ましくは2.0〜15質量%であり、より好ましくは3.0〜10質量%である。   The photothermographic material of the present invention contains a matting agent A having an average particle size of 0.3 to 2.0 μm and a matting agent B having an average particle size of 2.5 to 7.0 μm on the outermost surface on the photosensitive layer side. It is preferable. The average particle size of the matting agent A is more preferably 0.5 to 1.5 μm, and the average particle size of the matting agent B is more preferably 3.0 to 6.0 μm. The mass ratio of the matting agent A and the matting agent B is preferably 99: 1 to 60:40, and more preferably 95: 5 to 70:30. The addition amount of the matting agent used in the outermost layer on the photosensitive layer side is usually 1.0 to 20% by mass with respect to the binder amount used in the outermost layer (including the crosslinking agent in the binder amount), preferably It is 2.0-15 mass%, More preferably, it is 3.0-10 mass%.

支持体をはさんで感光性層側とは反対側の最外層に含まれるマット剤(架橋された有機樹脂であることが好ましい)の平均粒径は、好ましくは8.5〜15.0μmであり、より好ましくは9.0〜12.0μmである。   The average particle size of the matting agent (preferably a cross-linked organic resin) contained in the outermost layer opposite to the photosensitive layer side across the support is preferably 8.5 to 15.0 μm. Yes, more preferably from 9.0 to 12.0 μm.

マット剤の添加量は最外層に用いられるバインダー量(架橋剤についてはバインダー量に含む)に対して通常0.2〜10質量%であり、好ましくは0.4〜7質量%であり、より好ましくは0.6〜5質量%である。   The addition amount of the matting agent is usually 0.2 to 10% by mass, preferably 0.4 to 7% by mass, and more preferably 0.4 to 7% by mass with respect to the binder amount used for the outermost layer (including the crosslinking agent in the binder amount). Preferably it is 0.6-5 mass%.

本発明においては、Rz(E)/Rz(B)の値が0.1以上、0.7以下であるのが好ましく、特にRz(E)/Rz(B)の値が0.2以上、0.6以下であるのが好ましく、0.3以上、0.55以下であるのがより好ましい。この範囲とすることで、熱現像感光材料の搬送性がよく、熱現像時の濃度むらの発生を向上することができる。   In the present invention, the value of Rz (E) / Rz (B) is preferably 0.1 or more and 0.7 or less, and particularly the value of Rz (E) / Rz (B) is 0.2 or more, It is preferably 0.6 or less, more preferably 0.3 or more and 0.55 or less. By setting it within this range, the transportability of the photothermographic material is good, and the occurrence of uneven density during heat development can be improved.

本発明に係る熱現像感光材料は、支持体上の両側に複数の種類のマット剤を含有する構成層を有することが、画像の画質の向上の観点から、好ましい。感光性層を有する側のマット剤を含有する層に含有させるマット剤の最大の平均粒径をもつものの平均粒径をLe(μm)とする。支持体をはさんで感光性層を有する側と反対側、すなわち、バックコート層を有する側のマット剤を含有する層に含有させるマット剤の最大の平均粒径をもつものの平均粒径をLb(μm)とする。この時Lb/Leが2.0〜10であることが好ましく、より好ましくは3.0〜4.5である。   The photothermographic material according to the invention preferably has constituent layers containing a plurality of types of matting agents on both sides of the support, from the viewpoint of improving the image quality of the image. The average particle size of the matting agent having the maximum average particle size contained in the layer containing the matting agent on the side having the photosensitive layer is defined as Le (μm). The average particle diameter of the matting agent having the largest average particle diameter of the matting agent contained in the layer containing the matting agent on the side opposite to the side having the photosensitive layer across the support, that is, the side having the backcoat layer is Lb. (Μm). At this time, Lb / Le is preferably 2.0 to 10, and more preferably 3.0 to 4.5.

Lb/Leをこの範囲とすることで、熱現像時の濃度ムラを改良することができる。また本発明に係る画像形成方法においてはRz(E)/Ra(E)の値は好ましくは12以上、60以下であり、より好ましくは14以上、50以下である。Rz(E)/Ra(E)の値をこの範囲とすることで、熱現像時の濃度ムラおよび経時での保存特性を改良することができる。   By setting Lb / Le within this range, density unevenness during heat development can be improved. In the image forming method according to the present invention, the value of Rz (E) / Ra (E) is preferably 12 or more and 60 or less, more preferably 14 or more and 50 or less. By setting the value of Rz (E) / Ra (E) within this range, density unevenness during thermal development and storage characteristics over time can be improved.

また本発明に係る画像形成方法においてはRz(B)/Ra(B)の値は好ましくは25以上、65以下であり、より好ましくは30以上、60以下である。Rz(B)/Ra(B)の値をこの範囲とすることで、熱現像時の濃度ムラおよび経時での保存特性を改良することができる。前記した表面粗さについては以下の方法で行った。   In the image forming method according to the present invention, the value of Rz (B) / Ra (B) is preferably 25 or more and 65 or less, more preferably 30 or more and 60 or less. By setting the value of Rz (B) / Ra (B) within this range, density unevenness during heat development and storage characteristics over time can be improved. About the above-mentioned surface roughness, it carried out with the following method.

《表面粗さの評価》
熱現像の処理前の試料について、非接触3次元表面解析装置(WYKO社RST/PLUS)を用いて、下記に示す方法により測定した。
<< Evaluation of surface roughness >>
About the sample before the process of heat development, it measured by the method shown below using the non-contact three-dimensional surface analyzer (WYKO company RST / PLUS).

1)対物レンズ:×10.0 中間レンズ:×1.0
2)測定範囲:463.4μm×623.9μm
3)ピクセルサイズ:368×238
4)フィルター:円筒補正と傾き補正
5)スムージング:ミディアムスムージング
6)スキャンスピード:Low
なおRa、Rz、Rtの定義はJIS表面粗さ(B0601−1994年)に従った。測定は10cm×10cmの各試料について、1cm間隔で碁盤目状に100分割し、各正方形領域の中心について測定を行ない、100回の測定からその平均値を求めた。
1) Objective lens: × 10.0 Intermediate lens: × 1.0
2) Measurement range: 463.4 μm × 623.9 μm
3) Pixel size: 368 × 238
4) Filter: Cylindrical correction and tilt correction 5) Smoothing: Medium smoothing 6) Scanning speed: Low
Ra, Rz, and Rt are defined according to JIS surface roughness (B0601-1994). For each sample of 10 cm × 10 cm, the sample was divided into 100 in a grid pattern at 1 cm intervals, the center of each square region was measured, and the average value was obtained from 100 measurements.

本発明では、マット剤を含有する層が最外層である場合が好ましい態様の一つである。すなわち、本発明に係る熱現像感光材料の感光性層側、また支持体をはさみ感光性層の反対側に非感光性層を設けた場合にも、最外層に、表面粗さをコントロールする等のためにマット剤として有機または無機の粉末を用いることが好ましい。   In the present invention, the case where the layer containing the matting agent is the outermost layer is one of the preferred embodiments. That is, even when a non-photosensitive layer is provided on the photosensitive layer side of the photothermographic material of the present invention, or on the opposite side of the photosensitive layer with the support interposed, the surface roughness is controlled on the outermost layer, etc. Therefore, it is preferable to use organic or inorganic powder as a matting agent.

本発明において用いられる粉末としては、モース硬度が5以上の粉末を用いることが好ましい。粉末としては公知の無機質粉末や有機質粉末を適宜選択して使用することができる。無機質粉末としては、例えば、酸化チタン、窒化ホウ素、SnO2、SiO2、Cr23、α−Al23、α−Fe23、α−FeOOH、SiC、酸化セリウム、コランダム、人造ダイヤモンド、ザクロ石、ガーネット、マイカ、ケイ石、窒化ケイ素、炭化ケイ素等を挙げることができる。有機質粉末としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、テフロン(登録商標)等の粉末を挙げることができる。これらの中でも好ましいのは、SiO2、酸化チタン、硫酸バリウム、α−Al23、α−Fe23、α−FeOOH、Cr23、マイカ等の無機粉末等であり、その中でもSiO2、α−Al23が好ましく、特に好ましいのはSiO2である。 As the powder used in the present invention, a powder having a Mohs hardness of 5 or more is preferably used. As the powder, a known inorganic powder or organic powder can be appropriately selected and used. Examples of the inorganic powder include titanium oxide, boron nitride, SnO 2 , SiO 2 , Cr 2 O 3 , α-Al 2 O 3 , α-Fe 2 O 3 , α-FeOOH, SiC, cerium oxide, corundum, artificial Examples thereof include diamond, garnet, garnet, mica, silica, silicon nitride, silicon carbide and the like. Examples of the organic powder include powders such as polymethyl methacrylate, polystyrene, and Teflon (registered trademark). Among these, inorganic powders such as SiO 2 , titanium oxide, barium sulfate, α-Al 2 O 3 , α-Fe 2 O 3 , α-FeOOH, Cr 2 O 3 , mica, etc. are preferable. SiO 2 and α-Al 2 O 3 are preferable, and SiO 2 is particularly preferable.

本発明において、前記粉末が例えば、表面処理されていることが好ましい。表面処理層形成は、無機質粉末素材を乾式粉砕後、水と分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒分級が行われる。その後、微粒スラリーは表面処理槽に移され、ここで金属水酸化物の表面被覆が行われる。まず、所定量のAl、Si、Ti、Zr、Sb、Sn、Znなどの塩類水溶液を加え、これを中和する酸、またはアルカリを加えて、生成する含水酸化物で無機質粉末粒子表面を被覆する。副生する水溶性塩類はデカンテーション、濾過、洗浄により除去し、最終的にスラリーpHを調節して濾過し、純水により洗浄する。洗浄済みケーキはスプレードライヤーまたはバンドドライヤーで乾燥される。最後にこの乾燥物はジェットミルで粉砕され、製品になる。また、水系ばかりでなくAlCl3、SiCl4の蒸気を非磁性無機質粉末に通じ、その後水蒸気を流入してAl、Si表面処理を施すことも可能である。その他の表面処理法については、「Characterization of Powder Surfaces」,Academic Pressを参考にすることができる。 In the present invention, the powder is preferably surface-treated, for example. The surface treatment layer is formed by dry pulverizing the inorganic powder material, adding water and a dispersing agent, and performing coarse particle classification by wet pulverization and centrifugal separation. Thereafter, the fine slurry is transferred to a surface treatment tank, where surface coating of metal hydroxide is performed. First, a predetermined amount of an aqueous salt solution such as Al, Si, Ti, Zr, Sb, Sn, and Zn is added, and an acid or alkali that neutralizes the solution is added, and the surface of the inorganic powder particles is coated with the resulting hydrous oxide. To do. Water-soluble salts produced as a by-product are removed by decantation, filtration, and washing. Finally, the slurry pH is adjusted, filtered, and washed with pure water. The washed cake is dried with a spray dryer or a band dryer. Finally, the dried product is pulverized by a jet mill to become a product. In addition to the aqueous system, AlCl 3 and SiCl 4 vapors can be passed through the non-magnetic inorganic powder, and then steam can be introduced to perform Al and Si surface treatment. For other surface treatment methods, “Characterization of Powder Surfaces”, Academic Press can be referred to.

本発明では、Si化合物またはAl化合物により表面処理されていることが好ましい。かかる表面処理のなされた粉末を用いるとマット剤分散時の分散状態を良好にすることができる。前記SiまたはAlの含有量としては、前記粉末に対して、Siが0.1〜10質量%、Alが0.1〜10質量%であるのが好ましい。より好ましくはSiが0.1〜5質量%、Alが0.1〜5質量%であり、Siが0.1〜2質量%、Alが0.1〜2質量%であるのが特に好ましい。また、Si、Alの質量比がSi<Alであるのがよい。表面処理に関しては特開平2−83219号公報に記載された方法により行うことができる。尚、本発明における粉末の平均粒径とは、球状粉末においてはその平均直径を、針状粉末においてはその平均長軸長を、板状粉末においてはその板状面の最大の対角線の長さの平均値をそれぞれ意味し、電子顕微鏡による測定から容易に求めることができる。   In the present invention, it is preferable that the surface treatment is performed with an Si compound or an Al compound. When such a surface-treated powder is used, the dispersion state when the matting agent is dispersed can be improved. The content of Si or Al is preferably 0.1 to 10% by mass of Si and 0.1 to 10% by mass of Al with respect to the powder. More preferably, Si is 0.1 to 5% by mass, Al is 0.1 to 5% by mass, Si is 0.1 to 2% by mass, and Al is particularly preferably 0.1 to 2% by mass. . The mass ratio of Si and Al is preferably Si <Al. The surface treatment can be performed by the method described in JP-A-2-83219. The average particle diameter of the powder in the present invention is the average diameter in the case of spherical powder, the average major axis length in the case of acicular powder, and the maximum diagonal length of the plate-like surface in the case of plate-like powder. Mean values can be easily obtained from measurement with an electron microscope.

上記の有機または無機粉末は平均粒径が0.5〜10μmであることが好ましく、更に好ましくは1.0〜8.0μmである。   The organic or inorganic powder preferably has an average particle size of 0.5 to 10 μm, more preferably 1.0 to 8.0 μm.

感光性層側の最外層に含まれる有機または無機粉末の平均粒径は通常0.5〜8.0μm、好ましくは1.0〜6.0μmであり、より好ましくは2.0〜5.0μmである。   The average particle diameter of the organic or inorganic powder contained in the outermost layer on the photosensitive layer side is usually 0.5 to 8.0 μm, preferably 1.0 to 6.0 μm, more preferably 2.0 to 5.0 μm. It is.

添加量は最外層に用いられるバインダー量(架橋剤についてはバインダー量に含む)に対して通常1.0〜20質量%であり、好ましくは2.0〜15質量%であり、より好ましくは3.0〜10質量%である。   The addition amount is usually 1.0 to 20% by mass, preferably 2.0 to 15% by mass, more preferably 3 with respect to the amount of binder used in the outermost layer (including the crosslinking agent in the binder amount). 0.0 to 10% by mass.

支持体をはさんで感光性層側とは反対側の最外層に含まれる有機または無機粉末の平均粒径は、通常2.0〜15.0μm、好ましくは3.0〜12.0μmであり、より好ましくは4.0〜10.0μmである。添加量は最外層に用いられるバインダー量(架橋剤についてはバインダー量に含む)に対して通常0.2〜10質量%であり、好ましくは0.4〜7質量%であり、より好ましくは0.6〜5質量%である。   The average particle size of the organic or inorganic powder contained in the outermost layer opposite to the photosensitive layer side across the support is usually 2.0 to 15.0 μm, preferably 3.0 to 12.0 μm. More preferably, it is 4.0-10.0 micrometers. The addition amount is usually 0.2 to 10% by mass, preferably 0.4 to 7% by mass, and more preferably 0 to the amount of binder used in the outermost layer (including the crosslinking agent in the binder amount). .6 to 5% by mass.

また、粒子サイズ分布の変動係数としては、50%以下であることが好ましく、更に好ましくは40%以下であり、特に好ましくは30%以下となる粉末である。ここで、粒子サイズ分布の変動係数は、下記の式で表される値である。   The variation coefficient of the particle size distribution is preferably 50% or less, more preferably 40% or less, and particularly preferably 30% or less. Here, the variation coefficient of the particle size distribution is a value represented by the following equation.

{(粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)}×100
有機または無機粉末の添加方法は、予め塗布液中に分散させて塗布する方法であってもよいし、塗布液を塗布した後、乾燥が終了する以前に有機または無機粉末を噴霧する方法を用いてもよい。また複数の種類の粉末を添加する場合は、両方の方法を併用してもよい。
{(Standard deviation of particle size) / (Average value of particle size)} × 100
The method of adding the organic or inorganic powder may be a method in which the organic or inorganic powder is previously dispersed in the coating solution, or a method of spraying the organic or inorganic powder after the coating solution is applied and before the drying is completed. May be. Moreover, when adding several types of powder, you may use both methods together.

(有機銀塩)
本発明に係る有機銀塩とは、熱現像感光材料の感光性層において、銀画像を形成するための銀イオンを供給する供給源として機能し得る非感光性の有機銀塩である。
(Organic silver salt)
The organic silver salt according to the present invention is a non-photosensitive organic silver salt that can function as a supply source for supplying silver ions for forming a silver image in the photosensitive layer of the photothermographic material.

すなわち、本発明に係る有機銀塩は、露光によって形成された潜像を粒子表面上に有する感光性ハロゲン化銀粒子(光触媒)及び還元剤の存在下で、80℃或いはそれ以上に加熱して熱現像される。この熱現像過程において、本発明に係る有機銀塩は、銀イオン供給源として機能して銀イオンを供給し銀画像形成に寄与することができる。   That is, the organic silver salt according to the present invention is heated to 80 ° C. or higher in the presence of photosensitive silver halide grains (photocatalyst) having a latent image formed by exposure on the grain surface and a reducing agent. Heat developed. In this thermal development process, the organic silver salt according to the present invention can function as a silver ion supply source to supply silver ions and contribute to silver image formation.

このような非感光性有機銀塩については、従来、種々の化学構造を有する有機化合物の銀塩が知られており、例えば、特開平10−62899号公報の段落「0048」〜「0049」、欧州特許出願公開第803,764A1号明細書の第18ページ第24行〜第19ページ第37行、欧州特許出願公開第962,812A1号明細書、特開平11−349591号公報、特開2000−7683号公報、同2000−72711号公報、同2002−23301号公報、同2002−23303号公報、同2002−49119号公報、196446号公報、欧州特許出願公開第1246001A1号明細書、欧州特許出願公開第1258775A1号明細書、特開2003−140290号公報、特開2003−195445号公報、同2003−295378号公報、同2003−295379号公報、同2003−295380号公報、同2003−295381号公報、特開2003−270755号公報等に記載されている。   As such a non-photosensitive organic silver salt, conventionally, silver salts of organic compounds having various chemical structures are known. For example, paragraphs “0048” to “0049” of JP-A-10-62899, European Patent Application Publication No. 803,764A1, page 18, line 24 to page 19, line 37, European Patent Application Publication No. 962,812A1, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-349591, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000- 7683, 2000-72711, 2002-23301, 2002-23303, 2002-49119, 196446, European Patent Application No. 1246001A1, European Patent Application Publication No. 1258775A1, JP 2003-140290 A, JP 2003-195445 A, 2003-295378, JP same 2003-295379, JP same 2003-295380, JP same 2003-295381 JP, described in JP-A No. 2003-270755 Publication.

本発明においては、上記の特許公報等に開示されている各種有機銀塩と併用して、又は、併用せずに、脂肪族カルボン酸の銀塩、特に、炭素数が10〜30、好ましくは15〜28の長鎖脂肪族カルボン酸の銀塩を用いることができる。銀塩を生成するための脂肪族カルボン酸の分子量は好ましくは200〜500であり、より好ましくは250〜400である。脂肪族カルボン酸銀塩の好ましい例としては、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸銀、およびこれらの混合物などを含む。   In the present invention, a silver salt of an aliphatic carboxylic acid, particularly, having 10 to 30 carbon atoms, preferably in combination with or without using various organic silver salts disclosed in the above-mentioned patent publications, etc. A silver salt of 15 to 28 long chain aliphatic carboxylic acid can be used. The molecular weight of the aliphatic carboxylic acid for producing the silver salt is preferably 200 to 500, more preferably 250 to 400. Preferred examples of the aliphatic carboxylic acid silver salt include silver behenate, silver arachidate, silver stearate, silver oleate, silver laurate, silver caproate, silver myristate, silver palmitate, and a mixture thereof. Including.

本発明においては、これら脂肪族カルボン酸銀の中でも、全脂肪族カルボン酸銀に対して、ベヘン酸銀含有率が好ましくは50モル%以上、より好ましくは80モル%以上100モル%以下、更に好ましくは90モル%以上99.99モル%以下である。又、エルカ酸銀含有率が2モル%以下、より好ましくは1モル%以下、更に好ましくは0.1モル%以下である。   In the present invention, among these aliphatic carboxylates, the silver behenate content is preferably 50 mol% or more, more preferably 80 mol% or more and 100 mol% or less, based on the total aliphatic carboxylate silver. Preferably they are 90 mol% or more and 99.99 mol% or less. Further, the silver erucate content is 2 mol% or less, more preferably 1 mol% or less, still more preferably 0.1 mol% or less.

なお、脂肪族カルボン酸銀塩を調製するに先だって、脂肪族カルボン酸のアルカリ金属塩を調製することが必要であるが、その際に、使用できるアルカリ金属塩の種類の例としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。これらのうちの1種類のアルカリ金属塩、例えば、水酸化カリウムを用いることが好ましいが、水酸化ナトリウムと水酸化カリウムを併用することも好ましい。併用比率としては前記の水酸化塩の両者のモル比が10:90〜75:25の範囲であることが好ましい。脂肪族カルボン酸と反応して脂肪族カルボン酸のアルカリ金属塩となったときに上記の範囲で使用することで、反応液の粘度を良好な状態に制御できる。   Prior to the preparation of the aliphatic carboxylic acid silver salt, it is necessary to prepare an alkali metal salt of an aliphatic carboxylic acid. In this case, examples of the types of alkali metal salts that can be used include sodium hydroxide. Potassium hydroxide and lithium hydroxide. Among these, it is preferable to use one kind of alkali metal salt, for example, potassium hydroxide, but it is also preferable to use sodium hydroxide and potassium hydroxide in combination. The combined ratio is preferably such that the molar ratio of both of the above-mentioned hydroxide salts is in the range of 10:90 to 75:25. When used in the above range when reacted with an aliphatic carboxylic acid to form an alkali metal salt of an aliphatic carboxylic acid, the viscosity of the reaction solution can be controlled in a good state.

また、平均粒径が0.050μm以下のハロゲン化銀粒子の存在下で脂肪族カルボン酸銀を調製する場合には、特に、アルカリ金属塩のアルカリ金属はカリウムの比率が高い方が、ハロゲン化銀粒子の溶解及びオストワルド熟成が防止されるので好ましい。更に、カリウム塩の比率が高いほど、脂肪酸銀塩粒子のサイズを小さくすることができる。好ましいカリウム塩の比率は、脂肪族カルボン酸銀を製造する工程において使用する全アルカリ金属塩に対して50〜100%である。アルカリ金属塩の濃度は、0.1〜0.3モル/1000mlが好ましい。   In addition, when preparing an aliphatic carboxylate silver salt in the presence of silver halide grains having an average particle diameter of 0.050 μm or less, the alkali metal of the alkali metal salt is preferably a halide having a higher potassium ratio. It is preferable because dissolution of silver particles and Ostwald ripening are prevented. Furthermore, the higher the potassium salt ratio, the smaller the size of the fatty acid silver salt particles. A preferable ratio of the potassium salt is 50 to 100% based on the total alkali metal salt used in the step of producing the aliphatic carboxylate. The concentration of the alkali metal salt is preferably 0.1 to 0.3 mol / 1000 ml.

脂肪族カルボン酸銀塩の平均球相当直径は、脂肪族カルボン酸銀塩の1粒子の体積と同じ体積の球の直径を意味する。測定方法は、塗布後の試料を透過型電子顕微鏡により観察した粒子の投影面積と厚みから粒子体積を求め、その体積と同体積の球に換算した時の直径を平均することにより求めることができる。脂肪族カルボン酸銀塩の平均球相当直径を制御するためには上記したように脂肪族カルボン酸銀塩の調製時にカリウム塩の比率を高くして調整する。または、感光性乳剤分散液の分散時に用いるジルコニアビーズの粒径、ミル周速、分散時間を適宜調整することで容易に行うことができる。本発明においては脂肪族カルボン酸銀塩の平均球相当直径は、熱現像後に十分な濃度を得るためには、0.05〜0.50μmであることが好ましく、より好ましくは0.10〜0.45μm、特に好ましくは0.15〜0.40μmである。   The average sphere equivalent diameter of the aliphatic carboxylic acid silver salt means the diameter of a sphere having the same volume as the volume of one particle of the aliphatic carboxylic acid silver salt. The measuring method can be obtained by obtaining the particle volume from the projected area and thickness of the particle observed by a transmission electron microscope of the coated sample, and averaging the diameter when converted to a sphere having the same volume. . In order to control the average sphere equivalent diameter of the aliphatic carboxylic acid silver salt, the ratio of the potassium salt is increased and adjusted during the preparation of the aliphatic carboxylic acid silver salt as described above. Or it can carry out easily by adjusting suitably the particle size of a zirconia bead used at the time of dispersion | distribution of a photosensitive emulsion dispersion liquid, a mill peripheral speed, and dispersion time. In the present invention, the average equivalent sphere diameter of the aliphatic carboxylic acid silver salt is preferably 0.05 to 0.50 μm, more preferably 0.10 to 0 in order to obtain a sufficient density after heat development. .45 μm, particularly preferably 0.15 to 0.40 μm.

本発明で使用される脂肪族カルボン酸銀塩に加えて必要により使用してもよい有機銀塩としては、コア・シェル構造の有機銀塩(特開2002−23303号公報)、多価カルボン酸の銀塩(EP1246001号公報、特開2004−061948号公報)、ポリマー銀塩(特開2000−292881号公報、特開2003−295378〜2003−295381号公報)を用いることもできる。   Examples of the organic silver salt that may be used in addition to the aliphatic carboxylic acid silver salt used in the present invention include an organic silver salt having a core-shell structure (Japanese Patent Laid-Open No. 2002-23303), a polyvalent carboxylic acid Silver salts (EP1246001 and JP2004-061948) and polymer silver salts (JP2000-292881 and JP2003-295378 to 2003-29581) can also be used.

本発明に用いることができる脂肪族カルボン酸銀塩の形状としては、特に制限はなく、針状、棒状、平板状、りん片状いずれでもよい。本発明においては、りん片状の脂肪族カルボン酸銀塩及び長軸と短軸の長さの比が5以下の短針状又は直方体状の脂肪族カルボン酸銀塩が好ましく用いられる。   The shape of the aliphatic carboxylic acid silver salt that can be used in the present invention is not particularly limited, and may be any of a needle shape, a rod shape, a flat plate shape, and a flake shape. In the present invention, flake-shaped aliphatic carboxylic acid silver salts and short needle-shaped or rectangular parallelepiped-shaped aliphatic carboxylic acid silver salts having a major axis / minor axis length ratio of 5 or less are preferably used.

本明細書において、りん片状の有機銀塩とは、次のようにして定義する。有機銀塩を電子顕微鏡で観察し、有機銀塩粒子の形状を直方体と近似し、この直方体の辺を一番短かい方からa、b、cとした(cはbと同じであってもよい。)とき、短い方の数値a、bで計算し、次のようにしてxを求める。   In the present specification, the scaly organic silver salt is defined as follows. The organic silver salt is observed with an electron microscope, the shape of the organic silver salt particle is approximated to a rectangular parallelepiped, and the sides of the rectangular parallelepiped are defined as a, b, and c from the shortest side (even though c is the same as b) Good)), and calculate with the shorter numbers a and b, and find x as follows.

x=b/a
このようにして200個程度の粒子についてxを求め、その平均値x(平均)としたとき、x(平均)≧1.5の関係を満たすものをりん片状とする。好ましくは30≧x(平均)≧1.5、より好ましくは20≧x(平均)≧2.0である。因みに針状とは1≦x(平均)<1.5である。
x = b / a
In this way, x is obtained for about 200 particles, and when the average value x (average) is obtained, particles satisfying the relationship of x (average) ≧ 1.5 are defined as flakes. Preferably, 30 ≧ x (average) ≧ 1.5, more preferably 20 ≧ x (average) ≧ 2.0. Incidentally, the needle shape is 1 ≦ x (average) <1.5.

りん片状粒子において、aはbとcを辺とする面を主平面とした平板状粒子の厚さとみることができる。aの平均は0.01μm以上、0.23μmが好ましく、0.1μm以上、0.20μm以下がより好ましい。c/bの平均は好ましくは1以上、6以下、より好ましくは1.05以上、4以下、更に好ましくは1.1以上、3以下、特に好ましくは1.1以上、2以下である。   In the flake shaped particle, a can be regarded as a thickness of a tabular particle having a main plane with b and c as sides. The average of a is preferably 0.01 μm or more and 0.23 μm, more preferably 0.1 μm or more and 0.20 μm or less. The average c / b is preferably 1 or more and 6 or less, more preferably 1.05 or more and 4 or less, still more preferably 1.1 or more and 3 or less, and particularly preferably 1.1 or more and 2 or less.

有機銀塩の粒子サイズ分布は単分散であることが好ましい。単分散とは短軸、長軸それぞれの長さの標準偏差を短軸、長軸それぞれで割った値の100分率が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、更に好ましくは50%以下である。有機銀塩の形状の測定方法としては有機銀塩分散物の透過型電子顕微鏡像より求めることができる。単分散性を測定する別の方法として、有機銀塩の体積加重平均直径の標準偏差を求める方法があり、体積加重平均直径で割った値の百分率(変動係数)が好ましくは100%以下、より好ましくは80%以下、更に好ましくは50%以下である。測定方法としては、例えば、液中に分散した有機銀塩にレーザ光を照射し、その散乱光のゆらぎの時間変化に対する自己相関関数を求めることにより得られた粒径(体積加重平均直径)から求めることができる。   The particle size distribution of the organic silver salt is preferably monodispersed. Monodispersion is preferably 100% or less, more preferably 80% or less, and even more preferably 50% of the value obtained by dividing the standard deviation of the lengths of the short and long axes by the short and long axes. It is as follows. The method for measuring the shape of the organic silver salt can be determined from a transmission electron microscope image of the organic silver salt dispersion. As another method for measuring monodispersity, there is a method for obtaining the standard deviation of the volume weighted average diameter of the organic silver salt, and the percentage (variation coefficient) of the value divided by the volume weighted average diameter is preferably 100% or less, more Preferably it is 80% or less, More preferably, it is 50% or less. As a measuring method, for example, from the particle size (volume weighted average diameter) obtained by irradiating an organic silver salt dispersed in a liquid with laser light and obtaining an autocorrelation function with respect to temporal change of fluctuation of the scattered light. Can be sought.

本発明に用いられる有機銀塩の製造及びその分散法は、公知の方法等を適用することができる。例えば脂肪族カルボン酸銀塩粒子は、銀イオンを含む溶液と、脂肪族カルボン酸アルカリ金属塩溶液もしくは懸濁液とを反応させることによって調製される。銀イオンを含む溶液は硝酸銀水溶液、脂肪族カルボン酸金属塩溶液もしくは懸濁液は水溶液もしくは水分散液であることが好ましい。その添加混合は、同時に行われることが好ましく、その方法については、反応浴の液面に添加する方法、液中に添加する方法等、何れの方法で行っても構わないが、移送手段中に添加混合する方法が好ましい。移送手段中の混合とは、ラインミキシングを意味する。即ち、銀イオンを含む溶液と脂肪族カルボン酸アルカリ金属塩溶液もしくは懸濁液との混合が反応物を含む混合液を貯留するバッチに入る前に行われる。混合部の攪拌手段は、ホモミキサー等の機械的攪拌、スタチックミキサー、乱流効果等いずれの手段を用いても構わないが、機械的攪拌を用いない方が好ましい。尚、移送手段中の混合は、銀イオンを含む溶液、脂肪族カルボン酸アルカリ金属塩溶液もしくは懸濁液に加えて、水、混合後バッチに貯留された混合液の循環液等、第3の液もしくは懸濁液を混合しても構わない。その他に、例えば、上記の特開平10−62899号公報、欧州特許出願公開第803,763A1号明細書、欧州特許出願公開第962,812A1号明細書、特開2001−167022号公報、同2000−7683号公報、同2000−72711号公報、同2001−163889号公報、同2001−163890号公報、同2001−163827号公報、同2001−33907号公報、同2001−188313号公報、同2001−83652号公報、同2002−6442号公報、同2002−31870号公報、同2003−280135号公報、同2005−157190号公報等を参考にすることができる。   Known methods and the like can be applied to the production and dispersion method of the organic silver salt used in the present invention. For example, aliphatic carboxylic acid silver salt particles are prepared by reacting a solution containing silver ions with an aliphatic metal carboxylate salt solution or suspension. The solution containing silver ions is preferably an aqueous silver nitrate solution, and the aliphatic carboxylic acid metal salt solution or suspension is preferably an aqueous solution or an aqueous dispersion. The addition and mixing are preferably performed at the same time, and the method may be performed by any method such as a method of adding to the liquid surface of the reaction bath or a method of adding to the liquid. A method of adding and mixing is preferable. Mixing in the transfer means means line mixing. That is, the solution containing silver ions and the aliphatic carboxylic acid alkali metal salt solution or suspension are mixed before entering the batch for storing the mixed solution containing the reactant. As the stirring means in the mixing section, any means such as mechanical stirring such as a homomixer, static mixer, turbulent flow effect or the like may be used, but it is preferable not to use mechanical stirring. In addition, the mixing in the transfer means includes a solution containing silver ions, an alkali metal salt of an aliphatic carboxylic acid salt or a suspension, water, a circulated liquid of a mixed liquid stored in a batch after mixing, and the like. Liquids or suspensions may be mixed. In addition, for example, the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-62899, European Patent Application Publication No. 803,763A1, European Patent Application Publication No. 962,812A1, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-167022, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-16722. 7683, 2000-72711, 2001-163889, 2001-163890, 2001-163827, 2001-33907, 2001-188313, 2001-83652. No. 2002, No. 2002-6442, No. 2002-31870, No. 2003-280135, No. 2005-157190, etc. can be referred to.

なお、有機銀塩の分散時に、感光性ハロゲン化銀粒子のような感光性銀塩を共存させることができる。しかし、有機銀塩の分散時に、ハロゲン化銀粒子を共存させると、カブリが上昇し、感度が著しく低下するため、分散時にはハロゲン化銀粒子を実質的に含まないことがより好ましい。本発明では、分散される水分散液中でのハロゲン化銀量は、その液中の有機銀塩1モルに対し1モル%以下であることが好ましく、より好ましくは0.1モル%以下であり、更に好ましいのはハロゲン化銀粒子の添加を行わないものである。   A photosensitive silver salt such as photosensitive silver halide grains can coexist when the organic silver salt is dispersed. However, when silver halide grains are allowed to coexist at the time of dispersion of the organic silver salt, fog is increased and sensitivity is remarkably lowered. Therefore, it is more preferable that silver halide grains are not substantially contained at the time of dispersion. In the present invention, the amount of silver halide in the aqueous dispersion to be dispersed is preferably 1 mol% or less, more preferably 0.1 mol% or less with respect to 1 mol of the organic silver salt in the liquid. Yes, and more preferred is the addition of no silver halide grains.

本発明において有機銀塩水分散液と感光性ハロゲン化銀粒子分散液を混合して熱現像感光材料を製造することが可能である。有機銀塩と感光性銀塩の混合比率は目的に応じて選べるが、有機銀塩に対する感光性ハロゲン化銀粒子の割合は1〜30モル%の範囲が好ましく、更に2〜20モル%、特に3〜15モル%の範囲が好ましい。混合する際に2種以上の有機銀塩分散液と2種以上のハロゲン化銀粒子分散液を混合することは、写真特性の調節のために好ましく用いられる方法である。   In the present invention, a photothermographic material can be produced by mixing an organic silver salt water dispersion and a photosensitive silver halide grain dispersion. The mixing ratio of the organic silver salt and the photosensitive silver salt can be selected according to the purpose, but the ratio of the photosensitive silver halide grains to the organic silver salt is preferably in the range of 1 to 30 mol%, more preferably 2 to 20 mol%, especially The range of 3-15 mol% is preferable. Mixing two or more kinds of organic silver salt dispersions and two or more kinds of silver halide grain dispersions when mixing is a method preferably used for adjusting photographic characteristics.

本発明の有機銀塩は所望の量で使用できるが、銀量として0.1〜5g/m2が好ましく、より好ましくは0.3〜3g/m2、更に好ましくは0.5〜2g/m2である。 The organic silver salt of the present invention can be used in a desired amount, but the silver amount is preferably 0.1 to 5 g / m 2 , more preferably 0.3 to 3 g / m 2 , still more preferably 0.5 to 2 g / m 2 . m 2 .

(ハロゲン化銀粒子)
本発明に係るハロゲン化銀粒子(以下、感光性ハロゲン化銀粒子ともいう。)は感光性ハロゲン化銀粒子である。該ハロゲン化銀粒子は、ハロゲン化銀結晶の固有の性質として本来的に光吸収する、または人為的に物理化学的な方法により可視光ないし赤外光を吸収する、或いは、紫外光領域から赤外光領域の光波長範囲内のいずれかの領域の光を吸収する。そして、これらの光を吸収した時に当該ハロゲン化銀結晶内及び/または結晶表面において物理化学的変化が起こり得るように処理製造されたハロゲン化銀結晶粒子をいう。
(Silver halide grains)
The silver halide grains according to the present invention (hereinafter also referred to as photosensitive silver halide grains) are photosensitive silver halide grains. The silver halide grains inherently absorb light as an intrinsic property of silver halide crystals, or absorb visible light or infrared light by an artificial physicochemical method, or red from the ultraviolet region. Absorbs light in any region within the light wavelength range of the outside light region. The silver halide crystal grains are processed and manufactured so that physicochemical changes can occur in the silver halide crystal and / or on the crystal surface when the light is absorbed.

本発明に係るハロゲン化銀粒子自体は、公知の方法を用いてハロゲン化銀粒子乳剤(ハロゲン化銀乳剤ともいう)として調製することができる。即ち、酸性法、中性法、アンモニア法等のいずれでもよく、また可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる方法としては、片側混合法、同時混合法、それらの組合せ等のいずれを用いてもよい。上記方法の中でも形成条件をコントロールしつつハロゲン化銀粒子を調製する、いわゆるコントロールドダブルジェット法が好ましい。   The silver halide grains themselves according to the present invention can be prepared as a silver halide grain emulsion (also referred to as a silver halide emulsion) using a known method. That is, any of an acidic method, a neutral method, an ammonia method, etc. may be used, and a method of reacting a soluble silver salt and a soluble halogen salt may be any one of a one-side mixing method, a simultaneous mixing method, a combination thereof, and the like. Good. Among the above methods, the so-called controlled double jet method in which silver halide grains are prepared while controlling the formation conditions is preferable.

通常ハロゲン化銀種粒子は、粒子の核の生成と粒子成長の2段階に分けられ、一度にこれらを連続的に行う方法でもよく、また核(種粒子)形成と粒子成長を分離して行う方法でもよい。粒子形成条件であるpAg、pH等をコントロールして粒子形成を行うコントロールドダブルジェット法が粒子形状やサイズのコントロールができるので好ましい。例えば、核生成と粒子成長を分離して行う方法を行う場合には、先ず銀塩水溶液とハライド水溶液をゼラチン水溶液中で均一、急速に混合させ核(種粒子)生成(核生成工程)する。その後、コントロールされたpAg、pH等のもとで銀塩水溶液とハライド水溶液を供給しつつ粒子成長させる粒子成長工程によりハロゲン化銀粒子を調製する。粒子形成後、脱塩工程により不要な塩類等をヌードル法、フロキュレーション法、限外濾過法、電気透析法等公知の脱塩法により除くことで所望のハロゲン化銀乳剤を得ることができる。   Usually, silver halide seed grains are divided into two stages: grain nucleation and grain growth, and these may be performed continuously at a time, or nucleation (seed grain) formation and grain growth are performed separately. It may be a method. The controlled double jet method in which the particle formation is controlled by controlling the pAg, pH, etc., which are particle formation conditions, is preferable because the particle shape and size can be controlled. For example, when performing a method in which nucleation and particle growth are separated, first, an aqueous silver salt solution and an aqueous halide solution are uniformly and rapidly mixed in an aqueous gelatin solution to produce nuclei (seed particles) (nucleation step). Thereafter, silver halide grains are prepared by a grain growth process in which grains are grown while supplying an aqueous silver salt solution and an aqueous halide solution under controlled pAg, pH and the like. After the formation of grains, a desired silver halide emulsion can be obtained by removing unnecessary salts and the like by a desalting step by a known desalting method such as a noodle method, a flocculation method, an ultrafiltration method, or an electrodialysis method. .

本発明において、ハロゲン化銀粒子の粒径分布は単分散であることが好ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求められる粒径の変動係数が30%以下をいう。好ましくは20%以下であり、更に好ましくは15%以下である。   In the present invention, the grain size distribution of silver halide grains is preferably monodispersed. The term “monodispersed” as used herein means that the coefficient of variation of the particle diameter obtained by the following formula is 30% or less. Preferably it is 20% or less, More preferably, it is 15% or less.

粒径の変動係数%=(粒径の標準偏差/粒径の平均値)×100
ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、八面体、14面体粒子、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ状粒子等を挙げることができるが、これらの中、特に、立方体、八面体、14面体、平板状ハロゲン化銀粒子が好ましい。
Coefficient of variation of particle size% = (standard deviation of particle size / average value of particle size) × 100
Examples of the shape of the silver halide grains include cubes, octahedrons, tetrahedron grains, tabular grains, spherical grains, rod-like grains, potato-like grains, etc. Among these, cubic, octahedral, 14 Planar and tabular silver halide grains are preferred.

平板状ハロゲン化銀粒子を用いる場合の平均アスペクト比は、好ましくは1.5以上、100以下、より好ましくは2以上、50以下である。これらについては米国特許第5,264,337号、同5,314,798号、同5,320,958号の各明細書に記載されており、容易に目的の平板状粒子を得ることができる。更に、ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ましく用いることができる。   The average aspect ratio when using tabular silver halide grains is preferably 1.5 or more and 100 or less, more preferably 2 or more and 50 or less. These are described in US Pat. Nos. 5,264,337, 5,314,798 and 5,320,958, and the desired tabular grains can be easily obtained. . Further, grains having rounded corners of silver halide grains can be preferably used.

ハロゲン化銀粒子外表面の晶癖については特に制限はない。しかし、晶癖(面)選択性を有する増感色素を使用する場合には、その選択性に適応する晶癖を相対的に高い割合で有するハロゲン化銀粒子を使用することが好ましい。例えば、ミラー指数〔100〕の結晶面に選択的に吸着する増感色素を使用する場合には、ハロゲン化銀粒子外表面において〔100〕面の占める割合が高いことが好ましい。そして、この割合が50%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましく、80%以上であることが特に好ましい。尚、ミラー指数〔100〕面の比率は増感色素の吸着における〔111〕面と〔100〕面との吸着依存性を利用したT.Tani,J.Imaging Sci.29,165(1985年)により求めることができる。   There is no particular limitation on the crystal habit on the outer surface of the silver halide grains. However, when using a sensitizing dye having crystal habit (plane) selectivity, it is preferable to use silver halide grains having a relatively high proportion of crystal habit that is suitable for the selectivity. For example, when a sensitizing dye that is selectively adsorbed on the crystal face of the Miller index [100] is used, the proportion of the [100] face in the outer surface of the silver halide grain is preferably high. And this ratio is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, and particularly preferably 80% or more. The ratio of the Miller index [100] plane is a T.K. based on the adsorption dependency of [111] plane and [100] plane in the adsorption of sensitizing dye. Tani, J .; Imaging Sci. 29, 165 (1985).

本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、該粒子形成時に平均分子量5万以下の低分子量ゼラチンを用いて調製することが好ましいが、特にハロゲン化銀粒子の核形成時に用いることが好ましい。   The silver halide grains used in the present invention are preferably prepared using low molecular weight gelatin having an average molecular weight of 50,000 or less at the time of forming the grains, and particularly preferably used at the time of nucleation of silver halide grains.

本発明において低分子量ゼラチンは、平均分子量5万以下のものが好ましく、より好ましくは2,000〜40,000であり、特に好ましくは5,000〜25,000である。ゼラチンの平均分子量はゲル濾過クロマトグラフィーで測定することができる。低分子量ゼラチンは、通常用いられる平均分子量10万程度のゼラチンから製造される。例えば、該ゼラチンの水溶液にゼラチン分解酵素を加えて酵素分解する、酸またはアルカリを加えて加熱し加水分解する、大気圧下または加圧下での加熱により熱分解する、超音波照射して分解する、或いはそれらの方法を併用して得ることができる。   In the present invention, the low molecular weight gelatin preferably has an average molecular weight of 50,000 or less, more preferably 2,000 to 40,000, and particularly preferably 5,000 to 25,000. The average molecular weight of gelatin can be measured by gel filtration chromatography. Low molecular weight gelatin is produced from gelatin that is generally used and has an average molecular weight of about 100,000. For example, an gelatin-degrading enzyme is added to the gelatin aqueous solution for enzymatic decomposition, acid or alkali is added for heating to hydrolyze, thermal decomposition is performed by heating at atmospheric pressure or under pressure, and decomposition is performed by ultrasonic irradiation. Alternatively, these methods can be used in combination.

核形成時の分散媒の濃度は5質量%以下が好ましく、0.05〜3.0質量%の低濃度で行うのがより好ましい。   The concentration of the dispersion medium at the time of nucleation is preferably 5% by mass or less, and more preferably 0.05 to 3.0% by mass.

本発明に用いられるハロゲン化銀粒子は、該粒子形成時に下記の一般式で表される化合物を用いることが好ましい。   As the silver halide grains used in the present invention, it is preferable to use a compound represented by the following general formula when forming the grains.

YO(CH2CH2O)m(CH(CH3)CH2O)p(CH2CH2O)n
式中、Yは水素原子、−SO3M、または−CO−B−COOMを表し、Mは水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム基または炭素原子数5以下のアルキル基にて置換されたアンモニウム基を表し、Bは有機2塩基性酸を形成する鎖状または環状の基を表す。m及びnは各々0〜50を表し、pは1〜100を表す。
YO (CH 2 CH 2 O) m (CH (CH 3 ) CH 2 O) p (CH 2 CH 2 O) n Y
In the formula, Y represents a hydrogen atom, —SO 3 M, or —CO—B—COOM, and M represents an ammonium group substituted with a hydrogen atom, an alkali metal atom, an ammonium group, or an alkyl group having 5 or less carbon atoms. And B represents a chain or cyclic group forming an organic dibasic acid. m and n each represents 0 to 50, and p represents 1 to 100.

上記の一般式で表されるポリエチレンオキシド化合物は、ハロゲン化銀写真感光材料を製造するに際し、ゼラチン水溶液を製造する工程、ゼラチン溶液に水溶性ハロゲン化物及び水溶性銀塩を添加する工程、乳剤を支持体上に塗布する工程等で用いられる。これらの工程は、乳剤原料を撹拌したり、移動したりする場合の著しい発泡に対する消泡剤として好ましく用いられてきたものである。消泡剤として用いる技術は、例えば、特開昭44−9497号公報に記載されている。上記一般式で表されるポリエチレンオキシド化合物は核形成時の消泡剤としても機能する。上記一般式で表される化合物は銀に対して1質量%以下で用いるのが好ましく、より好ましくは0.01〜0.1質量%で用いる。   The polyethylene oxide compound represented by the above general formula comprises a step of producing a gelatin aqueous solution, a step of adding a water-soluble halide and a water-soluble silver salt to the gelatin solution, and an emulsion. It is used in the step of coating on a support. These steps have been preferably used as an antifoaming agent for significant foaming when the emulsion raw material is stirred or moved. A technique used as an antifoaming agent is described, for example, in JP-A No. 44-9497. The polyethylene oxide compound represented by the above general formula also functions as an antifoaming agent during nucleation. The compound represented by the above general formula is preferably used at 1% by mass or less, more preferably 0.01 to 0.1% by mass with respect to silver.

上記一般式で表されるポリエチレンオキシド化合物は核形成時に存在していればよく、核形成前の分散媒中に予め加えておくのが好ましいが、核形成中に添加してもよいし、核形成時に使用する銀塩水溶液やハライド水溶液に添加して用いてもよい。好ましくはハライド水溶液もしくは両方の水溶液に0.01〜2.0質量%で添加して用いることである。また、上記一般式で表される化合物は核形成工程の少なくとも50%に亘る時間で存在せしめるのが好ましく、更に好ましくは70%以上に亘る時間で存在せしめる。上記一般式で表される化合物は粉末で添加しても、メタノール等の溶媒に溶かして添加してもよい。   The polyethylene oxide compound represented by the above general formula may be present at the time of nucleation and is preferably added in advance to the dispersion medium before nucleation, but may be added during nucleation or You may add and use for the silver salt aqueous solution and halide aqueous solution which are used at the time of formation. Preferably, it is used by adding 0.01 to 2.0% by mass to the halide aqueous solution or both aqueous solutions. Further, the compound represented by the above general formula is preferably present for a time of at least 50% of the nucleation step, and more preferably for a time of 70% or more. The compound represented by the above general formula may be added as a powder or dissolved in a solvent such as methanol.

尚、核形成時の温度は通常5〜60℃、好ましくは15〜50℃であり、一定の温度であっても、昇温パターン(例えば、核形成開始時の温度が25℃で、核形成中徐々に温度を上げ、核形成終了時の温度が40℃の様な場合)やその逆のパターンであっても前記温度範囲内で制御するのが好ましい。   The temperature at the time of nucleation is usually 5 to 60 ° C., preferably 15 to 50 ° C. Even if the temperature is constant, the temperature rising pattern (for example, the temperature at the start of nucleation is 25 ° C. It is preferable to control the temperature within the above temperature range even when the temperature is gradually increased and the temperature at the end of nucleation is 40 ° C.) and vice versa.

核形成に用いる銀塩水溶液及びハライド水溶液の濃度は3.5モル/L以下が好ましく、更には0.01〜2.5モル/Lの低濃度域で使用されるのが好ましい。核形成時の銀イオンの添加速度は、反応液1L当たり1.5×10-3〜3.0×10-1モル/分が好ましく、更に好ましくは3.0×10-3〜8.0×10-2モル/分である。 The concentration of the aqueous silver salt solution and aqueous halide solution used for nucleation is preferably 3.5 mol / L or less, and more preferably used in a low concentration range of 0.01 to 2.5 mol / L. The addition rate of silver ions during nucleation is preferably 1.5 × 10 −3 to 3.0 × 10 −1 mol / min, more preferably 3.0 × 10 −3 to 8.0, per liter of the reaction solution. × 10 -2 mol / min.

核形成時のpHは通常1.7〜10の範囲に設定できるが、アルカリ側のpHでは形成する核の粒径分布を広げてしまうので、好ましくはpH2〜6である。また、核形成時のpBrは通常0.05〜3.0であり、好ましくは1.0〜2.5、より好ましくは1.5〜2.0である。   The pH at the time of nucleation can usually be set in the range of 1.7 to 10, but the pH on the alkali side broadens the particle size distribution of the nuclei to be formed, and is preferably pH 2 to 6. Moreover, pBr at the time of nucleation is 0.05-3.0 normally, Preferably it is 1.0-2.5, More preferably, it is 1.5-2.0.

本発明において、ハロゲン化銀粒子の平均粒径は通常10〜50nm、好ましくは10〜40nmであり、より好ましくは10〜35nmである。ハロゲン化銀粒子の平均粒径が10nmより小さいと画像濃度が低下したり、光照射画像保存性(熱現像によって得た画像を明室で診断等のために使用したり、明室に保管した場合の保存性)が劣化したりすることがある。又、50nmを超えると画像濃度が低下してしまうことがある。   In the present invention, the average grain size of the silver halide grains is usually 10 to 50 nm, preferably 10 to 40 nm, and more preferably 10 to 35 nm. If the average grain size of the silver halide grains is smaller than 10 nm, the image density decreases, or the light irradiation image storage stability (the image obtained by heat development is used for diagnosis in a bright room or stored in a bright room) Storage stability) may be deteriorated. On the other hand, if it exceeds 50 nm, the image density may decrease.

ここで言う平均粒径とは、ハロゲン化銀粒子乳剤中に含まれているハロゲン化銀粒子が立方体、あるいは八面体のいわゆる正常晶である場合には、ハロゲン化銀粒子の稜の長さを言う。又、ハロゲン化銀粒子が平板状粒子である場合には、主表面の投影面積と同面積の円像に換算した時の直径を言う。その他、正常晶でない場合、例えば、球状粒子、棒状粒子等の場合には、当該ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球を考えた時の直径を粒径として算出する。測定は電子顕微鏡写真を用いて行い、300個の粒子の粒径の測定値を平均することで平均粒径を求めた。   The average grain diameter referred to here is the length of the edge of the silver halide grains when the silver halide grains contained in the silver halide grain emulsion are cubic or octahedral so-called normal crystals. To tell. Further, when the silver halide grain is a tabular grain, it means the diameter when converted into a circular image having the same area as the projected area of the main surface. In addition, when it is not a normal crystal, for example, in the case of spherical particles, rod-shaped particles, etc., the diameter when considering a sphere equivalent to the volume of the silver halide grains is calculated as the particle size. The measurement was performed using an electron micrograph, and the average particle size was determined by averaging the measured values of the particle size of 300 particles.

また本発明においては平均粒径が55〜100nmであるハロゲン化銀粒子と平均粒径が10〜50nmであるハロゲン化銀粒子とを併用することで、画像濃度の階調を調整することができる。その上、画像濃度を向上させたり、経時での画像濃度低下を改善(小さく)することができる。平均粒径が10〜50nmであるハロゲン化銀粒子と平均粒径が55〜100nmであるハロゲン化銀粒子との割合(質量比)は、95:5〜50:50が好ましく、より好ましくは90:10〜60:40である。   In the present invention, the gradation of the image density can be adjusted by using silver halide grains having an average particle diameter of 55 to 100 nm and silver halide grains having an average particle diameter of 10 to 50 nm in combination. . In addition, the image density can be improved, and the decrease in image density over time can be improved (smaller). The ratio (mass ratio) of silver halide grains having an average particle diameter of 10 to 50 nm and silver halide grains having an average particle diameter of 55 to 100 nm is preferably 95: 5 to 50:50, more preferably 90. : 10-60: 40.

なお、上記のように、2種の平均粒径のハロゲン化銀粒子乳剤を用いる場合には、当該2種のハロゲン化銀乳剤を混合して、感光性層に含有させても良い。また、階調調整等のために、感光性層を2層以上の層で構成し、それぞれの層に、当該2種の平均粒径のハロゲン化銀粒子乳剤を別個に含有させることも好ましい。   As described above, when two types of silver halide grain emulsions having an average particle diameter are used, the two types of silver halide emulsions may be mixed and contained in the photosensitive layer. In order to adjust the gradation, it is also preferable that the photosensitive layer is composed of two or more layers, and the silver halide grain emulsions having the two average grain sizes are separately contained in each layer.

(ヨウ化銀含有量が5モル%以上100モル%以下のハロゲン化銀粒子)
本発明に係るハロゲン化銀粒子としては、ヨウ化銀を含有するハロゲン化銀粒子を好ましく使用することができる。ハロゲン組成としては、ヨウ化銀含有量が5モル%以上100モル%以下であることが好ましい。より好ましくは40モル%以上100モル%以下、さらに好ましくは70モル%以上100モル%以下であり、特に好ましくは90モル%以上100モル%以下である。ヨウ化銀含有率がこの範囲であれば、粒子内ハロゲン組成分布が、均一であっても、段階的に変化したものでもよく、或いは連続的に変化したものでもよい。
(Silver halide grains having a silver iodide content of 5 mol% to 100 mol%)
As the silver halide grains according to the present invention, silver halide grains containing silver iodide can be preferably used. As the halogen composition, the silver iodide content is preferably 5 mol% or more and 100 mol% or less. More preferably, they are 40 mol% or more and 100 mol% or less, More preferably, they are 70 mol% or more and 100 mol% or less, Especially preferably, they are 90 mol% or more and 100 mol% or less. If the silver iodide content is in this range, the intra-grain halogen composition distribution may be uniform, may be changed stepwise, or may be continuously changed.

また、内部および/または表面にヨウ化銀含有率が高いコア/シェル構造を有するハロゲン化銀粒子も好ましく用いることができる。構造として好ましいものは2〜5重構造であり、より好ましくは2〜4重構造のコア/シェル粒子である。   Further, silver halide grains having a core / shell structure with a high silver iodide content inside and / or on the surface can also be preferably used. A preferable structure is a 2- to 5-fold structure, more preferably 2- to 4-fold core / shell particles.

本発明に係るハロゲン化銀粒子にヨウ化銀を導入する方法としては、粒子形成中にヨウ化アルカリ水溶液を添加する方法、微粒子ヨウ化銀、微粒子ヨウ臭化銀、微粒子ヨウ塩化銀、微粒子ヨウ塩臭化銀のうち少なくとも一つの微粒子を添加する方法などがある。その他に、特開平5−323487号公報および特開平6−11780号公報記載のヨウ化物イオン放出剤を用いる方法などがある。   Examples of the method for introducing silver iodide into the silver halide grains according to the present invention include a method of adding an alkali iodide aqueous solution during grain formation, fine grain silver iodide, fine grain silver iodobromide, fine grain silver iodochloride, fine grain iodine. There is a method of adding at least one fine grain of silver chlorobromide. In addition, there is a method using an iodide ion releasing agent described in JP-A-5-323487 and JP-A-6-11780.

本発明に係るハロゲン化銀粒子は、350nm〜440nmの間の波長にヨウ化銀結晶構造に由来する直接遷移吸収を示すことが好ましい。これらハロゲン化銀が直接遷移の光吸収を持っているかどうかは、400nm〜430nm付近に直接遷移に起因する励起子吸収が見られることで容易に区別することができる。   The silver halide grains according to the present invention preferably exhibit direct transition absorption derived from the silver iodide crystal structure at a wavelength between 350 nm and 440 nm. Whether these silver halides have light absorption of direct transition can be easily distinguished by the fact that exciton absorption due to direct transition is observed in the vicinity of 400 nm to 430 nm.

(熱変換内部潜像型ハロゲン化銀粒子)
本発明に係る感光性ハロゲン化銀粒子は、特開2003−270755号、特開2005−106927号に開示される熱変換内部潜像型(熱現像後内部潜像型)ハロゲン化銀粒子であることが好ましい。即ち熱現像によって表面潜像型から内部潜像型に変換することにより表面感度が低下するハロゲン化銀粒子である。換言すると、熱現像前の露光では、現像反応(銀イオン還元剤による銀イオンの還元反応)の触媒として機能し得る潜像を該ハロゲン化銀粒子の表面に形成する。熱現像過程経過後の露光では、該ハロゲン化銀粒子の表面より内部に多くの潜像を形成するようになるため、表面における潜像形成が抑制されるハロゲン化銀粒子であることが、感度及び画像保存性上、好ましい。
(Heat conversion internal latent image type silver halide grains)
The photosensitive silver halide grain according to the present invention is a heat-converted internal latent image type (post-thermal development internal latent image type) silver halide grain disclosed in JP2003-270755A and JP2005-106927A. It is preferable. That is, silver halide grains whose surface sensitivity is lowered by converting from a surface latent image type to an internal latent image type by heat development. In other words, in exposure before heat development, a latent image that can function as a catalyst for a development reaction (reduction reaction of silver ions by a silver ion reducing agent) is formed on the surface of the silver halide grains. In the exposure after the thermal development process, a larger number of latent images are formed inside the surface of the silver halide grains, so that the silver halide grains that suppress the formation of latent images on the surface are sensitive. And preferred in view of image storage stability.

熱変換内部潜像型ハロゲン化銀粒子は、通常の表面潜像型ハロゲン化銀粒子と同様に、銀イオン供給源として機能し得る脂肪族カルボン酸銀塩1モルに対し0.001〜0.7モル、好ましくは0.03〜0.5モルの範囲で使用するのが好ましい。   The heat-converted internal latent image type silver halide grains are 0.001 to 0.001 mol per mol of an aliphatic carboxylic acid silver salt that can function as a silver ion source, as in the case of ordinary surface latent image type silver halide grains. It is preferably used in the range of 7 mol, preferably 0.03 to 0.5 mol.

(ハロゲン化銀粒子両親媒性分散物)
熱現像感光材料の製造過程においては、写真性能、色調を改良するという観点から、ハロゲン化銀粒子の凝集を防止し、比較的均一にハロゲン化銀粒子を分散させ、最終的に現像銀を所望の形状に制御できるようにすることが好ましい。
(Amphiphilic dispersion of silver halide grains)
In the process of manufacturing a photothermographic material, from the viewpoint of improving photographic performance and color tone, aggregation of silver halide grains is prevented, silver halide grains are dispersed relatively uniformly, and finally developed silver is desired. It is preferable that the shape can be controlled.

凝集防止、均一分散等のため、用いられるゼラチンは、使用条件等に応じて、ゼラチンが有するアミノ基やカルボキシル基などの親水性基を化学修飾し、ゼラチンの特性を改変させたものが好ましい。例えば、ゼラチン分子内のアミノ基の疎水化修飾としては、フェニルカルバモイル化、フタル化、琥珀化、アセチル化、ベンゾイル化、ニトロフェニル化などが挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。又、これらの置換率は95%以上が好ましく、更に好ましくは99%以上である。又、カルボキシル基の疎水化修飾を組み合わせてもよく、メチルエステル化やアミド化などが挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。カルボキシル基の置換率は50〜90%が好ましく、更に好ましくは70〜90%である。ここで、上記の疎水化修飾の疎水基とは、ゼラチンのアミノ基及び/又はカルボキシル基を置換することによって、疎水性が増す基のことを言う。   In order to prevent aggregation, to uniformly disperse, etc., the gelatin used is preferably one in which hydrophilic properties such as amino groups and carboxyl groups of gelatin are chemically modified to modify the properties of gelatin according to the conditions of use. For example, examples of the hydrophobic modification of the amino group in the gelatin molecule include phenylcarbamoylation, phthalation, hatching, acetylation, benzoylation, and nitrophenylation, but are not particularly limited thereto. Further, the substitution rate is preferably 95% or more, more preferably 99% or more. In addition, hydrophobic modification of the carboxyl group may be combined, and examples thereof include methyl esterification and amidation, but are not particularly limited thereto. The substitution rate of the carboxyl group is preferably 50 to 90%, more preferably 70 to 90%. Here, the hydrophobic group in the above-mentioned hydrophobization modification refers to a group whose hydrophobicity is increased by substituting the amino group and / or carboxyl group of gelatin.

又、ハロゲン化銀粒子乳剤は、ゼラチンの代わりに又はゼラチンとの併用において、下記のような水と有機溶媒の両方に溶解するポリマーを使用して調製することも、目的によって好ましい。例えばハロゲン化銀粒子乳剤を有機溶媒系に均一に分散させて塗布するような場合に、特に好ましい。尚、有機溶媒としては、アルコール系、エステル系、ケトン系の化合物が挙げられる。特に、ケトン系有機溶媒、例えばメタノール、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン等が好ましい。   It is also preferable depending on the purpose that the silver halide grain emulsion is prepared by using a polymer that dissolves in both water and an organic solvent as described below, instead of gelatin or in combination with gelatin. For example, it is particularly preferred when the silver halide grain emulsion is coated with being uniformly dispersed in an organic solvent system. Examples of the organic solvent include alcohol-based, ester-based, and ketone-based compounds. In particular, ketone organic solvents such as methanol, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone and the like are preferable.

上記水と有機溶媒の両方に溶解するポリマーとしては、天然ポリマー、合成ポリマー及びコポリマーの何れであってもよい。例えばゼラチン類、ゴム類等を改質して本発明の範疇に属するよう改質したものを用いることもできる。又は、以下の分類に属するポリマーを、凝集防止、均一分散等の目的に適する官能基を導入して用いることが可能である。   The polymer that is soluble in both the water and the organic solvent may be a natural polymer, a synthetic polymer, or a copolymer. For example, gelatins, rubbers and the like that have been modified to belong to the category of the present invention can be used. Alternatively, polymers belonging to the following classifications can be used by introducing functional groups suitable for the purpose of preventing aggregation and uniform dispersion.

上記ポリマーとしては、特開2005−316054号公報の段落「0018」に記載のポリマーが挙げられる。   Examples of the polymer include the polymers described in paragraph “0018” of JP-A-2005-316054.

当該ポリマーは、同一の状態で水と有機溶媒の両方に溶解するポリマーでもよいが、pHの制御や温度の制御で水や有機溶媒に溶解させたり、不溶化したりできるものも含まれる。例えば、カルボキシル基のような酸性基を有するポリマーは、種類によっては解離状態では親水性となるが、pHを下げ非解離状態にすると親油性となり溶剤に可溶にできる。逆にアミノ基を有するポリマーは、pHを上げると親油性となり、pHを下げるとイオン化し水溶性が上昇する。ノニオン活性剤では曇点の現象が良く知られているが、温度の上昇で親油性になり有機溶媒に可溶となり、温度の低下で親水性、即ち水に溶解できるような性質を有する感温性ポリマー(有名な感温性ポリマーとして、ポリ−N−i−プロピルアクリルアミド及びそのコポリマー等)も本発明に含まれる。完全に溶解しなくともミセルを形成し均一に乳化できればよい。   The polymer may be a polymer that dissolves in both water and an organic solvent in the same state, but includes a polymer that can be dissolved or insolubilized in water or an organic solvent by controlling pH or temperature. For example, although a polymer having an acidic group such as a carboxyl group becomes hydrophilic in a dissociated state depending on the type, it becomes oleophilic and soluble in a solvent when the pH is lowered to a non-dissociated state. Conversely, a polymer having an amino group becomes lipophilic when the pH is raised, and becomes ionized and water-soluble when the pH is lowered. Nonionic activators are well known for the cloud point phenomenon, but they become lipophilic and soluble in organic solvents when the temperature rises, and they are hydrophilic, that is, soluble in water when the temperature is lowered. Polymers such as poly-N-i-propylacrylamide and copolymers thereof as well-known thermosensitive polymers are also included in the present invention. It is sufficient that micelles are formed and uniformly emulsified even if they are not completely dissolved.

本発明においては、各種のモノマーを組み合わせるため、一概にどのモノマーをどの程度用いるのが良いかは述べられないが、親水性のモノマーと疎水性のモノマーを適当な割合で組み合わせることで所望のポリマーが得られることは容易に理解できる。   In the present invention, since various monomers are combined, it is not generally stated which monomer should be used and how much, but a desired polymer can be obtained by combining a hydrophilic monomer and a hydrophobic monomer in an appropriate ratio. Is easily understood.

前記水と有機溶媒の両方に溶解するポリマーとしては、前記の如きpH等の溶解時の条件の調整により、あるいは未調整でもよい。しかし、水に対して少なくとも1質量%以上(25℃)の溶解度を有し、かつ有機溶剤としてメチルエチルケトンに5質量%以上(25℃)の溶解度を有するものが好ましい。本発明に用いる水と有機溶媒の両方に溶解するポリマーとしては、溶解性の観点から、直鎖のポリマーよりも所謂ブロックポリマー、グラフトポリマー、櫛型ポリマー等が適している。特に櫛型ポリマーは好ましい。尚、ポリマーの等電点はpH6以下であることが好ましい。   The polymer that dissolves in both the water and the organic solvent may be adjusted by adjusting the conditions such as pH as described above, or may not be adjusted. However, those having a solubility of at least 1% by mass (25 ° C.) in water and an organic solvent having a solubility of 5% by mass (25 ° C.) in methyl ethyl ketone are preferred. From the viewpoint of solubility, so-called block polymers, graft polymers, comb polymers, and the like are more suitable as polymers that are soluble in both water and organic solvents used in the present invention. Comb polymers are particularly preferred. The isoelectric point of the polymer is preferably pH 6 or less.

櫛型ポリマーを製造する場合は、各種の手法を用いることができるが、櫛部(側鎖)に200以上の分子量の側鎖を導入できるモノマーを用いることが望ましい。特にエチレンオキシド、プロピレンオキシド等、ポリオキシアルキレン基含有エチレン性不飽和モノマーを用いることが好ましい。ポリオキシアルキレン基含有エチレン性不飽和モノマーとしては、特に特開2005−316054号公報の段落「0022」〜「0024」に記載されたポリオキシアルキレン基を有するものが好ましい。   When manufacturing a comb polymer, various methods can be used, but it is desirable to use a monomer capable of introducing a side chain having a molecular weight of 200 or more into the comb part (side chain). In particular, it is preferable to use a polyoxyalkylene group-containing ethylenically unsaturated monomer such as ethylene oxide or propylene oxide. As the polyoxyalkylene group-containing ethylenically unsaturated monomer, those having a polyoxyalkylene group described in paragraphs “0022” to “0024” of JP-A-2005-316054 are particularly preferable.

又、市販品のモノマーとしては、特開2005−316054号公報の段落「0025」に記載されたモノマーなどが挙げられる。   Moreover, as a monomer of a commercial item, the monomer etc. which were described in Paragraph "0025" of Unexamined-Japanese-Patent No. 2005-316054 are mentioned.

ポリマーとしては、所謂マクロマーを使用したグラフトポリマーを用いることもできる。例えば、”新高分子実験学2、高分子の合成・反応”高分子学会編,共立出版社,1995に記載されている。又、山下雄也著”マクロモノマーの化学と工業”アイピーシー刊、1989にも詳しく記載されている。マクロマーの内、有用な分子量は1万〜10万の範囲、好ましい範囲は1万〜5万、特に好ましい範囲は1万〜2万の範囲である。分子量が1万未満では効果を発揮できず、又、10万を超えると主鎖を形成する共重合モノマーとの重合性が悪くなる。具体的には、東亞合成社製:AA−6、AS−6S、AN−6S等を用いることができる。   As the polymer, a graft polymer using a so-called macromer can also be used. For example, it is described in “New Polymer Experimental Science 2, Synthesis and Reaction of Polymers” edited by the Society of Polymer Science, Kyoritsu Shuppansha, 1995. It is also described in detail in Yuza Yamashita's “Chemical Monomer Chemistry and Industry” published by IPC, 1989. Among the macromers, the useful molecular weight is in the range of 10,000 to 100,000, the preferred range is 10,000 to 50,000, and the particularly preferred range is in the range of 10,000 to 20,000. When the molecular weight is less than 10,000, the effect cannot be exhibited, and when it exceeds 100,000, the polymerizability with the copolymerization monomer forming the main chain is deteriorated. Specifically, Toagosei Co., Ltd. product: AA-6, AS-6S, AN-6S etc. can be used.

尚、本発明が上記具体例によって、何等限定されないことは勿論である。ポリオキシアルキレン基含有エチレン性不飽和モノマーは、1種類だけを用いても2種類以上を同時に用いても構わない。   Needless to say, the present invention is not limited to the above specific examples. The polyoxyalkylene group-containing ethylenically unsaturated monomer may be used alone or in combination of two or more.

上記モノマーと具体的に反応させる他のモノマーとしては、(メタ)アクリル酸エステル類、(メタ)アクリルアミド類、アリルエステル類、アリルオキシエタノール類、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、イタコン酸ジアルキル、フマール酸のモノ(又はジ)アルキルエステル類等、その他、クロトン酸、イタコン酸、(メタ)アクリロニトリル、マレイロニトリル、スチレン等が挙げられる。   Other monomers specifically reacted with the above monomers include (meth) acrylic acid esters, (meth) acrylamides, allyl esters, allyloxyethanols, vinyl ethers, vinyl esters, dialkyl itaconate, fumaric acid And other mono (or di) alkyl esters, crotonic acid, itaconic acid, (meth) acrylonitrile, maleronitrile, styrene, and the like.

具体的な例としては、特開2005−316054号公報の段落「0029」「0030」に記載された化合物が挙げられる。重合開始剤、重合禁止剤、ポリマーの等電点、重合時に使用する溶剤の種類、ポリマーの分子量等については、特開2005−316054号公報の段落「0031」〜「0039」に記載されている。   Specific examples thereof include compounds described in paragraphs “0029” and “0030” of JP-A-2005-316054. The polymerization initiator, the polymerization inhibitor, the isoelectric point of the polymer, the kind of the solvent used in the polymerization, the molecular weight of the polymer, etc. are described in paragraphs “0031” to “0039” of JP-A-2005-316054. .

以下に、両親媒性ポリマーの具体例を示すが、これらに限定されるものではない。   Although the specific example of an amphiphilic polymer is shown below, it is not limited to these.

Figure 2008180863
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Figure 2008180863
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(化学増感)
本発明に係る感光性ハロゲン化銀粒子には、化学増感を施すことができる。例えば、特開2001−249428号及び特開2001−249426号に記載されている方法等により、硫黄、セレン、テルル等のカルコゲンを放出する化合物や金イオンなどの貴金属イオンを放出する貴金属化合物の利用する。そして、感光性ハロゲン化銀粒子又は当該粒子上の分光増感色素の光励起によって生じた電子又は正孔(ホール)を捕獲することができる化学増感中心(化学増感核)を形成付与できる。特に、カルコゲン原子を含有する有機増感剤により化学増感されているのが好ましい。
(Chemical sensitization)
The photosensitive silver halide grains according to the present invention can be chemically sensitized. For example, use of compounds that release chalcogens such as sulfur, selenium, and tellurium and noble metal ions that release noble metal ions such as gold ions by the methods described in JP-A Nos. 2001-249428 and 2001-249426 To do. Then, it is possible to form and impart a chemical sensitization center (chemical sensitization nucleus) capable of capturing electrons or holes generated by photoexcitation of photosensitive silver halide grains or spectral sensitizing dyes on the grains. In particular, it is preferably chemically sensitized with an organic sensitizer containing a chalcogen atom.

これらカルコゲン原子を含有する有機増感剤は、ハロゲン化銀へ吸着可能な基と不安定カルコゲン原子部位を有する化合物であることが好ましい。   These organic sensitizers containing chalcogen atoms are preferably compounds having groups capable of adsorbing to silver halide and unstable chalcogen atom sites.

これらの有機増感剤としては、特開昭60−150046号、特開平4−109240号、同11−218874号、同11−218875号、同11−218876号、同11−194447号等に開示されている種々の構造を有する有機増感剤を用いることができる。それらのうち、カルコゲン原子が炭素原子又はリン原子と二重結合で結ばれている構造を有する化合物の少なくとも1種であることが好ましい。特に、複素環基を有するチオ尿素誘導体及びトリフェニルホスフィンサルファイド誘導体等が好ましい。   These organic sensitizers are disclosed in JP-A-60-150046, JP-A-4-109240, JP-A-11-218874, JP-A-11-218875, JP-A-11-218876, JP-A-11-194447, etc. Organic sensitizers having various structures can be used. Among them, it is preferable that the chalcogen atom is at least one compound having a structure in which a carbon atom or a phosphorus atom is linked with a double bond. In particular, a thiourea derivative having a heterocyclic group and a triphenylphosphine sulfide derivative are preferred.

化学増感を施す方法としては、従来の湿式処理用のハロゲン化銀感光材料の製造の際に慣用されている種々の化学増感技術に準じた技術が使用できる(参考文献:(1) T.H.James編”The Theory of the Photographic Process”第4版、Macmillan Publishing Co.,Ltd.1977、(2) 日本写真学会編”写真工学の基礎(銀塩写真編),コロナ社,1979)。特に、ハロゲン化銀粒子乳剤に予め化学増感を施し、その後に非感光性有機銀塩粒子と混合する場合には、従来の慣用方法により化学増感を施すことができる。   As a method for chemical sensitization, techniques according to various chemical sensitization techniques conventionally used in the production of conventional silver halide light-sensitive materials for wet processing can be used (reference: (1) T Edited by H. James “The Theory of the Photographic Process”, 4th Edition, McMillan Publishing Co., Ltd., (2) edited by the Japan Photographic Society, “Basics of Photographic Engineering (Silver Salt Photography), Corona, 1979) In particular, when the silver halide grain emulsion is previously chemically sensitized and then mixed with non-photosensitive organic silver salt grains, it can be chemically sensitized by a conventional method.

有機増感剤としてのカルコゲン化合物の使用量は、使用するカルコゲン化合物、ハロゲン化銀粒子、化学増感を施す際の反応環境などにより変わるが、ハロゲン化銀1モル当たり、10-8〜10-2モルが好ましく、より好ましくは10-7〜10-3モルを用いる。 The amount of the chalcogen compound used as the organic sensitizer varies depending on the chalcogen compound used, silver halide grains, reaction environment for chemical sensitization, etc., but is 10 −8 to 10 per mol of silver halide. 2 mol is preferred, more preferably 10 −7 to 10 −3 mol.

化学増感を施す際の環境条件としては、特に制限はない。感光性ハロゲン化銀粒子上のカルコゲン化銀又は銀核を消滅或いはそれらの大きさを減少させ得る化合物の存在下、又は、特に銀核を酸化しうる酸化剤の共存下で、カルコゲン原子を含有する有機増感剤を用いてカルコゲン増感を施すことが好ましい場合がある。この場合の増感条件は、pAgとしては6〜11が好ましく、より好ましくは7〜10であり、pHは4〜10が好ましく、より好ましくは5〜8、又温度としては30℃以下で増感を施すことが好ましい。   There are no particular restrictions on the environmental conditions for chemical sensitization. Contains chalcogen atoms in the presence of silver chalcogenide or silver nuclei on photosensitive silver halide grains or compounds that can annihilate or reduce their size, or in the presence of an oxidant that can specifically oxidize silver nuclei It may be preferable to perform chalcogen sensitization using an organic sensitizer. The sensitizing conditions in this case are preferably 6 to 11 as pAg, more preferably 7 to 10, pH 4 to 10, more preferably 5 to 8, and the temperature increases at 30 ° C. or lower. It is preferable to give a feeling.

また、これらの有機増感剤を用いた化学増感は、分光増感色素またはハロゲン化銀粒子に対して、吸着性を有するヘテロ原子含有化合物の存在下で行われることが好ましい。ハロゲン化銀に吸着性を有する化合物の存在下化学増感を行うことで、化学増感中心核の分散化を防ぐことができ高感度、低カブリを達成できる。分光増感色素については後述するが、ハロゲン化銀に吸着性を有するヘテロ原子含有化合物とは、特開平3−24537号に記載されている含窒素複素環化合物が好ましい例として挙げられる。含窒素複素環化合物において、複素環としては、例えば、ピラゾール環、ピリミジン環、1,2,4−トリアゾール環、1,2,3−トリアゾール環、1,3,4−チアジアゾール環、1,2,3−チアジアゾール環、1,2,4−チアジアゾール環、1,2,5−チアジアゾール環、1,2,3,4−テトラゾール環、ピリダジン環、1,2,3−トリアジン環、これらの環が2〜3個結合した環、例えばトリアゾロトリアゾール環、ジアザインデン環、トリアザインデン環、ペンタアザインデン環などを挙げることができる。単環の複素環と芳香族環の縮合した複素環、例えば、フタラジン環、ベンズイミダゾール環、インダゾール環、ベンズチアゾール環なども適用できる。   In addition, chemical sensitization using these organic sensitizers is preferably performed in the presence of a heteroatom-containing compound having adsorptivity to spectral sensitizing dyes or silver halide grains. By performing chemical sensitization in the presence of a compound having an adsorptivity to silver halide, dispersion of the chemical sensitization central core can be prevented, and high sensitivity and low fog can be achieved. Although the spectral sensitizing dye will be described later, preferred examples of the heteroatom-containing compound having adsorptivity to silver halide include nitrogen-containing heterocyclic compounds described in JP-A-3-24537. In the nitrogen-containing heterocyclic compound, examples of the heterocyclic ring include pyrazole ring, pyrimidine ring, 1,2,4-triazole ring, 1,2,3-triazole ring, 1,3,4-thiadiazole ring, 1,2 , 3-thiadiazole ring, 1,2,4-thiadiazole ring, 1,2,5-thiadiazole ring, 1,2,3,4-tetrazole ring, pyridazine ring, 1,2,3-triazine ring, these rings Can be mentioned, for example, a triazolotriazole ring, a diazaindene ring, a triazaindene ring, a pentaazaindene ring, and the like. A heterocyclic ring in which a monocyclic heterocyclic ring and an aromatic ring are condensed, for example, a phthalazine ring, a benzimidazole ring, an indazole ring, a benzthiazole ring, or the like can also be applied.

これらの中で好ましいのはアザインデン環であり、かつ置換基としてヒドロキシル基を有するアザインデン化合物、例えば、ヒドロキシトリアザインデン、テトラヒドロキシアザインデン、ヒドロキシペンタアザインデン化合物等が更に好ましい。   Of these, an azaindene ring is preferable, and an azaindene compound having a hydroxyl group as a substituent, for example, a hydroxytriazaindene, tetrahydroxyazaindene, hydroxypentaazaindene compound, or the like is more preferable.

複素環にはヒドロキシル基以外の置換基を有してもよい。置換基としては、例えば、アルキル基、置換アルキル基、アルキルチオ基、アミノ基、ヒドロキシアミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、シアノ基などを有してもよい。   The heterocyclic ring may have a substituent other than the hydroxyl group. Examples of the substituent include an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkylthio group, an amino group, a hydroxyamino group, an alkylamino group, a dialkylamino group, an arylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a halogen atom, and a cyano group. You may have.

これら含複素環化合物の添加量は、ハロゲン化銀粒子の大きさや組成その他の条件等に応じて広い範囲に亘って変化するが、おおよその量はハロゲン化銀1モル当たりの量で10-6〜1モルの範囲であり、好ましくは10-4〜10-1モルの範囲である。 The amount of these heterocyclic compounds added varies over a wide range depending on the size, composition, and other conditions of the silver halide grains, but the approximate amount is 10 −6 per mole of silver halide. It is in the range of ˜1 mol, preferably in the range of 10 −4 to 10 −1 mol.

本発明に係る感光性ハロゲン化銀には、金イオンなどの貴金属イオンを放出する化合物を利用して貴金属増感を施すことができる。例えば、金増感剤として、塩化金酸塩や有機金化合物が利用できる。なお、特開平11−194447号に開示されている金増感技術が参考となる。   The photosensitive silver halide according to the present invention can be subjected to noble metal sensitization using a compound that releases noble metal ions such as gold ions. For example, a chloroaurate or an organic gold compound can be used as a gold sensitizer. The gold sensitization technique disclosed in JP-A-11-194447 is useful as a reference.

又、上記の増感法の他、還元増感法等も用いることができ、還元増感の貝体的な化合物として、例えば、アスコルビン酸、2酸化チオ尿素、塩化第1スズ、ヒドラジン誘導体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用いることができる。また、乳剤のpHを7以上またはpAgを8.3以下に保持して熟成することにより還元増感することができる。   In addition to the above-described sensitization methods, reduction sensitization methods and the like can also be used. Examples of reduction sensitization shell-like compounds include ascorbic acid, thiourea dioxide, stannous chloride, hydrazine derivatives, A borane compound, a silane compound, a polyamine compound, or the like can be used. Further, reduction sensitization can be performed by ripening the emulsion while maintaining the pH at 7 or higher or the pAg at 8.3 or lower.

本発明において、化学増感を施されるハロゲン化銀粒子は、脂肪族カルボン酸銀塩の存在下で形成されたのでも、当該有機銀塩の存在しない条件下で形成されたものでも、また、両者が混合されたものでもよい。   In the present invention, the silver halide grains subjected to chemical sensitization may be formed in the presence of an aliphatic carboxylic acid silver salt, or in the absence of the organic silver salt, A mixture of the two may be used.

本発明においては、感光性ハロゲン化銀粒子の表面に化学増感を施した場合においては、熱現像過程経過後に該化学増感の効果が実質的に消失することが必要である。ここで、化学増感の効果が実質的に消失するとは、前記の化学増感技術によって得た当該イメージング材料の感度が熱現像過程経過後に化学増感を施していない場合の感度の1.1倍以下に減少することを言う。なお、化学増感効果を熱現像過程において消失させるためには、熱現像時に、化学増感中心(化学増感核)を酸化反応によって破壊できる酸化剤を含有させておく。例えば、前記のハロゲンラジカル放出性化合物等の適当量を当該イメージング材料の乳剤層又は/及び非感光性層に含有させておくことが必要である。当該酸化剤の含有量については、酸化剤の酸化力、化学増感効果の減少幅等を考慮して調整することが好ましい。   In the present invention, when chemical sensitization is performed on the surface of the photosensitive silver halide grains, it is necessary that the chemical sensitization effect substantially disappears after the thermal development process. Here, the chemical sensitization effect substantially disappears when the sensitivity of the imaging material obtained by the chemical sensitization technique is 1.1 when the chemical sensitization is not performed after the thermal development process. Say to decrease to less than double. In order to eliminate the chemical sensitization effect in the thermal development process, an oxidant capable of destroying the chemical sensitization center (chemical sensitization nucleus) by an oxidation reaction is included during thermal development. For example, it is necessary to contain an appropriate amount of the above-mentioned halogen radical releasing compound or the like in the emulsion layer or / and the non-photosensitive layer of the imaging material. The content of the oxidizing agent is preferably adjusted in consideration of the oxidizing power of the oxidizing agent, the reduction range of the chemical sensitization effect, and the like.

(分光増感)
本発明における感光性ハロゲン化銀には、分光増感色素を吸着させ分光増感を施すことが好ましい。分光増感色素としてシアニン色素、メロシアニン色素、コンプレックスシアニン色素、コンプレックスメロシアニン色素、ホロポーラーシアニン色素、スチリル色素、ヘミシアニン色素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素等を用いることができる。例えば、特開昭63−159841号、同60−140335号、同63−231437号、同63−259651号、同63−304242号、同63−15245号、米国特許第4,639,414号、同第4,740,455号、同第4,741,966号、同第4,751,175号、同第4,835,096号に記載された増感色素が使用できる。
(Spectral sensitization)
The photosensitive silver halide in the present invention is preferably subjected to spectral sensitization by adsorbing a spectral sensitizing dye. As spectral sensitizing dyes, cyanine dyes, merocyanine dyes, complex cyanine dyes, complex merocyanine dyes, holopolar cyanine dyes, styryl dyes, hemicyanine dyes, oxonol dyes, hemioxonol dyes, and the like can be used. For example, JP-A-63-159841, JP-A-60-140335, JP-A-63-231437, JP-A-63-259651, JP-A-63-304242, JP-A-63-15245, US Pat. No. 4,639,414, No. 4,740,455, No. 4,741,966, No. 4,751,175, No. 4,835,096 can be used.

本発明に使用される有用な増感色素は、例えば、リサーチ・ディスクロージャー(以下、RDと略す)17643IV−A項(1978年12月p.23)、RD18431X項(1978年8月p.437)に記載もしくは引用された文献に記載されている。特に、各種レーザイメージャーやスキャナーの光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を用いるのが好ましい。例えば、特開平9−34078号、同9−54409号、同9−80679号に記載の化合物が好ましく用いられる。   Useful sensitizing dyes used in the present invention include, for example, Research Disclosure (hereinafter abbreviated as RD) 17643IV-A (December 1978 p.23), RD18431X (August 1978 p.437). It is described in the literature described or cited. In particular, it is preferable to use a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of the light sources of various laser imagers and scanners. For example, compounds described in JP-A Nos. 9-34078, 9-54409, and 9-80679 are preferably used.

有用なシアニン色素は、例えば、チアゾリン核、オキサゾリン核、ピロリン核、ピリジン核、オキサゾール核、チアゾール核、セレナゾール核及びイミダゾール核などの塩基性核を有するシアニン色素である。有用なメロシアニン染料で好ましいものは、上記の塩基性核に加えて、チオヒダントイン核、ローダニン核、オキサゾリジンジオン核、チアゾリンジオン核、バルビツール酸核、チアゾリノン核、マロノニトリル核及びピラゾロン核などの酸性核も含む。   Useful cyanine dyes are, for example, cyanine dyes having basic nuclei such as thiazoline nucleus, oxazoline nucleus, pyrroline nucleus, pyridine nucleus, oxazole nucleus, thiazole nucleus, selenazole nucleus and imidazole nucleus. Useful merocyanine dyes are preferably acidic nuclei such as thiohydantoin nucleus, rhodanine nucleus, oxazolidinedione nucleus, thiazolinedione nucleus, barbituric acid nucleus, thiazolinone nucleus, malononitrile nucleus and pyrazolone nucleus in addition to the basic nuclei described above. Including.

本発明においては、特に赤外に分光感度を有する増感色素を用いることもできる。好ましく用いられる赤外分光増感色素としては、例えば米国特許第4,536,473号、同第4,515,888号、同第4,959,294号等に開示されている赤外分光増感色素が挙げられる。   In the present invention, a sensitizing dye having spectral sensitivity particularly in the infrared can also be used. Examples of infrared spectral sensitizing dyes preferably used include infrared spectral sensitization disclosed in US Pat. Nos. 4,536,473, 4,515,888, 4,959,294, and the like. Examples include dyes.

本発明の熱現像方法において用いられる熱現像感光材料においては、米国公開特許公報2004−0224266号明細書に記載されている一般式(1)で表される増感色素及び一般式(2)で表される増感色素のうちの少なくとも1種を含有することが好ましい。該米国公開特許公報の一般式(5)で表される増感色素及び一般式(6)で表される増感色素のうちの少なくとも1種を含有することがより好ましい。一般式(5)で表される増感色素及び一般式(6)で表される増感色素を併用することが露光時の露光波長依存性を改良するうえで特に好ましい。   In the photothermographic material used in the thermal development method of the present invention, the sensitizing dye represented by the general formula (1) and the general formula (2) described in US Patent Publication No. 2004-0224266 are used. It is preferable to contain at least one of the represented sensitizing dyes. It is more preferable to contain at least one of a sensitizing dye represented by the general formula (5) and a sensitizing dye represented by the general formula (6) of the US Patent Publication. It is particularly preferable to use the sensitizing dye represented by the general formula (5) and the sensitizing dye represented by the general formula (6) in combination for improving the exposure wavelength dependency at the time of exposure.

上記の赤外増感色素は、例えば、エフ・エム・ハーマー著、The Chemistry of Heterocyclic Compounds第18巻、The Cyanine Dyes and Related Compounds(A.Weissberger ed.Interscience社刊、New York 1964年)に記載の方法によって容易に合成することができる。   The above-mentioned infrared sensitizing dyes are described in, for example, The Chemistry of Heterocyclic Compounds, Volume 18 by The FM Hammer, The Cyanine Dies and Related Compounds (A. Weissberger ed. It can be easily synthesized by this method.

これらの赤外増感色素の添加時期は、ハロゲン化銀調製後の任意の時期でよい。例えば、溶剤に添加して、或いは微粒子状に分散した、いわゆる固体分散状態でハロゲン化銀粒子或いはハロゲン化銀粒子/脂肪族カルボン酸銀塩粒子を含有する感光性乳剤に添加できる。又、前記のハロゲン化銀粒子に対し吸着性を有するヘテロ原子含有化合物と同様に、化学増感に先立ってハロゲン化銀粒子に添加し吸着させた後、化学増感を施すこともでき、これにより化学増感中心核の分散化を防ぐことができ高感度、低カブリを達成できる。   These infrared sensitizing dyes may be added at any time after the silver halide is prepared. For example, it can be added to a light-sensitive emulsion containing silver halide grains or silver halide grains / aliphatic carboxylate silver salt grains in a so-called solid dispersion state added to a solvent or dispersed in a fine particle form. Similarly to the heteroatom-containing compound having adsorptivity to the silver halide grains, chemical sensitization can be performed after adding and adsorbing to the silver halide grains prior to chemical sensitization. Thus, dispersion of the chemical sensitization central core can be prevented, and high sensitivity and low fog can be achieved.

本発明において、上記の分光増感色素は1種類を単独に用いてもよいが、上述のように、分光増感色素の複数の種類の組合せを用いることが好ましく、そのような増感色素の組合せは、特に強色増感及び感光波長領域の拡大や調整等の目的でしばしば用いられる。   In the present invention, one kind of spectral sensitizing dye may be used alone, but as described above, it is preferable to use a combination of plural kinds of spectral sensitizing dyes. The combination is often used for the purpose of supersensitization and enlargement or adjustment of the photosensitive wavelength region.

本発明の熱現像感光材料に用いられる乳剤は、増感色素とともに、それ自身分光増感作用をもたない色素或いは可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増感効果を発現する物質を乳剤中に含ませ、これによりハロゲン化銀粒子が強色増感されていてもよい。   The emulsion used in the photothermographic material of the present invention is a dye having no spectral sensitizing action or a substance that does not substantially absorb visible light together with a sensitizing dye, and exhibits a supersensitizing effect. Such a substance may be contained in the emulsion, whereby the silver halide grains may be supersensitized.

有用な増感色素、強色増感を示す色素の組合せ及び強色増感を示す物質は、RD17643(1978年12月発行)第23頁IVのJ項、あるいは特公平9−25500号、同43−4933号、特開昭59−19032号、同59−192242号、特開平5−341432号等に記載されているが、強色増感剤としては、下記で表される複素芳香族メルカプト化合物が又はメルカプト誘導体化合物が好ましい。   Useful sensitizing dyes, combinations of dyes exhibiting supersensitization, and substances exhibiting supersensitization are described in RD17643 (issued in December, 1978), page 23, Section J, or Japanese Patent Publication No. 9-25500, 43-4933, JP-A-59-19032, JP-A-59-192242, JP-A-5-341432, and the like. Examples of supersensitizers include heteroaromatic mercapto represented by the following. A compound or a mercapto derivative compound is preferred.

Ar−SM
式中、Mは水素原子またはアルカリ金属原子であり、Arは1個以上の窒素、硫黄、酸素、セレニウム、またはテルリウム原子を有する芳香環または縮合芳香環である。
Ar-SM
In the formula, M is a hydrogen atom or an alkali metal atom, and Ar is an aromatic ring or condensed aromatic ring having one or more nitrogen, sulfur, oxygen, selenium, or tellurium atoms.

好ましくは、複素芳香環はベンズイミダゾール、ナフトイミダゾール、ベンズチアゾール、ナフトチアゾール、ベンズオキサゾール、ナフトオキサゾール、ベンズセレナゾール、ベンズテルラゾール、イミダゾール、オキサゾール、ピラゾール、トリアゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プリン、キノリン、またはキナゾリンである。しかしながら、他の複素芳香環も含まれる。   Preferably, the heteroaromatic ring is benzimidazole, naphthimidazole, benzthiazole, naphthothiazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzselenazole, benztelrazole, imidazole, oxazole, pyrazole, triazole, triazine, pyrimidine, pyridazine, pyrazine, pyridine , Purine, quinoline, or quinazoline. However, other heteroaromatic rings are also included.

なお、脂肪族カルボン酸銀塩又はハロゲン化銀粒子乳剤の分散物中に含有させたときに実質的に上記のメルカプト化合物を生成するメルカプト誘導体化合物も含まれる。特に下記で表されるメルカプト誘導体化合物が、好ましい例として挙げられる。   In addition, mercapto derivative compounds that substantially produce the above mercapto compounds when contained in a dispersion of an aliphatic carboxylic acid silver salt or silver halide grain emulsion are also included. In particular, mercapto derivative compounds represented below are preferred examples.

Ar−S−S−Ar
式中のArは上記で表されたメルカプト化合物の場合と同義である。
Ar-SS-Ar
Ar in the formula has the same meaning as in the case of the mercapto compound represented above.

上記の複素芳香環は、例えば、ハロゲン原子(例えば、塩素、臭素、ヨウ素)、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、アルキル基(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは、1〜4個の炭素原子を有するもの)及びアルコキシ基(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは、1〜4個の炭素原子を有するもの)からなる群から選ばれる置換基を有しうる。   The heteroaromatic ring includes, for example, a halogen atom (for example, chlorine, bromine, iodine), a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, and an alkyl group (for example, one or more carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms). It may have a substituent selected from the group consisting of those having carbon atoms) and alkoxy groups (for example, those having one or more carbon atoms, preferably having 1 to 4 carbon atoms).

上記の強色増感剤の他に、特開2001−330918号公報に開示されているヘテロ原子を有する大環状化合物も強色増感剤として使用できる。   In addition to the supersensitizer described above, macrocycles having heteroatoms disclosed in JP-A No. 2001-330918 can also be used as the supersensitizer.

本発明に係る強色増感剤は、有機銀塩及びハロゲン化銀粒子を含む感光性層中に銀1モル当たり0.001〜1.0モルで用いるのが好ましい。特に好ましくは、銀1モル当たり0.01〜0.5モルの量が好ましい。   The supersensitizer according to the present invention is preferably used in an amount of 0.001 to 1.0 mol per mol of silver in a photosensitive layer containing an organic silver salt and silver halide grains. Particularly preferred is an amount of 0.01 to 0.5 mole per mole of silver.

本発明においては、感光性ハロゲン化銀粒子の表面に分光増感色素を吸着せしめ分光増感が施されており、かつ熱現像過程経過後に該分光増感効果が実質的に消失することが必要である。ここで、分光増感効果が実質的に消失するとは、増感色素、強色増感剤等によって得た当該イメージング材料の感度が熱現像過程経過後に分光増感を施していない場合の感度の1.1倍以下に減少することを言う。   In the present invention, it is necessary that the spectral sensitizing dye is adsorbed on the surface of the photosensitive silver halide grain to effect spectral sensitization, and that the spectral sensitizing effect should substantially disappear after the thermal development process. It is. Here, the spectral sensitization effect substantially disappears when the sensitivity of the imaging material obtained by a sensitizing dye, supersensitizer, etc. is the sensitivity when spectral sensitization is not performed after the thermal development process. It means to decrease to 1.1 times or less.

なお、分光増感効果を熱現像過程において消失させるためには、熱現像時に、熱によってハロゲン化銀粒子より脱離しやすい分光増感色素を使用する又は/および分光増感色素を酸化反応によって破壊できる酸化剤を使用する。例えば、前記のハロゲンラジカル放出性化合物等の適当量を当該イメージング材料の乳剤層又は/及び非感光性層に含有含有させておくことが必要である。当該酸化剤の含有量については、酸化剤の酸化力、分光増感効果の減少幅等を考慮して調整することが好ましい。   In order to eliminate the spectral sensitization effect in the thermal development process, use a spectral sensitizing dye that is easily detached from the silver halide grains by heat during thermal development or / and destroy the spectral sensitizing dye by an oxidation reaction. Use an oxidizing agent that can. For example, an appropriate amount of the above-mentioned halogen radical releasing compound or the like needs to be contained in the emulsion layer and / or the non-photosensitive layer of the imaging material. The content of the oxidizing agent is preferably adjusted in consideration of the oxidizing power of the oxidizing agent, the reduction range of the spectral sensitization effect, and the like.

(還元剤)
本発明に係る還元剤は感光性層中で、銀イオンを還元し得るものであり、現像剤ともいう。本発明においては、銀イオンの還元剤として、下記一般式(RD1)で表される化合物を用いることが好ましい。一般式(RD1)で表される還元剤は1種類であっても、2種類以上の還元剤を用いてもよい。また他の異なる化学構造を有する還元剤と併せて用いても良い。
(Reducing agent)
The reducing agent according to the present invention can reduce silver ions in the photosensitive layer and is also referred to as a developer. In the present invention, it is preferable to use a compound represented by the following general formula (RD1) as a silver ion reducing agent. The reducing agent represented by the general formula (RD1) may be one type or two or more types of reducing agents. Moreover, you may use together with the reducing agent which has another different chemical structure.

Figure 2008180863
Figure 2008180863

式中、X1はカルコゲン原子又はCHR1を表し、R1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基を表す。R2はアルキル基を表し、同一でも異なってもよいが、少なくとも一方は2級又は3級のアルキル基である。R3は水素原子又はベンゼン環に置換可能な基を表し同一でも異なってもよい。R4はベンゼン環上に置換可能な基を表し、m及びnは各々0〜2の整数を表す。 In the formula, X 1 represents a chalcogen atom or CHR 1 , and R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group. R 2 represents an alkyl group, which may be the same or different, but at least one is a secondary or tertiary alkyl group. R 3 may be the same or different represent a group capable of substituting a hydrogen atom or a benzene ring. R 4 represents a substitutable group on the benzene ring, and m and n each represents an integer of 0 to 2.

本発明においては、熱現像特性を制御するために(RD1)の化合物と下記一般式(RD2)の化合物とを併用することもできる。   In the present invention, the compound of (RD1) and the compound of the following general formula (RD2) can be used in combination in order to control the heat development characteristics.

Figure 2008180863
Figure 2008180863

式中、X2はカルコゲン原子又はCHR5を表し、R5は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。R6はアルキル基を表し、同一でも異なってもよいが、2級又は3級のアルキル基であることはない。R7は水素原子又はベンゼン環に置換可能な基を表し同一でも異なってもよい。R8はベンゼン環上に置換可能な基を表し、m及びnは各々0〜2の整数を表す。 In the formula, X 2 represents a chalcogen atom or CHR 5 , and R 5 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group. R 6 represents an alkyl group, which may be the same or different, but is not a secondary or tertiary alkyl group. R 7 represents a hydrogen atom or a group that can be substituted on the benzene ring, and may be the same or different. R 8 represents a substitutable group on the benzene ring, and m and n each represents an integer of 0 to 2.

その併用比率としては、[(RD1)の化合物の質量]:[一般式(RD2)の化合物の質量]が5:95〜45:55であることが好ましく、より好ましくは10:90〜40:60である。   As the combined ratio, [the mass of the compound of (RD1)]: [the mass of the compound of general formula (RD2)] is preferably 5:95 to 45:55, more preferably 10:90 to 40: 60.

一般式(RD1)中、X1はカルコゲン原子又はCHR1を表す。カルコゲン原子としては、硫黄、セレン、テルルであり、好ましくは硫黄原子である。CHR1におけるR1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子等であり、アルキル基としては置換又は無置換の炭素数1〜20のアルキル基が好ましく、具体例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、ヘプチル等、アルケニル基としては、ビニル、アリル、ブテニル、ヘキセニル、ヘキサジエニル、エテニル−2−プロペニル、3−ブテニル、1−メチル−3−プロペニル、3−ペンテニル、1−メチル−3−ブテニル等、アリール基としてはベンゼン環、ナフタレン環等、複素環基としてはチオフェン、フラン、イミダゾール、ピラゾール、ピロール等の各基である。 In the general formula (RD1), X 1 represents a chalcogen atom or CHR 1 . The chalcogen atom is sulfur, selenium or tellurium, preferably a sulfur atom. R 1 in CHR 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group. The halogen atom is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or the like, and the alkyl group is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Specific examples include methyl, ethyl, propyl, butyl, and hexyl. Alkenyl groups such as vinyl, allyl, butenyl, hexenyl, hexadienyl, ethenyl-2-propenyl, 3-butenyl, 1-methyl-3-propenyl, 3-pentenyl, 1-methyl-3-butenyl, Examples of the aryl group include a benzene ring and a naphthalene ring, and examples of the heterocyclic group include thiophene, furan, imidazole, pyrazole, and pyrrole.

これらの基は更に置換基を有していてもよく、置換基として具体的には、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素等)、アルキル基(メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、i−ペンチル、2−エチルヘキシル、オクチル、デシル等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル、シクロヘプチル等)、アルケニル基(エテニル−2−プロペニル、3−ブテニル、1−メチル−3−プロペニル、3−ペンテニル、1−メチル−3−ブテニル等)、シクロアルケニル基(1−シクロアルケニル、2−シクロアルケニル基等)、アルキニル基(エチニル、1−プロピニル等)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、プロポキシ等)、アルキルカルボニルオキシ基(アセチルオキシ等)、アルキルチオ基(メチルチオ、トリフルオロメチルチオ等)、アシル基(アセチル基、ベンゾイル基)、カルボキシル基、アルキルカルボニルアミノ基(アセチルアミノ等)、ウレイド基(メチルアミノカルボニルアミノ等)、アルキルスルホニルアミノ基(メタンスルホニルアミノ等)、アルキルスルホニル基(メタンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル等)、カルバモイル基(カルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N−モルホリノカルボニル等)、スルファモイル基(スルファモイル、N,N−ジメチルスルファモイル、モルホリノスルファモイル等)、トリフルオロメチル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキルスルホンアミド基(メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド等)、アルキルアミノ基(アミノ、N,N−ジメチルアミノ、N,N−ジエチルアミノ等)、スルホ基、ホスホノ基、サルファイト基、スルフィノ基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基(メタンスルホニルアミノカルボニル、エタンスルホニルアミノカルボニル等)、アルキルカルボニルアミノスルホニル基(アセトアミドスルホニル、メトキシアセトアミドスルホニル等)、アルキニルアミノカルボニル基(アセトアミドカルボニル、メトキシアセトアミドカルボニル等)、アルキルスルフィニルアミノカルボニル基(メタンスルフィニルアミノカルボニル、エタンスルフィニルアミノカルボニル等)等が挙げられる。又、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。特に好ましい置換基はアルキル基である。   These groups may further have a substituent. Specific examples of the substituent include a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine, etc.), an alkyl group (methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, i-pentyl). , 2-ethylhexyl, octyl, decyl, etc.), cycloalkyl groups (cyclohexyl, cycloheptyl, etc.), alkenyl groups (ethenyl-2-propenyl, 3-butenyl, 1-methyl-3-propenyl, 3-pentenyl, 1-methyl) -3-butenyl, etc.), cycloalkenyl groups (1-cycloalkenyl, 2-cycloalkenyl groups, etc.), alkynyl groups (ethynyl, 1-propynyl, etc.), alkoxy groups (methoxy, ethoxy, propoxy, etc.), alkylcarbonyloxy groups (Acetyloxy, etc.), alkylthio groups (methylthio, trifluoromethylthio, etc.), Sil group (acetyl group, benzoyl group), carboxyl group, alkylcarbonylamino group (acetylamino etc.), ureido group (methylaminocarbonylamino etc.), alkylsulfonylamino group (methanesulfonylamino etc.), alkylsulfonyl group (methanesulfonyl) , Trifluoromethanesulfonyl, etc.), carbamoyl group (carbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N-morpholinocarbonyl, etc.), sulfamoyl group (sulfamoyl, N, N-dimethylsulfamoyl, morpholinosulfamoyl etc.), trifluoromethyl Group, hydroxyl group, nitro group, cyano group, alkylsulfonamide group (methanesulfonamide, butanesulfonamide, etc.), alkylamino group (amino, N, N-dimethylamino, N, N-diethylamino) Etc.), sulfo group, phosphono group, sulfite group, sulfino group, alkylsulfonylaminocarbonyl group (methanesulfonylaminocarbonyl, ethanesulfonylaminocarbonyl etc.), alkylcarbonylaminosulfonyl group (acetamidesulfonyl, methoxyacetamidosulfonyl etc.), alkynyl Examples thereof include aminocarbonyl groups (acetamidocarbonyl, methoxyacetamidocarbonyl, etc.), alkylsulfinylaminocarbonyl groups (methanesulfinylaminocarbonyl, ethanesulfinylaminocarbonyl, etc.) and the like. Moreover, when there are two or more substituents, they may be the same or different. A particularly preferred substituent is an alkyl group.

2はアルキル基を表し、少なくとも一方は2級又は3級のアルキル基である。アルキル基としては置換又は無置換の炭素数1〜20のものが好ましく、具体的にはメチル、エチル、プロピル、i−プロピル、ブチル、i−ブチル、t−ブチル、t−ペンチル、t−アミル、t−オクチル、シクロヘキシル、シクロペンチル、1−メチルシクロヘキシル、1−メチルシクロプロピル等の基が挙げられる。 R 2 represents an alkyl group, at least one of which is a secondary or tertiary alkyl group. The alkyl group is preferably a substituted or unsubstituted one having 1 to 20 carbon atoms, specifically, methyl, ethyl, propyl, i-propyl, butyl, i-butyl, t-butyl, t-pentyl, t-amyl. , T-octyl, cyclohexyl, cyclopentyl, 1-methylcyclohexyl, 1-methylcyclopropyl and the like.

アルキル基の置換基は特に限定されないが、例えば、アリール基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、アシル基、カルバモイル基、エステル基、ハロゲン原子等が挙げられる。又、(R4n及び(R4mと飽和環を形成してもよい。R2は好ましくは何れも2級又は3級のアルキル基であり、炭素数2〜20が好ましい。より好ましくは3級アルキル基であり、更に好ましくはt−ブチル、t−アミル、t−ペンチル、1−メチルシクロヘキシルであり、最も好ましくはt−ブチル、t−アミルである。 Although the substituent of the alkyl group is not particularly limited, for example, aryl group, hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acylamino group, sulfonamide group, sulfonyl group, phosphoryl group, acyl group, carbamoyl group , Ester groups, halogen atoms and the like. Or it may form a saturated ring with (R 4) n and (R 4) m. R 2 is preferably a secondary or tertiary alkyl group, and preferably has 2 to 20 carbon atoms. A tertiary alkyl group is more preferable, t-butyl, t-amyl, t-pentyl and 1-methylcyclohexyl are more preferable, and t-butyl and t-amyl are most preferable.

3は水素原子又はベンゼン環に置換可能な基を表す。ベンゼン環に置換可能な基としては、例えば、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、スルホニル基、アルキルスルホニル基、スルフィニル基、シアノ基、複素環基等が挙げられる。R3として例えば、メチル、エチル、i−プロピル、t−ブチル、シクロヘキシル、1−メチルシクロヘキシル、2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシプロピル等が挙げられる。 R 3 represents a hydrogen atom or a group that can be substituted on a benzene ring. Examples of groups that can be substituted on the benzene ring include halogen atoms such as fluorine, chlorine, bromine, alkyl groups, aryl groups, cycloalkyl groups, alkenyl groups, cycloalkenyl groups, alkynyl groups, amino groups, acyl groups, and acyloxy groups. , Acylamino group, sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, sulfonyl group, alkylsulfonyl group, sulfinyl group, cyano group, heterocyclic group and the like. Examples of R 3 include methyl, ethyl, i-propyl, t-butyl, cyclohexyl, 1-methylcyclohexyl, 2-hydroxyethyl, 3-hydroxypropyl, and the like.

これらの基は更に置換基を有していてもよく、置換基としては前記R1で挙げた置換基を用いることができる。 These groups may further have a substituent, and the substituents mentioned in the above R 1 can be used as the substituent.

3はヒドロキシル基を置換基として有する炭素数1〜20のアルキル基、または脱保護されることによりヒドロキシル基を形成しうる基を置換基として有する炭素数1〜20のアルキル基であることが好ましい。さらに好ましくは、R3はヒドロキシル基を置換基として有する炭素数3〜10のアルキル基、または脱保護されることによりヒドロキシル基を形成しうる基を置換基として有する炭素数3〜10のアルキル基である。アルキル基の炭素数をこの範囲とすると、画像が硬調化することがなく、平均階調が2.0〜6.0の範囲内の診断に適した画像をうることができる点で好ましい。R3は特に好ましくは、ヒドロキシル基を置換基として有する炭素数3〜5のアルキル基である。R3としては例えば、3−ヒドロキシプロピル、4−ヒドロキシブチル、5−ヒドロキシペンチル等が挙げられる。これらの基は更に置換基を有していてもよく、置換基としては前記R1で挙げた置換基を用いることができる。 R 3 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms having a hydroxyl group as a substituent, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms having a group capable of forming a hydroxyl group by being deprotected as a substituent. preferable. More preferably, R 3 is an alkyl group having 3 to 10 carbon atoms having a hydroxyl group as a substituent, or an alkyl group having 3 to 10 carbon atoms having a group that can be deprotected to form a hydroxyl group as a substituent. It is. When the carbon number of the alkyl group is in this range, it is preferable in that an image suitable for diagnosis within an average gradation range of 2.0 to 6.0 can be obtained without causing the image to be hardened. R 3 is particularly preferably an alkyl group having 3 to 5 carbon atoms having a hydroxyl group as a substituent. Examples of R 3 include 3-hydroxypropyl, 4-hydroxybutyl, 5-hydroxypentyl and the like. These groups may further have a substituent, and the substituents mentioned in the above R 1 can be used as the substituent.

脱保護されて水酸基を形成しうる基として好ましくは酸および/または熱の作用により脱保護して水酸基を形成する基が挙げられる。   The group that can be deprotected to form a hydroxyl group is preferably a group that forms a hydroxyl group by deprotection by the action of an acid and / or heat.

具体的には、エーテル基(メトキシ基、tert−ブトキシ基、アリルオキシ基、ベンジルオキシ基、トリフェニルメトキシ基、トリメチルシリルオキシ基等)、ヘミアセタール基(テトラヒドロピラニルオキシ基等)、エステル基(アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、p−ニトロベンゾイルオキシ基、ホルミルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基等)、カルボナート基(エトキシカルボニルオキシ基、フェノキシカルボニルオキシ基、tert−ブチルオキシカルボニルオキシ基等)、スルホナート基(p−トルエンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基等)、カルバモイルオキシ基(フェニルカルバモイルオキシ基等)、チオカルボニルオキシ基(ベンジルチオカルボニルオキシ基等)、硝酸エステル基、スルフェナート基(2,4−ジニトロベンゼンスルフェニルオキシ基等)が挙げられる。   Specifically, ether groups (methoxy groups, tert-butoxy groups, allyloxy groups, benzyloxy groups, triphenylmethoxy groups, trimethylsilyloxy groups, etc.), hemiacetal groups (tetrahydropyranyloxy groups, etc.), ester groups (acetyl) Oxy group, benzoyloxy group, p-nitrobenzoyloxy group, formyloxy group, trifluoroacetyloxy group, pivaloyloxy group, etc.), carbonate group (ethoxycarbonyloxy group, phenoxycarbonyloxy group, tert-butyloxycarbonyloxy group, etc.) ), Sulfonate groups (p-toluenesulfonyloxy group, benzenesulfonyloxy group etc.), carbamoyloxy groups (phenylcarbamoyloxy group etc.), thiocarbonyloxy groups (benzylthiocarbonyloxy group etc.), Ester group, sulfenates group (2,4-dinitrobenzene sulfenyl group and the like).

3は最も好ましくはヒドロキシル基又はそのプレカーサー基を有する炭素数3〜5の第1級アルキル基であり、例えば3−ヒドロキシプロピルである。R2及びR3の最も好ましい組合せは、R2が第3級アルキル基(t−ブチル、t−アミル、t−ペンチル、1−メチルシクロヘキシル等)であり、R3がヒドロキシル基又はそのプレカーサー基を有する炭素数3〜10の第1級アルキル基(3−ヒドロキシプロピル、4−ヒドロキシブチル等)である。複数のR2、R3は同じでも異なっていてもよい。 R 3 is most preferably a primary alkyl group having 3 to 5 carbon atoms having a hydroxyl group or a precursor group thereof, such as 3-hydroxypropyl. In the most preferred combination of R 2 and R 3 , R 2 is a tertiary alkyl group (t-butyl, t-amyl, t-pentyl, 1-methylcyclohexyl, etc.), and R 3 is a hydroxyl group or a precursor group thereof. And a primary alkyl group having 3 to 10 carbon atoms (3-hydroxypropyl, 4-hydroxybutyl, etc.). A plurality of R 2 and R 3 may be the same or different.

4は水素原子又はベンゼン環上に置換可能な基を表すが、具体的には炭素数1〜25のアルキル基(メチル、エチル、プロピル、i−プロピル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル等)、ハロゲン化アルキル基(トリフルオロメチル、パーフルオロオクチル等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル、シクロペンチル等)、アルキニル基(プロパルギル等)、グリシジル基、アクリレート基、メタクリレート基、アリール基(フェニル等)、複素環基(ピリジル、チアゾリル、オキサゾリル、イミダゾリル、フリル、ピロリル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、セレナゾリル、スリホラニル、ピペリジニル、ピラゾリル、テトラゾリル等)、ハロゲン原子(塩素、臭素、沃素、フッ素)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、ペンチルオキシ、シクロペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ等)、アリールオキシ基(フェノキシ等)、アルコキシカルボニル基(メチルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェニルオキシカルボニル等)、スルホンアミド基(メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ヘキサンスルホンアミド基、シクロヘキサンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド等)、スルファモイル基(アミノスルホニル、メチルアミノスルホニル、ジメチルアミノスルホニル、ブチルアミノスルホニル、ヘキシルアミノスルホニル、シクロヘキシルアミノスルホニル、フェニルアミノスルホニル、2−ピリジルアミノスルホニル等)、ウレタン基(メチルウレイド、エチルウレイド、ペンチルウレイド、シクロヘキシルウレイド、フェニルウレイド、2−ピリジルウレイド等)、アシル基(アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ヘキサノイル、シクロヘキサノイル、ベンゾイル、ピリジノイル等)、カルバモイル基(アミノカルボニル、メチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボニル、プロピルアミノカルボニル、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル、フェニルアミノカルボニル、2−ピリジルアミノカルボニル)、アミド基(アセトアミド、プロピオンアミド、ブタンアミド、ヘキサンアミド、ベンズアミド等)、スルホニル基(メチルスルホニル、エチルスルホニル、ブチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル、フェニルスルホニル、2−ピリジルスルホニル等)、アミノ基(アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、アニリノ、2−ピリジルアミノ等)、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、オキザモイル基等を挙げることができる。又、これらの基は更にこれらの基で置換されてもよい。n及びmは0〜2の整数を表すが、最も好ましくはn、m共に0の場合である。 R 4 represents a hydrogen atom or a group that can be substituted on the benzene ring, and specifically, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms (methyl, ethyl, propyl, i-propyl, t-butyl, pentyl, hexyl, cyclohexyl). Etc.), halogenated alkyl groups (trifluoromethyl, perfluorooctyl etc.), cycloalkyl groups (cyclohexyl, cyclopentyl etc.), alkynyl groups (propargyl etc.), glycidyl groups, acrylate groups, methacrylate groups, aryl groups (phenyl etc.) , Heterocyclic groups (pyridyl, thiazolyl, oxazolyl, imidazolyl, furyl, pyrrolyl, pyrazinyl, pyrimidinyl, pyridazinyl, selenazolyl, sriphoranyl, piperidinyl, pyrazolyl, tetrazolyl, etc.), halogen atoms (chlorine, bromine, iodine, fluorine), alkoxy groups ( Methoxy Ethoxy, propyloxy, pentyloxy, cyclopentyloxy, hexyloxy, cyclohexyloxy, etc.), aryloxy groups (phenoxy, etc.), alkoxycarbonyl groups (methyloxycarbonyl, ethyloxycarbonyl, butyloxycarbonyl, etc.), aryloxycarbonyl groups ( Phenyloxycarbonyl, etc.), sulfonamide groups (methanesulfonamide, ethanesulfonamide, butanesulfonamide, hexanesulfonamide group, cyclohexanesulfonamide, benzenesulfonamide, etc.), sulfamoyl groups (aminosulfonyl, methylaminosulfonyl, dimethylaminosulfonyl) , Butylaminosulfonyl, hexylaminosulfonyl, cyclohexylaminosulfonyl, phenylaminosulfonyl, 2-pi Lysylaminosulfonyl, etc.), urethane groups (methylureido, ethylureido, pentylureido, cyclohexylureido, phenylureido, 2-pyridylureido, etc.), acyl groups (acetyl, propionyl, butanoyl, hexanoyl, cyclohexanoyl, benzoyl, pyridinoyl, etc.) ), Carbamoyl group (aminocarbonyl, methylaminocarbonyl, dimethylaminocarbonyl, propylaminocarbonyl, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl, phenylaminocarbonyl, 2-pyridylaminocarbonyl), amide group (acetamide, propionamide, butanamide, hexane Amide, benzamide, etc.), sulfonyl group (methylsulfonyl, ethylsulfonyl, butylsulfonyl, cyclohexyl) Sulfonyl, phenylsulfonyl, 2-pyridylsulfonyl, etc.), amino group (amino, ethylamino, dimethylamino, butylamino, cyclopentylamino, anilino, 2-pyridylamino, etc.), cyano group, nitro group, sulfo group, carboxyl group, hydroxyl group Group, oxamoyl group and the like. These groups may be further substituted with these groups. n and m represent an integer of 0 to 2, and most preferably n and m are 0.

又、R4はR2、R3と飽和環を形成してもよい。R4は好ましくは水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基であり、より好ましくは水素原子である。複数のR4は同じでも異なっていても良い。 R 4 may form a saturated ring with R 2 and R 3 . R 4 is preferably a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom. A plurality of R 4 may be the same or different.

一般式(RD2)中、R5はR1と同様の基であり、R8はR4と同様の基である。R6はアルキル基を表し、同一でも異なってもよいが、2級又は3級のアルキル基であることはない。 In general formula (RD2), R 5 is the same group as R 1, and R 8 is the same group as R 4 . R 6 represents an alkyl group, which may be the same or different, but is not a secondary or tertiary alkyl group.

7は水素原子又はベンゼン環に置換可能な基を表す。ベンゼン環に置換可能な基としては、例えば、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、スルホニル基、アルキルスルホニル基、スルフィニル基、シアノ基、複素環基等が挙げられる。 R 7 represents a hydrogen atom or a group that can be substituted on a benzene ring. Examples of groups that can be substituted on the benzene ring include halogen atoms such as fluorine, chlorine, bromine, alkyl groups, aryl groups, cycloalkyl groups, alkenyl groups, cycloalkenyl groups, alkynyl groups, amino groups, acyl groups, and acyloxy groups. , Acylamino group, sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, alkylthio group, sulfonyl group, alkylsulfonyl group, sulfinyl group, cyano group, heterocyclic group and the like.

7として好ましくは、メチル、エチル、i−プロピル、t−ブチル、シクロヘキシル、1−メチルシクロヘキシル、2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシプロピル等が挙げられる。更に好ましくはメチル、3−ヒドロキシプロピルである。 R 7 is preferably methyl, ethyl, i-propyl, t-butyl, cyclohexyl, 1-methylcyclohexyl, 2-hydroxyethyl, 3-hydroxypropyl and the like. More preferred are methyl and 3-hydroxypropyl.

アルキル基としては置換又は無置換の炭素数1〜20のものが好ましく、具体的にはメチル、エチル、プロピル、ブチル等の基が挙げられる。   The alkyl group is preferably a substituted or unsubstituted one having 1 to 20 carbon atoms, and specific examples include groups such as methyl, ethyl, propyl, and butyl.

アルキル基の置換基は特に限定されないが、例えば、アリール基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、スルホニル基、ホスホリル基、アシル基、カルバモイル基、エステル基、ハロゲン原子等が挙げられる。   Although the substituent of the alkyl group is not particularly limited, for example, aryl group, hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, acylamino group, sulfonamido group, sulfonyl group, phosphoryl group, acyl group, carbamoyl group , Ester groups, halogen atoms and the like.

又、R6は(R8n及び(R8mと飽和環を形成してもよい。R6は、好ましくはメチルである。一般式(RD2)で表される化合物のうちでも好ましく用いられる化合物は欧州特許第1,278,101号明細書に記載の一般式(S)、一般式(T)を満足する化合物であり、具体的にはp21〜p28に記載の(1−24)、(1−28)〜(1−54)、(1−56)〜(1−75)の化合物が挙げられる。 R 6 may form a saturated ring with (R 8 ) n and (R 8 ) m . R 6 is preferably methyl. Among the compounds represented by the general formula (RD2), compounds preferably used are compounds satisfying the general formula (S) and the general formula (T) described in EP 1,278,101, Specific examples include compounds (1-24), (1-28) to (1-54), and (1-56) to (1-75) described in p21 to p28.

以下に、一般式(RD1)、一般式(RD2)で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。   Specific examples of the compounds represented by general formula (RD1) and general formula (RD2) are shown below, but the present invention is not limited to these.

Figure 2008180863
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これら一般式(RD1)、一般式(RD2)で表されるビスフェノール化合物は、従来公知の方法により容易に合成することができる。   These bisphenol compounds represented by the general formula (RD1) and general formula (RD2) can be easily synthesized by a conventionally known method.

本発明において、併用することができる還元剤としては、例えば、米国特許3,770,448号、同3,773,512号、同3,593,863号の各明細書、RD17029号及び29963号、特開平11−119372号、特開2002−62616号の各公報等に記載されている還元剤が挙げられる。   In the present invention, examples of the reducing agent that can be used in combination include US Pat. Nos. 3,770,448, 3,773,512, and 3,593,863, RD17029 and 29963. And reducing agents described in JP-A-11-119372 and JP-A-2002-62616.

前記一般式(RD1)で表される化合物を初めとする還元剤の使用量は、好ましくは銀1モル当たり1×10-2〜10モル、特に好ましくは1×10-2〜1.5モルである。 The amount of the reducing agent including the compound represented by the general formula (RD1) is preferably 1 × 10 −2 to 10 mol, particularly preferably 1 × 10 −2 to 1.5 mol, per mol of silver. It is.

(画像の色調)
次に、熱現像感光材料を熱現像処理して得られる画像の色調について述べる。
(Image tone)
Next, the color tone of an image obtained by thermally developing a photothermographic material will be described.

従来のレントゲン写真フィルムのような医療診断用の出力画像の色調に関しては、冷調の画像調子の方が、判読者にとってより的確な診断観察結果が得易いと言われている。ここで冷調な画像調子とは、純黒調もしくは黒画像が青味を帯びた青黒調であることを言う。一方、温調な画像調子とは、黒画像が褐色味を帯びた温黒調であると言われているが、より厳密な定量的な議論ができるように、以下、国際照明委員会(CIE)の推奨する表現法に基づき説明する。   Regarding the color tone of an output image for medical diagnosis such as a conventional X-ray photographic film, it is said that a cold tone image tone is easier for a reader to obtain a more accurate diagnostic observation result. Here, the cool image tone means a pure black tone or a bluish black tone of a black image. On the other hand, the warm image tone is said to be a warm black tone with a black image, but in order to allow a more precise quantitative discussion, the International Lighting Commission (CIE) ), Based on the recommended expression.

色調に関しての用語「より冷調」及び「より温調」は、最低濃度Dmin及び光学濃度D=1.0における色相角habにより表現できる。即ち、色相角habは、国際照明委員会(CIE)が1976年に推奨した知覚的にほぼ均等な歩度を持つ色空間であるL***色空間の色座標a*、b*を用いて次の式によって求める。 The terms “more cold” and “more warm” regarding the color tone can be expressed by the hue angle hab at the minimum density Dmin and the optical density D = 1.0. That is, the hue angle hab is expressed by the color coordinates a * and b * of the color space L * a * b * color space, which is a color space having a perceptually uniform rate recommended by the International Commission on Illumination (CIE) in 1976. Using the following formula.

hab=tan-1(b*/a*
上記色相角に基づく表現法により検討した結果、本発明の熱現像感光材料の現像後の色調は、色相角habの範囲が180度<hab<270度であることが好ましい。更に好ましくは200度<hab<270度、最も好ましくは220度<hab<260度であることが判った。このことは、特開2002−6463号公報に開示されている。
hab = tan −1 (b * / a * )
As a result of the examination based on the expression method based on the hue angle, the color tone after development of the photothermographic material of the invention is preferably such that the range of the hue angle hab is 180 degrees <hab <270 degrees. More preferably, it was found that 200 degrees <hab <270 degrees, and most preferably 220 degrees <hab <260 degrees. This is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2002-6463.

尚、従来、光学濃度1.0付近でのCIE 1976(L***)色空間又は(L***)色空間におけるu*、v*又はa*、b*を特定の数値に調整することにより、見た目の色調が好ましい診断画像が得られることが知られている。例えば、特開2000−29164号公報に記載されている。 Conventionally, the CIE 1976 (L * u * v * ) color space or the (L * a * b * ) color space near the optical density of 1.0 is specified as u * , v * or a * , b * . It is known that by adjusting to a numerical value, it is possible to obtain a diagnostic image with a preferable visual color tone. For example, it describes in Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-29164.

しかしながら、本発明の熱現像感光材料について更に鋭意検討の結果、CIE 1976(L***)色空間又は(L***)色空間において横軸をu*又はa*、縦軸をv*又はb*としたグラフ上に、様々な写真濃度でのu*、v*又はa*、b*をプロットした。これから、線形回帰直線を作成した際に、その線形回帰直線を特定の範囲に調整することにより、従来の湿式の銀塩感光材料同等以上の診断性を持つことを見い出した。以下に好ましい条件範囲について述べる。 However, as a result of further intensive studies on the photothermographic material of the present invention, the horizontal axis is u * or a * , in the CIE 1976 (L * u * v * ) color space or (L * a * b * ) color space. U * , v * or a * , b * at various photographic densities were plotted on a graph with the axis as v * or b * . From this, it was found that when a linear regression line was created, the linear regression line was adjusted to a specific range so that the diagnostic performance was equal to or higher than that of a conventional wet silver salt photosensitive material. A preferable range of conditions is described below.

(1)熱現像感光材料を熱現像処理後に得られた銀画像の光学濃度0.5、1.0、1.5及び最低光学濃度の各濃度を測定する。CIE 1976(L***)色空間の横軸をu*、縦軸をv*とする2次元座標に、上記各光学濃度でのu*、v*を配置し作成した線形回帰直線の決定係数(重決定)R2が0.998〜1.000であることが好ましい。更に、当該線形回帰直線の縦軸との交点のv*値が−5〜5であること、且つ傾き(v*/u*)が0.7〜2.5であることが好ましい。 (1) The optical density of the silver image obtained after the photothermographic treatment of the photothermographic material is measured at 0.5, 1.0, 1.5 and the lowest optical density. CIE 1976 (L * u * v * ) Linear regression line created by arranging u * and v * at the above optical densities on two-dimensional coordinates where the horizontal axis of the color space is u * and the vertical axis is v *. It is preferable that the determination coefficient (heavy determination) R 2 is 0.998 to 1.000. Furthermore, it is preferable that the v * value of the intersection with the vertical axis of the linear regression line is −5 to 5 and the slope (v * / u * ) is 0.7 to 2.5.

(2)又、当該熱現像感光材料の光学濃度0.5、1.0、1.5及び最低光学濃度の各濃度を測定する。CIE 1976(L***)色空間の横軸をa*、縦軸をb*とする2次元座標に、上記各光学濃度でのa*、b*を配置し作成した線形回帰直線の決定係数(重決定)R2が0.998〜1.000であることが好ましい。更に、当該線形回帰直線の縦軸との交点のb*値が−5〜5であること、且つ傾き(b*/a*)が0.7〜2.5であることが好ましい。 (2) Further, the optical densities of the photothermographic material are measured at 0.5, 1.0, 1.5 and the lowest optical density. CIE 1976 (L * a * b * ) linear regression line created by arranging a * and b * at each optical density in two-dimensional coordinates where the horizontal axis of the color space is a * and the vertical axis is b *. It is preferable that the determination coefficient (heavy determination) R 2 is 0.998 to 1.000. Furthermore, it is preferable that the b * value of the intersection with the vertical axis of the linear regression line is −5 to 5 and the slope (b * / a * ) is 0.7 to 2.5.

尚、次に、上述の線形回帰直線の作成法、則ちCIE 1976色空間におけるu*、v*及びa*、b*の測定法の一例を説明する。 An example of a method for creating the above-described linear regression line, that is, a method for measuring u * , v *, a * , and b * in the CIE 1976 color space will be described next.

熱現像装置を用いて未露光部、及び光学濃度0.5、1.0、1.5を含む4段のウエッジ試料を作製する。このようにして作製した、それぞれのウエッジ濃度部を分光色彩計(ミノルタ社製(旧名):CM−3600d等)で測定し、u*、v*又はa*、b*を算出する。その際の測定条件は光源としてF7光源、視野角を10度として透過測定モードで測定を行う。横軸をu*又はa*、縦軸をv*又はb*としたグラフ上に測定したu*、v*又はa*、b*をプロットし線形回帰直線を求め、決定係数(重決定)R2、切片及び傾きを求める。 A four-stage wedge sample including an unexposed portion and optical densities of 0.5, 1.0, and 1.5 is prepared using a heat development apparatus. Each wedge density part thus produced is measured with a spectral colorimeter (manufactured by Minolta (former name): CM-3600d, etc.) to calculate u * , v * or a * , b * . The measurement conditions at that time are F7 light source as the light source, the viewing angle is 10 degrees, and measurement is performed in the transmission measurement mode. Plot u * , v * or a * , b * measured on a graph with u * or a * on the horizontal axis and v * or b * on the vertical axis to obtain a linear regression line, and the coefficient of determination (multiple determination) Find R 2 , intercept and slope.

次に、上記のような特徴を持つ線形回帰直線を得るための具体的な方法について説明する。   Next, a specific method for obtaining a linear regression line having the above characteristics will be described.

本発明においては、還元剤(現像剤)、ハロゲン化銀粒子、脂肪族カルボン酸銀及び下記の調色剤等の現像反応過程において、直接的及び間接的に関与する化合物等の添加量の調整により、現像銀形状を最適化して好ましい色調にすることができる。例えば、現像銀形状をデンドライト状にすると青味を帯びる方向になり、フィラメント状にすると黄色味を帯びる方向になる。即ち、このような現像銀形状の性向を考慮して調整できる。   In the present invention, adjustment of the addition amount of a compound or the like directly or indirectly involved in the development reaction process of a reducing agent (developer), silver halide grains, aliphatic silver carboxylate and the following toning agent, etc. Thus, the developed silver shape can be optimized to obtain a preferable color tone. For example, when the developed silver shape is dendritic, it becomes a bluish direction, and when it is a filament shape, it becomes a yellowish direction. That is, it can be adjusted in consideration of the tendency of the developed silver shape.

従来、調色剤としてはフタラジノン又はフタラジンとフタル酸類、フタル酸無水物類が一般的に使用されている。好適な調色剤の例は、RD17029号、米国特許第4,123,282号、同3,994,732号、同3,846,136号、同4,021,249号の各明細書等に開示されている。   Conventionally, phthalazinone or phthalazine and phthalic acids and phthalic anhydrides are generally used as toning agents. Examples of suitable toning agents include RD17029, U.S. Pat. Nos. 4,123,282, 3,994,732, 3,846,136, and 4,021,249. Is disclosed.

冷却部長さの短いコンパクトなレーザイメージャーを用いて迅速処理を行う場合、通常処理に比較して、銀色調がニュートラルな好ましい色調から大きくずれてしまう問題点が発生する場合がある。これらの問題点の解決のためには、熱現像時にイメージワイズに発色して色素像を形成する化合物(ロイコ染料やカプラー化合物が挙げられる)を前記したフタラジン化合物等の調色剤に加えて使用することが好ましい。これらの化合物としては熱現像時に発色して極大吸収波長が360以上450nm以下となる色素像を形成する化合物、または熱現像時に発色して極大吸収波長が600以上700nm以下となる色素像を形成する化合物が好ましい。両方の化合物を含む場合が良好な銀色調を得るうえで特に好ましい。これらの化合物としては、特開平11−288057号公報、欧州特許第1,134,611A2号明細書等に開示されているカプラーまたは、以下で詳述するロイコ染料を使用することが好ましい。   When rapid processing is performed using a compact laser imager with a short cooling section length, there may be a problem that the silver tone is greatly deviated from the neutral preferable tone as compared with the normal processing. In order to solve these problems, a compound (such as a leuco dye or a coupler compound) that forms an imagewise color image during heat development to form a dye image is used in addition to the above-mentioned toning agent such as a phthalazine compound. It is preferable to do. As these compounds, a compound that develops color during thermal development and forms a dye image having a maximum absorption wavelength of 360 to 450 nm, or a color that forms color during thermal development and forms a dye image that has a maximum absorption wavelength of 600 to 700 nm or less. Compounds are preferred. The case where both compounds are contained is particularly preferable for obtaining a good silver tone. As these compounds, it is preferable to use couplers disclosed in JP-A No. 11-288057, European Patent No. 1,134,611A2, etc., or leuco dyes described in detail below.

(ロイコ染料)
本発明に係る熱現像感光材料は、上記のように、ロイコ染料を使用して色調を調整することもできる。ロイコ染料として好ましくは、約80〜200℃の温度で約0.5〜30秒間加熱した時に、酸化されて着色形態になる何れの無色又は僅かに着色した化合物でよく、上記の還元剤の酸化体等により酸化して色素を形成する何れのロイコ染料を用いることもできる。pH感受性を有し、且つ着色状態に酸化できる化合物は有用である。
(Leuco dye)
As described above, the photothermographic material according to the invention can also be adjusted in color tone using a leuco dye. The leuco dye is preferably any colorless or slightly colored compound that is oxidized to a colored form when heated at a temperature of about 80-200 ° C. for about 0.5-30 seconds. Any leuco dye that can be oxidized by the body to form a pigment can be used. Compounds that are pH sensitive and can be oxidized to a colored state are useful.

本発明において使用するのに適した代表的なロイコ染料は特に限定されないが、例えば、ビフェノールロイコ染料、フェノールロイコ染料、インドアニリンロイコ染料、アクリル化アジンロイコ染料、フェノキサジンロイコ染料、フェノジアジンロイコ染料及びフェノチアジンロイコ染料等が挙げられる。又、有用なものは、米国特許第3,445,234号、同3,846,136号、同3,994,732号、同4,021,249号、同4,021,250号、同4,022,617号、同4,123,282号、同4,368,247号、同4,461,681号の各明細書、及び特開昭50−36110号、同59−206831号、特開平5−204087号、同11−231460号、特開2002−169249号、同2002−236334号の各公報等に開示されているロイコ染料である。   Representative leuco dyes suitable for use in the present invention are not particularly limited. For example, biphenol leuco dyes, phenol leuco dyes, indoaniline leuco dyes, acrylated azine leuco dyes, phenoxazine leuco dyes, phenodiazine leuco dyes. And phenothiazine leuco dye. Also useful are US Pat. Nos. 3,445,234, 3,846,136, 3,994,732, 4,021,249, 4,021,250, 4,022,617, 4,123,282, 4,368,247, 4,461,681, and JP-A-50-36110, 59-26831, These are leuco dyes disclosed in JP-A-5-204087, JP-A-11-231460, JP-A-2002-169249, and JP-A-2002-236334.

所定の色調に調整するために、種々の色のロイコ染料を単独使用又は複数の種類の併用をすることが好ましい。さらに迅速処理のために高活性な還元剤を使用することに伴ってその使用量や使用比率によって色調(特に黄色味)が変化する。また、微粒子のハロゲン化銀粒子を用いたりして、現像銀の粒径が小さくなることにより、特に濃度が2.0以上の高濃度部で画像が過度に赤みをおびる。これを防止するために、黄色及びシアン色に発色するロイコ染料を併用してその使用量を調整するのが好ましい。   In order to adjust to a predetermined color tone, it is preferable to use leuco dyes of various colors singly or in combination of a plurality of types. Further, the use of a highly active reducing agent for rapid processing changes the color tone (especially yellowishness) depending on the amount and ratio of use. Further, by using fine silver halide grains or by reducing the particle size of developed silver, the image becomes excessively reddish particularly at a high density portion having a density of 2.0 or more. In order to prevent this, it is preferable to use a leuco dye that develops yellow and cyan colors to adjust the amount used.

発色濃度は現像銀自身による色調との関係で適切に調整することが好ましい。本発明では、0.01〜0.05の反射光学濃度又は0.005〜0.50の透過光学濃度を有するように発色させ上記の好ましい色調範囲の画像になるように色調を調整することが好ましい。本発明ではロイコ染料により形成される色素像の極大吸収波長における最高濃度の総和を0.01以上0.50以下とするのが好ましく、より好ましくは0.02以上0.30以下、特に0.03以上0.10以下を有するように発色させることが好ましい。色素像の極大吸収波長は熱現像後の熱現像感光材料の分光吸収スペクトルを測定することによって得られる。   The color density is preferably adjusted appropriately in relation to the color tone of the developed silver itself. In the present invention, the color tone is adjusted so as to have an image in the above preferable color tone range by developing the color so as to have a reflection optical density of 0.01 to 0.05 or a transmission optical density of 0.005 to 0.50. preferable. In the present invention, the sum of the maximum densities at the maximum absorption wavelength of a dye image formed with a leuco dye is preferably 0.01 or more and 0.50 or less, more preferably 0.02 or more and 0.30 or less, and particularly preferably 0.8. It is preferable that the color is developed so as to have 03 or more and 0.10 or less. The maximum absorption wavelength of the dye image can be obtained by measuring the spectral absorption spectrum of the photothermographic material after heat development.

(黄色発色性ロイコ染料)
本発明に係る熱現像感光材料は、上記のように、ロイコ染料を使用して色調を調整することが好ましい。本発明において、特に黄色発色性ロイコ染料として好ましく用いられるのは、酸化されることにより360〜450nmの吸光度が増加する色像形成剤である。これらの色像形成剤としては、下記一般式(YA)で表される色像形成剤であることが特に好ましい。
(Yellow coloring leuco dye)
As described above, the photothermographic material according to the invention preferably adjusts the color tone using a leuco dye. In the present invention, a color image forming agent whose absorbance at 360 to 450 nm is increased by oxidation is particularly preferably used as a yellow color-forming leuco dye. These color image forming agents are particularly preferably color image forming agents represented by the following general formula (YA).

Figure 2008180863
Figure 2008180863

式中、R11は置換又は無置換のアルキル基を表し、R12は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基又はアシルアミノ基を表すが、R11、R12は2−ヒドロキシフェニルメチル基であることはない。R13は水素原子又は置換もしくは無置換のアルキル基を表し、R14はベンゼン環に置換可能な置換基を表す。 In the formula, R 11 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, R 12 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group or an acylamino group, and R 11 and R 12 are 2-hydroxyphenylmethyl groups. There is nothing. R 13 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, and R 14 represents a substituent that can be substituted on the benzene ring.

以下、一般式(YA)の化合物について詳細に説明する。   Hereinafter, the compound of the general formula (YA) will be described in detail.

一般式(YA)において、R11は置換又は無置換のアルキル基を表すが、R12が水素原子以外の置換基である場合、R11はアルキル基を表す。当該アルキル基としては炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、置換基を有してもよい。 In General Formula (YA), R 11 represents a substituted or unsubstituted alkyl group. When R 12 is a substituent other than a hydrogen atom, R 11 represents an alkyl group. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms and may have a substituent.

具体的にはメチル、エチル、ブチル、オクチル、i−プロピル、t−ブチル、t−オクチル、t−ペンチル、sec−ブチル、シクロヘキシル、1−メチル−シクロヘキシル等が好ましく、i−プロピルよりも立体的に大きな基(i−プロピル、i−ノニル、t−ブチル、t−アミル、t−オクチル、シクロヘキシル、1−メチル−シクロヘキシル、アダマンチル等)であることが好ましく、その中でも2級又は3級のアルキル基が好ましく、3級アルキル基であるt−ブチル、t−オクチル、t−ペンチル等が特に好ましい。R11が有してもよい置換基としては、ハロゲン原子、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、ホスホリル基等が挙げられる。 Specifically, methyl, ethyl, butyl, octyl, i-propyl, t-butyl, t-octyl, t-pentyl, sec-butyl, cyclohexyl, 1-methyl-cyclohexyl and the like are preferable, and steric rather than i-propyl. Are preferably large groups (i-propyl, i-nonyl, t-butyl, t-amyl, t-octyl, cyclohexyl, 1-methyl-cyclohexyl, adamantyl, etc.), among which secondary or tertiary alkyl Group is preferable, and tertiary alkyl groups such as t-butyl, t-octyl, and t-pentyl are particularly preferable. Examples of the substituent that R 11 may have include a halogen atom, an aryl group, an alkoxy group, an amino group, an acyl group, an acylamino group, an alkylthio group, an arylthio group, a sulfonamido group, an acyloxy group, an oxycarbonyl group, and a carbamoyl group. , Sulfamoyl group, sulfonyl group, phosphoryl group and the like.

12は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基又はアシルアミノ基を表す。R12で表されるアルキル基は炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、アシルアミノ基は炭素数1〜30のアシルアミノ基が好ましい。この内、アルキル基の説明は前記R11と同様である。 R 12 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group or an acylamino group. The alkyl group represented by R 12 is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and the acylamino group is preferably an acylamino group having 1 to 30 carbon atoms. Among these, the description of the alkyl group is the same as R 11 described above.

12で表されるアシルアミノ基は、無置換でも置換基を有してもよく、具体的には、アセチルアミノ基、アルコキシアセチルアミノ基、アリールオキシアセチルアミノ基等が挙げられる。R12として好ましくは、水素原子又は無置換の炭素数1〜24のアルキル基であり、具体的にはメチル、i−プロピル、t−ブチルが挙げられる。又、R11、R12は2−ヒドロキシフェニルメチル基であることはない。 The acylamino group represented by R 12 may be unsubstituted or substituted, and specific examples include an acetylamino group, an alkoxyacetylamino group, and an aryloxyacetylamino group. R 12 is preferably a hydrogen atom or an unsubstituted alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, and specific examples include methyl, i-propyl, and t-butyl. R 11 and R 12 are not 2-hydroxyphenylmethyl groups.

13は水素原子又は置換もしくは無置換のアルキル基を表す。アルキル基としては炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、アルキル基の説明は前記R11と同様である。R13として好ましくは、水素原子又は無置換の炭素数1〜24のアルキル基で、具体的にはメチル、i−プロピル、t−ブチル等が挙げられる。又、R12、R13の何れか一方は水素原子であることが好ましい。 R 13 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and the description of the alkyl group is the same as that for R 11 . R 13 is preferably a hydrogen atom or an unsubstituted alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, and specific examples include methyl, i-propyl, t-butyl and the like. Further, it is preferable either R 12, R 13 is a hydrogen atom.

14はベンゼン環に置換可能な基を表し、例えば、前記一般式(RD1)における置換基R4で説明したのと同様な基である。R14として好ましいのは、置換又は無置換の炭素数1〜30のアルキル基、炭素数2〜30のオキシカルボニル基であり、炭素数1〜24のアルキル基がより好ましい。アルキル基の置換基としてはアリール基、アミノ基、アルコキシ基、オキシカルボニル基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、イミド基、ウレイド基等が挙げられ、アリール基、アミノ基、オキシカルボニル基、アルコキシ基がより好ましい。これらのアルキル基の置換基は、更にこれらの置換基で置換されてもよい。 R 14 represents a group substitutable on the benzene ring, and is, for example, the same group as described for the substituent R 4 in the general formula (RD1). R 14 is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms or an oxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms. Examples of the substituent of the alkyl group include an aryl group, an amino group, an alkoxy group, an oxycarbonyl group, an acylamino group, an acyloxy group, an imide group, and a ureido group, and more preferable examples include an aryl group, an amino group, an oxycarbonyl group, and an alkoxy group. preferable. These alkyl group substituents may be further substituted with these substituents.

次に、一般式(YA)で表される化合物のうちでも、特に本発明で好ましく用いられる、下記一般式(YB)で表されるビスフェノール化合物について説明する。   Next, among the compounds represented by the general formula (YA), the bisphenol compound represented by the following general formula (YB), which is particularly preferably used in the present invention, will be described.

Figure 2008180863
Figure 2008180863

式中、Zは−S−又は−C(R21)(R21′)−を表し、R21、R21′は各々、水素原子又は置換基を表す。 In the formula, Z represents —S— or —C (R 21 ) (R 21 ′) —, and R 21 and R 21 ′ each represents a hydrogen atom or a substituent.

21、R21′の表す置換基としては、前記一般式(RD1)のR1の説明で挙げた置換基と同様な基が挙げられる。R21、R21′として好ましくは、水素原子又はアルキル基である。 Examples of the substituent represented by R 21 and R 21 ′ include the same groups as the substituents exemplified in the description of R 1 in the general formula (RD1). R 21 and R 21 ′ are preferably a hydrogen atom or an alkyl group.

22、R23、R22′及びR23′は各々置換基を表すが、置換基としては一般式(RD1)におけるR2、R3で挙げた置換基と同様な基が挙げられる。 R 22 , R 23 , R 22 ′ and R 23 ′ each represent a substituent, and examples of the substituent include the same groups as those described for R 2 and R 3 in the general formula (RD1).

22、R23、R22′及びR23′として、好ましくはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基であるが、アルキル基が更に好ましい。アルキル基上の置換基としては、一般式(RD1)における置換基の説明で挙げた置換基と同様な基が挙げられる。 R 22 , R 23 , R 22 ′ and R 23 ′ are preferably an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or a heterocyclic group, but an alkyl group is more preferable. Examples of the substituent on the alkyl group include the same groups as those described in the description of the substituent in the general formula (RD1).

22、R23、R22′及びR23′として、更に好ましくはt−ブチル、t−ペンチル、t−オクチル、1−メチル−シクロヘキシル等の3級アルキル基である。 R 22 , R 23 , R 22 ′ and R 23 ′ are more preferably tertiary alkyl groups such as t-butyl, t-pentyl, t-octyl and 1-methyl-cyclohexyl.

24及びR24′は各々、水素原子又は置換基を表すが、置換基としては、一般式(RD1)におけるR4の説明で挙げた置換基と同様な基が挙げられる。 R 24 and R 24 ′ each represent a hydrogen atom or a substituent, and examples of the substituent include the same groups as the substituents described in the description of R 4 in formula (RD1).

一般式(YA)及び(YB)で表される化合物としては、例えば、特開2002−169249号公報の段落「0032」〜「0038」記載の化合物(II−1)〜(II−40)、欧州特許第1,211,093号明細書の段落「0026」記載の化合物(ITS−1)〜(ITS−12)を挙げることができる。   Examples of the compounds represented by the general formulas (YA) and (YB) include compounds (II-1) to (II-40) described in paragraphs “0032” to “0038” of JP-A No. 2002-169249, Examples thereof include compounds (ITS-1) to (ITS-12) described in paragraph “0026” of EP 1,211,093.

以下に、一般式(YA)及び(YB)で表されるビスフェノール化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。   Although the specific example of the bisphenol compound represented by general formula (YA) and (YB) below is shown, this invention is not limited to these.

Figure 2008180863
Figure 2008180863

Figure 2008180863
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一般式(YA)の化合物(ヒンダードフェノール化合物、一般式(YB)の化合物も含まれる)の添加量は、通常、銀1モル当たり0.00001〜0.01モルであり、好ましくは0.0005〜0.01モル、より好ましくは0.001〜0.008モルである。   The addition amount of the compound of the general formula (YA) (including hindered phenol compounds and compounds of the general formula (YB)) is usually 0.00001 to 0.01 mol, preferably 0. 0005 to 0.01 mol, more preferably 0.001 to 0.008 mol.

また、黄色発色性ロイコ染料の一般式(RD1)、(RD2)で表される還元剤の総和に対する添加量比は、モル比で0.001〜0.2であることが好ましく、0.005〜0.1であることがより好ましい。本発明に係る熱現像感光材料は、黄色発色性ロイコ染料により形成される色素像の極大吸収波長における最高濃度の総和を0.01以上0.50以下とするのが好ましい。より好ましくは0.02以上0.30以下、特に0.03以上0.10以下を有するように発色させることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the addition amount ratio with respect to the sum total of the reducing agent represented by general formula (RD1) and (RD2) of yellow coloring leuco dye is 0.001-0.2 in molar ratio, 0.005 More preferably, it is -0.1. In the photothermographic material according to the invention, the sum of the maximum densities at the maximum absorption wavelength of a dye image formed with a yellow color-forming leuco dye is preferably 0.01 or more and 0.50 or less. More preferably, the color is developed so as to have 0.02 or more and 0.30 or less, particularly 0.03 or more and 0.10 or less.

(シアン発色性ロイコ染料)
本発明に係る熱現像感光材料は、上記の黄色発色性ロイコ染料のほかに、シアン発色性ロイコ染料も使用して色調を調整することが好ましい。
(Cyan coloring leuco dye)
The photothermographic material according to the invention preferably adjusts the color tone by using a cyan coloring leuco dye in addition to the yellow coloring leuco dye.

シアン発色性ロイコ染料としては、好ましくは、約80〜200℃の温度で約0.5〜30秒間加熱した時に、酸化されて着色形態になる何れの無色又は僅かに着色した化合物でよい。還元剤の酸化体等により酸化して色素を形成する何れのロイコ染料を用いることもできる。pH感受性を有し、かつ着色状態に酸化できる化合物は有用である。   The cyan color-forming leuco dye is preferably any colorless or slightly colored compound that is oxidized to a colored form when heated at a temperature of about 80-200 ° C. for about 0.5-30 seconds. Any leuco dye that is oxidized by an oxidant of a reducing agent to form a pigment can be used. Compounds that are pH sensitive and can be oxidized to a colored state are useful.

本発明において、特にシアン発色性ロイコ染料として好ましく用いられるのは、酸化されることにより600〜700nmの吸光度が増加する色像形成剤である。これらの化合物としては例えば、特開昭59−206831号(特にλmaxが600〜700nmの範囲内にある化合物)、特開平5−204087号の一般式(I)〜一般式(IV)の化合物(具体的には段落「0032」〜「0037」に記載の(1)〜(18)の化合物)及び特開平11−231460号の一般式4〜一般式7の化合物(具体的には段落「0105」に記載されるNo.1〜No.79の化合物)が挙げられる。   In the present invention, a color image forming agent whose absorbance at 600 to 700 nm is increased by oxidation is particularly preferably used as a cyan color-forming leuco dye. Examples of these compounds include compounds of general formula (I) to general formula (IV) described in JP-A-59-206831 (particularly compounds having λmax in the range of 600 to 700 nm) and JP-A-5-204087. Specifically, the compounds of (1) to (18) described in paragraphs “0032” to “0037”) and compounds of general formulas 4 to 7 in JP-A No. 11-231460 (specifically, paragraph “0105”). No. 1 to No. 79 compounds).

次にシアン発色性ロイコ染料の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Next, specific examples of the cyan color-forming leuco dye will be shown, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2008180863
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Figure 2008180863
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シアン発色性ロイコ染料の添加量は、通常0.00001〜0.05モル/Ag1モルであり、好ましくは0.0005〜0.02モル/Ag1モル、より好ましくは0.001〜0.01モル/Ag1モルである。シアン発色性ロイコ染料の一般式(RD1)、一般式(RD2)で表される還元剤の総和に対する添加量比は、モル比で0.001〜0.2であることが好ましく、0.005〜0.1であることがより好ましい。   The addition amount of the cyan coloring leuco dye is usually 0.00001 to 0.05 mol / Ag1 mol, preferably 0.0005 to 0.02 mol / Ag1 mol, more preferably 0.001 to 0.01 mol. / Ag1 mol. The addition ratio of the cyan coloring leuco dye to the sum of the reducing agents represented by the general formulas (RD1) and (RD2) is preferably 0.001 to 0.2 in terms of molar ratio, and 0.005. More preferably, it is -0.1.

本発明に係る熱現像感光材料は、シアンロイコ染料により形成される色素像の極大吸収波長における最高濃度の総和を0.01以上0.50以下とするのが好ましい。より好ましくは0.02以上0.30以下、特に0.03以上0.10以下を有するように発色させることが好ましい。   In the photothermographic material according to the invention, the sum of the maximum densities at the maximum absorption wavelength of a dye image formed with a cyan leuco dye is preferably 0.01 or more and 0.50 or less. More preferably, the color is developed so as to have 0.02 or more and 0.30 or less, particularly 0.03 or more and 0.10 or less.

本発明においては、上記のシアン発色性ロイコ染料に加えてマゼンタ発色性ロイコ染料または黄色発色性ロイコ染料を併用することでさらに微妙な色調の調整を可能とすることができる。   In the present invention, a subtle color tone can be adjusted by using a magenta color developing leuco dye or a yellow color developing leuco dye in addition to the cyan color developing leuco dye.

一般式(YA)および(YB)で表される化合物及びシアン発色性ロイコ染料の添加方法としては、一般式(RD1)で表される還元剤の添加方法と同様な方法で添加することができる。例えば、溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態等、任意の方法で塗布液に含有せしめ、熱現像感光材料に含有させてよい。   As a method for adding the compounds represented by the general formulas (YA) and (YB) and the cyan color-forming leuco dye, they can be added in the same manner as the method for adding the reducing agent represented by the general formula (RD1). . For example, it may be contained in the coating solution by any method such as a solution form, an emulsified dispersion form, a solid fine particle dispersion form, etc., and may be contained in the photothermographic material.

一般式(RD1)、(RD2)、一般式(YA)、(YB)の化合物及びシアン発色性ロイコ染料は、有機銀塩を含有する感光性層(画像形成層)に含有させることが好ましいい。一方を感光性層に、他方を該感光性層に隣接する非感光性層に含有させてもよく、両者を非感光性層に含有させてもよい。又、感光性層が複数層で構成されている場合には、それぞれ別層に含有させてもよい。   The compounds of the general formulas (RD1), (RD2), general formulas (YA) and (YB) and the cyan color-forming leuco dye are preferably contained in a photosensitive layer (image forming layer) containing an organic silver salt. Good. One may be contained in the photosensitive layer and the other may be contained in the non-photosensitive layer adjacent to the photosensitive layer, or both may be contained in the non-photosensitive layer. When the photosensitive layer is composed of a plurality of layers, they may be contained in separate layers.

(バインダー)
本発明に係る熱現像感光材料においては、本発明に係る感光性層及び非感光性層に種々の目的でバインダーを含有させることができる。
(binder)
In the photothermographic material according to the present invention, the photosensitive layer and the non-photosensitive layer according to the present invention can contain a binder for various purposes.

本発明に係る感光性層に含まれるバインダーは、有機銀塩、ハロゲン化銀粒子、還元剤、その他の成分を担持しうるものであり、好適なバインダーは、透明又は半透明で、一般に無色である。天然ポリマーや合成ポリマー、及びコポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば、特開2001−330918号の段落「0069」に記載のものが挙げられる。   The binder contained in the photosensitive layer according to the present invention can carry an organic silver salt, silver halide grains, a reducing agent, and other components. Suitable binders are transparent or translucent and generally colorless. is there. Examples thereof include natural polymers, synthetic polymers, copolymers, and other media for forming a film, for example, those described in paragraph “0069” of JP-A No. 2001-330918.

これらの内、当該感光性層に好ましいバインダーはポリビニルアセタール類であり、特に好ましくはポリビニルブチラールである。これらについては詳しく後述する。   Among these, preferred binders for the photosensitive layer are polyvinyl acetals, and particularly preferred is polyvinyl butyral. These will be described in detail later.

又、上塗り層や下塗り層、特に保護層やバックコート層等の非感光性層に対しては、より軟化温度の高いポリマーであるセルロースエステル類、特にトリアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート等のポリマーが好ましい。尚、必要に応じて、上記のバインダーは2種以上を組み合わせて用い得る。   In addition, for non-photosensitive layers such as overcoat layers and undercoat layers, especially protective layers and backcoat layers, cellulose esters which are polymers having a higher softening temperature, particularly polymers such as triacetyl cellulose and cellulose acetate butyrate. Is preferred. In addition, as needed, said binder can be used in combination of 2 or more type.

バインダーには−COOM、−SO3M、−OSO3M、−P=O(OM)2、−O−P=O(OM)2、−N(R)2、−N+(R)3(Mは水素原子、又はアルカリ金属塩基、Rは炭化水素基を表す)、エポキシ基、−SH、−CN等から選ばれる少なくとも一つ以上の極性基を共重合又は付加反応で導入したものを用いることが好ましく、特に−SO3M、−OSO3M、が好ましい。この様な極性基の量は、1×10-1〜1×10-8モル/gであり、好ましくは1×10-2〜1×10-6モル/gである。 The binder -COOM, -SO 3 M, -OSO 3 M, -P = O (OM) 2, -O-P = O (OM) 2, -N (R) 2, -N + (R) 3 ( M represents a hydrogen atom or an alkali metal base, R represents a hydrocarbon group), and at least one polar group selected from an epoxy group, —SH, —CN, etc. is introduced by copolymerization or addition reaction. In particular, —SO 3 M and —OSO 3 M are preferable. The amount of such a polar group is 1 × 10 −1 to 1 × 10 −8 mol / g, preferably 1 × 10 −2 to 1 × 10 −6 mol / g.

この様なバインダーは、バインダーとして機能するのに効果的な範囲で用いられる。   Such a binder is used in an effective range to function as a binder.

効果的な範囲は当業者が容易に決定し得る。例えば、感光性層(画像形成層)において少なくとも有機銀塩を保持する場合の指標としては、バインダーと有機銀塩との割合は15:1〜1:2(質量比)が好ましく、特に8:1〜1:1の範囲が好ましい。即ち、感光性層のバインダー量が1.5〜6g/m2であることが好ましく、更に好ましくは1.7〜5g/m2である。1.5g/m2未満では未露光部の濃度が大幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。 The effective range can be easily determined by one skilled in the art. For example, as an index for holding at least the organic silver salt in the photosensitive layer (image forming layer), the ratio of the binder to the organic silver salt is preferably 15: 1 to 1: 2 (mass ratio), and particularly 8: A range of 1-1: 1 is preferred. That is, it is preferable that the binder amount of the photosensitive layer is a 1.5~6g / m 2, more preferably from 1.7~5g / m 2. If it is less than 1.5 g / m 2 , the density of the unexposed area is significantly increased and may not be used.

本発明で用いるバインダーのガラス転移温度(Tg)は、70〜105℃であることが好ましい。Tgは示差走査熱量計で測定して求めることができ、ベースラインと吸熱ピークの傾きとの交点をTgとする。本発明におけるTgは、ブランドラップ等による「重合体ハンドブック」III−139〜179頁(1966年,ワイリーアンドサン社版)に記載の方法で求めたものである。   The glass transition temperature (Tg) of the binder used in the present invention is preferably 70 to 105 ° C. Tg can be obtained by measuring with a differential scanning calorimeter, and the intersection of the baseline and the endothermic peak slope is defined as Tg. Tg in the present invention is determined by the method described in “Polymer Handbook” III-139-179 (1966, Wiley and Sun, Inc.) by Brand Wrap et al.

バインダーが共重合体樹脂である場合のTgは下記の式で求められる。   Tg when the binder is a copolymer resin is obtained by the following formula.

Tg(共重合体)(℃)=v1Tg1+v2Tg2+・・・+vnTgn
式中、v1、v2・・・vnは共重合体中の単量体の質量分率を表し、Tg1、Tg2・・・Tgnは共重合体中の各単量体から得られる単一重合体のTg(℃)を表す。上式に従って計算されたTgの精度は±5℃である。
Tg (copolymer) (° C.) = V 1 Tg 1 + v 2 Tg 2 +... + V n Tg n
Wherein, v 1, v 2 ··· v n represents the mass fraction of the monomer in the copolymer, Tg 1, Tg 2 ··· Tg n from each monomer in the copolymer Tg (° C.) of the obtained single polymer is represented. The accuracy of Tg calculated according to the above equation is ± 5 ° C.

Tgが70〜105℃のバインダーを用いると、画像形成において十分な最高濃度が得ることができ好ましい。   Use of a binder having a Tg of 70 to 105 ° C. is preferable because a sufficient maximum density can be obtained in image formation.

本発明に係るバインダーとしては、Tgが70〜105℃、数平均分子量が1,000〜1,000,000、好ましくは10,000〜500,000、重合度が約50〜1,000程度のものである。又、エチレン性不飽和モノマーを構成単位として含む重合体又は共重合体については、特開2001−330918号の段落番号「0069」に記載のものが挙げられる。   The binder according to the present invention has a Tg of 70 to 105 ° C., a number average molecular weight of 1,000 to 1,000,000, preferably 10,000 to 500,000, and a degree of polymerization of about 50 to 1,000. Is. Examples of the polymer or copolymer containing an ethylenically unsaturated monomer as a constituent unit include those described in paragraph No. “0069” of JP-A No. 2001-330918.

これらの内、特に好ましい例としては、メタクリル酸アルキルエステル類、メタクリル酸アリールエステル類、スチレン類等が挙げられる。この様な高分子化合物の中でも、アセタール基を持つ高分子化合物を用いることが好ましい。アセタール基を持つ高分子化合物でも、アセトアセタール構造を持つポリビニルアセタールであることがより好ましく、例えば米国特許2,358,836号、同3,003,879号、同2,828,204号、英国特許771,155号等に示されるポリビニルアセタールを挙げることができる。   Of these, particularly preferred examples include methacrylic acid alkyl esters, methacrylic acid aryl esters, and styrenes. Among such polymer compounds, a polymer compound having an acetal group is preferably used. Even a polymer compound having an acetal group is more preferably a polyvinyl acetal having an acetoacetal structure, for example, U.S. Pat. Nos. 2,358,836, 3,003,879, 2,828,204, UK The polyvinyl acetal shown by patent 771,155 etc. can be mentioned.

アセタール基を持つ高分子化合物としては、特開2002−287299号公報の[150]に記載の一般式(V)で表される化合物が、特に好ましい。   As the polymer compound having an acetal group, a compound represented by the general formula (V) described in [150] of JP-A No. 2002-287299 is particularly preferable.

本発明で用いることのできるポリウレタン樹脂としては、構造がポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタン等公知のものが使用できる。又、ポリウレタン分子末端に少なくとも1個ずつ、合計2個以上のヒドロキシル基を有することが好ましい。ヒドロキシル基は、硬化剤であるポリイソシアネートと架橋して3次元の網状構造を形成するので、分子中に多数含むほど好ましい。特に、ヒドロキシル基が分子末端にある方が、硬化剤との反応性が高いので好ましい。ポリウレタンは、分子末端にヒドロキシル基を3個以上有することが好ましく、4個以上有することが特に好ましい。本発明において、ポリウレタンを用いる場合は、Tgが70〜105℃、破断伸びが100〜2000%、破断応力は0.5〜100N/mm2が好ましい。 As the polyurethane resin that can be used in the present invention, known resins such as polyester polyurethane, polyether polyurethane, polyether polyester polyurethane, polycarbonate polyurethane, polyester polycarbonate polyurethane, and polycaprolactone polyurethane can be used. Moreover, it is preferable to have a total of 2 or more hydroxyl groups, at least one at each polyurethane molecule end. Since hydroxyl groups are cross-linked with polyisocyanate which is a curing agent to form a three-dimensional network structure, it is more preferable that the hydroxyl groups are contained in the molecule. In particular, it is preferable that the hydroxyl group is at the molecular end because the reactivity with the curing agent is high. The polyurethane preferably has 3 or more hydroxyl groups at the molecular terminals, and particularly preferably 4 or more. In the present invention, when polyurethane is used, Tg is preferably 70 to 105 ° C., elongation at break is 100 to 2000%, and stress at break is preferably 0.5 to 100 N / mm 2 .

これらの高分子化合物(ポリマー)は単独で用いてもよいし、2種類以上をブレンドして用いてもよい。   These polymer compounds (polymers) may be used alone or in a blend of two or more.

本発明に係る感光性層には上記ポリマーを主バインダーとして用いることが好ましい。ここで言う主バインダーとは、「感光性層の全バインダーの50質量%以上を上記ポリマーが占めている状態」をいう。従って、全バインダーの50質量%未満の範囲で他のポリマーをブレンドして用いてもよい。これらのポリマーとしては、本発明に係るポリマーと任意に混合可能なポリマーであれば特に制限はない。より好ましくは、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。   In the photosensitive layer according to the present invention, the above polymer is preferably used as a main binder. The main binder mentioned here means “a state in which the polymer occupies 50% by mass or more of the total binder of the photosensitive layer”. Therefore, other polymers may be blended and used within a range of less than 50% by weight of the total binder. These polymers are not particularly limited as long as they can be arbitrarily mixed with the polymer according to the present invention. More preferably, a polyvinyl acetate, a polyacryl resin, a urethane resin, etc. are mentioned.

感光性層に有機性ゲル化剤を含有せしめてもよい。尚、ここで言う有機性ゲル化剤とは、例えば多価アルコール類のように、有機液体に添加することにより、その系に降伏値を付与し、系の流動性を消失あるいは低下させる機能を有する化合物を言う。   An organic gelling agent may be contained in the photosensitive layer. Incidentally, the organic gelling agent referred to here has a function of giving a yield value to the system by adding it to an organic liquid, such as polyhydric alcohols, and eliminating or reducing the fluidity of the system. The compound which has.

感光性層用塗布液が水性分散されたポリマーラテックスを含有するのも好ましい態様である。この場合、感光性層用塗布液中の全バインダーの50質量%以上が水性分散されたポリマーラテックスであることが好ましい。又、感光性層の調製においてポリマーラテックスを使用した場合、感光性層中の全バインダーの50質量%以上がポリマーラテックス由来のポリマーであることが好ましく、更に好ましくは70質量%以上である。   It is also a preferred embodiment that the photosensitive layer coating solution contains an aqueous dispersed polymer latex. In this case, a polymer latex in which 50% by mass or more of the total binder in the coating solution for the photosensitive layer is dispersed in water is preferable. Further, when a polymer latex is used in the preparation of the photosensitive layer, 50% by mass or more of the total binder in the photosensitive layer is preferably a polymer latex-derived polymer, and more preferably 70% by mass or more.

ここで、ポリマーラテックスとは、水不溶性の疎水性ポリマーが微細な粒子として水溶性の分散媒中に分散したものである。分散状態としてはポリマーが分散媒中に乳化されているもの、乳化重合されたもの、ミセル分散されたもの、あるいはポリマー分子中に部分的に親水的な構造を持ち、分子鎖自身が分子状分散したもの等、何れでもよい。分散粒子の平均粒径は1〜50,000nmが好ましく、より好ましくは5〜1,000nm程度の範囲である。分散粒子の粒径分布に関しては特に制限はなく、広い粒径分布を持つものでも、単分散の粒径分布を持つものでもよい。   Here, the polymer latex is a water-insoluble hydrophobic polymer dispersed as fine particles in a water-soluble dispersion medium. As the dispersion state, the polymer is emulsified in a dispersion medium, the emulsion is polymerized, the micelle is dispersed, or the polymer molecule has a partially hydrophilic structure, and the molecular chain itself is molecularly dispersed. Any of these may be used. The average particle diameter of the dispersed particles is preferably 1 to 50,000 nm, more preferably in the range of about 5 to 1,000 nm. The particle size distribution of the dispersed particles is not particularly limited, and may have a wide particle size distribution or a monodispersed particle size distribution.

本発明に係る熱現像感光材料に用いることができるポリマーラテックスとしては、通常の均一構造のポリマーラテックス以外、所謂コア/シェル型のラテックスでもよい。この場合、コアとシェルはTgを変えると好ましい場合がある。本発明に係るポリマーラテックスの最低造膜温度(MFT)は、−30〜90℃であることが好ましく、更に好ましくは0〜70℃程度である。又、最低造膜温度をコントロールするために造膜助剤を添加してもよい。   The polymer latex that can be used in the photothermographic material according to the invention may be a so-called core / shell type latex in addition to a normal polymer latex having a uniform structure. In this case, it may be preferable to change the Tg of the core and the shell. The minimum film-forming temperature (MFT) of the polymer latex according to the present invention is preferably -30 to 90 ° C, more preferably about 0 to 70 ° C. In addition, a film-forming auxiliary may be added to control the minimum film-forming temperature.

上記造膜助剤は可塑剤とも呼ばれ、ポリマーラテックスの最低造膜温度を低下させる有機化合物(通常、有機溶媒)であり、例えば「合成ラテックスの化学(室井宗一著,高分子刊行会発行,1970)」に記載されている。   The film-forming aid, also called a plasticizer, is an organic compound (usually an organic solvent) that lowers the minimum film-forming temperature of polymer latex. For example, “Synthetic Latex Chemistry (Souichi Muroi, published by Polymer Publishing Co., Ltd.) , 1970).

ポリマーラテックスに用いられるポリマー種としてはアクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴム系樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹脂、又はこれらの共重合体等がある。ポリマーとしては、直鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーでも、又、架橋されたポリマーでもよい。又、ポリマーとしては、単一のモノマーが重合した所謂ホモポリマーでもよいし、2種以上のモノマーが重合したコポリマーでもよい。コポリマーの場合は、ランダムコポリマーでもブロックコポリマーでもよい。ポリマーの分子量は、数平均分子量で、通常、5,000〜1,000,000、好ましくは10,000〜100,000程度である。分子量が小さすぎるものは感光性層の力学強度が不十分であり、大きすぎるものは製膜性が悪く、共に好ましくない。   Examples of the polymer species used for the polymer latex include acrylic resins, vinyl acetate resins, polyester resins, polyurethane resins, rubber resins, vinyl chloride resins, vinylidene chloride resins, polyolefin resins, and copolymers thereof. The polymer may be a linear polymer, a branched polymer, or a crosslinked polymer. The polymer may be a so-called homopolymer in which a single monomer is polymerized or a copolymer in which two or more monomers are polymerized. In the case of a copolymer, it may be a random copolymer or a block copolymer. The molecular weight of the polymer is a number average molecular weight and is usually about 5,000 to 1,000,000, preferably about 10,000 to 100,000. When the molecular weight is too small, the mechanical strength of the photosensitive layer is insufficient, and when the molecular weight is too large, the film forming property is poor and both are not preferable.

ポリマーラテックスは、25℃・60%RH(相対湿度)での平衡含水率が0.01〜2質量%以下のものが好ましく、更に好ましくは、0.01〜1質量%のものである。平衡含水率の定義と測定法については、例えば「高分子工学講座14,高分子材料試験法(高分子学会編、地人書館)」等を参考にすることができる。   The polymer latex preferably has an equilibrium water content of 0.01 to 2% by mass or less, more preferably 0.01 to 1% by mass at 25 ° C. and 60% RH (relative humidity). For the definition and measurement method of the equilibrium moisture content, for example, “Polymer Engineering Course 14, Polymer Material Testing Method (Edited by Polymer Society, Jinshokan)” can be referred to.

ポリマーラテックスの具体例としては、特開2002−287299号公報の「0173」に記載の各ラテックスが挙げられる。これらのポリマーは単独で用いてもよいし、必要に応じて2種以上ブレンドして用いてもよい。ポリマーラテックスのポリマー種としては、アクリレート又はメタクリレート成分の如きカルボン酸成分を0.1〜10質量%程度含有するものが好ましい。   Specific examples of the polymer latex include each latex described in “0173” of JP-A No. 2002-287299. These polymers may be used alone or in combination of two or more as required. As a polymer seed | species of a polymer latex, what contains about 0.1-10 mass% of carboxylic acid components, such as an acrylate or a methacrylate component, is preferable.

更に、必要に応じて全バインダーの50質量%以下の範囲でゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース等の親水性ポリマーを添加してもよい。これらの親水性ポリマーの添加量は前記感光性層の全バインダーの30質量%以下が好ましい。   Furthermore, if necessary, a hydrophilic polymer such as gelatin, polyvinyl alcohol, methyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, carboxymethyl cellulose, hydroxypropyl methyl cellulose or the like may be added within a range of 50% by mass or less of the total binder. The addition amount of these hydrophilic polymers is preferably 30% by mass or less based on the total binder of the photosensitive layer.

感光性層用塗布液の調製における有機銀塩と水性分散されたポリマーラテックスの添加の順序については、何れを先に添加してもよいし、同時に添加してもよいが、好ましくはポリマーラテックスが後である。   Regarding the order of addition of the organic silver salt and the aqueous dispersed polymer latex in the preparation of the coating solution for the photosensitive layer, any of them may be added first or simultaneously, but preferably the polymer latex is used. Later.

更に、ポリマーラテックス添加前に有機銀塩、更には還元剤が混合されていることが好ましい。又、有機銀塩とポリマーラテックスを混合した後、経時させる温度が低すぎると塗布面状が損なわれ、高すぎるとカブリが上昇する問題があるので、混合後の塗布液は30〜65℃で上記時間経時されることが好ましい。更には、35〜60℃で経時されることが好ましく、特に35〜55℃での経時が好ましい。この様に温度を維持するには、塗布液の調液槽等を保温すればよい。   Furthermore, it is preferable that an organic silver salt and further a reducing agent are mixed before adding the polymer latex. In addition, after mixing the organic silver salt and the polymer latex, if the temperature to be aged is too low, the coated surface shape is impaired, and if it is too high, there is a problem that fog increases, so the coating solution after mixing is 30 to 65 ° C. It is preferable that the above time is elapsed. Furthermore, it is preferable to be aged at 35 to 60 ° C, and a time at 35 to 55 ° C is particularly preferable. In order to maintain the temperature in this way, it is sufficient to keep the temperature of the coating solution preparation tank or the like.

感光性層用塗布液の塗布は、有機銀塩と水性分散されたポリマーラテックスを混合した後、30分〜24時間経過した塗布液を用いるのが好ましい。更に好ましくは、混合した後、60分〜12時間経過させることであり、特に好ましくは、120分〜10時間経過した塗布液を用いることである。   For coating the photosensitive layer coating solution, it is preferable to use a coating solution that has been mixed for 30 minutes to 24 hours after mixing the organic silver salt and the aqueous-dispersed polymer latex. More preferably, after mixing, 60 minutes to 12 hours are allowed to pass, and particularly preferably, a coating liquid having passed 120 minutes to 10 hours is used.

ここで、「混合した後」とは、有機銀塩と水性分散されたポリマーラテックスを添加し、添加素材が均一に分散された後を言う。   Here, “after mixing” means after the organic silver salt and the aqueous polymer latex are added and the additive material is uniformly dispersed.

(架橋剤)
本発明に係る感光性層には、本発明に係るバインダー同士を橋かけ結合によってつなぐことができる架橋剤を含有させることができる。架橋剤を上記バインダーに対し用いることにより、膜付きが良くなり、現像ムラが少なくなることは知られているが、保存時のカブリ抑制や、現像後のプリントアウト銀の生成を抑制する効果もある。
(Crosslinking agent)
The photosensitive layer according to the present invention may contain a cross-linking agent capable of connecting the binders according to the present invention by cross-linking. By using a crosslinking agent for the binder, it is known that filming is improved and development unevenness is reduced, but there is also an effect of suppressing fogging during storage and suppressing generation of printout silver after development. is there.

用いられる架橋剤としては、従来、写真感光材料用として使用されている種々の架橋剤、例えば特開昭50−96216号に記載されるアルデヒド系、エポキシ系、エチレンイミン系、ビニルスルホン系、スルホン酸エステル系、アクリロイル系、カルボジイミド系、シラン化合物系架橋剤が用いられるが、好ましくは、以下に示すイソシアネート系、シラン化合物系、エポキシ系化合物又は酸無水物である。   Examples of the crosslinking agent to be used include various crosslinking agents conventionally used for photographic light-sensitive materials, for example, aldehyde-based, epoxy-based, ethyleneimine-based, vinylsulfone-based, sulfone described in JP-A-50-96216. Acid ester-based, acryloyl-based, carbodiimide-based, and silane compound-based crosslinking agents are used, and the following isocyanate-based, silane compound-based, epoxy-based compounds, and acid anhydrides are preferable.

イソシアネート系架橋剤は、イソシアネート基を少なくとも2個有しているイソシアネート類及びその付加体(アダクト体)であり、更に具体的には、脂肪族ジイソシアネート類、環状基を有する脂肪族ジイソシアネート類、ベンゼンジイソシアネート類、ナフタレンジイソシアネート類、ビフェニルイソシアネート類、ジフェニルメタンジイソシアネート類、トリフェニルメタンジイソシアネート類、トリイソシアネート類、テトライソシアネート類、これらのイソシアネート類の付加体及びこれらのイソシアネート類と2価又は3価のポリアルコール類との付加体等が挙げられる。具体例として、特開昭56−5535号の10〜12頁に記載されるイソシアネート化合物を利用することができる。   Isocyanate-based crosslinking agents are isocyanates having at least two isocyanate groups and adducts thereof (adducts). More specifically, aliphatic diisocyanates, aliphatic diisocyanates having a cyclic group, benzene Diisocyanates, naphthalene diisocyanates, biphenyl isocyanates, diphenylmethane diisocyanates, triphenylmethane diisocyanates, triisocyanates, tetraisocyanates, adducts of these isocyanates and divalent or trivalent polyalcohols with these isocyanates Adducts and the like. As specific examples, isocyanate compounds described on pages 10 to 12 of JP-A-56-5535 can be used.

尚、イソシアネートとポリアルコールの付加体は、特に層間接着を良くし、層の剥離や画像のズレ及び気泡の発生を防止する能力が高い。かかるイソシアネートは、熱現像感光材料のどの部分に置かれてもよい。例えば支持体中(特に支持体が紙の場合、そのサイズ組成中に含ませることができる)感光性層、表面保護層、中間層、アンチハレーション層、下引層等の支持体の感光性層側の任意の層に添加でき、これらの層の中の1層又は2層以上に添加することができる。   In addition, the adduct of isocyanate and polyalcohol has particularly high ability to improve interlayer adhesion and prevent layer peeling, image shift and bubble generation. Such isocyanate may be placed in any part of the photothermographic material. For example, the photosensitive layer of the support such as a photosensitive layer, a surface protective layer, an intermediate layer, an antihalation layer, an undercoat layer in the support (especially when the support is paper, it can be included in the size composition) It can be added to any layer on the side and can be added to one or more of these layers.

又、本発明に使用可能なチオイソシアネート系架橋剤としては、上記のイソシアネート類に対応するチオイソシアネート構造を有する化合物も有用である。   As the thioisocyanate-based crosslinking agent that can be used in the present invention, compounds having a thioisocyanate structure corresponding to the above-mentioned isocyanates are also useful.

上記架橋剤の使用量は、銀1モルに対して、通常、0.001〜2モル、好ましくは0.005〜0.5モルの範囲である。   The amount of the crosslinking agent used is usually in the range of 0.001 to 2 mol, preferably 0.005 to 0.5 mol, with respect to 1 mol of silver.

本発明において含有させることができるイソシアネート化合物及びチオイソシアネート化合物は、上記の架橋剤として機能する化合物であることが好ましいが、当該官能基を1個のみ有する化合物であっても良い結果が得られる。   The isocyanate compound and thioisocyanate compound that can be contained in the present invention are preferably compounds that function as the above-mentioned crosslinking agent, but a good result can be obtained even if the compound has only one functional group.

シラン化合物の例としては、特開2001−264930号に開示されている一般式(1)〜一般式(3)で表される化合物が挙げられる。   Examples of the silane compound include compounds represented by general formulas (1) to (3) disclosed in JP-A No. 2001-264930.

又、架橋剤として使用できるエポキシ化合物としては、エポキシ基を1個以上有するものであればよく、エポキシ基の数、分子量、その他に制限はない。エポキシ基はエーテル結合やイミノ結合を介してグリシジル基として分子内に含有されることが好ましい。又、エポキシ化合物はモノマー、オリゴマー、ポリマー等の何れであってもよく、分子内に存在するエポキシ基の数は通常1〜10個程度、好ましくは2〜4個である。エポキシ化合物がポリマーである場合は、ホモポリマー、コポリマーの何れであってもよく、その数平均分子量Mnの特に好ましい範囲は2,000〜20,000程度である。   Moreover, as an epoxy compound which can be used as a crosslinking agent, what is necessary is just to have one or more epoxy groups, and there is no restriction | limiting in the number of epoxy groups, molecular weight, and others. The epoxy group is preferably contained in the molecule as a glycidyl group via an ether bond or an imino bond. The epoxy compound may be any of a monomer, an oligomer, a polymer, etc., and the number of epoxy groups present in the molecule is usually about 1 to 10, preferably 2 to 4. When the epoxy compound is a polymer, it may be either a homopolymer or a copolymer, and the number average molecular weight Mn is particularly preferably in the range of about 2,000 to 20,000.

本発明に用いられる酸無水物は、下記の構造式で示される酸無水物基を少なくとも1個有する化合物である。この様な酸無水基を1個以上有するものであればよく、酸無水基の数、分子量、その他に制限はない。   The acid anhydride used in the present invention is a compound having at least one acid anhydride group represented by the following structural formula. The number of acid anhydride groups, molecular weight, and the like are not particularly limited as long as they have one or more acid anhydride groups.

−CO−O−CO−
上記のエポキシ化合物や酸無水物は、1種のみを用いても2種以上を併用してもよい。その添加量は特に制限はないが、1×10-6〜1×10-2モル/m2の範囲が好ましく、より好ましくは1×10-5〜1×10-3モル/m2の範囲である。このエポキシ化合物や酸無水物は、感光性層、表面保護層、中間層、アンチハレーション層、下引層等の支持体の感光性層側の任意の層に添加でき、これらの層の中の1層又は2層以上に添加することができる。
-CO-O-CO-
Said epoxy compound and acid anhydride may use only 1 type, or may use 2 or more types together. The addition amount is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 × 10 −6 to 1 × 10 −2 mol / m 2 , more preferably in the range of 1 × 10 −5 to 1 × 10 −3 mol / m 2 . It is. This epoxy compound or acid anhydride can be added to any layer on the photosensitive layer side of the support, such as the photosensitive layer, surface protective layer, intermediate layer, antihalation layer, subbing layer, etc. It can be added to one layer or two or more layers.

(省銀化剤)
本発明に係る感光性層又は非感光性層には、省銀化剤を含有させることができる。ここでいう、省銀化剤とは、一定の銀画像濃度を得るために必要な銀量を低減化し得る化合物をいう。
(Silver saving agent)
The photosensitive layer or the non-photosensitive layer according to the present invention may contain a silver saving agent. As used herein, the silver saving agent refers to a compound that can reduce the amount of silver necessary to obtain a certain silver image density.

この必要な銀量を低減化する機能の作用機構は種々考えられるが、現像銀の被覆力を向上させる機能を有する化合物が好ましい。ここで、現像銀の被覆力とは、銀の単位量当たりの光学濃度をいう。この省銀化剤は感光性層又は非感光性層、更にはそのいずれにも存在せしめることができる。省銀化剤としては、ヒドラジン誘導体化合物、ビニル化合物、フェノール誘導体、ナフトール誘導体、4級オニウム化合物及びシラン化合物が好ましい例として挙げられる。   Although various mechanisms for the function of reducing the required silver amount are conceivable, a compound having a function of improving the covering power of developed silver is preferred. Here, the covering power of developed silver refers to the optical density per unit amount of silver. This silver saving agent can be present in the photosensitive layer, the non-photosensitive layer, or both. Preferred examples of the silver saving agent include hydrazine derivative compounds, vinyl compounds, phenol derivatives, naphthol derivatives, quaternary onium compounds, and silane compounds.

ヒドラジン誘導体の具体例としては、米国特許第5,545,505号明細書カラム11〜20に記載の化合物H−1〜H−29、米国特許第5,464,738号明細書カラム9〜11に記載の化合物1〜12、特開2001−27790号公報の段落「0042」〜「0052」に記載の化合物H−1−1〜H−1−28、H−2−1〜H−2−9、H−3−1〜H−3−12、H−4−1〜H−4−21、H−5−1〜H−5−5が挙げられる。   Specific examples of the hydrazine derivative include compounds H-1 to H-29 described in US Pat. No. 5,545,505, columns 11 to 20, US Pat. No. 5,464,738, columns 9 to 11. 1 to 12 described in JP-A-2001-27790, compounds H-1-1 to H-1-28 described in paragraphs “0042” to “0052”, and H-2-1 to H-2- 9, H-3-1 to H-3-12, H-4-1 to H-4-21, H-5-1 to H-5-5.

ビニル化合物の具体例としては、米国特許第5,545,515号明細書のカラム13〜14に記載の化合物CN−01〜CN−13、米国特許第5,635,339号明細書のカラム10に記載の化合物HET−01〜HET−02、米国特許第5,654,130号明細書のカラム9〜10に記載の化合物MA−01〜MA−07の化合物、米国特許第5,705,324号明細書のカラム9〜10に記載の化合物IS−01〜IS−04、特開2001−125224号公報の段落「0043」〜「0088」記載の化合物1−1〜218−2が挙げられる。   Specific examples of the vinyl compound include compounds CN-01 to CN-13 described in columns 13 to 14 of US Pat. No. 5,545,515 and column 10 of US Pat. No. 5,635,339. Compounds HET-01 to HET-02 described in US Pat. No. 5,654,130, columns MA-10 to compounds MA-01 to MA-07, US Pat. No. 5,705,324 Compounds IS-01 to IS-04 described in columns 9 to 10 of the specification, and compounds 1-1 to 218-2 described in paragraphs “0043” to “0088” of JP-A-2001-125224.

フェノール誘導体、ナフトール誘導体の具体例としては、特開2000−267222号公報の段落「0075」〜「0078」の記載の化合物A−1〜A−89、特開2003−66558号公報の段落「0025」〜「0045」に記載の化合物A−1〜A−258が挙げられる。   Specific examples of the phenol derivative and the naphthol derivative include compounds A-1 to A-89 described in paragraphs “0075” to “0078” of JP 2000-267222 A, and paragraph “0025” of JP 2003-66558 A. ”To“ 0045 ”. Examples thereof include compounds A-1 to A-258.

4級オニウム化合物の具体例としては、トリフェニルテトラゾリウムが挙げられる。   Specific examples of the quaternary onium compound include triphenyltetrazolium.

シラン化合物の具体例としては、特開2003−5324号公報の段落「0027」〜「0029」記載の化合物A1〜A33に示されるような一級または二級アミノ基を2個以上有するアルコキシシラン化合物或いはその塩が挙げられる。   Specific examples of the silane compound include alkoxysilane compounds having two or more primary or secondary amino groups as shown in compounds A1 to A33 described in paragraphs “0027” to “0029” of JP-A No. 2003-5324 or The salt is mentioned.

上記省銀化剤の添加量は有機銀塩1モルに対し1×10-5〜1モル、好ましくは1×10-4〜5×10-1モルの範囲である。 The amount of the silver saving agent added is in the range of 1 × 10 −5 to 1 mol, preferably 1 × 10 −4 to 5 × 10 −1 mol, per mol of the organic silver salt.

以下、本発明の省銀化剤の好ましい具体例を挙げる。本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereafter, the preferable specific example of the silver saving agent of this invention is given. The present invention is not limited to these.

Figure 2008180863
Figure 2008180863

(熱溶剤)
本発明に係る熱現像感光材料には熱溶剤が含まれていることが好ましい。ここで、熱溶剤とは、熱溶剤含有熱現像感光材料に対して、熱溶剤を含まない熱現像感光材料に比べて熱現像温度を1℃以上低くすることができる素材と定義する。さらに好ましくは、2℃以上熱現像温度を低くできる素材であり、特に好ましくは3℃以上低くできる素材である。例えば、素材Aを含む熱現像感光材料Aに対して、熱現像感光材料Aから該素材Aを含まない熱現像感光材料をBを作製する。熱現像感光材料Bを露光し熱現像温度120℃、熱現像時間20秒で処理して得られる濃度を、熱現像感光材料Aで同一露光量、熱現像時間で得るための熱現像温度が119℃以下になる場合、熱現像感光材料Aに添加した素材Aが熱溶剤である。
(Thermal solvent)
The photothermographic material according to the invention preferably contains a thermal solvent. Here, the thermal solvent is defined as a material capable of lowering the thermal development temperature by 1 ° C. or more compared to the thermal development photosensitive material containing no thermal solvent with respect to the thermal solvent-containing thermal development photosensitive material. More preferred are materials that can lower the heat development temperature by 2 ° C. or more, and particularly preferred are materials that can be lowered by 3 ° C. or more. For example, for the photothermographic material A containing the material A, a photothermographic material B not containing the material A is prepared from the photothermographic material A. The photothermographic temperature for obtaining the density obtained by exposing the photothermographic material B to the photothermographic material A at a heat development temperature of 120 ° C. and a heat development time of 20 seconds with the same exposure amount and heat development time is 119. When the temperature is not higher than ° C., the material A added to the photothermographic material A is a thermal solvent.

熱溶剤は極性基を置換基として有しており、一般式(TS)で表されるのが好ましいが、これらに限定されるものではない。   The thermal solvent has a polar group as a substituent and is preferably represented by the general formula (TS), but is not limited thereto.

一般式(TS)
(Y)n
一般式(TS)において、Yはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表す。Zはヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、アミド基、スルホンアミド基、リン酸アミド基、シアノ基、イミド、ウレイド、スルホキシド、スルホン、ホスフィン、ホスフィンオキシドまたは含窒素複素環基から選ばれる基を表す。nは1ないし3の整数を表し、Zが1価の基である場合には1、Zが2価以上の基である場合にはZの価数と同一である。nが2以上の場合、複数のYは同一であっても異なっていても良い。
General formula (TS)
(Y) n Z
In General Formula (TS), Y represents an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. Z represents a group selected from a hydroxy group, carboxy group, amino group, amide group, sulfonamide group, phosphoric acid amide group, cyano group, imide, ureido, sulfoxide, sulfone, phosphine, phosphine oxide or nitrogen-containing heterocyclic group. . n represents an integer of 1 to 3, which is 1 when Z is a monovalent group, and is the same as the valence of Z when Z is a divalent or higher group. When n is 2 or more, the plurality of Y may be the same or different.

Yは更に置換基を有していても良く、置換基としてZで表される基を有していても良い。Yについてさらに詳しく説明する。一般式(TS)において、Yは直鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜40、より好ましくは1〜30、特に好ましくは1〜25であり、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、iso−プロピル、sec−ブチル、t−ブチル、t−オクチル、n−アミル、t−アミル、n−ドデシル、n−トリデシル、オクタデシル、イコシル、ドコシル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜40、より好ましくは2〜30、特に好ましくは2〜25であり、例えば、ビニル、アリル、2−ブテニル、3−ペンテニルなどが挙げられる。)、アリール基(好ましくは炭素数6〜40、より好ましくは6〜30、特に好ましくは6〜25であり、例えば、フェニル、p−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。)、複素環基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは2〜16、特に好ましくは2〜12であり、例えば、ピリジル、ピラジル、イミダゾイル、ピロリジルなどが挙げられる。)を表す。これらの置換基はさらに他の置換基で置換されていても良い。また、これらの置換基は互いに結合して、環を形成していても良い。   Y may further have a substituent, and may have a group represented by Z as a substituent. Y will be described in more detail. In general formula (TS), Y is a linear, branched or cyclic alkyl group (preferably having 1 to 40 carbon atoms, more preferably 1 to 30 carbon atoms, particularly preferably 1 to 25 carbon atoms such as methyl, ethyl, n -Propyl, iso-propyl, sec-butyl, t-butyl, t-octyl, n-amyl, t-amyl, n-dodecyl, n-tridecyl, octadecyl, icosyl, docosyl, cyclopentyl, cyclohexyl and the like. An alkenyl group (preferably having 2 to 40 carbon atoms, more preferably 2 to 30 carbon atoms, particularly preferably 2 to 25 carbon atoms such as vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl, etc.), an aryl group (Preferably having 6 to 40 carbon atoms, more preferably 6 to 30 carbon atoms, particularly preferably 6 to 25 carbon atoms such as phenyl and p-methyl. Phenyl, naphthyl, etc.), heterocyclic groups (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms such as pyridyl, pyrazyl, imidazolyl, pyrrolidyl, etc. Represents.). These substituents may be further substituted with other substituents. These substituents may be bonded to each other to form a ring.

Yは更に置換基を有していても良く、置換基の例としては、特開2004−21068号公報の「0015」に記載の置換基が挙げられる。熱溶剤を使用することにより現像活性となる理由としては、熱溶剤が現像温度付近で溶融することにより現像に関与する物質と相溶し、熱溶剤を添加しないときよりも低い温度での反応を可能としているためと考えられる。熱現像は、比較的極性の高いカルボン酸や銀イオン輸送体が関与している還元反応であるため、極性基を有している熱溶剤により適度の極性を有する反応場を形成することが好ましい。   Y may further have a substituent, and examples of the substituent include those described in “0015” of JP-A No. 2004-21068. The reason why development activity is achieved by using a thermal solvent is that the thermal solvent melts near the development temperature, so that it is compatible with substances involved in development, and a reaction at a lower temperature than when no thermal solvent is added. This is thought to be possible. Since heat development is a reduction reaction involving a carboxylic acid having a relatively high polarity or a silver ion transporter, it is preferable to form a reaction field having an appropriate polarity with a thermal solvent having a polar group. .

本発明に好ましく用いられる熱溶剤の融点は50℃以上200℃以下であるが、より好ましくは60℃以上150℃以下である。特に、本発明の目的であるような、画像保存性などの外的環境に対しての安定性を重視した熱現像感光材料では、融点が100℃以上150℃以下の熱溶剤が好ましい。   The melting point of the thermal solvent preferably used in the present invention is 50 ° C. or more and 200 ° C. or less, more preferably 60 ° C. or more and 150 ° C. or less. In particular, in a photothermographic material that emphasizes stability to an external environment such as image storage stability, which is the object of the present invention, a heat solvent having a melting point of 100 ° C. or higher and 150 ° C. or lower is preferable.

熱溶剤の具体例としては特開2004−21068号公報の「0017」に記載される化合物、米国公開特許US2002/0025498号公報の「0027」に記載の化合物、MF−1〜MF−3、MF6、MF−7、MF−9〜MF−12、MF−15〜MF−22を挙げることができる。   Specific examples of the thermal solvent include compounds described in “0017” of JP-A No. 2004-21068, compounds described in “0027” of US 2002/0025498, MF-1 to MF-3, and MF6. MF-7, MF-9 to MF-12, MF-15 to MF-22.

本発明において熱溶剤の添加量は0.01〜5.0g/m2であることが好ましく、より好ましくは0.05〜2.5g/m2で、さらに好ましくは0.1〜1.5g/m2である。熱溶剤は感光性層に含有させることが好ましい。また、上記熱溶剤は単独で用いてもよいが、2種以上を組み合わせて用いてもよい。本発明において熱溶剤は溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態など、いかなる方法で塗布液に含有せしめ、熱現像感光材料に含有させてもよい。 Preferably the added amount of thermal solvent is 0.01~5.0g / m 2 in the present invention, more preferably 0.05~2.5g / m 2, more preferably 0.1~1.5g / M 2 . The thermal solvent is preferably contained in the photosensitive layer. Moreover, although the said thermal solvent may be used independently, you may use it in combination of 2 or more type. In the present invention, the thermal solvent may be contained in the coating solution by any method such as a solution form, an emulsified dispersion form, or a solid fine particle dispersion form, and may be contained in the photothermographic material.

よく知られている乳化分散法としては、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製する方法が挙げられる。   Well-known emulsifying dispersion methods include dissolving oil using an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, or an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and mechanically dispersing the emulsified dispersion. The method of producing is mentioned.

また、固体微粒子分散法としては、熱溶剤の粉末を水等の適当な溶媒中にボールミル、コロイドミル、振動ボールミル、サンドミル、ジェットミル、ローラミルあるいは超音波によって分散し、固体分散物を作製する方法が挙げられる。尚、その際に保護コロイド(例えば、ポリビニルアルコール)、界面活性剤(例えばトリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム(3つのイソプロピル基の置換位置が異なるものの混合物)などのアニオン性界面活性剤)を用いてもよい。上記ミル類では分散媒体としてジルコニア等のビーズが使われるのが普通であり、これらのビーズから溶出するZr等が分散物中に混入することがある。分散条件にもよるが通常は1ppm〜1000ppmの範囲である。感材中のZrの含有量が銀1g当たり0.5mg以下であれば実用上差し支えない。水分散物には防腐剤(例えばベンゾイソチアゾリノンナトリウム塩)を含有させることが好ましい。   The solid fine particle dispersion method is a method of producing a solid dispersion by dispersing a hot solvent powder in a suitable solvent such as water by a ball mill, a colloid mill, a vibration ball mill, a sand mill, a jet mill, a roller mill or ultrasonic waves. Is mentioned. In this case, a protective colloid (for example, polyvinyl alcohol) or a surfactant (for example, an anionic surfactant such as sodium triisopropylnaphthalenesulfonate (a mixture of three isopropyl groups having different substitution positions)) may be used. Good. In the mills, beads such as zirconia are usually used as a dispersion medium, and Zr and the like eluted from these beads may be mixed in the dispersion. Although it depends on the dispersion conditions, it is usually in the range of 1 ppm to 1000 ppm. If the Zr content in the light-sensitive material is 0.5 mg or less per 1 g of silver, there is no practical problem. The aqueous dispersion preferably contains a preservative (for example, benzoisothiazolinone sodium salt).

(カブリ防止及び画像安定化剤)
本発明に係る熱現像感光材料のいずれかの構成層には、熱現像前の保存時におけるカブリ発生を防止するためのカブリ防止剤、及び熱現像後における画像の劣化を防止するための画像安定化剤を含有させておくことが好ましい。
(Anti-fogging and image stabilizer)
In any of the constituent layers of the photothermographic material according to the present invention, an antifoggant for preventing fogging during storage before thermal development, and image stabilization for preventing image deterioration after thermal development are provided. It is preferable to contain an agent.

本発明に係る熱現像感光材料に用いることができるカブリ防止及び画像安定化剤について説明する。   The antifogging and image stabilizer that can be used in the photothermographic material according to the invention will be described.

本発明に係る還元剤として、主にビスフェノール類やスルホンアミドフェノール類のようなプロトンを持った還元剤が用いられているので、これらの水素を安定化し還元剤を不活性化し、銀イオンを還元する反応を防止できる化合物が含有されていることが好ましい。また、熱現像感光材料や得られた画像の保存時に生成する銀原子ないし金属銀銀(銀クラスター)を酸化漂白できる化合物が含有されていることが好ましい。これらの機能を有する化合物の具体例としてビイミダゾリル化合物、ヨードニウム化合物を挙げることができる。上記のビイミダゾリル化合物、ヨードニウム化合物の添加量は0.001〜0.1モル/m2、好ましくは0.005〜0.05モル/m2の範囲である。 As reducing agents according to the present invention, reducing agents having protons such as bisphenols and sulfonamidophenols are mainly used, so that these hydrogens are stabilized, the reducing agents are deactivated, and silver ions are reduced. It is preferable that the compound which can prevent reaction to contain is contained. Further, it is preferable that the photothermographic material or a compound capable of oxidatively bleaching silver atoms or metallic silver (silver clusters) generated during storage of the obtained image is contained. Specific examples of compounds having these functions include biimidazolyl compounds and iodonium compounds. The amount of the biimidazolyl compound and iodonium compound added is in the range of 0.001 to 0.1 mol / m 2 , preferably 0.005 to 0.05 mol / m 2 .

本発明に用いる還元剤が芳香族性の水酸基(−OH)を有する場合、特にビスフェノール類の場合には、これらの基と水素結合を形成することが可能な基を有する非還元性の化合物を併用することが好ましい。本発明で、特に好ましい水素結合性の化合物の具体例としては、例えば、特開2002−90937号公報の段落[0061]〜[0064]に記載の化合物(II−1)〜(II−40)が挙げられる。   When the reducing agent used in the present invention has an aromatic hydroxyl group (—OH), particularly in the case of bisphenols, a non-reducing compound having a group capable of forming a hydrogen bond with these groups is used. It is preferable to use together. Specific examples of particularly preferred hydrogen bonding compounds in the present invention include, for example, compounds (II-1) to (II-40) described in paragraphs [0061] to [0064] of JP-A-2002-90937. Is mentioned.

また、一方、カブリ防止及び画像安定化剤として、ハロゲン原子を活性種として放出できる化合物も多くのものが知られている。これらの活性ハロゲン原子を生成する化合物の具体例としては、特開2002−287299号公報の段落[0264]〜[0271]に記載の一般式(9)の化合物が挙げられる。   On the other hand, many compounds that can release halogen atoms as active species are known as antifogging and image stabilizers. Specific examples of the compound that generates these active halogen atoms include compounds represented by general formula (9) described in paragraphs [0264] to [0271] of JP-A No. 2002-287299.

これらの化合物の添加量は、当該化合物から放出されるハロゲンと銀イオンが反応してハロゲン化銀の生成によるプリントアウト銀の増加が実質的に問題にならない範囲が好ましい。これらの活性ハロゲン原子を生成する化合物の具体例としては、上記の公報の他に、特開2002−169249号公報の段落「0086」〜「0087」に記載されている化合物(III−1)〜(III−23)、特開2003−50441号公報の段落「0031」〜「0034」記載の化合物1−1a〜1−1o、1−2a〜1−2o、段落「0050」〜「0056」記載の化合物2a〜2z、2aa〜2ll、2−1a〜2−1f、特開2003−91054号公報の段落「0055」〜「0058」記載の化合物4−1〜4−32、段落「0069」〜「0072」記載の化合物5−1〜5−10を挙げることができる。   The addition amount of these compounds is preferably within a range in which the increase in printout silver due to the formation of silver halide due to the reaction between the halogen released from the compound and silver ions does not become a problem. Specific examples of the compound that generates these active halogen atoms include, in addition to the above-mentioned publications, compounds (III-1) to 3 described in paragraphs “0086” to “0087” of JP-A No. 2002-169249. (III-23), compounds 1-1a to 1-1o and 1-2a to 1-2o described in paragraphs “0031” to “0034” of JP-A-2003-50441, and paragraphs “0050” to “0056” Compounds 2a to 2z, 2aa to 2ll, 2-1a to 2-1f, Compounds 4-1 to 4-32 described in paragraphs “0055” to “0058” of JP-A No. 2003-91054, paragraphs “0069” to Examples thereof include compounds 5-1 to 5-10 described in “0072”.

本発明で好ましく使用されるカブリ防止剤としては、例えば、特開平8−314059号公報の段落「0012」に記載の化合物例a〜j、特開平7−209797号公報の段落「0028」に記載のチオスルホネートエステルA〜K、特開昭55−140833号公報のp14から記載の化合物例(1)〜(44)、特開2001−13627号公報の段落「0063」記載の化合物(I−1)〜(I−6)、段落「0066」記載の(C−1)〜(C−3)、特開2002−90937号公報の段落「0027」記載の化合物(III−1)〜(III−108)、ビニルスルホン類及び/又はβ−ハロスルホン類の化合物として特開平6−208192号公報の段落「0013」に記載の化合物VS−1〜VS−7、化合物HS−1〜HS−5、スルホニルベンゾトリアゾール化合物として特開2000−330235号公報に記載のKS−1〜KS−8の化合物、置換されたプロペンニトリル化合物として特表2000−515995号公報に記載のPR−01〜PR−08、特開2002−207273号公報の段落「0042」〜「0051」に記載の化合物(1)−1〜(1)−132、を挙げることができる。   Antifoggants preferably used in the present invention include, for example, compound examples a to j described in paragraph “0012” of JP-A-8-314059 and paragraph “0028” of JP-A-7-209797. Thiosulfonate esters A to K, compound examples (1) to (44) described from p14 of JP-A No. 55-140833, compounds described in paragraph “0063” of JP-A No. 2001-13627 (I-1 ) To (I-6), (C-1) to (C-3) described in paragraph “0066”, and compounds (III-1) to (III-) described in paragraph “0027” of JP-A-2002-90937. 108), compounds VS-1 to VS-7 and compounds HS-1 to HS-5 described in paragraph “0013” of JP-A-6-208192 as compounds of vinyl sulfones and / or β-halo sulfones. KS-1 to KS-8 compounds described in JP 2000-330235 A as sulfonylbenzotriazole compounds, PR-01 to PR-08 described in JP-T 2000-515995 as substituted propene nitrile compounds, Examples thereof include compounds (1) -1 to (1) -132 described in paragraphs “0042” to “0051” of JP-A-2002-207273.

上記カブリ防止剤は一般に銀のモルに対して少なくとも0.001モル用いる。通常、その範囲は銀のモルに対して化合物は0.01〜5モル、好ましくは銀のモルに対して化合物は0.02〜0.6モルである。   The antifoggant is generally used in an amount of at least 0.001 mole per mole of silver. Usually, the range is 0.01 to 5 moles of the compound relative to the moles of silver, preferably 0.02 to 0.6 moles of the compound relative to the moles of silver.

尚、上記の化合物の他に、本発明に係る熱現像感光材料中には、従来カブリ防止剤として知られている各種化合物が含まれてもよいが、上記の化合物と同様な反応活性種を生成することができる化合物であっても、カブリ防止機構が異なる化合物であってもよい。例えば、米国特許第3,589,903号、同4,546,075号、同4,452,885号の各明細書、特開昭59−57234号公報、米国特許第3,874,946号明細書、同4,756,999号明細書、特開平9−288328号公報、同9−90550号公報に記載されている化合物が挙げられる。更に、その他のカブリ防止剤としては、米国特許第5,028,523号及び欧州特許第600,587号、同605,981号、同631,176号の各明細書に開示されている化合物が挙げられる。   In addition to the above compounds, the photothermographic material according to the present invention may contain various compounds conventionally known as antifoggants, but the reactive species similar to the above compounds are included. Even if it is a compound which can be produced | generated, the compound from which an antifogging mechanism differs may be sufficient. For example, U.S. Pat. Nos. 3,589,903, 4,546,075, 4,452,885, JP-A-59-57234, U.S. Pat. No. 3,874,946. Examples thereof include compounds described in the specification, JP 4,756,999, JP-A-9-288328, and JP-A-9-90550. Further, as other antifoggants, compounds disclosed in US Pat. No. 5,028,523 and European Patent Nos. 600,587, 605,981 and 631,176 are exemplified. Can be mentioned.

(調色剤)
本発明に係る熱現像感光材料は、熱現像処理にて写真画像を形成するもので、必要に応じて銀の色調を調整する調色剤(トナー)を通常(有機)バインダーマトリックス中に分散した状態で含有していることが好ましい。
(Toning agent)
The photothermographic material according to the present invention forms a photographic image by heat development, and a toning agent (toner) for adjusting the color tone of silver is dispersed in a normal (organic) binder matrix as necessary. It is preferable to contain in the state.

本発明に用いられる好適な調色剤の例は、リサーチ・ディスクロージャー(RD)17029号、米国特許第4,123,282号、同3,994,732号、同3,846,136号及び同4,021,249号の各明細書に開示されており、例えば、次のものがある。   Examples of suitable toning agents used in the present invention include Research Disclosure (RD) 17029, U.S. Pat. Nos. 4,123,282, 3,994,732, 3,846,136, and the like. For example, the following are disclosed.

イミド類(例えば、スクシンイミド、フタルイミド、ナフタールイミド、N−ヒドロキシ−1,8−ナフタールイミド);メルカプタン類(例えば、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール);フタラジノン誘導体またはこれらの誘導体の金属塩(例えば、フタラジノン、4−(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラジノン、5,7−ジメチルオキシフタラジノン、及び2,3−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン);フタラジンとフタル酸類(例えば、フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及びテトラクロロフタル酸)の組合せ;フタラジンとマレイン酸無水物、及びフタル酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸またはo−フェニレン酸誘導体及びその無水物(例えば、フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及びテトラクロロフタル酸無水物)から選択される少なくとも1つの化合物との組合せ等が挙げられる。特に好ましい調色剤としてはフタラジノンまたはフタラジンとフタル酸類、フタル酸無水物類の組合せである。本発明におけるフタラジン及びその誘導体やフタラジノン及びその誘導体は、還元剤に対してモル比で0.1〜2.0の範囲で用いられるのが好ましく、より好ましくは0.2〜1.5、さらに好ましくは0.3〜1.0の範囲である。また本発明におけるフタル酸及びその誘導体、フタル酸無水物及びその誘導体は、塗布される銀1モル当たり、0.0001モル〜1モルの範囲で用いられるのが好ましく、より好ましくは0.001〜0.5モル、さらに好ましくは0.002〜0.2モルである。   Imides (for example, succinimide, phthalimide, naphthalimide, N-hydroxy-1,8-naphthalimide); mercaptans (for example, 3-mercapto-1,2,4-triazole); phthalazinone derivatives or metal salts of these derivatives ( For example, phthalazinone, 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethyloxyphthalazinone, and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione); phthalazine and phthalic acids ( For example, combinations of phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic acid; phthalazine and maleic anhydride, and phthalic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid or o-phenylene acid derivatives and anhydrides thereof Products (eg, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4 The combination and the like with at least one compound selected from nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride). Particularly preferred toning agents are combinations of phthalazinone or phthalazine with phthalic acids and phthalic anhydrides. In the present invention, phthalazine and its derivatives and phthalazinone and its derivatives are preferably used in a molar ratio of 0.1 to 2.0 with respect to the reducing agent, more preferably 0.2 to 1.5, Preferably it is the range of 0.3-1.0. The phthalic acid and derivatives thereof, and phthalic anhydride and derivatives thereof in the present invention are preferably used in the range of 0.0001 mol to 1 mol, more preferably 0.001 to 1 mol per mol of silver applied. 0.5 mol, more preferably 0.002 to 0.2 mol.

(フッ素系界面活性剤)
本発明ではレーザイメージャー(熱現像処理装置)での熱現像感光材料搬送性や環境適性(生体内への蓄積性)を改良するために下記一般式(SF)で表されるフッ素系界面活性剤が好ましく用いられる。
(Fluorosurfactant)
In the present invention, a fluorine-based surfactant represented by the following general formula (SF) is used in order to improve the transportability and environmental suitability (accumulation in the living body) of a photothermographic material in a laser imager (thermal development processing apparatus). An agent is preferably used.

一般式(SF)
(Rf−(L1n1−)p−(Y)m1−(A)q
式中、Rfはフッ素原子を含有する置換基を表し、L1はフッ素原子を有しない2価の連結基を表し、Yはフッ素原子を有さない(p+q)価の連結基を表し、Aはアニオン基またはその塩を表す。n1、m1は各々0または1の整数を表し、pは1〜3の整数を表し、qは1〜3の整数を表す。但し、qが1の時はn1とm1は同時に0ではない。
General formula (SF)
(R f − (L 1 ) n1 −) p − (Y) m1 − (A) q
In the formula, R f represents a substituent containing a fluorine atom, L 1 represents a divalent linking group having no fluorine atom, Y represents a (p + q) -valent linking group having no fluorine atom, A represents an anionic group or a salt thereof. n1 and m1 each represent an integer of 0 or 1, p represents an integer of 1 to 3, and q represents an integer of 1 to 3. However, when q is 1, n1 and m1 are not 0 at the same time.

前記一般式(SF)において、Rfはフッ素原子を含有する置換基を表すが、該フッ素原子を含有する置換基としては例えば、炭素数1〜25のフッ化アルキル基(例えば、トリフロロメチル基、トリフロロエチル基、パーフロロエチル基、パーフロロブチル基、パーフロロオクチル基、パーフロロドデシル基及びパーフロロオクタデシル基等)またはフッ化アルケニル基(例えば、パーフロロプロペニル基、パーフロロブテニル基、パーフロロノネニル基及びパーフロロドデセニル基等)等が挙げられる。Rfは炭素数2〜8であることが好ましく、より好ましくは炭素数が2〜6である。またRfはフッ素原子数2〜12であることが好ましく、より好ましくはフッ素原子数が3〜12である。 In the general formula (SF), R f represents a substituent containing a fluorine atom. Examples of the substituent containing the fluorine atom include a fluorinated alkyl group having 1 to 25 carbon atoms (for example, trifluoromethyl). Group, trifluoroethyl group, perfluoroethyl group, perfluorobutyl group, perfluorooctyl group, perfluorododecyl group and perfluorooctadecyl group) or fluorinated alkenyl group (for example, perfluoropropenyl group, perfluorobutenyl group) Perfluorononenyl group, perfluorododecenyl group, etc.). R f preferably has 2 to 8 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms. R f preferably has 2 to 12 fluorine atoms, more preferably 3 to 12 fluorine atoms.

1はフッ素原子を有さない2価の連結基を表すが、当該フッ素原子を有さない2価の連結基としては例えば、アルキレン基(例えば、メチレン基、エチレン基、ブチレン基等)、アルキレンオキシ基(メチレンオキシ基、エチレンオキシ基、ブチレンオキシ基等)、オキシアルキレン基(例えば、オキシメチレン基、オキシエチレン基、オキシブチレン基等)、オキシアルキレンオキシ基(例えば、オキシメチレンオキシ基、オキシエチレンオキシ基、オキシエチレンオキシエチレンオキシ基等)、フェニレン基、オキシフェニレン基、フェニルオキシ基、オキシフェニルオキシ基またはこれらの基を組合せた基等が挙げられる。 L 1 represents a divalent linking group having no fluorine atom. Examples of the divalent linking group having no fluorine atom include an alkylene group (for example, a methylene group, an ethylene group, a butylene group, etc.), Alkyleneoxy group (methyleneoxy group, ethyleneoxy group, butyleneoxy group, etc.), oxyalkylene group (for example, oxymethylene group, oxyethylene group, oxybutylene group, etc.), oxyalkyleneoxy group (for example, oxymethyleneoxy group, Oxyethyleneoxy group, oxyethyleneoxyethyleneoxy group, etc.), phenylene group, oxyphenylene group, phenyloxy group, oxyphenyloxy group, or a combination of these groups.

Aはアニオン基またはその塩を表すが、例えば、カルボン酸基またはその塩(ナトリウム塩、カリウム塩及びリチウム塩)、スルホン酸基またはその塩(ナトリウム塩、カリウム塩及びリチウム塩)、硫酸ハーフエステル基またはその塩(ナトリウム塩、カリウム塩及びリチウム塩)、及び燐酸基またはその塩(ナトリウム塩及びカリウム塩等)等が挙げられる。   A represents an anionic group or a salt thereof. For example, carboxylic acid group or a salt thereof (sodium salt, potassium salt and lithium salt), sulfonic acid group or a salt thereof (sodium salt, potassium salt and lithium salt), sulfuric acid half ester Group or a salt thereof (sodium salt, potassium salt and lithium salt), a phosphoric acid group or a salt thereof (sodium salt, potassium salt and the like) and the like.

Yはフッ素原子を有さない(p+q)価の連結基を表すが、例えば、フッ素原子を有さない3価または4価の連結基としては、窒素原子または炭素原子を中心にして構成される原子群が挙げられる。n1は0または1の整数を表すが、1であるのが好ましい。   Y represents a (p + q) -valent linking group having no fluorine atom. For example, the trivalent or tetravalent linking group having no fluorine atom is composed mainly of a nitrogen atom or a carbon atom. An atomic group is mentioned. n1 represents 0 or an integer of 1, and is preferably 1.

一般式(SF)で表されるフッ素系界面活性剤は、フッ素原子を導入した炭素数1〜25のアルキル化合物(例えば、トリフロロメチル基、ペンタフロロエチル基、パーフロロブチル基、パーフロロオクチル基及びパーフロロオクタデシル基等を有する化合物)及びアルケニル化合物(例えば、パーフロロヘキセニル基及びパーフロロノネニル基等)と、それぞれフッ素原子を導入していない3価〜6価のアルカノール化合物、水酸基を3〜4個有する芳香族化合物またはヘテロ化合物との付加反応や縮合反応によって得られた化合物(一部Rf化されたアルカノール化合物)に、更に例えば硫酸エステル化等によりアニオン基(A)を導入することにより得ることができる。 The fluorine-based surfactant represented by the general formula (SF) is an alkyl compound having 1 to 25 carbon atoms into which a fluorine atom is introduced (for example, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, perfluorobutyl group, perfluorooctyl). Group and a compound having a perfluorooctadecyl group) and an alkenyl compound (for example, a perfluorohexenyl group and a perfluorononenyl group), a trivalent to hexavalent alkanol compound in which no fluorine atom is introduced, and a hydroxyl group, respectively. aromatic compound or a compound obtained by addition reaction and condensation reaction between the hetero compound having 3 or 4 (part R f of alkanols compounds), further for example, introducing an anionic group (a) with sulfuric acid esterification, etc. Can be obtained.

上記3〜6価のアルカノール化合物としては、グリセリン、ペンタエリスリトール、2−メチル−2−ヒドロキシメチル1,3−プロパンジオール、2,4−ジヒドロキシ−3−ヒドロキシメチルペンテン、1,2,6−ヘキサントリオール、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)プロパン、2,2−ビス(ブタノール)−3、脂肪族トリオール、テトラメチロールメタン、D−ソルビトール、キシリトール、D−マンニトール等が挙げられる。   Examples of the trivalent to hexavalent alkanol compound include glycerin, pentaerythritol, 2-methyl-2-hydroxymethyl 1,3-propanediol, 2,4-dihydroxy-3-hydroxymethylpentene, and 1,2,6-hexane. Examples include triol, 1,1,1-tris (hydroxymethyl) propane, 2,2-bis (butanol) -3, aliphatic triol, tetramethylolmethane, D-sorbitol, xylitol, D-mannitol and the like.

また、上記水酸基を3〜4個有する芳香族化合物及びへテロ化合物としては、1,3,5−トリヒドロキシベンゼン及び2,4,6−トリヒドロキシピリジン等が挙げられる。   Examples of the aromatic compound and hetero compound having 3 to 4 hydroxyl groups include 1,3,5-trihydroxybenzene and 2,4,6-trihydroxypyridine.

上記したフッ素系界面活性剤の具体例としては、特開2003−149766号公報の段落「0029」〜「0040」に記載の化合物(FS−1)〜(FS−66)、特開2004−021084号公報の段落「0014」に記載の化合物1−1〜1−4、段落「0019」に記載の化合物2−1〜2−10、特開2004−077792号公報の段落「0025」に記載の化合物、段落「0030」に記載の化合物が挙げられる。   Specific examples of the above-described fluorosurfactants include compounds (FS-1) to (FS-66) described in paragraphs “0029” to “0040” of JP-A No. 2003-149766, JP-A No. 2004-021084. Compound 1-1 to 1-4 described in paragraph “0014” of compound No., compounds 2-1 to 2-10 described in paragraph “0019”, and paragraph “0025” of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-077772. Examples thereof include compounds described in paragraph “0030”.

以下に、一般式(SF)で表されるフッ素系界面活性剤の好ましい具体的化合物を示す。   Below, the preferable specific compound of the fluorine-type surfactant represented by general formula (SF) is shown.

Figure 2008180863
Figure 2008180863

Figure 2008180863
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また上記した以外のフッ素系界面活性剤として、特開2004−117505号公報の段落「0035」に記載の化合物、特開2000−214554号公報、特開2003−156819号公報、特開2003−177494号公報、特開2003−114504号公報、特開2003−270754号公報、特開2003−270760号公報に記載された化合物を使用しても良い。本発明においては一般式(SF)で表されるアニオン性含フッ素界面活性剤と公知の非イオン性含フッ素界面活性剤を組み合わせて使用することが帯電特性、塗布性向上の観点から特に好ましい。   Further, as fluorine surfactants other than those described above, compounds described in paragraph “0035” of JP-A No. 2004-117505, JP-A No. 2000-214554, JP-A No. 2003-156819, JP-A No. 2003-177494 are disclosed. The compounds described in JP-A No. 2003-114504, JP-A 2003-270754, and JP-A 2003-270760 may be used. In the present invention, it is particularly preferable to use a combination of an anionic fluorine-containing surfactant represented by the general formula (SF) and a known nonionic fluorine-containing surfactant from the viewpoint of improving charging characteristics and coating properties.

一般式(SF)で表されるフッ素系界面活性剤を塗布液に添加する方法としては公知の添加法に従って添加することができる。即ち、メタノールやエタノール等のアルコール類、メチルエチルケトンやアセトン等のケトン類、ジメチルスルホキシドやジメチルホルムアミド等の極性溶媒等に溶解して添加することができる。また、サンドミル分散やジェットミル分散、超音波分散やホモジナイザ分散により1μm以下の微粒子にして水や有機溶媒に分散して添加することもできる。微粒子分散技術については多くの技術が開示されているが、これらに準じて分散することができる。一般式(SF)で表されるフッ素系界面活性剤は、最外層の保護層に添加することが好ましい。   As a method for adding the fluorine-based surfactant represented by the general formula (SF) to the coating solution, it can be added according to a known addition method. That is, it can be dissolved and added in alcohols such as methanol and ethanol, ketones such as methyl ethyl ketone and acetone, polar solvents such as dimethyl sulfoxide and dimethylformamide. Further, fine particles having a size of 1 μm or less can be added after being dispersed in water or an organic solvent by sand mill dispersion, jet mill dispersion, ultrasonic dispersion or homogenizer dispersion. Many techniques for fine particle dispersion are disclosed, but they can be dispersed according to these techniques. The fluorine-based surfactant represented by the general formula (SF) is preferably added to the outermost protective layer.

一般式(SF)で表されるフッ素系界面活性剤の添加量は1m2当たり1×10-8〜1×10-1モルが好ましく、1×10-5〜1×10-2モルが特に好ましい。前者の範囲未満では、帯電特性が得られないことがあり、前者の範囲を越えると、湿度依存性が大きく高湿下の保存性が劣化することがある。 The amount of the fluorosurfactant represented by the general formula (SF) is preferably 1 × 10 −8 to 1 × 10 −1 mol per 1 m 2 , particularly 1 × 10 −5 to 1 × 10 −2 mol. preferable. If the range is less than the former range, the charging characteristics may not be obtained. If the range exceeds the former range, the humidity dependency is large and the storage stability under high humidity may be deteriorated.

(輻射線吸収性化合物を含む層)
本発明に係る熱現像感光材料の支持体上の感光性層が設けられている側の層および支持体をはさんで感光性層が設けられている側とは反対側に設けられている層に用いられる輻射線吸収性化合物としては公知の各種染料や顔料を用いることができる。これらの染料および顔料はいかなるものでもよいが、例えばカラーインデックス記載の顔料や染料があり、具体的にはピラゾロアゾール染料、アントラキノン染料、アゾ染料、アゾメチン染料、オキソノール染料、カルボシアニン染料、スチリル染料、トリフェニルメタン染料、インドアニリン染料、インドフェノール染料、フタロシアニンをはじめとする有機顔料、無機顔料などが挙げられる。
(Layer containing radiation absorbing compound)
The layer on the side where the photosensitive layer is provided on the support of the photothermographic material according to the present invention and the layer provided on the side opposite to the side where the photosensitive layer is provided across the support Various known dyes and pigments can be used as the radiation-absorbing compound used in the above. Any of these dyes and pigments may be used. For example, there are pigments and dyes described in the color index, specifically pyrazoloazole dyes, anthraquinone dyes, azo dyes, azomethine dyes, oxonol dyes, carbocyanine dyes, styryl dyes. , Triphenylmethane dyes, indoaniline dyes, indophenol dyes, organic pigments such as phthalocyanine, and inorganic pigments.

本発明に用いられる好ましい染料としてはアントラキノン染料(例えば特開平5−341441号記載の化合物1〜9、特開平5−165147号記載の化合物3−6〜18および3−23〜38など)、アゾメチン染料(特開平5−341441号記載の化合物17〜47など)、インドアニリン染料(例えば特開平5−289227号記載の化合物11〜19、特開平5−341441号記載の化合物47、特開平5−165147号記載の化合物2−10〜11など)およびアゾ染料(特開平5−341441号記載の化合物10〜16)が挙げられる。例えば、本発明に係る熱現像感光材料を赤外光による画像記録材料とする場合には、特開2001−83655号公報に開示されているようなチオピリリウム核を有するスクアリリウム染料及びピリリウム核を有するスクアリリウム染料、またスクアリリウム染料に類似したチオピリリウムクロコニウム染料、またはピリリウムクロコニウム染料を使用することが好ましい。尚、スクアリリウム核を有する化合物とは、分子構造中に1−シクロブテン−2−ヒドロキシ−4−オンを有する化合物であり、クロコニウム核を有する化合物とは分子構造中に1−シクロペンテン−2−ヒドロキシ−4,5−ジオンを有する化合物である。ここで、ヒドロキシル基は解離していてもよい。尚、染料としては特開平8−201959号公報に記載の化合物、特表平9−509503号公報に記載の化合物、特開2003−195450号公報に記載されている化合物AD−1〜AD−55も好ましい。本発明に係る熱現像感光材料を青色光による画像記録材料とする場合には、特開2003−215751号公報に記載されている化合物No.1〜No.93、特開2005−157245号公報に記載されているDye−1〜Dye−51が好ましく用いられる。またこれらの染料の添加法としては、溶液、乳化物、固体微粒子分散物、高分子媒染剤に媒染された状態などいかなる方法でも良い。これらの化合物の使用量は目的の吸収量によって決められるが、一般的に感材1m2当たり1μg以上1g以下の範囲で用いることが好ましい。本発明に係る熱現像感光材料においては、支持体上の感光性層が設けられる側の層、具体的には下引層、感光性層、中間層、保護層に、より好ましくは感光性層に、輻射線吸収性化合物(染料または顔料)を含有させる。これらの層の全層での露光波長での吸光度を0.30〜1.00に設定する。更に、支持体をはさんで感光性層が設けられた側とは反対側の層、具体的には帯電防止下引層、アンチハレーション層、保護層に、より好ましくはアンチハレーション層に輻射線吸収性化合物(染料または顔料)を含有させる。そして、これらの層の全層での露光波長での吸光度を0.20〜1.50の範囲に設定することが好ましい。また支持体上の感光性層が設けられる側の層の全層合計での露光波長における吸光度は0.40〜0.90であることが好ましく、特に好ましくは0.50〜0.80である。また支持体をはさんで感光性層が設けられた側とは反対側に設けられる層の全層合計での露光波長における吸光度は0.30〜1.20であることが好ましく、より好ましくは0.40〜1.00である。この範囲とすることで露光系に樹脂レンズを使用した場合でも、画像品室や湿度変化に伴う濃度変動を大きく改良することができる。 Preferred dyes used in the present invention include anthraquinone dyes (for example, compounds 1 to 9 described in JP-A-5-341441, compounds 3-6 to 18 and 3-23 to 38 described in JP-A-5-165147), azomethine Dyes (compounds 17 to 47 described in JP-A-5-341441), indoaniline dyes (for example, compounds 11 to 19 described in JP-A-5-289227, compound 47 described in JP-A-5-341441, And compounds 2-10 to 11 described in JP-A No. 165147) and azo dyes (compounds 10 to 16 described in JP-A-5-341441). For example, when the photothermographic material according to the present invention is used as an image recording material by infrared light, a squarylium dye having a thiopyrylium nucleus and a squarylium having a pyrylium nucleus as disclosed in JP-A-2001-83655. It is preferred to use dyes, or thiopyrylium croconium dyes similar to squarylium dyes, or pyrylium croconium dyes. The compound having a squarylium nucleus is a compound having 1-cyclobutene-2-hydroxy-4-one in the molecular structure, and the compound having a croconium nucleus is 1-cyclopentene-2-hydroxy- in the molecular structure. It is a compound having 4,5-dione. Here, the hydroxyl group may be dissociated. Examples of the dye include compounds described in JP-A-8-201959, compounds described in JP-T-9-509503, and compounds AD-1 to AD-55 described in JP-A-2003-195450. Is also preferable. When the photothermographic material according to the present invention is used as an image recording material by blue light, the compound No. described in JP-A-2003-215751 is used. 1-No. 93, and Dye-1 to Dye-51 described in JP-A-2005-157245 are preferably used. Further, these dyes may be added by any method such as a solution, an emulsion, a solid fine particle dispersion, or a mordanted state in a polymer mordant. The amount of these compounds to be used is determined by the target absorption amount, but generally it is preferably used in the range of 1 μg to 1 g per 1 m 2 of the light-sensitive material. In the photothermographic material according to the present invention, the layer on the side on which the photosensitive layer is provided, specifically the undercoat layer, the photosensitive layer, the intermediate layer, and the protective layer, more preferably the photosensitive layer. And a radiation absorbing compound (dye or pigment). The absorbance at the exposure wavelength in all the layers is set to 0.30 to 1.00. Further, radiation is applied to the layer opposite to the side where the photosensitive layer is provided across the support, specifically to the antistatic undercoat layer, antihalation layer and protective layer, more preferably to the antihalation layer. An absorptive compound (dye or pigment) is contained. And it is preferable to set the light absorbency in the exposure wavelength in all the layers of these layers in the range of 0.20-1.50. Moreover, it is preferable that the light absorbency in the exposure wavelength in the total layer of the layer by which the photosensitive layer on a support | substrate is provided is 0.40-0.90, Most preferably, it is 0.50-0.80. . Further, the absorbance at the exposure wavelength in the total of the layers provided on the side opposite to the side where the photosensitive layer is provided across the support is preferably 0.30 to 1.20, more preferably 0.40 to 1.00. By setting it within this range, even when a resin lens is used in the exposure system, it is possible to greatly improve the density fluctuation accompanying the image product room and humidity change.

(支持体)
本発明に係る熱現像感光材料に用いる支持体の素材としては、各種高分子材料、ガラス、ウール布、コットン布、紙、金属(アルミニウム等)等が挙げられるが、情報記録材料としての取扱い上は、可撓性のあるシート又はロールに加工できるものが好適である。従って、本発明に係る熱現像感光材料における支持体としては、セルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ポリエチレンナフタレート(PEN)フィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、セルローストリアセテートフィルム(TAC)又はポリカーボネート(PC)フィルム等のプラスチックフィルムが好ましく、特に2軸延伸したPETフィルムが特に好ましい。支持体の厚みとしては50〜300μm程度、好ましくは70〜180μmである。
(Support)
Examples of the support material used in the photothermographic material according to the present invention include various polymer materials, glass, wool cloth, cotton cloth, paper, metal (aluminum, etc.), etc. A material that can be processed into a flexible sheet or roll is suitable. Therefore, as a support in the photothermographic material according to the present invention, cellulose acetate film, polyester film, polyethylene terephthalate (PET) film, polyethylene naphthalate (PEN) film, polyamide film, polyimide film, cellulose triacetate film (TAC) Alternatively, a plastic film such as a polycarbonate (PC) film is preferable, and a biaxially stretched PET film is particularly preferable. The thickness of the support is about 50 to 300 μm, preferably 70 to 180 μm.

帯電性を改良するために金属酸化物及び/又は導電性ポリマー等の導電性化合物を構成層中に含ませることができる。これらは何れの層に含有させてもよいが、好ましくはバッキング層又は感光性層側の表面保護層、下引層等に含まれる。米国特許5,244,773号のカラム14〜20に記載された導電性化合物等が好ましく用いられる。中でも、本発明では、バッキング層側の表面保護層に導電性金属酸化物を含有することが好ましい。このことで、更に本発明の効果(特に熱現像処理時の搬送性)を高められることが判った。   In order to improve the charging property, a conductive compound such as a metal oxide and / or a conductive polymer can be included in the constituent layer. These may be contained in any layer, but are preferably contained in the backing layer or the surface protective layer on the photosensitive layer side, the undercoat layer and the like. The conductive compounds described in columns 14 to 20 of US Pat. No. 5,244,773 are preferably used. Among these, in the present invention, the surface protective layer on the backing layer side preferably contains a conductive metal oxide. This proved that the effects of the present invention (particularly the transportability during heat development) can be further enhanced.

ここで、導電性金属酸化物とは、結晶性の金属酸化物粒子であり、酸素欠陥を含むもの及び用いられる金属酸化物に対してドナーを形成する異種原子を少量含むもの等は、一般的に言って導電性が高いので特に好ましい。特に後者はハロゲン化銀乳剤にカブリを与えないので特に好ましい。金属酸化物の例としてZnO、TiO2、SnO2、Al23、In23、SiO2、MgO、BaO、MoO3、V25等、又はこれらの複合酸化物がよく、特にZnO、TiO2及びSnO2が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばZnOに対してはAl、In等の添加、SnO2に対してはSb、Nb、P、ハロゲン元素等の添加、又、TiO2に対してはNb、Ta等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は0.01〜30モル%の範囲が好ましいが、0.1〜10モル%であれば特に好ましい。更に又、微粒子分散性、透明性改良のために、微粒子作製時に珪素化合物を添加してもよい。 Here, the conductive metal oxide is crystalline metal oxide particles, and those containing oxygen defects and those containing a small amount of hetero atoms forming a donor with respect to the metal oxide used are generally used. It is particularly preferable because of its high conductivity. The latter is particularly preferable because it does not give fog to the silver halide emulsion. Examples of metal oxides are ZnO, TiO 2 , SnO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , SiO 2 , MgO, BaO, MoO 3 , V 2 O 5, etc., or a composite oxide thereof, especially ZnO, TiO 2 and SnO 2 are preferred. As an example of containing a heteroatom, addition Al, or In to ZnO, addition Sb, Nb, P, such as a halogen element relative to SnO 2, In addition, Nb for TiO 2, Ta Etc. are effective. The amount of these different atoms added is preferably in the range of 0.01 to 30 mol%, but particularly preferably 0.1 to 10 mol%. Furthermore, a silicon compound may be added during the production of fine particles in order to improve fine particle dispersibility and transparency.

本発明に用いられる金属酸化物微粒子は導電性を有しており、その体積抵抗率は107Ω・cm以下、特に105Ω・cm以下である。これらの酸化物については特開昭56−143431号、同56−120519号、同58−62647号等に記載されている。更に又、特公昭59−6235号に記載の如く、他の結晶性金属酸化物粒子あるいは繊維状物(酸化チタン等)に上記の金属酸化物を付着させた導電性素材を使用してもよい。 The metal oxide fine particles used in the present invention have electrical conductivity, and the volume resistivity is 10 7 Ω · cm or less, particularly 10 5 Ω · cm or less. These oxides are described in JP-A Nos. 56-143431, 56-120519, 58-62647 and the like. Furthermore, as described in Japanese Examined Patent Publication No. 59-6235, a conductive material in which the above metal oxide is attached to other crystalline metal oxide particles or fibrous materials (such as titanium oxide) may be used. .

利用できる粒子サイズは1μm以下が好ましいが、0.5μm以下であると分散後の安定性が良く使用し易い。又、光散乱性をできるだけ小さくするために、0.3μm以下の導電性粒子を利用すると、透明熱現像感光材料を形成することが可能となり大変好ましい。又、導電性金属酸化物が針状あるいは繊維状の場合は、その長さは30μm以下で直径が1μm以下が好ましく、特に好ましいのは長さが10μm以下で直径0.3μm以下であり、長さ/直径比が3以上である。尚、SnO2としては、石原産業社より市販されており、SNS10M、SN−100P、SN−100D、FSS10M等を用いることができる。 The particle size that can be used is preferably 1 μm or less, but if it is 0.5 μm or less, the stability after dispersion is good and it is easy to use. In order to make the light scattering property as small as possible, it is very preferable to use conductive particles of 0.3 μm or less because a transparent photothermographic material can be formed. Further, when the conductive metal oxide is needle-like or fibrous, the length is preferably 30 μm or less and the diameter is preferably 1 μm or less, particularly preferably the length is 10 μm or less and the diameter is 0.3 μm or less. The thickness / diameter ratio is 3 or more. As the SnO 2, are commercially available from Ishihara Sangyo Kaisha, it can be used SNS10M, SN-100P, SN- 100D, the FSS10M like.

(構成層)
本発明に係る熱現像感光材料は、支持体上に少なくとも1層の画像形成層である感光性層を有している。支持体上に感光性層のみを形成してもよいが、感光性層の上に少なくとも1層の非感光性層を形成することが好ましい。例えば、感光性層の上には保護層が、感光性層を保護する目的で設けられることが好ましく、又、支持体の反対の面には、熱現像感光材料間の、あるいは熱現像感光材料ロールにおける「くっつき」を防止するために、バックコート層が設けられる。
(Component layer)
The photothermographic material according to the invention has at least one photosensitive layer which is an image forming layer on a support. Although only the photosensitive layer may be formed on the support, it is preferable to form at least one non-photosensitive layer on the photosensitive layer. For example, a protective layer is preferably provided on the photosensitive layer for the purpose of protecting the photosensitive layer, and the opposite surface of the support is between the photothermographic materials or between the photothermographic materials. A backcoat layer is provided to prevent “sticking” on the roll.

これらの保護層やバックコート層に用いるバインダーとしては、感光性層よりもガラス転位点(Tg)が高く、擦傷や、変形の生じ難いポリマー、例えばセルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート等のポリマーが、前記のバインダーの中から選ばれる。   As a binder used in these protective layers and backcoat layers, a polymer having a glass transition point (Tg) higher than that of the photosensitive layer and hardly causing scratches or deformation, such as cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, and cellulose acetate propio. Polymers such as nates are selected from the binders described above.

尚、階調調整等のために、感光性層を支持体の一方の側に2層以上又は支持体の両側に1層以上設置してもよい。   For gradation adjustment or the like, two or more photosensitive layers may be provided on one side of the support or one or more layers on both sides of the support.

(下引層(スリップ層))
本発明において、スライドコータを使用して塗布を行う場合は支持体上に薄い下引層(スリップ層)を、感光性層側についてはスリップ層、感光性層、感光性層上の保護層を同時重層塗布により設けることが好ましい。またバックコート層(BC層)側に使用される場合はスリップ層、BC層を同時重層塗布により設けることが好ましい。ここで感光性層、感光性層上の保護層、BC層は複数層で構成されても良い。スリップ層は通常、有機銀塩およびバインダーを含む層やバインダーを含む層により非常に薄く形成される。感光性層側のスリップ層の乾燥膜厚SAと感光性層の乾燥膜厚SBとした時、SA/SBが0.005〜0.10であることが好ましい。前記SA/SBは好ましくは0.01〜0.07で、より好ましくは0.02〜0.06である。感光性層側のスリップ層の乾燥膜厚SAは、0.1〜1.0μmが好ましく、より好ましくは0.2〜0.7μm、特に好ましくは、0.3〜0.6μmである。バックコート層側のスリップ層の乾燥膜厚Sc、バックコート層の乾燥膜厚Sdとした時、Sc/Sdが0.01〜0.30であることが好ましい。前記Sc/Sdは好ましくは0.05〜0.25で、より好ましくは0.08〜0.20である。バックコート層側のスリップ層の乾燥膜厚Scは、0.1〜0.8μmが好ましく、より好ましくは0.15〜0.7μm、特に好ましくは、0.2〜0.5μmである。
(Undercoat layer (slip layer))
In the present invention, when coating is performed using a slide coater, a thin undercoat layer (slip layer) is formed on the support, and on the photosensitive layer side, a slip layer, a photosensitive layer, and a protective layer on the photosensitive layer are formed. It is preferable to provide by simultaneous multilayer coating. When used on the back coat layer (BC layer) side, it is preferable to provide a slip layer and a BC layer by simultaneous multilayer coating. Here, the photosensitive layer, the protective layer on the photosensitive layer, and the BC layer may be composed of a plurality of layers. The slip layer is usually formed very thin by a layer containing an organic silver salt and a binder or a layer containing a binder. When the dry film thickness SA of the slip layer on the photosensitive layer side and the dry film thickness SB of the photosensitive layer are set, SA / SB is preferably 0.005 to 0.10. The SA / SB is preferably 0.01 to 0.07, more preferably 0.02 to 0.06. The dry film thickness SA of the slip layer on the photosensitive layer side is preferably 0.1 to 1.0 μm, more preferably 0.2 to 0.7 μm, and particularly preferably 0.3 to 0.6 μm. When the dry film thickness Sc of the slip layer on the back coat layer side and the dry film thickness Sd of the back coat layer are used, Sc / Sd is preferably 0.01 to 0.30. The Sc / Sd is preferably 0.05 to 0.25, more preferably 0.08 to 0.20. The dry film thickness Sc of the slip layer on the backcoat layer side is preferably 0.1 to 0.8 μm, more preferably 0.15 to 0.7 μm, and particularly preferably 0.2 to 0.5 μm.

スリップ層のバインダーとしてはポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン、またはセルロースエステルが用いられることが好ましい。ポリウレタンは、ポリオールとポリイソシアネートとの反応から得られる。ポリオールとしては、一般にポリオールと多塩基酸との反応によって得られるポリエステルポリオールが使用されている。したがって、極性基を有するポリエステルポリオールを原料として用いれば、極性基を有するポリウレタンを合成することができる。本発明においては脂肪族や芳香環を有するポリエステルポリオール及び/又は環状炭化水素残基含有ポリエステルポリオールを用いて作られた脂肪族や芳香族ポリエステルポリウレタンを用いることが好ましい。   As the binder for the slip layer, polyvinyl acetal resin, acrylic resin, polyester resin, polyurethane, or cellulose ester is preferably used. Polyurethane is obtained from the reaction of a polyol and a polyisocyanate. As the polyol, a polyester polyol obtained by a reaction between a polyol and a polybasic acid is generally used. Therefore, if a polyester polyol having a polar group is used as a raw material, a polyurethane having a polar group can be synthesized. In the present invention, it is preferable to use an aliphatic or aromatic polyester polyurethane made using a polyester polyol having an aliphatic or aromatic ring and / or a polyester polyol containing a cyclic hydrocarbon residue.

ポリイソシアネートの例としては、ジフェニルメタン−4,4′−ジイソシアネート(MDI)、ヘキサメチレンジイソシアネート(HMDI)、トリレンジイソシアネート(TDI)、1,5−ナフタレンジイソシアネート(NDI)、トリジンジイソシアネート(TODI)、リジンイソシアネートメチルエステル(LDI)等が挙げられる。アクリル樹脂を構成するモノマー成分としては例えばアクリロニトリル、アクリレート、メタクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、3−シアノフェニルメタクリルアミド、4−シアノフェニルメタクリレート、4−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド等からなるホモポリマーやコポリマーが挙げられる。これらの中でも好ましいのはポリメチルメタクリレートである。スリップ層に含まれるポリエステル樹脂、アクリル樹脂やポリウレタンの含有量は、スリップ層に含まれる全バインダーに対して質量比で10〜90%、好ましくは20〜80%、さらに好ましくは30〜70%である。なお架橋剤はバインダーの中に含まれることとする。ポリエステル樹脂、アクリル樹脂やポリウレタンの添加量をこの範囲とすることで支持体との接着性を格段に向上することができる。   Examples of polyisocyanates include diphenylmethane-4,4'-diisocyanate (MDI), hexamethylene diisocyanate (HMDI), tolylene diisocyanate (TDI), 1,5-naphthalene diisocyanate (NDI), tolidine diisocyanate (TODI), lysine An isocyanate methyl ester (LDI) etc. are mentioned. Examples of the monomer component constituting the acrylic resin include acrylonitrile, acrylate, methacrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, hydroxyethyl methacrylate, 3-cyanophenyl methacrylamide, 4-cyanophenyl methacrylate, 4-hydroxyphenyl methacrylamide, and the like. And homopolymers and copolymers. Among these, polymethyl methacrylate is preferable. The content of the polyester resin, acrylic resin or polyurethane contained in the slip layer is 10 to 90%, preferably 20 to 80%, more preferably 30 to 70% by mass ratio with respect to the total binder contained in the slip layer. is there. The crosslinking agent is included in the binder. By making the addition amount of the polyester resin, the acrylic resin and the polyurethane within this range, the adhesion to the support can be remarkably improved.

本発明においては、バックコート層及びバックコート層側の下引層(スリップ層)がポリエステル樹脂、アクリル樹脂またはポリウレタン樹脂を含有することが好ましい。バックコート層におけるポリエステル樹脂、アクリル樹脂またはポリウレタン樹脂の合計量のバックコート層の全バインダ量に対する質量比率をAとする。バックコート層側の下引層におけるポリエステル樹脂、アクリル樹脂またはポリウレタン樹脂の合計量の下引層の全バインダ量に対する質量比率をBとするときB>Aであることが好ましい。ここで架橋剤はバインダに含むものとする。ポリエステル樹脂、アクリル樹脂またはポリウレタン樹脂は支持体との接着層を向上させるためにバックコート層側の接着性促進バインダーとして用いている。ところが、これらの接着性促進バインダーが熱現像時の機内汚染に影響することが判明した。そこで、熱現像装置に接触するバックコート層表面に存在する接着性促進バインダーの量を極力減らし、接着性促進バインダーは下引層に含有させることで、支持体との接着性は維持したままで、熱現像装置内の機内汚染の発生が改良された。ここで(B−A)の値は0.02〜0.3であることが好ましく、より好ましくは0.05〜0.2である。Aは0以上0.01以下であることが好ましく0であることが特に好ましい。Bは0.02〜0.5であることが好ましく、0.05〜0.3であることが特に好ましい。   In the present invention, the backcoat layer and the undercoat layer (slip layer) on the backcoat layer side preferably contain a polyester resin, an acrylic resin or a polyurethane resin. Let A be the mass ratio of the total amount of the polyester resin, acrylic resin or polyurethane resin in the backcoat layer to the total binder amount of the backcoat layer. When the mass ratio of the total amount of the polyester resin, acrylic resin or polyurethane resin in the undercoat layer on the backcoat layer side to the total binder amount in the undercoat layer is B, it is preferable that B> A. Here, the crosslinking agent is included in the binder. Polyester resin, acrylic resin or polyurethane resin is used as an adhesion promoting binder on the backcoat layer side in order to improve the adhesive layer with the support. However, it has been found that these adhesion promoting binders affect in-machine contamination during heat development. Therefore, the amount of the adhesion promoting binder existing on the surface of the back coat layer that contacts the heat development apparatus is reduced as much as possible, and the adhesion promoting binder is contained in the undercoat layer, so that the adhesion to the support is maintained. The occurrence of in-machine contamination in the heat developing apparatus has been improved. Here, the value of (B-A) is preferably 0.02 to 0.3, more preferably 0.05 to 0.2. A is preferably 0 or more and 0.01 or less, and particularly preferably 0. B is preferably 0.02 to 0.5, particularly preferably 0.05 to 0.3.

またスリップ層と感光性層を同時重層塗布した場合の塗布むらの改良効果は感光性層の塗布速度が25m/分以上の時に顕著であり、特に30m/分以上、さらには35m/分以上と塗布速度が増加するにつれて改良の程度は増してくる。塗布速度は大きい方が生産性の点から好ましいが通常300m/分以下であり、200m/分以下とするのが塗布性を維持する点から好ましい。スリップ層は水系でも有機溶媒を使用する溶媒系でも良いが、感光性層が水系である場合は水系で、感光性層が有機溶媒系である場合は有機溶媒系である方が同時重層塗布を行ううえで好ましい。アクリル樹脂やポリウレタンを水系で使用する場合は水溶性のアクリル樹脂やポリウレタンを使用するか、水分散性のラテックスとして使用することが好ましい。   Further, the effect of improving the coating unevenness when the slip layer and the photosensitive layer are applied simultaneously is remarkable when the coating speed of the photosensitive layer is 25 m / min or more, particularly 30 m / min or more, and further 35 m / min or more. The degree of improvement increases as the coating speed increases. A higher coating speed is preferable from the viewpoint of productivity, but is usually 300 m / min or less, and 200 m / min or less is preferable from the viewpoint of maintaining coatability. The slip layer may be water-based or solvent-based using an organic solvent. However, if the photosensitive layer is water-based, the water-based layer is used. It is preferable in carrying out. When the acrylic resin or polyurethane is used in an aqueous system, it is preferable to use a water-soluble acrylic resin or polyurethane, or a water-dispersible latex.

(構成層の塗布)
本発明に係る熱現像感光材料は、上述した各構成層の素材を溶媒に溶解または分散させた塗布液を作り、それら塗布液を複数同時に重層塗布した後、加熱処理を行って形成されることが好ましい。ここで「複数同時に重層塗布」とは、各構成層(例えば、感光性層、保護層)の塗布液を作製し、これを支持体へ塗布する際に各層個別に塗布、乾燥の繰り返しをするのではなく、同時に重層塗布を行い乾燥する工程も同時に行える状態で各構成層を形成しうることを意味する。即ち、下層中の全溶剤の残存量が70質量%以下(より好ましくは90質量%以下)となる前に、上層を設けることである。
(Application of component layers)
The photothermographic material according to the present invention is formed by preparing a coating solution in which the above-described constituent materials are dissolved or dispersed in a solvent, applying a plurality of these coating solutions simultaneously, and then performing a heat treatment. Is preferred. Here, "multiple simultaneous multi-layer coating" means that a coating solution for each constituent layer (for example, a photosensitive layer, a protective layer) is prepared, and each layer is repeatedly coated and dried when it is coated on a support. Instead, it means that each constituent layer can be formed in such a state that a multilayer coating and drying process can be performed simultaneously. That is, the upper layer is provided before the remaining amount of all the solvents in the lower layer reaches 70% by mass or less (more preferably 90% by mass or less).

各構成層を複数同時に重層塗布する方法には特に制限はなく、例えば、バーコーター法、カーテンコート法、浸漬法、エアーナイフ法、ホッパー塗布法、リバースロール塗布法、グラビア塗布法、エクストリュージョン塗布法等の公知の方法を用いることができる。   There are no particular restrictions on the method of applying multiple layers simultaneously to each constituent layer, for example, bar coater method, curtain coating method, dipping method, air knife method, hopper coating method, reverse roll coating method, gravure coating method, and extrusion. A known method such as a coating method can be used.

上記の各種方法のうち、より好ましくはスライド塗布法、エクストリュージョン塗布法である。これらの塗布方法は感光性層を有する側について述べたが、バック層を設ける際、下引きと共に塗布する場合についても同様である。熱現像感光材料における同時重層塗布方法に関しては、特開2000−15173号公報に詳細な記載がある。   Of the various methods described above, the slide coating method and the extrusion coating method are more preferable. These coating methods have been described on the side having the photosensitive layer, but the same applies to the case of coating with undercoating when the back layer is provided. Regarding the simultaneous multilayer coating method in the photothermographic material, there is a detailed description in JP-A No. 2000-15173.

尚、本発明において、塗布銀量は熱現像感光材料の目的に応じた適量を選ぶことが好ましいが、医療用画像を目的とする場合には、0.3g/m2以上、1.5g/m2以下が好ましい。0.5g/m2以上、1.4g/m2以下がより好ましく、0.7g/m2以上、1.2g/m2以下が特に好ましい。当該塗布銀量のうち、ハロゲン化銀に由来するものは全銀量に対して2〜18%を占めることが好ましい、更には5〜15%が好ましい。 In the present invention, the silver coating amount is preferably selected in accordance with the purpose of the photothermographic material. However, for the purpose of medical images, 0.3 g / m 2 or more, 1.5 g / m. m 2 or less is preferable. 0.5 g / m 2 or more and 1.4 g / m 2 or less are more preferable, and 0.7 g / m 2 or more and 1.2 g / m 2 or less are particularly preferable. Among the applied silver amounts, those derived from silver halide preferably account for 2 to 18%, more preferably 5 to 15%, based on the total silver amount.

また、本発明において、0.01μm以上(球相当換算粒径)のハロゲン化銀粒子の塗布密度は1×1014個/m2以上、1×1018個/m2以下が好ましい。更には1×1015個/m2以上、1×1017個/m2以下が好ましい。 In the present invention, the coating density of silver halide grains having a particle diameter of 0.01 μm or more (equivalent particle diameter equivalent to a sphere) is preferably 1 × 10 14 particles / m 2 or more and 1 × 10 18 particles / m 2 or less. Furthermore, 1 × 10 15 pieces / m 2 or more and 1 × 10 17 pieces / m 2 or less are preferable.

更に、前記の非感光性長鎖脂肪族カルボン酸銀の塗布密度は、0.01μm以上(球相当換算粒径)のハロゲン化銀粒子1個当たり、1×10-17g以上、1×10-14g以下が好ましく、1×10-16g以上、1×10-15g以下がより好ましい。 Furthermore, the coating density of the non-photosensitive long-chain aliphatic carboxylate is 1 × 10 −17 g or more, 1 × 10 1 per silver halide grain of 0.01 μm or more (equivalent particle diameter equivalent to sphere). -14 g or less is preferable, and 1 x 10 -16 g or more and 1 x 10 -15 g or less are more preferable.

上記のような範囲内の条件において塗布した場合には、一定塗布銀量当たりの銀画像の光学的最高濃度、即ち銀被覆量(カバーリング・パワー)及び銀画像の色調等の観点から好ましい結果が得られる。   In the case of coating under the conditions within the above range, preferable results are obtained from the viewpoint of the optical maximum density of the silver image per fixed coating silver amount, that is, the silver coating amount (covering power) and the color tone of the silver image. Is obtained.

本発明においては、熱現像感光材料が現像時に溶剤を5〜1,000mg/m2の範囲で含有していることが好ましい。10〜150mg/m2であるように調整することがより好ましい。それにより、高感度、低カブリ、最高濃度の高い熱現像感光材料となる。溶剤としては、特開2001−264930号公報の段落「0030」に記載のものが挙げられる。但し、これらに限定されるものではない。また、これらの溶剤は単独または数種類組合せて用いることができる。 In the present invention, the photothermographic material preferably contains a solvent in the range of 5 to 1,000 mg / m 2 during development. It is more preferable to adjust so that it may be 10-150 mg / m < 2 >. As a result, the photothermographic material has high sensitivity, low fog, and high maximum density. Examples of the solvent include those described in paragraph “0030” of JP-A No. 2001-264930. However, it is not limited to these. These solvents can be used alone or in combination of several kinds.

尚、熱現像感光材料中の上記溶剤の含有量は塗布工程後の乾燥工程等における温度条件等の条件変化によって調整できる。また、当該溶剤の含有量は、含有させた溶剤を検出するために適した条件下におけるガスクロマトグラフィーで測定できる。   The content of the solvent in the photothermographic material can be adjusted by changing conditions such as a temperature condition in a drying process after the coating process. The content of the solvent can be measured by gas chromatography under conditions suitable for detecting the contained solvent.

(包装体)
以下において、本発明で好ましく用いられるシート状記録材料の包装方法およびシート状記録材料包装体について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
(Packaging body)
Hereinafter, the sheet-shaped recording material packaging method and the sheet-shaped recording material package preferably used in the present invention will be described in detail. In the present specification, “to” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.

本発明においては、裁断工程および/または包装工程を、クリーン度が米国連邦基準209dクラス10,000以下の環境において行うことが好ましい。クリーン度が米国連邦基準209dクラス10,000以下の環境において行うことで熱現像時の熱現像装置の機内汚染の程度を著しく改良することができる。裁断工程および/または包装工程を、クリーン度が米国連邦基準209dクラス10,000以下の環境において行うことで熱現像装置の機内汚染が改良されることの原因は不明であるが、例えば以下の理由が考えられる。熱現像時に裁断工程および/または包装工程から持ち込まれて熱現像感光材料に付着していた切り屑や塵埃が熱現像装置内のローラ等の搬送部材に付着し、そのことがきっかけとなり、熱現像感光材料の裁断面から脱落した切り屑がそこに蓄積してゆくことで機内汚染が発生する。   In the present invention, it is preferable that the cutting process and / or the packaging process be performed in an environment having a cleanliness of US Federal Standard 209d class 10,000 or less. By performing the cleaning in an environment of US Federal Standard 209d class 10,000 or less, the degree of in-machine contamination of the heat developing apparatus during heat development can be remarkably improved. Although the cause of the improvement of in-machine contamination of the heat developing apparatus by performing the cutting process and / or the packaging process in an environment having a cleanness of US Federal Standard 209d class 10,000 or less is unclear, for example, the following reasons Can be considered. Chips and dust brought in from the cutting process and / or packaging process during heat development and adhering to the photothermographic material adhere to transport members such as rollers in the heat development apparatus, which is the cause of heat development. In-machine contamination occurs when chips dropped from the cut surface of the photosensitive material accumulate there.

ここでいう米国連邦基準209dクラスとは、クリーンルームの規格を示すものである。米国連邦基準209dクラス10,000以下の環境とは、粒子サイズ0.5μm以上の粒子の累積個数が10,000個/ft3(1ft3は28,320cm3である)以下であり、粒子サイズ5.0μm以上の粒子の累積個数が65個/ft3以下である環境をいう。 The US federal standard 209d class here indicates a clean room standard. The U.S. Standard 209d class 10,000 environment below 10,000 cumulative number particle size 0.5μm or more particles / ft 3 (1ft 3 is 28,320cm 3) or less, the particle size An environment in which the cumulative number of particles of 5.0 μm or more is 65 particles / ft 3 or less.

このような条件を満たす環境はクリーンルーム内で形成することができるが、本発明の方法は必ずしもクリーンルーム内で実施する場合に限定されるものではない。すなわち、シート状記録材料の裁断や包装を行う装置全体をクリーンルーム内に入れて加工することは必ずしも必要とされない。例えば、裁断から包装に至る装置内に、シート状記録材料に気流をあてる機構を設けておき、シート状記録材料がクリーン度が米国連邦基準209dクラス10,000以下の環境に保たれるようにして加工することもできる。   An environment satisfying such conditions can be formed in a clean room, but the method of the present invention is not necessarily limited to the case where the method is performed in a clean room. That is, it is not always necessary to process the entire apparatus for cutting and packaging the sheet-like recording material in a clean room. For example, a mechanism for applying an air flow to the sheet-like recording material is provided in the apparatus from cutting to packaging so that the sheet-like recording material is maintained in an environment of US Federal Standard 209d class 10,000 or less. Can also be processed.

クリーン度が米国連邦基準209dクラス10,000以下の環境に保つ必要があるのは、裁断工程か包装工程の少なくとも一方である。好ましくは、裁断工程の環境が米国連邦基準209dクラス10,000以下である場合であり、より好ましくは裁断工程と包装工程がともに米国連邦基準209dクラス10,000以下である場合である。   It is at least one of the cutting process and the packaging process that the degree of cleanliness needs to be maintained in an environment of US standard 209d class 10,000 or less. Preferably, the cutting process environment is US Federal Standard 209d class 10,000 or less, and more preferably, both the cutting process and the packaging process are US Federal Standard 209d class 10,000 or less.

本明細書でいう裁断工程とは、シート状記録材料を所定のサイズに切断する工程を意味し、通常は使用時のサイズ(A4、半切など)に切断する工程をさす。切断回数は特に制限されず、1回であっても複数回であってもよい。また、縦方向にまとめて切断して一端ストライプ状の記録材料を形成しておき、その後に横方向に切断して所定のサイズにしてもよい。さらに切断時に用いられる切断手段や切断装置についても特に制限されない。   The cutting process referred to in this specification means a process of cutting the sheet-shaped recording material into a predetermined size, and usually refers to a process of cutting into a size (A4, half-cut, etc.) at the time of use. The number of times of cutting is not particularly limited, and may be once or a plurality of times. Alternatively, the recording material may be cut in the vertical direction to form a stripe-shaped recording material, and then cut in the horizontal direction to have a predetermined size. Further, the cutting means and the cutting device used at the time of cutting are not particularly limited.

本明細書でいう包装工程とは、シート状記録材料そのものを画像記録装置に装着する場合は当該シート状記録材料を包装するステップを少なくとも含む工程を意味するものである。シート状記録材料を装填した装填物を画像記録装置に装着する場合は当該シート状記録材料装填物を包装するステップを少なくとも含む工程を意味するものである。すなわち、画像記録装置に装着するシート状記録材料またはシート状記録材料装填物を包装する工程を意味する。包装手段や包装装置については特に制限されない。   In the present specification, the packaging process means a process including at least a step of packaging the sheet-shaped recording material when the sheet-shaped recording material itself is attached to the image recording apparatus. When the load loaded with the sheet-like recording material is mounted on the image recording apparatus, it means a process including at least a step of packaging the sheet-like recording material load. That is, it means a step of packaging a sheet-like recording material or a sheet-like recording material load to be mounted on the image recording apparatus. The packaging means and the packaging device are not particularly limited.

裁断工程から包装工程に至る間は、必ずしもクリーン度は米国連邦基準209dクラス10,000以下である必要はないが、米国連邦基準209dクラス10,000以下の環境に維持しておくことが好ましい。また、製造後のシート状記録材料を裁断するまでの間についても、同様である。裁断工程におけるクリーン度が米国連邦基準209dに準じた計測方法でクラス7,000以下であることが好ましい。4,000以下であることがより好ましく、1,000以下であることがさらにより好ましく、500以下であることが特に好ましい。包装工程におけるクリーン度は米国連邦基準209dに準じた計測方法でクラス7,000以下であることが好ましく、4,000以下であることがより好ましく、1,000以下であることがさらにより好ましく、500以下であることが特に好ましい。   During the process from the cutting process to the packaging process, the cleanliness level does not necessarily need to be US federal standard 209d class 10,000 or less, but it is preferable to maintain an environment of US federal standard 209d class 10,000 or less. The same applies to the time until the manufactured sheet-like recording material is cut. The degree of cleanliness in the cutting process is preferably class 7,000 or less by a measuring method according to the US Federal Standard 209d. It is more preferably 4,000 or less, even more preferably 1,000 or less, and particularly preferably 500 or less. The degree of cleanliness in the packaging process is preferably a class 7,000 or less, more preferably 4,000 or less, even more preferably 1,000 or less, by a measurement method according to the US Federal Standard 209d, Particularly preferably, it is 500 or less.

本発明において、シート状記録材料を包装するために用いる包装材料は、粉塵を発生しにくいものの中から選択することが好ましい。特に、包装材料に由来する粉塵によってクリーン度が米国連邦基準209dクラス10,000以下の環境が維持できなくなる場合は、そのような包装材料を選択しないことが好ましい。   In the present invention, the packaging material used for packaging the sheet-like recording material is preferably selected from those that do not easily generate dust. In particular, it is preferable not to select such a packaging material when the dust derived from the packaging material makes it impossible to maintain an environment with a cleanness of US Federal Standard 209d class 10,000 or less.

本発明に係る熱現像感光材料を保存する場合は、経時での濃度変化やカブリ発生を防止するため、もしくはカール、巻癖などを改良するために、酸素透過率および/または水分透過率の低い包装材料で包装することが好ましい。酸素透過率は25℃で50ml/atm・m2・day(尚、1atmは1.01325×105Paである)以下であることが好ましく、より好ましくは10ml/atm・m2・day以下、さらに好ましくは1.0ml/atm・m2・day以下である。水分透過率は0.01g/m2・40℃・90%RH・day以下(JIS Z0208カップ法による)であることが好ましく、より好ましくは0.005g/m2・40℃・90%RH・day以下、さらに好ましくは0.001g/m2・40℃・90%RH・day以下である。 When the photothermographic material according to the present invention is stored, the oxygen permeability and / or moisture permeability is low in order to prevent density change and fog generation with time, or to improve curling and curling. It is preferable to package with a packaging material. The oxygen permeability is preferably 50 ml / atm · m 2 · day or less at 25 ° C. (where 1 atm is 1.01325 × 10 5 Pa), more preferably 10 ml / atm · m 2 · day or less, More preferably, it is 1.0 ml / atm · m 2 · day or less. The moisture permeability is preferably 0.01 g / m 2 · 40 ° C · 90% RH · day or less (according to JIS Z0208 cup method), more preferably 0.005 g / m 2 · 40 ° C. · 90% RH · Day or less, more preferably 0.001 g / m 2 · 40 ° C · 90% RH · day or less.

熱現像感光材料用の包装材料の具体例としては、たとえば特開平8−254793号、特開2000−206653号、特開2000−235241号、特開2002−062625号、特開2003−015261号、特開2003−057790号、特開2003−084397号、特開2003−098648号、特開2003−098635号、特開2003−107635号、特開2003−131337号、特開2003−146330号、特開2003−226439、特開2003−228152号公報明細書に記載されている包装材料である。また包装体内の空隙率は0.01〜10%、好ましくは0.02〜5%とするのがよく、窒素封入を行って包装体内の窒素分圧を80%以上、好ましくは90%以上とするのがよい。また包装体内の相対湿度は10%以上60%以下、好ましくは40%以上、55%以下とするのが良い。   Specific examples of the packaging material for the photothermographic material include, for example, JP-A-8-254793, JP-A-2000-206653, JP-A-2000-235241, JP-A-2002-062625, JP-A-2003-015261, JP 2003-057990 A, JP 2003-084397 A, JP 2003-098648 A, JP 2003-098635 A, JP 2003-107635 A, JP 2003-131337 A, JP 2003-146330 A, Special It is a packaging material described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-226439 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-228152. The void ratio in the package is 0.01 to 10%, preferably 0.02 to 5%. Nitrogen sealing is performed so that the nitrogen partial pressure in the package is 80% or more, preferably 90% or more. It is good to do. The relative humidity in the package is 10% to 60%, preferably 40% to 55%.

(熱現像装置)
本発明に用いることのできる熱現像装置は、画像露光部と熱現像部とを有しているものが好ましい。それぞれについて説明する。
(Heat development device)
The thermal development apparatus that can be used in the present invention preferably has an image exposure unit and a thermal development unit. Each will be described.

(画像露光部)
画像露光は、従来知られているいかなる方法によって行っても良い。好ましい画像露光は、レーザによる走査露光である。レーザとしていかなるレーザも用いることができる。好ましくは、赤〜赤外発光のHe−Neレーザ、赤色半導体レーザ、あるいは青〜緑発光のAr+、He−Ne、He−Cdレーザ、青色半導体レーザである。好ましくは、赤色〜赤外半導体レーザであり、レーザ光のピーク波長は、600nm〜900nm、好ましくは620nm〜850nmである。
(Image exposure part)
Image exposure may be performed by any conventionally known method. A preferred image exposure is scanning exposure with a laser. Any laser can be used as the laser. Preferred are a red to infrared emitting He—Ne laser, a red semiconductor laser, or a blue to green emitting Ar + , He—Ne, He—Cd laser, and a blue semiconductor laser. Preferably, it is a red to infrared semiconductor laser, and the peak wavelength of the laser beam is 600 nm to 900 nm, preferably 620 nm to 850 nm.

一方、近年、特に、SHG(Second Harmonic Generator)素子と半導体レーザを一体化したモジュールや青色半導体レーザが開発されてきて、短波長領域のレーザ出力装置がクローズアップされてきた。青色半導体レーザは、高精細の画像記録が可能であること、記録密度の増大、かつ長寿命で安定した出力が得られることから、今後需要が拡大していくことが期待されている。青色レーザ光のピーク波長は、300nm〜500nm、特に400nm〜500nmが好ましい。   On the other hand, in recent years, in particular, a module in which an SHG (Second Harmonic Generator) element and a semiconductor laser are integrated and a blue semiconductor laser have been developed, and a laser output device in a short wavelength region has been closed up. The blue semiconductor laser is expected to increase in demand in the future because it is capable of high-definition image recording, an increase in recording density, and a stable output with a long lifetime. The peak wavelength of the blue laser light is preferably 300 nm to 500 nm, particularly preferably 400 nm to 500 nm.

レーザ光は、高周波重畳などの方法によって縦マルチに発振していることも好ましく用いられる。   It is also preferable that the laser light is oscillated in a vertical multi by a method such as high frequency superposition.

(熱現像部)
熱現像部は、熱現像感光材料を熱現像温度に加熱する加熱手段を有する。加熱手段は、熱現像感光材料の搬送路に沿って前記熱現像感光材料の一方の面を加熱するごとく配設された2つの加熱部分を有することが好ましい。
(Heat development part)
The heat developing section has a heating means for heating the photothermographic material to a heat developing temperature. The heating means preferably has two heating portions arranged so as to heat one surface of the photothermographic material along the conveyance path of the photothermographic material.

さらに好ましくは、前記加熱手段が、第一の加熱手段を通過後、第二の加熱手段を通過することにより熱現像されるごとく配設され、前記第一の加熱手段の熱容量が前記第二の加熱手段の熱容量に比較して1.2倍以上大きい。好ましくは、1.3倍以上大きく、さらに好ましくは1.5倍以上大きい。   More preferably, the heating means is disposed so as to be thermally developed by passing through the second heating means after passing through the first heating means, and the heat capacity of the first heating means is the second heating means. It is 1.2 times or more larger than the heat capacity of the heating means. Preferably, it is 1.3 times or more larger, more preferably 1.5 times or more larger.

また、特に好ましくは、前記第一の加熱手段および前記第二の加熱手段は、各々前記熱現像感光材料の搬入入口側が出口側より加熱温度が高い。   Particularly preferably, each of the first heating unit and the second heating unit has a higher heating temperature at the carry-in entrance side of the photothermographic material than at the exit side.

好ましくは、前記第一の加熱手段および前記第二の加熱手段は、各々加熱部材と該加熱部材に前記熱現像感光材料を押当する部材を有する。より好ましくは、前記加熱部材が電気抵抗体のコイルを熱源とし、前記第一の加熱手段のコイル密度が第二の加熱手段のコイル密度に比較して1.2倍以上大きい。また、好ましくは、前記加熱部材がヒートプレートである。   Preferably, each of the first heating unit and the second heating unit includes a heating member and a member that presses the photothermographic material against the heating member. More preferably, the heating member uses an electric resistor coil as a heat source, and the coil density of the first heating means is 1.2 times or more larger than the coil density of the second heating means. Preferably, the heating member is a heat plate.

本発明に用いることの出来る熱現像装置は、熱現像部のヒートプレートが熱現像感光材料の搬送方向に対して搬送入口側で加熱温度が高くなるように構成されることが好ましい。搬送方向の上流側から熱現像温度に満たない熱現像感光材料が搬入された際に、該熱現像感光材料を所定の熱現像温度まで加熱する時間を短縮することができ、熱現像時間を十分に確保することができる。したがって、熱現像された熱現像感光材料の画像の濃度が低下することを防止することができる。   The heat developing apparatus that can be used in the present invention is preferably configured such that the heating temperature of the heat plate of the heat developing unit is higher on the conveyance inlet side with respect to the conveyance direction of the photothermographic material. When a photothermographic material less than the heat development temperature is carried in from the upstream side in the transport direction, the time for heating the photothermographic material to a predetermined heat development temperature can be shortened, and the heat development time is sufficient. Can be secured. Therefore, it is possible to prevent the image density of the heat-developable photosensitive material from being lowered.

また、熱現像を行うヒートプレートに熱現像温度に満たない熱現像感光材料が搬入された場合に、該熱現像感光材料との接触によって熱が吸収されても、ヒートプレートにおける搬送入口側で加熱温度を高くしておくことで必要な温度を確保することができる。その結果、熱現像を行うヒートプレートが熱現像温度より低くなることを防止することができる。   Also, when a photothermographic material less than the photothermographic temperature is carried into a heat plate for heat development, even if heat is absorbed by contact with the photothermographic material, it is heated at the conveyance inlet side of the heat plate. The required temperature can be secured by keeping the temperature high. As a result, it is possible to prevent the heat plate that performs heat development from becoming lower than the heat development temperature.

上記熱現像装置は、ヒートプレートには発熱部材が設けられ、該発熱部材が、ヒートプレートのヒータワット密度を熱現像感光材料の搬送方向に対して変化させ、且つ、搬送入口側のヒータワット密度が高くなるように配置されていることが好ましい。こうすれば、ヒートプレートの発熱部材に制御可能な熱供給手段を接続し、熱供給手段を制御することで電気容量を変化させることで、搬送入口側が高温になる状態を維持しつつ、ヒートプレートの加熱温度を設定することができる。   In the heat developing apparatus, the heat plate is provided with a heat generating member, the heat generating member changes the heater watt density of the heat plate with respect to the transport direction of the photothermographic material, and the heater watt density on the transport inlet side is high. It is preferable to arrange so as to be. In this way, a controllable heat supply means is connected to the heat generating member of the heat plate, and the electric capacity is changed by controlling the heat supply means, so that the heat plate is maintained at a high temperature while maintaining the high temperature on the conveyance inlet side. The heating temperature can be set.

上記熱現像装置は、発熱部材が、ヒートプレートにおける熱現像感光材料の搬送方向に直行する方向に亘って折り返し配置された線状の熱線であって、熱現像感光材料の搬送方向における搬送入口側で熱線の間隔が狭いことが好ましい。こうすれば、ヒートプレートの内部に線状の熱線を間欠させることなく延設することができる。そして、熱現像時には熱線を発熱させれば、ヒートプレートの所定の部位ごとに温度を制御するといった複雑な構成を要することなく、熱線が密に配置された搬送入口側の加熱温度が高くなる状態を維持しつつ、ヒートプレート全体を加熱することができる。   The heat development apparatus is a linear heat wire in which the heat generating member is folded back in a direction orthogonal to the conveyance direction of the photothermographic material on the heat plate, and is on the conveyance inlet side in the conveyance direction of the photothermographic material It is preferable that the distance between the heat rays is narrow. If it carries out like this, it can be extended without making a linear heat ray intermittent in the inside of a heat plate. And, if the heat rays are generated at the time of heat development, the heating temperature on the conveyance inlet side where the heat rays are densely arranged becomes high without requiring a complicated configuration of controlling the temperature for each predetermined part of the heat plate. The entire heat plate can be heated while maintaining the above.

この熱現像装置によれば、単一のヒートプレートに前加熱部と現像部とが形成され、加熱領域において熱現像感光材料を熱現像温度近傍の温度までに予め加熱し、その後、現像部において熱現像感光材料をできる。また、現像部における上流側の加熱温度を下流側の加熱温度よりも高くすることができる。こうして、現像部において、熱現像感光材料を十分な熱現像温度に加熱することができ、画像の濃度の低下を防止することができる。   According to this thermal development apparatus, the pre-heating unit and the development unit are formed on a single heat plate, and the photothermographic material is preheated to a temperature near the thermal development temperature in the heating region, and then in the development unit. A photothermographic material can be formed. In addition, the heating temperature on the upstream side in the developing unit can be made higher than the heating temperature on the downstream side. In this way, the photothermographic material can be heated to a sufficient heat development temperature in the developing unit, and a reduction in image density can be prevented.

また、単一のヒートプレートで加熱工程と現像工程とを行うことができ、熱現像部にその他のヒートプレートを設ける必要がないため、構造を簡略化、小型化することができ、コストを低減することもできる。   In addition, the heating process and development process can be performed with a single heat plate, and there is no need to provide another heat plate in the heat development section, so the structure can be simplified and miniaturized, and the cost can be reduced. You can also

以下、本発明に用いることのできる熱現像装置を図面に基づいて詳しく説明する。   Hereinafter, a thermal development apparatus that can be used in the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1は、本発明に用いることのできる熱現像装置を示す構成図である。熱現像装置10は、画像記録材料として湿式の現像処理を必要としないシート状の熱現像感光材料Fを使用する。熱現像感光材料Fに入力される画像信号に基づいて変調されたレーザ光Lを照射して潜像を形成した後に、該熱現像感光材料Fを熱現像することで熱現像感光材料表面に可視像を得る構成である。なお、本発明はこのような構成に限らず、レーザ光Lによってシート状の熱現像感光材料に予め露光して画像を形成するとともに、熱現像感光材料に熱現像のみを行う構成に適用することができる。   FIG. 1 is a block diagram showing a heat development apparatus that can be used in the present invention. The thermal development apparatus 10 uses a sheet-like photothermographic material F that does not require a wet development process as an image recording material. After the latent image is formed by irradiating the laser beam L modulated based on the image signal inputted to the photothermographic material F, the photothermographic material F is thermally developed to allow the surface of the photothermographic material to be developed. This is a configuration for obtaining a visual image. The present invention is not limited to such a configuration, and is applied to a configuration in which a sheet-shaped photothermographic material is exposed in advance by a laser beam L to form an image, and only the photothermographic material is subjected to thermal development. Can do.

熱現像装置10は、熱現像感光材料Fの搬送方向順に、熱現像感光材料供給部Aと、画像露光部Bと、熱現像部Cと、冷却部Dとから概略構成されている。また、各部間の要所に設けられ熱現像感光材料Fを搬送するための搬送手段と、各部を駆動し制御する電源/制御部Eとを備えている。   The thermal development apparatus 10 is generally configured by a thermal development photosensitive material supply unit A, an image exposure unit B, a thermal development unit C, and a cooling unit D in the order of conveyance of the thermal development photosensitive material F. In addition, a transport unit for transporting the photothermographic material F provided at a key point between the units and a power supply / control unit E for driving and controlling the units are provided.

熱現像装置10において、最下段に電源/制御部E、その上段に熱現像感光材料供給部A、更に、その上段に画像露光部Bと熱現像部Cと冷却部Dとが配置された構成となっており、また、画像露光部Bと熱現像部Cとが隣接するように配置された構成である。   In the thermal development apparatus 10, the power supply / control unit E is disposed at the bottom, the photothermographic material supply unit A is disposed at the top, and the image exposure unit B, the thermal development unit C, and the cooling unit D are disposed at the top. In addition, the image exposure unit B and the heat development unit C are arranged adjacent to each other.

この構成によれば、一枚の熱現像感光材料Fに対して露光工程と熱現像工程との両工程を同一の搬送経路において実施することができる。更に、露光工程と熱現像工程を短い搬送距離内で行うことで、熱現像感光材料Fの搬送パス長を最短化し、一枚の出力時間を短縮することができる。   According to this configuration, both the exposure process and the heat development process can be performed on one photothermographic material F on the same transport path. Further, by performing the exposure process and the heat development process within a short transport distance, the transport path length of the photothermographic material F can be minimized and the output time of one sheet can be shortened.

熱現像感光材料Fとしては、厚みが約0.2mm程度(0.1mm〜0.3mm)の熱現像感光材料を使用することができる。熱現像感光材料としては、レーザ光Lによって画像を記録(露光)し、その後、熱現像して発色させるものである。   As the photothermographic material F, a photothermographic material having a thickness of about 0.2 mm (0.1 mm to 0.3 mm) can be used. As the photothermographic material, an image is recorded (exposed) with a laser beam L, and then heat developed to develop a color.

熱現像感光材料供給部Aは、熱現像感光材料Fを一枚ずつ取り出して、熱現像感光材料Fの搬送方向の下流に位置する画像露光部Bに供給する部分である。複数(本実施形態においては2つ)の装填部11a,11bと、各装填部11a,11bにそれぞれ配置される供給ローラ対13a,13bと、不図示の搬送ローラ及び搬送ガイドとを有して構成される。また、二段構成となっている各装填部11a,11bの内部には、異なるサイズの熱現像感光材料Fが収容されたマガジン15a,15bが挿入され、各段に装填されたマガジン15a,15bが熱現像感光材料Fのサイズやその向きに応じて選択的に使用される。なお、装填部は、二段構成に限定されず、三段以上の構成としてもよく、単一の構成としてもよい。   The photothermographic material supply unit A is a part that takes out the photothermographic material F one by one and supplies it to the image exposure unit B located downstream in the transport direction of the photothermographic material F. A plurality (two in the present embodiment) of loading units 11a and 11b, a pair of supply rollers 13a and 13b respectively disposed in the loading units 11a and 11b, and a conveyance roller and a conveyance guide (not shown) are included. Composed. Further, magazines 15a and 15b in which photothermographic materials F of different sizes are accommodated are inserted into the loading sections 11a and 11b having a two-stage configuration, and the magazines 15a and 15b loaded in the respective stages. Is selectively used according to the size and orientation of the photothermographic material F. Note that the loading unit is not limited to a two-stage configuration, and may have a three-stage configuration or a single configuration.

画像露光部Bは、熱現像感光材料供給部Aから搬送されてきた熱現像感光材料Fに対してレーザ光Lを主走査方向に走査露光し、また、主走査方向に略直行する副走査方向(即ち、搬送方向)に搬送する。その結果、所望の画像に応じた潜像を熱現像感光材料F表面における画像形成層に形成する。   The image exposure unit B scans and exposes the laser beam L in the main scanning direction to the photothermographic material F conveyed from the photothermographic material supply unit A, and also performs a sub-scanning direction substantially orthogonal to the main scanning direction. (I.e., transport direction). As a result, a latent image corresponding to the desired image is formed on the image forming layer on the surface of the photothermographic material F.

熱現像感光材料供給部Aと画像露光部Bとの間の搬送路には、幅寄せ機構17が設けられており、熱現像感光材料供給部Aから搬入されてきた熱現像感光材料Fを、その幅方向端部を揃えた状態で画像露光部Bへ供給している。   In the conveyance path between the photothermographic material supply unit A and the image exposure unit B, a width adjusting mechanism 17 is provided, and the photothermographic material F carried in from the photothermographic material supply unit A is The image is supplied to the image exposure unit B with the end portions in the width direction aligned.

熱現像部Cは、走査露光後の熱現像感光材料Fを搬送しながら昇温処理して、熱現像を行う。そして、冷却部Dにおいて現像処理後の熱現像感光材料Fを冷却して、排出トレイ16に搬出する。   The thermal development unit C performs thermal development by performing a temperature rise process while conveying the photothermographic material F after scanning exposure. Then, the photothermographic material F after the development processing is cooled in the cooling unit D and carried out to the discharge tray 16.

図1に示すように、排出トレイ16には、搬出された熱現像感光材料Fを保持するソータSが設けられていれもよい。ソータSは、熱現像装置10に着脱可能な本体65と、該本体65に設けられた複数の搬出ローラ66a,66b,66cを備えている。該複数の搬出ローラ66a,66b,66cによって本体65から搬出された熱現像感光材料Fを保持するため、本体65の上下方向に仕切られた複数の供給部67a,67b,67cとを備えている。ソータSは、搬出ローラ66a,66b,66cのうちいずれかを選択して熱現像感光材料Fを搬出させることで、該搬出ローラ66a,66b,66cに対応する供給部67a,67b,67cのそれぞれに適宜仕分けて保持可能な構成である。なお、ソータSは、熱現像装置の上部に着脱自在な構成とすることができ、必要に応じて省略し、熱現像感光材料Fを排出トレイ16にのみ搬出する構成としてもよい。   As shown in FIG. 1, the discharge tray 16 may be provided with a sorter S that holds the photothermographic material F carried out. The sorter S includes a main body 65 that is attachable to and detachable from the heat developing apparatus 10 and a plurality of carry-out rollers 66a, 66b, and 66c provided on the main body 65. In order to hold the photothermographic material F carried out of the main body 65 by the plurality of carry-out rollers 66a, 66b, 66c, a plurality of supply portions 67a, 67b, 67c partitioned in the vertical direction of the main body 65 are provided. . The sorter S selects any one of the carry-out rollers 66a, 66b, and 66c and carries out the photothermographic material F, whereby each of the supply units 67a, 67b, and 67c corresponding to the carry-out rollers 66a, 66b, and 66c. It is the structure which can be classified and hold | maintained suitably. The sorter S may be configured to be detachable from the upper portion of the heat development apparatus, and may be omitted as necessary, and the heat development photosensitive material F may be carried out only to the discharge tray 16.

画像露光部Bは、レーザ光を走査露光することによって熱現像感光材料Fを露光する走査露光装置40を備えている。この走査露光装置40は、熱現像感光材料Fの搬送面からのばたつきを防止しつつ搬送するばたつき防止機構を有した副走査搬送部18と、走査露光部19とから構成されている。走査露光部19は、別途用意された画像データに従ってレーザの出力を制御しつつ、このレーザ光Lを走査(主走査)させる。このとき熱現像感光材料Fを副走査搬送部18によって副走査方向に移動させる。   The image exposure unit B includes a scanning exposure device 40 that exposes the photothermographic material F by scanning exposure with laser light. The scanning exposure device 40 includes a sub-scanning conveyance unit 18 having a flutter prevention mechanism that conveys the photothermographic material F from the conveyance surface while preventing flapping, and a scanning exposure unit 19. The scanning exposure unit 19 scans (main scans) the laser light L while controlling the laser output in accordance with separately prepared image data. At this time, the photothermographic material F is moved in the sub scanning direction by the sub scanning conveyance unit 18.

副走査搬送部18は、走査するレーザ光Lの主走査ラインを挟んで、回転軸がこの走査ラインに対してそれぞれ略平行に配置された2本の駆動ローラ(搬送手段)21、22を備えている。これら駆動ローラ21、22に対向して配置され、熱現像感光材料Fを支持するガイド板24とを備えている。ガイド板24は、各駆動ローラ21、22との間に挿入される熱現像感光材料Fを、並設されたこれら駆動ローラ21、22同士間の外側で駆動ローラ21、22の周面の一部に沿って撓ませている。その結果生じる該熱現像感光材料Fの弾性反発力によって、駆動ローラ21、22同士間の部位に当接せしめて支持する。   The sub-scanning conveyance unit 18 includes two driving rollers (conveying means) 21 and 22 each having a rotation axis disposed substantially parallel to the scanning line with the main scanning line of the laser beam L to be scanned interposed therebetween. ing. A guide plate 24 that is disposed to face the drive rollers 21 and 22 and supports the photothermographic material F is provided. The guide plate 24 is configured to place the photothermographic material F inserted between the drive rollers 21 and 22 on one side of the peripheral surface of the drive rollers 21 and 22 outside the drive rollers 21 and 22 arranged in parallel. It is bent along the part. Due to the elastic repulsive force of the photothermographic material F generated as a result, it is brought into contact with the portion between the drive rollers 21 and 22 and supported.

このように熱現像感光材料F自身の弾性反発力によって熱現像感光材料Fと駆動ローラ21、22との間に適宜な摩擦力が生じ、駆動ローラ21、22から熱現像感光材料Fへ確実に搬送駆動力が伝達され、熱現像感光材料Fが搬送される。駆動ローラ21、22は、図示しないモータ等の駆動手段の駆動力を歯車やベルト等の伝達手段を介して受けることで、図1中時計回り方向へ回転するように構成されている。   Thus, an appropriate frictional force is generated between the photothermographic material F and the driving rollers 21 and 22 by the elastic repulsive force of the photothermographic material F itself, so that the photothermographic material F is reliably transferred from the driving rollers 21 and 22 to the photothermographic material F. The conveyance driving force is transmitted, and the photothermographic material F is conveyed. The driving rollers 21 and 22 are configured to rotate in the clockwise direction in FIG. 1 by receiving the driving force of driving means such as a motor (not shown) via transmission means such as a gear and a belt.

また、ガイド板24の上面において、熱現像感光材料Fが自身の弾性反発力によって押し付けられて、熱現像感光材料Fの搬送面からのばたつき、即ち、図中上下方向のばたつきが抑制される。そして、この駆動ローラ21、22同士間の熱現像感光材料Fに向けてレーザ光Lを照射することで、露光位置ずれのない良好な記録が行えることになる。   Further, the photothermographic material F is pressed against the upper surface of the guide plate 24 by its own elastic repulsive force, and fluttering from the transport surface of the photothermographic material F, that is, fluttering in the vertical direction in the figure is suppressed. By irradiating the photothermographic material F between the drive rollers 21 and 22 with the laser light L, good recording without exposure position deviation can be performed.

熱現像部Cは、熱現像感光材料Fを加熱処理する加熱部材として、複数(本実施形態では2つ)のヒートプレート51a,51bが設けられ、これらヒートプレート51a,51bが熱現像感光材料Fの搬送経路に沿って円弧状に配置されている。ヒートプレート51a,51bは、搬送される熱現像感光材料Fに接触することによって熱現像を施す加熱手段として機能する。   The heat developing section C is provided with a plurality of (two in this embodiment) heat plates 51a and 51b as heating members for heat-treating the heat developable photosensitive material F, and these heat plates 51a and 51b are provided with the heat developable photosensitive material F. Are arranged in an arc shape along the transfer path. The heat plates 51a and 51b function as heating means for performing heat development by contacting the photothermographic material F being conveyed.

冷却部Dにおいて、熱現像部Cの搬送方向の直ぐ下流側には、熱現像が施された熱現像感光材料Fを更に搬送方向下流へ移送する複数の植毛ローラ57が配設されている。複数の植毛ローラ57は熱現像感光材料の搬送経路に対して千鳥状に配列されている。熱現像部Cから排出された熱現像感光材料Fは、植毛ローラ57によって搬送されたながらガラス転移点以下の温度まで緩やかに冷却される。熱現像感光材料Fを緩やかに冷却する理由は、熱現像直後、熱現像感光材料を急速に冷却すると熱現像感光材料Fにおける搬送方向中央部と端部とで冷却の度合が異なってしまい、熱現像感光材料が例えば波形などに変形した状態で固まってしまう。そのため、熱現像直後は、保温部などを設けてあえて冷却効率を下げて冷却の進行を緩やかにする必要がある。   In the cooling unit D, a plurality of flocking rollers 57 for transferring the heat-developable photothermographic material F further downstream in the transport direction are disposed immediately downstream of the heat development unit C in the transport direction. The plurality of flocking rollers 57 are arranged in a staggered manner with respect to the conveyance path of the photothermographic material. The photothermographic material F discharged from the heat developing portion C is gradually cooled to a temperature below the glass transition point while being conveyed by the flocking roller 57. The reason for slowly cooling the photothermographic material F is that if the photothermographic material is rapidly cooled immediately after the heat development, the degree of cooling at the center and the end in the transport direction of the photothermographic material F is different. The developed photosensitive material is hardened in a state of being deformed into, for example, a waveform. For this reason, immediately after the heat development, it is necessary to provide a heat retaining portion or the like to lower the cooling efficiency and to moderate the progress of the cooling.

熱現像感光材料Fは、植毛ローラ57によって緩やかに冷却された後、熱現像感光材料Fの搬送経路を介して対向する平面を有する一対の金属プレート61の該平面に接触するように搬送される。そして、該金属プレート61によって熱現像感光材料Fの熱が吸収され、シワが発生しないように、かつ、湾曲ぐせがつかないように適宜に冷却される。冷却部Dから排出された熱現像感光材料Fは、搬送ローラ64から下流側の搬出ローラ63に搬送し、搬出ローラ63(又は、66a,66b,66c)から排出トレイ16(又はソータSの各供給部67a,67b,67c)に搬出される。   After the photothermographic material F is gently cooled by the flocking roller 57, the photothermographic material F is conveyed so as to come into contact with the planes of the pair of metal plates 61 having opposed planes through the conveyance path of the photothermographic material F. . Then, the heat of the photothermographic material F is absorbed by the metal plate 61, and is cooled appropriately so as not to cause wrinkles and bend. The photothermographic material F discharged from the cooling unit D is transported from the transport roller 64 to the transport roller 63 on the downstream side, and is transported from the transport roller 63 (or 66a, 66b, 66c) to the discharge tray 16 (or each sorter S). It is carried out to supply part 67a, 67b, 67c).

熱現像感光材料Fは、熱現像時に熱現像部Cにおいて所定の熱現像温度(約120℃)まで加熱される熱現像処理が施されて画像が形成されるが、短時間で急激に熱現像温度まで加熱されると収縮が生じてしまう。そこで、本実施形態の熱現像装置10では、熱現像感光材料Fの搬送方向上流側のヒートプレート50によって予め110℃程度まで加熱し(加熱工程)、その後、下流側に配列された残りのヒートプレート51,52によって上記熱現像温度で熱現像する(現像工程)。また、熱現像部Cに形成されるヒートプレートの個数は3個に限定されず、2個としてもよいし、4個以上としてもよい。ヒートプレートを複数設ける場合には、搬送方向上流側の任意の数のヒートプレートで加熱工程を行い、下流側の残りのヒートプレートで現像工程を行う構成とすることができる。   The photothermographic material F is subjected to a heat development process that is heated to a predetermined heat development temperature (about 120 ° C.) in the heat development part C at the time of heat development, and an image is formed. Shrinkage occurs when heated to temperature. Therefore, in the heat development apparatus 10 of the present embodiment, the heat plate 50 is heated to about 110 ° C. in advance by the heat plate 50 on the upstream side in the conveyance direction of the photothermographic material F (heating process), and then the remaining heat arranged on the downstream side. Thermal development is performed at the thermal development temperature by the plates 51 and 52 (development process). Further, the number of heat plates formed in the heat developing portion C is not limited to three, and may be two or four or more. When a plurality of heat plates are provided, the heating step can be performed with an arbitrary number of heat plates on the upstream side in the transport direction, and the developing step can be performed with the remaining heat plates on the downstream side.

図2は、本実施形態のヒートプレートの構成を模式的に示した図である。図2に示すように、ヒートプレート51は、発熱部材である熱線Hを折り返して配置した構成である。熱線の間隔は、熱現像感光材料は搬入入口側が密であることを特徴とする。   FIG. 2 is a diagram schematically showing the configuration of the heat plate of the present embodiment. As shown in FIG. 2, the heat plate 51 has a configuration in which a heat ray H that is a heat generating member is folded and arranged. The interval between the heat rays is characterized in that the photothermographic material is dense on the carry-in entrance side.

本実施形態のヒートプレート51は、シリコンラバーヒータ等からなる加熱部材全体において、熱線Hを熱現像感光材料の搬送方向に対して直交する方向に亘って熱線Hを折り返しつつ配置する。また、熱線Hが、熱現像感光材料の搬送方向において、搬送入口側51fでの間隔が搬送出口側51rでの間隔より狭くなるように配置され、この結果、ヒートプレート51の搬送入口側51fのヒータワット密度が高い。また、熱線Hの一部がヒートプレート51の外部へ導出されて、加熱温度を制御する熱供給手段70に接続されていてもよい。   The heat plate 51 of the present embodiment is arranged with the heat ray H folded over the entire heating member made of a silicon rubber heater or the like in a direction orthogonal to the conveyance direction of the photothermographic material. Further, the heat rays H are arranged so that the interval on the conveyance inlet side 51f is narrower than the interval on the conveyance outlet side 51r in the conveyance direction of the photothermographic material. As a result, the heat ray H on the conveyance inlet side 51f of the heat plate 51 is arranged. High heater watt density. Further, a part of the heat ray H may be led out of the heat plate 51 and connected to the heat supply means 70 for controlling the heating temperature.

本実施形態によれば、特にヒートプレート51aを上記熱線配置のヒートプレートを用いることが望ましい。それによって、熱現像時に、熱現像温度に満たない熱現像感光材料Fがヒートプレート51aに搬入されても、該ヒートプレート51aが維持すべき熱現像温度より低温になってしまうことを防止することができる。また、ヒートプレート51aに搬送された直前の熱現像感光材料Fを素早く熱現像温度に到達せしめることができる。したがって、本実施形態によれば、熱現像された熱現像感光材料Fの画像の濃度が低下することを防止することができる。   According to the present embodiment, it is particularly desirable to use the heat plate with the heat ray arrangement as the heat plate 51a. Accordingly, even when a photothermographic material F that is less than the heat development temperature is carried into the heat plate 51a during heat development, the heat development temperature is prevented from becoming lower than the heat development temperature that the heat plate 51a should maintain. Can do. Further, the photothermographic material F immediately before being conveyed to the heat plate 51a can be quickly brought to the heat development temperature. Therefore, according to this embodiment, it is possible to prevent the image density of the heat-developable photosensitive material F from being lowered.

本発明においては、ヒートプレート51bも上記熱線配置とするのが好ましい。   In the present invention, the heat plate 51b is also preferably arranged as described above.

本発明で好ましく用いられるレーザイメージャーは、熱現像部のパス長に対する冷却部のパス長の比が1.5以下であり、0.1以上1.2以下であることがより好ましく、0.2以上1.0以下であることが特に好ましい。ここで、熱現像部のパス長とは、熱現像装置において熱現像感光材料が現像温度に加熱された搬送パス長である。また、冷却部のパス長とは、熱現像部以降、熱現像感光材料がレーザイメージャーによって遮光された領域からレーザイメージャーの設置されている室内光下へと熱現像感光材料が排出されるまでのパス長をいう。   In the laser imager preferably used in the present invention, the ratio of the path length of the cooling section to the path length of the heat developing section is 1.5 or less, more preferably 0.1 or more and 1.2 or less. It is especially preferable that it is 2 or more and 1.0 or less. Here, the path length of the heat developing unit is a transport path length in which the photothermographic material is heated to the developing temperature in the heat developing apparatus. Further, the path length of the cooling unit means that the photothermographic material is discharged from the area where the photothermographic material is shielded by the laser imager to the room light where the laser imager is installed. The path length until.

また、前記レーザイメージャーが熱現像感光材料の支持体を挟んで感光性層を有しない側の面(以下において、「非感光面」という。)の冷却速度を感光性層を有する側の面(以下において、「感光面」という。)の冷却速度より大きくし得る機能を有することが好ましい。   Further, the cooling speed of the surface on which the laser imager does not have the photosensitive layer (hereinafter referred to as “non-photosensitive surface”) across the support of the photothermographic material is adjusted to the surface on the side having the photosensitive layer. It is preferable that it has a function capable of being larger than the cooling rate (hereinafter referred to as “photosensitive surface”).

本発明において感光面の冷却速度に対する、非感光面の冷却速度の比は1.1以上であることが好ましい。より好ましくは1.1〜5.0、最も好ましくは1.5〜3.0である。非感光面の冷却速度を速くする手段は特に問わないが、非感光面を直接金属板、金属ローラ、不織布、植毛されたローラに接触させることは好ましい態様である。さらに好ましくはこれらの部材に蓄積される熱を積極的に外部に排出させるためヒートシンクやヒートパイプを併用することも望ましい形態である。   In the present invention, the ratio of the cooling rate of the non-photosensitive surface to the cooling rate of the photosensitive surface is preferably 1.1 or more. More preferably, it is 1.1-5.0, Most preferably, it is 1.5-3.0. The means for increasing the cooling rate of the non-photosensitive surface is not particularly limited, but it is a preferred embodiment that the non-photosensitive surface is directly brought into contact with a metal plate, a metal roller, a non-woven fabric, or a flocked roller. More preferably, it is also desirable to use a heat sink or a heat pipe together in order to positively discharge the heat accumulated in these members to the outside.

熱現像部のパス長に対する冷却部のパス長の比が1.5以下の冷却部のパス長が短いレーザイメージャーによって、小型で、処理速度の速いレーザイメージャーを提供することが可能である。   It is possible to provide a small-sized laser imager with a high processing speed by using a laser imager with a short path length of the cooling unit whose ratio of the path length of the cooling unit to the path length of the heat developing unit is 1.5 or less. .

熱現像部を出たあと排出されるまでの冷却時間は任意であるが、0秒以上25秒以下であることが好ましい。より好ましくは0秒以上15秒以下、特に好ましくは5秒以上15秒以下である。   The cooling time from the exit from the heat development portion to the discharge is arbitrary, but it is preferably from 0 second to 25 seconds. More preferably, it is 0 second or more and 15 seconds or less, and particularly preferably 5 seconds or more and 15 seconds or less.

熱現像部を出たあと排出までの熱現像感光材料の通過するパス長は任意であるが、1cm以上60cm以下であることが好ましい。より好ましくは5cm以上50cm以下、さらに好ましくは5cm以上40cm以下である。   The path length through which the photothermographic material passes after leaving the heat developing portion and before discharging is arbitrary, but is preferably 1 cm or more and 60 cm or less. More preferably, they are 5 cm or more and 50 cm or less, More preferably, they are 5 cm or more and 40 cm or less.

本発明の熱現像感光材料はいかなる方法で現像されても良いが、通常イメージワイズに露光した当該熱現像感光材料を昇温して現像される。好ましい現像温度としては80〜250℃であり、好ましくは100〜140℃、さらに好ましくは110〜130℃である。現像時間としては、1〜10秒が好ましく、より好ましくは2〜10秒、さらに好ましくは3〜10秒である。加熱温度が80℃未満では短時間に十分な画像濃度が得られず、又、200℃を超えるとバインダーが溶融し、ローラへの転写等画像そのものだけでなく、搬送性や現像機等へも悪影響を及ぼす。加熱することで有機銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化還元反応により銀画像を生成する。この反応過程は、外部からの水等の処理液の供給を一切行わないで進行する。熱現像処理に要する時間(熱現像感光材料がトレイ部でピックアップされてから排出されるまでにかかる時間)は60秒以下であることが好ましく、10秒以上、50秒以下とすることが緊急時の診断にも対応できてより好ましい。   The photothermographic material of the present invention may be developed by any method, but is usually developed by raising the temperature of the photothermographic material exposed imagewise. The preferred development temperature is 80 to 250 ° C, preferably 100 to 140 ° C, more preferably 110 to 130 ° C. The development time is preferably 1 to 10 seconds, more preferably 2 to 10 seconds, and further preferably 3 to 10 seconds. If the heating temperature is less than 80 ° C., sufficient image density cannot be obtained in a short time. If the heating temperature exceeds 200 ° C., the binder melts, and not only the image itself such as transfer to a roller but also transportability and developing machine etc. Adversely affect. By heating, a silver image is generated by an oxidation-reduction reaction between an organic silver salt (which functions as an oxidizing agent) and a reducing agent. This reaction process proceeds without any supply of treatment liquid such as water from the outside. The time required for the heat development process (the time required for the photothermographic material to be picked up and discharged from the tray portion) is preferably 60 seconds or less, and 10 seconds or more and 50 seconds or less is an emergency. It is more preferable that it can cope with the diagnosis.

熱現像の方式としてはドラム型ヒータ、プレート型ヒータのいずれを使用してもよいが、プレートヒータ方式がより好ましい。プレートヒータ方式による熱現像方式は、特開平11−133572号に記載の方法、露光によりハロゲン化銀粒子上に潜像を形成した熱現像感光材料を熱現像部にて加熱手段に接触させることにより可視像を得るレーザイメージャーである。前記加熱手段がプレートヒータからなり、かつ前記プレートヒータの一方の面に沿って複数個の押えローラが対向配設され、前記押えローラと前記プレートヒータとの間に前記熱現像感光材料を通過させて熱現像を行う。   Either a drum type heater or a plate type heater may be used as the thermal development method, but the plate heater method is more preferable. The heat development method using a plate heater method is a method described in JP-A-11-133572, in which a photothermographic material in which a latent image is formed on silver halide grains by exposure is brought into contact with a heating means in a heat development unit. It is a laser imager that obtains a visible image. The heating means comprises a plate heater, and a plurality of pressing rollers are disposed to face each other along one surface of the plate heater, and the photothermographic material is passed between the pressing roller and the plate heater. Heat development.

露光部および熱現像部および冷却部における熱現像感光材料の線速度は任意であるが、より速いほうが迅速処理、スループットの向上のためには好ましい。好ましい線速度は20mm/秒以上100mm/秒以下、より好ましくは25mm/秒以上80mm/秒以下、さらに好ましくは25mm/秒以上60mm/秒以下である。搬送速度をこの範囲とすることにより、熱現像時の熱現像装置内の機内汚染、及び搬送性を改良でき、また処理時間が短縮できるため、緊急時の診断にも対応できて好ましい。   The linear velocity of the photothermographic material in the exposure unit, the thermal development unit, and the cooling unit is arbitrary, but higher ones are preferable for rapid processing and improvement in throughput. The linear velocity is preferably 20 mm / second or more and 100 mm / second or less, more preferably 25 mm / second or more and 80 mm / second or less, and further preferably 25 mm / second or more and 60 mm / second or less. By setting the conveyance speed within this range, it is preferable because it is possible to improve in-machine contamination in the heat developing apparatus during heat development and the conveyance property, and to shorten the processing time, so that it can cope with an emergency diagnosis.

露光処理と熱現像処理を同時に行う、即ち、シート状熱現像感光材料の一部分を露光しながら、すでに露光がなされたシート状熱現像感光材料の一部分で現像が開始されるためには、露光処理を行う露光部と現像部の間の距離が0cm以上50cm以下であることが好ましい。これにより露光・現像の一連の処理時間が極めて短くなる。この距離の好ましい範囲は、3cm以上40cm以下であり、より好ましくは、5cm以上30cm以下である。ここで露光部とは、露光光源からの光が熱現像感光材料に照射される位置をいい、現像部とは、熱現像感光材料が熱現像を行うために初めて加熱される位置をいう。図1におけるLで示されるレーザ光が熱現像感光材料にあたった場所(矢印の先端)が露光部であり、図1の15から搬送された熱現像感光材料が51aのプレートに初めて接した部分が現像部である。   An exposure process and a heat development process are performed at the same time, that is, in order to start development on a part of the sheet-like photothermographic material that has already been exposed while exposing a part of the sheet-like photothermographic material, the exposure process It is preferable that the distance between the exposed portion and the developing portion to be 0 cm or more and 50 cm or less. As a result, a series of processing time for exposure and development becomes extremely short. A preferable range of this distance is 3 cm or more and 40 cm or less, and more preferably 5 cm or more and 30 cm or less. Here, the exposure part refers to a position where light from an exposure light source is irradiated to the photothermographic material, and the development part refers to a position where the photothermographic material is heated for the first time for heat development. In FIG. 1, the position (tip of the arrow) where the laser beam indicated by L hits the photothermographic material is the exposure part, and the part where the photothermographic material conveyed from 15 in FIG. Is the developing section.

加熱する機器、装置あるいは手段としては、例えばホットプレート、アイロン、ホットローラ、炭素又は白色チタン等を用いた熱発生器として典型的な加熱手段等で行ってよい。より好ましくは、感光性層の上に保護層の設けられた熱現像感光材料は、保護層を有する側の面を加熱手段と接触させ加熱処理する。この方法は、均一な加熱を行う上で、又、熱効率、作業性等の観点から好ましく、保護層を有する側の面をヒートローラに接触させながら搬送し、加熱処理して現像することが好ましい。   As a device, apparatus or means for heating, for example, a heating means typical as a heat generator using a hot plate, iron, hot roller, carbon, white titanium or the like may be used. More preferably, the photothermographic material having a protective layer provided on the photosensitive layer is subjected to heat treatment by bringing the surface having the protective layer into contact with a heating means. This method is preferable from the viewpoint of uniform heating and from the viewpoints of thermal efficiency, workability, and the like. It is preferable that the surface having the protective layer is conveyed while being in contact with the heat roller, and is developed by heat treatment. .

以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。尚、特に断りない限り、実施例中の「%」は「質量%」を表す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited to these. Unless otherwise specified, “%” in the examples represents “mass%”.

実施例1
《下引加工した写真用支持体の作製》
光学濃度0.150(コニカ(株)製デンシトメータPDA−65で測定)に下記青色染料で着色した2軸延伸熱固定した厚さ175μmのポリエチレンテレフタレートフィルムの両面に、8W・分/m2のコロナ放電処理を施した写真用支持体に、下引加工を行った。即ち、この写真用支持体の一方の面に下引塗布液a−1を乾燥膜厚が0.2μmになるように22℃、100m/分で塗設し、140℃で乾燥して感光性層(画像形成層)側下引層を形成した(下引下層A−1という)。また、反対側の面にバッキング層下引層として下記下引塗布液b−1を乾燥膜厚が0.12μmになるように22℃、100m/分で塗設し、140℃で乾燥させてバッキング層側に帯電防止機能を持つ下引導電層(下引下層B−1という)を塗設した。下引下層A−1と下引下層B−1の上表面に、8W・分/m2のコロナ放電を施し、下引下層A−1の上には下記下引塗布液a−2を乾燥膜厚0.03μmになるように33℃、100m/分で塗設し、140℃で乾燥させて下引上層A−2とした。下引下層B−1の上には下記下引塗布液b−2を乾燥膜厚0.2μmになるように33℃、100m/分で塗設し、140℃で乾燥させて下引上層B−2とした。更に123℃で2分間支持体を熱処理し25℃、50%RHの条件下で巻き取り、下引済み試料を作製した。
Example 1
<< Preparation of undercoated photographic support >>
A corona of 8 W · min / m 2 on both sides of a biaxially stretched heat-fixed polyethylene terephthalate film having an optical density of 0.150 (measured with a Densitometer PDA-65 manufactured by Konica Corporation) and colored with the following blue dye. The photographic support subjected to the discharge treatment was subjected to subbing. That is, the undercoat coating solution a-1 was applied to one surface of this photographic support so that the dry film thickness was 0.2 μm at 22 ° C. and 100 m / min, and dried at 140 ° C. to be photosensitive. A layer (image forming layer) side undercoat layer was formed (referred to as an undercoat underlayer A-1). Moreover, the following undercoat coating liquid b-1 was applied to the opposite surface as a backing layer undercoat layer at 22 ° C. and 100 m / min so that the dry film thickness was 0.12 μm, and dried at 140 ° C. An undercoat conductive layer having an antistatic function (referred to as undercoat underlayer B-1) was applied on the backing layer side. A corona discharge of 8 W · min / m 2 is applied to the upper surfaces of the subbing lower layer A-1 and the subbing lower layer B-1, and the following subbing coating solution a-2 is dried on the lower subbing layer A-1. It was applied at 33 ° C. and 100 m / min so as to have a film thickness of 0.03 μm, and dried at 140 ° C. to obtain an undercoat upper layer A-2. On the undercoat layer B-1, the following undercoat coating solution b-2 is applied at 33 ° C. and 100 m / min so as to have a dry film thickness of 0.2 μm, and dried at 140 ° C. -2. Further, the support was heat-treated at 123 ° C. for 2 minutes and wound up under the conditions of 25 ° C. and 50% RH to prepare a sample with an underdrawn.

Figure 2008180863
Figure 2008180863

[水性ポリエステルA−1溶液の調製]
テレフタル酸ジメチル 35.4質量部
イソフタル酸ジメチル 33.63質量部
5−スルホイソフタル酸ジメチルナトリウム塩 17.92質量部
エチレングリコール 62質量部
酢酸カルシウム・一水塩 0.065質量部
酢酸マンガン四水塩 0.022質量部
以上を、窒素気流下において、170〜220℃でメタノールを留去しながらエステル交換反応を行った。ついで、リン酸トリメチル0.04質量部、重縮合触媒とし三酸化アンチモン0.04質量部及び1,4−シクロヘキサンジカルボン酸6.8質量部を加え、220〜235℃の反応温度で、ほぼ理論量の水を留去しエステル化を行った。
[Preparation of aqueous polyester A-1 solution]
Dimethyl terephthalate 35.4 parts by weight Dimethyl isophthalate 33.63 parts by weight 5-Sulfoisophthalic acid dimethyl sodium salt 17.92 parts by weight Ethylene glycol 62 parts by weight Calcium acetate / monohydrate 0.065 parts by weight Manganese acetate tetrahydrate 0.022 parts by mass The above was subjected to a transesterification reaction while distilling off methanol at 170 to 220 ° C. in a nitrogen stream. Next, 0.04 parts by mass of trimethyl phosphate, 0.04 parts by mass of antimony trioxide as a polycondensation catalyst and 6.8 parts by mass of 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid were added, and the reaction temperature was 220 to 235 ° C. An amount of water was distilled off for esterification.

その後、更に反応系内を約1時間かけて減圧、昇温し最終的に280℃、133Pa以下で約1時間重縮合を行い、水性ポリエステルA−1を合成した。得られた水性ポリエステルA−1の固有粘度は0.33、平均粒径は40nm、Mw=80000〜100000であった。   Thereafter, the inside of the reaction system was further depressurized and heated over about 1 hour, and finally subjected to polycondensation at 280 ° C. and 133 Pa or less for about 1 hour to synthesize aqueous polyester A-1. The obtained aqueous polyester A-1 had an intrinsic viscosity of 0.33, an average particle size of 40 nm, and Mw = 80000 to 100,000.

次いで、撹拌翼、環流冷却管、温度計を付した2Lの3つ口フラスコに、純水850mlを入れ、撹拌翼を回転させながら、水性ポリエステルA−1を150g徐々に添加した。室温でこのまま30分間撹拌した後、1.5時間かけて内温が98℃になるように加熱し、この温度で3時間加熱溶解した。加熱終了後、1時間かけて室温まで冷却し、一夜放置して、15質量%の水性ポリエステルA−1溶液を調製した。   Next, 850 ml of pure water was placed in a 2 L three-necked flask equipped with a stirring blade, a reflux condenser, and a thermometer, and 150 g of aqueous polyester A-1 was gradually added while rotating the stirring blade. After stirring for 30 minutes at room temperature, the mixture was heated to an internal temperature of 98 ° C. over 1.5 hours and dissolved at this temperature for 3 hours. After completion of the heating, the mixture was cooled to room temperature over 1 hour and allowed to stand overnight to prepare a 15% by mass aqueous polyester A-1 solution.

[変性水性ポリエステルB−1〜2溶液の調製]
撹拌翼、環流冷却管、温度計、滴下ロートを付した3Lの4つ口フラスコに、前記15質量%の水性ポリエステルA−1溶液1900mlを入れ、撹拌翼を回転させながら、内温度を80℃まで加熱する。この中に、過酸化アンモニウムの24質量%水溶液を6.52ml加え、モノマー混合液(メタクリル酸グリシジル28.5g、アクリル酸エチル21.4g、メタクリル酸メチル21.4g)を30分間かけて滴下し、更に3時間反応を続ける。その後、30℃以下まで冷却、濾過して、固形分濃度が18質量%の変性水性ポリエステルB−1溶液(ビニル系成分変性比率20質量%)を調製した。
[Preparation of Modified Aqueous Polyester B-1-2 Solution]
Into a 3 L four-necked flask equipped with a stirring blade, a reflux condenser, a thermometer and a dropping funnel, 1900 ml of the 15% by mass aqueous polyester A-1 solution was placed, and the internal temperature was adjusted to 80 ° C. while rotating the stirring blade. Until heated. Into this, 6.52 ml of a 24 mass% aqueous solution of ammonium peroxide was added, and a monomer mixture (28.5 g of glycidyl methacrylate, 21.4 g of ethyl acrylate, 21.4 g of methyl methacrylate) was dropped over 30 minutes. The reaction is continued for another 3 hours. Then, it cooled and filtered to 30 degrees C or less, and prepared the modified aqueous polyester B-1 solution (vinyl-type component modification | denaturation ratio 20 mass%) whose solid content concentration is 18 mass%.

ビニル変性比率を36質量%にし、変性成分をスチレン:グリシジルメタクリレート:アセトアセトキシエチルメタクリレート:n−ブチルアクリレート=39.5:40:20:0.5にした以外は同様にして、固形分濃度が18質量%の変性水性ポリエステルB−2溶液(ビニル系成分変性比率20質量%)を調製した。   The solid content concentration was the same except that the vinyl modification ratio was 36% by mass and the modified components were styrene: glycidyl methacrylate: acetoacetoxyethyl methacrylate: n-butyl acrylate = 39.5: 40: 20: 0.5. An 18% by mass modified aqueous polyester B-2 solution (vinyl component modification ratio 20% by mass) was prepared.

[アクリル系ポリマーラテックスC−1〜C−3の作製]
乳化重合により、表1に示すモノマー組成を有するアクリル系ポリマーラテックスC−1〜C−3を合成した。固形分濃度は全て30質量%とした。
[Production of Acrylic Polymer Latex C-1 to C-3]
Acrylic polymer latexes C-1 to C-3 having the monomer composition shown in Table 1 were synthesized by emulsion polymerization. The solid content concentration was 30% by mass.

Figure 2008180863
Figure 2008180863

[感光性層側下引下層用塗布液a−1]
アクリル系ポリマーラテックスC−3(固形分30%) 70.0g
エトキシ化アルコールとエチレンホモポリマーの水分散物(固形分10%)
5.0g
界面活性剤(A) 0.1g
以上に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とした。
[Coating liquid a-1 for photosensitive layer side undercoat layer]
Acrylic polymer latex C-3 (solid content 30%) 70.0 g
Water dispersion of ethoxylated alcohol and ethylene homopolymer (10% solids)
5.0g
Surfactant (A) 0.1g
Distilled water was added to make 1000 ml, and a coating solution was obtained.

《感光性層側下引上層用塗布液a−2》
変性水性ポリエステルB−2(18質量%) 30.0g
界面活性剤(A) 0.1g
真球状シリカマット剤(日本触媒(株)製 シーホスターKE−P50)
0.04g
以上に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とした。
<< Coating liquid a-2 for photosensitive layer side undercoat upper layer >>
Modified aqueous polyester B-2 (18% by mass) 30.0 g
Surfactant (A) 0.1g
Spherical silica matting agent (Nippon Shokubai Co., Ltd. Sea Hoster KE-P50)
0.04g
Distilled water was added to make 1000 ml, and a coating solution was obtained.

[バッキング層側下引下層用塗布液b−1]
アクリル系ポリマーラテックスC−1(固形分30%) 30.0g
アクリル系ポリマーラテックスC−2(固形分30%) 7.6g
SnO2ゾル 180g
(特公昭35−6616号公報の実施例1に記載の方法で合成したSnO2ゾルを固形分濃度が10質量%になるように加熱濃縮した後、アンモニア水でpH=10に調整したもの)
界面活性剤(A) 0.5g
PVA−613(クラレ(株)製 PVA)5質量%水溶液 0.4g
以上に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とした。
[Backing layer side undercoat coating solution b-1]
Acrylic polymer latex C-1 (solid content 30%) 30.0 g
Acrylic polymer latex C-2 (solid content 30%) 7.6 g
SnO 2 sol 180g
(SnO 2 sol synthesized by the method described in Example 1 of Japanese Patent Publication No. 35-6616 was heated and concentrated so that the solid content concentration was 10% by mass, and then adjusted to pH = 10 with ammonia water)
Surfactant (A) 0.5g
PVA-613 (PVA manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 5% by weight aqueous solution 0.4 g
Distilled water was added to make 1000 ml, and a coating solution was obtained.

[バッキング層側下引上層用塗布液b−2]
変性水性ポリエステルB−1(18質量%) 145.0g
真球状シリカマット剤(日本触媒(株)製 シーホスターKE−P50) 0.2g
界面活性剤(A) 0.1g
以上に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とした。
[Backing layer side undercoat upper layer coating solution b-2]
Modified aqueous polyester B-1 (18% by mass) 145.0 g
True spherical silica matting agent (Nippon Shokubai Co., Ltd. Sea Hoster KE-P50) 0.2g
Surfactant (A) 0.1g
Distilled water was added to make 1000 ml, and a coating solution was obtained.

なお、前記下引層を施した支持体の下引層B−2上には下記の組成のバックコート層、バックコート層保護層を塗設した。   A backcoat layer and a backcoat layer protective layer having the following composition were coated on the undercoat layer B-2 of the support on which the undercoat layer had been applied.

Figure 2008180863
Figure 2008180863

〈バックコート層塗布液の調製〉
メチルエチルケトン(MEK)830gを撹拌しながら、セルロースアセテートプロピオネート(Eastman Chemical社製:CAP482−20)84.2gを添加し溶解した。次に、溶解した液に0.30gの下記赤外染料1を添加し、更にメタノール43.2gに溶解したフッ素系界面活性剤(旭硝子社製:サーフロンKH40)4.5gとフッ素系界面活性剤(大日本インキ社製:メガファッグF120K)2.3gを添加して、溶解するまで十分に攪拌しバックコート層塗布液を調製した。
<Preparation of backcoat layer coating solution>
While stirring 830 g of methyl ethyl ketone (MEK), 84.2 g of cellulose acetate propionate (manufactured by Eastman Chemical: CAP482-20) was added and dissolved. Next, 0.30 g of the following infrared dye 1 was added to the dissolved solution, and 4.5 g of a fluorosurfactant (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd .: Surflon KH40) and a fluorosurfactant dissolved in 43.2 g of methanol. (Dainippon Ink Co., Ltd .: MegaFag F120K) 2.3 g was added and stirred well until dissolved to prepare a backcoat layer coating solution.

Figure 2008180863
Figure 2008180863

〈バックコート層保護層(表面保護層)塗布液の調製〉
バックコート層保護層についても下記の組成比率でバックコート層塗布液と同様にして調製した。架橋したPMMA(マット剤)についてはMEKに1%の濃度でディゾルバ型ホモジナイザにて分散を行い、最後に添加した。
<Preparation of backcoat layer protective layer (surface protective layer) coating solution>
The backcoat layer protective layer was also prepared in the same manner as the backcoat layer coating solution at the following composition ratio. The cross-linked PMMA (matting agent) was dispersed in MEK at a concentration of 1% using a dissolver type homogenizer, and finally added.

セルロースアセテートプロピオネート(10%MEK溶液) 15g
(Eastman Chemical社製:CAP482−20)
単分散度15%の単分散3次元架橋した球状PMMA(ポリメチルメタクリレート)
(平均粒径、量は表2、3に記載)
917O(CH2CH2O)22917 0.075g
フッ素系界面活性剤(表2、3に記載) 0.01g
フッ素系ポリマー(FM−1) 0.05g
潤滑剤(表2、3に記載) 0.1g
α−アルミナ(モース硬度9) 0.1g
〈バックコート層側スリップ層塗布液の調製〉
バックコート層側スリップ層についても下記の組成比率でバックコート層塗布液と同様にして調製した。
Cellulose acetate propionate (10% MEK solution) 15g
(Manufactured by Eastman Chemical: CAP482-20)
Monodisperse three-dimensionally crosslinked spherical PMMA (polymethyl methacrylate) with a monodispersity of 15%
(Average particle size and amount are listed in Tables 2 and 3)
C 9 F 17 O (CH 2 CH 2 O) 22 C 9 F 17 0.075 g
Fluorine-based surfactant (described in Tables 2 and 3) 0.01 g
Fluoropolymer (FM-1) 0.05g
Lubricant (described in Tables 2 and 3) 0.1 g
α-Alumina (Mohs hardness 9) 0.1g
<Preparation of backcoat layer side slip layer coating solution>
The back coat layer side slip layer was also prepared in the same manner as the back coat layer coating solution at the following composition ratio.

セルロースアセテートプロピオネート(10%MEK溶液) 15g
(Eastman Chemical社製:CAP482−20)
ポリエステル樹脂(Bostic社:VitelPE2200B) 0.15g
Cellulose acetate propionate (10% MEK solution) 15g
(Manufactured by Eastman Chemical: CAP482-20)
0.15 g of polyester resin (Bostic: VitelPE2200B)

Figure 2008180863
Figure 2008180863

〈感光性ハロゲン化銀粒子乳剤A1の調製〉
(A1)
フェニルカルバモイル化ゼラチン 88.3g
化合物(AO−1)の10%メタノール水溶液 10ml
臭化カリウム 0.32g
水で5429mlに仕上げる。
<Preparation of photosensitive silver halide grain emulsion A1>
(A1)
Phenylcarbamoylated gelatin 88.3g
10% aqueous methanol solution of compound (AO-1) 10 ml
Potassium bromide 0.32g
Finish to 5429 ml with water.

(B1)
0.67モル/L硝酸銀水溶液 2635ml
(C1)
臭化カリウム 50.69g
沃化カリウム 2.66g
水で660mlに仕上げる。
(B1)
0.67 mol / L silver nitrate aqueous solution 2635 ml
(C1)
Potassium bromide 50.69g
Potassium iodide 2.66g
Finish to 660 ml with water.

(D1)
臭化カリウム 151.6g
沃化カリウム 7.67g
ヘキサクロロイリジウム(IV)酸カリウム:K2(IrCl6)(1%水溶液)
0.93ml
ヘキサシアノ鉄(II)酸カリウム 0.004g
ヘキサクロロオスミウム(IV)酸カリウム 0.004g
水で1982mlに仕上げる。
(D1)
Potassium bromide 151.6g
Potassium iodide 7.67g
Hexachloroiridium (IV) acid potassium: K 2 (IrCl 6 ) (1% aqueous solution)
0.93ml
Potassium hexacyanoferrate (II) 0.004g
Hexachloroosmium (IV) potassium salt 0.004g
Finish to 1982 ml with water.

(E1)
0.4モル/L臭化カリウム水溶液 下記銀電位制御量
(F1)
水酸化カリウム 0.71g
水で20mlに仕上げる。
(E1)
0.4 mol / L potassium bromide aqueous solution The following silver potential control amount (F1)
Potassium hydroxide 0.71g
Finish to 20 ml with water.

(G1)
56%酢酸水溶液 18.0ml
(H1)
無水炭酸ナトリウム 1.72g
水で151mlに仕上げる。
(G1)
56% acetic acid aqueous solution 18.0 ml
(H1)
Anhydrous sodium carbonate 1.72 g
Finish to 151 ml with water.

AO−1:HO(CH2CH2O)n〔CH(CH3)CH2O〕17(CH2CH2O)mH(
m+n=5〜7)。
AO-1: HO (CH 2 CH 2 O) n [CH (CH 3 ) CH 2 O] 17 (CH 2 CH 2 O) m H (
m + n = 5-7).

特公昭58−58288号に示される混合撹拌機を用いて溶液(A1)に溶液(B1)の1/4量及び溶液(C1)全量を20℃、pAg8.09に制御しながら、同時混合法により4分45秒を要して添加し核形成を行った。1分後に溶液(F1)の全量を添加した。この間、pAgの調整を(E1)を用いて適宜行った。6分間経過後、溶液(B1)の3/4量及び溶液(D1)の全量を、20℃、pAg8.09に制御しながら、14分15秒かけて同時混合法により添加した。5分間撹拌した後、40℃に降温し、溶液(G1)を全量添加し、ハロゲン化銀乳剤を沈降させた。沈降部分2000mlを残して上澄み液を取り除き、水を10L加え、撹拌後、再度ハロゲン化銀乳剤を沈降させた。沈降部分1500mlを残し、上澄み液を取り除き、更に水を10L加え、撹拌後、ハロゲン化銀粒子乳剤を沈降させた。沈降部分1500mlを残し、上澄み液を取り除いた後、溶液(H1)を加え、60℃に昇温し、更に120分撹拌した。最後にpHが5.8になるように調整し、銀量1モル当たり1161gになるように水を添加し、感光性ハロゲン化銀粒子乳剤A1を得た。   Using the mixing stirrer shown in Japanese Patent Publication No. 58-58288, while controlling 1/4 of the solution (B1) in the solution (A1) and the total amount of the solution (C1) to 20 ° C. and pAg 8.09, the simultaneous mixing method Was added for 4 minutes and 45 seconds to nucleate. After 1 minute, the entire amount of solution (F1) was added. During this time, pAg was adjusted as appropriate using (E1). After 6 minutes, 3/4 amount of the solution (B1) and the total amount of the solution (D1) were added by a simultaneous mixing method over 14 minutes and 15 seconds while controlling at 20 ° C. and pAg 8.09. After stirring for 5 minutes, the temperature was lowered to 40 ° C., the whole amount of the solution (G1) was added, and the silver halide emulsion was allowed to settle. The supernatant was removed leaving 2000 ml of the sedimented portion, 10 L of water was added, and after stirring, the silver halide emulsion was sedimented again. The remaining portion of 1500 ml was left, the supernatant was removed, 10 L of water was further added, and after stirring, the silver halide grain emulsion was allowed to settle. After leaving 1500 ml of the sedimented portion and removing the supernatant, the solution (H1) was added, the temperature was raised to 60 ° C., and the mixture was further stirred for 120 minutes. Finally, the pH was adjusted to 5.8, and water was added so that the amount of silver was 1161 g per mole of silver to obtain photosensitive silver halide grain emulsion A1.

この乳剤は、平均粒径25nm、粒径の変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散立方体沃臭化銀粒子であった(AgIの含有率は3.5モル%)。   This emulsion was monodisperse cubic silver iodobromide grains having an average grain size of 25 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] face ratio of 92% (AgI content is 3.5 mol%).

〔感光性ハロゲン化銀粒子乳剤A2の調製〕
上記感光性ハロゲン化銀乳剤A1の調製において、核生成後に溶液F1の全量を添加した後に、4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラアザインデンの5%水溶液を40ml添加した以外は同様にして感光性ハロゲン化銀乳剤A2を調製した。なお、この乳剤中の粒子は平均粒径25nm、粒径の変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散立方体沃臭化銀粒子であった(AgIの含有率は3.5モル%)。
[Preparation of photosensitive silver halide grain emulsion A2]
In the preparation of the above light-sensitive silver halide emulsion A1, after adding the entire amount of the solution F1 after nucleation, 40 ml of a 5% aqueous solution of 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetraazaindene was added. A photosensitive silver halide emulsion A2 was prepared in the same manner as described above. The grains in this emulsion were monodispersed cubic silver iodobromide grains having an average grain size of 25 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] face ratio of 92% (AgI content was 3.5 mol). %).

〔感光性ハロゲン化銀粒子乳剤A3の調製〕
上記感光性ハロゲン化銀乳剤A1の調製において、核生成後に溶液F1の全量を添加した後に、下記の化合物(TPPS)の0.1%エタノール溶液を4ml添加した以外は同様にして感光性ハロゲン化銀粒子乳剤A3を調製した。
[Preparation of photosensitive silver halide grain emulsion A3]
In the preparation of the photosensitive silver halide emulsion A1, the photosensitive halogenation was similarly carried out except that 4 ml of a 0.1% ethanol solution of the following compound (TPPS) was added after the whole amount of the solution F1 was added after nucleation. Silver grain emulsion A3 was prepared.

なお、この乳剤中の粒子は平均粒径25nm、粒径の変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散立方体沃臭化銀粒子であった(AgIの含有率は3.5モル%)。   The grains in this emulsion were monodispersed cubic silver iodobromide grains having an average grain size of 25 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] face ratio of 92% (AgI content was 3.5 mol). %).

Figure 2008180863
Figure 2008180863

〈感光性ハロゲン化銀粒子乳剤B1の調製〉
同時混合法による添加時の温度を45℃に変更した以外は感光性ハロゲン化銀粒子乳剤A1の調製と同様に行った。この乳剤中の粒子は平均粒径55nm、粒径の変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散立方体沃臭化銀粒子であった(AgIの含有率は3.5モル%)。
<Preparation of photosensitive silver halide grain emulsion B1>
The procedure was the same as the preparation of the photosensitive silver halide grain emulsion A1, except that the temperature at the time of addition by the simultaneous mixing method was changed to 45 ° C. The grains in this emulsion were monodisperse cubic silver iodobromide grains having an average grain size of 55 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] face ratio of 92% (AgI content is 3.5 mol%). .

〈感光性ハロゲン化銀粒子乳剤B2の調製〉
上記感光性ハロゲン化銀粒子乳剤B1の調製において、核生成後に溶液F1の全量を添加した後に、前記の化合物(TPPS)の0.1%エタノール溶液を4ml添加した以外は同様にして感光性ハロゲン化銀粒子乳剤B2を調製した。この乳剤中の粒子は平均粒径55nm、粒径の変動係数12%、〔100〕面比率92%の単分散立方体沃臭化銀粒子であった(AgIの含有率は3.5モル%)。
<Preparation of photosensitive silver halide grain emulsion B2>
In the preparation of the photosensitive silver halide grain emulsion B1, the photosensitive halogen halide was similarly treated except that 4 ml of a 0.1% ethanol solution of the above compound (TPPS) was added after adding the whole amount of the solution F1 after nucleation. A silver halide grain emulsion B2 was prepared. The grains in this emulsion were monodisperse cubic silver iodobromide grains having an average grain size of 55 nm, a grain size variation coefficient of 12%, and a [100] face ratio of 92% (AgI content is 3.5 mol%). .

〈粉末有機銀塩の調製〉
4720mlの純水にベヘン酸130.8g、アラキジン酸67.7g、ステアリン酸43.6g、パルミチン酸2.3gを80℃で溶解した。次に1.5モル/Lの水酸化カリウム水溶液540.2mlを添加し濃硝酸6.9mlを加えた後、55℃に冷却して脂肪酸カリウム溶液を得た。上記の脂肪酸カリウム溶液の温度を55℃に保ったまま、感光性ハロゲン化銀粒子乳剤A1、A2、A3、B1、B2(種類と添加量は表2、3に記載)と純水450mlを添加し5分間撹拌した。次に1モル/Lの硝酸銀溶液468.4mlを2分間かけて添加し、10分間撹拌し有機銀塩分散物を得た。その後、得られた有機銀塩分散物を水洗容器に移し、脱イオン水を加えて撹拌後、静置させて有機銀塩分散物を浮上分離させ、下方の水溶性塩類を除去した。その後、排水の電導度が2μS/cmになるまで脱イオン水による水洗、排水を繰り返し、遠心脱水を実施した後、得られたケーキ状の有機銀塩を、気流式乾燥機フラッシュジェットドライヤー(セイシン企業社製)を用いて、窒素ガス雰囲気及び乾燥機熱風温度の運転条件(入口65℃、出口40℃)により含水率が0.1%になるまで乾燥して乾燥済みの粉末有機銀塩を得た。尚、有機銀塩組成物の含水率測定には赤外線水分計を使用した。
<Preparation of powdered organic silver salt>
130.8 g of behenic acid, 67.7 g of arachidic acid, 43.6 g of stearic acid, and 2.3 g of palmitic acid were dissolved in 4720 ml of pure water at 80 ° C. Next, 540.2 ml of a 1.5 mol / L potassium hydroxide aqueous solution was added and 6.9 ml of concentrated nitric acid was added, followed by cooling to 55 ° C. to obtain a fatty acid potassium solution. While maintaining the temperature of the fatty acid potassium solution at 55 ° C., photosensitive silver halide grain emulsions A1, A2, A3, B1, B2 (types and addition amounts are listed in Tables 2 and 3) and 450 ml of pure water were added. And stirred for 5 minutes. Next, 468.4 ml of 1 mol / L silver nitrate solution was added over 2 minutes and stirred for 10 minutes to obtain an organic silver salt dispersion. Thereafter, the obtained organic silver salt dispersion was transferred to a water-washing container, deionized water was added and stirred, and then allowed to stand to float and separate the organic silver salt dispersion, thereby removing the lower water-soluble salts. Thereafter, washing with deionized water and drainage were repeated until the electrical conductivity of the drainage reached 2 μS / cm, and centrifugal dehydration was carried out. A powder organic silver salt that has been dried and dried to a moisture content of 0.1% under the operating conditions (inlet 65 ° C., outlet 40 ° C.) of nitrogen gas atmosphere and dryer hot air temperature Obtained. In addition, the infrared moisture meter was used for the moisture content measurement of an organic silver salt composition.

〈予備分散液の調製〉
感光性層(画像形成層)のバインダーとして、SO3K基含有ポリビニルブチラール(Tg62℃、−SO3K基を0.2ミリモル/g含む)14.57gをMEK1457gに溶解し、VMA−GETZMANN社製ディゾルバDISPERMAT CA−40M型にて撹拌しながら、上記粉末有機銀塩500gを徐々に添加して十分に混合することにより予備分散液を調製した。
<Preparation of preliminary dispersion>
As a binder for the photosensitive layer (image forming layer), 14.57 g of SO 3 K group-containing polyvinyl butyral (Tg 62 ° C., containing 0.2 mmol / g of —SO 3 K group) was dissolved in 1457 g of MEK, and VMA-GETZMANN While stirring with a dissolver DISPERMAT CA-40M type, 500 g of the powdered organic silver salt was gradually added and mixed well to prepare a preliminary dispersion.

〈感光性乳剤分散液の調製〉
予備分散液をポンプを用いてミル内滞留時間が1.5分間となるように、0.5mm径のジルコニアビーズ(東レ社製:トレセラム)を内容積の80%充填したメディア型分散機DISPERMAT SL−C12EX型(VMA−GETZMANN社製)に供給し、ミル周速8m/sにて分散を行うことにより感光性乳剤分散液を調製した。
<Preparation of photosensitive emulsion dispersion>
Media type disperser DISPERMAT SL filled with 80% of the internal volume of 0.5 mm zirconia beads (Toray Industries, Inc .: Treceram) so that the residence time in the mill is 1.5 minutes using a pump. A photosensitive emulsion dispersion was prepared by supplying to -C12EX type (manufactured by VMA-GETZMANN) and dispersing at a mill peripheral speed of 8 m / s.

〈安定剤液の調製〉
1.0gの安定剤1、0.31gの酢酸カリウムをメタノール4.97gに溶解し安定剤液を調製した。
<Preparation of stabilizer solution>
A stabilizer solution was prepared by dissolving 1.0 g of Stabilizer 1 and 0.31 g of potassium acetate in 4.97 g of methanol.

〈赤外増感色素液Aの調製〉
9.6mgの赤外増感色素1、9.6mgの赤外増感色素2、1.488gの2−クロロ安息香酸、2.779gの安定剤2及び365mgの5−メチル−2−メルカプトベンズイミダゾールを31.3mlのMEKに暗所にて溶解し赤外増感色素液Aを調製した。
<Preparation of infrared sensitizing dye liquid A>
9.6 mg of infrared sensitizing dye 1, 9.6 mg of infrared sensitizing dye 2, 1.488 g of 2-chlorobenzoic acid, 2.779 g of stabilizer 2 and 365 mg of 5-methyl-2-mercaptobenz Infrared sensitizing dye solution A was prepared by dissolving imidazole in 31.3 ml of MEK in the dark.

〈添加液aの調製〉
還元剤(表2、3に記載の化合物と量)、0.159gの一般式(YB)の黄色発色性ロイコ染料(YA−1)、0.159gのシアン発色性ロイコ染料(CLA−4)、1.54gの4−メチルフタル酸、0.48gの前記赤外染料1をMEK110.0gに溶解し、添加液aとした。
<Preparation of additive solution a>
Reducing agent (compounds and amounts described in Tables 2 and 3), 0.159 g of yellow chromophoric leuco dye (YA-1) of general formula (YB), 0.159 g of cyan chromophoric leuco dye (CLA-4) 1.54 g of 4-methylphthalic acid and 0.48 g of the infrared dye 1 were dissolved in 110.0 g of MEK to obtain an additive solution a.

〈添加液bの調製〉
1.56gのカブリ防止剤2、0.5gのカブリ防止剤3、0.5gのカブリ防止剤4、0.5gのカブリ防止剤5、3.43gのフタラジンをMEK40.9gに溶解し添加液bとした。
<Preparation of additive liquid b>
1.56 g antifoggant 2, 0.5 g antifoggant 3, 0.5 g antifoggant 4, 0.5 g antifoggant 5, 3.43 g phthalazine dissolved in 40.9 g MEK and added b.

〈添加液cの調製〉
省銀化剤(SE1−3)0.05g、をMEK39.95gに溶解し添加液cとした。
<Preparation of additive liquid c>
The silver saving agent (SE1-3) 0.05g was melt | dissolved in MEK39.95g, and it was set as the addition liquid c.

〈添加液dの調製〉
0.1gの強色増感剤1をMEK9.9gに溶解し、添加液dとした。
<Preparation of additive liquid d>
0.1 g of supersensitizer 1 was dissolved in 9.9 g of MEK to obtain additive solution d.

〈添加液eの調製〉
0.5gのp−トルエンチオスルホン酸カリウム、0.5gのカブリ防止剤6をMEK9.0gに溶解し、添加液eとした。
<Preparation of additive liquid e>
0.5 g of potassium p-toluenethiosulfonate and 0.5 g of antifoggant 6 were dissolved in 9.0 g of MEK to obtain an additive solution e.

〈添加液fの調製〉
1.0gのビニルスルホン〔(CH2=CH−SO2CH22CHOH〕を含有するカブリ防止剤をMEK9.0gに溶解し、添加液fとした。
<Preparation of additive liquid f>
An antifoggant containing 1.0 g of vinyl sulfone [(CH 2 ═CH—SO 2 CH 2 ) 2 CHOH] was dissolved in 9.0 g of MEK to obtain an additive solution f.

〈感光性層塗布液の調製〉
不活性気体雰囲気下(窒素97%)において、前記感光性乳剤分散液の50g及びMEK15.11gを撹拌しながら21℃に保温し、化学増感剤S−5(0.5%メタノール溶液)1000μlを加えた。2分後にカブリ防止剤1(10%メタノール溶液)390μlを加えて1時間撹拌した。更に臭化カルシウム(10%メタノール溶液)494μlを添加して10分撹拌した後に上記の有機化学増感剤の1/20モル相当の金増感剤Au−5を添加し、更に20分撹拌した。続いて、安定剤液167μlを添加して10分間撹拌した後、1.32gの前記赤外増感色素液Aを添加して1時間撹拌した。その後、温度を13℃まで降温して更に30分撹拌した。13℃に保温したまま、0.5gの添加液d、0.5gの添加液e、0.5gの添加液f、SO3K基含有ポリビニルブチラール(Tg62℃、−SO3K基を0.2ミリモル/g含む)13.31gを添加して30分撹拌した後、テトラクロロフタル酸(9.4%MEK溶液)1.084gを添加して15分間撹拌した。更に撹拌を続けながら、12.43gの添加液a、1.6mlのDesmodurN3300/モーベイ社製の脂肪族イソシアネート(10%MEK溶液)、4.27gの添加液b、4.0gの添加液cを順次添加し撹拌することにより感光性層塗布液を得た。
<Preparation of photosensitive layer coating solution>
In an inert gas atmosphere (nitrogen 97%), 50 g of the photosensitive emulsion dispersion and 15.11 g of MEK were kept at 21 ° C. with stirring, and 1000 μl of chemical sensitizer S-5 (0.5% methanol solution) was added. Was added. Two minutes later, 390 μl of antifoggant 1 (10% methanol solution) was added and stirred for 1 hour. Further, 494 μl of calcium bromide (10% methanol solution) was added and stirred for 10 minutes, then gold sensitizer Au-5 corresponding to 1/20 mole of the above organic chemical sensitizer was added, and further stirred for 20 minutes. . Subsequently, 167 μl of a stabilizer solution was added and stirred for 10 minutes, and then 1.32 g of the infrared sensitizing dye solution A was added and stirred for 1 hour. Thereafter, the temperature was lowered to 13 ° C. and further stirred for 30 minutes. While keeping the temperature at 13 ° C., 0.5 g of additive d, 0.5 g of additive e, 0.5 g of additive f, SO 3 K group-containing polyvinyl butyral (Tg 62 ° C., -SO 3 K group of 0.1%). After adding 13.31 g (containing 2 mmol / g) and stirring for 30 minutes, 1.084 g of tetrachlorophthalic acid (9.4% MEK solution) was added and stirred for 15 minutes. While continuing to stir, 12.43 g of additive liquid a, 1.6 ml of Desmodur N3300 / Mobey aliphatic isocyanate (10% MEK solution), 4.27 g of additive liquid b, 4.0 g of additive liquid c By sequentially adding and stirring, a photosensitive layer coating solution was obtained.

安定剤液を初めとする各塗布液、感光性層塗布液の調製に用いた添加剤の化学構造を以下に示す。   The chemical structures of the additives used for the preparation of each coating solution including the stabilizer solution and the photosensitive layer coating solution are shown below.

Figure 2008180863
Figure 2008180863

Figure 2008180863
Figure 2008180863

〈感光性層保護層下層(表面保護層下層)塗布液の調製〉
アセトン 5g
MEK 21g
セルロースアセテートプロピオネート 2.3g
(Eastman Chemical社製:CAP−141−20、ガラス転移温度Tg=190℃)
メタノール 7g
フタラジン 0.25g
CH2=CHSO2CH2CH2OCH2CH2SO2CH=CH2 0.035g
〈感光性層保護層上層(表面保護層上層)塗布液の調製〉
アセトン 5g
メチルエチルケトン 21g
セルロースアセテートプロピオネート 2.3g
(Eastman Chemical社製:CAP−141−20ガラス転移温度Tg=190℃)
パラロイドA−21(ロームアンドハース社製) 0.08g
ベンゾトリアゾール 0.03g
メタノール 7g
フタラジン 0.25g
単分散度15%単分散球状3次元架橋したPMMA 0.40g
(ポリメチルメタクリレート 平均粒径 1.0μm)
単分散度15%単分散球状3次元架橋したPMMA 0.10g
(ポリメチルメタクリレート 平均粒径 4.5μm)
CH2=CHSO2CH2CH2OCH2CH2SO2CH=CH2 0.035g
917O(CH2CH2O)22917 0.01g
フッ素系界面活性剤(表2、3に記載) 0.005g
フッ素系ポリマー(FM−1:前出) 0.01g
ステアリン酸イソトリデシル 0.1g
ケイ素含有櫛形グラフトポリマー 0.1g
(ケイ素含有マクロモノマーとメチルメタクリレートからなる重量平均分子量5000の共重合ポリマー)
α−アルミナ(モース硬度9) 0.1g
なお感光性層保護層上層塗布液、感光性層保護層下層塗布液については上記の組成比率でバックコート層塗布液の調製と同様な方法によって行った。架橋したPMMAについてはバックコート層保護層塗布液の場合と同様にMEKに1質量%の濃度でディゾルバ型ホモジナイザにて分散を行い、最後に添加、撹拌することにより感光性層保護層上層塗布液、感光性層保護層下層塗布液を得た。
<Preparation of photosensitive layer protective layer lower layer (surface protective layer lower layer) coating solution>
Acetone 5g
MEK 21g
Cellulose acetate propionate 2.3g
(Manufactured by Eastman Chemical: CAP-141-20, glass transition temperature Tg = 190 ° C.)
7g of methanol
Phthalazine 0.25g
CH 2 = CHSO 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 SO 2 CH = CH 2 0.035g
<Preparation of coating solution for photosensitive layer protective layer upper layer (surface protective layer upper layer)>
Acetone 5g
21g of methyl ethyl ketone
Cellulose acetate propionate 2.3g
(Manufactured by Eastman Chemical: CAP-141-20 glass transition temperature Tg = 190 ° C.)
Paraloid A-21 (Rohm and Haas) 0.08g
Benzotriazole 0.03g
7g of methanol
Phthalazine 0.25g
Monodispersed 15% monodispersed spherical three-dimensional crosslinked PMMA 0.40 g
(Polymethylmethacrylate average particle size 1.0μm)
Monodispersity 15% monodisperse spherical three-dimensional crosslinked PMMA 0.10 g
(Polymethylmethacrylate average particle size 4.5μm)
CH 2 = CHSO 2 CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 SO 2 CH = CH 2 0.035g
C 9 F 17 O (CH 2 CH 2 O) 22 C 9 F 17 0.01 g
Fluorine-based surfactant (described in Tables 2 and 3) 0.005 g
Fluoropolymer (FM-1: supra) 0.01g
0.1 g isotridecyl stearate
Silicon-containing comb-shaped graft polymer 0.1 g
(Copolymer of weight-average molecular weight 5000 consisting of silicon-containing macromonomer and methyl methacrylate)
α-Alumina (Mohs hardness 9) 0.1g
In addition, about the photosensitive layer protective layer upper layer coating liquid and the photosensitive layer protective layer lower layer coating liquid, it carried out by the method similar to preparation of a backcoat layer coating liquid by said composition ratio. The crosslinked PMMA is dispersed in MEK with a dissolver type homogenizer at a concentration of 1% by mass in the same manner as in the case of the backcoat layer protective layer coating solution, and finally added and stirred, whereby the photosensitive layer protective layer upper layer coating solution. A photosensitive layer protective layer lower layer coating solution was obtained.

〈感光性層側スリップ層塗布液の調製〉
前記感光性層塗布液をMEKで固形分濃度が10.5質量%までディゾルバ型ホモジナイザを用いて希釈した。その後、塗布液中のバインダ量に対して30質量%のポリメチルメタクリレートをMEK溶液に溶解して添加後、MEKを用いて固形分濃度が10.5質量%となるようにディゾルバ型ホモジナイザを用いて希釈し、感光性層側スリップ層塗布液を調製した。
<Preparation of photosensitive layer side slip layer coating solution>
The photosensitive layer coating solution was diluted with MEK to a solid content concentration of 10.5% by mass using a dissolver type homogenizer. Then, after dissolving and adding 30% by mass of polymethyl methacrylate to the MEK solution with respect to the amount of binder in the coating solution, a dissolver type homogenizer is used so that the solid content concentration becomes 10.5% by mass using MEK. A photosensitive layer side slip layer coating solution was prepared.

〈熱現像感光材料の作製〉
前記のように調製したスリップ層塗布液、バックコート層塗布液、バックコート層保護層塗布液を、乾燥膜厚がそれぞれ0.3μm、1.1μm、1.0μmになるように、下引上層B−2上にスライドコーターにて塗布速度50m/minにて塗布を行った。尚、乾燥は乾燥温度100℃、露点温度10℃の乾燥風を用いて5分間かけて行った。
<Preparation of photothermographic material>
Slip layer coating solution, back coating layer coating solution, and back coating layer protective layer coating solution prepared as described above are subbing upper layers so that the dry film thicknesses are 0.3 μm, 1.1 μm, and 1.0 μm, respectively. Coating was performed on B-2 at a coating speed of 50 m / min with a slide coater. The drying was performed for 5 minutes using a drying air having a drying temperature of 100 ° C. and a dew point temperature of 10 ° C.

前記スリップ層塗布液と感光性層塗布液と感光性層保護層(表面保護層)塗布液をスライドコーターを用いて塗布速度50m/minにて、下引上層A−2上に同時重層塗布することにより表2、3に示す熱現像感光材料試料101〜140を作製した。塗布は、スリップ層の乾燥膜厚0.3μm、感光性層の乾燥膜厚(表2、3に記載)、感光性層保護層(表面保護層)は乾燥膜厚で3.0μm(表面保護層上層1.5μm、表面保護層下層1.5μm)になる様に行った後、乾燥温度75℃、露点温度10℃の乾燥風を用いて10分間乾燥を行った。   The slip layer coating solution, the photosensitive layer coating solution, and the photosensitive layer protective layer (surface protective layer) coating solution are simultaneously coated on the subbing upper layer A-2 at a coating speed of 50 m / min using a slide coater. Thus, photothermographic material samples 101 to 140 shown in Tables 2 and 3 were prepared. Coating is a dry film thickness of 0.3 μm of the slip layer, a dry film thickness of the photosensitive layer (described in Tables 2 and 3), and a protective layer of the photosensitive layer (surface protective layer) is 3.0 μm (surface protective) And then dried for 10 minutes using a drying air having a drying temperature of 75 ° C. and a dew point temperature of 10 ° C.

試料123については、試料111における、粉末有機銀塩Aの調製において、ベヘン酸130.8g、アラキジン酸67.7g、ステアリン酸43.6g、パルミチン酸2.3gのかわりにベヘン酸259.4g、アラキジン酸0.5gを用いたこと以外は試料111と同様にして試料を作製した。   For sample 123, behenic acid 259.4 g instead of 130.8 g behenic acid, 67.7 g arachidic acid, 43.6 g stearic acid, 2.3 g palmitic acid in the preparation of powdered organic silver salt A in sample 111, A sample was prepared in the same manner as Sample 111 except that 0.5 g of arachidic acid was used.

試料132については、試料111における、バックコート層側スリップ層塗布液の調製において、ポリエステル樹脂(Bostic社:VitelPE2200B)に代えてポリメチルメタクリレート(ローム アンド ハース社製、パラロイドA21)を同質量用いたこと以外は試料111と同様にして試料を作製した。なお試料111についてはB=0.09、A=0、試料132についてもB=0.09、A=0であった。   For sample 132, the same amount of polymethyl methacrylate (Rohm and Haas, Paraloid A21) was used in place of the polyester resin (Bostic: VitelPE2200B) in the preparation of the backcoat layer side slip layer coating solution in sample 111. A sample was prepared in the same manner as Sample 111 except that. Note that B = 0.09 and A = 0 for the sample 111, and B = 0.09 and A = 0 for the sample 132 as well.

試料133については、試料111における、バックコート層側スリップ層塗布液の調製において、ポリエステル樹脂(Bostic社:VitelPE2200B)に代えてポリウレタン樹脂(東洋紡社製UR8300)を固形分として同質量用いたこと以外は試料111と同様にして試料を作製した。なお試料133についてはB=0.09、A=0であった。   For sample 133, in the preparation of the backcoat layer side slip layer coating solution in sample 111, polyurethane resin (UR8300 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was used in the same mass as the solid content instead of polyester resin (Bostic: VitelPE2200B). A sample was prepared in the same manner as Sample 111. For sample 133, B = 0.09 and A = 0.

試料134については、試料111における、バックコート層側スリップ層塗布液の調製において、ポリエステル樹脂(Bostic社:VitelPE2200B)を使用しなかったこと以外は試料111と同様にして試料を作製した。なお試料134についてはB=0、A=0であった。   For sample 134, a sample was prepared in the same manner as sample 111, except that in the preparation of the backcoat layer side slip layer coating solution in sample 111, the polyester resin (Bostic: VitelPE2200B) was not used. For sample 134, B = 0 and A = 0.

試料135については、試料111における、バックコート層保護層塗布液の調製において、セルロースアセテートプロピオネート(10%MEK溶液)15gに加えてポリエステル樹脂(Bostic社:VitelPE2200B)0.50gを添加したこと以外は試料111と同様にして試料を作製した。なお試料135についてはB=0.09、A=0.125であった。なおA、Bの計算にあたってはバックコート保護層(表面保護層)についてはバックコート層に含まれるものとして計算した。   For sample 135, in the preparation of the backcoat layer protective layer coating solution in sample 111, in addition to 15 g of cellulose acetate propionate (10% MEK solution), 0.50 g of a polyester resin (Bostic: VitelPE2200B) was added. A sample was prepared in the same manner as Sample 111 except for the above. For sample 135, B = 0.09 and A = 0.125. In calculating A and B, the backcoat protective layer (surface protective layer) was calculated as being included in the backcoat layer.

試料136については、試料111における、バックコート層保護層塗布液の調製において、セルロースアセテートプロピオネート(10%MEK溶液)15gに加えてポリエステル樹脂(Bostic社:VitelPE2200B)0.20g、ポリメチルメタクリレート(ローム アンド ハース社製、パラロイドA21)0.20gを添加したこと以外は試料111と同様にして試料を作製した。なお試料136についてはB=0.09、A=0.105であった。なおA、Bの計算にあたってはバックコート保護層(表面保護層)についてはバックコート層に含まれるものとして計算した。   For sample 136, in the preparation of the backcoat layer protective layer coating solution in sample 111, in addition to 15 g of cellulose acetate propionate (10% MEK solution), 0.20 g of polyester resin (Bostic: VitelPE2200B), polymethyl methacrylate A sample was prepared in the same manner as Sample 111 except that 0.20 g (Rohm and Haas, Paraloid A21) was added. Regarding sample 136, B = 0.09 and A = 0.105. In calculating A and B, the backcoat protective layer (surface protective layer) was calculated as being included in the backcoat layer.

試料137については、試料111における、バックコート層保護層塗布液の調製において、セルロースアセテートプロピオネート(10%MEK溶液)15gに加えてポリエステル樹脂(Bostic社:VitelPE2200B)0.10g、ポリウレタン樹脂(UR8300(東洋紡製 30%MEK溶液)0.30gを添加したこと以外は試料111と同様にして試料を作製した。なお試料137についてはB=0.09、A=0.105であった。なおA、Bの計算にあたってはバックコート保護層(表面保護層)についてはバックコート層に含まれるものとして計算した。   For sample 137, in the preparation of the backcoat layer protective layer coating solution in sample 111, in addition to 15 g of cellulose acetate propionate (10% MEK solution), 0.10 g of polyester resin (Bostic: VitelPE2200B), polyurethane resin ( A sample was prepared in the same manner as Sample 111 except that 0.30 g of UR8300 (Toyobo 30% MEK solution) was added, and B = 0.09 and A = 0.105 for Sample 137. In calculating A and B, the backcoat protective layer (surface protective layer) was calculated as being included in the backcoat layer.

試料138、139については、試料111における、バックコート層保護層塗布液の調製において、マット剤の表3に示す粒径の異なる2種を表3に示すように加えた以外は試料111と同様にして試料を作製した。   Samples 138 and 139 were the same as Sample 111 except that two types of matting agents having different particle sizes shown in Table 3 were added as shown in Table 3 in the preparation of the backcoat layer protective layer coating solution in Sample 111. A sample was prepared.

また試料101〜140について感光性層側最表面の表面粗さを測定したところ、Rz(E)=2.9μmであった。Ra(E)は126nmであった。   Moreover, when the surface roughness of the photosensitive layer side outermost surface was measured about the samples 101-140, it was Rz (E) = 2.9 micrometer. Ra (E) was 126 nm.

試料101〜140について、黄色発色性ロイコ染料による極大吸収波長420nmの吸収ピークが認められた。また試料101〜140について、シアン発色性ロイコ染料による極大吸収波長620nmの吸収ピークが認められた。   With respect to Samples 101 to 140, an absorption peak at a maximum absorption wavelength of 420 nm due to the yellow coloring leuco dye was observed. Further, with respect to Samples 101 to 140, an absorption peak at a maximum absorption wavelength of 620 nm due to the cyan color-forming leuco dye was observed.

Figure 2008180863
Figure 2008180863

Figure 2008180863
Figure 2008180863

*1):(RD1−47)/(RD2−6)=4.20/23.78
LB−1 ステアリン酸イソトリデシル
LB−2 パルミチン酸イソトリデシル
LB−3 グリセリントリオレート
LB−4 グリセリントリミリステート
LB−5 グリセリントリラウレート
LB−6 トリイソステアリン酸トリメチロールプロパン
LB−7 ヘキサイソステアリン酸ジペンタエリスリトール
A C817SO3Li
B ステアリン酸ブチル
C オレイン酸オレイル
D ケイ素含有櫛形グラフトポリマー(ケイ素含有マクロモノマーとメチルメタクリレートからなる重量平均分子量5000の共重合ポリマー)
〈露光及び現像処理〉
上記のように作製した熱現像感光材料試料101〜140を半切サイズ(34.5cm×43.0cm)に加工した後、25℃50%の環境下で以下の包装材料に包装し、2週間常温下で保管した後、以下の評価を行った。
* 1): (RD1-47) / (RD2-6) = 4.20 / 23.78
LB-1 Isotridecyl stearate LB-2 Isotridecyl palmitate LB-3 Glycerol trioleate LB-4 Glycerol trimyristate LB-5 Glycerol trilaurate LB-6 Trimethylolpropane triisostearate LB-7 Dipentaerythritol hexaisostearate AC 8 F 17 SO 3 Li
B butyl stearate C oleyl oleate D silicon-containing comb-shaped graft polymer (copolymer of weight-average molecular weight 5000 consisting of silicon-containing macromonomer and methyl methacrylate)
<Exposure and development processing>
The photothermographic material samples 101 to 140 prepared as described above were processed into half-cut sizes (34.5 cm × 43.0 cm), and then packaged in the following packaging materials in an environment of 25 ° C. and 50% for 2 weeks at room temperature. Following storage, the following evaluations were made.

(包装材料)
PET10μm/PE12μm/アルミ箔9μm/Ny15μm/カーボン3%を含むポリエチレン50μm、酸素透過率:25℃1.013×105Paにおいて1日あたり0.02ml/m2、水分透過率:0.001g/m2・40℃・90%RH・dayのバリア袋(JIS Z0208 カップ法による)。紙トレーを使用。
(Packaging material)
PET 10 μm / PE 12 μm / Aluminum foil 9 μm / Ny 15 μm / polyethylene 50 μm containing 3% carbon, oxygen permeability: 0.02 ml / m 2 per day at 25 ° C. and 1.013 × 10 5 Pa, moisture permeability: 0.001 g / Barrier bag of m 2 · 40 ° C · 90% RH · day (according to JIS Z0208 cup method). Use paper tray.

(試料の評価)
〈露光及び現像処理〉
上記のように作製した熱現像感光材料試料101〜140を、図1に示した熱現像装置(最大50mW出力の810nm半導体レーザ搭載、設置面積0.35m2)にて露光と同時に熱現像(図1の51a(搬送方向の長さ75mm)の設定温度を123℃、51b(搬送方向の長さ175mm)の設定温度を127℃にそれぞれ設定し、それぞれ3秒、7秒で合計10秒接触するように搬送)した。また各ヒートプレート51a、51bにおいて、熱現像感光材料の搬送方向に対して搬送入り口側で加熱温度が高くなるように設定した。ここで、「露光と同時に熱現像する」とは、熱現像感光材料からなる一枚のシート状熱現像感光材料で、一部が露光されながら、同時に既に露光がなされたシートの一部分で現像が開始されることを意味する。露光部と現像部との距離は12cmであった。この時の熱現像感光材料供給装置部から画像露光装置部までの搬送速度、画像露光部での搬送速度、熱現像部での搬送速度はそれぞれ30mm/秒で行った。また最下部に位置する熱現像感光材料ストックトレーの底面の位置は床面から45cmの高さであった。また熱現像処理に要した時間(熱現像感光材料がトレイ部でピックアップされてから排出されるまでにかかる時間)は45秒であった。(連続処理の場合は熱現像のインターバル時間は4秒。)。露光は最高出力から1段ごとに露光エネルギー量をlogE0.05ずつ減じながら階段状に行った。
(Sample evaluation)
<Exposure and development processing>
The photothermographic material samples 101 to 140 produced as described above were subjected to thermal development simultaneously with exposure in the thermal development apparatus shown in FIG. 1 (mounted with an 810 nm semiconductor laser with a maximum output of 50 mW, installation area 0.35 m 2 ) (FIG. 1 set the temperature of 51a (75 mm in the conveying direction) to 123 ° C. and the setting temperature of 51b (the length of 175 mm in the conveying direction) to 127 ° C., respectively, and contact each for 3 seconds and 7 seconds for a total of 10 seconds. Was conveyed). In each of the heat plates 51a and 51b, the heating temperature was set higher on the conveyance entrance side with respect to the conveyance direction of the photothermographic material. Here, “heat development at the same time as exposure” is a sheet of photothermographic material made of a photothermographic material, and a part of the sheet that has been exposed at the same time is developed while being partially exposed. Means to be started. The distance between the exposed part and the developing part was 12 cm. At this time, the conveyance speed from the photothermographic material supply apparatus section to the image exposure apparatus section, the conveyance speed at the image exposure section, and the conveyance speed at the heat development section were each 30 mm / second. Further, the position of the bottom surface of the photothermographic material stock tray located at the bottom was 45 cm high from the floor surface. Further, the time required for the heat development processing (the time taken for the photothermographic material to be picked up at the tray portion and discharged) was 45 seconds. (In the case of continuous processing, the interval time for heat development is 4 seconds.) The exposure was performed in a stepped manner while reducing the exposure energy amount by log E0.05 step by step from the maximum output.

《平均階調Ga値》
得られたセンシトメトリー試料をPDM65透過濃度計(コニカ社製)を用いて濃度測定し、測定結果をコンピューター処理して特性曲線を得た。この特性曲線から光学濃度0.25〜2.5の平均階調Ga値を求めた。
<< Average gradation Ga value >>
The obtained sensitometric sample was subjected to concentration measurement using a PDM65 transmission densitometer (manufactured by Konica), and the measurement result was computer processed to obtain a characteristic curve. From this characteristic curve, an average gradation Ga value having an optical density of 0.25 to 2.5 was obtained.

《表面粗さの評価》
熱現像の処理前の試料について、非接触3次元表面解析装置(WYKO社RST/PLUS)を用いて、下記に示す方法により測定した。
<< Evaluation of surface roughness >>
About the sample before the process of heat development, it measured by the method shown below using the non-contact three-dimensional surface analyzer (WYKO company RST / PLUS).

1)対物レンズ:×10.0 中間レンズ:×1.0
2)測定範囲:463.4μm×623.9μm
3)ピクセルサイズ:368×238
4)フィルター:円筒補正と傾き補正
5)スムージング:ミディアムスムージング
6)スキャンスピード:Low
なおRa、Rz、Rtの定義はJIS表面粗さ(B0601)に従った。測定は10cm×10cmの各試料について、1cm間隔で碁盤目状に100分割し、各正方形領域の中心について測定を行ない、100回の測定からその平均値を求めた。
1) Objective lens: × 10.0 Intermediate lens: × 1.0
2) Measurement range: 463.4 μm × 623.9 μm
3) Pixel size: 368 × 238
4) Filter: Cylindrical correction and tilt correction 5) Smoothing: Medium smoothing 6) Scanning speed: Low
Ra, Rz, and Rt were defined according to JIS surface roughness (B0601). For each sample of 10 cm × 10 cm, the sample was divided into 100 in a grid pattern at 1 cm intervals, the center of each square region was measured, and the average value was obtained from 100 measurements.

《フィルムの傷発生》
図1に示す熱現像装置を用いてフィルム搬送を行い、感光性層側の最表面の傷の発生状況を目視で観察し、最も良いレベルを5、最も悪いレベルを1とし5段階評価を行った(但し評価は0.5ランクきざみで行った)。レベル2.5では実用不可である。
<Film scratches>
The film is transported using the heat development apparatus shown in FIG. 1, and the occurrence of scratches on the outermost surface on the photosensitive layer side is visually observed, and the five-level evaluation is performed with the best level being 5 and the worst level being 1. (However, the evaluation was performed in increments of 0.5). Level 2.5 is not practical.

《熱現像装置の機内汚染》
図1に示す熱現像装置を用いて25℃、相対湿度65%の環境下でシートフィルム5000枚を熱現像処理した後に熱現像装置内の搬送ローラに付着した汚れを目視で評価した。ローラ表面の汚染のない最も良いレベルを5、最も悪いレベル(ローラ全面に汚染が発生)を1とし、0.5きざみで評価を行った。
<In-machine contamination of thermal development equipment>
Using the thermal development apparatus shown in FIG. 1, after the thermal development of 5000 sheet films in an environment of 25 ° C. and a relative humidity of 65%, the dirt attached to the conveying roller in the thermal development apparatus was visually evaluated. The best level with no contamination on the roller surface was set to 5, and the worst level (contamination occurred on the entire surface of the roller) was set to 1, and the evaluation was performed in increments of 0.5.

《低湿下でのフィルム搬送性》
図1に示す熱現像装置を用いて10℃、相対湿度15%の環境下でシートフィルムを各100枚処理してフィルム搬送を行い、搬送不良の発生した回数(回/100枚)をカウントした。
<Film transportability under low humidity>
Using the heat development apparatus shown in FIG. 1, 100 sheet films were processed each in an environment of 10 ° C. and 15% relative humidity to carry the film, and the number of occurrences of conveyance failure (times / 100 sheets) was counted. .

《湿度変動に伴う濃度変動》
25℃、相対湿度40%の環境下で試料を24時間調湿後に画質評価に使用したのと同じ条件で(即ち、25℃、相対湿度40%の環境下で)熱現像を行った場合の最高濃度部の値(Dmax1)と、45℃、相対湿度90%の条件下で試料を24時間調湿後に画質評価に使用したのと同じ条件で(即ち、45℃、相対湿度90%の環境下で)熱現像を行った場合の最高濃度部の値(Dmax2)と、の差(Dmax1−Dmax2=ΔDmax)を、PDM65透過濃度計(コニカ社製)を用いて測定した。
<Concentration fluctuation accompanying humidity fluctuation>
When heat development was performed under the same conditions as those used for image quality evaluation after conditioning for 24 hours in an environment of 25 ° C. and a relative humidity of 40% (ie, in an environment of 25 ° C. and a relative humidity of 40%) Under the same conditions as when the sample was conditioned for 24 hours under the conditions of the maximum density part (Dmax1) and 45 ° C. and 90% relative humidity (ie, at 45 ° C. and 90% relative humidity) The difference (Dmax1−Dmax2 = ΔDmax) between the maximum density part value (Dmax2) when heat development was performed was measured using a PDM65 transmission densitometer (manufactured by Konica Corporation).

《接着性》
試料上にセロテープ(登録商標)をはり、碁盤目状に傷を入れ、テープ剥離後にはがれた分の面積比率を求め、以下の基準で0.5刻みの評価をした。
"Adhesiveness"
Cellotape (registered trademark) was put on the sample, scratches were made in a grid pattern, and the area ratio of the part peeled off after the tape was peeled off was evaluated in 0.5 increments according to the following criteria.

5:剥離部分が0%の場合
4:剥離部分が1〜33%の場合
3:剥離部分が34〜66%の場合
2:剥離部分ガ67%〜99%の場合
1:剥離部分が100%の場合。
5: When the peeled portion is 0% 4: When the peeled portion is 1 to 33% 3: When the peeled portion is 34 to 66% 2: When the peeled portion is 67% to 99% 1: The peeled portion is 100% in the case of.

結果を表4に示す。   The results are shown in Table 4.

Figure 2008180863
Figure 2008180863

また、試料102において紙トレイを上げ底構造とし、トレイ下部にできた空間にシリカゲルを封入した、シリカゲル入り紙トレイを使用したところ、湿度変動に伴う濃度変動が向上し、改良効果が認められた。   Further, when a paper tray containing silica gel was used in which the paper tray was raised in the sample 102 and the silica gel was sealed in the space formed at the bottom of the tray, the concentration fluctuation due to humidity fluctuation was improved, and an improvement effect was recognized.

以上のように本発明を実施するための最良の形態について説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で各種の変形が可能である。例えば、図1の画像形成装置10は、医用画像データを入力させることで、医用画像をフィルムに形成し出力することができる医療用レーザイメージャに構成可能である。   As described above, the best mode for carrying out the present invention has been described. However, the present invention is not limited to these, and various modifications are possible within the scope of the technical idea of the present invention. For example, the image forming apparatus 10 in FIG. 1 can be configured as a medical laser imager capable of forming and outputting a medical image on a film by inputting medical image data.

また、図1の画像形成装置10は、全体がデスクトップ型の比較的コンパクトな構成であったが、本発明のシートフィルム搬送装置は、かかるデスクトップ型の画像形成装置にだけ適用できるのではなく、例えば、スタンドアロンタイプ(自立型)等の比較的大型の熱現像方式の画像形成装置にも適用できることは勿論である。   In addition, although the image forming apparatus 10 of FIG. 1 has a relatively compact configuration of a desktop type as a whole, the sheet film conveying apparatus of the present invention is not only applicable to such a desktop type image forming apparatus. For example, the present invention can be applied to a relatively large heat development type image forming apparatus such as a stand-alone type (self-standing type).

本発明に用いることのできる熱現像装置の実施形態の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of embodiment of the heat development apparatus which can be used for this invention. 熱現像装置におけるヒートプレートの構成の一例を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically an example of the structure of the heat plate in a heat developing apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

10:熱現像装置
11a,11b:装填部
51a,51b:ヒートプレート
A:熱現像感光材料供給部
B:画像露光部
C:熱現像部
D:冷却部
F:熱現像感光材料
H:熱線(発熱部材)
10: Thermal development apparatus 11a, 11b: Loading unit 51a, 51b: Heat plate A: Photothermographic material supply unit B: Image exposure unit C: Thermal development unit D: Cooling unit F: Photothermographic material H: Heat ray (heat generation) Element)

Claims (8)

支持体上にハロゲン化銀粒子、有機銀塩、還元剤およびバインダーを含有する感光性層を有し、かつ支持体の反対側の面にバックコート層を有する熱現像感光材料において、該感光性層の乾燥膜厚が9〜16μmであり、該バックコート層側の最表面の中心線平均粗さ(Ra)が100〜150nmであって、該バックコート層が分子量550以上10000以下の潤滑剤を含有することを特徴とする熱現像感光材料。 A photothermographic material having a photosensitive layer containing silver halide grains, an organic silver salt, a reducing agent and a binder on a support, and a backcoat layer on the opposite side of the support. Lubricant having a dry film thickness of 9 to 16 μm, a center line average roughness (Ra) of the outermost surface on the back coat layer side of 100 to 150 nm, and the back coat layer having a molecular weight of 550 to 10,000 A photothermographic material comprising a photothermographic material. 支持体上にハロゲン化銀粒子、有機銀塩、還元剤およびバインダーを含有する感光性層を有し、かつ支持体の反対側の面にバックコート層を有する熱現像感光材料において、該感光性層の乾燥膜厚が9〜16μmであり、該バックコート層側の最表面の中心線平均粗さ(Ra)が100〜150nmであって、該バックコート層が多価アルコールの脂肪酸エステルを含有することを特徴とする熱現像感光材料。 A photothermographic material having a photosensitive layer containing silver halide grains, an organic silver salt, a reducing agent and a binder on a support, and a backcoat layer on the opposite side of the support. The dry film thickness of the layer is 9 to 16 μm, the center line average roughness (Ra) on the outermost surface on the back coat layer side is 100 to 150 nm, and the back coat layer contains a fatty acid ester of a polyhydric alcohol A photothermographic material characterized in that: 前記バックコート層側最表面の中心線平均粗さ(Ra)が110〜140nmであることを特徴とする請求項1または2に記載の熱現像感光材料。 3. The photothermographic material according to claim 1, wherein a center line average roughness (Ra) of the outermost surface on the backcoat layer side is 110 to 140 nm. 前記感光性層に省銀化剤を含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。 The photothermographic material according to claim 1, wherein the photosensitive layer contains a silver saving agent. 前記省銀化剤が、ヒドラジン誘導体、ビニル化合物、フェノール誘導体、ナフトール誘導体、4級オニウム化合物及びシラン化合物から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項4に記載の熱現像感光材料。 5. The photothermographic material according to claim 4, wherein the silver saving agent is at least one selected from hydrazine derivatives, vinyl compounds, phenol derivatives, naphthol derivatives, quaternary onium compounds, and silane compounds. 熱現像後の画像濃度の最大値が4.0以上5.0以下であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。 6. The photothermographic material according to claim 1, wherein the maximum value of image density after heat development is 4.0 or more and 5.0 or less. 写真特性曲線の光学濃度0.25〜2.5における平均階調(Ga値)が2.0〜6.0であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の熱現像感光材料。 The heat according to any one of claims 1 to 6, wherein an average gradation (Ga value) of the photographic characteristic curve at an optical density of 0.25 to 2.5 is 2.0 to 6.0. Development photosensitive material. 支持体上にハロゲン化銀粒子、有機銀塩、還元剤およびバインダーを含有する感光性層を有し、かつ支持体の反対側の面にバックコート層を有する熱現像感光材料において、支持体とバックコート層の間にバインダーを含む下引層を設けてなり、該バックコート層及び該下引層が少なくともポリエステル樹脂、アクリル樹脂またはポリウレタン樹脂のいずれかを含有し、かつ該バックコート層におけるポリエステル樹脂、アクリル樹脂及びポリウレタン樹脂の合計量の該バックコート層のバインダ量に対する質量比率をAとし、該下引層におけるポリエステル樹脂、アクリル樹脂及びポリウレタン樹脂の合計量の該下引層のバインダ量に対する質量比率をBとするとき、B>Aであることを特徴とする熱現像感光材料。 A photothermographic material having a photosensitive layer containing silver halide grains, an organic silver salt, a reducing agent and a binder on a support, and a backcoat layer on the opposite side of the support. An undercoat layer containing a binder is provided between the backcoat layers, the backcoat layer and the undercoat layer contain at least one of a polyester resin, an acrylic resin, or a polyurethane resin, and the polyester in the backcoat layer The mass ratio of the total amount of resin, acrylic resin and polyurethane resin to the binder amount of the backcoat layer is A, and the total amount of polyester resin, acrylic resin and polyurethane resin in the undercoat layer to the binder amount of the undercoat layer A photothermographic material, wherein B> A, where B is a mass ratio.
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