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JP2008170281A - 形状測定装置及び形状測定方法 - Google Patents

形状測定装置及び形状測定方法 Download PDF

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JP2008170281A JP2007003906A JP2007003906A JP2008170281A JP 2008170281 A JP2008170281 A JP 2008170281A JP 2007003906 A JP2007003906 A JP 2007003906A JP 2007003906 A JP2007003906 A JP 2007003906A JP 2008170281 A JP2008170281 A JP 2008170281A
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Tomoaki Yamada
智明 山田
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Abstract

【課題】被検物の時間的な変化の影響もしくは被検物表面の急激な状態変化の影響を受けることがないようにして正確な三次元形状測定を行うことができるような測定装置及び測定方法を提供することを目的とする。
【解決手段】位置によって異なる光学波長および位相を有する投影パターンを被検物に投影する投影部と、前記投影パターンが投影された前記被検物の像を色調に対応する少なくとも2つの波長特性に基づいて分けた撮像として取得する撮像取得部と、前記被検物の複数の位置に対応する前記撮像から前記波長特性同士の重複による誤差を修正した修正位相を取得する修正位相取得部と、前記修正位相取得部により得られた前記修正位相から前記被検物の形状を測定する形状測定部とを備えることを特徴とする形状測定装置を提供する。
【選択図】図1

Description

本発明は、パターン投影により3次元形状を測定する装置に関する。
工業製品等の物体の表面形状を測定する技術は従来から種々提案されており、その一つに光学式の三次元形状測定装置がある。光学式の三次元形状測定装置も種々の方式、構成のものがあるが、被検物に所定の投影パターン(縞模様や、格子模様)を投影して被検物を撮像し、その撮像画像から各画像位置(各画素)での縞の位相を求めて各画像位置の高さを算出し、被検物の三次元表面形状を測定するものがある(特許文献1参照)。
このような装置においては、例えば、被検物の表面に縞パターンからなる投影パターンを投影し、投影方向と異なる角度から被検物に投影された縞パターンを撮像し、撮像された被検物表面の撮像画像より縞パターンの位相分布を算出し、三角測量の原理等を用いて被検物表面の三次元形状を求めるように構成されている。
その構成例を図4に示しており、光源51からの光が縞模様の投影パターンマスク52及び投影レンズ53を通して被検物54の表面に投影される。被検物54の表面に投影された投影パターンマスク52の縞模様は、被検物54の表面三次元形状に応じて変形され、このように変形された被検物54の表面のパターンを投影方向と異なる角度から撮像レンズ55を介して撮像装置56(例えば、CCDセンサ)により撮像されて、演算処理装置57に送られ、ここで撮像画像データの演算処理が行われる。演算処理装置57においては、このように撮像された被検物表面の撮像画像データより縞パターンの位相分布を算出し、三角測量の原理等を用いて被検物表面の三次元形状を求める演算処理が行われる。
特開2000−9444号公報
ところで、上述のような位相シフト法を用いる三次元測定では、投影パターンの位相を変えて複数回撮像した撮像画像から各画素の位相を求めるもので横方向の分解能は高いが、その反面複数の撮像画像を取得する時間内に被検物が動いてしまう(振動等が要因)であると精度が低下するという問題がある。また、フーリエ変換を利用したワンステップ法を用いる三次元測定では、被検物の時間的な変化(移動)に対しては問題がないが、被検物表面の急激な状態変化を検出できないという問題がある。
本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、被検物の時間的な変化の影響もしくは被検物表面の急激な状態変化の影響を受けることがないようにして正確な三次元形状測定を行うことができるような測定装置及び測定方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決して目的を達成するため、本発明に係る形状測定装置は、位置によって異なる光学波長および位相を有する投影パターンを被検物に投影する投影部と、前記投影パターンが投影された前記被検物の像を色調に対応する少なくとも2つの波長特性に基づいて分けた撮像として取得する撮像取得部と、前記被検物の複数の位置に対応する前記撮像から前記波長特性同士の重複による誤差を修正した修正位相を取得する修正位相取得部と、前記修正位相取得部により得られた前記修正位相から前記被検物の形状を測定する形状測定部とを備える。
前記形状測定装置は、位置によって任意の波長及び任意の位相の投影パターンを生成する投影パターン生成部を備えるように構成されることが好ましい。
前記形状測定装置において、前記投影パターン生成部は少なくとも3つの波長特性を合成して前記投影パターンを生成し、前記撮像取得部は少なくとも前記3つの波長特性に基づいて分けた撮像として取得するように構成されることが好ましい。
また、本発明に係る形状測定装置は、任意の波長帯域及び任意の位相の投影パターンを生成する投影パターン生成部と、被検物に前記投影パターン生成部により生成された前記投影パターンを投影する投影部と、前記投影パターンが投影された前記被検物を撮像する撮像部と、前記投影パターン生成部によりそれぞれ異なる波長帯域を有した3つ以上の補正用投影パターンを生成し、前記投影部により前記被検物に前記補正用投影パターンをそれぞれ投影するとともに前記撮像部により撮像して3つ以上の補正用撮像画像を取得し、前記補正用撮像画像のそれぞれにおいて、前記波長帯域毎の光量比を検出し、前記光量比を前記補正用撮像画像のそれぞれについて補正データとして取得する補正データ検出部と、前記投影パターン生成部により、それぞれ前記補正用投影パターンが有する波長帯域と同一の波長帯域を有し位相が互いに異なる3つ以上のベース投影パターンを生成し、さらに前記ベース投影パターンを合成して合成投影パターンを生成し、前記投影部により前記被検物に前記合成投影パターンを投影するとともに前記撮像部により撮像して得られた合成投影パターン撮像画像において、各画素における光量を前記波長帯域毎に分けて前記補正データを用いて補正し、それぞれ位相の異なる3つ以上の補正画像を取得する修正データ取得部と、前記補正画像取得部により得られた前記補正画像から前記被検物の形状測定をする形状演算部とを備える。
上記課題を解決して目的を達成するため、本発明に係る形状測定方法は、位置によって異なる光学波長および位相を有する投影パターンを被検物に投影する投影工程と、前記投影パターンが投影された前記被検物の像を色調に対応する少なくとも2つの波長特性に基づいて分けた撮像として取得する撮像取得工程と、前記被検物の複数の位置に対応する前記撮像から前記波長特性同士の重複による誤差を修正した修正位相を取得する修正位相取得工程と、前記修正位相取得工程により得られた前記修正位相から前記被検物の形状を測定する。
前記形状測定方法は、位置によって任意の波長及び任意の位相の投影パターンを生成する投影パターン生成工程を更に有するように構成されることが好ましい。
前記形状測定方法において、前記投影パターン生成工程は少なくとも3つの波長特性を合成して前記投影パターンを生成し、前記撮像取得工程は少なくとも前記3つの波長特性に基づいて分けた撮像として取得するように構成されることが好ましい。
また、本発明に係る形状測定方法は、任意の波長帯域及び任意の位相の投影パターンを生成する投影パターン生成部と、被検物に前記投影パターン生成部により生成された前記投影パターンを投影する投影部と、前記投影パターンが投影された前記被検物を撮像する撮像部とを備えた形状測定装置を用いて前記被検物の三次元形状を測定する方法であって、前記投影パターン生成部によりそれぞれ異なる波長帯域を有した3つ以上の補正用投影パターンを生成し、前記投影部により前記被検物に前記補正用投影パターンをそれぞれ投影するとともに前記撮像部により撮像して3つ以上の補正用撮像画像を取得するステップと、前記撮像部により撮像して得られた前記補正用撮像画像のそれぞれにおいて、前記波長帯域毎の光量比を検出し、前記光量比を前記補正用撮像画像のそれぞれについて補正データとして取得するステップと、前記投影パターン生成部により、それぞれ前記補正用投影パターンが有する波長帯域と同一の波長帯域を有し位相が互いに異なる3つ以上のベース投影パターンを生成し、さらに前記ベース投影パターンを合成して合成投影パターンを生成し、前記投影部により前記被検物に前記合成投影パターンを投影するステップと、前記撮像部により前記被検物に投影された前記合成投影パターンを撮像して合成投影パターン撮像画像を取得するステップと、前記撮像部により得られた前記合成投影パターン撮像画像において、各画素における光量を前記波長帯域毎に分けて前記補正データを用いて補正し、それぞれ位相の異なる3つ以上の補正画像を取得するステップとを有し、前記補正画像から前記被検物の三次元形状を求める。
以上説明したように構成される本発明によれば、それぞれ異なる波長帯域を有した3つの補正用投影パターンを生成し、それぞれ前記補正用投影パターンが有する波長帯域と同一の波長帯域を有し位相が互いに異なる3つ以上のベース投影パターンを生成し、さらに前記ベース投影パターンを合成して合成投影パターンを生成し、前記合成投影パターンを投影して得られる合成投影パターン撮像画像から、各画素における光量を前記波長帯域毎に分けて前記補正データを用いて補正し、それぞれ位相の異なる3つ以上の補正画像を取得し、前記補正画像から被検物の三次元形状を求める構成であり、被検物の時間的な変化の影響もしくは被検物表面の急激な状態変化の影響を軽減し、計測精度が高い三次元形状測定装置を提供することができる。
以下、本発明の好ましい実施形態について説明する。本発明に係る三次元形状測定装置の概略構成を図1に示しており、まず、この形状測定装置について、図1を参照して説明する。
この形状測定装置は、光源1と、光源1からの光に縞模様を与えるための投影パターンマスク2と、投影パターンマスク2を通過した光源1からの光を被検物20の表面に投影させる投影レンズ(群)3とからなるパターン投影部と、被検物20からの反射光を撮像レンズ(群)4を介して撮像する撮像装置5からなる撮像部と、を有して構成される。
パターン投影部において、投影パターンマスク2は例えば液晶素子により構成され、投影パターン生成装置6により任意の波長帯域及び任意の位相の投影パターン(本実施形態では、正弦波状の縞パターンを生成する)を生成できる。これにより、光源1からの光をこの投影パターンマスク2を通過させ、投影レンズ3により集光させ、被検物20の表面に投影パターンマスク2により形成された所望の投影パターンを投影させることができる。なお、図では、投影パターンマスク2を視覚的に判りやすいようにバイナリーパターン(白黒模様)としているが、実際は、前述のように濃淡による位相が正弦波状に変わる縞パターンとなっている。
撮像部は、被検物20からの反射光を撮像レンズ4を介して被検物20を撮像する撮像装置5(例えば、CCDカメラ)を備えている。撮像装置5により撮像された被検物20の画像データは、演算処理装置7に送られ、ここで以下に説明する画像演算処理がなされ、被検物20の表面形状測定が行われる。なお、パターン投影部、撮像部は一つのフレームにより一体に固定されて構成されており、被検物20は図示しない支持台上に載置されて支持されている。
演算処理装置7は、撮像装置5により得られた撮像画像において、異なる波長帯域の光量比を検出し、前記光量比を補正データとして取得する補正データ検出部8と、前記撮像部により得られた撮像画像において、画素毎に前記各異なる波長帯域の光量を前記補正データを用いて補正し、それぞれ位相の異なる補正画像を取得する補正画像取得部9と、前記補正画像取得部9により得られた前記補正画像から被検物の形状測定をする形状演算部10とを備えている。
以上のように構成された表面形状測定装置を用いて被検物20の表面形状を測定する方法を、図2のフローチャートを参照して以下に説明する。
本実施形態では、投影パターン生成装置6において、それぞれ異なる波長帯域を有した3つの投影パターン(正弦波状の赤色、緑色、青色縞パターン)、もしくはそれぞれ位相が互いに異なる3つの前記投影パターンを合成して合成投影パターンを生成して用いる。
この測定に際しては、まず投影パターン生成装置6により投影パターンマスク2を赤色縞パターン(正弦波状の赤色縞パターン)に生成する(ステップS1)。光源1からの光を投影パターンマスク2及び投影レンズ3を介して被検物20に照射させて被検物20の表面に赤色縞パターンを投影する。このように投影されて被検物20から反射する光は撮像レンズ4を介して集光され、撮像装置5により被検物表面に投影された赤色縞パターンを撮像する(ステップS2)。
撮像装置5により得られた撮像画像は、演算処理装置7に送られる。演算処理装置7内の補正データ検出部8において、赤色縞パターンを被検物20に投影して得られた撮像画像の各波長帯域の光量比(赤色縞パターンを投影して得られた撮像画像の赤色、青色、緑色の各光量)を検出する(ステップS3)。ここで、赤色縞パターンを投影して得られた各波長帯域の光量比をそれぞれRrr(X,Y)(前記赤色の光量比)、Grr(X,Y)(前記緑色の光量比)、Brr(X,Y)(前記青色の光量比)とする。
上記のように、赤色縞パターンを被検物20に投影して得られた撮像画像において、
光源1の前記各波長帯域に対して前記撮像画像の前記波長帯域は必ずしも1対1にはなっていない。つまり、前記撮像画像において、赤色の光量だけが検出されるのではなく、緑色の光量もしくは青色の光量に対しても多少の感度がある(信号としてみるとリークがある)。そこで以下に説明するように、被検物表面の反射特性とともに撮像部の感度差(上記のようなリーク量も含めて)も同時に補正することにより、被検物20の形状測定の精度を向上しようとするものである。
次に、投影パターン生成装置6により投影パターンマスク2を緑色縞パターン(正弦波状の緑色縞パターン)に生成し、上記と同様にして、撮像装置5により被検物表面に投影された緑色縞パターンを撮像する(ステップS4)。
演算処理装置7内の補正データ検出部8において、緑色縞パターンを被検物20に投影して得られた撮像画像の各波長帯域の光量比(緑色縞パターンを投影して得られた撮像画像の赤色、青色、緑色の各光量)を検出する(ステップS5)。ここで、緑色縞パターンを投影して得られた各波長帯域の光量比をそれぞれRrg(X,Y)(前記赤色の光量比)、Grg(X,Y)(前記緑色の光量比)、Brg(X,Y)(前記青色の光量比)とする。
さらに、投影パターン生成装置6により投影パターンマスク2を青色縞パターン(正弦波状の青色縞パターン)に生成し、上記と同様にして、撮像装置5により被検物表面に投影された青色縞パターンを撮像する(ステップS6)。
演算処理装置7内の補正データ検出8において、青色縞パターンを被検物20に投影して得られた撮像画像の各波長帯域の光量比(青色縞パターンを投影して得られた撮像画像の赤色、青色、緑色の各光量)を検出する(ステップS7)。ここで、青色縞パターンを投影して得られた各波長帯域の光量比をそれぞれRrb(X,Y)(前記赤色の光量比)、Grb(X,Y)(前記緑色の光量比)、Brb(X,Y)(前記青色の光量比)とする。
したがって、各波長帯域の投影パターン(赤色、緑色、青色縞パターン)を投影して得られた撮像画像の光量は、前記各波長帯域の投影パターンを投影して本来撮像される撮像画像の光量に対して、前記各波長帯域の投影パターンを投影して得られた各波長帯域の光量比を用いて表すと、以下の式(1)となる。
Figure 2008170281
ここで、Rr、Gr、Brは、前記各波長帯域の投影パターンを投影して得られた撮像画像の光量、R、G、Bは前記各波長帯域の投影パターンを投影して本来撮像される撮像画像の光量である。
上記のように得られた、各波長帯域の投影パターン(赤色、緑色、青色縞パターン)を投影して本来撮像される撮像画像の光量に対する、前記各波長帯域の投影パターンを投影して得られた撮像画像の光量の割合、つまり、前記各波長帯域の投影パターンを投影して得られた各波長帯域の光量比の逆数が、前記各波長帯域の投影パターンを投影して得られた撮像画像の光量を補正する補正データとなり、式(1)を変形して(以下の式(2)参照)得ることができる(ステップS8)。
Figure 2008170281
上記において、式2の右辺の係数項が各波長帯域の投影パターン(赤色、緑色、青色縞パターン)を投影して得られた撮像画像の光量を補正する補正データとなる。
次に、上記で得られた各波長帯域の投影パターン(赤色、緑色、青色縞パターン)を投影して得られた撮像画像の光量を補正する補正データを用いて被検物20の形状測定を行う手順について説明する。
投影パターン生成装置6により投影パターンマスク2を、図3に示すように、各波長帯域(赤色、緑色、青色)の互いに位相の異なる(例えば、それぞれ2/3π位相がずれ、縞のピッチは等しい正弦波状)3つの縞パターンを合成した3色合成縞パターンに生成する(ステップS9)。
光源1からの光を投影パターンマスク2及び投影レンズ3を介して被検物20に照射させて被検物20の表面に3色合成縞パターンを投影する。このように投影されて被検物20から反射する光は撮像レンズ4を介して集光され、撮像装置5により被検物表面に投影された3色合成縞パターンを撮像する(ステップS10)。
撮像装置5により得られた撮像画像は、演算処理装置7に送られ、3色合成縞パターンを被検物20に投影して得られた3色合成縞パターン撮像画像の画素毎において各波長帯域の各光量(3色合成縞パターンを投影して得られた3色合成縞パターン撮像画像の赤色、緑色、青色の各光量)を検出する(ステップS11)。
そして、演算処理部7内の補正画像取得部9において、3色合成縞パターンを被検物20に投影して得られた3色合成縞パターン撮像画像の画素毎において、前記補正データ検出部8により得られた補正データを用いて、各波長帯域(赤色、緑色、青色)の各光量を補正し、それぞれ位相の異なる(例えば、それぞれ2/3π位相がずれ、縞のピッチは等しい正弦波状)3つの画像を補正画像として取得する(ステップS12)。
さらに、前記補正データ検出部8により得られた補正データを用いて補正をして得られた前記補正画像の位相値により、三角測量の原理を用いて被検物20の形状測定を行う(ステップS13)。
以上のようにして、3つの異なる波長帯域を同時に含みそれぞれ位相の異なる3色合成投影パターンを投影し、それぞれ位相の異なる3つの撮像画像を同時に得ることができ、前記各3つの異なる波長帯域の光量比から補正データを検出し、前記補正データを用いて前記撮像画像を補正してそれぞれ位相の異なる3つの画像を補正画像として取得して、前記補正画像の位相値により三角測量の原理に基づいて被検物20の三次元形状を求める。
したがって、被検物20の時間的な変化(振動等により被検物20が動いてしまう)の影響もしくは被検物表面の急激な状態変化の影響を受けることなく、被検物20の正確な三次元形状測定を行うことができる。
本実施形態では、上記のように、撮像画像において、投影パターンの波長帯域に対応する光量だけが検出されるのではなく、異なる波長帯域の光量に対しても多少の感度がある(信号としてみるとリークがある)。そこで、被検物表面の反射特性とともに撮像部の感度差(上記のようなリーク量も含めて)も同時に補正することにより、被検物20の形状測定の精度を向上しようとするものであったが、投影パターンの波長帯域に対応する光量だけが検出されるような構成にすることも可能ではある。しかし、高精度の光学フィルター等が必要となり装置が高価になるという問題があり、本実施形態における方法が有効である。
また、本実施形態では、被検物表面に投影された投影パターンの撮像画像において、投影パターンの縞の次数を判定(アンラッピング)するために、3つの異なる波長帯域の投影パターン(赤色,緑色,青色縞パターン)を投影して得られた互いに位相の異なる3つの撮像画像を用いた。しかしながら、アンラッピングするためには、3つの撮像画像を用いることに限られず、少なくとも2つ以上の位相が異なる撮像画像を用いることで可能である。
本発明の実施形態に係る三次元形状測定装置の構成を示す概略構成説明図である。 上記本発明に係る形状測定方法を示すフローチャートである。 本発明の実施形態に係る3色合成縞パターンの構成を示す概略構成説明図である。 従来の形状測定装置の構成を示す概略構成説明図である。
符号の説明
1 光源
2 投影パターンマスク
3 投影レンズ
4 撮像レンズ
5 撮像装置
6 投影パターン生成装置(投影パターン生成部)
7 演算処理装置
8 補正データ検出部
9 補正画像取得部(修正位相取得部)
10 形状演算部(形状測定部)
20 被検物

Claims (8)

  1. 位置によって異なる光学波長および位相を有する投影パターンを被検物に投影する投影部と、
    前記投影パターンが投影された前記被検物の像を色調に対応する少なくとも2つの波長特性に基づいて分けた撮像として取得する撮像取得部と、
    前記被検物の複数の位置に対応する前記撮像から前記波長特性同士の重複による誤差を修正した修正位相を取得する修正位相取得部と、
    前記修正位相取得部により得られた前記修正位相から前記被検物の形状を測定する形状測定部とを備えることを特徴とする形状測定装置。
  2. 請求項1に記載の形状測定装置において、
    位置によって任意の波長及び任意の位相の投影パターンを生成する投影パターン生成部を備えることを特徴とする形状測定装置。
  3. 請求項2に記載の形状測定装置において、
    前記投影パターン生成部は少なくとも3つの波長特性を合成して前記投影パターンを生成し、
    前記撮像取得部は少なくとも前記3つの波長特性に基づいて分けた撮像として取得することを特徴とする形状測定装置。
  4. 任意の波長帯域及び任意の位相の投影パターンを生成する投影パターン生成部と、
    被検物に前記投影パターン生成部により生成された前記投影パターンを投影する投影部と、
    前記投影パターンが投影された前記被検物を撮像する撮像部と、
    前記投影パターン生成部によりそれぞれ異なる波長帯域を有した3つ以上の補正用投影パターンを生成し、前記投影部により前記被検物に前記補正用投影パターンをそれぞれ投影するとともに前記撮像部により撮像して3つ以上の補正用撮像画像を取得し、前記補正用撮像画像のそれぞれにおいて、前記波長帯域毎の光量比を検出し、前記光量比を前記補正用撮像画像のそれぞれについて補正データとして取得する補正データ検出部と、
    前記投影パターン生成部により、それぞれ前記補正用投影パターンが有する波長帯域と同一の波長帯域を有し位相が互いに異なる3つ以上のベース投影パターンを生成し、さらに前記ベース投影パターンを合成して合成投影パターンを生成し、前記投影部により前記被検物に前記合成投影パターンを投影するとともに前記撮像部により撮像して得られた合成投影パターン撮像画像において、各画素における光量を前記波長帯域毎に分けて前記補正データを用いて補正し、それぞれ位相の異なる3つ以上の補正画像を取得する修正データ取得部と、
    前記補正画像取得部により得られた前記補正画像から前記被検物の形状測定をする形状演算部と、
    を備える形状測定装置。
  5. 位置によって異なる光学波長および位相を有する投影パターンを被検物に投影する投影工程と、
    前記投影パターンが投影された前記被検物の像を色調に対応する少なくとも2つの波長特性に基づいて分けた撮像として取得する撮像取得工程と、
    前記被検物の複数の位置に対応する前記撮像から前記波長特性同士の重複による誤差を修正した修正位相を取得する修正位相取得工程と、
    前記修正位相取得工程により得られた前記修正位相から前記被検物の形状を測定する形状測定工程とを備えることを特徴とする形状測定方法。
  6. 請求項5に記載の形状測定方法において、
    位置によって任意の波長及び任意の位相の投影パターンを生成する投影パターン生成工程を更に有することを特徴とする形状測定方法。
  7. 請求項6に記載の形状測定方法において、
    前記投影パターン生成工程は少なくとも3つの波長特性を合成して前記投影パターンを生成し、
    前記撮像取得工程は少なくとも前記3つの波長特性に基づいて分けた撮像として取得することを特徴とする形状測定方法。
  8. 任意の波長帯域及び任意の位相の投影パターンを生成する投影パターン生成部と、被検物に前記投影パターン生成部により生成された前記投影パターンを投影する投影部と、前記投影パターンが投影された前記被検物を撮像する撮像部とを備えた形状測定装置を用いて前記被検物の三次元形状を測定する方法であって、
    前記投影パターン生成部によりそれぞれ異なる波長帯域を有した3つ以上の補正用投影パターンを生成し、前記投影部により前記被検物に前記補正用投影パターンをそれぞれ投影するとともに前記撮像部により撮像して3つ以上の補正用撮像画像を取得するステップと、
    前記撮像部により撮像して得られた前記補正用撮像画像のそれぞれにおいて、前記波長帯域毎の光量比を検出し、前記光量比を前記補正用撮像画像のそれぞれについて補正データとして取得するステップと、
    前記投影パターン生成部により、それぞれ前記補正用投影パターンが有する波長帯域と同一の波長帯域を有し位相が互いに異なる3つ以上のベース投影パターンを生成し、さらに前記ベース投影パターンを合成して合成投影パターンを生成し、前記投影部により前記被検物に前記合成投影パターンを投影するステップと、
    前記撮像部により前記被検物に投影された前記合成投影パターンを撮像して合成投影パターン撮像画像を取得するステップと、
    前記撮像部により得られた前記合成投影パターン撮像画像において、各画素における光量を前記波長帯域毎に分けて前記補正データを用いて補正し、それぞれ位相の異なる3つ以上の補正画像を取得するステップと、
    を有し前記補正画像から前記被検物の三次元形状を求めることを特徴とする形状測定方法。
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